JP2016020049A - Fingerprint resistant antireflection film for insert molding and resin molded article using the same - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、インサート成型に適したフィルムであって、反射防止性及び耐指紋性に優れるフィルムと、これを表面に備える樹脂成型品に関する。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to a film suitable for insert molding, and relates to a film excellent in antireflection and fingerprint resistance, and a resin molded product including the film on the surface.
自動車部品や携帯電話等の意匠付けにおいて、表面保護や加飾のためのフィルムを予め金型内に設置しておき、熱融着法により、射出成形と同時に樹脂成型品の表面にフィルムを付与するインサート成型が用いられている。このようなフィルムとして、例えば特許文献1には、熱可塑性透明基材フィルム上にハードコート層を積層した、インサート成型用のハードコートフィルムが開示されている。このハードコートフィルムは、基材フィルムがゴム成分を含有するアクリル系樹脂からなり、ハードコート層が電離放射線硬化型樹脂からなる。これにより、十分な表面硬度を有し、深絞りの形状でのインサート成型においてもハードコート層にクラックや白化、皺が生じないとされている。 When designing automobile parts, mobile phones, etc., a film for surface protection and decoration is installed in the mold in advance, and the film is applied to the surface of the resin molded product at the same time as injection molding by heat fusion. Insert molding is used. As such a film, for example, Patent Document 1 discloses a hard coat film for insert molding in which a hard coat layer is laminated on a thermoplastic transparent substrate film. In this hard coat film, the base film is made of an acrylic resin containing a rubber component, and the hard coat layer is made of an ionizing radiation curable resin. Thereby, it has sufficient surface hardness and it is supposed that a crack, whitening, and a wrinkle do not arise in a hard-coat layer also in insert molding in the shape of a deep drawing.
しかし近年では、タッチパネルの普及により、この種のインサート成型用ハードコートフィルムにおいて、反射防止性と耐指紋性をも備えるニーズが高まっている。しかし、特許文献1のインサート成型用フィルムでは、これらの要求に対する性能が付与されていない。 However, in recent years, with the widespread use of touch panels, there is an increasing need for antireflection and fingerprint resistance in this type of insert molding hard coat film. However, the insert molding film of Patent Document 1 does not provide performance for these requirements.
そこで、本発明の目的とするところは、インサート成型用のフィルムであって、ハードコート層を備えながら反射防止性及び耐指紋性にも優れる、耐指紋性反射防止フィルムを提供することにある。 Accordingly, an object of the present invention is to provide a fingerprint-resistant antireflection film that is an insert-molding film and has a hard coat layer and is excellent in antireflection and fingerprint resistance.
本発明は、熱可塑性透明基材フィルムの一面に、ハードコート層と、高屈折率層と、低屈折率層とが、この順に積層されているインサート成型用耐指紋性反射防止フィルムであって、前記高屈折率層の屈折率が1.50〜1.65、膜厚が130〜180nmであり、前記低屈折率層の屈折率が1.36〜1.42、膜厚が70〜100nmであることを特徴とする。 The present invention is a fingerprint-resistant antireflection film for insert molding in which a hard coat layer, a high refractive index layer, and a low refractive index layer are laminated in this order on one surface of a thermoplastic transparent substrate film. The refractive index of the high refractive index layer is 1.50 to 1.65, the film thickness is 130 to 180 nm, the refractive index of the low refractive index layer is 1.36 to 1.42, and the film thickness is 70 to 100 nm. It is characterized by being.
前記低屈折率層には、防汚剤が含有されていることも好ましい。 It is also preferable that the low refractive index layer contains an antifouling agent.
前記ハードコート層は、アクリル変性不飽和ジカルボン酸(無水物)グラフト化ポリオレフィンを含む組成物を硬化してなることも好ましい。 The hard coat layer is preferably formed by curing a composition containing an acrylic-modified unsaturated dicarboxylic acid (anhydride) grafted polyolefin.
当該インサート成型用耐指紋性反射防止フィルムは、インサート成型時に、前記熱可塑性透明基材フィルムが熱融着することで、樹脂成型品表面へ一体化される。 The fingerprint-resistant antireflection film for insert molding is integrated on the surface of the resin molded product by thermally fusing the thermoplastic transparent substrate film at the time of insert molding.
なお、本発明において数値範囲を示す「○○〜××」とは、特に明示しない限り「○○以上××以下」を意味する。 In the present invention, “XX to XX” indicating a numerical range means “XX or more and XX or less” unless otherwise specified.
本発明によれば、ハードコート層を備えるインサート成形用フィルムにおいて、当該ハードコート層上に、さらに高屈折率層と低屈折率層とをこの順で所定の屈折率及び膜厚の相対関係となるように積層している。これにより、指紋等の皮脂汚れが付着する前の視感度反射率2.0%以下および反射彩度6.0未満となり、十分な反射防止性を達成できる。同時に、指紋付着前後のΔEが7.0以下となり、例え指紋が付着したとしてもこれが見え難く(目立たず)、耐指紋性も良好となる。 According to the present invention, in the film for insert molding provided with a hard coat layer, on the hard coat layer, a high refractive index layer and a low refractive index layer are further in this order in a predetermined refractive index and relative relationship of film thickness. They are stacked so that Thereby, the visibility reflectance before the sebum dirt such as fingerprints adheres is 2.0% or less and the reflection saturation is less than 6.0, and sufficient antireflection can be achieved. At the same time, ΔE before and after the fingerprint attachment becomes 7.0 or less, and even if the fingerprint is attached, it is difficult to see (not noticeable) and the fingerprint resistance is improved.
また、低屈折率層に防汚剤を含有させることにより、防汚性も付与することができる。これにより、そもそも指紋が付着しにくく、例え付着したとしても指紋を拭き取り易くすることができ、より優れた耐指紋性が得られる。 Moreover, antifouling property can also be provided by making the low refractive index layer contain an antifouling agent. Thereby, fingerprints are hardly attached in the first place, and even if they are attached, the fingerprints can be easily wiped off, and more excellent fingerprint resistance can be obtained.
また、ハードコート層にアクリル変性不飽和ジカルボン酸(無水物)グラフト化ポリオレフィンを含む場合には、成形性がより向上する。具体的には、より複雑な形状の金型に追従させることができ、より複雑な形状の樹脂成型品に対してインサート成型によってフィルムを的確に付与することができる。 Further, when the hard coat layer contains an acrylic-modified unsaturated dicarboxylic acid (anhydride) grafted polyolefin, the moldability is further improved. Specifically, it is possible to follow a mold having a more complicated shape, and it is possible to accurately apply a film to the resin molded product having a more complicated shape by insert molding.
《耐指紋性反射防止フィルム》
本実施形態の耐指紋性反射防止フィルムは、インサート成型に適したフィルムであって、熱可塑性透明基材フィルムの一面に、当該熱可塑性透明基材フィルム側からハードコート層と、高屈折率層と、低屈折率層とが、この順に積層されている。以下に、このインサート成型に適した耐指紋性反射防止フィルムの構成要素について順に説明する。
<Anti-fingerprint anti-reflective film>
The anti-fingerprint anti-reflection film of this embodiment is a film suitable for insert molding, and is provided on one side of a thermoplastic transparent base film with a hard coat layer and a high refractive index layer from the thermoplastic transparent base film side. And a low refractive index layer are laminated in this order. Below, the component of the anti-fingerprint antireflection film suitable for this insert molding will be described in order.
〔熱可塑性透明基材フィルム〕
熱可塑性透明基材フィルムは、ポリカーボネート樹脂、及び/又はポリメチルメタクリレート樹脂からなるフィルムを使用できる。特に、ポリカーボネート層及びポリメチルメタクリレート層の二層構造からなるフィルムが好ましい。この場合、ポリメチルメタクリレート層上にハードコート層を積層するのが望ましい。後述のハードコート層形成用組成物を、熱可塑性透明基材フィルム上へ良好にウェットコーティングすることができるからである。また、ハードコート層のバインダー成分としてアクリル樹脂(アクリル基を有するモノマーの硬化物)を含む場合には、ハードコート層とポリメチルメタクリレート層の屈折率が近くなるため、両者が直に積層されていれば、反射光の干渉ムラも生じ難くなる。加えて、メチルメタクリレート層とハードコート層の材質が類似するため、熱可塑性透明基材フィルムとハードコート層との密着性も向上する。一方、ポリカーボネート層はポリメチルメタクリレート層に比べガラス転移点(Tg)が高いため、ポリカーボネート層に加飾印刷することで、インサート成型時にインク流れが生じにくくなる。熱可塑性透明基材フィルムの膜厚や屈折率は、この種のインサート成型用フィルムにおける従来から公知の一般的な範囲であればよく、特に制限されない。具体的には、熱可塑性透明基材フィルムの膜厚は通常30〜300μm、好ましくは125〜200μmである。また、熱可塑性透明基材フィルムの屈折率は、通常1.49〜1.59である。
[Thermoplastic transparent substrate film]
As the thermoplastic transparent substrate film, a film made of a polycarbonate resin and / or a polymethyl methacrylate resin can be used. In particular, a film having a two-layer structure of a polycarbonate layer and a polymethyl methacrylate layer is preferable. In this case, it is desirable to laminate a hard coat layer on the polymethyl methacrylate layer. This is because the composition for forming a hard coat layer described later can be wet-coated on the thermoplastic transparent substrate film. In addition, when an acrylic resin (cured product of a monomer having an acrylic group) is included as a binder component of the hard coat layer, the refractive indexes of the hard coat layer and the polymethyl methacrylate layer are close to each other. If so, interference unevenness of reflected light is less likely to occur. In addition, since the materials of the methyl methacrylate layer and the hard coat layer are similar, the adhesion between the thermoplastic transparent substrate film and the hard coat layer is also improved. On the other hand, since the polycarbonate layer has a higher glass transition point (Tg) than the polymethylmethacrylate layer, ink flow hardly occurs during insert molding by decorative printing on the polycarbonate layer. The film thickness and refractive index of the thermoplastic transparent substrate film are not particularly limited as long as they are within a conventionally known general range in this type of insert molding film. Specifically, the film thickness of the thermoplastic transparent substrate film is usually 30 to 300 μm, preferably 125 to 200 μm. Moreover, the refractive index of a thermoplastic transparent base film is 1.49-1.59 normally.
〔ハードコート層〕
ハードコート層は、ハードコート層形成用組成物を硬化させることにより形成される。当該ハードコート層は、所要の強度及び硬度を有しており、樹脂成形品の表面硬度を向上するために積層する層である。ハードコート層の乾燥硬化後の膜厚は、1〜20μmが好ましい。膜厚が1μmより薄い場合は、十分な表面硬度が得られないため好ましくない。膜厚が20μmより厚い場合は、屈曲性の低下等の問題が生じるため好ましくない。なお、ハードコート層の屈折率は後述する材料を使用する限り特に限定されないが、そのような材料の屈折率としては1.49〜1.54程度である。
[Hard coat layer]
The hard coat layer is formed by curing the composition for forming a hard coat layer. The hard coat layer has required strength and hardness, and is a layer that is laminated to improve the surface hardness of the resin molded product. The thickness of the hard coat layer after drying and curing is preferably 1 to 20 μm. A film thickness of less than 1 μm is not preferable because sufficient surface hardness cannot be obtained. A film thickness greater than 20 μm is not preferable because problems such as a decrease in flexibility occur. In addition, although the refractive index of a hard-coat layer is not specifically limited as long as the material mentioned later is used, as a refractive index of such a material, it is about 1.49-1.54.
<ハードコート層形成用組成物>
ハードコート層形成用組成物は、基本的にはこの種のインサート成形用フィルムにおいて従来から公知の組成物を特に制限無く使用することができ、典型的には、紫外線硬化型樹脂(B)と光重合開始剤(C)とを含有してなる。
<Composition for forming hard coat layer>
As the composition for forming a hard coat layer, a conventionally known composition can be used without limitation in this type of insert molding film, and typically, an ultraviolet curable resin (B) and A photopolymerization initiator (C).
紫外線硬化型樹脂(B)としては、例えば、ウレタン(メタ)アクリレート(オリゴマー)、エポキシ(メタ)アクリレート(オリゴマー)、ポリエステル(メタ)アクリレート(オリゴマー)、ポリエーテル(メタ)アクリレート(オリゴマー)、(メタ)アクリレート(オリゴマー)等からなる群から選ばれる1種又は2種以上を使用できる。 Examples of the ultraviolet curable resin (B) include urethane (meth) acrylate (oligomer), epoxy (meth) acrylate (oligomer), polyester (meth) acrylate (oligomer), polyether (meth) acrylate (oligomer), ( 1 type (s) or 2 or more types chosen from the group which consists of a meth) acrylate (oligomer) etc. can be used.
光重合開始剤(C)は、紫外線(UV)によりハードコート層形成用組成物を硬化させて塗膜を形成する際の、重合開始剤として用いられる。光重合開始剤(C)としては、紫外線照射により重合を開始するものであれば特に限定されず、公知の化合物を使用できる。例えば、1−ヒドロキシシクロへキシルフェニルケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフェリノプロパン−1−オン、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン等のアセトフェノン系重合開始剤、ベンゾイン、2,2−ジメトキシ1,2−ジフェニルエタン−1−オン等のベンゾイン系重合開始剤、ベンゾフェノン、[4−(メチルフェニルチオ)フェニル]フェニルメタノン、4−ヒドロキシベンゾフェノン、4−フェニルベンゾフェノン、3,3’,4,4’−テトラ(t−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン等のベンゾフェノン系重合開始剤、2−クロロチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン等のチオキサントン系重合開始剤等が挙げられる。これら光重合開始剤(C)は、1種のみを使用しても良いし、2種以上を混用することもできる。 The photopolymerization initiator (C) is used as a polymerization initiator when the hard coat layer forming composition is cured by ultraviolet rays (UV) to form a coating film. As a photoinitiator (C), if a polymerization is started by ultraviolet irradiation, it will not specifically limit, A well-known compound can be used. For example, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropane-1 -One, acetophenone polymerization initiators such as 1- [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, benzoin, 2,2-dimethoxy 1,2 -Benzoin polymerization initiators such as diphenylethane-1-one, benzophenone, [4- (methylphenylthio) phenyl] phenylmethanone, 4-hydroxybenzophenone, 4-phenylbenzophenone, 3,3 ', 4,4' -Benzophenone polymerization initiators such as tetra (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 2-chlorothio Xanthone, such thioxanthone type polymerization initiators such as 2,4-diethyl thioxanthone, and the like. These photopolymerization initiators (C) may be used alone or in combination of two or more.
ハードコート層形成用組成物が、紫外線硬化型樹脂(B)と光重合開始剤(C)とからなる基本的な組成である場合、紫外線硬化型樹脂(B)と光重合開始剤(C)との合計100質量部に対し、(B)成分は90〜99質量部、(C)成分は1〜10質量部とすればよい。光重合開始剤(C)がこの範囲より少ないと重合が不充分となり、密着性を発揮できなくなる。一方、この範囲より多くても不必要に多くなるだけであり、好ましくない。 When the composition for forming a hard coat layer has a basic composition comprising an ultraviolet curable resin (B) and a photopolymerization initiator (C), the ultraviolet curable resin (B) and the photopolymerization initiator (C) With respect to the total of 100 parts by mass, the component (B) may be 90 to 99 parts by mass, and the component (C) may be 1 to 10 parts by mass. If the photopolymerization initiator (C) is less than this range, the polymerization is insufficient and the adhesion cannot be exhibited. On the other hand, if it exceeds this range, it will only increase unnecessarily, which is not preferable.
また、ハードコート層形成用組成物には、上記(B),(C)成分に加えて、アクリル変性不飽和ジカルボン酸(無水物)グラフト化ポリオレフィン(A)も配合することが好ましい。これにより、熱可塑性透明基材フィルムとハードコート層との密着性を向上することができる。 In addition to the above components (B) and (C), the hard coat layer forming composition preferably also contains an acrylic-modified unsaturated dicarboxylic acid (anhydride) grafted polyolefin (A). Thereby, the adhesiveness of a thermoplastic transparent base film and a hard-coat layer can be improved.
アクリル変性不飽和ジカルボン酸(無水物)グラフト化ポリオレフィン(A)は、ポリオレフィン由来の構造単位と、不飽和ジカルボン酸(無水物)由来の構造単位と、アクリル由来の構造単位とからなるものであり、ポリオレフィン成分と不飽和ジカルボン酸(無水物)成分とアクリル成分とから得ることができる。なお、以下に説明するこれら各成分(ポリオレフィン成分、不飽和ジカルボン酸(無水物)成分、アクリル成分)は、それぞれ1種のみであってもよいし2種以上であってよい。 Acrylic-modified unsaturated dicarboxylic acid (anhydride) grafted polyolefin (A) is composed of a structural unit derived from polyolefin, a structural unit derived from unsaturated dicarboxylic acid (anhydride), and a structural unit derived from acrylic. It can be obtained from a polyolefin component, an unsaturated dicarboxylic acid (anhydride) component, and an acrylic component. In addition, each of these components (polyolefin component, unsaturated dicarboxylic acid (anhydride) component, acrylic component) described below may be one type or two or more types.
前記アクリル変性不飽和ジカルボン酸(無水物)グラフト化ポリオレフィン(A)を構成するポリオレフィン成分としては、例えば、炭素数4〜12のα−オレフィンの1種以上と、プロピレンとを必須構成単位とする共重合体が好ましく挙げられる。ここで、炭素数4〜12のα−オレフィンとしては、例えば、1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセン、1−オクテン、1−デセン、4−メチル−1−ペンテン等が挙げられ、中でも、1−ブテン、1−ペンテン、1−デセン、4−メチル−1−ペンテンが好ましく、1−ブテンが最も好ましい。これら炭素数4〜12のα−オレフィンがポリオレフィン成分中に占める割合は、15〜70モル%であることが好ましい。ただし、炭素数4〜12のα−オレフィンおよびプロピレン以外のオレフィンをも構成単位とする共重合体においては、例えばエチレンをも構成単位とする場合(例えば、プロピレン/1−ブテン/エチレン共重合体のような場合)には、ポリオレフィン成分中に占めるエチレンの割合は1モル%以下であるのが好ましく、0.5モル%以下であるのがより好ましく、0.1モル%以下であるのがさらに好ましい。 Examples of the polyolefin component constituting the acrylic-modified unsaturated dicarboxylic acid (anhydride) grafted polyolefin (A) include, for example, one or more α-olefins having 4 to 12 carbon atoms and propylene as essential constituent units. Preferred is a copolymer. Here, examples of the α-olefin having 4 to 12 carbon atoms include 1-butene, 1-pentene, 1-hexene, 1-octene, 1-decene, 4-methyl-1-pentene, and the like. 1-butene, 1-pentene, 1-decene and 4-methyl-1-pentene are preferred, and 1-butene is most preferred. The proportion of these α-olefins having 4 to 12 carbon atoms in the polyolefin component is preferably 15 to 70 mol%. However, in a copolymer having a structural unit of an α-olefin having 4 to 12 carbon atoms and an olefin other than propylene, for example, when ethylene is also a structural unit (for example, propylene / 1-butene / ethylene copolymer). In this case, the proportion of ethylene in the polyolefin component is preferably 1 mol% or less, more preferably 0.5 mol% or less, and 0.1 mol% or less. Further preferred.
アクリル変性不飽和ジカルボン酸(無水物)グラフト化ポリオレフィン(A)を構成するポリオレフィン成分は、高分子ポリオレフィンからの熱減成ポリオレフィン、すなわち高分子ポリオレフィンを高温で熱分解して得られる低分子ポリオレフィンであることが好ましい。高分子ポリオレフィンからの熱減成ポリオレフィンは、末端や分子内に比較的多くの二重結合が均一に存在するものであり、不飽和ジカルボン酸(無水物)のグラフト化が容易であるので、一般には上げることが難しいと考えられている後述の不飽和ジカルボン酸(無水物)付加率を、後述する比較的高い範囲にまで向上させることができる。熱減成ポリオレフィンを得る方法としては、例えば、数平均分子量15000〜150000の高分子ポリオレフィンを、有機過酸化物の存在下では180〜300℃、有機過酸化物の非存在下では300〜450℃で、0.5〜1時間加熱するようにすればよい。好ましくは有機過酸化物の非存在下で加熱する方法が好ましい。 The polyolefin component constituting the acrylic-modified unsaturated dicarboxylic acid (anhydride) grafted polyolefin (A) is a heat-degraded polyolefin from a polymer polyolefin, that is, a low-molecular polyolefin obtained by thermally decomposing a polymer polyolefin at a high temperature. Preferably there is. Thermally degrading polyolefins from high molecular weight polyolefins are those in which relatively many double bonds exist uniformly at the ends and in the molecule, and are easy to graft unsaturated dicarboxylic acids (anhydrides). It is possible to improve the later-described unsaturated dicarboxylic acid (anhydride) addition rate, which is considered difficult to increase, to a relatively high range described later. As a method for obtaining a thermally degraded polyolefin, for example, a polymer polyolefin having a number average molecular weight of 15,000 to 150,000 is 180 to 300 ° C. in the presence of an organic peroxide, and 300 to 450 ° C. in the absence of an organic peroxide. Then, it may be heated for 0.5 to 1 hour. A method of heating in the absence of an organic peroxide is preferred.
アクリル変性不飽和ジカルボン酸(無水物)グラフト化ポリオレフィン(A)を構成する不飽和ジカルボン酸(無水物)成分としては、例えば、マレイン酸、フマール酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸、シクロヘキセンジカルボン酸、シクロヘプテンジカルボン酸、アコニット酸等の不飽和ジカルボン酸;無水マレイン酸、無水シトラコン酸、無水イタコン酸などの不飽和ジカルボン酸無水物や、前記不飽和ジカルボン酸無水物と炭素数1〜5のアルキルアルコールとのエステル化物等が挙げられる。 Examples of the unsaturated dicarboxylic acid (anhydride) component constituting the acrylic-modified unsaturated dicarboxylic acid (anhydride) grafted polyolefin (A) include maleic acid, fumaric acid, itaconic acid, citraconic acid, mesaconic acid, and cyclohexene dicarboxylic acid. Unsaturated dicarboxylic acids such as acid, cycloheptene dicarboxylic acid and aconitic acid; unsaturated dicarboxylic anhydrides such as maleic anhydride, citraconic anhydride and itaconic anhydride; And an esterified product of 5 with an alkyl alcohol.
アクリル変性不飽和ジカルボン酸(無水物)グラフト化ポリオレフィン(A)を構成するアクリル成分としては、例えば4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレートなどの水酸基含有(メタ)アクリレート等のような活性水素を有するアクリル成分や、例えば2−アクリロイルエチルイソシアネート等のようなイソシアナート基を含有するアクリル成分が挙げられ、さらには、メチル(メタ)アクリレートなどの(メタ)アクリル酸エステル等もアクリル成分として用いることができる。なお、本明細書では、「(メタ)アクリレート」とは、アクリレート及びメタクリレートを指す。 As an acrylic component constituting the acrylic modified unsaturated dicarboxylic acid (anhydride) grafted polyolefin (A), for example, an acrylic having an active hydrogen such as a hydroxyl group-containing (meth) acrylate such as 4-hydroxybutyl (meth) acrylate Examples thereof include acrylic components containing isocyanate groups such as 2-acryloylethyl isocyanate, and (meth) acrylic acid esters such as methyl (meth) acrylate can also be used as the acrylic component. . In the present specification, “(meth) acrylate” refers to acrylate and methacrylate.
ポリオレフィン成分と、不飽和ジカルボン酸(無水物)成分と、アクリル成分とから、アクリル変性不飽和ジカルボン酸(無水物)グラフト化ポリオレフィン(A)を得る方法は特に制限されないが、例えば、ポリオレフィン成分に不飽和ジカルボン酸(無水物)成分をグラフト付加したのち、アクリル成分を反応させる方法等により得ることができる。なお、上記方法における具体的な反応条件等については、通常の有機合成の手法に従い、適宜設定すればよい。例えば、アクリル成分を反応させる際に、(メタ)アクリル酸エステルをアクリル成分とする場合には、例えばジクミルパーオキサイド等の水素引き抜き能を有する有機過酸化物を用いればよい。 The method for obtaining the acrylic modified unsaturated dicarboxylic acid (anhydride) grafted polyolefin (A) from the polyolefin component, the unsaturated dicarboxylic acid (anhydride) component, and the acrylic component is not particularly limited. It can be obtained by grafting an unsaturated dicarboxylic acid (anhydride) component and then reacting the acrylic component. In addition, what is necessary is just to set suitably about the reaction conditions etc. in the said method according to the method of normal organic synthesis. For example, when the (meth) acrylic acid ester is used as the acrylic component when the acrylic component is reacted, an organic peroxide having a hydrogen abstraction ability such as dicumyl peroxide may be used.
ハードコート層形成用組成物に、紫外線硬化型樹脂(B)と光重合開始剤(C)に加えて、アクリル変性不飽和ジカルボン酸(無水物)グラフト化ポリオレフィン(A)も配合する場合、アクリル変性不飽和ジカルボン酸(無水物)グラフト化ポリオレフィン(A)と紫外線硬化型樹脂(B)と光重合開始剤(C)との合計100質量部に対し、(A)成分は9〜45質量部、(B)成分は45〜90質量部、(C)成分は1〜10質量部とすればよい。(A)成分がこの範囲より少ないと、これによる効果を的確に得られない。一方、この範囲より多いと、ベース材料となる(B)成分の相対割合が低くなるので、表面硬度が低下してしまう。 In the case where an acrylic-modified unsaturated dicarboxylic acid (anhydride) grafted polyolefin (A) is also added to the hard coat layer forming composition in addition to the ultraviolet curable resin (B) and the photopolymerization initiator (C), acrylic The component (A) is 9 to 45 parts by mass with respect to a total of 100 parts by mass of the modified unsaturated dicarboxylic acid (anhydride) grafted polyolefin (A), the ultraviolet curable resin (B) and the photopolymerization initiator (C). The component (B) may be 45 to 90 parts by mass, and the component (C) may be 1 to 10 parts by mass. When the amount of component (A) is less than this range, the effect due to this cannot be obtained accurately. On the other hand, when the amount is larger than this range, the relative proportion of the component (B) serving as the base material becomes low, so that the surface hardness is lowered.
ハードコート層形成用組成物には、必要に応じて、表面調製剤、レベリング剤、紫外線吸収剤、紫外線安定剤、酸化防止剤、帯電防止剤、消泡剤等の従来公知の添加物を、本発明の効果を損なわない範囲で含有していても良い。 In the hard coat layer forming composition, conventionally known additives such as a surface preparation agent, a leveling agent, an ultraviolet absorber, an ultraviolet stabilizer, an antioxidant, an antistatic agent, and an antifoaming agent, as necessary, You may contain in the range which does not impair the effect of this invention.
ハードコート層形成用組成物の調製に用いられる希釈溶剤は、ハードコート層形成用組成物の粘度を調整するために用いられ、非重合性のものであれば特に制限されない。係る希釈溶剤により、主にハードコート層形成用組成物を熱可塑性透明基材フィルム上に容易に塗布することができる。 The diluent solvent used for the preparation of the hard coat layer forming composition is not particularly limited as long as it is used for adjusting the viscosity of the hard coat layer forming composition and is non-polymerizable. With such a diluting solvent, the composition for forming a hard coat layer can be easily applied on the thermoplastic transparent substrate film.
希釈溶剤としては、例えばトルエン、キシレン、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、エチルセルソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール、ジアセトンアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン、ドデカン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、3−メトキシブタノール等が挙げられる。 Examples of the diluent solvent include toluene, xylene, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, ethyl cellosolve acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, methyl alcohol, ethyl alcohol, isopropyl alcohol, butyl alcohol, Examples include diacetone alcohol, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, hexane, heptane, octane, decane, dodecane, propylene glycol monomethyl ether, and 3-methoxybutanol.
上記ハードコート層形成用組成物を熱可塑性透明基材フィルム上に塗布した後、紫外線を照射して硬化させることにより、熱可塑性透明基材フィルム上に、ハードコート層を積層することができる。ハードコート層形成用組成物を熱可塑性透明基材フィルム上に塗布する方法としては、ロールコート法、スピンコート法、ディップコート法、ハケ塗り法、スプレーコート法、バーコート法、ナイフコート法、ダイコート法、グラビアコート法、カーテンフローコート法、リバースコート法、キスコート法、コンマコート法等公知のいかなる方法も採用される。塗布に際しては、密着性を向上させるために、予め熱可塑性透明基材フィルム表面にコロナ放電処理等の前処理を施すことも好ましい。 After the composition for forming a hard coat layer is applied on a thermoplastic transparent substrate film, the hard coat layer can be laminated on the thermoplastic transparent substrate film by curing by irradiating with ultraviolet rays. As a method of applying the hard coat layer forming composition on the thermoplastic transparent substrate film, a roll coating method, a spin coating method, a dip coating method, a brush coating method, a spray coating method, a bar coating method, a knife coating method, Any known method such as a die coating method, a gravure coating method, a curtain flow coating method, a reverse coating method, a kiss coating method, or a comma coating method may be employed. At the time of application, in order to improve adhesion, it is also preferable to pre-treat the surface of the thermoplastic transparent substrate film in advance such as corona discharge treatment.
紫外線の照射に用いられる紫外線源としては、例えば高圧水銀ランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、窒素レーザ、電子線加速装置、放射性元素等の線源が使用される。紫外線の照射量は、紫外線の波長365nmでの積算光量として、50〜5000mJ/cm2であることが好ましい。照射量が50mJ/cm2未満のときには、ハードコート層形成用組成物の硬化が不十分となるため好ましくない。一方、5000mJ/cm2を超えるときには、紫外線硬化型樹脂(B)が着色する傾向を示すため好ましくない。 As the ultraviolet ray source used for the ultraviolet ray irradiation, for example, a high pressure mercury lamp, a halogen lamp, a xenon lamp, a nitrogen laser, an electron beam accelerator, a radioactive element or the like is used. It is preferable that the irradiation amount of an ultraviolet-ray is 50-5000 mJ / cm < 2 > as an integrated light quantity in ultraviolet wavelength 365nm. When the irradiation amount is less than 50 mJ / cm 2 , curing of the hard coat layer forming composition becomes insufficient, which is not preferable. On the other hand, when it exceeds 5000 mJ / cm 2 , the ultraviolet curable resin (B) tends to be colored, which is not preferable.
〔高屈折率層〕
次に、高屈折率層について説明する。高屈折率層は、後述の低屈折率層よりも屈折率の高い層であって、低屈折率層との有意な屈折率及び膜厚の相対関係により反射防止効果及び耐指紋性(指紋を見え難くする効果)を発現させる層であり、低屈折率層と共に反射防止層及び耐指紋層を構成する層である。高屈折率層の屈折率は、1.50〜1.65である。高屈折率層の屈折率が1.50未満の場合は、低屈折率層との屈折率差が小さ過ぎて高屈折率層と低屈折率層との界面での反射が弱くなり、反射防止性能及び耐指紋性が十分に発揮されない場合がある。また、高屈折率層の屈折率が1.65を超える場合は、高屈折率層と低屈折率層との界面での反射が強くなり、反射光の着色が強くなる。また、高屈折率層の膜厚は、130〜180nmである。高屈折率層の膜厚が130未満の場合や180nmを超える場合は、低屈折率層との干渉バランスが崩れ、反射率、反射彩度C、及び皮脂汚れが付着した際の反射色差ΔEの上昇を引き起こしてしまい、十分な反射防止性や耐指紋性が得られなくなる。
(High refractive index layer)
Next, the high refractive index layer will be described. The high refractive index layer is a layer having a refractive index higher than that of the low refractive index layer described later, and has an antireflection effect and fingerprint resistance (fingerprint It is a layer that exhibits an effect of making it difficult to see, and constitutes an antireflection layer and an anti-fingerprint layer together with a low refractive index layer. The refractive index of the high refractive index layer is 1.50 to 1.65. When the refractive index of the high refractive index layer is less than 1.50, the refractive index difference with the low refractive index layer is too small, and reflection at the interface between the high refractive index layer and the low refractive index layer becomes weak, thus preventing reflection. Performance and fingerprint resistance may not be fully exhibited. On the other hand, when the refractive index of the high refractive index layer exceeds 1.65, reflection at the interface between the high refractive index layer and the low refractive index layer becomes strong and coloring of reflected light becomes strong. The film thickness of the high refractive index layer is 130 to 180 nm. When the film thickness of the high refractive index layer is less than 130 or exceeds 180 nm, the interference balance with the low refractive index layer is lost, and the reflectance, reflection saturation C, and reflection color difference ΔE when sebum dirt adheres are reduced. As a result, an increase in anti-reflection property and fingerprint resistance cannot be obtained.
<高屈折率層形成用組成物>
高屈折率層は、高屈折率層形成用組成物からなる塗布液をハードコート層上に塗布した後、紫外線照射により硬化することで形成される。その塗布方法や硬化条件、及び粘度調整用の希釈溶媒は、ハードコート層と同様であればよい。高屈折率層形成用組成物を構成する材料としては、高屈折率層の屈折率の範囲において、金属酸化物微粒子及び紫外線硬化型樹脂を任意に用いることができる。
<Composition for forming high refractive index layer>
The high refractive index layer is formed by applying a coating liquid composed of a composition for forming a high refractive index layer on the hard coat layer and then curing it by ultraviolet irradiation. The coating method, curing conditions, and dilution solvent for viscosity adjustment may be the same as those for the hard coat layer. As a material constituting the composition for forming a high refractive index layer, metal oxide fine particles and an ultraviolet curable resin can be arbitrarily used within the range of the refractive index of the high refractive index layer.
金属酸化物微粒子は、屈折率を積極的に高めるために配合されるものである。金属酸化物微粒子としては、例えば酸化亜鉛、酸化チタン、酸化セリウム、酸化アルミニウム、酸化シラン、酸化アンチモン、酸化ジルコニウム、酸化錫、酸化珪素、ITO等の微粒子が挙げられる。特に、導電性や帯電防止能の観点より、酸化錫、酸化アンチモン及びITOが好ましく、高屈折率の観点より、酸化チタン、酸化セリウム、酸化亜鉛及び酸化ジルコニウムが好ましい。金属酸化物微粒子の平均粒子径は高屈折率層の厚みを大きく超えないことが好ましく、特に0.15μm以下であることが好ましい。金属酸化物微粒子の平均粒子径が高屈折率層の厚みを大きく超えると、光の散乱が生じる等、高屈折率層の光学性能が低下する傾向にある。紫外線硬化型樹脂としては、ハードコート層で使用する樹脂と同種のものを使用できる。 The metal oxide fine particles are blended for positively increasing the refractive index. Examples of the metal oxide fine particles include fine particles of zinc oxide, titanium oxide, cerium oxide, aluminum oxide, silane oxide, antimony oxide, zirconium oxide, tin oxide, silicon oxide, ITO, and the like. In particular, tin oxide, antimony oxide, and ITO are preferable from the viewpoint of conductivity and antistatic ability, and titanium oxide, cerium oxide, zinc oxide, and zirconium oxide are preferable from the viewpoint of high refractive index. The average particle diameter of the metal oxide fine particles preferably does not greatly exceed the thickness of the high refractive index layer, and is particularly preferably 0.15 μm or less. When the average particle diameter of the metal oxide fine particles greatly exceeds the thickness of the high refractive index layer, the optical performance of the high refractive index layer tends to deteriorate, such as light scattering. As the ultraviolet curable resin, the same type of resin as that used in the hard coat layer can be used.
高屈折率層の屈折率は、ベース樹脂である紫外線硬化型樹脂と金属酸化物微粒子の配合割合を適宜調整することで設定できる。金属酸化物微粒子の含有量は、紫外線硬化型樹脂との合計100質量部に対して、90質量部以下に調整される。金属酸化物微粒子の含有量が90質量部を超えると、塗膜における紫外線硬化型樹脂の相対量が少なくなり、塗膜がもろくなるため好ましくない。 The refractive index of the high refractive index layer can be set by appropriately adjusting the blending ratio of the ultraviolet curable resin as the base resin and the metal oxide fine particles. Content of metal oxide microparticles | fine-particles is adjusted to 90 mass parts or less with respect to a total of 100 mass parts with ultraviolet curable resin. When the content of the metal oxide fine particles exceeds 90 parts by mass, the relative amount of the ultraviolet curable resin in the coating film is decreased, and the coating film becomes brittle.
更に、高屈折率層形成用組成物には、紫外線により高屈折率層形成用組成物を硬化させて塗膜を形成するために、光重合開始剤が含まれる。光重合開始剤としては、ハードコート層で使用する光重合開始剤と同種のものを使用できる。光重合開始剤は、高屈折率層形成用組成物中に1.0〜10.0質量%含まれる。光重合開始剤の含有量が1.0質量%未満では、高屈折率層の硬化が不十分となる。一方、含有量が10.0質量%を超えると、光重合開始剤が不必要に多くなり好ましくない。紫外線照射の条件は、ハードコート層と同じでよい。 Further, the high refractive index layer forming composition contains a photopolymerization initiator in order to cure the high refractive index layer forming composition with ultraviolet rays to form a coating film. As the photopolymerization initiator, the same photopolymerization initiator as that used in the hard coat layer can be used. The photopolymerization initiator is contained in an amount of 1.0 to 10.0% by mass in the composition for forming a high refractive index layer. When the content of the photopolymerization initiator is less than 1.0% by mass, the high refractive index layer is not sufficiently cured. On the other hand, when the content exceeds 10.0% by mass, the photopolymerization initiator is unnecessarily increased, which is not preferable. The conditions for ultraviolet irradiation may be the same as those for the hard coat layer.
高屈折率層形成用組成物中には、必要に応じて、表面調整剤、レベリング剤、紫外線吸収剤、紫外線安定剤、酸化防止剤、帯電防止剤、消泡剤等の従来公知の添加物を、本発明の効果を損なわない範囲で含有していても良い。 In the composition for forming a high refractive index layer, conventionally known additives such as a surface conditioner, a leveling agent, an ultraviolet absorber, an ultraviolet stabilizer, an antioxidant, an antistatic agent, and an antifoaming agent are added as necessary. May be contained within a range not impairing the effects of the present invention.
〔低屈折率層〕
次に、低屈折率層について説明する。低屈折率層は、高屈折率層よりも屈折率の低い層であって、高屈折率層との有意な屈折率及び膜厚の相対関係により反射防止効果及び耐指紋性(指紋を見え難くする効果)を発現させる層であり、高屈折率層と共に反射防止層及び耐指紋層を構成する層である。低屈折率層の屈折率は、1.36〜1.42の範囲である。該屈折率が1.36未満の場合には十分に硬い層を形成することが困難であり、屈折率が1.42を超える場合には、高屈折率層との屈折率差が小さ過ぎて高屈折率層と低屈折率層との界面での反射が弱くなり、反射防止性能及び耐指紋性が十分に発揮されない場合がある。
(Low refractive index layer)
Next, the low refractive index layer will be described. The low refractive index layer is a layer having a lower refractive index than the high refractive index layer, and has an antireflection effect and fingerprint resistance (fingerprints are difficult to see due to a significant refractive index and relative film thickness relationship with the high refractive index layer. The anti-reflection layer and the anti-fingerprint layer together with the high refractive index layer. The refractive index of the low refractive index layer is in the range of 1.36 to 1.42. If the refractive index is less than 1.36, it is difficult to form a sufficiently hard layer. If the refractive index exceeds 1.42, the difference in refractive index from the high refractive index layer is too small. Reflection at the interface between the high refractive index layer and the low refractive index layer becomes weak, and the antireflection performance and fingerprint resistance may not be sufficiently exhibited.
また、低屈折率層の膜厚は70〜100nmである。低屈折率層の膜厚が70nm未満の場合や100nmを超える場合は高屈折率層との干渉バランスが崩れ、反射率、反射彩度C、及び皮脂汚れが付着した際の反射色差ΔEの上昇を引き起こしてしまい、十分な反射防止性や耐指紋性が得られなくなる。 The film thickness of the low refractive index layer is 70 to 100 nm. When the film thickness of the low refractive index layer is less than 70 nm or exceeds 100 nm, the interference balance with the high refractive index layer is lost, and the reflectance, reflection chroma C, and reflection color difference ΔE when sebum dirt adheres increase. As a result, sufficient antireflection and fingerprint resistance cannot be obtained.
<低屈折率層形成用組成物>
低屈折率層は、低屈折率層形成用組成物からなる塗布液を高屈折率層上に塗布した後、紫外線照射により硬化することで形成される。その塗布方法や硬化条件、及び粘度調整用の希釈溶媒は、ハードコート層や高屈折率層と同様であればよい。低屈折率層形成用組成物は、紫外線硬化型樹脂と中空シリカ微粒子と光重合開始剤とを含有する。
<Composition for forming low refractive index layer>
The low refractive index layer is formed by applying a coating liquid composed of a composition for forming a low refractive index layer on the high refractive index layer and then curing it by ultraviolet irradiation. The application method, curing conditions, and dilution solvent for viscosity adjustment may be the same as those for the hard coat layer and the high refractive index layer. The composition for forming a low refractive index layer contains an ultraviolet curable resin, hollow silica fine particles, and a photopolymerization initiator.
低屈折率層を形成する紫外線硬化型樹脂としては、多官能(メタ)アクリレートであれば、その種類は特に制限されない。この種のフィルムにおいて低屈折率層を形成する樹脂としては、一般的には多官能(メタ)アクリレートのほかにγ―アクリロキシプロピルトリメトキシシラン等の反応性珪素化合物等を出発原料とするものも用いられるが、生産性及び硬度を両立させる観点より、紫外線硬化性の多官能(メタ)アクリレートを主成分として含む組成物が好ましい。 The ultraviolet curable resin for forming the low refractive index layer is not particularly limited as long as it is a polyfunctional (meth) acrylate. As a resin for forming a low refractive index layer in this type of film, in general, a reactive silicon compound such as γ-acryloxypropyltrimethoxysilane in addition to polyfunctional (meth) acrylate is used as a starting material. However, from the viewpoint of achieving both productivity and hardness, a composition containing an ultraviolet curable polyfunctional (meth) acrylate as a main component is preferable.
多官能(メタ)アクリレートとしては特に制限されず、例えばジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ(メタ)アクリレート、テトラメチロールメタントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ビス(3−(メタ)アクリロイルオキシ−2−ヒドロキシプロピルオキシ)ヘキサン等の多官能アルコールの(メタ)アクリル誘導体や、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート及びポリウレタン(メタ)アクリレート等が挙げられる。 The polyfunctional (meth) acrylate is not particularly limited, and examples thereof include dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, tetramethylolmethane tetra (meth) acrylate, tetramethylolmethane tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, (Meth) acryl derivatives of polyfunctional alcohols such as 1,6-hexanediol di (meth) acrylate and 1,6-bis (3- (meth) acryloyloxy-2-hydroxypropyloxy) hexane, polyethylene glycol di ( And (meth) acrylate and polyurethane (meth) acrylate.
また、多官能(メタ)アクリレートは、含フッ素モノマーであってもよい。フッ素原子がフッ化メチレン基又はフッ化メチン基として分子中に導入された構造を有する含フッ素モノマーは、フッ素原子のほぼ全量がフッ化メチレン基又はフッ化メチン基として分子中に導入されたモノマーであり、多官能モノマーである限り、公知の全てのモノマーが使用可能である。すなわち、2個以上(多官能)のモノマーのいずれであってもよく、それらの混合物であってもよい。これらの含フッ素化合物は、硬化皮膜の強度及び硬度を高めることができ、硬化皮膜表面の耐擦傷性及び耐摩耗性を向上させることができる。含フッ素化合物の中では、架橋構造を形成でき、硬化皮膜の強度や硬度が高い点から、含フッ素多官能(メタ)アクリレートが好ましい。 The polyfunctional (meth) acrylate may be a fluorine-containing monomer. A fluorine-containing monomer having a structure in which a fluorine atom is introduced into a molecule as a methylene fluoride group or a fluorinated methine group is a monomer in which almost all of the fluorine atoms are introduced into the molecule as a methylene fluoride group or a fluorinated methine group As long as it is a polyfunctional monomer, all known monomers can be used. That is, it may be any of two or more (polyfunctional) monomers, or a mixture thereof. These fluorine-containing compounds can increase the strength and hardness of the cured film, and can improve the scratch resistance and wear resistance of the surface of the cured film. Among the fluorine-containing compounds, fluorine-containing polyfunctional (meth) acrylates are preferable because a crosslinked structure can be formed and the strength and hardness of the cured film are high.
中空シリカ微粒子は、シリカ(二酸化珪素、SiO2)がほぼ球状に形成され、その外殻内に中空部を有する微粒子である。その平均粒子径は10〜100nm、外殻の厚みは1〜60nm程度、中空部の空隙率は40〜45%であり、屈折率は1.20〜1.29という低い屈折率である。中空部に屈折率が1.0の空気を含んでいることから、多官能(メタ)アクリレートの硬化により形成される硬化皮膜について低屈折率化及び低反射率化を図ることができると共に、シリカ微粒子という無機微粒子により硬化皮膜の耐擦傷性及び耐摩耗性を向上させることもできる。中空部の空隙率が40%未満の場合には、中空部の空気量が少なくなり、硬化皮膜の低屈折率化及び低反射率化を図ることができなくなる。その一方、中空部の空隙率が45%を超える場合には、空隙率を大きくするために外殻を薄くする必要があり、その製造が困難になる。 The hollow silica fine particles are fine particles in which silica (silicon dioxide, SiO 2 ) is formed in a substantially spherical shape and has a hollow portion in the outer shell. The average particle diameter is 10 to 100 nm, the thickness of the outer shell is about 1 to 60 nm, the porosity of the hollow portion is 40 to 45%, and the refractive index is a low refractive index of 1.20 to 1.29. Since the hollow portion contains air having a refractive index of 1.0, the cured film formed by curing the polyfunctional (meth) acrylate can be reduced in refractive index and reflectance, and silica. The scratch resistance and abrasion resistance of the cured film can be improved by inorganic fine particles called fine particles. When the void ratio of the hollow portion is less than 40%, the amount of air in the hollow portion is reduced, and it becomes impossible to reduce the refractive index and reflectivity of the cured film. On the other hand, when the void ratio of the hollow portion exceeds 45%, it is necessary to make the outer shell thin in order to increase the void ratio, which makes it difficult to manufacture.
また、中空シリカ微粒子は、必要に応じてシランカップリング剤によって変性することが好ましい。これにより、従来の一般的な(非変性の)シリカ微粒子又は中空シリカ微粒子にはない優れた効果、すなわち多官能(メタ)アクリレートとの相溶性に優れるという効果を発現することができる。このため、変性中空シリカ微粒子を多官能(メタ)アクリレートと混合した場合、変性中空シリカ微粒子の凝集を抑制することができ、白化がなく、透明性に優れた硬化皮膜を得ることができる。さらに硬化皮膜中では、シランカップリング剤の重合性二重結合と多官能(メタ)アクリレートの重合性二重結合とが共重合(化学結合)して強固な硬化皮膜となるため、硬化皮膜の耐擦傷性及び耐摩耗性を飛躍的に向上させることができる。 The hollow silica fine particles are preferably modified with a silane coupling agent as necessary. Thereby, the outstanding effect which is not in the conventional general (non-modified) silica fine particles or hollow silica fine particles, that is, the effect of excellent compatibility with the polyfunctional (meth) acrylate can be exhibited. Therefore, when the modified hollow silica fine particles are mixed with polyfunctional (meth) acrylate, aggregation of the modified hollow silica fine particles can be suppressed, and a cured film having no transparency and excellent transparency can be obtained. Furthermore, in the cured film, the polymerizable double bond of the silane coupling agent and the polymerizable double bond of the polyfunctional (meth) acrylate are copolymerized (chemically bonded) to form a strong cured film. Scratch resistance and wear resistance can be dramatically improved.
この場合、変性による効果を高めるため、中空シリカ微粒子は下記の化学式(1)で示される重合性二重結合を有するシランカップリング剤によって変性することがより好ましい。
Z−R1−Si(OR2)3 ・・・(1)
〔式中、Zは(メタ)アクリロイルオキシ基であり、R1は炭素数1〜4のアルキレン基であり、R2は水素原子、メチル基又はエチル基である。〕
In this case, in order to enhance the effect of modification, the hollow silica fine particles are more preferably modified with a silane coupling agent having a polymerizable double bond represented by the following chemical formula (1).
Z-R1-Si (OR2) 3 (1)
[In formula, Z is a (meth) acryloyloxy group, R1 is a C1-C4 alkylene group, R2 is a hydrogen atom, a methyl group, or an ethyl group. ]
変性中空シリカ微粒子についてさらに説明すると、変性中空シリカ微粒子は、平均粒子径5〜100nm、比表面積50〜1000m2/gである中空シリカ微粒子の表面をシランカップリング剤によって表面処理することにより製造される。具体的には、中空シリカ微粒子表面のシラノール基とシランカップリング剤との加水分解反応により、中空シリカ微粒子表面にオルガノシリル基(モノオルガノシリル基、ジオルガノシリル基又はトリオルガノシリル基)が結合すると共に、その表面に多数の珪素原子に直接結合した有機基を有する。 The modified hollow silica fine particles will be further described. The modified hollow silica fine particles are produced by surface-treating the surface of the hollow silica fine particles having an average particle diameter of 5 to 100 nm and a specific surface area of 50 to 1000 m 2 / g with a silane coupling agent. The Specifically, an organosilyl group (monoorganosilyl group, diorganosilyl group, or triorganosilyl group) is bonded to the surface of the hollow silica fine particle by a hydrolysis reaction between the silanol group on the surface of the hollow silica fine particle and the silane coupling agent. In addition, the surface has an organic group directly bonded to a large number of silicon atoms.
低屈折率層の屈折率は、ベース樹脂である紫外線硬化型樹脂と中空シリカ微粒子の配合割合を適宜調整することで設定できる。具体的には、中空シリカ微粒子の含有量は、紫外線硬化型樹脂との合計100質量部に対して、好ましくは30〜80質量部である。この含有量が30質量部を下回る場合には、中空シリカ微粒子の含有量が少なく、得られる硬化皮膜の低屈折率化及び低反射率化を図ることができなくなる。一方、80質量部を上回る場合には、過剰の中空シリカ微粒子が紫外線硬化型樹脂と反応できず、中空シリカ微粒子が残存し、かえって硬化皮膜表面の耐擦傷性及び耐摩耗性に欠ける。変性中空シリカ微粒子を使用する場合、当該変性中空シリカ微粒子のシランカップリング剤に含まれる(メタ)アクリロイルオキシ基と、多官能(メタ)アクリレートの重合性二重結合とが共重合して結合される結果、変性中空シリカ微粒子の機能と多官能(メタ)アクリレートの機能とが相乗的に、かつ持続して発現される。 The refractive index of the low refractive index layer can be set by appropriately adjusting the blending ratio of the ultraviolet curable resin as the base resin and the hollow silica fine particles. Specifically, the content of the hollow silica fine particles is preferably 30 to 80 parts by mass with respect to a total of 100 parts by mass with the ultraviolet curable resin. When this content is less than 30 parts by mass, the content of the hollow silica fine particles is small, and the resulting cured film cannot be reduced in refractive index and reflectance. On the other hand, when the amount exceeds 80 parts by mass, excess hollow silica fine particles cannot react with the ultraviolet curable resin, and the hollow silica fine particles remain, and on the contrary, the cured film surface lacks scratch resistance and wear resistance. When the modified hollow silica fine particles are used, the (meth) acryloyloxy group contained in the silane coupling agent of the modified hollow silica fine particles and the polymerizable double bond of polyfunctional (meth) acrylate are copolymerized and bonded. As a result, the function of the modified hollow silica fine particles and the function of the polyfunctional (meth) acrylate are expressed synergistically and continuously.
光重合開始剤としては、ハードコート層や高屈折率層で使用する重合開始剤と同種のものを使用できる。光重合開始剤の含有量は、低屈折率層形成用組成物中に、0.1〜20質量%であることが好ましい。光重合開始剤の含有量が0.1質量%未満の場合には低屈折率層用塗布液の重合硬化が不十分となり、20質量%を超える場合には重合硬化後の硬化皮膜の屈折率が上昇するため好ましくない。紫外線照射の条件は、ハードコート層や高屈折率層と同じでよい。 As the photopolymerization initiator, the same type as the polymerization initiator used in the hard coat layer and the high refractive index layer can be used. The content of the photopolymerization initiator is preferably 0.1 to 20% by mass in the composition for forming a low refractive index layer. When the content of the photopolymerization initiator is less than 0.1% by mass, the polymerization curing of the coating solution for the low refractive index layer becomes insufficient, and when it exceeds 20% by mass, the refractive index of the cured film after polymerization curing. Is not preferable because of an increase. The conditions for ultraviolet irradiation may be the same as those for the hard coat layer and the high refractive index layer.
(防汚剤)
なお、低屈折率層には防汚性(指紋を付着し難くし、且つ拭き取り易くする効果)を付与して耐指紋性を向上させることもできる。防汚剤としては、公知のポリシロキサン系あるいはフッ素系の防汚剤を適宜添加することが好ましい。ポリシロキサン系化合物の好ましい例としては、例えばアクリル基を有するポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン、ポリエーテル変性ジメチルシロキサン、アクリル基を有するポリエステル変性ジメチルシロキサン、ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン、ポリエステル変性ポリジメチルシロキサン、アラルキル変性ポリメチルアルキルシロキサン、などが挙げられる。
(Anti-fouling agent)
Note that the low refractive index layer can be imparted with antifouling properties (an effect of making fingerprints difficult to attach and easy to wipe) to improve fingerprint resistance. As the antifouling agent, a known polysiloxane or fluorine antifouling agent is preferably added as appropriate. Preferred examples of the polysiloxane compound include, for example, polyether-modified polydimethylsiloxane having an acrylic group, polyether-modified dimethylsiloxane, polyester-modified dimethylsiloxane having an acrylic group, polyether-modified polydimethylsiloxane, polyester-modified polydimethylsiloxane, And aralkyl-modified polymethylalkylsiloxane.
一方、防汚剤として用いられるフッ素系化合物は、低屈折率層との結合形成あるいは相溶性に寄与する置換基を有していることが好ましい。該置換基は同一であっても異なっていても良く、複数個あっても良い。好ましい置換基の例としてはアクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリール基、シンナモイル基、エポキシ基、オキセタニル基、水酸基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシル基、アミノ基などが挙げられる。フッ素系化合物は、フッ素原子を含まない化合物とのポリマーであってもオリゴマーであってもよく、分子量に特に制限はない。 On the other hand, the fluorine-based compound used as an antifouling agent preferably has a substituent that contributes to bond formation or compatibility with the low refractive index layer. The substituents may be the same or different, and a plurality of substituents may be present. Examples of preferred substituents include acryloyl group, methacryloyl group, vinyl group, aryl group, cinnamoyl group, epoxy group, oxetanyl group, hydroxyl group, polyoxyalkylene group, carboxyl group, amino group and the like. The fluorine-based compound may be a polymer or an oligomer with a compound not containing a fluorine atom, and the molecular weight is not particularly limited.
低屈折率層形成用組成物中には、必要に応じて、表面調整剤、レベリング剤、紫外線吸収剤、紫外線安定剤、酸化防止剤、帯電防止剤、消泡剤等の従来公知の添加物を、本発明の効果を損なわない範囲で含有していても良い。 In the composition for forming a low refractive index layer, conventionally known additives such as a surface conditioner, a leveling agent, an ultraviolet absorber, an ultraviolet stabilizer, an antioxidant, an antistatic agent, and an antifoaming agent are optionally added. May be contained within a range not impairing the effects of the present invention.
《耐指紋性反射防止フィルムを用いた樹脂成型品》
本実施形態の樹脂成形品は、インサート成型融着法にて、樹脂を成型すると同時に、その樹脂成形品の表面に耐指紋性反射防止フィルムを一体化して得られる。例えば、耐指紋性反射防止フィルムを射出成型金型内のキャビティに保持し、溶融した樹脂を金型内に注入することで、表面に耐指紋性反射防止フィルムが一体化された樹脂成形品を得ることができる。
《Resin molding using anti-fingerprint anti-reflective film》
The resin molded product of this embodiment is obtained by molding a resin by an insert molding fusion method and simultaneously integrating a fingerprint-resistant antireflection film on the surface of the resin molded product. For example, by holding a fingerprint-resistant antireflection film in a cavity in an injection mold and injecting molten resin into the mold, a resin molded product with a fingerprint-resistant antireflection film integrated on the surface is obtained. Can be obtained.
以下に、実施例及び比較例を挙げて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はそれら実施例の範囲に限定されるものではない。なお、各製造例で調製したハードコート層形成用組成物、高屈折率層形成用組成物及び低屈折率層形成用組成物を硬化して得られる各層の屈折率は、以下のように測定した。 EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples and comparative examples, but the present invention is not limited to the scope of these examples. The refractive index of each layer obtained by curing the composition for forming a hard coat layer, the composition for forming a high refractive index layer, and the composition for forming a low refractive index layer prepared in each production example was measured as follows. did.
[各層の屈折率]
(1)屈折率1.49のアクリル樹脂板(「デラグラスA」、旭化成ケミカルズ(株)製)上に、ディップコーター((株)杉山元医理器製)により、各層形成用組成物(塗液)をそれぞれ乾燥膜厚で光学膜厚が550nm程度になるように層の厚みを調整して塗布した。
(2)溶媒乾燥後、必要に応じて紫外線照射装置(岩崎電気(株)製)により窒素雰囲気下で120W高圧水銀灯を用いて、400mJの紫外線を照射して各塗液を硬化させた。
(3)アクリル樹脂板裏面をサンドペーパーで荒らし、黒色塗料で塗りつぶしたものを分光光度計(「U−Best V560」、日本分光(株)製)により、光の波長400〜650nmにおける5°、−5°正反射率を測定し、その反射率の極小値又は極大値を読み取った。
(4)反射率の極値より以下の式を用いて屈折率を計算した。
(1) A composition for forming each layer (coating solution) on an acrylic resin plate ("Delagrass A", manufactured by Asahi Kasei Chemicals Co., Ltd.) having a refractive index of 1.49 by a dip coater (manufactured by Sugiyama Motoiri Scientific Co., Ltd.) ), And the thickness of the layer was adjusted so that the optical film thickness was about 550 nm.
(2) After drying the solvent, each coating solution was cured by irradiating 400 mJ of ultraviolet rays using a 120 W high-pressure mercury lamp in a nitrogen atmosphere by an ultraviolet irradiation device (manufactured by Iwasaki Electric Co., Ltd.) as necessary.
(3) The back surface of the acrylic resin plate is roughened with sandpaper, and the one painted with black paint is measured with a spectrophotometer ("U-Best V560", manufactured by JASCO Corporation) at 5 ° at a light wavelength of 400 to 650 nm. The −5 ° regular reflectance was measured, and the minimum or maximum value of the reflectance was read.
(4) The refractive index was calculated from the extreme value of the reflectance using the following formula.
〔ハードコート層形成用組成物〕
ハードコート層形成用組成物として、次の原料を使用し、各原料を下記表1に記載した組成にて混合し、ハードコート層形成用組成物HC1を調製した。ハードコート層形成用組成物の各原料は、以下の通りである。
アクリル変性不飽和ジカルボン酸(無水物)グラフト化ポリオレフィン(a):下記製造例1で合成した水酸基含有メタクリレート変性無水マレイン酸グラフト化ポリオレフィン
紫外線硬化型樹脂(b):
(b−1);ダイセル・サイテック(株)製「EBECRYL8402」
(b−2);日本化薬(株)製「KAYARAD DPCA−20」
(b−3);共栄社化学(株)製「ライトアクリレート1.9ND−A」
光重合開始剤(c):チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製「IRGACURE184(I−184)」
[Composition for forming hard coat layer]
The following raw materials were used as the hard coat layer forming composition, and the respective raw materials were mixed in the composition described in Table 1 below to prepare a hard coat layer forming composition HC1. Each raw material of the composition for forming a hard coat layer is as follows.
Acrylic-modified unsaturated dicarboxylic acid (anhydride) grafted polyolefin (a): hydroxyl group-containing methacrylate-modified maleic anhydride-grafted polyolefin synthesized in Production Example 1 UV curable resin (b):
(B-1); “EBECRYL8402” manufactured by Daicel-Cytec Corporation
(B-2); “KAYARAD DPCA-20” manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.
(B-3); “Light acrylate 1.9ND-A” manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
Photopolymerization initiator (c): “IRGACURE184 (I-184)” manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.
〔製造例1:アクリル変性不飽和ジカルボン酸(無水物)グラフト化ポリオレフィンの合成〕
高分子ポリオレフィン(プロピレンと1−ブテンとの共重合体:三井化学社製「タフマーXR110T」)を攪拌機および温度計を備えた反応容器に入れ、360℃まで昇温して溶融させ、窒素気流下で80分間加熱することにより、熱減成による低分子ポリオレフィンを得た。
[Production Example 1: Synthesis of acrylic modified unsaturated dicarboxylic acid (anhydride) grafted polyolefin]
Polymer polyolefin (copolymer of propylene and 1-butene: “Tafmer XR110T” manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.) is placed in a reaction vessel equipped with a stirrer and a thermometer, heated to 360 ° C. and melted, under a nitrogen stream Was heated for 80 minutes to obtain a low molecular polyolefin by thermal degradation.
次に、攪拌機、温度計および冷却管を備えた反応容器に、前記低分子ポリオレフィン160部を入れ、窒素気流下で180℃まで昇温して溶融させたのち、無水マレイン酸25部と1−ドデセン20部を加え、均一に混合した。次いで、あらかじめ調製したキシレン20部にジクミルパーオキサイド1部を溶解させた溶液を180℃を維持しながら2時間かけて滴下し、滴下後さらに180℃で2時間攪拌し、無水マレイン酸のグラフト化反応を行なった。その後、減圧下でキシレンおよび1−ドデセンを留去して、無水マレイン酸グラフト化ポリオレフィンを得た。 Next, 160 parts of the low molecular polyolefin was put into a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer and a cooling tube, heated to 180 ° C. under a nitrogen stream and melted, and then 25 parts of maleic anhydride and 1- 20 parts of dodecene was added and mixed uniformly. Next, a solution prepared by dissolving 1 part of dicumyl peroxide in 20 parts of xylene prepared in advance was added dropwise over 2 hours while maintaining 180 ° C. After the addition, the solution was further stirred at 180 ° C for 2 hours to graft maleic anhydride. The reaction was carried out. Thereafter, xylene and 1-dodecene were distilled off under reduced pressure to obtain maleic anhydride grafted polyolefin.
次に、攪拌機、温度計および冷却管を備えた反応容器に、前記無水マレイン酸グラフト化ポリオレフィン450部を入れ、窒素気流下で105℃まで昇温し、該温度を維持するようにしながらトルエン300部を攪拌下で徐々に滴下した。次いで、水酸基含有メタクリレート(ダイセル化学工業社製「プラクセルFM4:CH2=C(CH3)COO(CH2)2O[CO(CH2)5O]nH」)135部を添加し、攪拌しながら同温度で3時間反応させたのち、冷却し、水酸基含有メタクリレート変性無水マレイン酸グラフト化ポリオレフィンの溶液を得た。得られた溶液の固形分濃度は66.1%であった。 Next, 450 parts of the maleic anhydride-grafted polyolefin was put into a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, and a cooling tube, heated to 105 ° C. under a nitrogen stream, and toluene 300 while maintaining the temperature. The portion was gradually added dropwise with stirring. Then, the hydroxyl group-containing methacrylate (manufactured by Daicel Chemical Industries' PLACCEL FM4: CH 2 = C (CH 3) COO (CH 2) 2 O [CO (CH 2) 5 O] n H ") were added 135 parts of stirring The reaction was carried out at the same temperature for 3 hours, followed by cooling to obtain a hydroxyl group-containing methacrylate-modified maleic anhydride grafted polyolefin solution. The solid content concentration of the obtained solution was 66.1%.
(高屈折率層形成用組成物H−1の調製)
アンチモン酸亜鉛微粒子分散液(日産化学工業(株)製、セルナックスCX−603M−F2)を固形分換算で70質量部、ウレタンアクリレート(分子量1400、60℃における粘度が2500〜4500Pa・s、日本合成化学工業(株)製、紫光UV7600B)25質量部、光重合開始剤(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、イルガキュア184)を5質量部、及びイソプロピルアルコール500質量部を混合し、高屈折率層形成用組成物(含アンチモン酸亜鉛微粒子硬化性塗布液)を得た。H−1の屈折率は1.58であった。
(Preparation of composition H-1 for forming a high refractive index layer)
Zinc antimonate fine particle dispersion (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., Celnax CX-603M-F2) in terms of solid content is 70 parts by mass, urethane acrylate (molecular weight 1400, viscosity at 60 ° C. is 2500 to 4500 Pa · s, Japan Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., purple light UV7600B) 25 parts by mass, photopolymerization initiator (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., Irgacure 184) 5 parts by mass, and isopropyl alcohol 500 parts by mass are mixed together, and high refraction. A composition for forming a rate layer (a zinc-antimonate-containing fine particle curable coating solution) was obtained. The refractive index of H-1 was 1.58.
(高屈折率層形成用組成物H−2の調製)
酸化チタン微粒子37質量部、ウレタンアクリレート(分子量1400、60℃における粘度が2500〜4500Pa・s、日本合成化学工業(株)製、紫光UV7600B)58質量部、光重合開始剤(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、イルガキュア184)を5質量部、及びイソプロピルアルコール500質量部を混合し、高屈折率層形成用組成物(含アンチモン酸亜鉛微粒子硬化性塗布液)を得た。H−2の屈折率は1.65であった。
(Preparation of composition H-2 for forming a high refractive index layer)
37 parts by mass of fine titanium oxide particles, 58 parts by mass of urethane acrylate (molecular weight 1400, viscosity at 60 ° C. is 2500 to 4500 Pa · s, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., Purple UV7600B), photopolymerization initiator (Ciba Specialty Chemicals) 5 parts by mass of Irgacure 184 manufactured by Co., Ltd. and 500 parts by mass of isopropyl alcohol were mixed to obtain a composition for forming a high refractive index layer (containing zinc antimonate fine particle curable coating solution). The refractive index of H-2 was 1.65.
(高屈折率層形成用組成物H−3の調製)
ウレタンアクリレート(分子量1400、60℃における粘度が2500〜4500Pa・s、日本合成化学工業(株)製、紫光UV7600B)95質量部、光重合開始剤(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、イルガキュア184)を5質量部、及びイソプロピルアルコール500質量部を混合し、高屈折率層形成用組成物(含アンチモン酸亜鉛微粒子硬化性塗布液)を得た。H−3の屈折率は1.50であった。
(Preparation of high refractive index layer-forming composition H-3)
95 parts by mass of urethane acrylate (molecular weight: 1400, viscosity at 60 ° C .: 2500-4500 Pa · s, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., Purple UV7600B), photopolymerization initiator (manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., Irgacure 184) 5 parts by mass and 500 parts by mass of isopropyl alcohol were mixed to obtain a composition for forming a high refractive index layer (zinc antimonate-containing fine particle curable coating solution). The refractive index of H-3 was 1.50.
(高屈折率層形成用組成物H−4の調製)
酸化チタン微粒子40質量部、ウレタンアクリレート(分子量1400、60℃における粘度が2500〜4500Pa・s、日本合成化学工業(株)製、紫光UV7600B)55質量部、光重合開始剤(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、イルガキュア184)を5質量部、及びイソプロピルアルコール500質量部を混合し、高屈折率層形成用組成物(含アンチモン酸亜鉛微粒子硬化性塗布液)を得た。H−4の屈折率は1.66であった。
(Preparation of composition H-4 for forming a high refractive index layer)
40 parts by mass of fine titanium oxide particles, 55 parts by mass of urethane acrylate (molecular weight 1400, viscosity at 2500C of 2500 to 4500 Pa · s, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., purple light UV7600B), photopolymerization initiator (Ciba Specialty Chemicals) 5 parts by mass of Irgacure 184 manufactured by Co., Ltd. and 500 parts by mass of isopropyl alcohol were mixed to obtain a composition for forming a high refractive index layer (containing zinc antimonate fine particle curable coating solution). The refractive index of H-4 was 1.66.
(高屈折率層形成用組成物H−5の調製)
粒子径が60nmの中空シリカ微粒子10質量部、ウレタンアクリレート(分子量1400、60℃における粘度が2500〜4500Pa・s、日本合成化学工業(株)製、紫光UV7600B)85質量部、光重合開始剤(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、イルガキュア184)を5質量部、及びイソプロピルアルコール500質量部を混合し、高屈折率層形成用組成物(含アンチモン酸亜鉛微粒子硬化性塗布液)を得た。H−5の屈折率は1.49であった。
(Preparation of High Refractive Index Layer Composition H-5)
10 parts by mass of hollow silica fine particles having a particle size of 60 nm, 85 parts by mass of urethane acrylate (molecular weight 1400, viscosity at 60 ° C. is 2500 to 4500 Pa · s, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., purple light UV7600B), photopolymerization initiator ( 5 parts by mass of Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., Irgacure 184) and 500 parts by mass of isopropyl alcohol were mixed to obtain a composition for forming a high refractive index layer (zinc antimonate-containing fine particle curable coating solution). . The refractive index of H-5 was 1.49.
(低屈折率層用組成物L−1の調製)
粒子径が60nmの中空シリカ微粒子40質量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(日本化薬(株)製、商品名「DPHA」)60質量部、光重合開始剤(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、イルガキュア907)5質量部、シリコン添加剤(ビックケミー・ジャパン(株)製、BYKUV−3570)8質量部、シリコン添加剤(信越化学工業(株)製、TIC2457)5質量部、アルミナ添加剤(ビックケミー・ジャパン(株)製、NANOBYKUV-3601)0.5質量部、及びイソプロピルアルコール2000質量部を混合し、低屈折率層用組成物(含シリカ硬化性塗布液)を得た。L−1の屈折率は1.39であった。
(Preparation of composition L-1 for low refractive index layer)
40 parts by mass of hollow silica fine particles having a particle size of 60 nm, 60 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., trade name “DPHA”), photopolymerization initiator (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) , Irgacure 907) 5 parts by mass, silicon additive (BIC Chemie Japan Co., Ltd., BYKUV-3570) 8 parts by mass, silicon additive (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., TIC2457) 5 parts by mass, alumina additive ( Big Chemie Japan Co., Ltd. product, NANOBYKUV-3601) 0.5 parts by mass and isopropyl alcohol 2000 parts by mass were mixed to obtain a composition for low refractive index layer (silica-containing curable coating solution). The refractive index of L-1 was 1.39.
(低屈折率層用組成物L−2の調製)
粒子径が60nmの中空シリカ微粒子30質量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(日本化薬(株)製、商品名「DPHA」)70質量部、光重合開始剤(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、イルガキュア907)5質量部、シリコン添加剤(ビックケミー・ジャパン(株)製、BYKUV−3570)8質量部、シリコン添加剤(信越化学工業(株)製、TIC2457)5質量部、アルミナ添加剤(ビックケミー・ジャパン(株)製、NANOBYKUV-3601)0.5質量部、及びイソプロピルアルコール2000質量部を混合し、低屈折率層用組成物(含シリカ硬化性塗布液)を得た。L−2の屈折率は1.42であった。
(Preparation of composition L-2 for low refractive index layer)
30 parts by mass of hollow silica fine particles having a particle size of 60 nm, 70 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., trade name “DPHA”), photopolymerization initiator (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) , Irgacure 907) 5 parts by mass, silicon additive (BIC Chemie Japan Co., Ltd., BYKUV-3570) 8 parts by mass, silicon additive (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., TIC2457) 5 parts by mass, alumina additive ( Big Chemie Japan Co., Ltd. product, NANOBYKUV-3601) 0.5 parts by mass and isopropyl alcohol 2000 parts by mass were mixed to obtain a composition for low refractive index layer (silica-containing curable coating solution). The refractive index of L-2 was 1.42.
(低屈折率層用組成物L−3の調製)
粒子径が60nmの中空シリカ微粒子60質量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(日本化薬(株)製、商品名「DPHA」)40質量部、光重合開始剤(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、イルガキュア907)5質量部、シリコン添加剤(ビックケミー・ジャパン(株)製、BYKUV−3570)8質量部、シリコン添加剤(信越化学工業(株)製、TIC2457)5質量部、アルミナ添加剤(ビックケミー・ジャパン(株)製、NANOBYKUV-3601)0.5質量部、及びイソプロピルアルコール2000質量部を混合し、低屈折率層用組成物(含シリカ硬化性塗布液)を得た。L−3の屈折率は1.36であった。
(Preparation of composition L-3 for low refractive index layer)
60 parts by mass of hollow silica fine particles having a particle size of 60 nm, 40 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., trade name “DPHA”), photopolymerization initiator (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) , Irgacure 907) 5 parts by mass, silicon additive (BIC Chemie Japan Co., Ltd., BYKUV-3570) 8 parts by mass, silicon additive (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., TIC2457) 5 parts by mass, alumina additive ( Big Chemie Japan Co., Ltd. product, NANOBYKUV-3601) 0.5 parts by mass and isopropyl alcohol 2000 parts by mass were mixed to obtain a composition for low refractive index layer (silica-containing curable coating solution). The refractive index of L-3 was 1.36.
(低屈折率層用組成物L−4の調製)
粒子径が60nmの中空シリカ微粒子65質量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(日本化薬(株)製、商品名「DPHA」)35質量部、光重合開始剤(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、イルガキュア907)5質量部、シリコン添加剤(ビックケミー・ジャパン(株)製、BYKUV−3570)8質量部、シリコン添加剤(信越化学工業(株)製、TIC2457)5質量部、アルミナ添加剤(ビックケミー・ジャパン(株)製、NANOBYKUV-3601)0.5質量部、及びイソプロピルアルコール2000質量部を混合し、低屈折率層用組成物(含シリカ硬化性塗布液)を得た。L−4の屈折率は1.43であった。
(Preparation of composition L-4 for low refractive index layer)
65 parts by mass of hollow silica fine particles having a particle size of 60 nm, 35 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., trade name “DPHA”), photopolymerization initiator (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) , Irgacure 907) 5 parts by mass, silicon additive (BIC Chemie Japan Co., Ltd., BYKUV-3570) 8 parts by mass, silicon additive (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., TIC2457) 5 parts by mass, alumina additive ( Big Chemie Japan Co., Ltd. product, NANOBYKUV-3601) 0.5 parts by mass and isopropyl alcohol 2000 parts by mass were mixed to obtain a composition for low refractive index layer (silica-containing curable coating solution). The refractive index of L-4 was 1.43.
(低屈折率層用組成物L−5の調製)
粒子径が60nmの中空シリカ微粒子25質量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(日本化薬(株)製、商品名「DPHA」)75質量部、光重合開始剤(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、イルガキュア907)5質量部、シリコン添加剤(ビックケミー・ジャパン(株)製、BYKUV−3570)8質量部、シリコン添加剤(信越化学工業(株)製、TIC2457)5質量部、アルミナ添加剤(ビックケミー・ジャパン(株)製、NANOBYKUV-3601)0.5質量部、を及びイソプロピルアルコール2000質量部を混合し、低屈折率層用組成物(含シリカ硬化性塗布液)を得た。L−5の屈折率は1.35であった。
(Preparation of composition L-5 for low refractive index layer)
25 parts by mass of hollow silica fine particles having a particle size of 60 nm, 75 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., trade name “DPHA”), photopolymerization initiator (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) , Irgacure 907) 5 parts by mass, silicon additive (BIC Chemie Japan Co., Ltd., BYKUV-3570) 8 parts by mass, silicon additive (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., TIC2457) 5 parts by mass, alumina additive ( 0.5 parts by mass (NANOBYKUV-3601) manufactured by Big Chemie Japan Co., Ltd. and 2000 parts by mass of isopropyl alcohol were mixed to obtain a composition for a low refractive index layer (silica-containing curable coating solution). The refractive index of L-5 was 1.35.
(低屈折率層用組成物L−6の調製)
粒子径が60nmの中空シリカ微粒子55質量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(日本化薬(株)製、商品名「DPHA」)45質量部、光重合開始剤(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、イルガキュア907)5質量部、シリコン添加剤(ビックケミー・ジャパン(株)製、BYKUV−3570)8質量部、含フッ素アクリル化合物(信越化学工業(株)製、KY1203)10質量部、アルミナ添加剤(ビックケミー・ジャパン(株)製、NANOBYKUV-3601)0.5質量部、及びイソプロピルアルコール2000質量部を混合し、低屈折率層用組成物(含シリカ硬化性塗布液)を得た。L−6の屈折率は1.39であった。
(Preparation of composition L-6 for low refractive index layer)
55 parts by mass of hollow silica fine particles with a particle size of 60 nm, 45 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., trade name “DPHA”), photopolymerization initiator (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) , Irgacure 907) 5 parts by mass, silicon additive (by BYKUV Japan, BYKUV-3570) 8 parts by mass, fluorine-containing acrylic compound (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., KY1203) 10 parts by mass, alumina additive (BIC Chemie Japan Co., Ltd. product, NANOBYKUV-3601) 0.5 mass part and isopropyl alcohol 2000 mass part were mixed, and the composition (silica-containing curable coating liquid) for low refractive index layers was obtained. The refractive index of L-6 was 1.39.
<実施例1−1>
厚さ188μmのポリカーボネート層とポリメチルメタクリレート層との2層構造からなるフィルム(PC/PMMA):住友化学株式会社製「C001」のPMMA層上に、ハードコート層形成用組成物(HC−1)をロールコーターにて乾燥膜厚が7μmとなるように塗布し、80℃で2分間乾燥した。その後、窒素雰囲気下で120W高圧水銀灯(日本電池(株)製)により紫外線を照射し(積算光量300mJ/cm2)、ハードコート層形成用組成物を硬化させてハードコート層を形成した。
<Example 1-1>
Film (PC / PMMA) having a two-layer structure of a polycarbonate layer having a thickness of 188 μm and a polymethyl methacrylate layer: on the PMMA layer of “C001” manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd. (HC-1 ) Was applied with a roll coater such that the dry film thickness was 7 μm, and dried at 80 ° C. for 2 minutes. Then, ultraviolet rays were irradiated with a 120 W high-pressure mercury lamp (manufactured by Nippon Batteries Co., Ltd.) under a nitrogen atmosphere (integrated light amount 300 mJ / cm 2 ), and the hard coat layer forming composition was cured to form a hard coat layer.
次いで、このハードコート層上に高屈折率層形成用組成物H−1を、乾燥時の厚さが150nmとなるように塗布した後、窒素雰囲気下で紫外線照射装置(アイグラフィックス社製、120W高圧水銀灯)を用いて300mJ/cm2の紫外線を照射し、高屈折率層形成用組成物を硬化させて高屈折率層を形成した。 Next, the high refractive index layer-forming composition H-1 was applied on the hard coat layer so that the thickness upon drying was 150 nm, and then an ultraviolet irradiation device (made by Eye Graphics, A high refractive index layer was formed by irradiating 300 mJ / cm 2 of ultraviolet rays using a 120 W high pressure mercury lamp) and curing the composition for forming a high refractive index layer.
最後に、この高屈折率層上に上記低屈折率層用組成物L−1を乾燥時の厚さが90nmとなるように塗布した後、窒素雰囲気下で紫外線照射装置(アイグラフィックス社製、120W高圧水銀灯)を用いて300mJ/cm2の紫外線を照射し、低屈折率層用組成物を硬化させて低屈折率層を形成し、インサート成型用耐指紋性反射防止フィルムを作製した。 Finally, the low refractive index layer composition L-1 was applied onto the high refractive index layer so that the thickness upon drying was 90 nm, and then an ultraviolet irradiation device (made by Eye Graphics Co., Ltd.) in a nitrogen atmosphere. , 120 W high pressure mercury lamp) was used to irradiate 300 mJ / cm 2 of ultraviolet rays to cure the low refractive index layer composition to form a low refractive index layer, thereby producing a fingerprint-resistant antireflection film for insert molding.
続いて、得られた耐指紋性反射防止フィルムを、熱可塑性透明基材フィルムにおけるポリカーボネート層側が溶融樹脂と接するように射出成型金型内のキャビティに保持し、360℃程度の温度で溶融させたポリカーボネート樹脂(成形品本体用)を、29400kPaの圧力にて金型内に注入し、放冷して、樹脂成型品を得た。すなわち、成型と同時に融着するインサート成型融着法にて耐指紋性反射防止フィルムの融着を行うことで、表面に耐指紋性反射防止フィルムを備える樹脂成型品を作製した。 Subsequently, the obtained anti-fingerprint antireflection film was held in the cavity in the injection mold so that the polycarbonate layer side of the thermoplastic transparent substrate film was in contact with the molten resin, and was melted at a temperature of about 360 ° C. A polycarbonate resin (for molded product main body) was injected into the mold at a pressure of 29400 kPa and allowed to cool to obtain a resin molded product. That is, a resin-molded article having a fingerprint-resistant antireflection film on its surface was produced by fusing the anti-fingerprint anti-reflection film by an insert molding fusing method that fuses simultaneously with molding.
<実施例1−2>
低屈折率層の膜厚を70nmにする以外は、実施例1−1と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成形品を作製した。
<Example 1-2>
A fingerprint-resistant antireflection film for insert molding and a resin molded product were produced in the same manner as in Example 1-1 except that the film thickness of the low refractive index layer was changed to 70 nm.
<実施例1−3>
低屈折率層の膜厚を80nmにする以外は、実施例1−1と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成形品を作製した。
<Example 1-3>
A fingerprint-resistant antireflection film for insert molding and a resin molded product were produced in the same manner as in Example 1-1 except that the thickness of the low refractive index layer was 80 nm.
<実施例1−4>
低屈折率層の膜厚を100nmにする以外は、実施例1−1と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成形品を作製した。
<Example 1-4>
A fingerprint-resistant antireflection film for insert molding and a resin molded product were produced in the same manner as in Example 1-1 except that the film thickness of the low refractive index layer was 100 nm.
<実施例1−5>
高屈折率層の膜厚を130nmにする以外は、実施例1−2と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成形品を作製した。
<Example 1-5>
A fingerprint-resistant antireflection film for insert molding and a resin molded product were produced in the same manner as in Example 1-2 except that the thickness of the high refractive index layer was 130 nm.
<実施例1−6>
高屈折率層の膜厚を180nmにする以外は、実施例1−4と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成形品を作製した。
<Example 1-6>
A fingerprint-resistant antireflection film for insert molding and a resin molded product were produced in the same manner as in Example 1-4, except that the thickness of the high refractive index layer was 180 nm.
<実施例1−7>
低屈折率層用組成物L−2を使用する以外は、実施例1−1と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成形品を作製した。
<Example 1-7>
A fingerprint-resistant antireflection film for insert molding and a resin molded product were produced in the same manner as in Example 1-1 except that the composition for low refractive index layer L-2 was used.
<実施例1−8>
低屈折率層用組成物L−3を使用する以外は、実施例1−1と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成形品を作製した。
<Example 1-8>
A fingerprint-resistant antireflection film for insert molding and a resin molded product were produced in the same manner as in Example 1-1 except that the composition for low refractive index layer L-3 was used.
<実施例1−9>
高屈折率層用組成物H−2を使用する以外は、実施例1−1と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成形品を作製した。
<Example 1-9>
A fingerprint-resistant antireflection film for insert molding and a resin molded product were produced in the same manner as in Example 1-1 except that the composition for high refractive index layer H-2 was used.
<実施例1−10>
高屈折率層用組成物H−3を使用する以外は、実施例1−1と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成形品を作製した。
<Example 1-10>
A fingerprint-resistant antireflection film for insert molding and a resin molded product were produced in the same manner as in Example 1-1 except that the composition for high refractive index layer H-3 was used.
<実施例1−11>
熱可塑性透明基材フィルムにポリカーボネートフィルム(PC):住友化学(株)製「C008」を使用する以外は、実施例1−1と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成形品を作製した。
<Example 1-11>
Except for using a polycarbonate film (PC): “C008” manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd. as the thermoplastic transparent substrate film, the anti-fingerprint antireflection film for insert molding and the resin molding are the same as in Example 1-1. An article was made.
<実施例1−12>
熱可塑性透明基材フィルムにポリメチルメタクリレートフィルム(PMMA):住友化学株式会社製「S014G」を使用する以外は、実施例1−1と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成形品を作製した。
<Example 1-12>
Polymethylmethacrylate film (PMMA) for thermoplastic transparent substrate film: Fingerprint-resistant antireflection film for insert molding and resin in the same manner as in Example 1-1 except that “S014G” manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd. is used. A molded product was produced.
<実施例2−1>
低屈折率層用組成物L−6を使用する以外は、実施例1−1と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成形品を作製した。
<Example 2-1>
A fingerprint-resistant antireflection film for insert molding and a resin molded product were produced in the same manner as in Example 1-1 except that the composition for low refractive index layer L-6 was used.
<実施例3−1>
ハードコート層形成用組成物HC−2を使用する以外は、実施例1−1と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成型品を作製した。
<Example 3-1>
A fingerprint-resistant antireflective film for insert molding and a resin molded product were produced in the same manner as in Example 1-1 except that the hard coat layer forming composition HC-2 was used.
<実施例3−2>
ハードコート層形成用組成物HC−2を使用する以外は、実施例1−2と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成型品を作製した。
<Example 3-2>
A fingerprint-resistant antireflection film for insert molding and a resin molded product were produced in the same manner as in Example 1-2 except that the hard coat layer forming composition HC-2 was used.
<実施例3−3>
ハードコート層形成用組成物HC−2を使用する以外は、実施例1−3と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成型品を作製した。
<Example 3-3>
A fingerprint-resistant antireflection film for insert molding and a resin molded product were produced in the same manner as in Example 1-3 except that the hard coat layer forming composition HC-2 was used.
<実施例3−4>
ハードコート層形成用組成物HC−2を使用する以外は、実施例1−4と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成型品を作製した。
<Example 3-4>
A fingerprint-resistant antireflection film for insert molding and a resin molded product were produced in the same manner as in Example 1-4 except that the hard coat layer forming composition HC-2 was used.
<実施例3−5>
ハードコート層形成用組成物HC−2を使用する以外は、実施例1−5と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成型品を作製した。
<Example 3-5>
A fingerprint-resistant antireflection film for insert molding and a resin molded product were produced in the same manner as in Example 1-5 except that the hard coat layer forming composition HC-2 was used.
<実施例3−6>
ハードコート層形成用組成物HC−2を使用する以外は、実施例1−6と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成型品を作製した。
<Example 3-6>
A fingerprint-resistant antireflection film for insert molding and a resin molded product were produced in the same manner as in Example 1-6 except that the hard coat layer forming composition HC-2 was used.
<実施例3−7>
ハードコート層形成用組成物HC−2を使用する以外は、実施例1−7と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成型品を作製した。
<Example 3-7>
A fingerprint-resistant antireflective film for insert molding and a resin molded product were produced in the same manner as in Example 1-7, except that the hard coat layer forming composition HC-2 was used.
<実施例3−8>
ハードコート層形成用組成物HC−2を使用する以外は、実施例1−8と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成型品を作製した。
<Example 3-8>
A fingerprint-resistant antireflection film for insert molding and a resin molded product were produced in the same manner as in Example 1-8, except that the composition for forming a hard coat layer HC-2 was used.
<実施例3−9>
ハードコート層形成用組成物HC−2を使用する以外は、実施例1−9と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成型品を作製した。
<Example 3-9>
A fingerprint-resistant antireflective film for insert molding and a resin molded product were produced in the same manner as in Example 1-9, except that the hard coat layer forming composition HC-2 was used.
<実施例3−10>
ハードコート層形成用組成物HC−2を使用する以外は、実施例1−10と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成型品を作製した。
<Example 3-10>
A fingerprint-resistant antireflection film for insert molding and a resin molded product were produced in the same manner as in Example 1-10 except that the hard coat layer forming composition HC-2 was used.
<実施例3−11>
ハードコート層形成用組成物HC−2を使用する以外は、実施例1−11と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成型品を作製した。
<Example 3-11>
A fingerprint-resistant antireflection film for insert molding and a resin molded product were produced in the same manner as in Example 1-11 except that the composition HC-2 for forming a hard coat layer was used.
<実施例3−12>
ハードコート層形成用組成物HC−2を使用する以外は、実施例1−12と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成型品を作製した。
<Example 3-12>
A fingerprint-resistant antireflection film for insert molding and a resin molded product were produced in the same manner as in Example 1-12 except that the hard coat layer forming composition HC-2 was used.
<実施例3−13>
ハードコート層形成用組成物HC−3を使用する以外は、実施例1−1と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成型品を作製した。
<Example 3-13>
A fingerprint-resistant antireflective film for insert molding and a resin molded product were produced in the same manner as in Example 1-1 except that the hard coat layer forming composition HC-3 was used.
<実施例3−14>
ハードコート層形成用組成物HC−4を使用する以外は、実施例1−1と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成型品を作製した。
<Example 3-14>
A fingerprint-resistant antireflective film for insert molding and a resin molded product were produced in the same manner as in Example 1-1 except that the hard coat layer forming composition HC-4 was used.
<実施例2−2>
ハードコート層形成用組成物HC−2を使用する以外は、実施例2−1と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成型品を作製した。
<Example 2-2>
A fingerprint-resistant antireflection film for insert molding and a resin molded product were produced in the same manner as in Example 2-1, except that the hard coat layer forming composition HC-2 was used.
<比較例1−1>
低屈折率層の膜厚を60nmにする以外は、実施例1−1と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成形品を作製した。
<Comparative Example 1-1>
A fingerprint-resistant antireflection film for insert molding and a resin molded product were produced in the same manner as in Example 1-1 except that the film thickness of the low refractive index layer was changed to 60 nm.
<比較例1−2>
低屈折率層の膜厚を110nmにする以外は、実施例1−1と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成形品を作製した。
<Comparative Example 1-2>
A fingerprint-resistant antireflection film for insert molding and a resin molded product were produced in the same manner as in Example 1-1 except that the thickness of the low refractive index layer was 110 nm.
<比較例1−3>
高屈折率層の膜厚を120nmにする以外は、実施例1−1と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成形品を作製した。
<Comparative Example 1-3>
A fingerprint-resistant antireflection film for insert molding and a resin molded product were produced in the same manner as in Example 1-1 except that the film thickness of the high refractive index layer was 120 nm.
<比較例1−4>
高屈折率層の膜厚を190nmにする以外は、実施例1−1と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成形品を作製した。
<Comparative Example 1-4>
A fingerprint-resistant antireflection film for insert molding and a resin molded product were produced in the same manner as in Example 1-1 except that the film thickness of the high refractive index layer was 190 nm.
<比較例1−5>
低屈折率層用組成物L−4を使用する以外は、実施例1−1と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成形品を作製した。
<Comparative Example 1-5>
A fingerprint-resistant antireflection film for insert molding and a resin molded product were produced in the same manner as in Example 1-1 except that the composition for low refractive index layer L-4 was used.
<比較例1−6>
低屈折率層用組成物L−5を使用する以外は、実施例1−1と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成形品を作製した。
<Comparative Example 1-6>
A fingerprint-resistant antireflection film for insert molding and a resin molded product were produced in the same manner as in Example 1-1 except that the composition for low refractive index layer L-5 was used.
<比較例1−7>
高屈折率層用組成物H−4を使用する以外は、実施例1−1と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成形品を作製した。
<Comparative Example 1-7>
A fingerprint-resistant antireflection film for insert molding and a resin molded product were produced in the same manner as in Example 1-1 except that the composition for high refractive index layer H-4 was used.
<比較例1−8>
高屈折率層用組成物H−5を使用する以外は、実施例1−1と同様の方法インサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成形品を作製した。
<Comparative Example 1-8>
The same method as in Example 1-1 except that the high refractive index layer composition H-5 was used. A fingerprint-resistant antireflection film for insert molding and a resin molded product were produced.
<比較例1−9>
透明基材フィルムにPETを使用する以外は、実施例1−1と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成形品を作製した。
<Comparative Example 1-9>
A fingerprint-resistant antireflection film for insert molding and a resin molded product were produced in the same manner as in Example 1-1 except that PET was used for the transparent substrate film.
<比較例1−10>
ハードコート層形成用組成物HC−2を使用する以外は、比較例1−1と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成形品を作製した。
<Comparative Example 1-10>
A fingerprint-resistant antireflective film for insert molding and a resin molded product were produced in the same manner as in Comparative Example 1-1 except that the hard coat layer forming composition HC-2 was used.
<比較例1−11>
ハードコート層形成用組成物HC−2を使用する以外は、比較例1−4と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成形品を作製した。
<Comparative Example 1-11>
A fingerprint-resistant antireflective film for insert molding and a resin molded product were produced in the same manner as in Comparative Example 1-4 except that the hard coat layer-forming composition HC-2 was used.
作製した各インサート成型用耐指紋性反射防止フィルムについて、各種物性を下記の方法にて評価を行った。その結果を、各実施例及び比較例の構成と共に、表2〜4に示す。なお、表2〜4において「L層」は低屈折率層を、「L組成物」は低屈折率層形成用組成物の種類を、「H層」は高屈折率層を、「H組成物」は高屈折率層形成用組成物の種類を、「HC層」はハードコート層を、「HC組成物」はハードコート層形成用組成物の種類を、それぞれ意味する。 Various physical properties of the produced anti-fingerprint antireflection film for insert molding were evaluated by the following methods. The result is shown to Tables 2-4 with the structure of each Example and a comparative example. In Tables 2 to 4, “L layer” is the low refractive index layer, “L composition” is the type of the low refractive index layer forming composition, “H layer” is the high refractive index layer, “H composition” "Product" means the type of the composition for forming a high refractive index layer, "HC layer" means the hard coat layer, and "HC composition" means the kind of composition for forming the hard coat layer.
[視感度反射率]
測定面の裏面反射を除くため、裏面をサンドペーパーで粗し、黒色塗料で塗りつぶしたものを分光光度計(大塚電子(株)製、商品名:FE3000)により、光の波長380nm〜780nmの5°、−5°正反射スペクトルを測定した。得られる380nm〜780nmの分光反射率と、CIE標準イルミナントD65の相対分光分布を用いて、JIS Z8701で想定されているXYZ表色系における、反射による物体色の三刺激値Yを視感度反射率(%)とした。
[Visibility reflectance]
In order to remove the back surface reflection of the measurement surface, a back surface roughened with sandpaper and painted with a black paint was measured with a spectrophotometer (trade name: FE3000, manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd.), with a light wavelength of 380 nm to 780 nm. A -5 ° specular reflection spectrum was measured. Using the obtained spectral reflectance of 380 nm to 780 nm and the relative spectral distribution of the CIE standard illuminant D65, the tristimulus value Y of the object color due to reflection in the XYZ color system assumed in JIS Z8701 is obtained as the luminous reflectance. (%).
[反射彩度C]
視感度反射率で測定した光の波長380〜780nmの分光反射率と、CIE標準イルミナントD65の相対分光分布を用いて、JISZ8729に規定される色空間CIE1976L*a*b*表色系を計算し、求めたa*、b*値からCab*={(a*)2+(b*)2}1/2を計算した。
[Reflection saturation C]
The color space CIE1976L * a * b * color system defined in JISZ8729 is calculated using the spectral reflectance of light having a wavelength of 380 to 780 nm measured with the luminous reflectance and the relative spectral distribution of CIE standard illuminant D65. Then, Cab * = {(a *) 2+ (b *) 2} 1/2 was calculated from the obtained a * and b * values.
[反射色差ΔE]
視感度反射率で測定した光の波長380〜780nmの分光反射率と、CIE標準イルミナントD65の相対分光分布を用いて、JISZ8729に規定される色空間CIE1976L*a*b*表色系を計算し、JIS Z8730に規定されるΔE*a* b*={(ΔL*)2+(Δa*)2+(Δb*)2}1/2を計算した。
[Reflection color difference ΔE]
The color space CIE1976L * a * b * color system defined in JISZ8729 is calculated using the spectral reflectance of light having a wavelength of 380 to 780 nm measured with the luminous reflectance and the relative spectral distribution of CIE standard illuminant D65. ΔE * a * b * = {(ΔL *) 2+ (Δa *) 2+ (Δb *) 2} 1/2 defined in JIS Z8730 was calculated.
[反射防止性]
視感度反射率が2.0%以下の場合を○、2.0%より高い場合を×とした。
[Antireflection]
The case where the visibility reflectance was 2.0% or less was marked with ◯, and the case where the reflectance was higher than 2.0% was marked with ×.
[指紋の見え具合]
インサート成型用耐指紋性反射防止フィルムに指紋を付着させ、成分付着前後の外観変化を評価した。比較対象としてガラス板(日本板硝子(株)製FL2.0)を使用し、ガラス板に指紋が付着した場合よりも、指紋が見え難いものを○、さらに見え難いものを◎、同程度のものを×とした。
[Fingerprint appearance]
Fingerprints were attached to the anti-fingerprint anti-reflective film for insert molding, and changes in appearance before and after the components were attached were evaluated. Use a glass plate (FL2.0 manufactured by Nippon Sheet Glass Co., Ltd.) as a comparison object, where the fingerprint is less visible than when the fingerprint is attached to the glass plate. Was marked with x.
[指紋拭き取り性]
試験片に指紋の見え具合試験と同様の指紋を付着させ、ネル布(白ネル・金塊グレード)を使用して500gf/cm2荷重で30往復摩擦して指紋を拭き取った。その後、指紋が見えなかったものを○、指紋が見えたものを×とした。
[Fingerprint wiping properties]
A fingerprint similar to the fingerprint appearance test was adhered to the test piece, and the fingerprint was wiped off by rubbing 30 times with 500 gf / cm 2 load using a flannel cloth (white flannel / gold ingot grade). After that, the case where the fingerprint was not seen was marked with ◯, and the case where the fingerprint was seen was marked with X.
[成型性]
得られた各樹脂成型品について、JIS D0202−1998に準拠して碁盤目剥離テープ試験を行った。判定は100マスのうち、剥離が全く生じていない(0マス)ものを◎、剥離が殆ど生じていない(1〜5マス)ものを○、剥離が生じた(6マス以上)ものを×とした。
[Moldability]
About each obtained resin molded product, the cross-cutting tape test was done based on JISD0202-1998. Judgment is, among the 100 squares, the case where no peeling occurred (0 square), ◎, the case where peeling hardly occurred (1-5 squares), and the case where peeling occurred (6 squares or more) as x. did.
実施例1−1〜1−12では、十分な反射防止機能が得られ、かつ、指紋が見え難く、指紋の拭き取り性が良好であり、成型性も良好であった。また、ハードコート層にアクリル変性不飽和ジカルボン酸(無水物)グラフト化ポリオレフィンを含む実施例3−1〜3−14では、密着性が向上していることで成形性に優れていた。さらに、実施例2−1〜2−2では、防汚剤の効果により実施例1や実施例3シリーズのインサート成型用耐指紋性反射防止フィルムよりも指紋の見え難さ、指紋の拭き取り性が優れていた。 In Examples 1-1 to 1-12, a sufficient antireflection function was obtained, the fingerprint was difficult to see, the fingerprint wiping property was good, and the moldability was also good. Moreover, in Examples 3-1 to 3-14 in which the hard coat layer contains an acrylic-modified unsaturated dicarboxylic acid (anhydride) grafted polyolefin, the adhesiveness was improved and the moldability was excellent. Furthermore, in Examples 2-1 to 2-2, due to the effect of the antifouling agent, fingerprints are harder to see than the anti-reflective films for insert molding of Examples 1 and 3 series, and the fingerprints can be wiped off. It was excellent.
これに対し、比較例1−1および1−5、1−10では指紋が見え難く、指紋の拭き取り性が良かったものの、反射率が高くなってしまった。また比較例1−2、1−3、1−7では彩度が高くなってしまったため指紋が着色して目立ってしまう結果となった。また、比較例1−4、1−6、1−8、1−11ではΔEが高くなってしまったため指紋拭き取り性試験後にも指紋が見える結果となった。比較例1−9では透明基材にPETを使用しているため成型性が不十分であった。
On the other hand, in Comparative Examples 1-1, 1-5, and 1-10, the fingerprint was difficult to see and the fingerprint wiping property was good, but the reflectance was high. In Comparative Examples 1-2, 1-3, and 1-7, the saturation was high, and the fingerprint was colored and became conspicuous. In Comparative Examples 1-4, 1-6, 1-8, and 1-11, ΔE was high, and the fingerprint was visible even after the fingerprint wiping test. In Comparative Example 1-9, the moldability was insufficient because PET was used for the transparent substrate.
Claims (4)
前記高屈折率層の屈折率が1.50〜1.65、膜厚が130〜180nmであり、
前記低屈折率層の屈折率が1.36〜1.42、膜厚が70〜100nmである、インサート成型用耐指紋性反射防止フィルム。 On one side of the thermoplastic transparent substrate film, a hard coat layer, a high refractive index layer, and a low refractive index layer are laminated in this order,
The high refractive index layer has a refractive index of 1.50 to 1.65, a film thickness of 130 to 180 nm,
A fingerprint-resistant antireflection film for insert molding, wherein the low refractive index layer has a refractive index of 1.36 to 1.42 and a film thickness of 70 to 100 nm.
A resin molded product comprising the fingerprint-resistant antireflection film for insert molding according to any one of claims 1 to 3 on a surface.
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