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JP2016102147A - Polyimide film, substrate using the same and method for producing polyimide film - Google Patents

Polyimide film, substrate using the same and method for producing polyimide film Download PDF

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JP2016102147A
JP2016102147A JP2014240436A JP2014240436A JP2016102147A JP 2016102147 A JP2016102147 A JP 2016102147A JP 2014240436 A JP2014240436 A JP 2014240436A JP 2014240436 A JP2014240436 A JP 2014240436A JP 2016102147 A JP2016102147 A JP 2016102147A
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polyimide
represented
polyimide film
temperature
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JP2014240436A
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Japanese (ja)
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伸一 小松
Shinichi Komatsu
伸一 小松
歩 古俣
Ayumi Komata
歩 古俣
理恵子 藤代
Rieko FUJISHIRO
理恵子 藤代
亜紗子 京武
Asako Kyobu
亜紗子 京武
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JX Nippon Oil and Energy Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a polyimide film that is excellent in optical transparency and heat resistance and has a low linear expansion coefficient at a high temperature and to provide a method for producing the polyimide film.SOLUTION: The polyimide film contains at least one kind of repeating units represented by formula (7) and (8) a cis end-to-end isomer thereof. In the polyimide film, the total amount of repeating units represented by formula (7) and (8) a cis end-to-end isomer thereof is 90 mol% or more based on the total repeating units; the linear expansion coefficient at 350°C is 10 ppm/°C or less; and the average linear expansion coefficient obtained from length change in a temperature range of 50 to 400°C under the condition in a nitrogen atmosphere and at a programming rate of 5°C/min is 15 ppm/°C or less. [Rto Rare each independently H or the like;Ris a 6-40C aryl group; and n is an integer of 0 to 12]SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、ポリイミドフィルム、それを用いた基板、並びに、ポリイミドフィルムの製造方法に関し、より詳しくは、ポリイミドフィルム、フレキシブル配線基板、透明電極用基板、液晶配向膜積層用基板、有機ELディスプレイ用基板、有機EL照明用基板、並びに、ポリイミドフィルムの製造方法に関する。   The present invention relates to a polyimide film, a substrate using the same, and a method for producing a polyimide film. More specifically, the present invention relates to a polyimide film, a flexible wiring substrate, a substrate for transparent electrodes, a substrate for laminating liquid crystal alignment films, and a substrate for organic EL display. , A substrate for organic EL lighting, and a method for producing a polyimide film.

近年、耐熱材料の開発研究が活発に行われており、耐熱性や寸法安定性に優れるという観点から、ポリイミドが注目されている。このようなポリイミドとしては、耐熱性高分子の中でも最高クラスの耐熱性を有するものとして、例えば、米国DuPont社により1960年代に開発された代表的な有機材料である全芳香族ポリイミド「Kapton」が市販されており、かかる全芳香族ポリイミドは300℃程度の高温や過酷な宇宙環境にも長期間耐え得る高分子材料であることが知られている。   In recent years, research and development of heat-resistant materials have been actively conducted, and polyimide has attracted attention from the viewpoint of excellent heat resistance and dimensional stability. As such a polyimide, a wholly aromatic polyimide “Kapton”, which is a representative organic material developed in the 1960s by DuPont, USA, for example, has the highest class of heat resistance among heat resistant polymers. It is known that such a wholly aromatic polyimide is a polymer material that can withstand a high temperature of about 300 ° C. and a severe space environment for a long period of time.

また、他の全芳香族ポリイミドとしては、例えば、特開2007−46045号公報(特許文献1)には、100〜400℃での平均線膨張係数が−20〜10ppm/℃であるポリイミドフィルムが開示されている。また、特開2009−67042号公報(特許文献2)には、ポリイミド前駆体の溶媒溶液を支持体上にキャストし、該溶液中の溶媒を除去し自己支持性フィルムとして支持体から剥離し、自己支持性フィルムを初期加熱温度80〜300℃で幅方向に延伸し、その後最終加熱温度350〜580℃で加熱することにより得られるポリイミドフィルムが開示されている。   As another wholly aromatic polyimide, for example, JP 2007-46045 A (Patent Document 1) discloses a polyimide film having an average linear expansion coefficient of −20 to 10 ppm / ° C. at 100 to 400 ° C. It is disclosed. In addition, JP 2009-67042 A (Patent Document 2) casts a solvent solution of a polyimide precursor on a support, removes the solvent in the solution and peels from the support as a self-supporting film, A polyimide film obtained by stretching a self-supporting film in the width direction at an initial heating temperature of 80 to 300 ° C and then heating at a final heating temperature of 350 to 580 ° C is disclosed.

しかしながら、このような全芳香族ポリイミドは、芳香系のテトラカルボン酸二無水物ユニットと芳香系のジアミンユニットとの間で分子内電荷移動(CT)が起きるため、褐色を呈し、透明性が必要とされる用途(プリンタブルエレクトロニクス用途、フレキシブルガラス代替用途、半導体レジスト用途等)に使用できるものではなかった。そのため、近年では、透明性が必要とされる用途に使用可能なポリイミドを製造するために、分子内CTが生じることがなく、光透過性が高い脂環式のポリイミドの研究が進められてきており、光透過性とともに耐熱性等の点においても優れた脂環式のポリイミドが開発されてきている。   However, such wholly aromatic polyimides exhibit a brown color and require transparency because intramolecular charge transfer (CT) occurs between the aromatic tetracarboxylic dianhydride unit and the aromatic diamine unit. It was not possible to use it for intended applications (printable electronics applications, flexible glass substitute applications, semiconductor resist applications, etc.). Therefore, in recent years, in order to produce a polyimide that can be used for applications requiring transparency, research on alicyclic polyimides that do not cause intramolecular CT and have high light transmittance has been advanced. Thus, alicyclic polyimides that are excellent in light transmittance and heat resistance have been developed.

このような脂環式のポリイミドとしては、例えば、国際公開第2014/034760号(特許文献3)においては、下記一般式(I)及び(II):   As such alicyclic polyimide, for example, in International Publication No. 2014/034760 (Patent Document 3), the following general formulas (I) and (II):

[式中、R、R、Rは、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜10のアルキル基及びフッ素原子よりなる群から選択される1種を示し、Rは炭素数6〜40のアリール基を示し、nは0〜12の整数を示す。]
で表される繰り返し単位のうちの少なくとも1種を含有し、かつ、前記一般式(1)及び(2)で表される繰り返し単位の総量が全繰り返し単位に対して90モル%以上であるポリイミドが開示されている。このような特許文献3に記載の脂環式のポリイミドは、十分に高度な光透過性及び耐熱性を有するものであり、しかも、十分に低い線膨張係数も有するものであった。
[Wherein, R a , R b and R c each independently represents one selected from the group consisting of a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms and a fluorine atom, and R d represents 6 carbon atoms. Represents an aryl group of ˜40, and n represents an integer of 0 to 12. ]
Polyimide containing at least one of the repeating units represented by the formula (1) and the total amount of the repeating units represented by the general formulas (1) and (2) being 90 mol% or more based on all repeating units. Is disclosed. Such an alicyclic polyimide described in Patent Document 3 has a sufficiently high light transmittance and heat resistance, and also has a sufficiently low linear expansion coefficient.

特開2007−46045号公報JP 2007-46045 A 特開2009−67042号公報JP 2009-67042 A 国際公開第2014/034760号International Publication No. 2014/034760

しかしながら、特許文献3に記載のような、十分に低い線膨張係数を有する脂環式のポリイミドにおいても、高温(例えば350℃以上の温度)での線膨張係数の増大の抑制といった観点では、必ずしも十分なものではなかった。そのため、例えば、特許文献3に記載のようなポリイミドからなるフィルムに対して、350℃以上となるような比較的高温の条件下において無機材料を積層した場合に、無機材料からなる層との間に生じる応力により、フィルムの一部にクラックが生じたり、無機材料からなる層との間に微細な剥がれが生じたりすることを、必ずしも十分に抑制できなかった。このような観点から、特に、ポリイミドからなるフィルムを利用して最終製品を製造する際に高温に晒す必要があるような場合(例えば、高温で無機材料からなる層を積層する必要があるような場合等)に、最終的な製品の歩留向上の観点から、より高度な水準で高温(例えば350℃以上の温度)での線膨張係数の増大の抑制が可能なポリイミドフィルムの出現が望まれている。   However, even in the alicyclic polyimide having a sufficiently low linear expansion coefficient as described in Patent Document 3, in terms of suppressing increase in the linear expansion coefficient at a high temperature (for example, a temperature of 350 ° C. or higher), it is not always necessary. It was not enough. Therefore, for example, when an inorganic material is laminated on a film made of polyimide as described in Patent Document 3 under a relatively high temperature condition of 350 ° C. or higher, a layer made of an inorganic material It was not always possible to sufficiently suppress the occurrence of cracks in a part of the film or the occurrence of fine peeling between the layer made of an inorganic material due to the stress generated in the film. From this point of view, particularly when a final product is manufactured using a film made of polyimide, it is necessary to expose to a high temperature (for example, a layer made of an inorganic material needs to be laminated at a high temperature). In some cases, from the viewpoint of improving the yield of the final product, the appearance of a polyimide film capable of suppressing an increase in the linear expansion coefficient at a higher level at a high temperature (for example, a temperature of 350 ° C. or higher) is desired. ing.

本発明は、上記従来技術の有する課題に鑑みてなされたものであり、光透過性や耐熱性に優れ、しかも高温での線膨張係数が十分に低いポリイミドフィルム及びその製造方法を提供することを目的とし、更には、そのポリイミドフィルムからなる、フレキシブル配線基板、透明電極用基板、液晶配向膜積層用基板、有機ELディスプレイ用基板及び有機EL照明用基板を提供することを目的とする。   This invention is made | formed in view of the subject which the said prior art has, and is providing the polyimide film which is excellent in light transmittance and heat resistance, and has a sufficiently low linear expansion coefficient in high temperature, and its manufacturing method. Furthermore, it aims at providing the flexible wiring board, the board | substrate for transparent electrodes, the board | substrate for liquid crystal aligning film lamination | stacking, the board | substrate for organic EL displays, and the board | substrate for organic EL lighting which consist of the polyimide film.

本発明者らは、上記目的を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、下記一般式(1)及び(2)で表される繰り返し単位のうちの少なくとも1種を含有し、前記一般式(1)及び(2)で表される繰り返し単位の総量が全繰り返し単位に対して90モル%以上であり、350℃の線膨張係数が10ppm/℃以下であり、かつ、窒素雰囲気下、昇温速度5℃/分の条件で50℃〜400℃の温度範囲において長さの変化を測定して求められる平均線膨張係数が15ppm/℃以下であるポリイミドからなるフィルムにより、例えば、無機材料を積層するために高温(例えば350℃以上の温度)で加熱する必要が生じた場合においても、熱による膨張を十分に抑制することが可能となることを見出した。   As a result of intensive studies to achieve the above object, the inventors of the present invention contain at least one of repeating units represented by the following general formulas (1) and (2), and the general formula (1) ) And (2), the total amount of repeating units is 90 mol% or more with respect to all repeating units, the linear expansion coefficient at 350 ° C. is 10 ppm / ° C. or less, and the rate of temperature rise in a nitrogen atmosphere For example, an inorganic material is laminated with a film made of polyimide having an average linear expansion coefficient of 15 ppm / ° C. or less obtained by measuring a change in length in a temperature range of 50 ° C. to 400 ° C. at 5 ° C./min. Therefore, it has been found that even when it is necessary to heat at a high temperature (for example, a temperature of 350 ° C. or higher), expansion due to heat can be sufficiently suppressed.

このように、本発明者らは、上記目的を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、上記ポリイミドからなるフィルム(ポリイミドフィルム)によって、光透過性や耐熱性に優れ、しかも高温での線膨張係数が十分に低いポリイミドフィルムが得られることを見出し、本発明を完成するに至った。   As described above, the present inventors have conducted extensive research to achieve the above object, and as a result, the film made of the polyimide (polyimide film) is excellent in light transmittance and heat resistance, and also has a linear expansion coefficient at a high temperature. Was found that a sufficiently low polyimide film was obtained, and the present invention was completed.

本発明のポリイミドフィルムは、下記一般式(1)及び(2):   The polyimide film of the present invention has the following general formulas (1) and (2):

[式(1)及び(2)中、R、R、Rは、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜10のアルキル基及びフッ素原子よりなる群から選択される1種を示し、Rは炭素数6〜40のアリール基を示し、nは0〜12の整数を示す。]
で表される繰り返し単位のうちの少なくとも1種を含有し、
前記一般式(1)及び(2)で表される繰り返し単位の総量が全繰り返し単位に対して90モル%以上であり、
350℃の線膨張係数が10ppm/℃以下であり、かつ、
窒素雰囲気下、昇温速度5℃/分の条件で50℃〜400℃の温度範囲において長さの変化を測定して求められる平均線膨張係数が15ppm/℃以下である、
ポリイミドからなるフィルムであることを特徴とするものである。
[In the formulas (1) and (2), R 1 , R 2 and R 3 each independently represent one selected from the group consisting of a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms and a fluorine atom. , R 4 represents an aryl group having 6 to 40 carbon atoms, and n represents an integer of 0 to 12. ]
Containing at least one of the repeating units represented by:
The total amount of the repeating units represented by the general formulas (1) and (2) is 90 mol% or more based on all repeating units,
The linear expansion coefficient at 350 ° C. is 10 ppm / ° C. or less, and
The average linear expansion coefficient determined by measuring the change in length in the temperature range of 50 ° C. to 400 ° C. under a temperature increase rate of 5 ° C./min under a nitrogen atmosphere is 15 ppm / ° C. or less.
It is a film made of polyimide.

上記本発明のポリイミドフィルムにおいては、前記ポリイミドの350℃の線膨張係数が1〜10ppm/℃(より好ましくは5〜10ppm/℃)であることが好ましい。   In the polyimide film of the present invention, the polyimide preferably has a linear expansion coefficient at 350 ° C. of 1 to 10 ppm / ° C. (more preferably 5 to 10 ppm / ° C.).

また、上記本発明のポリイミドフィルムにおいては、前記一般式(1)及び(2)中のRが、下記一般式(3)〜(6): In the polyimide film of the present invention, the general formula (1) and (2) in R 4 is represented by the following general formula (3) to (6):

[式(5)中、Rは、水素原子、フッ素原子、メチル基、エチル基及びトリフルオロメチル基よりなる群から選択される1種を示し、式(6)中、Qは、式:−O−、−S−、−CO−、−CONH−、−C−、−COO−、−SO−、−C(CF−、−C(CH−、−CH−、−O−C−C(CH-C−O−、−O−C−SO-C−O−、−C(CH−C−C(CH−、−O−C−C−O−及び−O−C−O−で表される基よりなる群から選択される1種を示す。]
で表される基のうちの1種であることが好ましい。
[In the formula (5), R 5 represents one selected from the group consisting of a hydrogen atom, a fluorine atom, a methyl group, an ethyl group and a trifluoromethyl group, and in the formula (6), Q is a formula: -O -, - S -, - CO -, - CONH -, - C 6 H 4 -, - COO -, - SO 2 -, - C (CF 3) 2 -, - C (CH 3) 2 -, -CH 2 -, - O-C 6 H 4 -C (CH 3) 2 -C 6 H 4 -O -, - O-C 6 H 4 -SO 2 -C 6 H 4 -O -, - C ( CH 3) 2 -C 6 H 4 -C (CH 3) 2 -, - from O-C 6 H 4 -C 6 H 4 -O- and -O-C 6 group represented by H 4 -O- 1 type selected from the group consisting of ]
It is preferable that it is 1 type in group represented by these.

また、本発明のポリイミドフィルムの製造方法は、下記一般式(7):   Moreover, the manufacturing method of the polyimide film of this invention is the following general formula (7):

[式(7)中、R、R、Rは、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜10のアルキル基及びフッ素原子よりなる群から選択される1種を示し、Rは炭素数6〜40のアリール基を示し、nは0〜12の整数を示す。]
で表される脂環式テトラカルボン酸二無水物(A)及び下記一般式(8):
Wherein (7), R 1, R 2, R 3 are each independently a hydrogen atom, represents one selected from the group consisting of alkyl groups and fluorine atom having 1 to 10 carbon atoms, R 4 is An aryl group having 6 to 40 carbon atoms is shown, and n is an integer of 0 to 12. ]
An alicyclic tetracarboxylic dianhydride (A) represented by the following general formula (8):

[式(8)中、R、R、R、nは前記一般式(7)中のR、R、R、nと同義である。]
で表される脂環式テトラカルボン酸二無水物(B)のうちの少なくとも1種を含有し、且つ、前記脂環式テトラカルボン酸二無水物(A)及び(B)の総量が90モル%以上である脂環式テトラカルボン酸二無水物系モノマーと、
下記一般式(9):
Wherein (8), R 1, R 2, R 3, n are as defined R 1, R 2, R 3 , n in the general formula (7). ]
At least one of the alicyclic tetracarboxylic dianhydrides (B) represented by the formula (1) and the total amount of the alicyclic tetracarboxylic dianhydrides (A) and (B) is 90 mol. % Alicyclic tetracarboxylic dianhydride monomer,
The following general formula (9):

[式(9)中、Rは炭素数6〜40のアリール基を示す。]
で表される芳香族ジアミンとを反応させて得られる、下記一般式(10)及び(11):
[In the formula (9), R 4 represents an aryl group having 6 to 40 carbon atoms. ]
The following general formulas (10) and (11) obtained by reacting with an aromatic diamine represented by:

[式(10)及び(11)中、R、R、R、nは前記一般式(7)中のR、R、R、nと同義であり、Rは前記一般式(9)中のRと同義である。]
で表される繰り返し単位を少なくとも1種含有し且つ前記一般式(10)及び(11)で表される繰り返し単位の総量が90モル%以上のポリアミド酸を含有するポリアミド酸溶液を用いて、下記一般式(1)及び(2):
In formula (10) and (11), R 1, R 2, R 3, n has the same meaning as R 1, R 2, R 3 , n in the general formula (7), R 4 is the general the same meaning as R 4 in the formula (9). ]
Using a polyamic acid solution containing at least one type of repeating unit represented by formula (10) and a polyamic acid containing a polyamic acid having a total amount of repeating units represented by the general formulas (10) and (11) of 90 mol% or more, General formula (1) and (2):

[式(1)及び(2)中、R、R、Rは、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜10のアルキル基及びフッ素原子よりなる群から選択される1種を示し、Rは炭素数6〜40のアリール基を示し、nは0〜12の整数を示す。]
で表される繰り返し単位のうちの少なくとも1種を含有し、かつ、前記一般式(1)及び(2)で表される繰り返し単位の総量が全繰り返し単位に対して90モル%以上であるポリイミドからなる第一のフィルムを得る工程と、
前記第一のフィルムを、不活性ガス雰囲気下において、370〜450℃の雰囲気温度で、延伸倍率が1.0001〜1.050倍となるようにして延伸することにより第二のフィルムを形成して、ポリイミドフィルムを得る工程と、
を含むことを特徴とする方法である。
[In the formulas (1) and (2), R 1 , R 2 and R 3 each independently represent one selected from the group consisting of a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms and a fluorine atom. , R 4 represents an aryl group having 6 to 40 carbon atoms, and n represents an integer of 0 to 12. ]
Polyimide containing at least one of the repeating units represented by the formula (1) and the total amount of the repeating units represented by the general formulas (1) and (2) being 90 mol% or more based on all repeating units. Obtaining a first film comprising:
The first film is stretched in an inert gas atmosphere at an atmospheric temperature of 370 to 450 ° C. so that the stretching ratio is 1.0001 to 1.050, thereby forming a second film. And obtaining a polyimide film,
It is the method characterized by including.

また、上記本発明のポリイミドフィルムの製造方法においては、前記第一のフィルムを延伸する際に、前記延伸倍率が1.0005(より好ましくは1.0010)〜1.030倍となるようにして延伸することが好ましい。   In the method for producing a polyimide film of the present invention, when the first film is stretched, the stretch ratio is 1.0005 (more preferably 1.0010) to 1.030 times. It is preferable to stretch.

さらに、上記本発明のポリイミドフィルムの製造方法においては、前記ポリイミドフィルムが、350℃の線膨張係数が10ppm/℃以下であり、かつ、窒素雰囲気下、昇温速度5℃/分の条件で50℃〜400℃の温度範囲において長さの変化を測定して求められる平均線膨張係数が15ppm/℃以下である、ポリイミドからなることが好ましい。   Furthermore, in the method for producing a polyimide film of the present invention, the polyimide film has a linear expansion coefficient of 350 ° C. of 10 ppm / ° C. or less and a temperature of 5 ° C./min in a nitrogen atmosphere at 50 ° C./min. It is preferable that it consists of a polyimide whose average linear expansion coefficient calculated | required by measuring the change of length in a temperature range (degreeC-400 degreeC) is 15 ppm / degrees C or less.

本発明のフレキシブル配線基板、本発明の透明電極用基板、本発明の液晶配向膜積層用基板、本発明の有機ELディスプレイ用基板、及び、本発明の有機EL照明用基板は、それぞれ、上記本発明のポリイミドフィルムからなることを特徴とするものである。また、上記本発明の透明電極用基板は、表示装置及び太陽電池のうちのいずれかの透明電極を積層するために用いること(表示装置用の透明電極基板、及び、太陽電池用の透明電極基板のうちのいずれかであること)が好ましい。なお、このような表示装置としては、例えば、有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ(有機ELディスプレイ)、液晶表示装置、電子ペーパー等が挙げられる。また、本発明の有機ELディスプレイ用基板は、有機ELディスプレイに用いる透明電極を積層するための基板や有機ELディスプレイに用いるバリア基板、薄膜トランジスタ基板、封止層基板、負極基板、有機半導体基板、正極基板、直流駆動回路基板、ハードコート基板、フロントフィルム基板、バックフィルム基板として利用するものが挙げられる。   The flexible wiring substrate of the present invention, the substrate for transparent electrodes of the present invention, the substrate for laminating a liquid crystal alignment film of the present invention, the substrate for organic EL display of the present invention, and the substrate for organic EL lighting of the present invention It is characterized by comprising the polyimide film of the invention. Further, the transparent electrode substrate of the present invention is used for laminating any one of the transparent electrodes of the display device and the solar cell (transparent electrode substrate for display device and transparent electrode substrate for solar cell). Or any one of them) is preferred. Examples of such a display device include an organic electroluminescence display (organic EL display), a liquid crystal display device, and electronic paper. Moreover, the substrate for organic EL displays of the present invention is a substrate for laminating transparent electrodes used for organic EL displays, a barrier substrate used for organic EL displays, a thin film transistor substrate, a sealing layer substrate, a negative electrode substrate, an organic semiconductor substrate, a positive electrode. Examples thereof include those used as substrates, DC drive circuit substrates, hard coat substrates, front film substrates, and back film substrates.

なお、本発明のポリイミドフィルムが、高温において十分に低い線膨張係数を有するものとなる理由は必ずしも定かではないが、その理由を従来技術と対比しながら簡単に説明する。すなわち、上記一般式(1)及び(2)で表される繰り返し単位を総量で90モル%以上含有する従来のポリイミドフィルム(特許文献3に記載のようなポリイミドフィルム)は、通常、ポリマーの主鎖が、いわゆる平面ジグザク構造となり、高次構造が形成されるものと推察される(分子軌道計算により求められる平面ジグザグ構造を図1及び図2に示す。なお、このような分子軌道計算は、FUJITSU FMV−B8200型パソコンを用いて、Chem Bio3D Ultra10に装備されているMOPACソフトを用いて行ったものである。)。そして、このような高次構造を有する場合、ポリイミドは面内において配向し、フィルム面内方向(XY方向:フィルムに垂直な方向をZ方向とし、該Z方向に垂直な一つの方向をX方向とし、Z方向及びX方向と垂直な方向をY方向とした場合の方向をいう。)の線膨張係数が低くなる。   The reason why the polyimide film of the present invention has a sufficiently low linear expansion coefficient at a high temperature is not necessarily clear, but the reason will be briefly described in comparison with the prior art. That is, a conventional polyimide film (polyimide film as described in Patent Document 3) containing 90 mol% or more of the repeating units represented by the general formulas (1) and (2) is usually the main polymer. It is inferred that the chain has a so-called planar zigzag structure and a higher order structure is formed (planar zigzag structure obtained by molecular orbital calculation is shown in FIG. 1 and FIG. 2. This was carried out using MOPAC software equipped on Chem Bio3D Ultra10 using a FUJITSU FMV-B8200 personal computer.) And when it has such a higher order structure, the polyimide is oriented in the plane, the film in-plane direction (XY direction: the direction perpendicular to the film is the Z direction, and one direction perpendicular to the Z direction is the X direction. And the linear expansion coefficient in the case where the direction perpendicular to the Z direction and the X direction is the Y direction).

しかしながら、このような一般式(1)及び(2)で表される繰り返し単位を含有する特許文献3に記載のポリイミドからなるフィルムにおいても、高温(例えば350℃以上の温度)での線膨張係数の増大の抑制という点では必ずしも十分ではなかった。そこで、本発明者らは、上記目的を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、高温(例えば350℃以上の温度)での線膨張係数の増大をより高度な水準で抑制することが可能となるようなポリイミドからなるフィルムが、一般式(1)及び(2)で表される繰り返し単位を含有するポリイミドからなる第一のフィルム(フィルム状物:本発明のポリイミドフィルムの前駆体)を形成した後、不活性ガス雰囲気下において、370〜450℃の雰囲気温度で、延伸倍率が1.0001〜1.050倍となるようにして前記第一のフィルムを延伸して第二のフィルム(ポリイミドフィルム)を形成する方法により好適に製造することが可能となることを見出した。   However, even in the film made of polyimide described in Patent Document 3 containing the repeating units represented by the general formulas (1) and (2), the linear expansion coefficient at a high temperature (for example, a temperature of 350 ° C. or more). It was not always sufficient in terms of the suppression of the increase. Therefore, as a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventors can suppress an increase in the linear expansion coefficient at a high temperature (for example, a temperature of 350 ° C. or higher) at a higher level. A film made of such a polyimide formed a first film made of polyimide containing a repeating unit represented by the general formulas (1) and (2) (film-like product: a precursor of the polyimide film of the present invention). Thereafter, the first film is stretched in an inert gas atmosphere at an atmospheric temperature of 370 to 450 ° C. so that the stretch ratio is 1.0001 to 1.050, and the second film (polyimide film) It has been found that it can be suitably produced by the method of forming a).

このような方法によれば、驚くべきことに、350℃の線膨張係数が10ppm/℃以下であり、かつ、窒素雰囲気下、昇温速度5℃/分の条件で50℃〜400℃の温度範囲において長さの変化を測定して求められる平均線膨張係数(以下、場合により、単に「50℃〜400℃の温度範囲における平均線膨張係数」と称する。)が15ppm/℃以下となるような、高温での線膨張係数が十分に低いポリイミドフィルム(第二のフィルム)を好適に製造することが可能となる。なお、このような延伸後に得られる第二のフィルムである、前記ポリイミドフィルムによって、高温(好ましくは350℃以上の温度)での線膨張係数の増大を抑制することが可能となる理由は必ずしも定かではないが、延伸により、その構造がさらに規則正しく配向し、フィルムの延伸方向における線膨張係数が更に高度な水準で低いものとなるためであると本発明者らは推察する。なお、一般に、脂環式のポリイミドは、環状構造に由来する剛直な構造により、単に延伸した場合にはフィルムにクラックが生じる等といった問題が生じると考えられていたが、本発明者らは、上記温度雰囲気下において、延伸倍率が1.0001〜1.050倍となるように制御しながら延伸することで、着色やクラックを生じることなく延伸することが可能となること、及び、そのような延伸により、高温で線膨張係数が増加することを十分に抑制することが可能となることを見出している。このように、延伸等の手段により、平面ジグザク構造からなる高次構造が、さらに高度に配向した平面ジグザク構造になることにより、ポリイミドフィルムが、350℃の線膨張係数が10ppm/℃以下であり、かつ、窒素雰囲気下、昇温速度5℃/分の条件で50℃〜400℃の温度範囲において長さの変化を測定して求められる平均線膨張係数が15ppm/℃以下となるような高温での線膨張係数が十分に低いポリイミドからなるフィルムとなるものと本発明者らは推察する。   Surprisingly, according to such a method, the linear expansion coefficient at 350 ° C. is 10 ppm / ° C. or less, and a temperature of 50 ° C. to 400 ° C. under a temperature increase rate of 5 ° C./min in a nitrogen atmosphere. The average linear expansion coefficient (hereinafter, simply referred to as “average linear expansion coefficient in the temperature range of 50 ° C. to 400 ° C.”) determined by measuring the change in length in the range is 15 ppm / ° C. or lower. In addition, a polyimide film (second film) having a sufficiently low linear expansion coefficient at a high temperature can be suitably produced. The reason why the polyimide film, which is the second film obtained after such stretching, can suppress an increase in the linear expansion coefficient at a high temperature (preferably a temperature of 350 ° C. or higher) is not necessarily clear. However, the present inventors infer that the stretching causes the structure to be more regularly oriented and the linear expansion coefficient in the stretching direction of the film to be lower at a higher level. In general, the alicyclic polyimide is considered to cause problems such as cracks in the film when it is simply stretched due to the rigid structure derived from the cyclic structure. In the above temperature atmosphere, by stretching while controlling the stretching ratio to be 1.0001 to 1.050, it becomes possible to stretch without causing coloring or cracks, and such It has been found that the stretching can sufficiently suppress an increase in the linear expansion coefficient at a high temperature. Thus, the polyimide film has a linear expansion coefficient of 350 ° C. or less of 10 ppm / ° C. or less because the higher order structure composed of a planar zigzag structure becomes a highly oriented planar zigzag structure by means of stretching or the like. And a high temperature such that the average linear expansion coefficient obtained by measuring a change in length in a temperature range of 50 ° C. to 400 ° C. under a temperature increase rate of 5 ° C./min in a nitrogen atmosphere is 15 ppm / ° C. or less. The present inventors infer that the film will be a film made of polyimide having a sufficiently low linear expansion coefficient.

本発明によれば、光透過性や耐熱性に優れ、しかも高温での線膨張係数が十分に低いポリイミドフィルム及びその製造方法を提供することが可能となる。更に、本発明によれば、前記ポリイミドフィルムからなる、フレキシブル配線基板、透明電極用基板、液晶配向膜積層用基板、有機ELディスプレイ用基板及び有機EL照明用基板を提供することが可能となる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, it becomes possible to provide the polyimide film which is excellent in light transmittance and heat resistance, and has a sufficiently low linear expansion coefficient in high temperature, and its manufacturing method. Furthermore, according to this invention, it becomes possible to provide the flexible wiring board which consists of the said polyimide film, the board | substrate for transparent electrodes, the board | substrate for liquid crystal aligning film lamination | stacking, the board | substrate for organic EL displays, and the board | substrate for organic EL lighting.

特許文献3に記載の従来のポリイミドフィルムを、フィルムに対して垂直な方向から見た場合におけるポリイミドの主鎖構造を理論的に計算して得られた模式図である。It is the schematic diagram obtained by calculating theoretically the principal chain structure of the polyimide when the conventional polyimide film of patent document 3 is seen from a direction perpendicular | vertical with respect to a film. 特許文献3に記載の従来のポリイミドフィルムを横方向から見た場合におけるポリイミドの主鎖構造を理論的に計算して得られた模式図である。It is the schematic diagram obtained by calculating theoretically the principal chain structure of the polyimide in the case of seeing the conventional polyimide film of patent document 3 from the horizontal direction. 実施例1で得られたポリイミドフィルムを構成する化合物のIRスペクトルのグラフである。2 is a graph of IR spectrum of a compound constituting the polyimide film obtained in Example 1. FIG. 実施例1で得られたポリイミドフィルムを構成するポリイミドの線膨張係数の測定時に求められたフィルムの長さの変化と、温度との関係を示すグラフである。It is a graph which shows the relationship between the change of the length of the film calculated | required at the time of the measurement of the linear expansion coefficient of the polyimide which comprises the polyimide film obtained in Example 1, and temperature. 比較例1で得られたポリイミドフィルムを構成するポリイミドの線膨張係数の測定時に求められたフィルムの長さの変化と、温度との関係を示すグラフである。It is a graph which shows the relationship between the change of the length of the film calculated | required at the time of the measurement of the linear expansion coefficient of the polyimide which comprises the polyimide film obtained by the comparative example 1, and temperature.

以下、本発明をその好適な実施形態に即して詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to preferred embodiments thereof.

先ず、本発明のポリイミドについて説明する。本発明のポリイミドフィルムは、下記一般式(1)及び(2):   First, the polyimide of the present invention will be described. The polyimide film of the present invention has the following general formulas (1) and (2):

[式(1)及び(2)中、R、R、Rは、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜10のアルキル基及びフッ素原子よりなる群から選択される1種を示し、Rは炭素数6〜40のアリール基を示し、nは0〜12の整数を示す。]
で表される繰り返し単位のうちの少なくとも1種を含有し、
前記一般式(1)及び(2)で表される繰り返し単位の総量が全繰り返し単位に対して90モル%以上であり、
350℃の線膨張係数が10ppm/℃以下であり、かつ、
窒素雰囲気下、昇温速度5℃/分の条件で50℃〜400℃の温度範囲において長さの変化を測定して求められる平均線膨張係数が15ppm/℃以下である、
ポリイミドからなるフィルムであることを特徴とするものである。
[In the formulas (1) and (2), R 1 , R 2 and R 3 each independently represent one selected from the group consisting of a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms and a fluorine atom. , R 4 represents an aryl group having 6 to 40 carbon atoms, and n represents an integer of 0 to 12. ]
Containing at least one of the repeating units represented by:
The total amount of the repeating units represented by the general formulas (1) and (2) is 90 mol% or more based on all repeating units,
The linear expansion coefficient at 350 ° C. is 10 ppm / ° C. or less, and
The average linear expansion coefficient determined by measuring the change in length in the temperature range of 50 ° C. to 400 ° C. under a temperature increase rate of 5 ° C./min under a nitrogen atmosphere is 15 ppm / ° C. or less.
It is a film made of polyimide.

このような一般式(1)及び(2)中のR、R、Rとして選択され得るアルキル基は、炭素数が1〜10のアルキル基である。このような炭素数が10を超えると、ガラス転移温度が低下し、得られるポリイミドからなるフィルムの耐熱性が不十分なものとなる。また、このようなR、R、Rとして選択され得るアルキル基の炭素数としては、精製がより容易となるという観点から、1〜6であることが好ましく、1〜5であることがより好ましく、1〜4であることが更に好ましく、1〜3であることが特に好ましい。また、このようなR、R、Rとして選択され得るアルキル基は直鎖状であっても分岐鎖状であってもよい。更に、このようなアルキル基としては精製の容易さの観点から、メチル基、エチル基がより好ましい。 The alkyl group that can be selected as R 1 , R 2 , or R 3 in the general formulas (1) and (2) is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. When such carbon number exceeds 10, a glass transition temperature will fall and the heat resistance of the film which consists of polyimides obtained will become inadequate. Moreover, as carbon number of the alkyl group which can be selected as such R < 1 >, R < 2 >, R < 3 >, it is preferable that it is 1-6 from a viewpoint that refinement | purification becomes easier, and it is 1-5. Is more preferable, it is still more preferable that it is 1-4, and it is especially preferable that it is 1-3. Further, such an alkyl group that can be selected as R 1 , R 2 , or R 3 may be linear or branched. Further, such an alkyl group is more preferably a methyl group or an ethyl group from the viewpoint of ease of purification.

前記一般式(1)及び(2)中のR、R、Rとしては、より高度な耐熱性が得られるという観点から、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数1〜10のアルキル基であることがより好ましく、中でも、原料の入手が容易であることや精製がより容易であるという観点から、それぞれ独立に、水素原子、メチル基、エチル基、n−プロピル基又はイソプロピル基であることがより好ましく、水素原子又はメチル基であることが特に好ましい。また、このような式中の複数のR、R、Rは精製の容易さ等の観点から、同一のものであることが特に好ましい。 R 1 , R 2 and R 3 in the general formulas (1) and (2) are each independently a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms from the viewpoint of obtaining higher heat resistance. In particular, from the viewpoint of easy availability of raw materials and easier purification, each independently represents a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, or an isopropyl group. It is more preferable that it is a hydrogen atom or a methyl group. Moreover, it is especially preferable that several R < 1 >, R < 2 >, R < 3 > in such a formula is the same from viewpoints, such as the ease of refinement | purification.

また、前記一般式(1)及び(2)中のRとして選択され得るアリール基は、炭素数が6〜40のアリール基である。また、このような炭素数としては6〜30であることが好ましく、12〜20であることがより好ましい。このような炭素数が前記上限を超えると、ガラス転移温度が低下して十分な耐熱性が得られなくなる傾向にあり、他方、前記下限未満では、得られたポリイミドの溶媒に対する溶解性が低下して、フィルム等への成形性が低下する傾向にある。 The aryl group that can be selected as R 4 in the general formulas (1) and (2) is an aryl group having 6 to 40 carbon atoms. Moreover, as such carbon number, it is preferable that it is 6-30, and it is more preferable that it is 12-20. If the number of carbons exceeds the upper limit, the glass transition temperature tends to decrease and sufficient heat resistance tends not to be obtained. On the other hand, if the carbon number is lower than the lower limit, the solubility of the obtained polyimide in the solvent decreases. Therefore, the moldability to a film or the like tends to be reduced.

また、前記一般式(1)及び(2)中のRとしては、十分に高いガラス転移温度と、十分に低い、高温における線膨張係数とを有し、これらの特性をよりバランスよく発揮することが可能となるという観点から、下記一般式(3)〜(6): Further, R 4 in the general formulas (1) and (2) has a sufficiently high glass transition temperature and a sufficiently low linear expansion coefficient at a high temperature, and exhibits these characteristics in a more balanced manner. From the viewpoint that it becomes possible, the following general formulas (3) to (6):

[式(5)中、Rは、水素原子、フッ素原子、メチル基、エチル基及びトリフルオロメチル基よりなる群から選択される1種を示し、式(6)中、Qは、式:−O−、−S−、−CO−、−CONH−、−C−、−COO−、−SO−、−C(CF−、−C(CH−、−CH−、−O−C−C(CH−C−O−、−O−C−SO−C−O−、−C(CH−C−C(CH−、−O−C−C−O−及び−O−C−O−で表される基よりなる群から選択される1種を示す。]
で表される基のうちの1種であることが好ましい。
[In the formula (5), R 5 represents one selected from the group consisting of a hydrogen atom, a fluorine atom, a methyl group, an ethyl group and a trifluoromethyl group, and in the formula (6), Q is a formula: -O -, - S -, - CO -, - CONH -, - C 6 H 4 -, - COO -, - SO 2 -, - C (CF 3) 2 -, - C (CH 3) 2 -, —CH 2 —, —O—C 6 H 4 —C (CH 3 ) 2 —C 6 H 4 —O—, —O—C 6 H 4 —SO 2 —C 6 H 4 —O—, —C ( CH 3) 2 -C 6 H 4 -C (CH 3) 2 -, - from O-C 6 H 4 -C 6 H 4 -O- and -O-C 6 group represented by H 4 -O- 1 type selected from the group consisting of ]
It is preferable that it is 1 type in group represented by these.

このような一般式(5)中のRとしては、ガラス転移温度と線膨張係数とを、よりバランスよく、より高水準なものとすることが可能となるという観点から、水素原子、フッ素原子、メチル基又はエチル基がより好ましく、水素原子が特に好ましい。 R 5 in the general formula (5) is a hydrogen atom, a fluorine atom, from the viewpoint that the glass transition temperature and the linear expansion coefficient can be balanced and at a higher level. , A methyl group or an ethyl group is more preferable, and a hydrogen atom is particularly preferable.

また、上記一般式(6)中のQとしては、ガラス転移温度と線膨張係数とをバランスよく、より高水準なものとするという観点から、式:−O−、−S−、−CONH−、−COO−、−CO−、−C−、−CH−、−O−C−O−、−O−C−C−O−で表される基であることが好ましく、式:−O−、−CONH−、−COO−、−CH−で表される基であることがより好ましく、式:−O−又は−CONH−で表される基であることが特に好ましい。 Moreover, as Q in the said General formula (6), it is a formula: -O-, -S-, -CONH- from a viewpoint of making a glass transition temperature and a linear expansion coefficient into a high level with a good balance. , —COO—, —CO—, —C 6 H 4 —, —CH 2 —, —O—C 6 H 4 —O—, —O—C 6 H 4 —C 6 H 4 —O—. A group represented by the formula: —O—, —CONH—, —COO—, —CH 2 —, and more preferably a group represented by the formula: —O— or —CONH—. Particularly preferred is a group.

また、このようなRとして選択され得る一般式(3)〜(6)で表される基としては、ガラス転移温度を十分に高い温度とすることができるとともに、線膨張係数をより十分に低い値とすることができ、これらの特性のバランスが向上し、より高度な耐熱衝撃性(周囲の高温の温度変化に対して品質を十分に維持できるような耐性であり、例えば、350℃以上程度の高温条件下で無機層を積層する工程を採用する必要がある場合等に、かかる温度条件下においても、はがれや割れが生じることを十分に抑制できるような耐性)が得られるという観点からは、一般式(5)又は(6)で表される基であることがより好ましい。中でも、高温での線膨張係数をより十分に低いものとすることができるという観点からは、Rが、一般式(5)で表される基、又は、一般式(6)で表され且つ前記Qが−CONH−、−COO−、−CO−、−C−で表される基(より好ましくは−CONH−又は−COO−で表される基、特に好ましくは−CONH−で表される基)のうちの少なくとも1種である基であることが好ましい。更に、Rとしては、得られるポリイミドを用いてフィルムを形成した場合に、そのフィルムにより高度なフレキシブル性(柔軟性)を付与することができるという観点からは、一般式(3)で表される基、又は、一般式(6)で表され且つ前記Qが−O−、−S−、−CH−、−O−C−O−、−O−C−C−O−で表される基のうちの少なくとも1種(より好ましくは−O−、−CH−で表される基のうちの1種、更に好ましくは−O−で表される基)である基であることが好ましい。 Moreover, as group represented by General formula (3)-(6) which can be selected as such R < 4 >, while being able to make glass transition temperature sufficiently high temperature, a linear expansion coefficient more fully The value can be lowered, the balance of these characteristics is improved, and higher thermal shock resistance (resistance to sufficiently maintain the quality against the temperature change of the surrounding high temperature, for example, 350 ° C. or more From the viewpoint of obtaining resistance to sufficiently prevent peeling and cracking even under such temperature conditions when it is necessary to employ a process of laminating an inorganic layer under such high temperature conditions. Is more preferably a group represented by the general formula (5) or (6). Among these, from the viewpoint that the linear expansion coefficient at a high temperature can be made sufficiently lower, R 4 is represented by the group represented by the general formula (5) or the general formula (6) and A group represented by Q represented by —CONH—, —COO—, —CO—, —C 6 H 4 — (more preferably a group represented by —CONH— or —COO—, particularly preferably —CONH—; It is preferable that it is a group which is at least one of the represented groups. Furthermore, R 4 is represented by the general formula (3) from the viewpoint that when a film is formed using the obtained polyimide, a high degree of flexibility (flexibility) can be imparted to the film. Or Q is —O—, —S—, —CH 2 —, —O—C 6 H 4 —O— or —O—C 6 H 4 —C. At least one of groups represented by 6 H 4 —O— (more preferably one of groups represented by —O— and —CH 2 —, more preferably —O—. Group) is preferable.

また、前記一般式(1)及び(2)中のnは0〜12の整数を示す。このようなnの値が前記上限を超えると、精製が困難になる。また、このような一般式(1)及び(2)中のnの数値範囲の上限値は、より精製が容易となるといった観点から、5であることがより好ましく、3であることが特に好ましい。また、このような一般式(1)及び(2)中のnの数値範囲の下限値は、ポリイミドの製造に用いるモノマー(例えば、後述の脂環式テトラカルボン酸二無水物(A)及び(B)を含む脂環式テトラカルボン酸二無水物系モノマー)の原料の安定性の観点から、1であることがより好ましく、2であることが特に好ましい。このように、一般式(1)及び(2)中のnとしては、2〜3の整数であることが特に好ましい。   Moreover, n in the said General formula (1) and (2) shows the integer of 0-12. When such a value of n exceeds the upper limit, purification becomes difficult. In addition, the upper limit of the numerical value range of n in the general formulas (1) and (2) is more preferably 5 and particularly preferably 3 from the viewpoint of easier purification. . Moreover, the lower limit of the numerical value range of n in such general formula (1) and (2) is the monomer (For example, the below-mentioned alicyclic tetracarboxylic dianhydride (A) and ( From the viewpoint of the stability of the raw material of the alicyclic tetracarboxylic dianhydride monomer containing B), 1 is more preferable, and 2 is particularly preferable. Thus, as n in general formula (1) and (2), it is especially preferable that it is an integer of 2-3.

さらに、このようなポリイミドとしては、十分に高いガラス転移温度と、高温(好ましくは350℃)での十分に低い線膨張係数と、フィルムを形成した場合におけるフィルムの十分なフレキシブル性(柔軟性)とを高度な水準で、よりバランスよく発揮させるという観点から、ポリイミド中に、Rの種類が異なる前記一般式(1)及び(2)で表される繰り返し単位のうちの少なくとも2種の繰り返し単位を含有させることが好ましい。この場合、例えば、前記Rの種類の異なる繰り返し単位を含有するポリイミドとしては、Rが、前記一般式(5)で表される基;及び前記Qが−CONH−、−COO−、−CO−、−C−で表される基のうちの1種(より好ましくは、−CONH−、−COO−で表される基、特に好ましくは−CONH−で表される基)である前記一般式(6)で表される基;からなる群から選択される1種の基である一般式(1)及び(2)で表される繰り返し単位のちの少なくとも1種からなる繰り返し単位(A)と、Rが、前記一般式(3)で表される基;及び前記Qが−O−、−S−、−CH−、−O−C−O−、−O−C−C−O−で表される基のうちの1種(より好ましくは−O−、−CH−で表される基のうちの1種、更に好ましくは−O−で表される基)である前記一般式(6)で表される基;からなる群から選択される1種の基である一般式(1)及び(2)で表される繰り返し単位のうちの少なくとも1種からなる繰り返し単位(B)と、を含有するものとしてもよい。なお、このような繰り返し単位(B)としては、製造時のモノマーの入手の容易性の観点からは、前記Rが前記一般式(6)で表される基であり且つ前記式(6)中のQが−O−、−CH−、−O−C−O−、−O−C−C−O−で表される基のうちの1種(より好ましくは−O−、−CH−、−O−C−C−O−で表される基のうちの1種、更に好ましくは−O−、−O−C−C−O−で表される基)であるものがより好ましい。 Furthermore, as such a polyimide, a sufficiently high glass transition temperature, a sufficiently low linear expansion coefficient at a high temperature (preferably 350 ° C.), and a sufficient flexibility (flexibility) of the film when a film is formed. From the viewpoint of exhibiting the above in a more balanced manner at a high level, in the polyimide, at least two types of repeating units represented by the general formulas (1) and (2) having different types of R 4 are used. It is preferable to contain a unit. In this case, for example, examples of the polyimide containing different repeating units of R 4, R 4 is a group represented by the general formula (5); and wherein Q is -CONH -, - COO -, - CO—, a group represented by —C 6 H 4 — (more preferably a group represented by —CONH—, —COO—, particularly preferably a group represented by —CONH—). A repeating unit comprising at least one of the repeating units represented by the general formulas (1) and (2), which is one group selected from the group consisting of the group represented by the general formula (6). (A) and R 4 are groups represented by the general formula (3); and Q is —O—, —S—, —CH 2 —, —O—C 6 H 4 —O—, — One of the groups represented by O—C 6 H 4 —C 6 H 4 —O— (more preferably —O—, —CH A group selected from the group consisting of: a group represented by the above general formula (6), which is a group represented by 2-O, more preferably a group represented by -O-. It is good also as what contains the repeating unit (B) which consists of at least 1 sort (s) among the repeating units represented by General formula (1) and (2) which is. In addition, as such a repeating unit (B), from the viewpoint of easy availability of the monomer during production, R 4 is a group represented by the general formula (6) and the formula (6). One of the groups in which Q is represented by —O—, —CH 2 —, —O—C 6 H 4 —O—, —O—C 6 H 4 —C 6 H 4 —O— ( More preferably, one of groups represented by —O—, —CH 2 —, —O—C 6 H 4 —C 6 H 4 —O—, still more preferably —O—, —O—C 6. those wherein H 4 -C 6 H 4 -O- group represented by) is more preferable.

本発明にかかるポリイミドは、前記一般式(1)及び(2)で表される繰り返し単位の総量が全繰り返し単位に対して90モル%以上であるものである。このような含有比率が前記下限未満では、高温での十分に高度な線膨張係数(高温にて、より低い線膨張係数)を達成することができなくなる。このような前記一般式(1)及び(2)で表される繰り返し単位の含有比率(総量)としては、全繰り返し単位に対して95〜100モル%であることがより好ましく、98〜100モル%であることが更に好ましく、100モル%であることが特に好ましい。なお、前記一般式(1)及び(2)で表される繰り返し単位以外の他の繰り返し単位としては特に制限されず、用途等に応じて公知のモノマーに由来する他の繰り返し単位を適宜選択して利用することができる。   In the polyimide according to the present invention, the total amount of the repeating units represented by the general formulas (1) and (2) is 90 mol% or more based on all repeating units. When such a content ratio is less than the lower limit, a sufficiently high linear expansion coefficient at a high temperature (lower linear expansion coefficient at a high temperature) cannot be achieved. The content ratio (total amount) of the repeating units represented by the general formulas (1) and (2) is more preferably 95 to 100 mol% with respect to all repeating units, and 98 to 100 mol. % Is more preferable, and 100 mol% is particularly preferable. In addition, it does not restrict | limit especially as repeating units other than the repeating unit represented by the said General formula (1) and (2), According to a use etc., the other repeating unit derived from a well-known monomer is selected suitably. Can be used.

また、本発明にかかるポリイミドにおいては、前記一般式(1)及び(2)で表される繰り返し単位のうちの少なくとも1種を含有していればよいが、双方とも含有する場合においては、前記一般式(1)で表される繰り返し単位と前記一般式(2)で表される繰り返し単位との比率が、モル比([式(1)]:[式(2)])で1:2〜2:1であることが好ましく、1:1.85〜1.85:1であることがより好ましく、1:1.7〜1.7:1であることが更に好ましい。このような一般式(1)で表される繰り返し単位の含有比率が前記下限未満ではフィルムが脆くなる傾向にあり、他方、前記上限を超えてもフィルムが脆くなる傾向にある。   Further, in the polyimide according to the present invention, it is sufficient if it contains at least one of the repeating units represented by the general formulas (1) and (2). The ratio of the repeating unit represented by the general formula (1) to the repeating unit represented by the general formula (2) is 1: 2 in molar ratio ([formula (1)]: [formula (2)]). Is preferably ˜2: 1, more preferably 1: 1.85 to 1.85: 1, and even more preferably 1: 1.7-1 to 1.7: 1. When the content ratio of the repeating unit represented by the general formula (1) is less than the lower limit, the film tends to be brittle. On the other hand, when the content exceeds the upper limit, the film tends to become brittle.

また、本発明にかかるポリイミドにおいて、前記一般式(1)及び(2)で表される繰り返し単位として、前記繰り返し単位(A)及び(B)を含有する場合には、これらの繰り返し単位を組み合わせることにより達成される効果をより十分に得るという観点から、前記繰り返し単位(A)及び(B)の総量が全繰り返し単位に対して90モル%以上であることが好ましく、95〜100モル%であることがより好ましく、98〜100モル%であることが更に好ましく、100モル%であることが特に好ましい。また、このような繰り返し単位(A)及び(B)を含有する場合には、繰り返し単位(A)と繰り返し単位(B)との含有比率がモル比((A):(B))で9:1〜6:4(より好ましくは8:2〜7:3)であることが好ましい。なお、繰り返し単位(A)及び(B)を含有する場合には、より効率よくポリイミドを調製できるという観点から、前記一般式(1)及び(2)中のR以外の置換基の構成は同じであることが好ましい。 Further, in the polyimide according to the present invention, when the repeating units (A) and (B) are contained as the repeating units represented by the general formulas (1) and (2), these repeating units are combined. From the viewpoint of obtaining the effect achieved by the above, the total amount of the repeating units (A) and (B) is preferably 90 mol% or more with respect to all the repeating units, and is 95 to 100 mol%. More preferably, it is 98 to 100 mol%, further preferably 100 mol%. When such repeating units (A) and (B) are contained, the content ratio of the repeating unit (A) to the repeating unit (B) is 9 in molar ratio ((A) :( B)). : 1 to 6: 4 (more preferably 8: 2 to 7: 3). In the case of containing the repeating unit (A) and (B), more from the viewpoint of efficiently polyimide can be prepared by the general formula (1) and (2) configuration of substituents other than R 4 in the Preferably they are the same.

また、本発明にかかるポリイミドは、350℃の線膨張係数が10ppm/℃以下である。このような線膨張係数が前記上限を超えると、高温においてフィルムに割れ等が生じて品質の劣化を十分に抑制することが困難となる傾向にある。例えば、線膨張係数が前記上限を超えたポリイミドからなるフィルムにおいては、そのフィルムを太陽電池や液晶表示装置の製造に用いた場合、その製造過程において高温(例えば350℃以上の高温)に晒されてフィルムに割れ等が生じる場合があり、製品の歩留まりの低下を抑制するといった点で必ずしも十分なものとは言えない。一方、上記本発明に記載のように、350℃の線膨張係数が10ppm/℃以下である場合には、太陽電池や液晶表示装置の製造過程において、フィルムの割れ等を、より高度な水準で防止できることから、これにより最終的な製品の歩留まりを向上させることも可能となる。   The polyimide according to the present invention has a linear expansion coefficient at 350 ° C. of 10 ppm / ° C. or less. When such a linear expansion coefficient exceeds the upper limit, the film is cracked at a high temperature, and it tends to be difficult to sufficiently suppress deterioration in quality. For example, in a film made of polyimide having a linear expansion coefficient exceeding the upper limit, when the film is used for manufacturing a solar cell or a liquid crystal display device, it is exposed to a high temperature (for example, a high temperature of 350 ° C. or higher) in the manufacturing process. In some cases, the film may be cracked and the like, which is not necessarily sufficient in terms of suppressing a decrease in product yield. On the other hand, as described in the present invention, when the linear expansion coefficient at 350 ° C. is 10 ppm / ° C. or less, in the manufacturing process of the solar cell or the liquid crystal display device, the cracking of the film, etc. at a higher level. This can also improve the final product yield.

また、このような350℃の線膨張係数としては、用途に応じて異なるものではあるが、1〜10ppm/℃であることが好ましく、5〜10ppm/℃であることがより好ましく、4〜8ppm/℃であることが更に好ましい。このような350℃の線膨張係数が、上述のような好適な数値範囲内にある場合には、高温におけるフィルムの品質の劣化の抑制といった点でより高い効果が得られる傾向にある。また、このような線膨張係数が前記下限未満では製品に割れ、カール、歪み、剥がれ、剥離、ゆがみが入る傾向にある。なお、ここにいう「350℃の線膨張係数」は、349℃〜351℃の温度範囲におけるポリイミドの線膨張係数の平均値をいう。   Moreover, as such a linear expansion coefficient of 350 degreeC, although it changes according to a use, it is preferable that it is 1-10 ppm / degreeC, It is more preferable that it is 5-10 ppm / degreeC, 4-8 ppm More preferably, the temperature is / ° C. When such a linear expansion coefficient of 350 ° C. is within the above-mentioned preferable numerical range, a higher effect tends to be obtained in terms of suppressing deterioration of film quality at high temperatures. Further, when such a linear expansion coefficient is less than the lower limit, the product tends to be cracked, curled, distorted, peeled, peeled, or distorted. In addition, "350 degreeC linear expansion coefficient" here means the average value of the linear expansion coefficient of a polyimide in the temperature range of 349 degreeC-351 degreeC.

また、本発明にかかるポリイミドは、50℃〜400℃の温度範囲における平均線膨張係数が15ppm/℃以下のものである。このような50℃〜400℃の温度範囲における平均線膨張係数が前記上限を超えると、高温においてフィルムに割れ等が生じて品質の劣化を十分に抑制することが困難となる。このような50℃〜400℃の温度範囲における平均線膨張係数としては、用途に応じて異なるものではあるが、1〜13ppm/℃であることが好ましく、4〜10ppm/℃であることがより好ましい。このような平均線膨張係数が前述の好適な数値範囲内にある場合には、高温におけるフィルムの品質の劣化の抑制といった点でより高い効果が得られる傾向にある。また、このような平均線膨張係数が前記下限未満では製品に割れ、カール、歪み、剥がれ、剥離、ゆがみが入る傾向にある。   The polyimide according to the present invention has an average linear expansion coefficient of 15 ppm / ° C. or less in a temperature range of 50 ° C. to 400 ° C. When the average linear expansion coefficient in such a temperature range of 50 ° C. to 400 ° C. exceeds the upper limit, the film is cracked at a high temperature, and it is difficult to sufficiently suppress deterioration in quality. As an average linear expansion coefficient in such a temperature range of 50 ° C. to 400 ° C., although it varies depending on the application, it is preferably 1 to 13 ppm / ° C., more preferably 4 to 10 ppm / ° C. preferable. When such an average linear expansion coefficient is in the above-mentioned preferable numerical range, a higher effect tends to be obtained in terms of suppressing deterioration of film quality at high temperatures. Further, when such an average linear expansion coefficient is less than the lower limit, the product tends to be cracked, curled, distorted, peeled, peeled off, or distorted.

また、本発明にかかるポリイミドにおいては、50℃〜200℃の温度範囲における平均線膨張係数が15ppm/℃以下のものであることが好ましく、1〜12ppm/℃であることが好ましく、4〜10ppm/℃であることがより好ましい。このような50℃〜200℃の温度範囲における平均線膨張係数が前記上限を超えると製品に割れ、カール、歪み、剥がれ、剥離、ゆがみが入る傾向にあり、他方、前記下限未満では製品に割れ、カール、歪み、剥がれ、剥離、ゆがみが入る傾向にある。   Moreover, in the polyimide concerning this invention, it is preferable that the average linear expansion coefficient in a temperature range of 50 degreeC-200 degreeC is 15 ppm / degrees C or less, It is preferable that it is 1-12 ppm / degreeC, It is 4-10 ppm. / ° C is more preferable. When the average linear expansion coefficient in such a temperature range of 50 ° C. to 200 ° C. exceeds the upper limit, the product tends to crack, curl, strain, peel, peel, or distort, and on the other hand, if it is less than the lower limit, the product cracks. , Curl, distortion, peeling, peeling and distortion tend to occur.

また、本発明において、前記ポリイミドの線膨張係数(350℃の線膨張係数、50℃〜400℃の温度範囲における平均線膨張係数、50℃〜200℃の温度範囲における平均線膨張係数等を含む。)の測定方法としては、以下に記載のような方法を採用する。   In the present invention, the linear expansion coefficient of the polyimide (including a linear expansion coefficient of 350 ° C., an average linear expansion coefficient in a temperature range of 50 ° C. to 400 ° C., an average linear expansion coefficient in a temperature range of 50 ° C. to 200 ° C., etc. The method as described below is adopted as the measuring method.

すなわち、先ず、縦20mm、横5mm、厚み0.013mm(13μm)の大きさのポリイミドからなるフィルム(試料前駆体)を形成した後、そのフィルムを真空乾燥(120℃で1時間)し、窒素雰囲気下において200℃で1時間熱処理して、測定用の試料を形成する。次に、このような測定用の試料を用い、かつ、測定装置として熱機械的分析装置(リガク製の商品名「TMA8310」)を利用し、窒素雰囲気下、引張りモード(49mN)、昇温速度5℃/分の条件を採用して、50℃〜400℃の温度範囲において前記試料の縦方向の長さの変化を連続的に測定する(50℃〜400℃における前記試料の縦方向の長さの変化のデータの測定)。なお、前記試料前駆体が延伸工程(一軸延伸工程)を採用して形成されたものである場合には、延伸方向を、そのフィルム(前記試料前駆体)の縦方向とする。   That is, first, after forming a film (sample precursor) made of polyimide having a length of 20 mm, a width of 5 mm, and a thickness of 0.013 mm (13 μm), the film was vacuum-dried (at 120 ° C. for 1 hour), A sample for measurement is formed by heat treatment at 200 ° C. for 1 hour in an atmosphere. Next, using such a sample for measurement and using a thermomechanical analyzer (trade name “TMA8310” manufactured by Rigaku) as a measuring device, in a nitrogen atmosphere, in a tensile mode (49 mN), a rate of temperature increase The change in the length of the sample in the longitudinal direction is continuously measured in the temperature range of 50 ° C. to 400 ° C. under the condition of 5 ° C./min (the length of the sample in the longitudinal direction at 50 ° C. to 400 ° C. Measurement of change data). When the sample precursor is formed by employing a stretching process (uniaxial stretching process), the stretching direction is the longitudinal direction of the film (the sample precursor).

このような測定の後、50℃〜400℃の温度範囲における平均線膨張係数を求める際には、50℃〜400℃における前記試料の縦方向の長さの変化のデータに基づいて、50℃〜400℃の温度範囲における1℃あたりの長さの変化の平均値を求める方法を採用し、かかる方法により得られた平均値を50℃〜400℃の温度範囲における平均線膨張係数として採用する(50℃〜400℃の温度範囲における平均線膨張係数の測定方法)。   After determining the average linear expansion coefficient in the temperature range of 50 ° C. to 400 ° C. after such measurement, based on the data on the change in the longitudinal length of the sample at 50 ° C. to 400 ° C. A method for obtaining an average value of changes in length per 1 ° C in a temperature range of ˜400 ° C. is adopted, and an average value obtained by such a method is adopted as an average linear expansion coefficient in a temperature range of 50 ° C. to 400 ° C. (Measurement method of average linear expansion coefficient in a temperature range of 50 ° C. to 400 ° C.).

また、上述のような測定の後、50℃〜200℃の温度範囲における平均線膨張係数を求める際には、上述のようにして得られる50℃〜400℃の温度範囲における前記試料の縦方向の長さの変化のデータから、50℃〜200℃における前記試料の縦方向の長さの変化のデータを利用して、50℃〜200℃の温度範囲における1℃あたりの長さの変化の平均値を求める方法を採用し、かかる方法により得られた平均値を50℃〜200℃の温度範囲における平均線膨張係数として採用する(50℃〜200℃の温度範囲における平均線膨張係数の測定方法)。   Moreover, when calculating | requiring the average linear expansion coefficient in the temperature range of 50 degreeC-200 degreeC after the above measurements, the longitudinal direction of the said sample in the temperature range of 50 degreeC-400 degreeC obtained as mentioned above The change in length per 1 ° C. in the temperature range of 50 ° C. to 200 ° C. is obtained using the data of the change in the longitudinal length of the sample at 50 ° C. to 200 ° C. A method for obtaining an average value is adopted, and an average value obtained by such a method is adopted as an average linear expansion coefficient in a temperature range of 50 ° C. to 200 ° C. (Measurement of average linear expansion coefficient in a temperature range of 50 ° C. to 200 ° C. Method).

さらに、上述のような測定の後、前述の350℃の線膨張係数数を求める際には、上述のようにして得られる50℃〜400℃の温度範囲における前記試料の縦方向の長さの変化のデータから、349℃〜351℃の温度範囲における前記試料の縦方向の長さの変化のデータを利用して、349℃〜351℃の温度範囲における1℃あたりの前記試料の縦方向の長さの変化の平均値を求める方法を採用し、かかる方法により得られた平均値を350℃の線膨張係数数として採用する(350℃の線膨張係数数の測定方法)。   Furthermore, after obtaining the above-mentioned measurement, when obtaining the above-mentioned linear expansion coefficient number of 350 ° C., the length of the sample in the longitudinal direction in the temperature range of 50 ° C. to 400 ° C. obtained as described above. From the change data, using the change data of the longitudinal length of the sample in the temperature range of 349 ° C. to 351 ° C., the longitudinal direction of the sample per 1 ° C. in the temperature range of 349 ° C. to 351 ° C. A method of obtaining an average value of changes in length is adopted, and the average value obtained by such a method is adopted as the number of linear expansion coefficients at 350 ° C. (measurement method of the number of linear expansion coefficients at 350 ° C.).

また、本発明にかかるポリイミドにおいては、ガラス転移温度が350℃以上(より好ましくは350℃〜500℃)であることが好ましく、360℃〜500℃であることが更に好ましく、370〜450℃とすることが特に好ましい。このようなガラス転移温度が前記下限未満では、耐熱性が低下し、例えば、太陽電池や液晶表示装置の透明電極用の基板としてポリイミドフィルムを用いた場合において、その製品の製造過程における加熱工程において、かかるフィルム(基板)の品質の劣化(割れの発生等)を十分に抑制することが困難となる傾向にある。   In the polyimide according to the present invention, the glass transition temperature is preferably 350 ° C. or higher (more preferably 350 ° C. to 500 ° C.), more preferably 360 ° C. to 500 ° C., and more preferably 370 to 450 ° C. It is particularly preferable to do this. When such a glass transition temperature is less than the lower limit, the heat resistance is lowered. For example, when a polyimide film is used as a substrate for a transparent electrode of a solar cell or a liquid crystal display device, Therefore, it tends to be difficult to sufficiently suppress the deterioration of quality (such as generation of cracks) of the film (substrate).

なお、前記ガラス転移温度は耐熱性の観点からは、より高い温度であることが好ましい。また、前記ガラス転移温度の上限値である500℃は、後述の測定法を採用した場合のガラス転移温度の測定上限付近の温度である。このように、後述の測定法を採用した場合のガラス転移温度の測定上限が500℃程度であることから、ガラス転移温度が500℃まで測定されないようなポリイミドに対しては、例えば、軟化温度の上限値を指標として好適なものを判断してもよい。すなわち、本発明にかかるポリイミドとしては、ガラス転移温度とは関係なく、軟化温度が後述の温度範囲にあるものを好適に利用できるが、例えば、ガラス転移温度が500℃を超える温度となって測定できない場合には、軟化温度の上限値を好適なポリイミドの指標として利用して、その特性を評価してもよく、この場合には、軟化温度が後述の数値範囲の上限を超えないものであることが好ましい。また、ガラス転移温度が500℃まで測定されず、かつ、軟化温度が後述の軟化温度の上限を超えるようなポリイミドは、ポリイミドを製造する際にポリアミド酸の熱閉環縮合反応と同時に十分な固相重合反応が進行せず、フィルムを形成した場合に却って脆いフィルムになる傾向がある。   The glass transition temperature is preferably higher from the viewpoint of heat resistance. Moreover, 500 degreeC which is the upper limit of the said glass transition temperature is temperature near the measurement upper limit of the glass transition temperature at the time of employ | adopting the below-mentioned measuring method. Thus, since the measurement upper limit of the glass transition temperature when the measurement method described later is adopted is about 500 ° C., for a polyimide whose glass transition temperature is not measured up to 500 ° C., for example, the softening temperature A suitable value may be determined using the upper limit value as an index. That is, as the polyimide according to the present invention, those having a softening temperature in the temperature range described later can be suitably used regardless of the glass transition temperature. For example, the glass transition temperature is measured at a temperature exceeding 500 ° C. If not, the upper limit value of the softening temperature may be used as an index of a suitable polyimide to evaluate the characteristics. In this case, the softening temperature does not exceed the upper limit of the numerical range described later. It is preferable. In addition, a polyimide whose glass transition temperature is not measured up to 500 ° C. and whose softening temperature exceeds the upper limit of the softening temperature described below is sufficient to produce a solid phase sufficient simultaneously with the thermal ring closure condensation reaction of polyamic acid. When the polymerization reaction does not proceed and a film is formed, the film tends to be brittle.

このようなポリイミドのガラス転移温度は、測定装置として示差走査熱量計(例えば、エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社製の商品名「DSC7020」)を使用し、昇温速度:10℃/分及び降温速度:30℃/分の条件で、窒素雰囲気下、30℃から450℃の間を走査することにより求められる値を採用することができる。なお、走査温度30℃から450℃の間にガラス転移温度を有さないポリイミドについては、前述の走査温度を30℃から500℃に変更してガラス転移温度を測定する。   The glass transition temperature of such a polyimide is measured by using a differential scanning calorimeter (for example, trade name “DSC7020” manufactured by SII Nano Technology Co., Ltd.) as a measuring device. : A value obtained by scanning between 30 ° C. and 450 ° C. in a nitrogen atmosphere under a condition of 30 ° C./min can be employed. In addition, about the polyimide which does not have glass transition temperature between scanning temperature 30 degreeC to 450 degreeC, the above-mentioned scanning temperature is changed from 30 degreeC to 500 degreeC, and glass transition temperature is measured.

また、このようなポリイミドとしては、5%重量減少温度が450℃以上のものが好ましく、460〜550℃のものがより好ましい。このような5%重量減少温度が前記下限未満ではフィルムを形成した場合に十分な耐熱性(耐熱衝撃性を含む。)が得られなくなる傾向にあり、他方、前記上限を超えると、そのような特性を有するポリイミドを製造することが困難となる傾向にある。なお、このような5%重量減少温度は、窒素ガス雰囲気下、窒素ガスを流しながら室温(25℃)から徐々に加熱して、用いた試料の重量が5%減少する温度を測定することにより求めることができる。   Moreover, as such a polyimide, that whose 5% weight reduction temperature is 450 degreeC or more is preferable, and the thing of 460-550 degreeC is more preferable. If such a 5% weight loss temperature is less than the lower limit, sufficient heat resistance (including thermal shock resistance) tends to be not obtained when a film is formed. It tends to be difficult to produce polyimide having characteristics. Such 5% weight reduction temperature is obtained by gradually heating from room temperature (25 ° C.) while flowing nitrogen gas in a nitrogen gas atmosphere and measuring the temperature at which the weight of the used sample is reduced by 5%. Can be sought.

また、このようなポリイミドとしては、軟化温度が350〜550℃のものが好ましく、360〜500℃のものがより好ましい。このような軟化温度が前記下限未満では耐熱性が低下し、例えば、太陽電池や液晶表示装置の透明電極用の基板としてポリイミドフィルムを用いた場合において、その製品の製造過程における加熱工程において、かかるフィルム(基板)の品質の劣化(割れの発生等)を十分に抑制することが困難となる傾向にあり、他方、前記上限を超えるとポリイミドを製造する際にポリアミド酸の熱閉環縮合反応と同時に十分な固相重合反応が進行せず、フィルムを形成した場合に却って脆いフィルムとなる傾向にある。なお、このようなポリイミドの軟化温度は以下のようにして測定することができる。すなわち、測定試料として縦5mm、横5mm、厚み0.013mm(13μm)の大きさのポリイミドからなるフィルムを準備し、測定装置として熱機械的分析装置(リガク製の商品名「TMA8311」を用いて、窒素雰囲気下、昇温速度5℃/分の条件を採用して、30℃〜550℃の温度範囲の条件でフィルムに透明石英製ピン(先端の直径:0.5mm)を針入れすることにより測定することができる(いわゆるペネトレーション(針入れ)法により測定できる)。なお、このような測定に際しては、JIS K 7196(1991年)に記載の方法に準拠して、測定データに基づいて軟化温度を計算する。   Moreover, as such a polyimide, that whose softening temperature is 350-550 degreeC is preferable, and the thing of 360-500 degreeC is more preferable. When the softening temperature is lower than the lower limit, the heat resistance is lowered. For example, in the case where a polyimide film is used as a substrate for a transparent electrode of a solar cell or a liquid crystal display device, it takes a heating step in the manufacturing process of the product. On the other hand, it tends to be difficult to sufficiently suppress deterioration of film (substrate) quality (such as occurrence of cracks). On the other hand, when the above upper limit is exceeded, simultaneously with the thermal ring closure condensation reaction of polyamic acid, Sufficient solid phase polymerization reaction does not proceed, and when a film is formed, it tends to be a brittle film. In addition, the softening temperature of such a polyimide can be measured as follows. That is, a film made of polyimide having a size of 5 mm in length, 5 mm in width and 0.013 mm (13 μm) in thickness was prepared as a measurement sample, and a thermomechanical analyzer (trade name “TMA8311” manufactured by Rigaku) was used as a measurement device. Adopting a transparent quartz pin (tip diameter: 0.5 mm) into the film under a temperature range of 30 ° C. to 550 ° C. under a nitrogen atmosphere, using a temperature rising rate of 5 ° C./min. (It can be measured by a so-called penetration method.) In such a measurement, softening is performed based on measurement data in accordance with the method described in JIS K 7196 (1991). Calculate the temperature.

さらに、このようなポリイミドの分子量に関しては、熱イミド化後の膜が汎用の有機溶媒に溶けにくくなる場合もあるので、その分子量の評価は前駆体であるポリアミド酸の固有粘度[η]を用いて測定を行なうことができる。そのような前駆体であるポリアミド酸の固有粘度[η]としては、0.1〜8.0dL/gであることが好ましく、0.1〜6.0dL/gであることがより好ましく、0.1〜3.0dL/gであることが更に好ましく、0.4〜2.0dL/gであることが特に好ましい。このような固有粘度が前記下限未満では、十分な耐熱性を得ることが困難となるばかりか、高温での線膨張係数が増大する傾向にあり、他方、前記上限を超えると、流延成膜(キャスト成膜)が困難となる傾向にある。このような固有粘度[η]は、以下のようにして測定することができる。すなわち、先ず、溶媒としてN,N−ジメチルアセトアミドを用い、そのN,N−ジメチルアセトアミド中に前記ポリアミド酸を濃度が0.5g/dLとなるようにして溶解している測定試料(溶液)を得る。次に、前記測定試料を用いて、30℃の温度条件下において動粘度計を用いて、前記測定試料の粘度を測定し、求められた値を固有粘度[η]として採用する。なお、このような動粘度計としては、離合社製の自動粘度測定装置(商品名「VMC−252」)を用いる。   Furthermore, regarding the molecular weight of such a polyimide, the film after thermal imidization may be difficult to dissolve in a general-purpose organic solvent, so the molecular weight is evaluated using the intrinsic viscosity [η] of the polyamic acid that is the precursor. Can be measured. The intrinsic viscosity [η] of the polyamic acid which is such a precursor is preferably 0.1 to 8.0 dL / g, more preferably 0.1 to 6.0 dL / g, More preferably, it is 0.1-3.0 dL / g, and it is especially preferable that it is 0.4-2.0 dL / g. If the intrinsic viscosity is less than the lower limit, it becomes difficult to obtain sufficient heat resistance, and the linear expansion coefficient at a high temperature tends to increase. (Cast film formation) tends to be difficult. Such intrinsic viscosity [η] can be measured as follows. That is, first, a measurement sample (solution) in which N, N-dimethylacetamide is used as a solvent and the polyamic acid is dissolved in the N, N-dimethylacetamide so as to have a concentration of 0.5 g / dL. obtain. Next, using the measurement sample, the viscosity of the measurement sample is measured using a kinematic viscometer under a temperature condition of 30 ° C., and the obtained value is adopted as the intrinsic viscosity [η]. In addition, as such a kinematic viscometer, an automatic viscosity measuring apparatus (trade name “VMC-252”) manufactured by Koiso Co., Ltd. is used.

また、このようなポリイミドは、構成単位である酸二無水物やジアミンが、剛直かつ対称的な構造を有するとともに、分子間で相互作用が可能な極性基を有することが望ましい。例えば、環状構造、多環構造、スピロ構造、架橋環状、ヘテロ環状などの骨格を有し、さらにケトン、スルホン、アミド、イミド等の極性基を有するような構造を形成していることが好ましい。また、このようなポリイミドは、十分に配向が形成された構造であることが好ましい。これらの構造を有するものとすることにより、ポリイミドを、より十分に低い線膨張係数を有するものとすることが可能となる。このようなポリイミドの有するポリマー鎖の構造は、用いるモノマーの種類に基づいて、ポリイミドの分子軌道計算することにより求めることができる(例えば、FUJITSU FMV−B8200型パソコンを用いて、Chem Bio3D Ultra10に装備されているMOPACソフトを用いて、形成されるポリイミドをChem Bio3D Ultra10に描写し、MM2計算した後、AM1計算することにより、得られるポリマーの安定構造をシミュレーションすることにより求めることができる。)。なお、このようなポリマーの構造は、光干渉法を用いてポリイミド薄膜のZ方向の線膨張係数を測定して、線膨張係数と分子構造との関係を明らかにすることによって求めることもできる。   In addition, in such a polyimide, it is desirable that acid dianhydrides and diamines as structural units have a rigid and symmetric structure and have a polar group capable of interacting between molecules. For example, it is preferable to form a structure having a skeleton such as a cyclic structure, a polycyclic structure, a spiro structure, a bridged cyclic structure, and a heterocyclic structure, and further having a polar group such as a ketone, sulfone, amide, and imide. Moreover, it is preferable that such a polyimide has a structure in which orientation is sufficiently formed. By having these structures, it becomes possible to make polyimide have a sufficiently low linear expansion coefficient. The structure of the polymer chain of such a polyimide can be determined by calculating the molecular orbital of the polyimide based on the type of monomer used (for example, equipped with Chem Bio3D Ultra 10 using a FUJITSU FMV-B8200 personal computer). The formed polyimide is drawn on Chem Bio3D Ultra10 using the MOPAC software, and the stable structure of the resulting polymer can be determined by simulating the stable structure of the resulting polymer by calculating MM2. Such a polymer structure can also be obtained by measuring the linear expansion coefficient in the Z direction of the polyimide thin film using an optical interference method and clarifying the relationship between the linear expansion coefficient and the molecular structure.

さらに、このようなポリイミドからなるフィルムの具体的な形状(大きさや厚み)等は特に制限されず、そのフィルムの用途等に応じて適宜設計できる。このように、フィルムの厚みは特に制限されるものではないが、1〜200μmであることが好ましく、1〜100μmであることがより好ましい、5〜50μmであることが更に好ましく、10〜20μmであることが特に好ましい。このようなフィルムの厚みが前記下限未満では、各種用途に使用する場合に機械的な強度が低下して弱くなる傾向にあり、他方、前記上限を超えると成膜加工が困難となる傾向にある。   Furthermore, the specific shape (size and thickness) of the film made of such polyimide is not particularly limited, and can be appropriately designed according to the use of the film. Thus, the thickness of the film is not particularly limited, but is preferably 1 to 200 μm, more preferably 1 to 100 μm, further preferably 5 to 50 μm, and 10 to 20 μm. It is particularly preferred. If the thickness of such a film is less than the above lower limit, the mechanical strength tends to be reduced and weakened when used for various applications, and on the other hand, if it exceeds the upper limit, film forming tends to be difficult. .

また、このようなポリイミドからなるフィルムは、透明性が十分に高いものであることが好ましく、全光線透過率が80%以上(更に好ましくは85%以上、特に好ましくは87%以上)であるものがより好ましい。このような全光線透過率は、ポリイミドの種類等を適宜選択することにより容易に達成することができる。なお、このような全光線透過率としては、測定装置として、日本電色工業株式会社製の商品名「ヘーズメーターNDH−5000」を用いて測定した値を採用することができる。   Further, such a film made of polyimide is preferably sufficiently high in transparency, and has a total light transmittance of 80% or more (more preferably 85% or more, particularly preferably 87% or more). Is more preferable. Such total light transmittance can be easily achieved by appropriately selecting the type of polyimide or the like. In addition, as such a total light transmittance, the value measured using the Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. brand name "Hazemeter NDH-5000" as a measuring apparatus is employable.

さらに、このようなポリイミドからなるフィルムは、屈折率が1.50〜1.70であることが好ましく、1.55〜1.65であることがより好ましい。このような屈折率が前記下限未満では、導電性薄膜との積層体を形成して透明用途に利用する場合等に、ポリイミドと導電性薄膜との屈折率差が大きくなり、全光線透過率が低下する傾向にあり、他方、前記上限を超えるとポリイミドが着色していく傾向が見られるとともに、モノマー合成自体も困難となる傾向にある。なお、このような屈折率としては、屈折率測定装置(株式会社アタゴ製の商品名「NAR−1T SOLID」)を用い、589nmの光源下、23℃の温度条件で測定される値を採用することができる。   Furthermore, the film made of such a polyimide preferably has a refractive index of 1.50 to 1.70, and more preferably 1.55 to 1.65. When the refractive index is less than the lower limit, the difference in refractive index between polyimide and the conductive thin film becomes large when a laminate with the conductive thin film is formed and used for transparent applications, and the total light transmittance is On the other hand, when it exceeds the upper limit, the polyimide tends to be colored and the monomer synthesis itself tends to be difficult. As such a refractive index, a value measured under a temperature condition of 23 ° C. under a light source of 589 nm using a refractive index measuring device (trade name “NAR-1T SOLID” manufactured by Atago Co., Ltd.) is adopted. be able to.

このようなポリイミドからなるフィルムは、脂肪族系のテトラカルボン酸二無水物を用いて得られる脂肪族系のポリイミドからなるフィルムであるにも関わらず、無色透明であり、しかも耐熱性も十分に高く、従来公知の脂肪族系テトラカルボン酸二無水物から作られるポリイミドと比較して十分に高度なガラス転移温度(Tg)や軟化温度を有するものとすることもできる。また、このようなフィルムを形成するポリイミドは、溶媒への溶解性も十分に高度なものとすることもできる。更に、このようなポリイミドからなるフィルムは十分に低い線膨張係数を有するものである。   A film made of such a polyimide is colorless and transparent, yet has sufficient heat resistance, despite being a film made of an aliphatic polyimide obtained using an aliphatic tetracarboxylic dianhydride. The glass transition temperature (Tg) and softening temperature which are high and are sufficiently high compared with the polyimide made from a conventionally well-known aliphatic tetracarboxylic dianhydride can also be used. Moreover, the polyimide which forms such a film can also have a sufficiently high solubility in a solvent. Furthermore, such a film made of polyimide has a sufficiently low linear expansion coefficient.

このような本発明のポリイミドフィルム(ポリイミドからなるフィルム)は、フレキシブル配線基板、耐熱絶縁テープに用いるポリイミドフィルム、液晶配向膜用の基板(液晶配向膜積層用の基板)、プリンタブルエレクトロニクス用の基材に用いるポリイミドフィルム、透明電極用基板(例えばITOフィルム用の基板、太陽電池の透明電極用の基板、有機EL素子の透明電極用の基板、電子ペーパー用の基板等)、リチウムイオンバッテリー用のポリイミドフィルム(例えばセパレータに用いるフィルム)、タッチパネル用基板、有機ELディスプレイ用基板、有機EL照明用基板、水蒸気バリアフィルム基板、空気バリアフィルム基板、有機メモリ用基板、有機トランジスタ用基板、有機半導体用基板、複写機用ベルト等に有用である。   Such polyimide films (films made of polyimide) of the present invention are flexible wiring boards, polyimide films used for heat-resistant insulating tapes, substrates for liquid crystal alignment films (substrates for laminating liquid crystal alignment films), and substrates for printable electronics. Polyimide film, transparent electrode substrate (for example, ITO film substrate, solar cell transparent electrode substrate, organic EL element transparent electrode substrate, electronic paper substrate, etc.), polyimide for lithium ion battery Film (for example, film used for separator), touch panel substrate, organic EL display substrate, organic EL lighting substrate, water vapor barrier film substrate, air barrier film substrate, organic memory substrate, organic transistor substrate, organic semiconductor substrate, Useful for copier belts, etc.

次に、本発明のフレキシブル配線基板、本発明の透明電極用基板、本発明の液晶配向膜積層用基板、本発明の有機ELディスプレイ用基板、及び、本発明の有機EL照明用基板について説明する。   Next, the flexible wiring board of the present invention, the transparent electrode substrate of the present invention, the liquid crystal alignment film lamination substrate of the present invention, the organic EL display substrate of the present invention, and the organic EL lighting substrate of the present invention will be described. .

本発明のフレキシブル配線基板、本発明の透明電極用基板、本発明の液晶配向膜積層用基板、本発明の有機ELディスプレイ用基板、及び、本発明の有機EL照明用基板は、それぞれ上記本発明のポリイミドフィルムからなることを特徴とするものである。このようなフレキシブル配線基板としては、上記本発明のポリイミドフィルムを基板として利用すればよく、他の構成は特に制限されるものではない。   The flexible wiring substrate of the present invention, the substrate for transparent electrodes of the present invention, the substrate for laminating a liquid crystal alignment film of the present invention, the substrate for organic EL display of the present invention, and the substrate for organic EL lighting of the present invention are each of the above-mentioned present invention. It consists of a polyimide film. As such a flexible wiring substrate, the polyimide film of the present invention may be used as a substrate, and other configurations are not particularly limited.

また、前記透明電極用基板としては、上記本発明のポリイミドフィルムを、かかる基板として利用すればよく、他の構成は特に制限されるものではない。このような透明電極用基板としては、表示装置及び太陽電池のうちのいずれかの透明電極を積層するために用いるものであること(表示装置用の透明電極基板、及び、太陽電池用の透明電極基板のうちのいずれかであること)が好ましい。なお、このような表示装置としては、例えば、有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ(有機ELディスプレイ)、液晶表示装置、電子ペーパー等が挙げられる。なお、本発明においては、上記本発明のポリイミドフィルムを用いていることから、透明電極を積層する際に高温(例えば350℃以上の温度)の温度条件を採用しても、ポリイミドフィルム(基板)が破損等することなく、最終製品の歩留まりを十分に向上させることが可能となる。   Moreover, what is necessary is just to utilize the polyimide film of the said this invention as this board | substrate as this board | substrate for transparent electrodes, and another structure is not restrict | limited in particular. Such a transparent electrode substrate is used for laminating a transparent electrode of any one of a display device and a solar cell (a transparent electrode substrate for a display device and a transparent electrode for a solar cell). It is preferably any one of the substrates. Examples of such a display device include an organic electroluminescence display (organic EL display), a liquid crystal display device, and electronic paper. In the present invention, since the polyimide film of the present invention is used, the polyimide film (substrate) can be used even when a high temperature condition (for example, a temperature of 350 ° C. or higher) is adopted when laminating the transparent electrode. It is possible to sufficiently improve the yield of the final product without damage or the like.

また、前記液晶配向膜積層用基板は、液晶配向膜を積層するための基板である。本発明においては、ガラス基板等の代替品として、上記本発明のポリイミドフィルムからなる基板を液晶配向膜を積層するための基板として利用するため、ガラス基板等と比較して、十分にフレキシブルな液晶配向膜積層体を製造し得る。また、前記液晶配向膜積層用基板としては、上記本発明のポリイミドフィルムを、かかる基板として利用すればよく、他の構成は特に制限されるものではない。   Further, the substrate for laminating liquid crystal alignment films is a substrate for laminating liquid crystal alignment films. In the present invention, as a substitute for a glass substrate or the like, the substrate made of the polyimide film of the present invention is used as a substrate for laminating a liquid crystal alignment film. An alignment layer stack can be manufactured. Moreover, as said liquid crystal aligning film lamination | stacking board | substrate, what is necessary is just to utilize the polyimide film of the said invention as this board | substrate, and another structure is not restrict | limited in particular.

さらに、本発明の有機ELディスプレイ用基板(有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ用基板)は、有機ELディスプレイに用いる基板であればよく、特に制限されず、例えば、透明電極を積層するための基板や有機ELディスプレイに用いるバリア基板、薄膜トランジスタ基板、封止層基板、負極基板、有機半導体基板、正極基板、直流駆動回路基板、ハードコート基板、フロントフィルム基板、バックフィルム基板として利用するものであってもよい。また、前記有機ELディスプレイ用基板としては、上記本発明のポリイミドフィルムを、かかる基板として利用すればよく、他の構成は特に制限されるものではない。このような基板として上記本発明のポリイミドフィルムからなる基板を利用することで、ガラス基板等と比較して、十分にフレキシブルな製品を製造し得る。   Furthermore, the organic EL display substrate (organic electroluminescence display substrate) of the present invention is not particularly limited as long as it is a substrate used for an organic EL display. For example, a substrate for laminating transparent electrodes or an organic EL display It may be used as a barrier substrate, a thin film transistor substrate, a sealing layer substrate, a negative electrode substrate, an organic semiconductor substrate, a positive electrode substrate, a DC drive circuit substrate, a hard coat substrate, a front film substrate, and a back film substrate. Moreover, what is necessary is just to utilize the said polyimide film of this invention as this board | substrate as said board | substrate for organic EL displays, and another structure is not restrict | limited in particular. By using a substrate made of the polyimide film of the present invention as such a substrate, a sufficiently flexible product can be manufactured as compared with a glass substrate or the like.

また、本発明の有機EL照明用基板は、有機EL照明(例えば有機EL照明パネル)に用いる基板であればよく、例えば、有機EL照明の透明電極を積層するための基板や陽極基板、有機正孔輸送層基板、有機発光層基板、有機電子輸送層基板、陰極基板、注入層基板、バリア層基板として利用するものであってもよい。また、前記有機EL照明用基板としては、上記本発明のポリイミドフィルムを、かかる基板として利用すればよく、他の構成は特に制限されるものではない。このような基板として上記本発明のポリイミドフィルムからなる基板を利用することで、ガラス基板等と比較して、十分にフレキシブルな製品を製造し得る。   The substrate for organic EL lighting of the present invention may be a substrate used for organic EL lighting (for example, an organic EL lighting panel). For example, a substrate for laminating transparent electrodes for organic EL lighting, an anode substrate, an organic positive electrode, and the like. It may be used as a hole transport layer substrate, an organic light emitting layer substrate, an organic electron transport layer substrate, a cathode substrate, an injection layer substrate, or a barrier layer substrate. In addition, as the organic EL lighting substrate, the polyimide film of the present invention may be used as such a substrate, and other configurations are not particularly limited. By using a substrate made of the polyimide film of the present invention as such a substrate, a sufficiently flexible product can be manufactured as compared with a glass substrate or the like.

次に、本発明のポリイミドフィルムの製造方法について説明する。本発明のポリイミドフィルムの製造方法は、下記一般式(7):   Next, the manufacturing method of the polyimide film of this invention is demonstrated. The production method of the polyimide film of the present invention is represented by the following general formula (7):

[式(7)中、R、R、Rは、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜10のアルキル基及びフッ素原子よりなる群から選択される1種を示し、Rは炭素数6〜40のアリール基を示し、nは0〜12の整数を示す。]
で表される脂環式テトラカルボン酸二無水物(A)及び下記一般式(8):
Wherein (7), R 1, R 2, R 3 are each independently a hydrogen atom, represents one selected from the group consisting of alkyl groups and fluorine atom having 1 to 10 carbon atoms, R 4 is An aryl group having 6 to 40 carbon atoms is shown, and n is an integer of 0 to 12. ]
An alicyclic tetracarboxylic dianhydride (A) represented by the following general formula (8):

[式(8)中、R、R、R、nは前記一般式(7)中のR、R、R、nと同義である。]
で表される脂環式テトラカルボン酸二無水物(B)のうちの少なくとも1種を含有し、且つ、前記脂環式テトラカルボン酸二無水物(A)及び(B)の総量が90モル%以上である脂環式テトラカルボン酸二無水物系モノマーと、
下記一般式(9):
Wherein (8), R 1, R 2, R 3, n are as defined R 1, R 2, R 3 , n in the general formula (7). ]
At least one of the alicyclic tetracarboxylic dianhydrides (B) represented by the formula (1) and the total amount of the alicyclic tetracarboxylic dianhydrides (A) and (B) is 90 mol. % Alicyclic tetracarboxylic dianhydride monomer,
The following general formula (9):

[式(9)中、Rは炭素数6〜40のアリール基を示す。]
で表される芳香族ジアミンとを反応させて得られる、下記一般式(10)及び(11):
[In the formula (9), R 4 represents an aryl group having 6 to 40 carbon atoms. ]
The following general formulas (10) and (11) obtained by reacting with an aromatic diamine represented by:

[式(10)及び(11)中、R、R、R、nは前記一般式(7)中のR、R、R、nと同義であり、Rは前記一般式(9)中のRと同義である。]
で表される繰り返し単位を少なくとも1種含有し且つ前記一般式(10)及び(11)で表される繰り返し単位の総量が90モル%以上のポリアミド酸を含有するポリアミド酸溶液を用いて、前記一般式(1)及び(2)で表される繰り返し単位のうちの少なくとも1種を含有し、かつ、前記一般式(1)及び(2)で表される繰り返し単位の総量が全繰り返し単位に対して90モル%以上であるポリイミドからなる第一のフィルムを得る工程(I)と、
前記第一のフィルムを、不活性ガス雰囲気下において、370〜450℃の雰囲気温度で、延伸倍率が1.0001〜1.050倍となるようにして延伸することにより第二のフィルムを形成して、ポリイミドフィルムを得る工程(II)と、
を含むことを特徴とする方法である。以下において、工程(I)〜(II)を分けて説明する。
In formula (10) and (11), R 1, R 2, R 3, n has the same meaning as R 1, R 2, R 3 , n in the general formula (7), R 4 is the general the same meaning as R 4 in the formula (9). ]
A polyamic acid solution containing at least one repeating unit represented by the formula (10) and a polyamic acid containing a polyamic acid having a total amount of repeating units represented by the general formulas (10) and (11) of 90 mol% or more, It contains at least one of the repeating units represented by the general formulas (1) and (2), and the total amount of the repeating units represented by the general formulas (1) and (2) Step (I) for obtaining a first film made of polyimide that is 90 mol% or more,
The first film is stretched in an inert gas atmosphere at an atmospheric temperature of 370 to 450 ° C. so that the stretching ratio is 1.0001 to 1.050, thereby forming a second film. And obtaining a polyimide film (II),
It is the method characterized by including. Hereinafter, steps (I) to (II) will be described separately.

(工程(I):第一のフィルムを得るための工程)
先ず、工程(I)について説明する。工程(I)は、前記脂環式テトラカルボン酸二無水物(A)及び前記脂環式テトラカルボン酸二無水物(B)のうちの少なくとも1種を含有し、且つ、前記脂環式テトラカルボン酸二無水物(A)及び(B)の総量が90モル%以上である脂環式テトラカルボン酸二無水物系モノマーと、前記一般式(9)で表される芳香族ジアミンとを反応させて得られる、上記一般式(10)及び(11)で表される繰り返し単位を少なくとも1種含有し且つ前記一般式(10)及び(11)で表される繰り返し単位の総量が90モル%以上のポリアミド酸を含有するポリアミド酸溶液を用いて、前記一般式(1)及び(2)で表される繰り返し単位のうちの少なくとも1種を含有し、かつ、前記一般式(1)及び(2)で表される繰り返し単位の総量が全繰り返し単位に対して90モル%以上であるポリイミドからなる第一のフィルムを得る工程である。
(Step (I): Step for obtaining the first film)
First, step (I) will be described. Step (I) contains at least one of the alicyclic tetracarboxylic dianhydride (A) and the alicyclic tetracarboxylic dianhydride (B), and the alicyclic tetra Reaction of an alicyclic tetracarboxylic dianhydride monomer having a total amount of carboxylic dianhydrides (A) and (B) of 90 mol% or more with an aromatic diamine represented by the general formula (9) The total amount of the repeating units represented by the general formulas (10) and (11) is 90 mol%. Using the polyamic acid solution containing the above polyamic acid, the polyamic acid solution contains at least one of the repeating units represented by the general formulas (1) and (2), and the general formulas (1) and ( 2) The total amount of the repeating unit represented by A step of obtaining a first film made of polyimide is 90 mol% or more repeating units.

先ず、このような工程(I)に用いるポリアミド酸溶液について説明する。このような工程(I)に用いるポリアミド酸溶液中に含有される前記ポリアミド酸は、前記脂環式テトラカルボン酸二無水物(A)及び前記脂環式テトラカルボン酸二無水物(B)のうちの少なくとも1種を含有し、且つ、前記脂環式テトラカルボン酸二無水物(A)及び(B)の総量が90モル%以上である脂環式テトラカルボン酸二無水物系モノマーと、前記一般式(9)で表される芳香族ジアミンとを反応させて得られるものである。   First, the polyamic acid solution used in such step (I) will be described. The polyamic acid contained in the polyamic acid solution used in the step (I) is composed of the alicyclic tetracarboxylic dianhydride (A) and the alicyclic tetracarboxylic dianhydride (B). An alicyclic tetracarboxylic dianhydride-based monomer containing at least one of them and having a total amount of the alicyclic tetracarboxylic dianhydrides (A) and (B) of 90 mol% or more, It is obtained by reacting the aromatic diamine represented by the general formula (9).

このような脂環式テトラカルボン酸二無水物(A)は、上記一般式(7)で表されるトランス、エンド、エンド−ノルボルナン−2−スピロ−α−シクロアルカノン−α’−スピロ−2’’−ノルボルナン−5,5’’,6,6’’−テトラカルボン酸二無水物である。また、前記脂環式テトラカルボン酸二無水物(B)は、上記一般式(8)で表されるシス、エンド、エンド−ノルボルナン−2−スピロ−α−シクロアルカノン−α’−スピロ−2’’−ノルボルナン−5,5’’,6,6’’−テトラカルボン酸二無水物である。   Such an alicyclic tetracarboxylic dianhydride (A) is trans, endo, endo-norbornane-2-spiro-α-cycloalkanone-α'-spiro- represented by the above general formula (7). 2 ″ -norbornane-5,5 ″, 6,6 ″ -tetracarboxylic dianhydride. The alicyclic tetracarboxylic dianhydride (B) is a cis, endo, endo-norbornane-2-spiro-α-cycloalkanone-α′-spiro- represented by the general formula (8). 2 ″ -norbornane-5,5 ″, 6,6 ″ -tetracarboxylic dianhydride.

このような一般式(7)で表される脂環式テトラカルボン酸二無水物(A)(トランス、エンド、エンド−ノルボルナン−2−スピロ−α−シクロアルカノン−α’−スピロ−2’’−ノルボルナン−5,5’’,6,6’’−テトラカルボン酸二無水物)は、上記本発明にかかるポリイミドを形成するための材料(モノマー)として利用することが可能な化合物であって、ポリイミド中において前記一般式(1)で表される繰り返し単位(トランス、エンド、エンド型の繰り返し単位)を形成させるために用いる化合物である。そのため、このような一般式(7)で表される脂環式テトラカルボン酸二無水物(A)中のR、R、R、nは、上記一般式(1)中のR、R、R、nと同義である(好適なものも同一である。)。なお、このような一般式(7)で表される脂環式テトラカルボン酸二無水物(A)は、2つのノルボルナン基がトランス配置し且つ該2つのノルボルナン基のそれぞれに対してシクロアルカノンのカルボニル基がエンドの立体配置となるノルボルナン−2−スピロ−α−シクロアルカノン−α’−スピロ−2’’−ノルボルナン−5,5’’,6,6’’−テトラカルボン酸二無水物の異性体である。 The alicyclic tetracarboxylic dianhydride (A) represented by the general formula (7) (trans, endo, endo-norbornane-2-spiro-α-cycloalkanone-α′-spiro-2 ′ '-Norbornane-5,5'',6,6''-tetracarboxylic dianhydride) is a compound that can be used as a material (monomer) for forming the polyimide according to the present invention. And a compound used to form a repeating unit represented by the general formula (1) (trans, end, end type repeating unit) in polyimide. Therefore, R 1, R 2, R 3, n in the alicyclic tetracarboxylic dianhydride represented by the general formula (7) (A) is, R 1 in the general formula (1) , R 2 , R 3 , and n (preferable ones are also the same). In addition, in the alicyclic tetracarboxylic dianhydride (A) represented by the general formula (7), two norbornane groups are arranged in trans, and a cycloalkanone is provided for each of the two norbornane groups. Norbornane-2-spiro-α-cycloalkanone-α′-spiro-2 ″ -norbornane-5,5 ″, 6,6 ″ -tetracarboxylic acid dianhydride in which the carbonyl group of the is in the endo configuration Is an isomer of the product.

また、上記一般式(8)で表される脂環式テトラカルボン酸二無水物(B)(シス、エンド、エンド−ノルボルナン−2−スピロ−α−シクロアルカノン−α’−スピロ−2’’−ノルボルナン−5,5’’,6,6’’−テトラカルボン酸二無水物)は、上記本発明にかかるポリイミドを形成するための材料(モノマー)として利用することが可能な化合物であって、ポリイミド中において前記一般式(2)で表される繰り返し単位(シス、エンド、エンド型の繰り返し単位)を形成させるために用いる化合物である。そのため、このような一般式(8)で表される脂環式テトラカルボン酸二無水物(B)中のR、R、R、nは、上記一般式(2)中のR、R、R、nと同義である(好適なものも同一である。)。なお、このような一般式(8)で表される脂環式テトラカルボン酸二無水物(B)中のR、R、R、nは、上記一般式(7)中のR、R、R、nとも同義である(好適なものも同一である。)。このような一般式(8)で表される脂環式テトラカルボン酸二無水物(B)は、2つのノルボルナン基がシス配置し且つ該2つのノルボルナン基のそれぞれに対してシクロアルカノンのカルボニル基がエンドの立体配置となるノルボルナン−2−スピロ−α−シクロアルカノン−α’−スピロ−2’’−ノルボルナン−5,5’’,6,6’’−テトラカルボン酸二無水物の異性体である。 In addition, the alicyclic tetracarboxylic dianhydride (B) represented by the general formula (8) (cis, endo, endo-norbornane-2-spiro-α-cycloalkanone-α′-spiro-2 ′ '-Norbornane-5,5'',6,6''-tetracarboxylic dianhydride) is a compound that can be used as a material (monomer) for forming the polyimide according to the present invention. And a compound used for forming a repeating unit (cis, end, end type repeating unit) represented by the general formula (2) in the polyimide. Therefore, in the alicyclic tetracarboxylic dianhydride represented by the general formula (8) (B) R 1 , R 2, R 3, n is, R 1 in the general formula (2) , R 2 , R 3 , and n (preferable ones are also the same). Incidentally, R 1, R 2, R 3, n in the alicyclic tetracarboxylic dianhydride represented by the general formula (8) (B) is, R 1 in the general formula (7) , R 2 , R 3 and n have the same meaning (the preferred ones are also the same). In such an alicyclic tetracarboxylic dianhydride (B) represented by the general formula (8), two norbornane groups are placed in cis configuration, and each of the two norbornane groups is a carbonyl of cycloalkanone. Of norbornane-2-spiro-α-cycloalkanone-α′-spiro-2 ″ -norbornane-5,5 ″, 6,6 ″ -tetracarboxylic dianhydride in which the group is in the endo configuration Isomer.

また、前記脂環式テトラカルボン酸二無水物系モノマーは、脂環式テトラカルボン酸二無水物からなるモノマーである(なお、脂環式のテトラカルボン酸二無水物以外の他の化合物は実質的に含まないものが好ましい)。このような脂環式テトラカルボン酸二無水物系モノマーにおいて、前記脂環式テトラカルボン酸二無水物(A)及び(B)の総量(含有量)は、全脂環式テトラカルボン酸二無水物(全モノマー)に対して、90モル%以上である。このように、前記脂環式テトラカルボン酸二無水物系モノマーは、上記一般式(7)及び(8)で表される脂環式テトラカルボン酸二無水物(前記脂環式テトラカルボン酸二無水物(A)及び(B))の純度が90モル%以上の脂環式テトラカルボン酸二無水物からなるモノマーである。このような一般式(7)及び(8)で表される脂環式テトラカルボン酸二無水物の総量(含有比率)が前記下限未満の脂環式テトラカルボン酸二無水物系モノマーを用いてポリイミドを製造した場合には、高温における十分に低い線膨張係数を得ることができなくなる。また、同様の観点から、上記一般式(7)及び(8)で表される脂環式テトラカルボン酸二無水物(前記脂環式テトラカルボン酸二無水物(A)及び(B))の総量(含有比率)としては、全脂環式テトラカルボン酸二無水物に対して、95モル%以上であることが好ましく、98〜100モル%であることが好ましく、100モル%であることが特に好ましい。   The alicyclic tetracarboxylic dianhydride monomer is a monomer composed of alicyclic tetracarboxylic dianhydride (note that other compounds other than the alicyclic tetracarboxylic dianhydride are substantially Are not included). In such an alicyclic tetracarboxylic dianhydride monomer, the total amount (content) of the alicyclic tetracarboxylic dianhydrides (A) and (B) is a total alicyclic tetracarboxylic dianhydride. It is 90 mol% or more based on the product (total monomers). As described above, the alicyclic tetracarboxylic dianhydride monomer is an alicyclic tetracarboxylic dianhydride represented by the general formulas (7) and (8) (the alicyclic tetracarboxylic dianhydride). It is a monomer composed of alicyclic tetracarboxylic dianhydride having a purity of anhydride (A) and (B)) of 90 mol% or more. Using an alicyclic tetracarboxylic dianhydride monomer in which the total amount (content ratio) of the alicyclic tetracarboxylic dianhydride represented by the general formulas (7) and (8) is less than the lower limit, When polyimide is produced, a sufficiently low linear expansion coefficient at a high temperature cannot be obtained. From the same viewpoint, the alicyclic tetracarboxylic dianhydrides represented by the general formulas (7) and (8) (the alicyclic tetracarboxylic dianhydrides (A) and (B)) The total amount (content ratio) is preferably 95 mol% or more, preferably 98 to 100 mol%, and 100 mol% with respect to the total alicyclic tetracarboxylic dianhydride. Particularly preferred.

また、前記脂環式テトラカルボン酸二無水物系モノマーとしては、上記一般式(7)及び(8)で表される脂環式テトラカルボン酸二無水物(前記脂環式テトラカルボン酸二無水物(A)及び(B))の少なくとも1種を含有していればよいが、双方とも含有する場合、上記一般式(7)で表される脂環式テトラカルボン酸二無水物(A)及び上記一般式(8)で表される脂環式テトラカルボン酸二無水物(B)の含有比率は、モル比([式(7)]:[式(8)])で1:2〜2:1であることが好ましく、1:1.85〜1.85:1であることがより好ましく、1:1.7〜1.7:1であることが更に好ましい。このようなモル比が前記下限未満では得られるポリイミドフィルムが脆くなる傾向にあり、他方、前記上限を超えても得られるポリイミドフィルムが脆くなる傾向にある。   The alicyclic tetracarboxylic dianhydride monomer may be an alicyclic tetracarboxylic dianhydride represented by the general formulas (7) and (8) (the alicyclic tetracarboxylic dianhydride). It is sufficient that at least one of the products (A) and (B)) is contained. When both are contained, the alicyclic tetracarboxylic dianhydride (A) represented by the general formula (7) And the content ratio of the alicyclic tetracarboxylic dianhydride (B) represented by the general formula (8) is 1: 2 in terms of molar ratio ([formula (7)]: [formula (8)]). The ratio is preferably 2: 1, more preferably 1: 1.85 to 1.85: 1, and still more preferably 1: 1.7 to 1.7: 1. If such a molar ratio is less than the lower limit, the resulting polyimide film tends to be brittle, and on the other hand, even if the upper limit is exceeded, the resulting polyimide film tends to be brittle.

なお、このような脂環式テトラカルボン酸二無水物系モノマー中の上記一般式(7)及び上記一般式(8)で表される脂環式テトラカルボン酸二無水物の総量(含有量)や、上記モル比([式(7)]:[式(8)])は、例えば、HPLC測定により求められるスペクトルのグラフに基づいて、各異性体に基づくピークの面積比を求め、検量線を用いて算出することにより求めることができる。   In addition, the total amount (content) of the alicyclic tetracarboxylic dianhydride represented by the general formula (7) and the general formula (8) in the alicyclic tetracarboxylic dianhydride monomer. Alternatively, the molar ratio ([formula (7)]: [formula (8)]) is obtained by, for example, obtaining the peak area ratio based on each isomer based on the graph of the spectrum obtained by HPLC measurement, It can obtain | require by calculating using.

なお、このようなHPLC測定は、測定装置としてアジレントテクノロジー株式会社製の商品名「1200 Series」を用い、カラムはアジレントテクノロジー株式会社製の商品名「Eclipse XDB−C18(5μm、直径4.6mm、長さ150mm)」を用い、溶媒としてアセトニトリルと蒸留水との混合物(アセトニトリル/蒸留水=70ml/30ml)を用い、溶媒の流速を1ml/min.とし、ダイオードアレイ検出器(DAD)の検出波長を210nmに設定し、温度を35℃とし、脂環式テトラカルボン酸二無水物を溶媒1.5mlに対して1mg添加した試料を調製することにより行うことができる。また、前記検量線は、標準試料としてジシクロペンタジエンやナフタレンなどを利用して同様の測定条件でHPLCのスペクトルを求めることにより得ることができる。また、HPLCスペクトルのグラフにおいて、各異性体に基づくピークの面積比は上記測定装置により直接求めることができる。   In addition, such HPLC measurement uses a trade name “1200 Series” manufactured by Agilent Technologies, Inc. as a measuring device, and the column uses a trade name “Eclipse XDB-C18 (5 μm, diameter 4.6 mm, manufactured by Agilent Technologies, Inc.). 150 mm in length), a mixture of acetonitrile and distilled water (acetonitrile / distilled water = 70 ml / 30 ml) as a solvent, and a solvent flow rate of 1 ml / min. And setting the detection wavelength of the diode array detector (DAD) to 210 nm, setting the temperature to 35 ° C., and adding 1 mg of alicyclic tetracarboxylic dianhydride to 1.5 ml of the solvent. It can be carried out. The calibration curve can be obtained by obtaining an HPLC spectrum under the same measurement conditions using dicyclopentadiene or naphthalene as a standard sample. Moreover, in the graph of the HPLC spectrum, the peak area ratio based on each isomer can be directly determined by the measuring apparatus.

また、このような脂環式テトラカルボン酸二無水物系モノマーにおいては、上記一般式(7)及び(8)で表される脂環式テトラカルボン酸二無水物(前記脂環式テトラカルボン酸二無水物(A)及び(B))の総量(含有量)が90モル%以上であればよく、他の脂環式テトラカルボン酸二無水物も含有し得る。このような一般式(7)及び(8)で表される脂環式テトラカルボン酸二無水物(前記脂環式テトラカルボン酸二無水物(A)及び(B))以外の他の脂環式テトラカルボン酸二無水物としては、例えば、ノルボルナン−2−スピロ−α−シクロアルカノン−α’−スピロ−2’’−ノルボルナン−5,5’’,6,6’’−テトラカルボン酸二無水物の他の異性体(上記一般式(7)及び(8)で表される異性体以外の異性体)、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,4,5−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、2,3,5−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物、3,5,6−トリカルボキシノルボルナン−2−酢酸二無水物、2,3,4,5−テトラヒドロフランテトラカルボン酸二無水物、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−5−(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]−フラン−1,3−ジオン、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−5−メチル−5−(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]−フラン−1,3−ジオン、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−8−メチル−5−(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]−フラン−1,3−ジオン、5−(2,5−ジオキソテトラヒドロフラル)−3−メチル−3−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸二無水物、ビシクロ[2,2,2]−オクト−7−エン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物等の脂環式テトラカルボン酸二無水物、ビシクロ[2,2,1]−ヘプタン-2,3,5,6-テトラカルボン酸二無水物、デカハイドロジメタノナフタレン−2,3,6,7−テトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。なお、本発明の効果を損なわない限りにおいては、ポリイミドの製造に際して、脂環式テトラカルボン酸二無水物系モノマー中に脂環式テトラカルボン酸二無水物以外の他のモノマーを含有させてもよい。   Further, in such alicyclic tetracarboxylic dianhydride monomers, the alicyclic tetracarboxylic dianhydrides represented by the general formulas (7) and (8) (the alicyclic tetracarboxylic acid described above) The total amount (content) of the dianhydrides (A) and (B) may be 90 mol% or more, and may also contain other alicyclic tetracarboxylic dianhydrides. Other alicyclic rings other than the alicyclic tetracarboxylic dianhydrides represented by the general formulas (7) and (8) (the alicyclic tetracarboxylic dianhydrides (A) and (B)) Examples of the formula tetracarboxylic dianhydride include, for example, norbornane-2-spiro-α-cycloalkanone-α′-spiro-2 ″ -norbornane-5,5 ″, 6,6 ″ -tetracarboxylic acid Other isomers of dianhydrides (isomers other than the isomers represented by the above general formulas (7) and (8)), 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1,2 1,3,4-cyclopentanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride, 2,3,5-tricarboxycyclopentylacetic acid dianhydride, 3,5,6- Tricarboxynorbornane-2-acetic acid dianhydride, 2,3,4,5-tetra Drofurantetracarboxylic dianhydride, 1,3,3a, 4,5,9b-hexahydro-5- (tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl) -naphtho [1,2-c] -furan- 1,3-dione, 1,3,3a, 4,5,9b-hexahydro-5-methyl-5- (tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl) -naphtho [1,2-c] -furan -1,3-dione, 1,3,3a, 4,5,9b-hexahydro-8-methyl-5- (tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl) -naphtho [1,2-c]- Furan-1,3-dione, 5- (2,5-dioxotetrahydrofural) -3-methyl-3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic dianhydride, bicyclo [2,2,2] -oct- Alicyclic tetracarboxylic dianhydrides such as 7-ene-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride , Bicyclo [2,2,1] -heptane-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride, decahydrodimethanonaphthalene-2,3,6,7-tetracarboxylic dianhydride and the like It is done. As long as the effects of the present invention are not impaired, other monomers other than the alicyclic tetracarboxylic dianhydride may be included in the alicyclic tetracarboxylic dianhydride monomer in the production of the polyimide. Good.

また、このような脂環式テトラカルボン酸二無水物系モノマーを製造するための方法は、特に制限されず、公知の方法を適宜採用することができ、例えば、国際公開第2014/034760号に記載の方法を採用してもよい。また、このような脂環式テトラカルボン酸二無水物系モノマーを製造するための好適な方法としては、例えば、公知の方法(国際公開第2014/034760号に記載の方法、国際公開第2011/099517号に記載の方法、国際公開第2011/099518号に記載の方法等)等により下記一般式(12):   In addition, a method for producing such an alicyclic tetracarboxylic dianhydride monomer is not particularly limited, and a known method can be appropriately employed. For example, International Publication No. 2014/034760 The described method may be adopted. Moreover, as a suitable method for producing such an alicyclic tetracarboxylic dianhydride monomer, for example, a known method (a method described in International Publication No. 2014/034760, International Publication No. 2011/1, The method described in No. 099517, the method described in International Publication No. 2011/099518, etc.) etc.

[式(12)中、R、R、R、nは前記一般式(1)中のR、R、R、nと同義である。]
で表される5−ノルボルネン−2−スピロ−α−シクロアルカノン−α’−スピロ−2’’−5’’−ノルボルネン類(以下、単に「一般式(12)で表される化合物」という。)を準備し、次いで、前記一般式(12)で表される化合物をテトラカルボン酸二無水物化して、下記一般式(13):
Wherein (12), R 1, R 2, R 3, n are as defined R 1, R 2, R 3 , n in the general formula (1). ]
5-norbornene-2-spiro-α-cycloalkanone-α′-spiro-2 ″ -5 ″ -norbornenes (hereinafter simply referred to as “compound represented by the general formula (12)”) Then, the compound represented by the general formula (12) is converted into a tetracarboxylic dianhydride, and the following general formula (13):

[式(13)中、R、R、R、nは前記一般式(1)中のR、R、R、nと同義である。]
で表されるテトラカルボン酸二無水物(前記一般式(7)及び(8)で表される脂環式テトラカルボン酸二無水物を含む6種の立体異性体(シス−エンド−エンド異性体、シス−エキソ−エンド異性体、シス−エキソ−エキソ異性体、トランス−エンド−エンド異性体、トランス−エキソ−エンド異性体、トランス−エキソ−エキソ異性体))を得た後、かかる一般式(13)で表されるテトラカルボン酸二無水物から、純度が90モル%以上となるようにして前記一般式(7)及び(8)で表される脂環式テトラカルボン酸二無水物(前記脂環式テトラカルボン酸二無水物(A)及び(B))を分離して取り出すこと(選別すること)により脂環式テトラカルボン酸二無水物を得る方法、前記一般式(12)で表される化合物を準備し、前記一般式(12)で表される化合物からシス−エンド−エンド異性体及び/又はトランス−エンド−エンド異性体を純度が90モル%以上となるようにして分離して取り出し、これをテトラカルボン酸二無水物化して、前記一般式(7)及び(8)で表される脂環式テトラカルボン酸二無水物(前記脂環式テトラカルボン酸二無水物(A)及び(B))を総量で90モル%以上含有する脂環式テトラカルボン酸二無水物系モノマーを得る方法、前記一般式(12)で表される化合物を準備し、前記一般式(12)で表される化合物をエステル化(次いで加水分解処理やカルボン酸とのエステル交換反応を施してカルボン酸としてもよい。)した後に、得られる化合物(エステル又はカルボン酸)からシス−エンド−エンド異性体及び/又はトランス−エンド−エンド異性体を純度が90モル%以上となるようにして分離して取り出し、これを酸二無水物化して前記一般式(7)及び(8)で表される脂環式テトラカルボン酸二無水物(前記脂環式テトラカルボン酸二無水物(A)及び(B))を総量で90モル%以上含有する脂環式テトラカルボン酸二無水物系モノマーを得る方法等を適宜利用することができる。
Wherein (13), R 1, R 2, R 3, n are as defined R 1, R 2, R 3 , n in the general formula (1). ]
Of tetracarboxylic dianhydrides represented by the formula (6 stereoisomers including the alicyclic tetracarboxylic dianhydrides represented by the general formulas (7) and (8) (cis-endo-endo isomers) , Cis-exo-endo isomer, cis-exo-exo isomer, trans-endo-endo isomer, trans-exo-endo isomer, trans-exo-exo isomer)) From the tetracarboxylic dianhydride represented by (13), the alicyclic tetracarboxylic dianhydride represented by the general formulas (7) and (8) (purity is 90 mol% or more) ( A method for obtaining an alicyclic tetracarboxylic dianhydride by separating (separating) the alicyclic tetracarboxylic dianhydrides (A) and (B)), in the general formula (12) Prepare the compound represented before The cis-endo-endo isomer and / or trans-endo-endo isomer is separated and removed from the compound represented by the general formula (12) so that the purity is 90 mol% or more, and this is removed from the tetracarboxylic acid. The total amount of the alicyclic tetracarboxylic dianhydrides (the alicyclic tetracarboxylic dianhydrides (A) and (B)) represented by the general formulas (7) and (8) after dianhydride formation A method for obtaining an alicyclic tetracarboxylic dianhydride monomer containing 90 mol% or more, a compound represented by the general formula (12) is prepared, and the compound represented by the general formula (12) is esterified. Cis-endo-endo isomers and / or tones from the resulting compound (ester or carboxylic acid) after hydrolysis (subsequent hydrolysis treatment or transesterification with carboxylic acid may be used). The alicyclic tetramers represented by the above general formulas (7) and (8) are separated and taken out so that the purity is 90 mol% or more. A method for obtaining an alicyclic tetracarboxylic dianhydride-based monomer containing carboxylic dianhydride (the alicyclic tetracarboxylic dianhydrides (A) and (B)) in a total amount of 90 mol% or more is appropriately used. Can be used.

なお、前記一般式(12)で表される化合物をテトラカルボン酸二無水物化して上記一般式(13)で表されるテトラカルボン酸二無水物を得るための好適な方法としては、特に制限されず、前記一般式(12)で表される化合物をテトラカルボン酸化した後に、これらを二無水物化することが可能な公知の方法を適宜採用することができ、例えば、1994年発行のMacromolecules(27巻)の1117頁に記載のような方法、国際公開第2014/034760号に記載の方法、国際公開第2011/099517号に記載の方法、国際公開第2011/099518号に記載の方法等を適宜利用することができる。また、前記一般式(13)で示される化合物から、前記一般式(7)及び(8)で表される脂環式テトラカルボン酸二無水物を分離して取り出す方法、前記一般式(12)で表される化合物から該化合物のシス−エンド−エンド異性体及び/又はトランス−エンド−エンド異性体を分離して取り出す方法、前記一般式(12)で表される化合物をエステル化して得られる化合物(エステル又はカルボン酸)からシス−エンド−エンド異性体及び/又はトランス−エンド−エンド異性体を取り出す方法としては、特に制限されず、これらの化合物群の中から所望の異性体を分離することが可能な公知の方法を適宜利用することが可能であり、例えば、再結晶法(晶析法を含む)や吸着分離法を採用してもよい。このような再結晶法(晶析法を含む)や吸着分離法としても、例えば、国際公開第2014/034760号に記載の方法等を適宜採用してもよい。   A particularly preferable method for converting the compound represented by the general formula (12) into a tetracarboxylic dianhydride to obtain the tetracarboxylic dianhydride represented by the general formula (13) is particularly limited. In addition, a known method capable of dianhydrating these compounds after tetracarboxylic oxidation of the compound represented by the general formula (12) can be appropriately employed. For example, Macromolecules (issued in 1994) 27)), the method described in International Publication No. 2014/034760, the method described in International Publication No. 2011/099517, the method described in International Publication No. 2011/099518, etc. It can be used as appropriate. Further, a method for separating and removing the alicyclic tetracarboxylic dianhydride represented by the general formulas (7) and (8) from the compound represented by the general formula (13), the general formula (12) A method for separating and extracting a cis-endo-endo isomer and / or a trans-endo-endo isomer of the compound from the compound represented by the formula: The method for removing the cis-endo-endo isomer and / or trans-endo-endo isomer from the compound (ester or carboxylic acid) is not particularly limited, and the desired isomer is separated from these compound groups. For example, a recrystallization method (including a crystallization method) or an adsorption separation method may be employed. As such a recrystallization method (including a crystallization method) and an adsorption separation method, for example, a method described in International Publication No. 2014/034760 may be appropriately employed.

また、上記一般式(9)で表されるジアミン化合物に関して、一般式(9)中のRは、上記一般式(1)及び(2)中のRと同様のものであり、その好適なものも上記一般式(1)及び(2)中のRの好適なものと同様である。このような一般式(9)中のRは、目的とするポリイミドの構成に応じて適宜変更すればよい。 Further, with respect to the diamine compound represented by the general formula (9), R 4 in the general formula (9) is the same as the R 4 in the general formula (1) and (2), the preferred Are the same as those of R 4 in the general formulas (1) and (2). R 4 in the general formula (9) may be appropriately changed according to the structure of the target polyimide.

このような一般式(14)で表される芳香族ジアミンとしては、例えば、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4''-ジアミノ−p−ターフェニル、3,3’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルエタン、3,3’−ジアミノジフェニルエタン、4,4’−ジアミノビフェニル、3,3’−ジアミノビフェニル、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,3’−ジアミノジフェニルエーテル、2,2−ビス(4−アミノフェノキシフェニル)プロパン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)−4,4’−ジアミノビフェニル、3,4’−ジアミノジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノベンゾフェノン、3,3’−ジアミノベンゾフェノン、9,9−ビス(4−アミノフェニル)フルオレン、p−ジアミノベンゼン(別名:p−フェニレンジアミン)、m−ジアミノベンゼン、o−ジアミノベンゼン、4,4’−ジアミノビフェニル、3,3’−ジアミノビフェニル、2,2’−ジアミノビフェニル、3,4’−ジアミノビフェニル、2,6−ジアミノナフタレン、1,4−ジアミノナフタレン、1,5−ジアミノナフタレン、4,4’−[1,3−フェニレンビス(1−メチル−エチリデン)]ビスアニリン、4,4’−[1,4−フェニレンビス(1−メチル−エチリデン)]ビスアニリン、2,2’−ジメチル−4,4’−ジアミノビフェニル(別名:o−トリジン)、3,3’−ジメチル−4,4’−ジアミノビフェニル、3,3’−ジアミノジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノジフェニルスルフィド、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、4,4’−ジアミノベンズアニリド、4,4’−ジアミノフェニルベンゾエート(別名:4,4’−ジアミノジフェニルエステル)、9,9’−ビス(4−アミノフェニル)フルオレン、o−トリジンスルホン、1,3’−ビス(4−アミノフェノキシ)−2,2−ジメチルプロパン、2,3,5,6−テトラメチル−1,4−フェニレンジアミン、3,3’,5,5’−テトラメチルベンジジン、1,5−ビス(4−アミノフェノキシ)ペンタン、ジエチルトルエンジアミン、アミノベンジルアミン、1,4−ビス−N,N‘−(4’−アミノフェニル)テレフタルアミド、ビス(4−アミノフェノキシ)テレフタレート、ビスアニリンM、ビスアニリンP等が挙げられる。このような芳香族ジアミンを製造するための方法としては特に制限されず、公知の方法を適宜採用することができる。また、このような芳香族ジアミンとしては市販のものを適宜用いてもよい。   Examples of the aromatic diamine represented by the general formula (14) include 4,4′-diaminodiphenylmethane, 4,4 ″ -diamino-p-terphenyl, 3,3′-diaminodiphenylmethane, 4 , 4'-diaminodiphenylethane, 3,3'-diaminodiphenylethane, 4,4'-diaminobiphenyl, 3,3'-diaminobiphenyl, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-diaminodiphenyl ether, 2 , 2-bis (4-aminophenoxyphenyl) propane, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl ] Sulfone, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfone, 2,2′-bis (trifluoromethyl) ) -4,4'-diaminobiphenyl, 3,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminobenzophenone, 3,3'-diaminobenzophenone, 9,9-bis (4-aminophenyl) fluorene, p- Diaminobenzene (also known as p-phenylenediamine), m-diaminobenzene, o-diaminobenzene, 4,4′-diaminobiphenyl, 3,3′-diaminobiphenyl, 2,2′-diaminobiphenyl, 3,4′- Diaminobiphenyl, 2,6-diaminonaphthalene, 1,4-diaminonaphthalene, 1,5-diaminonaphthalene, 4,4 ′-[1,3-phenylenebis (1-methyl-ethylidene)] bisaniline, 4,4 ′ -[1,4-phenylenebis (1-methyl-ethylidene)] bisaniline, 2,2'-dimethyl-4 4'-diaminobiphenyl (also known as o-tolidine), 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl, 3,3'-diaminodiphenyl sulfone, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone, 4,4 ' -Diaminodiphenyl sulfide, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 4,4'-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, 4,4'-diaminobenzanilide, 4,4'-diaminophenylbenzoate ( Alias: 4,4′-diaminodiphenyl ester), 9,9′-bis (4-aminophenyl) fluorene, o-tolidine sulfone, 1,3′-bis (4-aminophenoxy) -2,2-dimethylpropane 2,3,5,6-tetramethyl-1,4-phenylenediamine, 3,3 ′, 5,5′-tetramethylbenzidine 1,5-bis (4-aminophenoxy) pentane, diethyltoluenediamine, aminobenzylamine, 1,4-bis-N, N ′-(4′-aminophenyl) terephthalamide, bis (4-aminophenoxy) Examples include terephthalate, bisaniline M, and bisaniline P. It does not restrict | limit especially as a method for manufacturing such an aromatic diamine, A well-known method is employable suitably. Moreover, you may use a commercially available thing suitably as such aromatic diamine.

また、得られるポリイミドの線膨張係数を前記数値の範囲内において、より低い値とすることが可能であるという観点から、一般式(9)で表される芳香族ジアミンのRが、一般式(5)又は(6)で表される基であることがより好ましく、中でも、一般式(5)で表される基、及び、一般式(6)で表され且つ前記Qが−CONH−、−COO−、−CO−、−C−で表される基のうちの少なくとも1種(より好ましくは、−CONH−、−COO−で表される基、特に好ましくは−CONH−で表される基)である基であることが好ましい。また、得られるポリイミドによりフィルムを形成した場合に、より高度なフレキシブル性も併せて付与するといった観点からは、一般式(9)で表される芳香族ジアミンのRが、前記一般式(3)で表される基;及び前記Qが−O−、−S−、−CH−、−O−C−O−で表される基のうちの1種である前記一般式(6)で表される基;からなる群から選択される1種の基であることが好ましい。また、入手容易性の観点からは、一般式(9)で表される芳香族ジアミンのRは、前記Qが−O−、−CH−、−O−C−O−、−O−C−C−O−で表される基のうちの1種(より好ましくは−O−、−CH−、−O−C−C−O−で表される基のうちの1種、更に好ましくは−O−で表される基)である前記一般式(6)で表される基であることが好ましい。 In addition, from the viewpoint that the linear expansion coefficient of the obtained polyimide can be set to a lower value within the range of the above numerical values, R 4 of the aromatic diamine represented by the general formula (9) is represented by the general formula: More preferably, it is a group represented by (5) or (6), and among them, a group represented by the general formula (5), and a group represented by the general formula (6) and Q is -CONH-, At least one group represented by —COO—, —CO—, —C 6 H 4 — (more preferably a group represented by —CONH—, —COO—, particularly preferably —CONH—; It is preferable that the group is a group represented by: In addition, when a film is formed from the obtained polyimide, R 4 of the aromatic diamine represented by the general formula (9) is represented by the general formula (3) from the viewpoint of imparting higher flexibility. And Q is one of the groups represented by —O—, —S—, —CH 2 —, —O—C 6 H 4 —O—. The group represented by 6) is preferably one group selected from the group consisting of: From the viewpoint of availability, R 4 of the aromatic diamine represented by the general formula (9) has the above Q as —O—, —CH 2 —, —O—C 6 H 4 —O—, One of groups represented by —O—C 6 H 4 —C 6 H 4 —O— (more preferably —O—, —CH 2 —, —O—C 6 H 4 —C 6 H 4 It is preferable that it is group represented by the said General formula (6) which is 1 type in the group represented by -O-, More preferably, it is group represented by -O-.

さらに、前記一般式(9)で表される芳香族ジアミンとしては、ポリイミドのガラス転移温度及び線膨張係数を前記好適な数値の範囲内とすることができ、且つ、ガラス転移温度と、線膨張係数と、フィルムを形成した場合のフレキシブル性とを、更に高度な水準でバランスよく発揮できるポリイミドをより確実に調製するという観点から、前記一般式(14)中のRの種類が異なる複数種(2種以上)の芳香族ジアミンを組み合わせて用いることが好ましい。また、同様の観点から、より高い効果が得られることから、前記Rの種類が異なる複数種(2種以上)の芳香族ジアミンとしては、前記一般式(14)中のRが前記一般式(5)で表される基;及び前記Qが−CONH−、−COO−、−CO−、−C−で表される基のうちの少なくとも1種(より好ましくは−CONH−、−COO−で表される基、特に好ましくは−CONH−で表される基)である前記一般式(6)で表される基;からなる群から選択される1種の基である芳香族ジアミンと、前記一般式(14)中のRが、前記一般式(3)で表される基;及び前記Qが−O−、−S−、−CH−、−O−C−O−、−O−C−C−O−で表される基のうちの1種(より好ましくは−O−、−CH−、−O−C−C−O−で表される基のうちの1種、更に好ましくは−O−で表される基)である前記一般式(6)で表される基;からなる群から選択される1種の基である芳香族ジアミンと、を少なくとも含有するものがより好ましい。 Further, as the aromatic diamine represented by the general formula (9), the glass transition temperature and the linear expansion coefficient of polyimide can be set within the ranges of the above preferable numerical values, and the glass transition temperature and the linear expansion can be obtained. From the viewpoint of more reliably preparing a polyimide that can exhibit a good balance between the coefficient and the flexibility when a film is formed, a plurality of different types of R 4 in the general formula (14) are used. It is preferable to use a combination of two or more aromatic diamines. From the same viewpoint, since higher effects can be obtained, wherein the aromatic diamine of plural kinds of different R 4 are different (two or more), R 4 is the general in the general formula (14) groups represented by the formula (5); and wherein Q is -CONH -, - COO -, - CO -, - C 6 H 4 - at least one of a group represented by (more preferably -CONH- A group represented by the general formula (6) which is a group represented by -COO-, particularly preferably a group represented by -CONH-; Group diamine and R 4 in the general formula (14) is a group represented by the general formula (3); and the Q is —O—, —S—, —CH 2 —, —O—C 6. H 4 -O -, - O- C 6 H 4 -C 6 H 4 1 kind of -O-, a group represented by (more preferably - -, - CH 2 -, - O-C 6 H 4 -C 6 H 4 1 kind of -O-, a group represented by the further the general formula is preferably represented by -O- groups) It is more preferable to contain at least an aromatic diamine that is one group selected from the group consisting of the group represented by (6).

また、前記脂環式テトラカルボン酸二無水物(A)及び(B)を含有しかつ前記脂環式テトラカルボン酸二無水物(A)及び(B)の総量(含有量)が全脂環式テトラカルボン酸二無水物に対して90モル%以上である前記脂環式テトラカルボン酸二無水物系モノマー(ポリイミド形成用のモノマー)と、上記一般式(9)で表される芳香族ジアミンとを反応させる際には、有機溶剤を用いることが好ましい。すなわち、このようなポリアミド酸を得るための工程としては、有機溶媒の存在下、前記脂環式テトラカルボン酸二無水物(A)及び前記脂環式テトラカルボン酸二無水物(B)のうちの少なくとも1種を含有し、且つ、前記脂環式テトラカルボン酸二無水物(A)及び(B)の総量が90モル%以上である脂環式テトラカルボン酸二無水物系モノマーと、前記一般式(9)で表される芳香族ジアミンとを反応させて、上記一般式(10)及び(11)で表される繰り返し単位を少なくとも1種含有し且つ前記一般式(10)及び(11)で表される繰り返し単位の総量が90モル%以上のポリアミド酸を形成せしめ、前記ポリアミド酸を含有するポリアミド酸溶液を得る工程が好ましい。このような有機溶媒としては、前記脂環式テトラカルボン酸二無水物系モノマー(ポリイミド形成用のモノマー)と、上記一般式(9)で表される芳香族ジアミンとの両者を溶解することが可能な有機溶媒であることが好ましい。更に、このような有機溶媒としては、例えば、N−メチル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N’−ジメチルイミダゾール、ジメチルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、プロピレンカーボネート、テトラメチル尿素、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、ヘキサメチルホスホリックトリアミド、ピリジンなどの非プロトン系極性溶媒;m−クレゾール、キシレノール、フェノール、ハロゲン化フェノールなどのフェノール系溶媒;テトラハイドロフラン、ジオキサン、セロソルブ、グライムなどのエーテル系溶媒;ベンゼン、トルエン、キシレン、2−クロル−4−ヒドロキシトルエンなどの芳香族系溶媒;塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素などのハロゲン系溶剤;が挙げられる。このような有機溶媒は、1種を単独であるいは2種以上を混合して使用してもよい。   Moreover, the said alicyclic tetracarboxylic dianhydride (A) and (B) are contained, and the total amount (content) of the said alicyclic tetracarboxylic dianhydride (A) and (B) is all alicyclic. 90 mol% or more of the alicyclic tetracarboxylic dianhydride monomer (polyimide-forming monomer) with respect to the formula tetracarboxylic dianhydride, and the aromatic diamine represented by the general formula (9) In the reaction, it is preferable to use an organic solvent. That is, as a step for obtaining such polyamic acid, in the presence of an organic solvent, among the alicyclic tetracarboxylic dianhydride (A) and the alicyclic tetracarboxylic dianhydride (B) And an alicyclic tetracarboxylic dianhydride-based monomer in which the total amount of the alicyclic tetracarboxylic dianhydrides (A) and (B) is 90 mol% or more, and The aromatic diamine represented by the general formula (9) is reacted to contain at least one repeating unit represented by the general formulas (10) and (11), and the general formulas (10) and (11 The step of forming a polyamic acid in which the total amount of repeating units represented by) is 90 mol% or more to obtain a polyamic acid solution containing the polyamic acid is preferred. As such an organic solvent, it is possible to dissolve both the alicyclic tetracarboxylic dianhydride monomer (polyimide-forming monomer) and the aromatic diamine represented by the general formula (9). A possible organic solvent is preferred. Furthermore, as such an organic solvent, for example, N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, N, N′-dimethylimidazole, dimethyl sulfoxide, γ-butyrolactone, propylene Aprotic polar solvents such as carbonate, tetramethylurea, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, hexamethylphosphoric triamide, pyridine; phenolic solvents such as m-cresol, xylenol, phenol, halogenated phenol Ether solvents such as tetrahydrofuran, dioxane, cellosolve and glyme; aromatic solvents such as benzene, toluene, xylene and 2-chloro-4-hydroxytoluene; halogen solvents such as methylene chloride, chloroform and carbon tetrachloride ;But It is below. Such organic solvents may be used singly or in combination of two or more.

また、上記脂環式テトラカルボン酸二無水物系モノマー(ポリイミド形成用のモノマー)と、上記一般式(9)で表される芳香族ジアミンと反応させる際において、上記脂環式テトラカルボン酸二無水物系モノマー(ポリイミド形成用のモノマー)と、上記一般式(9)で表される芳香族ジアミンとの使用割合は、上記一般式(9)で表される芳香族ジアミンが有するアミノ基1当量に対して、上記脂環式テトラカルボン酸二無水物系モノマー(ポリイミド形成用のモノマー)の酸無水物基を0.2〜2当量とすることが好ましく、0.3〜1.2当量とすることがより好ましい。このような使用割合が前記下限未満では重合反応が効率よく進行せず高分子量のポリアミド酸が得られない傾向にあり、他方、前記上限を超えると前記と同様に高分子量のポリアミド酸が得られない傾向にある。   In addition, when the alicyclic tetracarboxylic dianhydride monomer (polyimide-forming monomer) is reacted with the aromatic diamine represented by the general formula (9), the alicyclic tetracarboxylic dianhydride is used. The use ratio of the anhydride monomer (monomer for forming polyimide) and the aromatic diamine represented by the general formula (9) is the amino group 1 of the aromatic diamine represented by the general formula (9). It is preferable that the acid anhydride group of the alicyclic tetracarboxylic dianhydride monomer (polyimide-forming monomer) is 0.2 to 2 equivalents with respect to equivalents, and 0.3 to 1.2 equivalents. More preferably. If the use ratio is less than the lower limit, the polymerization reaction does not proceed efficiently, and a high molecular weight polyamic acid tends not to be obtained. On the other hand, if the upper limit is exceeded, a high molecular weight polyamic acid is obtained as described above. There is no tendency.

また、前記脂環式テトラカルボン酸二無水物系モノマー(ポリイミド形成用のモノマー)と上記一般式(9)で表される芳香族ジアミンとの反応において、これらの使用割合は、モル比([脂環式テトラカルボン酸二無水物系モノマー]:[芳香族ジアミン])で0.5:1.0〜1.0:0.5(より好ましくは0.9:1.0〜1.0:0.9)であることが好ましい。このような脂環式テトラカルボン酸二無水物系モノマー(ポリイミド形成用のモノマー)の使用量が前記下限未満では、ポリイミドの収量が低下する傾向にあり、他方、前記上限を超えても、ポリイミドの収量が低下する傾向にある。   In the reaction of the alicyclic tetracarboxylic dianhydride monomer (polyimide-forming monomer) with the aromatic diamine represented by the general formula (9), the ratio of these used is the molar ratio ([ Cycloaliphatic tetracarboxylic dianhydride monomer]: [aromatic diamine]) 0.5: 1.0 to 1.0: 0.5 (more preferably 0.9: 1.0 to 1.0). : 0.9). If the amount of the alicyclic tetracarboxylic dianhydride monomer (polyimide-forming monomer) used is less than the lower limit, the yield of the polyimide tends to decrease. The yield tends to decrease.

さらに、有機溶剤の存在下において反応させる場合において、前記有機溶媒の使用量としては、前記脂環式テトラカルボン酸二無水物系モノマー(ポリイミド形成用のモノマー)と上記一般式(9)で表される芳香族ジアミンの総量が、反応溶液の全量に対して0.1〜50質量%(より好ましくは10〜30質量%)になるような量であることが好ましい。このような有機溶媒の使用量が前記下限未満では効率よくポリアミド酸を得ることができなくなる傾向にあり、他方、前記上限を超えると高粘度化により撹拌が困難となる傾向にある。   Furthermore, when making it react in presence of an organic solvent, as the usage-amount of the said organic solvent, it represents with the said alicyclic tetracarboxylic dianhydride type monomer (monomer for polyimide formation), and the said General formula (9). It is preferable that the total amount of the aromatic diamine is 0.1 to 50% by mass (more preferably 10 to 30% by mass) with respect to the total amount of the reaction solution. If the amount of such an organic solvent used is less than the lower limit, it tends to be difficult to obtain a polyamic acid efficiently.

また、有機溶剤の存在下において反応させる場合、前記脂環式テトラカルボン酸二無水物系モノマー(ポリイミド形成用のモノマー)と、上記一般式(9)で表される芳香族ジアミンとを反応させる際に、反応速度向上と高重合度のポリアミド酸を得るという観点から、前記有機溶媒中に塩基化合物を更に添加してもよい。このような塩基性化合物としては特に制限されないが、例えば、トリエチルアミン、テトラブチルアミン、テトラヘキシルアミン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−ウンデセン−7、ピリジン、イソキノリン、N−メチルピペリジン、α−ピコリン等が挙げられる。また、このような塩基化合物の使用量は、前記脂環式テトラカルボン酸二無水物系モノマー(ポリイミド形成用のモノマー)1当量に対して、0.001〜10当量とすることが好ましく、0.01〜0.1当量とすることがより好ましい。このような塩基化合物の使用量が前記下限未満では添加効果が見られなくなる傾向にあり、他方、前記上限を超えると着色等の原因になる傾向にある。   Moreover, when making it react in presence of an organic solvent, the said alicyclic tetracarboxylic dianhydride type monomer (monomer for polyimide formation) and the aromatic diamine represented by the said General formula (9) are made to react. At this time, a base compound may be further added to the organic solvent from the viewpoint of improving the reaction rate and obtaining a polyamic acid having a high degree of polymerization. The basic compound is not particularly limited, and examples thereof include triethylamine, tetrabutylamine, tetrahexylamine, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -undecene-7, pyridine, isoquinoline, N-methylpiperidine, α-picoline and the like can be mentioned. The amount of such a base compound used is preferably 0.001 to 10 equivalents per 1 equivalent of the alicyclic tetracarboxylic dianhydride monomer (polyimide-forming monomer). More preferably, the content is 0.01 to 0.1 equivalent. If the amount of such a basic compound used is less than the lower limit, the effect of addition tends to be lost. On the other hand, if it exceeds the upper limit, it tends to cause coloring or the like.

また、前記脂環式テトラカルボン酸二無水物系モノマー(ポリイミド形成用のモノマー)と上記一般式(9)で表される芳香族ジアミンとを反応させる際の反応温度は、これらの化合物を反応させることが可能な温度に適宜調整すればよく、特に制限されないが、80℃以下とすることが好ましく、−30〜30℃とすることが好ましい。また、前記脂環式テトラカルボン酸二無水物系モノマー(ポリイミド形成用のモノマー)と上記一般式(9)で表される芳香族ジアミンとを反応させるための方法としては、テトラカルボン酸二無水物と芳香族ジアミンの重合反応を行うことが可能な方法を適宜利用でき、特に制限されないが、例えば、大気圧中、窒素、ヘリウム、アルゴン等の不活性雰囲気下において、芳香族ジアミン類を溶媒に溶解させた後、前記反応温度において前記脂環式テトラカルボン酸二無水物系モノマー(ポリイミド形成用のモノマー)を添加し、その後、10〜48時間反応させる方法を採用してもよい。このような反応温度や反応時間が前記下限未満では十分に反応させることが困難となる傾向にあり、他方、前記上限を超えると重合物を劣化させる物質(酸素等)の混入確率が高まり分子量が低下する傾向にある。   The reaction temperature for reacting the alicyclic tetracarboxylic dianhydride monomer (polyimide-forming monomer) with the aromatic diamine represented by the general formula (9) reacts with these compounds. The temperature can be appropriately adjusted to a temperature that can be adjusted, and is not particularly limited. Further, as a method for reacting the alicyclic tetracarboxylic dianhydride monomer (polyimide-forming monomer) with the aromatic diamine represented by the general formula (9), tetracarboxylic dianhydride is used. A method capable of carrying out the polymerization reaction of the product with the aromatic diamine can be used as appropriate, and is not particularly limited. Alternatively, the alicyclic tetracarboxylic dianhydride monomer (polyimide-forming monomer) may be added at the reaction temperature, and then reacted for 10 to 48 hours. If the reaction temperature or reaction time is less than the lower limit, it tends to be difficult to cause sufficient reaction. On the other hand, if the upper limit is exceeded, the probability of mixing a substance (such as oxygen) that degrades the polymer increases and the molecular weight increases. It tends to decrease.

このようにして、前記脂環式テトラカルボン酸二無水物系モノマー(ポリイミド形成用のモノマー)と上記一般式(9)で表される芳香族ジアミンとを反応させることにより、上記一般式(10)及び(11)で表される繰り返し単位を少なくとも1種含有し且つ前記一般式(10)及び(11)で表される繰り返し単位の総量が90モル%以上のポリアミド酸を得ることができる。   In this way, by reacting the alicyclic tetracarboxylic dianhydride monomer (polyimide-forming monomer) with the aromatic diamine represented by the general formula (9), the general formula (10 ) And (11) at least one type of repeating unit, and the total amount of the repeating units represented by the general formulas (10) and (11) is 90 mol% or more.

なお、前記一般式(10)及び(11)中、R、R、R、nは、前記一般式(7)中のR、R、R、nと同義であり、Rは、前記一般式(9)中のRと同義である。すなわち、前記一般式(10)及び(11)中のR、R、R、R及びnは前記一般式(1)及び(2)中のR、R、R、R及びnと同様のものであり、その好適なものも上記一般式(1)及び(2)中のR、R、R、R及びnと同様である。 Incidentally, in the general formula (10) and (11), R 1, R 2, R 3, n has the same meaning as R 1, R 2, R 3 , n in the general formula (7), R 4 has the same meaning as R 4 in formula (9). That, R 1 in the general formula (10) and (11), R 2, R 3, R 1 R 4 and n are the general formula (1) and (2) in, R 2, R 3, R 4 and n are the same as those described above, and suitable ones thereof are also the same as R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and n in the general formulas (1) and (2).

また、このようなポリアミド酸は、前記一般式(10)及び(11)で表される繰り返し単位の総量が90モル%以上のものである。このような繰り返し単位の総量は、前記脂環式テトラカルボン酸二無水物系モノマー(ポリイミド形成用のモノマー)中の上記一般式(7)及び(8)で表される脂環式テトラカルボン酸二無水物の総量に由来するものであり、その総量の好適な範囲も上記一般式(7)及び(8)で表される脂環式テトラカルボン酸二無水物の総量の好適な範囲と同様である。なお、このような前記一般式(10)及び(11)で表される繰り返し単位の総量が90モル%未満では、本発明のポリイミドからなるフィルムを製造することができなくなる。   Further, such polyamic acid has a total amount of repeating units represented by the general formulas (10) and (11) of 90 mol% or more. The total amount of such repeating units is the alicyclic tetracarboxylic acid represented by the general formulas (7) and (8) in the alicyclic tetracarboxylic dianhydride monomer (polyimide-forming monomer). It is derived from the total amount of the dianhydride, and the preferable range of the total amount is the same as the preferable range of the total amount of the alicyclic tetracarboxylic dianhydride represented by the general formulas (7) and (8). It is. If the total amount of the repeating units represented by the general formulas (10) and (11) is less than 90 mol%, it is impossible to produce a film made of the polyimide of the present invention.

また、このような工程(I)で用いられるポリアミド酸としては、固有粘度[η]が0.1〜8.0dL/gであることが好ましく、0.1〜6.0dL/gであることがより好ましく、0.1〜3.0dL/gであることが更に好ましく、0.4〜2.0dL/gであることが特に好ましい。このような固有粘度[η]が0.1dL/gより小さいと、これを用いてフィルム状のポリイミドを製造した際に、得られるフィルムが脆くなる傾向にあり、他方、8.0dL/gを超えると、粘度が高すぎて加工性が低下し、例えばフィルムを製造した場合に均一なフィルムを得ることが困難となる。また、このような固有粘度[η]は、以下のようにして測定することができる。すなわち、先ず、溶媒としてN,N−ジメチルアセトアミドを用い、そのN,N−ジメチルアセトアミド中に前記ポリアミド酸を濃度が0.5g/dLとなるようにして溶解している測定試料(溶液)を得る。次に、前記測定試料を用いて、30℃の温度条件下において動粘度計を用いて、前記測定試料の粘度を測定し、求められた値を固有粘度[η]として採用する。なお、このような動粘度計としては、離合社製の自動粘度測定装置(商品名「VMC−252」)を用いる。   Moreover, as a polyamic acid used at such a process (I), it is preferable that intrinsic viscosity [(eta)] is 0.1-8.0 dL / g, and it is 0.1-6.0 dL / g. Is more preferably 0.1 to 3.0 dL / g, and particularly preferably 0.4 to 2.0 dL / g. When the intrinsic viscosity [η] is smaller than 0.1 dL / g, when a film-like polyimide is produced using the intrinsic viscosity [η], the resulting film tends to become brittle, while 8.0 dL / g is reduced. When it exceeds, the viscosity is too high and the processability is lowered, and for example, when a film is produced, it is difficult to obtain a uniform film. Such intrinsic viscosity [η] can be measured as follows. That is, first, a measurement sample (solution) in which N, N-dimethylacetamide is used as a solvent and the polyamic acid is dissolved in the N, N-dimethylacetamide so as to have a concentration of 0.5 g / dL. obtain. Next, using the measurement sample, the viscosity of the measurement sample is measured using a kinematic viscometer under a temperature condition of 30 ° C., and the obtained value is adopted as the intrinsic viscosity [η]. In addition, as such a kinematic viscometer, an automatic viscosity measuring apparatus (trade name “VMC-252”) manufactured by Koiso Co., Ltd. is used.

また、前記ポリアミド酸を含有する前記ポリアミド酸溶液は、前記ポリアミド酸と溶媒とからなるものである。このような溶媒としては特に制限されず、前記有機溶媒(ポリアミド酸を得るための工程に用いることが可能な有機溶媒)と同様のものを好適に利用できる。また、このようなポリアミド酸を含有するポリアミド酸溶液を調製するための方法は特に制限されるものではなく、例えば、前記反応によりポリアミド酸を得て、これを単離した後に、再度、溶媒(例えば、前記有機溶媒等)に溶解させることにより、前記ポリアミド酸溶液としてもよく、あるいは、有機溶媒中において前記脂環式テトラカルボン酸二無水物系モノマー(ポリイミド形成用のモノマー)と上記一般式(9)で表される芳香族ジアミンとを反応させて前記ポリアミド酸を形成した後、前記ポリアミド酸を単離することなく、得られた反応液(上記ポリアミド酸を含有する反応液)をそのままポリアミド酸溶液としてもよい。なお、前記反応液から前記ポリアミド酸を単離して利用する場合、その単離方法としては特に制限されず、前記ポリアミド酸を単離することが可能な公知の方法を適宜採用することができ、例えば、再沈殿物として単離する方法などを採用してもよい。   The polyamic acid solution containing the polyamic acid is composed of the polyamic acid and a solvent. Such a solvent is not particularly limited, and the same organic solvent (organic solvent that can be used in the step for obtaining polyamic acid) can be suitably used. The method for preparing the polyamic acid solution containing such polyamic acid is not particularly limited. For example, after obtaining the polyamic acid by the above reaction and isolating it, the solvent ( For example, the polyamic acid solution may be obtained by dissolving in the organic solvent or the like, or the alicyclic tetracarboxylic dianhydride monomer (monomer for forming polyimide) and the general formula in the organic solvent. After the polyamic acid is formed by reacting with the aromatic diamine represented by (9), the obtained reaction solution (the reaction solution containing the polyamic acid) is used as it is without isolating the polyamic acid. A polyamic acid solution may be used. When the polyamic acid is isolated from the reaction solution and used, the isolation method is not particularly limited, and a known method capable of isolating the polyamic acid can be appropriately employed. For example, a method of isolating as a reprecipitate may be employed.

また、前記ポリアミド酸溶液中の前記ポリアミド酸の含有量は特に制限されないが、1〜80質量%であることが好ましく、5〜50質量%であることがより好ましい。このようなポリアミド酸の含有量が前記下限未満では、得られるポリイミドの分子量が低下して得られるフィルムの物性(ガラス転移温度、5%重量減少温度、軟化温度、引張強度、破断伸度、弾性率、線膨張係数、透過率、ヘーズ、黄色度、位相差など)が低下する傾向にあり、他方、前記上限を超えるとポリイミドフィルムを製造することが困難となる傾向にある。   Moreover, the content of the polyamic acid in the polyamic acid solution is not particularly limited, but is preferably 1 to 80% by mass, and more preferably 5 to 50% by mass. When the content of such polyamic acid is less than the lower limit, the physical properties of the film obtained by lowering the molecular weight of the resulting polyimide (glass transition temperature, 5% weight loss temperature, softening temperature, tensile strength, breaking elongation, elasticity Rate, linear expansion coefficient, transmittance, haze, yellowness, retardation, etc.) tend to be reduced, and on the other hand, when the upper limit is exceeded, it tends to be difficult to produce a polyimide film.

なお、工程(I)により得られる第一のフィルムを形成するポリイミド中には、上記一般式(1)及び(2)で表される繰り返し単位以外の他の繰り返し単位を含有させてもよく、その場合には、他の繰り返し単位を、例えば、上記脂環式テトラカルボン酸二無水物系モノマー中に上記一般式(7)及び(8)で表される脂環式テトラカルボン酸二無水物以外の他のテトラカルボン酸二無水物を導入することで形成してもよく、上記脂環式テトラカルボン酸二無水物系モノマーとともに他のモノマーを用いることで形成してもよく、また、上記一般式(9)で表される芳香族ジアミンとともに、他のジアミン化合物を用いる方法を採用して形成してもよく、更には、これらの方法を適宜組み合わせて採用して形成してもよい。   In addition, in the polyimide which forms the 1st film obtained by process (I), you may contain other repeating units other than the repeating unit represented by the said General formula (1) and (2), In that case, the other repeating unit is, for example, an alicyclic tetracarboxylic dianhydride represented by the general formulas (7) and (8) in the alicyclic tetracarboxylic dianhydride monomer. May be formed by introducing other tetracarboxylic dianhydride other than the above, may be formed by using other monomers together with the alicyclic tetracarboxylic dianhydride monomer, and A method using another diamine compound together with the aromatic diamine represented by the general formula (9) may be adopted, and further, these methods may be adopted in combination as appropriate.

このよう脂環式テトラカルボン酸二無水物系モノマー(ポリイミド形成用のモノマー)に導入し得る上記一般式(7)及び(8)で表される脂環式テトラカルボン酸二無水物以外の他の脂環式テトラカルボン酸二無水物や、上記本発明の脂環式テトラカルボン酸二無水物とともに利用し得る他のモノマーとしては、上記一般式(7)及び(8)で表される脂環式テトラカルボン酸二無水物以外の上記一般式(13)で表される化合物(他の異性体)、ブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,4,5−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、2,3,5−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物、3,5,6−トリカルボキシノルボルナン−2−酢酸二無水物、2,3,4,5−テトラヒドロフランテトラカルボン酸二無水物、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−5−(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]−フラン−1,3−ジオン、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−5−メチル−5−(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]−フラン−1,3−ジオン、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−8−メチル−5−(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]−フラン−1,3−ジオン、5−(2,5−ジオキソテトラヒドロフラル)−3−メチル−3−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸二無水物、ビシクロ[2,2,2]−オクト−7−エン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物などの脂肪族または脂環式テトラカルボン酸二無水物;ピロメリット酸二無水物、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、1,4,5,8−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、2,3,6,7−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ジメチルジフェニルシランテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−テトラフェニルシランテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−フランテトラカルボン酸二無水物、4,4’−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ジフェニルスルフィド二無水物、4,4’−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ジフェニルスルホン二無水物、4,4’−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ジフェニルプロパン二無水物、3,3’,4,4’−パーフルオロイソプロピリデンジフタル酸二無水物、4,4’−(2,2−ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,3,3’,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ビス(フタル酸)フェニルホスフィンオキサイド二無水物、p−フェニレン−ビス(トリフェニルフタル酸)二無水物、m−フェニレン−ビス(トリフェニルフタル酸)二無水物、ビス(トリフェニルフタル酸)−4,4’−ジフェニルエーテル二無水物、ビス(トリフェニルフタル酸)−4,4’−ジフェニルメタン二無水物などの芳香族テトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。なお、芳香族テトラカルボン酸を使用する場合は、分子内CTによる着色を防止するため、その使用量は得られるポリイミドが十分な透明性を有することが可能となるような範囲内で適宜変更することが好ましい。   Other than the alicyclic tetracarboxylic dianhydrides represented by the general formulas (7) and (8) that can be introduced into the alicyclic tetracarboxylic dianhydride monomers (polyimide-forming monomers). As other monomers that can be used together with the alicyclic tetracarboxylic dianhydride of the present invention and the alicyclic tetracarboxylic dianhydride of the present invention, fats represented by the above general formulas (7) and (8) Compounds represented by the above general formula (13) other than cyclic tetracarboxylic dianhydride (other isomers), butanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride 1,2,3,4-cyclopentanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride, 2,3,5-tricarboxycyclopentylacetic acid dianhydride, 3 , 5,6-Tricarboxyno Lubornane-2-acetic acid dianhydride, 2,3,4,5-tetrahydrofurantetracarboxylic dianhydride, 1,3,3a, 4,5,9b-hexahydro-5- (tetrahydro-2,5-dioxo- 3-furanyl) -naphtho [1,2-c] -furan-1,3-dione, 1,3,3a, 4,5,9b-hexahydro-5-methyl-5- (tetrahydro-2,5-dioxo -3-furanyl) -naphtho [1,2-c] -furan-1,3-dione, 1,3,3a, 4,5,9b-hexahydro-8-methyl-5- (tetrahydro-2,5- Dioxo-3-furanyl) -naphtho [1,2-c] -furan-1,3-dione, 5- (2,5-dioxotetrahydrofural) -3-methyl-3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic Acid dianhydride, bicyclo [2,2,2] -oct-7-ene-2,3,5,6-tetraca Aliphatic or alicyclic tetracarboxylic dianhydrides such as rubonic acid dianhydride; pyromellitic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-biphenylsulfonetetracarboxylic dianhydride, 1,4,5,8-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′ , 4,4'-biphenyl ether tetracarboxylic dianhydride, 3,3 ', 4,4'-dimethyldiphenylsilane tetracarboxylic dianhydride, 3,3', 4,4'-tetraphenylsilane tetracarboxylic Acid dianhydride, 1,2,3,4-furantetracarboxylic dianhydride, 4,4′-bis (3,4-dicarboxyphenoxy) diphenyl sulfide dianhydride, 4,4′-bis (3 , 4-Dicarboxyphenoxy) diphenyls Lufone dianhydride, 4,4′-bis (3,4-dicarboxyphenoxy) diphenylpropane dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-perfluoroisopropylidenediphthalic dianhydride, 4,4 '-(2,2-hexafluoroisopropylidene) diphthalic dianhydride, 3,3', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,3,3 ', 4'-biphenyltetracarboxylic acid Dianhydride, bis (phthalic acid) phenylphosphine oxide dianhydride, p-phenylene-bis (triphenylphthalic acid) dianhydride, m-phenylene-bis (triphenylphthalic acid) dianhydride, bis (triphenyl) Aromatic tetracarboxylic dianhydrides such as phthalic acid) -4,4′-diphenyl ether dianhydride, bis (triphenylphthalic acid) -4,4′-diphenylmethane dianhydride, and the like. It is. In addition, when using aromatic tetracarboxylic acid, in order to prevent coloring by intramolecular CT, the amount used thereof is appropriately changed within a range in which the obtained polyimide can have sufficient transparency. It is preferable.

また、前記芳香族系ジアミン以外の他のジアミン化合物としては特に制限されず、ポリイミド又はポリアミド酸の製造に用いることが可能な公知のジアミン化合物を適宜用いることができ、例えば、脂肪族系ジアミン、脂環式系ジアミン等を適宜用いることができる。このような脂肪族系ジアミンとしては、エチレンジアミン、プロピレンジアミン、トリメチレンジアミン、テトラメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ポリオキシアルキレンジアミン等が挙げられる。また、前記脂環式系ジアミンとしては、4,4’−ジアミノ−ジシクロヘキシルメタン、3,3’−ジメチル−4,4’−ジアミノ−ジシクロヘキシルメタン、3,3’−ジエチル−4,4’−ジアミノ−ジシクロヘキシルメタン、3,3’,5,5’−テトラメチル−4,4’−ジアミノ−ジシクロヘキシルメタン、3,3’,5,5’−テトラエチル−4,4’−ジアミノ−ジシクロヘキシルメタン、3,5−ジエチル−3’,5’−ジメチル−4,4’−ジアミノジシクロヘキシルメタン、ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、1,4−ジアミノシクロヘキサン、1,3−ジアミノシクロヘキサン、ビシクロ[2.2.1]ヘプタンジメタンアミン、ノルボルナンジアミン等が挙げられる。   Moreover, it does not restrict | limit especially as other diamine compounds other than the said aromatic diamine, The well-known diamine compound which can be used for manufacture of a polyimide or a polyamic acid can be used suitably, for example, aliphatic diamine, An alicyclic diamine or the like can be used as appropriate. Examples of such aliphatic diamines include ethylene diamine, propylene diamine, trimethylene diamine, tetramethylene diamine, hexamethylene diamine, and polyoxyalkylene diamine. Examples of the alicyclic diamine include 4,4′-diamino-dicyclohexylmethane, 3,3′-dimethyl-4,4′-diamino-dicyclohexylmethane, and 3,3′-diethyl-4,4′-. Diamino-dicyclohexylmethane, 3,3 ′, 5,5′-tetramethyl-4,4′-diamino-dicyclohexylmethane, 3,3 ′, 5,5′-tetraethyl-4,4′-diamino-dicyclohexylmethane, 3,5-diethyl-3 ′, 5′-dimethyl-4,4′-diaminodicyclohexylmethane, bis (aminomethyl) cyclohexane, 1,4-diaminocyclohexane, 1,3-diaminocyclohexane, bicyclo [2.2. 1] heptanedimethanamine, norbornanediamine and the like.

次に、このようなポリアミド酸溶液を用いて、前記一般式(1)及び(2)で表される繰り返し単位の総量が全繰り返し単位に対して90モル%以上であるポリイミドからなる第一のフィルムを得る工程について説明する。   Next, using such a polyamic acid solution, a first composed of polyimide having a total amount of repeating units represented by the general formulas (1) and (2) of 90 mol% or more based on all repeating units. The process of obtaining a film will be described.

前記ポリアミド酸溶液を用いて第一のフィルムを得る工程としては、特に制限されるものではないが、前記ポリアミド酸溶液を基材上に塗布して塗膜を形成した後、該塗膜中のポリアミド酸をイミド化して塗膜を硬化せしめることにより、前記一般式(1)及び(2)で表される繰り返し単位のうちの少なくとも1種を含有し、かつ、前記一般式(1)及び(2)で表される繰り返し単位の総量が全繰り返し単位に対して90モル%以上であるポリイミドからなる第一のフィルムを得る工程(a)を採用することが好ましい。   The step of obtaining the first film using the polyamic acid solution is not particularly limited, but after the polyamic acid solution is applied on a substrate to form a coating film, By imidizing the polyamic acid and curing the coating film, it contains at least one of the repeating units represented by the general formulas (1) and (2), and the general formulas (1) and ( It is preferable to employ the step (a) of obtaining a first film made of polyimide in which the total amount of the repeating units represented by 2) is 90 mol% or more based on all repeating units.

このような工程(a)に用いる基材としては特に制限されず、目的とするポリイミドからなるフィルムの形状等に応じて、フィルムの形成に用いることが可能な公知の材料からなる基材(例えば、ガラス板や金属板)を適宜用いることができる。   The base material used in such a step (a) is not particularly limited, and a base material made of a known material that can be used to form a film (for example, depending on the shape of the target film made of polyimide, for example) Glass plate or metal plate) can be used as appropriate.

また、工程(a)において、前記基材上に前記ポリアミド酸溶液等を塗布する方法としては特に限定されず、例えば、スピンコート法、スプレーコート法、ディップコート法、滴下法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、凸版印刷法、ダイコート法、カーテンコート法、インクジェット法等の公知の方法を適宜採用することができる。   Further, in the step (a), the method for applying the polyamic acid solution or the like on the substrate is not particularly limited. For example, a spin coating method, a spray coating method, a dip coating method, a dropping method, a gravure printing method, Known methods such as a screen printing method, a relief printing method, a die coating method, a curtain coating method, and an ink jet method can be appropriately employed.

また、工程(a)において、前記基材上に形成される前記ポリアミド酸の塗膜の厚みとしては、乾燥後の塗膜の厚みが1〜200μmとなるようにすることが好ましく、5〜100μmとなるようにすることがより好ましい。このような厚みが前記下限未満では得られるフィルムの機械強度が低下する傾向にあり、他方、前記上限を超えると成膜加工が困難となる傾向にある。   In the step (a), the thickness of the polyamic acid coating film formed on the substrate is preferably 1 to 200 μm after drying, and preferably 5 to 100 μm. It is more preferable that If such a thickness is less than the lower limit, the mechanical strength of the resulting film tends to decrease, and if it exceeds the upper limit, film forming tends to be difficult.

また、工程(a)において、前記塗膜を形成した後には、場合により、前記塗膜から溶媒を除去する処理を施してもよい。このように、前記塗膜から溶媒を除去する処理(溶媒除去処理)を施す場合における温度条件としては、特に制限されないが、0〜100℃であることが好ましく、20〜80℃であることがより好ましい。このような溶媒除去処理における温度条件が前記下限未満では溶媒が蒸発しない傾向にあり、他方、前記上限を超えると溶媒が沸騰し気泡やボイドを含むフィルムになる傾向にある。また、このような乾燥処理の方法における雰囲気としては、不活性ガス雰囲気(例えば窒素雰囲気)とすることが好ましい。また、より効率よく溶媒除去処理を行うという観点から、このような溶媒除去処理における圧力の条件としては、1〜760mmHgであることが好ましい。このような溶媒除去処理により、前記ポリアミド酸をフィルム状などの形態として単離でき、その後に溶媒除去処理を施すこと等が可能となる。   Moreover, in the step (a), after forming the coating film, in some cases, a treatment for removing the solvent from the coating film may be performed. Thus, although it does not restrict | limit especially as temperature conditions in performing the process (solvent removal process) which removes a solvent from the said coating film, It is preferable that it is 0-100 degreeC, and it is 20-80 degreeC. More preferred. If the temperature condition in such a solvent removal process is less than the lower limit, the solvent tends not to evaporate. On the other hand, if the temperature condition exceeds the upper limit, the solvent tends to boil and form a film containing bubbles and voids. Further, the atmosphere in such a drying treatment method is preferably an inert gas atmosphere (for example, a nitrogen atmosphere). Further, from the viewpoint of performing the solvent removal process more efficiently, the pressure condition in such a solvent removal process is preferably 1 to 760 mmHg. By such a solvent removal treatment, the polyamic acid can be isolated in the form of a film or the like, and then a solvent removal treatment can be performed.

また、工程(a)において、前記塗膜中のポリアミド酸をイミド化する方法としては、ポリアミド酸をイミド化し得る方法であればよく、特に制限されず、公知の方法を適宜採用することができ、例えば、前記ポリアミド酸に対して加熱処理を施して脱水反応を行うことによりイミド化する方法や、いわゆる「イミド化剤」を用いてイミド化する方法を採用することが好ましい。   In the step (a), the method for imidizing the polyamic acid in the coating film may be any method that can imidize the polyamic acid, and is not particularly limited, and a known method can be appropriately employed. For example, it is preferable to employ a method of imidizing by performing a dehydration reaction by subjecting the polyamic acid to a heat treatment, or a method of imidizing using a so-called “imidizing agent”.

このように、ポリアミド酸のイミド化の方法として加熱処理を施して脱水反応を行う方法(加熱処理を施すことによりイミド化する方法)を採用する場合においては、200〜450℃(好ましくは250〜440℃、より好ましくは300〜430℃、更に好ましくは350〜420℃、特に好ましくは360℃〜410℃)の温度条件で加熱処理を施すことが好ましい。このような加熱処理を施して脱水反応を行うことによりイミド化する方法を採用する場合において、前記加熱温度が200℃未満ではポリアミド酸が脱水閉環し、ポリイミドになる反応よりも酸二無水物とアミンに分解する平衡反応が有利になる傾向にあり、他方、前記上限を超えると着色したり、熱分解による分子量低下などが起きる傾向にある。   As described above, in the case of adopting a method of performing a dehydration reaction by performing a heat treatment as a method of imidization of a polyamic acid (a method of imidizing by performing a heat treatment), 200 to 450 ° C. (preferably 250 to It is preferable to perform the heat treatment under a temperature condition of 440 ° C, more preferably 300 to 430 ° C, still more preferably 350 to 420 ° C, particularly preferably 360 ° C to 410 ° C. In the case of adopting a method of imidizing by performing such a heat treatment and performing a dehydration reaction, when the heating temperature is less than 200 ° C., the polyamic acid is dehydrated and cyclized, and the reaction with the acid dianhydride rather than the reaction to become a polyimide. Equilibrium reactions that decompose into amines tend to be advantageous. On the other hand, when the upper limit is exceeded, coloring tends to occur and molecular weight decreases due to thermal decomposition.

また、工程(a)において、加熱処理を施すことによりイミド化する方法を採用する場合においては、工程(I)において前記ポリアミド酸を単離することなく、有機溶媒中において、前記脂環式テトラカルボン酸二無水物系モノマー(ポリイミド形成用のモノマー)と、上記一般式(14)で表される芳香族ジアミンとを反応させて得られた反応液(前記ポリアミド酸を含有する反応液)をそのままイミド化するための前記ポリアミド酸の溶液として用い、前記ポリアミド酸の溶液(反応液)に対して上述の溶媒除去処理を施して溶媒を除去した後、前記温度範囲において加熱処理を施すことによりイミド化する方法を採用することが好ましい。   In addition, in the case of adopting a method of imidizing by performing heat treatment in the step (a), the alicyclic tetratetrahydrochloride in the organic solvent without isolating the polyamic acid in the step (I). A reaction liquid (reaction liquid containing the polyamic acid) obtained by reacting a carboxylic acid dianhydride monomer (monomer for polyimide formation) with the aromatic diamine represented by the general formula (14) By using the polyamic acid solution for imidization as it is, subjecting the polyamic acid solution (reaction solution) to the above solvent removal treatment to remove the solvent, and then subjecting it to a heat treatment in the above temperature range. It is preferable to employ a method of imidization.

また、工程(a)において、いわゆる「イミド化剤」を利用してイミド化する方法を採用する場合、イミド化剤の存在下、前記ポリアミド酸の溶液中でイミド化することが好ましい。このような溶液の溶媒としては工程(I)において説明した有機溶媒を好適に用いることができる。そのため、イミド化剤を利用してイミド化する方法を採用する場合においては、工程(I)で得られた前記ポリアミド酸を単離することなく、有機溶媒中において、脂環式テトラカルボン酸二無水物系モノマー(ポリイミド形成用のモノマー)と、上記一般式(9)で表される芳香族ジアミンとを反応させて得られた反応液(前記ポリアミド酸を含有する反応液)をそのままイミド化するための前記ポリアミド酸溶液として用い、前記ポリアミド酸溶液(反応液)にイミド化剤を添加してイミド化する方法を採用することがより好ましい。   In the step (a), when a method of imidizing using a so-called “imidating agent” is employed, it is preferable to imidize in the solution of the polyamic acid in the presence of the imidizing agent. As the solvent of such a solution, the organic solvent described in the step (I) can be preferably used. Therefore, in the case of employing the imidization method using an imidizing agent, the alicyclic tetracarboxylic acid dicarboxylic acid is obtained in an organic solvent without isolating the polyamic acid obtained in the step (I). Imide the reaction liquid (reaction liquid containing the polyamic acid) obtained by reacting the anhydride monomer (monomer for forming polyimide) with the aromatic diamine represented by the general formula (9). It is more preferable to employ a method in which an imidizing agent is added to the polyamic acid solution (reaction solution) and imidized.

このようなイミド化剤としては、公知のイミド化剤を適宜利用することができ、例えば、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水トリフルオロ酢酸などの酸無水物;ピリジン、コリジン、ルチジン、トリエチルアミン、N−メチルピペリジン、β−ピコリンなどの3級アミン;などを挙げることができる。   As such an imidizing agent, a known imidizing agent can be appropriately used. For example, acid anhydrides such as acetic anhydride, propionic anhydride, trifluoroacetic anhydride; pyridine, collidine, lutidine, triethylamine, N -Tertiary amines such as methylpiperidine and β-picoline;

また、イミド化剤を添加してイミド化する場合、イミド化の反応温度は、0〜180℃であることが好ましく、60〜150℃であることがより好ましい。また、反応時間は0.1〜48時間とすることが好ましい。このような反応温度や時間が前記下限未満では十分にイミド化することが困難となる傾向にあり、他方、前記上限を超えると重合物を劣化させる物質(酸素等)の混入確率が高まり分子量が低下する傾向にある。また、このようなイミド化剤の使用量としては、特に制限されず、ポリアミド酸中の上記一般式(10)及び(11)で表される繰り返し単位1モルに対して数ミリモル〜数モル(好ましくは0.05〜1.0モル程度)とすればよい。   Moreover, when adding an imidizing agent and imidating, it is preferable that the reaction temperature of imidation is 0-180 degreeC, and it is more preferable that it is 60-150 degreeC. The reaction time is preferably 0.1 to 48 hours. If the reaction temperature or time is less than the lower limit, it tends to be difficult to sufficiently imidize. On the other hand, if the upper limit is exceeded, the mixing probability of a substance (such as oxygen) that degrades the polymer increases, and the molecular weight increases. It tends to decrease. In addition, the amount of such an imidizing agent is not particularly limited, and is from several millimoles to several mols per mol of the repeating unit represented by the general formulas (10) and (11) in the polyamic acid ( Preferably, about 0.05 to 1.0 mol) may be used.

このようにして前記塗膜中の前記ポリアミド酸をイミド化した後、塗膜を硬化せしめることにより、上記一般式(1)及び(2)で表される繰り返し単位を少なくとも1種含有し且つ前記一般式(1)及び(2)で表される繰り返し単位の総量が全繰り返し単位に対して90モル%以上であるポリイミドの第一のフィルムを好適に得ることができる。   Thus, after imidating the polyamic acid in the coating film, the coating film is cured, thereby containing at least one repeating unit represented by the general formulas (1) and (2) and A first film of polyimide in which the total amount of the repeating units represented by the general formulas (1) and (2) is 90 mol% or more based on all repeating units can be suitably obtained.

このように、イミド化後に塗膜を硬化せしめる方法としては特に制限されないが、イミド化して得られるポリイミドのガラス転移温度近傍の温度(より好ましくはガラス転移温度±40℃、更に好ましくはガラス転移温度±20℃、特に好ましくはガラス転移温度±10℃)で、0.1〜10時間(好ましくは0.5〜2時間)加熱する方法(加熱硬化)を採用することが好ましい。このような加熱温度及び時間が前記下限未満では十分に固相重合反応が進行せず脆くて弱い膜となる傾向にあり、他方、前記上限を超えると着色したり、熱分解による分子量低下などが起きる傾向にある。また、このような加熱硬化の際の雰囲気としては、不活性ガス雰囲気(例えば窒素雰囲気)とすることが好ましく、加熱硬化の際の圧力の条件としては、0.01〜760mmHgであることが好ましく、0.01〜200mmHgであることがより好ましい。なお、イミド化のための加熱処理とその後の加熱硬化のための加熱処理とを同時に一連の加熱処理として行ってもよく、この場合には、前述のイミド化の際の加熱温度を、前記加熱硬化の際に採用される温度範囲内の温度として一定の温度で連続して加熱処理を施すことが好ましい。すなわち、一連の加熱処理(イミド化と加熱硬化とを一つの加熱処理とすること)により、イミド化後にそのまま塗膜を硬化させてフィルムを得ることもできる。また、工程(I)で得られた反応液をそのまま基材(例えばガラス板)上に塗布し、前記溶媒除去処理及び前記加熱処理を施す方法を採用すれば、簡便な方法でポリイミドからなるフィルム前駆体(本発明のポリイミドフィルムの前駆体)を製造することが可能となる。   Thus, the method for curing the coating film after imidation is not particularly limited, but is a temperature in the vicinity of the glass transition temperature of the polyimide obtained by imidization (more preferably glass transition temperature ± 40 ° C., more preferably glass transition temperature). It is preferable to adopt a method (heat curing) of heating at ± 20 ° C., particularly preferably glass transition temperature ± 10 ° C., for 0.1 to 10 hours (preferably 0.5 to 2 hours). If the heating temperature and time are less than the lower limit, the solid phase polymerization reaction does not proceed sufficiently and the film tends to be brittle and weak. It tends to happen. In addition, the atmosphere at the time of such heat curing is preferably an inert gas atmosphere (for example, a nitrogen atmosphere), and the pressure condition at the time of heat curing is preferably 0.01 to 760 mmHg. More preferably, it is 0.01 to 200 mmHg. In addition, you may perform the heat processing for imidation, and the heat processing for subsequent heat-curing as a series of heat processing, In this case, the heating temperature in the above-mentioned imidation WHEREIN: It is preferable to carry out the heat treatment continuously at a constant temperature as the temperature within the temperature range employed for curing. That is, a film can also be obtained by curing the coating as it is after imidation by a series of heat treatments (imidation and heat curing are combined into one heat treatment). In addition, if the reaction solution obtained in step (I) is applied as it is on a substrate (for example, a glass plate) and the method for removing the solvent and the heat treatment is adopted, a film made of polyimide can be obtained by a simple method. It becomes possible to manufacture a precursor (precursor of the polyimide film of the present invention).

なお、前記ポリアミド酸溶液を用いて第一のフィルムを得る工程においては、前記工程(a)以外にも、例えば、前述の工程(a)に記載の方法を採用して基材上の硬化塗膜として得られたポリイミド;又は、塗膜を形成することなく、ポリアミド酸溶液にイミド化剤を添加して、イミド化して得られるポリイミドの溶液;を用いて、これを、該ポリイミドの溶解性が乏しい溶媒中に添加し、ろ過、洗浄、乾燥等を適宜施すことにより、ポリイミドを単離した後、その単離したポリイミドを有機溶剤中に溶解させてポリイミドの溶液を調製し、かかるポリイミドの溶液を基材に塗布して塗膜を形成した後、溶媒除去処理を施し、次いで、そのポリイミドの塗膜を加熱硬化して、第一のフィルム(フィルム前駆体)を得る工程(b)を好適に採用し得る。なお、このような工程(b)に用いられる基材、イミド化の方法、加熱硬化の方法等としては、工程(a)において説明した基材、イミド化の方法、加熱硬化の方法等と、同様のもの、同様の方法等を適宜利用することができる。   In addition, in the step of obtaining the first film using the polyamic acid solution, in addition to the step (a), for example, the method described in the step (a) described above is used to apply a cured coating on the substrate. A polyimide obtained as a film; or a polyimide solution obtained by imidization by adding an imidizing agent to a polyamic acid solution without forming a coating film; After adding polyimide in a poor solvent, and performing filtration, washing, drying, etc. as appropriate, the polyimide is isolated, and then the isolated polyimide is dissolved in an organic solvent to prepare a polyimide solution. After applying the solution to the substrate to form a coating film, the solvent removal treatment is performed, and then the polyimide coating film is heated and cured to obtain a first film (film precursor) (b) Preferably It can be. In addition, as a base material used in such a step (b), a method of imidation, a method of heat curing, etc., the base material described in step (a), a method of imidization, a method of heat curing, etc. The same thing, the same method, etc. can be utilized suitably.

また、前記工程(b)において、前記ポリイミドを単離する際に用いる該ポリイミドの溶解性が乏しい溶媒としては、特に制限されないが、例えばメタノール、エタノール、イソプロパノール、アセトン、酢酸エチル、ヘキサン、トルエン等を用いることができる。また、前記工程(b)におけるポリイミドの溶液の溶媒としては、前述のポリアミド酸の溶液の溶媒と同様のものを用いることができ、更に、前記工程(b)において採用されるポリイミドの溶液の塗膜の溶媒除去処理の方法としては、前述の工程(a)において説明したポリアミド酸の溶液の塗膜の溶媒除去処理の方法と同様の方法を採用することができる。   Moreover, in the said process (b), although it does not restrict | limit especially as a solvent with the poor solubility of this polyimide used when isolating the said polyimide, For example, methanol, ethanol, isopropanol, acetone, ethyl acetate, hexane, toluene etc. Can be used. In addition, as the solvent of the polyimide solution in the step (b), the same solvent as that of the polyamic acid solution described above can be used, and furthermore, the polyimide solution applied in the step (b) can be used. As the method for the solvent removal treatment of the film, the same method as the solvent removal treatment method for the coating film of the polyamic acid solution described in the above step (a) can be employed.

このようにして、前記ポリアミド酸溶液を用いて第一のフィルムを得る工程として好適に利用可能な工程(a)又は工程(b)を実施することにより、前記ポリアミド酸をイミド化して得られるポリイミド(第一のポリイミド)からなる第一のフィルム(本発明のポリイミドフィルムの前駆体)を好適に得ることができる。   Thus, the polyimide obtained by imidating the said polyamic acid by implementing the process (a) or the process (b) which can be utilized suitably as a process of obtaining a 1st film using the said polyamic acid solution. The 1st film (precursor of the polyimide film of this invention) which consists of (1st polyimide) can be obtained suitably.

(工程(II):ポリイミドフィルム(第二のフィルム)を得る工程)
次に、工程(II)について説明する。工程(II)は、前記第一のフィルムを、不活性ガス雰囲気下において、370〜450℃の雰囲気温度で、延伸倍率が1.0001〜1.050倍となるようにして延伸することにより第二のフィルムを形成して、ポリイミドフィルム(第二のフィルム)を得る工程である。
(Step (II): Step of obtaining a polyimide film (second film))
Next, process (II) is demonstrated. In step (II), the first film is stretched in an inert gas atmosphere at an atmospheric temperature of 370 to 450 ° C. so that the stretch ratio is 1.0001 to 1.050. In this step, a second film is formed to obtain a polyimide film (second film).

工程(II)において、第一のフィルムを延伸する工程(延伸工程)を実施する際のガス雰囲気は、不活性ガス雰囲気とする必要がある。不活性ガス雰囲気以外のガス雰囲気下において、上記雰囲気温度で加熱した場合には、得られるポリイミドフィルム(第二のフィルム)が酸化される等して着色してしまう。また、ここにいう不活性ガス雰囲気とは、不活性ガスを含有しかつ酸素の含有量が20ppm未満となるようなガス雰囲気をいう。このような不活性ガスとしては、窒素、アルゴン等が挙げられる。   In the step (II), the gas atmosphere when performing the step of stretching the first film (stretching step) needs to be an inert gas atmosphere. When heated at the above atmospheric temperature in a gas atmosphere other than an inert gas atmosphere, the resulting polyimide film (second film) is oxidized and colored. In addition, the inert gas atmosphere here refers to a gas atmosphere containing an inert gas and having an oxygen content of less than 20 ppm. Examples of such an inert gas include nitrogen and argon.

また、前記延伸工程においては、370〜450℃の雰囲気温度の条件下において、前記第一のフィルムを延伸する必要がある。ここにいう「雰囲気温度」は、延伸工程を実施して延伸している際に測定される雰囲気の温度のうちの最高温度をいう。例えば、温度を徐々に上げながら延伸工程を施す場合には、第一のフィルムを延伸している間において達する最高温度が前述の「雰囲気温度」となり、均一な温度条件下で延伸する場合には、その温度が前述の「雰囲気温度」となり、温度を適宜変更しながら延伸を施す場合には、延伸時に測定される雰囲気の温度のうちの最高温度が前述の「雰囲気温度」となる。このような雰囲気温度が前記下限未満では延伸することが出来ず、所望の線膨張係数が達成できない傾向となり、他方、前記上限を超えるとフィルムの熱分解等が進行し物性低下や着色の原因となる。また、同様の観点から、延伸工程における雰囲気温度としては、375〜440℃(雰囲気温度の上限値は、より好ましくは430℃、更に好ましくは420℃である。)であることが好ましく、特に、作業性の観点等からは370〜400℃であることがより好ましい。このような好適な温度範囲内の雰囲気温度を採用することにより、フィルムの物性低下や着色なく線膨張係数を所望の値に制御することが可能となる。   Moreover, in the said extending process, it is necessary to extend | stretch said 1st film on the conditions of 370-450 degreeC atmospheric temperature. The “atmospheric temperature” here refers to the highest temperature among the temperatures of the atmosphere measured when the stretching process is performed. For example, when the stretching process is performed while gradually raising the temperature, the maximum temperature reached while the first film is being stretched is the aforementioned “atmosphere temperature”, and when stretching under uniform temperature conditions, When the stretching is performed while appropriately changing the temperature, the maximum temperature among the temperatures of the atmosphere measured at the stretching is the above-mentioned “atmospheric temperature”. If the atmospheric temperature is lower than the lower limit, the film cannot be stretched and the desired linear expansion coefficient tends not to be achieved.On the other hand, if the upper limit is exceeded, the thermal decomposition of the film proceeds and causes deterioration of physical properties and coloring. Become. From the same viewpoint, the atmospheric temperature in the stretching step is preferably 375 to 440 ° C. (the upper limit of the atmospheric temperature is more preferably 430 ° C., and still more preferably 420 ° C.). From the viewpoint of workability and the like, the temperature is more preferably 370 to 400 ° C. By adopting such an atmospheric temperature within a suitable temperature range, it becomes possible to control the linear expansion coefficient to a desired value without lowering the physical properties or coloring of the film.

また、本発明においては、延伸倍率が1.0001〜1.050倍となるようにして前記第一のフィルムを延伸する必要がある。このような延伸倍率が前記下限未満では線膨張係数を所望の値に制御することが困難になるとともに、強度の低下、弾性率の低下、クリープ特性の低下の原因となる傾向にあり、他方、前記上限を超えるとフィルムの破断やウェーブ、白化、斑化の原因となる傾向にある。また、同様の観点から、このような延伸倍率としては、1.0005〜1.040倍となるようにすることが好ましく、1.0008〜1.035倍とすることがより好ましく、1.0010〜1.030倍となるようにすることが更に好ましい。なお、このような好適な延伸倍率の範囲内において第一のフィルムを延伸することにより、線膨張係数を所望の値に制御することが可能となり、平滑性や均一性の点においてもより高度な効果が得られる傾向にある。また、ここにいう延伸倍率は、室温(25℃)における、延伸前のフィルムの長さに対する延伸後のフィルムの長さの比率([延伸後のフィルムの長さ]/[延伸前のフィルムの長さ])をいう。なお、フィルムの一部を延伸する場合(例えば、一部を固定してフィルムの他の部分を延伸する場合等)、前記延伸倍率としては、延伸前のフィルムの延伸させる部分の長さ(延伸されない固定部分(つかんでフィルムを固定する場合には掴み代部分)を除いた部分のフィルムの長さ)に対する、延伸させた部分の長さの比率を採用する。すなわち、延伸に関与しない部分の長さは除外して、延伸に関与する部分の延伸前の長さと延伸後の長さの比率により延伸倍率を求める。   In the present invention, it is necessary to stretch the first film so that the stretching ratio is 1.0001 to 1.050. When such a draw ratio is less than the lower limit, it becomes difficult to control the linear expansion coefficient to a desired value, and tends to cause a decrease in strength, a decrease in elastic modulus, and a decrease in creep characteristics, If the upper limit is exceeded, the film tends to be broken, waved, whitened, or spotted. Further, from the same viewpoint, such a draw ratio is preferably 1.0005 to 1.040 times, more preferably 1.0008 to 1.035 times. It is more preferable that the ratio is ˜1.030 times. In addition, it becomes possible to control a linear expansion coefficient to a desired value by stretching the first film within the range of such a suitable stretching ratio, and it is more sophisticated in terms of smoothness and uniformity. It tends to be effective. The stretch ratio here is the ratio of the length of the film after stretching to the length of the film before stretching at room temperature (25 ° C.) ([length of film after stretching] / [length of film before stretching]. Length]). When a part of the film is stretched (for example, when a part is fixed and the other part of the film is stretched), the stretch ratio is the length of the stretched part of the film before stretching (stretching) The ratio of the length of the stretched part to the fixed part (the length of the film excluding the gripping part when the film is fixed by gripping) is adopted. That is, excluding the length of the portion not involved in stretching, the stretch ratio is determined by the ratio of the length before stretching and the length after stretching of the portion involved in stretching.

また、このような延伸の具体的な方法としては、前記ガス雰囲気、前記雰囲気温度、前記延伸倍率の条件を満たす必要がある以外は特に制限されず、従来公知の延伸方法を適宜採用することができ、例えば、輻射延伸法、熱風加熱法、熱板過熱法、ロール加熱法等を利用してもよい。更に、このような延伸工程としては、所定方向に十分な配向を形成するといった観点から、一定方向に延伸することが好ましく、いわゆる一軸延伸であってもよい。なお、ここにいう延伸としては、基本的に、所定方向に十分な配向を形成するといった観点から、一方向に延伸することが望ましいが、このような一方向への延伸の際に生じ得るフィルムのたわみ等を解消するために、そのような一方向への延伸(例えばMachine Direction(マシンダイレクション):フィルムの流れ方向:MD方向に延伸)とともに、前記延伸方向以外の方向(例えばTransverse Direction(トランスバースダイレクション):フィルムの幅方向:TD方向)にも延伸してもよく、たわみ等の不都合を解消するために、他の方向にも延伸するような工程やアニール加工を行ってもよい。また、これらを同時に実施しても良いし、逐次的に実施しても良い。さらに延伸操作を連続的に実施しても良いしバッチ的に実施しても良い。なお、延伸装置は横方向の延伸装置(横延伸装置)であっても良いし縦方向の延伸装置(縦延伸装置)であっても良い。   In addition, the specific method of stretching is not particularly limited except that the conditions of the gas atmosphere, the atmospheric temperature, and the stretching ratio need to be satisfied, and a conventionally known stretching method can be appropriately employed. For example, a radiation stretching method, a hot air heating method, a hot plate heating method, a roll heating method, or the like may be used. Further, as such a stretching step, it is preferable to stretch in a certain direction from the viewpoint of forming a sufficient orientation in a predetermined direction, and so-called uniaxial stretching may be used. In addition, as the stretching here, it is basically desirable to stretch in one direction from the viewpoint of forming a sufficient orientation in a predetermined direction, but a film that can be produced in such stretching in one direction. In order to eliminate the deflection of the film, such stretching in one direction (for example, Machine Direction (machine direction): film flow direction: stretching in the MD direction) and a direction other than the stretching direction (for example, Transverse Direction (transformer) (Birth direction): width direction of film: TD direction), and in order to eliminate inconveniences such as deflection, a process of stretching in other directions or annealing may be performed. These may be performed simultaneously or sequentially. Further, the stretching operation may be carried out continuously or batchwise. The stretching device may be a transverse stretching device (transverse stretching device) or a longitudinal stretching device (longitudinal stretching device).

また、本発明では、延伸工程を終了後には、前記延伸後のフィルムを物性が変化しない温度(高分子鎖の配向状態が固定される温度;ガラス転位温度以下や軟化点温度以下)に冷却した後に、他の用途に利用(例えば製品を製造する際に無機層を製造する工程等の他の工程に利用)してもよく、あるいは、他の用途に効率よく利用すべく、延伸温度のまま搬送して利用してもよい(延伸温度のまま搬送して他の工程を施してもよい)。なお、用途に応じて、他の工程(例えば製品を製造する際に無機層を製造する工程等)に延伸温度のままで搬送する必要が無ければ、物性が変化しない温度まで冷却する方法を採用することが一般的である。この場合には、延伸された高分子鎖の配向状態を固定するために、降温温度等を適宜調製して、フィルムの大幅な変形の無い範囲にて、ガラス転位温度以下や軟化温度以下(より好ましくは軟化点−10℃)まで冷却することが好ましい。このように、上記冷却方法において、フィルムの物性が変化しない温度(冷却の温度)としては、ポリイミドの種類に応じて異なるものではあるが、例えば、ガラス転位温度以下の温度、又は、ポリイミドの軟化温度以下の温度(更に好ましくはポリイミドの軟化温度よりも10℃低い温度以下の温度[(軟化温度−10)℃以下の温度])が挙げられる。なお、延伸後においては、自然放冷によりフィルムを冷却してもよい。   In the present invention, after the stretching step is completed, the stretched film is cooled to a temperature at which the physical properties do not change (temperature at which the orientation state of the polymer chain is fixed; glass transition temperature or lower or softening point temperature or lower). Later, it may be used for other applications (for example, used for other processes such as a process for producing an inorganic layer when manufacturing a product), or it may remain at the stretching temperature for efficient use in other applications. You may convey and use (it may convey with a extending | stretching temperature and may perform another process). Depending on the application, if there is no need to transport at the stretching temperature to other processes (for example, the process of manufacturing an inorganic layer when manufacturing products), a method of cooling to a temperature at which the physical properties do not change is adopted. It is common to do. In this case, in order to fix the orientation state of the stretched polymer chain, the temperature drop temperature is appropriately adjusted, and the glass transition temperature or lower or softening temperature or lower (more than It is preferable to cool to a softening point of −10 ° C. Thus, in the above cooling method, the temperature at which the physical properties of the film do not change (cooling temperature) varies depending on the type of polyimide. For example, the temperature is lower than the glass transition temperature, or the polyimide is softened. The temperature is equal to or lower than the temperature (more preferably, the temperature is equal to or lower than the softening temperature of the polyimide by 10 ° C. or lower ([softening temperature−10) ° C. or lower]). In addition, after stretching, the film may be cooled by natural cooling.

このようにして延伸工程を施すことにより、延伸後のポリイミド(第二のポリイミド)からなる、ポリイミドフィルムを得ることができる。なお、このような延伸工程においては、延伸前の第一のフィルム中のポリイミドの構造が、配向不十分である構造から、配向が十分に形成された構造に変化して、新たな構造のポリイミド(延伸後のポリイミド:第二のポリイミド)となるため、得られる第二のフィルム(延伸後のフィルム)からなるポリイミドフィルム(最終的に得られるフィルム)においては、高温での線膨張係数を十分に低いものとすることができるものと本発明者らは推察する。   Thus, by performing an extending | stretching process, the polyimide film which consists of the polyimide (2nd polyimide) after extending | stretching can be obtained. In such a stretching process, the structure of the polyimide in the first film before stretching changes from a structure with insufficient orientation to a structure with sufficient orientation, and a new structure of polyimide. (Polyimide after stretching: second polyimide) Therefore, in the polyimide film (finally obtained film) consisting of the second film (film after stretching) obtained, the linear expansion coefficient at high temperature is sufficient. The present inventors speculate that it can be made low.

このようにして得られるポリイミドフィルム(延伸後のポリイミドフィルム:第二のフィルム)は、縦方向(延伸方向)の350℃の線膨張係数が10ppm/℃以下であり、かつ、窒素雰囲気下、昇温速度5℃/分の条件で50℃〜400℃の温度範囲において長さの変化を測定して求められる平均線膨張係数が15ppm/℃以下であるポリイミドからなるフィルムとなる。このように、本発明のポリイミドフィルムの製造方法によれば、上記本発明のポリイミドをより効率よく確実に製造することが可能となる。また、このようにして得られる前記ポリイミドからなるフィルムは、透明性及び耐熱性が十分に高いものであるとともに、高温での線膨張係数が十分に低いものとなり、熱による衝撃(周囲温度の変化)に対しても十分に高い耐性を有するものとなる。そのため、本発明により得られるポリイミドフィルム(第二のフィルムとしてのポリイミドフィルム)は、透明性が十分に高いばかりか、十分に高度な耐熱性と、極めて低い線膨張係数を有するものとなり、太陽電池や表示装置等の製品の製造に利用する場合等においても、その製造過程で高温に晒されてもフィルムに割れや亀裂が生じることが高度な水準で十分に抑制される。従って、かかるポリイミドフィルムは、例えば、フレキシブル配線基板、透明電極用基板(例えば、タッチパネルや太陽電池の透明電極を積層させるための基板フィルム、表示装置(有機EL表示装置、液晶表示装置等)の透明電極を積層させるための基板フィルム等)などの用途に用いるフィルムの他、FPC(フレキシブルプリント回路基板)、光導波路、イメージセンサー、LED反射板、LED照明用カバー、スケルトン型FPC、カバーレイフィルム、チップオンフィルム、高延性複合体基板、液晶配向膜、ポリイミドコーティング材(DRAM、フラッシュメモリ、次世代LSIなどのバッファーコート材)、半導体向けレジスト、リチウムイオンバッテリー、各種の電材等の用途に用いるフィルム、タッチパネル用基板、有機ELディスプレイ用基板、有機EL照明用基板、水蒸気バリアフィルム基板、空気バリアフィルム基板、有機メモリ用基板、有機トランジスタ用基板、有機半導体用基板、複写機用ベルト等として特に有用である。   The polyimide film thus obtained (polyimide film after stretching: second film) has a linear expansion coefficient of 350 ° C. in the longitudinal direction (stretching direction) of 10 ppm / ° C. or less and is increased in a nitrogen atmosphere. It becomes a film made of polyimide having an average linear expansion coefficient of 15 ppm / ° C. or less obtained by measuring a change in length in a temperature range of 50 ° C. to 400 ° C. under a temperature rate of 5 ° C./min. Thus, according to the method for producing a polyimide film of the present invention, the polyimide of the present invention can be produced more efficiently and reliably. In addition, the polyimide film thus obtained is sufficiently high in transparency and heat resistance, and has a sufficiently low linear expansion coefficient at high temperature, resulting in thermal shock (change in ambient temperature). ) With sufficiently high tolerance. Therefore, the polyimide film (polyimide film as the second film) obtained by the present invention has not only sufficiently high transparency but also sufficiently high heat resistance and an extremely low linear expansion coefficient, and is a solar cell. Even when used for the manufacture of products such as display devices and the like, the film is sufficiently suppressed from being cracked or cracked even when exposed to high temperatures during the manufacturing process. Accordingly, the polyimide film is, for example, a flexible wiring substrate, a transparent electrode substrate (for example, a substrate film for laminating a transparent electrode of a touch panel or a solar cell, a transparent device such as an organic EL display device or a liquid crystal display device). In addition to films used for applications such as a substrate film for laminating electrodes), FPC (flexible printed circuit board), optical waveguide, image sensor, LED reflector, LED illumination cover, skeleton type FPC, coverlay film, Films used for applications such as chip-on-films, high-ductility composite substrates, liquid crystal alignment films, polyimide coating materials (buffer coating materials for DRAMs, flash memories, next-generation LSIs, etc.), semiconductor resists, lithium-ion batteries, and various electrical materials , Touch panel substrate, organic L display substrate, is particularly useful organic EL illumination substrate, the water vapor barrier film substrate, the air barrier film substrate, an organic memory substrates, an organic transistor substrate, an organic semiconductor substrate, as a copying machine belt or the like.

以下、実施例及び比較例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated more concretely based on an Example and a comparative example, this invention is not limited to a following example.

先ず、各実施例、各比較例で得られたフィルムを形成するポリイミドの特性(線膨張係数等)の評価方法について説明する。   First, the evaluation method of the characteristics (linear expansion coefficient etc.) of the polyimide which forms the film obtained by each Example and each comparative example is demonstrated.

<線膨張係数の測定>
各線膨張係数(50℃〜400℃の温度範囲における平均線膨張係数、50℃〜200℃の温度範囲における平均線膨張係数、350℃の線膨張係数)は、以下のようにして測定した。すなわち、先ず、実施例1〜6及び比較例1〜4で得られたポリイミドフィルムから縦20mm、横5mm、厚み0.013mm(13μm)の大きさの測定用試料前駆体(フィルム)をそれぞれ形成した。なお、測定用試料前駆体の形成に際しては、かかる測定用試料前駆体形成前のポリイミドフィルムの縦方向(実施例1〜6及び比較例4では延伸方向)を、測定用試料前駆体の縦方向とした。次いで、前記測定用試料前駆体(フィルム)を真空乾燥(120℃、1時間(Hr))し、窒素雰囲気下で200℃で1時間(Hr)熱処理して、得られた測定用試料(乾燥フィルム)を形成した。その後、測定装置として熱機械的分析装置(リガク製の商品名「TMA8310」)を利用して、窒素雰囲気下、引張りモード(49mN)、昇温速度5℃/分の条件を採用して、50℃〜400℃における前記測定用試料の長さの変化を連続的に測定した。
<Measurement of linear expansion coefficient>
Each linear expansion coefficient (average linear expansion coefficient in a temperature range of 50 ° C. to 400 ° C., average linear expansion coefficient in a temperature range of 50 ° C. to 200 ° C., and linear expansion coefficient of 350 ° C.) was measured as follows. That is, first, a measurement sample precursor (film) having a size of 20 mm in length, 5 mm in width, and 0.013 mm (13 μm) in thickness was formed from the polyimide films obtained in Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 4, respectively. did. In forming the measurement sample precursor, the longitudinal direction of the polyimide film before forming the measurement sample precursor (the stretching direction in Examples 1 to 6 and Comparative Example 4) is the longitudinal direction of the measurement sample precursor. It was. Next, the measurement sample precursor (film) was vacuum-dried (120 ° C., 1 hour (Hr)), and heat-treated at 200 ° C. for 1 hour (Hr) in a nitrogen atmosphere. Film). Thereafter, using a thermomechanical analyzer (trade name “TMA8310” manufactured by Rigaku Corporation) as a measuring device, under a nitrogen atmosphere, using a tension mode (49 mN), a temperature rising rate of 5 ° C./min, 50 The change in the length of the measurement sample at a temperature ranging from 0C to 400C was measured continuously.

そして、先ず、前記測定により得られたデータ(測定データ:前記測定用試料の長さの変化のデータ)に基づいて、50℃〜400℃の温度範囲における1℃あたりの長さの変化の平均値を計算して求めることで、50℃〜400℃の温度範囲における平均線膨張係数を求めた。次に、前記測定データを利用して、349℃〜351℃の温度範囲における1℃あたりの前記試料の縦方向の長さの変化の値を求めて、349℃〜351℃の温度範囲における1℃あたりの長さの変化の平均値を計算して、350℃の線膨張係数を求めた。なお、前記測定データに基づいて求められる50℃〜200℃の温度範囲における1℃あたりの長さの変化の平均値(50℃〜200℃の温度範囲における平均線膨張係数)も併せて求めた。   First, based on the data obtained by the measurement (measurement data: data on the change in length of the measurement sample), the average change in length per 1 ° C. in the temperature range of 50 ° C. to 400 ° C. The average linear expansion coefficient in the temperature range of 50 ° C. to 400 ° C. was obtained by calculating and obtaining the value. Next, using the measurement data, a value of a change in length of the sample in the longitudinal direction per 1 ° C. in a temperature range of 349 ° C. to 351 ° C. is obtained, and 1 in a temperature range of 349 ° C. to 351 ° C. The average value of the change in length per ° C was calculated to determine the linear expansion coefficient at 350 ° C. In addition, the average value (average linear expansion coefficient in the temperature range of 50 ° C. to 200 ° C.) of the length change per 1 ° C. in the temperature range of 50 ° C. to 200 ° C. determined based on the measurement data was also obtained. .

<軟化温度の測定>
実施例1及び比較例1で得られたフィルムを形成するポリイミドの軟化温度は以下のようにして測定した。すなわち、測定試料として縦5mm、横5mm、厚み0.013mm(13μm)の大きさのポリイミドからなるフィルムを準備し、測定装置として熱機械的分析装置(リガク製の商品名「TMA8311」を用いて、窒素雰囲気下、昇温速度5℃/分、30℃〜550℃の温度範囲の条件でフィルムに透明石英製ピン(先端の直径φ0.5mm)を針入れすることにより測定した(いわゆるペネトレーション(針入れ)法による測定)。このような測定に際しては、上記測定試料を利用する以外は、JIS K 7196(1991年)に記載の方法に準拠して、測定データに基づいて軟化温度を計算した。
<Measurement of softening temperature>
The softening temperature of the polyimide forming the film obtained in Example 1 and Comparative Example 1 was measured as follows. That is, a film made of polyimide having a size of 5 mm in length, 5 mm in width and 0.013 mm (13 μm) in thickness was prepared as a measurement sample, and a thermomechanical analyzer (trade name “TMA8311” manufactured by Rigaku) was used as a measurement device. The film was measured by inserting a transparent quartz pin (tip diameter: 0.5 mm) into the film under a nitrogen atmosphere under conditions of a temperature rising rate of 5 ° C./min and a temperature range of 30 ° C. to 550 ° C. (so-called penetration ( In such measurement, the softening temperature was calculated based on the measurement data in accordance with the method described in JIS K 7196 (1991) except that the above measurement sample was used. .

<5%重量減少温度の測定>
実施例1及び比較例1で得られたフィルムを形成するポリイミドの5%重量減少温度は、それぞれ、縦2mm、横2mm、厚み50μmのフィルム形状の試料を5枚準備し、これをアルミ製サンプルパンに入れ、測定装置としてTG/DTA7200熱重量分析装置(エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社製)を使用して、窒素ガスを流しながら、室温(25℃)から600℃の範囲で10℃/分の条件で加熱して、用いた試料の重量が5%減少する温度を測定することにより求めた。
<Measurement of 5% weight loss temperature>
The 5% weight reduction temperature of the polyimide forming the film obtained in Example 1 and Comparative Example 1 was prepared by preparing five film-shaped samples each having a length of 2 mm, a width of 2 mm, and a thickness of 50 μm. Put in a pan and use a TG / DTA7200 thermogravimetric analyzer (SII Nano Technology Co., Ltd.) as the measuring device, and flow 10 ° C / min in the range of room temperature (25 ° C) to 600 ° C while flowing nitrogen gas. The temperature was determined by measuring the temperature at which the weight of the sample used was reduced by 5%.

<延伸倍率の測定>
各実施例、各比較例で採用した延伸工程における延伸倍率は、室温(25℃)において、掴み代部分(縦10mm分)を除く縦(延伸)方向の延伸前の長さ(下記計算式(I)中において「L1」と示す。)と、掴み代部分を除く延伸後の縦(延伸)方向の長さ(下記計算式(I)中において「L2」と示す。)を測定し、下記計算式(I):
[延伸倍率]=[L2]/[L1] (I)
により算出した。すなわち、延伸に関与しない部分の長さは除外して、延伸に関与する部分の延伸前後の長さの比率により、延伸倍率を求めた。
(実施例1)
<脂環式テトラカルボン酸二無水物系モノマーの準備工程>
先ず、国際公開第2014/034760号の実施例1のモノマー合成工程に準拠して、下記一般式(14):
<Measurement of stretch ratio>
The stretching ratio in the stretching process employed in each example and each comparative example is the length before stretching in the longitudinal (stretching) direction excluding the grip allowance portion (for 10 mm length) at room temperature (25 ° C.) (the following calculation formula ( I)), and the length in the longitudinal (stretching) direction after stretching excluding the gripping portion (shown as “L2” in the following formula (I)) is measured. Formula (I):
[Stretch ratio] = [L2] / [L1] (I)
Calculated by That is, excluding the length of the portion not involved in stretching, the stretch ratio was determined from the ratio of the length before and after stretching of the portion involved in stretching.
Example 1
<Preparation process of alicyclic tetracarboxylic dianhydride monomer>
First, in accordance with the monomer synthesis step of Example 1 of International Publication No. 2014/034760, the following general formula (14):

で表されるトランス、エンド、エンド−ノルボルナン−2−スピロ−α−シクロペンタノン−α’−スピロ−2’’−ノルボルナン−5,5’’,6,6’’−テトラカルボン酸二無水物及び下記一般式(15): Trans, endo, endo-norbornane-2-spiro-α-cyclopentanone-α′-spiro-2 ″ -norbornane-5,5 ″, 6,6 ″ -tetracarboxylic dianhydride And the following general formula (15):

で表されるシス、エンド、エンド−ノルボルナン−2−スピロ−α−シクロペンタノン−α’−スピロ−2’’−ノルボルナン−5,5’’,6,6’’−テトラカルボン酸二無水物の混合物(脂環式テトラカルボン酸二無水物系モノマー:上記一般式(14)及び(15)で表される化合物の含有比率が99モル%(残りの成分はノルボルナン−2−スピロ−α−シクロペンタノン−α’−スピロ−2’’−ノルボルナン−5,5’’,6,6’’−テトラカルボン酸二無水物のトランス−エンド−エンド異性体及びシス−エンド−エンド異性体以外の他の異性体である。)であり、上記一般式(14)で表される化合物と上記一般式(15)で表される化合物のモル比([式(14)]:[式(15)])が63:37である混合物)を準備した。 Cis, endo, endo-norbornane-2-spiro-α-cyclopentanone-α′-spiro-2 ″ -norbornane-5,5 ″, 6,6 ″ -tetracarboxylic dianhydride A mixture of the compounds (alicyclic tetracarboxylic dianhydride monomer: 99 mol% of the compound represented by the above general formulas (14) and (15) (the remaining component is norbornane-2-spiro-α -Trans-endo-endo isomers and cis-endo-endo isomers of cyclopentanone-α'-spiro-2 ''-norbornane-5,5 '', 6,6 ''-tetracarboxylic dianhydride And a molar ratio of the compound represented by the general formula (14) and the compound represented by the general formula (15) ([formula (14)]: [formula ( 15)]) is a mixture of 63:37) It was.

なお、化合物中の異性体の同定はHPLC測定により行った値を採用した。このようなHPLC測定は、測定装置としてアジレントテクノロジー株式会社製の商品名「1200 Series」を用い、カラムとしてアジレントテクノロジー株式会社製の商品名「Eclipse XDB−C18(5μm、直径4.6mm、長さ150mm)」を用い、溶媒としてアセトニトリルと蒸留水との混合物(アセトニトリル/蒸留水=70ml/30ml)を用い、溶媒の流速を1ml/min.とし、ダイオードアレイ検出器(DAD)の検出波長を210nmに設定し、温度を35℃とし、試料として測定する化合物を溶媒1.5mlに対して1mg添加して調製したものを用いて行った。そして、トランス−エンド−エンド異性体及びシス−エンド−エンド異性体の総量(含有比率:純度)、及び、トランス−エンド−エンド異性体とシス−エンド−エンド異性体とのモル比は、HPLCの面積比より検量線(標準試料:ナフタレン)を用いて算出することにより求めた。   In addition, the value measured by HPLC measurement was employ | adopted for identification of the isomer in a compound. For such HPLC measurement, a trade name “1200 Series” manufactured by Agilent Technologies Inc. is used as a measuring device, and a trade name “Eclipse XDB-C18 (5 μm, diameter 4.6 mm, length) manufactured by Agilent Technologies Inc. is used as a column. 150 mm) ”, a mixture of acetonitrile and distilled water (acetonitrile / distilled water = 70 ml / 30 ml) was used as the solvent, and the flow rate of the solvent was 1 ml / min. The detection wavelength of the diode array detector (DAD) was set to 210 nm, the temperature was set to 35 ° C., and 1 mg of the compound to be measured as a sample was added to 1.5 ml of the solvent. The total amount of trans-endo-endo isomer and cis-endo-endo isomer (content ratio: purity), and the molar ratio of trans-endo-endo isomer to cis-endo-endo isomer were determined by HPLC. It calculated | required by calculating using a calibration curve (standard sample: naphthalene) from the area ratio.

<ポリアミド酸溶液の調製工程>
先ず、30mlの三口フラスコをヒートガンで加熱して十分に乾燥させた。次に、十分に乾燥させた前記三口フラスコ内の雰囲気ガスを窒素で置換して、前記三口フラスコ内を窒素雰囲気とした。次いで、前記三口フラスコ内に、4,4’−ジアミノベンズアニリド0.2045g(0.90mmol:日本純良薬品株式会社製:4,4’−DABAN)を添加した後、更に、N,N−ジメチルアセトアミドを2.7g添加して、撹拌することにより、前記N,N−ジメチルアセトアミド中に4,4’−ジアミノベンズアニリド(芳香族ジアミン化合物:4,4’−DABAN)を溶解させて溶解液を得た(なお、4,4’−DABANは一部溶解)。
<Preparation process of polyamic acid solution>
First, a 30 ml three-necked flask was heated with a heat gun and sufficiently dried. Next, the atmosphere gas in the three-necked flask that was sufficiently dried was replaced with nitrogen, and the inside of the three-necked flask was changed to a nitrogen atmosphere. Next, 0.2045 g (0.90 mmol: manufactured by Nippon Pure Chemicals Co., Ltd .: 4,4′-DABAN) was added to the three-necked flask, and then N, N-dimethyl was added. By adding 2.7 g of acetamide and stirring, 4,4′-diaminobenzanilide (aromatic diamine compound: 4,4′-DABAN) was dissolved in the N, N-dimethylacetamide to obtain a solution. (Note that 4,4′-DABAN was partially dissolved).

次に、前記溶解液を含有する三口フラスコ内に、窒素雰囲気下、上記一般式(14)及び(15)で表される混合物(脂環式テトラカルボン酸二無水物系モノマー)を0.3459g(0.90mmol)添加した後、窒素雰囲気下、室温(25℃)で12時間撹拌して、ポリアミド酸を形成し、反応液(ポリアミド酸溶液)を得た。このようにして溶媒(N,N−ジメチルアセトアミド)中においてポリアミド酸を形成して、反応液(ポリアミド酸溶液)を得た。   Next, 0.3459 g of the mixture (alicyclic tetracarboxylic dianhydride monomer) represented by the general formulas (14) and (15) is placed in a three-necked flask containing the solution under a nitrogen atmosphere. (0.90 mmol) was added, and the mixture was stirred at room temperature (25 ° C.) for 12 hours under a nitrogen atmosphere to form a polyamic acid to obtain a reaction solution (polyamic acid solution). Thus, polyamic acid was formed in the solvent (N, N-dimethylacetamide) to obtain a reaction liquid (polyamic acid solution).

なお、このようにして形成されたポリアミド酸の固有粘度[η]を、離合社製の自動粘度測定装置(商品名「VMC−252」)を用い、N,N−ジメチルアセトアミドを溶媒として、濃度0.5g/dLのポリアミド酸の測定試料を調整して、30℃の温度条件下において測定した。すなわち、前記反応液(ポリアミド酸溶液(溶媒:N,N−ジメチルアセトアミド))の一部を利用して、ポリアミド酸の濃度が0.5g/dLとなるN,N−ジメチルアセトアミド溶液を調製して、上記条件でポリアミド酸の固有粘度[η]を測定したところ、ポリアミド酸の固有粘度[η]は0.91dL/gであった。   In addition, the intrinsic viscosity [η] of the polyamic acid formed in this manner was measured using an automatic viscosity measuring apparatus (trade name “VMC-252”) manufactured by Koiso Co., Ltd., with N, N-dimethylacetamide as a solvent, A measurement sample of 0.5 g / dL of polyamic acid was prepared and measured under a temperature condition of 30 ° C. That is, using a part of the reaction solution (polyamic acid solution (solvent: N, N-dimethylacetamide)), an N, N-dimethylacetamide solution having a polyamic acid concentration of 0.5 g / dL was prepared. When the intrinsic viscosity [η] of the polyamic acid was measured under the above conditions, the intrinsic viscosity [η] of the polyamic acid was 0.91 dL / g.

<ポリイミドからなる第一のフィルムの調製工程>
上述のようにして得られた反応液(ポリアミド酸溶液)をガラス板(縦:75mm、横50mm、厚み1.3mm)上に、加熱硬化後の塗膜の厚みが13μmとなるようにスピンコートして、ガラス板上に塗膜を形成した。次に、前記塗膜の形成されたガラス板を60℃のホットプレート上に載せて2時間静置することで溶媒を蒸発させた。その後、前記塗膜(溶媒を蒸発させた後の塗膜)の形成されたガラス板を3L/分の流量で窒素が流れている250mm角イナートオーブン中に投入して、窒素雰囲気下、25℃の温度条件において0.5時間静置した後、135℃の温度条件で0.5時間加熱し、更に、370℃の温度条件で1時間加熱して塗膜を硬化せしめ、ガラス板上にポリイミドからなる第一のフィルムを形成した。次いで、前記ポリイミドからなる第一のフィルムの形成されたガラス板をイナートオーブンから取り出し、90℃の水に10分間浸漬し、ガラス板上からポリイミドからなる第一のフィルムを剥離して回収し、ポリイミドからなる第一のフィルム(色:無色透明、大きさ:縦75mm、横50mm、厚み13μm)を得た。
<Preparation process of first film made of polyimide>
Spin coat the reaction solution (polyamic acid solution) obtained as described above on a glass plate (length: 75 mm, width 50 mm, thickness 1.3 mm) so that the thickness of the heat-cured coating film is 13 μm. Then, a coating film was formed on the glass plate. Next, the glass plate on which the coating film was formed was placed on a hot plate at 60 ° C. and allowed to stand for 2 hours to evaporate the solvent. Thereafter, the glass plate on which the coating film (coating film after evaporation of the solvent) was formed was put into a 250 mm square inert oven in which nitrogen was flowing at a flow rate of 3 L / min. The film was allowed to stand for 0.5 hour under the temperature conditions of 0.5 ° C., then heated for 0.5 hours under the temperature condition of 135 ° C., and further heated for 1 hour under the temperature condition of 370 ° C. A first film consisting of was formed. Next, the glass plate on which the first film made of polyimide is formed is taken out from an inert oven, immersed in water at 90 ° C. for 10 minutes, and the first film made of polyimide is peeled off from the glass plate and collected. A first film made of polyimide (color: colorless and transparent, size: length 75 mm, width 50 mm, thickness 13 μm) was obtained.

<ポリイミドフィルム(第二のフィルム:延伸後のフィルム)の調製工程>
前記ポリイミドからなる第一のフィルムの横50mmの辺の一方を固定した後、更に、横50mmの辺のもう一方(固定されている側の辺とは反対側の辺の部分)に、重さ50gの錘をぶら下げて、3L/分の流量で窒素が流れているイナートオーブン中に設置した。その後、イナートオーブン中、酸素の含有量が20ppm未満となるような窒素雰囲気下において、400℃(加熱時の最高温度)になるまで加熱(加熱時の昇温速度5℃/分)して、錘の重さにより前記第一のフィルムを延伸した後、イナートオーブンの内部の温度条件を室温(25℃)に戻して、フィルムを自然放冷し、ポリイミドフィルム(第二のフィルム:延伸後のフィルム)を得た。このようなフィルムに関して、前述の方法で、室温(25℃)において延伸前後の長さ(第一のフィルム及び第二のフィルムの長さ(固定時の掴み代部分を除く長さ))をそれぞれ測定して、延伸倍率を計算した結果、延伸倍率は1.0149倍であった。
<Preparation process of polyimide film (second film: stretched film)>
After fixing one side of the first film made of polyimide having a width of 50 mm, the weight is further applied to the other side of the side having a width of 50 mm (a portion on the side opposite to the fixed side). A 50 g weight was suspended and placed in an inert oven in which nitrogen was flowing at a flow rate of 3 L / min. Then, in an inert oven, under a nitrogen atmosphere in which the oxygen content is less than 20 ppm, heat to 400 ° C. (maximum temperature during heating) (heating rate at heating 5 ° C./min), After stretching the first film by the weight of the weight, the temperature condition inside the inert oven is returned to room temperature (25 ° C.), the film is allowed to cool naturally, and a polyimide film (second film: after stretching) Film). With respect to such a film, the length before and after stretching (the length of the first film and the second film (the length excluding the grip portion at the time of fixation)) at room temperature (25 ° C.) by the above-described method, respectively. As a result of measuring and calculating the draw ratio, the draw ratio was 1.0149 times.

なお、得られたポリイミドフィルム(第二のフィルム:延伸フィルム)を構成する化合物のIRスペクトルを測定した。得られた化合物のIRスペクトルを図3に示す。図3に示す結果からも明らかなように、得られた化合物においては、1697cm−1にイミドカルボニルのC=O伸縮振動が確認され、得られた化合物がポリイミドであることが確認された。 In addition, IR spectrum of the compound which comprises the obtained polyimide film (2nd film: stretched film) was measured. The IR spectrum of the obtained compound is shown in FIG. As apparent from the results shown in FIG. 3, in the obtained compound, C═O stretching vibration of imide carbonyl was confirmed at 1697 cm −1, and it was confirmed that the obtained compound was polyimide.

さらに、このようにして得られたポリイミドフィルム(第二のフィルム:延伸後のフィルム)を利用して、前述のようにしてポリイミドの線膨張係数を測定した。このような測定の結果、フィルムを形成するポリイミドの350℃の線膨張係数(349〜351℃の間の平均線膨張係数)は5.8ppm/Kであり、50℃〜400℃の平均線膨張係数は7.5ppm/Kであり、50℃〜200℃の平均線膨張係数は8.3ppm/Kであった。得られた結果を表1に示す。また、線膨張係数の測定時により求められるポリイミドフィルム(第二のフィルム:延伸後のフィルム)の長さの変化と、温度との関係を示すグラフを図4に示す。   Furthermore, using the polyimide film thus obtained (second film: stretched film), the linear expansion coefficient of polyimide was measured as described above. As a result of such measurement, the linear expansion coefficient at 350 ° C. of the polyimide forming the film (average linear expansion coefficient between 349 and 351 ° C.) is 5.8 ppm / K, and the average linear expansion between 50 ° C. and 400 ° C. The coefficient was 7.5 ppm / K, and the average linear expansion coefficient from 50 ° C. to 200 ° C. was 8.3 ppm / K. The obtained results are shown in Table 1. Moreover, the graph which shows the relationship between the change of the length of the polyimide film (2nd film: film after extending | stretching) calculated | required at the time of the measurement of a linear expansion coefficient, and temperature is shown in FIG.

さらに、得られたフィルムを形成するポリイミドの軟化温度と5%重量減少温度とを前述の方法で測定したところ、ポリイミドのペネトレーション法による軟化温度は502℃であり、5%重量減少温度は482℃であった。なお、得られたポリイミドフィルムは、無色透明であり、十分に透明性の高いものであった。   Further, when the softening temperature and 5% weight reduction temperature of the polyimide forming the obtained film were measured by the above-mentioned methods, the softening temperature of the polyimide by the penetration method was 502 ° C., and the 5% weight reduction temperature was 482 ° C. Met. In addition, the obtained polyimide film was colorless and transparent, and was sufficiently high in transparency.

また、得られたフィルムを形成するポリイミドのガラス転移温度を、測定装置として示差走査熱量計(エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社製の商品名「DSC7020」)を使用し、走査温度を30℃から500℃に設定し、昇温速度:10℃/分及び降温速度:30℃/分の条件で、窒素雰囲気下において測定したものの、500℃までガラス転移温度が観測されなかった。このような結果から、得られたフィルムを形成するポリイミドのガラス転移温度は500℃以下には無いことが分かる。   Moreover, the glass transition temperature of the polyimide which forms the obtained film is measured using a differential scanning calorimeter (trade name “DSC7020” manufactured by SII Nano Technology Co., Ltd.) as a measuring device, and the scanning temperature is from 30 ° C. to 500 ° C. The glass transition temperature was not observed up to 500 ° C., although it was measured in a nitrogen atmosphere under the conditions of temperature rise rate: 10 ° C./min and temperature drop rate: 30 ° C./min. From these results, it can be seen that the glass transition temperature of the polyimide forming the obtained film is not below 500 ° C.

(実施例2)
ポリイミドフィルム(第二のフィルム:延伸後のフィルム)の調製工程において、延伸時の加熱温度(加熱時の最高温度)を400℃から380℃に変更した以外は、実施例1で採用した方法と同様の方法を採用してポリイミドフィルム(第二のフィルム:延伸後のフィルム)を得た。このようなポリイミドフィルムの特性の評価結果を表1に示す。なお、得られたポリイミドフィルムは、無色透明であり、十分に透明性の高いものであった。
(Example 2)
In the process of preparing a polyimide film (second film: film after stretching), the heating temperature during stretching (maximum temperature during heating) was changed from 400 ° C. to 380 ° C. A polyimide film (second film: stretched film) was obtained by employing the same method. Table 1 shows the evaluation results of the characteristics of such a polyimide film. In addition, the obtained polyimide film was colorless and transparent, and was sufficiently high in transparency.

(実施例3)
ポリイミドフィルム(第二のフィルム:延伸後のフィルム)の調製工程において、延伸時の加熱温度(加熱時の最高温度)を400℃から420℃に変更した以外は、実施例1で採用した方法と同様の方法を採用してポリイミドフィルム(第二のフィルム:延伸後のフィルム)を得た。このようなポリイミドフィルムの特性の評価結果を表1に示す。なお、得られたポリイミドフィルムは、無色透明であり、十分に透明性の高いものであった。
(Example 3)
In the process of preparing a polyimide film (second film: film after stretching), the heating temperature during stretching (maximum temperature during heating) was changed from 400 ° C. to 420 ° C., and the method employed in Example 1 A polyimide film (second film: stretched film) was obtained by employing the same method. Table 1 shows the evaluation results of the characteristics of such a polyimide film. In addition, the obtained polyimide film was colorless and transparent, and was sufficiently high in transparency.

(実施例4)
ポリイミドフィルム(第二のフィルム:延伸後のフィルム)の調製工程において、前記ポリイミドからなる第一のフィルムの横50mmの辺にぶら下げる錘の重さを50gから25gに変更した以外は、実施例1で採用した方法と同様の方法を採用してポリイミドフィルム(第二のフィルム:延伸後のフィルム)を得た。このようなポリイミドフィルムの特性の評価結果を表1に示す。なお、得られたポリイミドフィルムは、無色透明であり、十分に透明性の高いものであった。
Example 4
Example 1 except that in the preparation process of the polyimide film (second film: stretched film), the weight of the weight hanging from the side of the first film made of polyimide was changed from 50 g to 25 g. The polyimide film (2nd film: film after extending | stretching) was obtained by employ | adopting the method similar to the method employ | adopted by. Table 1 shows the evaluation results of the characteristics of such a polyimide film. In addition, the obtained polyimide film was colorless and transparent, and was sufficiently high in transparency.

(実施例5)
ポリイミドフィルム(第二のフィルム:延伸後のフィルム)の調製工程において、前記ポリイミドからなる第一のフィルムの横50mmの辺にぶら下げる錘の重さを50gから100gに変更した以外は、実施例1で採用した方法と同様の方法を採用してポリイミドフィルム(第二のフィルム:延伸後のフィルム)を得た。このようなポリイミドフィルムの特性の評価結果を表1に示す。なお、得られたポリイミドフィルムは、無色透明であり、十分に透明性の高いものであった。
(Example 5)
Example 1 except that the weight of the weight hanging from the side of the first film made of polyimide was changed from 50 g to 100 g in the preparation process of the polyimide film (second film: film after stretching). The polyimide film (2nd film: film after extending | stretching) was obtained by employ | adopting the method similar to the method employ | adopted by. Table 1 shows the evaluation results of the characteristics of such a polyimide film. In addition, the obtained polyimide film was colorless and transparent, and was sufficiently high in transparency.

(実施例6)
ポリイミドフィルム(第二のフィルム:延伸後のフィルム)の調製工程において、前記ポリイミドからなる第一のフィルムの横50mmの辺にぶら下げる錘の重さを50gから200gに変更した以外は、実施例1で採用した方法と同様の方法を採用してポリイミドフィルム(第二のフィルム:延伸後のフィルム)を得た。このようなポリイミドフィルムの特性の評価結果を表1に示す。なお、得られたポリイミドフィルムは、無色透明であり、十分に透明性の高いものであった。
(Example 6)
Example 1 except that the weight of the weight hanging on the side 50 mm wide of the first film made of polyimide was changed from 50 g to 200 g in the preparation process of the polyimide film (second film: film after stretching). The polyimide film (2nd film: film after extending | stretching) was obtained by employ | adopting the method similar to the method employ | adopted by. Table 1 shows the evaluation results of the characteristics of such a polyimide film. In addition, the obtained polyimide film was colorless and transparent, and was sufficiently high in transparency.

(比較例1)
ポリイミドフィルム(第二のフィルム:延伸後のフィルム)の調製工程を実施しなかった以外は実施例1で採用した方法と同様の方法を採用して比較のためのポリイミドフィルムを得た。すなわち、実施例1に記載のポリイミドからなる第一のフィルムの調製工程により得られた、ポリイミドからなる第一のフィルム(色:無色透明、大きさ:縦75mm、横50mm、厚み13μm)を、そのまま比較のためのポリイミドフィルム(未延伸のフィルム)とした。
(Comparative Example 1)
A polyimide film for comparison was obtained by adopting the same method as that employed in Example 1 except that the step of preparing the polyimide film (second film: film after stretching) was not performed. That is, the first film made of polyimide (color: colorless and transparent, size: length 75 mm, width 50 mm, thickness 13 μm) obtained by the step of preparing the first film made of polyimide described in Example 1, A polyimide film (unstretched film) for comparison was used as it was.

このようなポリイミドフィルムの特性の評価結果を表1に示す。また、線膨張係数の測定時により求められるポリイミドフィルム(第二のフィルム:延伸後のフィルム)の長さの変化と、温度との関係を示すグラフを図5に示す。さらに、得られたフィルムを形成するポリイミドの軟化温度と5%重量減少温度とを前述の方法で測定したところ、ポリイミドのペネトレーション法による軟化温度は501℃であり、5%重量減少温度は482℃であった。   Table 1 shows the evaluation results of the characteristics of such a polyimide film. Moreover, the graph which shows the relationship between the change of the length of the polyimide film (2nd film: film after extending | stretching) calculated | required at the time of the measurement of a linear expansion coefficient, and temperature is shown in FIG. Furthermore, when the softening temperature and 5% weight reduction temperature of the polyimide forming the obtained film were measured by the above-described methods, the softening temperature of the polyimide by the penetration method was 501 ° C., and the 5% weight reduction temperature was 482 ° C. Met.

(比較例2)
ポリイミドフィルム(第二のフィルム:延伸後のフィルム)の調製工程において、錘をぶら下げなかった以外は、実施例1で採用した方法と同様の方法を採用して、比較のためのポリイミドフィルムを得た。すなわち、実施例1に記載の「ポリイミドからなる第一のフィルムの調製工程」により得られた、ポリイミドからなる第一のフィルム(色:無色透明、大きさ:縦75mm、横50mm、厚み13μm)を、荷重の無い条件で400℃で熱処理して、比較のためのポリイミドフィルム(未延伸のフィルム)とした。
(Comparative Example 2)
In the process of preparing a polyimide film (second film: stretched film), a polyimide film for comparison was obtained by adopting the same method as that employed in Example 1 except that the weight was not hung. It was. That is, the first film made of polyimide obtained by the “preparing step of the first film made of polyimide” described in Example 1 (color: colorless and transparent, size: length 75 mm, width 50 mm, thickness 13 μm). Was subjected to heat treatment at 400 ° C. under no load to obtain a polyimide film (unstretched film) for comparison.

このようなポリイミドフィルム(未延伸のフィルム)の特性の評価結果を表1に示す。なお、得られたポリイミドフィルムは、無色透明であり、十分に透明性の高いものであった。   Table 1 shows the evaluation results of the characteristics of such a polyimide film (unstretched film). In addition, the obtained polyimide film was colorless and transparent, and was sufficiently high in transparency.

(比較例3)
ポリイミドフィルム(第二のフィルム:延伸後のフィルム)の調製工程において、400℃まで加熱した後、400℃に維持して、前記ポリイミドからなる第一のフィルムの横50mmの辺にぶら下げる錘の重さを50gから増加させて(荷重を増して)、破断点を確認したところ、錘の重さを700gとした際に(700g荷重で)、フィルムが破断することが確認された。なお、錘の重さを700gとした際に得られた破断フィルムの長さより延伸倍率を求めたところ、延伸倍率は1.0680倍であることが分かった。得られた結果を表1に示す。
(Comparative Example 3)
In the process of preparing a polyimide film (second film: stretched film), after heating to 400 ° C., the weight of the weight hanging on the side of 50 mm across the first film made of polyimide is maintained at 400 ° C. When the thickness was increased from 50 g (the load was increased) and the breaking point was confirmed, it was confirmed that the film was broken when the weight of the weight was 700 g (at a load of 700 g). In addition, when the draw ratio was calculated | required from the length of the fractured film obtained when the weight of the weight was 700 g, it was found that the draw ratio was 1.0680 times. The obtained results are shown in Table 1.

(比較例4)
ポリイミドフィルム(第二のフィルム:延伸後のフィルム)の調製工程において、延伸時の加熱温度(加熱時の最高温度)を400℃から360℃に変更した以外は、実施例1で採用した方法と同様の方法を採用してポリイミドフィルム(第二のフィルム:延伸後のフィルム)を得た。このようなポリイミドフィルム(未延伸のフィルム)の特性の評価結果を表1に示す。なお、得られたポリイミドフィルムは、無色透明であり、十分に透明性の高いものであった。
(Comparative Example 4)
In the process of preparing a polyimide film (second film: film after stretching), the heating temperature during stretching (maximum temperature during heating) was changed from 400 ° C. to 360 ° C., and the method employed in Example 1 A polyimide film (second film: stretched film) was obtained by employing the same method. Table 1 shows the evaluation results of the characteristics of such a polyimide film (unstretched film). In addition, the obtained polyimide film was colorless and transparent, and was sufficiently high in transparency.

表1に示す結果からも明らかなように、本発明のポリイミドフィルムの製造方法を利用してポリイミドフィルムを製造した場合(実施例1〜6)においては、得られるポリイミドフィルムはいずれも、350℃の線膨張係数が10ppm/℃以下であり、かつ、50℃〜400℃の温度範囲における平均線膨張係数が15ppm/℃以下であった。これに対して、比較例1及び2のように延伸をしなかった場合においては、得られたフィルム(未延伸のフィルム)の50〜200℃の温度範囲における線膨張係数は十分に低い値となっていたものの、350℃の線膨張係数はそれぞれ、89.8ppm/℃(比較例1)、19.0ppm/℃(比較例2)となっており、本発明のポリイミドフィルム(実施例1〜6)と比較して、高温における線膨張係数の増加を十分に抑制できないことが分かった。また、延伸工程を施した場合においても、700g荷重での延伸した場合(比較例3)には、フィルムが破断して、延伸フィルムを形成することができなかった。また、360℃の雰囲気温度での延伸した場合(比較例4)では、実施例1〜3と同じ荷重で延伸して、延伸倍率が1.0079倍となっていても、得られるポリイミドの350℃の線膨張係数は11.4ppm/℃となっており、更には、50℃〜400℃の温度範囲における平均線膨張係数が23.1ppm/℃となっており、350℃以上の高温における線膨張係数の増大を必ずしも十分に抑制できないことが分かった。このような比較例2及び4の結果から、第一のフィルムを400℃に加熱しても延伸しなかった場合(比較例2)には、高温での線膨張係数の増加を必ずしも十分に抑制することができず、また、第一のフィルムを延伸したとしても、延伸時の雰囲気温度を360℃とした場合(比較例4)には、やはり高温での線膨張係数の増加を必ずしも十分に抑制することができないことが分かった。このような結果は、延伸温度や延伸荷重によってポリマーの分子鎖の配向状態が変化することに起因するものであると本発明者らは推察する。なお、実施例1及び比較例1で得られたポリイミドフィルムの5%重量減少温度と軟化温度の測定結果を考慮すれば、各実施例及び各比較例で得られたポリイミドフィルムはいずれも、十分に高度な耐熱性を有するものであることが分かる。また、表1に示す結果から、荷重や温度の増加と、延伸倍率の値と関係を考慮すると、同じ雰囲気温度で荷重を増加して延伸倍率が低下している場合なども見られるが、これは、延伸後、室温(25℃)まで冷却する際にフィルムに収縮が生じることに起因するものと本発明者らは推察する。すなわち、延伸工程において採用する荷重や温度の差によって、フィルム内部の配向状態は異なるものとなるため、冷却時に必ずしも一様な収縮をするものではなく、延伸後においては、そのフィルム中の成分の配向状態に応じた収縮が生じることから、荷重を増加して延伸したものが、より低い荷重により延伸した場合よりも、結果的に延伸倍率が低くなることもあるため、上述のような結果が得られたものと本発明者らは推察する。なお、上述の結果から、370〜450℃の雰囲気温度で、延伸倍率が1.0001〜1.050倍となるようにして延伸する工程を実施した場合には、高温での線膨張係数を十分に低いものとすることが可能となることが分かった。   As is clear from the results shown in Table 1, when the polyimide film was produced using the method for producing a polyimide film of the present invention (Examples 1 to 6), all the obtained polyimide films were 350 ° C. The linear expansion coefficient was 10 ppm / ° C. or less, and the average linear expansion coefficient in the temperature range of 50 ° C. to 400 ° C. was 15 ppm / ° C. or less. On the other hand, when the film was not stretched as in Comparative Examples 1 and 2, the linear expansion coefficient in the temperature range of 50 to 200 ° C. of the obtained film (unstretched film) was a sufficiently low value. However, the linear expansion coefficients at 350 ° C. were 89.8 ppm / ° C. (Comparative Example 1) and 19.0 ppm / ° C. (Comparative Example 2), respectively. As compared with 6), it was found that the increase in the linear expansion coefficient at high temperature could not be sufficiently suppressed. In addition, even when the stretching process was performed, when the film was stretched with a load of 700 g (Comparative Example 3), the film was broken and a stretched film could not be formed. In the case where the film was stretched at an atmospheric temperature of 360 ° C. (Comparative Example 4), even when the film was stretched with the same load as in Examples 1 to 3 and the stretch ratio was 1.0079, 350 The linear expansion coefficient at 1 ° C is 11.4 ppm / ° C. Furthermore, the average linear expansion coefficient in the temperature range of 50 ° C to 400 ° C is 23.1 ppm / ° C, and the linear expansion coefficient at 350 ° C or higher is high. It has been found that an increase in the expansion coefficient cannot always be sufficiently suppressed. From the results of Comparative Examples 2 and 4, when the first film was not stretched even when heated to 400 ° C. (Comparative Example 2), the increase in the linear expansion coefficient at high temperature was not necessarily sufficiently suppressed. In addition, even when the first film is stretched, if the atmospheric temperature during stretching is 360 ° C. (Comparative Example 4), the increase in the linear expansion coefficient at high temperature is not always sufficient. It turns out that it cannot be suppressed. The present inventors speculate that such a result is caused by the change in the orientation state of the molecular chain of the polymer depending on the stretching temperature and the stretching load. In addition, if the measurement result of the 5% weight reduction | decrease temperature and softening temperature of the polyimide film obtained in Example 1 and Comparative Example 1 is considered, all the polyimide films obtained in each Example and each Comparative Example are sufficient. It can be seen that it has a high heat resistance. In addition, from the results shown in Table 1, when considering the relationship between the increase in load and temperature and the value of the draw ratio, there are cases where the load is increased at the same atmospheric temperature and the draw ratio is decreased. The inventors speculate that this is caused by shrinkage of the film when it is cooled to room temperature (25 ° C.) after stretching. That is, because the orientation state inside the film differs depending on the load and temperature difference employed in the stretching process, it does not necessarily shrink uniformly during cooling, and after stretching, the components in the film Since shrinkage occurs in accordance with the orientation state, the stretch ratio may be lower than the stretched one with a higher load than when stretched with a lower load. The present inventors speculate that it was obtained. In addition, from the above-mentioned results, when the step of stretching was carried out at an atmospheric temperature of 370 to 450 ° C. so that the stretching ratio was 1.0001 to 1.050, the linear expansion coefficient at a high temperature was sufficient. It has been found that it is possible to make it low.

また、図4及び5に示す結果からも明らかなように、比較例1で得られたポリイミドフィルムにおいては、350℃付近を超えた辺りから400℃程度の温度領域において、フィルムの長さが増加する割合が急激に増加しているのに対して、実施例1で得られたポリイミドフィルム(本発明のポリイミドフィルム)においては、350℃を超えた付近から400℃程度の領域までの温度領域においても、フィルムの長さが増加する割合に急激な変化はなかった。このような結果から、実施例1で得られたポリイミドフィルム(本発明のポリイミドフィルム)においては、高温での線膨張係数の増加を十分に抑制することができ、高温での線膨張係数が十分に低いものとなることが分かった。   Further, as is clear from the results shown in FIGS. 4 and 5, in the polyimide film obtained in Comparative Example 1, the film length increases in the temperature range from around 350 ° C. to about 400 ° C. In the polyimide film obtained in Example 1 (polyimide film of the present invention), the ratio to be increased rapidly, in the temperature range from around 350 ° C. to about 400 ° C. However, there was no abrupt change in the rate of film length increase. From these results, in the polyimide film obtained in Example 1 (polyimide film of the present invention), an increase in the linear expansion coefficient at high temperatures can be sufficiently suppressed, and the linear expansion coefficient at high temperatures is sufficient. It turned out to be low.

以上説明したように、本発明によれば、光透過性や耐熱性に優れ、しかも高温での線膨張係数が十分に低いポリイミドフィルム及びその製造方法を提供することが可能となる。更に、本発明によれば、前記ポリイミドフィルムからなる、フレキシブル配線基板、透明電極用基板及び液晶配向膜積層用基板を提供することが可能となる。   As described above, according to the present invention, it is possible to provide a polyimide film excellent in light transmittance and heat resistance, and having a sufficiently low linear expansion coefficient at high temperature, and a method for producing the same. Furthermore, according to this invention, it becomes possible to provide the flexible wiring board which consists of the said polyimide film, the board | substrate for transparent electrodes, and the board | substrate for liquid crystal aligning film lamination | stacking.

このような本発明のポリイミドフィルムは、光透過性や耐熱性に優れ、しかも高温での線膨張係数が十分に低いものとなるため、例えば、フレキシブル配線基板、透明電極用基板(例えば、タッチパネルや太陽電池の透明電極を積層させるための基板フィルム、表示装置(有機EL表示装置、液晶表示装置等)の透明電極を積層させるための基板フィルム等)などの用途に用いるフィルムの他、FPC(フレキシブルプリント回路基板)、光導波路、イメージセンサー、LED反射板、LEDリフレクター、LED照明用カバー、スケルトン型FPC、カバーレイフィルム、チップオンフィルム、高延性複合体基板、液晶配向膜、ポリイミドコーティング材(DRAM、フラッシュメモリ、次世代LSIなどのバッファーコート材)、半導体向けレジスト、リチウムイオンバッテリー、各種の電材等の用途に用いるフィルム、有機ELディスプレイ用基板、有機EL照明用基板、水蒸気バリアフィルム基板、空気バリアフィルム基板、有機メモリ用基板、有機トランジスタ用基板、有機半導体用基板、複写機用ベルト、フレキシブルディスプレイ用フロントフィルム、フレキシブルディスプレイ用バックフィルム、フレキシブルディスプレイ用ハードコートフィルム等として特に有用である。   Such a polyimide film of the present invention is excellent in light transmittance and heat resistance and has a sufficiently low linear expansion coefficient at high temperatures. For example, a flexible wiring board, a transparent electrode substrate (for example, a touch panel or In addition to films used for applications such as a substrate film for laminating transparent electrodes of solar cells and a substrate film for laminating transparent electrodes of display devices (organic EL display devices, liquid crystal display devices, etc.), FPC (flexible Printed circuit board), optical waveguide, image sensor, LED reflector, LED reflector, LED illumination cover, skeleton FPC, cover lay film, chip on film, high ductility composite substrate, liquid crystal alignment film, polyimide coating material (DRAM) , Flash memory, buffer coating materials such as next generation LSI), semiconductor Resist, lithium ion battery, film used for various electric materials, organic EL display substrate, organic EL lighting substrate, water vapor barrier film substrate, air barrier film substrate, organic memory substrate, organic transistor substrate, organic It is particularly useful as a semiconductor substrate, a belt for copying machines, a front film for flexible displays, a back film for flexible displays, a hard coat film for flexible displays, and the like.

Claims (12)

下記一般式(1)及び(2):
[式(1)及び(2)中、R、R、Rは、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜10のアルキル基及びフッ素原子よりなる群から選択される1種を示し、Rは炭素数6〜40のアリール基を示し、nは0〜12の整数を示す。]
で表される繰り返し単位のうちの少なくとも1種を含有し、
前記一般式(1)及び(2)で表される繰り返し単位の総量が全繰り返し単位に対して90モル%以上であり、
350℃の線膨張係数が10ppm/℃以下であり、かつ、
窒素雰囲気下、昇温速度5℃/分の条件で50℃〜400℃の温度範囲において長さの変化を測定して求められる平均線膨張係数が15ppm/℃以下である、
ポリイミドからなるフィルムであることを特徴とするポリイミドフィルム。
The following general formulas (1) and (2):
[In the formulas (1) and (2), R 1 , R 2 and R 3 each independently represent one selected from the group consisting of a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms and a fluorine atom. , R 4 represents an aryl group having 6 to 40 carbon atoms, and n represents an integer of 0 to 12. ]
Containing at least one of the repeating units represented by:
The total amount of the repeating units represented by the general formulas (1) and (2) is 90 mol% or more based on all repeating units,
The linear expansion coefficient at 350 ° C. is 10 ppm / ° C. or less, and
The average linear expansion coefficient determined by measuring the change in length in the temperature range of 50 ° C. to 400 ° C. under a temperature increase rate of 5 ° C./min under a nitrogen atmosphere is 15 ppm / ° C. or less.
A polyimide film characterized by being a film made of polyimide.
前記ポリイミドの350℃の線膨張係数が1〜10ppm/℃であることを特徴とする請求項1に記載のポリイミドフィルム。   2. The polyimide film according to claim 1, wherein the polyimide has a linear expansion coefficient at 350 ° C. of 1 to 10 ppm / ° C. 3. 前記一般式(1)及び(2)中のRが、下記一般式(3)〜(6):
[式(5)中、Rは、水素原子、フッ素原子、メチル基、エチル基及びトリフルオロメチル基よりなる群から選択される1種を示し、式(6)中、Qは、式:−O−、−S−、−CO−、−CONH−、−C−、−COO−、−SO−、−C(CF−、−C(CH−、−CH−、−O−C−C(CH-C−O−、−O−C−SO-C−O−、−C(CH−C−C(CH−、−O−C−C−O−及び−O−C−O−で表される基よりなる群から選択される1種を示す。]
で表される基のうちの1種であることを特徴とする請求項1又は2に記載のポリイミドフィルム。
R 4 in the general formulas (1) and (2) is represented by the following general formulas (3) to (6):
[In the formula (5), R 5 represents one selected from the group consisting of a hydrogen atom, a fluorine atom, a methyl group, an ethyl group and a trifluoromethyl group, and in the formula (6), Q is a formula: -O -, - S -, - CO -, - CONH -, - C 6 H 4 -, - COO -, - SO 2 -, - C (CF 3) 2 -, - C (CH 3) 2 -, -CH 2 -, - O-C 6 H 4 -C (CH 3) 2 -C 6 H 4 -O -, - O-C 6 H 4 -SO 2 -C 6 H 4 -O -, - C ( CH 3) 2 -C 6 H 4 -C (CH 3) 2 -, - from O-C 6 H 4 -C 6 H 4 -O- and -O-C 6 group represented by H 4 -O- 1 type selected from the group consisting of ]
The polyimide film according to claim 1, wherein the polyimide film is one type of a group represented by the formula:
下記一般式(7):
[式(7)中、R、R、Rは、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜10のアルキル基及びフッ素原子よりなる群から選択される1種を示し、Rは炭素数6〜40のアリール基を示し、nは0〜12の整数を示す。]
で表される脂環式テトラカルボン酸二無水物(A)及び下記一般式(8):
[式(8)中、R、R、R、nは前記一般式(7)中のR、R、R、nと同義である。]
で表される脂環式テトラカルボン酸二無水物(B)のうちの少なくとも1種を含有し、且つ、前記脂環式テトラカルボン酸二無水物(A)及び(B)の総量が90モル%以上である脂環式テトラカルボン酸二無水物系モノマーと、
下記一般式(9):
[式(9)中、Rは炭素数6〜40のアリール基を示す。]
で表される芳香族ジアミンとを反応させて得られる、下記一般式(10)及び(11):
[式(10)及び(11)中、R、R、R、nは前記一般式(7)中のR、R、R、nと同義であり、Rは前記一般式(9)中のRと同義である。]
で表される繰り返し単位を少なくとも1種含有し且つ前記一般式(10)及び(11)で表される繰り返し単位の総量が90モル%以上のポリアミド酸を含有するポリアミド酸溶液を用いて、下記一般式(1)及び(2):
[式(1)及び(2)中、R、R、Rは、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜10のアルキル基及びフッ素原子よりなる群から選択される1種を示し、Rは炭素数6〜40のアリール基を示し、nは0〜12の整数を示す。]
で表される繰り返し単位のうちの少なくとも1種を含有し、かつ、前記一般式(1)及び(2)で表される繰り返し単位の総量が全繰り返し単位に対して90モル%以上であるポリイミドからなる第一のフィルムを得る工程と、
前記第一のフィルムを、不活性ガス雰囲気下において、370〜450℃の雰囲気温度で、延伸倍率が1.0001〜1.050倍となるようにして延伸することにより第二のフィルムを形成して、ポリイミドフィルムを得る工程と、
を含むことを特徴とするポリイミドフィルムの製造方法。
The following general formula (7):
Wherein (7), R 1, R 2, R 3 are each independently a hydrogen atom, represents one selected from the group consisting of alkyl groups and fluorine atom having 1 to 10 carbon atoms, R 4 is An aryl group having 6 to 40 carbon atoms is shown, and n is an integer of 0 to 12. ]
An alicyclic tetracarboxylic dianhydride (A) represented by the following general formula (8):
Wherein (8), R 1, R 2, R 3, n are as defined R 1, R 2, R 3 , n in the general formula (7). ]
At least one of the alicyclic tetracarboxylic dianhydrides (B) represented by the formula (1) and the total amount of the alicyclic tetracarboxylic dianhydrides (A) and (B) is 90 mol. % Alicyclic tetracarboxylic dianhydride monomer,
The following general formula (9):
[In the formula (9), R 4 represents an aryl group having 6 to 40 carbon atoms. ]
The following general formulas (10) and (11) obtained by reacting with an aromatic diamine represented by:
In formula (10) and (11), R 1, R 2, R 3, n has the same meaning as R 1, R 2, R 3 , n in the general formula (7), R 4 is the general the same meaning as R 4 in the formula (9). ]
Using a polyamic acid solution containing at least one type of repeating unit represented by formula (10) and a polyamic acid containing a polyamic acid having a total amount of repeating units represented by the general formulas (10) and (11) of 90 mol% or more, General formula (1) and (2):
[In the formulas (1) and (2), R 1 , R 2 and R 3 each independently represent one selected from the group consisting of a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms and a fluorine atom. , R 4 represents an aryl group having 6 to 40 carbon atoms, and n represents an integer of 0 to 12. ]
Polyimide containing at least one of the repeating units represented by the formula (1) and the total amount of the repeating units represented by the general formulas (1) and (2) being 90 mol% or more based on all repeating units. Obtaining a first film comprising:
The first film is stretched in an inert gas atmosphere at an atmospheric temperature of 370 to 450 ° C. so that the stretching ratio is 1.0001 to 1.050, thereby forming a second film. And obtaining a polyimide film,
The manufacturing method of the polyimide film characterized by including.
前記第一のフィルムを延伸する際に、前記延伸倍率が1.0005〜1.030倍となるようにして延伸することを特徴とする請求項4に記載のポリイミドフィルムの製造方法。   5. The method for producing a polyimide film according to claim 4, wherein when the first film is stretched, the first film is stretched so that the stretching ratio is 1.0005 to 1.030 times. 前記ポリイミドフィルムが、350℃の線膨張係数が10ppm/℃以下であり、かつ、窒素雰囲気下、昇温速度5℃/分の条件で50℃〜400℃の温度範囲において長さの変化を測定して求められる平均線膨張係数が15ppm/℃以下である、ポリイミドからなることを特徴とする請求項4又は5に記載のポリイミドフィルムの製造方法。   The polyimide film has a linear expansion coefficient at 350 ° C. of 10 ppm / ° C. or less, and the change in length is measured in a temperature range of 50 ° C. to 400 ° C. under a temperature increase rate of 5 ° C./min in a nitrogen atmosphere. 6. The method for producing a polyimide film according to claim 4, wherein the polyimide film has an average linear expansion coefficient of 15 ppm / ° C. or less. 請求項1〜3のうちのいずれか一項に記載のポリイミドフィルムからなることを特徴とするフレキシブル配線基板。   A flexible wiring board comprising the polyimide film according to any one of claims 1 to 3. 請求項1〜3のうちのいずれか一項に記載のポリイミドフィルムからなることを特徴とする透明電極用基板。   A transparent electrode substrate comprising the polyimide film according to claim 1. 表示装置及び太陽電池のうちのいずれかの透明電極を積層するために用いることを特徴とする請求項8に記載の透明電極用基板。   The transparent electrode substrate according to claim 8, wherein the transparent electrode substrate is used for laminating a transparent electrode of any one of a display device and a solar cell. 請求項1〜3のうちのいずれか一項に記載のポリイミドフィルムからなることを特徴とする液晶配向膜積層用基板。   It consists of a polyimide film as described in any one of Claims 1-3, The board | substrate for liquid crystal aligning film lamination | stacking characterized by the above-mentioned. 請求項1〜3のうちのいずれか一項に記載のポリイミドフィルムからなることを特徴とする有機ELディスプレイ用基板。   It consists of a polyimide film as described in any one of Claims 1-3, The board | substrate for organic EL displays characterized by the above-mentioned. 請求項1〜3のうちのいずれか一項に記載のポリイミドフィルムからなることを特徴とする有機EL照明用基板。   It consists of a polyimide film as described in any one of Claims 1-3, The board | substrate for organic EL lighting characterized by the above-mentioned.
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