JP2017014054A - Production method of glass substrate - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、ガラス基板の製造方法に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing a glass substrate.
液晶ディスプレイおよびプラズマディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ(FPD)に用いられるガラス基板は、表面に高い平坦度が要求される。通常、このようなガラス基板は、オーバーフローダウンドロー法によって製造される。オーバーフローダウンドロー法では、特許文献1(米国特許第3,338,696号)に記載されているように、成形体の上面の溝に流し込まれて溝から溢れ出た熔融ガラスが、成形体の両側面を伝って流れ落ち、成形体の下端で合流してガラスリボンが成形される。成形されたガラスリボンは、下方に引っ張られながら徐冷される。冷却されたガラスリボンは、所定の寸法に切断されて、ガラス基板が得られる。 A glass substrate used for a flat panel display (FPD) such as a liquid crystal display and a plasma display is required to have high flatness on the surface. Usually, such a glass substrate is manufactured by the overflow down draw method. In the overflow downdraw method, as described in Patent Document 1 (US Pat. No. 3,338,696), molten glass that has been poured into the groove on the upper surface of the molded body and overflowed from the groove is A glass ribbon is formed by flowing down along both side surfaces and joining at the lower end of the formed body. The formed glass ribbon is gradually cooled while being pulled downward. The cooled glass ribbon is cut into a predetermined dimension to obtain a glass substrate.
オーバーフローダウンドロー法において、成形体は、成形炉内の高温の雰囲気下に設置されている。また、成形体には、自重および熔融ガラスの重量による荷重がかかっている。そのため、ガラス基板製造装置の長年の稼動により、成形体は、成形体の材質の熱クリープ特性により徐々にクリープ変形する。特に、成形体の長手方向の中央部は、クリープ変形によって下方に垂れ下がって撓み易い。その結果、成形体の中央部から溢れ出る熔融ガラスの量が、成形体の両端部から溢れ出る熔融ガラスの量よりも多くなり、成形されるガラスリボンの幅方向中央部の厚みが増加し、最終製品であるガラス基板の板厚偏差が増加してしまう問題があった。 In the overflow down draw method, the molded body is placed in a high-temperature atmosphere in a molding furnace. Further, a load due to its own weight and the weight of the molten glass is applied to the molded body. For this reason, the molded body gradually creep-deforms due to the thermal creep characteristics of the material of the molded body due to the long-term operation of the glass substrate manufacturing apparatus. In particular, the central portion in the longitudinal direction of the molded body is likely to sag downward due to creep deformation and bend easily. As a result, the amount of molten glass that overflows from the center of the molded body is greater than the amount of molten glass that overflows from both ends of the molded body, and the thickness of the central portion in the width direction of the glass ribbon to be molded increases. There was a problem that the thickness deviation of the glass substrate as the final product increased.
成形体のクリープ変形は、液相温度の高いガラス、および、歪点の高いガラスを用いるガラス基板の製造工程において、成形体の温度が高くなりやすいために特に問題となる。また、近年、ガラス基板の大型化が進み、成形体の長手方向の寸法が長くなってきているので、クリープ変形による成形体の撓みがより顕著となる傾向にある。 Creep deformation of a molded body is a particular problem because the temperature of the molded body tends to be high in the manufacturing process of a glass substrate using glass having a high liquidus temperature and glass having a high strain point. In recent years, the size of the glass substrate has been increased, and the dimension in the longitudinal direction of the molded body has become longer. Therefore, the bending of the molded body due to creep deformation tends to become more prominent.
そこで、本発明は、ガラス基板の板厚偏差を低減することができるガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。 Then, an object of this invention is to provide the manufacturing method of the glass substrate which can reduce the plate | board thickness deviation of a glass substrate.
本発明に係るガラス基板の製造方法は、成形工程と、搬送工程と、取得工程と、算出工程と、調節工程とを備える。成形工程は、成形体の上面に形成された供給溝に熔融ガラスを供給し、供給溝の両側から溢れ出した熔融ガラスを成形体の両側面に沿って流下させ、両側面を流下した熔融ガラスを成形体の下端で合流させてガラスリボンを成形する。搬送工程は、成形体の下方に設置されているロールを用いて、成形工程で成形されたガラスリボンを所定の搬送速度で下方に搬送する。取得工程は、成形体の形状に関する形状データを取得する。算出工程は、取得工程で取得された形状データに基づいて、ガラスリボンの幅方向の板厚偏差が小さくなるように、搬送速度を算出する。調節工程は、算出工程で算出された搬送速度になるように、ガラスリボンの搬送速度を調節する。 The manufacturing method of the glass substrate which concerns on this invention is equipped with a formation process, a conveyance process, an acquisition process, a calculation process, and an adjustment process. In the molding process, molten glass is supplied to the supply groove formed on the upper surface of the molded body, and the molten glass overflowing from both sides of the supply groove is caused to flow down along both side surfaces of the molded body, and the molten glass is flowed down on both sides. Are joined at the lower end of the molded body to form a glass ribbon. A conveyance process conveys the glass ribbon shape | molded by the formation process below with the predetermined | prescribed conveyance speed using the roll installed in the downward direction of the molded object. The acquisition step acquires shape data related to the shape of the molded body. In the calculation step, the conveyance speed is calculated based on the shape data acquired in the acquisition step so that the thickness deviation in the width direction of the glass ribbon is reduced. In the adjustment step, the conveyance speed of the glass ribbon is adjusted so that the conveyance speed calculated in the calculation step is obtained.
また、本発明に係るガラス基板の製造方法では、取得工程は、成形体のクリープ変形に基づく形状データを取得することが好ましい。 Moreover, in the manufacturing method of the glass substrate which concerns on this invention, it is preferable that an acquisition process acquires the shape data based on the creep deformation of a molded object.
また、本発明に係るガラス基板の製造方法では、取得工程は、形状データとして、成形体の上面の鉛直方向の変位量を少なくとも取得することが好ましい。この場合、算出工程は、変位量が大きいほど、搬送速度としてより大きい値を算出することが好ましい。 Moreover, in the manufacturing method of the glass substrate which concerns on this invention, it is preferable that an acquisition process acquires at least the displacement amount of the vertical direction of the upper surface of a molded object as shape data. In this case, it is preferable that the calculation step calculates a larger value as the conveyance speed as the displacement amount is larger.
また、本発明に係るガラス基板の製造方法では、搬送工程は、ガラスリボンの幅方向の両端部を挟むロールを用いてガラスリボンを徐冷しながら搬送し、算出工程で算出された搬送速度に基づいてロールの回転速度を制御することが好ましい。 Moreover, in the manufacturing method of the glass substrate which concerns on this invention, a conveyance process conveys a glass ribbon while gradually cooling using the roll which pinches | interposes the both ends of the width direction of a glass ribbon, and it is the conveyance speed calculated at the calculation process. It is preferable to control the rotation speed of the roll based on the above.
また、本発明に係るガラス基板の製造方法では、取得工程は、コンピュータシミュレーションによって成形体の形状の時間変化を求めることで、形状データを取得することが好ましい。 Moreover, in the manufacturing method of the glass substrate which concerns on this invention, it is preferable that an acquisition process acquires shape data by calculating | requiring the time change of the shape of a molded object by computer simulation.
本発明に係るガラス基板の製造方法は、ガラス基板の板厚偏差を低減することができる。 The glass substrate manufacturing method according to the present invention can reduce the thickness deviation of the glass substrate.
(1)ガラス基板の製造装置の構成
本発明に係るガラス基板の製造方法の実施形態について、図面を参照しながら説明する。図1は、本実施形態に係るガラス基板の製造方法の一例を示すフローチャートである。
(1) Configuration of Glass Substrate Manufacturing Apparatus An embodiment of a glass substrate manufacturing method according to the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a flowchart showing an example of a glass substrate manufacturing method according to the present embodiment.
図1に示されるように、本実施形態に係るガラス基板の製造方法は、主として、熔解工程S1と、清澄工程S2と、攪拌工程S3と、成形工程S4と、冷却工程S5と、切断工程S6とを含む。 As FIG. 1 shows, the manufacturing method of the glass substrate which concerns on this embodiment mainly has melting process S1, clarification process S2, stirring process S3, shaping | molding process S4, cooling process S5, and cutting process S6. Including.
熔解工程S1では、ガラス原料が加熱されて熔融ガラスが得られる。熔融ガラスは、熔解槽に貯留され、所望の温度を有するように通電加熱される。ガラス原料には、清澄剤が添加される。環境負荷低減の観点から、清澄剤として、SnO2が用いられる。 In the melting step S1, the glass raw material is heated to obtain molten glass. The molten glass is stored in a melting tank and energized and heated to have a desired temperature. A fining agent is added to the glass raw material. From the viewpoint of reducing environmental burden, SnO 2 is used as a clarifying agent.
清澄工程S2では、熔解工程S1で得られた熔融ガラスが清澄管の内部を流れて熔融ガラスに含まれているガスが除去されることで、熔融ガラスが清澄される。最初に、清澄工程S2では、熔融ガラスの温度を上昇させる。熔融ガラスに添加されている清澄剤は、昇温により還元反応を起こして酸素を放出する。熔融ガラスに含まれるCO2、N2、SO2等のガス成分を含む泡は、清澄剤の還元反応によって生じた酸素を吸収する。酸素を吸収して成長した泡は、熔融ガラスの液面に浮上し、破泡して消滅する。消滅した泡に含まれていたガスは、清澄管の内部の気相空間に放出されて、外気に排出される。次に、清澄工程S2では、熔融ガラスの温度を低下させる。これにより、還元された清澄剤は、酸化反応を起こして、熔融ガラスに残存している酸素等のガス成分を吸収する。 In the clarification step S2, the molten glass obtained in the melting step S1 flows through the clarification tube, and the gas contained in the molten glass is removed, whereby the molten glass is clarified. First, in the refining step S2, the temperature of the molten glass is raised. The refining agent added to the molten glass causes a reduction reaction by raising the temperature and releases oxygen. Bubbles containing gas components such as CO 2 , N 2 and SO 2 contained in the molten glass absorb oxygen generated by the reductive reaction of the fining agent. Bubbles that have grown by absorbing oxygen float on the liquid surface of the molten glass, break up and disappear. The gas contained in the extinguished bubbles is discharged into the gas phase space inside the clarification tube and discharged to the outside air. Next, in the refining step S2, the temperature of the molten glass is lowered. Thereby, the reduced fining agent causes an oxidation reaction and absorbs gas components such as oxygen remaining in the molten glass.
攪拌工程S3では、清澄工程S2でガスが除去された熔融ガラスが攪拌されて、熔融ガラスの成分が均質化される。これにより、ガラス基板の脈理等の原因である熔融ガラスの組成のムラが低減される。 In the stirring step S3, the molten glass from which the gas has been removed in the refining step S2 is stirred, and the components of the molten glass are homogenized. Thereby, the nonuniformity of the composition of the molten glass that is the cause of the striae of the glass substrate is reduced.
成形工程S4では、オーバーフローダウンドロー法を用いて、攪拌工程S3で均質化された熔融ガラスからガラスリボンが連続的に成形される。 In the forming step S4, a glass ribbon is continuously formed from the molten glass homogenized in the stirring step S3 using an overflow downdraw method.
冷却工程S5では、成形工程S4で成形されたガラスリボンが下方に搬送されながら冷却される。冷却工程S5では、ガラスリボンに歪みおよび反りが生じないように、ガラスリボンの温度を調節しながらガラスリボンが徐々に冷却される。 In the cooling step S5, the glass ribbon formed in the forming step S4 is cooled while being conveyed downward. In the cooling step S5, the glass ribbon is gradually cooled while adjusting the temperature of the glass ribbon so that the glass ribbon is not distorted and warped.
切断工程S6では、冷却工程S5で冷却されたガラスリボンが所定の寸法に切断されてガラス基板が得られる。その後、ガラス基板の端面の研削および研磨、並びに、ガラス基板の洗浄が行われる。その後、ガラス基板のキズ等の欠陥の有無が検査され、検査に合格したガラス基板が梱包されて製品として出荷される。 In cutting process S6, the glass ribbon cooled by cooling process S5 is cut | disconnected by a predetermined dimension, and a glass substrate is obtained. Thereafter, the end surface of the glass substrate is ground and polished, and the glass substrate is cleaned. Thereafter, the glass substrate is inspected for defects such as scratches, and the glass substrate that has passed the inspection is packed and shipped as a product.
図2は、本実施形態に係るガラス基板製造装置1の一例を示す模式図である。ガラス基板製造装置1は、熔解槽10と、清澄管20と、攪拌装置30と、成形装置40と、移送管50a,50b,50cとを備える。移送管50aは、熔解槽10と清澄管20とを接続する。移送管50bは、清澄管20と攪拌装置30とを接続する。移送管50cは、攪拌装置30と成形装置40とを接続する。
FIG. 2 is a schematic diagram illustrating an example of the glass substrate manufacturing apparatus 1 according to the present embodiment. The glass substrate manufacturing apparatus 1 includes a
熔解工程S1において熔解槽10で得られた熔融ガラス2は、移送管50aを通過して清澄管20に流入する。清澄工程S2において清澄管20で清澄された熔融ガラス2は、移送管50bを通過して攪拌装置30に流入する。攪拌工程S3において攪拌装置30で攪拌された熔融ガラス2は、移送管50cを通過して成形装置40に流入する。成形工程S4では、成形装置40によって熔融ガラス2からガラスリボン3が連続的に成形される。冷却工程S5では、ガラスリボン3が下方に搬送されながら冷却される。切断工程S6では、冷却されたガラスリボン3が所定の大きさに切断されてガラス基板が得られる。ガラス基板の幅は、例えば、500mm〜3500mmであり、長さは、例えば、500mm〜3500mmである。ガラス基板の厚みは、例えば、0.2mm〜0.8mmである。
The
ガラス基板製造装置1によって製造されるガラス基板は、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ELディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ(FPD)用のガラス基板として特に適している。FPD用のガラス基板としては、無アルカリガラス、アルカリ微量含有ガラス、低温ポリシリコン(LTPS)用のガラス、または、酸化物半導体用のガラスが用いられる。高精細ディスプレイ用のガラス基板としては、高温時に高い粘性および高い歪点を有するガラスが用いられる。例えば、高精細ディスプレイ用のガラス基板の原料となるガラスは、1500℃において、102.5poiseの粘性を有する。 The glass substrate manufactured by the glass substrate manufacturing apparatus 1 is particularly suitable as a glass substrate for a flat panel display (FPD) such as a liquid crystal display, a plasma display, and an organic EL display. As the glass substrate for FPD, non-alkali glass, alkali-containing glass, glass for low-temperature polysilicon (LTPS), or glass for oxide semiconductor is used. As a glass substrate for a high-definition display, a glass having a high viscosity and a high strain point at a high temperature is used. For example, glass used as a raw material for a glass substrate for a high-definition display has a viscosity of 10 2.5 poise at 1500 ° C.
熔解槽10では、ガラス原料が熔解されて、熔融ガラス2が得られる。ガラス原料は、所望の組成を有するガラス基板を得ることができるように調製されている。ガラス基板の組成の一例として、FPD用のガラス基板として好適な無アルカリガラスは、SiO2:50質量%〜70質量%、Al2O3:10質量%〜25質量%、B2O3:1質量%〜18質量%、MgO:0質量%〜10質量%、CaO:0質量%〜20質量%、SrO:0質量%〜20質量%、BaO:0質量%〜10質量%を含有する。ここで、MgO、CaO、SrOおよびBaOの含有量の合計は、5質量%〜30質量%である。
In the
また、FPD用のガラス基板として、アルカリ金属を微量含むアルカリ微量含有ガラスが用いられてもよい。アルカリ微量含有ガラスは、0.1質量%〜0.5質量%のR’2Oを含み、好ましくは、0.2質量%〜0.5質量%のR’2Oを含む。ここで、R’は、Li、NaおよびKから選択される少なくとも1種である。R’2Oの含有量の合計は、0.1質量%未満であってもよい。 In addition, a glass containing a trace amount of alkali metal containing a trace amount of alkali metal may be used as a glass substrate for FPD. Alkaline trace containing glass 'includes a 2 O, preferably, 0.2 wt% to 0.5 wt% R' of R 0.1 wt% to 0.5 wt% including the 2 O. Here, R ′ is at least one selected from Li, Na and K. The total content of R ′ 2 O may be less than 0.1% by mass.
また、ガラス基板製造装置1によって製造されるガラス基板は、SnO2:0.01質量%〜1質量%(好ましくは、0.01質量%〜0.5質量%)、Fe2O3:0質量%〜0.2質量%(好ましくは、0.01質量%〜0.08質量%)をさらに含有してもよい。なお、ガラス基板製造装置1によって製造されるガラス基板は、環境負荷低減の観点から、As2O3、Sb2O3およびPbOを実質的に含有しない。 The glass substrate manufactured by the glass substrate manufacturing apparatus 1, SnO 2: 0.01 wt% to 1 wt% (preferably 0.01 mass% to 0.5 mass%), Fe 2 O 3: 0 You may further contain mass%-0.2 mass% (preferably 0.01 mass%-0.08 mass%). The glass substrate manufactured by the glass substrate manufacturing apparatus 1, from the viewpoint of environmental load reduction, substantially free of As 2 O 3, Sb 2 O 3 , and PbO.
上記の組成を有するように調製されたガラス原料は、原料投入機(図示せず)を用いて熔解槽10に投入される。原料投入機は、スクリューフィーダを用いてガラス原料の投入を行ってもよく、バケットを用いてガラス原料の投入を行ってもよい。熔解槽10では、ガラス原料は、その組成等に応じた温度に加熱されて熔解される。熔解槽10では、例えば、1500℃〜1600℃の高温の熔融ガラス2が得られる。熔解槽10では、モリブデン、白金または酸化錫等で成形された少なくとも1対の電極間に電流を流すことで、電極間の熔融ガラス2が通電加熱されてもよく、また、通電加熱に加えてバーナーの火焔によってガラス原料が補助的に加熱されてもよい。
The glass raw material prepared to have the above composition is charged into the
熔解槽10で得られた熔融ガラス2は、熔解槽10から移送管50aを通過して清澄管20に流入する。清澄管20および移送管50a,50b,50cは、白金製あるいは白金合金製の管である。清澄管20には、熔解槽10と同様に加熱手段が設けられている。清澄管20では、熔融ガラス2がさらに昇温させられて清澄される。例えば、清澄管20において、熔融ガラス2の温度は、1500℃〜1700℃に上昇させられる。
The
清澄管20において清澄された熔融ガラス2は、清澄管20から移送管50bを通過して攪拌装置30に流入する。熔融ガラス2は、移送管50bを通過する際に冷却される。攪拌装置30では、清澄管20を通過する熔融ガラス2の温度よりも低い温度で、熔融ガラス2が攪拌される。例えば、攪拌装置30において、熔融ガラス2の温度は、1250℃〜1450℃であり、熔融ガラス2の粘度は、500poise〜1300poiseである。熔融ガラス2は、攪拌装置30において攪拌されて均質化される。
The
攪拌装置30で均質化された熔融ガラス2は、攪拌装置30から移送管50cを通過して成形装置40に流入する。熔融ガラス2は、移送管50cを通過する際に、熔融ガラス2の成形に適した粘度を有するように冷却される。例えば、熔融ガラス2は、1200℃付近まで冷却される。
The
成形装置40では、オーバーフローダウンドロー法によって熔融ガラス2からガラスリボン3が成形される。次に、成形装置40の詳細な構成および動作について説明する。
In the forming
(2)成形装置の構成
図3は、成形装置40の正面図である。図3は、成形装置40で成形されるガラスリボン3の表面に垂直な方向に沿って見た成形装置40を示す。図4は、成形装置40の側面図である。図4は、成形装置40で成形されるガラスリボン3の表面に平行な方向に沿って見た成形装置40を示す。
(2) Configuration of Molding Device FIG. 3 is a front view of the
成形装置40は、耐火レンガ等の耐火物からなる炉壁(図示せず)に囲まれた空間を有する。この空間は、熔融ガラス2からガラスリボン3が成形され、ガラスリボン3が冷却される空間である。この空間は、上部成形空間60、下部成形空間70および徐冷空間80の3つの空間から構成される。
The forming
成形工程S4は、上部成形空間60で行われる。冷却工程S5は、下部成形空間70および徐冷空間80で行われる。上部成形空間60は、攪拌装置30から移送管50cを介して成形装置40に供給された熔融ガラス2が、ガラスリボン3に成形される空間である。下部成形空間70は、上部成形空間60の下方の空間であり、ガラスリボン3が、ガラスの徐冷点の近傍まで急冷される空間である。徐冷空間80は、下部成形空間70の下方の空間であり、ガラスリボン3が徐々に冷却される空間である。
The molding step S4 is performed in the
成形装置40は、主として、成形体62と、上部仕切り部材64と、冷却ロール72と、温度調節ユニット74と、下部仕切り部材76と、引下げロール82a〜82gと、ヒータ84a〜84gと、断熱部材86と、切断装置98と、制御装置91とから構成される。次に、成形装置40の各構成要素について説明する。
The
(2−1)成形体
成形体62は、上部成形空間60に設置される。成形体62は、熔融ガラス2をオーバーフローさせてガラスリボン3を成形するために用いられる。図4に示されるように、成形体62は、楔形に類似した五角形の断面形状を有する。成形体62の断面形状の尖端は、成形体62の下端62aに相当する。成形体62は、耐火レンガ製である。
(2-1) Molded Body The molded
成形体62の上面62cには、成形体62の長手方向に沿って、供給溝62bが形成されている。成形体62の長手方向の端部には、供給溝62bと連通している移送管50cが取り付けられている。供給溝62bは、移送管50cと連通している一方の端部から他方の端部に向かうに従って、徐々に浅くなるように形成されている。
A
攪拌装置30から成形装置40に送られてきた熔融ガラス2は、移送管50cを介して、成形体62の供給溝62bに流し込まれる。成形体62の供給溝62bからオーバーフローした熔融ガラス2は、成形体62の両側面を伝いながら流下し、成形体62の下端62aの近傍において合流する。合流した熔融ガラス2は、重力により鉛直方向に落下して板状に成形される。これにより、成形体62の下端62aの近傍において、ガラスリボン3が連続的に成形される。成形されたガラスリボン3は、上部成形空間60を流下した後、下部成形空間70および徐冷空間80において冷却されながら下方に搬送される。上部成形空間60で成形された直後のガラスリボン3の温度は1100℃以上であり、粘度は25000poise〜350000poiseである。例えば、高精細ディスプレイ用のガラス基板を製造する場合、成形体62によって成形されるガラスリボン3の歪点は、655℃〜750℃であり、好ましくは680℃〜730℃であり、成形体62の下端62aの近傍で融合する熔融ガラス2の粘度は、25000poise〜100000poiseであり、好ましくは32000poise〜80000poiseである。
The
(2−2)上部仕切り部材
上部仕切り部材64は、成形体62の下端62aの近傍に設置される一対の板状の断熱部材である。図4に示されるように、上部仕切り部材64は、ガラスリボン3の厚み方向の両側に配置される。上部仕切り部材64は、上部成形空間60と下部成形空間70とを仕切り、上部成形空間60から下部成形空間70への熱の移動を抑制する。
(2-2) Upper Partition Member The
(2−3)冷却ロール
冷却ロール72は、下部成形空間70に設置される片持ちのロールである。冷却ロール72は、上部仕切り部材64の直下に設置される。図3に示されるように、冷却ロール72は、ガラスリボン3の幅方向の両側部に配置される。図4に示されるように、冷却ロール72は、ガラスリボン3の厚み方向の両側に配置される。ガラスリボン3は、その幅方向の両側部において、冷却ロール72によって挟持されている。冷却ロール72は、上部成形空間60から送られてきたガラスリボン3を冷却する。
(2-3) Cooling Roll The
下部成形空間70において、ガラスリボン3の幅方向の両側部は、それぞれ、2対の冷却ロール72によって挟まれている。ガラスリボン3の両側部の表面に向かって冷却ロール72が押し付けられることで、冷却ロール72とガラスリボン3との接触面積が大きくなり、冷却ロール72によるガラスリボン3の冷却が効率的に行われる。冷却ロール72は、後述する引下げロール82a〜82gがガラスリボン3を下方に引っ張る力に対抗する力を、ガラスリボン3に与える。なお、冷却ロール72の回転速度と、最も上方に配置される引下げロール82aの回転速度との差によって、ガラスリボン3の厚みが決定される。
In the
冷却ロール72は、内部に空冷管を有している。冷却ロール72は、空冷管によって常に冷却されている。冷却ロール72は、ガラスリボン3の幅方向の両側部を挟むことでガラスリボン3と接触する。これにより、ガラスリボン3から冷却ロール72に熱が伝わるので、ガラスリボン3の幅方向の両側部が冷却される。冷却ロール72と接触して冷却されたガラスリボン3の幅方向の両側部の粘度は、例えば、109.0poise以上である。
The
冷却ロール72とガラスリボン3との間の接触荷重は、制御装置91によって制御可能である。接触荷重は、例えば、バネを用いて冷却ロール72の位置を調整することで制御される。接触荷重が大きいほど、冷却ロール72がガラスリボン3を押し付ける力が強くなる。
The contact load between the cooling
(2−4)温度調節ユニット
温度調節ユニット74は、下部成形空間70に設置される。温度調節ユニット74は、上部仕切り部材64の下方であって、下部仕切り部材76の上方に設置される。
(2-4) Temperature Control Unit The
下部成形空間70では、ガラスリボン3の幅方向の中心部の温度が徐冷点近傍に低下するまでガラスリボン3が冷却される。温度調節ユニット74は、下部成形空間70で冷却されるガラスリボン3の温度を調節する。温度調節ユニット74は、ガラスリボン3を加熱または冷却するユニットである。図3に示されるように、温度調節ユニット74は、中心部冷却ユニット74aおよび側部冷却ユニット74bから構成される。中心部冷却ユニット74aは、ガラスリボン3の幅方向の中心部の温度を調節する。側部冷却ユニット74bは、ガラスリボン3の幅方向の両側部の温度を調節する。ここで、ガラスリボン3の幅方向の中心部は、ガラスリボン3の幅方向の両側部に挟まれた領域を意味する。
In the
下部成形空間70では、図3に示されるように、複数の中心部冷却ユニット74aおよび複数の側部冷却ユニット74bが、それぞれ、ガラスリボン3が流下する方向である鉛直方向に沿って配置されている。中心部冷却ユニット74aは、ガラスリボン3の幅方向の中心部の表面に対向するように配置されている。側部冷却ユニット74bは、ガラスリボン3の幅方向の両側部の表面に対向するように配置されている。
In the
温度調節ユニット74は、制御装置91によって制御される。各中心部冷却ユニット74aおよび各側部冷却ユニット74bは、制御装置91によって独立して制御可能である。
The
(2−5)下部仕切り部材
下部仕切り部材76は、温度調節ユニット74の下方に設置される一対の板状の断熱部材である。図4に示されるように、下部仕切り部材76は、ガラスリボン3の厚み方向の両側に設置される。下部仕切り部材76は、下部成形空間70と徐冷空間80とを鉛直方向に仕切り、下部成形空間70から徐冷空間80への熱の移動を抑制する。
(2-5) Lower Partition Member The
(2−6)引下げロール
引下げロール82a〜82gは、徐冷空間80に設置される片持ちのロールである。徐冷空間80では、引下げロール82a、引下げロール82b、・・・、引下げロール82fおよび引下げロール82gが、上方から下方に向かって間隔を空けて配置されている。引下げロール82aは、最も上方に配置され、引下げロール82gは、最も下方に配置される。
(2-6) Pull-down rolls The pull-down rolls 82 a to 82 g are cantilever rolls installed in the
図3に示されるように、引下げロール82a〜82gは、それぞれ、ガラスリボン3の幅方向の両側部に配置される。図4に示されるように、引下げロール82a〜82gは、それぞれ、ガラスリボン3の厚み方向の両側に配置される。すなわち、ガラスリボン3の幅方向の両側部は、上方から下方に向かって、2対の引下げロール82a、2対の引下げロール82b、・・・、2対の引下げロール82fおよび2対の引下げロール82gによって挟まれている。
As shown in FIG. 3, the pulling rolls 82 a to 82 g are respectively disposed on both sides of the glass ribbon 3 in the width direction. As shown in FIG. 4, the pulling rolls 82 a to 82 g are respectively disposed on both sides of the glass ribbon 3 in the thickness direction. That is, the two sides of the glass ribbon 3 in the width direction are directed from the top to the bottom, two pairs of pulling
引下げロール82a〜82gは、下部成形空間70を通過したガラスリボン3の幅方向の両端部を挟みつつ回転することにより、ガラスリボン3を鉛直方向下方に引き下げる。すなわち、引下げロール82a〜82gは、ガラスリボン3を下方に搬送するためのロールである。
The pulling rolls 82a to 82g pull the glass ribbon 3 downward in the vertical direction by rotating while sandwiching both end portions in the width direction of the glass ribbon 3 that has passed through the lower forming
各引下げロール82a〜82gの角速度は、制御装置91によって独立して制御可能である。引下げロール82a〜82gの角速度が大きいほど、ガラスリボン3が下方に搬送される速度が大きくなる。
The angular velocities of the pulling
(2−7)ヒータ
ヒータ84a〜84gは、徐冷空間80に設置される。図4に示されるように、徐冷空間80では、ヒータ84a、ヒータ84b、・・・、ヒータ84fおよびヒータ84gが、上方から下方に向かって間隔を空けて配置されている。ヒータ84a〜84gは、それぞれ、ガラスリボン3の厚み方向の両側に配置されている。引下げロール82a〜82gは、それぞれ、ヒータ84a〜84gとガラスリボン3との間に配置されている。
(2-7) Heater The
ヒータ84a〜84gは、ガラスリボン3の表面に向かって熱を輻射してガラスリボン3を加熱する。ヒータ84a〜84gを用いることで、徐冷空間80において下方に搬送されるガラスリボン3の温度を調節することができる。これにより、ヒータ84a〜84gは、ガラスリボン3の搬送方向において、所定の温度分布をガラスリボン3に形成することができる。
The
各ヒータ84a〜84gの出力は、制御装置91によって独立して制御可能である。また、ヒータ84a〜84gは、ガラスリボン3の幅方向に沿って複数のヒータサブユニット(図示せず)に分割され、各ヒータサブユニットの出力が制御装置91によって独立して制御可能であってもよい。この場合、各ヒータ84a〜84gは、ガラスリボン3の幅方向の位置に応じて発熱量を変化させることで、ガラスリボン3の幅方向に所定の温度分布を形成することができる。
The outputs of the
なお、各ヒータ84a〜84gの近傍には、徐冷空間80の雰囲気の温度を測定する熱電対(図示せず)が設置されている。熱電対は、例えば、ガラスリボン3の幅方向の中心部近傍の雰囲気温度と、両側部近傍の雰囲気温度とを測定する。ヒータ84a〜84gは、熱電対によって測定される徐冷空間80の雰囲気の温度に基づいて制御されてもよい。
In addition, the thermocouple (not shown) which measures the temperature of the atmosphere of the
(2−8)断熱部材
断熱部材86は、徐冷空間80に設置される。断熱部材86は、ガラスリボン3の搬送方向に沿って隣り合う2つの引下げロール82a〜82gの間の高さ位置に設置される。図4に示されるように、断熱部材86は、ガラスリボン3の厚み方向の両側において、水平に配置される一対の断熱板である。断熱部材86は、徐冷空間80を鉛直方向に仕切り、徐冷空間80における鉛直方向の熱の移動を抑制する。
(2-8) Heat insulation member The
断熱部材86は、下方に搬送されるガラスリボン3と接触しないように設置されている。また、断熱部材86は、ガラスリボン3の表面までの距離が調整可能であるように設置されている。これにより、断熱部材86は、断熱部材86の上方の空間と断熱部材86の下方の空間との間の熱の移動を抑制する。
The
(2−9)切断装置
切断装置98は、徐冷空間80の下方の空間に設置されている。切断装置98は、徐冷空間80を通過したガラスリボン3を、所定の寸法ごとに、ガラスリボン3の幅方向に沿って切断する。徐冷空間80を通過したガラスリボン3は、室温近傍まで冷却されている平坦なガラスリボン3である。
(2-9) Cutting Device The
切断装置98は、所定の時間間隔でガラスリボン3を切断する。これにより、ガラスリボン3の搬送速度が一定である場合、最終製品に近い寸法を有するガラス基板が量産される。
The cutting
(2−10)制御装置
制御装置91は、主として、CPU、RAM、ROMおよびハードディスク等から構成されるコンピュータである。図5は、制御装置91のブロック図である。図5に示されるように、制御装置91は、冷却ロール駆動モータ172、温度調節ユニット74、引下げロール駆動モータ182、ヒータ84a〜84gおよび切断装置駆動モータ198と接続されている。冷却ロール駆動モータ172は、冷却ロール72の位置および回転速度等を制御するためのモータである。引下げロール駆動モータ182は、各引下げロール82a〜82gの位置および回転速度等を独立して制御するためのモータである。切断装置駆動モータ198は、切断装置98がガラスリボン3を切断する時間間隔等を制御するためのモータである。制御装置91は、各構成要素の状態を取得し、かつ、各構成要素を制御するためのプログラムを記憶している。
(2-10) Control Device The
制御装置91は、冷却ロール駆動モータ172を制御して、ガラスリボン3の幅方向の側部を挟む一対の冷却ロール72とガラスリボン3との間の接触荷重を取得および調節することができる。制御装置91は、引下げロール駆動モータ182を制御して、回転している各引下げロール82a〜82gのトルクを取得し、各引下げロール82a〜82gの角速度を調節することができる。制御装置91は、温度調節ユニット74の出力、および、各ヒータ84a〜84gの出力を取得および調節することができる。制御装置91は、切断装置駆動モータ198を制御して、切断装置98がガラスリボン3を切断する時間間隔等を取得および調節することができる。
The
(3)成形装置の動作
上部成形空間60において、攪拌装置30から移送管50cを介して成形装置40に送られてきた熔融ガラス2は、成形体62の上面62cに形成される供給溝62bに供給される。成形体62の供給溝62bからオーバーフローした熔融ガラス2は、成形体62の両側面を伝って流下して、成形体62の下端62aの近傍で合流する。成形体62の下端62aの近傍において、合流した熔融ガラス2からガラスリボン3が連続的に成形される。成形されたガラスリボン3は、下部成形空間70に送られる。
(3) Operation of Molding Device In the
下部成形空間70において、ガラスリボン3の幅方向の両側部は、冷却ロール72と接触して急冷される。また、温度調節ユニット74によって、ガラスリボン3の幅方向中心部の温度が徐冷点に低下するまで、ガラスリボン3の温度が調節される。冷却ロール72によって下方に搬送されながら冷却されたガラスリボン3は、徐冷空間80に送られる。
In the
徐冷空間80において、ガラスリボン3は、引下げロール82a〜82gによって引き下げられながら徐々に冷却される。ガラスリボン3の温度は、ガラスリボン3の幅方向に沿って所定の温度分布が形成されるように、ヒータ84a〜84gによって制御される。徐冷空間80において、ガラスリボン3の温度は、徐冷点近傍から、歪点より200℃低い温度よりも低い温度まで徐々に低下する。
In the
徐冷空間80を通過したガラスリボン3は、さらに室温近傍まで冷却され、切断装置98によって所定の寸法に切断されてガラス基板が得られる。その後、ガラス基板の端面の研磨および洗浄等が行われる。その後、所定の検査に合格したガラス基板が梱包されて製品として出荷される。
The glass ribbon 3 that has passed through the
(4)制御装置の動作
制御装置91は、搬送部、取得部および算出部からなる3つのプログラムを少なくとも記憶して実行する。
(4) Operation | movement of control apparatus The
搬送部は、成形体62の下方に設置されている引下げロール82a〜82gを用いて、成形体62によって成形されたガラスリボン3を、徐冷空間80において所定の搬送速度で下方に搬送する。搬送部は、引下げロール駆動モータ182を制御して、各引下げロール82a〜82gの回転速度を調節することで、ガラスリボン3の搬送速度を調節する。
A conveyance part conveys the glass ribbon 3 shape | molded by the molded
取得部は、成形体62の現在の形状に関する形状データを取得する。具体的には、取得部は、クリープ特性パラメータに基づいて形状データを取得する。クリープ特性パラメータは、成形体62に加えられる応力、成形体62の温度、および、クリープ変形による成形体62の歪み速度の間の関係を再現するためのパラメータである。ここで、成形体62に加えられる応力は、成形体62の長手方向に沿って成形体62を圧縮する力である。また、成形体62の歪み速度は、時間に依らず一定であると仮定する。次に、クリープ特性パラメータの決定方法について説明する。
The acquisition unit acquires shape data relating to the current shape of the molded
最初に、成形体62に加えられる応力が一定である条件下における、成形体62の歪み速度の、成形体62の温度依存変化を測定する。図7は、成形体62の歪み速度の温度依存変化のグラフの一例である。図7では、成形体62に加えられる応力の大きさは、2.0MPaである。成形体62の歪み速度は、例えば、成形体62の4点曲げ試験による成形体62の形状の変化量を測定することで算出される。図7では、成形体62の歪み速度の測定値は、黒丸で示されている。
First, the temperature dependent change of the molded
次に、成形体62の温度が一定である条件下における、成形体62の歪み速度の、成形体62に加えられる応力依存変化を測定する。図8は、成形体62の歪み速度の応力依存変化のグラフの一例である。図8では、成形体62の温度は、1250℃である。成形体62の歪み速度は、例えば、レーザー測定によって成形体62の形状の変化量を測定することで算出される。図8では、成形体62の歪み速度の測定値は、黒丸で示されている。
Next, the stress-dependent change applied to the molded
次に、以下の式(1)に基づいて、成形体62の歪み速度の温度依存変化および応力依存変化の測定値が再現できるクリープ特性パラメータA,B,nを決定する。
Next, based on the following formula (1), creep characteristic parameters A, B, and n that can reproduce the measured values of the temperature-dependent change and the stress-dependent change of the strain rate of the molded
なお、取得部は、クリープ特性パラメータを決定した後、クリープ特性パラメータを検証してもよい。クリープ特性パラメータの検証は、例えば、成形体62の歪み速度の測定系をモデル化して、決定されたクリープ特性パラメータに基づく歪み速度が得られているか否かをコンピュータシミュレーションにより確認することにより行われる。
The acquisition unit may verify the creep characteristic parameter after determining the creep characteristic parameter. The verification of the creep characteristic parameter is performed, for example, by modeling a strain rate measurement system of the molded
そして、取得部は、コンピュータシミュレーションにより、決定されたクリープ特性パラメータを用いて所定の温度および応力下における成形体62の歪み速度を算出して成形体62の形状の時間変化を求めることで、成形体62の形状データを取得する。
Then, the acquisition unit calculates the strain rate of the molded
図6は、取得部によって取得された成形体62の形状データの一例である。図6は、成形体62によって成形されたガラスリボン3の表面に垂直な方向に沿って見た成形体62を示す。図6では、成形体62のクリープ変形が実際よりも強調して示されている。図6では、未使用の成形体62の形状、すなわち、クリープ変形する前の成形体62の形状が点線で示され、かつ、クリープ変形した後の成形体62の現在の形状が実線で示されている。
FIG. 6 is an example of the shape data of the molded
取得部は、成形体62のクリープ変形に基づく形状データから、成形体62の上面62cの鉛直方向の変位量である上面変位量を少なくとも取得する。図6において、上面変位量は、クリープ変形前の上面62cとクリープ変形後の上面62cとの間の鉛直方向の寸法である。図6には、成形体62の長手方向における上面変位量の最大値である最大上面変位量Lが示されている。
The acquisition unit acquires at least an upper surface displacement amount that is a vertical displacement amount of the
算出部は、取得部によって取得された成形体62の形状データに基づいて、ガラスリボン3の幅方向の板厚偏差が小さくなるように、徐冷空間80におけるガラスリボン3の搬送速度を算出する。ガラスリボン3の幅方向の板厚偏差が小さいほど、ガラスリボン3の厚みが幅方向において均一になる。具体的には、算出部は、最大上面変位量Lが大きいほど、ガラスリボン3の搬送速度としてより大きい値を算出する。
The calculation unit calculates the conveyance speed of the glass ribbon 3 in the
また、搬送部は、算出部によって算出されたガラスリボン3の搬送速度に基づいて、各引下げロール82a〜82gの回転速度を調節する。これにより、搬送部は、ガラスリボン3の搬送速度を、算出部によって算出された値に調節する。
Moreover, a conveyance part adjusts the rotational speed of each pulling
制御装置91は、搬送部、取得部および算出部によって、徐冷空間80において下方に搬送されるガラスリボン3の幅方向の板厚偏差を小さくすることができる。
The
(5)特徴
本実施形態において、成形体62は、上部成形空間60の高温の雰囲気下に設置されている。ガラスリボン3の成形工程において、成形体62には、成形体62の重量、および、供給溝62bに供給される熔融ガラス2の重量による荷重がかかっている。そのため、ガラス基板製造装置1の長年の稼動により、成形体62は、図6に示されるように、成形体62の材質の熱クリープ特性により徐々にクリープ変形する。特に、成形体62の長手方向の中央部は、クリープ変形によって下方に垂れ下がって撓み易い。図6において、最大上面変位量Lは、成形体62の長手方向の中央部における上面変位量である。
(5) Features In this embodiment, the molded
成形体62が図6に示されるようにクリープ変形すると、成形体62の長手方向の中央部から溢れ出る熔融ガラス2の量が、成形体62の長手方向の両端部から溢れ出る熔融ガラス2の量よりも多くなる。この場合、成形体62によって成形されるガラスリボン3の幅方向中央部の厚みが増加し、ガラスリボン3の幅方向中央部の厚みが、幅方向両端部の厚みよりも大きくなる。その結果、ガラスリボン3の幅方向の板厚偏差が大きくなり、最終製品であるガラス基板の板厚偏差が増加してしまうおそれがある。
When the molded
本実施形態のガラス基板製造装置1は、各引下げロール82a〜82gの回転速度を調節して、徐冷空間80におけるガラスリボン3の搬送速度を調節することで、成形体62のクリープ変形に起因するガラスリボン3の幅方向の板厚偏差を低減することができる。次に、その機構について説明する。
The glass substrate manufacturing apparatus 1 of the present embodiment is caused by creep deformation of the formed
最初に、ガラス基板製造装置1の制御装置91の取得部は、図6に示されるようにクリープ変形している成形体62の現在の形状に関する形状データを取得する。次に、制御装置91の算出部は、取得部が取得した成形体62の形状データに基づいて、徐冷空間80において下方に搬送されるガラスリボン3の幅方向の板厚偏差が最小となるような、ガラスリボン3の搬送速度を算出する。具体的には、算出部は、図6に示される最大上面変位量Lに基づいて、ガラスリボン3の搬送速度を算出する。次に、制御装置91の搬送部は、算出部が算出した搬送速度が実現されるように、各引下げロール82a〜82gの回転速度を調節する。これにより、制御装置91は、クリープ変形している成形体62の形状データに基づいて、徐冷空間80におけるガラスリボン3の搬送速度を調節する。図9は、クリープ変形している成形体62の最大上面変位量Lと、ガラスリボン3の搬送速度との間の関係を示すグラフである。図9に示されるように、制御装置91は、成形体62の最大上面変位量Lが大きいほど、各引下げロール82a〜82gの回転速度を増加させて、ガラスリボン3の搬送速度を調節する。成形体62の最大上面変位量Lと、ガラスリボン3の搬送速度との間には、相関関係(線形関係)がある。
First, the acquisition part of the
次に、クリープ変形している成形体62の最大上面変位量Lが大きいほど、算出部によって算出される搬送速度が大きい理由について説明する。上述したように、最大上面変位量Lが大きいほど、ガラスリボン3の幅方向中央部の厚みが幅方向両端部の厚みよりも大きくなる傾向にある。この場合、各引下げロール82a〜82gの回転速度を上げて、徐冷空間80におけるガラスリボン3の搬送速度を大きくすると、徐冷空間80におけるガラスリボン3の冷却速度が上昇し、鉛直方向(ガラスリボン3の流下方向)におけるガラスリボン3の収縮量も上昇する。幅方向における厚みが最も大きい部分である、ガラスリボン3の幅方向中央部において、ガラスリボン3の収縮量は最大となる。ガラスリボン3の幅方向中央部における鉛直方向の収縮によって、ガラスリボン3の幅方向中央部から幅方向両端部に向かって幅方向の張力が作用する。その結果、ガラスリボン3の幅方向両端部の厚みが大きくなり、ガラスリボン3の幅方向中央部の厚みと幅方向両端部の厚みとの差が小さくなる。
Next, the reason why the conveyance speed calculated by the calculation unit increases as the maximum upper surface displacement amount L of the molded
従って、成形体62のクリープ変形により、成形体62の長手方向の中央部が下方に垂れ下がって撓んだ場合、徐冷空間80におけるガラスリボン3の搬送速度を大きくすることで、ガラスリボン3の幅方向の板厚偏差を低減することができる。その結果、ガラス基板製造装置1は、最終製品であるガラス基板の板厚偏差を低減することができる。
Therefore, when the central portion in the longitudinal direction of the molded
また、液相温度の高いガラス、および、歪点の高いガラスを用いるガラス基板の製造工程において、成形体62のクリープ変形は、成形体62の温度が高くなりやすいために特に問題となりやすい。また、近年、ガラス基板の大型化が進み、成形体の長手方向の寸法が長くなってきているので、クリープ変形による成形体62の撓みがより顕著となる傾向にある。本実施形態では、各引下げロール82a〜82gの回転速度を調節して、徐冷空間80におけるガラスリボン3の搬送速度を調節することで、成形体62のクリープ変形に起因するガラスリボン3の幅方向の板厚偏差を効果的に低減することができる。
Further, in a glass substrate manufacturing process using glass having a high liquidus temperature and glass having a high strain point, creep deformation of the molded
(6)変形例
(6−1)変形例A
実施形態では、ガラス基板製造装置1の制御装置91の取得部は、コンピュータシミュレーションによって成形体62の形状の時間変化を求めることで、成形体62の現在の形状に関する形状データを取得する。しかし、取得部は、他の方法によって、成形体62の現在の形状に関する形状データを取得してもよい。
(6) Modification (6-1) Modification A
In the embodiment, the acquisition unit of the
例えば、取得部は、成形体62の形状の実測値に基づいて、形状データを取得してもよい。この場合、成形体62の形状の実測値に関するデータ、および、成形体62の使用条件に関するデータを予め収集して分析する必要がある。成形体62の使用条件は、ガラス基板製造装置1の稼働時間、熔融ガラス2の温度、熔融ガラス2の粘度、および、上部成形空間60の温度等の、成形体62に関連する種種のパラメータである。取得部は、成形体62の形状の実測値に関するデータと、成形体62の使用条件に関するデータとの相関関係に基づいて、現在使用している成形体62の形状データを予測して取得する。
For example, the acquisition unit may acquire shape data based on an actual measurement value of the shape of the molded
また、取得部は、成形体62によって成形されたガラスリボン3の板厚の実測値に基づいて、形状データを取得してもよい。この場合、取得部は、ガラスリボン3の幅方向の板厚の実測値に関するデータに基づいて、現在使用している成形体62の形状データを予測して取得する。
Further, the acquisition unit may acquire shape data based on an actual measurement value of the thickness of the glass ribbon 3 formed by the formed
(6−2)変形例B
実施形態では、ガラス基板製造装置1の制御装置91は、各引下げロール82a〜82gの回転速度を調節して、徐冷空間80におけるガラスリボン3の搬送速度を調節する。しかし、制御装置91は、各引下げロール82a〜82gの回転速度を調節すると共に、成形体62の供給溝62bに供給される熔融ガラス2の量を調節してもよい。
(6-2) Modification B
In the embodiment, the
徐冷空間80におけるガラスリボン3の搬送速度を高くすると、成形体62によって成形されるガラスリボン3の厚みが小さくなる。一方、成形体62の供給溝62bに供給される熔融ガラス2の量を増加させると、成形体62によって成形されるガラスリボン3の厚みが大きくなる。そのため、制御装置91は、各引下げロール82a〜82gの回転速度を高くすると共に、成形体62の供給溝62bに供給される熔融ガラス2の量を増加させることで、成形体62によって成形されるガラスリボン3の厚みを維持しつつ、成形体62のクリープ変形に起因するガラスリボン3の幅方向の板厚偏差の増加を抑制することができる。
If the conveyance speed of the glass ribbon 3 in the
(6−3)変形例C
実施形態では、ガラス基板製造装置1の制御装置91の算出部は、成形体62の形状データとして図6に示される最大上面変位量Lを用い、最大上面変位量Lが大きいほど、ガラスリボン3の搬送速度としてより大きい値を算出する。しかし、算出部は、成形体62の形状データに関する他のパラメータを用いて、ガラスリボン3の搬送速度を算出してもよい。
(6-3) Modification C
In the embodiment, the calculation unit of the
例えば、算出部は、成形体62の形状データに関するパラメータとして、ガラスリボン3の表面に垂直な方向に沿って見た場合における、成形体62の上面62cまたは下端62aの曲率に基づいて、ガラスリボン3の搬送速度を算出してもよい。例えば、算出部は、成形体62の上面62cまたは下端62aの曲率が大きいほど、クリープ変形による成形体62の撓み量が大きいので、ガラスリボン3の搬送速度としてより大きい値を算出する。
For example, the calculation unit uses the glass ribbon as a parameter related to the shape data of the molded
2 熔融ガラス
3 ガラスリボン
62 成形体
62a 下端
62b 供給溝
62c 上面
82a〜82g 引下げロール(ロール)
2 Molten glass 3
Claims (5)
前記成形体の下方に設置されているロールを用いて、前記成形工程で成形された前記ガラスリボンを所定の搬送速度で下方に搬送する搬送工程と、
前記成形体の形状に関する形状データを取得する取得工程と、
前記取得工程で取得された前記形状データに基づいて、前記ガラスリボンの幅方向の板厚偏差が小さくなるように、前記搬送速度を算出する算出工程と、
前記算出工程で算出された前記搬送速度になるように、前記ガラスリボンの前記搬送速度を調節する調節工程と、
を備える、ガラス基板の製造方法。 The molten glass is supplied to a supply groove formed on the upper surface of the molded body, the molten glass overflowing from both sides of the supply groove is caused to flow down along both side surfaces of the molded body, and the molten glass is flowed down on both side surfaces. A molding step of forming a glass ribbon by joining glass at the lower end of the molded body; and
Using a roll installed below the molded body, a conveyance step of conveying the glass ribbon molded in the molding step downward at a predetermined conveyance speed;
An acquisition step of acquiring shape data relating to the shape of the molded body;
Based on the shape data acquired in the acquisition step, the calculation step of calculating the transport speed so that the thickness deviation in the width direction of the glass ribbon is reduced,
An adjusting step of adjusting the transport speed of the glass ribbon so as to be the transport speed calculated in the calculation step;
A method for producing a glass substrate.
請求項1に記載のガラス基板の製造方法。 The acquisition step acquires the shape data based on creep deformation of the molded body.
The manufacturing method of the glass substrate of Claim 1.
前記算出工程は、前記変位量が大きいほど、前記搬送速度としてより大きい値を算出する、
請求項2に記載のガラス基板の製造方法。 The acquisition step acquires at least a vertical displacement amount of the upper surface of the molded body as the shape data,
The calculation step calculates a larger value as the transport speed as the displacement amount is larger.
The manufacturing method of the glass substrate of Claim 2.
請求項1から3のいずれか1項に記載のガラス基板の製造方法。 The conveyance step conveys the glass ribbon while gradually cooling using the rolls sandwiching both end portions in the width direction of the glass ribbon, and the rotation speed of the roll is based on the conveyance speed calculated in the calculation step. To control the
The manufacturing method of the glass substrate of any one of Claim 1 to 3.
請求項1から4のいずれか1項に記載のガラス基板の製造方法。 The obtaining step obtains the shape data by obtaining a time change of the shape by computer simulation,
The manufacturing method of the glass substrate of any one of Claim 1 to 4.
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