JP2017082027A - Curable epoxy resin composition for primarily encapsulating photocoupler - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、フォトカプラー一次封止用熱硬化性エポキシ樹脂組成物及びそれを用いた光半導体装置に関する。 The present invention relates to a thermosetting epoxy resin composition for primary encapsulation of a photocoupler and an optical semiconductor device using the same.
フォトカプラーは、入力された電気信号を発光素子で光に変換し、その光を受光素子に送ることによって信号を伝える、発光素子と受光素子を組み合わせた装置である。このため、発光側からの光を効率よく受光側に伝達させることが重要である。また、外部からの光を遮断し、耐湿信頼性、難燃性を付与させるために二重構造を有することが多い。すなわち、光伝達能を有する一次封止樹脂で発光素子を封止し、続いて遮光性を有する二次封止樹脂で封止する。従来、一次封止樹脂にはシリコーン樹脂、二次封止樹脂にはエポキシ樹脂が用いられていた。一方、近年、低コスト化を目的に受光素子又は発光素子の周りのみをシリコーン樹脂で封止し、次に一次封止樹脂にエポキシ樹脂を適用するものが多くなっている。 A photocoupler is a device that combines a light-emitting element and a light-receiving element that converts an input electric signal into light by a light-emitting element and transmits the light to the light-receiving element. For this reason, it is important to efficiently transmit light from the light emitting side to the light receiving side. Moreover, it often has a double structure in order to block light from the outside and impart moisture resistance reliability and flame retardancy. That is, the light emitting element is sealed with a primary sealing resin having light transmission ability, and subsequently sealed with a secondary sealing resin having a light shielding property. Conventionally, a silicone resin has been used for the primary sealing resin, and an epoxy resin has been used for the secondary sealing resin. On the other hand, in recent years, for the purpose of cost reduction, only the periphery of a light receiving element or a light emitting element is sealed with a silicone resin, and then an epoxy resin is applied as a primary sealing resin.
フォトカプラーの効率は、CTR(Current Transfer Ratio)で表され、発光側の電流と受光側の起電力の比で求めることができる。高いCTR値を得るためには、樹脂組成物の光透過率、特に700nm〜1,000nm付近の近赤外光での高い光透過率が必要である。 The efficiency of the photocoupler is expressed by CTR (Current Transfer Ratio) and can be obtained by the ratio of the current on the light emitting side and the electromotive force on the light receiving side. In order to obtain a high CTR value, the light transmittance of the resin composition, particularly high light transmittance in the near-infrared light in the vicinity of 700 nm to 1,000 nm is necessary.
特許文献1には、フォトカプラー用に信頼性、光透過性に優れたエポキシ樹脂組成物を用いることが示されている。高CTRを得るためには、金属物質による光の吸収の低減と溶融球状シリカによる光の散乱が重要であると示されているが、フォトカプラーの性能向上に伴い、従来無機充填材として用いられてきた溶融球状シリカでは、確かに光の散乱が増大することにより樹脂組成物の光透過性は向上するが、溶融シリカと芳香族を多く含むエポキシ樹脂や硬化剤といったレジン成分の屈折率が大きくかけ離れているため、それを用いた樹脂組成物は十分な光透過性が得られていない。 Patent Document 1 discloses that an epoxy resin composition excellent in reliability and light transmittance is used for a photocoupler. In order to obtain high CTR, it has been shown that reduction of light absorption by metallic substances and light scattering by fused spherical silica are important. However, as the performance of photocouplers has improved, it has been used as an inorganic filler. In the case of fused spherical silica, the light transmission of the resin composition is improved by certainly increasing the light scattering, but the refractive index of the resin component such as fused silica and epoxy resin and curing agent rich in aromatics is large. Since it is far away, the resin composition using the resin composition does not have sufficient light transmission.
成形性や低熱膨張率のために無機充填材を含有しても高い透過率を得るために、レジン成分と無機充填材との屈折率を近くしたり、特定の範囲の無機充填剤とエポキシ樹脂や酸無水物と予備混合したりするといったものが特許文献2、3に例示されている。しかし、特許文献2で使用される硬化剤はフェノールノボラックやクレゾールノボラック硬化剤のような芳香族を有するものを使用している。近年では発光素子の高出力化や使用環境が高温側にシフトしていることから一次封止樹脂の劣化が激しく、着色等によりCTRが低下して満足な結果が得られなくなっている。また、特許文献3に開示された組成物はペースト状態として得られることが多く、ハンドリング性に問題がある。 In order to obtain high transmittance even if inorganic filler is contained due to moldability and low thermal expansion coefficient, the refractive index of resin component and inorganic filler is made close, or a specific range of inorganic filler and epoxy resin Patent Documents 2 and 3 exemplify premixing with acid and acid anhydrides. However, the curing agent used in Patent Document 2 uses an aromatic compound such as a phenol novolak or a cresol novolak curing agent. In recent years, since the output of light emitting elements has been increased and the usage environment has shifted to a high temperature side, the primary sealing resin has been severely degraded, and the CTR has decreased due to coloring and the like, and satisfactory results cannot be obtained. In addition, the composition disclosed in Patent Document 3 is often obtained as a paste and has a problem in handling properties.
さらに、こういったフォトカプラーで用いられる発光素子にGaAsのチップを用いることが一般的であるが、このGaAsは酸に弱く、エポキシ樹脂の硬化剤として用いられる酸無水物やその誘導体のような酸性の材料と共存することでチップが破壊されるといったことが最近問題となってきている。 Furthermore, it is common to use a GaAs chip as a light emitting element used in such a photocoupler. However, this GaAs is weak against acids, such as acid anhydrides and derivatives thereof used as curing agents for epoxy resins. Recently, the problem of chip destruction due to coexistence with acidic materials has become a problem.
難燃性、成形性、硬化性を損なうことなく、優れた高温放置特性を得るためにハイドロタルサイト類化合物と、ヒンダードアミン類酸化防止剤(光安定剤)を併用したエポキシ樹脂組成物が特許文献4に例示されているが、実質的にフェノール硬化剤を用いた組成であり、酸無水物硬化剤に使用するとヒンダードアミン類酸化防止剤が硬化促進剤として働き、配合、製造時に組成物がゲル化を生じてしまう虞があるだけでなく、耐熱変色性に乏しく、型汚れの原因になることもわかってきた。 Patent Documents: Epoxy resin compositions that combine hydrotalcite compounds and hindered amine antioxidants (light stabilizers) to obtain excellent high-temperature storage properties without impairing flame retardancy, moldability, and curability 4 is a composition substantially using a phenol curing agent. When used in an acid anhydride curing agent, a hindered amine antioxidant acts as a curing accelerator, and the composition gels during blending and production. It has been found that not only there is a risk of causing scumming, but also heat resistance discoloration is poor, and it causes mold stains.
本発明は、ハンドリング性に優れ、耐熱・耐光性を始めとする信頼性にも優れるフォトカプラー一次封止用熱硬化性エポキシ樹脂組成物及びそれを用いたフォトカプラー装置を得ることを目的とする。 An object of the present invention is to obtain a thermosetting epoxy resin composition for primary sealing of a photocoupler that has excellent handling properties and excellent reliability including heat resistance and light resistance, and a photocoupler device using the same. .
本発明者らは、鋭意研究を重ねた結果、下記組成の樹脂組成物が上記課題を解決することを見出し、本発明を完成した。 As a result of intensive studies, the present inventors have found that a resin composition having the following composition solves the above problems, and completed the present invention.
即ち、本発明は、下記のフォトカプラー一次封止用熱硬化性エポキシ樹脂組成物及びこれにより一次封止されたフォトカプラーを提供するものである。 That is, the present invention provides the following thermosetting epoxy resin composition for primary encapsulation of a photocoupler and a photocoupler primary-sealed thereby.
〔1〕
(A)(A−1)25℃で固形又は流動性を有していないエポキシ樹脂と、(A−2)酸無水物との反応生成物であって、エポキシ基当量/酸無水物基当量が0.6〜2.0の割合であるプレポリマー:100質量部、
(B)無機充填材:80〜1,000質量部、
(C)下記式(1):
X+Y− (1)
[式(1)中、X+は、脂肪族4級ホスホニウムイオン、芳香族4級ホスホニウムイオン、1,8−ジアザ−ビシクロ[5.4.0]ウンデカン−7−エンのオニウムイオン及びイミダゾール誘導体のオニウムイオンから選ばれるカチオンを示し、Y−は、テトラフルオロホウ酸イオン、テトラフェニルホウ酸イオン、ヘキサフルオロリン酸イオン、ビストリフルオロメチルスルホニルイミド酸イオン、トリス(トリフルオロメチルスルホニル)炭素酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオン、ハロゲン化酢酸イオン、カルボン酸イオン及びハロゲンイオンから選ばれるアニオンを示す。]
で表わされるオニウム塩からなる硬化促進剤:0.05〜5質量部、
(D)フェノール系、リン系及び硫黄系酸化防止剤から選ばれる1種又は2種以上の酸化防止剤:0.01〜10質量部 並びに
(E)ハイドロタルサイト様化合物及び/又はハイドロタルサイト様化合物の焼成物:1〜10質量部
を含有するフォトカプラー一次封止用熱硬化性エポキシ樹脂組成物。
[1]
(A) (A-1) A reaction product of an epoxy resin that is not solid or fluid at 25 ° C. and (A-2) an acid anhydride, which is an epoxy group equivalent / an acid anhydride group equivalent. Is a ratio of 0.6 to 2.0: 100 parts by mass,
(B) Inorganic filler: 80 to 1,000 parts by mass,
(C) The following formula (1):
X + Y − (1)
[In the formula (1), X + represents an aliphatic quaternary phosphonium ion, an aromatic quaternary phosphonium ion, an onium ion of 1,8-diaza-bicyclo [5.4.0] undecan-7-ene, and an imidazole derivative. Y − represents a tetrafluoroborate ion, a tetraphenylborate ion, a hexafluorophosphate ion, a bistrifluoromethylsulfonylimido ion, or a tris (trifluoromethylsulfonyl) carbonate ion. , An anion selected from trifluoromethanesulfonate ion, halogenated acetate ion, carboxylate ion and halogen ion. ]
Curing accelerator comprising an onium salt represented by: 0.05 to 5 parts by mass,
(D) One or more antioxidants selected from phenol-based, phosphorus-based and sulfur-based antioxidants: 0.01 to 10 parts by mass and (E) hydrotalcite-like compound and / or hydrotalcite Baked product of like compound: A thermosetting epoxy resin composition for primary sealing of a photocoupler, containing 1 to 10 parts by mass.
〔2〕
(B)成分の無機充填材が球状シリカ又はガラス粒子である〔1〕に記載のフォトカプラー一次封止用熱硬化性エポキシ樹脂組成物。
〔3〕
(C)成分の硬化促進剤が4級ホスホニウム塩である〔1〕又は〔2〕に記載のフォトカプラー一次封止用熱硬化性エポキシ樹脂組成物。
[2]
The thermosetting epoxy resin composition for primary sealing of a photocoupler according to [1], wherein the inorganic filler of component (B) is spherical silica or glass particles.
[3]
The thermosetting epoxy resin composition for primary encapsulation of a photocoupler according to [1] or [2], wherein the curing accelerator of component (C) is a quaternary phosphonium salt.
〔4〕
(E)成分のハイドロタルサイト様化合物が、下記式(2)
[M2+ 1−xM3+ x(OH)2]x+[(An− x/n)・mH2O]x− (2)
(式中、M2+は2価金属イオンであり、M3+は3価金属イオンであり、An−はn価のアニオンであり、xは0<x<1の範囲の数を示し、mは0〜10の数を示す。)
で示される化合物であり、ハイドロタルサイト様化合物の焼成物が下記式(3)
M2+ 1−xM3+xO1+x/2 (3)
(xは0<x<1の範囲の数である)
で示される化合物である〔1〕〜〔3〕のいずれか1項に記載のフォトカプラー一次封止用熱硬化性エポキシ樹脂組成物。
[4]
The hydrotalcite-like compound of component (E) is represented by the following formula (2)
[M 2+ 1-x M 3+ x (OH) 2] x + [(A n- x / n) · mH 2 O] x- (2)
(Wherein, M 2+ is a divalent metal ion, M 3+ is a trivalent metal ion, A n-is an n-valent anion, x is the number of the range of 0 <x <1, m Represents a number from 0 to 10.)
The hydrotalcite-like compound fired product is represented by the following formula (3):
M 2+ 1-x M 3+ xO 1 + x / 2 (3)
(X is a number in the range 0 <x <1)
The thermosetting epoxy resin composition for primary sealing of a photocoupler according to any one of [1] to [3], which is a compound represented by:
〔5〕
〔1〕から〔4〕のいずれか1項に記載の熱硬化性エポキシ樹脂組成物で一次封止されたフォトカプラー。
[5]
[1] A photocoupler that is primarily sealed with the thermosetting epoxy resin composition according to any one of [4].
本発明のフォトカプラー一次封止用熱硬化性エポキシ樹脂組成物は、ハンドリング性に優れ、耐熱・耐光性を始めとする信頼性にも優れるので、フォトカプラー装置に有用である。 The thermosetting epoxy resin composition for primary sealing of a photocoupler of the present invention is useful for a photocoupler device because of excellent handling properties and excellent reliability including heat resistance and light resistance.
以下、本発明のフォトカプラー一次封止用熱硬化性エポキシ樹脂組成物について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 Hereinafter, although the thermosetting epoxy resin composition for primary sealing of the photocoupler of the present invention will be described in detail, the present invention is not limited to these.
(A)(A−1)25℃で固形又は流動性を有していないエポキシ樹脂と(A−2)酸無水物との反応生成物
(A)成分を樹脂成分として含有することにより、熱硬化性エポキシ樹脂組成物の硬化物の黄変を抑制し、且つ経時劣化の少ない半導体発光装置を実現する。また、固形となることにより、混練等で製造された熱硬化性エポキシ樹脂の取り扱いも容易になる。
(A) (A-1) Reaction product of epoxy resin not solid or fluid at 25 ° C. and (A-2) acid anhydride (A) By containing component (A) as a resin component, heat A semiconductor light-emitting device that suppresses yellowing of a cured product of the curable epoxy resin composition and has little deterioration with time is realized. Moreover, when it becomes solid, handling of the thermosetting epoxy resin manufactured by kneading | mixing etc. becomes easy.
(A−1)25℃で固形又は流動性を有していないエポキシ樹脂
このエポキシ樹脂は、主に取り扱い性の面から25℃で固形又は流動性を有していないエポキシ樹脂である。このようなエポキシ樹脂の例としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、3,3’,5,5’−テトラメチル−4,4’−ビフェノール型エポキシ樹脂又は4,4’−ビフェノール型エポキシ樹脂のようなビフェノール型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂、ナフタレンジオール型エポキシ樹脂、トリスフェニロールメタン型エポキシ樹脂、テトラキスフェニロールエタン型エポキシ樹脂、トリフェノールアルカン型エポキシ樹脂、アラルキル型エポキシ樹脂、ビフェニル骨格含有アラルキル型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、複素環型エポキシ樹脂、ナフタレン環含有エポキシ樹脂、スチルベン型エポキシ樹脂、トリアジン誘導体エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、芳香環を水素化したエポキシ樹脂やシリコーン変性したエポキシ樹脂、等が挙げられ、これらのうち1種を単独で又は2種以上を併用することができる。
(A-1) Epoxy resin which does not have solid or fluidity at 25 ° C. This epoxy resin is an epoxy resin which does not have solid or fluidity at 25 ° C. mainly from the viewpoint of handleability. Examples of such epoxy resins include bisphenol A type epoxy resins, bisphenol F type epoxy resins, 3,3 ′, 5,5′-tetramethyl-4,4′-biphenol type epoxy resins, or 4,4′-. Biphenol type epoxy resin such as biphenol type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, bisphenol A novolak type epoxy resin, naphthalenediol type epoxy resin, trisphenylol methane type epoxy resin, tetrakisphenylol ethane type Epoxy resin, triphenolalkane type epoxy resin, aralkyl type epoxy resin, biphenyl skeleton-containing aralkyl type epoxy resin, dicyclopentadiene type epoxy resin, heterocyclic type epoxy resin, naphthalene ring containing epoxy resin Stilbene type epoxy resin, triazine derivative epoxy resin, alicyclic epoxy resin, epoxy resin hydrogenated aromatic ring, silicone-modified epoxy resin, etc., one of which is used alone or two or more of them are used. Can be used together.
中でも、耐熱性、耐光性の面でビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、トリアジン誘導体エポキシ樹脂、芳香環を水素化したエポキシ樹脂やシリコーン変性したエポキシ樹脂の使用が好ましく、より好ましくはトリアジン誘導体エポキシ樹脂の中でも1,3,5−トリアジン核誘導体エポキシ樹脂である。特にイソシアヌレート環を有するエポキシ樹脂は、耐光性や電気絶縁性に優れており、1つのイソシアヌレート環に対して、2価の、より好ましくは3価のエポキシ基を有することが望ましい。具体的には、トリス(2,3−エポキシプロピル)イソシアヌレート、トリス(α−メチルグリシジル)イソシアヌレート、トリス(α−メチルグリシジル)イソシアヌレートを挙げることができる。 Among them, the use of bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, alicyclic epoxy resin, triazine derivative epoxy resin, epoxy resin with hydrogenated aromatic ring or silicone modified epoxy resin in terms of heat resistance and light resistance Among the triazine derivative epoxy resins, 1,3,5-triazine nucleus derivative epoxy resins are more preferable. In particular, an epoxy resin having an isocyanurate ring is excellent in light resistance and electrical insulation, and desirably has a divalent, more preferably a trivalent epoxy group per one isocyanurate ring. Specific examples include tris (2,3-epoxypropyl) isocyanurate, tris (α-methylglycidyl) isocyanurate, and tris (α-methylglycidyl) isocyanurate.
本発明で用いる25℃で固形又は流動性を有していないエポキシ樹脂の融点又は軟化点は40〜125℃であることが好ましい。 The melting point or softening point of the epoxy resin that does not have solid or fluidity at 25 ° C. used in the present invention is preferably 40 to 125 ° C.
(A−2)酸無水物
本発明で用いられる(A−2)成分の酸無水物は、硬化剤として作用するものであり、耐熱、耐光性の向上のために非芳香族であり、且つ炭素−炭素二重結合を有さないものが好ましく、例えば、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、トリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸、水素化メチルナジック酸無水物などが挙げられ、これらの中でもヘキサヒドロ無水フタル酸及び/又はメチルヘキサヒドロ無水フタル酸が好ましい。これらの酸無水物系硬化剤は、1種を単独で使用してもよく、また2種以上を併用してもよい。
(A-2) Acid anhydride The acid anhydride of the component (A-2) used in the present invention acts as a curing agent, is non-aromatic for improving heat resistance and light resistance, and Those having no carbon-carbon double bond are preferred, and examples thereof include hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, trialkyltetrahydrophthalic anhydride, and hydrogenated methylnadic anhydride. Among these, Hexahydrophthalic anhydride and / or methylhexahydrophthalic anhydride are preferred. These acid anhydride curing agents may be used alone or in combination of two or more.
(A)成分を、(A−1)25℃で固形又は流動性を有していないエポキシ樹脂と、(A−2)酸無水物との組み合わせとして構成する場合には、(A−2)酸無水物の配合量としては、上記した(A−2)酸無水物基1モルに対し、(A−1)25℃で固形又は流動性を有していないエポキシ樹脂の総エポキシ基が0.6〜2.0モルであり、好ましくは0.8〜1.9モル、更に好ましくは0.9〜1.8モルである。(総エポキシ基のモル数)/(酸無水物のモル数)が0.6未満では未反応硬化剤が硬化物中に残り、得られる硬化物の耐湿性を悪化させる場合がある。また、2.0以上では硬化不良が生じ、信頼性が低下する場合がある。 When the component (A) is configured as a combination of (A-1) an epoxy resin that does not have solidity or fluidity at 25 ° C. and (A-2) an acid anhydride, (A-2) As a compounding quantity of an acid anhydride, the total epoxy group of the epoxy resin which does not have solid or fluidity | liquidity at (A-1) 25 degreeC with respect to 1 mol of above-mentioned (A-2) acid anhydride groups is 0. 0.6 to 2.0 mol, preferably 0.8 to 1.9 mol, more preferably 0.9 to 1.8 mol. If (the total number of moles of epoxy groups) / (the number of moles of acid anhydride) is less than 0.6, the unreacted curing agent may remain in the cured product, which may deteriorate the moisture resistance of the resulting cured product. On the other hand, if it is 2.0 or more, poor curing may occur and reliability may be lowered.
(A)成分、すなわち(A−1)25℃で固形又は流動性を有していないエポキシ樹脂と、(A−2)酸無水物との反応生成物であるプレポリマーの製造方法としては、(A−1)25℃で固形又は流動性を有していないエポキシ樹脂と(A−2)酸無水物とを〔(A−1)成分が有するエポキシ基〕/〔(A−2)成分が有する酸無水物基〕のモル比0.6〜2.0で配合し、加熱、混合する方法が挙げられるが、(C)成分として後述するものと同じ硬化促進剤の存在下において反応させて固体生成物(即ち、プレポリマー)を得てもよい。このとき、該固体生成物は粉砕等により微粉末状態とすることが好ましい。該微粉末の粒子径は5μm〜3mmの範囲が好ましい。上記の(A−2)成分が有する酸無水物基に対しての(A−1)成分が有するエポキシ基のモル比は好ましくは0.9〜1.8である。このモル比が0.6未満では未反応硬化剤が硬化物中に残り、得られる硬化物の耐湿性を悪化させる場合がある。また2.0以上では硬化不良が生じ、信頼性が低下する場合がある。 As a method for producing a prepolymer which is a reaction product of component (A), that is, (A-1) an epoxy resin which is not solid or fluid at 25 ° C. and (A-2) acid anhydride, (A-1) An epoxy resin which is not solid or fluid at 25 ° C. and (A-2) an acid anhydride [epoxy group of (A-1) component] / [(A-2) component The acid anhydride group has a molar ratio of 0.6 to 2.0, and heating and mixing may be mentioned, but the reaction is carried out in the presence of the same curing accelerator as described later as component (C). To obtain a solid product (ie, prepolymer). At this time, the solid product is preferably made into a fine powder state by pulverization or the like. The particle diameter of the fine powder is preferably in the range of 5 μm to 3 mm. The molar ratio of the epoxy group of the component (A-1) to the acid anhydride group of the component (A-2) is preferably 0.9 to 1.8. If this molar ratio is less than 0.6, an unreacted curing agent may remain in the cured product and deteriorate the moisture resistance of the resulting cured product. On the other hand, if it is 2.0 or more, poor curing may occur and reliability may be lowered.
上記プレポリマー合成の詳細な反応条件を次に示す。上記した(A−1)成分と(A−2)成分を、60〜120℃、好ましくは70〜110℃にて4〜20時間、好ましくは6〜15時間反応させる。あるいは、(A−1)成分、(A−2)成分及び(C)成分の硬化促進剤を、予め30〜80℃、好ましくは40〜70℃にて2〜12時間、好ましくは3〜8時間反応させる。
こうして、軟化点が40〜100℃、好ましくは45〜70℃である固体生成物としてプレポリマーを得る。これを本発明の組成物に配合するには、粉砕等により微粉状化して行うことが好ましい。反応して得られる物質の軟化点が、40℃未満では固体とはならず、100℃を超える温度では組成物として成形の時に必要な流動性が得られないおそれがある。
The detailed reaction conditions for the prepolymer synthesis are as follows. The component (A-1) and the component (A-2) are reacted at 60 to 120 ° C., preferably 70 to 110 ° C. for 4 to 20 hours, preferably 6 to 15 hours. Alternatively, the curing accelerators of the component (A-1), the component (A-2) and the component (C) are previously added at 30 to 80 ° C., preferably 40 to 70 ° C. for 2 to 12 hours, preferably 3 to 8 hours. Let react for hours.
Thus, the prepolymer is obtained as a solid product having a softening point of 40 to 100 ° C., preferably 45 to 70 ° C. In order to mix this with the composition of the present invention, it is preferable to make it fine powder by pulverization or the like. If the softening point of the substance obtained by the reaction is less than 40 ° C., it does not become a solid, and if it exceeds 100 ° C., there is a possibility that the fluidity required at the time of molding as a composition cannot be obtained.
(B)無機充填材
本発明の熱硬化性エポキシ樹脂組成物には無機充填材を配合する。このような無機充填材としては、通常エポキシ樹脂組成物に配合されるものが挙げられる。例えば、溶融シリカ、結晶性シリカ等のシリカ類、アルミナ、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、ボロンナイトライド、三酸化アンチモン、ガラス粒子等が挙げられるが、屈折率の近さや流動性の面から球状シリカやガラス粒子が望ましい。これら無機充填材の平均粒径や形状は特に限定されないが、平均粒径が3〜50μmのものが好ましい。なお、平均粒径は、レーザー光回折法による粒度分布測定における累積質量平均値D50(又はメジアン径)として求めることができる。
(B) Inorganic filler An inorganic filler is mix | blended with the thermosetting epoxy resin composition of this invention. As such an inorganic filler, what is normally mix | blended with an epoxy resin composition is mentioned. For example, silicas such as fused silica and crystalline silica, alumina, silicon nitride, aluminum nitride, boron nitride, antimony trioxide, glass particles and the like can be mentioned. From the viewpoint of close refractive index and fluidity, spherical silica and Glass particles are desirable. Although the average particle diameter and shape of these inorganic fillers are not particularly limited, those having an average particle diameter of 3 to 50 μm are preferable. The average particle diameter can be determined as a cumulative weight average value D 50 (or median diameter) in particle size distribution measurement by laser diffraction method.
特に、無機充填材として溶融球状シリカ、球状ガラス粒子が好適に用いられ、更に、成形性、流動性、バリ、透過率の面からみて、溶融球状シリカが好ましく、平均粒径は5〜30μm、特には7〜25μmが好ましい。平均粒径が5μm未満では粘度が大きく上昇し、流動性が低下するだけなく、透過率の低下につながる虞がある。平均粒径が30μmより大きかったり、最大粒径が53μmより大きかったりするとバリが多く発生することがある。また、高流動化を得るには、0.1〜3μmの微細領域、4〜8μmの中粒径領域、10〜50μmの粗領域のものを組み合わせて使用するのが好ましい。 In particular, fused spherical silica and spherical glass particles are preferably used as the inorganic filler, and in view of moldability, fluidity, burrs, and transmittance, fused spherical silica is preferred, and the average particle size is 5 to 30 μm. In particular, 7 to 25 μm is preferable. If the average particle size is less than 5 μm, the viscosity is greatly increased, the fluidity is lowered, and the transmittance may be lowered. If the average particle size is larger than 30 μm or the maximum particle size is larger than 53 μm, many burrs may occur. Moreover, in order to obtain high fluidization, it is preferable to use a combination of a fine region of 0.1 to 3 μm, a medium particle size region of 4 to 8 μm, and a coarse region of 10 to 50 μm.
上記(B)成分の無機充填材は、(A)成分の樹脂成分との結合強度を強くし、無機充填材とレジン成分との密着性を向上させ、成形物の強度を上げたり、光の減衰を防止させたりすることを目的にシランカップリング剤、チタネートカップリング剤等のカップリング剤で予め表面処理したものであってもよい。
このようなカップリング剤としては、例えば、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン等のエポキシ官能性アルコキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等のメルカプト官能性アルコキシシランなどを用いることが好ましい。なお、表面処理に用いるカップリング剤の配合量及び表面処理方法については特に制限されるものではないが、多くのアミン官能性アルコキシシランのように150℃以上に放置した場合に処理フィラーが変色しないものが好ましい。
The inorganic filler of the component (B) increases the bonding strength with the resin component of the component (A), improves the adhesion between the inorganic filler and the resin component, increases the strength of the molded product, For the purpose of preventing attenuation, the surface may be pretreated with a coupling agent such as a silane coupling agent or a titanate coupling agent.
Examples of such a coupling agent include epoxy functions such as γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, and β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane. It is preferable to use a mercapto functional alkoxysilane such as a functional alkoxysilane or γ-mercaptopropyltrimethoxysilane. The blending amount of the coupling agent used for the surface treatment and the surface treatment method are not particularly limited, but the treatment filler does not discolor when left at 150 ° C. or more like many amine functional alkoxysilanes. Those are preferred.
(B)成分である無機充填材の配合量は、(A)成分100質量部に対し、80〜1,000質量部であり、特に200〜800質量部が好ましい。80質量部未満では、十分な強度を得ることができないおそれがあり、1,000質量部を超えると、増粘による未充填不良や柔軟性が失われることで、素子内の剥離等の不良が発生する場合がある。なお、この(B)成分である無機充填材の配合量は、組成物全体の10〜92質量%、特に50〜88質量%の範囲とすることが好ましい。 (B) The compounding quantity of the inorganic filler which is a component is 80-1,000 mass parts with respect to 100 mass parts of (A) component, and 200-800 mass parts is especially preferable. If it is less than 80 parts by mass, sufficient strength may not be obtained. If it exceeds 1,000 parts by mass, unfilled defects due to thickening and flexibility will be lost, resulting in defects such as peeling in the element. May occur. In addition, it is preferable to make the compounding quantity of the inorganic filler which is this (B) component into the range of 10-92 mass% of the whole composition, especially 50-88 mass%.
(C)硬化促進剤
この(C)成分の硬化促進剤は、本発明の熱硬化性エポキシ樹脂組成物の硬化を促進させるために配合するものである。硬化促進剤としては、下記式(1)で表わされるオニウム塩からなる硬化促進剤を用いる。
(C) Curing accelerator The curing accelerator of the component (C) is blended to accelerate curing of the thermosetting epoxy resin composition of the present invention. As the curing accelerator, a curing accelerator composed of an onium salt represented by the following formula (1) is used.
X+Y− (1) X + Y − (1)
[式(1)中、X+は、脂肪族4級ホスホニウムイオン、芳香族4級ホスホニウムイオン、1,8−ジアザ−ビシクロ[5.4.0]ウンデカン−7−エンのオニウムイオン及びイミダゾール誘導体のオニウムイオンから選ばれるカチオンを示し、Y−は、テトラフルオロホウ酸イオン、テトラフェニルホウ酸イオン、ヘキサフルオロリン酸イオン、ビストリフルオロメチルスルホニルイミド酸イオン、トリス(トリフルオロメチルスルホニル)炭素酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオン、ハロゲン化酢酸イオン、カルボン酸イオン及びハロゲンイオンから選ばれるアニオンを示す。] [In the formula (1), X + represents an aliphatic quaternary phosphonium ion, an aromatic quaternary phosphonium ion, an onium ion of 1,8-diaza-bicyclo [5.4.0] undecan-7-ene, and an imidazole derivative. Y − represents a tetrafluoroborate ion, a tetraphenylborate ion, a hexafluorophosphate ion, a bistrifluoromethylsulfonylimido ion, or a tris (trifluoromethylsulfonyl) carbonate ion. , An anion selected from trifluoromethanesulfonate ion, halogenated acetate ion, carboxylate ion and halogen ion. ]
上記式(1)で表わされるオニウム塩からなる硬化促進剤としては、耐熱性や耐光性、不純物の少なさの観点から、4級ホスホニウム塩が好ましく、4級ホスホニウムブロマイドがより好ましい。 As a hardening accelerator which consists of onium salt represented by the said Formula (1), a quaternary phosphonium salt is preferable and a quaternary phosphonium bromide is more preferable from a viewpoint of heat resistance, light resistance, and few impurities.
硬化促進剤の配合量は、(A)成分100質量部に対し、0.05〜5質量部であり、特に0.1〜2.0質量部の範囲内とすることが好ましい。上記範囲を外れると、エポキシ樹脂組成物の硬化物の耐熱性及び耐湿性のバランスが悪くなったり、成形時の硬化が非常に遅く又は速くなったりするおそれがある。 The compounding quantity of a hardening accelerator is 0.05-5 mass parts with respect to 100 mass parts of (A) component, and it is especially preferable to set it as the range of 0.1-2.0 mass parts. If it is out of the above range, the balance of heat resistance and moisture resistance of the cured product of the epoxy resin composition may be deteriorated, or curing at the time of molding may be very slow or fast.
(D)酸化防止剤
本発明の熱硬化性エポキシ樹脂組成物は、初期透過率向上及び長期での透過率維持のために(D)酸化防止剤を配合する。(D)成分の酸化防止剤としては、フェノール系、リン系、硫黄系酸化防止剤から選ばれる1種又は2種以上の酸化防止剤を用いることが特徴であり、酸化防止剤の具体例としては、以下のような酸化防止剤が挙げられる。
(D) Antioxidant The thermosetting epoxy resin composition of this invention mix | blends (D) antioxidant for the initial stage transmittance | permeability improvement and long-term transmittance | permeability maintenance. (D) As an antioxidant of a component, it is characterized by using 1 type, or 2 or more types of antioxidant chosen from a phenol type, phosphorus type | system | group, sulfur type antioxidant, and as a specific example of antioxidant. Include the following antioxidants.
フェノール系酸化防止剤としては、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ブチル化ヒドロキシアニソール、2,6−ジ−t−ブチル−p−エチルフェノール、ステアリル−β−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4’−ブチリデンビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、3,9−ビス[1,1−ジメチル−2−{β−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオニルオキシ}エチル]2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5,5]ウンデカン、1,1,3−トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル)ブタン、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン等が挙げられる。 Examples of phenolic antioxidants include 2,6-di-t-butyl-p-cresol, butylated hydroxyanisole, 2,6-di-t-butyl-p-ethylphenol, stearyl-β- (3,5 -Di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol), 4,4'-butylidenebis (3-methyl-6-t-butylphenol), 3,9-bis [1,1-dimethyl-2- {β- (3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propionyloxy} ethyl] 2,4,8,10-tetraoxaspiro [ 5,5] undecane, 1,1,3-tris (2-methyl-4-hydroxy-5-tert-butylphenyl) butane, 1,3,5-trimethyl-2,4,6-tris (3 , 5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene and the like.
リン系酸化防止剤としては、亜リン酸トリフェニル、亜リン酸ジフェニルアルキル、亜リン酸フェニルジアルキル、亜リン酸トリ(ノニルフェニル)、亜リン酸トリラウリル、亜リン酸トリオクタデシル、トリフェニルホスファイト、ジステアリルペンタエリトリトールジホスファイト、トリス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)ホスファイト、ジイソデシルペンタエリトリトールジホスファイト、ジ(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)ペンタエリトリトールジホスファイト、トリステアリルソルビトールトリホスファイト、テトラキス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)−4,4’−ビフェニルジホスホネート、3,9−ビス(2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノキシ)−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジフォスファスピロ[5,5]ウンデカン及び3,9−ビス(オクタデシロキシ)2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジフォスファスピロ[5,5]ウンデカン等が挙げられる。 Phosphorus antioxidants include triphenyl phosphite, diphenylalkyl phosphite, phenyl dialkyl phosphite, tri (nonylphenyl) phosphite, trilauryl phosphite, trioctadecyl phosphite, triphenyl phosphite , Distearyl pentaerythritol diphosphite, tris (2,4-di-tert-butylphenyl) phosphite, diisodecylpentaerythritol diphosphite, di (2,4-di-tert-butylphenyl) pentaerythritol diphosphite , Tristearyl sorbitol triphosphite, tetrakis (2,4-di-tert-butylphenyl) -4,4′-biphenyldiphosphonate, 3,9-bis (2,6-di-tert-butyl-4-methylphenoxy) ) -2,4,8,10-teto Oxa-3,9-diphosphaspiro [5,5] undecane and 3,9-bis (octadecyloxy) 2,4,8,10-tetraoxa-3,9-diphosphaspiro [5,5] An undecane etc. are mentioned.
硫黄系酸化防止剤としては、ジウラリルチオプロピオネート、ジステアリルチオプロピオネート、ジベンジルジサルフィド、トリスノニルフェニルホスファイト等が挙げられる。 Examples of sulfur-based antioxidants include diuraryl thiopropionate, distearyl thiopropionate, dibenzyl disulfide, and trisnonylphenyl phosphite.
これらの酸化防止剤は、それぞれ単独で又は2種以上を組み合わせて使用できる。酸化防止剤の配合量は、(A)成分100質量部に対し、0.01〜10質量部であり、特に0.1〜8質量部とすることが好ましい。配合量が少なすぎると十分な耐熱性が得られず、変色する場合があり、多すぎると硬化阻害を起こし、十分な硬化性、強度を得ることができない場合がある。
また、これらの酸化防止剤の中ではリン系酸化防止剤が好ましく用いられ、その中でも3,9−ビス(オクタデシロキシ)2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジフォスファスピロ[5,5]ウンデカンが特に好ましく用いられる。
These antioxidants can be used alone or in combination of two or more. The compounding quantity of antioxidant is 0.01-10 mass parts with respect to 100 mass parts of (A) component, and it is preferable to set it as 0.1-8 mass parts especially. If the amount is too small, sufficient heat resistance may not be obtained and discoloration may occur, while if too large, curing inhibition may occur, and sufficient curability and strength may not be obtained.
Of these antioxidants, phosphorus-based antioxidants are preferably used, and among them, 3,9-bis (octadecyloxy) 2,4,8,10-tetraoxa-3,9-diphosphaspiro. [5,5] Undecane is particularly preferably used.
(E)ハイドロタルサイト様化合物及び/又はハイドロタルサイト様化合物の焼成物
本発明の熱硬化性エポキシ樹脂組成物は、カルボニルイオンのような陰イオンをトラップしたり、組成物のpHを中性に近づけたりするために(E)ハイドロタルサイト様化合物及び/又はハイドロタルサイト様化合物の焼成物を配合する。ハイドロタルサイト様化合物としては、例えば下記組成式(2)で表される層状複水酸化物が挙げられる。
(E) Hydrotalcite-like compound and / or calcined product of hydrotalcite-like compound The thermosetting epoxy resin composition of the present invention traps anions such as carbonyl ions or neutralizes the pH of the composition. (E) A fired product of a hydrotalcite-like compound and / or a hydrotalcite-like compound is added. Examples of the hydrotalcite-like compound include layered double hydroxides represented by the following composition formula (2).
[M2+ 1−xM3+ x(OH)2]x+[(An− x/n)・mH2O]x− (2) [M 2+ 1-x M 3+ x (OH) 2] x + [(A n- x / n) · mH 2 O] x- (2)
上記式(2)中、M2+はMg2+、Ca2+、Zn2+、Co2+、Ni2+、Cu2+、Mn2+、などの2価金属イオンであり、M3+はAl3+、Fe3+、Cr3+などの3価金属イオンであり、An−はOH−、Cl−、CO3 2−、SO4 2−などのn価のアニオンである。xは0<x<1の数値であり、特には0.10〜0.50、さらには0.20〜0.33であり、mは0から10の範囲にある数値であり、特には0〜8、さらには0〜4である。 In the above formula (2), M 2+ is a divalent metal ion such as Mg 2+ , Ca 2+ , Zn 2+ , Co 2+ , Ni 2+ , Cu 2+ , Mn 2+ , and M 3+ is Al 3+ , Fe 3+ , Cr 3+ is a trivalent metal ion such as, a n-is OH -, Cl -, CO 3 2-, which is an n-valent anion such as SO 4 2-. x is a numerical value of 0 <x <1, particularly 0.10 to 0.50, more preferably 0.20 to 0.33, and m is a numerical value in the range of 0 to 10, particularly 0. It is -8, Furthermore, it is 0-4.
ハイドロタルサイト様化合物の焼成物は例えば下記一般式(3)で表すことができる複酸化物である。 The fired product of the hydrotalcite-like compound is, for example, a double oxide that can be represented by the following general formula (3).
M2+ 1−xM3+xO1+x/2 (3) M 2+ 1-x M 3+ xO 1 + x / 2 (3)
上記式(3)中、xは正数である。 In the above formula (3), x is a positive number.
また、本発明の(E)成分として、Mg3ZnAl2(OH)12CO3・wH2O、Mg3ZnAl2(OH)12CO3等の亜鉛変性ハイドロタルサイト系化合物を使用する事もできる(wは実数である)。 In addition, as the component (E) of the present invention, a zinc-modified hydrotalcite compound such as Mg 3 ZnAl 2 (OH) 12 CO 3 .wH 2 O, Mg 3 ZnAl 2 (OH) 12 CO 3 may be used. Yes (w is a real number).
(E)成分のハイドロタルサイト様化合物及びハイドロタルサイト様化合物の焼成物は陰イオン交換能を有する。よって、(A)成分由来のギ酸イオンや酢酸イオンのようなカルボニルイオンを捕捉したり、硬化物のpHを中性に近づけたりすることで、発光素子として使用されるGaAsなどのチップを保護することができるものである。 The hydrotalcite-like compound of component (E) and the fired product of the hydrotalcite-like compound have anion exchange ability. Therefore, a chip such as GaAs used as a light emitting element is protected by capturing carbonyl ions such as formate ion and acetate ion derived from component (A) or bringing the pH of the cured product close to neutral. It is something that can be done.
本発明の(E)成分は、好ましくは下記一般式(4)で表されるハイドロタルサイト化合物及び/又は該ハイドロタルサイト化合物の焼成物である。 The component (E) of the present invention is preferably a hydrotalcite compound represented by the following general formula (4) and / or a fired product of the hydrotalcite compound.
MgaAlb(OH)cCO3・nH2O (4) Mg a Al b (OH) c CO 3 .nH 2 O (4)
上記式(4)中、a、b、及びcは2a+3b−c=2を満たす0より大きい数であり、nは0≦n≦4を満たす数である。 In the above formula (4), a, b, and c are numbers greater than 0 that satisfy 2a + 3b−c = 2, and n is a number that satisfies 0 ≦ n ≦ 4.
上記式(4)で表されるハイドロタルサイト化合物としては、例えば、Mg4.5Al2(OH)13CO3・3.5H2O、Mg4.5Al2(OH)13CO3、Mg4Al2(OH)12CO3・3.5H2O、Mg6Al2(OH)16CO3・4H2O、Mg5Al2(OH)14CO3・4H2O、Mg3Al2(OH)10CO3・1.7H2O等が挙げられる。市販品としては、商品名「DHT−4A」、「DHT−4A−2」、「DHT−4C」、「DHT−6」、「キョーワード500」(いずれも協和化学工業社製)「STABIACE HT−1」、「STABIACE HT−7」、「STABIACE HT−P」(堺化学工業製)などを挙げることができる。 Examples of the hydrotalcite compound represented by the above formula (4) include Mg 4.5 Al 2 (OH) 13 CO 3 .3.5H 2 O, Mg 4.5 Al 2 (OH) 13 CO 3 , Mg 4 Al 2 (OH) 12 CO 3 .3.5H 2 O, Mg 6 Al 2 (OH) 16 CO 3 .4H 2 O, Mg 5 Al 2 (OH) 14 CO 3 .4H 2 O, Mg 3 Al 2 (OH) 10 CO 3 · 1.7H 2 O , and the like. As commercial products, trade names “DHT-4A”, “DHT-4A-2”, “DHT-4C”, “DHT-6”, “Kyoward 500” (all manufactured by Kyowa Chemical Industry Co., Ltd.) “STABIACE HT” -1 "," STABIACE HT-7 "," STABIACE HT-P "(manufactured by Sakai Chemical Industry), and the like.
(E)成分の配合量は(A)成分100質量部に対し、1〜10質量部であり、好ましくは2〜8質量部とすることが好ましい。(E)成分の量が上記下限値より少ないと効果が十分得られない。また(E)成分の量が上記上限値を超えて添加した場合、硬化性や密着性の低下を引き起こす場合がある。 (E) The compounding quantity of a component is 1-10 mass parts with respect to 100 mass parts of (A) component, Preferably it is 2-8 mass parts. If the amount of the component (E) is less than the lower limit, the effect cannot be obtained sufficiently. Moreover, when the quantity of (E) component is added exceeding the said upper limit, sclerosis | hardenability and the fall of adhesiveness may be caused.
本発明の組成物には、上記(A)〜(E)成分に加え、更に下記の成分を配合してもよい。 In addition to the above components (A) to (E), the composition of the present invention may further contain the following components.
(F)離型剤
本発明の熱硬化性エポキシ樹脂組成物には、離型剤を配合することができる。(F)成分の離型剤は、成形時の離型性を高めるために配合するものである。
(F) Release agent A release agent can be mix | blended with the thermosetting epoxy resin composition of this invention. (F) The mold release agent of a component is mix | blended in order to improve the mold release property at the time of shaping | molding.
離型剤としては、カルナバワックスをはじめとする天然ワックス、酸ワックス、ポリエチレンワックス、脂肪酸エステルをはじめとする合成ワックスがあるが、一般的に高温条件下や光照射下では、容易に黄変したり、経時劣化したりして、離型性を有しなくなるものが多いため、変色の少ないグリセリン誘導体や脂肪酸エステルや初期にて着色があるものの経時での変色の少ないカルナバワックスが好ましい。特に好ましくは、初期の着色が少なく、経時での変色も少ない点からグリセリンモノステアレートやステアリルステアレートである。 Mold release agents include natural waxes such as carnauba wax, synthetic waxes such as acid wax, polyethylene wax, and fatty acid ester. Generally, yellowing easily occurs under high temperature conditions or under light irradiation. In many cases, glycerin derivatives and fatty acid esters with little discoloration or carnauba wax with little discoloration over time, although having little color change, are preferred. Particularly preferred are glycerin monostearate and stearyl stearate because they are less colored initially and less discolored over time.
(F)成分の離型剤の配合量は、(A)成分100質量部に対し、0.05〜7.0質量部、特には0.1〜5.0質量部が好ましい。配合量が0.05質量部未満では、十分な離型性を得られない場合があり、7.0質量部を超えると、沁み出し不良や接着性不良等が起こる場合がある。 (F) The compounding quantity of the mold release agent of a component is 0.05-7.0 mass parts with respect to 100 mass parts of (A) component, Especially 0.1-5.0 mass parts is preferable. If the blending amount is less than 0.05 parts by mass, sufficient releasability may not be obtained, and if it exceeds 7.0 parts by mass, a squeeze out defect or poor adhesion may occur.
(G)カップリング剤
本発明の熱硬化性エポキシ樹脂組成物には、樹脂と無機充填材との結合強度を強くするため、樹脂組成物と金属との接着力を高めるためにシランカップリング剤、チタネートカップリング剤などのカップリング剤を配合することができる。
このようなカップリング剤としては、例えば、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン等のエポキシ官能性アルコキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等のメルカプト官能性アルコキシシランなどを用いることが好ましい。なお、表面処理に用いるカップリング剤の配合量及び表面処理方法については特に制限されるものではないが、アミン系のシランカップリング剤のように150℃以上に放置した場合に樹脂が変色するものはあまり好ましくない。
(G) Coupling agent In the thermosetting epoxy resin composition of the present invention, a silane coupling agent is used to increase the bonding strength between the resin composition and the metal in order to increase the bond strength between the resin and the inorganic filler. Coupling agents such as titanate coupling agents can be blended.
Examples of such a coupling agent include epoxy functions such as γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, and β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane. It is preferable to use a mercapto functional alkoxysilane such as a functional alkoxysilane or γ-mercaptopropyltrimethoxysilane. The amount of the coupling agent used for the surface treatment and the surface treatment method are not particularly limited, but the resin discolors when left at 150 ° C. or more like an amine-based silane coupling agent. Is less preferred.
(G)成分の配合量は、(A)成分100質量部に対し、0.1〜8.0質量部が好ましく、特に0.5〜6.0質量部添加することが好ましい。0.1質量部未満であると、基材への接着効果が十分でなく、また8.0質量部を超えると、粘度が極端に低下して、ボイドの原因になる可能性がある。 The blending amount of the component (G) is preferably 0.1 to 8.0 parts by weight, and particularly preferably 0.5 to 6.0 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the component (A). If the amount is less than 0.1 parts by mass, the effect of bonding to the substrate is not sufficient, and if it exceeds 8.0 parts by mass, the viscosity may be extremely reduced, which may cause voids.
その他の添加剤
本発明の熱硬化性エポキシ樹脂組成物には、更に必要に応じて各種の添加剤を配合することができる。例えば、樹脂の性質を改善する目的でガラス繊維等の補強材、シリコーンパウダー、シリコーンオイル、熱可塑性樹脂、熱可塑性エラストマー、有機合成ゴム、光安定剤等の添加剤を本発明の効果を損なわない範囲で添加配合することができるが、光の透過を妨げないように屈折率が(A)成分に近いものが好ましい。
Other Additives Various additives can be further blended in the thermosetting epoxy resin composition of the present invention as necessary. For example, reinforcing agents such as glass fibers, additives such as silicone powder, silicone oil, thermoplastic resins, thermoplastic elastomers, organic synthetic rubbers, and light stabilizers for the purpose of improving the properties of the resin do not impair the effects of the present invention. Although it can be added and blended in a range, it is preferable that the refractive index is close to the component (A) so as not to prevent light transmission.
本発明熱硬化性エポキシ組成物の製造方法としては、プレポリマー、無機充填材、硬化促進剤、その他の添加物を所定の組成比で配合し、これをミキサー等によって十分均一に混合した後、熱ロール、ニーダー、エクストルーダー等による溶融混合処理を行い、次いで冷却固化させ、適当な大きさに粉砕して熱硬化性エポキシ樹脂組成物の成形材料とする方法が挙げられる。 As a method for producing the thermosetting epoxy composition of the present invention, a prepolymer, an inorganic filler, a curing accelerator, and other additives are blended at a predetermined composition ratio, and this is sufficiently uniformly mixed by a mixer or the like. Examples thereof include a method of performing a melt mixing process using a hot roll, a kneader, an extruder, and the like, then cooling and solidifying, and pulverizing to an appropriate size to obtain a molding material for the thermosetting epoxy resin composition.
封止材の最も一般的な成形方法としては、トランスファー成形法や圧縮成形法が挙げられる。トランスファー成形法では、トランスファー成形機を用い、成形圧力5〜20N/mm2、成形温度120〜190℃で成形時間30〜500秒、特に成形温度150〜185℃で成形時間30〜180秒で行うことが好ましい。また、圧縮成形法では、コンプレッション成形機を用い、成形温度は120〜190℃で成形時間30〜600秒、特に成形温度130〜160℃で成形時間120〜300秒で行うことが好ましい。更に、いずれの成形法においても、後硬化を150〜185℃で0.5〜20時間行ってもよい。 The most common molding method for the sealing material includes a transfer molding method and a compression molding method. In the transfer molding method, a transfer molding machine is used and a molding pressure of 5 to 20 N / mm 2 , a molding temperature of 120 to 190 ° C., a molding time of 30 to 500 seconds, particularly a molding temperature of 150 to 185 ° C. and a molding time of 30 to 180 seconds. It is preferable. In the compression molding method, a compression molding machine is used, and the molding temperature is preferably 120 to 190 ° C., the molding time is 30 to 600 seconds, and the molding temperature is preferably 130 to 160 ° C. and the molding time is 120 to 300 seconds. Further, in any molding method, post-curing may be performed at 150 to 185 ° C. for 0.5 to 20 hours.
本発明の熱硬化性エポキシ樹脂組成物を180℃×4時間加熱硬化し、該硬化物10gを純水50gに入れ、121℃×20時間処理し、次に液中の不溶物をろ過によって除去して得られた抽出液において、該抽出液のpHが4以上7以下、好ましくは4.5以上6.5以下であることが望ましい。pHがこの範囲内にあれば、樹脂組成物の耐熱変色性が向上するだけなく、GaAsのような酸に弱いチップに対する信頼性が向上する。このような、範囲のものとするには、ハイドロタルサイト化合物及び/又は該ハイドロタルサイト化合物の焼成物を添加する方法が挙げられる。 The thermosetting epoxy resin composition of the present invention is heat-cured at 180 ° C. for 4 hours, 10 g of the cured product is put into 50 g of pure water, treated at 121 ° C. for 20 hours, and then insoluble matters in the liquid are removed by filtration. In the extract thus obtained, the pH of the extract is 4 or more and 7 or less, preferably 4.5 or more and 6.5 or less. If the pH is within this range, not only the heat discoloration resistance of the resin composition is improved, but also the reliability with respect to an acid-sensitive chip such as GaAs is improved. In order to make it into such a range, the method of adding the hydrotalcite compound and / or the calcined product of this hydrotalcite compound is mentioned.
以下、実施例及び比較例を示し、本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。 EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example are shown and this invention is demonstrated concretely, this invention is not restrict | limited to the following Example.
実施例、比較例で使用した原料を以下に示す。 The raw materials used in Examples and Comparative Examples are shown below.
(A−1)25℃で固形又は流動性を有していないエポキシ樹脂
(A−1−1):トリス(2,3−エポキシプロピル)イソシアヌレート(商品名TEPIC−S:日産化学(株)製)
(A−1−2):2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−1−ブタノールの1,2−エポキシ−4−(2オキシラニル)シクロヘキサン付加物
(A−2)酸無水物
(A−2−1):メチルヘキサヒドロ無水フタル酸(商品名リカシッドMH:新日本理化(株)製)
(A−2−2):ヘキサヒドロ無水フタル酸(商品名:リカシッドHH:新日本理化(株)製)
(A-1) Epoxy resin not solid or fluid at 25 ° C. (A-1-1): Tris (2,3-epoxypropyl) isocyanurate (trade name TEPIC-S: Nissan Chemical Co., Ltd.) Made)
(A-1-2): 1,2-epoxy-4- (2 oxiranyl) cyclohexane adduct of 2,2-bis (hydroxymethyl) -1-butanol (A-2) acid anhydride (A-2- 1): Methylhexahydrophthalic anhydride (trade name Ricacid MH: manufactured by Shin Nippon Rika Co., Ltd.)
(A-2-2): Hexahydrophthalic anhydride (trade name: Ricacid HH: manufactured by Shin Nippon Rika Co., Ltd.)
(B)無機充填剤
(B−1):溶融球状シリカ(商品名:RS−8225/53C、平均10μm、(株)龍森製)
(B) Inorganic filler (B-1): fused spherical silica (trade name: RS-8225 / 53C, average 10 μm, manufactured by Tatsumori Co., Ltd.)
(C)硬化促進剤
(C−1):リン系硬化触媒;第4級ホスホニウムブロマイド(商品名:U−CAT5003、サンアプロ(株)製)
(C−2):2−エチル−4−メチルイミダゾール(商品名:2E4MZ、四国化成工業(株)製)
(C) Curing accelerator (C-1): Phosphorus-based curing catalyst; quaternary phosphonium bromide (trade name: U-CAT5003, manufactured by San Apro Co., Ltd.)
(C-2): 2-ethyl-4-methylimidazole (trade name: 2E4MZ, manufactured by Shikoku Chemicals Co., Ltd.)
(D)酸化防止剤
(D−1):リン系酸化防止剤(商品名:PEP−8、ADEKA(株)製)
(D−2):ヒンダードアミン系酸化防止剤(商品名:LA−63、ADEKA(株)製)
(D) Antioxidant (D-1): Phosphorous antioxidant (trade name: PEP-8, manufactured by ADEKA Corporation)
(D-2): Hindered amine antioxidant (trade name: LA-63, manufactured by ADEKA Corp.)
(E)ハイドロタルサイト様化合物及び/又はハイドロタルサイト様化合物の焼成物
(E−1):(Mg)6Al2(CO3)(OH)16・4H2Oの焼成物(商品名:DHT−4A−2、協和化学工業(株)製)
(E−2):(Mg)4.3Al2(CO3)(OH)12.6・mH2O(商品名:DHT−4A、協和化学工業(株)製)
(E) a hydrotalcite-like compound and / or calcination of the hydrotalcite-like compound (E-1) :( Mg) 6 Al 2 (CO 3) (OH) 16 · 4H 2 O fired product (trade name: (DHT-4A-2, manufactured by Kyowa Chemical Industry Co., Ltd.)
(E-2): (Mg) 4.3 Al 2 (CO 3 ) (OH) 12.6 · mH 2 O (trade name: DHT-4A, manufactured by Kyowa Chemical Industry Co., Ltd.)
(F)離型剤
(F−1):ステアリルステアレート(商品名:SL−900A、理研ビタミン(株)製)
(F) Release agent (F-1): Stearyl stearate (trade name: SL-900A, manufactured by Riken Vitamin Co., Ltd.)
(G)カップリング剤
(G−1):3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン(商品名:KBM−803、信越化学工業(株)製商品名)
(G) Coupling agent (G-1): 3-mercaptopropyltrimethoxysilane (trade name: KBM-803, trade name manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
[合成例1]エポキシ樹脂プレポリマー(A成分)の製造
(A)成分であるプレポリマーA〜Dを、下記表1に示す原料成分を表示の割合で配合し、ゲートミキサーを用いて所定の反応条件で加熱することによりエポキシ樹脂(A−1)と酸無水物(A−2)を反応させて合成した。
[Synthesis Example 1] Production of epoxy resin prepolymer (component A) Prepolymers A to D, which are components (A), are blended at the indicated ratio of raw material components shown in Table 1 below, and a predetermined amount using a gate mixer. The epoxy resin (A-1) and the acid anhydride (A-2) were reacted by heating under reaction conditions for synthesis.
[実施例1〜7、比較例1〜8]
表2、3に示す配合(質量部)で、熱二本ロールにて製造し、冷却、粉砕して熱硬化性エポキシ樹脂組成物を得た。これらの組成につき、以下の諸特性を測定した。結果を表2、3に示す。
[Examples 1-7, Comparative Examples 1-8]
The composition (parts by mass) shown in Tables 2 and 3 was produced with a hot two roll, cooled and pulverized to obtain a thermosetting epoxy resin composition. The following properties were measured for these compositions. The results are shown in Tables 2 and 3.
組成物のハンドリング性
上記の熱2本ロールによる溶融混合時の作業性を以下の基準で評価した。
○:各成分を均一に混合した後、タブレット化が容易な組成物を得ることができた。
×:各成分を均一に混合した後、タブレット化が困難な組成物しか得られなかった。
Handling property of composition The workability at the time of melt-mixing with the above-mentioned two heat rolls was evaluated according to the following criteria.
(Circle): After mixing each component uniformly, the composition which can be tableted easily was able to be obtained.
X: After mixing each component uniformly, only the composition which was difficult to tablet was obtained.
スパイラルフロー値
EMMI規格に準じた金型を使用して、成形温度175℃、成形圧力6.9N/mm2、成形時間90秒の条件で行った。
Spiral flow value A mold conforming to the EMMI standard was used under the conditions of a molding temperature of 175 ° C., a molding pressure of 6.9 N / mm 2 , and a molding time of 90 seconds.
室温での曲げ強さ、曲げ弾性率
JIS−K6911:2006規格に準じた金型を使用して、成形温度175℃、成形圧力6.9N/mm2、成形時間90秒の条件で成形し、180℃×4時間ポストキュアーした。ポストキュアーした試験片を室温(25℃)にて、曲げ強さ、曲げ弾性率及びたわみを測定した。
Bending strength at room temperature, flexural modulus Using a mold according to JIS-K6911: 2006 standard, molding was performed under conditions of a molding temperature of 175 ° C., a molding pressure of 6.9 N / mm 2 , and a molding time of 90 seconds. Post-curing was performed at 180 ° C. for 4 hours. The post-cured test piece was measured for bending strength, bending elastic modulus and deflection at room temperature (25 ° C.).
光透過率、耐熱性
成形温度175℃、成形圧力6.9N/mm2、成形時間90秒の条件で、1辺50mm×厚さ0.35mmの硬化物を作成し、180℃×4時間のポストキュアーを行い、エス・デイ・ジー(株)製X−rite8200を使用して740nmの光透過率を測定した。その後、180℃×500時間の熱処理を行い、同様にエス・デイ・ジー(株)製X−rite8200を使用して740nmの光透過率を測定した。
Light transmittance, heat resistance Molding temperature of 175 ° C., molding pressure of 6.9 N / mm 2 , molding time of 90 sec. Post cure was performed, and light transmittance at 740 nm was measured using X-lite 8200 manufactured by SDG Co., Ltd. Thereafter, heat treatment was performed at 180 ° C. for 500 hours, and the light transmittance at 740 nm was measured using X-lite 8200 manufactured by SDG Co., Ltd. in the same manner.
pH測定
JIS−K6911:2006規格に準じた金型を使用して、成形温度175℃、成形圧力6.9N/mm2、成形時間90秒の条件で成形し、180℃×4時間ポストキュアーした。その後、成形片を粉砕し、篩を用いて70メッシュを通過し、かつ200メッシュ上に残るような粒径の粉砕物を分取した。その粉砕物10gを純水50gに入れ、121℃×20時間処理し、次に加熱後の液中の不溶成分をろ過によって除去して、抽出水を得た。得られた抽出液のpHを測定した。
Measurement of pH Using a mold conforming to JIS-K6911: 2006, molding was performed under conditions of a molding temperature of 175 ° C., a molding pressure of 6.9 N / mm 2 and a molding time of 90 seconds, and post-cured at 180 ° C. for 4 hours. . Thereafter, the molded piece was pulverized, and a pulverized product having a particle size such that it passed through 70 mesh and remained on 200 mesh was collected using a sieve. 10 g of the pulverized product was put in 50 g of pure water, treated at 121 ° C. for 20 hours, and then insoluble components in the heated liquid were removed by filtration to obtain extracted water. The pH of the obtained extract was measured.
信頼性試験
あらかじめ、フォトカプラー用素子(GaAs−LED)表面にシリコーンコーティング層(KJR−9090、信越化学工業製)を150℃×4時間の条件で形成した。そして、実施例1〜7及び比較例1〜8の該熱硬化性エポキシ樹脂組成物を用いて、上記シリコーンコーティング層形成済みのフォトカプラー用素子を成形温度175℃、成形圧力6.9N/mm2、成形時間90秒の条件で一次封止した。ついで、黒色熱硬化性エポキシ樹脂材料(KMC−300、信越化学工業製)を用いて、上記一次封止樹脂層の外周に、175℃、成形圧力6.9N/mm2、成形時間120秒の条件で二次封止樹脂層を形成し、180℃×4時間ポストキュアーしてフォトカプラーを作製した。このようにして作成したフォトカプラー10個を、150℃×50mA×5,000時間の条件で測定し、不良率を計測した。
Reliability test In advance, a silicone coating layer (KJR-9090, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was formed on the surface of a photocoupler element (GaAs-LED) under conditions of 150 ° C. × 4 hours. Then, using the thermosetting epoxy resin compositions of Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 8, the photocoupler element having the silicone coating layer formed thereon was molded at a temperature of 175 ° C. and a molding pressure of 6.9 N / mm. 2. Primary sealing was performed under conditions of a molding time of 90 seconds. Then, using a black thermosetting epoxy resin material (KMC-300, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), the outer periphery of the primary sealing resin layer was 175 ° C., a molding pressure of 6.9 N / mm 2 , and a molding time of 120 seconds. A secondary sealing resin layer was formed under conditions and post-cured at 180 ° C. for 4 hours to prepare a photocoupler. Ten photocouplers thus prepared were measured under conditions of 150 ° C. × 50 mA × 5,000 hours, and the defect rate was measured.
表2及び3より、プレポリマー化することでハンドリング性が向上することが確認できた。また、実施例の樹脂硬化物は、ハイドロタルサイト様化合物及び/又はハイドロタルサイト様化合物の焼成物を含有することで高耐熱性を有するだけでなく、pHも中性に近づき、チップに負荷のかかりにくい材料であることを確認できた。 From Tables 2 and 3, it was confirmed that the handleability was improved by prepolymerization. In addition, the resin cured products of the examples not only have high heat resistance by containing a hydrotalcite-like compound and / or a calcined product of a hydrotalcite-like compound, but also the pH approaches to neutrality and load on the chip. It was confirmed that the material is difficult to be applied.
Claims (5)
(B)無機充填材:80〜1,000質量部、
(C)下記式(1):
X+Y− (1)
[式(1)中、X+は、脂肪族4級ホスホニウムイオン、芳香族4級ホスホニウムイオン、1,8−ジアザ−ビシクロ[5.4.0]ウンデカン−7−エンのオニウムイオン及びイミダゾール誘導体のオニウムイオンから選ばれるカチオンを示し、Y−は、テトラフルオロホウ酸イオン、テトラフェニルホウ酸イオン、ヘキサフルオロリン酸イオン、ビストリフルオロメチルスルホニルイミド酸イオン、トリス(トリフルオロメチルスルホニル)炭素酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオン、ハロゲン化酢酸イオン、カルボン酸イオン及びハロゲンイオンから選ばれるアニオンを示す。]
で表わされるオニウム塩からなる硬化促進剤:0.05〜5質量部、
(D)フェノール系、リン系及び硫黄系酸化防止剤から選ばれる1種又は2種以上の酸化防止剤:0.01〜10質量部 並びに
(E)ハイドロタルサイト様化合物及び/又はハイドロタルサイト様化合物の焼成物:1〜10質量部
を含有するフォトカプラー一次封止用熱硬化性エポキシ樹脂組成物。 (A) (A-1) A reaction product of an epoxy resin that is not solid or fluid at 25 ° C. and (A-2) an acid anhydride, which is an epoxy group equivalent / an acid anhydride group equivalent. Is a ratio of 0.6 to 2.0: 100 parts by mass,
(B) Inorganic filler: 80 to 1,000 parts by mass,
(C) The following formula (1):
X + Y − (1)
[In the formula (1), X + represents an aliphatic quaternary phosphonium ion, an aromatic quaternary phosphonium ion, an onium ion of 1,8-diaza-bicyclo [5.4.0] undecan-7-ene, and an imidazole derivative. Y − represents a tetrafluoroborate ion, a tetraphenylborate ion, a hexafluorophosphate ion, a bistrifluoromethylsulfonylimido ion, or a tris (trifluoromethylsulfonyl) carbonate ion. , An anion selected from trifluoromethanesulfonate ion, halogenated acetate ion, carboxylate ion and halogen ion. ]
Curing accelerator comprising an onium salt represented by: 0.05 to 5 parts by mass,
(D) One or more antioxidants selected from phenol-based, phosphorus-based and sulfur-based antioxidants: 0.01 to 10 parts by mass and (E) hydrotalcite-like compound and / or hydrotalcite Baked product of like compound: A thermosetting epoxy resin composition for primary sealing of a photocoupler, containing 1 to 10 parts by mass.
[M2+ 1−xM3+ x(OH)2]x+[(An− x/n)・mH2O]x− (2)
(式中、M2+は2価金属イオンであり、M3+は3価金属イオンであり、An−はn価のアニオンであり、xは0<x<1の範囲の数を示し、mは0〜10の数を示す。)
で示される化合物であり、ハイドロタルサイト様化合物の焼成物が下記式(3)
M2+ 1−xM3+xO1+x/2 (3)
(xは0<x<1の範囲の数である)
で示される化合物である請求項1〜3のいずれか1項に記載のフォトカプラー一次封止用熱硬化性エポキシ樹脂組成物。 The hydrotalcite-like compound of component (E) is represented by the following formula (2)
[M 2+ 1-x M 3+ x (OH) 2] x + [(A n- x / n) · mH 2 O] x- (2)
(Wherein, M 2+ is a divalent metal ion, M 3+ is a trivalent metal ion, A n-is an n-valent anion, x is the number of the range of 0 <x <1, m Represents a number from 0 to 10.)
The hydrotalcite-like compound fired product is represented by the following formula (3):
M 2+ 1-x M 3+ xO 1 + x / 2 (3)
(X is a number in the range 0 <x <1)
The thermosetting epoxy resin composition for primary sealing of a photocoupler according to any one of claims 1 to 3, which is a compound represented by the formula:
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