JP2016157123A - 近赤外線カットフィルターおよび近赤外線カットフィルターを用いた装置 - Google Patents
近赤外線カットフィルターおよび近赤外線カットフィルターを用いた装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2016157123A JP2016157123A JP2016043355A JP2016043355A JP2016157123A JP 2016157123 A JP2016157123 A JP 2016157123A JP 2016043355 A JP2016043355 A JP 2016043355A JP 2016043355 A JP2016043355 A JP 2016043355A JP 2016157123 A JP2016157123 A JP 2016157123A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- carbon atoms
- cut filter
- resin
- infrared cut
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 188
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 188
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 121
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims abstract description 88
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 56
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims abstract description 14
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 121
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 79
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 claims description 56
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 46
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 38
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims description 33
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 claims description 30
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 24
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 20
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 20
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims description 20
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 18
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 15
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 15
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 14
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims description 12
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 claims description 10
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 9
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 claims description 9
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 claims description 8
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 abstract description 5
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 abstract description 3
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 abstract description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 82
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 31
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 30
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 29
- -1 polyparaphenylene Polymers 0.000 description 22
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 21
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 description 19
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 19
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 18
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 16
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 16
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 14
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 14
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 13
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 12
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 11
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 11
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 11
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 10
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 10
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 9
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 8
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 8
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 7
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 7
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 7
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 7
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 7
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 7
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N Pyrrolidine Chemical compound C1CCNC1 RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 6
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 6
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 6
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 6
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 6
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 5
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 5
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 5
- 238000001444 catalytic combustion detection Methods 0.000 description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 5
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 5
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 5
- 239000000047 product Substances 0.000 description 5
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 5
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 5
- 125000004665 trialkylsilyl group Chemical group 0.000 description 5
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 4
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 4
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 4
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 4
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 4
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 4
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 4
- 238000007151 ring opening polymerisation reaction Methods 0.000 description 4
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- FLMZHPQIDVOWEJ-UHFFFAOYSA-N 4-[9-(4-hydroxy-3-phenylphenyl)fluoren-9-yl]-2-phenylphenol Chemical compound OC1=CC=C(C2(C3=CC=CC=C3C3=CC=CC=C32)C=2C=C(C(O)=CC=2)C=2C=CC=CC=2)C=C1C1=CC=CC=C1 FLMZHPQIDVOWEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 3
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 3
- 125000005708 carbonyloxy group Chemical group [*:2]OC([*:1])=O 0.000 description 3
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 3
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 3
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 3
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 3
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 3
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 238000007142 ring opening reaction Methods 0.000 description 3
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 3
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 3
- RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1Cl RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 1-Octanol Chemical compound CCCCCCCCO KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 1-hexene Chemical compound CCCCC=C LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MEKOFIRRDATTAG-UHFFFAOYSA-N 2,2,5,8-tetramethyl-3,4-dihydrochromen-6-ol Chemical compound C1CC(C)(C)OC2=C1C(C)=C(O)C=C2C MEKOFIRRDATTAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BNBRIFIJRKJGEI-UHFFFAOYSA-N 2,6-difluorobenzonitrile Chemical compound FC1=CC=CC(F)=C1C#N BNBRIFIJRKJGEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl acetate Chemical compound COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YWFPGFJLYRKYJZ-UHFFFAOYSA-N 9,9-bis(4-hydroxyphenyl)fluorene Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1(C=2C=CC(O)=CC=2)C2=CC=CC=C2C2=CC=CC=C21 YWFPGFJLYRKYJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- 0 C[C@](C1CC2)[C@@]1(C)[C@@]2(C)C(CC1)C(*)C1C(C)(C*)N* Chemical compound C[C@](C1CC2)[C@@]1(C)[C@@]2(C)C(CC1)C(*)C1C(C)(C*)N* 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N Piperazine Chemical compound C1CNCCN1 GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N Piperidine Chemical compound C1CCNCC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000265 Polyparaphenylene Polymers 0.000 description 2
- KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N Pyrazine Chemical compound C1=CN=CC=N1 KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N Pyrrole Chemical compound C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012644 addition polymerization Methods 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 125000001118 alkylidene group Chemical group 0.000 description 2
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 2
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 2
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 2
- LPIQUOYDBNQMRZ-UHFFFAOYSA-N cyclopentene Chemical compound C1CC=CC1 LPIQUOYDBNQMRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 2
- 150000008282 halocarbons Chemical group 0.000 description 2
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 2
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 2
- MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N lanthanum(3+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[La+3].[La+3] MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 125000000325 methylidene group Chemical group [H]C([H])=* 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 description 2
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 2
- 239000013557 residual solvent Substances 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 2
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003852 triazoles Chemical group 0.000 description 2
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 2
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- DNZZPKYSGRTNGK-PQZOIKATSA-N (1z,4z)-cycloocta-1,4-diene Chemical compound C1C\C=C/C\C=C/C1 DNZZPKYSGRTNGK-PQZOIKATSA-N 0.000 description 1
- WLTSXAIICPDFKI-FNORWQNLSA-N (E)-3-dodecene Chemical compound CCCCCCCC\C=C\CC WLTSXAIICPDFKI-FNORWQNLSA-N 0.000 description 1
- SLLFVLKNXABYGI-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-benzoxadiazole Chemical group C1=CC=C2ON=NC2=C1 SLLFVLKNXABYGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000355 1,3-benzoxazolyl group Chemical group O1C(=NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- WKBPZYKAUNRMKP-UHFFFAOYSA-N 1-[2-(2,4-dichlorophenyl)pentyl]1,2,4-triazole Chemical compound C=1C=C(Cl)C=C(Cl)C=1C(CCC)CN1C=NC=N1 WKBPZYKAUNRMKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-yl acetate Chemical compound CCOCC(C)OC(C)=O LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PLVUIVUKKJTSDM-UHFFFAOYSA-N 1-fluoro-4-(4-fluorophenyl)sulfonylbenzene Chemical compound C1=CC(F)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(F)C=C1 PLVUIVUKKJTSDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 1755-01-7 Chemical compound C1[C@H]2[C@@H]3CC=C[C@@H]3[C@@H]1C=C2 HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 0.000 description 1
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- ZXDDPOHVAMWLBH-UHFFFAOYSA-N 2,4-Dihydroxybenzophenone Chemical compound OC1=CC(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 ZXDDPOHVAMWLBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920001342 Bakelite® Polymers 0.000 description 1
- SDDLEVPIDBLVHC-UHFFFAOYSA-N Bisphenol Z Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1(C=2C=CC(O)=CC=2)CCCCC1 SDDLEVPIDBLVHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N Butylhydroxytoluene Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HKKGIHCPNBYMFD-UHFFFAOYSA-N C1=CC=[I]C=C1 Chemical compound C1=CC=[I]C=C1 HKKGIHCPNBYMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N Phenazine Natural products C1=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3N=C21 PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N Pyrazole Chemical compound C=1C=NNC=1 WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N Pyrimidine Chemical compound C1=CN=CN=C1 CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N Tetrahydropyran Chemical compound C1CCOCC1 DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005083 Zinc sulfide Substances 0.000 description 1
- BGYHLZZASRKEJE-UHFFFAOYSA-N [3-[3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoyloxy]-2,2-bis[3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoyloxymethyl]propyl] 3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=C(O)C(C(C)(C)C)=CC(CCC(=O)OCC(COC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)(COC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)COC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)=C1 BGYHLZZASRKEJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCTOWEAPQVVELZ-UHFFFAOYSA-L [F-].[F-].F.F.F.F.[Na+].[Na+] Chemical compound [F-].[F-].F.F.F.F.[Na+].[Na+] BCTOWEAPQVVELZ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 1
- VEBCLRKUSAGCDF-UHFFFAOYSA-N ac1mi23b Chemical compound C1C2C3C(COC(=O)C=C)CCC3C1C(COC(=O)C=C)C2 VEBCLRKUSAGCDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 125000003668 acetyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)O[*] 0.000 description 1
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 description 1
- 101150059062 apln gene Proteins 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 125000003785 benzimidazolyl group Chemical group N1=C(NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 125000001231 benzoyloxy group Chemical group C(C1=CC=CC=C1)(=O)O* 0.000 description 1
- 125000006267 biphenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 239000013065 commercial product Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- CFBGXYDUODCMNS-UHFFFAOYSA-N cyclobutene Chemical compound C1CC=C1 CFBGXYDUODCMNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004976 cyclobutylene group Chemical group 0.000 description 1
- ZOLLIQAKMYWTBR-RYMQXAEESA-N cyclododecatriene Chemical compound C/1C\C=C\CC\C=C/CC\C=C\1 ZOLLIQAKMYWTBR-RYMQXAEESA-N 0.000 description 1
- HYPABJGVBDSCIT-UPHRSURJSA-N cyclododecene Chemical compound C1CCCCC\C=C/CCCC1 HYPABJGVBDSCIT-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- ZXIJMRYMVAMXQP-UHFFFAOYSA-N cycloheptene Chemical compound C1CCC=CCC1 ZXIJMRYMVAMXQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004977 cycloheptylene group Chemical group 0.000 description 1
- JMVIPXWCEHBYAH-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone;ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O.O=C1CCCCC1 JMVIPXWCEHBYAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005725 cyclohexenylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004956 cyclohexylene group Chemical group 0.000 description 1
- URYYVOIYTNXXBN-UPHRSURJSA-N cyclooctene Chemical compound C1CCC\C=C/CC1 URYYVOIYTNXXBN-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000004913 cyclooctene Substances 0.000 description 1
- 125000004979 cyclopentylene group Chemical group 0.000 description 1
- 229940028356 diethylene glycol monobutyl ether Drugs 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 1
- 125000000219 ethylidene group Chemical group [H]C(=[*])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 238000010101 extrusion blow moulding Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001841 imino group Chemical group [H]N=* 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 238000000869 ion-assisted deposition Methods 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000006178 methyl benzyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004170 methylsulfonyl group Chemical group [H]C([H])([H])S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 125000004957 naphthylene group Chemical group 0.000 description 1
- ZKATWMILCYLAPD-UHFFFAOYSA-N niobium pentoxide Inorganic materials O=[Nb](=O)O[Nb](=O)=O ZKATWMILCYLAPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N niobium(5+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Nb+5].[Nb+5] URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 1
- JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N norbornene Chemical compound C1[C@@H]2CC[C@H]1C=C2 JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N 0.000 description 1
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 1
- WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N oxadiazole Chemical group C1=CON=N1 WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002971 oxazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoyttriooxy)yttrium Chemical compound O=[Y]O[Y]=O SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCGNDDUYTRNOFT-UHFFFAOYSA-N oxolane-2,4-dione Chemical compound O=C1COC(=O)C1 JCGNDDUYTRNOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AUONHKJOIZSQGR-UHFFFAOYSA-N oxophosphane Chemical compound P=O AUONHKJOIZSQGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DXGLGDHPHMLXJC-UHFFFAOYSA-N oxybenzone Chemical compound OC1=CC(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 DXGLGDHPHMLXJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005740 oxycarbonyl group Chemical group [*:1]OC([*:2])=O 0.000 description 1
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N pentamethylene Natural products C1CCCC1 RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012466 permeate Substances 0.000 description 1
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 1
- 125000000286 phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N phthalic acid di-n-butyl ester Natural products CCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCC DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical class N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 1
- 229920000412 polyarylene Polymers 0.000 description 1
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 1
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 1
- 239000002685 polymerization catalyst Substances 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyloxy prop-2-eneperoxoate Chemical compound C=CC(=O)OOOC(=O)C=C KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004368 propenyl group Chemical group C(=CC)* 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PBMFSQRYOILNGV-UHFFFAOYSA-N pyridazine Chemical compound C1=CC=NN=C1 PBMFSQRYOILNGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 1
- 238000001226 reprecipitation Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 238000012916 structural analysis Methods 0.000 description 1
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 description 1
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N tantalum pentoxide Inorganic materials O=[Ta](=O)O[Ta](=O)=O PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M thionine Chemical class [Cl-].C1=CC(N)=CC2=[S+]C3=CC(N)=CC=C3N=C21 ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N triethylaluminium Chemical compound CC[Al](CC)CC VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BYMUNNMMXKDFEZ-UHFFFAOYSA-K trifluorolanthanum Chemical compound F[La](F)F BYMUNNMMXKDFEZ-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 125000001889 triflyl group Chemical group FC(F)(F)S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 125000000025 triisopropylsilyl group Chemical group C(C)(C)[Si](C(C)C)(C(C)C)* 0.000 description 1
- 125000000026 trimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([*])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- KPGXUAIFQMJJFB-UHFFFAOYSA-H tungsten hexachloride Chemical class Cl[W](Cl)(Cl)(Cl)(Cl)Cl KPGXUAIFQMJJFB-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 239000003643 water by type Substances 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
- 229910052984 zinc sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N zinc;sulfide Chemical compound [S-2].[Zn+2] DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/208—Filters for use with infrared or ultraviolet radiation, e.g. for separating visible light from infrared and/or ultraviolet radiation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
- C08K5/34—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
- C08K5/3412—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having one nitrogen atom in the ring
- C08K5/3415—Five-membered rings
- C08K5/3417—Five-membered rings condensed with carbocyclic rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
- C09B57/00—Other synthetic dyes of known constitution
- C09B57/007—Squaraine dyes
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/04—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of organic materials, e.g. plastics
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/22—Absorbing filters
- G02B5/223—Absorbing filters containing organic substances, e.g. dyes, inks or pigments
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
- H01L27/144—Devices controlled by radiation
- H01L27/146—Imager structures
- H01L27/14601—Structural or functional details thereof
- H01L27/14618—Containers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
- H01L27/144—Devices controlled by radiation
- H01L27/146—Imager structures
- H01L27/14601—Structural or functional details thereof
- H01L27/1462—Coatings
- H01L27/14621—Colour filter arrangements
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
- H01L27/144—Devices controlled by radiation
- H01L27/146—Imager structures
- H01L27/14601—Structural or functional details thereof
- H01L27/14625—Optical elements or arrangements associated with the device
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/0002—Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
【課題】可視光領域の透過率が高く、さらに、視野角が広く、近赤外線カット能に優れ、特にＣＣＤ、ＣＭＯＳイメージセンサー等の固体撮像素子用に好適に用いることができる近赤外線カットフィルターを提供する。【解決手段】樹脂および下記式（Ｉ）で表される化合物に由来する構造を有する光吸収剤（Ａ）を含む樹脂製基板（Ｉ）を有し、前記光吸収剤（Ａ）が、前記樹脂製基板（Ｉ）中に、前記樹脂１００重量部に対して０．００１〜０．０１重量部の量で含有されることを特徴とする近赤外線カットフィルター。【選択図】なし
Description
本発明は、近赤外線カットフィルターに関する。詳しくは、十分な視野角を持ち、特にＣＣＤ、ＣＭＯＳイメージセンサー等の固体撮像素子用視感度補正フィルターとして好適に用いることができる近赤外線カットフィルターに関する。
近年、ビデオカメラ、デジタルスチルカメラ、カメラ機能付き携帯電話などの固体撮像装置にはカラー画像の固体撮像素子であるＣＣＤやＣＭＯＳイメージセンサーが使用されているが、これら固体撮像素子はその受光部において人間の目では感知できない近赤外線に感度を有するシリコンフォトダイオードを使用している。これらの固体撮像素子では、人間の目で見て自然な色合いにさせる視感度補正を行うことが必要であり、特定の波長領域の光線を選択的に透過もしくはカットする近赤外線カットフィルターを用いることが多い。
このような近赤外線カットフィルターとしては、従来から、各種方法で製造されたものが使用されている。例えば、ガラスなど透明基材の表面に銀等の金属を蒸着して近赤外線を反射するようにしたもの、アクリル樹脂やポリカーボネート樹脂等の透明樹脂に近赤外線吸収色素を添加したものなどが実用に供されている。
しかしながら、ガラス基材に金属を蒸着した近赤外線カットフィルターは製造コストがかかるだけでなく、カッティング時に異物として基材のガラス片が混入してしまうという問題があった。さらに、基材として無機質材料を用いる場合は、近年の固体撮像装置の薄型化・小型化に対応していくためには限界があった。
また、特開平６−２００１１３号公報（特許文献１）には、基材として透明樹脂を用い、透明樹脂中に近赤外線吸収色素を含有させた近赤外線カットフィルターが開示されている。
しかしながら、特許文献１に記載された近赤外線カットフィルターは、近赤外線吸収能が必ずしも十分ではない場合があった。
また、本出願人は、特開２００５−３３８３９５号公報（特許文献２）、および特開２０１１−１０００８４号公報（特許文献３）にて、ノルボルネン系樹脂製基板と近赤外線反射膜を有する近赤外線カットフィルターを提案している。
また、本出願人は、特開２００５−３３８３９５号公報（特許文献２）、および特開２０１１−１０００８４号公報（特許文献３）にて、ノルボルネン系樹脂製基板と近赤外線反射膜を有する近赤外線カットフィルターを提案している。
特許文献２に記載された近赤外線カットフィルターは、近赤外線カット能、耐吸湿性、耐衝撃性に優れるが、十分な視野角の値をとることはできない場合があった。
特許文献３に記載された近赤外線カットフィルターは、近赤外線カット能、耐吸湿性、耐衝撃性に優れ視野角が広いが、十分な可視光領域の透過率の値をとることはできない場合があった。
特許文献３に記載された近赤外線カットフィルターは、近赤外線カット能、耐吸湿性、耐衝撃性に優れ視野角が広いが、十分な可視光領域の透過率の値をとることはできない場合があった。
本発明は、可視光領域の透過率が高く、さらに、視野角が広く、近赤外線カット能に優れ、特にＣＣＤ、ＣＭＯＳイメージセンサー等の固体撮像素子用に好適に用いることができる近赤外線カットフィルターを得ることを目的とする。
［１］ 樹脂および下記式（Ｉ）で表される化合物に由来する構造を有する光吸収剤（Ａ）を含む樹脂製基板（Ｉ）と、近赤外線反射膜とを有し、
前記光吸収剤（Ａ）が、前記樹脂製基板（Ｉ）中に、前記樹脂１００重量部に対して０．００１〜０．０１重量部の量で含有されることを特徴とする近赤外線カットフィルター。
前記光吸収剤（Ａ）が、前記樹脂製基板（Ｉ）中に、前記樹脂１００重量部に対して０．００１〜０．０１重量部の量で含有されることを特徴とする近赤外線カットフィルター。
（ｉ）Ｒaは独立に水素原子、炭素数１〜８のアルキル基、−ＮＲeＲf基（ＲeおよびＲfはそれぞれ独立に水素原子または炭素数１〜５のアルキル基を表す。）、またはヒドロキシ基を表し、
Ｒbは独立に水素原子、炭素数１〜５のアルキル基、−ＮＲgＲh基（ＲgおよびＲhはそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜５のアルキル基、または−Ｃ（Ｏ）Ｒi基（Ｒiは炭素数１〜５のアルキル基を表す。）を表す。）、またはヒドロキシ基を表し、
Ｙは独立に−ＮＲjＲk基（ＲjおよびＲkはそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜８の脂肪族炭化水素基、任意の水素原子が置換基で置換された炭素数１〜８の置換脂肪族炭化水素基、炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基、または任意の水素原子がアルキル基で置換された炭素数６〜１２の置換芳香族炭化水素基を表す。）を表す。
（ｉｉ）１つのベンゼン環上の２つのＲaのうちの１つが、同じベンゼン環上のＹと相互に結合して、構成原子数５または６の窒素原子を少なくとも１つ含む複素環を形成し、
Ｒbおよび該結合に関与しないＲaはそれぞれ独立に前記（ｉ）のＲbおよびＲaと同義である。］
［２］ 前記式（Ｉ）で表される化合物が、下記式（ＩＩ）で表される化合物であることを特徴とする［１］に記載の近赤外線カットフィルター。
［３］ 光吸収剤および樹脂を含む樹脂製基板（Ｉ'）と、近赤外線反射膜とを有し、透過率が下記（Ａ）〜（Ｄ）を満たすことを特徴とする近赤外線カットフィルター。
（Ａ）波長４３０〜５８０ｎｍの範囲において、近赤外線カットフィルターの垂直方向から測定した場合の透過率の平均値が８０％以上
（Ｂ）波長６３０〜６５０ｎｍの範囲において、近赤外線カットフィルターの垂直方向から測定した場合の透過率の平均値が７０％以上
（Ｃ）波長８００〜１０００ｎｍにおいて、近赤外線カットフィルターの垂直方向から測定した場合の透過率の平均値が２０％以下
（Ｄ）波長５５０〜７００ｎｍの範囲において、近赤外線カットフィルターの垂直方向から測定した場合の透過率が７５％となる波長の値（Ｙａ）と、近赤外線カットフィルターの垂直方向に対して３０°の角度から測定した場合の透過率が７５％となる波長の値（Ｙｂ）の差の絶対値が１５ｎｍ未満
（Ａ）波長４３０〜５８０ｎｍの範囲において、近赤外線カットフィルターの垂直方向から測定した場合の透過率の平均値が８０％以上
（Ｂ）波長６３０〜６５０ｎｍの範囲において、近赤外線カットフィルターの垂直方向から測定した場合の透過率の平均値が７０％以上
（Ｃ）波長８００〜１０００ｎｍにおいて、近赤外線カットフィルターの垂直方向から測定した場合の透過率の平均値が２０％以下
（Ｄ）波長５５０〜７００ｎｍの範囲において、近赤外線カットフィルターの垂直方向から測定した場合の透過率が７５％となる波長の値（Ｙａ）と、近赤外線カットフィルターの垂直方向に対して３０°の角度から測定した場合の透過率が７５％となる波長の値（Ｙｂ）の差の絶対値が１５ｎｍ未満
［４］ 前記光吸収剤が下記式（Ｉ）で表される化合物に由来する構造を有する光吸収剤（Ａ）であることを特徴とする［３］に記載の近赤外線カットフィルター。
（ｉ）Ｒaは独立に水素原子、炭素数１〜８のアルキル基、−ＮＲeＲf基（ＲeおよびＲfはそれぞれ独立に水素原子または炭素数１〜５のアルキル基を表す。）、またはヒドロキシ基を表し、
Ｒbは独立に水素原子、炭素数１〜５のアルキル基、−ＮＲgＲh基（ＲgおよびＲhはそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜５のアルキル基、または−Ｃ（Ｏ）Ｒi基（Ｒiは炭素数１〜５のアルキル基を表す。）を表す。）、またはヒドロキシ基を表し、
Ｙは独立に−ＮＲjＲk基（ＲjおよびＲkはそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜８の脂肪族炭化水素基、任意の水素原子が置換基で置換された炭素数１〜８の置換脂肪族炭化水素基、炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基、または任意の水素原子がアルキル基で置換された炭素数６〜１２の置換芳香族炭化水素基を表す。）を表す。
（ｉｉ）１つのベンゼン環上の２つのＲaのうちの１つが、同じベンゼン環上のＹと相互に結合して、構成原子数５または６の窒素原子を少なくとも１つ含む複素環を形成し、
Ｒbおよび該結合に関与しないＲaはそれぞれ独立に前記（ｉ）のＲbおよびＲaと同義である。］
［５］ 前記式（Ｉ）で表される化合物が、下記式（ＩＩ）で表される化合物であることを特徴とする［４］に記載の近赤外線カットフィルター。
［６］ 前記光吸収剤（Ａ）が、樹脂製基板（Ｉ'）中に、前記樹脂１００重量部に対して０．００１〜０．０１重量部の量で含有されることを特徴とする［４］または［５］に記載の近赤外線カットフィルター。
［７］ 前記樹脂が、環状オレフィン系樹脂または芳香族ポリエーテル系樹脂であることを特徴とする［１］〜［６］のいずれかに記載の近赤外線カットフィルター。
［８］前記近赤外線反射膜が、高屈折率材料層と低屈折率材料層とを交互に積層した誘電体多層膜であることを特徴とする［１］〜［７］のいずれかに記載の近赤外線カットフィルター。
［９］ 前記近赤外線カットフィルターが固体撮像素子用であることを特徴とする［１］〜［８］のいずれかに記載の近赤外線カットフィルター。
［１０］ ［１］〜［９］のいずれかに記載の近赤外線カットフィルターを具備することを特徴とする固体撮像装置。
［１１］ ［１］〜［９］のいずれかに記載の近赤外線カットフィルターを具備することを特徴とするカメラモジュール。
本発明によれば、可視光領域の透過率が高く、吸収（透過）波長の入射角依存性が小さく、視野角が広く、近赤外線カット能に優れ、吸湿性が低く、ソリが生じにくく、異物のない近赤外線カットフィルターを製造することができる。
また、本発明によれば、固体撮像装置およびカメラモジュール等を薄型化および小型化することができる。
また、本発明によれば、固体撮像装置およびカメラモジュール等を薄型化および小型化することができる。
以下、本発明について具体的に説明する。
〔近赤外線カットフィルター〕
本発明に係る近赤外線カットフィルターは、下記式（Ｉ）で表されるスクアリリウム構造を有する化合物（以下「化合物（Ｉ）」ともいう。）に由来する構造を有する光吸収剤（Ａ）０．００１〜０．０１重量部および樹脂１００重量部を含む樹脂製基板（Ｉ）を有することを特徴とする。本発明の近赤外線カットフィルターは、下記樹脂製基板（Ｉ）と下記近赤外線反射膜とを有することが好ましい。
〔近赤外線カットフィルター〕
本発明に係る近赤外線カットフィルターは、下記式（Ｉ）で表されるスクアリリウム構造を有する化合物（以下「化合物（Ｉ）」ともいう。）に由来する構造を有する光吸収剤（Ａ）０．００１〜０．０１重量部および樹脂１００重量部を含む樹脂製基板（Ｉ）を有することを特徴とする。本発明の近赤外線カットフィルターは、下記樹脂製基板（Ｉ）と下記近赤外線反射膜とを有することが好ましい。
本発明の近赤外線カットフィルターは、このような樹脂製基板（Ｉ）を有することで、特に、入射角依存性の小さい近赤外線カットフィルターとなる。
また、本発明に係る近赤外線カットフィルターは、光吸収剤（以下「光吸収剤（Ａ'）」ともいう。）および樹脂を含む樹脂製基板（Ｉ'）を有し、透過率が下記（Ａ）〜（Ｄ）を満たすことを特徴とする。
（Ａ）波長４３０〜５８０ｎｍの範囲において、近赤外線カットフィルターの垂直方向から測定した場合の透過率の平均値が８０％以上
（Ｂ）波長６３０〜６５０ｎｍの範囲において、近赤外線カットフィルターの垂直方向から測定した場合の透過率の平均値が７０％以上
（Ｃ）波長８００〜１０００ｎｍにおいて、近赤外線カットフィルターの垂直方向から測定した場合の透過率の平均値が２０％以下
（Ｄ）波長５５０〜７００ｎｍの範囲において、近赤外線カットフィルターの垂直方向から測定した場合の透過率が７５％となる波長の値（Ｙａ）と、近赤外線カットフィルターの垂直方向に対して３０°の角度から測定した場合の透過率が７５％となる波長の値（Ｙｂ）の差の絶対値が１５ｎｍ未満
また、本発明に係る近赤外線カットフィルターは、光吸収剤（以下「光吸収剤（Ａ'）」ともいう。）および樹脂を含む樹脂製基板（Ｉ'）を有し、透過率が下記（Ａ）〜（Ｄ）を満たすことを特徴とする。
（Ａ）波長４３０〜５８０ｎｍの範囲において、近赤外線カットフィルターの垂直方向から測定した場合の透過率の平均値が８０％以上
（Ｂ）波長６３０〜６５０ｎｍの範囲において、近赤外線カットフィルターの垂直方向から測定した場合の透過率の平均値が７０％以上
（Ｃ）波長８００〜１０００ｎｍにおいて、近赤外線カットフィルターの垂直方向から測定した場合の透過率の平均値が２０％以下
（Ｄ）波長５５０〜７００ｎｍの範囲において、近赤外線カットフィルターの垂直方向から測定した場合の透過率が７５％となる波長の値（Ｙａ）と、近赤外線カットフィルターの垂直方向に対して３０°の角度から測定した場合の透過率が７５％となる波長の値（Ｙｂ）の差の絶対値が１５ｎｍ未満
≪樹脂製基板≫
前記樹脂製基板（Ｉ）は、光吸収剤（Ａ）および樹脂を含んでなり、前記樹脂製基板（Ｉ'）は、光吸収剤（Ａ'）および樹脂を含んでなる。この光吸収剤（Ａ'）としては、前記光吸収剤（Ａ）が好ましい。
前記樹脂製基板（Ｉ）は、光吸収剤（Ａ）および樹脂を含んでなり、前記樹脂製基板（Ｉ'）は、光吸収剤（Ａ'）および樹脂を含んでなる。この光吸収剤（Ａ'）としては、前記光吸収剤（Ａ）が好ましい。
以下、樹脂製基板（Ｉ）および樹脂製基板（Ｉ'）のことを単に「樹脂製基板」ともいう。
前記樹脂製基板は、下記（Ｅ）および（Ｆ）を満たすことが好ましい。
前記樹脂製基板は、下記（Ｅ）および（Ｆ）を満たすことが好ましい。
（Ｅ）吸収極大が波長６４０〜８００ｎｍの範囲、好ましくは６６０〜７５０ｎｍ、さらに好ましくは６７０〜７３０ｎｍの範囲にあることが望ましい。
基板の吸収極大波長がこのような範囲にあれば、該基板は、近赤外線を選択的に効率よくカットすることができる。
基板の吸収極大波長がこのような範囲にあれば、該基板は、近赤外線を選択的に効率よくカットすることができる。
（Ｆ）波長６４０ｎｍにおいて、前記樹脂製基板の垂直方向から測定した場合の透過率が６５％以上、好ましくは７０％以上、さらに好ましくは７５％以上、特に好ましくは８０％以上の範囲にあることが望ましい。
樹脂製基板の吸収極大が前記範囲にあり、かつ、波長６４０ｎｍにおいて、前記樹脂製基板の垂直方向から測定した場合の透過率が前記範囲にあると、該基板に光を入射したときに近赤外線の波長領域付近の波長で透過率が急変することとなる。
このような樹脂製基板を近赤外線カットフィルターに用いた場合には、そのフィルターの（Ｙａ）と（Ｙｂ）の差の絶対値が小さくなり、吸収波長の入射角依存性が小さく、視野角の広い近赤外線カットフィルターとなる。
また、前記樹脂製基板を有する近赤外線カットフィルターを、カメラモジュール等レンズユニットに用いた場合には、レンズユニットの低背化を実現できるため好ましい。
光吸収剤（Ａ）を特定量で含む基板を用いることで、前記（Ｅ）および（Ｆ）を満たす樹脂製基板が得られる。
光吸収剤（Ａ）を特定量で含む基板を用いることで、前記（Ｅ）および（Ｆ）を満たす樹脂製基板が得られる。
カメラモジュールなどの用途によっては、波長４００〜７００ｎｍのいわゆる可視光領域において、樹脂製基板の厚みを１００μｍとした時の該基板の平均透過率は、好ましくは５０％以上であり、より好ましくは６５％以上である。
前記樹脂製基板の厚みは、所望の用途に応じて適宜選択することができ、特に制限されないが、該基板が前記（Ｅ）および（Ｆ）を満たすように調整することが好ましく、より好ましくは５０〜２５０μｍ、さらに好ましくは５０〜２００μｍ、特に好ましくは８０〜１５０μｍである。
樹脂製基板の厚みが前記範囲にあると、該基板を用いた近赤外線カットフィルターを小型化、軽量化することができ、固体撮像装置等さまざまな用途に好適に用いることができる。特にカメラモジュール等レンズユニットに用いた場合には、レンズユニットの低背化を実現することができるため好ましい。
＜光吸収剤（Ａ'）＞
前記光吸収剤（Ａ'）としては、得られる近赤外線カットフィルターが下記（Ａ）〜（Ｄ）を満たすような光吸収剤であれば特に制限されないが、このような近赤外線カットフィルターを容易に得ることができるなどの点から、フタロシアニン系化合物、シアニン化合物、スクアリリウム化合物等が好ましく、下記光吸収剤（Ａ）がより好ましい。
前記光吸収剤（Ａ'）としては、得られる近赤外線カットフィルターが下記（Ａ）〜（Ｄ）を満たすような光吸収剤であれば特に制限されないが、このような近赤外線カットフィルターを容易に得ることができるなどの点から、フタロシアニン系化合物、シアニン化合物、スクアリリウム化合物等が好ましく、下記光吸収剤（Ａ）がより好ましい。
＜光吸収剤（Ａ）＞
前記光吸収剤（Ａ）は、化合物（Ｉ）に由来する構造を有する。光吸収剤（Ａ）は、スクアリリウム構造を有する染料であることが好ましい。
前記光吸収剤（Ａ）は、化合物（Ｉ）に由来する構造を有する。光吸収剤（Ａ）は、スクアリリウム構造を有する染料であることが好ましい。
（ｉ）Ｒaは独立に水素原子、炭素数１〜８のアルキル基、−ＮＲeＲf基（ＲeおよびＲfはそれぞれ独立に水素原子または炭素数１〜５のアルキル基を表す。）、またはヒドロキシ基を表し、
Ｒbは独立に水素原子、炭素数１〜５のアルキル基、−ＮＲgＲh基（ＲgおよびＲhはそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜５のアルキル基、または−Ｃ（Ｏ）Ｒi基（Ｒiは炭素数１〜５のアルキル基を表す。）を表す。）、またはヒドロキシ基を表し、
Ｙは独立に−ＮＲjＲk基（ＲjおよびＲkはそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜８の脂肪族炭化水素基、任意の水素原子が置換基で置換された炭素数１〜８の置換脂肪族炭化水素基、炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基、または任意の水素原子がアルキル基で置換された炭素数６〜１２の置換芳香族炭化水素基を表す。）を表す。
Ｒbは独立に水素原子、炭素数１〜５のアルキル基、−ＮＲgＲh基（ＲgおよびＲhはそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜５のアルキル基、または−Ｃ（Ｏ）Ｒi基（Ｒiは炭素数１〜５のアルキル基を表す。）を表す。）、またはヒドロキシ基を表し、
Ｙは独立に−ＮＲjＲk基（ＲjおよびＲkはそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜８の脂肪族炭化水素基、任意の水素原子が置換基で置換された炭素数１〜８の置換脂肪族炭化水素基、炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基、または任意の水素原子がアルキル基で置換された炭素数６〜１２の置換芳香族炭化水素基を表す。）を表す。
（ｉｉ）１つのベンゼン環上の２つのＲaのうちの１つが、同じベンゼン環上のＹと相互に結合して、構成原子数５または６の窒素原子を少なくとも１つ含む複素環を形成し、Ｒbおよび該結合に関与しないＲaはそれぞれ独立に前記（ｉ）のＲbおよびＲaと同義である。
前記Ｒaの炭素数１〜８のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基およびヘキシル基等を挙げることができ、これらの基の任意の水素原子がメチル基またはエチル基などで置換されていてもよい。
前記−ＮＲeＲf基におけるＲeおよびＲfの炭素数１〜５のアルキル基、Ｒbの炭素数1〜５のアルキル基、−ＮＲgＲh基におけるＲgおよびＲhの炭素数１〜５のアルキル基、ならびに−Ｃ（Ｏ）Ｒi基におけるＲiの炭素数１〜５のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基およびペンチル基等を挙げることができる。
前記−ＮＲjＲk基におけるＲjおよびＲkの炭素数１〜８の脂肪族炭化水素基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基およびヘキシル基等の鎖状脂肪族炭化水素基；シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の環状脂肪族炭化水素基；などを挙げることができる。
前記−ＮＲjＲk基におけるＲjおよびＲkの任意の水素原子が置換基で置換された炭素数１〜８の置換脂肪族炭化水素基としては、前記鎖状脂肪族炭化水素基の任意の水素原子が−ＮＲ'Ｒ''基（Ｒ'およびＲ''は、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基またはペンチル基等の鎖状脂肪族炭化水素基を表す。）、−ＣＮ、−ＯＨ、−ＯＲ（Ｒはメチル基、エチル基またはプロピル基を表す。）等の置換基で置換された置換鎖状脂肪族炭化水素基；前記環状脂肪族炭化水素基の任意の水素原子がメチル基またはエチル基等で置換された置換環状脂肪族炭化水素基などを挙げることができる。
前記−ＮＲjＲk基におけるＲjおよびＲkの炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ベンジル基等を挙げることができる。
前記−ＮＲjＲk基におけるＲjおよびＲkの任意の水素原子がアルキル基で置換された炭素数６〜１２の置換芳香族炭化水素基としては、フェニル基やベンジル基等の任意の水素原子がメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基またはペンチル基等の鎖状脂肪族炭化水素基で置換された置換フェニル基などを挙げることができる。
前記−ＮＲjＲk基におけるＲjおよびＲkの任意の水素原子がアルキル基で置換された炭素数６〜１２の置換芳香族炭化水素基としては、フェニル基やベンジル基等の任意の水素原子がメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基またはペンチル基等の鎖状脂肪族炭化水素基で置換された置換フェニル基などを挙げることができる。
前記式（Ｉ）の（ｉｉ）における、１つのベンゼン環上の２つのＲaのうちの１つが、同じベンゼン環上のＹと相互に結合した、構成原子数５または６の窒素原子を少なくとも１つ含む複素環としては、例えば、ピロリジン、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、ピペリジン、ピリジン、ピペラジン、ピリダジン、ピリミジンおよびピラジンを挙げることができる。これらの複素環のうち、当該複素環を構成し、かつ、ベンゼン環を構成する炭素原子の隣の１つの原子が窒素原子である複素環が好ましく、ピロリジンがさらに好ましい。
化合物（Ｉ）は、例えば、下記式（Ｉ−１）で表される構造の共鳴構造である化合物（Ｉ−２）を含む。つまり、化合物（Ｉ）としては、例えば、化合物（Ｉ−１）および化合物（Ｉ−２）が挙げられる。
なお、従来の近赤外線カットフィルターでは、このような光吸収剤（Ａ）は、その透過率曲線が急峻な傾きを有すること、近赤外線領域における吸収領域が狭いこと、およびガラス等の基板に混ぜて近赤外線カットフィルターを製造する際に該光吸収剤（Ａ）がガラスの成形温度に耐えることができないなどの理由から用いられてこなかった。もし、光吸収剤（Ａ）を用いるとすると、該光吸収剤は近赤外線領域における吸収領域が狭いため、十分な近赤外線カット能を有する近赤外線カットフィルターを得るには、その添加量を多くせざるを得ず、得られる近赤外線カットフィルターは可視光領域の透過率が低くなる傾向にあると考えられる。以上のことなどから、従来は、本発明のように特に、可視光領域の透過率が高く、入射角依存性の小さい近赤外線カットフィルターは得られなかった。
本発明では、特に、前記光吸収剤（Ａ）を用いることで、前記（Ｅ）および（Ｆ）を満たす近赤外線カットフィルターを得ることができる。このため、本発明の近赤外線カットフィルターは、特に下記（Ａ）、（Ｂ）および（Ｄ）の特徴を有することになる。このため、入射角依存性が小さく、視野角の広い近赤外線カットフィルターを得ることができる。
また、従来、後述する近赤外線反射膜を、蒸着などにより基材上に設ける場合、近赤外線カットフィルターの視野角が狭くなる等の性能が劣化する場合があった。しかし、前記光吸収剤（Ａ）を含む前記樹脂製基板（Ｉ）は、近赤外線反射膜を設けることで生じうる近赤外線カットフィルターの性能の劣化を防ぐことができる。よって、近赤外線反射膜を蒸着などにより樹脂製基板上に設けた場合であっても、入射光の入射角に依存しない安定した吸収波長領域を有する近赤外線カットフィルターが得られる。
前記化合物（Ｉ）は、下記式（ＩＩ）で表される化合物（以下「化合物（ＩＩ）」ともいう。）であることが好ましい。
式（ＩＩ）中のＲcで表される炭素数１〜８の脂肪族炭化水素基、任意の水素原子が置換基で置換された炭素数１〜８の置換脂肪族炭化水素基、炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基、および任意の水素原子がアルキル基で置換された炭素数６〜１２の置換芳香族炭化水素基としては、前記−ＮＲjＲk基におけるＲjおよびＲkの炭素数１〜８の脂肪族炭化水素基、任意の水素原子が置換基で置換された炭素数１〜８の置換脂肪族炭化水素基、炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基、および任意の水素原子がアルキル基で置換された炭素数６〜１２の置換芳香族炭化水素基で挙げた基と同様の基等を挙げることができる。
式（ＩＩ）中、Ｒaは独立に水素原子、メチル基、エチル基、ヒドロキシ基が好ましく、水素原子、メチル基が特に好ましい。
式（ＩＩ）中、Ｒbは独立に水素原子、メチル基、ヒドロキシ基、−ＮＨ−Ｃ（Ｏ）−ＣＨ3基、−Ｎ（ＣＨ3）−Ｃ（Ｏ）−ＣＨ3基、−Ｎ（ＣＨ3）2基が好ましく、水素原子、メチル基、−ＮＨ−Ｃ（Ｏ）−ＣＨ3基が特に好ましい。
式（ＩＩ）中、Ｒbは独立に水素原子、メチル基、ヒドロキシ基、−ＮＨ−Ｃ（Ｏ）−ＣＨ3基、−Ｎ（ＣＨ3）−Ｃ（Ｏ）−ＣＨ3基、−Ｎ（ＣＨ3）2基が好ましく、水素原子、メチル基、−ＮＨ−Ｃ（Ｏ）−ＣＨ3基が特に好ましい。
式（ＩＩ）中、Ｒcは独立に水素原子、炭素数１〜８の脂肪族炭化水素基、シクロヘキシル基、メチルベンジル基、−（ＣＨ2）2−Ｎ（ＣＨ3）2基が好ましく、水素原子、メチル基が特に好ましい。
化合物（ＩＩ）は、その共鳴構造である下記式（ＩＩ−１）で表される化合物であってもよい。
これらの中でも、化合物（ａ−１０）は、塩化メチレンによく溶解し、化合物（ａ−１０）を塩化メチレンに０．０００１重量％の濃度で溶解させた溶液の分光透過率測定（光路長１ｃｍ）を行った場合に、波長６４０〜８００ｎｍに吸収極大があり、かつ、化合物（ａ−１０）０．０１重量部、ＪＳＲ株式会社製の環状オレフィン系樹脂「アートン Ｇ」１００重量部、さらに塩化メチレンを加えて得られる樹脂濃度が２０重量％の溶液を平滑なガラス板上にキャストし、２０℃で８時間乾燥させた後、ガラス板から剥離し、さらに減圧下１００℃で８時間乾燥させて得られる厚さ０．１ｍｍ、縦６０ｍｍ、横６０ｍｍの樹脂製基板（Ｉ）の分光透過率測定を行った場合に、波長６４０ｎｍにおいて、前記樹脂製基板（Ｉ）の垂直方向から測定した場合の透過率が６５％以上となる。このため、化合物（ａ−１０）を用いることが、吸収（透過）波長の入射角依存性が小さく、視野角の広い近赤外線カットフィルターを製造することができる点で好ましい。
前記光吸収剤（Ａ）は、一般的に知られている方法で合成すればよく、たとえば、特開平１−２２８９６０号公報に記載されている方法で合成すればよい。
本発明において、光吸収剤（Ａ）の使用量は、前記樹脂製基板が前記（Ｅ）および（Ｆ）を満たすように適宜選択されることが好ましく、具体的には、樹脂製基板（Ｉ）の製造時に用いる樹脂１００重量部に対して、０．００１〜０．０１重量部、好ましくは０．００３〜０．０１重量部、さらに好ましくは０．００５〜０．０１重量部、特に好ましくは０．００７〜０．０１重量部である。
本発明において、光吸収剤（Ａ）の使用量は、前記樹脂製基板が前記（Ｅ）および（Ｆ）を満たすように適宜選択されることが好ましく、具体的には、樹脂製基板（Ｉ）の製造時に用いる樹脂１００重量部に対して、０．００１〜０．０１重量部、好ましくは０．００３〜０．０１重量部、さらに好ましくは０．００５〜０．０１重量部、特に好ましくは０．００７〜０．０１重量部である。
光吸収剤（Ａ）の使用量が前記範囲内にあると、可視光領域の透過率が高く、吸収波長の入射角依存性が小さく、視野角が広く、近赤外線カット能、４３０〜５８０ｎｍの範囲における透過率および強度に優れた近赤外線カットフィルターを得ることができる。
光吸収剤（Ａ）の使用量が前記範囲より多いと、光吸収剤（Ａ）の特性（性質）がより強く表れる近赤外線カットフィルターを得ることができる場合もあるが、４３０〜５８０ｎｍの範囲における透過率が所望の値より低下する恐れや、樹脂製基板や近赤外線カットフィルターの強度が低下する恐れがある。また、光吸収剤（Ａ）の使用量が前記範囲より少ないと、４３０〜５８０ｎｍの範囲における透過率の高い近赤外線カットフィルターを得ることができる場合もあるが、光吸収剤（Ａ）の特性が表れにくくなる恐れがあり、吸収波長の入射角依存性が小さく、視野角が広い樹脂製基板や近赤外線カットフィルターを得ることが困難になる場合がある。
本発明の近赤外線カットフィルターに含まれる光吸収剤（Ａ）および（Ａ'）は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
本発明の近赤外線カットフィルターに含まれる光吸収剤（Ａ）および（Ａ'）は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
＜樹脂＞
本発明で用いる樹脂製基板は、光吸収剤（Ａ）または（Ａ'）と樹脂とを含んでなればよく、該樹脂としては透明樹脂が好ましい。このような樹脂としては、本発明の効果を損なわないものである限り特に制限されないが、例えば、熱安定性およびフィルムへの成形性を確保し、かつ、１００℃以上の蒸着温度で行う高温蒸着により下記近赤外線反射膜を形成しうるフィルムとするため、ガラス転移温度（Ｔｇ）が、好ましくは１１０〜３８０℃、より好ましくは１１０〜３７０℃、さらに好ましくは１２０〜３６０℃である樹脂が望ましい。また、樹脂のガラス転移温度が、１２０℃以上、好ましくは１３０℃以上、さらに好ましくは１４０℃以上である場合には、誘電体多層膜をより高温で蒸着形成し得るフィルムが得られるため望ましい。
本発明で用いる樹脂製基板は、光吸収剤（Ａ）または（Ａ'）と樹脂とを含んでなればよく、該樹脂としては透明樹脂が好ましい。このような樹脂としては、本発明の効果を損なわないものである限り特に制限されないが、例えば、熱安定性およびフィルムへの成形性を確保し、かつ、１００℃以上の蒸着温度で行う高温蒸着により下記近赤外線反射膜を形成しうるフィルムとするため、ガラス転移温度（Ｔｇ）が、好ましくは１１０〜３８０℃、より好ましくは１１０〜３７０℃、さらに好ましくは１２０〜３６０℃である樹脂が望ましい。また、樹脂のガラス転移温度が、１２０℃以上、好ましくは１３０℃以上、さらに好ましくは１４０℃以上である場合には、誘電体多層膜をより高温で蒸着形成し得るフィルムが得られるため望ましい。
前記樹脂としては、厚さ０．１ｍｍでの全光線透過率が、好ましくは７５〜９４％であり、さらに好ましくは７８〜９４％であり、特に好ましくは８０〜９４％である樹脂を用いることが望ましい。全光線透過率がこのような範囲であれば、得られる基板は、良好な透明性を示す。
このような樹脂としては例えば、環状オレフィン系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリアリレート樹脂（ＰＡＲ）、ポリサルホン樹脂（ＰＳＦ）、ポリエーテルサルホン樹脂（ＰＥＳ）、ポリパラフェニレン樹脂（ＰＰＰ）、ポリアリーレンエーテルフォスフィンオキシド樹脂（ＰＥＰＯ）、ポリイミド樹脂（ＰＰＩ）、ポリアミドイミド樹脂（ＰＡＩ）、（変性）アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂（ＰＣ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、アリルエステル系硬化型樹脂およびシルセスキオキサン系紫外線硬化樹脂を挙げることができる。
前記樹脂のうち、透明性の高い環状オレフィン系樹脂または芳香族ポリエーテル系樹脂を用いると可視光領域の透過率が特に高くなるため好ましく、また、これらの樹脂は、吸湿性が低く、ソリが生じにくいため好ましい。
また、樹脂として、特に環状オレフィン系樹脂または芳香族ポリエーテル系樹脂を用いると、前記光吸収剤（Ａ）や（Ａ'）のこれらの樹脂への分散性が良好であるため、光学特性が均一な、成形加工性に優れる基板を得ることができる。
本発明の近赤外線カットフィルターに含まれる樹脂は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
本発明の近赤外線カットフィルターに含まれる樹脂は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
〈環状オレフィン系樹脂〉
本発明に用いられる透明樹脂として、環状オレフィン系樹脂が挙げられる。環状オレフィン系樹脂としては、特に制限されないが、例えば、下記式（Ｘ0）で表される単量体および下記式（Ｙ0）で表される単量体からなる群より選ばれる少なくとも１つの環状オレフィン系単量体を重合することで得られる樹脂、または必要に応じてさらに得られた樹脂を水素添加することで得られる樹脂を用いることができる。
環状オレフィン系単量体は１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
本発明に用いられる透明樹脂として、環状オレフィン系樹脂が挙げられる。環状オレフィン系樹脂としては、特に制限されないが、例えば、下記式（Ｘ0）で表される単量体および下記式（Ｙ0）で表される単量体からなる群より選ばれる少なくとも１つの環状オレフィン系単量体を重合することで得られる樹脂、または必要に応じてさらに得られた樹脂を水素添加することで得られる樹脂を用いることができる。
環状オレフィン系単量体は１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
（ｉ'）水素原子
（ｉｉ'）ハロゲン原子
（ｉｉｉ'）トリアルキルシリル基
（ｉｖ'）酸素原子、硫黄原子、窒素原子またはケイ素原子を含む連結基を有する、置換または非置換の炭素数１〜３０の炭化水素基
（ｖ'）置換または非置換の炭素数１〜３０の炭化水素基
（ｖｉ'）極性基（但し（ｉｖ'）を除く）
（ｖｉｉ'）Ｒx1とＲx2またはＲx3とＲx4とが、相互に結合して形成されたアルキリデン基を表し、該結合に関与しないＲx1〜Ｒx4は、それぞれ独立に前記（ｉ'）〜（ｖｉ'）より選ばれる原子または基を表す
（ｖｉｉｉ'）Ｒx1とＲx2またはＲx3とＲx4とが、相互に結合して形成された単環もしくは多環の炭化水素環または複素環を表し、該結合に関与しないＲx1〜Ｒx4は、それぞれ独立に前記（ｉ'）〜（ｖｉ'）より選ばれる原子または基を表す
（ｉｘ'）Ｒx2とＲx3とが、相互に結合して形成された単環の炭化水素環または複素環を表し、該結合に関与しないＲx1およびＲx4は、それぞれ独立に前記（ｉ'）〜（ｖｉ'）より選ばれる原子または基を表す
（ｉｉ'）ハロゲン原子
（ｉｉｉ'）トリアルキルシリル基
（ｉｖ'）酸素原子、硫黄原子、窒素原子またはケイ素原子を含む連結基を有する、置換または非置換の炭素数１〜３０の炭化水素基
（ｖ'）置換または非置換の炭素数１〜３０の炭化水素基
（ｖｉ'）極性基（但し（ｉｖ'）を除く）
（ｖｉｉ'）Ｒx1とＲx2またはＲx3とＲx4とが、相互に結合して形成されたアルキリデン基を表し、該結合に関与しないＲx1〜Ｒx4は、それぞれ独立に前記（ｉ'）〜（ｖｉ'）より選ばれる原子または基を表す
（ｖｉｉｉ'）Ｒx1とＲx2またはＲx3とＲx4とが、相互に結合して形成された単環もしくは多環の炭化水素環または複素環を表し、該結合に関与しないＲx1〜Ｒx4は、それぞれ独立に前記（ｉ'）〜（ｖｉ'）より選ばれる原子または基を表す
（ｉｘ'）Ｒx2とＲx3とが、相互に結合して形成された単環の炭化水素環または複素環を表し、該結合に関与しないＲx1およびＲx4は、それぞれ独立に前記（ｉ'）〜（ｖｉ'）より選ばれる原子または基を表す
（ｘ'）Ｒy1とＲy2とが、相互に結合して形成された単環または多環の脂環式炭化水素、芳香族炭化水素または複素環を表す
前記（ｉｉ'）ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子および臭素原子が挙げられる。
前記（ｉｉｉ'）トリアルキルシリル基としては、炭素数１〜１２のトリアルキルシリル基等が挙げられ、好ましくは炭素数１〜６のトリアルキルシリル基である。このようなトリアルキルシリル基としては、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基およびトリイソプロピルシリル基等が挙げられる。
前記（ｉｉ'）ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子および臭素原子が挙げられる。
前記（ｉｉｉ'）トリアルキルシリル基としては、炭素数１〜１２のトリアルキルシリル基等が挙げられ、好ましくは炭素数１〜６のトリアルキルシリル基である。このようなトリアルキルシリル基としては、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基およびトリイソプロピルシリル基等が挙げられる。
前記酸素原子、硫黄原子、窒素原子またはケイ素原子を含む連結基としては、カルボニル基（−ＣＯ−）、オキシカルボニル基（−ＯＣＯ−）、カルボニルオキシ基（−ＣＯＯ−）、スルホニル基（−ＳＯ2−）、エーテル結合（−Ｏ−）、チオエーテル結合（−Ｓ−）、イミノ基（−ＮＨ−）、アミド結合（−ＮＨＣＯ−、−ＣＯＮＨ−）およびシロキサン結合（−ＯＳｉ（Ｒ）2−（式中、Ｒはメチル基、エチル基等のアルキル基を表す。））等が挙げられる。前記（ｉｖ'）の置換または非置換の炭素数１〜３０の炭化水素基は、これらの連結基を複数含む基であってもよい。
これらの中でも近赤外線反射膜との接着性や密着性に優れる等の点、光吸収剤（Ａ）の分散性や溶解性の点でカルボニルオキシ基（＊−ＣＯＯ−）およびシロキサン結合（−ＯＳｉ（Ｒ）2−）が好ましい。但し＊が式（Ｘ0）の環に結合するものとする。
前記置換または非置換の炭素数１〜３０の炭化水素基としては、置換または非置換の炭素数１〜１５の炭化水素基が好ましく、例えば、メチル基、エチル基およびプロピル基等のアルキル基；シクロペンチル基およびシクロヘキシル基等のシクロアルキル基；フェニル基、ビフェニル基、フェニルエチル基等の芳香族炭化水素基；ビニル基、アリル基およびプロペニル基等のアルケニル基が挙げられる。これらの基の中でも、メチル基およびエチル基が耐熱安定性の点で好ましい。
置換基としては、ヒドロキシ基、ハロゲン原子等が挙げられる。
前記（ｖｉ'）極性基としては、例えば、ヒドロキシ基；メトキシ基およびエトキシ基等の炭素数１〜１０のアルコキシ基；アセトキシ基、プロピオニルオキシ基およびベンゾイルオキシ基等のカルボニルオキシ基；シアノ基；アミノ基；アシル基；スルホ基；カルボキシル基が挙げられる。
前記（ｖｉ'）極性基としては、例えば、ヒドロキシ基；メトキシ基およびエトキシ基等の炭素数１〜１０のアルコキシ基；アセトキシ基、プロピオニルオキシ基およびベンゾイルオキシ基等のカルボニルオキシ基；シアノ基；アミノ基；アシル基；スルホ基；カルボキシル基が挙げられる。
また、Ｒx1とＲx2またはＲx3とＲx4とが、相互に結合して形成されたアルキリデン基としては、メチリデン基、エチリデン基、プロピリデン基等が挙げられる。
Ｒx1とＲx2またはＲx3とＲx4とが、相互に結合して形成された単環もしくは多環の炭化水素環または複素環、Ｒx2とＲx3とが、相互に結合して形成された単環の炭化水素環または複素環、Ｒy1とＲy2とが、相互に結合して形成された単環または多環の脂環式炭化水素、芳香族炭化水素または複素環としては、シクロプロピレン、シクロブチレン、シクロペンチレン、シクロへキシレン、シクロへプチレン、シクロブテニレン、シクロペンテニレン、シクロヘキセニレン、フェニレン、ナフチレン等が挙げられる。
Ｒx1とＲx2またはＲx3とＲx4とが、相互に結合して形成された単環もしくは多環の炭化水素環または複素環、Ｒx2とＲx3とが、相互に結合して形成された単環の炭化水素環または複素環、Ｒy1とＲy2とが、相互に結合して形成された単環または多環の脂環式炭化水素、芳香族炭化水素または複素環としては、シクロプロピレン、シクロブチレン、シクロペンチレン、シクロへキシレン、シクロへプチレン、シクロブテニレン、シクロペンテニレン、シクロヘキセニレン、フェニレン、ナフチレン等が挙げられる。
ｋx、ｍx、ｐx、Ｋy、Ｐyは、それぞれ独立に、０〜３の整数が好ましい。また、より好ましくはｋx＋ｍx＋ｐxが０〜４の整数、さらに好ましくはｋx＋ｍx＋ｐxが０〜２の整数であり、特に好ましくはｋx＋ｍx＋ｐxが１である。Ｋy＋Ｐyは０〜４の整数であることが好ましく、Ｋy＋Ｐyは０〜２の整数であることがより好ましい。ｍxが０であり、ｋx＋ｐxが１である環状オレフィン系単量体を用いると、ガラス転移温度が高く、かつ機械的強度にも優れた樹脂が得られるため好ましい。
前記環状オレフィン系単量体の種類および量は、得られる樹脂に求められる特性により適宜選択される。
前記環状オレフィン系単量体として、その分子内に酸素原子、硫黄原子、窒素原子およびケイ素原子から選ばれる少なくとも１種の原子を少なくとも１個含む構造（以下「極性構造」ともいう。）を有する化合物を用いると、光吸収剤（Ａ）や（Ａ'）の分散性に優れる樹脂が得られ、また、他素材（近赤外線反射膜等）との接着性や密着性に優れる樹脂製基板が得られるなどの利点がある。特に、前記式（Ｘ0）中、Ｒx1およびＲx3がそれぞれ独立に水素原子または炭素数１〜３の炭化水素基、好ましくは水素原子またはメチル基であり、かつ、Ｒx2またはＲx4のいずれか一つが極性構造を有する基であって他が水素原子または炭素数１〜３炭化水素基である化合物を重合した樹脂は、吸水（湿）性が低く好ましい。また、Ｒy1またはＲy2のいずれか一つが極性構造を有する基であって他が水素原子または炭素数１〜３炭化水素基である化合物を重合した樹脂は、吸水（湿）性が低く好ましい。さらに、前記極性構造を有する基が下記式（Ｚ0）で表される基である環状オレフィン系単量体は、得られる樹脂の耐熱性と吸水（湿）性とのバランスがとりやすいため、好ましく用いられる。
前記環状オレフィン系単量体として、その分子内に酸素原子、硫黄原子、窒素原子およびケイ素原子から選ばれる少なくとも１種の原子を少なくとも１個含む構造（以下「極性構造」ともいう。）を有する化合物を用いると、光吸収剤（Ａ）や（Ａ'）の分散性に優れる樹脂が得られ、また、他素材（近赤外線反射膜等）との接着性や密着性に優れる樹脂製基板が得られるなどの利点がある。特に、前記式（Ｘ0）中、Ｒx1およびＲx3がそれぞれ独立に水素原子または炭素数１〜３の炭化水素基、好ましくは水素原子またはメチル基であり、かつ、Ｒx2またはＲx4のいずれか一つが極性構造を有する基であって他が水素原子または炭素数１〜３炭化水素基である化合物を重合した樹脂は、吸水（湿）性が低く好ましい。また、Ｒy1またはＲy2のいずれか一つが極性構造を有する基であって他が水素原子または炭素数１〜３炭化水素基である化合物を重合した樹脂は、吸水（湿）性が低く好ましい。さらに、前記極性構造を有する基が下記式（Ｚ0）で表される基である環状オレフィン系単量体は、得られる樹脂の耐熱性と吸水（湿）性とのバランスがとりやすいため、好ましく用いられる。
−（ＣＨ2）zＣＯＯＲ …（Ｚ0）
（式（Ｚ0）中、Ｒは置換または非置換の炭素原子数１〜１５の炭化水素基を表し、ｚは０または１〜１０の整数を表す。）
（式（Ｚ0）中、Ｒは置換または非置換の炭素原子数１〜１５の炭化水素基を表し、ｚは０または１〜１０の整数を表す。）
前記式（Ｚ0）において、ｚの値が小さい基ほど得られる重合体の水素添加物のガラス転移温度が高くなり耐熱性に優れるので、ｚが０または１〜３の整数であることが好ましく、更に、ｚが０である環状オレフィン系単量体はその合成が容易である点で好ましい。
また、前記式（Ｚ0）におけるＲは、炭素数が多いほど得られる重合体の水素添加物の吸水（湿）性が低下する傾向にあるが、ガラス転移温度が低下する傾向にもあるので、耐熱性を保持する観点からは炭素数１〜１０の炭化水素基が好ましく、特に炭素数１〜６の炭化水素基であることが好ましい。
なお、前記式（Ｘ0）において、前記式（Ｚ0）で表される基が結合した炭素原子に、炭素数１〜３のアルキル基、特にメチル基が結合していると、耐熱性と吸水（湿）性のバランスの良い化合物となる傾向にあるため好ましい。加えて、前記式（Ｘ0）において、ｍxが０であり、かつ、ｋx＋ｐxが１である化合物は、反応性が高く、高収率で樹脂（重合体）が得られること、また、耐熱性が高い重合体水素添加物が得られること、さらに工業的に入手しやすいことから好適に用いられる。
前記環状オレフィン系樹脂は、前記環状オレフィン系単量体と該単量体と共重合可能な単量体とを本発明の効果を損なわない範囲で共重合させた重合体であってもよい。
これら共重合可能な単量体として、例えば、シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘプテン、シクロオクテン、シクロドデセンなどの環状オレフィンや１，４−シクロオクタジエン、ジシクロペンタジエン、シクロドデカトリエンなどの非共役環状ポリエンを挙げることができる。
これら共重合可能な単量体として、例えば、シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘプテン、シクロオクテン、シクロドデセンなどの環状オレフィンや１，４−シクロオクタジエン、ジシクロペンタジエン、シクロドデカトリエンなどの非共役環状ポリエンを挙げることができる。
これらの共重合可能な単量体は、１種単独で用いてもよいし２種以上を併用してもよい。
前記環状オレフィン系単量体の重合方法については、単量体の重合が可能である限り特に制限されないが、例えば、開環重合または付加重合によって重合することができる。
前記環状オレフィン系単量体の重合方法については、単量体の重合が可能である限り特に制限されないが、例えば、開環重合または付加重合によって重合することができる。
前記開環重合反応により得られる重合体は、その分子中にオレフィン性不飽和結合を有している。また、前記付加重合反応においても、重合体がその分子中にオレフィン性不飽和結合を有する場合がある。このように、重合体分子中にオレフィン性不飽和結合が存在すると、係るオレフィン性不飽和結合が経時着色やゲル化等劣化の原因となる場合があるので、このオレフィン性不飽和結合を飽和結合に変換する水素添加反応を行うことが好ましい。
水素添加反応は、通常の方法、すなわち、オレフィン性不飽和結合を有する重合体の溶液に公知の水素添加触媒を添加し、これに常圧〜３００気圧、好ましくは３〜２００気圧の水素ガスを０〜２００℃、好ましくは２０〜１８０℃で作用させることによって行うことができる。
水素添加重合体の水素添加率は、５００ＭＨｚ、1Ｈ−ＮＭＲで測定して得られるオレフィン性不飽和結合に水素が付加した割合が通常５０％以上、好ましく７０％以上、より好ましくは９０％以上、特に好ましくは９８％以上、最も好ましくは９９％以上である。
水素添加率が高いほど、熱や光に対する安定性に優れた樹脂となり、該樹脂を用いることで、長期にわたって安定した特性を維持できる樹脂製基板が得られるため好ましい。
水素添加率が高いほど、熱や光に対する安定性に優れた樹脂となり、該樹脂を用いることで、長期にわたって安定した特性を維持できる樹脂製基板が得られるため好ましい。
〈芳香族ポリエーテル系樹脂〉
本発明に用いられる透明樹脂として、芳香族ポリエーテル系樹脂が挙げられる。前記芳香族ポリエーテル系重合体とは、主鎖にエーテル結合を形成する反応により得られる重合体のことをいう。芳香族ポリエーテル系樹脂としては、特に制限されないが、例えば、下記式（１）で表される構造単位（以下「構造単位（１）」ともいう。）および下記式（２）で表される構造単位（以下「構造単位（２）」ともいう。）からなる群より選ばれる少なくとも一つの構造単位（以下「構造単位（１−２）」ともいう。）を有する樹脂（以下「樹脂（１）」ともいう。）であることが好ましい。このような樹脂（１）から得られる基板は、耐熱性および力学的強度に優れ、さらに、透明性および表面平滑性等に優れる。
本発明に用いられる透明樹脂として、芳香族ポリエーテル系樹脂が挙げられる。前記芳香族ポリエーテル系重合体とは、主鎖にエーテル結合を形成する反応により得られる重合体のことをいう。芳香族ポリエーテル系樹脂としては、特に制限されないが、例えば、下記式（１）で表される構造単位（以下「構造単位（１）」ともいう。）および下記式（２）で表される構造単位（以下「構造単位（２）」ともいう。）からなる群より選ばれる少なくとも一つの構造単位（以下「構造単位（１−２）」ともいう。）を有する樹脂（以下「樹脂（１）」ともいう。）であることが好ましい。このような樹脂（１）から得られる基板は、耐熱性および力学的強度に優れ、さらに、透明性および表面平滑性等に優れる。
ａ〜ｄは、それぞれ独立に０〜４の整数を示し、好ましくは０または１である。
炭素数１〜１２の１価の有機基としては、炭素数１〜１２の１価の炭化水素基、ならびに酸素原子および窒素原子からなる群より選ばれる少なくとも１種の原子を含む炭素数１〜１２の１価の有機基等を挙げることができる。
炭素数１〜１２の１価の炭化水素基としては、炭素数１〜１２の直鎖または分岐鎖の炭化水素基、炭素数３〜１２の脂環式炭化水素基および炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基等が挙げられる。
前記炭素数１〜１２の直鎖または分岐鎖の炭化水素基としては、炭素数１〜８の直鎖または分岐鎖の炭化水素基が好ましく、炭素数１〜５の直鎖または分岐鎖の炭化水素基がより好ましい。
前記炭素数３〜１２の脂環式炭化水素基としては、炭素数３〜８の脂環式炭化水素基が好ましく、炭素数３または４の脂環式炭化水素基がより好ましい。
酸素原子を含む炭素数１〜１２の有機基としては、水素原子、炭素原子および酸素原子からなる有機基が挙げられ、中でも、エーテル結合、カルボニル基またはエステル結合と炭化水素基とからなる総炭素数１〜１２の有機基等を好ましく挙げることができる。
酸素原子を含む炭素数１〜１２の有機基としては、水素原子、炭素原子および酸素原子からなる有機基が挙げられ、中でも、エーテル結合、カルボニル基またはエステル結合と炭化水素基とからなる総炭素数１〜１２の有機基等を好ましく挙げることができる。
窒素原子を含む炭素数１〜１２の有機基としては、水素原子、炭素原子および窒素原子からなる有機基が挙げられ、具体的には、シアノ基、イミダゾール基、トリアゾール基、ベンズイミダゾール基およびベンズトリアゾール基等が挙げられる。
酸素原子および窒素原子を含む炭素数１〜１２の有機基としては、水素原子、炭素原子、酸素原子および窒素原子からなる有機基が挙げられ、具体的には、オキサゾール基、オキサジアゾール基、ベンズオキサゾール基およびベンズオキサジアゾール基等が挙げられる。
前記式（１）におけるＲ1〜Ｒ4としては、吸水（湿）性の低い樹脂が得られるなどの点から炭素数１〜１２の１価の炭化水素基が好ましく、炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基がより好ましく、フェニル基がさらに好ましい。
炭素数１〜１２の１価の有機基としては、前記式（１）における炭素数１〜１２の１価の有機基と同様の有機基等を挙げることができる。
前記樹脂（１）は、前記構造単位（１）と前記構造単位（２）とのモル比（但し、両者の合計（構造単位（１）＋構造単位（２））は１００である。）が、光学特性、耐熱性および力学的特性の観点から構造単位（１）：構造単位（２）＝５０：５０〜１００：０であることが好ましく、構造単位（１）：構造単位（２）＝７０：３０〜１００：０であることがより好ましく、構造単位（１）：構造単位（２）＝８０：２０〜１００：０であることがさらに好ましい。
前記樹脂（１）は、前記構造単位（１）と前記構造単位（２）とのモル比（但し、両者の合計（構造単位（１）＋構造単位（２））は１００である。）が、光学特性、耐熱性および力学的特性の観点から構造単位（１）：構造単位（２）＝５０：５０〜１００：０であることが好ましく、構造単位（１）：構造単位（２）＝７０：３０〜１００：０であることがより好ましく、構造単位（１）：構造単位（２）＝８０：２０〜１００：０であることがさらに好ましい。
ここで、力学的特性とは、樹脂の引張強度、破断伸びおよび引張弾性率等の性質のことをいう。
また、前記樹脂（１）は、さらに、下記式（３）で表される構造単位および下記式（４）で表される構造単位からなる群より選ばれる少なくとも一つの構造単位（以下「構造単位（３−４）」ともいう。）を有してもよい。前記樹脂（１）がこのような構造単位（３−４）を有すると、該樹脂（１）を含む基板の力学的特性が向上するため好ましい。
また、前記樹脂（１）は、さらに、下記式（３）で表される構造単位および下記式（４）で表される構造単位からなる群より選ばれる少なくとも一つの構造単位（以下「構造単位（３−４）」ともいう。）を有してもよい。前記樹脂（１）がこのような構造単位（３−４）を有すると、該樹脂（１）を含む基板の力学的特性が向上するため好ましい。
炭素数１〜１２の１価の有機基としては、前記式（１）における炭素数１〜１２の１価の有機基と同様の有機基等を挙げることができる。
炭素数１〜１２の２価の有機基としては、炭素数１〜１２の２価の炭化水素基、炭素数１〜１２の２価のハロゲン化炭化水素基、酸素原子および窒素原子からなる群より選ばれる少なくとも１種の原子を含む炭素数１〜１２の２価の有機基、ならびに酸素原子および窒素原子からなる群より選ばれる少なくとも１種の原子を含む炭素数１〜１２の２価のハロゲン化有機基等を挙げることができる。
炭素数１〜１２の２価の有機基としては、炭素数１〜１２の２価の炭化水素基、炭素数１〜１２の２価のハロゲン化炭化水素基、酸素原子および窒素原子からなる群より選ばれる少なくとも１種の原子を含む炭素数１〜１２の２価の有機基、ならびに酸素原子および窒素原子からなる群より選ばれる少なくとも１種の原子を含む炭素数１〜１２の２価のハロゲン化有機基等を挙げることができる。
炭素数１〜１２の２価の炭化水素基としては、炭素数１〜１２の直鎖または分岐鎖の２価の炭化水素基、炭素数３〜１２の２価の脂環式炭化水素基および炭素数６〜１２の２価の芳香族炭化水素基等が挙げられる。
炭素数１〜１２の２価のハロゲン化炭化水素基としては、前記炭素数１〜１２の２価の炭化水素基において、その少なくとも一部の水素原子がフッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子で置換された基等が挙げられる。
酸素原子および窒素原子からなる群より選ばれる少なくとも１種の原子を含む炭素数１〜１２の有機基としては、水素原子および炭素原子と、酸素原子および／または窒素原子とからなる有機基が挙げられ、エーテル結合、カルボニル基、エステル結合またはアミド結合と炭化水素基とを有する総炭素数１〜１２の２価の有機基等が挙げられる。
酸素原子および窒素原子からなる群より選ばれる少なくとも１種の原子を含む炭素数１〜１２の２価のハロゲン化有機基としては、前記酸素原子および窒素原子からなる群より選ばれる少なくとも１種の原子を含む炭素数１〜１２の２価の有機基において、その少なくとも一部の水素原子がフッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子で置換された基等が挙げられる。
前記式（３）におけるＺとしては、単結合、−Ｏ−、−ＳＯ2−、＞Ｃ＝Ｏまたは炭素数１〜１２の２価の有機基が好ましく、吸水（湿）性の低い樹脂が得られるなどの点から炭素数１〜１２の２価の炭化水素基がより好ましく、該炭素数１〜１２の２価の炭化水素基としては、炭素数３〜１２の２価の脂環式炭化水素基がより好ましい。
前記樹脂（１）は、前記構造単位（１−２）と前記構造単位（３−４）とのモル比（但し、両者の合計（構造単位（１−２）＋構造単位（３−４））は１００である。）が、光学特性、耐熱性および力学的特性の観点から構造単位（１−２）：構造単位（３−４）＝５０：５０〜１００：０であることが好ましく、構造単位（１−２）：構造単位（３−４）＝７０：３０〜１００：０であることがより好ましく、構造単位（１−２）：構造単位（３−４）＝８０：２０〜１００：０であることがさらに好ましい。
前記樹脂（１）は、光学特性、耐熱性および力学的特性の観点から前記構造単位（１−２）および前記構造単位（３−４）を全構造単位中７０モル％以上含むことが好ましく、全構造単位中９５モル％以上含むことがより好ましい。
前記樹脂（１）は、例えば、下記式（５）で表される化合物（以下「化合物（５）」ともいう。）および下記式（７）で表される化合物（以下「化合物（７）」ともいう。）からなる群より選ばれる少なくとも一つの化合物を含む成分（以下「（Ａ）成分」ともいう。）と、下記式（６）で表される化合物（以下「化合物（６）」ともいう。）を含む成分（以下「（Ｂ）成分」ともいう。）とを、反応させることにより得ることができる。
化合物（５）および化合物（７）からなる群より選ばれる少なくとも一つの化合物は、（Ａ）成分１００モル％中に、８０モル％〜１００モル％含まれていることが好ましく、９０モル％〜１００モル％含まれていることがより好ましい。
また、（Ｂ）成分は、必要に応じて下記式（８）で表される化合物を含むことが好ましい。化合物（６）は、（Ｂ）成分１００モル％中に、５０モル％〜１００モル％含まれていることが好ましく、８０モル％〜１００モル％含まれていることがより好ましく、９０モル％〜１００モル％含まれていることがさらに好ましい。
これらの樹脂（１）の合成に用いられ得る化合物（５）〜（８）は、１種単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いることも可能である。
〈透明樹脂の市販品〉
本発明に用いることができる透明樹脂の市販品としては、以下の市販品等を挙げることができる。環状オレフィン系樹脂の市販品としては、例えば、ＪＳＲ株式会社製アートン、日本ゼオン株式会社製ゼオノア、三井化学株式会社製ＡＰＥＬ、ポリプラスチックス株式会社製ＴＯＰＡＳを挙げることができる。ポリエーテルサルホン樹脂の市販品としては、住友化学株式会社製スミカエクセルＰＥＳ、住友ベークライト株式会社製スミライトなどを挙げることができる。ポリイミド樹脂の市販品としては、三菱ガス化学株式会社製ネオプリムＬなどを挙げることができる。ポリカーボネート樹脂の市販品としては、帝人株式会社製ピュアエースなどを挙げることができる。シルセスキオキサン系紫外線硬化樹脂の市販品としては、新日鐵化学株式会社製シルプラスなどを挙げることができる。
本発明に用いることができる透明樹脂の市販品としては、以下の市販品等を挙げることができる。環状オレフィン系樹脂の市販品としては、例えば、ＪＳＲ株式会社製アートン、日本ゼオン株式会社製ゼオノア、三井化学株式会社製ＡＰＥＬ、ポリプラスチックス株式会社製ＴＯＰＡＳを挙げることができる。ポリエーテルサルホン樹脂の市販品としては、住友化学株式会社製スミカエクセルＰＥＳ、住友ベークライト株式会社製スミライトなどを挙げることができる。ポリイミド樹脂の市販品としては、三菱ガス化学株式会社製ネオプリムＬなどを挙げることができる。ポリカーボネート樹脂の市販品としては、帝人株式会社製ピュアエースなどを挙げることができる。シルセスキオキサン系紫外線硬化樹脂の市販品としては、新日鐵化学株式会社製シルプラスなどを挙げることができる。
＜その他成分＞
前記樹脂製基板には、本発明の効果を損なわない範囲において、さらに、酸化防止剤；紫外線吸収剤；光吸収剤（Ａ）以外の近赤外線を吸収する染料や顔料；反射防止剤、ハードコート剤、帯電防止剤などのコーティング剤；および金属錯体系化合物；等の添加剤を添加することができる。また、後述する溶液キャスティング法により樹脂製基板を製造する場合には、レベリング剤や消泡剤を添加することで樹脂製基板の製造を容易にすることができる。これらその他成分は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記樹脂製基板には、本発明の効果を損なわない範囲において、さらに、酸化防止剤；紫外線吸収剤；光吸収剤（Ａ）以外の近赤外線を吸収する染料や顔料；反射防止剤、ハードコート剤、帯電防止剤などのコーティング剤；および金属錯体系化合物；等の添加剤を添加することができる。また、後述する溶液キャスティング法により樹脂製基板を製造する場合には、レベリング剤や消泡剤を添加することで樹脂製基板の製造を容易にすることができる。これらその他成分は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記酸化防止剤としては、例えば２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２，２'−ジオキシ−３，３'−ジ−ｔ−ブチル−５，５'−ジメチルジフェニルメタン、およびテトラキス［メチレン−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタンが挙げられる。
前記紫外線吸収剤としては、例えば２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、および２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノンが挙げられる。
なお、これら添加剤は、樹脂製基板を製造する際に、樹脂などとともに混合してもよいし、樹脂を製造する際に添加してもよい。また、添加量は、所望の特性に応じて適宜選択されるものであるが、樹脂１００重量部に対して、通常０．０１〜５．０重量部、好ましくは０．０５〜２．０重量部である。
なお、これら添加剤は、樹脂製基板を製造する際に、樹脂などとともに混合してもよいし、樹脂を製造する際に添加してもよい。また、添加量は、所望の特性に応じて適宜選択されるものであるが、樹脂１００重量部に対して、通常０．０１〜５．０重量部、好ましくは０．０５〜２．０重量部である。
＜樹脂製基板の製造方法＞
本発明に用いる樹脂製基板は、例えば、樹脂と光吸収剤（Ａ）や（Ａ'）とを含む組成物を溶融成形、キャスト成形により形成することができる。
本発明に用いる樹脂製基板は、例えば、樹脂と光吸収剤（Ａ）や（Ａ'）とを含む組成物を溶融成形、キャスト成形により形成することができる。
（A）溶融成形
前記樹脂製基板は、前記樹脂と光吸収剤（Ａ）や（Ａ'）とを溶融混練りして得られたペレットを溶融成形する方法；前記樹脂と光吸収剤（Ａ）や（Ａ'）とを含有する樹脂組成物を溶融成形する方法；光吸収剤（Ａ）や（Ａ'）と前記樹脂と溶媒とを含む樹脂組成物から溶媒を除去して得られたペレットを溶融成形する方法；などにより製造することができる。溶融成形方法としては、例えば、射出成形、溶融押出成形またはブロー成形を挙げることができる。
前記樹脂製基板は、前記樹脂と光吸収剤（Ａ）や（Ａ'）とを溶融混練りして得られたペレットを溶融成形する方法；前記樹脂と光吸収剤（Ａ）や（Ａ'）とを含有する樹脂組成物を溶融成形する方法；光吸収剤（Ａ）や（Ａ'）と前記樹脂と溶媒とを含む樹脂組成物から溶媒を除去して得られたペレットを溶融成形する方法；などにより製造することができる。溶融成形方法としては、例えば、射出成形、溶融押出成形またはブロー成形を挙げることができる。
（B）キャスト成形
前記樹脂製基板は、光吸収剤（Ａ）や（Ａ'）と前記樹脂と溶媒とを含む樹脂組成物を適当な基材の上にキャスティングして溶媒を除去すること；反射防止剤、ハードコート剤および／または帯電防止剤等のコーティング剤と、光吸収剤（Ａ）や（Ａ'）と、前記樹脂とを含む樹脂組成物を適当な基材の上にキャスティングすること；反射防止剤、ハードコート剤および／または帯電防止剤等のコーティング剤と、光吸収剤（Ａ）や（Ａ'）と、前記樹脂とを含む硬化性組成物を適当な基材の上にキャスティングして硬化、乾燥させること；などにより製造することもできる。
前記樹脂製基板は、光吸収剤（Ａ）や（Ａ'）と前記樹脂と溶媒とを含む樹脂組成物を適当な基材の上にキャスティングして溶媒を除去すること；反射防止剤、ハードコート剤および／または帯電防止剤等のコーティング剤と、光吸収剤（Ａ）や（Ａ'）と、前記樹脂とを含む樹脂組成物を適当な基材の上にキャスティングすること；反射防止剤、ハードコート剤および／または帯電防止剤等のコーティング剤と、光吸収剤（Ａ）や（Ａ'）と、前記樹脂とを含む硬化性組成物を適当な基材の上にキャスティングして硬化、乾燥させること；などにより製造することもできる。
前記基材としては、例えば、ガラス板、スチールベルト、スチールドラムおよび透明樹脂（例えば、ポリエステルフィルム、環状オレフィン系樹脂フィルム）が挙げられる。
前記樹脂製基板は、基材から塗膜を剥離することにより得ることができ、また、本発明の効果を損なわない限り、基材から塗膜を剥離せずに基材と塗膜との積層体を前記樹脂製基板としてもよい。
前記樹脂製基板は、基材から塗膜を剥離することにより得ることができ、また、本発明の効果を損なわない限り、基材から塗膜を剥離せずに基材と塗膜との積層体を前記樹脂製基板としてもよい。
さらに、ガラス板、石英または透明プラスチック製等の光学部品に、前記樹脂組成物をコーティングして溶媒を乾燥させたり、前記硬化性組成物をコーティングして硬化、乾燥させるたりすることにより、光学部品上に直接樹脂製基板を形成することもできる。
前記方法で得られた樹脂製基板中の残留溶媒量は可能な限り少ない方がよく、通常３重量％以下、好ましくは１重量％以下、さらに好ましくは０．５重量％以下である。残留溶媒量が前記範囲にあると、変形や特性が変化しにくい、所望の機能を容易に発揮できる樹脂製基板が得られる。
≪近赤外線反射膜≫
本発明に用いられる近赤外線反射膜は、近赤外線を反射する能力を有する膜である。このような近赤外線反射膜としては、アルミ蒸着膜、貴金属薄膜、酸化インジウムを主成分とし、酸化錫を少量含有させた金属酸化物微粒子を分散させた樹脂膜、高屈折率材料層と低屈折率材料層とを交互に積層した誘電体多層膜などを用いることができる。
本発明に用いられる近赤外線反射膜は、近赤外線を反射する能力を有する膜である。このような近赤外線反射膜としては、アルミ蒸着膜、貴金属薄膜、酸化インジウムを主成分とし、酸化錫を少量含有させた金属酸化物微粒子を分散させた樹脂膜、高屈折率材料層と低屈折率材料層とを交互に積層した誘電体多層膜などを用いることができる。
本発明の近赤外線カットフィルターは、このような近赤外線反射膜を有することで、特に下記（Ｃ）の特徴を有することになる。このため、近赤外線を十分にカットすることのできるフィルターを得ることができる。
本発明において、近赤外線反射膜は樹脂製基板の片面に設けてもよいし、両面に設けてもよい。片面に設ける場合には、製造コストや製造容易性に優れ、両面に設ける場合には、高い強度を有し、ソリの生じにくい近赤外線カットフィルターを得ることができる。
これら近赤外線反射膜の中では、高屈折率材料層と低屈折率材料層とを交互に積層した誘電体多層膜を好適に用いることができる。
高屈折率材料層を構成する材料としては、屈折率が１．７以上の材料を用いることができ、好ましくは屈折率の範囲が１．７〜２．５の材料が選択される。
高屈折率材料層を構成する材料としては、屈折率が１．７以上の材料を用いることができ、好ましくは屈折率の範囲が１．７〜２．５の材料が選択される。
これら材料としては、例えば、酸化チタン、酸化ジルコニウム、五酸化タンタル、五酸化ニオブ、酸化ランタン、酸化イットリウム、酸化亜鉛、硫化亜鉛、または酸化インジウム等を主成分とし、酸化チタン、酸化錫および／または酸化セリウムなどを少量（例えば、主成分に対し０〜１０％）含有させたものが挙げられる。
低屈折率材料層を構成する材料としては、屈折率が１．６以下の材料を用いることができ、好ましくは屈折率の範囲が１．２〜１．６の材料が選択される。
これら材料としては、例えば、シリカ、アルミナ、フッ化ランタン、フッ化マグネシウムおよび六フッ化アルミニウムナトリウムが挙げられる。
これら材料としては、例えば、シリカ、アルミナ、フッ化ランタン、フッ化マグネシウムおよび六フッ化アルミニウムナトリウムが挙げられる。
高屈折率材料層と低屈折率材料層とを積層する方法については、これら材料層を積層した誘電体多層膜が形成される限り特に制限はない。例えば、前記樹脂製基板上に、直接、ＣＶＤ法、スパッタ法、真空蒸着法、イオンアシスト蒸着法またはイオンプレーティング法などにより、高屈折率材料層と低屈折率材料層とを交互に積層した誘電体多層膜を形成することができる。
また、樹脂製基板と近赤外線反射膜との密着性を向上させる目的で、樹脂製基板の表面にコロナ処理やプラズマ処理等の表面処理をしてもよい。
これら高屈折率材料層および低屈折率材料層の各層の厚みは、通常、遮断しようとする近赤外線波長をλ（ｎｍ）とすると、０．１λ〜０．５λの厚みが好ましい。厚みがこの範囲あると、屈折率（ｎ）と膜厚（ｄ）との積（ｎ×ｄ）がλ／４で算出される光学的膜厚と高屈折率材料層および低屈折率材料層の各層の厚みとがほぼ同じ値となって、反射・屈折の光学的特性の関係から、特定波長の遮断・透過を容易にコントロールできる傾向にある。
これら高屈折率材料層および低屈折率材料層の各層の厚みは、通常、遮断しようとする近赤外線波長をλ（ｎｍ）とすると、０．１λ〜０．５λの厚みが好ましい。厚みがこの範囲あると、屈折率（ｎ）と膜厚（ｄ）との積（ｎ×ｄ）がλ／４で算出される光学的膜厚と高屈折率材料層および低屈折率材料層の各層の厚みとがほぼ同じ値となって、反射・屈折の光学的特性の関係から、特定波長の遮断・透過を容易にコントロールできる傾向にある。
ただし、可視光領域（波長４２０〜７００ｎｍ）にわずかな反射が見られる場合には、反射率を低減するために、０．１λ〜０．５λの厚みから外れる厚さの層を数層加えてもよい。その際の厚みは０．０３λ〜０．１λが好ましい。
誘電体多層膜における高屈折率材料層と低屈折率材料層との合計の積層数は、５〜６０層、好ましくは１０〜５０層であることが望ましい。
さらに、誘電体多層膜を形成した際に基板にソリが生じてしまう場合には、これを解消するために、基板両面に誘電体多層膜を形成したり、基板の誘電体多層膜を形成した面に紫外線等の電磁波を照射したりする等の方法をとることができる。なお、電磁波を照射する場合、誘電体多層膜の形成中に照射してもよいし、形成後別途照射してもよい。
さらに、誘電体多層膜を形成した際に基板にソリが生じてしまう場合には、これを解消するために、基板両面に誘電体多層膜を形成したり、基板の誘電体多層膜を形成した面に紫外線等の電磁波を照射したりする等の方法をとることができる。なお、電磁波を照射する場合、誘電体多層膜の形成中に照射してもよいし、形成後別途照射してもよい。
≪その他の機能膜≫
本発明の近赤外線カットフィルターは、本発明の効果を損なわない範囲において、樹脂製基板と誘電体多層膜等の近赤外線反射膜の間、樹脂製基板の近赤外線反射膜が設けられた面と反対側の面、または近赤外線反射膜の樹脂製基板が設けられた面と反対側の面に、樹脂製基板や近赤外線反射膜の表面硬度の向上、耐薬品性の向上、帯電防止および傷消しなどの目的で、反射防止膜、ハードコート膜や帯電防止膜などの機能膜を適宜設けることができる。
本発明の近赤外線カットフィルターは、本発明の効果を損なわない範囲において、樹脂製基板と誘電体多層膜等の近赤外線反射膜の間、樹脂製基板の近赤外線反射膜が設けられた面と反対側の面、または近赤外線反射膜の樹脂製基板が設けられた面と反対側の面に、樹脂製基板や近赤外線反射膜の表面硬度の向上、耐薬品性の向上、帯電防止および傷消しなどの目的で、反射防止膜、ハードコート膜や帯電防止膜などの機能膜を適宜設けることができる。
本発明の近赤外線カットフィルターは、前記機能膜からなる層を１層含んでもよく、２層以上含んでもよい。本発明の近赤外線カットフィルターが前記機能膜からなる層を２層以上含む場合には、同様の層を２層以上含んでもよいし、異なる層を２層以上含んでもよい。
機能膜を積層する方法としては、特に制限されないが、反射防止剤、ハードコート剤および／または帯電防止剤等のコーティング剤などを樹脂製基板または近赤外線反射膜上に、前記と同様に溶融成形、キャスト成形する方法等を挙げることができる。
また、前記コーティング剤などを含む硬化性組成物をバーコーター等で樹脂製基板または近赤外線反射膜上に塗布した後、紫外線照射等により硬化することによっても製造することができる。
前記コーティング剤としては、紫外線（ＵＶ）／電子線（ＥＢ）硬化型樹脂や熱硬化型樹脂などが挙げられ、具体的には、ウレタン系、ウレタンアクリレート系、アクリレート系、エポキシ系およびエポキシアクリレート系樹脂などが挙げられる。
また、前記硬化性組成物は、重合開始剤を含んでいてもよい。前記重合開始剤としては、公知の光重合開始剤または熱重合開始剤を用いることができ、光重合開始剤と熱重合開始剤を併用してもよい。重合開始剤は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記硬化性組成物中、重合開始剤の配合割合は、硬化性組成物の全量を１００重量％として、好ましくは０．１〜１０重量％、より好ましくは０．５〜１０重量％、さらに好ましくは１〜５重量％である。重合開始剤の配合割合が前記範囲にあると、硬化性組成物は硬化特性および取り扱い性に優れ、所望の硬度を有する反射防止膜、ハードコート膜や帯電防止膜などの機能膜を得ることができる。
さらに、前記硬化性組成物には溶剤として有機溶剤を加えてもよく、有機溶剤としては、公知のものを使用することができる。有機溶剤の具体例としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、オクタノール等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のエステル類；エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のエーテル類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド類を挙げることができる。
これら溶剤は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
これら溶剤は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記機能膜の厚さは、好ましくは０．１μｍ〜２０μｍ、さらに好ましくは０．５μｍ〜１０μｍ、特に好ましくは０．７μｍ〜５μｍである。
また、樹脂製基板と機能膜および／または近赤外線反射膜との密着性や、機能膜と近赤外線反射膜との密着性を上げる目的で、樹脂製基板や機能膜の表面にコロナ処理やプラズマ処理等の表面処理をしてもよい。
また、樹脂製基板と機能膜および／または近赤外線反射膜との密着性や、機能膜と近赤外線反射膜との密着性を上げる目的で、樹脂製基板や機能膜の表面にコロナ処理やプラズマ処理等の表面処理をしてもよい。
≪近赤外線カットフィルターの特性等≫
本発明の近赤外線カットフィルターは、その光線透過率が、下記（Ａ）〜（Ｄ）を満たすことが好ましい。
本発明の近赤外線カットフィルターは、その光線透過率が、下記（Ａ）〜（Ｄ）を満たすことが好ましい。
（Ａ）波長４３０〜５８０ｎｍの範囲において、近赤外線カットフィルターの垂直方向から測定した場合の透過率の平均値が８０％以上、好ましくは８２％以上、さらに好ましくは８５％以上の範囲にあることが望ましい。本発明では、厚さ０．１ｍｍでの全光線透過率が高い樹脂、当該波長領域に吸収を持たない光吸収剤（Ａ）や（Ａ'）等を用いることで、このような波長４３０〜５８０ｎｍにおいて、高い透過率を有する近赤外線カットフィルターを得ることができる。
近赤外線カットフィルターを固体撮像装置やカメラモジュール等のレンズユニットにおける視感度補正用フィルター等に用いる場合、波長４３０〜５８０ｎｍにおける透過率の平均値が前記範囲にあり、この波長範囲において透過率が略一定であることが好ましい。
波長４３０〜５８０ｎｍの範囲における透過率の平均値としては高い方が好ましい。透過率の平均値が高いと、フィルターを通過する光の強度が充分確保され、下記用途等に好適に用いることができる。
一方、波長４３０〜５８０ｎｍの範囲における透過率の平均値が低いと、フィルターを通過する光の強度が充分確保されず、下記用途に好適に用いることができないおそれがある。
（Ｂ）波長６３０〜６５０ｎｍの範囲において、近赤外線カットフィルターの垂直方向から測定した場合の透過率の平均値が７０％以上、好ましくは７５％以上、さらに好ましくは７８％以上の範囲にあることが望ましい。本発明では、特に、前記光吸収剤（Ａ）を用いることで、所定の透過率となる近赤外線カットフィルターを得ることができる。
近赤外線カットフィルターの波長６３０〜６５０ｎｍの範囲における透過率が前記範囲にあると、可視光領域の透過率が高く、また、該フィルターに光を入射したときに、近赤外線の波長領域付近の波長で透過率が急変することとなる近赤外線カットフィルターを得ることができる。
（Ｃ）波長８００〜１０００ｎｍの範囲において、近赤外線カットフィルターの垂直方向から測定した場合の透過率の平均値が２０％以下、好ましくは１５％以下、さらに好ましくは１０％以下の範囲にあることが望ましい。本発明では、樹脂製基板上に近赤外線反射膜を設けることで、このような波長８００〜１０００ｎｍにおける透過率が十分に低い近赤外線カットフィルターを得ることができる。
特に、前記誘電体多層膜などの高い近赤外線反射能を有する近赤外線反射膜を樹脂製基板（Ｉ）上に設けることで、波長８００〜１０００ｎｍにおける透過率が十分に低い近赤外線カットフィルターを得ることができる。
本発明の近赤外線カットフィルターは近赤外線の波長（８００ｎｍ以上）を選択的に低減させるものであるため、８００〜１０００ｎｍの範囲における透過率の平均値は低い方が好ましい。透過率の平均値が低いと、近赤外線カットフィルターは、近赤外線を十分にカットすることができる。
一方、波長８００〜１０００ｎｍの範囲における透過率の平均値が高いと、フィルターは、近赤外線を充分カットすることができず、該フィルターをＰＤＰ等に用いた場合には、家庭内において、ＰＤＰ周辺にある電子機器の誤作動を防ぐことができないおそれがある。
（Ｄ）波長５５０〜７００ｎｍの範囲において、近赤外線カットフィルターの垂直方向から測定した場合の透過率が７５％となる波長の値（Ｙａ）と、近赤外線カットフィルターの垂直方向に対して３０°の角度から測定した場合の透過率が７５％となる波長の値（Ｙｂ）の差の絶対値（｜Ｙａ−Ｙｂ｜）が１５ｎｍ未満、好ましくは１０ｎｍ未満、さらに好ましくは８ｎｍ未満の範囲にあることが望ましい。
本発明では、前記光吸収剤（Ａ）を用いることで、所定の透過率となる波長の差の絶対値が前記所定の範囲となる近赤外線カットフィルターを得ることができる。
波長５５０〜７００ｎｍの範囲において、（Ｙａ）と（Ｙｂ）の差の絶対値が前記範囲にあると、このようなフィルターをデジタルカメラ等に用いた場合には、画像の周辺部と中心部で同等の明るさおよび色調を示し、視野角の広いデジタルカメラ等を得ることができる。
波長５５０〜７００ｎｍの範囲において、（Ｙａ）と（Ｙｂ）の差の絶対値が前記範囲にあると、このようなフィルターをデジタルカメラ等に用いた場合には、画像の周辺部と中心部で同等の明るさおよび色調を示し、視野角の広いデジタルカメラ等を得ることができる。
一方、（Ｙａ）と（Ｙｂ）の差の絶対値が１５ｎｍ以上である近赤外線カットフィルターをデジタルカメラ等に用いると、画像の周辺部と中心部で明るさに差があったり、色調が異なったり、特定の色が見えにくくなったりする恐れがあるため、下記用途に好適に用いることができない場合がある。
本発明においては、近赤外線カットフィルターに上下左右から光を入射させた場合に、どの位の角度まで正常に光を透過させることが可能かを示す指標として「視野角」を用いることもある。
正常に光を透過させることができるかどうかの判断として、本発明では、波長５５０〜７００ｎｍの範囲において、フィルターの垂直方向から測定した場合の透過率が７５％となる波長の値（Ｙａ）と、フィルターの垂直方向に対して３０°の角度から測定した場合の透過率が７５％となる波長の値（Ｙｂ）の差の絶対値が１５ｎｍ未満となることを一つの基準とする。
前記近赤外線カットフィルターの厚みは、該フィルターの透過率が前記（Ａ）〜（Ｄ）を満たすように調整することが好ましく、特に制限はないが、好ましくは５０〜２５０μｍ、より好ましくは５０〜２００μｍ、さらに好ましくは、８０〜１５０μｍである。
近赤外線カットフィルターの厚みが前記範囲にあると、フィルターを、小型化、軽量化することができ、固体撮像装置等さまざまな用途に好適に用いることができる。特にカメラモジュール等レンズユニットに用いた場合には、レンズユニットの低背化を実現することができるため好ましい。
＜近赤外線カットフィルターの用途＞
本発明の近赤外線カットフィルターは、視野角が広く、優れた近赤外線カット能等を有する。したがってカメラモジュールのＣＣＤやＣＭＯＳイメージセンサーなどの固体撮像素子の視感度補正用として有用である。特に、デジタルスチルカメラ、携帯電話用カメラ、デジタルビデオカメラ、ＰＣカメラ、監視カメラ、自動車用カメラ等の固体撮像装置等に有用である。
本発明の近赤外線カットフィルターは、視野角が広く、優れた近赤外線カット能等を有する。したがってカメラモジュールのＣＣＤやＣＭＯＳイメージセンサーなどの固体撮像素子の視感度補正用として有用である。特に、デジタルスチルカメラ、携帯電話用カメラ、デジタルビデオカメラ、ＰＣカメラ、監視カメラ、自動車用カメラ等の固体撮像装置等に有用である。
ここで、本発明で得られる近赤外線カットフィルターをカメラモジュールに用いる場合について具体的に説明する。
図１に、カメラモジュールの断面概略図を示す。
図１に、カメラモジュールの断面概略図を示す。
図１（ａ）は、従来のカメラモジュールの構造の断面概略図であり、図１（ｂ）は、本発明で得られる近赤外線カットフィルター６'を用いた場合の、とり得ることができるカメラモジュールの構造の一つを表す断面概略図である。
図１（ｂ）では、本発明で得られる近赤外線カットフィルター６'をレンズ５の上部に用いているが、本発明で得られる近赤外線カットフィルター６'は、図１（ａ）に示すようにレンズ５とセンサー７の間に用いることもできる。
従来のカメラモジュールでは、近赤外線カットフィルター６に対してほぼ垂直に光が入射する必要があった。そのため、フィルター６は、レンズ５とセンサー７の間に配置する必要があった。
ここで、センサー７は、高感度であり、５μ程度のちりやほこりが触れるだけで正確に作動しなくなるおそれがあるため、センサー７の上部に用いるフィルター６は、ちりやほこりの出ないものであり、異物を含まないものである必要があった。また、前記センサー７の特性から、フィルター６とセンサー７の間には、所定の間隔を設ける必要があり、このことがカメラモジュールの低背化を妨げる一因となっていた。
これに対し、本発明で得られる近赤外線カットフィルター６'は、（Ｙａ）と（Ｙｂ）の差の絶対値が１５ｎｍ以下である。つまり、フィルター６'の垂直方向から入射する光と、フィルター６'の垂直方向に対して３０°から入射する光の透過波長に大きな差はないため（吸収（透過）波長の入射角依存性が小さいため）、フィルター６'は、レンズ５とセンサー７の間に配置する必要がなく、レンズの上部に配置することもできる。
このため、本発明で得られる近赤外線カットフィルター６'をカメラモジュールに用いる場合には、該カメラモジュールの取り扱い性が容易になり、また、フィルター６'とセンサー７の間に所定の間隔を設ける必要がないため、カメラモジュールの低背化が可能となる。
以下、本発明を実施例により説明するが、本発明は、この実施例により何ら限定されるものではない。なお、「部」は、特に断りのない限り「重量部」を意味する。
まず、各物性値の測定方法および物性の評価方法について説明する。
まず、各物性値の測定方法および物性の評価方法について説明する。
（１）分子量：
東ソ−製のＨタイプカラムが装着された、ウオターズ（ＷＡＴＥＲＳ）社製のゲルパーミエ−ションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）装置（１５０Ｃ型）を用い、ｏ−ジクロロベンゼン溶媒、１２０℃の条件で、標準ポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）および数平均分子量（Ｍｎ）を測定した。
東ソ−製のＨタイプカラムが装着された、ウオターズ（ＷＡＴＥＲＳ）社製のゲルパーミエ−ションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）装置（１５０Ｃ型）を用い、ｏ−ジクロロベンゼン溶媒、１２０℃の条件で、標準ポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）および数平均分子量（Ｍｎ）を測定した。
（２）ガラス転移温度（Ｔｇ）：
エスアイアイ・ナノテクノロジーズ株式会社製の示差走査熱量計（ＤＳＣ６２００）を用いて、昇温速度：毎分２０℃、窒素気流下で測定した。
エスアイアイ・ナノテクノロジーズ株式会社製の示差走査熱量計（ＤＳＣ６２００）を用いて、昇温速度：毎分２０℃、窒素気流下で測定した。
（３）飽和吸水率：
ＡＳＴＭ Ｄ５７０に準拠し、合成例で得られた樹脂から厚さ３ｍｍ、縦５０ｍｍ、横５０ｍｍの試験片作成し、得られた試験片を２３℃の水中に１週間浸漬させた後、試験片の重量変化より吸水率を測定した。
ＡＳＴＭ Ｄ５７０に準拠し、合成例で得られた樹脂から厚さ３ｍｍ、縦５０ｍｍ、横５０ｍｍの試験片作成し、得られた試験片を２３℃の水中に１週間浸漬させた後、試験片の重量変化より吸水率を測定した。
（４）分光透過率：
株式会社日立ハイテクノロジーズ製の分光光度計（Ｕ−４１００）を用いて測定した。
ここで、近赤外線カットフィルターの垂直方向から測定した場合の透過率は、図２のようにフィルターに対し垂直に透過した光を測定した。
株式会社日立ハイテクノロジーズ製の分光光度計（Ｕ−４１００）を用いて測定した。
ここで、近赤外線カットフィルターの垂直方向から測定した場合の透過率は、図２のようにフィルターに対し垂直に透過した光を測定した。
また、近赤外線カットフィルターの垂直方向に対して３０°の角度から測定した場合の透過率は、図３のようにフィルターの垂直方向に対して３０°の角度で透過した光を測定した。
なお、実施例において、分光透過率は、（Ｙｂ）を測定する場合を除き、光が基板、フィルターに対して垂直に入射する条件で、該分光光度計を使用して測定した。（Ｙｂ）を測定する場合には、光がフィルターの垂直方向に対して３０°の角度で入射する条件で該分光光度計を使用して測定した。
［合成例１］
下記式（ａ）で表される８−メチル−８−メトキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］ドデカ−３−エン（以下「ＤＮＭ」ともいう。）１００部と、１−ヘキセン（分子量調節剤）１８部と、トルエン（開環重合反応用溶媒）３００部とを、窒素置換した反応容器に仕込み、この溶液を８０℃に加熱した。次いで、反応容器内の溶液に、重合触媒として、トリエチルアルミニウムのトルエン溶液（０．６ｍｏｌ／リットル）０．２部と、メタノール変性の六塩化タングステンのトルエン溶液（濃度０．０２５ｍｏｌ／リットル）０．９部とを添加し、この溶液を８０℃で３時間加熱攪拌することにより開環重合反応させて開環重合体溶液を得た。この重合反応における重合転化率は９７％であった。
下記式（ａ）で表される８−メチル−８−メトキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］ドデカ−３−エン（以下「ＤＮＭ」ともいう。）１００部と、１−ヘキセン（分子量調節剤）１８部と、トルエン（開環重合反応用溶媒）３００部とを、窒素置換した反応容器に仕込み、この溶液を８０℃に加熱した。次いで、反応容器内の溶液に、重合触媒として、トリエチルアルミニウムのトルエン溶液（０．６ｍｏｌ／リットル）０．２部と、メタノール変性の六塩化タングステンのトルエン溶液（濃度０．０２５ｍｏｌ／リットル）０．９部とを添加し、この溶液を８０℃で３時間加熱攪拌することにより開環重合反応させて開環重合体溶液を得た。この重合反応における重合転化率は９７％であった。
得られた反応溶液（水素添加重合体溶液）を冷却した後、水素ガスを放圧した。この反応溶液を大量のメタノール中に注いで凝固物を分離回収し、これを乾燥して、水素添加重合体（以下「樹脂Ａ」ともいう。）を得た。樹脂Ａの分子量は数平均分子量（Ｍｎ）が３２，０００、重量平均分子量（Ｍｗ）が１３７，０００であり、ガラス転移温度（Ｔｇ）は１６５℃であった。
［合成例２］
３Ｌの４つ口フラスコに２，６−ジフルオロベンゾニトリル３５．１２ｇ（０．２５３ｍｏｌ）、９，９−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）フルオレン１２５．６５ｇ（０．２５０ｍｏｌ）、炭酸カリウム４１．４６ｇ（０．３００ｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（以下「ＤＭＡｃ」ともいう。）４４３ｇおよびトルエン１１１ｇを添加した。続いて、４つ口フラスコに温度計、撹拌機、窒素導入管付き三方コック、ディーンスターク管および冷却管を取り付けた。
３Ｌの４つ口フラスコに２，６−ジフルオロベンゾニトリル３５．１２ｇ（０．２５３ｍｏｌ）、９，９−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）フルオレン１２５．６５ｇ（０．２５０ｍｏｌ）、炭酸カリウム４１．４６ｇ（０．３００ｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（以下「ＤＭＡｃ」ともいう。）４４３ｇおよびトルエン１１１ｇを添加した。続いて、４つ口フラスコに温度計、撹拌機、窒素導入管付き三方コック、ディーンスターク管および冷却管を取り付けた。
次いで、フラスコ内を窒素置換した後、得られた溶液を１４０℃で３時間反応させ、生成する水をディーンスターク管から随時取り除いた。水の生成が認められなくなったところで、徐々に温度を１６０℃まで上昇させ、そのままの温度で６時間反応させた。
室温（２５℃）まで冷却後、生成した塩をろ紙で除去し、ろ液をメタノールに投じて再沈殿させ、ろ別によりろ物（残渣）を単離した。得られたろ物を６０℃で一晩真空乾燥し、白色粉末Ｂ（以下「樹脂Ｂ」ともいう。）を得た（収量９５．６７ｇ、収率９５％）。
得られた樹脂Ｂの構造分析を行った。結果は、赤外吸収スペクトルの特性吸収が、３０３５ｃｍ-1（Ｃ−Ｈ伸縮）、２２２９ｃｍ-1（ＣＮ）、１５７４ｃｍ-1、１４９９ｃｍ-1（芳香環骨格吸収）、１２４０ｃｍ-1（−Ｏ−）であった。樹脂Ｂは、数平均分子量（Ｍｎ）が６７，０００であり、重量平均分子量（Ｍｗ）が１４６，０００であり、ガラス転移温度（Ｔｇ）は２７５℃であった。得られた樹脂Ｂは前記構造単位（１）を有していた。
［合成例３］
９，９−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）フルオレン１２５．６５ｇ（０．２５０ｍｏｌ）の代わりに、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン８７．６０ｇ（０．２５０ｍｏｌ）を使用した以外は合成例２と同様に合成を行い、樹脂Ｃを得た。樹脂Ｃは、数平均分子量（Ｍｎ）が７５，０００であり、重量平均分子量（Ｍｗ）が１８８，０００であり、ガラス転移温度（Ｔｇ）は２８５℃であった。
９，９−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）フルオレン１２５．６５ｇ（０．２５０ｍｏｌ）の代わりに、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン８７．６０ｇ（０．２５０ｍｏｌ）を使用した以外は合成例２と同様に合成を行い、樹脂Ｃを得た。樹脂Ｃは、数平均分子量（Ｍｎ）が７５，０００であり、重量平均分子量（Ｍｗ）が１８８，０００であり、ガラス転移温度（Ｔｇ）は２８５℃であった。
［合成例４］
９，９−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）フルオレン１２５．６５ｇ（０．２５０ｍｏｌ）の代わりに、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン７８．８４ｇ（０．２２５ｍｏｌ）および１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン６．７１ｇ（０．０２５ｍｏｌ）を使用した以外は合成例２と同様に合成を行い、樹脂Ｄを得た。樹脂Ｄは、数平均分子量（Ｍｎ）が３６，０００であり、重量平均分子量（Ｍｗ）が７８，０００であり、ガラス転移温度（Ｔｇ）は２６０℃であった。
９，９−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）フルオレン１２５．６５ｇ（０．２５０ｍｏｌ）の代わりに、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン７８．８４ｇ（０．２２５ｍｏｌ）および１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン６．７１ｇ（０．０２５ｍｏｌ）を使用した以外は合成例２と同様に合成を行い、樹脂Ｄを得た。樹脂Ｄは、数平均分子量（Ｍｎ）が３６，０００であり、重量平均分子量（Ｍｗ）が７８，０００であり、ガラス転移温度（Ｔｇ）は２６０℃であった。
［合成例５］
２，６−ジフルオロベンゾニトリル３５．１２ｇ（０．２５３ｍｏｌ）の代わりに、４，４−ジフルオロジフェニルスルホン（ＤＦＤＳ）６３．５６ｇ（０．２５０ｍｏｌ）を使用した以外は合成例２と同様に合成を行い、樹脂Ｅを得た。樹脂Ｅの分子量は数平均分子量（Ｍｎ）が３７，０００であり、重量平均分子量（Ｍｗ）が１３２，０００であり、ガラス転移温度（Ｔｇ）は２６５℃であった。
２，６−ジフルオロベンゾニトリル３５．１２ｇ（０．２５３ｍｏｌ）の代わりに、４，４−ジフルオロジフェニルスルホン（ＤＦＤＳ）６３．５６ｇ（０．２５０ｍｏｌ）を使用した以外は合成例２と同様に合成を行い、樹脂Ｅを得た。樹脂Ｅの分子量は数平均分子量（Ｍｎ）が３７，０００であり、重量平均分子量（Ｍｗ）が１３２，０００であり、ガラス転移温度（Ｔｇ）は２６５℃であった。
［実施例１］
容器に、合成例１で得た樹脂Ａ１００重量部、スクアリリウム系化合物「ａ−１０」（前記式（ａ−１０）で表される化合物）０．０１重量部、さらに塩化メチレンを加えることで、樹脂濃度が２０重量％の溶液（ｅｘ１)を得た。
次いで、係る溶液を平滑なガラス板上にキャストし、２０℃で８時間乾燥した後、ガラス板から剥離した。剥離した塗膜をさらに減圧下１００℃で８時間乾燥して、厚さ０．１ｍｍ、縦６０ｍｍ、横６０ｍｍの基板を得た。
容器に、合成例１で得た樹脂Ａ１００重量部、スクアリリウム系化合物「ａ−１０」（前記式（ａ−１０）で表される化合物）０．０１重量部、さらに塩化メチレンを加えることで、樹脂濃度が２０重量％の溶液（ｅｘ１)を得た。
次いで、係る溶液を平滑なガラス板上にキャストし、２０℃で８時間乾燥した後、ガラス板から剥離した。剥離した塗膜をさらに減圧下１００℃で８時間乾燥して、厚さ０．１ｍｍ、縦６０ｍｍ、横６０ｍｍの基板を得た。
この基板の分光透過率を測定し、吸収極大波長と、波長６４０ｎｍの透過率を求めた。
この結果を表１に示す。
この基板の吸収極大波長は６９９ｎｍであった。また、波長６４０ｎｍの透過率は８２％であった。
この結果を表１に示す。
この基板の吸収極大波長は６９９ｎｍであった。また、波長６４０ｎｍの透過率は８２％であった。
続いて、係る基板の片面に、蒸着温度１００℃で、近赤外線を反射する多層蒸着膜〔シリカ（ＳｉＯ2：膜厚３５〜１９０ｎｍ）層とチタニア（ＴｉＯ2：膜厚１２〜１１２ｎｍ）層とが交互に積層されてなるもの，積層数２０〕を形成し、さらに基板のもう一方の面に、蒸着温度１００℃で、近赤外線を反射する多層蒸着膜〔シリカ（ＳｉＯ2：膜厚３３〜１６１ｎｍ）層とチタニア（ＴｉＯ2：膜厚１０〜１０１ｎｍ）層とが交互に積層されてなるもの，積層数２２〕を形成し、厚さ０．１０５ｍｍの近赤外線カットフィルターを得た。この近赤外線カットフィルターの分光透過率を測定し、（Ｙａ）、（Ｙｂ）を求めた。
この結果を表１に示す。また、透過率曲線を図４に示す。
この結果を表１に示す。また、透過率曲線を図４に示す。
波長４３０〜５８０nmにおける透過率の平均値は９３％、波長６３０〜６５０ｎｍにおける透過率の平均値は８８％、波長８００〜１０００ｎｍにおける透過率の平均値は１％以下であった。
また、波長５５０〜７００ｎｍの範囲において、フィルターの垂直方向から測定した場合の透過率が７５％となる波長の値（Ｙａ）と、フィルターの垂直方向に対して ３０°の角度から測定した場合の透過率が７５％となる波長の値（Ｙｂ）の差の絶対値（｜Ｙａ−Ｙｂ｜）は３ｎｍであった。
［実施例２］
実施例１で得られた基板の片面に、蒸着温度１００℃で、近赤外線を反射する多層蒸着膜〔シリカ（ＳｉＯ2：膜厚３６〜１９０ｎｍ）層とチタニア（ＴｉＯ2：膜厚１１〜１１３ｎｍ）層とが交互に積層されてなるもの，積層数４０〕を形成し、厚さ０．１０４ｍｍの近赤外線カットフィルターを得た。さらに、実施例１と同様の評価を行った結果を表１に示す。
実施例１で得られた基板の片面に、蒸着温度１００℃で、近赤外線を反射する多層蒸着膜〔シリカ（ＳｉＯ2：膜厚３６〜１９０ｎｍ）層とチタニア（ＴｉＯ2：膜厚１１〜１１３ｎｍ）層とが交互に積層されてなるもの，積層数４０〕を形成し、厚さ０．１０４ｍｍの近赤外線カットフィルターを得た。さらに、実施例１と同様の評価を行った結果を表１に示す。
［実施例３］
実施例１で得られた基板の両面に、荒川化学工業株式会社製ハードコート剤「ビームセット」を、硬化後の膜厚が各０．００２ｍｍとなるようにバーコーターにて塗布した後ＵＶ照射して硬化し、厚さ０．１０４ｍｍ、縦６０ｍｍ、横６０ｍｍの基板を得た。
さらに、実施例１と同様にしてこの基板から厚さ０．１０９ｍｍの近赤外線カットフィルターを製造した。実施例１と同様の評価を行った結果を表１に示す。
実施例１で得られた基板の両面に、荒川化学工業株式会社製ハードコート剤「ビームセット」を、硬化後の膜厚が各０．００２ｍｍとなるようにバーコーターにて塗布した後ＵＶ照射して硬化し、厚さ０．１０４ｍｍ、縦６０ｍｍ、横６０ｍｍの基板を得た。
さらに、実施例１と同様にしてこの基板から厚さ０．１０９ｍｍの近赤外線カットフィルターを製造した。実施例１と同様の評価を行った結果を表１に示す。
［実施例４］
実施例１で得られた基板の両面に、トリシクロデカンジメタノールジアクリレートとメチルエチルケトンとを５０：５０の割合で混合した組成物を、乾燥後の膜厚が片面０．００２ｍｍとなるようにバーコーターにて塗布したのちＵＶ照射して硬化し、厚さ０．１０４ｍｍ、縦６０ｍｍ、横６０ｍｍの基板を得た。
さらに、実施例１と同様にしてこの基板から厚さ０．１０９ｍｍの近赤外線カットフィルターを製造した。実施例１と同様の評価を行った結果を表１に示す。
実施例１で得られた基板の両面に、トリシクロデカンジメタノールジアクリレートとメチルエチルケトンとを５０：５０の割合で混合した組成物を、乾燥後の膜厚が片面０．００２ｍｍとなるようにバーコーターにて塗布したのちＵＶ照射して硬化し、厚さ０．１０４ｍｍ、縦６０ｍｍ、横６０ｍｍの基板を得た。
さらに、実施例１と同様にしてこの基板から厚さ０．１０９ｍｍの近赤外線カットフィルターを製造した。実施例１と同様の評価を行った結果を表１に示す。
［実施例５］
樹脂Ａの代わりにＪＳＲ株式会社製の環状オレフィン系樹脂「アートン Ｇ」を用いたこと以外は実施例１と同様にして、厚さ０．１ｍｍ、縦６０ｍｍ、横６０ｍｍの基板を得た。
さらに、実施例１と同様にしてこの基板から厚さ０．１０５ｍｍの近赤外線カットフィルターを製造した。実施例１と同様の評価を行った結果を表１に示す。
樹脂Ａの代わりにＪＳＲ株式会社製の環状オレフィン系樹脂「アートン Ｇ」を用いたこと以外は実施例１と同様にして、厚さ０．１ｍｍ、縦６０ｍｍ、横６０ｍｍの基板を得た。
さらに、実施例１と同様にしてこの基板から厚さ０．１０５ｍｍの近赤外線カットフィルターを製造した。実施例１と同様の評価を行った結果を表１に示す。
［実施例６］
樹脂Ａの代わりに株式会社製のポリカーボネート樹脂「ピュアエース」を用いたこと以外は実施例１と同様にして、厚さ０．１ｍｍ、縦６０ｍｍ、横６０ｍｍの基板を得た。
さらに、実施例１と同様にしてこの基板から厚さ０．１０５ｍｍの近赤外線カットフィルターを製造した。実施例１と同様の評価を行った結果を表１に示す。
樹脂Ａの代わりに株式会社製のポリカーボネート樹脂「ピュアエース」を用いたこと以外は実施例１と同様にして、厚さ０．１ｍｍ、縦６０ｍｍ、横６０ｍｍの基板を得た。
さらに、実施例１と同様にしてこの基板から厚さ０．１０５ｍｍの近赤外線カットフィルターを製造した。実施例１と同様の評価を行った結果を表１に示す。
［実施例７］
樹脂Ａの代わりに合成例２で得た樹脂Ｂを用いたこと以外は実施例１と同様にして、厚さ０．１ｍｍ、縦６０ｍｍ、横６０ｍｍの基板を得た。
さらに、実施例１と同様にしてこの基板から厚さ０．１０５ｍｍの近赤外線カットフィルターを製造した。実施例１と同様の評価を行った結果を表１に示す。
樹脂Ａの代わりに合成例２で得た樹脂Ｂを用いたこと以外は実施例１と同様にして、厚さ０．１ｍｍ、縦６０ｍｍ、横６０ｍｍの基板を得た。
さらに、実施例１と同様にしてこの基板から厚さ０．１０５ｍｍの近赤外線カットフィルターを製造した。実施例１と同様の評価を行った結果を表１に示す。
［実施例８］
樹脂Ａの代わりに合成例３で得た樹脂Ｃを用いたこと以外は実施例１と同様にして、厚さ０．１ｍｍ、縦６０ｍｍ、横６０ｍｍの基板を得た。
さらに、実施例１と同様にしてこの基板から厚さ０．１０５ｍｍの近赤外線カットフィルターを製造した。実施例１と同様の評価を行った結果を表１に示す。
樹脂Ａの代わりに合成例３で得た樹脂Ｃを用いたこと以外は実施例１と同様にして、厚さ０．１ｍｍ、縦６０ｍｍ、横６０ｍｍの基板を得た。
さらに、実施例１と同様にしてこの基板から厚さ０．１０５ｍｍの近赤外線カットフィルターを製造した。実施例１と同様の評価を行った結果を表１に示す。
［実施例９］
樹脂Ａの代わりに合成例４で得た樹脂Ｄを用いたこと以外は実施例１と同様にして、厚さ０．１ｍｍ、縦６０ｍｍ、横６０ｍｍの基板を得た。
さらに、実施例１と同様にしてこの基板から厚さ０．１０５ｍｍの近赤外線カットフィルターを製造した。実施例１と同様の評価を行った結果を表１に示す。
樹脂Ａの代わりに合成例４で得た樹脂Ｄを用いたこと以外は実施例１と同様にして、厚さ０．１ｍｍ、縦６０ｍｍ、横６０ｍｍの基板を得た。
さらに、実施例１と同様にしてこの基板から厚さ０．１０５ｍｍの近赤外線カットフィルターを製造した。実施例１と同様の評価を行った結果を表１に示す。
［実施例１０］
樹脂Ａの代わりに合成例５で得た樹脂Ｅを用いたこと以外は実施例１と同様にして、厚さ０．１ｍｍ、縦６０ｍｍ、横６０ｍｍの基板を得た。
さらに、実施例１と同様にしてこの基板から厚さ０．１０５ｍｍの近赤外線カットフィルターを製造した。実施例１と同様の評価を行った結果を表１に示す。
樹脂Ａの代わりに合成例５で得た樹脂Ｅを用いたこと以外は実施例１と同様にして、厚さ０．１ｍｍ、縦６０ｍｍ、横６０ｍｍの基板を得た。
さらに、実施例１と同様にしてこの基板から厚さ０．１０５ｍｍの近赤外線カットフィルターを製造した。実施例１と同様の評価を行った結果を表１に示す。
［実施例１１］
実施例１で得られた基板の片面に、蒸着温度１００℃で、近赤外線を反射する多層蒸着膜〔シリカ（ＳｉＯ2：膜厚３５〜１９０ｎｍ）層とチタニア（ＴｉＯ2：膜厚１２〜１１２ｎｍ）層とが交互に積層されてなるもの，積層数２０〕を形成し、さらに基板のもう一方の面に、蒸着温度１００℃で、近赤外線を反射する多層蒸着膜〔シリカ（ＳｉＯ2：膜厚３４〜１６６ｎｍ）層とチタニア（ＴｉＯ2：膜厚１１〜１０３ｎｍ）層とが交互に積層されてなるもの，積層数２２〕を形成し、厚さ０．１０５ｍｍの近赤外線カットフィルターを得た。さらに、実施例１と同様の評価を行った結果を表１に示す。また、透過率曲線を図５に示す。
実施例１で得られた基板の片面に、蒸着温度１００℃で、近赤外線を反射する多層蒸着膜〔シリカ（ＳｉＯ2：膜厚３５〜１９０ｎｍ）層とチタニア（ＴｉＯ2：膜厚１２〜１１２ｎｍ）層とが交互に積層されてなるもの，積層数２０〕を形成し、さらに基板のもう一方の面に、蒸着温度１００℃で、近赤外線を反射する多層蒸着膜〔シリカ（ＳｉＯ2：膜厚３４〜１６６ｎｍ）層とチタニア（ＴｉＯ2：膜厚１１〜１０３ｎｍ）層とが交互に積層されてなるもの，積層数２２〕を形成し、厚さ０．１０５ｍｍの近赤外線カットフィルターを得た。さらに、実施例１と同様の評価を行った結果を表１に示す。また、透過率曲線を図５に示す。
［比較例１］
溶液（ｅｘ１）の代わりに、樹脂Ａを塩化メチレンに溶解して得た固形分２０％の溶液を用いたこと以外は実施例１と同様にして、厚さ０．１ｍｍ、縦６０ｍｍ、横６０ｍｍの基板を得た。
さらに、実施例１と同様にしてこの基板から厚さ０．１０５ｍｍの近赤外線カットフィルターを製造した。実施例１と同様の評価を行った結果を表１に示す。
溶液（ｅｘ１）の代わりに、樹脂Ａを塩化メチレンに溶解して得た固形分２０％の溶液を用いたこと以外は実施例１と同様にして、厚さ０．１ｍｍ、縦６０ｍｍ、横６０ｍｍの基板を得た。
さらに、実施例１と同様にしてこの基板から厚さ０．１０５ｍｍの近赤外線カットフィルターを製造した。実施例１と同様の評価を行った結果を表１に示す。
［参考例１］
スクアリリウム系化合物「ａ−１０」を０．０４重量部用いたこと以外は実施例５と同様にして、厚さ０．１ｍｍ、縦６０ｍｍ、横６０ｍｍの基板を得た。
さらに、実施例１と同様にしてこの基板から厚さ０．１０５ｍｍの近赤外線カットフィルターを製造した。結果を表１に示す。また、透過率曲線を図６に示す。
スクアリリウム系化合物「ａ−１０」を０．０４重量部用いたこと以外は実施例５と同様にして、厚さ０．１ｍｍ、縦６０ｍｍ、横６０ｍｍの基板を得た。
さらに、実施例１と同様にしてこの基板から厚さ０．１０５ｍｍの近赤外線カットフィルターを製造した。結果を表１に示す。また、透過率曲線を図６に示す。
本発明の近赤外線カットフィルターは、デジタルスチルカメラ、携帯電話用カメラ、デジタルビデオカメラ、ＰＣカメラ、監視カメラ、自動車用カメラ等に好適に用いることができる。
１：カメラモジュール
２：レンズ鏡筒
３：フレキシブル基板
４：中空パッケージ
５：レンズ
６：近赤外線カットフィルター
６'：本発明で得られる近赤外線カットフィルター
７：ＣＣＤまたはＣＭＯＳイメージセンサー
８：近赤外線カットフィルター
９：分光光度計
２：レンズ鏡筒
３：フレキシブル基板
４：中空パッケージ
５：レンズ
６：近赤外線カットフィルター
６'：本発明で得られる近赤外線カットフィルター
７：ＣＣＤまたはＣＭＯＳイメージセンサー
８：近赤外線カットフィルター
９：分光光度計
Claims (11)
- 樹脂および下記式（Ｉ）で表される化合物に由来する構造を有する光吸収剤（Ａ）を含む樹脂製基板（Ｉ）と、近赤外線反射膜とを有し、
前記光吸収剤（Ａ）が、前記樹脂製基板（Ｉ）中に、前記樹脂１００重量部に対して０．００１〜０．０１重量部の量で含有されることを特徴とする近赤外線カットフィルター。
（ｉ）Ｒaは独立に水素原子、炭素数１〜８のアルキル基、−ＮＲeＲf基（ＲeおよびＲfはそれぞれ独立に水素原子または炭素数１〜５のアルキル基を表す。）、またはヒドロキシ基を表し、
Ｒbは独立に水素原子、炭素数１〜５のアルキル基、−ＮＲgＲh基（ＲgおよびＲhはそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜５のアルキル基、または−Ｃ（Ｏ）Ｒi基（Ｒiは炭素数１〜５のアルキル基を表す。）を表す。）、またはヒドロキシ基を表し、
Ｙは独立に−ＮＲjＲk基（ＲjおよびＲkはそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜８の脂肪族炭化水素基、任意の水素原子が置換基で置換された炭素数１〜８の置換脂肪族炭化水素基、炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基、または任意の水素原子がアルキル基で置換された炭素数６〜１２の置換芳香族炭化水素基を表す。）を表す。
（ｉｉ）１つのベンゼン環上の２つのＲaのうちの１つが、同じベンゼン環上のＹと相互に結合して、構成原子数５または６の窒素原子を少なくとも１つ含む複素環を形成し、
Ｒbおよび該結合に関与しないＲaはそれぞれ独立に前記（ｉ）のＲbおよびＲaと同義である。］ - 前記式（Ｉ）で表される化合物が、下記式（ＩＩ）で表される化合物であることを特徴とする請求項１に記載の近赤外線カットフィルター。
- 光吸収剤および樹脂を含む樹脂製基板（Ｉ'）と、近赤外線反射膜とを有し、透過率が下記（Ａ）〜（Ｄ）を満たすことを特徴とする近赤外線カットフィルター。
（Ａ）波長４３０〜５８０ｎｍの範囲において、近赤外線カットフィルターの垂直方向から測定した場合の透過率の平均値が８０％以上
（Ｂ）波長６３０〜６５０ｎｍの範囲において、近赤外線カットフィルターの垂直方向から測定した場合の透過率の平均値が７０％以上
（Ｃ）波長８００〜１０００ｎｍにおいて、近赤外線カットフィルターの垂直方向から測定した場合の透過率の平均値が２０％以下
（Ｄ）波長５５０〜７００ｎｍの範囲において、近赤外線カットフィルターの垂直方向から測定した場合の透過率が７５％となる波長の値（Ｙａ）と、近赤外線カットフィルターの垂直方向に対して３０°の角度から測定した場合の透過率が７５％となる波長の値（Ｙｂ）の差の絶対値が１５ｎｍ未満 - 前記光吸収剤が下記式（Ｉ）で表される化合物に由来する構造を有する光吸収剤（Ａ）であることを特徴とする請求項３に記載の近赤外線カットフィルター。
（ｉ）Ｒaは独立に水素原子、炭素数１〜８のアルキル基、−ＮＲeＲf基（ＲeおよびＲfはそれぞれ独立に水素原子または炭素数１〜５のアルキル基を表す。）、またはヒドロキシ基を表し、
Ｒbは独立に水素原子、炭素数１〜５のアルキル基、−ＮＲgＲh基（ＲgおよびＲhはそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜５のアルキル基、または−Ｃ（Ｏ）Ｒi基（Ｒiは炭素数１〜５のアルキル基を表す。）を表す。）、またはヒドロキシ基を表し、
Ｙは独立に−ＮＲjＲk基（ＲjおよびＲkはそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜８の脂肪族炭化水素基、任意の水素原子が置換基で置換された炭素数１〜８の置換脂肪族炭化水素基、炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基、または任意の水素原子がアルキル基で置換された炭素数６〜１２の置換芳香族炭化水素基を表す。）を表す。
（ｉｉ）１つのベンゼン環上の２つのＲaのうちの１つが、同じベンゼン環上のＹと相互に結合して、構成原子数５または６の窒素原子を少なくとも１つ含む複素環を形成し、
Ｒbおよび該結合に関与しないＲaはそれぞれ独立に前記（ｉ）のＲbおよびＲaと同義である。］ - 前記式（Ｉ）で表される化合物が、下記式（ＩＩ）で表される化合物であることを特徴とする請求項４に記載の近赤外線カットフィルター。
- 前記光吸収剤（Ａ）が、樹脂製基板（Ｉ'）中に、前記樹脂１００重量部に対して０．００１〜０．０１重量部の量で含有されることを特徴とする請求項４または５に記載の近赤外線カットフィルター。
- 前記樹脂が、環状オレフィン系樹脂または芳香族ポリエーテル系樹脂であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の近赤外線カットフィルター。
- 前記近赤外線反射膜が、高屈折率材料層と低屈折率材料層とを交互に積層した誘電体多層膜であることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の近赤外線カットフィルター。
- 前記近赤外線カットフィルターが固体撮像素子用であることを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の近赤外線カットフィルター。
- 請求項１〜９のいずれか１項に記載の近赤外線カットフィルターを具備することを特徴とする固体撮像装置。
- 請求項１〜９のいずれか１項に記載の近赤外線カットフィルターを具備することを特徴とするカメラモジュール。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2011202121 | 2011-09-15 | ||
| JP2011202121 | 2011-09-15 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2013533613A Division JP6127974B2 (ja) | 2011-09-15 | 2012-09-03 | 近赤外線カットフィルターおよび近赤外線カットフィルターを用いた装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2016157123A true JP2016157123A (ja) | 2016-09-01 |
| JP6252611B2 JP6252611B2 (ja) | 2017-12-27 |
Family
ID=47883169
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2013533613A Active JP6127974B2 (ja) | 2011-09-15 | 2012-09-03 | 近赤外線カットフィルターおよび近赤外線カットフィルターを用いた装置 |
| JP2016043355A Active JP6252611B2 (ja) | 2011-09-15 | 2016-03-07 | 近赤外線カットフィルターおよび近赤外線カットフィルターを用いた装置 |
Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2013533613A Active JP6127974B2 (ja) | 2011-09-15 | 2012-09-03 | 近赤外線カットフィルターおよび近赤外線カットフィルターを用いた装置 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US9726784B2 (ja) |
| JP (2) | JP6127974B2 (ja) |
| KR (2) | KR102004816B1 (ja) |
| CN (1) | CN103874940B (ja) |
| TW (1) | TW201329530A (ja) |
| WO (1) | WO2013038938A1 (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6232161B1 (ja) * | 2017-07-27 | 2017-11-15 | 日本板硝子株式会社 | 光学フィルタ |
| JP6267823B1 (ja) * | 2017-07-27 | 2018-01-24 | 日本板硝子株式会社 | 光学フィルタ、カメラモジュール、及び情報端末 |
| JP2018163327A (ja) * | 2017-03-27 | 2018-10-18 | プラチナム オプティクス テクノロジー （スーチョウ） インコーポレイテッドＰｌａｔｉｎｕｍ Ｏｐｔｉｃｓ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ （Ｓｕｚｈｏｕ） Ｉｎｃ． | フィルタ |
| JP6435033B1 (ja) * | 2017-10-20 | 2018-12-05 | 日本板硝子株式会社 | 光学フィルタ |
| JP2019028427A (ja) * | 2017-12-22 | 2019-02-21 | 日本板硝子株式会社 | 光学フィルタ及びカメラ付き情報端末 |
| JP2019174833A (ja) * | 2019-06-19 | 2019-10-10 | 日本板硝子株式会社 | 光学フィルタ及びカメラ付き情報端末 |
| WO2020004641A1 (ja) * | 2018-06-28 | 2020-01-02 | Ａｇｃ株式会社 | 光学フィルタおよび情報取得装置 |
| JP2020024450A (ja) * | 2019-10-24 | 2020-02-13 | 日本板硝子株式会社 | 光学フィルタ、カメラモジュール、及び情報端末 |
| JP2020073983A (ja) * | 2019-10-24 | 2020-05-14 | 日本板硝子株式会社 | 光学フィルタ、カメラモジュール、及び情報端末 |
| KR20210030526A (ko) * | 2019-09-09 | 2021-03-18 | 킹레이 테크놀로지 컴퍼니 리미티드 | 적외선 협대역 통과 필터링 구조 및 이를 이용한 적외선 협대역 통과 여파기 |
Families Citing this family (31)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100787226B1 (ko) * | 2006-11-21 | 2007-12-21 | 삼성전자주식회사 | 이중 구조의 ｕｓｂ 단자를 구비하는 전자기기 및 ｕｓｂ연결장치 |
| WO2015022892A1 (ja) * | 2013-08-13 | 2015-02-19 | Jsr株式会社 | 光学フィルターおよび前記フィルターを用いた装置 |
| JP5884953B2 (ja) | 2013-10-17 | 2016-03-15 | Jsr株式会社 | 光学フィルター、固体撮像装置およびカメラモジュール |
| CN103613948B (zh) * | 2013-11-22 | 2015-04-15 | 福州大学 | 一种含柔性硫醚链的近红外方酸染料及其制备方法与应用 |
| US10642087B2 (en) | 2014-05-23 | 2020-05-05 | Eyesafe, Llc | Light emission reducing compounds for electronic devices |
| WO2016114362A1 (ja) * | 2015-01-14 | 2016-07-21 | 旭硝子株式会社 | 近赤外線カットフィルタおよび固体撮像装置 |
| CN106062592B (zh) * | 2015-01-14 | 2018-11-23 | Ａｇｃ株式会社 | 近红外线截止滤波器和摄像装置 |
| WO2016148518A1 (ko) | 2015-03-17 | 2016-09-22 | 주식회사 엘엠에스 | 광학 필터 및 이를 포함하는 촬상 장치 |
| JP6721578B2 (ja) * | 2015-05-20 | 2020-07-15 | 富士フイルム株式会社 | 赤外線吸収組成物、赤外線カットフィルタ、積層体、パターン形成方法、および固体撮像素子 |
| CN107924005B (zh) * | 2015-06-15 | 2022-06-17 | 人眼安全公司 | 用于电子设备的发光减少化合物 |
| JP2018125319A (ja) * | 2015-06-18 | 2018-08-09 | ソニー株式会社 | モジュール、モジュールの製造方法、及び、電子機器 |
| WO2017043175A1 (ja) * | 2015-09-09 | 2017-03-16 | 富士フイルム株式会社 | 近赤外線吸収性硬化性組成物、硬化膜、固体撮像素子、赤外線吸収剤および化合物 |
| KR102153205B1 (ko) * | 2015-09-24 | 2020-09-07 | 니혼 이타가라스 가부시키가이샤 | 적외선 흡수층용 조성물, 적외선 컷 필터, 및 촬상 장치 |
| KR101832114B1 (ko) | 2015-12-01 | 2018-02-23 | 아사히 가라스 가부시키가이샤 | 광학 필터 및 촬상 장치 |
| WO2017135359A1 (ja) | 2016-02-02 | 2017-08-10 | 旭硝子株式会社 | 近赤外線吸収色素、光学フィルタおよび撮像装置 |
| WO2017213047A1 (ja) * | 2016-06-08 | 2017-12-14 | Jsr株式会社 | 光学フィルターおよび光学センサー装置 |
| JP6758478B2 (ja) * | 2017-03-09 | 2020-09-23 | 富士フイルム株式会社 | 構造体、キットおよび光センサ |
| JP2018159925A (ja) * | 2017-03-21 | 2018-10-11 | Jsr株式会社 | 光学フィルターおよびその用途 |
| US11261172B2 (en) | 2017-03-31 | 2022-03-01 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Squarylium compounds and infrared cut films, infrared cut filters and electronic devices including the same |
| US10164156B2 (en) * | 2017-03-31 | 2018-12-25 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Structure and formation method of image sensor structure with grid structure |
| JP7031670B2 (ja) * | 2017-07-27 | 2022-03-08 | Ａｇｃ株式会社 | 近赤外線吸収色素、光学フィルタおよび撮像装置 |
| KR102491491B1 (ko) | 2017-09-08 | 2023-01-20 | 삼성전자주식회사 | 근적외선 흡수 필름용 조성물, 근적외선 흡수 필름, 카메라 모듈 및 전자 장치 |
| KR101931731B1 (ko) | 2017-09-28 | 2018-12-24 | 주식회사 엘엠에스 | 광학 물품 및 이를 포함하는 광학 필터 |
| CN114578467A (zh) * | 2018-02-05 | 2022-06-03 | Ａｇｃ株式会社 | 滤光片以及成像装置 |
| US11810532B2 (en) | 2018-11-28 | 2023-11-07 | Eyesafe Inc. | Systems for monitoring and regulating harmful blue light exposure from digital devices |
| US11592701B2 (en) | 2018-11-28 | 2023-02-28 | Eyesafe Inc. | Backlight unit with emission modification |
| KR102449992B1 (ko) | 2018-12-10 | 2022-10-05 | 연세대학교 산학협력단 | 퀴노이드계 이온화합물, 이의 제조방법, 상기 퀴노이드계 이온화합물을 포함하는 투명한 근적외선 차단막 및 이의 제조방법 |
| CN111399100A (zh) * | 2019-01-03 | 2020-07-10 | 株式会社Lms | 近红外线吸收基板和光学滤波器及它们的制造方法 |
| CN209805927U (zh) * | 2019-03-25 | 2019-12-17 | 华为技术有限公司 | 摄像组件及电子设备 |
| CN113678031B (zh) * | 2019-04-03 | 2023-11-17 | Ａｇｃ株式会社 | 滤光片和成像装置 |
| WO2021117518A1 (ja) * | 2019-12-11 | 2021-06-17 | Ａｇｃ株式会社 | 光学フィルタ及び撮像装置 |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01228960A (ja) * | 1988-03-09 | 1989-09-12 | Konica Corp | スクアリリウムの化合物 |
| JPH01228961A (ja) * | 1988-03-09 | 1989-09-12 | Konica Corp | スクアリリウム化合物 |
| US5543086A (en) * | 1987-08-12 | 1996-08-06 | Gentex Corporation | Squarylium dyestuffs and compostions containing same |
| JP2001117201A (ja) * | 1998-10-15 | 2001-04-27 | Konica Corp | 画像形成材料、熱現像写真感光材料、ハロゲン化銀写真感光材料、画像形成方法、光学フィルター、ハロゲン化銀写真感光材料等の画像形成材料用支持体 |
| JP2008298820A (ja) * | 2007-05-29 | 2008-12-11 | Konica Minolta Holdings Inc | 光学フィルター用組成物、これを用いた光学フィルターおよびディスプレイ用前面フィルター |
| WO2012169447A1 (ja) * | 2011-06-06 | 2012-12-13 | 旭硝子株式会社 | 光学フィルタ、固体撮像素子、撮像装置用レンズおよび撮像装置 |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3163813B2 (ja) | 1992-12-28 | 2001-05-08 | 日本ゼオン株式会社 | 近赤外線吸収樹脂組成物、および成形品 |
| JP2000265077A (ja) * | 1999-03-16 | 2000-09-26 | Konica Corp | 新規なスクアリリウム化合物を含む記録材料、ハロゲン化銀写真感光材料、熱現像感光材料、熱現像画像形成方法、感熱記録材料、感熱記録画像形成方法、赤外線吸収組成物および新規なスクアリリウム化合物 |
| JP2004004232A (ja) * | 2002-05-31 | 2004-01-08 | Sumitomo Chem Co Ltd | 映像表示機器用フィルター |
| JP4513420B2 (ja) | 2004-05-26 | 2010-07-28 | Ｊｓｒ株式会社 | 近赤外線カットフィルターおよびその製造方法 |
| US20090009899A1 (en) * | 2005-02-16 | 2009-01-08 | Mitsubishi Polyester Film Corporation | Near Infrared Ray Absorbing Filter, Optical Filter for Plasma Display and Plasma Display Panel |
| JPWO2009001662A1 (ja) * | 2007-06-27 | 2010-08-26 | 日本化薬株式会社 | 近赤外線吸収フィルム及びこれを用いたプラズマディスプレイパネル用光学フィルタ |
| JP2009040860A (ja) * | 2007-08-08 | 2009-02-26 | Konica Minolta Holdings Inc | スクアリリウム化合物、組成物、光学フィルター、ディスプレイ用前面フィルター、及び金属キレート色素 |
| CN101750654B (zh) * | 2008-11-28 | 2014-07-02 | Jsr株式会社 | 近红外线截止滤波器和使用近红外线截止滤波器的装置 |
| JP5489669B2 (ja) | 2008-11-28 | 2014-05-14 | Ｊｓｒ株式会社 | 近赤外線カットフィルターおよび近赤外線カットフィルターを用いた装置 |
-
2012
- 2012-09-03 US US14/344,904 patent/US9726784B2/en active Active
- 2012-09-03 WO PCT/JP2012/072360 patent/WO2013038938A1/ja active Application Filing
- 2012-09-03 KR KR1020147009513A patent/KR102004816B1/ko active IP Right Grant
- 2012-09-03 KR KR1020187030090A patent/KR101985638B1/ko active IP Right Grant
- 2012-09-03 JP JP2013533613A patent/JP6127974B2/ja active Active
- 2012-09-03 CN CN201280044439.3A patent/CN103874940B/zh active Active
- 2012-09-07 TW TW101132740A patent/TW201329530A/zh unknown
-
2016
- 2016-03-07 JP JP2016043355A patent/JP6252611B2/ja active Active
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5543086A (en) * | 1987-08-12 | 1996-08-06 | Gentex Corporation | Squarylium dyestuffs and compostions containing same |
| JPH01228960A (ja) * | 1988-03-09 | 1989-09-12 | Konica Corp | スクアリリウムの化合物 |
| JPH01228961A (ja) * | 1988-03-09 | 1989-09-12 | Konica Corp | スクアリリウム化合物 |
| JP2001117201A (ja) * | 1998-10-15 | 2001-04-27 | Konica Corp | 画像形成材料、熱現像写真感光材料、ハロゲン化銀写真感光材料、画像形成方法、光学フィルター、ハロゲン化銀写真感光材料等の画像形成材料用支持体 |
| JP2008298820A (ja) * | 2007-05-29 | 2008-12-11 | Konica Minolta Holdings Inc | 光学フィルター用組成物、これを用いた光学フィルターおよびディスプレイ用前面フィルター |
| WO2012169447A1 (ja) * | 2011-06-06 | 2012-12-13 | 旭硝子株式会社 | 光学フィルタ、固体撮像素子、撮像装置用レンズおよび撮像装置 |
Cited By (28)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2018163327A (ja) * | 2017-03-27 | 2018-10-18 | プラチナム オプティクス テクノロジー （スーチョウ） インコーポレイテッドＰｌａｔｉｎｕｍ Ｏｐｔｉｃｓ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ （Ｓｕｚｈｏｕ） Ｉｎｃ． | フィルタ |
| TWI741195B (zh) * | 2017-07-27 | 2021-10-01 | 日商日本板硝子股份有限公司 | 濾光器 |
| US12072517B2 (en) | 2017-07-27 | 2024-08-27 | Nippon Sheet Glass Company, Limited | Light-absorbing composition and method of manufacturing |
| KR20200028023A (ko) * | 2017-07-27 | 2020-03-13 | 니혼 이타가라스 가부시키가이샤 | 광학 필터 |
| WO2019021666A1 (ja) * | 2017-07-27 | 2019-01-31 | 日本板硝子株式会社 | 光学フィルタ及びカメラ付き情報端末 |
| WO2019021665A1 (ja) * | 2017-07-27 | 2019-01-31 | 日本板硝子株式会社 | 光学フィルタ |
| JP2019028162A (ja) * | 2017-07-27 | 2019-02-21 | 日本板硝子株式会社 | 光学フィルタ |
| KR20200030602A (ko) * | 2017-07-27 | 2020-03-20 | 니혼 이타가라스 가부시키가이샤 | 광학 필터 및 카메라가 달린 정보 단말 |
| JP2019028163A (ja) * | 2017-07-27 | 2019-02-21 | 日本板硝子株式会社 | 光学フィルタ、カメラモジュール、及び情報端末 |
| US11885993B2 (en) | 2017-07-27 | 2024-01-30 | Nippon Sheet Glass Company, Limited | Optical filter and method of manufacturing |
| US11592603B2 (en) | 2017-07-27 | 2023-02-28 | Nippon Sheet Glass Company, Limited | Optical filter |
| US11585968B2 (en) | 2017-07-27 | 2023-02-21 | Nippon Sheet Glass Company, Limited | Optical filter and camera-equipped information device |
| JP6232161B1 (ja) * | 2017-07-27 | 2017-11-15 | 日本板硝子株式会社 | 光学フィルタ |
| KR102303331B1 (ko) * | 2017-07-27 | 2021-09-16 | 니혼 이타가라스 가부시키가이샤 | 광학 필터 및 카메라가 달린 정보 단말 |
| JP6267823B1 (ja) * | 2017-07-27 | 2018-01-24 | 日本板硝子株式会社 | 光学フィルタ、カメラモジュール、及び情報端末 |
| KR102351046B1 (ko) * | 2017-07-27 | 2022-01-13 | 니혼 이타가라스 가부시키가이샤 | 광학 필터 |
| TWI739011B (zh) * | 2017-07-27 | 2021-09-11 | 日商日本板硝子股份有限公司 | 濾光器、相機模組及附相機之資訊終端 |
| JP6435033B1 (ja) * | 2017-10-20 | 2018-12-05 | 日本板硝子株式会社 | 光学フィルタ |
| JP2019028420A (ja) * | 2017-10-20 | 2019-02-21 | 日本板硝子株式会社 | 光学フィルタ |
| JP2019028427A (ja) * | 2017-12-22 | 2019-02-21 | 日本板硝子株式会社 | 光学フィルタ及びカメラ付き情報端末 |
| JPWO2020004641A1 (ja) * | 2018-06-28 | 2021-08-02 | Ａｇｃ株式会社 | 光学フィルタおよび情報取得装置 |
| WO2020004641A1 (ja) * | 2018-06-28 | 2020-01-02 | Ａｇｃ株式会社 | 光学フィルタおよび情報取得装置 |
| JP7279718B2 (ja) | 2018-06-28 | 2023-05-23 | Ａｇｃ株式会社 | 光学フィルタおよび情報取得装置 |
| JP2019174833A (ja) * | 2019-06-19 | 2019-10-10 | 日本板硝子株式会社 | 光学フィルタ及びカメラ付き情報端末 |
| KR102288217B1 (ko) | 2019-09-09 | 2021-08-10 | 킹레이 테크놀로지 컴퍼니 리미티드 | 적외선 협대역 통과 필터링 구조 및 이를 이용한 적외선 협대역 통과 여파기 |
| KR20210030526A (ko) * | 2019-09-09 | 2021-03-18 | 킹레이 테크놀로지 컴퍼니 리미티드 | 적외선 협대역 통과 필터링 구조 및 이를 이용한 적외선 협대역 통과 여파기 |
| JP2020024450A (ja) * | 2019-10-24 | 2020-02-13 | 日本板硝子株式会社 | 光学フィルタ、カメラモジュール、及び情報端末 |
| JP2020073983A (ja) * | 2019-10-24 | 2020-05-14 | 日本板硝子株式会社 | 光学フィルタ、カメラモジュール、及び情報端末 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TW201329530A (zh) | 2013-07-16 |
| JP6252611B2 (ja) | 2017-12-27 |
| CN103874940B (zh) | 2017-07-07 |
| JPWO2013038938A1 (ja) | 2015-03-26 |
| KR101985638B1 (ko) | 2019-06-03 |
| KR102004816B1 (ko) | 2019-07-29 |
| TWI560471B (ja) | 2016-12-01 |
| US20140350146A1 (en) | 2014-11-27 |
| JP6127974B2 (ja) | 2017-05-17 |
| WO2013038938A1 (ja) | 2013-03-21 |
| KR20180117213A (ko) | 2018-10-26 |
| US9726784B2 (en) | 2017-08-08 |
| KR20140069130A (ko) | 2014-06-09 |
| CN103874940A (zh) | 2014-06-18 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP6252611B2 (ja) | 近赤外線カットフィルターおよび近赤外線カットフィルターを用いた装置 | |
| JP6256335B2 (ja) | 固体撮像素子用光学フィルターおよびその用途 | |
| JP5489669B2 (ja) | 近赤外線カットフィルターおよび近赤外線カットフィルターを用いた装置 | |
| TWI696003B (zh) | 光學濾波器及使用光學濾波器的裝置 | |
| JP5810604B2 (ja) | 近赤外線カットフィルターおよび近赤外線カットフィルターを用いた装置 | |
| KR101969612B1 (ko) | 광학 필터 및 이 광학 필터를 이용한 고체 촬상 장치 및 카메라 모듈 | |
| JP6380390B2 (ja) | 光学フィルターおよび前記フィルターを用いた装置 | |
| JP6056561B2 (ja) | 近赤外線カットフィルターおよびその用途 | |
| KR101474351B1 (ko) | 근적외선 컷 필터 및, 이를 구비하는 고체 촬상 장치 및 카메라 모듈 | |
| JP6358114B2 (ja) | 光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置 | |
| TWI812631B (zh) | 近紅外線截止濾波器及其製造方法、固體攝像裝置以及相機模組 | |
| JP6705132B2 (ja) | 光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置 | |
| WO2014192715A1 (ja) | 光学フィルターおよび前記フィルターを用いた装置 | |
| TW202242010A (zh) | 基材、光學濾波器、固體攝像裝置及照相機模組 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20170125 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170207 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170330 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170822 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20171013 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20171031 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20171113 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6252611 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |