JP2017024923A - セラミック複合材 - Google Patents
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Abstract
Description
このような耐食性セラミックスによれば、周期律表第IIIa族元素で安定化された酸化ジルコニウム(以下、単に安定化ジルコニアと呼ぶことがある)からなる表面層中には、高温水蒸気との反応によって消耗の激しいAl及びSiの含有量が一定量以下の少量に抑制されており、この結果、かかる表面層は、高温水蒸気腐食に強く、珪素を含むセラミックスの表面を保護することができることが記載されている。
しかしながら、上記の耐食性セラミックスは耐熱性を有し、化学的に安定であるため、希少金属を容易に分離し回収することができない。
(1)SiC/SiC複合材からなる基材と、前記基材を覆う炭素層とからなる。
(2)前記SiC/SiC複合材は、SiC繊維と、CVD−SiC材からなるマトリックスとからなる。
一般に、SiCは、雰囲気の酸素濃度が高い場合には、SiO2の被膜を形成し酸化の進行を抑制し、雰囲気の酸素濃度が低い場合には、SiO2の被膜を形成しにくく酸化が進行する。熱水蒸気、熱水に曝された場合は、酸素濃度が低く酸化が進行しやすくなる。
本発明のセラミック複合材は、酸素濃度が高い部分では、炭素層が酸化されSiCが露出するとともに、SiCの表面が速やかに酸化し、SiO2の薄い被膜が形成される。これに対し熱水蒸気、熱水など雰囲気の酸素濃度が低い場合には、SiC/SiC複合材からなる基材の表面を覆う炭素層が酸化から保護している。このため、炭素層が内面側及び外面側に形成されたパイプ形状のセラミック複合材は使用される環境に応じたふさわしい保護膜を得ることができる。パイプ形状のセラミック複合材としては、例えば蒸気タービン設備の配管、ケーシングなどが挙げられる。
CVD−SiC材は、原料ガスが分解しながら沈積する素材であるため、気孔ができにくく、緻密で強固な基材を形成することができる。このため、この上に形成される炭素層は、外部から力が加わっても変形しにくく、はがれにくい被膜を得ることができる。また、希少金属、有毒な元素、放射性元素を用いていない上に、SiC/SiC複合材、炭素層とも耐熱性を有し、SiC/SiC複合材からなる基材が炭素層で覆われているので、高温水蒸気に曝されても炭素層が保護し、基材が高温水蒸気と接することがなく、SiCの消耗を防止することができる。
一般に、SiCは、雰囲気の酸素濃度が高い場合には、SiO2の被膜を形成し酸化の進行を抑制し、雰囲気の酸素濃度が低い場合には、SiO2の被膜を形成しにくく酸化が進行する。熱水蒸気、熱水に曝された場合は、酸素濃度が低く酸化が進行しやすくなる。
本発明のセラミック複合材は、酸素濃度が高い部分では、炭素層が酸化されSiCが露出するとともに、SiCの表面が速やかに酸化し、SiO2の薄い被膜が形成される。これに対し熱水蒸気、熱水など雰囲気の酸素濃度が低い場合には、SiC/SiC複合材からなる基材の表面を覆う炭素層が酸化から保護している。このため、炭素層が内面側及び外面側に形成されたパイプ形状のセラミック複合材は使用される環境に応じたふさわしい保護膜を得ることができる。パイプ形状のセラミック複合材としては、例えば蒸気タービン設備の配管、ケーシングなどが挙げられる。
A:100℃以上かつ0.1013MPa以上
B:100℃かつ0.1013MPa
C:374℃以上かつ22.1MPa以上
SiC繊維を1600本束ねストランドを構成し、得られたストランドを製織し、ブレーディング体を形成する。ブレーディング体は、内径φ10mm、厚さ0.5mmのパイプ形状である。得られたブレーディング体を骨材とし、骨材の隙間にCVD−SiC材を充填し基材を得る。
CVD−SiC材は、CVD炉を用いて形成する。CVD炉内にブレーディング体を入れ、1200℃に加熱し、原料ガスであるシランガスとメタンを導入し、骨材の隙間にCVD−SiC材よりなるマトリックスを形成させ、SiC/SiC複合材の基材を得る。
SiC繊維を1600本束ねストランドを構成し、得られたストランドを巻回し、フィラメントワインディング体を形成する。フィラメントワインディング体は、内径φ100mm、厚さ2mmのパイプ形状である。得られたフィラメントワインディング体を骨材とし、骨材の隙間にCVD−SiC材を充填し基材を得る。
CVD−SiC材は、CVD炉を用いて形成する。CVD炉内にフィラメントワインディング体を入れ、1200℃に加熱し、原料ガスであるシランガスとメタンを導入し、骨材の隙間にCVD−SiC材からなるマトリックスを形成させ、SiC/SiC複合材の基材を得る。
SiC繊維を1600本束ねストランドを構成し、得られたストランドを製織し、ブレーディング体を形成する。ブレーディング体は、内径φ10mm、厚さ0.5mmのパイプ形状である。得られたブレーディング体を骨材とし、骨材の隙間にPIP−SiC材を充填し基材を得る。
PIP−SiC材は、骨材の隙間にSiC前駆体(ポリカルボシラン)を含浸し、焼成することによって得ることができる。ポリカルボシランの溶液中に骨材を浸漬し、乾燥後焼成することによってPIP−SiC材からなるマトリックスを形成させ、SiC/SiC複合材の基材を得る。
実施例1において、炭素層を形成しないで、SiC/SiC複合材の基材をそのまま用いる。本比較例において、表面はCVD−SiC材である。
CVD−SiC法で得られたCVD−SiC材の平板を研磨し、平滑な表面を有するCVD−SiC材を比較例2とする。
本発明のセラミック複合材の耐食性を検証するため、実施例1〜3、比較例1,2において表面に露出する熱分解炭素およびSiCを評価用試料とし、評価用試料を300℃、8MPaの水に80時間浸漬させ、浸漬前後の変化を比較した。
試料1は、基材の表面に炭素層が形成されている。試料2は、基材の表面にCVD−SiC層が形成されている。試料3は、CVD−SiC層の表面がさらに研磨されている。すなわち、試料1、試料2は、表面が製膜により形成された面であり、試料3は研磨加工により平滑化されている。
なお、試料1は表面が炭素層であり、実施例1〜3と同等の材質である。特に熱分解炭素であるので、表面が熱分解炭素層である実施例1、3と同一材質である。
試料2は、表面がCVD法で形成したままのCVD−SiC材であり、比較例1と同一の表面である。
試料3は、表面がCVD法で形成したままのCVD−SiC材を研磨し平滑化したものであるので、比較例2と同一の表面である。
Claims (10)
- SiC/SiC複合材からなる基材と、前記基材を覆う炭素層とからなることを特徴とするセラミック複合材。
- 前記SiC/SiC複合材は、SiC繊維と、CVD−SiC材からなるマトリックスとからなることを特徴とする請求項1に記載のセラミック複合材。
- 前記炭素層は、熱分解炭素層であることを特徴とする請求項1または2に記載のセラミック複合材。
- 前記炭素層は、ガラス状炭素層であることを特徴とする請求項1または2に記載のセラミック複合材。
- 前記炭素層は、厚さが5〜200μmであることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載のセラミック複合材。
- 前記セラミック複合材はパイプ形状であることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載のセラミック複合材。
- 前記炭素層は、前記パイプ形状のセラミック複合材の内面側及び外面側に形成されていることを特徴とする請求項6に記載のセラミック複合材。
- 前記セラミック複合材は、熱交換パイプであることを特徴とする請求項6または7に記載のセラミック複合材。
- 前記セラミック複合材は、原子炉用チャンネルボックスまたは核燃料被覆管であることを特徴とする請求項6または7に記載のセラミック複合材。
- 前記セラミック複合材は、超臨界水または亜臨界水の反応容器であることを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載のセラミック複合材。
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