JP2016524155A5 - - Google Patents

Description

異なる配向を有する標的構造１２０と背景１１０との間の境界線の反射は、線端部の品質及び特徴、線縁部の粗度、並びに線間の距離に強く依存し得る。図５Ｆに示される１つに類似の標的１００が、これらのパラメータを定量化及び観察するために使用され得る。例えば、側壁角（ＳＷＡ）は、距離ｄを示し得、例えば、同一のＳＷＡが、すべての線に関する同一の距離を示し得る一方で、線のＳＷＡの差は、パターン配置エラー又は線端部及び縁部の品質における大きな変動の兆候として使用され得る。ある実施形態では、距離ｄは、数ナノメートルの小さい範囲内で平行線に沿って（設計によって）変動し得る。かかる小さい変化の下では、側壁角は、距離ｄの変化に比例するはずであり、かかる比例挙動からの逸脱は、リソグラフィープロセスの品質を示すために使用され得、また、パターン化はデバイススケールであるため、従属ＳＷＡ（ｄ）は、デバイスの品質の直接的な兆候として使用され得る。ある実施形態では、距離ｄの意図的な変動は、観察及び制御の目的のために、スキャナ焦点及び線量変動に対する標的の感度を強化するために光学ＣＤ標的に使用され得る。ある実施形態では、偏光パラメータは、異なる偏光パラメータに対する異なる標的応答から追加の情報を抽出するために変化され得る。

図６Ａ〜図６Ｍは、本発明のいくつかの実施形態による、光学照明及び測定システム２００の高レベル概略図である。すべての図において、非偏光源７０は、対象７７を介してウエハ７５上の標的１００の偏光照明を提供するように修正される。レンズ７９を介して検出器８０（ＣＣＤカメラなど）に方向付けられる収集された照明は、該照明と同様に、又は異なって偏光され得る。

Claims (30)

1. 標的構造を、偏光下でその背景に対して指定のコントラスト閾値を上回る高コントラストを有する一方で、非偏光下でその背景に対して前記指定のコントラスト閾値を下回る低コントラストを有するように設計するステップを含み、
   前記設計するステップは、少なくとも１つのコンピュータプロセッサによって実行される、
   ことを特徴とする方法。
2. 前記標的構造を、その製造プロセスに対して完全にプロセス適合性となるように設計するステップをさらに含む、
   ことを特徴とする請求項１に記載の方法。
3. 前記標的構造を、前記標的構造の背景形体に垂直な形体を有するように構成するステップをさらに含む、
   ことを特徴とする請求項１に記載の方法。
4. 偏光下で前記標的構造の背景に対する前記標的構造のコントラストを維持又は強化するように、前記標的構造の領域内に追加の層を設計するステップをさらに含む、
   ことを特徴とする請求項１に記載の方法。
5. 前記標的構造を、その背景形体から指定の範囲まで離間させるステップをさらに含む、
   ことを特徴とする請求項１に記載の方法。
6. 前記設計された標的構造を製造するステップをさらに含む、
   ことを特徴とする請求項１に記載の方法。
7. 前記設計された標的構造を製造するステップをさらに含む、
   ことを特徴とする請求項２に記載の方法。
8. 前記設計された標的構造を製造するステップをさらに含む、
   ことを特徴とする請求項３に記載の方法。
9. 前記設計された標的構造を製造するステップをさらに含む、
   ことを特徴とする請求項４に記載の方法。
10. 前記設計された標的構造を製造するステップをさらに含む、
    ことを特徴とする請求項５に記載の方法。
11. 前記標的構造を偏光下で測定し、前記標的構造を前記標的構造の背景と区別するステップをさらに含む、
    ことを特徴とする請求項５に記載の方法。
12. 前記標的構造を様々な照明条件下で繰り返し測定するステップと、
    複数の測定から追加の測定データを抽出するステップと、
    をさらに含むことを特徴とする請求項１１に記載の方法。
13. 前記標的構造と前記標的構造の背景との間の前記コントラストを強化するように、各層の測定条件を調整するステップをさらに含む、
    ことを特徴とする請求項１１に記載の方法。
14. ゼロ次回析パターンを除去した後に、一次回析パターンを測定するステップをさらに含む、
    ことを特徴とする請求項１２に記載の方法。
15. 前記測定するステップは、連結された偏光子、前記測定の光路内の代替偏光子、干渉計、可変リターダ偏光子、瞳面におけるゼロ次ブロッカ、及び偏光源のうちの少なくとも１つを使用して実行される、
    ことを特徴とする請求項１１に記載の方法。
16. コンピュータ可読プログラムが記憶されたコンピュータ可読記憶媒体を備えるコンピュータプログラム製品であって、
    前記コンピュータ可読プログラムは、請求項１に記載の方法を実行するように構成される、
    ことを特徴とするコンピュータプログラム製品。
17. 請求項１に記載の方法に従って設計又は製造されることを特徴とする標的設計ファイル。
18. 請求項１に記載の方法に従って設計、製造、又は測定されることを特徴とする計測標的。
19. 標的構造を備える計測標的であって、
    前記標的構造が、偏光下で背景に対して指定のコントラスト閾値を上回る高コントラストを有する一方で、非偏光下で前記背景に対して前記指定のコントラスト閾値を下回る低コントラストを有するように配列され、かつそれらの製造プロセスに対して完全にプロセス適合性となるようにさらに配列される、
    ことを特徴とする計測標的。
20. 前記標的構造は、背景形体に垂直な形体を備える、
    ことを特徴とする請求項１９に記載の計測標的。
21. 偏光下で前記標的構造の背景に対する前記標的構造のコントラストを維持又は強化するように、前記標的構造の領域内に追加の層をさらに備える、
    ことを特徴とする請求項１９に記載の計測標的。
22. 前記標的構造は、その背景形体から指定の範囲まで離間される、
    ことを特徴とする請求項１９に記載の計測標的。
23. 請求項１９に記載の計測標的の計測測定。
24. 請求項２０に記載の計測標的の計測測定。
25. 請求項２１に記載の計測標的の計測測定。
26. 請求項２２に記載の計測標的の計測測定。
27. 様々な照明条件下で繰り返し実行される請求項２３に記載の計測測定、及び複数の測定から抽出される追加の測定データ。
28. 様々な照明条件下で繰り返し実行される請求項２４に記載の計測測定、及び複数の測定から抽出される追加の測定データ。
29. 様々な照明条件下で繰り返し実行される請求項２５に記載の計測測定、及び複数の測定から抽出される追加の測定データ。
30. 様々な照明条件下で繰り返し実行される請求項２６に記載の計測測定、及び複数の測定から抽出される追加の測定データ。