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JP2016194697A - Fluorescent light source device - Google Patents

Fluorescent light source device Download PDF

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JP2016194697A
JP2016194697A JP2016094488A JP2016094488A JP2016194697A JP 2016194697 A JP2016194697 A JP 2016194697A JP 2016094488 A JP2016094488 A JP 2016094488A JP 2016094488 A JP2016094488 A JP 2016094488A JP 2016194697 A JP2016194697 A JP 2016194697A
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JP
Japan
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fluorescent
light source
wavelength conversion
source device
photonic structure
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JP2016094488A
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Japanese (ja)
Inventor
井上 正樹
Masaki Inoue
正樹 井上
政治 北村
Masaharu Kitamura
政治 北村
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Ushio Denki KK
Ushio Inc
Original Assignee
Ushio Denki KK
Ushio Inc
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a fluorescent light source device which is capable of highly efficiently emitting the fluorescent light generated inside a wavelength conversion member to the outside by effectively using the fluorescent light, and therefore obtains high light-emitting efficiency.SOLUTION: A fluorescent light source device comprises a light source for excitation, a wavelength conversion member 21 which converts the excitation light from the light source for excitation to light having a longer wavelength than the excitation light, and a substrate 31 which supports the wavelength conversion member 21. The wavelength conversion member 21 comprises a fluorescent member 22, and a photonic structure part 23 which is arranged on the fluorescent member 22 and in which a plurality of salients are formed on the surface thereof. A light reflection film 33 is provided between the fluorescent member 22 and the substrate 31. The photonic structure part 23 is composed of an inorganic compound layer made of metal oxide, and a light-receiving surface of excitation light and an emitting surface of fluorescent light are composed of a surface of the photonic structure part 23.SELECTED DRAWING: Figure 2

Description

本発明は、励起光によって蛍光体を励起することにより、当該蛍光体から蛍光を放射する蛍光光源装置に関する。   The present invention relates to a fluorescent light source device that emits fluorescence from a phosphor by exciting the phosphor with excitation light.

従来、蛍光光源装置としては、レーザ光を励起光として蛍光体に照射し、当該蛍光体から蛍光を放射する構成のものが知られている。
このような蛍光光源装置の或る種のものは、図8に示すように、裏面に放熱用フィン65aを有する放熱部材65が設けられたAIN焼結体よりなる基板62の表面に、硫酸バリウム層63を介してYAG焼結体よりなる蛍光部材61が配置されてなる波長変換部材を備えている(例えば、特許文献1参照)。この蛍光光源装置においては、蛍光部材61の表面が、波長変換部材における励起光受光面とされていると共に蛍光出射面とされている。
Conventionally, as a fluorescent light source device, one having a configuration in which a phosphor is irradiated with laser light as excitation light and fluorescence is emitted from the phosphor is known.
As shown in FIG. 8, a certain type of such fluorescent light source device has a barium sulfate on the surface of a substrate 62 made of an AIN sintered body provided with a heat dissipating member 65 having heat dissipating fins 65a on the back surface. A wavelength conversion member is provided in which a fluorescent member 61 made of a YAG sintered body is disposed via a layer 63 (see, for example, Patent Document 1). In this fluorescent light source device, the surface of the fluorescent member 61 is an excitation light receiving surface in the wavelength conversion member and a fluorescent light emitting surface.

しかしながら、このような蛍光光源装置においては、蛍光部材61の内部において生じた蛍光を高い効率で蛍光出射面から出射させることができないため、蛍光を有効に利用することができない、という問題がある。しかも、蛍光出射面から出射させることのできない蛍光によって蛍光部材61が加熱されて蛍光体自体が高温となり、それに起因して温度消光が生じることから、十分な蛍光光束が得られなくなる。   However, in such a fluorescent light source device, there is a problem that the fluorescence generated inside the fluorescent member 61 cannot be emitted from the fluorescence emitting surface with high efficiency, and thus the fluorescence cannot be used effectively. In addition, the fluorescent member 61 is heated by the fluorescent light that cannot be emitted from the fluorescent light emitting surface, and the fluorescent material itself becomes high temperature, resulting in temperature quenching, so that a sufficient fluorescent light beam cannot be obtained.

而して、蛍光光源装置においては、蛍光出射面からの蛍光の出射効率を改善するために、波長変換部材における蛍光出射面とされる表面に、凸部が周期的に配列されてなる周期構造を設ける技術が知られている。
しかしながら、蛍光部材がYAG焼結体などの単結晶または多結晶からなる蛍光体によって構成されるものであることから、蛍光部材自体に微細な凹凸構造を所期の寸法で形成することは困難である。
そこで、蛍光部材上に、高分子材料などの加工容易性を有する材料よりなり、表面に凸部が配列された周期構造体層を積層し、この周期構造体層によって周期構造を構成することが検討されている。しかしながら、特に周期構造体層の表面を蛍光出射面とすると共に励起光受光面として利用する場合において、励起光であるレーザ光の熱によって周期構造体層の形状が変形し、その変形に起因して波長変換部材における蛍光出射面からの蛍光の出射効率が低下してしまう、という問題がある。
Thus, in the fluorescent light source device, in order to improve the emission efficiency of the fluorescence from the fluorescence emission surface, the periodic structure in which convex portions are periodically arranged on the surface of the wavelength conversion member that is the fluorescence emission surface Techniques for providing such are known.
However, since the fluorescent member is composed of a single crystal or polycrystalline phosphor such as a YAG sintered body, it is difficult to form a fine uneven structure with the desired dimensions on the fluorescent member itself. is there.
Therefore, a periodic structure layer made of a material having ease of processing such as a polymer material and having convex portions arranged on the surface is laminated on the fluorescent member, and the periodic structure layer can be constituted by the periodic structure layer. It is being considered. However, in particular, when the surface of the periodic structure layer is used as a fluorescence emitting surface and also used as an excitation light receiving surface, the shape of the periodic structure layer is deformed by the heat of the laser light that is the excitation light. Thus, there is a problem that the emission efficiency of fluorescence from the fluorescence emission surface of the wavelength conversion member is lowered.

特開2011−198560号公報JP 2011-198560 A

本発明は、以上のような事情に基づいてなされたものであって、その目的は、波長変換部材の内部において生じる蛍光を有効に利用して高い効率で外部に出射することができ、従って、高い発光効率が得られる蛍光光源装置を提供することにある。   The present invention has been made based on the circumstances as described above, and the purpose thereof is to effectively utilize the fluorescence generated inside the wavelength conversion member and to emit it outside with high efficiency. An object of the present invention is to provide a fluorescent light source device capable of obtaining high luminous efficiency.

本発明の蛍光光源装置は、励起用光源と、
前記励起用光源からの励起光を、当該励起光の波長よりも長波長の光に変換する波長変換部材と、
前記波長変換部材を支持する基板と
を備えてなる蛍光光源装置であって、
前記波長変換部材は、蛍光部材と、前記蛍光部材上に配置され、その表面に複数の凸部が形成されたフォトニック構造部とを具備し、
前記蛍光部材と前記基板との間に光反射膜が設けられており、
前記フォトニック構造部は、金属酸化物よりなる無機化合物層からなり、前記フォトニック構造部の表面によって、励起光受光面および蛍光出射面が構成されていることを特徴とする。
The fluorescent light source device of the present invention includes an excitation light source,
A wavelength conversion member that converts excitation light from the excitation light source into light having a longer wavelength than the wavelength of the excitation light;
A fluorescent light source device comprising a substrate supporting the wavelength conversion member,
The wavelength conversion member includes a fluorescent member, and a photonic structure portion disposed on the fluorescent member and having a plurality of convex portions formed on the surface thereof,
A light reflecting film is provided between the fluorescent member and the substrate;
The photonic structure part is composed of an inorganic compound layer made of a metal oxide, and the excitation light receiving surface and the fluorescence emission surface are constituted by the surface of the photonic structure part.

本発明の蛍光光源装置においては、前記無機化合物層は、複数の柱状単位よりなり、これらの複数の柱状単位の各々が前記蛍光部材から遠ざかる方向に伸び、かつ互いに隣接する柱状単位間に微小空間が形成された多孔性のものであることが好ましい。   In the fluorescent light source device of the present invention, the inorganic compound layer includes a plurality of columnar units, and each of the plurality of columnar units extends in a direction away from the fluorescent member and has a minute space between adjacent columnar units. It is preferable that the material is porous.

また、本発明の蛍光光源装置においては、前記無機化合物層を構成する金属酸化物は、アルミナ(Al2 3 )、酸化ハフニウム(HfO2 )、酸化マグネシウム(MgO)、酸化スズ(SnO2 )、酸化タングステン(WO3 )、酸化イットリウム(Y2 3 )、酸化インジウムスズ(ITO)、ジルコニア(ZrO2 )、酸化タンタル(Ta2 5 )、酸化チタン(TiO2 )、酸化ニオブ(Nb2 5 )、およびジルコニア(ZrO2 )と酸化チタン(TiO2 )との混合物のいずれかであることが好ましい。 In the fluorescent light source device of the present invention, the metal oxide constituting the inorganic compound layer is alumina (Al 2 O 3 ), hafnium oxide (HfO 2 ), magnesium oxide (MgO), tin oxide (SnO 2 ). , Tungsten oxide (WO 3 ), yttrium oxide (Y 2 O 3 ), indium tin oxide (ITO), zirconia (ZrO 2 ), tantalum oxide (Ta 2 O 5 ), titanium oxide (TiO 2 ), niobium oxide (Nb) 2 O 5 ) and a mixture of zirconia (ZrO 2 ) and titanium oxide (TiO 2 ).

また、本発明の蛍光光源装置においては、前記波長変換部材の側面に、拡散反射部材が設けられていることが好ましい。
また、本発明の蛍光光源装置においては、前記励起用光源からの励起光が前記励起光受光面に入射する方向と、前記フォトニック構造部における凸部が伸びる方向とが同じであることが好ましい。
Moreover, in the fluorescence light source device of this invention, it is preferable that the diffuse reflection member is provided in the side surface of the said wavelength conversion member.
In the fluorescent light source device of the present invention, it is preferable that the direction in which the excitation light from the excitation light source enters the excitation light receiving surface is the same as the direction in which the convex portion in the photonic structure extends. .

本発明の蛍光光源装置によれば、波長変換部材の内部において生じる蛍光を有効に利用して高い効率で外部に出射することができることから、高い発光効率が得られる。   According to the fluorescent light source device of the present invention, the fluorescent light generated inside the wavelength conversion member can be effectively used and emitted to the outside with high efficiency, so that high luminous efficiency can be obtained.

本発明の蛍光光源装置の一例における構成の概略を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the outline of a structure in an example of the fluorescence light source device of this invention. 図1の蛍光光源装置における蛍光発光部材の構成を示す説明用断面図である。It is sectional drawing for description which shows the structure of the fluorescence light-emitting member in the fluorescence light source device of FIG. 図2の蛍光発光部材における波長変換部材を拡大して示す説明用拡大図である。It is an enlarged view for explanation which expands and shows the wavelength conversion member in the fluorescence light-emitting member of FIG. 図3の波長変換部材のフォトニック構造部の表面構造を示す説明用部分断面図である。It is a fragmentary sectional view for explanation which shows the surface structure of the photonic structure part of the wavelength conversion member of Drawing 3. 本発明の蛍光光源装置の製造方法の一例における波長変換部材形成工程を示す説明図であって、(a)は、蛍光部材を示す説明用断面図であり、(b)は、蛍光部材上に無機化合物層が形成された状態を示す説明用断面図である。また、(c)は、ソフトモールドを示す説明図であり、(d)は、無機化合物層上に形成されたレジスト膜にソフトモールドを押し付けた状態を示す説明用断面図であり、(e)は、無機化合物層上にレジストパターン膜が形成された状態を示す説明用断面図である。また、(f)は、無機化合物層がエッチング処理された状態を示す説明用断面図であり、(g)は、得られた波長変換部材の構成を示す説明用断面図である。It is explanatory drawing which shows the wavelength conversion member formation process in an example of the manufacturing method of the fluorescence light source device of this invention, Comprising: (a) is sectional drawing for description which shows a fluorescent member, (b) is on a fluorescent member. It is sectional drawing for description which shows the state in which the inorganic compound layer was formed. (C) is an explanatory view showing a soft mold, (d) is an explanatory sectional view showing a state in which the soft mold is pressed against a resist film formed on the inorganic compound layer, (e) These are sectional drawings for description which show the state by which the resist pattern film was formed on the inorganic compound layer. Moreover, (f) is sectional drawing for description which shows the state by which the inorganic compound layer was etched, (g) is sectional drawing for description which shows the structure of the obtained wavelength conversion member. 図5に係る波長変換部材形成工程を経ることによって得られた波長変換部材のSEM写真である。It is a SEM photograph of the wavelength conversion member obtained by passing through the wavelength conversion member formation process concerning FIG. 本発明の蛍光光源装置の他の例における波長変換部材のフォトニック構造部の表面構造を示す説明用断面図である。It is sectional drawing for description which shows the surface structure of the photonic structure part of the wavelength conversion member in the other example of the fluorescence light source device of this invention. 従来の蛍光光源装置における波長変換部材の構成を示す説明用断面図である。It is sectional drawing for description which shows the structure of the wavelength conversion member in the conventional fluorescence light source device.

以下、本発明の蛍光光源装置の実施の形態について説明する。
図1は、本発明の蛍光光源装置の一例における構成の概略を示す説明図であり、図2は、図1の蛍光光源装置における蛍光発光部材の構成を示す説明用断面図である。また、図3は、図2の蛍光発光部材における波長変換部材を拡大して示す説明用拡大図であり、図4は、図3の波長変換部材のフォトニック構造部の表面構造を示す説明用部分断面図である。
この蛍光光源装置10は、図1に示すように、レーザダイオード11と、このレーザダイオード11に対向して配置された、当該レーザダイオード11から出射されるレーザ光である励起光Lによって励起されて蛍光L1を出射する波長変換部材21を有する蛍光発光部材20とを備えている。
レーザダイオード11と蛍光発光部材20との間における当該レーザダイオード11に接近した位置には、レーザダイオード11から入射された励起光Lを平行光線として出射するコリメータレンズ15が配置されている。また、コリメータレンズ15と蛍光発光部材20との間には、レーザダイオード11からの励起光Lを透過すると共に蛍光発光部材20における波長変換部材21からの蛍光L1を反射するダイクロイックミラー16が、コリメータレンズ15の光軸に対して例えば45°の角度で傾斜した姿勢で配置されている。
ここに、図1においては、1つのレーザダイオード11の光を用いているが、レーザダイオード11が複数あり、蛍光発光部材20における波長変換部材21の前に集光レンズを配置させ、集光光を当該波長変換部材21に照射する形態であってもよい。また、励起光Lはレーザダイオード11による光に限るものではなく、波長変換部材21における蛍光体を励起することができるものであれば、LEDによる光を集光したものでもよく、更には、水銀、キセノン等が封入されたランプからの光であってもよい。尚、ランプやLEDのように放射波長に幅を持つ光源を利用した場合には、励起光の波長は主たる放射波長の領域である。ただし、本発明においては、これに限定されるものではない。
Hereinafter, embodiments of the fluorescent light source device of the present invention will be described.
FIG. 1 is an explanatory diagram showing an outline of the configuration of an example of the fluorescent light source device of the present invention, and FIG. 2 is an explanatory sectional view showing the configuration of a fluorescent light emitting member in the fluorescent light source device of FIG. 3 is an enlarged view for explaining the wavelength converting member in the fluorescent light emitting member of FIG. 2, and FIG. 4 is an explanatory view showing the surface structure of the photonic structure portion of the wavelength converting member of FIG. It is a fragmentary sectional view.
As shown in FIG. 1, the fluorescent light source device 10 is excited by a laser diode 11 and excitation light L that is disposed opposite to the laser diode 11 and is laser light emitted from the laser diode 11. And a fluorescent light emitting member 20 having a wavelength conversion member 21 that emits the fluorescent light L1.
A collimator lens 15 that emits the excitation light L incident from the laser diode 11 as a parallel light beam is disposed between the laser diode 11 and the fluorescent light emitting member 20 at a position close to the laser diode 11. A dichroic mirror 16 that transmits the excitation light L from the laser diode 11 and reflects the fluorescence L1 from the wavelength conversion member 21 in the fluorescence light emitting member 20 is disposed between the collimator lens 15 and the fluorescence light emitting member 20. For example, the lens 15 is disposed in a posture inclined at an angle of 45 ° with respect to the optical axis of the lens 15.
Here, in FIG. 1, the light of one laser diode 11 is used, but there are a plurality of laser diodes 11, a condenser lens is disposed in front of the wavelength conversion member 21 in the fluorescent light emitting member 20, and the condensed light. May be applied to the wavelength conversion member 21. Further, the excitation light L is not limited to the light from the laser diode 11, and may be one that collects the light from the LED as long as it can excite the phosphor in the wavelength conversion member 21, and further, mercury. In addition, light from a lamp enclosing xenon or the like may be used. When a light source having a width in the emission wavelength such as a lamp or LED is used, the wavelength of the excitation light is the main emission wavelength region. However, the present invention is not limited to this.

蛍光発光部材20は、図2に示すように、矩形平板状の基板31の表面(図2における上面)上に、略円板状の波長変換部材21が設けられたものである。
この波長変換部材21は、図3および図4に示すように、円板状の蛍光部材22と、この蛍光部材22の表面(図3および図4における上面)上に形成された、略円板状のフォトニック構造部23を有している。
波長変換部材21においては、フォトニック構造部23の表面(図2〜図4における上面)が、励起光受光面とされていると共に、蛍光出射面とされている。
また、波長変換部材21の裏面、すなわち蛍光部材22の裏面(図2〜図3における下面)には、多層膜よりなる光反射膜33が設けられている。また、波長変換部材21の側面には、環状の拡散反射部材34が、当該側面に密着した状態で設けられている。拡散反射部材34としては、例えばシリコーンと、アルミナおよびチタニア等の拡散粒子との混合物よりなるもの、またはアルカリ金属元素を含むセラミックのペースト等を乾燥させたものなどが用いられる。このように、波長変換部材21は、光反射膜33および拡散反射部材34が設けられることにより、裏面および側面に反射機能を有するものとされている。更に、光反射膜33と基板31との間には、接合部材(図示省略)が介在されており、当該接合部材によって波長変換部材21が基板31上に接合されている。接合部材としては、排熱性の観点から、半田、銀焼結材などが用いられる。また、基板31の裏面には、例えば銅などの金属よりなる放熱部材39が配置されている。この放熱部材39には、放熱用フィン39aが設けられている。
As shown in FIG. 2, the fluorescent light emitting member 20 has a substantially disk-shaped wavelength conversion member 21 provided on the surface (upper surface in FIG. 2) of a rectangular flat substrate 31.
As shown in FIGS. 3 and 4, the wavelength conversion member 21 includes a disk-shaped fluorescent member 22 and a substantially circular plate formed on the surface (the upper surface in FIGS. 3 and 4) of the fluorescent member 22. The photonic structure part 23 is shaped.
In the wavelength conversion member 21, the surface of the photonic structure portion 23 (upper surface in FIGS. 2 to 4) is an excitation light receiving surface and a fluorescence emitting surface.
A light reflecting film 33 made of a multilayer film is provided on the back surface of the wavelength conversion member 21, that is, the back surface of the fluorescent member 22 (the lower surface in FIGS. 2 to 3). An annular diffuse reflection member 34 is provided on the side surface of the wavelength conversion member 21 in close contact with the side surface. As the diffuse reflection member 34, for example, a material made of a mixture of silicone and diffusing particles such as alumina and titania, or a material obtained by drying a ceramic paste containing an alkali metal element or the like is used. As described above, the wavelength conversion member 21 is provided with the light reflection film 33 and the diffuse reflection member 34 to have a reflection function on the back surface and the side surface. Further, a bonding member (not shown) is interposed between the light reflection film 33 and the substrate 31, and the wavelength conversion member 21 is bonded onto the substrate 31 by the bonding member. As the joining member, solder, a silver sintered material, or the like is used from the viewpoint of exhaust heat. Further, a heat radiating member 39 made of a metal such as copper is disposed on the back surface of the substrate 31. The heat radiating member 39 is provided with heat radiating fins 39a.

波長変換部材21を構成するフォトニック構造部23は、蛍光出射面すなわちフォトニック構造部23の表面に、複数の凸部25が二次元周期的に配列されてなる周期構造24が形成されてなるものである。この周期構造24により、フォトニック構造が構成されている。
ここに、本発明において、フォトニック構造とは、二次元周期構造を示し、具体的には、フォトニック構造部の表面において、複数の凸部が二次元的かつ周期的に配列されてなる凹凸構造を示す。
この図の例において、フォトニック構造部23における周期構造24は、略円錐状の凸部25が密集した状態で二次元周期的に配列されてなるものである。
The photonic structure portion 23 constituting the wavelength conversion member 21 is formed by forming a periodic structure 24 in which a plurality of convex portions 25 are two-dimensionally arranged on the fluorescence emission surface, that is, the surface of the photonic structure portion 23. Is. The periodic structure 24 forms a photonic structure.
Here, in the present invention, the photonic structure refers to a two-dimensional periodic structure. Specifically, on the surface of the photonic structure part, a plurality of protrusions are two-dimensionally and periodically arranged. The structure is shown.
In the example of this figure, the periodic structure 24 in the photonic structure portion 23 is a two-dimensional periodic array in which the substantially conical convex portions 25 are densely packed.

また、周期構造24において、周期dは、蛍光部材22を構成する蛍光体から放射される蛍光の回折が発生する範囲(ブラッグの条件)の大きさとされる。
具体的には、周期構造24の周期dは、蛍光体から放射される蛍光のピーク波長を、周期構造24を構成する材料(具体的には、無機化合物層)の屈折率で割った値(以下、「光学長さ」という。)または光学長さの数倍程度の値である。
本発明において、周期構造の周期とは、周期構造において互いに隣接する凸部間の中心間距離(nm)を意味する。
周期構造24の周期dが蛍光部材22内で生じる蛍光L1の回折が発生する範囲の大きさとされることにより、蛍光部材22の表面から蛍光L1を高い効率で外部に出射することができる。
Further, in the periodic structure 24, the period d is set to a size of a range (Bragg condition) in which diffraction of fluorescence emitted from the phosphor constituting the fluorescent member 22 occurs.
Specifically, the period d of the periodic structure 24 is a value obtained by dividing the peak wavelength of fluorescence emitted from the phosphor by the refractive index of the material (specifically, the inorganic compound layer) constituting the periodic structure 24 ( Hereinafter, it is referred to as “optical length”) or a value of several times the optical length.
In the present invention, the period of the periodic structure means a center-to-center distance (nm) between adjacent convex portions in the periodic structure.
By setting the period d of the periodic structure 24 to a size in which the diffraction of the fluorescence L1 generated in the fluorescent member 22 occurs, the fluorescence L1 can be emitted from the surface of the fluorescent member 22 to the outside with high efficiency.

また、周期構造24における周期dに対する凸部25の高さhの比(h/d)であるアスペクト比(以下、「周期構造アスペクト比」ともいう。)は、0.2以上であることが好ましい。
周期構造24におけるアスペクト比が0.2以上とされることにより、蛍光部材22を構成する蛍光体から放射される蛍光を高い効率によって波長変換部材21の蛍光出射面であるフォトニック構造部23の表面から外部に取り出すことができる。
また、周期構造24におけるアスペクト比が0.2以上とされることによれば、フォトニック構造部23の表面、すなわち波長変換部材21の表面において励起光Lが反射することを抑制することができる。そのため、フォトニック構造部23の表面に励起光Lが照射されたときに、励起光Lを蛍光部材22内に十分に取り込むことができる。
Further, an aspect ratio (hereinafter also referred to as “periodic structure aspect ratio”) which is a ratio (h / d) of the height h of the convex portion 25 to the period d in the periodic structure 24 is 0.2 or more. preferable.
By setting the aspect ratio in the periodic structure 24 to be 0.2 or more, the fluorescence emitted from the phosphors constituting the fluorescent member 22 can be efficiently emitted from the photonic structure portion 23 which is the fluorescent emission surface of the wavelength conversion member 21. It can be taken out from the surface.
In addition, when the aspect ratio of the periodic structure 24 is 0.2 or more, it is possible to suppress the excitation light L from being reflected on the surface of the photonic structure portion 23, that is, the surface of the wavelength conversion member 21. . Therefore, the excitation light L can be sufficiently taken into the fluorescent member 22 when the surface of the photonic structure portion 23 is irradiated with the excitation light L.

そして、フォトニック構造部23は、金属酸化物よりなり、蛍光部材22から遠ざかる方向(図2〜図4における上方)に伸びる柱状構造を有する無機化合物層(以下、「特定無機化合物層」ともいう。)により構成されてなるものである。すなわち、フォトニック構造部23は、特定無機化合物層の表面に周期構造24が形成されてなるものである。
このフォトニック構造部23を構成する特定無機化合物層は、複数の柱状単位(無機化合物柱状単位)よりなり、これらの複数の柱状単位の各々が蛍光部材22から遠ざかる方向に伸び、また互いに隣接する柱状単位間に微小空間が形成された多孔性のものである。
And the photonic structure part 23 consists of a metal oxide, and is also called the inorganic compound layer (henceforth "specific inorganic compound layer") which has a columnar structure extended in the direction away from the fluorescent member 22 (upward in FIGS. 2-4). .). That is, the photonic structure portion 23 is obtained by forming the periodic structure 24 on the surface of the specific inorganic compound layer.
The specific inorganic compound layer constituting the photonic structure portion 23 is composed of a plurality of columnar units (inorganic compound columnar units), and each of the plurality of columnar units extends in a direction away from the fluorescent member 22 and is adjacent to each other. It is a porous material in which a minute space is formed between columnar units.

また、フォトニック構造部23においては、周期構造24を構成する複数の凸部25の各々が柱状単位により構成されていることが好ましい。すなわち、凸部25は、1つの柱状単位よりなるものであることが好ましい。
凸部25を柱状単位により構成することにより、後述の蛍光光源装置の製造方法(波長変換部材形成工程)によって当該凸部25を確実に所期の形状を有するものとすることができる。
Moreover, in the photonic structure part 23, it is preferable that each of the some convex part 25 which comprises the periodic structure 24 is comprised by the columnar unit. That is, it is preferable that the convex part 25 consists of one columnar unit.
By constituting the convex part 25 by the columnar unit, the convex part 25 can surely have an intended shape by a method for manufacturing a fluorescent light source device (a wavelength conversion member forming step) described later.

フォトニック構造部23を構成する特定無機化合物層の材質の具体例としては、アルミナ(Al2 3 )、酸化ハフニウム(HfO2 )、酸化マグネシウム(MgO)、酸化スズ(SnO2 )、酸化タングステン(WO3 )、酸化イットリウム(Y2 3 )、酸化インジウムスズ(ITO)、ジルコニア(ZrO2 )、酸化タンタル(Ta2 5 )、酸化チタン(TiO2 )、酸化ニオブ(Nb2 5 )などの金属酸化物、およびジルコニア(ZrO2 )と酸化チタン(TiO2 )との混合物などが挙げられる。これらのうちでは、蛍光体(LuAG、YAG)の熱膨張係数(6×10-6〜8×10-6/K)に近似した熱膨張係数を有するものであることから、ジルコニア(熱膨張係数10.5×10-6/K)、酸化インジウムスズ(熱膨張係数6.8×10-6/K)および酸化チタン(熱膨張係数7.9×10-6/K)が好ましい。特に、ジルコニアは、吸収係数が小さい(具体的には、13cm-1(波長550nmの光に関する吸収係数))ことから更に好ましい。 Specific examples of the material of the specific inorganic compound layer constituting the photonic structure portion 23 include alumina (Al 2 O 3 ), hafnium oxide (HfO 2 ), magnesium oxide (MgO), tin oxide (SnO 2 ), and tungsten oxide. (WO 3 ), yttrium oxide (Y 2 O 3 ), indium tin oxide (ITO), zirconia (ZrO 2 ), tantalum oxide (Ta 2 O 5 ), titanium oxide (TiO 2 ), niobium oxide (Nb 2 O 5) And metal oxides such as zirconia (ZrO 2 ) and titanium oxide (TiO 2 ). Among these, since it has a thermal expansion coefficient approximate to the thermal expansion coefficient (6 × 10 −6 to 8 × 10 −6 / K) of the phosphor (LuAG, YAG), zirconia (thermal expansion coefficient) 10.5 × 10 −6 / K), indium tin oxide (thermal expansion coefficient 6.8 × 10 −6 / K) and titanium oxide (thermal expansion coefficient 7.9 × 10 −6 / K) are preferable. In particular, zirconia is more preferable because of its small absorption coefficient (specifically, 13 cm −1 (absorption coefficient for light having a wavelength of 550 nm)).

また、フォトニック構造部23を構成する特定無機化合物層は、屈折率が大きいものであることが好ましい。具体的には、屈折率が蛍光部材22の屈折率の値以上であることが好ましい。屈折率が蛍光部材23の屈折率の値より高い特定無機化合物層によってフォトニック構造部23を構成することによれば、蛍光部材22とフォトニック構造部23と界面に入射した蛍光は、当該界面を透過することによって屈折が生じる。そのため、蛍光の進行方向が蛍光部材22とフォトニック構造部23との界面において変更されることから、蛍光が波長変換部材21の内部に閉じ込められることが抑制され、その結果、蛍光をフォトニック構造部23の表面から外部に高い効率で出射することができる。
また、特定無機化合物層として蛍光部材22より高屈折率のものを用いることによれば、周期dが小さい周期構造24を形成することが可能となる。従って、周期構造24を構成する凸部25としてアスペクト比(周期構造アスペクト比)が大きくても高さが小さいものを設計することができるので、周期構造24の形成が容易となる。例えば、後述する波長変換部材形成工程において、ソフトモールドの作製やレジストパターン膜の形成作業(インプリント作業)を容易に行うことができる。
Moreover, it is preferable that the specific inorganic compound layer which comprises the photonic structure part 23 is a thing with a large refractive index. Specifically, the refractive index is preferably equal to or higher than the refractive index value of the fluorescent member 22. According to the configuration of the photonic structure portion 23 with the specific inorganic compound layer having a refractive index higher than the refractive index value of the fluorescent member 23, the fluorescence incident on the interface between the fluorescent member 22 and the photonic structure portion 23 Refraction is caused by passing through. Therefore, since the direction of travel of the fluorescence is changed at the interface between the fluorescent member 22 and the photonic structure portion 23, it is suppressed that the fluorescence is confined inside the wavelength conversion member 21, and as a result, the fluorescence is converted into the photonic structure. The light can be emitted from the surface of the portion 23 to the outside with high efficiency.
Further, by using a specific inorganic compound layer having a higher refractive index than that of the fluorescent member 22, it is possible to form the periodic structure 24 having a small period d. Therefore, since the convex portion 25 constituting the periodic structure 24 can be designed with a small height even if the aspect ratio (periodic structure aspect ratio) is large, the periodic structure 24 can be easily formed. For example, in the wavelength conversion member forming step described later, a soft mold can be produced and a resist pattern film can be easily formed (imprint operation).

また、フォトニック構造部23の厚みは、例えば0.05〜1.0μmである。
この図の例において、フォトニック構造部23の厚みは、凸部25の高さhである。
Moreover, the thickness of the photonic structure part 23 is 0.05-1.0 micrometer, for example.
In the example of this figure, the thickness of the photonic structure portion 23 is the height h of the convex portion 25.

蛍光部材22は、蛍光体が含有されてなるものであり、具体的には、単結晶または多結晶の蛍光体よりなるもの、または単結晶または多結晶の蛍光体とセラミックバインダーとの混合物の焼結体よりなるものである。すなわち、蛍光部材22は、単結晶または多結晶の蛍光体によって構成されたものである。
ここに、蛍光部材22として用いられる蛍光体とセラミックバインダーとの混合物の焼結体においては、セラミックバインダーとしてナノサイズのアルミナ粒子が用いられる。そして、この焼結体は、蛍光体100質量%に対して数質量%〜数十質量%のセラミックバインダーを混合し、その混合物をプレスした後、焼成することによって得られるものである。
蛍光部材22が単結晶または多結晶の蛍光体によって構成されたものであることにより、蛍光部材22は高い熱伝導性を有するものとなる。そのため、蛍光部材22においては励起光Lの照射によって発生した熱が効率よく排熱されることから、蛍光部材22が高温となることが抑制される。
The fluorescent member 22 contains a phosphor. Specifically, the fluorescent member 22 is made of a single crystal or polycrystalline phosphor, or a mixture of a single crystal or polycrystalline phosphor and a ceramic binder. It consists of a knot. That is, the fluorescent member 22 is composed of a single crystal or polycrystalline phosphor.
Here, in the sintered body of the mixture of the phosphor and the ceramic binder used as the fluorescent member 22, nano-sized alumina particles are used as the ceramic binder. And this sintered compact is obtained by mixing several mass%-several tens mass% ceramic binder with respect to 100 mass% of fluorescent substance, pressing the mixture, and baking.
Since the fluorescent member 22 is made of a single crystal or polycrystalline phosphor, the fluorescent member 22 has high thermal conductivity. Therefore, in the fluorescent member 22, since the heat generated by the irradiation of the excitation light L is efficiently exhausted, the fluorescent member 22 is suppressed from becoming high temperature.

蛍光部材22を構成する単結晶の蛍光体は、例えば、チョクラルスキー法によって得ることができる。具体的には、坩堝内において種子結晶を溶融された原料に接触させ、この状態で、種子結晶を回転させながら鉛直方向に引き上げて当該種子結晶に単結晶を成長させることにより、単結晶の蛍光体が得られる。
また、蛍光部材22を構成する多結晶の蛍光体は、例えば以下のようにして得ることができる。先ず、母材、賦活材および焼成助剤などの原材料をボールミルなどによって粉砕処理することによって、サブミクロン以下の原材料微粒子を得る。次いで、この原材料微粒子を例えばスリップキャスト法によって焼結する。その後、得られた焼結体に対して熱間等方圧加圧加工を施すことによって、気孔率が例えば0.5%以下の多結晶の蛍光体が得られる。
The single crystal phosphor constituting the fluorescent member 22 can be obtained, for example, by the Czochralski method. Specifically, the seed crystal is brought into contact with the melted raw material in the crucible, and in this state, the seed crystal is pulled up in the vertical direction while rotating the seed crystal to grow the single crystal on the seed crystal. The body is obtained.
Moreover, the polycrystalline fluorescent substance which comprises the fluorescent member 22 can be obtained as follows, for example. First, raw materials such as a base material, an activator, and a firing aid are pulverized by a ball mill or the like to obtain raw material fine particles of submicron or less. Next, the raw material fine particles are sintered by, for example, a slip casting method. Thereafter, a polycrystalline phosphor having a porosity of 0.5% or less, for example, is obtained by subjecting the obtained sintered body to hot isostatic pressing.

蛍光部材22を構成する蛍光体の具体例としては、YAG(Y3 Al5 12)、LuAG、(Lu3 Al5 12)、CASN(CaAlSiN3 :Eu)およびSCASN((Sr,Ca)AlSiN3 :Eu)などが挙げられる。 Specific examples of the phosphor constituting the fluorescent member 22 include YAG (Y 3 Al 5 O 12 ), LuAG, (Lu 3 Al 5 O 12 ), CASN (CaAlSiN 3 : Eu), and SCASN ((Sr, Ca). AlSiN 3 : Eu) and the like.

また、蛍光部材22の厚みは、励起光Lと蛍光の変換効率(量子収率)および排熱性の観点から、例えば0.05〜2.0mmである。   In addition, the thickness of the fluorescent member 22 is, for example, 0.05 to 2.0 mm from the viewpoint of the conversion efficiency (quantum yield) between the excitation light L and fluorescence and the exhaust heat property.

基板31を構成する材料としては、樹脂に金属微粉末を混入させた放熱接着剤を介したアルミ基板などを用いることができる。また、基板31の厚みは、例えば0.5〜1.0mmである。   As a material constituting the substrate 31, an aluminum substrate or the like through a heat radiation adhesive in which metal fine powder is mixed into a resin can be used. Moreover, the thickness of the board | substrate 31 is 0.5-1.0 mm, for example.

以上のような構成の蛍光光源装置10は、例えば、波長変換部材21を、以下に説明する特定の工程を経ることによって得ることにより、製造することができる。
具体的に、波長変換部材21は、蛍光部材22上に、この蛍光部材22から遠ざかる方向に伸びる柱状構造を有する無機化合物層を形成し、この無機化合物層の表面をエッチング処理する工程(以下、「波長変換部材形成工程」ともいう。)を経ることによって得られる。
The fluorescent light source device 10 having the above-described configuration can be manufactured by, for example, obtaining the wavelength conversion member 21 through a specific process described below.
Specifically, the wavelength conversion member 21 forms an inorganic compound layer having a columnar structure extending in a direction away from the fluorescent member 22 on the fluorescent member 22 and etches the surface of the inorganic compound layer (hereinafter, referred to as “a”). It is also referred to as “wavelength conversion member forming step”).

波長変換部材形成工程について、図5を用いて具体的に説明する。
図5に示す波長変換部材形成工程を経ることによって得られる波長変換部材21は、図5(g)に示されているように、フォトニック構造部23の構成が図1に係る波長変換部材21とは異なるものである。すなわち、図5(g)に係る波長変換部材21は、フォトニック構造部23が、薄膜部42と、この薄膜部42上に設けられた複数(図5(g)においては2つ)の凸部43とにより構成されている。また、複数の凸部43が円錐台状の形状を有しており、これらの複数の凸部43が互いに離間した状態で一定の間隔で配列されている。そして、薄膜部42および複数の凸部43により、フォトニック構造部23の表面(図5(g)における上面)に、複数の凸部43が二次元周期的に配列されてなる周期構造41が形成されている。
The wavelength conversion member forming step will be specifically described with reference to FIG.
As shown in FIG. 5G, the wavelength conversion member 21 obtained through the wavelength conversion member formation step shown in FIG. 5 has the configuration of the photonic structure portion 23 according to FIG. Is different. That is, in the wavelength conversion member 21 according to FIG. 5G, the photonic structure portion 23 has a thin film portion 42 and a plurality of protrusions (two in FIG. 5G) provided on the thin film portion 42. Part 43. Further, the plurality of convex portions 43 have a truncated cone shape, and the plurality of convex portions 43 are arranged at regular intervals in a state of being separated from each other. Then, the periodic structure 41 in which the plurality of convex portions 43 are two-dimensionally arranged on the surface of the photonic structure portion 23 (the upper surface in FIG. 5G) by the thin film portion 42 and the plurality of convex portions 43. Is formed.

先ず、図5(a)に示すように、蛍光部材22を用意し、有機溶剤にて洗浄する。
この図の例において、蛍光部材22は、直径50.8mm、厚み0.13mmの円形平板状の形状を有しており、表面および裏面が研磨処理されたものである。
First, as shown in FIG. 5A, a fluorescent member 22 is prepared and washed with an organic solvent.
In the example of this figure, the fluorescent member 22 has a circular flat plate shape with a diameter of 50.8 mm and a thickness of 0.13 mm, and the front and back surfaces are polished.

次いで、図5(b)に示すように、蛍光部材22の表面(図5(b)における上面)の全面に、フォトニック構造部23を形成するための無機化合物層(以下、「フォトニック構造部形成層」ともいう。)23Aを構成する。このフォトニック構造部形成層23Aは、金属酸化物よりなり、蛍光部材22から遠ざかる方向に伸びる柱状構造を有する無機化合物層であり、表面(図5(b)における上面)が略平坦なものである。
フォトニック構造部形成層23Aの形成方法としては、スパッタ法が好適に用いられる。
スパッタ法によれば、スパッタ条件を調整することにより、得られるスパッタ膜の形態を制御することができるため、所期の柱状構造を有するフォトニック構造部形成層23Aを容易に得ることができる。
ここに、本発明において、「スパッタ法」とは、反応性スパッタ法を含む概念である。反応性スパッタ法によってスパッタ膜を形成する場合においては、反応性スパッタ装置が用いられる。
Next, as shown in FIG. 5B, an inorganic compound layer (hereinafter referred to as “photonic structure”) for forming the photonic structure portion 23 on the entire surface of the fluorescent member 22 (the upper surface in FIG. 5B). Also referred to as “part formation layer.”) 23A is formed. The photonic structure portion forming layer 23A is an inorganic compound layer made of a metal oxide and having a columnar structure extending in a direction away from the fluorescent member 22, and has a substantially flat surface (upper surface in FIG. 5B). is there.
As a method for forming the photonic structure portion forming layer 23A, a sputtering method is preferably used.
According to the sputtering method, the form of the obtained sputtered film can be controlled by adjusting the sputtering conditions, so that the photonic structure portion forming layer 23A having the desired columnar structure can be easily obtained.
Here, in the present invention, the “sputtering method” is a concept including a reactive sputtering method. In the case of forming a sputtered film by the reactive sputtering method, a reactive sputtering apparatus is used.

そして、得られるフォトニック構造部形成層23Aにおいては、当該フォトニック構造部形成層23Aを形成する柱状単位が、横幅に対する縦幅の比(以下、「柱状単位アスペクト比」ともいう。)が、1.3以上であることが好ましい。
フォトニック構造部形成層23Aにおける柱状単位アスペクト比が上記の範囲とされることにより、当該フォトニック構造部形成層23Aがエッチング法による加工性がより一層優れたものとなるため、フォトニック構造部23を所期の形状を有するものとすることができる。
In the obtained photonic structure portion forming layer 23A, the columnar unit forming the photonic structure portion forming layer 23A has a ratio of the vertical width to the horizontal width (hereinafter also referred to as “columnar unit aspect ratio”). It is preferable that it is 1.3 or more.
Since the columnar unit aspect ratio in the photonic structure portion forming layer 23A is in the above range, the photonic structure portion forming layer 23A has further improved workability by an etching method. 23 can have the intended shape.

スパッタ法によってフォトニック構造部形成層23Aを形成するためには、スパッタ条件を制御することが必要とされる。
具体的には、蛍光部材22とターゲット物質との間に印加される高周波電圧を低くすると共に、不活性ガスの流量を小さくすることが好ましい。
印加する高周波電圧を小さくすることによれば、スパッタ膜の形成時における蛍光部材22の温度を低くすることができる。そのため、蛍光部材22上に形成されるスパッタ膜における再結晶化を抑制し、よって得られるスパッタ膜を、所期の柱状構造を有するものとすることができる。
不活性ガスの流量を比較的小さくすることによれば、蛍光部材23上に形成されるスパッタ膜を緻密なもの、具体的には柱状単位アスペクト比が大きくて、柱状単位間に微細空間が形成された多孔性のものとすることができると共に、高屈折率のものとすることができる。
また、スパッタ膜を高屈折率のものとするためには、不活性ガスと共に酸素ガスを導入することが好ましい。
具体的に、スパッタ装置を用い、フォトニック構造部形成層23Aとしてジルコニアのスパッタ膜を形成する場合においては、蛍光部材22とターゲット物質(ジルコニア)との間に印加される高周波電力は、450W以下であることが好ましく、更に好ましくは250W以下である。
また、例えばアルゴンガスなどの不活性ガスの流量は、1〜20sccmであることが好ましい。また、必要に応じて不活性ガスと共に導入される酸素ガスの流量は、0.1〜3sccmであることが好ましい。
この図の例において、フォトニック構造部形成層23Aは、ジルコニアのスパッタ膜よりなり、厚みが600nm程度(具体的には550nm)のものである。また、このフォトニック構造部形成層23Aは、スパッタ装置を用い、ジルコニアをターゲット物質とし、高周波電力が250W、不活性ガスとしてのアルゴンガスの流量が20sccm、酸素ガスの流量が0.5sccmの形成条件により、4時間かけて形成されたものである。このスパッタ膜の成膜中において、蛍光部材22の温度(表面温度)は100℃以下であった。
In order to form the photonic structure portion forming layer 23A by the sputtering method, it is necessary to control the sputtering conditions.
Specifically, it is preferable to reduce the high-frequency voltage applied between the fluorescent member 22 and the target material and reduce the flow rate of the inert gas.
By reducing the applied high-frequency voltage, the temperature of the fluorescent member 22 during the formation of the sputtered film can be lowered. Therefore, recrystallization in the sputtered film formed on the fluorescent member 22 can be suppressed, and the resulting sputtered film can have the intended columnar structure.
By making the flow rate of the inert gas relatively small, the sputtered film formed on the fluorescent member 23 is dense, specifically, the columnar unit aspect ratio is large and a fine space is formed between the columnar units. And a high refractive index.
In order to make the sputtered film have a high refractive index, it is preferable to introduce oxygen gas together with inert gas.
Specifically, when a sputtering apparatus is used to form a zirconia sputtered film as the photonic structure part forming layer 23A, the high frequency power applied between the fluorescent member 22 and the target material (zirconia) is 450 W or less. Preferably, it is 250 W or less.
For example, the flow rate of an inert gas such as argon gas is preferably 1 to 20 sccm. Moreover, it is preferable that the flow volume of the oxygen gas introduce | transduced with an inert gas as needed is 0.1-3 sccm.
In the example of this figure, the photonic structure portion forming layer 23A is made of a zirconia sputtered film and has a thickness of about 600 nm (specifically, 550 nm). The photonic structure portion forming layer 23A is formed by using a sputtering apparatus, using zirconia as a target material, high-frequency power of 250 W, an argon gas flow rate of 20 sccm, and an oxygen gas flow rate of 0.5 sccm as an inert gas. Depending on conditions, it was formed over 4 hours. During the formation of the sputtered film, the temperature (surface temperature) of the fluorescent member 22 was 100 ° C. or lower.

その後、蛍光部材22上に形成されたフォトニック構造部形成層23Aの表面(図5(b)における上面)に、例えばスピンコート法によってレジスト膜を得、このレジスト膜をナノインプリント法によりパターニングする。   Thereafter, a resist film is obtained on the surface of the photonic structure portion forming layer 23A formed on the fluorescent member 22 (upper surface in FIG. 5B) by, for example, a spin coating method, and this resist film is patterned by a nanoimprint method.

ナノインプリント法によってレジスト膜にパターンニングする手法としては、先ず、図5(c)に示すように、形成すべきフォトニック構造部23における周期構造41に対応するパターン(具体的には、複数の凹部52が配列されてなるパターン)を有するソフトモールド51を形成する。ソフトモールド51としては、例えば熱硬化型材料よりなるもの、または紫外線硬化型材料よりなるものなどが用いられる。
そして、ナノインプリント装置を用い、図5(d)に示すように、フォトニック構造部形成層23A上に形成されたレジスト膜にソフトモールド51を押し付けることにより、当該レジスト膜に、ソフトモールド51に形成されたパターンを転写する。これにより、図5(e)に示すように、フォトニック構造部形成層23A上に、周期460nmのレジストパターン膜27が形成される。
この図の例において、レジストパターン膜27は、フォトニック構造部形成層23Aの表面全面を覆うように形成されており、フォトニック構造部形成層23Aの表面に形成された薄膜部28Aと、この薄膜部28A上に形成された複数の凸部28Bとを有している。そして、この複数の凸部28Bが、形成すべきフォトニック構造部23の周期構造41を構成する凸部43に対応する一定の間隔(周期(凸部28B間の中心間距離)が460nmの等間隔)で配設されたものである。
As a technique for patterning a resist film by the nanoimprint method, first, as shown in FIG. 5C, a pattern (specifically, a plurality of concave portions corresponding to the periodic structure 41 in the photonic structure portion 23 to be formed). A soft mold 51 having a pattern in which 52 is arranged is formed. As the soft mold 51, for example, one made of a thermosetting material or one made of an ultraviolet curable material is used.
Then, using the nanoimprint apparatus, as shown in FIG. 5D, the soft mold 51 is pressed against the resist film formed on the photonic structure part forming layer 23A, thereby forming the soft mold 51 on the resist film. The transferred pattern is transferred. As a result, as shown in FIG. 5E, a resist pattern film 27 having a period of 460 nm is formed on the photonic structure portion forming layer 23A.
In the example of this figure, the resist pattern film 27 is formed so as to cover the entire surface of the photonic structure portion forming layer 23A, a thin film portion 28A formed on the surface of the photonic structure portion forming layer 23A, and this A plurality of convex portions 28B formed on the thin film portion 28A. The plurality of protrusions 28B have a constant interval (period (distance between the centers of the protrusions 28B) corresponding to the protrusions 43 constituting the periodic structure 41 of the photonic structure part 23 to be formed is 460 nm, etc. (Interval).

そして、表面にレジストパターン膜27が形成されたフォトニック構造部形成層23Aに対して、ドライエッチング処理を施すことにより、図5(f)に示すように、表面(図5(f)における上面)に周期構造41を有するフォトニック構造部23を得る。
ドライエッチング処理の手法の具体例としては、ICP(Inductive Coupling Plasma:誘電結合方式)エッチング法が挙げられる。
このICPエッチング法によって周期構造41を形成するための形成条件としては、当該周期構造41の形状(具体的には、例えば凸部43の形状および周期構造アスペクト比等)などに応じ、また必要に応じてフォトニック構造部形成層23Aの材質および柱状単位アスペクト比などを考慮して適宜に定められる。
具体的には、エッチングガスとしては、例えばシランガス(SiH4 )、四フッ化ケイ素ガス(SiF4 )、ジボランガス(B2 6 )および三塩化ホウ素ガス(BCl3 )などが用いられる。また、高周波電力は、100〜700Wとされ、バイアス電力は、1〜30Wとされる。
この図の例において、フォトニック構造部23の周期構造41は、ICPエッチング法により、エッチングガスとして三塩化ホウ素ガス(BCl3 )を用い、高周波電力が700W、バイアス電力が20Wの形成条件によって、処理時間350secで形成されたものである。
Then, a dry etching process is performed on the photonic structure portion forming layer 23A on which the resist pattern film 27 is formed on the surface, so that the surface (the upper surface in FIG. 5F) is obtained as shown in FIG. The photonic structure portion 23 having the periodic structure 41 is obtained.
A specific example of the dry etching method is an ICP (Inductive Coupling Plasma) etching method.
The formation conditions for forming the periodic structure 41 by this ICP etching method are as necessary or necessary depending on the shape of the periodic structure 41 (specifically, for example, the shape of the convex portion 43 and the periodic structure aspect ratio). Accordingly, the thickness is appropriately determined in consideration of the material of the photonic structure portion forming layer 23A, the columnar unit aspect ratio, and the like.
Specifically, for example, silane gas (SiH 4 ), silicon tetrafluoride gas (SiF 4 ), diborane gas (B 2 H 6 ), boron trichloride gas (BCl 3 ), or the like is used as the etching gas. The high frequency power is 100 to 700 W, and the bias power is 1 to 30 W.
In the example of this figure, the periodic structure 41 of the photonic structure portion 23 is formed by using boron trichloride gas (BCl 3 ) as an etching gas by an ICP etching method, with a high-frequency power of 700 W and a bias power of 20 W. It is formed with a processing time of 350 seconds.

その後、形成されたフォトニック構造部23上に残されたレジストパターン膜27の残膜27Aを、有機溶剤にて除去することにより、図5(g)に示すような構成の波長変換部材21を得る。
この図の例において、得られた波長変換部材21のSEM写真を図6に示す。この波長変換部材21の柱状単位アスペクト比は、9.3であった。
Thereafter, the remaining film 27A of the resist pattern film 27 left on the formed photonic structure portion 23 is removed with an organic solvent, whereby the wavelength conversion member 21 having the configuration as shown in FIG. obtain.
In the example of this figure, the SEM photograph of the obtained wavelength conversion member 21 is shown in FIG. The columnar unit aspect ratio of the wavelength conversion member 21 was 9.3.

そして、このようにして得られた波長変換部材21を、必要に応じて光反射膜33および拡散反射部材34を設けた状態で基板31上に接合することによって蛍光発光部材20を得、この蛍光発光部材20、レーザダイオード11およびその他の構成部材を適宜の位置に配設することによって蛍光光源装置10が製造される。   Then, the wavelength conversion member 21 obtained in this way is bonded onto the substrate 31 with the light reflection film 33 and the diffuse reflection member 34 provided as necessary, thereby obtaining the fluorescent light emitting member 20, and this fluorescence. The fluorescent light source device 10 is manufactured by arranging the light emitting member 20, the laser diode 11, and other components at appropriate positions.

蛍光光源装置10において、レーザダイオード11から出射されたレーザ光である励起光Lは、コリメータレンズ15によって平行光線とされる。その後、この励起光Lは、ダイクロイックミラー16を透過して蛍光発光部材20における波長変換部材21の励起光受光面すなわちフォトニック構造部23の表面に対して略垂直に照射され、当該フォトニック構造部23を介して蛍光部材22に入射される。そして、蛍光部材22においては、当該蛍光部材22を構成する蛍光体が励起される。これにより、蛍光部材22において蛍光が放射される。この蛍光は、蛍光出射面すなわちフォトニック構造部23の表面から出射され、ダイクロイックミラー16によって垂直方向に反射された後、蛍光光源装置の外部に出射される。   In the fluorescent light source device 10, the excitation light L that is laser light emitted from the laser diode 11 is converted into parallel rays by the collimator lens 15. Thereafter, the excitation light L passes through the dichroic mirror 16 and is irradiated substantially perpendicularly to the excitation light receiving surface of the wavelength conversion member 21 in the fluorescent light emitting member 20, that is, the surface of the photonic structure portion 23. The light enters the fluorescent member 22 through the portion 23. And in the fluorescent member 22, the fluorescent substance which comprises the said fluorescent member 22 is excited. Thereby, fluorescence is emitted in the fluorescent member 22. This fluorescence is emitted from the fluorescence emission surface, that is, the surface of the photonic structure portion 23, reflected in the vertical direction by the dichroic mirror 16, and then emitted to the outside of the fluorescence light source device.

このような蛍光光源装置10においては、波長変換部材21が蛍光部材22の表面にフォトニック構造部23が形成されたものであり、このフォトニック構造部23の表面によって励起光受光面および蛍光出射面が構成されている。そして、フォトニック構造部23の表面には、略円錐状の凸部25が二次元周期的に配列されてなる周期構造24が形成されている。そのため、蛍光部材22を構成する蛍光体から放射される蛍光を高い効率によって波長変換部材21の蛍光出射面であるフォトニック構造部23の表面から外部に取り出すことができる。しかも、波長変換部材21から蛍光を高い効率で取り出すことができるため、蛍光出射面から出射させることのできない蛍光によって蛍光部材22が加熱されることが抑制される。そのため、波長変換部材21における蛍光部材22の温度上昇が抑制されることから、蛍光体において温度消光が生じることに起因する蛍光光量の低減を抑制することができる。
しかも、フォトニック構造部23は、その材質が無機化合物(金属酸化物)であることから、励起光Lであるレーザ光の熱などの熱の影響によって形状が変形することがない。そのため、波長変換部材21においては、長期間にわたって蛍光出射面から蛍光を高い効率で取り出すことができる。
従って、蛍光光源装置10によれば、波長変換部材21の内部において生じる蛍光を有効に利用して高い効率で外部に出射することができることから、高い発光効率が得られる。
In such a fluorescent light source device 10, the wavelength conversion member 21 is formed by forming the photonic structure portion 23 on the surface of the fluorescence member 22, and the excitation light receiving surface and the fluorescence emission are formed by the surface of the photonic structure portion 23. The surface is configured. On the surface of the photonic structure portion 23, a periodic structure 24 is formed in which approximately conical convex portions 25 are two-dimensionally arranged. Therefore, the fluorescence radiated from the phosphor constituting the fluorescent member 22 can be taken out from the surface of the photonic structure portion 23 that is the fluorescent emission surface of the wavelength conversion member 21 with high efficiency. Moreover, since the fluorescence can be extracted from the wavelength conversion member 21 with high efficiency, the fluorescence member 22 is suppressed from being heated by the fluorescence that cannot be emitted from the fluorescence emission surface. Therefore, since the temperature rise of the fluorescent member 22 in the wavelength conversion member 21 is suppressed, it is possible to suppress a reduction in the amount of fluorescent light due to the occurrence of temperature quenching in the phosphor.
Moreover, since the material of the photonic structure portion 23 is an inorganic compound (metal oxide), the shape thereof is not deformed by the influence of heat such as the heat of the laser light that is the excitation light L. Therefore, in the wavelength conversion member 21, fluorescence can be extracted from the fluorescence emission surface over a long period of time with high efficiency.
Therefore, according to the fluorescent light source device 10, since the fluorescence generated inside the wavelength conversion member 21 can be effectively used and emitted to the outside with high efficiency, high luminous efficiency can be obtained.

また、この蛍光光源装置10は、波長変換部材21が、蛍光部材22とフォトニック構造部23とからなるものであることから、蛍光部材22を周期構造が形成されたものとする必要がない。しかも、フォトニック構造部23を構成する特定無機化合物層が優れた加工性(加工容易性)を有するものである。そのため、波長変換部材形成工程を経ることにより、所期の形状を有する周期構造24を容易に形成することができる。   Further, in this fluorescent light source device 10, since the wavelength conversion member 21 is composed of the fluorescent member 22 and the photonic structure portion 23, it is not necessary for the fluorescent member 22 to have a periodic structure. And the specific inorganic compound layer which comprises the photonic structure part 23 has the outstanding workability (workability). Therefore, the periodic structure 24 having the desired shape can be easily formed through the wavelength conversion member forming step.

以上、本発明の実施の形態について説明したが、本発明は上記の実施の形態に限定されるものではなく、種々の変更を加えることが可能である。
例えば、波長変換部材は、蛍光部材上に形成されたフォトニック構造部が特定無機化合物層により構成されたものであればよく、当該フォトニック構造部におけるフォトニック構造(周期構造)が図1〜図4に係る周期構造に限定されるものではない。具体的に、波長変換部材は、図5(g)および図7に示すような構造を有するものであってもよい。
具体的に、図7(a)に係るフォトニック構造部23は、蛍光部材22の表面に設けられた薄膜部42と、この薄膜部42上に設けられた複数(図7(a)においては4つ)の錘状(例えば、略円錐状)の凸部43とにより構成されていること以外は、図1に係るフォトニック構造部23と同様の構成を有するものである。図7(b)に係るフォトニック構造部23は、凸部43の形状が錐台状(例えば、円錐台状)であること以外は、図7(a)に係るフォトニック構造部23と同様の構成を有するものである。図7(c)のフォトニック構造部23は、凸部43が、当該凸部43の高さ方向の断面形状が六角形状とされたものであり、これらの複数の凸部43が互いに離間した状態で一定の間隔で配列されていること以外は、図7(a)に係るフォトニック構造部23と同様の構成を有するものである。この図7(c)の例において、凸部43の高さ方向に垂直な方向の断面形状は円状である。
ここに、凸部43の形状が、図5(g)、図7(b)および図7(c)に示されているように、先端部43aが平坦とされたものである場合には、先端部43aの寸法(最大寸法)は、励起光Lの波長未満とされる。
Although the embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made.
For example, the wavelength conversion member only needs to have a photonic structure formed on a fluorescent member formed of a specific inorganic compound layer, and the photonic structure (periodic structure) in the photonic structure is shown in FIGS. It is not limited to the periodic structure according to FIG. Specifically, the wavelength conversion member may have a structure as shown in FIG.
Specifically, the photonic structure portion 23 according to FIG. 7A includes a thin film portion 42 provided on the surface of the fluorescent member 22 and a plurality of (in FIG. 7A) provided on the thin film portion 42. The photonic structure portion 23 has the same configuration as that of the photonic structure portion 23 shown in FIG. 1 except that it is constituted by four (4) weight-like (for example, substantially conical) convex portions 43. The photonic structure portion 23 according to FIG. 7B is the same as the photonic structure portion 23 according to FIG. 7A except that the shape of the convex portion 43 is a frustum shape (for example, a truncated cone shape). It has the structure of. In the photonic structure portion 23 of FIG. 7C, the convex portion 43 has a sectional shape in the height direction of the convex portion 43 that is hexagonal, and the plurality of convex portions 43 are separated from each other. The photonic structure portion 23 has the same configuration as that of the photonic structure portion 23 shown in FIG. In the example of FIG. 7C, the cross-sectional shape in the direction perpendicular to the height direction of the convex portion 43 is circular.
Here, when the shape of the convex portion 43 is such that the tip portion 43a is flat as shown in FIGS. 5 (g), 7 (b) and 7 (c), The dimension (maximum dimension) of the tip part 43a is less than the wavelength of the excitation light L.

図5(g)および図7(a)〜(c)に示されているように、フォトニック構造部23が薄膜部42と凸部43とを有する構成のものである場合には、フォトニック構造部23と蛍光部材22との間に高い密着性が得られるため、フォトニック構造部23と蛍光部材22との間に剥離が生じることが抑制される。
また、図5(g)、図7(b)および図7(c)に示されているように、凸部43の先端部43aが平坦である場合には、例えば蛍光光源装置の製造過程における構成部材の組み立て工程などにおいて、凸部43の先端部43aに、他の構成部材(例えば、ダイクロイックミラー16など)が接触することなどに起因して破損が生じることが抑制される。
As shown in FIG. 5G and FIGS. 7A to 7C, when the photonic structure portion 23 has a configuration having a thin film portion 42 and a convex portion 43, a photonic structure is formed. Since high adhesiveness is obtained between the structure part 23 and the fluorescent member 22, the occurrence of peeling between the photonic structure part 23 and the fluorescent member 22 is suppressed.
Further, as shown in FIGS. 5G, 7B, and 7C, when the tip 43a of the convex portion 43 is flat, for example, in the manufacturing process of the fluorescent light source device. In the process of assembling the constituent members, the occurrence of breakage due to contact of the other constituent members (for example, the dichroic mirror 16) with the tip portion 43a of the convex portion 43 is suppressed.

また、波長変換部材は、フォトニック構造部の表面によって波長変換部材における蛍光出射面が形成されていればよく、波長変換部材における励起光受光面が、例えば蛍光部材の裏面によって形成されたものであってもよい。
また、蛍光光源装置全体の構造は、図1に示すものに限定されず、種々の構成を採用することができる。
Moreover, the wavelength conversion member should just be that the fluorescence emission surface in the wavelength conversion member was formed by the surface of the photonic structure part, and the excitation light receiving surface in the wavelength conversion member was formed by the back surface of the fluorescence member, for example There may be.
Moreover, the structure of the whole fluorescence light source device is not limited to what is shown in FIG. 1, A various structure is employable.

10 蛍光光源装置
11 レーザダイオード
15 コリメータレンズ
16 ダイクロイックミラー
20 蛍光発光部材
21 波長変換部材
22 蛍光部材
23 フォトニック構造部
23A 無機化合物層(フォトニック構造部形成層)
24 周期構造
25 凸部
27 レジストパターン膜
27A 残膜
28A 薄膜部
28B 凸部
31 基板
33 光反射膜
34 拡散反射部材
39 放熱部材
39a 放熱用フィン
41 周期構造
42 薄膜部
43 凸部
51 ソフトモールド
52 凹部
61 蛍光部材
62 基板
63 硫酸バリウム層
65 放熱部材
65a 放熱用フィン
L 励起光
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Fluorescence light source device 11 Laser diode 15 Collimator lens 16 Dichroic mirror 20 Fluorescence light emission member 21 Wavelength conversion member 22 Fluorescence member 23 Photonic structure part 23A Inorganic compound layer (photonic structure part formation layer)
24 periodic structure 25 convex portion 27 resist pattern film 27A residual film 28A thin film portion 28B convex portion 31 substrate 33 light reflection film 34 diffuse reflection member 39 heat dissipation member 39a heat dissipation fin 41 periodic structure 42 thin film portion 43 convex portion 51 soft mold 52 concave portion 61 Fluorescent member 62 Substrate 63 Barium sulfate layer 65 Heat radiating member 65a Heat radiating fin L Excitation light

Claims (5)

励起用光源と、
前記励起用光源からの励起光を、当該励起光の波長よりも長波長の光に変換する波長変換部材と、
前記波長変換部材を支持する基板と
を備えてなる蛍光光源装置であって、
前記波長変換部材は、蛍光部材と、前記蛍光部材上に配置され、その表面に複数の凸部が形成されたフォトニック構造部とを具備し、
前記蛍光部材と前記基板との間に光反射膜が設けられており、
前記フォトニック構造部は、金属酸化物よりなる無機化合物層からなり、前記フォトニック構造部の表面によって、励起光受光面および蛍光出射面が構成されていることを特徴とする蛍光光源装置。
An excitation light source;
A wavelength conversion member that converts excitation light from the excitation light source into light having a longer wavelength than the wavelength of the excitation light;
A fluorescent light source device comprising a substrate supporting the wavelength conversion member,
The wavelength conversion member includes a fluorescent member, and a photonic structure portion disposed on the fluorescent member and having a plurality of convex portions formed on the surface thereof,
A light reflecting film is provided between the fluorescent member and the substrate;
The photonic structure portion is composed of an inorganic compound layer made of a metal oxide, and an excitation light receiving surface and a fluorescence emission surface are constituted by the surface of the photonic structure portion.
前記無機化合物層は、複数の柱状単位よりなり、これらの複数の柱状単位の各々が前記蛍光部材から遠ざかる方向に伸び、かつ互いに隣接する柱状単位間に微小空間が形成された多孔性のものであることを特徴とする請求項1に記載の蛍光光源装置。   The inorganic compound layer includes a plurality of columnar units, each of the plurality of columnar units extends in a direction away from the fluorescent member, and is a porous layer in which a minute space is formed between adjacent columnar units. The fluorescent light source device according to claim 1, wherein the fluorescent light source device is provided. 前記無機化合物層を構成する金属酸化物は、アルミナ(Al2 3 )、酸化ハフニウム(HfO2 )、酸化マグネシウム(MgO)、酸化スズ(SnO2 )、酸化タングステン(WO3 )、酸化イットリウム(Y2 3 )、酸化インジウムスズ(ITO)、ジルコニア(ZrO2 )、酸化タンタル(Ta2 5 )、酸化チタン(TiO2 )、酸化ニオブ(Nb2 5 )、およびジルコニア(ZrO2 )と酸化チタン(TiO2 )との混合物のいずれかであることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の蛍光光源装置。 The metal oxide constituting the inorganic compound layer includes alumina (Al 2 O 3 ), hafnium oxide (HfO 2 ), magnesium oxide (MgO), tin oxide (SnO 2 ), tungsten oxide (WO 3 ), yttrium oxide ( Y 2 O 3 ), indium tin oxide (ITO), zirconia (ZrO 2 ), tantalum oxide (Ta 2 O 5 ), titanium oxide (TiO 2 ), niobium oxide (Nb 2 O 5 ), and zirconia (ZrO 2 ) The fluorescent light source device according to claim 1, wherein the fluorescent light source device is a mixture of titanium oxide and titanium oxide (TiO 2 ). 前記波長変換部材の側面に、拡散反射部材が設けられていることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の蛍光光源装置。   The fluorescent light source device according to any one of claims 1 to 3, wherein a diffuse reflection member is provided on a side surface of the wavelength conversion member. 前記励起用光源からの励起光が前記励起光受光面に入射する方向と、前記フォトニック構造部における凸部が伸びる方向とが同じであることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれかに記載の蛍光光源装置。   The direction in which the excitation light from the excitation light source is incident on the excitation light receiving surface is the same as the direction in which the convex portion of the photonic structure extends. A fluorescent light source device according to claim 1.
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