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JP2016012606A - Printed wiring board - Google Patents

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JP2016012606A
JP2016012606A JP2014132446A JP2014132446A JP2016012606A JP 2016012606 A JP2016012606 A JP 2016012606A JP 2014132446 A JP2014132446 A JP 2014132446A JP 2014132446 A JP2014132446 A JP 2014132446A JP 2016012606 A JP2016012606 A JP 2016012606A
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wiring board
printed wiring
layer
exposed
electronic component
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JP2014132446A
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Japanese (ja)
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徹 古田
Toru Furuta
徹 古田
剛士 古澤
Takeshi Furusawa
剛士 古澤
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Ibiden Co Ltd
Original Assignee
Ibiden Co Ltd
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Publication date
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  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent a short-circuiting defect in a connection part of a printed wiring board and a connection part with an electrode pad of an electronic component, the short-circuiting defect being apprehended particularly in the case where the electrode pad of the electronic component is concentrated around in a narrow pitch.SOLUTION: On a first face of a resin insulation layer, a first conductor layer including a wiring pattern including a plurality of wires 12a is embedded so as to expose its surface. A solder resist layer 16 is provided on the surface and a connection part 12b of the wires 12a is exposed. The electrode pad of the electronic component is soldered to the connection part 12b. The connection part 12b is provided in one line or in a zigzag shape in a direction across an extension direction of the wires 12a and can also be soldered without the risk of contact even to an electronic component of a narrow pitch where the electrode pad is formed in a concentrated manner around an electronic component 20.

Description

本発明は、電子部品が搭載されるプリント配線板に関する。さらに詳しくは、周囲に電極パッドが集中して設けられる電子部品とプリント配線板との接続部で、電子部品の高集積化に伴いファインピッチ化しても、ショートなどの不具合が発生せず、かつ、確実に配線と接続することができるプリント配線板に関する。   The present invention relates to a printed wiring board on which electronic components are mounted. In more detail, even if the fine pitch is increased due to the high integration of the electronic components at the connection part between the electronic component and the printed wiring board in which the electrode pads are concentrated in the periphery, there is no problem such as a short circuit, and The present invention relates to a printed wiring board that can be reliably connected to wiring.

プリント配線板は、樹脂絶縁層と回路パターンが形成された導体層とを積層して形成される。このようなプリント配線板にIC等の電子部品が搭載され、種々の回路が形成されている。   The printed wiring board is formed by laminating a resin insulating layer and a conductor layer on which a circuit pattern is formed. Various components are formed by mounting electronic components such as ICs on such a printed wiring board.

近年、IC等の電子部品は高機能化、高集積化され、電極パッドの数が非常に多くなっている。一方、電子機器の軽薄短小化に伴い、IC等の電子部品はより一層小形化することが要求されている。そのため、電子部品の電極パッドはそのピッチが非常に狭くなっている。特に、電子部品の周囲だけに電極パッドを集中させる、いわゆるペリフェラルタイプの電子部品では、特に電極パッド間の間隔が狭くなり、図4に示されるように、プリント配線板100と電子部品200とがハンダ300等により接続される部分で、ハンダ300が出っ張り、隣接する配線パッド101間(電子部品200の電極パッド201間)でショートする(Aの部分)という不具合が発生しやすい。   In recent years, electronic components such as ICs have become highly functional and highly integrated, and the number of electrode pads has become very large. On the other hand, as electronic devices become lighter, thinner, and smaller, electronic components such as ICs are required to be further miniaturized. Therefore, the pitch of the electrode pads of the electronic parts is very narrow. In particular, in a so-called peripheral type electronic component in which electrode pads are concentrated only around the electronic component, the distance between the electrode pads is particularly narrow, and as shown in FIG. 4, the printed wiring board 100 and the electronic component 200 are separated. The solder 300 bulges out at a portion connected by the solder 300 or the like, and a problem of short-circuiting (part A) between adjacent wiring pads 101 (between the electrode pads 201 of the electronic component 200) is likely to occur.

一方、電子部品200等の電極パッド201間のファインピッチ化に伴い、プリント配線板100においても、配線パターンの各配線(配線パッド101)はその幅が狭くなり、各配線(配線パッド101)と樹脂絶縁層110との密着性が低下する。さらに、プリント配線板100においても薄型化が要求されている。そこで、例えば電子部品200と接続される配線パターンの配線101が樹脂絶縁層110内に埋め込まれ、その一面だけが露出する構成が採用されている(例えば特許文献1)。   On the other hand, with the fine pitch between the electrode pads 201 of the electronic component 200 and the like, also in the printed wiring board 100, the width of each wiring (wiring pad 101) of the wiring pattern becomes narrower, and each wiring (wiring pad 101) Adhesiveness with the resin insulating layer 110 is lowered. Further, the printed wiring board 100 is also required to be thin. Therefore, for example, a configuration is adopted in which the wiring 101 having a wiring pattern connected to the electronic component 200 is embedded in the resin insulating layer 110 and only one surface thereof is exposed (for example, Patent Document 1).

特開平10−173316号公報Japanese Patent Laid-Open No. 10-173316

前述の図4に示されるように、配線101の接続部が出っ張った状態で、電子部品200の電極パッド201と接続されると、その接続部でハンダが球状に広がるため、特に隣接する接続部と接触しやすい。一方、配線が樹脂絶縁層110内に埋め込まれていても、そのピッチが狭くなることにより、ハンダが多いと接触事故が起こりやすい。   As shown in FIG. 4 described above, when the connection portion of the wiring 101 protrudes and is connected to the electrode pad 201 of the electronic component 200, the solder spreads in a spherical shape at the connection portion. Easy to contact with. On the other hand, even if the wiring is embedded in the resin insulating layer 110, a contact accident is likely to occur if there is a lot of solder due to a narrow pitch.

本発明の目的は、電子部品の電極パッドが電子部品の周囲に集中される場合で、高機能化、高集積化される場合であっても、プリント配線板の配線の接続部と電子部品の電極パッドとの接合部で、隣接する接続部間でショート不良が発生しない構造のプリント配線板を提供することである。   The object of the present invention is when the electrode pads of the electronic component are concentrated around the electronic component, and even if the function is highly functional and highly integrated, the wiring connection portion of the printed wiring board and the electronic component It is an object to provide a printed wiring board having a structure in which a short circuit failure does not occur between adjacent connection portions at a joint portion with an electrode pad.

本発明のプリント配線板は、第1面および該第1面の反対面である第2面を有する樹脂絶縁層と、前記樹脂絶縁層の前記第1面側に形成され、電子部品が接続される接続部を有する配線を含む第1導体層と、前記樹脂絶縁層の前記第2面に形成される第2導体層と、前記樹脂絶縁層を貫通して設けられ、前記第1導体層および前記第2導体層を接続するビア導体と、前記樹脂絶縁層の第1面および第2面上に設けられるソルダーレジスト層と、を備えている。そして、前記第1導体層は、複数の接続部を有し、前記複数の接続部の少なくとも一部の最上面が露出するように前記樹脂絶縁層内に埋め込まれると共に、前記接続部の少なくとも一部が前記電子部品の一辺に沿って互いに離間して接続部の列をなすように、列状に配列して形成されており、前記ソルダーレジスト層に、前記接続部の少なくとも一部が露出するように開口部が形成されている。   A printed wiring board according to the present invention is formed on a resin insulating layer having a first surface and a second surface opposite to the first surface, and on the first surface side of the resin insulating layer, to which an electronic component is connected. A first conductor layer including a wiring having a connecting portion, a second conductor layer formed on the second surface of the resin insulation layer, the first conductor layer provided through the resin insulation layer, and A via conductor connecting the second conductor layer; and a solder resist layer provided on a first surface and a second surface of the resin insulating layer. The first conductor layer has a plurality of connection portions, is embedded in the resin insulating layer so that at least a part of the uppermost surface of the plurality of connection portions is exposed, and at least one of the connection portions. The portions are arranged in a row so as to form a row of connection portions spaced apart from each other along one side of the electronic component, and at least a part of the connection portion is exposed to the solder resist layer An opening is formed as described above.

本発明では、プリント配線板の配線パターン上にソルダーレジスト層が設けられ、電子部品の電極パッドと接続される配線の接続部のみが、ソルダーレジスト層に形成された開口部から露出している。この開口部は、各配線の接続部ごとに露出する個別開口の構造であれば、配線のファイン化により隣接する配線間が狭くても、確実にショート不良を防ぐことができる。   In the present invention, the solder resist layer is provided on the wiring pattern of the printed wiring board, and only the connection portion of the wiring connected to the electrode pad of the electronic component is exposed from the opening formed in the solder resist layer. If the opening is a structure of an individual opening that is exposed for each connection portion of each wiring, even if the distance between adjacent wirings is narrow due to the finer wiring, it is possible to reliably prevent a short circuit failure.

また、隣接する接続部が複数個連続して露出する一括開口であっても、例えば接続部が隣接する方向(接続部が並ぶ列方向)と直角方向の開口部の幅が狭くされることにより、プリント配線板の接続部と電子部品の電極パッドとのハンダ付けの際のハンダの球(塊)が開口部の狭い幅で制御され、隣接する接続部の方にもそれほど広がらないで小さいハンダの塊で接続される。その結果、プリント配線板の配線の幅およびピッチが狭くなっても、その上に接続される電子部品とのハンダ付けの際に、隣接する接続部間でショートするという問題がなくなる。   Moreover, even if it is a collective opening where a plurality of adjacent connection portions are continuously exposed, for example, the width of the opening portion in the direction perpendicular to the direction in which the connection portions are adjacent (column direction in which the connection portions are arranged) is narrowed. The solder balls (lumps) when soldering the printed wiring board connection parts and the electrode pads of the electronic parts are controlled by the narrow width of the opening, and the solder does not spread so much toward the adjacent connection parts and is small solder Connected in chunks. As a result, even if the wiring width and pitch of the printed wiring board are narrowed, there is no problem of short-circuiting between adjacent connection portions when soldering with an electronic component connected thereon.

本発明の一実施形態のプリント配線板の電子部品との接続部の平面説明図。Plane | planar explanatory drawing of the connection part with the electronic component of the printed wiring board of one Embodiment of this invention. 図1Aのプリント配線板に搭載される電子部品の底面の説明図。Explanatory drawing of the bottom face of the electronic component mounted in the printed wiring board of FIG. 1A. 電子部品が接続された状態の図1Aの1C−1C断面の説明図。Explanatory drawing of the 1C-1C cross section of FIG. 1A of the state in which the electronic component was connected. 電子部品が接続された状態の図1Aの1C−1C断面の別の例の説明図。Explanatory drawing of another example of the 1C-1C cross section of FIG. 1A of the state in which the electronic component was connected. 本発明の他の実施形態のプリント配線板の接続部の平明説明図。The plain explanatory drawing of the connection part of the printed wiring board of other embodiment of this invention. 図2Aのプリント配線板に搭載される電子品の底面の説明図。Explanatory drawing of the bottom face of the electronic goods mounted in the printed wiring board of FIG. 2A. 電子部品が接続された状態の図2Aの2C−2C断面の説明図。Explanatory drawing of 2C-2C cross section of FIG. 2A of the state in which the electronic component was connected. 電子部品が接続された状態の図2Aの2C−2C断面の別の例の説明図。Explanatory drawing of another example of the 2C-2C cross section of FIG. 2A of the state to which the electronic component was connected. 電子部品が接続された状態の図2Aの2D−2D断面の説明図。Explanatory drawing of the 2D-2D cross section of FIG. 2A of the state in which the electronic component was connected. 図1に示されるプリント配線板の製造方法の各工程の断面説明図。Sectional explanatory drawing of each process of the manufacturing method of the printed wiring board shown by FIG. 図1に示されるプリント配線板の製造方法の各工程の断面説明図。Sectional explanatory drawing of each process of the manufacturing method of the printed wiring board shown by FIG. 図1に示されるプリント配線板の製造方法の各工程の断面説明図。Sectional explanatory drawing of each process of the manufacturing method of the printed wiring board shown by FIG. 図1に示されるプリント配線板の製造方法の各工程の断面説明図。Sectional explanatory drawing of each process of the manufacturing method of the printed wiring board shown by FIG. 図1に示されるプリント配線板の製造方法の各工程の断面説明図。Sectional explanatory drawing of each process of the manufacturing method of the printed wiring board shown by FIG. 図1に示されるプリント配線板の製造方法の各工程の断面説明図。Sectional explanatory drawing of each process of the manufacturing method of the printed wiring board shown by FIG. 図1に示されるプリント配線板の製造方法の各工程の断面説明図。Sectional explanatory drawing of each process of the manufacturing method of the printed wiring board shown by FIG. 従来のプリント配線板と電子部品とが接続される際の問題を示す断面説明図。Cross-sectional explanatory drawing which shows the problem at the time of the conventional printed wiring board and an electronic component being connected.

本発明の一実施形態のプリント配線板が、図面を参照して説明される。図1Aおよび図3Gに示されるように、本実施形態のプリント配線板1は、第1面11aおよびその反対側の第2面11bを有する樹脂絶縁層11の第1面11a側に、複数の配線12aを有する配線パターン121およびその配線パターン121の各配線12aの電子部品が接続される接続部12bを有する第1導体層12が形成されている。この樹脂絶縁層11の第2面11bに第2導体層14が形成されている。そして、ビア導体15が、樹脂絶縁層11を貫通して設けられ、第1導体層12の一部および第2導体層14の一部が接続されている。樹脂絶縁層11の第1面11aおよび第1導体層12の一部の上にソルダーレジスト層16が設けられている。この第1導体層12は、図1および図3Gに示されるように、接続部(図3Gで最上面)12bが露出するように樹脂絶縁層11内に埋め込まれると共に、接続部12bが各配線12aの延びる方向と交差する方向(図1Aに示される例では直角方向)に、かつ、電子部品20(図1A、2Aの想像線、図1B参照)の一辺に沿って互いに離間して列状に配列されるように形成されている。そして、この接続部12bは、ソルダーレジスト層16に形成される開口部16a、16b(図2A参照)から露出している。開口部には、図1Aに示されるような、接続部12bを個々に露出させる個別の開口部16aと、図2Aに示されるような、一列に並ぶ接続部12bを纏めて露出させる一括の開口部16bとがあるが、いずれでも構わない。   A printed wiring board according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. As shown in FIG. 1A and FIG. 3G, the printed wiring board 1 of the present embodiment includes a plurality of resin insulation layers 11 having a first surface 11a and a second surface 11b opposite to the first surface 11a. A first conductor layer 12 having a wiring pattern 121 having a wiring 12a and a connecting portion 12b to which an electronic component of each wiring 12a of the wiring pattern 121 is connected is formed. A second conductor layer 14 is formed on the second surface 11 b of the resin insulating layer 11. A via conductor 15 is provided so as to penetrate the resin insulating layer 11, and a part of the first conductor layer 12 and a part of the second conductor layer 14 are connected to each other. A solder resist layer 16 is provided on the first surface 11 a of the resin insulating layer 11 and a part of the first conductor layer 12. As shown in FIGS. 1 and 3G, the first conductor layer 12 is embedded in the resin insulating layer 11 so that the connection portion (uppermost surface in FIG. 3G) 12b is exposed, and the connection portion 12b is connected to each wiring. 12a in the direction intersecting with the extending direction of 12a (perpendicular direction in the example shown in FIG. 1A) and along one side of the electronic component 20 (see the imaginary line in FIGS. 1A and 2A, FIG. 1B). It is formed so that it may be arranged in. And this connection part 12b is exposed from opening part 16a, 16b (refer FIG. 2A) formed in the soldering resist layer 16. FIG. In the opening, as shown in FIG. 1A, individual openings 16a that individually expose the connecting portions 12b, and a collective opening that exposes the connecting portions 12b arranged in a row as shown in FIG. 2A. There is a portion 16b, but either may be used.

なお、図1A、図1B、図2A、図2Bなどに示されるように、ペリフェラルタイプの電子部品20であっても、その中心部に電源端子やグランド端子等の電極パッド22が形成されることがあり、その場合は、その電極パッド22に対応するC4パッド12cが形成され、そのC4パッド12cもソルダーレジスト層16の開口部16cから露出するように形成されている。この場合、C4パッド12cに接続される配線は、樹脂絶縁層11の内部または裏面側に接続されていてもよい。   As shown in FIGS. 1A, 1B, 2A, 2B, etc., even in the peripheral type electronic component 20, an electrode pad 22 such as a power supply terminal or a ground terminal is formed at the center thereof. In this case, a C4 pad 12c corresponding to the electrode pad 22 is formed, and the C4 pad 12c is also formed so as to be exposed from the opening 16c of the solder resist layer 16. In this case, the wiring connected to the C4 pad 12c may be connected to the inside or the back side of the resin insulating layer 11.

樹脂絶縁層11は、第1面11aと、第1面11aの反対側の第2面11bとを有する絶縁層である。樹脂絶縁層11は、例えばガラス繊維のような図示しない芯材にフィラーを含む樹脂組成物が含浸されたものでも良く、フィラーを含む樹脂組成物だけで形成されたものでも良い。また、1層であっても良く、複数の絶縁層から形成されていても良い。樹脂絶縁層11が複数の絶縁層から形成されるならば、例えば熱膨張率、柔軟性、厚さが容易に調整され得る。樹脂としては、エポキシ等が例示される。樹脂に混合されるフィラーとしては、シリカ(SiO2)、アルミナ(Al23)、酸化チタン(Ti23)等が例示される。樹脂絶縁層11の厚さとしては、25〜100μmが例示される。第1面11aには、第1導体層12の各配線12aの一面が露出して接続部12bが形成されており、第2面11bには、後述される第2導体層14が第2面11bの表面上に形成されている。 The resin insulating layer 11 is an insulating layer having a first surface 11a and a second surface 11b opposite to the first surface 11a. The resin insulating layer 11 may be formed by impregnating a core material (not shown) such as glass fiber with a resin composition containing a filler, or may be formed only by a resin composition containing a filler. Further, it may be a single layer or may be formed from a plurality of insulating layers. If the resin insulating layer 11 is formed of a plurality of insulating layers, for example, the coefficient of thermal expansion, flexibility, and thickness can be easily adjusted. Examples of the resin include epoxy. Examples of the filler mixed with the resin include silica (SiO 2 ), alumina (Al 2 O 3 ), titanium oxide (Ti 2 O 3 ), and the like. Examples of the thickness of the resin insulating layer 11 include 25 to 100 μm. On the first surface 11a, one surface of each wiring 12a of the first conductor layer 12 is exposed to form a connection portion 12b. On the second surface 11b, a second conductor layer 14 described later is formed on the second surface. It is formed on the surface of 11b.

第1導体層12は、樹脂絶縁層11の第1面11aに埋め込まれるパターンである。埋め込まれている第1導体層12は、樹脂絶縁層11の第1面11aと略面一で配線12aの一面だけが露出している。そのため、特に高密度化、ファインピッチ化に伴い配線12aの幅が狭く、また、樹脂絶縁層11の薄型化に伴って芯材入りの樹脂が用いられることによる密着性の低下の恐れがある場合でも、このように、第1導体層12が樹脂絶縁層11内に埋め込まれることにより、第1導体層12と樹脂絶縁層11との密着性の向上に寄与する。   The first conductor layer 12 is a pattern embedded in the first surface 11 a of the resin insulating layer 11. The embedded first conductor layer 12 is substantially flush with the first surface 11a of the resin insulating layer 11, and only one surface of the wiring 12a is exposed. For this reason, the width of the wiring 12a is particularly narrow due to high density and fine pitch, and there is a risk of lowering the adhesion due to the use of the resin containing the core material as the resin insulating layer 11 becomes thinner. However, since the first conductor layer 12 is embedded in the resin insulating layer 11 in this way, it contributes to the improvement in the adhesion between the first conductor layer 12 and the resin insulating layer 11.

この第1導体層12の配線パターン121は、近年の電子機器の軽薄短小化、および高性能化に伴い、高集積化、高密度化された電子部品と接続される必要があり、この配線パターン121も各配線12aの幅は、15〜40μm程度、その間隔も30〜80μmと、非常に細くて狭く、密集して形成されている。第1導体層12を形成する方法は、特に限定されない。好ましくは、第1導体層12は、電気めっきにより形成される電気めっき膜であっても良い。第1導体層12が電気めっき膜であるならば、純粋な金属膜として形成されるという利点がある。第1導体層12を構成する材料は、銅が例示される。銅は、電気めっきが容易でありながら、抵抗が小さく腐食の問題も生じにくい。この第1導体層12の厚さは、3〜20μmが例示される。   The wiring pattern 121 of the first conductor layer 12 needs to be connected to highly integrated and highly densified electronic components in accordance with recent reductions in the size and performance of electronic devices. In 121, the width of each wiring 12a is about 15 to 40 μm, and the interval is 30 to 80 μm. The method for forming the first conductor layer 12 is not particularly limited. Preferably, the first conductor layer 12 may be an electroplated film formed by electroplating. If the first conductor layer 12 is an electroplated film, there is an advantage that it is formed as a pure metal film. The material constituting the first conductor layer 12 is exemplified by copper. Copper is easy to electroplat, but has low resistance and is less likely to cause corrosion. As for the thickness of this 1st conductor layer 12, 3-20 micrometers is illustrated.

第1導体層12に形成されるパターンのうち、各配線12aの接続部12bが露出するようにソルダーレジスト層16に個別の開口部16aが形成されている。図1Aに示される例では、各配線12aの接続部12bが先端部から同じ距離のところに設けられるのではなく、配線12aの延びる方向、すなわち接続部12bの配列方向と直角方向に交互にずれる千鳥状に形成されている。すなわち、図1Aに示されるように、配線12aの先端部からrの距離に接続部12bの一端部を有するように形成される配線12aと、配線12aの先端からsの距離に接続部12bの一端部を有するように形成される配線12aとが、交互に繰返す構造になるように形成されている。そして、ソルダーレジスト層16の個別の開口部16aが、その接続部12bに合せてその接続部12bが個別に露出するように個別に形成されている。この個別の開口部16a内に露出する接続部12bに電子部品20の電極パッド21がハンダ付けされるため、その表面には、OSP、Ni/Au、Ni/Pd/Au、Sn等の表面処理が行われる。なお、この開口部16aの端部と、隣接する配線12aの端部までの距離f(図1C、1D参照)は10μm以上あることが、隣接する配線12a間での接触事故を防ぐ観点から好ましい。   In the pattern formed in the first conductor layer 12, individual openings 16a are formed in the solder resist layer 16 so that the connection portions 12b of the respective wirings 12a are exposed. In the example shown in FIG. 1A, the connecting portions 12b of the respective wires 12a are not provided at the same distance from the tip portion, but are alternately shifted in the direction in which the wires 12a extend, that is, in the direction perpendicular to the arrangement direction of the connecting portions 12b. It is formed in a staggered pattern. That is, as shown in FIG. 1A, the wiring 12a formed so as to have one end of the connecting portion 12b at a distance r from the tip of the wiring 12a, and the connecting portion 12b at a distance s from the tip of the wiring 12a. The wiring 12a formed so as to have one end is formed so as to repeat alternately. The individual openings 16a of the solder resist layer 16 are individually formed so that the connection portions 12b are individually exposed in accordance with the connection portions 12b. Since the electrode pads 21 of the electronic component 20 are soldered to the connection portions 12b exposed in the individual openings 16a, the surface is treated with a surface treatment such as OSP, Ni / Au, Ni / Pd / Au, or Sn. Is done. Note that the distance f (see FIGS. 1C and 1D) between the end of the opening 16a and the end of the adjacent wiring 12a is preferably 10 μm or more from the viewpoint of preventing a contact accident between the adjacent wirings 12a. .

第2導体層14は、樹脂絶縁層11の第2面11b上に形成されている。第2導体層14を形成する方法は、特に限定されない。第2導体層14を構成する材料は、銅が例示される。第2導体層14の厚さは、3〜20μmが例示される。第2導体層14は、図3Gでは1層の例で示されているが、製造方法で後述されるように、例えば金属箔とめっき膜により形成されても良い。   The second conductor layer 14 is formed on the second surface 11 b of the resin insulating layer 11. The method for forming the second conductor layer 14 is not particularly limited. The material constituting the second conductor layer 14 is exemplified by copper. As for the thickness of the 2nd conductor layer 14, 3-20 micrometers is illustrated. The second conductor layer 14 is shown as an example of one layer in FIG. 3G, but may be formed of, for example, a metal foil and a plating film as described later in the manufacturing method.

ビア導体15は、樹脂絶縁層11を貫通し、第1導体層12の一部と第2導体層14の一部とを電気的に接続している。ビア導体15は、第2導体層14と樹脂絶縁層11とを貫通する導通用孔11dに導体を埋めることにより形成されている。ビア導体15としては、銅が例示され、例えば電気めっきにより形成される。また、このビア導体15の断面形状は特に限定されないが、図3Gに示されるように、その断面の幅が第2導体層14側よりも第1導体層12側が小さく形成されていても良い。ビア導体15が埋め込まれる導通用孔11dの奥まで完全に埋め込まれる必要があるので、導通用孔11dの奥が小さい方が好ましいからである。このビア導体15が形成される導通用孔11dは、第2導体層14側からレーザ光により加工して形成されることにより、このような形状に形成され得る。   The via conductor 15 penetrates the resin insulating layer 11 and electrically connects a part of the first conductor layer 12 and a part of the second conductor layer 14. The via conductor 15 is formed by filling a conductor in a conduction hole 11 d penetrating the second conductor layer 14 and the resin insulating layer 11. An example of the via conductor 15 is copper, which is formed by electroplating, for example. The cross-sectional shape of the via conductor 15 is not particularly limited, but as shown in FIG. 3G, the width of the cross-section may be formed smaller on the first conductor layer 12 side than on the second conductor layer 14 side. This is because the depth of the conduction hole 11d is preferably smaller because it is necessary to be completely buried to the depth of the conduction hole 11d in which the via conductor 15 is embedded. The conduction hole 11d in which the via conductor 15 is formed can be formed in such a shape by being processed by laser light from the second conductor layer 14 side.

ソルダーレジスト層16は、電子部品の電極が接続される第1導体層12の配線パターン121および、配線パターン121が無く露出している樹脂絶縁層11の第1面11a上に形成され、各配線12aの接続部12bのみが露出するように個別の開口部16aが形成されている。図1Aに示される例では、この個別の開口部16aは、各配線12aの接続部12b毎に接続部12bが露出するように個別に形成されている。しかも、接続部12bが、隣接する配線12aで、配線12aが延びる方向(接続部12bの配列方向と直角方向)に沿って所定距離だけ交互にずれて形成されている。そのため、個別の開口部16aも千鳥状に交互にずれた配置で形成されている。その結果、各開口部16aは、各配線12aの接続部12bが1個だけ露出するように形成されている。一方、1個おきの配線12aの接続部12b、すなわち個別の開口部16aは、図1Aに示されるように、配線12aの延びる方向と交差する(たとえば直角)方向に列状に形成されており、2列の開口部16aが平行して形成され、隣接する各個別の開口部16aは、配線12aの延びる方向とは交差する方向に、交互に千鳥状にずれた間隔だけ離れて形成されている。   The solder resist layer 16 is formed on the wiring pattern 121 of the first conductor layer 12 to which the electrode of the electronic component is connected, and the first surface 11a of the resin insulating layer 11 exposed without the wiring pattern 121, and each wiring An individual opening 16a is formed so that only the connecting portion 12b of 12a is exposed. In the example shown in FIG. 1A, the individual openings 16a are individually formed so that the connection portions 12b are exposed for each connection portion 12b of each wiring 12a. Moreover, the connecting portions 12b are formed by adjacent wirings 12a that are alternately shifted by a predetermined distance along the direction in which the wirings 12a extend (the direction perpendicular to the arrangement direction of the connecting portions 12b). Therefore, the individual openings 16a are also formed in a staggered arrangement. As a result, each opening 16a is formed so that only one connecting portion 12b of each wiring 12a is exposed. On the other hand, as shown in FIG. 1A, the connecting portions 12b of every other wiring 12a, that is, the individual openings 16a are formed in a row in a direction intersecting (for example, a right angle) with the extending direction of the wiring 12a. Two rows of openings 16a are formed in parallel, and adjacent individual openings 16a are formed in a direction intersecting with the extending direction of the wiring 12a and spaced apart by a staggered pattern alternately. Yes.

すなわち、各配線12aの接続部12bは、図1Aに示されるように、全ての配線12aで、その先端部から一定の距離では無く、先端部からrの距離に一端部を有するように形成される接続部12bと、配線12aの先端からsの距離に一端部を有するように形成される接続部12bとが、交互に繰返す構造になるように形成されている。これは、この配線パターン121と接続される電子部品20が、図1Bにその底面図が示されるように、電子部品20の電極パッド21が千鳥状に形成されている場合に対応している。すなわち、電子部品20でも、電子部品20の周囲のみに電極パッド21を集中させる、いわゆるペリフェラル構造では、電極パッド21の数の増大と電子部品20のダウンサイズとの要求により、電極パッド21同士がショートする危険性が生じるため、一定ピッチでずらせて2列で電極パッド21が形成される場合がある。このような電子部品20に対応するもので、プリント配線板1でもその配線12aが密集して、接続部12bのハンダ付けでショートを起こす危険性が大きくなるが、図1Aに示されるような千鳥状の配置にし、さらにその接続部12bのみを個別に露出させる個別の開口部16aが形成されることにより、隣接する配線12aの間隔が狭くなっても、接続部12bが真横に並ばず、しかも、接続部12bの直ぐ隣りの配線12a上は、ソルダーレジスト層16により被覆されているため、隣接する配線12a間でのショートの問題はほぼ完全に解消される。   That is, as shown in FIG. 1A, the connection portions 12b of the respective wirings 12a are formed so as to have one end portion at a distance r from the distal end portion instead of a constant distance from the distal end portion in all the wirings 12a. The connection part 12b and the connection part 12b formed so as to have one end part at a distance s from the tip of the wiring 12a are formed so as to repeat alternately. This corresponds to a case where the electronic component 20 connected to the wiring pattern 121 has the electrode pads 21 of the electronic component 20 formed in a staggered pattern as shown in the bottom view of FIG. 1B. That is, even in the electronic component 20, in the so-called peripheral structure in which the electrode pads 21 are concentrated only around the electronic component 20, the electrode pads 21 are separated from each other due to the increase in the number of electrode pads 21 and the downsizing of the electronic component 20. Since there is a risk of short-circuiting, the electrode pads 21 may be formed in two rows with a certain pitch. Since it corresponds to such an electronic component 20, the wiring 12a of the printed wiring board 1 is dense, and there is a greater risk of short-circuiting by soldering of the connecting portion 12b. However, the staggered pattern as shown in FIG. Further, by forming the individual openings 16a that individually expose only the connection portions 12b, the connection portions 12b do not line up side by side even when the interval between the adjacent wirings 12a is narrowed. Since the wiring 12a immediately adjacent to the connecting portion 12b is covered with the solder resist layer 16, the problem of short circuit between the adjacent wirings 12a is almost completely eliminated.

このように、個別に接続部12bが露出する、個別の開口部16aが形成されることにより、確実にショート不良が防止される。すなわち、図1Aの1C−1C断面説明図が図1Cまたは1Dに示されるように、各配線12aは樹脂絶縁層11内に埋め込まれ、その表面のみが露出しているが、接続部12bが開口部16aから露出している2本の配線12aの間の配線12aの上には、ソルダーレジスト層16が形成され、配線12aの表面が保護されている。このように、並列する配線12aの一列に並ぶ接続部12bは、1個おきの配線12aの接続部12bになり、しかもその間には、配線12aの表面にソルダーレジスト層16が形成されている。そのため、隣接する接合部12b間でも、また、隣接する配線12a間でも、ショートなどの不具合が発生する可能性が大幅に低減される。なお、図1Cの例は、接続部12b上に直接ハンダ付けされた例であり、図1Dは、ハンダバンプを介して接続された例が示されている。   In this way, short openings are reliably prevented by forming the individual openings 16a through which the connection portions 12b are exposed. That is, as shown in FIG. 1C or 1D, the cross-sectional explanatory view of 1C-1C in FIG. 1A is embedded in the resin insulating layer 11, and only the surface thereof is exposed, but the connection portion 12b is opened. A solder resist layer 16 is formed on the wiring 12a between the two wirings 12a exposed from the portion 16a, and the surface of the wiring 12a is protected. As described above, the connecting portions 12b arranged in a row of the parallel wirings 12a become the connecting portions 12b of every other wiring 12a, and the solder resist layer 16 is formed on the surface of the wiring 12a between them. Therefore, the possibility of occurrence of a defect such as a short circuit is greatly reduced between the adjacent joints 12b and between the adjacent wirings 12a. Note that the example of FIG. 1C is an example in which soldering is directly performed on the connection portion 12b, and FIG. 1D shows an example of being connected via solder bumps.

このような開口部12aの大きさは、接続部12bが露出する大きさであればよいが、接続部12bの面積と全く同じでなくても、隣接する配線12aが露出しない程度の大きさであれば配線12aの幅dよりも大きくても構わない。また、配線12aの幅dよりも小さくても、接続部12bとの電気的接続に支障が無ければ問題ない。個別の開口部16aが大きすぎると隣接する配線12aも露出してショートの危険性が生じるし、小さすぎると接続不良が生じやすいからである。このように、配線12a毎に、その接続部12bが露出するような個別の開口部16aが形成されることが望ましい。しかし、後述する例のように、配線12a間の間隙に多少の余裕がある場合には、隣接する配線12a間でも真横に並んで、複数個の接続部12bが1列形成されるようにして、複数個の接続部12bが一括して露出するように、一括の開口部16b(図2A参照)が形成されてもよい。なお、ソルダーレジスト層16を構成する材料は、熱硬化性エポキシ樹脂が例示される。ソルダーレジスト層16の厚さは、例えば20μm程度に形成される。   The size of the opening 12a may be any size as long as the connection portion 12b is exposed. However, even if the opening 12a is not exactly the same as the area of the connection portion 12b, the size of the opening 12a does not expose the adjacent wiring 12a. If so, it may be larger than the width d of the wiring 12a. Even if the width is smaller than the width d of the wiring 12a, there is no problem as long as there is no problem in electrical connection with the connecting portion 12b. This is because if the individual openings 16a are too large, the adjacent wirings 12a are also exposed to cause a short circuit, and if they are too small, poor connection is likely to occur. In this way, it is desirable that an individual opening 16a is formed for each wiring 12a so that the connecting portion 12b is exposed. However, as in the example described later, when there is some margin in the gap between the wirings 12a, a plurality of connection portions 12b are formed in a row so as to be arranged side by side between the adjacent wirings 12a. The collective openings 16b (see FIG. 2A) may be formed so that the plurality of connection parts 12b are exposed collectively. The material constituting the solder resist layer 16 is exemplified by a thermosetting epoxy resin. The solder resist layer 16 is formed to have a thickness of about 20 μm, for example.

以上の例は、ソルダーレジスト層16に設けられる開口部16aが、配線12aの接続部12b毎に露出する個別の開口部16aの例である。しかし、前述のように、列状に並ぶ複数個の接続部12aが一括して露出する一括の開口部16bとされる例が図2Aに図1Aと同様の図で示されている。なお、図2Aに示される例も、図2Bに電子部品の底面の概念図が示されるように、四角形状の電子部品の4辺に沿って、それぞれ一列に電極パッド21が形成された電子部品20に対応するプリント配線板1の例が示されている。   The above example is an example of the individual openings 16a in which the openings 16a provided in the solder resist layer 16 are exposed for each connection portion 12b of the wiring 12a. However, as described above, FIG. 2A shows an example in which a plurality of connection portions 12a arranged in a row are collectively exposed as a plurality of openings 16b, as shown in FIG. 1A. 2A is also an electronic component in which electrode pads 21 are formed in a row along the four sides of a rectangular electronic component, as shown in the conceptual diagram of the bottom surface of the electronic component in FIG. 2B. An example of the printed wiring board 1 corresponding to 20 is shown.

この例では、説明の便宜上、電子部品20の第1辺に対応するプリント配線板1の配線群が配線12a1、接続部12b1として、その第1辺と対向する第2辺に対応するプリント配線板1の配線群が配線12a2、接続部12b2として、第1辺と直交する辺の一方である第3辺に対応する配線群が配線12a3、接続部12b3として、第3辺と対向する第4辺に対応する配線群が配線12a4、接続部12b4として示されている。しかし、これらがどの辺に対応するかを特定する必要がない場合には、ただ単に配線12a、接続部12bとして示されている。また、このプリント配線板1の電子部品20が搭載される面にソルダーレジスト層16が形成され、前述の配線群毎に接続部12bが露出するように矩形状の一括の開口部16bが形成されるが、この一括の開口部16bに対しても、前述の第1辺、第2辺等に対応して、一括の第1開口部16b1、一括の第2開口部16b2、一括の第3開口部16b3、一括の第4開口部16b4として示され、特に区別の必要がない場合には、これらを総称して、一括の開口部16bとして示されている。   In this example, for convenience of explanation, the wiring group of the printed wiring board 1 corresponding to the first side of the electronic component 20 is the wiring 12a1 and the connecting portion 12b1, and the printed wiring board corresponding to the second side facing the first side. One wiring group is the wiring 12a2 and the connection portion 12b2, and the wiring group corresponding to the third side which is one of the sides orthogonal to the first side is the wiring 12a3 and the connection portion 12b3, which is the fourth side facing the third side. A wiring group corresponding to is shown as a wiring 12a4 and a connecting portion 12b4. However, when it is not necessary to specify which side these correspond to, they are simply shown as the wiring 12a and the connecting portion 12b. Also, a solder resist layer 16 is formed on the surface of the printed wiring board 1 on which the electronic component 20 is mounted, and a rectangular collective opening 16b is formed so that the connecting portion 12b is exposed for each of the aforementioned wiring groups. However, also for the collective openings 16b, the collective first openings 16b1, the collective second openings 16b2, and the collective third openings corresponding to the first side, the second side, and the like described above. The parts 16b3 and the collective fourth openings 16b4 are shown as a collective opening 16b when there is no need to distinguish between them.

図2Aに示される例は、ソルダーレジスト層16の一括の第1開口部16b1が、連続して配列される複数個の配線12a1の接続部12b1を連続して露出させるように形成されている。この一括の第1開口部16b1は、隣接する配線12a1との間にはソルダーレジスト層16は形成されないで、連続的に露出している。   In the example shown in FIG. 2A, the collective first openings 16b1 of the solder resist layer 16 are formed so as to continuously expose the connecting portions 12b1 of the plurality of wirings 12a1 arranged in succession. The collective first openings 16b1 are continuously exposed without forming the solder resist layer 16 between the adjacent wirings 12a1.

しかし、一括開口される第1開口部16b1の幅wが狭く形成され、接続部12bの領域が狭くなり、ハンダの量が減らされることにより、ハンダ付けされるハンダの塊は、それほど大きくならない。そのため、隣接する配線12a間の接触を防止することができる。要するに、隣接する配線12aの間にソルダーレジスト層16を形成することができないが、配線12aの延びる方向のハンダ付けの幅が狭く制限されることにより、配線12aの延びる方向と直角方向へのハンダ30の広がりも制御される。   However, since the width w of the first opening 16b1 that is collectively opened is narrowed, the region of the connection portion 12b is narrowed, and the amount of solder is reduced, the solder lump to be soldered does not become so large. Therefore, contact between adjacent wirings 12a can be prevented. In short, the solder resist layer 16 cannot be formed between the adjacent wirings 12a, but the soldering width in the direction in which the wirings 12a extend is limited so that the solder in the direction perpendicular to the direction in which the wirings 12a extend is limited. The spread of 30 is also controlled.

図2Cおよび図2Dに、図2Aの2C−2C断面、図2Eに、図2Aの2E−2E断面の説明図がそれぞれ示されるように、隣接する配線12a1と電子部品20の電極パッド21は、それぞれハンダ30により接続されているが、そのハンダ30の広がりは抑制され、接触の危険性は生じていない。これは、図2Eに配線12a1が延びる方向の断面説明図が示されるように、ソルダーレジスト層16によりハンダ30の広がりが抑制されているため、その直角方向の隣接する配線12a側への広がりも抑制されるからである。その結果、各配線12aの接続部12bが1列に列状に並ぶ場合に、その連続する接続部12bに沿って一括の開口部16bが形成されても、隣接する配線12aの接続部12b同士、または隣接する配線12aとの間で接触するような事故が防止される。なお、図2Cの例は、接続部12b上に直接ハンダ付けされた例であり、図2Dは、ハンダバンプを介して接続された例が示されている。   2C and FIG. 2D show the 2C-2C cross section of FIG. 2A, and FIG. 2E shows the explanatory view of the 2E-2E cross section of FIG. 2A, respectively, the adjacent wiring 12a1 and the electrode pad 21 of the electronic component 20 are Although each is connected by the solder 30, the spread of the solder 30 is suppressed and there is no risk of contact. This is because the solder resist layer 16 suppresses the spread of the solder 30 as shown in the cross-sectional explanatory view in the direction in which the wiring 12a1 extends in FIG. 2E, so that the expansion to the adjacent wiring 12a side in the perpendicular direction is also possible. It is because it is suppressed. As a result, when the connection portions 12b of the respective wirings 12a are arranged in a line, even if the collective openings 16b are formed along the continuous connection portions 12b, the connection portions 12b of the adjacent wirings 12a are connected to each other. Or an accident such as contact with the adjacent wiring 12a is prevented. Note that the example of FIG. 2C is an example in which soldering is directly performed on the connecting portion 12b, and FIG. 2D shows an example of being connected via solder bumps.

前述のように、図2Aに示される例では、四角形状の電子部品20(図2Aに二点鎖線で示されている)の4辺に沿って電極パッド21が形成されている電子部品20が搭載されるのに適したプリント配線板1になっている。従って、電子部品20の1辺と対向する第2辺側の電極パッド21に対応するように第2群の配線12a2の接続部12b2が露出するように一括の第2開口部16b2が、一括の第1開口部16b1と同様に形成されている。すなわち一括の第2開口部16b2側には、第2群の配線12a2が第1群の配線12a1と同様に配列されており、その配線12a2のそれぞれの一部に接続部12b2が、配線12a2の延びる方向と交差する方向(たとえば直角方向)に一列に配列されるように形成されている。そして、この表面にソルダーレジスト層16が設けられ、この接続部12b2が露出するように幅の狭い一括の第2開口部16b2が形成されている。換言すると、一括の第2開口部16b2は、一括の第1開口部16b1と同様に形成されており、第2の配線群の配線12a2の接続部12b2が露出するように一括の第1開口部16b1と平行に形成されている。なお、図1Aおよび図2Aに示される例では、四角形状の電子部品20の4辺に沿って電極パッド21が設けられている例が示されているが、一辺だけに沿って電極パッド21が形成されている(シングルインラインパッケージ)場合には、図1Aに示される千鳥状の一対の列、または図2Aに示される一括の第1開口部16b1だけでよく、また、四角形状の電子部品の対向する2辺だけに電極パッド21が形成されている(デュアルインラインパッケージ)場合には、前述の第1開口部16b1と第2開口部16b2だけの形成になり、3辺または4辺に電極パッド21が形成される場合には、同様に後述するように第3開口部16b3、第4開口部16b4が形成される。この態様は、前述の図1Aに示される構造にも同様に適用される。   As described above, in the example shown in FIG. 2A, the electronic component 20 in which the electrode pads 21 are formed along the four sides of the square-shaped electronic component 20 (indicated by a two-dot chain line in FIG. 2A). The printed wiring board 1 is suitable for being mounted. Therefore, the collective second openings 16b2 are collectively arranged so that the connection portions 12b2 of the second group of wirings 12a2 are exposed so as to correspond to the electrode pads 21 on the second side facing the one side of the electronic component 20. It is formed similarly to the first opening 16b1. That is, the second group of wirings 12a2 are arranged in the same manner as the first group of wirings 12a1 on the second opening 16b2 side, and the connection parts 12b2 are connected to the respective parts of the wirings 12a2. It is formed so as to be arranged in a line in a direction (for example, a right angle direction) intersecting the extending direction. A solder resist layer 16 is provided on the surface, and a narrow second opening portion 16b2 having a narrow width is formed so that the connection portion 12b2 is exposed. In other words, the collective second openings 16b2 are formed in the same manner as the collective first openings 16b1, and the collective first openings are exposed so that the connection portions 12b2 of the wirings 12a2 of the second wiring group are exposed. It is formed in parallel with 16b1. In the example shown in FIGS. 1A and 2A, an example is shown in which the electrode pads 21 are provided along the four sides of the rectangular electronic component 20, but the electrode pads 21 are provided along only one side. In the case of being formed (single in-line package), only a pair of staggered rows shown in FIG. 1A or the collective first openings 16b1 shown in FIG. When the electrode pads 21 are formed on only two opposite sides (dual in-line package), only the first opening 16b1 and the second opening 16b2 are formed, and the electrode pads are formed on the three sides or the four sides. When 21 is formed, a third opening 16b3 and a fourth opening 16b4 are formed as described later. This embodiment is similarly applied to the structure shown in FIG. 1A.

また、図2Aに示される例では、第1群の配線12a1の延びる方向と直角方向に延びる第3群の複数個の配線12a3が設けられ、その接続部12b3が一列に露出するように、一括の第3開口部16b3がソルダーレジスト層16に形成されている。これらの配線12a3、接続部12b3、および一括の第3開口部16b3も前述の配線12a、接続部12b、および一括の開口部16bと同様に形成される。   In the example shown in FIG. 2A, a plurality of third groups of wirings 12a3 extending in a direction perpendicular to the direction in which the first group of wirings 12a1 extend are provided, and the connecting portions 12b3 are exposed in a row. The third opening 16 b 3 is formed in the solder resist layer 16. The wiring 12a3, the connecting portion 12b3, and the collective third opening 16b3 are formed in the same manner as the wiring 12a, the connecting portion 12b, and the collective opening 16b.

さらに、この電子部品20の第3辺に対向する第4辺側の電極パッド21に対応するように第4群の配線12a4の接続部12b4が露出するように一括の第4開口部16b4が、一括の第3開口部16b3と同様に形成されている。すなわち一括の第4開口部16b4側には、第4群の配線12a4が第1群の配線12a1と同様に配列されており、その配線12a4のそれぞれの一部に接続部12b4が、配線12a4の延びる方向と交差する方向に一列に配列されるように形成されている。そして、この表面にソルダーレジスト層16が設けられ、この接続部12b4が1列に露出するように幅の狭い一括の第4開口部12b4が第3開口部16b3と平行に互いに離間して形成されている。このように、第1開口部16b1〜第4開口部16b4が全て形成されることにより、四角形状の電子部品20の4辺に沿って電極パッド21が設けられる構造(クワッドパッケージ)であっても、全ての電極パッド21がショートの恐れなくプリント配線板1と接続される。なお、図2Aに示される例では、第1開口部16b1〜第4開口部16b4が、それぞれ分離して形成されているが、これらが相互に接続されてループ状に1つの開口部16bとして形成されていても良い。   Further, the collective fourth opening 16b4 is formed so that the connection portion 12b4 of the fourth group of wirings 12a4 is exposed so as to correspond to the electrode pad 21 on the fourth side facing the third side of the electronic component 20. It is formed similarly to the collective third opening 16b3. In other words, the fourth group of wirings 12a4 is arranged in the same manner as the first group of wirings 12a1 on the fourth opening 16b4 side, and the connection part 12b4 is connected to a part of each of the wirings 12a4. It is formed so as to be arranged in a line in a direction crossing the extending direction. Then, a solder resist layer 16 is provided on the surface, and a narrow fourth opening 12b4 having a narrow width is formed in parallel with the third opening 16b3 so as to expose the connection portion 12b4 in one row. ing. As described above, even when the first opening portion 16b1 to the fourth opening portion 16b4 are all formed, the electrode pad 21 is provided along the four sides of the quadrangular electronic component 20 (quad package). All the electrode pads 21 are connected to the printed wiring board 1 without fear of a short circuit. In the example shown in FIG. 2A, the first opening 16b1 to the fourth opening 16b4 are formed separately from each other, but they are connected to each other to form a single opening 16b in a loop shape. May be.

次に、図1Aに示されるプリント基板の製造方法の一実施形態が、図3A〜3Gを参照して説明される。   Next, an embodiment of a method for manufacturing the printed circuit board shown in FIG. 1A will be described with reference to FIGS.

まず、図3Aに示されるように、金属膜13aが設けられたキャリア18が用意される。キャリア18としては、例えば銅張支持板が用いられるが、これに限定されない。図3Aに示される例では、例えばプリプレグからなる支持板18aの両面に、例えばキャリア銅箔18bと金属膜13aが接着剤により貼り付けられたキャリア銅箔付き金属膜13aが、接着剤または真空プレスによる熱圧着法等により支持板18aに貼り付けられることにより、支持板18aと例えばキャリア銅箔18bからなるキャリア18に金属膜13aが貼り付けられている。このキャリア18および金属膜13aは、後で除去して廃棄されるもので、材料は特に限定されないが、金属膜13aとしては、例えば銅、ニッケル等が用いられる。この金属膜13aとキャリア銅箔18bとは、後で分離されるため、分離しやすい接着剤、例えば熱可塑性樹脂により全面が接着されても良い。このような接着剤で接着されることにより、後の工程で温度を上昇させて引き剥されることにより、金属膜13aとキャリア18とは容易に分離される。または、例えば周囲だけで通常の接着剤により貼り付けられても良い。周囲が切断除去されることにより、容易に分離されるからである。このキャリア18と金属膜13aの両者間には、熱膨張などの差が無いことが望ましいため、金属膜13aにニッケルが用いられるのであれば、キャリア銅箔もキャリアニッケル箔からなるなど、同じ材料であることが好ましい。しかし、これには制約されない。また、このキャリア18の金属膜13aが設けられる面には、適宜、剥離層が設けられても良い。   First, as shown in FIG. 3A, a carrier 18 provided with a metal film 13a is prepared. For example, a copper-clad support plate is used as the carrier 18, but the carrier 18 is not limited to this. In the example shown in FIG. 3A, for example, a carrier copper foil-attached metal film 13a in which, for example, a carrier copper foil 18b and a metal film 13a are bonded to both surfaces of a support plate 18a made of a prepreg is an adhesive or a vacuum press. The metal film 13a is affixed to the support plate 18a and the carrier 18 made of, for example, the carrier copper foil 18b. The carrier 18 and the metal film 13a are removed and discarded later, and the material is not particularly limited. For the metal film 13a, for example, copper, nickel, or the like is used. Since the metal film 13a and the carrier copper foil 18b are separated later, the entire surface may be adhered by an easily separable adhesive such as a thermoplastic resin. By being bonded with such an adhesive, the metal film 13a and the carrier 18 are easily separated by being peeled off by raising the temperature in a later step. Or, for example, it may be pasted only with a normal adhesive. This is because the surroundings are easily separated by cutting and removing. Since it is desirable that there is no difference in thermal expansion between the carrier 18 and the metal film 13a, if nickel is used for the metal film 13a, the same material such as the carrier copper foil is also made of carrier nickel foil. It is preferable that However, this is not a limitation. Further, a release layer may be appropriately provided on the surface of the carrier 18 on which the metal film 13a is provided.

また、図3Aに示される例では、支持板18aの両面にキャリア銅箔18b付き金属膜13aが貼り付けられた図が示されている。このようにすることにより、支持板18aは除去されるものであるため、有効利用につながり、また、製造工程の短縮に寄与する。しかし、支持板18aの片面のみにキャリア銅箔18b付き金属膜13aが貼り付けられても良い。キャリア18の支持板18aの両面にキャリア銅箔18b付き金属膜13aが設けられても、図の支持板18aの上側と下側は全く同じ構造であり、以下の説明では、主として上側だけについての説明がなされ、図面の符号も下側の部分については適当に省略されている。   Moreover, in the example shown by FIG. 3A, the figure by which the metal film 13a with the carrier copper foil 18b was affixed on both surfaces of the support plate 18a is shown. By doing in this way, since the support plate 18a is removed, it leads to effective use and contributes to shortening of the manufacturing process. However, the metal film 13a with the carrier copper foil 18b may be attached to only one surface of the support plate 18a. Even if the metal film 13a with the carrier copper foil 18b is provided on both surfaces of the support plate 18a of the carrier 18, the upper side and the lower side of the support plate 18a in the figure have exactly the same structure. The explanation is made, and the reference numerals of the drawings are appropriately omitted for the lower part.

次に、図3Bに示されるように、電子部品が搭載される配線12aおよび接続部12bを有する配線パターン121を含む第1導体層12が形成される。第1導体層12を形成する方法は、所定のパターンを形成するためのレジストパターン(図示せず)が金属膜13aの表面に形成され、金属膜13aを一方の電極として電気めっき法により、金属膜13aが露出している部分に第1導体層12が形成される。その後、レジストパターンが除去されることにより、図3Bに示されるような第1導体層12が形成される。   Next, as shown in FIG. 3B, the first conductor layer 12 including the wiring pattern 121 having the wiring 12a on which the electronic component is mounted and the connecting portion 12b is formed. In the method of forming the first conductor layer 12, a resist pattern (not shown) for forming a predetermined pattern is formed on the surface of the metal film 13a, and the metal film 13a is used as one electrode to form a metal by electroplating. The first conductor layer 12 is formed in the portion where the film 13a is exposed. Thereafter, by removing the resist pattern, the first conductor layer 12 as shown in FIG. 3B is formed.

次に、図3Cに示されるように、樹脂絶縁層11および第2導体層14の一部となる金属箔14aが、第1導体層12上および金属膜13aの第1導体層12が設けられないで露出している面に積層される。この樹脂絶縁層11および金属箔14aは、加圧および加熱して貼り合わせる公知の方法が用いられる。   Next, as shown in FIG. 3C, the metal foil 14a that becomes part of the resin insulating layer 11 and the second conductor layer 14 is provided on the first conductor layer 12 and the first conductor layer 12 of the metal film 13a. Laminated on the exposed surface. For the resin insulating layer 11 and the metal foil 14a, a known method is used in which the resin insulating layer 11 and the metal foil 14a are bonded together under pressure and heat.

次に、導通用孔11d(図3D参照)が形成される。導通用孔11dを形成する方法は、レーザ光照射の方法が用いられる。すなわち、樹脂絶縁層11の両面に設けられる第1導体層12と第2導体層14とが接続される部分に形成され、金属箔14aの表面から、CO2レーザ光等が照射されることにより加工される。 Next, a conduction hole 11d (see FIG. 3D) is formed. As a method of forming the conduction hole 11d, a laser beam irradiation method is used. That is, it is formed in a portion where the first conductor layer 12 and the second conductor layer 14 provided on both surfaces of the resin insulating layer 11 are connected, and the surface of the metal foil 14a is irradiated with CO 2 laser light or the like. Processed.

次に、導通用孔11d内および金属箔14a上に図示しない無電解めっき膜等の金属被膜が形成され、この無電解めっき膜上に所定のパターンの図示しないレジスト膜が形成され、続いて、例えば電気めっきにより、ビア導体15が形成されると共に、図示しないレジスト膜に覆われていない金属被膜上に電気めっき膜14bの層が形成される。その後、レジスト膜と、その下の金属被膜が除去される。この結果、金属箔14aと、図示しない金属被膜および電気めっき膜14bとにより構成され、所定のパターンにパターニングされている第2導体層14が形成される。この状態が図3Dに示されている。   Next, a metal film such as an electroless plating film (not shown) is formed in the conduction hole 11d and on the metal foil 14a, a resist film (not shown) having a predetermined pattern is formed on the electroless plating film, For example, the via conductor 15 is formed by electroplating, and a layer of the electroplated film 14b is formed on a metal film not covered with a resist film (not shown). Thereafter, the resist film and the underlying metal film are removed. As a result, the second conductor layer 14 is formed which is composed of the metal foil 14a and the metal coating and electroplating film 14b (not shown) and is patterned in a predetermined pattern. This state is shown in FIG. 3D.

次に、図3Eに示されるように、キャリア18が除去される。なお、キャリア18が除去されることにより2個の積層体が得られるが、図3Eにおいて、その上側の積層体のみが、説明の明瞭化のため、図3Dに示されたキャリア18の上側の上下が反転されて示されている。前述のように、キャリア18(キャリア銅箔18b)と金属膜13aとは、例えば熱可塑性樹脂のように、容易に剥離しやすい接着剤により固定されているか、または周囲だけで接着剤等により固定されているだけであるので、温度を上昇させて引き剥されるか、周囲の接着部が切断されることにより容易に分離され、金属膜13aのキャリア銅箔18bとの接触面が露出する。   Next, as shown in FIG. 3E, the carrier 18 is removed. In addition, although two laminated bodies are obtained by removing the carrier 18, only the upper laminated body in FIG. 3E is the upper side of the carrier 18 shown in FIG. 3D for clarity of explanation. It is shown upside down. As described above, the carrier 18 (carrier copper foil 18b) and the metal film 13a are fixed with an adhesive that easily peels off, such as a thermoplastic resin, or is fixed only with an adhesive or the like only at the periphery. Therefore, it is easily peeled off by raising the temperature or by cutting the surrounding adhesive portion, and the contact surface of the metal film 13a with the carrier copper foil 18b is exposed.

次に、図3Fに示されるように、金属膜13aが、例えば湿式または乾式の化学エッチングなどにより全面除去される。   Next, as shown in FIG. 3F, the metal film 13a is entirely removed by, for example, wet or dry chemical etching.

次いで、図3Gに示されるように、樹脂絶縁層11の両面にソルダーレジスト層16が全面に塗布されて形成され、その後に、樹脂絶縁層11の第1面11a側では、電子部品が実装される配線12aの接続部12bが露出するように、ソルダーレジスト層16がパターニングされて個別の開口部16aが形成される(図1A参照)。また、樹脂絶縁層11の第2面11b側では、図3Gに示されるように、ビア導体15の部分が露出するようにソルダーレジスト層16がパターニングされることにより、プリント配線板1が得られる。なお、ソルダーレジスト層16の耐圧の観点から、導体層12,14の表面からのソルダーレジスト層16の厚さが一定の厚さ以上に形成されるため、第1導体層12が樹脂絶縁層11の中に埋め込まれ、表面のみが露出しているのに対して、第2導体層14は樹脂絶縁層11の第2面上に形成されているため、樹脂絶縁層11の表面(第1面11a、第2面11b)からの高さ(厚さ)が異なっており、反りが起こりやすくなっている。しかし、この実施例によれば、ソルダーレジスト層16の開口部16aに露出する接続部12bに接続させているため、ショート不良を招くことなく、確実に電子部品20を接続することができる。   Next, as shown in FIG. 3G, a solder resist layer 16 is formed on both surfaces of the resin insulation layer 11, and then electronic components are mounted on the first surface 11 a side of the resin insulation layer 11. The solder resist layer 16 is patterned so that the connection portions 12b of the wirings 12a to be exposed are exposed to form individual openings 16a (see FIG. 1A). Also, on the second surface 11b side of the resin insulating layer 11, as shown in FIG. 3G, the printed wiring board 1 is obtained by patterning the solder resist layer 16 so that the via conductor 15 is exposed. . In addition, from the viewpoint of the withstand voltage of the solder resist layer 16, since the thickness of the solder resist layer 16 from the surface of the conductor layers 12 and 14 is formed to be equal to or greater than a certain thickness, the first conductor layer 12 is the resin insulating layer 11. The second conductor layer 14 is formed on the second surface of the resin insulating layer 11 while only the surface is exposed, so that the surface (first surface) of the resin insulating layer 11 is exposed. 11a and the second surface 11b) are different in height (thickness), and warpage is likely to occur. However, according to this embodiment, since the connection is made to the connection portion 12b exposed at the opening 16a of the solder resist layer 16, the electronic component 20 can be reliably connected without causing a short circuit defect.

この後、図示されていないが、第2導体層12の電子部品20の電極パッド21が接続される各配線12aの接続部12bの露出面には、OSP、Ni/Au、Ni/Pd/Au、Sn等の表面処理が行われる。ハンダ付けをしやすくするためである。   Thereafter, although not shown, the exposed surface of the connection portion 12b of each wiring 12a to which the electrode pad 21 of the electronic component 20 of the second conductor layer 12 is connected has OSP, Ni / Au, Ni / Pd / Au. Surface treatment such as Sn is performed. This is to facilitate soldering.

図1に示される実施形態では、1層の樹脂絶縁層を介して一対の導体層(第1導体層12および第2導体層14)が形成されるプリント配線板が例示された。しかしながら、例えば図3Dに示される第2導体層14が形成された後に、この第2導体層14および樹脂絶縁層11の露出面に、さらに図3Cに示されるように、第2の樹脂絶縁層、第2の金属箔が積層され、その後に、図3E以降の工程を行うことにより、3層構造のプリント配線板とされても良い。   In the embodiment shown in FIG. 1, a printed wiring board in which a pair of conductor layers (the first conductor layer 12 and the second conductor layer 14) is formed via one resin insulating layer is illustrated. However, for example, after the second conductor layer 14 shown in FIG. 3D is formed, on the exposed surfaces of the second conductor layer 14 and the resin insulation layer 11, as shown in FIG. The second metal foil may be laminated, and then a process of FIG. 3E and subsequent steps may be performed to obtain a printed wiring board having a three-layer structure.

1 プリント配線板
11 樹脂絶縁層
11a 第1面
11b 第2面
11d 導通用孔
12 第1導体層
12a 配線
12b 接続部
13a 金属膜
14 第2導体層
14a 金属箔
14b 電気めっき膜
15 ビア導体
16 ソルダーレジスト層
16a 個別の開口部
16b 一括の開口部
18 キャリア
20 電子部品
21 電極パッド
30 ハンダ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Printed wiring board 11 Resin insulating layer 11a 1st surface 11b 2nd surface 11d Conduction hole 12 1st conductor layer 12a Wiring 12b Connection part 13a Metal film 14 2nd conductor layer 14a Metal foil 14b Electroplating film 15 Via conductor 16 Solder Resist layer 16a Individual openings 16b Collective openings 18 Carrier 20 Electronic component 21 Electrode pad 30 Solder

Claims (9)

第1面および該第1面の反対面である第2面を有する樹脂絶縁層と、
前記樹脂絶縁層の前記第1面側に形成され、電子部品が接続される接続部を有する配線を含む第1導体層と、
前記樹脂絶縁層の前記第2面に形成される第2導体層と、
前記樹脂絶縁層を貫通して設けられ、前記第1導体層および前記第2導体層を接続するビア導体と、
前記樹脂絶縁層の第1面および第2面上に設けられるソルダーレジスト層と、
を備えたプリント配線板であって、
前記第1導体層は、複数の接続部を有し、前記複数の接続部の少なくとも一部の最上面が露出するように前記樹脂絶縁層内に埋め込まれると共に、前記接続部の少なくとも一部が前記電子部品の一辺に沿って互いに離間して接続部の列をなすように、列状に配列して形成されており、
前記ソルダーレジスト層に、前記接続部の少なくとも一部が露出するように開口部が形成されている。
A resin insulation layer having a first surface and a second surface opposite to the first surface;
A first conductor layer including a wiring formed on the first surface side of the resin insulating layer and having a connection portion to which an electronic component is connected;
A second conductor layer formed on the second surface of the resin insulation layer;
A via conductor provided through the resin insulation layer and connecting the first conductor layer and the second conductor layer;
A solder resist layer provided on the first surface and the second surface of the resin insulation layer;
A printed wiring board comprising:
The first conductor layer has a plurality of connection portions, and is embedded in the resin insulating layer so that an uppermost surface of at least a part of the plurality of connection portions is exposed, and at least a part of the connection portions is formed. Formed in a row so as to form a row of connecting portions spaced apart from each other along one side of the electronic component,
An opening is formed in the solder resist layer so that at least a part of the connection portion is exposed.
請求項1記載のプリント配線板であって、前記ソルダーレジスト層の前記開口部が、前記接続部の複数個が一列に連続して露出するように形成されている。 The printed wiring board according to claim 1, wherein the opening of the solder resist layer is formed such that a plurality of the connection portions are continuously exposed in a row. 請求項1記載のプリント配線板であって、前記ソルダーレジスト層の開口部が、前記配線のそれぞれの接続部が露出するように個別に形成されている。 2. The printed wiring board according to claim 1, wherein the opening of the solder resist layer is individually formed so that each connection portion of the wiring is exposed. 請求項3記載のプリント配線板であって、前記開口部が、隣接する前記接続部が列状に配列される前記接続部の配列方向と直角方向に交互にずれる千鳥状に形成されている。 4. The printed wiring board according to claim 3, wherein the openings are formed in a zigzag pattern that is alternately shifted in a direction perpendicular to an arrangement direction of the connection parts in which the adjacent connection parts are arranged in a row. 請求項3または4記載のプリント配線板であって、前記開口部の一端部と該一端部と隣接する前記配線の前記開口部側との距離fが10μm以上である。 5. The printed wiring board according to claim 3, wherein a distance f between one end of the opening and the side of the opening adjacent to the one end is 10 μm or more. 請求項1〜5のいずれか1項に記載のプリント配線板であって、前記接続部の列とは異なる複数の接続部が、前記列状に配列される前記接続部の第1配列と平行に、互いに離間して列状に配列される第2配列に形成され、かつ、前記ソルダーレジスト層に形成される開口部から露出している。 It is a printed wiring board of any one of Claims 1-5, Comprising: The some connection part different from the row | line | column of the said connection part is parallel to the 1st arrangement | sequence of the said connection part arranged in the said row | line | column form. In addition, they are formed in a second array that is arranged in a row spaced apart from each other, and are exposed from openings formed in the solder resist layer. 請求項6記載のプリント配線板であって、前記接続部の列とは異なる複数の接続部が、前記第1配列の配列方向と交差する方向に、互いに離間して列状に配列される第3配列に形成され、かつ、前記ソルダーレジスト層に形成される開口部から露出している。 7. The printed wiring board according to claim 6, wherein a plurality of connection portions different from the row of the connection portions are arranged in a row spaced apart from each other in a direction intersecting the arrangement direction of the first arrangement. It is formed in three arrays and exposed from an opening formed in the solder resist layer. 請求項7記載のプリント配線板であって、前記接続部の列とは異なる複数の配線の接続部が、前記第3配列の配列方向と平行に、互いに離間して列状に配列される第4配列に形成され、かつ、前記ソルダーレジスト層に形成される開口部から露出しており、矩形状で周囲に電極パッドが形成された電子部品が、前記第1配列〜第4配列に配列される接続部と接続し得るように形成されている。 The printed wiring board according to claim 7, wherein a plurality of wiring connection portions different from the connection portion rows are arranged in a row apart from each other in parallel with the arrangement direction of the third arrangement. Electronic components formed in four arrays and exposed from openings formed in the solder resist layer and having a rectangular shape and electrode pads formed in the periphery are arranged in the first to fourth arrays. It is formed so that it can be connected to the connecting portion. 請求項1〜8のいずれか1項に記載のプリント配線板であって、前記ビア導体の断面の幅は、前記第2導体層側よりも前記第1導体層側が小さい。 It is a printed wiring board of any one of Claims 1-8, Comprising: The width | variety of the cross section of the said via conductor is smaller on the said 1st conductor layer side than the said 2nd conductor layer side.
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