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JP2016092288A - Light source device and illumination device using the same - Google Patents

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JP2016092288A
JP2016092288A JP2014226947A JP2014226947A JP2016092288A JP 2016092288 A JP2016092288 A JP 2016092288A JP 2014226947 A JP2014226947 A JP 2014226947A JP 2014226947 A JP2014226947 A JP 2014226947A JP 2016092288 A JP2016092288 A JP 2016092288A
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JP
Japan
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wavelength conversion
light source
strain gauge
conversion member
source device
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JP2014226947A
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Japanese (ja)
Inventor
利裕 世古
Toshihiro Seko
利裕 世古
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Stanley Electric Co Ltd
Original Assignee
Stanley Electric Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a light source device capable of turning off a semiconductor light emitting element, and turning on an alarm by determining the falling of a wavelength conversion member and the prediction of the falling.SOLUTION: A strain gauge 21a for detecting an internal stress is formed on the upper face of a holding member 21. The strain gauge 21a is formed with electrodes 21a-1 and 21a-2 at both ends on the upper face of the holding member 21. Extraction electrodes 22b-1 and 22b-2 are also formed on the upper face of the holding member 21. A strain gauge 22a for detecting an internal stress is formed on the lower face of a wavelength conversion member 22. The strain gauge 22a is formed with electrodes 22a-1 and 22a-2 at both ends on the lower face of the wavelength conversion member 22. The wavelength conversion member 22 is joined via a metallic bump 231 to the holding member 21, and electrodes 22a-1 and 22a-2 of the strain gauge 22a are also connected via a metallic bump 231' to the extraction electrodes 22b-1 and 22b-2 of the holding member 21.SELECTED DRAWING: Figure 3

Description

本発明は、たとえばレーザ光を利用した光源装置及びこれを用いた照明装置に関する。   The present invention relates to a light source device using, for example, laser light and an illumination device using the same.

従来、レーザ光を利用した光源装置においては、波長変換部材を設け、レーザ光の一部を吸収して波長変換し、波長変換された光と波長変換されない光とを混色して混色光たとえば白色光を出射する。この場合、レーザ光は、コヒーレント光であるので、人、物に対して直接照射されると、損傷を引き起こし、特に、人間の目に照射されると失明になる等の重大な悪影響を及ぼす。しかし、通常、レーザ光は上述の波長変換部材で散乱されてインコヒーレント光となりかつランバーシアン状に広がるので、人間に対して悪影響を及ぼすことはない。   Conventionally, in a light source device using laser light, a wavelength conversion member is provided, and wavelength conversion is performed by absorbing a part of the laser light, and color-mixed light such as white is obtained by mixing the wavelength-converted light and the light that is not wavelength-converted. Emits light. In this case, since the laser light is coherent light, if it is directly irradiated to a person or an object, damage is caused, and in particular, if it is irradiated to the human eye, it causes serious adverse effects such as blindness. However, since the laser light is usually scattered by the above-described wavelength conversion member to become incoherent light and spread in a Lambertian shape, it does not adversely affect humans.

ところで、何らかの内的要因、外的要因で波長変換部材が脱落した場合、レーザ光が直接外部に出射され、人、物に対して直接照明されることになる。従って、このようなレーザ光の直接外部に出射されないようにするフェールセーフ機構が必要である。   By the way, when the wavelength conversion member falls off due to some internal factor or external factor, the laser beam is directly emitted to the outside and directly illuminates a person or an object. Therefore, there is a need for a fail-safe mechanism that prevents such laser light from being emitted directly to the outside.

フェールセーフ機構を設けた第1の従来の光源装置においては、波長変換部材の出射光の一部の光を分離する光路上に出射光の光強度を検出する光センサを設ける。このとき、コヒーレント光が波長変換部材によってインコヒーレント光に変換されれば、出射光はインコヒーレント光となって出射光の光強度は小さくなるが、波長変換部材が脱落していれば、出射光はコヒーレント光のままで出射光の強度は大きくなる。従って、光センサにより検出された光強度が閾値を超えているか否かを判別し、この光強度が閾値を超えたときに波長変換部材の脱落と判断してレーザ光の発光を停止する(参照:特許文献1)。この場合、光センサの出力に応じて波長変換部材の脱落の予知も可能である。   In the first conventional light source device provided with the fail-safe mechanism, an optical sensor for detecting the light intensity of the emitted light is provided on an optical path for separating a part of the emitted light of the wavelength conversion member. At this time, if the coherent light is converted into incoherent light by the wavelength conversion member, the emitted light becomes incoherent light, and the light intensity of the emitted light is reduced. However, if the wavelength conversion member is dropped, the emitted light is reduced. Remains coherent and the intensity of the emitted light increases. Therefore, it is determined whether or not the light intensity detected by the optical sensor exceeds a threshold value, and when the light intensity exceeds the threshold value, it is determined that the wavelength conversion member has been dropped, and laser light emission is stopped (see : Patent Document 1). In this case, the wavelength conversion member can be predicted to drop according to the output of the optical sensor.

フェールセーフ機構を設けた第2の従来の光源装置においては、レーザダイオード素子の第1の通電経路と、波長変換部材に導体パターンを接続した第2の通電経路とを直列接続する。これにより、第2の通電経路が波長変換部材の脱落によって切断されたときに第1の通電経路も切断されてレーザ光の発光を停止する(参照:特許文献2)。   In the second conventional light source device provided with the fail safe mechanism, the first energization path of the laser diode element and the second energization path in which the conductor pattern is connected to the wavelength conversion member are connected in series. As a result, when the second energization path is cut by dropping the wavelength conversion member, the first energization path is also cut to stop laser light emission (see Patent Document 2).

特開2012−2871号公報JP 2012-2871 A 特開2014−165450号公報JP 2014-165450 A

しかしながら、上述の第1の従来の光源装置においては、光センサを光学系近傍に設けるので、装置が大型化し、また、光センサは高価であるので、製造コストが高くなるという課題がある。   However, in the first conventional light source device described above, since the optical sensor is provided in the vicinity of the optical system, the size of the device is increased, and the optical sensor is expensive.

また、上述の第2の従来の光源装置においては、波長変換部材に導体パターンを接続した第2の通電経路の切断で波長変換部材の脱落を判断できるが、波長変換部材の脱落の予知は不可能であるという課題がある。   Further, in the above-described second conventional light source device, it is possible to determine whether the wavelength conversion member is dropped by cutting the second energization path in which the conductor pattern is connected to the wavelength conversion member, but there is no prediction of the wavelength conversion member being dropped. There is a problem that it is possible.

上述の課題を解決するために、本発明に係る光源装置は、半導体発光素子と、半導体発光素子からの出射光の一部を波長変換する波長変換部材と、波長変換部材を保持する保持部材と、波長変換部材及び保持部材の少なくとも一方に設けられたひずみゲージとを具備するものである。さらに、ひずみゲージの電圧に応じて半導体発光素子を制御する制御ユニットを具備する。制御ユニットはひずみゲージの電圧により波長変換部材の脱落を判断したときには半導体発光素子をオフし、また、制御ユニットはひずみゲージの電圧により波長変換部材の脱落しそうな状態と判断したときにはアラームをオンする。   In order to solve the above-described problems, a light source device according to the present invention includes a semiconductor light emitting element, a wavelength conversion member that converts a part of light emitted from the semiconductor light emitting element, and a holding member that holds the wavelength conversion member. And a strain gauge provided on at least one of the wavelength conversion member and the holding member. Furthermore, a control unit for controlling the semiconductor light emitting element according to the voltage of the strain gauge is provided. The control unit turns off the semiconductor light emitting element when it is judged that the wavelength conversion member is dropped by the voltage of the strain gauge, and the control unit turns on the alarm when it is judged that the wavelength conversion member is likely to fall off by the voltage of the strain gauge. .

本発明によれば、装置を大型化することなく、また、製造コストを上昇させることなく、波長変換部材の脱落の判断及び脱落の予知の判断を行って半導体発光素子をオフ及びアラームをオンできる。   According to the present invention, the semiconductor light emitting element can be turned off and the alarm can be turned on by determining whether or not the wavelength conversion member is dropped and without predicting the dropping without increasing the size of the apparatus and increasing the manufacturing cost. .

本発明に係る光源装置の第1の実施の形態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows 1st Embodiment of the light source device which concerns on this invention. 図1の波長変換モジュールの詳細を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the detail of the wavelength conversion module of FIG. 図1のひずみゲージを示し、(A)は保持部材の上面図、(B)は波長変換部材の下面図である。The strain gauge of FIG. 1 is shown, (A) is a top view of a holding member, (B) is a bottom view of a wavelength conversion member. 図1の制御モジュールの詳細な回路図である。It is a detailed circuit diagram of the control module of FIG. 図4の制御ユニットの動作を説明するためのフローチャートである。It is a flowchart for demonstrating operation | movement of the control unit of FIG. 図5のステップ504、507の補正係数αの例を示すグラフである。It is a graph which shows the example of the correction coefficient (alpha) of steps 504 and 507 of FIG. 図1の光源装置の製造方法を説明するためのフローチャートである。It is a flowchart for demonstrating the manufacturing method of the light source device of FIG. 本発明に係る光源装置の第2の実施の形態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows 2nd Embodiment of the light source device which concerns on this invention. 図8の光源装置の製造方法を説明するためのフローチャートである。It is a flowchart for demonstrating the manufacturing method of the light source device of FIG. 図1もしくは図8の光源装置を用いた車両用前照灯を示し、(A)はプロジェクタ型車両用前照灯を示す図、(B)はリフレクタ型車両用前照灯を示す図、(C)は直射投影型車両用前照灯を示す図である。FIG. 1 shows a vehicle headlamp using the light source device of FIG. 1 or FIG. 8, (A) shows a projector type vehicle headlamp, and (B) shows a reflector type vehicle headlamp. C) is a view showing a direct projection type vehicle headlamp.

図1は本発明に係る光源装置の第1の実施の形態を示す断面図である。図1において、光源モジュール1と波長変換モジュール2とは離隔しており、光ファイバ3によって接続されている。光ファイバ3の両端には、入射側光ファイバコネクタ31及び出射側光ファイバコネクタ32が設けられている。制御モジュール4は波長変換モジュール2からのひずみゲージ電圧Vg1、Vg2を検出して光源モジュール1及びアラーム5を制御する。制御モジュール4には光源スイッチ6が接続されている。また、波長変換モジュール2のひずみゲージ近傍にはサーミスタ等よりなる温度センサ7が設けられており、制御モジュール4は温度センサ7の温度Tに応じてひずみゲージ電圧Vg1、Vg2を補正する。尚、光ファイバ3の代わりに、ミラー、レンズ等の光学系を用いることもできる。 FIG. 1 is a sectional view showing a first embodiment of a light source device according to the present invention. In FIG. 1, the light source module 1 and the wavelength conversion module 2 are separated from each other and are connected by an optical fiber 3. An incident side optical fiber connector 31 and an output side optical fiber connector 32 are provided at both ends of the optical fiber 3. The control module 4 detects the strain gauge voltages V g1 and V g2 from the wavelength conversion module 2 and controls the light source module 1 and the alarm 5. A light source switch 6 is connected to the control module 4. A temperature sensor 7 made of a thermistor or the like is provided in the vicinity of the strain gauge of the wavelength conversion module 2, and the control module 4 corrects the strain gauge voltages V g1 and V g2 according to the temperature T of the temperature sensor 7. An optical system such as a mirror or a lens can be used instead of the optical fiber 3.

光源モジュール1は、レーザダイオード素子11、レーザダイオード素子11が搭載されたステム12、ステム12上に設けられレーザダイオード素子11の出射光を光ファイバ3の入射側光ファイバコネクタ31の入射端面に集束させるたとえば非球面レンズよりなる凸レンズ13、凸レンズ13を保持する金属たとえばステンレス製の筐体14、及びステム12に設けられた外部端子15よりなるCAN型パッケージによって構成されている。レーザダイオード素子11は、たとえばGAInN系青色半導体レーザダイオード素子で約400〜460nmの青色光を出射する。   The light source module 1 includes a laser diode element 11, a stem 12 on which the laser diode element 11 is mounted, and a light emitted from the laser diode element 11 on the incident end face of the incident side optical fiber connector 31 of the optical fiber 3. For example, a convex lens 13 made of an aspherical lens, a metal holding the convex lens 13, for example, a stainless steel housing 14, and an external terminal 15 provided on the stem 12, the CAN type package is used. The laser diode element 11 is, for example, a GAInN blue semiconductor laser diode element that emits blue light of about 400 to 460 nm.

波長変換モジュール2は、光源モジュール1から出射されたレーザ光を光ファイバ3を介して入射し、光ファイバ3の出射側光ファイバコネクタ32に接続される保持部材21と、波長変換部材22と、波長変換部材22を保持部材21上に接合する接合部23と、波長変換部材22及び接合部23からの光を反射する反射部材24とからなる。   The wavelength conversion module 2 receives the laser light emitted from the light source module 1 through the optical fiber 3 and is connected to the output-side optical fiber connector 32 of the optical fiber 3, a wavelength conversion member 22, It consists of the junction part 23 which joins the wavelength conversion member 22 on the holding member 21, and the reflection member 24 which reflects the light from the wavelength conversion member 22 and the junction part 23.

たとえば、レーザ光が青色レーザ光であり、波長変換部材22は青色レーザ光を黄色光に変換するYAG蛍光体及び酸化アルミニウム(アルミナ)等の拡散材料を含む。この場合、補色関係にある一部波長変換された黄色光と変換されない青色光とが混色して白色光が波長変換部材22から出射する。   For example, the laser light is blue laser light, and the wavelength conversion member 22 includes a diffusion material such as a YAG phosphor that converts blue laser light into yellow light and aluminum oxide (alumina). In this case, yellow light that has been partially wavelength-converted in a complementary color relationship and blue light that has not been converted are mixed, and white light is emitted from the wavelength conversion member 22.

保持部材21の上面には保持部材21の内部応力を検出する後述のひずみゲージ21a(図3の(A)参照)が設けられ、また、波長変換部材22の下面には波長変換部材22の内部応力を検出する後述のひずみゲージ22a(図3の(B)参照)が設けられている。   The upper surface of the holding member 21 is provided with a later-described strain gauge 21a (see FIG. 3A) for detecting the internal stress of the holding member 21, and the lower surface of the wavelength converting member 22 is provided with the inside of the wavelength converting member 22. A strain gauge 22a (see FIG. 3B) to detect stress is provided.

図2は図1の波長変換モジュール2の詳細を示す断面図である。   FIG. 2 is a sectional view showing details of the wavelength conversion module 2 of FIG.

保持部材21は波長変換部材22を保持するためであり、光ファイバ3の出射側光ファイバコネクタ32が挿入されるアルミニウム、ニッケル、ステンレス、ジルコニア等の金属よりなるキャップ211、及び窒化アルミニウム、酸化アルミニウム等のセラミックよりなるサブマウント212によって構成されている。キャップ211とサブマウント212との接合は熱伝導性接着層213(あるいはろう剤層、AuSnはんだ層)によって行われる。図1の光ファイバ3は保持部材21のキャップ211の貫通孔211aを通過して波長変換部材22の中央に当接する。   The holding member 21 is for holding the wavelength conversion member 22, and a cap 211 made of a metal such as aluminum, nickel, stainless steel, zirconia, and the like, and aluminum nitride and aluminum oxide into which the output side optical fiber connector 32 of the optical fiber 3 is inserted. It is comprised by the submount 212 which consists of ceramics. The cap 211 and the submount 212 are joined by a heat conductive adhesive layer 213 (or a brazing agent layer or an AuSn solder layer). The optical fiber 3 in FIG. 1 passes through the through hole 211 a of the cap 211 of the holding member 21 and contacts the center of the wavelength conversion member 22.

波長変換部材22は、光源モジュール1からの出射されたレーザ光の一部を吸収して波長変換し、波長変換された光と波長変換されない光とを混色して混色光を出射するものであり、波長変換層221よりなり、さらに好ましくは、光散乱層222、誘電体多層反射層223及び金属反射層224を有する。   The wavelength conversion member 22 absorbs a part of the laser light emitted from the light source module 1 and converts the wavelength, and mixes the wavelength-converted light and the light that is not wavelength-converted to emit mixed color light. And a wavelength conversion layer 221, and more preferably includes a light scattering layer 222, a dielectric multilayer reflection layer 223, and a metal reflection layer 224.

波長変換層221は、蛍光体を含有する透光性材料よりなる。たとえば、蛍光体をガラスへ分散した蛍光体分散ガラス、ガラス母体に発光中心イオンを添加したガラス蛍光体、蛍光体粒子をたとえばシリコーン樹脂へ分散した蛍光体分散樹脂、蛍光体材料を焼結した蛍光体焼結体、蛍光体材料を分散したセラミックを焼結した蛍光体セラミック焼結体、またはガラスあるいはセラミックをコーティングした蛍光体粒子を相互に固定したガラス・セラミックコーティング蛍光体粒子固着体よりなる。特に、耐熱性の比較的高い蛍光体分散ガラス、ガラス蛍光体、蛍光体焼結体、または蛍光体セラミック焼結体を好適に用いることができる。たとえば、YAG蛍光体を酸化アルミニウムに分散した厚さ約50μmのYAGセラミック焼結体を用いる。   The wavelength conversion layer 221 is made of a translucent material containing a phosphor. For example, a phosphor-dispersed glass in which a phosphor is dispersed in glass, a glass phosphor in which a luminescent center ion is added to a glass matrix, a phosphor-dispersed resin in which phosphor particles are dispersed in, for example, a silicone resin, and a phosphor in which a phosphor material is sintered It is composed of a sintered body, a phosphor ceramic sintered body obtained by sintering a ceramic in which a phosphor material is dispersed, or a glass / ceramic coated phosphor particle fixed body in which phosphor particles coated with glass or ceramic are fixed to each other. In particular, a phosphor-dispersed glass, a glass phosphor, a phosphor sintered body, or a phosphor ceramic sintered body having a relatively high heat resistance can be suitably used. For example, a YAG ceramic sintered body having a thickness of about 50 μm in which a YAG phosphor is dispersed in aluminum oxide is used.

尚、上述の蛍光体は、光源モジュール1からの照射光の波長、光源装置の所望の発光色に応じて適宜選択することができ、複数種類の蛍光体を含有してもよく、また、積層してもよい。   The phosphor described above can be appropriately selected according to the wavelength of the light emitted from the light source module 1 and the desired emission color of the light source device, and may contain a plurality of types of phosphors. May be.

蛍光体としては、たとえば、波長が約440nm乃至約470nmの青色光により励起されるものとして、CaAlSiN:Eu2+,(Ca,Sr)AlSiN:Eu2+,CaSi:Eu2+,(Ca,Sr)Si:Eu2+,KSiF:Mn4+,KTiF:Mn4+等の赤色蛍光体、YAl12(YAG):Ce3+,(Sr,Ba)SiO:Eu2+,Ca(Si,Al)12(O,N)16:Eu2+,(La,Y)Si11:Ce3+等の黄色蛍光体、LuAl12:Ce3+,(Lu,Y)Al12:Ce3+,Y(Ga,Al)12:Ce3+,CaScSi12:Ce3+,CaSc:Eu2+,(Ba,Sr)SiO:Eu2+,BaSi12:Eu2+,(Si,Al)(O,N):Eu2+等の緑色蛍光体を用いることができる。 Examples of the phosphor include those excited by blue light having a wavelength of about 440 nm to about 470 nm, such as CaAlSiN 3 : Eu 2+ , (Ca, Sr) AlSiN 3 : Eu 2+ , Ca 2 Si 5 N 8 : Eu 2+. , (Ca, Sr) 2 Si 5 N 8 : Eu 2+ , KSiF 6 : Mn 4+ , KTiF 6 : Mn 4+ and other red phosphors, Y 3 Al 5 O 12 (YAG): Ce 3+ , (Sr, Ba) 2 SiO 4 : Eu 2+ , Ca x (Si, Al) 12 (O, N) 16 : Eu 2+ , (La, Y) 3 Si 6 N 11 : Ce 3+ and other yellow phosphors, Lu 3 Al 5 O 12 : Ce 3+ , (Lu, Y) 3 Al 5 O 12 : Ce 3+ , Y 3 (Ga, Al) 5 O 12 : Ce 3+ , Ca 3 Sc 2 Si 3 O 12 : Ce 3+ , CaSc 2 O 4 : Eu 2+ , (Ba, Sr) 2 SiO 4 : Eu 2+ , Ba 3 Si 6 O 12 N 2 : Eu 2+ , (Si, Al) 6 (O, N) 8 : Eu 2+ A phosphor can be used.

光散乱層222は多結晶の酸化アルミニウム(アルミナ)等のセラミックよりなる光散乱粒子を含有するガラス、樹脂等の厚さ約300μmの透光性材料、特に、耐熱性の高い透光性材料よりなる。尚、光散乱層222は、図2に示すごとく、波長変換層221と光源モジュール1との間に設けることが好ましい。   The light scattering layer 222 is made of a translucent material having a thickness of about 300 μm, such as glass or resin, which contains light scattering particles made of ceramic such as polycrystalline aluminum oxide (alumina), in particular, a translucent material having high heat resistance. Become. The light scattering layer 222 is preferably provided between the wavelength conversion layer 221 and the light source module 1 as shown in FIG.

誘電体多層反射層223は、SiO、TiO等の誘電体材料を交互に積層してたとえば厚さ約3μmとして構成され、光源モジュール1から出射されるたとえば青色光を透過し、波長変換層221の蛍光体により変換されたたとえば黄色光を反射するように光学設計されている。これにより、光源モジュール1への戻り光を抑制する。誘電体多層反射層223は波長変換層221の光源モジュール1側の全体に亘って形成される。 The dielectric multilayer reflective layer 223 is configured as SiO 2, a dielectric material are laminated alternately, for example a thickness of about 3μm such as TiO 2, and transmitted by for example the blue light emitted from the light source module 1, the wavelength conversion layer It is optically designed to reflect, for example, yellow light converted by the phosphor 221. Thereby, the return light to the light source module 1 is suppressed. The dielectric multilayer reflective layer 223 is formed over the entire light source module 1 side of the wavelength conversion layer 221.

金属反射層224は光モジュール1からの出射光に対して高い反射率たとえば85%以上を有するアルミニウム等の金属よりなる。金属反射層224は光ファイバ3が存在する領域以外の領域に形成される。   The metal reflection layer 224 is made of a metal such as aluminum having a high reflectivity with respect to the light emitted from the optical module 1, for example, 85% or more. The metal reflection layer 224 is formed in a region other than the region where the optical fiber 3 exists.

保持部材21と波長変換部材22との間の接合部23は金属バンプ231を有する。金属バンプ231は、熱伝導性の高いものが好ましく、Au、Al、Cu、Ag、Ni等の金属、SnAg等のはんだ、あるいはAuSn等の合金よりなる。金属バンプ231は、たとえば、直径約75μm、高さ約20μmであり、金属ワイヤの先端を溶融してボール状として、あるいは、金属粒子の焼結材たとえばAu粒子、Ag粒子、またはCu粒子の焼結材として、保持部材21上へ供給することにより形成する。 The joint portion 23 between the holding member 21 and the wavelength conversion member 22 has metal bumps 231. The metal bump 231 preferably has high thermal conductivity, and is made of a metal such as Au, Al, Cu, Ag, or Ni, a solder such as SnAg, or an alloy such as AuSn. The metal bump 231 has, for example, a diameter of about 75 μm and a height of about 20 μm, and melts the tip of the metal wire into a ball shape, or a sintered material of metal particles such as Au particles, Ag particles, or Cu particles. The binder is formed by supplying it onto the holding member 21.

金属バンプ231を介して接合される保持部材21及び波長変換層22の接合領域には、Ti(0.06μm)/Pt(0.2μm)/Au(1.0μm)あるいはTi(0.06μm)/Ni(0.2μm)/Au(1.0μm)よりなる接合用金属層232、233を形成する。これにより金属バンプ231と接合用金属層232、233との間に金属原子を相互に拡散させて固相拡散接合させ、機械的強度を十分に確保する。金属バンプ231の形成方法としては、バンプの組成によりめっき法、またはワイヤーボンディング時に用いるボールボンダにより金属細線を使用したボールボンディング法により形成することができる。この金属バンプ231を利用した接合部23は低融点ガラス、樹脂等の熱伝導性接着剤に比較して接合信頼性及び放熱性に優れている。
尚、保持部材21及び波長変換部材22の線膨張係数は、接合部23への熱応力発生を抑制するために、互いに近いことが好ましい。
Ti (0.06 μm) / Pt (0.2 μm) / Au (1.0 μm) or Ti (0.06 μm) is provided in the joining region of the holding member 21 and the wavelength conversion layer 22 joined via the metal bump 231. Bonding metal layers 232 and 233 made of / Ni (0.2 μm) / Au (1.0 μm) are formed. As a result, metal atoms are diffused between the metal bumps 231 and the bonding metal layers 232 and 233 to form solid phase diffusion bonding, thereby ensuring sufficient mechanical strength. As a method for forming the metal bump 231, the metal bump 231 can be formed by a plating method depending on the composition of the bump, or a ball bonding method using a fine metal wire by a ball bonder used at the time of wire bonding. The joint 23 using the metal bump 231 is superior in joining reliability and heat dissipation compared to a heat conductive adhesive such as low melting point glass or resin.
In addition, it is preferable that the linear expansion coefficients of the holding member 21 and the wavelength conversion member 22 are close to each other in order to suppress generation of thermal stress on the joint portion 23.

反射部材24は、保持部材21上に配置され保持部材21と波長変換部材22との接合部23を囲む枠241、保持部材21上に配置され枠241及び波長変換部材22の側面を離間して囲む枠242、及び波長変換部材22の側面と枠241との間に充填配置される反射層243によって構成されている。   The reflecting member 24 is disposed on the holding member 21 and surrounds the joint portion 23 between the holding member 21 and the wavelength converting member 22. The reflecting member 24 is disposed on the holding member 21 and separates the side surfaces of the frame 241 and the wavelength converting member 22. The surrounding frame 242 and the reflective layer 243 filled between the side surface of the wavelength conversion member 22 and the frame 241 are configured.

枠241は反射層243が波長変換部材22の底部に回り込むのを防止すると共に、接合部23からの光が波長変換部材22の側面に入射しないようにする。枠241は、流動性を有する材料で塗布形成する場合、高粘度で保持部材21上に供給できチクソ性の樹脂あるいはガラスにより形成する。たとえば、二酸化チタンからなる光散乱粒子を含有するシリコーン樹脂により形成する。
枠242は反射層243を堰止める役目をなす。枠242は、流動性を有する材料で塗布形成する場合、高粘度で保持部材21上に補給できチクソ性の樹脂あるいはガラスにより形成する。
反射層243は波長変換部材22の側面に密着しているので、波長変換部材22の発光面形状及びサイズを確定し、発光部と非発光部との輝度差を明確にし、これにより、明暗境界を明瞭にできる。たとえば、光源装置を車両用前照灯として用いると、カットオフラインを明瞭にできる。反射層243は透光性散乱粒子を分散した透光性材料たとえば樹脂もしくはガラスにより形成する。
The frame 241 prevents the reflection layer 243 from entering the bottom of the wavelength conversion member 22 and prevents light from the joint 23 from entering the side surface of the wavelength conversion member 22. The frame 241 is formed of a thixotropic resin or glass that can be supplied onto the holding member 21 with a high viscosity when applied and formed with a material having fluidity. For example, it is formed of a silicone resin containing light scattering particles made of titanium dioxide.
The frame 242 serves to block the reflective layer 243. The frame 242 is formed of a thixotropic resin or glass that can be replenished on the holding member 21 with a high viscosity when it is applied and formed with a material having fluidity.
Since the reflective layer 243 is in close contact with the side surface of the wavelength conversion member 22, the light emitting surface shape and size of the wavelength conversion member 22 are determined, and the luminance difference between the light emitting portion and the non-light emitting portion is clarified. Can be clarified. For example, when the light source device is used as a vehicle headlamp, the cut-off line can be made clear. The reflective layer 243 is formed of a translucent material in which translucent scattering particles are dispersed, for example, resin or glass.

保持部材21の上面、正確には、サブマウント212上の接合用金属層232上には、保持部材21の内部応力を検出するためのひずみゲージ21aが、金属バンプ231に接触しないように、形成されている。すなわち、図3の(A)に示すように、ひずみゲージ21aはジグザク形状の抵抗体で、変形により電気抵抗の変化の大きいたとえば銅ニッケル合金、白金タングステン合金等の合金、あるいは応力により電気抵抗率が変化するいわゆるピエゾ抵抗効果を奏する適宜不純物を添加した炭素、ゲルマニウム、シリコン等の半導体よりなる。この場合、波長変換部材22が脱落もしくはクラック等により脱落しそうな状態になると、ひずみゲージ21aの抵抗値は大きくなる。ひずみゲージ21aはその両端の電極21a−1、21a−2と共に、保持部材21の接合用金属層232の上面に絶縁層たとえば酸化シリコン層21b(図2参照)を介して形成される。尚、このとき、後述のひずみゲージ22aの電極22a−1、22a−2に接続される引出電極22b−1、22b−2も保持部材21の上面に形成される。また、図3の(A)において、貫通孔21cは図2のキャップ211の貫通孔211aに対応する。   A strain gauge 21 a for detecting internal stress of the holding member 21 is formed on the upper surface of the holding member 21, specifically, on the bonding metal layer 232 on the submount 212 so as not to contact the metal bump 231. Has been. That is, as shown in FIG. 3A, the strain gauge 21a is a zigzag-shaped resistor whose electrical resistance changes greatly due to deformation, such as an alloy such as a copper-nickel alloy or a platinum-tungsten alloy, or an electrical resistivity due to stress. It is made of a semiconductor such as carbon, germanium, silicon or the like to which an appropriate impurity is added that exhibits a so-called piezoresistance effect. In this case, if the wavelength converting member 22 is likely to fall off due to dropping or cracking, the resistance value of the strain gauge 21a increases. The strain gauge 21a is formed on the upper surface of the joining metal layer 232 of the holding member 21 via an insulating layer, for example, a silicon oxide layer 21b (see FIG. 2), along with the electrodes 21a-1 and 21a-2 at both ends. At this time, lead electrodes 22b-1 and 22b-2 connected to electrodes 22a-1 and 22a-2 of a strain gauge 22a described later are also formed on the upper surface of the holding member 21. 3A, the through hole 21c corresponds to the through hole 211a of the cap 211 in FIG.

波長変換部材22の下面には、正確には、接合用金属層233の下面には、波長変換部材22の内部応力を検出するためのひずみゲージ22aが、金属バンプ231に接触しないように、形成されている。すなわち、図3の(B)に示すように、ひずみゲージ22aもジグザク形状の抵抗体で、変形により電気抵抗の変化の大きい合金、あるいは応力により電気抵抗率が変化するいわゆるピエゾ抵抗効果を奏する半導体よりなる。この場合も、波長変換部材22の脱落もしくはクラック等により脱落しそうな状態になると、ひずみゲージ22aの抵抗値は大きくなる。ひずみゲージ22aはその両端の電極22a−1、22a−2と共に、波長変換部材22aの下面に絶縁層たとえば酸化シリコン層22c(図2参照)を介して形成される。波長変換部材22は平板状に多面取り可能な所定形状をなしており、車両用前照灯の場合、たとえば約0.4mm×約0.8mmの矩形をなしている。尚、図3の(B)において、レーザ光照射範囲22dは図2のキャップ211の貫通孔211aにほぼ対応する。   On the lower surface of the wavelength conversion member 22, more precisely, on the lower surface of the bonding metal layer 233, a strain gauge 22 a for detecting internal stress of the wavelength conversion member 22 is formed so as not to contact the metal bump 231. Has been. That is, as shown in FIG. 3B, the strain gauge 22a is also a zigzag resistor, an alloy having a large change in electric resistance due to deformation, or a semiconductor having a so-called piezoresistance effect in which the electric resistivity changes due to stress. It becomes more. Also in this case, the resistance value of the strain gauge 22a increases when the wavelength conversion member 22 is likely to drop due to dropping or cracking. The strain gauge 22a is formed on the lower surface of the wavelength conversion member 22a together with the electrodes 22a-1 and 22a-2 at both ends thereof via an insulating layer such as a silicon oxide layer 22c (see FIG. 2). The wavelength conversion member 22 has a predetermined shape that can be flattened in a flat plate shape. In the case of a vehicle headlamp, the wavelength conversion member 22 has, for example, a rectangle of about 0.4 mm × about 0.8 mm. In FIG. 3B, the laser beam irradiation range 22d substantially corresponds to the through hole 211a of the cap 211 in FIG.

波長変換部材22が金属バンプ231を介して保持部材21に接合されたときに、ひずみゲージ22aの電極22a−1、22a−2も金属バンプ231’を介して保持部材21の引出電極22b−1、22b−2に接続される。この場合、金属バンプ231’は金属バンプ231と同一材料であり、同時に形成されるが、金属バンプ231に比較して少し小さい。   When the wavelength conversion member 22 is joined to the holding member 21 via the metal bump 231, the electrodes 22 a-1 and 22 a-2 of the strain gauge 22 a are also connected to the lead electrode 22 b-1 of the holding member 21 via the metal bump 231 ′. , 22b-2. In this case, the metal bump 231 ′ is made of the same material as the metal bump 231 and is formed at the same time, but is slightly smaller than the metal bump 231.

保持部材21のひずみゲージ21aの電極21a−1、21a−2、及び波長変換部材22のひずみゲージ22aの引出電極22b−1、22b−2は図2の枠241の外側まで突出し、図1の制御モジュール4にAuワイヤ、リボン、フレキシブル基板等によって接続される。これにより、ひずみゲージ21a、21bの電圧Vg1、Vg2が制御モジュール4に取出される。 The electrodes 21a-1 and 21a-2 of the strain gauge 21a of the holding member 21 and the lead electrodes 22b-1 and 22b-2 of the strain gauge 22a of the wavelength conversion member 22 protrude to the outside of the frame 241 in FIG. The control module 4 is connected by an Au wire, a ribbon, a flexible substrate, or the like. Thereby, the voltages V g1 and V g2 of the strain gauges 21 a and 21 b are taken out to the control module 4.

図4は図1の制御モジュール4の詳細な回路図である。   FIG. 4 is a detailed circuit diagram of the control module 4 of FIG.

図4において、制御モジュール4は、保持部材21のひずみゲージ電圧Vg1を検出する電圧検出回路41、波長変換部材22のひずみゲージ電圧Vg2を検出する電圧検出回路42、光源モジュール1のレーザダイオード素子11を駆動するレーザダイオード素子駆動回路43、及びマイクロコンピュータよりなる制御ユニット44よりなる。尚、マイクロコンピュータは、CPU、ROM、RAM、アナログ/ディジタル(A/D)変換器等を内蔵している。 4, the control module 4 includes a voltage detection circuit 41 that detects the strain gauge voltage V g1 of the holding member 21, a voltage detection circuit 42 that detects the strain gauge voltage V g2 of the wavelength conversion member 22, and a laser diode of the light source module 1. It comprises a laser diode element driving circuit 43 for driving the element 11 and a control unit 44 comprising a microcomputer. The microcomputer includes a CPU, a ROM, a RAM, an analog / digital (A / D) converter, and the like.

電圧検出回路41は、抵抗4111、4112、4113を有し、ひずみゲージ21aと共に構成されるブリッジ回路411と、オペアンプ4121及び抵抗4122、4123よりなり、ブリッジ回路411の2つの出力の差電圧を増幅する差動増幅器412とを有する。同様に、電圧検出回路42は、抵抗4211、4212、4213を有し、ひずみゲージ22aと共に構成されるブリッジ回路421と、オペアンプ4221及び抵抗4222、4223よりなり、ブリッジ回路421の2つの出力の差電圧を増幅する差動増幅器422とを有する。   The voltage detection circuit 41 includes resistors 4111, 4112, and 4113, and includes a bridge circuit 411 configured with the strain gauge 21a, an operational amplifier 4121, and resistors 4122 and 4123, and amplifies a differential voltage between two outputs of the bridge circuit 411. Differential amplifier 412. Similarly, the voltage detection circuit 42 includes resistors 4211, 4212, and 4213, and includes a bridge circuit 421 configured with the strain gauge 22a, an operational amplifier 4221 and resistors 4222 and 4223, and a difference between two outputs of the bridge circuit 421. And a differential amplifier 422 for amplifying the voltage.

図5は図1の制御ユニット44の動作を説明するためのフローチャートである。尚、図5のルーチンは所定時間毎に実行される。   FIG. 5 is a flowchart for explaining the operation of the control unit 44 of FIG. The routine shown in FIG. 5 is executed every predetermined time.

始めに、ステップ501にて、光源スイッチ6がオンか否かを判別し、光源スイッチ6がオンのときのみステップ502に進む。他方、光源スイッチ6がオフのときには、ステップ511にてレーザダイオード素子11をオフとすると共に、ステップ512にてアラーム5をオフとする。   First, in step 501, it is determined whether or not the light source switch 6 is on. The process proceeds to step 502 only when the light source switch 6 is on. On the other hand, when the light source switch 6 is off, the laser diode element 11 is turned off at step 511 and the alarm 5 is turned off at step 512.

ステップ502にて、温度センサ7の温度TをA/D変換して取込む。   In step 502, the temperature T of the temperature sensor 7 is A / D converted and captured.

次に、ステップ503にて、ひずみゲージ21aのひずみゲージ電圧Vg1(実際には、電圧検出回路41の出力電圧Vd1)をA/D変換して取込む。 Next, in step 503, the strain gauge voltage V g1 of the strain gauge 21a (actually, the output voltage V d1 of the voltage detection circuit 41) is A / D converted and captured.

次に、ステップ504にて、ひずみゲージ電圧Vg1の温度依存性を補正する。たとえば、温度Tが上昇すると、ひずみゲージ電圧Vg1は上昇するので、図6の実線に示す補正係数αをROMより読出し、
g1←Vg1・α
としてひずみゲージ電圧Vg1を補正する。尚、ひずみゲージ21aが半導体で形成されているときには、負温度依存性を示すので、図6の点線に示す補正係数αを読出す。
Next, in step 504, the temperature dependence of the strain gauge voltage Vg1 is corrected. For example, when the temperature T rises, the strain gauge voltage V g1 rises, so the correction coefficient α shown by the solid line in FIG.
V g1 ← V g1・ α
The strain gauge voltage V g1 is corrected as follows. When the strain gauge 21a is formed of a semiconductor, it shows negative temperature dependence, so the correction coefficient α indicated by the dotted line in FIG. 6 is read.

次に、ステップ505にて、Vg1≧VR1(所定値)か否かによって波長変換部材22が脱落したか否かを判別する。この結果、Vg1≧VR1のときには、波長変換部材22が脱落したとみなしてステップ511にてレーザダイオード素子11をオフにしてコヒーレント光の発生を阻止すると共に、ステップ512にてアラーム5はオフとする。他方、Vg1<VR1のときには、ステップ506に進む。 Next, in step 505, it is determined whether or not the wavelength conversion member 22 has dropped out depending on whether or not V g1 ≧ V R1 (predetermined value). As a result, when V g1 ≧ V R1 , it is considered that the wavelength conversion member 22 has dropped, and the laser diode element 11 is turned off in step 511 to prevent the generation of coherent light, and the alarm 5 is turned off in step 512. And On the other hand, when V g1 <V R1 , the process proceeds to step 506.

ステップ506にて、ひずみゲージ電圧Vg2(実際には、電圧検出回路42の出力電圧Vd2)をA/D変換して取込み、次いで、ステップ507にて、ステップ504と同様に、ひずみゲージ電圧Vg2を、
g2←Vg2・α
と補正し、ステップ508にて、Vg2≧VR1か否かによって波長変換部材22が脱落したか否かを判別する。この結果、Vg2≧VR1のときには、波長変換部材22が脱落したとみなしてステップ511にてレーザダイオード素子11をオフにしてコヒーレント光の発生を阻止すると共に、ステップ512にてアラーム5はオフとする。他方、Vg2<VR1のときには、ステップ509に進む。
In step 506, the strain gauge voltage V g2 (actually, the output voltage V d2 of the voltage detection circuit 42) is A / D converted and taken in, and then in step 507, as in step 504, the strain gauge voltage V g2
V g2 ← V g2・ α
Correction and, at step 508, the wavelength conversion member 22, it is determined whether or not to fall off depending on whether the V g2V R1. As a result, when V g2VR1 , it is considered that the wavelength conversion member 22 has dropped, and the laser diode element 11 is turned off in step 511 to prevent the generation of coherent light, and the alarm 5 is turned off in step 512. And On the other hand, when V g2 <V R1 , the process proceeds to step 509.

このように、ひずみゲージの電圧Vg1、Vg2のいずれかがVR1以上のときに、波長変換部材22が脱落したとみなしてレーザダイオード素子11をオフとし、これにより、コヒーレント光の出射を阻止する。 Thus, when either of the strain gauge voltages V g1 and V g2 is equal to or higher than V R1, it is considered that the wavelength conversion member 22 has fallen, and the laser diode element 11 is turned off, thereby emitting coherent light. Stop.

ステップ509にて、ひずみゲージ電圧Vg1がVd1≧VR2(所定値)、但し、VR2はVR1より小さい、か否かによってたとえば接合部23等にクラックが発生して波長変換部材22が脱落しそうな状態にあるか否かを判別する。この結果、Vg1≧VR2のときには、波長変換部材22が脱落しそうな状態とみなし、ステップ513にてレーザダイオード素子11をオンとするが、ステップ514にて脱落の予知としてアラーム5をオンにする。他方、Vg1<VR2のときに、ステップ510に進む。 In step 509, the wavelength conversion member 22 is cracked by, for example, the joint 23 depending on whether or not the strain gauge voltage V g1 is V d1 ≧ V R2 (predetermined value), but V R2 is smaller than V R1. It is determined whether or not is in a state where it is likely to drop out. As a result, when V g1VR2 , it is considered that the wavelength conversion member 22 is likely to fall off, and the laser diode element 11 is turned on at step 513, but the alarm 5 is turned on at step 514 as a prediction of dropping. To do. On the other hand, when V g1 <V R2 , the routine proceeds to step 510.

ステップ510にて、ひずみゲージ電圧Vg2がVg2≧VR2か否かによって波長変換部材22が脱落しそうな状態にあるか否かを判別する。この結果、Vg2≧VR2のときには、波長変換部材22が脱落しそうな状態とみなしてステップ513ではレーザダイオード素子11をオンとするが、ステップ514にて脱落の予知としてアラーム5をオンにする。他方、Vg2<VR2のときに、ステップ515に進む。 In step 510, the strain gauge voltage V g2 is the wavelength conversion member 22 by whether V g2V R2 it is determined whether the likely condition falling. As a result, when V g2VR2 , it is considered that the wavelength conversion member 22 is likely to fall off, and in step 513, the laser diode element 11 is turned on. In step 514, the alarm 5 is turned on as a prediction of dropping. . On the other hand, when V g2 <V R2 , the process proceeds to step 515.

このように、たとえ波長変換部材22が脱落していないとみなされても、ひずみゲージ電圧Vg1、Vg2のいずれかがVR1未満かつVR2以上のときに、波長変換部材22が脱落しそうな状態とみなし、レーザダイオード素子11をオンとしつつ、レーザダイオード素子11の脱落の予知としてアラーム5をオンにする。 Thus, even if considered as the wavelength conversion member 22 is not falling, the strain when any of the gauge voltage V g1, V g2 is equal to or higher than V R1 below and V R2, likely the wavelength conversion member 22 falls off Assuming that the laser diode element 11 is turned on, the alarm 5 is turned on as a prediction that the laser diode element 11 will drop off.

他方、ステップ515では、正常状態としてレーザダイオード素子11をオンにし、次いで、ステップ516では、アラーム5をオフとする。   On the other hand, in step 515, the laser diode element 11 is turned on as a normal state, and then in step 516, the alarm 5 is turned off.

そして、ステップ517にてこのルーチンは終了する。   In step 517, this routine ends.

図7は図1の光源装置の製造方法を説明するためのフローチャートである。   FIG. 7 is a flowchart for explaining a method of manufacturing the light source device of FIG.

保持部材(キャップ除く)形成工程701において、たとえばAlNよりなるサブマウント212上にたとえば厚さ約0.6μmのTi、厚さ約0.2μmのPt及び厚さ約1.0μmのAuをスパッタリング法によって順次成膜することによって接合用金属層232を形成する。次いで、酸化シリコン層21bをCVD法によって形成し、その上にひずみゲージ用合金もしくは半導体をスパッタリング法等によって形成し、フォトリソグラフィ/エッチング法によってパターニングして図3の(A)のひずみゲージ21a、電極21a−1、21a−2、引出電極22b−1、22b−2を形成する。次いで、キャップ211の貫通孔211aに対応する貫通孔21cを開口すると共に、ダイシングにより個片化する。   In the holding member (excluding the cap) forming step 701, for example, about 0.6 μm thick Ti, about 0.2 μm thick Pt, and about 1.0 μm thick Au are sputtered onto the submount 212 made of, for example, AlN. Then, the bonding metal layer 232 is formed by sequentially forming the layers. Next, a silicon oxide layer 21b is formed by a CVD method, a strain gauge alloy or a semiconductor is formed thereon by a sputtering method or the like, and is patterned by a photolithography / etching method to form a strain gauge 21a in FIG. Electrodes 21a-1, 21a-2 and lead electrodes 22b-1, 22b-2 are formed. Next, the through hole 21c corresponding to the through hole 211a of the cap 211 is opened and separated into pieces by dicing.

他方、波長変換部材形成工程702においては、たとえばYAGセラミック焼結体を波長変換層221として準備し、この波長変換層221上に薄い多結晶アルミナを分散積層して一体焼結して光散乱層222を形成する。次いで、SiO、TiOの交互積層よりなる誘電体多層反射層223、アルミニウムよりなる金属反射層224、たとえば厚さ約0.6μmのTi、厚さ約0.2μmのP及び厚さ約1.0μmのAuよりなる接合用金属層233をスパッタリング法によって形成する。次いで、酸化シリコン層22cをCVD法によって形成し、その上にひずみゲージ用合金もしくは半導体をスパッタリング法等によって形成し、フォトリソグラフィ/エッチング法によってパターニングして図3の(B)のひずみゲージ22a、電極22a−1、22a−2を形成する。次いで、ダイシングにより個片化する。 On the other hand, in the wavelength converting member forming step 702, for example, a YAG ceramic sintered body is prepared as the wavelength converting layer 221, and thin polycrystalline alumina is dispersed and laminated on the wavelength converting layer 221 and integrally sintered to form a light scattering layer. 222 is formed. Next, a dielectric multilayer reflective layer 223 composed of alternating layers of SiO 2 and TiO 2 , a metal reflective layer 224 composed of aluminum, for example, Ti having a thickness of about 0.6 μm, P having a thickness of about 0.2 μm, and a thickness of about 1 A bonding metal layer 233 made of 0.0 μm Au is formed by sputtering. Next, a silicon oxide layer 22c is formed by a CVD method, and a strain gauge alloy or semiconductor is formed on the silicon oxide layer 22c by a sputtering method or the like, and is patterned by a photolithography / etching method to form the strain gauge 22a in FIG. Electrodes 22a-1 and 22a-2 are formed. Next, it is separated into pieces by dicing.

次に、波長変換部材/保持部材(キャップ除く)接合工程703においては、金線を用いたワイヤボンディング装置を用い、保持部材21の接合用金属層232上にAuよりなる金属バンプ231を形成し、また、同時に引出電極22b−1、22b−2上にAuよりなる金属バンプ231’を形成する。尚、金属バンプ231’のサイズは金属バンプ231のサイズより少し小さい。次いで、波長変換部材22を保持部材21の金属バンプ231、231’上に超音波振動を付与した熱圧着により接合する。この結果、保持部材21上の接合用金属層232と波長変換部材22上の接合用金属層233とが金属バンプ231によって接続され、また、同時に、波長変換部材22側のひずみゲージ22aの電極22a−1、22a−2が金属バンプ231’によって保持部材21側の引出電極22b−1、22b−2に接続される。   Next, in the wavelength conversion member / holding member (excluding cap) bonding step 703, a metal bump 231 made of Au is formed on the bonding metal layer 232 of the holding member 21 using a wire bonding apparatus using a gold wire. At the same time, a metal bump 231 ′ made of Au is formed on the extraction electrodes 22b-1 and 22b-2. The size of the metal bump 231 ′ is slightly smaller than the size of the metal bump 231. Next, the wavelength conversion member 22 is bonded onto the metal bumps 231 and 231 ′ of the holding member 21 by thermocompression bonding with ultrasonic vibration. As a result, the bonding metal layer 232 on the holding member 21 and the bonding metal layer 233 on the wavelength conversion member 22 are connected by the metal bumps 231 and, at the same time, the electrode 22a of the strain gauge 22a on the wavelength conversion member 22 side. -1 and 22a-2 are connected to the extraction electrodes 22b-1 and 22b-2 on the holding member 21 side by metal bumps 231 '.

次に、キャップ接合工程704においては、キャップ211に波長変換部材22が接合させたサブマウント212をAgフィラを含有した熱伝導性接着層213によって接合する。   Next, in the cap bonding step 704, the submount 212 in which the wavelength conversion member 22 is bonded to the cap 211 is bonded by the thermally conductive adhesive layer 213 containing Ag filler.

次に、反射部材工程705においては、液体定量吐出装置を用いて二酸化チタンからなる光散乱粒子を含有したシリコーン樹脂を接合部23を覆うようにサブマウント212上に塗布して高さ約200μmの枠241を形成する。この場合、波長変換層221は覆われない。これにより、接合部23は閉空間となる。次いで、液体定量吐出装置を用いて二酸化チタンからなる光散乱粒子を含有したシリコーン樹脂をキャップ211上に塗布して波長変換層221とほぼ同一高さ約880μmの枠242を形成する。この段階で、保持部材21上の電極22a−1、22a−2及び引出電極22b−1、22b−2を制御モジュール4に接続できるように、フレキシブル基板等を接続しておく。次いで、液体定量吐出装置を用いて枠241と枠242との間に流動性の大きい二酸化チタンからなる光散乱粒子を含有したシリコーン樹脂を充填して反射層243を形成し、波長変換層221の側面は反射層243によって完全に覆われることになる。これにより、波長変換モジュール2が完成する。   Next, in the reflecting member process 705, a silicone resin containing light scattering particles made of titanium dioxide is applied on the submount 212 so as to cover the joint portion 23 using a liquid dispensing apparatus, and a height of about 200 μm is applied. A frame 241 is formed. In this case, the wavelength conversion layer 221 is not covered. Thereby, the junction part 23 becomes a closed space. Next, a silicone resin containing light scattering particles made of titanium dioxide is applied onto the cap 211 by using a liquid quantitative discharge device to form a frame 242 having a height of about 880 μm and approximately the same height as the wavelength conversion layer 221. At this stage, a flexible substrate or the like is connected so that the electrodes 22 a-1 and 22 a-2 and the extraction electrodes 22 b-1 and 22 b-2 on the holding member 21 can be connected to the control module 4. Next, the reflective layer 243 is formed by filling a silicone resin containing light scattering particles made of titanium dioxide having high fluidity between the frame 241 and the frame 242 using a liquid quantitative discharge device, and the wavelength conversion layer 221. The side surface is completely covered by the reflective layer 243. Thereby, the wavelength conversion module 2 is completed.

最後に、波長変換モジュール/光源モジュール接合工程706において、光ファイバ3の一端を光源モジュール1に入射側光ファイバコネクタ31を介して取付け、また、光ファイバ3の他端を出射側光ファイバコネクタ32を介し波長変換モジュール2に取付ける。このとき、光ファイバ3はキャップ211の貫通孔211aを通過して波長変換部材22に当接する。これにより、図1の光源装置が完成する。   Finally, in the wavelength conversion module / light source module joining step 706, one end of the optical fiber 3 is attached to the light source module 1 via the incident side optical fiber connector 31, and the other end of the optical fiber 3 is connected to the output side optical fiber connector 32. It is attached to the wavelength conversion module 2 via At this time, the optical fiber 3 passes through the through hole 211 a of the cap 211 and comes into contact with the wavelength conversion member 22. Thereby, the light source device of FIG. 1 is completed.

図8は本発明に係る光源装置の第2の実施の形態を示す断面図である。図1において、光源モジュール1と波長変換モジュール2とはリング状の取付部材3’によって接続されており、従って、図1の光ファイバ3、その入射側光ファイバコネクタ31及び射側光ファイバコネクタ32は設けられていない。   FIG. 8 is a sectional view showing a second embodiment of the light source device according to the present invention. In FIG. 1, the light source module 1 and the wavelength conversion module 2 are connected by a ring-shaped attachment member 3 ′. Accordingly, the optical fiber 3 of FIG. 1, its incident side optical fiber connector 31 and emission side optical fiber connector 32. Is not provided.

図8においては、非球面レンズよりなる凸レンズ13はレーザダイオード素子11からの出射光をキャップ211の入射端面に集結させる。これにより、レーザダイオード素子11からのレーザ光はキャップ211の貫通孔211aを通過して波長変換部材22を照射する。   In FIG. 8, the convex lens 13 made of an aspheric lens concentrates the emitted light from the laser diode element 11 on the incident end face of the cap 211. Thereby, the laser light from the laser diode element 11 passes through the through hole 211a of the cap 211 and irradiates the wavelength conversion member 22.

図9は図8の光源装置の製造方法を説明するためのフローチャートである。図9においては、図7の波長変換モジュール/光源モジュール接合工程706の代りに波長変換モジュール/光源モジュール接合工程706’を設けてある。   FIG. 9 is a flowchart for explaining a method of manufacturing the light source device of FIG. In FIG. 9, a wavelength conversion module / light source module joining step 706 'is provided instead of the wavelength conversion module / light source module joining step 706 of FIG.

波長変換モジュール/光源モジュール接合工程706’においては、光源モジュール1上に調芯機を用いてSUSよりなる取付部材3’の下端を溶接にて接合する。次いで、波長変換モジュール2のキャップ211と取付部材3’の上端とを熱伝導性接着層(図示せず)によって接続する。これにより、図8の光源装置は完成する。   In the wavelength conversion module / light source module joining step 706 ', the lower end of the attachment member 3' made of SUS is joined to the light source module 1 by welding using a centering machine. Next, the cap 211 of the wavelength conversion module 2 and the upper end of the attachment member 3 ′ are connected by a heat conductive adhesive layer (not shown). Thereby, the light source device of FIG. 8 is completed.

上述の実施の形態における光源装置は図10に示す車両用前照灯に適用される。   The light source device in the above-described embodiment is applied to the vehicle headlamp shown in FIG.

たとえば、図10の(A)はプロジェクタ(投影)型車両用前照灯を示し、光源装置101は、図1もしくは図8の光源装置を上向きに配置したものである。光源装置101の側方から前方にかけて覆うように設けられたリフレクタ102と、車両の前方側に配置された投影レンズ103との間に設けられ、対向車両が眩しくならないようにするカットオフライン形成用遮光部材(シェード)104とが、投影光学ユニットU1を構成している。   For example, FIG. 10A shows a projector (projection) type vehicle headlamp, and the light source device 101 has the light source device of FIG. 1 or FIG. 8 arranged upward. A cut-off line forming light shield provided between the reflector 102 provided so as to cover from the side of the light source device 101 to the front and the projection lens 103 disposed on the front side of the vehicle so that the oncoming vehicle is not dazzled. The member (shade) 104 constitutes the projection optical unit U1.

リフレクタ102は成形樹脂基材及びその内面に形成されたAl、Ag等よりなる高反射率の金属反射層よりなる回転楕円体をなしている。この場合、リフレクタ102の第1焦点F1は光源装置101の波長変換部材22(図1、図8参照)近傍に存在し、他方、リフレクタ102の第2焦点F2はシェード104近傍に存在する。従って、光源装置101の波長変換部材22近傍の像が投影光学ユニットU1によって車両前端部に正対した仮想垂直スクリーン上に配光パターンとして形成される。このとき、投影される配光パターンはシェード104によって遮光されてカットオフラインを形成する。   The reflector 102 has a spheroid made of a highly reflective metal reflective layer made of Al, Ag or the like formed on the inner surface of the molded resin base material. In this case, the first focal point F1 of the reflector 102 exists in the vicinity of the wavelength conversion member 22 (see FIGS. 1 and 8) of the light source device 101, while the second focal point F2 of the reflector 102 exists in the vicinity of the shade 104. Accordingly, an image in the vicinity of the wavelength conversion member 22 of the light source device 101 is formed as a light distribution pattern on the virtual vertical screen facing the front end of the vehicle by the projection optical unit U1. At this time, the projected light distribution pattern is shielded by the shade 104 to form a cut-off line.

また、図10の(B)はリフレクタ型車両用前照灯を示し、光源装置201は、図1もしくは図8の光源装置を上向きに配置したものである。光源装置201の側方から前方にかけて覆うように設けられたリフレクタ202が投影光学ユニットU2を構成している。   FIG. 10B shows a reflector type vehicle headlamp, and the light source device 201 has the light source device of FIG. 1 or FIG. 8 arranged upward. A reflector 202 provided so as to cover from the side of the light source device 201 to the front constitutes the projection optical unit U2.

リフレクタ202は成形樹脂基材及びその内面に形成されたAl、Ag等よりなる高反射率の金属反射層よりなる放物面体をなしている。但し、この場合、リフレクタ202は小反射領域に区画されていてもよい。また、回転放物面だけでなく、放物面を基本とした自由曲面を含むものである。リフレクタ202の焦点F3は光源装置201の波長変換部材22(図1、図8参照)近傍に存在する。従って、光源装置201の波長変換部材22近傍の像が投影光学ユニットU2つまりリフレクタ202によって車両前端部に正対した仮想垂直スクリーン上に配光パターンとして形成される。   The reflector 202 has a paraboloid body made of a molded resin base material and a highly reflective metal reflective layer made of Al, Ag or the like formed on the inner surface thereof. However, in this case, the reflector 202 may be partitioned into small reflection areas. Moreover, it includes not only a rotating paraboloid but also a free-form surface based on a paraboloid. The focal point F3 of the reflector 202 exists in the vicinity of the wavelength conversion member 22 (see FIGS. 1 and 8) of the light source device 201. Accordingly, an image in the vicinity of the wavelength conversion member 22 of the light source device 201 is formed as a light distribution pattern on the virtual vertical screen facing the front end of the vehicle by the projection optical unit U2, that is, the reflector 202.

さらに、図10の(C)は直射投影型車両用前照灯を示し、光源装置301は、図1もしくは図8の光源装置を横向きに配置したものである。車両の前方側に配置された投影レンズ302と、光源装置301と投影レンズ302との間に設けられたシェード303とが、投影光学ユニットU3を構成している。   Further, FIG. 10C shows a direct-projection type vehicle headlamp, and the light source device 301 is obtained by arranging the light source device of FIG. 1 or FIG. 8 sideways. A projection lens 302 disposed on the front side of the vehicle and a shade 303 provided between the light source device 301 and the projection lens 302 constitute a projection optical unit U3.

投影レンズ302の焦点F4は光源装置301の波長変換部材22(図1、図8参照)近傍に存在する。従って、光源装置301の波長変換部材22近傍の像が投影光学ユニットU3によって車両前端部に正対した仮想垂直スクリーン上に配光パターンとして形成される。このとき、投影される配光パターンはシェード303によって遮光されてカットオフラインを形成する。   The focal point F4 of the projection lens 302 exists in the vicinity of the wavelength conversion member 22 (see FIGS. 1 and 8) of the light source device 301. Therefore, an image in the vicinity of the wavelength conversion member 22 of the light source device 301 is formed as a light distribution pattern on the virtual vertical screen facing the front end of the vehicle by the projection optical unit U3. At this time, the projected light distribution pattern is shielded by the shade 303 to form a cut-off line.

尚、上述の実施の形態においては、電圧検出回路41、42を常時オンとしてひずみゲージ21a、22aの電圧Vg1、Vg2を検出しているが、電圧検出回路41、42を間欠的にオンにしてもよい。これにより、消費電力を低減できる。但し、この場合、図6のルーチンの実行も電圧検出回路41、42のオン動作に同期させる。 In the above-described embodiment, the voltage detection circuits 41 and 42 are always turned on to detect the voltages V g1 and V g2 of the strain gauges 21a and 22a, but the voltage detection circuits 41 and 42 are intermittently turned on. It may be. Thereby, power consumption can be reduced. However, in this case, the execution of the routine of FIG. 6 is also synchronized with the ON operation of the voltage detection circuits 41 and 42.

また、光源装置を自動車用前照灯に適用した場合、環境温度が高くなり、ひずみゲージ21a、22aの電圧Vg1、Vg2に影響する場合がある。この場合、図5のステップ504、507にて環境温度を用いてひずみゲージ21a、22aの電圧Vg1、Vg2を補正しているので、環境温度による誤動作を防止できる。 In addition, when the light source device is applied to an automotive headlamp, the environmental temperature increases, which may affect the voltages V g1 and V g2 of the strain gauges 21a and 22a. In this case, since the voltages V g1 and V g2 of the strain gauges 21a and 22a are corrected using the environmental temperature in steps 504 and 507 of FIG. 5, malfunction due to the environmental temperature can be prevented.

さらにまた、保持部材21及び波長変換部材22の両方にひずみゲージを設けているが、いずれか一方でもよい。この場合には、図5におけるひずみゲージ電圧Vg1に関するステップもしくはひずみゲージ電圧Vg2に関するステップを省略する。 Furthermore, although the strain gauge is provided in both the holding member 21 and the wavelength conversion member 22, any one may be sufficient. In this case, the step relating to the strain gauge voltage V g1 or the step relating to the strain gauge voltage V g2 in FIG. 5 is omitted.

さらにまた、上述の実施の形態においては、レーザダイオード素子11の代りに、発光ダイオード(LED)素子を用いることもできる。
尚、接合部23として、金属バンプ231、接合用金属層232,232の代わりに、熱伝導性接着剤を用いてもよい。
Furthermore, in the above-described embodiment, a light emitting diode (LED) element can be used instead of the laser diode element 11.
As the bonding portion 23, a heat conductive adhesive may be used instead of the metal bump 231 and the bonding metal layers 232 and 232.

さらにまた、本発明は上述の実施の形態の自明の範囲内のいかなる変更にも適用し得る。   Furthermore, the present invention can be applied to any modifications within the obvious scope of the above-described embodiments.

本発明は車両用前照灯の照明装置以外に、他の車両用灯具、室内照明、街路灯、内視鏡等の照明装置にも利用できる。   The present invention can be used for lighting devices for other vehicle lamps, indoor lighting, street lamps, endoscopes and the like in addition to the lighting device for a vehicle headlamp.

1:光源モジュール
11:レーザダイオード素子
12:ステム
13:凸レンズ
14:筐体
2:波長変換モジュール
21:保持部材
211:キャップ
211a:貫通孔
212:サブマウント
213:熱伝導性接着層
21a:ひずみゲージ
21a−1、21a−2:電極
21b:酸化シリコン層
21c:貫通孔
22:波長変換部材
221:波長変換層
222:光散乱層
223:誘電体多層反射層
224:金属反射層
22a:ひずみゲージ
22a−1、22a−2:電極
22b−1、22b−2:引出電極
22c:酸化シリコン層
22d:レーザ光照射範囲
23:接合部
231:金属バンプ
231’:金属バンプ
232、233:接合用金属層
g1:ひずみゲージ21aの電圧
g2:ひずみゲージ22aの電圧
24:反射部材
241:枠
242:枠
243:反射層
3:光ファイバ
31:入射側光ファイバコネクタ
32:出射側光ファイバコネクタ
3’:取付部材
4:制御モジュール
41、42:電圧検出回路
411、421:ブリッジ回路
412、422:差動増幅器
43:レーザダイオード素子駆動回路
44:制御ユニット
5:アラーム
6:光源スイッチ
7:温度センサ
101:光源装置
102:リフレクタ
103:投影レンズ
104:シェード
201:光源装置
202:リフレクタ
301:光源装置
302:投影レンズ
303:シェード
U1、U2、U3:投影光学ユニット
1: Light source module 11: Laser diode element 12: Stem 13: Convex lens 14: Housing 2: Wavelength conversion module 21: Holding member 211: Cap 211a: Through hole 212: Submount 213: Thermally conductive adhesive layer 21a: Strain gauge 21a-1, 21a-2: Electrode 21b: Silicon oxide layer 21c: Through hole 22: Wavelength conversion member 221: Wavelength conversion layer 222: Light scattering layer 223: Dielectric multilayer reflective layer 224: Metal reflective layer 22a: Strain gauge 22a -1, 22a-2: Electrodes 22b-1, 22b-2: Lead electrodes 22c: Silicon oxide layer 22d: Laser light irradiation range 23: Joining portion 231: Metal bump 231 ′: Metal bump 232, 233: Joining metal layer V g1: strain voltage V g2 gauge 21a: voltage distortion gauge 22a 24: reflecting member 241: a frame 24 : Frame 243: Reflective layer 3: Optical fiber 31: Incident side optical fiber connector 32: Outgoing side optical fiber connector 3 ': Mounting member 4: Control module 41, 42: Voltage detection circuit 411, 421: Bridge circuit 412, 422: Differential amplifier 43: Laser diode element drive circuit 44: Control unit 5: Alarm 6: Light source switch 7: Temperature sensor 101: Light source device 102: Reflector 103: Projection lens 104: Shade 201: Light source device 202: Reflector 301: Light source device 302: Projection lens 303: Shades U1, U2, U3: Projection optical unit

Claims (9)

半導体発光素子と、
前記半導体発光素子からの出射光の一部を波長変換する波長変換部材と、
前記波長変換部材を保持する保持部材と、
前記波長変換部材及び前記保持部材の少なくとも一方に設けられたひずみゲージと
を具備する光源装置。
A semiconductor light emitting device;
A wavelength conversion member for wavelength-converting a part of the emitted light from the semiconductor light emitting element;
A holding member for holding the wavelength conversion member;
A light source device comprising: a strain gauge provided on at least one of the wavelength conversion member and the holding member.
さらに、
前記ひずみゲージの電圧に応じて前記半導体発光素子を制御する制御ユニットを具備する請求項1に記載の光源装置。
further,
The light source device according to claim 1, further comprising a control unit that controls the semiconductor light emitting element according to a voltage of the strain gauge.
前記制御ユニットは前記ひずみゲージの電圧が第1の所定値以上のときに前記波長変換部材の脱落とみなして前記半導体発光素子をオフにする請求項2に記載の光源装置。   3. The light source device according to claim 2, wherein when the voltage of the strain gauge is equal to or higher than a first predetermined value, the control unit considers that the wavelength conversion member is dropped and turns off the semiconductor light emitting element. 前記制御ユニットは前記ひずみゲージの電圧が第1の所定値未満かつ該第1の所定値より小さい第2の所定値以上のときに前記波長変換部材の脱落の予知としてアラームをオンにする請求項3に記載の光源装置。   The control unit turns on an alarm as a prediction of dropout of the wavelength conversion member when the voltage of the strain gauge is less than a first predetermined value and greater than a second predetermined value smaller than the first predetermined value. 4. The light source device according to 3. 前記半導体発光素子はレーザダイオード素子である請求項1に記載の光源装置。   The light source device according to claim 1, wherein the semiconductor light emitting element is a laser diode element. さらに、前記ひずみゲージ近傍に設けられた温度センサを具備し、
前記制御ユニットは前記温度センサの温度に応じて前記ひずみゲージの電圧を補正する請求項1に記載の光源装置。
Furthermore, it comprises a temperature sensor provided in the vicinity of the strain gauge,
The light source device according to claim 1, wherein the control unit corrects a voltage of the strain gauge according to a temperature of the temperature sensor.
半導体発光素子と、
前記半導体発光素子からの出射光の一部を波長変換する波長変換部材と、
前記波長変換部材を保持する保持部材と、
前記保持部材の前記波長変換部材側に設けられた第1のひずみゲージ、該第1のひずみゲージに接続された第1の電極、及び引出電極と、
前記波長変換部材の前記保持部材側に設けられた第2のひずみゲージ及び該第2のひずみゲージに接続された第2の電極と、
前記第2の電極と前記引出電極とを接続する金属バンプと
を具備する光源装置。
A semiconductor light emitting device;
A wavelength conversion member for wavelength-converting a part of the emitted light from the semiconductor light emitting element;
A holding member for holding the wavelength conversion member;
A first strain gauge provided on the wavelength conversion member side of the holding member, a first electrode connected to the first strain gauge, and an extraction electrode;
A second strain gauge provided on the holding member side of the wavelength conversion member and a second electrode connected to the second strain gauge;
A light source device comprising: a metal bump connecting the second electrode and the extraction electrode.
さらに、
前記第1の電極及び前記引出電極に接続され、前記第1、第2のひずみゲージの電圧を検出して該第1、第2のひずみゲージの電圧に応じて前記半導体発光素子を制御する制御モジュールを具備する請求項7に記載の光源装置。
further,
Control that is connected to the first electrode and the extraction electrode, detects the voltages of the first and second strain gauges, and controls the semiconductor light emitting element according to the voltages of the first and second strain gauges The light source device according to claim 7, further comprising a module.
請求項1〜8のいずれかに記載の光源装置と、
前記光源装置の出射光を所定方向に投影する投影光学ユニットと
を具備する照明装置。
A light source device according to any one of claims 1 to 8,
An illumination device comprising: a projection optical unit that projects light emitted from the light source device in a predetermined direction.
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