JP2016191084A - 表面処理された銅微粒子及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】粒成長抑制剤の存在下で化学還元法又は不均化反応を行って得られた銅微粒子を、希硫酸と混合した後に又は希硫酸と混合しないで、銅微粒子に対して0.03〜10重量%の窒素含有有機物を含む水溶液と混合することで、耐酸化性に優れ、低温焼結性を兼ね備えた、平均粒径が0.1〜1.0μmの表面処理された銅微粒子。前記窒素含有有機物が下記式で例示される様な化合物である表面処理された銅微粒子。
【選択図】なし
Description
従来の電子部品における電極、回路は、絶縁基板に銅箔を貼りあわせるか、基板全面にめっきで金属層を形成した後にエッチング、または絶縁基板にパターニングを利用した無電解めっきにより形成される。近年は省資源、コストの観点から、必要なところに必要な分だけ金属源を供給できる金属粉ペーストによる電極、回路の形成が注目されている。
製造コスト、材料への熱負荷の観点からは、金属粉ペーストは低温で焼成することが望まれる。このためには、金属粉は小さいものが好ましい。
金属粉ペーストの中でも、銀粉ペーストは、電気抵抗が低く、大気下でも焼成できる。しかし、銀粉ペーストで電極、回路を形成すると、マイグレーションの懸念がある。また、貴金属なので材料コストがかさむ。そこで、銅粉ペーストが検討されている。
一方で、銅は銀よりも酸化しやすい。よって銅粉は銀粉よりも酸化しやすい。サイズが小さくなることで表面積が増えているので、小さい銅粉は酸化しやすく、表面の酸化銅層が焼結障害となる。銅粉ペーストを低温で焼結させるために、銅粉の酸化を防ぐための処理が検討されている。
銅粉の酸化を防ぐ処理として、銅粉の表面に物質を吸着させる処理がある。特許文献1は、銅粉の表面にオレイン酸等の脂肪酸を吸着させる技術を開示している。これらは水に溶け難いので、有機溶媒に分散させた後に銅粉に吸着させる必要がある。あるいは、反応場を有機溶媒とし、予め銅粉表面に被覆させる有機物を溶媒に分散させた上で、製粉反応時において、核発生後の成長段階で前記有機物を銅粉表面に付着させる。有機溶媒自身を被覆物として作用させる方法もある(特許文献2、特許文献3)。あるいは、ポリビニルピロリドン等の水溶性高分子を保護コロイドとして反応場に存在させて、銅酸化物を還元剤で還元し、銅微粒子を得る方法がある(特許文献3、4)。
(1)
粒成長抑制剤の存在下で化学還元法又は不均化反応を行って得られた銅微粒子を、
銅微粒子に対して0.03〜10重量%の窒素含有有機物を含む水溶液と混合して得られた、表面処理された銅微粒子。
(2)
粒成長抑制剤の存在下で化学還元法又は不均化反応を行って得られた銅微粒子を、希硫酸と混合した後に、
さらに、銅微粒子に対して0.03〜10重量%の窒素含有有機物を含む水溶液と混合して得られた、表面処理された銅微粒子。
(3)
窒素含有有機物を含む水溶液が、アルカリ性の水溶液である、(1)又は(2)に記載の表面処理された銅微粒子。
(4)
窒素含有有機物が、
アミノ酸;又は
以下のいずれかの基:
−CH(OH)−CH2−NR1R2基
(ただし、R1及びR2はそれぞれ独立に、
C1〜C8のアルキル基、C1〜C8のヒドロキシアルキル基、C2〜C8のアルコキシアルキル基、C7〜C10の置換又は無置換のフェニルアルキル基、C6〜C8の置換又は無置換のフェニル基、C12〜C16の置換又は無置換のナフチル基、C3〜C8の直鎖又は分枝のアルケニル基からなる群から選択された基である。)
又は
−CH(OH)−CH2−[N+R1R2R3]X1 -基
(ただし、R1、R2及びR3はそれぞれ独立に、
C1〜C8のアルキル基、C1〜C8のヒドロキシアルキル基、C2〜C8のアルコキシアルキル基、C7〜C10の置換又は無置換のフェニルアルキル基、C6〜C8の置換又は無置換のフェニル基、C12〜C16の置換又は無置換のナフチル基、C3〜C8の直鎖又は分枝のアルケニル基からなる群から選択された基であり、
X1 -は、ハロゲン化物イオン、CH3SO4 -からなる群から選択された1価のアニオンである)
を1個以上有するアミン化合物
である、(1)〜(3)のいずれかに記載の表面処理された銅微粒子。
(5)
窒素含有有機物が、次の式I:
R基は、以下のいずれかの基である:
−NR1R2基
(ただし、R1及びR2はそれぞれ独立に、
C1〜C8のアルキル基、C1〜C8のヒドロキシアルキル基、C2〜C8のアルコキシアルキル基、C7〜C10の置換又は無置換のフェニルアルキル基、C6〜C8の置換又は無置換のフェニル基、C12〜C16の置換又は無置換のナフチル基、C3〜C8の直鎖又は分枝のアルケニル基からなる群から選択された基である。)
又は
−[N+R1R2R3]X1 -基
(ただし、R1、R2及びR3はそれぞれ独立に、
C1〜C8のアルキル基、C1〜C8のヒドロキシアルキル基、C2〜C8のアルコキシアルキル基、C7〜C10の置換又は無置換のフェニルアルキル基、C6〜C8の置換又は無置換のフェニル基、C12〜C16の置換又は無置換のナフチル基、C3〜C8の直鎖又は分枝のアルケニル基からなる群から選択された基であり、
X1 -は、ハロゲン化物イオン、CH3SO4 -からなる群から選択された1価のアニオンである))
で表される窒素含有有機物である、(1)〜(4)のいずれかに記載の表面処理された銅微粒子。
(6)
粒成長抑制剤が、天然樹脂、多糖類、及びゼラチンから選択された1種以上である、(1)〜(5)のいずれかに記載の表面処理された銅微粒子。
(7)
銅微粒子の平均粒径が、0.1〜1.0μmの範囲にある、(1)〜(6)のいずれかに記載の表面処理された銅微粒子。
(8)
銅微粒子が、粒子表面の少なくとも一部に亜酸化銅層を有する、(1)〜(7)のいずれかに記載の表面処理された銅微粒子。
(9)
(1)〜(8)のいずれかに記載の表面処理された銅微粒子;及び
沸点250℃以下であるアルコール又はグリコール
を含んでなる、銅微粒子ペースト。
(10)
さらにアクリル樹脂、又はロジンを含む(9)に記載の銅微粒子ペースト。
(11)
(9)又は(10)に記載の銅微粒子ペーストを非酸化性雰囲気下で350℃以下で焼成して得られた、50μΩcm以下の比抵抗である焼成体。
粒成長抑制剤の存在下で化学還元法又は不均化反応を行って得られた銅微粒子を、
銅微粒子に対して0.03〜10重量%の窒素含有有機物を含む水溶液と混合する工程、
を含む、表面処理された銅微粒子を製造する方法。
(22)
粒成長抑制剤の存在下で化学還元法又は不均化反応を行って得られた銅微粒子を、希硫酸と混合して、希硫酸処理銅微粒子を得る工程、
希硫酸処理銅微粒子を、銅微粒子に対して0.03〜10重量%の窒素含有有機物を含む水溶液と混合する工程、
を含む、表面処理された銅微粒子を製造する方法。
(23)
(21)又は(22)に記載の方法によって製造された表面処理された銅微粒子を、沸点250℃以下であるアルコール又はグリコールと混合して銅微粒子ペーストを得る工程、
を含む、銅微粒子ペーストを製造する方法。
(24)
(21)又は(22)に記載の方法によって製造された表面処理された銅微粒子を、沸点250℃以下であるアルコール又はグリコール、アクリル樹脂、又はロジンと混合して銅微粒子ペーストを得る工程、
を含む、銅微粒子ペーストを製造する方法。
(25)
(23)又は(24)に記載の方法によって製造された銅微粒子ペーストを、非酸化性雰囲気下で350℃以下で焼成して焼成体を得る工程、
を含む、焼成体を製造する方法。
[表面処理された銅微粒子の製造]
本発明による表面処理された銅微粒子は、粒成長抑制剤の存在下で化学還元法又は不均化反応を行って得られた銅微粒子を、銅微粒子に対して0.03〜10重量%の窒素含有有機物を含む水溶液と混合する工程、を含む方法によって、製造することができる。
本発明で表面処理される銅微粒子は、粒成長抑制剤の存在下で化学還元法又は不均化反応を行って得られた銅微粒子である。銅微粒子は、粒子表面の少なくとも一部に亜酸化銅層を有していてもよく、有していなくてもよい。
化学還元法又は不均化反応は、公知の手段によって行って、微細なサイズの銅微粒子を得ることができる。
好適な実施の態様において、銅微粒子の平均粒径が、例えば0.1〜1.0μmの範囲にある銅微粒子を、好適に表面処理することができる。
化学還元法又は不均化反応では、微細なサイズの銅微粒子を得るために、粒成長抑制剤が使用される。粒成長抑制剤としては、水溶性高分子であれば特に制限がないが、例えば、天然樹脂、多糖類、及びゼラチンから選択された1種以上を挙げることができる。
好適な実施の態様において、粒成長抑制剤の存在下で化学還元法又は不均化反応を行って得られた銅微粒子を、希硫酸と混合して、希硫酸処理銅微粒子とした後に、表面処理される銅微粒子として、使用することができる。希硫酸との混合は、例えば0.1N〜30Nの範囲の希硫酸を、銅粉と撹拌や超音波を照射しながら混合することで行うことができる。希硫酸処理した銅微粒子は、公知の手段によって希硫酸を含むスラリーのなかから分離して、その後の窒素含有有機物を含む水溶液との混合処理に、供することができる。
好適な実施の態様において、窒素含有有機物を含む水溶液が、アルカリ性の水溶液である。
好適な実施の態様において、窒素含有有機物は、アミノ酸又はアミン化合物である。窒素含有有機物は、銅微粒子に対して、例えば0.03〜10重量%、0.05〜10重量%、0.1〜10重量%、0.4〜10重量%の比率となるように使用できる。粒成長抑制剤の存在下で化学還元法又は不均化反応を行って銅微粒子を得る工程から、窒素含有有機物を含む水溶液と混合する工程までを、一貫して湿式で行う場合等においては、作業性の観点から、窒素含有有機物を、銅微粒子に対して上記重量%の範囲の使用量で使用することに代えて、窒素含有有機物を、銅微粒子の原料となる銅化合物(例えば亜酸化銅、酸化銅等)に対して上記重量%の範囲の使用量で使用することもできる。
アミノ酸としては、いわゆる天然のアミノ酸であってもよく、非天然の人工アミノ酸であってもよく、側鎖としてさらにアミノ基又はイミノ基を有するアミノ酸が好ましい。アミノ酸として、例えば、Trp、Asn、Arg、His、Lysを挙げることができる。アミノ酸として、これらのアミノ酸のポリマーを使用することもできる。好適な実施の態様において、アミノ酸のポリマーは全体として水溶性を有するものとできる。
アミン化合物としては、3級アミン化合物、又は4級アミン化合物を使用することができる。このようなアミン化合物として、−CH(OH)−CH2−NR1R2基、又は−CH(OH)−CH2−[N+R1R2R3]X1 -基を有するアミン化合物を挙げることができる。これらの基は、例えば、1個又は2個以上、あるいは3個〜16個、3個〜12個、3個〜8個、4〜6個を、アミン化合物中に有していてもよい。
このようなアミン化合物として、次の式I:
を好適に使用することができる。式中、nは、1〜8の整数、好ましくは1〜6の整数、2〜4の整数とすることができる。
上記のR1及びR2はそれぞれ独立に、あるいは上記のR1、R2及びR3はそれぞれ独立に、C1〜C8のアルキル基、C1〜C8のヒドロキシアルキル基、C2〜C8のアルコキシアルキル基、C7〜C10の置換又は無置換のフェニルアルキル基、C6〜C8の置換又は無置換のフェニル基、C12〜C16の置換又は無置換のナフチル基、C3〜C8の直鎖又は分枝のアルケニル基からなる群から選択された基とすることができる。好適な実施の態様において、R1及びR2を同じ基とすることができる。好適な実施の態様において、R3を、例えば芳香族環を有する基とすることができる。好適な実施の態様において、これらの置換基は、アミン化合物が全体として水溶性を有するように、選択される。
上記のX1 -は、ハロゲン化物イオン、CH3SO4 -からなる群から選択された1価のアニオンである。
上記式Iの骨格のアミン化合物に加えて、例えば、以下の骨格のアミン化合物を例示することができる:
銅微粒子は、窒素含有有機物を含む水溶液と混合することによって表面処理された後に、公知の手段によって適宜水溶液から分離し、必要に応じて乾燥や解砕を行って、その後の導電性ペースト(銅微粒子ペースト)の製造に適した形態として、表面処理された銅微粒子を得ることができる。
本発明の表面処理された銅微粒子は、低温焼結性に優れ、例えば銅微粒子ペーストとした場合に、例えば400℃以下、350℃以下、300℃以下、250℃以下の焼結温度、例えば200℃以上、230℃以上、250℃以上の焼結温度で、優れた焼成体を得ることができる。
表面処理された銅微粒子を使用して、公知の手段によって、導電性ペースト(銅微粒子ペースト)を製造することができる。好適な実施の態様において、例えば表面処理された銅微粒子を、沸点250℃以下であるアルコール又はグリコールと混合して銅微粒子ペーストを得ることができる。ペーストには粘度調整のためにバインダー樹脂を加えてもよい。銅微粒子は非酸化性雰囲気下又は還元性雰囲気下で焼成されるので、バインダー樹脂としては熱分解型のバインダー樹脂が好ましい。好適なバインダー樹脂として、アクリル樹脂、ロジンが挙げられる。あるいは、所望に応じて、優れた低温焼結性を妨げない範囲内で、公知の溶剤、添加剤、ガラスフリットを使用してもよい。ガラスフリットは銅微粒子よりも大きいと、平坦な塗膜を形成する際の障害となることから、銅微粒子のD50の20倍未満のD50であることが望ましい。混合は、公知の手段によって行うことができ、1段階又は2段階以上の混練によって行ってもよい。
銅微粒子ペーストを使用して、公知の手段によって、塗工等を行い、焼成を行って、焼成体を製造することができる。好適な実施の態様において、例えば銅微粒子ペーストを、非酸化性雰囲気下で350℃以下で焼成して焼成体を得ることができる。
焼結は、例えば非酸化性雰囲気下又は還元性雰囲気下で行うことができる。非酸化性雰囲気下とは、酸化性気体が含まれない又は低減された雰囲気をいい、例えば酸素が完全又は十分に除去された雰囲気をいう。還元性雰囲気は、雰囲気中にCO、H2S、SO2、H2、HCHO、HCOOH、H2O等の還元性気体が、0.5vol%以上、好ましくは1.0vol%以上で含まれる雰囲気をいう。還元性雰囲気としては、例えば、大気圧の気体窒素及び気体水素を含む雰囲気を挙げることができる。
本発明による銅微粒子ペーストは、表面処理された銅微粒子の優れた低温焼結性を反映して、低温での焼結によっても、比抵抗に優れた焼成体を製造することができる。焼成体の比抵抗[μΩ・cm]は、実施例に記載の手段によって、測定することができる。好適な実施の態様において、比抵抗の値は、例えば、焼結温度350℃で15μΩ・cm以下、焼結温度300℃で20μΩ・cm以下、焼結温度250℃で44μΩ・cm以下とすることができる。
窒素含有有機物(有機物)として以下の手順でアミン化合物(A1〜A6)を合成した。エポキシ化合物(デナコールEX−521(ナカセケムテックス株式会社製))10.0gとジエタノールアミン5.72gを三口フラスコに投入し、ドライアイス−メタノールを冷却媒体とした冷却管を用意して、60℃で3時間反応を行い、ジエタノールアミンで変性した化合物を得た。得られたジエタノールアミン化合物の構造は下記の通りである。
窒素含有有機物(有機物)として以下の手順でアミン化合物(B1〜B6)を合成した。エポキシ化合物(デナコールEX−521(ナカセケムテックス株式会社製))10.0gとジエタノールアミン5.72gを三口フラスコに投入し、ドライアイス−メタノールを冷却媒体とした冷却管を用意して、60℃で3時間反応を進行させた。その後、冷却管を取り外して、窒素ガスを反応液に吹き込んで余剰のジエタノールアミンを除去した。最後にベンジルクロライドを6.88g反応液に追加し、100℃で3時間反応を行った。FT−IR、1H−NMR、13C−NMRで生成物の構造を特定した。得られたジエタノールアミン化合物の構造は下記の通りである。
1Lビーカー内に亜酸化銅粉50gと保護剤(粒成長抑制剤)としてアラビアゴムまたは魚から精製した動物性ニカワを0.25gを350mLの純水に分散させ、そこに体積比率25%の希硫酸100mLを瞬間的に添加し、不均化反応を行った。このスラリーからデカンテーション、水洗を繰り返し、D50 0.2μmの銅微粒子20gを得た。この銅微粒子20gと、有機物(窒素含有有機物)としてアミンA2を1gを含む水溶液100mLを300rpmで1時間混合した後、銅微粉を回収した。その後、窒素中で70℃で1時間乾燥させた後、解砕し、表面処理された銅微粒子を得た。この銅微粒子を金属比率が85%となるように、ジエチレングリコールと3本ロールで混ぜ合わせ、乾燥塗膜厚で約10μmとなるようにガラス基板上にスクリーン印刷をした。これをN2中で350℃、300℃、250℃の各温度で30分焼成し、得られた焼成体の比抵抗を測定した。
1Lビーカー内に亜酸化銅粉50gと保護剤(粒成長抑制剤)としてアラビアゴムまたは魚から精製した動物性ニカワ0.25gを350mLの純水に分散させ、そこに体積比率25%の希硫酸100mLを瞬間的に添加し、不均化反応を行った。このスラリーからデカンテーション、水洗を繰り返し、D50 0.2μmの銅微粒子20gを得た。この銅微粒子を0.1mol/Lの希硫酸に10分分散させ、同じくデカンテーションにより銅微粒子を回収した。この銅微粒子20gと、有機物(窒素含有有機物)として各種化合物を所定量含む水溶液100mLを300rpmで1時間混合した後、銅微粉を回収した。その後、窒素中で70℃で1時間乾燥させた後、解砕し、表面処理された銅微粒子を得た。例3の手順でペーストを調整し、焼成体の抵抗を測定した。
2Lビーカー内に酸化銅粉末79.6gと保護剤(粒成長抑制剤)としてアラビアゴム0.40gを500mLの純水に分散させ、液温50℃においてpHを8.5±0.1に水酸化ナトリウムを加えて調整した。これにヒドラジン一水和物50.5gを含む500mLの水溶液を瞬間的に添加し、30分間液を300rpmで撹拌した。この間、液温を50℃±0.1℃、pHを8.5±0.1に保持した。その後、デカンテーション、水洗を繰り返して銅微粒子63gを得た。この銅微粒子と有機物(窒素含有有機物)としてアミンA2を1.59g含む水溶液100mLを300rpmで1時間混合した後、銅微粉を回収した。その後、窒素中で70℃で1時間乾燥させた後、解砕し、表面処理された銅微粒子を得た。例3の手順でペーストを調整し、焼成体の抵抗を測定した。
実施例8、14、24の銅微粒子を金属比率が85%となるように、アクリル樹脂0.8%、残部がジヒドロターピネオールの組成で、例3の手順でペーストを調整し、焼成体を得た。
実施例8、14、24の銅微粒子を金属比率が85%となるように、ロジン0.8%、残部がターピネオールの組成で、例3の手順でペーストを調整し、焼成体を得た。
1Lビーカー内に亜酸化銅粉50gと保護剤(粒成長抑制剤)としてアラビアゴム0.25gを350mLの純水に分散させ、そこに体積比率25%の希硫酸100mLを瞬間的に添加し、不均化反応を行った。このスラリーからデカンテーション、水洗を繰り返し、D50 0.2μmの銅微粒子20gを回収した。この銅微粒子を、液温25℃、pH9.0の水酸化ナトリウム水溶液350mLと10分間混合し、デカンテーションにより銅微粒子を分離した。この銅微粒子とBTA0.2gを含む水溶液100mLと30分間混合し、吸引ろ過により銅微粒子を回収した。例3の手順で解砕された銅微粒子をペーストに加工し、焼成体の抵抗を測定した。
*A1;ジエタノールアミン変性物
A2;ジメチルアミン変性物
A3;ビス(2−エトキシエチル)アミン変性物
A4;ジベンジルアミン変性物
A5;ジフェニルアミン変性物
A6;ジアリルアミン変性物
**Trp;トリプトファン、Asn;アスパラギン、Arg;アルギニン、His;ヒスチジン
***B1;ジエタノールアミンベンジルクロライド変性物
B2;ジメチルアミンベンジルクロライド変性物
B3;ビス(2−エトキシエチル)アミンベンジルクロライド変性物
B4;ジベンジルアミンベンジルクロライド変性物
B5;ジフェニルアミンベンジルクロライド変性物
B6;ジアリルアミンベンジルクロライド変性物
Claims (16)
- 粒成長抑制剤の存在下で化学還元法又は不均化反応を行って得られた銅微粒子を、
銅微粒子に対して0.03〜10重量%の窒素含有有機物を含む水溶液と混合して得られた、表面処理された銅微粒子。 - 粒成長抑制剤の存在下で化学還元法又は不均化反応を行って得られた銅微粒子を、希硫酸と混合した後に、
さらに、銅微粒子に対して0.03〜10重量%の窒素含有有機物を含む水溶液と混合して得られた、表面処理された銅微粒子。 - 窒素含有有機物を含む水溶液が、アルカリ性の水溶液である、請求項1又は2に記載の表面処理された銅微粒子。
- 窒素含有有機物が、
アミノ酸;又は
以下のいずれかの基:
−CH(OH)−CH2−NR1R2基
(ただし、R1及びR2はそれぞれ独立に、
C1〜C8のアルキル基、C1〜C8のヒドロキシアルキル基、C2〜C8のアルコキシアルキル基、C7〜C10の置換又は無置換のフェニルアルキル基、C6〜C8の置換又は無置換のフェニル基、C12〜C16の置換又は無置換のナフチル基、C3〜C8の直鎖又は分枝のアルケニル基からなる群から選択された基である。)
又は
−CH(OH)−CH2−[N+R1R2R3]X1 -基
(ただし、R1、R2及びR3はそれぞれ独立に、
C1〜C8のアルキル基、C1〜C8のヒドロキシアルキル基、C2〜C8のアルコキシアルキル基、C7〜C10の置換又は無置換のフェニルアルキル基、C6〜C8の置換又は無置換のフェニル基、C12〜C16の置換又は無置換のナフチル基、C3〜C8の直鎖又は分枝のアルケニル基からなる群から選択された基であり、
X1 -は、ハロゲン化物イオン、CH3SO4 -からなる群から選択された1価のアニオンである)
を1個以上有するアミン化合物
である、請求項1〜3のいずれかに記載の表面処理された銅微粒子。 - 窒素含有有機物が、次の式I:
R基は、以下のいずれかの基である:
−NR1R2基
(ただし、R1及びR2はそれぞれ独立に、
C1〜C8のアルキル基、C1〜C8のヒドロキシアルキル基、C2〜C8のアルコキシアルキル基、C7〜C10の置換又は無置換のフェニルアルキル基、C6〜C8の置換又は無置換のフェニル基、C12〜C16の置換又は無置換のナフチル基、C3〜C8の直鎖又は分枝のアルケニル基からなる群から選択された基である。)
又は
−[N+R1R2R3]X1 -基
(ただし、R1、R2及びR3はそれぞれ独立に、
C1〜C8のアルキル基、C1〜C8のヒドロキシアルキル基、C2〜C8のアルコキシアルキル基、C7〜C10の置換又は無置換のフェニルアルキル基、C6〜C8の置換又は無置換のフェニル基、C12〜C16の置換又は無置換のナフチル基、C3〜C8の直鎖又は分枝のアルケニル基からなる群から選択された基であり、
X1 -は、ハロゲン化物イオン、CH3SO4 -からなる群から選択された1価のアニオンである))
で表される窒素含有有機物である、請求項1〜4のいずれかに記載の表面処理された銅微粒子。 - 粒成長抑制剤が、天然樹脂、多糖類、及びゼラチンから選択された1種以上である、請求項1〜5のいずれかに記載の表面処理された銅微粒子。
- 銅微粒子の平均粒径が、0.1〜1.0μmの範囲にある、請求項1〜6のいずれかに記載の表面処理された銅微粒子。
- 銅微粒子が、粒子表面の少なくとも一部に亜酸化銅層を有する、請求項1〜7のいずれかに記載の表面処理された銅微粒子。
- 請求項1〜8のいずれかに記載の表面処理された銅微粒子;及び
沸点250℃以下であるアルコール又はグリコール
を含んでなる、銅微粒子ペースト。 - さらにアクリル樹脂、又はロジンを含む請求項9に記載の銅微粒子ペースト。
- 請求項9又は10に記載の銅微粒子ペーストを非酸化性雰囲気下で350℃以下で焼成して得られた、50μΩcm以下の比抵抗である焼成体。
- 粒成長抑制剤の存在下で化学還元法又は不均化反応を行って得られた銅微粒子を、
銅微粒子に対して0.03〜10重量%の窒素含有有機物を含む水溶液と混合する工程、
を含む、表面処理された銅微粒子を製造する方法。 - 粒成長抑制剤の存在下で化学還元法又は不均化反応を行って得られた銅微粒子を、希硫酸と混合して、希硫酸処理銅微粒子を得る工程、
希硫酸処理銅微粒子を、銅微粒子に対して0.03〜10重量%の窒素含有有機物を含む水溶液と混合する工程、
を含む、表面処理された銅微粒子を製造する方法。 - 請求項12又は13に記載の方法によって製造された表面処理された銅微粒子を、沸点250℃以下であるアルコール又はグリコールと混合して銅微粒子ペーストを得る工程、
を含む、銅微粒子ペーストを製造する方法。 - 請求項12又は13に記載の方法によって製造された表面処理された銅微粒子を、沸点250℃以下であるアルコール又はグリコール、アクリル樹脂、又はロジンと混合して銅微粒子ペーストを得る工程、
を含む、銅微粒子ペーストを製造する方法。 - 請求項14又は15に記載の方法によって製造された銅微粒子ペーストを、非酸化性雰囲気下で350℃以下で焼成して焼成体を得る工程、
を含む、焼成体を製造する方法。
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