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JP2016103583A - 光電変換モジュール - Google Patents

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JP2016103583A JP2014241644A JP2014241644A JP2016103583A JP 2016103583 A JP2016103583 A JP 2016103583A JP 2014241644 A JP2014241644 A JP 2014241644A JP 2014241644 A JP2014241644 A JP 2014241644A JP 2016103583 A JP2016103583 A JP 2016103583A
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祐介 宮道
Yusuke Miyamichi
祐介 宮道
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Abstract

【課題】 配線導体の高抵抗化を低減し、長期にわたって高い電力を得ることが可能な信頼性の高い光電変換モジュールを提供する。【解決手段】 光電変換モジュール101は、一主面を有する基板1と、前記一主面上に配置された光電変換部11と、前記一主面上または光電変換部11上に光電変換部11と電気的に接続するように配置された、一方向に延びる帯状の出力電極8と、出力電極8に電気的に接続されており、基板1に設けられた貫通孔1aを通ってあるいは基板1の側面を通って基板1の裏面へ導出された帯状の配線導体と、光電変換部11および配線導体を覆う封止材とを具備している。そして、配線導体は、出力電極8と接続されている第一の配線導体9と基板1の一主面から裏面へ導出されている第二の配線導体19を有しており、第一の配線導体9の表面部に比べて第二の配線導体19の表面部は水分による腐食耐性が高い。【選択図】 図1

Description

本発明は光電変換部で発電した電力を取り出すための配線導体を具備する光電変換モジュールに関する。
近年、エネルギー問題や環境問題の深刻化に伴い、光エネルギーを電気エネルギーに変換する太陽光発電が注目を集めている。
この太陽光発電に使用される光電変換モジュールでは、光電変換部から得られた電力を、リード線等の配線導体を介して外部に取り出している。このような光電変換モジュールでは、基板の表面の中央部に半導体層を用いて光電変換部が形成されており、その光電変換部の正極および負極にそれぞれ接続された配線導体が、基板の表面における光電変換部の周辺部で引き回された後、基板の裏面に配置された端子ボックスの内部に導出されている。
(例えば、特許文献1参照)。
特開2010−056251号公報
上記特許文献1に示すような光電変換装置は、基板の裏面に引き出された配線導体が、外部の水分によって腐食しやすい傾向がある。その結果、長期間使用していると、配線導体の電気抵抗が高くなって、効率よく電力を取り出すことが困難である。
よって、本発明は、配線導体の高抵抗化を低減し、長期にわたって高い電力を得ることが可能な信頼性の高い光電変換モジュールを提供する。
本発明の一態様に係る光電変換モジュールは、一主面を有する基板と、前記一主面上に配置された光電変換部と、前記一主面上または前記光電変換部上に前記光電変換部と電気的に接続するように配置された、一方向に延びる帯状の出力電極と、該出力電極に電気的に接続されており、前記基板に設けられた貫通孔を通ってまたは前記基板の側面を通って前記基板の裏面へ導出された帯状の配線導体と、前記光電変換部および前記配線導体を覆う封止材とを具備しており、前記配線導体は、前記出力電極と接続されている第一の配線導体と前記一主面から前記裏面へ導出されている第二の配線導体を有しており、前記第一の配線導体の表面部に比べて前記第二の配線導体の表面部は水分による腐食耐性が高いことを特徴とする。
本発明の一態様に係る光電変換モジュールによれば、配線導体の高抵抗化を低減し、長期にわたって高い電力を得ることができる。
第1実施形態に係る光電変換モジュ−ルの封止材を設けていない状態の斜視図である。 図1の光電変換モジュ−ルの平面図である。 図2における第一の配線導体と第二の配線導体との接続部を示す要部拡大図である。 図3のA−A線における第一の配線導体と第二の配線導体との接続部の断面図である。 図3のB−B線における第一の配線導体と第二の配線導体との接続部の断面図である。 図1の光電変換モジュールにおける光電変換部の要部を示す断面図である。 図1の光電変換モジュールにおける光電変換部の要部を示す斜視図である。 第2実施形態に係る光電変換モジュ−ルの封止材を設けていない状態の斜視図である。 図8の光電変換モジュ−ルの平面図である。
本発明の一態様に係る光電変換モジュ−ルについて、図面を参照しつつ説明する。なお、各図には、後述する光電変換セルの配列方向をX軸とする右手系のXYZ座標を付している。
<第1実施形態に係る光電変換モジュール>
図1〜図7は、配線導体等の構成を見やすくするため、封止材を除いた状態の第1実施形態に係る光電変換モジュール101の構成を示している。
光電変換モジュール101は、基板1と、光電変換部11と、出力電極8と、第一の配線導体9と、第二の配線導体19とを備えている。
基板1は、光電変換部11を支持する機能を有している。また、基板1の材質としては、は、厚さ1〜3mm程度の青板ガラス(ソーダライムガラス)または硼珪酸ガラス等が挙げられる。なお、基板1の材質としてはこれに限定されず、他のガラス、セラミックス、樹脂および金属等が用いられてもよい。また、基板1の形状は、例えば矩形状、円形状等の平板状であればよい。
光電変換部11は、基板1の一主面上に設けられている。光電変換部11は、発電の出力を高めるという観点から、複数の光電変換セルが互いに電気的に接続され、基板1上で集積化されている。そして、光電変換モジュール101を平面視したときの光電変換部11の全体形状は矩形状である。光電変換部11の詳細については後述する。
出力電極8は、基板1の一主面上で、一対のものが光電変換部11の一対の電極にそれぞれ電気的に接続されるように設けられている。図1〜図7の例では、出力電極8が、光電変換部11の一方の電極に接続された出力電極8Aと、光電変換部11の他方の電極に接続された出力電極8Bとの一対を有する例を示している。なお、出力電極8は基板1の一主面上における光電変換部11の外側の部位でなくとも、光電変換部11の上面上に設けられていてもよい。
出力電極8は、モリブデン(Mo)、アルミニウム(Al)、チタン(Ti)、タンタル(Ta)または金(Au)等の金属またはこれらの合金を含む薄膜であればよい。また、これらの金属が積層されてなる構造体であってもよい。この出力電極8は、例えば、基板1上にスパッタリング法または蒸着法等を利用して、厚さ0.2〜1μm程度に形成すればよい。出力電極8は、工程を簡略化するという観点からは、後述する下部電極層2と同じ材料で下部電極層2の作製と同時に作製されてもよい。
第一の配線導体9および第二の配線導体19は、光電変換部11で発電された電力を光電変換モジュール101の外部に取り出すための導電路として機能する。
第一の配線導体9は、光電変換部11の第1辺に沿って、この第1辺に平行な第1方向(Y軸方向)に帯状に延びるように配置されている。また、第一の配線導体9は出力電極8に接続されており、これによって光電変換部11と第一の配線導体9とが電気的に接続されている。なお、光電変換部11の第1辺とは、図2において矩形状の太線で示されている光電変換部11の+X側および−X側の辺(Y軸に平行な辺)のことである。図1〜図7の例では、第一の配線導体9が、出力電極8Aに接続された第一の配線導体9Aと、出力電極8Bに接続された第一の配線導体9Bとの1対を有する例を示している。
第二の配線導体19は、一端が上記第一の配線導体9に接続されており、図1および図2に示すように基板1に設けられた貫通孔1aを通って、あるいは基板1の側面を通って、他端が基板1の裏面へ導出されている。そして、第二の配線導体19の表面部は、第一の配線導体9の表面部に比べて水分による腐食耐性が高くなっている。
このような構成によって、基板1の裏面側から貫通孔1aの近傍に水分が浸入してきたとしても第一の配線導体9および第二の配線導体19から成る導電路が高抵抗化する(電気抵抗が高くなる)のを低減することができる。その結果、長期にわたって高い電力を得ることができる光電変換モジュール101とすることができる。
第二の配線導体19の表面部が、第一の配線導体9の表面部に比べて水分による腐食耐性が高いというのは、第二の配線導体19の表面部および第一の配線導体9の表面部を水と接触させた場合に、第二の配線導体19の表面部の方が、腐食による高抵抗化が起こり難いことをいう。
第一の配線導体9は、出力電極8との電気的な接続を良好にするという観点からは、銀(Ag)、銅(Cu)等の導電体が用いられる。第一の配線導体9は、厚みが0.3〜2mm程度、幅が2〜6mm程度の帯状である。第一の配線導体9は出力電極8に、半田付けや導電性接着剤による接着、超音波溶接等の溶接によって電気的に接続されている。
出力電極8表面から第一の配線導体9表面の高さを低くするという観点からは、第一の配線導体9は出力電極8に溶接によって接続されていてもよい。
第二の配線導体19は、少なくとも表面部が第一の配線導体9の表面部よりも腐食耐性が高ければよい。つまり、第二の配線導体19は、全部が第一の配線導体9の表面部よりも腐食耐性の高い材料であってもよく、Ag、Cu等の導電性の高い本体部の表面に第一の配線導体9の表面部よりも腐食耐性の高い皮膜が被着されたものであってもよい。第二の配線導体19は、全部が第一の配線導体9の表面部よりも腐食耐性の高い材料である場合、より腐食耐性が高くなり、配線導体の高抵抗化をさらに低減できる。また、第二の配線導体19は、Ag、Cu等の導電性の高い本体部の表面に第一の配線導体9の表面部よりも腐食耐性の高い皮膜が被着されたものである場合、電気導電性および腐食性をともにより高めることができる。
第一の配線導体9の表面部がAgやCuである場合、第二の配線導体19の少なくとも表面部は、アルミニウム(Al)等の不動態を形成可能な材料、または白金等のAgやCuよりもイオン化傾向の低い材料であればよい。第二の配線導体19は、厚みが0.1〜2mm程度、幅が2〜6mm程度の帯状である。
第一の配線導体9と第二の配線導体19とは、図1〜図5に示すように、出力電極8上で接続されていてもよい。特に、図3〜図5に示すように、第一の配線導体9と第二の配
線導体19との接続部において、第二の配線導体19一部は第一の配線導体9の上に位置するとともに第二の配線導体19の他の一部は出力電極8に、半田付けや導電性接着剤による接着、溶接等によって接続されていてもよい。このような構成である場合、第二の配線導体19が出力電極8に固定されるため、第一の配線導体9と第二の配線導体19との接続信頼性がより高くなる。また、第一の配線導体9表面から第二の配線導体19表面の高さを低くするという観点からは、第一の配線導体9と第二の配線導体19とは溶接によって接続されていてもよい。
基板1上に設けられた、上記光電変換部11、出力電極8、第一の配線導体9および第二の配線導体19は、封止材(図示せず)によって封止されている。封止材としては、例えば共重合したエチレンビニルアセテート(EVA)を主成分とする樹脂やポリビニルブチラール(PVB)を主成分とする樹脂等が挙げられる。
<光電変換部>
次に、光電変換部11について説明する。図6は光電変換モジュール101のY方向の中央部における光電変換部11を示す部分断面図であり、図7はその部位の要部斜視図である。なお、図6および図7の構成は、光電変換モジュール101に用いられる光電変換部11の一例を示すものであって、これに限定されるものではない。
光電変換部11は、下部電極層2と、第1の半導体層3と、第1の半導体層3とは異なる導電型の第2の半導体層4と、上部電極層5と、集電電極6とを備えた光電変換セル10が複数個、図6のX方向に直列接続されて成る。隣接する光電変換セル10において、一方の光電変換セル10の上部電極層5が集電電極6および接続導体7を介して隣接する他方の光電変換セル10の下部電極層2に接続されている。そして、光電変換部11の一方端部の外側に出力電極8Aが形成されており、一方端部側の光電変換セル10の下部電極層2に電気的に接続されている。また、その反対側の光電変換部11の他方端部の外側にも出力電極8Bが形成されており、他方端部側の光電変換セル10の上部電極層5に電気的に接続されている。
次に、光電変換部11の各部材について説明する。下部電極層2は、一方向(図6のX方向)に互いに間隔をあけて基板1の一主面上に複数配置されている。なお、下部電極3の個数については、図6に示したものに限られない。このような下部電極層2は、Mo、Al、Ti、TaまたはAu等の金属またはこれらの合金を含む薄膜であればよい。また、これらの金属が積層されてなる構造体であってもよい。この下部電極層2は、例えば、基板1上にスパッタリング法または蒸着法等を利用して、厚さ0.2〜1μm程度に形成すればよい。
第1の半導体層3は、下部電極層2上に配置されている。第1の半導体層3は、例えば、アモルファスシリコンや化合物半導体等が用いられる。化合物半導体としては、例えば、I−III−VI化合物やI−II−IV−VI族化合物半導体、II−VI族化合物半導体等がある
I−III−VI化合物半導体とは、I−B族元素(11族元素ともいう)、III−B族元素
(13族元素ともいう)およびVI−B族元素(16族元素ともいう)の化合物半導体である。そして、このようなI−III−VI化合物半導体は、カルコパイライト構造を有し、カルコパイライト系化合物半導体とも呼ばれる(CIS系化合物半導体ともいう)。I−III−VI化合物半導体としては、例えば、二セレン化銅インジウム(CuInSe)、二セレン化銅インジウム・ガリウム(Cu(In,Ga)Se)、二セレン・イオウ化銅インジウム・ガリウム(Cu(In,Ga)(Se,S))、二イオウ化銅インジウム・ガリウム(Cu(In,Ga)S)または薄膜の二セレン・イオウ化銅インジウム・ガリ
ウム層を表面層として有する二セレン化銅インジウム・ガリウム等の多元化合物半導体薄膜がある。
また、I−II−IV−VI族化合物半導体とは、I−B族元素、II−B族元素(12族元素ともいう)、IV−B族元素(14族元素ともいう)およびVI−B族元素の化合物半導体である。I−II−IV−VI族化合物としては、例えば、CuZnSnS等がある。
また、II−VI族化合物半導体とは、II−B族元素およびVI−B族元素の化合物半導体である。II−VI族化合物半導体としては、例えば、CdTe等がある。
第1の半導体層3は、例えばスパッタリング法、蒸着法等といった真空プロセスによって形成される。また、第1の半導体層3は、塗布法あるいは印刷法と称されるプロセスによっても形成される。塗布法あるいは印刷法では、例えば、第1の半導体層3に主として含まれる元素の錯体溶液が下部電極層2の上に塗布され、その後、乾燥および加熱処理が行われる。
第2の半導体層4は、第1の半導体層3の+Z側の主面の上に、例えば10〜200nmの厚さで設けられており、第1の半導体層3の導電型とは異なる導電型を有する半導体を主に含む。なお、導電型が異なる半導体とは、伝導担体(キャリア)が異なる半導体である。例えば、第1の半導体層3がp型であれば、第2の半導体層4はn型であり、その逆であってもよい。また、第1の半導体層3と第2の半導体層4と界面に、i型等の他の半導体層が介在していてもよい。
第2の半導体層4は、第1の半導体層3の表面部に他の元素がドープされて成るものであってもよく、第1の半導体層3とは異なる化合物がヘテロ接合されて成るものであってもよい。
上部電極層5は、第2の半導体層4の+Z側の主面の上に設けられており、例えば、第2の半導体層4と同じ導電型を有する透光性の導電層である。この上部電極層5は、第1の半導体層3および第2の半導体層4において生じたキャリアを取り出す電極として働く。上部電極層5は、第2の半導体層4よりも低い電気抵抗率を有する材料を主に含む。
上部電極層5は、禁制帯幅が広く且つ透光性で低電気抵抗の材料を主に含んでいる。このような材料としては、例えば酸化亜鉛(ZnO)、酸化亜鉛の化合物、錫が含まれた酸化インジウム(ITO)および酸化錫(SnO)等の金属酸化物半導体等が挙げられる。酸化亜鉛の化合物は、アルミニウム、ボロン、ガリウム、インジウムおよびフッ素のうちの何れか1つの元素等が含まれたものである。
上部電極層5は、スパッタリング法、蒸着法または化学的気相成長(CVD)法等によって形成され得る。上部電極層5の厚さは、例えば、0.05〜3.0μmである。ここで、上部電極層5が、1Ω・cm未満の抵抗率と、50Ω/□以下のシート抵抗とを有していれば、上部電極層5を介して第1の半導体層3および第2の半導体層4からキャリアが良好に取り出され得る。
上部電極層5は、その厚みが0.05〜0.5μmであれば、透光性導電層6における光透過性が高められると同時に、光電変換によって生じた電流が良好に伝送され得る。さらに、上部電極層5の絶対屈折率と第2の半導体層4の絶対屈折率とが略同一であれば、上部電極層5と第2の半導体層4との界面で光が反射することで生じる入射光のロスが低減され得る。
集電電極6は、上部電極層5の+Z側の主面(一主面とも言う)の上に、上部電極層5の端部から接続導体7にかけて線状に設けられている。そして、例えば、光電変換セル10の上部電極層5によって集められたキャリアは、集電電極6によってさらに集められ、接続導体7を介して隣接する光電変換セル10に伝達され得る。
この集電電極6が設けられることで、上部電極層5における導電性が補われるため、上部電極層5の薄層化が可能となる。これにより、キャリアの取り出し効率の確保と、上部電極層5における光透過性の向上とが両立し得る。なお、集電電極6が、例えば、銀等の導電性が優れた金属を主に含んでいれば、光電変換セル10における変換効率が向上し得る。なお、集電電極6に含まれる金属としては、例えば銅、アルミニウムおよびニッケル等が挙げられる。
また、集電電極6の幅は、50〜400μmであれば、隣接する光電変換セル10間における良好な導電が確保されつつ、第1の半導体層3への光の入射量の低下が低減され得る。1つの光電変換セル10に複数の集電電極6が設けられる場合、該複数の集電電極6の間隔は、例えば、2.5mm程度であればよい。
接続導体7は、第1の半導体層3および第2の半導体層4を分離する分離溝内に配置されている。この接続導体7は、集電電極6と電気的に接続している。また、接続導体7は、隣の光電変換セル10から延伸されている下部電極層2に接続している。これにより接続導体7は、隣接する光電変換セル10のうち、一方の光電変換セル10の上部電極層5と、他方の光電変換セル10の下部電極層2とを電気的に接続できる。
接続導体7は、集電電極6と同様の材質、方法で作製してもよい。そのため、接続導体7は、集電電極6の形成と同時に行なってもよい。また、接続導体7は、上部電極層5を延伸したものであってもよい。
<第2実施形態に係る光電変換モジュール>
本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の範囲内で多くの修正及び変更を加えることができる。上記第1実施形態に係る光電変換モジュール101では、第一の配線導体9と第二の配線導体19とは、出力電極8上で接続された例を示したが、これに限定されない。図8および図9の第2実施形態に係る光電変換モジュール201に示すように、第一の配線導体29と第二の配線導体39とが、基板1の一主面上における出力電極8の外側の領域にて接続されていてもよい。このような構成であれば、導電性の高い第一の配線導体29を長くすることができ、光電変換部11で生じた電力を少ない損失で取り出すことができる。
第一の配線導体29と第二の配線導体39とは、半田付けや導電性接着剤による接着、溶接等によって接続されていてもよい。第一の配線導体29表面から第二の配線導体39表面の高さを低くするという観点からは、第一の配線導体29と第二の配線導体39とは、溶接によって接続されていてもよい。
101、201:光電変換モジュール
1:基板
11:光電変換部
8:出力電極
9、29:第一の配線導体
19、39:第二の配線導体

Claims (10)

  1. 一主面を有する基板と、
    前記一主面上に配置された光電変換部と、
    前記一主面上または前記光電変換部上に前記光電変換部と電気的に接続するように配置された、一方向に延びる帯状の出力電極と、
    該出力電極に電気的に接続されており、前記基板に設けられた貫通孔を通ってまたは前記基板の側面を通って前記基板の裏面へ導出された帯状の配線導体と、
    前記光電変換部および前記配線導体を覆う封止材とを具備しており、
    前記配線導体は、前記出力電極と接続されている第一の配線導体と前記一主面から前記裏面へ導出されている第二の配線導体を有しており、
    前記第一の配線導体の表面部に比べて前記第二の配線導体の表面部は水分による腐食耐性が高いことを特徴とする光電変換モジュール。
  2. 前記第二の配線導体の表面部は不動態を形成可能な材料から成ることを特徴とする請求項1に記載の光電変換モジュール。
  3. 前記第一の配線導体の表面部に比べて前記第二の配線導体の表面部はイオン化傾向が低いことを特徴とする請求項1に記載の光電変換モジュール。
  4. 前記第一の配線導体と前記第二の配線導体とは前記出力電極上で接続されていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の光電変換モジュール。
  5. 前記第一の配線導体と前記第二の配線導体との接続部において、前記第二の配線導体の一部は前記第一の配線導体の上に位置するとともに前記第二の配線導体の他の一部は前記出力電極に接続されていことを特徴とする請求項4に記載の光電変換モジュール。
  6. 前記第二の配線導体は、本体部と、該本体部の表面を被覆する皮膜とを有することを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載の光電変換モジュール。
  7. 前記第一の配線導体が溶接により前記出力電極と接続されている、請求項1乃至6のいずれかに記載の光電変換モジュール。
  8. 前記第一の配線導体と前記第二の配線導体とが溶接により接続されている、請求項1乃至7のいずれかに記載の光電変換モジュール。
  9. 前記第一の配線導体と前記第二の配線導体とは前記一主面上の前記出力電極の外側の領域にて接続されている、請求項1乃至3のいずれかに記載の光電変換モジュール。
  10. 前記第一の配線導体は溶接により前記出力電極と接続されている、請求項9に記載の光電変換モジュール。
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