JP2016050179A - Benzobis (thiadiazole) derivative and organic electronics device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、ベンゾビス(チアジアゾール)誘導体、並びにそれを用いた有機薄膜トランジスタ、有機エレクトロルミネッセンス素子、表示デバイス、有機薄膜太陽電池、RFIDタグ及びセンサー等の有機エレクトロニクスデバイスに関する。 The present invention relates to a benzobis (thiadiazole) derivative and organic electronic devices such as an organic thin film transistor, an organic electroluminescence element, a display device, an organic thin film solar cell, an RFID tag, and a sensor using the same.
従来、有機薄膜トランジスタ(有機TFT)、有機エレクトロルミネッセンス素子(有機EL素子)又は有機薄膜太陽電池用の化合物としてベンゾビスチアゾール化合物が注目されており、ベンゾビス(チアジアゾール)を主骨格とする各種誘導体の研究開発が盛んに行われている。 Conventionally, benzobisthiazole compounds have attracted attention as compounds for organic thin film transistors (organic TFTs), organic electroluminescence elements (organic EL elements) or organic thin film solar cells, and research on various derivatives having benzobis (thiadiazole) as the main skeleton. Development is actively underway.
特に、正孔及び電子の移動度を改良するために、強い電子吸引基を導入したベンゾビス(チアジアゾール)誘導体が提案されており、例えば、特許文献1並びに非特許文献1及び非特許文献2には、トリフルオロメチルフェニル基等がチエニレン基を介してベンゾビス(チアジアゾール)に結合している化合物が開示されている。この化合物は、強い電子吸引基であるトリフルオロメチルフェニル基等の導入によって、正孔及び電子移動度が向上している。 In particular, in order to improve the mobility of holes and electrons, benzobis (thiadiazole) derivatives into which strong electron-withdrawing groups are introduced have been proposed. For example, Patent Document 1, Non-Patent Document 1, and Non-Patent Document 2 , A compound in which a trifluoromethylphenyl group or the like is bonded to benzobis (thiadiazole) via a thienylene group is disclosed. This compound has improved hole and electron mobility due to the introduction of a trifluoromethylphenyl group, which is a strong electron-withdrawing group.
また、特許文献2にも、n型有機半導体の材料として各種のベンゾビスチアジアゾール化合物が開示されているが、当該文献の実施例で実際に合成されたのは、4,8−ビス[3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル]ベンゾ[1,2−c;4,5−c’]ビス[1,2,5]チアジアゾール(下記構造式参照)のみである。 Also, Patent Document 2 discloses various benzobisthiadiazole compounds as materials for n-type organic semiconductors, but what was actually synthesized in the examples of the document is 4,8-bis [3, Only 5-bis (trifluoromethyl) phenyl] benzo [1,2-c; 4,5-c ′] bis [1,2,5] thiadiazole (see structural formula below).
また、ベンゾビス(チアジアゾール)を主骨格とするものではないが、チオフェン環に強い電子吸引基を導入することで、その化合物の電子の安定性や移動度の向上が図れることが一般的に知られている(例えば、特許文献3参照)。 Also, it is generally known that benzobis (thiadiazole) is not the main skeleton, but introduction of a strong electron-withdrawing group into the thiophene ring can improve the electron stability and mobility of the compound. (For example, refer to Patent Document 3).
特許文献2では、n型有機半導体の材料として各種のベンゾビスチアジアゾール化合物が開示されているが、合成されている化合物は前述の通り、4,8−ビス[3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル]ベンゾ[1,2−c;4,5−c’]ビス[1,2,5]チアジアゾールのみである。さらに、特許文献2には前記化合物のサイクリックボルタンメトリー(CV)測定結果は記載されているが、この化合物を用いて薄膜トランジスタ(TFT)等のデバイスを作製して特性を評価していない。このため特許文献2では、前記の実施例で実際に合成されている化合物についてすら、有機半導体材料として十分な特性を有しているかが確認されているとは言えない。 In Patent Document 2, various benzobisthiadiazole compounds are disclosed as n-type organic semiconductor materials. As described above, synthesized compounds are 4,8-bis [3,5-bis (trifluoromethyl). ) Phenyl] benzo [1,2-c; 4,5-c ′] bis [1,2,5] thiadiazole. Further, Patent Document 2 describes the results of cyclic voltammetry (CV) measurement of the above compound, but a device such as a thin film transistor (TFT) is produced using this compound, and the characteristics are not evaluated. For this reason, it cannot be said in Patent Document 2 that even the compounds actually synthesized in the above-described examples have been confirmed to have sufficient characteristics as organic semiconductor materials.
また、同じく特許文献2の一般記載には、ベンゾビスチアジアゾール化合物に、π過剰系ヘテロ芳香環であるチオフェンが結合した化合物が開示されているが、チオフェン上には電子吸引性の置換基が2つ結合していることが好ましいとされている。そして、そのようなチオフェン構造として、下記の例が示されている(下記(4−194)については、3つ電子求引性基が結合している)。 Similarly, the general description of Patent Document 2 discloses a compound in which a benzobisthiadiazole compound is bonded with a thiophene that is a π-excess heteroaromatic ring. However, there are 2 electron-withdrawing substituents on the thiophene. It is preferred that they are connected. And the following example is shown as such a thiophene structure (the following (4-194) has three electron withdrawing groups couple | bonded).
しかしながら、これらの構造ではチオフェン環上の置換基が結合可能な炭素の4か所の内、1か所がベンゾビスチアジアゾールとの結合、2か所(又は3か所)が電子吸引性基との結合に使用されており、芳香族環上の電子密度が著しく低下するため、このような化合物の合成は極めて困難であると予想される。そしてそのような化合物を含めて、上記で構造式を示した4,8−ビス[3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル]ベンゾ[1,2−c;4,5−c’]ビス[1,2,5]チアジアゾール以外に、一切の化合物が、そもそも特許文献2の実施例で合成されていないことは、上述のとおりである。 However, in these structures, out of 4 carbons to which a substituent on the thiophene ring can be bonded, 1 is a bond with benzobisthiadiazole, 2 (or 3) is an electron withdrawing group The synthesis of such compounds is expected to be extremely difficult because the electron density on the aromatic ring is significantly reduced. And including such compounds, the 4,8-bis [3,5-bis (trifluoromethyl) phenyl] benzo [1,2-c; 4,5-c ′] bis having the structural formula shown above. As described above, no compounds other than [1,2,5] thiadiazole have been synthesized in the Examples of Patent Document 2 in the first place.
このような従来技術の状況のもと、本発明の課題は、合成が簡便でしかも電子の移動度(電界効果移動度)に優れるベンゾビス(チアジアゾール)誘導体を提供することにある。さらに本発明の課題は、当該ベンゾビス(チアジアゾール)誘導体を用いた、有機薄膜トランジスタ、有機エレクトロルミネッセンス素子、表示デバイス、有機薄膜太陽電池、RFIDタグ及びセンサー等の有機エレクトロニクスデバイスを提供することにもある。 Under such circumstances of the prior art, an object of the present invention is to provide a benzobis (thiadiazole) derivative that is easy to synthesize and excellent in electron mobility (field effect mobility). Another object of the present invention is to provide organic electronic devices such as organic thin film transistors, organic electroluminescent elements, display devices, organic thin film solar cells, RFID tags, and sensors using the benzobis (thiadiazole) derivatives.
本発明は以下の事項に関する。 The present invention relates to the following matters.
1. 下記一般式(1)で示されるベンゾビス(チアジアゾール)誘導体: 1. A benzobis (thiadiazole) derivative represented by the following general formula (1):
(式中、二つのR1は独立に、水素原子、直鎖状若しくは分岐状のアルキル基、又は下記式(2)の基のいずれかを示し、二つのR2は独立に、水素原子、直鎖状若しくは分岐状のアルキル基、又は下記式(2)の基のいずれかを示し、但し、二つのR1及び二つのR2の一方は、下記式(2)の基のいずれかであり、他方は下記式(2)の基のいずれでもない。);
(In the formula, two R 1 s independently represent a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group, or a group of the following formula (2), and the two R 2 s independently represent a hydrogen atom, It represents either a linear or branched alkyl group or a group of the following formula (2), provided that one of two R 1 and two R 2 is one of the groups of the following formula (2) And the other is not any of the groups of the following formula (2).);
(式中、Rは、直鎖状又は分岐状のアルキル基を示す。)。
(In the formula, R represents a linear or branched alkyl group).
2. 前記一般式(1)中、二つのR1が独立に、前記式(2)の基のいずれかであり、 二つのR2が独立に、水素原子、又は直鎖状若しくは分岐状のアルキル基である、上記1に記載のベンゾビス(チアジアゾール)誘導体。 2. In the general formula (1), two R 1 are independently any of the groups of the formula (2), and two R 2 are independently a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group. The benzobis (thiadiazole) derivative according to 1 above, wherein
3. 前記一般式(1)中、二つのR1が独立に、前記式(2)の基のいずれかであり、 二つのR2が、水素原子である、上記1又は2に記載のベンゾビス(チアジアゾール)誘導体。 3. The benzobis (thiadiazole) according to the above 1 or 2, wherein, in the general formula (1), two R 1 are independently any of the groups of the formula (2), and two R 2 are hydrogen atoms. ) Derivatives.
4. 前記式(2)の基が、下記式(3)の基のいずれかである、上記1〜3のいずれかに記載のベンゾビス(チアジアゾール)誘導体。 4). The benzobis (thiadiazole) derivative according to any one of 1 to 3 above, wherein the group of the formula (2) is any of the groups of the following formula (3).
5. 前記一般式(1)中、二つのR1が独立に、トリフルオロメチル基、シアノ基、又はアシル基(−C(=O)R)のいずれかであり、二つのR2が、水素原子である、上記1〜4のいずれかに記載のベンゾビス(チアジアゾール)誘導体。 5). In the general formula (1), two R 1 are independently any one of a trifluoromethyl group, a cyano group, and an acyl group (—C (═O) R), and the two R 2 are hydrogen atoms. The benzobis (thiadiazole) derivative according to any one of 1 to 4 above.
6. 上記1〜5のいずれかに記載のベンゾビス(チアジアゾール)誘導体を含む有機層を備える、有機エレクトロニクスデバイス。 6). An organic electronic device provided with the organic layer containing the benzobis (thiadiazole) derivative in any one of said 1-5.
7. 基板上に、ゲート電極と、ゲート絶縁層と、有機半導体層と、ソース電極及びドレイン電極とを有し、前記有機半導体層が、上記1〜5のいずれかに記載のベンゾビス(チアジアゾール)誘導体を含む、有機薄膜トランジスタ。 7). The substrate has a gate electrode, a gate insulating layer, an organic semiconductor layer, a source electrode and a drain electrode, and the organic semiconductor layer comprises the benzobis (thiadiazole) derivative according to any one of 1 to 5 above. Including organic thin film transistor.
8. 前記基板が可撓性基板である、上記7に記載の有機薄膜トランジスタ。 8). 8. The organic thin film transistor according to 7 above, wherein the substrate is a flexible substrate.
9. 基板上に、陽極と、発光層と、正孔輸送層及び/又は電子輸送層と、陰極とを有し、前記正孔輸送層及び/又は前記電子輸送層が、上記1〜5のいずれかに記載のベンゾビス(チアジアゾール)誘導体を含む、有機エレクトロルミネッセンス素子。 9. The substrate has an anode, a light emitting layer, a hole transport layer and / or an electron transport layer, and a cathode, and the hole transport layer and / or the electron transport layer is any one of 1 to 5 above. An organic electroluminescence device comprising the benzobis (thiadiazole) derivative described in 1.
10. 有機薄膜トランジスタを用いて有機エレクトロルミネッセンス素子の駆動・点灯を行う表示デバイスであって、前記有機薄膜トランジスタが、上記7又は8に記載の有機薄膜トランジスタである、表示デバイス。 10. A display device that drives and lights an organic electroluminescence element using an organic thin film transistor, wherein the organic thin film transistor is the organic thin film transistor according to 7 or 8 above.
11. 上記7又は8に記載の有機薄膜トランジスタと、有機エレクトロルミネッセンス素子とを備える画素素子がマトリックス状に配置されている、アクティブマトリックス方式の表示デバイス。 11. 9. An active matrix type display device in which pixel elements each including the organic thin film transistor according to 7 or 8 and an organic electroluminescence element are arranged in a matrix.
12. 前記有機エレクトロルミネッセンス素子が、上記9に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子である、上記10又は11に記載の表示デバイス。 12 12. The display device according to 10 or 11 above, wherein the organic electroluminescence element is the organic electroluminescence element according to 9 above.
13. 有機薄膜トランジスタを用いて有機エレクトロルミネッセンス素子の駆動・点灯を行う表示デバイスであって、前記有機エレクトロルミネッセンス素子が、上記9に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子である、表示デバイス。 13. 10. A display device that drives and lights an organic electroluminescence element using an organic thin film transistor, wherein the organic electroluminescence element is the organic electroluminescence element described in 9 above.
14. 基板上に、陽極と、正孔輸送材料及び電子輸送材料を含む電荷分離層と、陰極とを有し、前記電荷分離層が、上記1〜5のいずれかに記載のベンゾビス(チアジアゾール)誘導体を含む、有機薄膜太陽電池。 14 The substrate has an anode, a charge separation layer containing a hole transport material and an electron transport material, and a cathode, and the charge separation layer comprises the benzobis (thiadiazole) derivative according to any one of 1 to 5 above. Including organic thin-film solar cells.
15. 基板上に、陽極と、正孔輸送材料及び電子輸送材料を含む電荷分離層と、正孔輸送層及び/又は電子輸送層と、陰極とを有し、前記正孔輸送層及び/又は前記電子輸送層が、上記1〜5のいずれかに記載のベンゾビス(チアジアゾール)誘導体を含む、有機薄膜太陽電池。 15. The substrate has an anode, a charge separation layer including a hole transport material and an electron transport material, a hole transport layer and / or an electron transport layer, and a cathode, and the hole transport layer and / or the electron The organic thin-film solar cell in which a transport layer contains the benzobis (thiadiazole) derivative in any one of said 1-5.
16. 前記基板が可撓性基板である、上記14又は15に記載の有機薄膜太陽電池。 16. 16. The organic thin-film solar cell as described in 14 or 15 above, wherein the substrate is a flexible substrate.
17. 有機薄膜トランジスタを用いて作動するRFIDタグであって、前記有機薄膜トランジスタが、上記7又は8に記載の有機薄膜トランジスタである、RFIDタグ。 17. 9. An RFID tag that operates using an organic thin film transistor, wherein the organic thin film transistor is the organic thin film transistor according to 7 or 8 above.
18. 有機薄膜トランジスタを用いて作動するセンサーであって、前記有機薄膜トランジスタが、上記7又は8に記載の有機薄膜トランジスタである、センサー。 18. 9. A sensor that operates using an organic thin film transistor, wherein the organic thin film transistor is the organic thin film transistor according to 7 or 8 above.
本発明により、電子の移動度(電界効果移動度)に優れ、合成が簡便なベンゾビス(チアジアゾール)誘導体を提供することができる。本発明のベンゾビス(チアジアゾール)誘導体は、電子の移動度(電界効果移動度)に優れることから、例えば、有機薄膜トランジスタ、有機エレクトロルミネッセンス素子、表示デバイス、有機薄膜太陽電池、RFIDタグ、センサー等の有機エレクトロニクスデバイスに好適に使用することができる。また、その他多くのデバイスに好適に使用することができる。 According to the present invention, a benzobis (thiadiazole) derivative that is excellent in electron mobility (field effect mobility) and can be easily synthesized can be provided. Since the benzobis (thiadiazole) derivative of the present invention is excellent in electron mobility (field effect mobility), for example, organic thin film transistors, organic electroluminescence elements, display devices, organic thin film solar cells, RFID tags, sensors, and other organic materials. It can be suitably used for an electronic device. Moreover, it can be used suitably for many other devices.
以下、本発明のベンゾビス(チアジアゾール)誘導体、及び有機エレクトロニクスデバイスについて、詳細に説明する。 Hereinafter, the benzobis (thiadiazole) derivative and the organic electronics device of the present invention will be described in detail.
<ベンゾビス(チアジアゾール)誘導体>
本発明のベンゾビス(チアジアゾール)誘導体は、下記一般式(1)で示される。以下、下記一般式(1)における基R1及びR2について説明する。
<Benzobis (thiadiazole) derivative>
The benzobis (thiadiazole) derivative of the present invention is represented by the following general formula (1). Hereinafter, the groups R 1 and R 2 in the following general formula (1) will be described.
一般式(1)中、二つのR1は独立に、水素原子、直鎖状若しくは分岐状のアルキル基、又は下記式(2)の基のいずれかを示す。また、二つのR2は独立に、水素原子、直鎖状若しくは分岐状のアルキル基、又は下記式(2)の基のいずれかを示す。 In the general formula (1), the two R 1 independently represents a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group, or any group of the following formula (2). Moreover, two R < 2 > shows either a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group, or the group of following formula (2) independently.
上記基R1及びR2における直鎖状又は分岐状のアルキル基は、本発明のベンゾビス(チアジアゾール)誘導体の溶解度及び電界効果移動度の向上の観点から、その炭素数が1〜30であることが好ましく、炭素数が3〜25であることがより好ましく、炭素数が5〜20であることが特に好ましい。また、分岐状のアルキル基については、分岐鎖及び主鎖部分が結合して環状構造を形成していてもよい。すなわち前記分岐状のアルキル基には、シクロアルキル基が含まれる。 The linear or branched alkyl group in the groups R 1 and R 2 has 1 to 30 carbon atoms from the viewpoint of improving the solubility and field effect mobility of the benzobis (thiadiazole) derivative of the present invention. Is preferable, the number of carbon atoms is more preferably 3 to 25, and the number of carbon atoms is particularly preferably 5 to 20. Moreover, about a branched alkyl group, the branched chain and the principal chain part may couple | bond together and it may form the cyclic structure. That is, the branched alkyl group includes a cycloalkyl group.
前記直鎖状のアルキル基の具体例としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、及びオクタデシル基等が挙げられ、さらに、下記に示す構造のものも挙げられる(なお、以上例示したものと重複しているものもある)。 Specific examples of the linear alkyl group include, for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, undecyl group, dodecyl group. , Tridecyl group, tetradecyl group, pentadecyl group, hexadecyl group, heptadecyl group, octadecyl group, and the like, and the following structures are also included (in addition, there are also those that overlap with those exemplified above) ).
以上示した構造において、アスタリスクは結合手である。以下においても同様である。 In the structure shown above, the asterisk is a bond. The same applies to the following.
次に、分岐状アルキル基の具体例としては、例えば、イソプロピル基、1−メチルプロピル基、1−メチルブチル基、t−ブチル基、2−メチルヘキシル基、2−エチルヘキシル基、3−メチルヘキシル基、3−エチルヘキシル基、2−メチルオクチル基、2−エチルオクチル基、3−メチルオクチル基、及び3−エチルオクチル基などが挙げられ、さらに、下記に示す構造のものも挙げられる(なお、以上例示したものと重複しているものもある)。 Next, specific examples of the branched alkyl group include, for example, isopropyl group, 1-methylpropyl group, 1-methylbutyl group, t-butyl group, 2-methylhexyl group, 2-ethylhexyl group, and 3-methylhexyl group. , 3-ethylhexyl group, 2-methyloctyl group, 2-ethyloctyl group, 3-methyloctyl group, 3-ethyloctyl group, etc. Some may overlap with those illustrated).
なお、以上説明した基R1及びR2の一方は、上記式(2)の基のいずれかであり、かつ、他方は前記式(2)の基のいずれでもない(すなわち水素原子、又は直鎖状若しくは分岐状のアルキル基である)。このように本発明のベンゾビス(チアジアゾール)誘導体では、中心のベンゾビス(チアジアゾール)核に結合した各チオフェン環に、一つの電子吸引性基(前式(2)の基)が結合しているため、電界効果移動度に優れるとともに、合成も簡便である。 One of the groups R 1 and R 2 described above is any of the groups of the above formula (2), and the other is not any of the groups of the above formula (2) (that is, a hydrogen atom or direct A chain or branched alkyl group). Thus, in the benzobis (thiadiazole) derivative of the present invention, one electron-withdrawing group (group of the above formula (2)) is bonded to each thiophene ring bonded to the central benzobis (thiadiazole) nucleus. It has excellent field effect mobility and is easy to synthesize.
前記の通り基R1及びR2の一方は、上記式(2)の基のいずれかであるが、式(2)の基において、Rは直鎖状又は分岐状のアルキル基を示す。 As described above, one of the groups R 1 and R 2 is any of the groups of the above formula (2). In the group of the formula (2), R represents a linear or branched alkyl group.
Rとしては、本発明のベンゾビス(チアジアゾール)誘導体の溶解度及び電界効果移動度の向上の観点から炭素数1〜30の直鎖状又は分岐状のアルキル基が好ましく、炭素数1〜20の直鎖状又は分岐状のアルキル基がより好ましく、炭素数1〜15の直鎖状又は分岐状のアルキル基が特に好ましい。 R is preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms from the viewpoint of improving the solubility and field effect mobility of the benzobis (thiadiazole) derivative of the present invention, and a linear chain having 1 to 20 carbon atoms. A linear or branched alkyl group is more preferable, and a linear or branched alkyl group having 1 to 15 carbon atoms is particularly preferable.
このようなRの具体例としては、直鎖状のアルキル基として、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基等が挙げられ、
分岐状のアルキル基として、例えば、イソプロピル基、1−メチルプロピル基、t−ブチル基、1−メチルブチル基、2−メチルヘキシル基、2−エチルヘキシル基、3−メチルヘキシル基、3−エチルヘキシル基、2−メチルオクチル基、2−エチルオクチル基、3−メチルオクチル基、及び3−エチルオクチル基等が挙げられる。
Specific examples of such R include linear alkyl groups such as methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl, heptyl, octyl, nonyl, decyl, Undecyl group, dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group, pentadecyl group, hexadecyl group, heptadecyl group, octadecyl group, etc.
Examples of the branched alkyl group include isopropyl group, 1-methylpropyl group, t-butyl group, 1-methylbutyl group, 2-methylhexyl group, 2-ethylhexyl group, 3-methylhexyl group, 3-ethylhexyl group, Examples include 2-methyloctyl group, 2-ethyloctyl group, 3-methyloctyl group, and 3-ethyloctyl group.
以上説明した式(2)の基の中では、本発明のベンゾビス(チアジアゾール)誘導体がn型トランジスタ特性を示す観点から、下記式(3)の基のいずれかが好ましい。 Among the groups of the formula (2) described above, any of the groups of the following formula (3) is preferable from the viewpoint that the benzobis (thiadiazole) derivative of the present invention exhibits n-type transistor characteristics.
式中、Rは上記で定義した通りである。これらの中でも、同様な観点からトリフルオロメチル基、シアノ基、及びアシル基(−C(=O)R)がさらに好ましい。
In the formula, R is as defined above. Among these, a trifluoromethyl group, a cyano group, and an acyl group (—C (═O) R) are more preferable from the same viewpoint.
(本発明の実施態様によるR1及びR2の好ましい組み合わせ)
以上説明した一般式(1)において、ある本発明の実施態様においては、二つのR1が独立に、前記式(2)の基のいずれかであり、二つのR2が独立に、水素原子、又は直鎖状若しくは分岐状のアルキル基であることが好ましい。また反対に、二つのR1が独立に、水素原子、又は直鎖状若しくは分岐状のアルキル基であり、二つのR2が独立に、前記式(2)の基のいずれかであることも好ましい。
(Preferred combinations of R 1 and R 2 according to embodiments of the present invention)
In the general formula (1) described above, in one embodiment of the present invention, two R 1 are independently any of the groups of the formula (2), and two R 2 are independently hydrogen atoms. Or a linear or branched alkyl group. On the other hand, the two R 1 s are independently a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group, and the two R 2 s are independently any one of the groups of the formula (2). preferable.
また、別の本発明の実施態様においては、二つのR1が独立に、前記式(2)の基のいずれかであり、R2が水素原子であることが好ましい。また反対に、R1が水素原子であり、二つのR2が独立に、前記式(2)の基のいずれかであることも好ましい。 Moreover, in another embodiment of this invention, it is preferable that two R < 1 > is independently either of the groups of said Formula (2), and R < 2 > is a hydrogen atom. On the other hand, it is also preferable that R 1 is a hydrogen atom and two R 2 are independently any one of the groups of the formula (2).
また、さらに別の本発明の実施態様においては、二つのR1が独立に、トリフルオロメチル基、シアノ基又はアシル基のいずれかであり、R2が水素原子であることが好ましい。また反対に、R1が水素原子であり、二つのR2が独立に、トリフルオロメチル基、シアノ基又はアシル基のいずれかであることも好ましい。 In still another embodiment of the present invention, it is preferable that two R 1 s are independently any one of a trifluoromethyl group, a cyano group, and an acyl group, and R 2 is a hydrogen atom. On the other hand, it is also preferable that R 1 is a hydrogen atom and two R 2 are independently any one of a trifluoromethyl group, a cyano group, and an acyl group.
以上説明した2つのR1、2つのR2、はそれぞれいずれも、同一であっても異なっていてもよいが、通常、本発明のベンゾビス(チアジアゾール)誘導体の合成の容易性の点などから、同一であることが好ましい。 Two or more of R 1 described, the two R 2, are both respectively, may be the same or different, but usually the like Benzobisu (thiadiazole) for ease of synthesis of the derivatives of the present invention, It is preferable that they are the same.
(ベンゾビス(チアジアゾール)誘導体)
以上説明した本発明のベンゾビス(チアジアゾール)誘導体としては、例えば、以下の式(11)〜(84)で示される化合物が挙げられる。但し、式中、Rは上記式(2)において定義したとおりである。
(Benzobis (thiadiazole) derivatives)
Examples of the benzobis (thiadiazole) derivative of the present invention described above include compounds represented by the following formulas (11) to (84). However, in the formula, R is as defined in the above formula (2).
(ベンゾビス(チアジアゾール)誘導体の合成方法)
本発明のベンゾビス(チアジアゾール)誘導体は、公知の反応を組み合わせて公知の出発原料から合成することができ、その合成方法は特に制限されるものではないが、例えば、以下に示す反応スキーム(スズ化工程A又はB、及びカップリング工程)に従って合成することができる。
(Method for synthesizing benzobis (thiadiazole) derivatives)
The benzobis (thiadiazole) derivative of the present invention can be synthesized from known starting materials by combining known reactions, and the synthesis method is not particularly limited. For example, the following reaction scheme (tination) It can be synthesized according to step A or B and the coupling step).
(スズ化工程A又はB)
(カップリング工程)
以上の反応スキームにおいて、R、R1及びR2は上記で定義した通りであり、Buはブチル基を示し、X1及びX2は独立にハロゲン原子を示す(臭素原子又はヨウ素原子であることが好ましい)。 In the above reaction scheme, R, R 1 and R 2 are as defined above, Bu represents a butyl group, and X 1 and X 2 independently represent a halogen atom (must be a bromine atom or an iodine atom). Is preferred).
(スズ化工程A)
スズ化工程Aは、式(2)の基であるR1又はR2がアシル基(−C(=O)R)以外である本発明のベンゾビス(チアジアゾール)誘導体を合成する際に行う。スズ化工程Aでは、チオフェンのS原子に隣接する炭素原子及び当該炭素原子に隣接する炭素原子にそれぞれR1及びR2が結合したものを用意する。当該化合物は市販もされているし、チオフェンから合成することも可能である。
(Tinning process A)
The tinning step A is performed when the benzobis (thiadiazole) derivative of the present invention in which R 1 or R 2 which is the group of the formula (2) is other than an acyl group (—C (═O) R) is synthesized. In the tinning step A, a carbon atom adjacent to the S atom of thiophene and a carbon atom adjacent to the carbon atom, each having R 1 and R 2 bonded thereto, are prepared. The compound is commercially available or can be synthesized from thiophene.
これに対して塩基(Base)の存在下、所定の有機スズ化試薬を反応させることで、チオフェンの、R1が結合していない、S原子に隣接する炭素原子の位置を有機スズ化する。前記塩基としてはn−BuLi(但し、Buはブチル基を示す。)、及びLDA(リチウムジイソプロピルアミド)が好ましい。以下のスズ化工程Bにおいても同様である。 On the other hand, by reacting a predetermined organostannation reagent in the presence of a base, the position of the carbon atom adjacent to the S atom in which R 1 is not bonded to thiophene is organotinylated. As the base, n-BuLi (Bu represents a butyl group) and LDA (lithium diisopropylamide) are preferable. The same applies to the following tin forming step B.
(スズ化工程B)
スズ化工程Bは、式(2)の基であるR1又はR2がアシル基(−C(=O)R)である本発明のベンゾビス(チアジアゾール)誘導体を合成する際に行う。スズ化工程Bでは、チオフェンのS原子に隣接する炭素原子がハロゲン化された化合物を用意する。当該化合物は市販されているし、チオフェンから容易に合成可能である。
(Tinning process B)
The tinning step B is carried out when synthesizing the benzobis (thiadiazole) derivative of the present invention in which R 1 or R 2 which is the group of the formula (2) is an acyl group (—C (═O) R). In the tinning step B, a compound in which the carbon atom adjacent to the S atom of thiophene is halogenated is prepared. The compound is commercially available and can be easily synthesized from thiophene.
これに対してフリーデルクラフツアルカノイル化を行ってチオフェン環に−C(=O)R基を導入し、続いて塩基及びパラジウム触媒(Pd cat)の存在下、所定の有機スズ化試薬を反応させることで、ハロゲン(X1)が結合していた位置の炭素原子を有機スズ化する。 On the other hand, Friedel-Crafts alkanoylation is performed to introduce a —C (═O) R group into the thiophene ring, followed by reaction with a predetermined organotin reagent in the presence of a base and a palladium catalyst (Pd cat). Thus, the carbon atom at the position where the halogen (X 1 ) was bonded is converted into an organotin.
ここで使用されるパラジウム触媒としては、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(Pd(PPh3)4)、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(PdCl2(PPh3)2)、ビス(トリ−tert−ブチルホスフィン)パラジウム(Pd(PtBu3)2)、酢酸パラジウム(Pd(OAc)2)、塩化パラジウム(PdCl2)等のパラジウム錯体の1種又は2種以上が好ましく、PdCl2(PPh3)2及びPd(PPh3)4がより好ましい。 Examples of the palladium catalyst used here include tetrakis (triphenylphosphine) palladium (Pd (PPh 3 ) 4 ), dichlorobis (triphenylphosphine) palladium (PdCl 2 (PPh 3 ) 2 ), and bis (tri-tert-butyl). One or more palladium complexes such as phosphine) palladium (Pd (PtBu 3 ) 2 ), palladium acetate (Pd (OAc) 2 ), palladium chloride (PdCl 2 ) are preferable, and PdCl 2 (PPh 3 ) 2 and Pd (PPh 3 ) 4 is more preferable.
(カップリング工程)
カップリング工程では、まずベンゼン環位置に臭素原子を導入したベンゾビス(チアジアゾール)(式(94))を用意する。当該化合物は市販されており、また公知の原料及び反応により合成も可能である。
(Coupling process)
In the coupling step, first, benzobis (thiadiazole) (formula (94)) in which a bromine atom is introduced at the benzene ring position is prepared. The said compound is marketed and can also be synthesize | combined by a well-known raw material and reaction.
このベンゾビス(チアジアゾール)に、目的の本発明のベンゾビス(チアジアゾール)誘導体に応じて、スズ化工程A又はBで得た化合物を、パラジウム触媒の存在下に反応させることで、本発明のベンゾビス(チアジアゾール)誘導体を合成することができる。なお、上記スキームではスズ化工程Aで得た化合物を反応させる場合を示した。また、ここでのパラジウム触媒の使用量としては、ベンゼン環位置に臭素原子を導入したベンゾビス(チアジアゾール)1molに対して、0.01〜0.5mol用いることが好ましい。より好ましくは0.1〜0.5mol用いることである。 The benzobis (thiadiazole) of the present invention is reacted with the compound obtained in the stannation step A or B in the presence of a palladium catalyst according to the target benzobis (thiadiazole) derivative of the present invention. ) Derivatives can be synthesized. In the above scheme, the case where the compound obtained in the tinning step A is reacted is shown. The amount of the palladium catalyst used here is preferably 0.01 to 0.5 mol with respect to 1 mol of benzobis (thiadiazole) in which a bromine atom is introduced at the benzene ring position. More preferably, 0.1 to 0.5 mol is used.
以上説明した本発明のベンゾビス(チアジアゾール)誘導体の合成方法は、上記スズ化工程及びカップリング工程の2工程を含み、わずか2工程で目的化合物を合成することができる簡便な合成法であるが、必要に応じて、その他の工程を含んでもよい。 The method for synthesizing the benzobis (thiadiazole) derivative of the present invention described above is a simple synthesis method that includes two steps of the stannation step and the coupling step and can synthesize the target compound in only two steps. Other steps may be included as necessary.
以上説明した反応スキームの反応終了後、得られた反応液から、例えば、濾過、濃縮、抽出、蒸留、昇華、再結晶、カラムクロマトグラフィー等の一般的な操作によって、本発明のベンゾビス(チアジアゾール)誘導体を単離・精製することができる。溶解度の異なる不純物を除去し、化合物純度を向上させるためには、有機溶媒によるソックスレー抽出を精製工程に組み込むことが簡便で好ましい。 After completion of the reaction of the reaction scheme described above, the benzobis (thiadiazole) of the present invention is subjected to general operations such as filtration, concentration, extraction, distillation, sublimation, recrystallization, column chromatography and the like from the obtained reaction solution. Derivatives can be isolated and purified. In order to remove impurities with different solubilities and improve compound purity, it is convenient and preferable to incorporate Soxhlet extraction with an organic solvent into the purification step.
(ベンゾビス(チアジアゾール)誘導体の溶解性)
本発明のベンゾビス(チアジアゾール)誘導体は、通常、水や、種々の有機溶媒、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコール、イソブタノール、2−ブタノール、2−エチル−1−ブタノール、n−オクタノール、ベンジルアルコール、及びテルピネオール等のアルコール類;
アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、アセトフェノン、及びイソホロン等のケトン類:
酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、安息香酸メチル、安息香酸ブチル、サリチル酸メチル、マロン酸エチル、酢酸2−エトキシエタン、及び酢酸2−メトキシ−1−メチルエチル等のエステル類;
N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジエチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、N−エチルピロリドン、及びヘキサメチルリン酸トリアミド等のアミド類;
1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、及び1,3−ジメチルイミダゾリジン−2,4−ジオン等の尿素類;
ジメチルスルホキシド、及びジエチルスルホキシド等のスルホキシド類;
スルホラン等のスルホン類;
アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル、及びベンゾニトリル等のニトリル類;
γ―ブチロラクトン等のラクトン類;
ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、2−メチルテトラヒドロフラン、ジオキサン、tert−ブチルメチルエーテル、アニソール、フェネトール、1,2−ジメトキシベンゼン、1,3−ジメトキシベンゼン、1,4−ジメトキシベンゼン、1,2−メチルアニソール、1,3−メチルアニソール、1,4−メチルアニソール、1,2−メチレンジオキシベンゼン、2,3−ジヒドロベンゾフラン、フタラン、オクチルオキシベンゼン、ジフェニルエーテル、及びエチルセロソルブ等のエーテル類;
炭酸ジメチル、及び1,2−ブチレングリコールカーボネート等のカーボネート類;
チオアニソール、及びエチルフェニルスルフィド等のチオエーテル類;
ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、プソイドクメン、ヘミメリテン、デュレン、イソデュレン、プレーニテン、エチルベンゼン、クメン、tert−ブチルベンゼン、シクロヘキシルベンゼン、トリイソプロピルベンゼン、フェニルアセチレン、インダン、メチルインダン、インデン、テトラリン、ナフタレン、1−メチルナフタレン、2−メチルナフタレン、フェニルオクタン、及びジフェニルメタン等の芳香族炭化水素類;
フェノール、1,2−クレゾール、1,3−クレゾール、1,4−クレゾール、1,2−メトキシフェノール、1,3−メトキシフェノール、及び1,4−メトキシフェノール等のフェノール類;
クロロベンゼン、1,2−ジクロロベンゼン、1,3−ジクロロベンゼン、1,2,4−トリクロロベンゼン、ブロモベンゼン、1,2−ジブロモベンゼン、1,3−ジブロモベンゼン、1,4−ジクロロトルエン、1−クロロナフタレン、2,4−ジクロロトルエン、2−クロロ−1,3−ジメチルベンゼン、2-クロロトルエン、2−クロロ−1,4−ジメチルベンゼン、4−クロロ−1,2−ジメチルベンゼン、2,5−ジクロロトルエン、m−クロロトルエン、1−クロロ−2,3−ジメチルベンゼン、4−(トリフルオロメトキシ)アニソール、及びトリフルオロメトキシベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素類;
ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、及びリモネン等の脂肪族炭化水素類;
ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、1,2−ジクロロエタン、1,3−ジクロロプロパン、及び1,2−ジブロモエタン等のハロゲン化脂肪族炭化水素類;
2,6−ジメチルピリジン、及び2,6−ジtert-ブチルピリジン等のピリジン類
などに可溶である。
(Solubility of benzobis (thiadiazole) derivatives)
The benzobis (thiadiazole) derivative of the present invention is usually water or various organic solvents such as methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol, isobutanol, 2-butanol, 2-ethyl-1-butanol, n-octanol, Alcohols such as benzyl alcohol and terpineol;
Ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, acetophenone, and isophorone:
Esters such as methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, methyl benzoate, butyl benzoate, methyl salicylate, ethyl malonate, 2-ethoxyethane acetate, and 2-methoxy-1-methylethyl acetate;
Amides such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N, N-diethylformamide, N-methylpyrrolidone, N-ethylpyrrolidone, and hexamethylphosphoric triamide;
Ureas such as 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone and 1,3-dimethylimidazolidine-2,4-dione;
Sulfoxides such as dimethyl sulfoxide and diethyl sulfoxide;
Sulfones such as sulfolane;
Nitriles such as acetonitrile, propionitrile, butyronitrile, and benzonitrile;
Lactones such as γ-butyrolactone;
Diethyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran, 2-methyltetrahydrofuran, dioxane, tert-butyl methyl ether, anisole, phenetole, 1,2-dimethoxybenzene, 1,3-dimethoxybenzene, 1,4-dimethoxybenzene, 1,2- Ethers such as methylanisole, 1,3-methylanisole, 1,4-methylanisole, 1,2-methylenedioxybenzene, 2,3-dihydrobenzofuran, phthalane, octyloxybenzene, diphenyl ether, and ethyl cellosolve;
Carbonates such as dimethyl carbonate and 1,2-butylene glycol carbonate;
Thioethers such as thioanisole and ethyl phenyl sulfide;
Benzene, toluene, xylene, mesitylene, pseudocumene, hemimelliten, durene, isodurene, prienten, ethylbenzene, cumene, tert-butylbenzene, cyclohexylbenzene, triisopropylbenzene, phenylacetylene, indane, methylindane, indene, tetralin, naphthalene, 1- Aromatic hydrocarbons such as methylnaphthalene, 2-methylnaphthalene, phenyloctane, and diphenylmethane;
Phenols such as phenol, 1,2-cresol, 1,3-cresol, 1,4-cresol, 1,2-methoxyphenol, 1,3-methoxyphenol, and 1,4-methoxyphenol;
Chlorobenzene, 1,2-dichlorobenzene, 1,3-dichlorobenzene, 1,2,4-trichlorobenzene, bromobenzene, 1,2-dibromobenzene, 1,3-dibromobenzene, 1,4-dichlorotoluene, 1 -Chloronaphthalene, 2,4-dichlorotoluene, 2-chloro-1,3-dimethylbenzene, 2-chlorotoluene, 2-chloro-1,4-dimethylbenzene, 4-chloro-1,2-dimethylbenzene, 2 Halogenated aromatic hydrocarbons such as 1,5-dichlorotoluene, m-chlorotoluene, 1-chloro-2,3-dimethylbenzene, 4- (trifluoromethoxy) anisole, and trifluoromethoxybenzene;
Aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, octane, cyclohexane, and limonene;
Halogenated aliphatic hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform, carbon tetrachloride, 1,2-dichloroethane, 1,3-dichloropropane, and 1,2-dibromoethane;
It is soluble in pyridines such as 2,6-dimethylpyridine and 2,6-ditert-butylpyridine.
「水や有機溶媒に可溶」であるとは、常圧で、沸点以下、好ましくは80℃以下、より好ましくは15℃から30℃以下の水又は有機溶媒に対し、好ましくは0.03wt%以上、より好ましくは0.1wt%以上の溶解度を有することを意味する。なお、本発明のベンゾビス(チアジアゾール)誘導体は、水及び全ての有機溶媒に可溶であることが求められるわけではなく、水、又は例えば上記に挙げた有機溶媒の少なくとも一種に可溶である。また有機溶媒には、複数の有機溶媒の混合溶媒も含まれるものとし、本発明のベンゾビス(チアジアゾール)誘導体はいずれかの有機溶媒単独には可溶でないが、混合溶媒には可溶である場合もあり得る。 “Soluble in water or organic solvent” means that it is preferably 0.03 wt% with respect to water or organic solvent at normal pressure and below boiling point, preferably 80 ° C. or less, more preferably 15 ° C. to 30 ° C. or less. As described above, it means that it has a solubility of 0.1 wt% or more. The benzobis (thiadiazole) derivative of the present invention is not required to be soluble in water and all organic solvents, but is soluble in water or at least one of the organic solvents listed above. The organic solvent includes a mixed solvent of a plurality of organic solvents, and the benzobis (thiadiazole) derivative of the present invention is not soluble in any of the organic solvents alone, but is soluble in the mixed solvent. There is also a possibility.
有機溶媒としては、以下に説明する本発明の有機半導体インクの有機半導体薄膜の製膜性およびその半導体特性の観点から、上記に挙げた中でも、ハロゲン化芳香族炭化水素類、芳香族炭化水素類、及びハロゲン化脂肪族炭化水素類を好適に使用することができる。 Examples of the organic solvent include halogenated aromatic hydrocarbons, aromatic hydrocarbons, and the like from the viewpoint of the film forming property of the organic semiconductor thin film of the organic semiconductor ink of the present invention described below and the semiconductor characteristics thereof. , And halogenated aliphatic hydrocarbons can be preferably used.
好適なハロゲン化芳香族炭化水素類としては、クロロベンゼン、及び1,2−ジクロロベンゼンが挙げられる。 Suitable halogenated aromatic hydrocarbons include chlorobenzene and 1,2-dichlorobenzene.
好適な芳香族炭化水素類としては、トルエン、キシレン、メシチレン、テトラリン、シクロヘキシルベンゼン、及び1−メチルナフタレンが挙げられる。 Suitable aromatic hydrocarbons include toluene, xylene, mesitylene, tetralin, cyclohexylbenzene, and 1-methylnaphthalene.
好適なハロゲン化脂肪族炭化水素類としては、クロロホルム、及び1,2−ジクロロエタンが挙げられる。 Suitable halogenated aliphatic hydrocarbons include chloroform and 1,2-dichloroethane.
さらに、上記と同様な観点から好適なその他の有機溶媒としては、安息香酸メチル、サリチル酸メチル、アニソール、4−メチルアニソール、及びメタクレゾールが挙げられる。 Furthermore, other organic solvents suitable from the same viewpoint as above include methyl benzoate, methyl salicylate, anisole, 4-methylanisole, and metacresol.
(ベンゾビス(チアジアゾール)誘導体の半導体特性)
以上説明した本発明のベンゾビス(チアジアゾール)誘導体は、上記一般式(1)で示される、ベンゾビス(チアジアゾール)環を中心とし、これに芳香族性を有するチオフェン環が結合し、各チオフェン環に電子吸引性の式(2)で示される基のいずれかが結合しているため、電子の移動度に優れ、優れたn型有機半導体材料として利用することができる。
(Semiconductor properties of benzobis (thiadiazole) derivatives)
The benzobis (thiadiazole) derivative of the present invention described above is centered on the benzobis (thiadiazole) ring represented by the above general formula (1), and an aromatic thiophene ring is bonded to this, and each thiophene ring has an electron. Since any of the groups represented by the attractive formula (2) is bonded, the electron mobility is excellent, and it can be used as an excellent n-type organic semiconductor material.
しかも、ベンゾビス(チアジアゾール)誘導体は、p型半導体特性よりもn型半導体特性を優勢に示すため、トランジスタ素子等における有機半導体材料として極めて有用である。 Moreover, the benzobis (thiadiazole) derivative exhibits n-type semiconductor characteristics over the p-type semiconductor characteristics, and thus is extremely useful as an organic semiconductor material in transistor elements and the like.
なお、本明細書において、「p型半導体特性よりもn型半導体特性を優勢に示す」とは、以下に挙げる条件を満たすときである。
n型の電界効果移動度が、p型の電界効果移動度に比べて104倍以上であること。
In this specification, “showing n-type semiconductor characteristics predominately over p-type semiconductor characteristics” is when the following conditions are satisfied.
The n-type field effect mobility is 10 4 times or more that of the p-type field effect mobility.
<有機半導体インク>
以上説明したとおり、本発明のベンゾビス(チアジアゾール)誘導体はn型半導体特性を示し、しかも通常水や有機溶媒にも可溶であるので、水や有機溶媒に本発明のベンゾビス(チアジアゾール)誘導体を溶解させ、得られた溶液を有機半導体インクとして利用することができる。なお、これらの水や有機溶媒は単独で使用してもよく、二種以上を混合して使用してもよい。
<Organic semiconductor ink>
As described above, the benzobis (thiadiazole) derivative of the present invention exhibits n-type semiconductor characteristics and is usually soluble in water and organic solvents, so the benzobis (thiadiazole) derivative of the present invention is dissolved in water and organic solvents. The obtained solution can be used as an organic semiconductor ink. In addition, these water and organic solvent may be used independently, and 2 or more types may be mixed and used for them.
有機半導体インクとできると、扱いが容易であり保存も可能である。さらに有機半導体層の形成方法としては一般に蒸着及び塗布が挙げられるが、蒸着には特殊な装置・環境が必要であり、塗布に比べてコストが非常に高い。すなわち本発明の有機半導体インクを利用すれば、有機半導体層の形成コストを大幅に下げることができる。 If an organic semiconductor ink can be used, it is easy to handle and can be stored. Furthermore, as a method for forming the organic semiconductor layer, vapor deposition and coating are generally used. However, a special apparatus and environment are necessary for the vapor deposition, and the cost is very high as compared with the coating. That is, if the organic semiconductor ink of the present invention is used, the formation cost of the organic semiconductor layer can be greatly reduced.
本発明の有機半導体インクは、本発明のベンゾビス(チアジアゾール)誘導体1種以上を含むものであり、さらに他の有機半導体1種以上を含むこともできる。さらに本発明の有機半導体インクには、インクの粘度を調整するための添加剤、インクの親水性もしくは撥水性を制御するための添加剤、酸化防止剤、光安定剤、表面調整剤(レベリング剤)、界面活性剤、保存安定剤、滑剤、濡れ性改良材及びカップリング剤など、インクの物性を制御する添加剤を含むことができる。 The organic semiconductor ink of the present invention contains one or more benzobis (thiadiazole) derivatives of the present invention, and can also contain one or more other organic semiconductors. Further, the organic semiconductor ink of the present invention includes an additive for adjusting the viscosity of the ink, an additive for controlling the hydrophilicity or water repellency of the ink, an antioxidant, a light stabilizer, a surface conditioner (leveling agent). ), A surfactant, a storage stabilizer, a lubricant, a wettability improver, and a coupling agent, and the like can be added.
前記インクの粘度を調整するための添加剤としては、絶縁性の高分子化合物が挙げられる。絶縁性高分子化合物とは、合成樹脂、プラスチック、及び合成ゴムなどであり、具体的には、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリエステル、フェノール樹脂、アクリル樹脂、アミド樹脂、ナイロン、ビニロン、ポリイソプレン、ポリブタジエン、アクリルゴム、アクリロニトリルゴム、及びウレタンゴムなどである。これらの添加により、有機半導体インクの粘度の最適化や製膜性の向上などが図られる。 Examples of the additive for adjusting the viscosity of the ink include an insulating polymer compound. Insulating polymer compounds are synthetic resins, plastics, synthetic rubbers, etc., specifically polyethylene, polypropylene, polyvinyl chloride, polystyrene, polyester, phenol resin, acrylic resin, amide resin, nylon, vinylon, Examples include polyisoprene, polybutadiene, acrylic rubber, acrylonitrile rubber, and urethane rubber. Addition of these makes it possible to optimize the viscosity of the organic semiconductor ink and improve the film forming property.
本発明のベンゾビス(チアジアゾール)誘導体の有機半導体インク中の含有量は特に限定されず、適宜選択することができ、例えば0.001wt%〜10wt%程度とすることができ、さらに0.01wt%〜1wt%程度が製膜性の観点から好適である。また、前記インクが他の有機半導体を含む場合には、これらと前記ベンゾビス(チアジアゾール)誘導体の含有量は、例えば0.001〜10wt%とすることができる。また、上記の各種添加剤の添加量は、従来公知の範囲から適宜選択することができる。 The content of the benzobis (thiadiazole) derivative of the present invention in the organic semiconductor ink is not particularly limited and can be appropriately selected. For example, the content can be about 0.001 wt% to 10 wt%, and further 0.01 wt% to About 1 wt% is preferable from the viewpoint of film forming properties. Moreover, when the said ink contains another organic semiconductor, content of these and the said benzobis (thiadiazole) derivative can be 0.001-10 wt%, for example. Moreover, the addition amount of said various additives can be suitably selected from a conventionally well-known range.
前記他の有機半導体としては、例えば、高分子半導体化合物が挙げられる。ここでの高分子半導体化合物とは、半導体特性を示すことを特徴とする高分子化合物であり、具体的には、ポリアセチレン系高分子、ポリジアセチレン系高分子、ポリパラフェニレン系高分子、ポリアニリン系高分子、ポリトリフェニルアミン系高分子、ポリチオフェン系高分子、ポリピロール系高分子、ポリパラフェニレンビニレン系高分子、ポリエチレンジオキシチオフェン系高分子、ナフタレンジイミドを一成分とする共重合高分子、ペリレンジイミドを一成分とする共重合高分子、及びジケトピロロピロールを一成分とする共重合高分子などが挙げられる。 Examples of the other organic semiconductors include polymer semiconductor compounds. Here, the polymer semiconductor compound is a polymer compound characterized by exhibiting semiconductor characteristics, and specifically includes a polyacetylene polymer, a polydiacetylene polymer, a polyparaphenylene polymer, and a polyaniline polymer. Polymer, polytriphenylamine polymer, polythiophene polymer, polypyrrole polymer, polyparaphenylene vinylene polymer, polyethylenedioxythiophene polymer, copolymer polymer with naphthalenediimide as one component, perylene Examples thereof include a copolymer polymer containing diimide as one component and a copolymer polymer containing diketopyrrolopyrrole as one component.
これらの高分子半導体化合物の中でも、ポリアニリン系高分子、ポリチオフェン系高分子、ポリピロール系高分子、ポリパラフェニレンビニレン系高分子、ナフタレンジイミドを一成分とする共重合高分子、ペリレンジイミドを一成分とする共重合高分子、及びジケトピロロピロールを一成分とする共重合高分子などが好適である。 Among these polymer semiconductor compounds, polyaniline polymer, polythiophene polymer, polypyrrole polymer, polyparaphenylene vinylene polymer, copolymer polymer containing naphthalenediimide as one component, and perylene diimide as one component And a copolymer polymer containing diketopyrrolopyrrole as one component are suitable.
さらに他の有機半導体として、例えば、本発明のベンゾビス(チアジアゾール)誘導体以外の低分子半導体化合物が挙げられる。ここでの低分子半導体化合物とは、半導体特性を示すことを特徴とする低分子化合物であり、具体的には、アセン、フェニレンビニレン、トリフェニルアミン、フルオレン、アザアセン、チエノアセン、チオフェン、ベンゾチオフェン、チエノチオフェン、チアゾール、チアゾロチアゾール、テトラチアフルバレン、フタロシアニン、ポルフィリン、ナフタレンジイミド、ペリレンジイミド、ベンゾチアジアゾール、ナフトビスチアジアゾール、ジケトピロロピロール、フラーレン及びこれらの誘導体などが挙げられる。 Still other organic semiconductors include, for example, low molecular semiconductor compounds other than the benzobis (thiadiazole) derivative of the present invention. The low molecular weight semiconductor compound herein is a low molecular weight compound characterized by exhibiting semiconductor characteristics, and specifically includes acene, phenylene vinylene, triphenylamine, fluorene, azaacene, thienoacene, thiophene, benzothiophene, Examples include thienothiophene, thiazole, thiazolothiazole, tetrathiafulvalene, phthalocyanine, porphyrin, naphthalene diimide, perylene diimide, benzothiadiazole, naphthobithiadiazole, diketopyrrolopyrrole, fullerene, and derivatives thereof.
これらの低分子半導体化合物の中でも、アセン、チエノアセン、チオフェン、チエノチオフェン、テトラチアフルバレン、ナフタレンジイミド、ペリレンジイミド、ジケトピロロピロール、フラーレン及びこれらの誘導体などが好適である。 Among these low-molecular semiconductor compounds, acene, thienoacene, thiophene, thienothiophene, tetrathiafulvalene, naphthalene diimide, perylene diimide, diketopyrrolopyrrole, fullerene, and derivatives thereof are preferable.
また、他の有機半導体として、例えば、Chem.Rev.,2012,Vol.112,pp.2208−2267に記載の有機半導体も挙げることができる。 As other organic semiconductors, for example, Chem. Rev. 2012, Vol. 112, pp. The organic semiconductor described in 2208-2267 can also be mentioned.
さらに本発明の有機半導体インクは、必要に応じて、添加成分として、導電性の高分子化合物を含むことができる。ここでの導電性高分子化合物とは、電気伝導性を示すことを特徴とする高分子化合物であり、具体的には、ポリアセチレン系高分子、ポリジアセチレン系高分子、ポリパラフェニレン系高分子、ポリアニリン系高分子、ポリトリフェニルアミン系高分子、ポリチオフェン系高分子、ポリピロール系高分子、ポリパラフェニレンビニレン系高分子、ポリエチレンジオキシチオフェン系高分子、及びポリエチレンジオキシチオフェン・ポリスチレンスルホン酸の混合物(一般名、PEDOT−PSS)などが挙げられる。 Furthermore, the organic semiconductor ink of the present invention can contain a conductive polymer compound as an additional component, if necessary. Here, the conductive polymer compound is a polymer compound characterized by exhibiting electrical conductivity, specifically, a polyacetylene polymer, a polydiacetylene polymer, a polyparaphenylene polymer, Polyaniline polymer, polytriphenylamine polymer, polythiophene polymer, polypyrrole polymer, polyparaphenylene vinylene polymer, polyethylenedioxythiophene polymer, and a mixture of polyethylenedioxythiophene and polystyrenesulfonic acid (Generic name, PEDOT-PSS).
これらの導電性高分子化合物の中でも、ポリアセチレン系高分子、ポリパラフェニレン系高分子、ポリアニリン系高分子、ポリトリフェニルアミン系高分子、ポリチオフェン系高分子、ポリピロール系高分子、及びポリパラフェニレンビニレン系高分子などが好適である。これらの添加の効果としては、インクの粘度の最適化や製膜性の向上などに加えて電子移動度の向上が挙げられる。 Among these conductive polymer compounds, polyacetylene polymers, polyparaphenylene polymers, polyaniline polymers, polytriphenylamine polymers, polythiophene polymers, polypyrrole polymers, and polyparaphenylene vinylenes. Polymers and the like are preferred. As an effect of these additions, in addition to the optimization of the viscosity of the ink and the improvement of the film forming property, the improvement of the electron mobility can be mentioned.
また、本発明の有機半導体インクは、必要に応じて、下記の低分子化合物をインクの物性を制御する添加剤として含むことができる。具体的には、デカン、ウンデカン、ドデカン、トリデカン、テトラデカン、ペンタデカン、ヘキサデカン、ヘプタデカン、オクタデカン、ノナデカン、及びイコサン等の脂肪族炭化水素、
ヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール、ノナノール、デカノール、ウンデカノール、ドデカノール、トリデカノール、テトラデカノール、ペンタデカノール、ヘキサデカノール、ヘプタデカノール、オクタデカノール、ノナデカノール、及びエイコサノール等の脂肪族アルコール、
ヘキシルアミン、ヘプチルアミン、オクチルアミン、ノニルアミン、デシルアミン、ウンデシルアミン、ドデシルアミン、トリデシルアミン、テトラデシルアミン、ペンタデシルアミン、ヘキサデシルアミン、ヘプタデシルアミン、オクタデシルアミン、ノナデシルアミン、及びエイコシルアミン等の脂肪族アミン、
ヘキサンチオール、ヘプタンチオール、オクタンチオール、ノナンチオール、デカンチオール、ウンデカンチオール、ドデカンチオール、トリデカンチオール、テトラデカンチオール、ペンタデカンチオール、ヘキサデカンチオール、ヘプタデカンチオール、オクタデカンチオール、ノナデカンチオール、エイコサンチオール、フェニルメタンチオール、(2−メチルフェニル)メタンチオール、(3−メチルフェニル)メタンチオール、(4−メチルフェニル)メタンチオール、(2−フルオロフェニル)メタンチオール、(3−フルオロフェニル)メタンチオール、(4−フルオロフェニル)メタンチオール、及び2−フェニルエタンチオール等の脂肪族チオール、並びに、
ベンゼンチオール、2−メチルベンゼンチオール、3−メチルベンゼンチオール、4−メチルベンゼンチオール、2−エチルベンゼンチオール、3−エチルベンゼンチオール、4−エチルベンゼンチオール、2−アミノベンゼンチオール、3−アミノベンゼンチオール、4−アミノベンゼンチオール、2−イソプロピルベンゼンチオール、3−イソプロピルベンゼンチオール、4−イソプロピルベンゼンチオール、2−(ジメチルアミノ)ベンゼンチオール、3−(ジメチルアミノ)ベンゼンチオール、及び4−(ジメチルアミノ)ベンゼンチオール等の芳香族チオールが挙げられる。
In addition, the organic semiconductor ink of the present invention can contain the following low-molecular compound as an additive for controlling the physical properties of the ink, if necessary. Specifically, aliphatic hydrocarbons such as decane, undecane, dodecane, tridecane, tetradecane, pentadecane, hexadecane, heptadecane, octadecane, nonadecane, and icosane,
Aliphatic alcohols such as hexanol, heptanol, octanol, nonanol, decanol, undecanol, dodecanol, tridecanol, tetradecanol, pentadecanol, hexadecanol, heptadecanol, octadecanol, nonadecanol, and eicosanol;
Hexylamine, heptylamine, octylamine, nonylamine, decylamine, undecylamine, dodecylamine, tridecylamine, tetradecylamine, pentadecylamine, hexadecylamine, heptadecylamine, octadecylamine, nonadecylamine, eicosylamine, etc. Aliphatic amines,
Hexanethiol, heptanethiol, octanethiol, nonanethiol, decanethiol, undecanethiol, dodecanethiol, tridecanethiol, tetradecanthiol, pentadecanethiol, hexadecanethiol, heptadecanethiol, octadecanethiol, nonadecanethiol, eicosanethiol, phenyl Methanethiol, (2-methylphenyl) methanethiol, (3-methylphenyl) methanethiol, (4-methylphenyl) methanethiol, (2-fluorophenyl) methanethiol, (3-fluorophenyl) methanethiol, (4 -Fluorophenyl) aliphatic thiols such as methanethiol and 2-phenylethanethiol, and
Benzenethiol, 2-methylbenzenethiol, 3-methylbenzenethiol, 4-methylbenzenethiol, 2-ethylbenzenethiol, 3-ethylbenzenethiol, 4-ethylbenzenethiol, 2-aminobenzenethiol, 3-aminobenzenethiol, 4- Aminobenzenethiol, 2-isopropylbenzenethiol, 3-isopropylbenzenethiol, 4-isopropylbenzenethiol, 2- (dimethylamino) benzenethiol, 3- (dimethylamino) benzenethiol, 4- (dimethylamino) benzenethiol, etc. An aromatic thiol of
これらの添加の効果としては、有機半導体インクの粘度の最適化や製膜性の向上などに加えて電荷移動度の向上が挙げられる。これらの低分子化合物の中でも、インクの濡れ性の向上により移動度の向上を図る目的で、脂肪族チオール、及び芳香族チオールが好適である。 As an effect of these additions, in addition to optimizing the viscosity of the organic semiconductor ink and improving the film forming property, there is an improvement in charge mobility. Among these low molecular weight compounds, aliphatic thiols and aromatic thiols are suitable for the purpose of improving mobility by improving the wettability of the ink.
以上説明した本発明の有機半導体インクを塗布することで、本発明のベンゾビス(チアジアゾール)誘導体の層、又は薄膜を形成することができる。なお、本発明の有機半導体インクの塗布は、公知の方法、例えば、スピンコート法、ドロップキャスト法、キャスト法、及びラングミュア−ブロジェット法などで行うことができる。また塗布法として、一般に印刷の技法として知られる公知の方法を用いることも可能で、例えば、インクジェット法、スクリーン法、オフセット法、グラビア法、フレキソ法、及びマイクロコンタクト法などで印刷を行うことができる。 By applying the organic semiconductor ink of the present invention described above, a layer or thin film of the benzobis (thiadiazole) derivative of the present invention can be formed. The organic semiconductor ink of the present invention can be applied by a known method such as a spin coat method, a drop cast method, a cast method, and a Langmuir-Blodgett method. In addition, as a coating method, a known method generally known as a printing technique can be used. For example, printing can be performed by an inkjet method, a screen method, an offset method, a gravure method, a flexo method, a microcontact method, or the like. it can.
なお、本発明の有機半導体インクを基材上に塗布した後に、溶媒成分が除去されると、本発明のベンゾビス(チアジアゾール)誘導体を含む層、又は含む薄膜(以下、有機半導体層とも称する)が形成されるが、溶媒成分除去条件は適宜選択することができる。 When the solvent component is removed after the organic semiconductor ink of the present invention is applied on a substrate, a layer containing the benzobis (thiadiazole) derivative of the present invention or a thin film containing the organic benzobis (thiadiazole) derivative (hereinafter also referred to as an organic semiconductor layer). Although formed, the solvent component removal conditions can be appropriately selected.
例えば溶媒成分を室温下で自然乾燥若しくは風乾することが好ましいが、溶媒の沸点が高く除去しにくい場合は、室温付近で減圧下で溶媒除去するか、50℃〜200℃程度に加熱して溶媒除去するか、若しくは両者を併用し減圧下で加熱処理することができる。 For example, the solvent component is preferably air-dried or air-dried at room temperature, but when the boiling point of the solvent is high and difficult to remove, the solvent is removed under reduced pressure near room temperature or heated to about 50 ° C. to 200 ° C. It can be removed or both can be used together and heat-treated under reduced pressure.
さらに本発明のベンゾビス(チアジアゾール)誘導体を含む層、又は含む薄膜の半導体特性を向上させる目的で、前記層又は薄膜を加熱処理することができる。この場合の加熱処理条件は適宜選択することができ、例えば、50℃〜250℃程度で、0.1時間〜24時間、加熱処理する方法が挙げられる。この工程は溶媒除去工程を兼ねてもよい。 Furthermore, the layer or thin film can be heat-treated for the purpose of improving the semiconductor properties of the layer containing the benzobis (thiadiazole) derivative of the present invention or the thin film containing it. The heat treatment conditions in this case can be appropriately selected, and examples include a method of heat treatment at about 50 ° C. to 250 ° C. for 0.1 hour to 24 hours. This step may also serve as a solvent removal step.
また、前記層又は薄膜の半導体特性を向上させる目的で、当該層又は薄膜を溶媒蒸気に曝露する処理を施してもよい。 In addition, for the purpose of improving the semiconductor properties of the layer or thin film, a treatment for exposing the layer or thin film to solvent vapor may be performed.
本工程に用いられる溶媒としては、水や、種々の有機溶媒、例えばメタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコール、イソブタノール、2−ブタノール、2−エチル−1−ブタノール、n−オクタノール、ベンジルアルコール、及びテルピネオール等のアルコール類;
アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、アセトフェノン、及びイソホロン等のケトン類:
酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、安息香酸メチル、安息香酸ブチル、サリチル酸メチル、マロン酸エチル、酢酸2−エトキシエタン、及び酢酸2−メトキシ−1−メチルエチル等のエステル類;
N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジエチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、N−エチルピロリドン、及びヘキサメチルリン酸トリアミド等のアミド類;
1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、及び1,3−ジメチルイミダゾリジン−2,4−ジオン等の尿素類;
ジメチルスルホキシド、及びジエチルスルホキシド等のスルホキシド類;
スルホラン等のスルホン類;
アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル、及びベンゾニトリル等のニトリル類;
γ―ブチロラクトン等のラクトン類;
ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、2−メチルテトラヒドロフラン、ジオキサン、tert−ブチルメチルエーテル、アニソール、フェネトール、1,2−ジメトキシベンゼン、1,3−ジメトキシベンゼン、1,4−ジメトキシベンゼン、1,2−メチルアニソール、1,3−メチルアニソール、1,4−メチルアニソール、1,2−メチレンジオキシベンゼン、2,3−ジヒドロベンゾフラン、フタラン、オクチルオキシベンゼン、ジフェニルエーテル、及びエチルセロソルブ等のエーテル類;
炭酸ジメチル、及び1,2−ブチレングリコールカーボネート等のカーボネート類;
チオアニソール、及びエチルフェニルスルフィド等のチオエーテル類;
ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、プソイドクメン、ヘミメリテン、デュレン、イソデュレン、プレーニテン、エチルベンゼン、クメン、tert−ブチルベンゼン、シクロヘキシルベンゼン、トリイソプロピルベンゼン、フェニルアセチレン、インダン、メチルインダン、インデン、テトラリン、ナフタレン、1−メチルナフタレン、2−メチルナフタレン、フェニルオクタン、及びジフェニルメタン等の芳香族炭化水素類;
フェノール、1,2−クレゾール、1,3−クレゾール、1,4−クレゾール、1,2−メトキシフェノール、1,3−メトキシフェノール、及び1,4−メトキシフェノール等のフェノール類;
クロロベンゼン、1,2−ジクロロベンゼン、1,3−ジクロロベンゼン、1,2,4−トリクロロベンゼン、ブロモベンゼン、1,2−ジブロモベンゼン、1,3−ジブロモベンゼン、1,4−ジクロロトルエン、1−クロロナフタレン、2,4−ジクロロトルエン、2−クロロ−1,3−ジメチルベンゼン、2-クロロトルエン、2−クロロ−1,4−ジメチルベンゼン、4−クロロ−1,2−ジメチルベンゼン、2,5−ジクロロトルエン、m−クロロトルエン、1−クロロ−2,3−ジメチルベンゼン、4−(トリフルオロメトキシ)アニソール、及びトリフルオロメトキシベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素類;
ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、及びリモネン等の脂肪族炭化水素類;
ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、1,2−ジクロロエタン、1,3−ジクロロプロパン、及び1,2−ジブロモエタン等のハロゲン化脂肪族炭化水素類;
2,6−ジメチルピリジン、及び2,6−ジtert-ブチルピリジン等のピリジン類
などが挙げられる。
Examples of the solvent used in this step include water and various organic solvents such as methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol, isobutanol, 2-butanol, 2-ethyl-1-butanol, n-octanol, benzyl alcohol, and Alcohols such as terpineol;
Ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, acetophenone, and isophorone:
Esters such as methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, methyl benzoate, butyl benzoate, methyl salicylate, ethyl malonate, 2-ethoxyethane acetate, and 2-methoxy-1-methylethyl acetate;
Amides such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N, N-diethylformamide, N-methylpyrrolidone, N-ethylpyrrolidone, and hexamethylphosphoric triamide;
Ureas such as 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone and 1,3-dimethylimidazolidine-2,4-dione;
Sulfoxides such as dimethyl sulfoxide and diethyl sulfoxide;
Sulfones such as sulfolane;
Nitriles such as acetonitrile, propionitrile, butyronitrile, and benzonitrile;
Lactones such as γ-butyrolactone;
Diethyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran, 2-methyltetrahydrofuran, dioxane, tert-butyl methyl ether, anisole, phenetole, 1,2-dimethoxybenzene, 1,3-dimethoxybenzene, 1,4-dimethoxybenzene, 1,2- Ethers such as methylanisole, 1,3-methylanisole, 1,4-methylanisole, 1,2-methylenedioxybenzene, 2,3-dihydrobenzofuran, phthalane, octyloxybenzene, diphenyl ether, and ethyl cellosolve;
Carbonates such as dimethyl carbonate and 1,2-butylene glycol carbonate;
Thioethers such as thioanisole and ethyl phenyl sulfide;
Benzene, toluene, xylene, mesitylene, pseudocumene, hemimelliten, durene, isodurene, prienten, ethylbenzene, cumene, tert-butylbenzene, cyclohexylbenzene, triisopropylbenzene, phenylacetylene, indane, methylindane, indene, tetralin, naphthalene, 1- Aromatic hydrocarbons such as methylnaphthalene, 2-methylnaphthalene, phenyloctane, and diphenylmethane;
Phenols such as phenol, 1,2-cresol, 1,3-cresol, 1,4-cresol, 1,2-methoxyphenol, 1,3-methoxyphenol, and 1,4-methoxyphenol;
Chlorobenzene, 1,2-dichlorobenzene, 1,3-dichlorobenzene, 1,2,4-trichlorobenzene, bromobenzene, 1,2-dibromobenzene, 1,3-dibromobenzene, 1,4-dichlorotoluene, 1 -Chloronaphthalene, 2,4-dichlorotoluene, 2-chloro-1,3-dimethylbenzene, 2-chlorotoluene, 2-chloro-1,4-dimethylbenzene, 4-chloro-1,2-dimethylbenzene, 2 Halogenated aromatic hydrocarbons such as 1,5-dichlorotoluene, m-chlorotoluene, 1-chloro-2,3-dimethylbenzene, 4- (trifluoromethoxy) anisole, and trifluoromethoxybenzene;
Aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, octane, cyclohexane, and limonene;
Halogenated aliphatic hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform, carbon tetrachloride, 1,2-dichloroethane, 1,3-dichloropropane, and 1,2-dibromoethane;
Examples thereof include pyridines such as 2,6-dimethylpyridine and 2,6-ditert-butylpyridine.
これらの中でも、ハロゲン化芳香族炭化水素類、芳香族炭化水素類、及びハロゲン化脂肪族炭化水素類を好適に使用することができる。 Among these, halogenated aromatic hydrocarbons, aromatic hydrocarbons, and halogenated aliphatic hydrocarbons can be suitably used.
好適なハロゲン化芳香族炭化水素類としては、クロロベンゼン、及び1,2−ジクロロベンゼンが挙げられる。 Suitable halogenated aromatic hydrocarbons include chlorobenzene and 1,2-dichlorobenzene.
好適な芳香族炭化水素類としては、トルエン、キシレン、メシチレン、テトラリン、シクロヘキシルベンゼン、及び1−メチルナフタレンが挙げられる。 Suitable aromatic hydrocarbons include toluene, xylene, mesitylene, tetralin, cyclohexylbenzene, and 1-methylnaphthalene.
好適なハロゲン化脂肪族炭化水素類としては、クロロホルム、及び1,2−ジクロロエタンが挙げられる。 Suitable halogenated aliphatic hydrocarbons include chloroform and 1,2-dichloroethane.
その他の好適な溶媒としては、安息香酸メチル、サリチル酸メチル、アニソール、4−メチルアニソール、及びメタクレゾールが挙げられる。
なお、これらの溶媒は、単独で使用してもよく、二種以上を混合して使用してもよい。
Other suitable solvents include methyl benzoate, methyl salicylate, anisole, 4-methylanisole, and metacresol.
In addition, these solvents may be used independently and may mix and use 2 or more types.
溶媒蒸気曝露処理工程は、例えば、ベンゾビス(チアジアゾール)誘導体を含む層、又は含む薄膜と溶媒とを、直接前記層又は薄膜と溶媒(液体状態のもの)とが触れないようにしつつ、密閉性のある空間に静置することで達成される。溶媒蒸気の量を増やすために、溶媒を40℃〜150℃程度に加温してもよい。この溶媒蒸気曝露処理工程の後には、
当該工程で上記層又は薄膜に付着した溶媒を除去するために、上記と同様の乾燥や加熱処理を適宜選択して実施することができる。
In the solvent vapor exposure treatment step, for example, a layer containing a benzobis (thiadiazole) derivative or a thin film containing the solvent and the solvent are not directly in contact with the layer or thin film and the solvent (in a liquid state). This is achieved by leaving it in a certain space. In order to increase the amount of solvent vapor, the solvent may be heated to about 40 ° C to 150 ° C. After this solvent vapor exposure process,
In order to remove the solvent adhering to the layer or thin film in the step, drying and heat treatment similar to the above can be appropriately selected and carried out.
<有機エレクトロニクスデバイス>
本発明のベンゾビス(チアジアゾール)誘導体は、電子の移動度(電界効果移動度)に優れ、例えば、有機薄膜トランジスタ、有機エレクトロルミネッセンス素子、表示デバイス、有機薄膜太陽電池、RFIDタグ及びセンサー等の有機エレクトロニクスデバイスに好適に使用することができる。これらの各種デバイスのいずれも、その構成部材として有機半導体を含む有機層を備えており、この有機層が、本発明のベンゾビス(チアジアゾール)誘導体を含んでいる。
<Organic electronics devices>
The benzobis (thiadiazole) derivative of the present invention is excellent in electron mobility (field effect mobility). For example, organic electronic devices such as organic thin film transistors, organic electroluminescent elements, display devices, organic thin film solar cells, RFID tags, and sensors. Can be suitably used. Each of these various devices includes an organic layer containing an organic semiconductor as a constituent member, and this organic layer contains the benzobis (thiadiazole) derivative of the present invention.
また、本発明のベンゾビス(チアジアゾール)誘導体は、バックライト、光通信、電子写真、照明光源、記録光源、露光光源、読取光源、標識、看板、インテリア、さらに、物流管理、在庫管理、商品管理、個体識別や、温度測定、圧力測定、荷重測定、明暗測定、及び生体情報測定等の広範に亘る各分野の用途に供することができる。以下では、前記の有機エレクトロニクスデバイスについて個別に説明する。 The benzobis (thiadiazole) derivative of the present invention includes backlight, optical communication, electrophotography, illumination light source, recording light source, exposure light source, reading light source, sign, signboard, interior, logistics management, inventory management, product management, It can be used for a wide range of applications such as individual identification, temperature measurement, pressure measurement, load measurement, light / dark measurement, and biological information measurement. Below, the said organic electronics device is demonstrated separately.
(有機薄膜トランジスタ)
まず、本発明の有機薄膜トランジスタ(以下、有機TFTとも称する)について説明する。本発明の有機薄膜トランジスタは、その構成部材である有機半導体層が本発明のベンゾビス(チアジアゾール)誘導体を含むものである。当該誘導体は分子の配向方向を揃えやすく、高電界効果移動度を達成できるので、有機TFTの有機半導体層に用いると効果的である。
(Organic thin film transistor)
First, the organic thin film transistor (hereinafter also referred to as organic TFT) of the present invention will be described. In the organic thin film transistor of the present invention, the organic semiconductor layer which is a constituent member thereof contains the benzobis (thiadiazole) derivative of the present invention. This derivative is effective when used in an organic semiconductor layer of an organic TFT because it can easily align the molecular orientation and achieve high field-effect mobility.
本発明の有機薄膜トランジスタは、有機半導体層が本発明のベンゾビス(チアジアゾール)誘導体を含むこと以外、公知の構造、材料を採用することができる。 The organic thin film transistor of the present invention can employ known structures and materials except that the organic semiconductor layer contains the benzobis (thiadiazole) derivative of the present invention.
有機半導体層の膜厚は、必要な機能を失わない範囲で、薄いことが好ましい。必要な機能を示すための有機半導体層の膜厚は、通常、1nm〜10μm、好ましくは5nm〜5μm、より好ましくは10nm〜1μmである。 The thickness of the organic semiconductor layer is preferably thin as long as necessary functions are not lost. The film thickness of the organic semiconductor layer for exhibiting a necessary function is usually 1 nm to 10 μm, preferably 5 nm to 5 μm, more preferably 10 nm to 1 μm.
図1に、本発明の有機TFTの一例の層構成を示す。図1に示す有機TFTは、ボトムゲート−トップコンタクト構造のものであり、基板11上に、ゲート電極12と、ゲート絶縁層13と、有機半導体層16と、ドレイン電極14及びソース電極15とをこの順に積層してなるものである。 FIG. 1 shows a layer structure of an example of the organic TFT of the present invention. The organic TFT shown in FIG. 1 has a bottom gate-top contact structure, and a gate electrode 12, a gate insulating layer 13, an organic semiconductor layer 16, a drain electrode 14 and a source electrode 15 are provided on a substrate 11. They are laminated in this order.
基板11としては、例えば、ガラス、石英、シリコン又はセラミック等の材料や、プラスチック材料を用いることができる。前述の通り本発明のベンゾビス(チアジアゾール)誘導体は通常水や有機溶媒に可溶であり、これに溶かして有機半導体インクとして、これを塗布することで有機半導体層を形成することができる。塗布においては、蒸着などと異なり、基板11が高温環境におかれることもない。これにより、その他の電極等も高温でない環境下で形成するものとすれば、基板11として耐熱性の低い材料も使用可能となる。 As the substrate 11, for example, a material such as glass, quartz, silicon, or ceramic, or a plastic material can be used. As described above, the benzobis (thiadiazole) derivative of the present invention is usually soluble in water or an organic solvent, and an organic semiconductor layer can be formed by applying it as an organic semiconductor ink after being dissolved therein. In the application, unlike the vapor deposition, the substrate 11 is not placed in a high temperature environment. Accordingly, if the other electrodes are formed in an environment that is not at a high temperature, a material having low heat resistance can be used as the substrate 11.
そのため、耐熱性の低いものを含めて各種プラスチック材料が基板11として利用可能になるのであるが、プラスチック材料として、可撓性を有する材料を使用することができ、この場合には基板11を可撓性(フレキシブル)基板とすることができる。これにより有機TFTを平面上だけでなく曲面等の上にも配置することが可能になり、有機TFTを備える有機エレクトロニクスデバイス全体の設計自由度が高まる。 For this reason, various plastic materials including those having low heat resistance can be used as the substrate 11. However, a flexible material can be used as the plastic material. A flexible substrate can be obtained. As a result, the organic TFT can be arranged not only on a flat surface but also on a curved surface or the like, and the degree of design freedom of the entire organic electronic device including the organic TFT is increased.
次に、ゲート電極12としては、例えば、金、白金、クロム、タングステン、タンタル、ニッケル、銅、アルミニウム、銀、マグネシウム、及びカルシウム等の金属、あるいはそれらの合金、並びにポリシリコン、アモルファスシリコン、グラファイト、スズドープ酸化インジウム(ITO)、酸化亜鉛、及び導電性ポリマー等の材料を用いることができる。これらの材料を使用して、真空蒸着法、電子ビーム蒸着法、RFスパッタ法又は印刷法等の周知の膜作製方法によりゲート電極12を形成することができる。 Next, as the gate electrode 12, for example, metals such as gold, platinum, chromium, tungsten, tantalum, nickel, copper, aluminum, silver, magnesium, and calcium, or alloys thereof, polysilicon, amorphous silicon, graphite Materials such as tin-doped indium oxide (ITO), zinc oxide, and conductive polymers can be used. Using these materials, the gate electrode 12 can be formed by a known film production method such as a vacuum deposition method, an electron beam deposition method, an RF sputtering method, or a printing method.
上記ゲート絶縁層13としては、例えば、SiO2、Si3N4、SiON、Al2O3、Ta2O5、アモルファスシリコン、ポリイミド樹脂、ポリビニルフェノール樹脂、ポリパラキシリレン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリフッ化炭素樹脂、及びジビニルテトラメチルシロキサンベンゾシクロブテン樹脂等の材料を用いることができる。これらの材料を使用して、ゲート絶縁層13は、ゲート電極12と同様の周知の膜作製方法により、ゲート電極12上に(ゲート電極12を被覆するようにして)形成することができる。 Examples of the gate insulating layer 13 include SiO 2 , Si 3 N 4 , SiON, Al 2 O 3 , Ta 2 O 5 , amorphous silicon, polyimide resin, polyvinyl phenol resin, polyparaxylylene resin, polystyrene resin, poly Materials such as methyl methacrylate resin, polyfluorocarbon resin, and divinyltetramethylsiloxane benzocyclobutene resin can be used. Using these materials, the gate insulating layer 13 can be formed on the gate electrode 12 (so as to cover the gate electrode 12) by a known film manufacturing method similar to that for the gate electrode 12.
本発明の有機薄膜トランジスタにおいて、有機半導体層16は、本発明のベンゾビス(チアジアゾール)誘導体1種以上を含み、例えば、真空蒸着法やスピンコート等の周知の膜作製方法により形成することができる。好ましくは有機半導体層16は、本発明の有機半導体インクを使用して、塗布(印刷)法により前記ゲート絶縁層13上に形成する。 In the organic thin film transistor of the present invention, the organic semiconductor layer 16 includes one or more benzobis (thiadiazole) derivatives of the present invention, and can be formed by a known film manufacturing method such as vacuum deposition or spin coating. Preferably, the organic semiconductor layer 16 is formed on the gate insulating layer 13 by a coating (printing) method using the organic semiconductor ink of the present invention.
そしてドレイン電極14及びソース電極15は、例えば、金、白金、クロム、タングステン、タンタル、ニッケル、銅、アルミニウム、銀、マグネシウム、及びカルシウム等の金属あるいはそれらの合金、並びにポリシリコン、アモルファスシリコン、グラファイト、スズドープ酸化インジウム(ITO)、酸化亜鉛、及び導電性ポリマー等の材料を用いて、ゲート電極12と同様の周知の膜作製方法により形成することができる。 The drain electrode 14 and the source electrode 15 are made of, for example, metals such as gold, platinum, chromium, tungsten, tantalum, nickel, copper, aluminum, silver, magnesium, and calcium, or alloys thereof, polysilicon, amorphous silicon, and graphite. , Tin-doped indium oxide (ITO), zinc oxide, and a conductive polymer can be used to form the film by a known film manufacturing method similar to that for the gate electrode 12.
(有機エレクトロルミネッセンス素子)
次に、本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子(以下、有機EL素子と称する)について説明する。本発明の有機EL素子は、その構成部材である正孔輸送層及び/又は電子輸送層が本発明のベンゾビス(チアジアゾール)誘導体を含むものである。本発明のベンゾビス(チアジアゾール)誘導体は、電子輸送性に優れているので、有機EL素子の、特に電子輸送層に用いると効果的である。
(Organic electroluminescence device)
Next, the organic electroluminescence element (hereinafter referred to as organic EL element) of the present invention will be described. In the organic EL device of the present invention, the hole transport layer and / or the electron transport layer which are constituent members thereof contain the benzobis (thiadiazole) derivative of the present invention. Since the benzobis (thiadiazole) derivative of the present invention is excellent in electron transport properties, it is effective when used in an organic EL device, particularly in an electron transport layer.
本発明の有機EL素子は、正孔輸送層及び/又は電子輸送層が本発明のベンゾビス(チアジアゾール)誘導体を含むこと以外、公知の構造、材料を採用することができる。 The organic EL device of the present invention can employ known structures and materials except that the hole transport layer and / or the electron transport layer contain the benzobis (thiadiazole) derivative of the present invention.
有機EL素子は、基板上で、陽極と陰極の間に、発光層、並びに正孔輸送層及び/又は電子輸送層を含む有機化合物層を形成した素子である。典型的には、(基板/陽極/正孔輸送層/発光層/陰極)、(基板/陽極/発光層/電子輸送層/陰極)、(基板/陽極/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/陰極)等の素子構造で構成される。 An organic EL element is an element in which an organic compound layer including a light emitting layer and a hole transport layer and / or an electron transport layer is formed between an anode and a cathode on a substrate. Typically, (substrate / anode / hole transport layer / light emitting layer / cathode), (substrate / anode / light emitting layer / electron transport layer / cathode), (substrate / anode / hole transport layer / light emitting layer / electron) It is composed of an element structure such as a transport layer / cathode.
図2に、本発明の有機EL素子の一例の層構成を示す。図2に示す有機EL素子は、基板21上に、陽極22、正孔輸送層23、発光層24、電子輸送層25及び陰極26をこの順に積層してなるものである。 In FIG. 2, the layer structure of an example of the organic EL element of this invention is shown. The organic EL element shown in FIG. 2 is formed by laminating an anode 22, a hole transport layer 23, a light emitting layer 24, an electron transport layer 25 and a cathode 26 in this order on a substrate 21.
上記のように構成された有機EL素子に対して、陽極22と陰極26との間に所定の直流電圧を印加すると、発光層24から高輝度の発光が得られる。この発光のメカニズムは以下のように考えられている。 When a predetermined DC voltage is applied between the anode 22 and the cathode 26 to the organic EL element configured as described above, light emission with high luminance can be obtained from the light emitting layer 24. The mechanism of this light emission is considered as follows.
すなわち、上記2つの層間に所定の直流電圧が印加されると、陽極22から正孔輸送層23に流入された正孔が発光層24まで輸送される。一方、陰極26から電子輸送層25に注入された電子は発光層24まで輸送され、この発光層24中を拡散移動して正孔と再結合し、電気的に中和状態となる。この再結合が行なわれると所定のエネルギーが放出され、そのエネルギーにより発光層24内の有機発光材料が励起状態に励起される。その状態から基底状態に戻る際に光が放出される。 That is, when a predetermined DC voltage is applied between the two layers, holes flowing from the anode 22 into the hole transport layer 23 are transported to the light emitting layer 24. On the other hand, electrons injected from the cathode 26 into the electron transport layer 25 are transported to the light emitting layer 24, diffused and moved in the light emitting layer 24, recombined with holes, and become electrically neutralized. When this recombination is performed, predetermined energy is released, and the organic light emitting material in the light emitting layer 24 is excited to an excited state by the energy. Light is emitted when the state returns to the ground state.
特に有機EL素子の電子輸送層25に高電界効果移動度の本発明のベンゾビス(チアジアゾール)誘導体を用いることによって、電子を発光層中に効率よく注入することができ、発光効率を高めることができる。 In particular, by using the benzobis (thiadiazole) derivative of the present invention having a high field effect mobility for the electron transport layer 25 of the organic EL element, electrons can be efficiently injected into the light emitting layer, and the light emission efficiency can be increased. .
上記基板21としては、例えば、ガラス、及びプラスチック等の透明材料を用いることができる。ここで、正孔輸送層23や電子輸送層25を、本発明の有機半導体インクを使用して塗布法により形成することができ、基板21として可撓性基板を使用可能であることは、上述の有機TFTの場合と同様である。 As the substrate 21, for example, a transparent material such as glass and plastic can be used. Here, the hole transport layer 23 and the electron transport layer 25 can be formed by a coating method using the organic semiconductor ink of the present invention, and a flexible substrate can be used as the substrate 21 as described above. This is the same as the case of the organic TFT.
上記陽極22としては、通常、光を透過させる材料を用いる。具体的には、スズドープ酸化インジウム(ITO)、酸化インジウム、酸化スズ、酸化インジウム、及び酸化亜鉛合金を用いることが好ましい。また、金、白金、銀、及びマグネシウム合金等の金属の薄膜を用いることもできる。さらに、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロール、及びそれらの誘導体等の有機材料も使用可能である。陽極22は、真空蒸着法、電子ビーム蒸着法、RFスパッタ法又は塗布(印刷)法等の周知の膜形成方法により形成することができる。 The anode 22 is usually made of a material that transmits light. Specifically, it is preferable to use tin-doped indium oxide (ITO), indium oxide, tin oxide, indium oxide, and a zinc oxide alloy. Further, a thin film of metal such as gold, platinum, silver, and magnesium alloy can be used. Furthermore, organic materials such as polyaniline, polythiophene, polypyrrole, and derivatives thereof can also be used. The anode 22 can be formed by a well-known film forming method such as a vacuum evaporation method, an electron beam evaporation method, an RF sputtering method, or a coating (printing) method.
上記陰極26としては、電子注入性の観点から、仕事関数の小さい、Li、K、及びNa等のアルカリ金属やMg、及びCa等のアルカリ土類金属を用いることが好ましい。また、安定なAl等を用いることも好ましい。安定性と電子注入性を両立させるために2種以上の材料を含む層にしてもよく、それらの材料については、例えば特開平2−15595号公報、及び特開平5−121172号公報等に詳しく記載されている。陰極26は、真空蒸着法、電子ビーム蒸着法、又はRFスパッタ法等の周知の膜形成方法により形成することができる。 As the cathode 26, it is preferable to use an alkaline metal such as Li, K, and Na, or an alkaline earth metal such as Mg and Ca, which has a low work function, from the viewpoint of electron injection. It is also preferable to use stable Al or the like. In order to achieve both stability and electron injection properties, a layer containing two or more kinds of materials may be used. These materials are described in detail, for example, in JP-A-2-15595 and JP-A-5-121172. Have been described. The cathode 26 can be formed by a well-known film forming method such as a vacuum evaporation method, an electron beam evaporation method, or an RF sputtering method.
上記発光層24としては、キノリノール錯体や芳香族アミン等のホスト材料に、クマリン誘導体やDCM、キナクリドン、又はルブレン等の色素材料を添加(ドーピング)したものを用いることが好ましいが、ホスト材料のみで発光層24を形成することもできる。また、イリジウム金属錯体をドーピングして発光層24を形成することで、効率の良い有機EL素子を作製することができる。発光層24は、真空蒸着法、スパッタ法又は塗布(印刷)法等の周知の膜形成方法により形成することができる。 As the light emitting layer 24, it is preferable to use a host material such as a quinolinol complex or an aromatic amine to which a coloring material such as a coumarin derivative, DCM, quinacridone, or rubrene is added (doping). The light emitting layer 24 can also be formed. Moreover, an efficient organic EL element can be produced by forming the light emitting layer 24 by doping an iridium metal complex. The light emitting layer 24 can be formed by a known film forming method such as a vacuum deposition method, a sputtering method, or a coating (printing) method.
正孔輸送層23及び/又は電子輸送層25は、本発明のベンゾビス(チアジアゾール)誘導体を含むものであり、当該誘導体を含む場合には、正孔輸送層23及び電子輸送層25は、本発明の有機半導体インクを用いて塗布法により好適に形成することができる。 The hole transport layer 23 and / or the electron transport layer 25 includes the benzobis (thiadiazole) derivative of the present invention. When the derivative includes the derivative, the hole transport layer 23 and the electron transport layer 25 correspond to the present invention. The organic semiconductor ink can be suitably formed by a coating method.
正孔輸送層23に本発明のベンゾビス(チアジアゾール)誘導体を用いない場合、正孔輸送層23としては、例えば、N,N’−ビス(3−メチルフェニル)−N,N’−ビス(フェニル)−ベンジジン(TPD)、N,N’−ビス(ナフタレン−1−イル)−N,N’−ビス(フェニル)−2,2’−ジメチルベンジジン(α−NPD)、及び2,2−ビス(3−(N,N−ジ−p−トリルアミノ)フェニル)ビフェニル(3DTAPBP)等の材料を用いることができる。 When the benzobis (thiadiazole) derivative of the present invention is not used for the hole transport layer 23, examples of the hole transport layer 23 include N, N′-bis (3-methylphenyl) -N, N′-bis (phenyl). ) -Benzidine (TPD), N, N′-bis (naphthalen-1-yl) -N, N′-bis (phenyl) -2,2′-dimethylbenzidine (α-NPD), and 2,2-bis A material such as (3- (N, N-di-p-tolylamino) phenyl) biphenyl (3DTAPBP) can be used.
電子輸送層25に本発明のベンゾビス(チアジアゾール)誘導体を用いない場合、電子輸送層25としては、例えば、2−(4−ビフェニル)−5−(4−tert−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサゾール(PBD)、1,3−ビス[2−(4−tert−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾ−5−イル]ベンゼン(OXD−7)、及び2,2’,2’’−(1,3,5−ベンジントリイル)−トリス(1−フェニル−1−H−ベンズイミダゾール(TPBi)等の材料を用いることができる。 When the benzobis (thiadiazole) derivative of the present invention is not used for the electron transport layer 25, the electron transport layer 25 is, for example, 2- (4-biphenyl) -5- (4-tert-butylphenyl) -1,3, 4-oxazole (PBD), 1,3-bis [2- (4-tert-butylphenyl) -1,3,4-oxadiazo-5-yl] benzene (OXD-7), and 2,2 ′, 2 Materials such as ''-(1,3,5-benzentriyl) -tris (1-phenyl-1-H-benzimidazole (TPBi)) can be used.
正孔輸送層23及び電子輸送層25の膜形成方法としては、上記発光層24の膜形成方法と同様の方法が用いられる。また、これらの厚みは従来公知の範囲から適宜選択されるが、通常1nm〜1μm、好ましくは1nm〜100nmである。 As a film forming method of the hole transport layer 23 and the electron transport layer 25, the same method as the film forming method of the light emitting layer 24 is used. Moreover, although these thickness is suitably selected from a conventionally well-known range, it is 1 nm-1 micrometer normally, Preferably it is 1 nm-100 nm.
なお、本発明の有機EL素子は、上記各層の他、電子注入層、正孔注入層、電子ブロック層、正孔ブロック層、又は保護層等を設けるように構成することが可能である。これらの層も、上記発光層24の膜形成方法と同様の方法により形成することができる。 In addition, the organic EL element of the present invention can be configured to provide an electron injection layer, a hole injection layer, an electron block layer, a hole block layer, a protective layer, or the like in addition to the above layers. These layers can also be formed by the same method as the film forming method of the light emitting layer 24.
<表示デバイス>
次に、本発明の表示デバイスについて説明する。本発明の表示デバイスは、有機EL素子及びそれに電気的に接続した有機TFTを備え、有機TFTにより有機EL素子の駆動(スイッチングトランジスタ)及び点灯(ドライビングトランジスタ)を制御するものであり、有機TFTが上記のような本発明の有機TFTであるか、有機EL素子が上記のような本発明の有機EL素子である、表示デバイスである。本発明の表示デバイスにおいては、高電界効果移動度の観点から、有機TFTが本発明の有機TFTであり、且つ、有機EL素子が本発明の有機EL素子であることが好ましい。
<Display device>
Next, the display device of the present invention will be described. The display device of the present invention includes an organic EL element and an organic TFT electrically connected thereto, and controls driving (switching transistor) and lighting (driving transistor) of the organic EL element by the organic TFT. The display device is the organic TFT of the present invention as described above, or the organic EL element is the organic EL element of the present invention as described above. In the display device of the present invention, from the viewpoint of high field effect mobility, the organic TFT is preferably the organic TFT of the present invention, and the organic EL element is preferably the organic EL element of the present invention.
図3に、本発明の表示デバイスの構成の一例を示す。図3に示す表示デバイスは、基板111上に、バリア層112を介して、陰極101、電子輸送層102、発光層103、正孔輸送層104及び陽極105から構成される有機EL素子120と、ゲート電極106、ゲート絶縁層107、有機半導体層108、ソース電極109及びドレイン電極110から構成される有機TFT121とを有する。そして、これらの層構造の上方部分が保護膜113により被覆されている。 FIG. 3 shows an example of the configuration of the display device of the present invention. The display device shown in FIG. 3 includes an organic EL element 120 including a cathode 101, an electron transport layer 102, a light emitting layer 103, a hole transport layer 104, and an anode 105 on a substrate 111 with a barrier layer 112 interposed therebetween. The organic TFT 121 includes a gate electrode 106, a gate insulating layer 107, an organic semiconductor layer 108, a source electrode 109, and a drain electrode 110. The upper part of these layer structures is covered with a protective film 113.
この表示デバイスは、有機EL素子120の陰極101(基板111に近い側の電極)と、有機TFT121のドレイン電極110が電気的に接続された構造となっている。ゲート電極106に電圧を印加することによりソース・ドレイン電極間に電流が流れ、有機EL素子120が発光する。また、陽極と有機TFTのドレイン電極が電気的に接続された構造とすることもできる。 This display device has a structure in which the cathode 101 (electrode on the side close to the substrate 111) of the organic EL element 120 and the drain electrode 110 of the organic TFT 121 are electrically connected. By applying a voltage to the gate electrode 106, a current flows between the source and drain electrodes, and the organic EL element 120 emits light. Moreover, it can also be set as the structure where the anode and the drain electrode of organic TFT were electrically connected.
本発明においては、前述の通り、有機TFT、及び有機TFTにより駆動・点灯される有機EL素子の両方とも、本発明のベンゾビス(チアジアゾール)誘導体を用いた本発明の有機TFT及び本発明の有機EL素子であることが好ましいが、いずれか一方が本発明のベンゾビス(チアジアゾール)誘導体を含まない、公知の材料及び構成のものであってもよい。 In the present invention, as described above, the organic TFT of the present invention using the benzobis (thiadiazole) derivative of the present invention and the organic EL of the present invention are used for both the organic TFT and the organic EL element driven / lighted by the organic TFT. Although it is preferably an element, any one of them may be of a known material and configuration that does not contain the benzobis (thiadiazole) derivative of the present invention.
さらに、図3に示すような、駆動・点灯の制御用の有機TFTと有機EL素子とを組み合わせた画素素子をマトリックス状に配置することでアクティブマトリックス方式の表示デバイスを作製することができる。アクティブマトリクス方式の表示デバイスは、画素数が多くなっても、非選択点に不要な電圧が印加されるおそれが小さく、また、高デューティ時においても電界効率低下や劣化を生じるおそれが小さく、応答性に優れているという利点を有している。 Further, as shown in FIG. 3, an active matrix display device can be manufactured by arranging pixel elements in which organic TFTs for driving / lighting control and organic EL elements are combined in a matrix. Active matrix display devices are less susceptible to unnecessary voltage being applied to non-selected points even when the number of pixels is large, and are less likely to cause field efficiency degradation or degradation even at high duty. It has the advantage of being excellent in performance.
なお、本発明の表示デバイス(ディスプレイ)は、本発明の有機TFT及び/又は本発明の有機EL素子を用いていること以外は、公知の構造、材料を採用することができ、公知の方法により製造することができる。 The display device (display) of the present invention can employ known structures and materials except that the organic TFT of the present invention and / or the organic EL element of the present invention are used, and can be obtained by a known method. Can be manufactured.
<有機薄膜太陽電池>
次に、本発明の有機薄膜太陽電池(以下、有機PV素子と称する)について説明する。本発明の有機PV素子は、基板上に、陽極と、正孔輸送材料及び電子輸送材料を含む電荷分離層と、陰極とを有し、前記電荷分離層が、本発明のベンゾビス(チアジアゾール)誘導体を含むものである。
<Organic thin film solar cell>
Next, the organic thin film solar cell of the present invention (hereinafter referred to as an organic PV element) will be described. The organic PV device of the present invention has an anode, a charge separation layer containing a hole transport material and an electron transport material, and a cathode on a substrate, and the charge separation layer is a benzobis (thiadiazole) derivative of the present invention. Is included.
さらに本発明の有機PV素子として、基板上に、陽極と、前記電荷分離層と、正孔輸送層及び/又は電子輸送層と、陽極とを有し、前記正孔輸送層及び/又は電子輸送層が本発明のベンゾビス(チアジアゾール)誘導体を含む構成のものも挙げられる。 Furthermore, the organic PV element of the present invention has an anode, the charge separation layer, a hole transport layer and / or an electron transport layer, and an anode on a substrate, and the hole transport layer and / or electron transport. The thing of the structure in which a layer contains the benzobis (thiadiazole) derivative of this invention is also mentioned.
本発明のベンゾビス(チアジアゾール)誘導体は、電子輸送性に優れているので、有機PV素子の、特に電荷分離層や電子輸送層に用いると効果的である。 Since the benzobis (thiadiazole) derivative of the present invention is excellent in electron transport property, it is effective when used in an organic PV element, particularly in a charge separation layer or an electron transport layer.
本発明の有機PV素子は、上記の構成以外、公知の構造、材料を採用することができる。 The organic PV element of the present invention can employ known structures and materials other than the above configuration.
有機PV素子は、基板上で、陽極と陰極の間に、電荷分離層を含む少なくとも1層の有機化合物層を形成した素子である。典型的には、(基板/陽極/電荷分離層/陰極)、(基板/陽極/電荷分離層/電子輸送層/陰極)、(基板/陽極/正孔輸送層/電荷分離層/電子輸送層/陰極)等の素子構造で構成される。 An organic PV element is an element in which at least one organic compound layer including a charge separation layer is formed between an anode and a cathode on a substrate. Typically, (substrate / anode / charge separation layer / cathode), (substrate / anode / charge separation layer / electron transport layer / cathode), (substrate / anode / hole transport layer / charge separation layer / electron transport layer) / Cathode).
図4に、本発明の有機PV素子の一例の層構成を示す。図4に示す有機PV素子は、基板31上に、陽極32、電荷分離層33及び陰極34をこの順に積層してなるものである。 In FIG. 4, the layer structure of an example of the organic PV element of this invention is shown. The organic PV element shown in FIG. 4 is formed by laminating an anode 32, a charge separation layer 33, and a cathode 34 in this order on a substrate 31.
上記のように構成された有機PV素子に光が照射されると、電荷分離層33において正孔と電子が発生し、陽極32と陰極34を接続すると電流を取り出すことができる。この発電のメカニズムは以下のように考えられている。 When the organic PV element configured as described above is irradiated with light, holes and electrons are generated in the charge separation layer 33, and a current can be taken out when the anode 32 and the cathode 34 are connected. The mechanism of this power generation is considered as follows.
すなわち、上記電荷分離層33に光が照射されると、光が吸収され、そのエネルギーにより有機分子が励起されて電荷分離を生じ、正孔と電子が発生する。正孔は電荷分離層33中の正孔輸送材料により陽極32まで輸送され、電子は電荷分離層33中の電子輸送材料により陰極34まで輸送され、外部回路へ取り出される。 That is, when the charge separation layer 33 is irradiated with light, the light is absorbed and the energy excites organic molecules to generate charge separation, generating holes and electrons. The holes are transported to the anode 32 by the hole transport material in the charge separation layer 33, and the electrons are transported to the cathode 34 by the electron transport material in the charge separation layer 33 and taken out to an external circuit.
有機PV素子の電荷分離層33に高電界効果移動度の本発明のベンゾビス(チアジアゾール)誘導体を用いることによって、正孔及び電子を電荷分離層33中から効率的に取り出すことができ、発電効率を高めることができる。また、本発明のベンゾビス(チアジアゾール)誘導体を電子輸送層に用いることによって、電子を陰極に効率的に輸送することができ、発電効率を高めることができる。 By using the benzobis (thiadiazole) derivative of the present invention having a high field effect mobility for the charge separation layer 33 of the organic PV element, holes and electrons can be efficiently extracted from the charge separation layer 33, and the power generation efficiency can be improved. Can be increased. Further, by using the benzobis (thiadiazole) derivative of the present invention for the electron transport layer, electrons can be efficiently transported to the cathode, and power generation efficiency can be increased.
上記基板31としては、例えば、ガラス、プラスチック等の透明材料を用いることができる。ここで、電荷分離層33、正孔輸送層や電子輸送層を、本発明の有機半導体インクを使用して塗布法により形成することができ、基板31として可撓性基板を使用可能であることは、上述の有機TFTの場合と同様である。 As the substrate 31, for example, a transparent material such as glass or plastic can be used. Here, the charge separation layer 33, the hole transport layer, and the electron transport layer can be formed by a coating method using the organic semiconductor ink of the present invention, and a flexible substrate can be used as the substrate 31. Is the same as in the case of the organic TFT described above.
上記陽極32としては、通常、光を透過させる材料を用いる。具体的には、スズドープ酸化インジウム(ITO)、酸化インジウム、酸化スズ、酸化インジウム、又は酸化亜鉛合金であることが好ましい。金、白金、銀、及びマグネシウム合金等の金属の薄膜を用いることもできる。さらに、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロール、及びそれらの誘導体等の有機材料も使用可能である。陽極32は、真空蒸着法、電子ビーム蒸着法、RFスパッタ法又は塗布(印刷)法等の周知の膜形成方法により形成することができる。 As the anode 32, a light transmitting material is usually used. Specifically, tin-doped indium oxide (ITO), indium oxide, tin oxide, indium oxide, or a zinc oxide alloy is preferable. Metal thin films such as gold, platinum, silver, and magnesium alloys can also be used. Furthermore, organic materials such as polyaniline, polythiophene, polypyrrole, and derivatives thereof can also be used. The anode 32 can be formed by a known film forming method such as a vacuum evaporation method, an electron beam evaporation method, an RF sputtering method, or a coating (printing) method.
上記陰極34としては、電子取出性の観点から、仕事関数の小さい、Li、K、及びNa等のアルカリ金属やMg、及びCa等のアルカリ土類金属を用いることが好ましい。また、安定なAl等を用いることも好ましい。安定性と電子取出性を両立させるために2種以上の材料を含む層にしてもよい。陰極34は、真空蒸着法、電子ビーム蒸着法、又はRFスパッタ法等の周知の膜形成方法により形成することができる。 As the cathode 34, it is preferable to use an alkali metal such as Li, K, and Na, or an alkaline earth metal such as Mg and Ca, which has a small work function, from the viewpoint of electron extraction. It is also preferable to use stable Al or the like. In order to achieve both stability and electron extraction, a layer containing two or more materials may be used. The cathode 34 can be formed by a well-known film forming method such as a vacuum evaporation method, an electron beam evaporation method, or an RF sputtering method.
上記電荷分離層33には、本発明のベンゾビス(チアジアゾール)誘導体を有機半導体材料として用いる。使用するベンゾビス(チアジアゾール)誘導体は1種類としてもよいし、複数種類としてもよい。さらに、電荷分離層33は、他の有機半導体化合物1種以上を含むこともできる。 For the charge separation layer 33, the benzobis (thiadiazole) derivative of the present invention is used as an organic semiconductor material. The benzobis (thiadiazole) derivative to be used may be one kind or plural kinds. Furthermore, the charge separation layer 33 can also contain one or more other organic semiconductor compounds.
ベンゾビス(チアジアゾール)誘導体とともに電荷分離層を構成する材料としては、例えば、正孔輸送材料として、ポリ(3−ヘキシルチオフェン−2,5−ジイル)(P3HT)、及びポリ[2−メトキシ−5−(2−エチルヘキシルオキシ)−1,4−フェニレンビニレン](MEH−PPV)等が挙げられ、
電子輸送材料として、フラーレンC60、(6,6)−フェニル−C61ブチル酸メチルエステル(C61−PCBM)、フラーレンC70、及び(6,6)−フェニル−C71ブチル酸メチルエステル(C71−PCBM)等が挙げられる。
As a material constituting the charge separation layer together with the benzobis (thiadiazole) derivative, for example, poly (3-hexylthiophene-2,5-diyl) (P3HT) and poly [2-methoxy-5- (2-ethylhexyloxy) -1,4-phenylene vinylene] (MEH-PPV) and the like.
As an electron transport material, fullerene C60, (6,6) -phenyl-C61 butyric acid methyl ester (C61-PCBM), fullerene C70, (6,6) -phenyl-C71 butyric acid methyl ester (C71-PCBM), etc. Is mentioned.
電荷分離層33は、真空蒸着法、スパッタ法又は塗布(印刷)法等の周知の膜形成方法により形成することができ、本発明の有機半導体インクを用いて塗布(印刷)法により電荷分離層33を形成することが好ましい。また、電荷分離層33の厚みは従来公知の範囲から適宜選択されるが、通常5nm〜1μm、好ましくは10nm〜500nmである。 The charge separation layer 33 can be formed by a known film forming method such as a vacuum deposition method, a sputtering method, or a coating (printing) method. The charge separation layer 33 is formed by a coating (printing) method using the organic semiconductor ink of the present invention. Preferably 33 is formed. The thickness of the charge separation layer 33 is appropriately selected from a conventionally known range, but is usually 5 nm to 1 μm, preferably 10 nm to 500 nm.
本発明の有機PV素子には、さらに、正孔輸送層及び/又は電子輸送層を設けることができる。これらの層にも本発明のベンゾビス(チアジアゾール)誘導体を好適に用いることができる。使用するベンゾビス(チアジアゾール)誘導体は1種類としてもよいし、複数種類としてもよい。さらに、正孔輸送層及び電子輸送層は、他の化合物1種以上を含むこともできる。 The organic PV device of the present invention can further be provided with a hole transport layer and / or an electron transport layer. The benzobis (thiadiazole) derivative of the present invention can also be suitably used for these layers. The benzobis (thiadiazole) derivative to be used may be one kind or plural kinds. Furthermore, the hole transport layer and the electron transport layer can also contain one or more other compounds.
正孔輸送層又は電子輸送層に本発明のベンゾビス(チアジアゾール)誘導体を用いない場合、正孔輸送層としては、例えば、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)ポリ(スチレンスルホネート)(PEDOT−PSS)等の材料を用いることができ、電子輸送層としては、例えば、2,9−ジメチル−4,7−ジフェニル−1,10−フェナントロリン(BCP)等の材料を用いることができる。 When the benzobis (thiadiazole) derivative of the present invention is not used for the hole transport layer or the electron transport layer, examples of the hole transport layer include poly (3,4-ethylenedioxythiophene) poly (styrenesulfonate) (PEDOT- A material such as PSS) can be used, and as the electron transport layer, for example, a material such as 2,9-dimethyl-4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline (BCP) can be used.
正孔輸送層及び電子輸送層の膜形成方法としては、上記電荷分離層33の膜形成方法と同様の方法が用いられる。また、これらの厚みは従来公知の範囲から適宜選択されるが、通常1nm〜1μm、好ましくは1nm〜100nmである。 As the film forming method of the hole transport layer and the electron transport layer, the same method as the film forming method of the charge separation layer 33 is used. Moreover, although these thickness is suitably selected from a conventionally well-known range, it is 1 nm-1 micrometer normally, Preferably it is 1 nm-100 nm.
<RFIDタグ>
次に、本発明のRFIDタグ(Radio Frequency IDentification tag)について説明する。本発明のRFIDタグは、有機TFTを用いて作動するものであり、有機TFTが上記のような本発明の有機TFTであるものである。
<RFID tag>
Next, the RFID tag (Radio Frequency IDentification tag) of the present invention will be described. The RFID tag of the present invention operates using an organic TFT, and the organic TFT is the organic TFT of the present invention as described above.
RFIDタグは集積回路部(以下、IC部と称する)とアンテナ部とを有し、IC部に記憶されているID、すなわち個体識別情報等について、アンテナ部を介して、無線でリーダライタ機器と通信することができ、リーダライタ機器によってIC部に記憶されている情報を非接触で読み取ったり、逆にIC部に書き込んだりすることが可能な電子デバイスである。 The RFID tag includes an integrated circuit unit (hereinafter referred to as an IC unit) and an antenna unit, and an ID stored in the IC unit, that is, individual identification information and the like is wirelessly connected to the reader / writer device via the antenna unit. This is an electronic device that can communicate and can read information stored in the IC unit by a reader / writer device in a non-contact manner, or can write in the IC unit.
RFIDタグを物品に貼り付ける、もしくは物品に印刷することで、物品の情報管理、流通管理、及び固体認証などが可能であり、様々な分野へ応用されている。本発明のベンゾビス(チアジアゾール)誘導体は、高電界効果移動度を達成できるので、RFIDタグのIC部を構成する有機TFTの有機半導体層に用いると、RFIDタグの応答性を高めることができる。 By attaching an RFID tag to an article or printing on an article, information management, distribution management, solid authentication, and the like of the article can be performed and applied to various fields. Since the benzobis (thiadiazole) derivative of the present invention can achieve high field effect mobility, when used in the organic semiconductor layer of the organic TFT constituting the IC portion of the RFID tag, the responsiveness of the RFID tag can be improved.
本発明のRFIDタグは、例えばSolid−State Electronics 84(2013)167-178に記載の、公知の回路を組合せて作成することができる。 The RFID tag of the present invention can be created by combining known circuits described in, for example, Solid-State Electronics 84 (2013) 167-178.
なお、本発明のRFIDタグは、本発明の有機TFTを用いていること以外は、公知の構造、材料を採用することができ、公知の方法により製造することができる。 The RFID tag of the present invention can adopt a known structure and material except that the organic TFT of the present invention is used, and can be manufactured by a known method.
RFIDタグのIC部は、複数の有機TFTを備えるものであってもよい。その場合、複数の有機TFTのうち、すべての有機TFTが本発明の有機TFTであってもよく、また一部の有機TFTが本発明の有機TFTであってもよい。 The IC part of the RFID tag may include a plurality of organic TFTs. In that case, among the plurality of organic TFTs, all the organic TFTs may be the organic TFT of the present invention, and some of the organic TFTs may be the organic TFT of the present invention.
(センサー)
次に、本発明のセンサーについて説明する。本発明のセンサーは、有機TFTを用いて作動するものであり、有機TFTが上記のような本発明の有機TFTであるものである。
(sensor)
Next, the sensor of the present invention will be described. The sensor of the present invention operates using an organic TFT, and the organic TFT is the organic TFT of the present invention as described above.
センサーは、有機TFTに与えられる外部の刺激により、有機TFTを構成する有機半導体の物理状態が変化し、その結果、有機TFTから得られる電流及び/又は電圧が変化する系に適用することができる。 The sensor can be applied to a system in which the physical state of the organic semiconductor constituting the organic TFT changes due to an external stimulus applied to the organic TFT, and as a result, the current and / or voltage obtained from the organic TFT changes. .
本発明のセンサーとして、例えば、有機TFTを構成する有機半導体が熱や光を受けて、その有機半導体の物理状態が変化することで温度や光を検知する温度センサーや光センサーが挙げられる。 Examples of the sensor of the present invention include a temperature sensor and an optical sensor that detect temperature and light when the organic semiconductor constituting the organic TFT receives heat and light and the physical state of the organic semiconductor changes.
また、有機TFTを構成する有機半導体が応力を受けて、その有機半導体の物理状態が変化することで応力や圧力を検知する曲げ応力センサー、及び圧力センサーが挙げられる。 In addition, there are a bending stress sensor and a pressure sensor that detect stress and pressure when the organic semiconductor constituting the organic TFT receives stress and the physical state of the organic semiconductor changes.
また、有機TFTを構成する有機半導体が特定の化学物質、例えば水分子や酸素分子などの影響を受けて、その有機半導体の物理状態が変化することで、その化学物質を検知する化学センサーが挙げられる。 In addition, there is a chemical sensor that detects the chemical substance by changing the physical state of the organic semiconductor due to the influence of a specific chemical substance such as water molecule or oxygen molecule on the organic semiconductor constituting the organic TFT. It is done.
さらに、有機TFTを構成する金属電極が特定の化学物質により影響を受けて、有機TFTから得られる電流及び/又は電圧に変化が生じることで、その化学物質を検知する化学センサーも挙げられる。 Furthermore, there is a chemical sensor that detects the chemical substance when the metal electrode constituting the organic TFT is affected by a specific chemical substance and a change occurs in the current and / or voltage obtained from the organic TFT.
本発明のベンゾビス(チアジアゾール)誘導体は、高電界効果移動度を達成できるので、センサーを構成する有機TFTの有機半導体層に用いると、センサーの応答性やダイナミックレンジを高めることができる。 Since the benzobis (thiadiazole) derivative of the present invention can achieve high field effect mobility, when used in the organic semiconductor layer of the organic TFT constituting the sensor, the responsiveness and dynamic range of the sensor can be enhanced.
なお、本発明のセンサーは、本発明の有機TFTを用いていること以外は、公知の構造、材料を採用することができ、公知の方法により製造することができる。 In addition, the sensor of this invention can employ | adopt a well-known structure and material except using the organic TFT of this invention, and can be manufactured by a well-known method.
センサーは、用途に応じて、単一の有機TFTを備えるものであってもよく、複数の有機TFTを備えるものであってもよい。複数の有機TFTを備える場合、有機TFTのうち、すべての有機TFTが本発明の有機TFTであってもよく、また一部の有機TFTが本発明の有機TFTであってもよい。 The sensor may include a single organic TFT or a plurality of organic TFTs depending on the application. When a plurality of organic TFTs are provided, all of the organic TFTs may be the organic TFT of the present invention, and some of the organic TFTs may be the organic TFT of the present invention.
以上説明した各種本発明の有機エレクトロニクスデバイスにおいては、基板として、プラスチック基板を使用することができる。基板として用いるプラスチックは、耐熱性、寸法安定性、耐溶剤性、電気絶縁性、加工性、低通気性及び低吸湿性に優れていることが好ましい。このようなプラスチックとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリアクリレート、及びポリイミド等が挙げられる。 In the various organic electronic devices of the present invention described above, a plastic substrate can be used as the substrate. The plastic used as the substrate is preferably excellent in heat resistance, dimensional stability, solvent resistance, electrical insulation, workability, low air permeability and low moisture absorption. Examples of such plastics include polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polystyrene, polycarbonate, polyacrylate, and polyimide.
プラスチック基板の場合、基板の電極側の面、電極と反対側の面、又はその両方に透湿防止層(ガスバリア層)を設けることが好ましい。透湿防止層を構成する材料としては窒化ケイ素や酸化ケイ素等の無機物が好ましく挙げられる。透湿防止層はRFスパッタ法等の周知の膜作製方法により形成することができる。また、必要に応じてハードコート層やアンダーコー卜層を設けてもよい。 In the case of a plastic substrate, it is preferable to provide a moisture permeation preventive layer (gas barrier layer) on the electrode side surface of the substrate, the surface opposite to the electrode, or both. As a material constituting the moisture permeation preventing layer, inorganic materials such as silicon nitride and silicon oxide are preferably mentioned. The moisture permeation preventing layer can be formed by a known film manufacturing method such as RF sputtering. Moreover, you may provide a hard-coat layer and an undercoat layer as needed.
さらに、本発明の有機エレクトロニクスデバイスにおける基板に対しては、基板表面の表面エネルギーの調整や、基板に積層する材料との親和性を制御する目的で、ヘキサメチルジシラザンで処理したり、ポリスチレン等の樹脂をコーティングしたり、UVオゾン処理を施すなど、基板の表面修飾処理を施すことができる。 Furthermore, for the substrate in the organic electronic device of the present invention, for the purpose of adjusting the surface energy of the substrate surface and controlling the affinity with the material laminated on the substrate, it is treated with hexamethyldisilazane, polystyrene, etc. It is possible to perform a surface modification treatment of the substrate, such as coating with a resin or UV ozone treatment.
次に、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に制限されるものではない。 EXAMPLES Next, although an Example is given and this invention is demonstrated concretely, this invention is not restrict | limited to these Examples.
[有機TFTの作製・評価]
以下の実施例では、特に各項に記載のない限り、下記の有機TFTの作製手順に従い、シリコン基板上にボトムゲート−トップコンタクト素子を作製し、評価を行った。
[Production and evaluation of organic TFT]
In the following examples, unless otherwise specified, bottom gate-top contact elements were produced on a silicon substrate and evaluated according to the following organic TFT production procedures.
<有機TFTの作製手順>
スピンコート法による有機半導体層の作製を経る場合、
(TFT基板の作製)−(スピンコート法による有機半導体層の作製)−(ソース電極及びドレイン電極の作製)
又は、
(TFT基板の作製)−(TFT基板の表面修飾)−(スピンコート法による有機半導体層の作製)−(ソース電極及びドレイン電極の作製)
の手順で有機TFTを作製した。
<Producing procedure of organic TFT>
When going through the production of an organic semiconductor layer by spin coating,
(Production of TFT substrate)-(Production of organic semiconductor layer by spin coating method)-(Production of source electrode and drain electrode)
Or
(Production of TFT substrate)-(Surface modification of TFT substrate)-(Production of organic semiconductor layer by spin coating method)-(Production of source electrode and drain electrode)
An organic TFT was fabricated by the procedure described above.
真空蒸着法による有機半導体層の作製を経る場合、
(TFT基板の作製)−(真空蒸着法による有機半導体層の作製)−(ソース電極及びドレイン電極の作製)
又は、
(TFT基板の作製)−(TFT基板の表面修飾)−(真空蒸着法による有機半導体層の作製)−(ソース電極及びドレイン電極の作製)
の手順で有機TFTを作製した。
When going through the production of an organic semiconductor layer by vacuum deposition,
(Fabrication of TFT substrate)-(Fabrication of organic semiconductor layer by vacuum deposition method)-(Fabrication of source electrode and drain electrode)
Or
(Production of TFT substrate)-(Surface modification of TFT substrate)-(Production of organic semiconductor layer by vacuum deposition method)-(Production of source electrode and drain electrode)
An organic TFT was fabricated by the procedure described above.
(TFT基板の作製)
有機TFTの基板として、表面に膜厚200nmの熱酸化シリコンを形成した市販のシリコンウェハを用いた。シリコンウェハは低抵抗のものとし、有機TFTのゲート電極としても機能させた。また、酸化シリコン膜をゲート絶縁膜として用いた。このシリコンウェハは、過酸化水素水と硫酸の混合液で洗浄し、次工程で使用する直前にUVオゾン処理により表面を清浄して用いた。このように処理した基板を、以降「ベア基板」と表記する。
(Production of TFT substrate)
As a substrate of the organic TFT, a commercially available silicon wafer having a surface formed with 200 nm thick thermal silicon oxide was used. The silicon wafer had a low resistance and functioned as the gate electrode of the organic TFT. A silicon oxide film was used as the gate insulating film. This silicon wafer was washed with a mixed solution of hydrogen peroxide and sulfuric acid, and the surface was cleaned by UV ozone treatment immediately before use in the next step. The substrate thus processed is hereinafter referred to as “bare substrate”.
(TFT基板の表面修飾)
「ベア基板」を市販のヘキサメチルジシラザンに浸漬して12時間以上静置し、基板表面を修飾した。このように処理した基板を、以降「HMDS修飾基板」と表記する。
(TFT substrate surface modification)
The “bare substrate” was immersed in commercially available hexamethyldisilazane and allowed to stand for 12 hours or more to modify the substrate surface. The substrate thus treated is hereinafter referred to as “HMDS modified substrate”.
「ベア基板」に、市販の、ポリスチレンを0.5wt%でキシレンに溶解した溶液をスピンコートし、次いで150℃で1時間加熱して、基板表面におよそ20nmのポリスチレン薄膜を作製した。このように処理した基板を以降「PS基板」と表記する。 A “bare substrate” was spin-coated with a commercially available solution of polystyrene in xylene at 0.5 wt%, and then heated at 150 ° C. for 1 hour to produce a polystyrene thin film of approximately 20 nm on the substrate surface. The substrate thus treated is hereinafter referred to as “PS substrate”.
「ベア基板」に、市販のポリビニルフェノールとメラミンから調製したプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをこれらの溶媒とする、ポリビニルフェノールとメラミンの混合溶液をスピンコートし、次いで180℃で1時間加熱して、基板表面におよそ20nmのポリビニルフェノール−メラミン薄膜を作製した。このように処理した基板を、以降「PVP基板」と表記する。 A “bare substrate” was spin-coated with a mixed solution of polyvinylphenol and melamine using propylene glycol monomethyl ether acetate prepared from commercially available polyvinylphenol and melamine as these solvents, and then heated at 180 ° C. for 1 hour to form a substrate. A polyvinylphenol-melamine thin film having a thickness of about 20 nm was formed on the surface. The substrate thus treated is hereinafter referred to as “PVP substrate”.
(スピンコート法による有機半導体層の作製)
合成した化合物(有機半導体化合物)を用いて、各項に記載の溶媒、溶質濃度の溶液(有機半導体インク)を作成し、その有機半導体インクを用いてスピンコート法により各項に記載の基板上に、膜厚約20〜50nmの有機半導体層を形成した。その後必要に応じて、各項に記載の条件で、熱アニールを施した。スピンコートと熱アニールは、特に各項に記載がない限り、窒素雰囲気下で実施した。
(Preparation of organic semiconductor layer by spin coating)
Using the synthesized compound (organic semiconductor compound), the solvent and solute concentration solution (organic semiconductor ink) described in each item are prepared, and the organic semiconductor ink is used to spin the substrate on each item by spin coating. In addition, an organic semiconductor layer having a thickness of about 20 to 50 nm was formed. Thereafter, thermal annealing was performed under the conditions described in each section as necessary. Spin coating and thermal annealing were performed in a nitrogen atmosphere unless otherwise specified.
(真空蒸着法による有機半導体層の作製)
合成した化合物(有機半導体化合物)を用いて、各項に記載の基板上に、真空蒸着法により膜厚約50nmの有機半導体層を形成した。有機半導体層形成時の蒸着装置チャンバ内は圧力2×10−5〜6×10−4Paとし、有機半導体化合物を坩堝に入れ、坩堝周囲に巻いたフィラメントにより加熱し、蒸着を行った。蒸着速度は0.2±0.1Å毎秒とした。
(Preparation of organic semiconductor layer by vacuum evaporation)
Using the synthesized compound (organic semiconductor compound), an organic semiconductor layer having a thickness of about 50 nm was formed on the substrate described in each item by a vacuum deposition method. The inside of the vapor deposition apparatus chamber during the formation of the organic semiconductor layer was set to a pressure of 2 × 10 −5 to 6 × 10 −4 Pa, the organic semiconductor compound was put in a crucible, and heated by a filament wound around the crucible to perform vapor deposition. The deposition rate was 0.2 ± 0.1 liter per second.
(ソース電極及びドレイン電極の作製)
上記有機半導体層上に、金属マスクを用いて金を真空蒸着法で製膜することにより、ソース電極とドレイン電極を形成した。有機TFTのチャネル幅及びチャネル長はそれぞれ1000μm及び70μmとした。また、ソース及びドレイン電極の膜厚は約50nmとした。
(Production of source and drain electrodes)
A source electrode and a drain electrode were formed on the organic semiconductor layer by depositing gold by a vacuum deposition method using a metal mask. The channel width and channel length of the organic TFT were 1000 μm and 70 μm, respectively. The film thickness of the source and drain electrodes was about 50 nm.
(電界効果移動度の評価)
電界効果移動度(μ)は、KEITHLEY社の半導体特性評価システム4200−SCS型を用いて、作製した有機TFTの伝達特性を測定した結果から求めた。
(Evaluation of field effect mobility)
The field effect mobility (μ) was obtained from the result of measuring the transfer characteristics of the produced organic TFT using a semiconductor characteristic evaluation system 4200-SCS type manufactured by KEITHLEY.
電界効果移動度(μ)は、ドレイン電流Idを表わす下式(式A)を用いて算出することができる。
Id=(W/2L)μCi(Vg−Vt)2 … (式A)
The field effect mobility (μ) can be calculated using the following formula (formula A) representing the drain current I d .
I d = (W / 2L) μC i (V g −V t ) 2 (Formula A)
ここで、L及びWはチャネル長及びチャネル幅である。また、Ciはゲート絶縁膜の単位面積当たりの電気容量である。Vgはゲート電圧であり、Vtはしきい値電圧である。上記伝達特性測定から、あるゲート電圧時におけるしきい値電圧とドレイン電流の値が示されるので、電界効果移動度を求めることができる。 Here, L and W are a channel length and a channel width. C i is a capacitance per unit area of the gate insulating film. V g is a gate voltage, and V t is a threshold voltage. The transfer characteristic measurement shows the threshold voltage and the drain current at a certain gate voltage, so that the field effect mobility can be obtained.
[実施例S−1]
<化合物(15)の合成>
以下の合成スキームに従い、本発明のベンゾビス(チアジアゾール)誘導体である化合物(15)を合成した。以下、各工程について説明する。
[Example S-1]
<Synthesis of Compound (15)>
According to the following synthesis scheme, compound (15), which is a benzobis (thiadiazole) derivative of the present invention, was synthesized. Hereinafter, each step will be described.
(化合物(15b)の合成)
撹拌装置、及び温度計を備えた100mlの4口フラスコに,アルゴン雰囲気下、化合物(15a)を2g(13.2mmol)、及び無水テトラヒドロフラン40mlを加えた溶液を−55℃以下に冷却し、−55℃以下を保ちながら、そこに1.6規定のノルマルブチルリチウムヘキサン溶液9.0mlをゆっくりと滴下した。
(Synthesis of Compound (15b))
A solution obtained by adding 2 g (13.2 mmol) of compound (15a) and 40 ml of anhydrous tetrahydrofuran to a 100 ml four-necked flask equipped with a stirrer and a thermometer under an argon atmosphere is cooled to −55 ° C. or lower, and − While maintaining the temperature at 55 ° C. or lower, 9.0 ml of 1.6 N normal butyl lithium hexane solution was slowly added dropwise thereto.
1時間攪拌後に、トリブチルスズクロリド4.28ml(15.8mmol)を反応液に滴下し、室温まで昇温して1時間攪拌した。メタノールで反応を停止させ、逆相シリカゲルカラムで精製し、黄色液体として化合物(15b)を4.9g得た。 After stirring for 1 hour, 4.28 ml (15.8 mmol) of tributyltin chloride was added dropwise to the reaction solution, and the mixture was warmed to room temperature and stirred for 1 hour. The reaction was stopped with methanol and purified with a reverse phase silica gel column to obtain 4.9 g of compound (15b) as a yellow liquid.
当該化合物(15b)の物性値は以下の通りであった。なお、以下、特に断りがない場合、測定は室温(25℃)で行った。
1H−NMR(400MHz;CDCl3;δ(ppm)); 0.88−0.92(m、9H)、1.05−1.26(m、6H)、1.31−1.39(m、6H)、1.45−1.67(m、6H)、7.06−7.12(m、1H)、7.52−7.53(m、1H)
CI−MS;443(M+1)
The physical property values of the compound (15b) were as follows. Hereinafter, the measurement was performed at room temperature (25 ° C.) unless otherwise specified.
1 H-NMR (400 MHz; CDCl 3 ; δ (ppm)); 0.88-0.92 (m, 9H), 1.05-1.26 (m, 6H), 1.31-1.39 ( m, 6H), 1.45-1.67 (m, 6H), 7.06-7.12 (m, 1H), 7.52-7.53 (m, 1H)
CI-MS; 443 (M + 1)
(化合物(15)の合成)
還流管を備えた100mlのナス型フラスコに化合物(94)を0.98g(2.79mmol)、トルエン30ml、化合物(15b)を4.9g(11.2mmol)、及びビストリフェニルホスフィンパラジウムジクロライド0.59g(0.84mmol)を加えて、100℃で4時間撹拌しながら反応させた。反応液を冷却、ろ過、トルエン洗浄して得たものを精製し、赤紫色固体として化合物(15)を0.19g得た。
(Synthesis of Compound (15))
In a 100 ml eggplant-shaped flask equipped with a reflux tube, 0.98 g (2.79 mmol) of the compound (94), 30 ml of toluene, 4.9 g (11.2 mmol) of the compound (15b), and 0.2% of bistriphenylphosphine palladium dichloride. 59 g (0.84 mmol) was added and allowed to react with stirring at 100 ° C. for 4 hours. The reaction solution was cooled, filtered, and washed with toluene to purify, and 0.19 g of Compound (15) was obtained as a red-purple solid.
当該化合物(15)の物性値は以下の通りであった。
1H−NMR(400MHz;1,2−ジクロロベンゼン−d4:140℃;δ(ppm));7.62−7.63(m,2H),8.98−8.99(m、2H)
EI−MS;494(M+1)
The physical property values of the compound (15) were as follows.
1 H-NMR (400 MHz; 1,2-dichlorobenzene-d 4 : 140 ° C .; δ (ppm)); 7.62-7.63 (m, 2H), 8.98-8.99 (m, 2H )
EI-MS; 494 (M + 1)
[実施例S−2]
<化合物(22)の合成>
<Synthesis of Compound (22)>
(化合物(22b)の合成)
撹拌装置、及び温度計を備えた500mlの4口フラスコにアルゴン雰囲気下、化合物(22a)を5g(45.8mmol)、及び無水テトラヒドロフラン400mlを加えた溶液を−70℃以下に冷却し、−70℃以下を保ちながら、そこに2.0規定のリチウムジイソプロピルアミン溶液31.0ml(50.4mmol)を滴下した。
(Synthesis of Compound (22b))
A solution obtained by adding 5 g (45.8 mmol) of compound (22a) and 400 ml of anhydrous tetrahydrofuran to a 500 ml four-necked flask equipped with a stirrer and a thermometer in an argon atmosphere was cooled to −70 ° C. or lower, and −70 ° C. 31.0 ml (50.4 mmol) of 2.0 N lithium diisopropylamine solution was added dropwise thereto while maintaining the temperature at or below.
15分攪拌後に、トリブチルスズクロリド17.1g(50.4mmol)を滴下し、室温まで昇温した。順相シリカゲルカラムで精製し、黄色液体として化合物(22b)を4.99g得た。 After stirring for 15 minutes, 17.1 g (50.4 mmol) of tributyltin chloride was added dropwise, and the temperature was raised to room temperature. Purification with a normal phase silica gel column gave 4.99 g of compound (22b) as a yellow liquid.
当該化合物(22b)の物性値は以下の通りであった。
1H−NMR(400MHz;CDCl3;δ(ppm)); 0.80−1.00(m、9H)、1.04−1.26(m、6H)、1.26−1.42(m、6H)、1.42−1.70(m、6H)、7.08−7.20(m、1H)、7.66−7.76(m、1H)
EI―MS;399(M)
The physical property values of the compound (22b) were as follows.
1 H-NMR (400 MHz; CDCl 3 ; δ (ppm)); 0.80-1.00 (m, 9H), 1.04-1.26 (m, 6H), 1.26-1.42 ( m, 6H), 1.42-1.70 (m, 6H), 7.08-7.20 (m, 1H), 7.66-7.76 (m, 1H)
EI-MS; 399 (M)
(化合物(22)の合成)
上記[実施例S−1]<化合物(15)の合成>において、化合物(15b)の代わりに化合物(22b)を用いた以外は、同様にして化合物(22)を得た。
(Synthesis of Compound (22))
Compound (22) was obtained in the same manner as in [Example S-1] <Synthesis of compound (15)> except that compound (22b) was used instead of compound (15b).
当該化合物(22)の物性値は以下の通りであった。
1H−NMR(400MHz;重水素化ジクロロベンゼン;140℃);7.50−7.60(m、2H)、8.84−8.96(m、2H)
TOF−MS(ASAP+);408.9459(M+1);Calc.408.9459
The physical property values of the compound (22) were as follows.
1 H-NMR (400 MHz; deuterated dichlorobenzene; 140 ° C.); 7.50-7.60 (m, 2H), 8.84-8.96 (m, 2H)
TOF-MS (ASAP +); 408.9594 (M + 1); Calc. 408.959
[実施例S−3]
<化合物(23−1)の合成>
<Synthesis of Compound (23-1)>
(化合物(23−1b)の合成)
撹拌装置、及び温度計を備えた1000mlの4口フラスコにアルゴン雰囲気下、化合物(23−1a)を25.8g(158.4mmol)、無水塩化メチレン500ml、及びアセチルクロライド11mlを加えた後に、水浴バスで冷却した。
(Synthesis of Compound (23-1b))
To a 1000 ml four-necked flask equipped with a stirrer and a thermometer, 25.8 g (158.4 mmol) of compound (23-1a), 500 ml of anhydrous methylene chloride, and 11 ml of acetyl chloride were added under an argon atmosphere. Cooled in the bath.
反応系内温度を保持して塩化アルミニウム42.2gをゆっくりと加え、終夜室温撹拌した。反応溶液を6規定の塩酸水溶液に加えて、分液、洗浄、濃縮し粗体を31g得た。粗体にメタノールを加えてろ過し、得られたろ液を濃縮乾固し、白色結晶として化合物(23−1b)を15g得た。 While maintaining the temperature in the reaction system, 42.2 g of aluminum chloride was slowly added and stirred overnight at room temperature. The reaction solution was added to a 6N aqueous hydrochloric acid solution, followed by liquid separation, washing and concentration to obtain 31 g of a crude product. Methanol was added to the crude product and filtered, and the obtained filtrate was concentrated to dryness to obtain 15 g of compound (23-1b) as white crystals.
当該化合物(23−1b)の物性値は以下の通りであった。
1H−NMR(400MHz;CDCl3;δ(ppm)); 2.51(s、3H)、7.11−7.43(m、2H)
CI−MS;204(M+1)
The physical property values of the compound (23-1b) were as follows.
1 H-NMR (400 MHz; CDCl 3 ; δ (ppm)); 2.51 (s, 3H), 7.11-7.43 (m, 2H)
CI-MS; 204 (M + 1)
(化合物(23−1c)の合成)
撹拌装置、及び温度計を備えた1000mlの4口フラスコにアルゴン雰囲気下、化合物(23−1b)を15g(75.2mmol)、トルエン500ml、ビストリブチルスズ162g(279.3mmol)、トリエチルアミン15.2g(150.2mmol)、及びパラジウムテトラキストリフェニルホスフィン13.35g(11.6mmol)を加えて110℃で加熱撹拌しながら反応させた。
(Synthesis of Compound (23-1c))
In a 1000 ml four-necked flask equipped with a stirrer and a thermometer, 15 g (75.2 mmol) of the compound (23-1b), 500 ml of toluene, 162 g (279.3 mmol) of bistributyltin, 15.2 g of triethylamine (under argon atmosphere) 150.2 mmol) and 13.35 g (11.6 mmol) of palladium tetrakistriphenylphosphine were added and reacted at 110 ° C. with heating and stirring.
反応終了後、トルエンを減圧濃縮し、ヘキサンを加えてワコーゲル(登録商標)50NH2で精製し、淡黄オイルとして化合物(23−1c)を4.56g得た。 After completion of the reaction, toluene was concentrated under reduced pressure, hexane was added and the mixture was purified with Wakogel (registered trademark) 50NH2, to obtain 4.56 g of compound (23-1c) as a pale yellow oil.
当該化合物(23−1c)の物性値は以下の通りであった。
1H−NMR(400MHz;CDCl3;δ(ppm)); 1.67−0.88(m、27H)、2.57(s、3H)、7.18−7.78(m、2H)
CI−MS;415(M)
The physical property values of the compound (23-1c) were as follows.
1 H-NMR (400 MHz; CDCl 3 ; δ (ppm)); 1.67-0.88 (m, 27H), 2.57 (s, 3H), 7.18-7.78 (m, 2H)
CI-MS; 415 (M)
(化合物(23−1)の合成)
上記[実施例S−1]<化合物(15)の合成>において、化合物(15b)の代わりに化合物(23−1c)を用いた以外は、同様にして化合物(23−1)を得た。
(Synthesis of Compound (23-1))
Compound (23-1) was obtained in the same manner as in [Example S-1] <Synthesis of compound (15)> except that compound (23-1c) was used instead of compound (15b).
当該化合物(23−1)の物性値は以下の通りであった。
1H−NMR(400MHz;1,2−ジクロロベンゼン−d4;140℃;δ(ppm));2.51(s,6H),7.70−7.71(m,2H),8.94−8.96(m、2H)
EI−MS;442(M)
The physical property values of the compound (23-1) were as follows.
1 H-NMR (400 MHz; 1,2-dichlorobenzene-d 4 ; 140 ° C .; δ (ppm)); 2.51 (s, 6H), 7.70-7.71 (m, 2H), 8. 94-8.96 (m, 2H)
EI-MS; 442 (M)
[実施例S−4]
<化合物(23−2)の合成>
<Synthesis of Compound (23-2)>
(化合物(23−2b)の合成)
上記[実施例S−3]<化合物(23−1b)の合成>において、アセチルクロリドの代わりにオクタノイルクロリドを用いた以外は、同様にして化合物(23−2b)を得た。
(Synthesis of Compound (23-2b))
Compound (23-2b) was obtained in the same manner as in [Example S-3] <Synthesis of compound (23-1b)> except that octanoyl chloride was used instead of acetyl chloride.
当該化合物(23−2b)の物性値は以下の通りであった。
1H−NMR(400MHz;CDCl3;δ(ppm)); 0.86−0.90(m、3H),1.22−1.44(m,8H)、1.68−1.75(m、2H),2.79−2.83(m、2H),7.08−7.09(m、1H),7.43−7.44(m、1H)
EI−MS;290(M+2)、288(M)
The physical property values of the compound (23-2b) were as follows.
1 H-NMR (400 MHz; CDCl 3 ; δ (ppm)); 0.86-0.90 (m, 3H), 1.22-1.44 (m, 8H), 1.68-1.75 ( m, 2H), 2.79-2.83 (m, 2H), 7.08-7.09 (m, 1H), 7.43-7.44 (m, 1H)
EI-MS; 290 (M + 2), 288 (M)
(化合物(23−2c)の合成)
上記(化合物(23−1c)の合成)において、化合物(23−1b)の代わりに化合物(23−2b)を用いた以外は、同様にして化合物(23−2c)を得た。
(Synthesis of Compound (23-2c))
Compound (23-2c) was obtained in the same manner as in the above (Synthesis of compound (23-1c)) except that compound (23-2b) was used instead of compound (23-1b).
化合物(23−2c)の物性値は以下の通りであった。
1H−NMR(400MHz;CDCl3;δ(ppm));0.86−0.93(m、12H)、1.05−1.25(m、6H)、1.27−1.39(m、14H)、1.48−1.78(m、8H)、2.86−2.90(m、2H)7.14−7.20(m、1H)、7.76−7.78(m、1H)
EI−MS;443(M−56)
The physical property values of the compound (23-2c) were as follows.
1 H-NMR (400 MHz; CDCl 3 ; δ (ppm)); 0.86-0.93 (m, 12H), 1.05-1.25 (m, 6H), 1.27-1.39 ( m, 14H), 1.48-1.78 (m, 8H), 2.86-2.90 (m, 2H) 7.14-7.20 (m, 1H), 7.76-7.78. (M, 1H)
EI-MS; 443 (M-56)
(化合物(23−2)の合成)
[実施例S−1]<化合物(15)の合成>において、化合物(15b)の代わりに化合物(23−2c)を用いた以外は、同様にして化合物(23−2)を得た。
(Synthesis of Compound (23-2))
[Example S-1] Compound (23-2) was obtained in the same manner as in <Synthesis of compound (15)> except that compound (23-2c) was used instead of compound (15b).
当該化合物(23−2)の物性値は以下の通りであった。
1H−NMR(400MHz;1,2−ジクロロベンゼン−d4;140℃;δ(ppm));0.84−0.87(m、6H)、1.28−1.46(m、16H)、1.79−1.86(m、4H)、2.92−2.96(m、4H)、7.77−7.78(m、2H)、8.96−8.97(m、2H)
TOF−HRMS(ASAP+);611.1638(M+1);Calcd.611.1643
The physical property values of the compound (23-2) were as follows.
1 H-NMR (400 MHz; 1,2-dichlorobenzene-d 4 ; 140 ° C .; δ (ppm)); 0.84-0.87 (m, 6H), 1.28-1.46 (m, 16H) ) 1.79-1.86 (m, 4H), 2.92-2.96 (m, 4H), 7.77-7.78 (m, 2H), 8.96-8.97 (m) 2H)
TOF-HRMS (ASAP +); 611.1638 (M + 1); Calcd. 611.1643
[比較例S−5]
<化合物(91)の合成>
<Synthesis of Compound (91)>
(化合物(91)の合成)
[実施例S−1]<化合物(15)の合成>において、化合物(15b)の代わりに化合物(91a)を用いた以外は、同様にして化合物(91)を得た。
(Synthesis of Compound (91))
[Example S-1] Compound (91) was obtained in the same manner as in <Synthesis of Compound (15)> except that Compound (91a) was used instead of Compound (15b).
当該化合物(91)の物性値は以下の通りであった。
1H−NMR(400MHz,CDCl3;δ(ppm));7.34−7.36(m、2H)、7.71−7.72(m、2H)、9.03−9.04(m、2H)
EI−MS;358(M)
The physical property values of the compound (91) were as follows.
1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 ; δ (ppm)); 7.34-7.36 (m, 2H), 7.71-7.72 (m, 2H), 9.03-9.04 ( m, 2H)
EI-MS; 358 (M)
[比較例S−6]
<化合物(92)の合成>
<Synthesis of Compound (92)>
(化合物(92b)の合成)
上記[実施例S−1](化合物(15b)の合成)において、化合物(15a)の代わりに化合物(92a)を用いた以外は、同様にして化合物(92b)を得た。
(Synthesis of Compound (92b))
Compound (92b) was obtained in the same manner as in [Example S-1] (synthesis of compound (15b)) except that compound (92a) was used instead of compound (15a).
当該化合物(92b)の物性値は以下の通りであった。
1H−NMR(400MHz,CDCl3;δ(ppm));0.86−0.91(m、12H)、1.05−1.09(m、6H)、1.27−1.72(m、24H)、2.83−2.87(m、2H)、6.89−6.90(m、1H)、6.97−6.98(m、1H)
CI−MS;486(M−1)
The physical property values of the compound (92b) were as follows.
1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 ; δ (ppm)); 0.86-0.91 (m, 12H), 1.05-1.09 (m, 6H), 1.27-1.72 ( m, 24H), 2.83-2.87 (m, 2H), 6.89-6.90 (m, 1H), 6.97-6.98 (m, 1H)
CI-MS; 486 (M-1)
(化合物(92)の合成)
上記[実施例S−1]<化合物(15)の合成>において、化合物(15b)の代わりに化合物(92b)を用いた以外は、同様にして化合物(92)を得た。
(Synthesis of Compound (92))
Compound (92) was obtained in the same manner as in [Example S-1] <Synthesis of compound (15)> except that compound (92b) was used instead of compound (15b).
当該化合物(92)の物性値は以下の通りであった。
1H−NMR(400MHz,CDCl3;δ(ppm)); 0.87−0.90(m、6H)、1.25−1.47(m、20H)、1.77−1.84(m、4H)、2.92−2.96(m、4H)、6.94−6.96(m、2H)、8.69−8.71(m、2H)
EI−MS;582(M+)
The physical property values of the compound (92) were as follows.
1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 ; δ (ppm)); 0.87-0.90 (m, 6H), 1.25-1.47 (m, 20H), 1.77-1.84 ( m, 4H), 2.92-2.96 (m, 4H), 6.94-6.96 (m, 2H), 8.69-8.71 (m, 2H)
EI-MS; 582 (M <+> )
[比較例S−7]
<化合物(93)の合成>
<Synthesis of Compound (93)>
(化合物(93b)の合成)
上記[実施例S−3](化合物(23−1c)の合成)において、化合物(23−1b)の代わりに化合物(93a)を用いた以外は、同様にして化合物(93b)を得た。
(Synthesis of Compound (93b))
Compound (93b) was obtained in the same manner as in [Example S-3] (synthesis of compound (23-1c)) except that compound (93a) was used instead of compound (23-1b).
当該化合物(93b)の物性値は以下の通りであった。
1H−NMR(400MHz;CDCl3;δ(ppm)); 0.82−0.98(m、9H)、0.98−1.22(m、6H)、1.24−1.40(m、6H)、1.40−1.66(m、6H)、7.48−7.57(m、1H)、7.60−7.67(m、1H)
CI−MS;400(M+1)
The physical property values of the compound (93b) were as follows.
1 H-NMR (400 MHz; CDCl 3 ; δ (ppm)); 0.82 to 0.98 (m, 9H), 0.98 to 1.22 (m, 6H), 1.24 to 1.40 ( m, 6H), 1.40-1.66 (m, 6H), 7.48-7.57 (m, 1H), 7.60-7.67 (m, 1H)
CI-MS; 400 (M + 1)
(化合物(93)の合成)
上記[実施例S−1]<化合物(15)の合成>において、化合物(15b)の代わりに化合物(93b)を用いた以外は、同様にして化合物(93)を得た。
(Synthesis of Compound (93))
Compound (93) was obtained in the same manner as in [Example S-1] <Synthesis of compound (15)> except that compound (93b) was used instead of compound (15b).
当該化合物(93)の物性値は以下の通りであった。
1H−NMR(400MHz;1,2−ジクロロベンゼン−d4;140℃;δ(ppm));9.08−9.14(m、1H)、9.14−9.20(m、1H)
TOF−MS(ASAP+);408.9453(M+1);Calc.408.9459
The physical property values of the compound (93) were as follows.
1 H-NMR (400 MHz; 1,2-dichlorobenzene-d 4 ; 140 ° C .; δ (ppm)); 9.08-9.14 (m, 1H), 9.14-9.20 (m, 1H )
TOF-MS (ASAP +); 408.9453 (M + 1); Calc. 408.959
<実施例E−1a>
実施例S−1で得られた化合物(15)を用いて、「ベア基板」上に真空蒸着法により有機半導体層を形成し、さらにこの上に上述の方法でソース電極及びドレイン電極を形成して、有機TFTを作製し、評価を行った。
<Example E-1a>
Using the compound (15) obtained in Example S-1, an organic semiconductor layer was formed on a “bare substrate” by vacuum deposition, and a source electrode and a drain electrode were further formed thereon by the above-described method. An organic TFT was prepared and evaluated.
(有機TFTの評価)
作製した有機TFTについて、ドレイン電圧が100Vの条件で伝達特性を測定したところ、この有機TFTはn型の半導体特性を示した。
(Evaluation of organic TFT)
When the transfer characteristics of the produced organic TFT were measured under the condition that the drain voltage was 100 V, the organic TFT showed n-type semiconductor characteristics.
上記(式A)を用いて電界効果移動度(μ)を計算した結果、「ベア基板」上の化合物(15)の有機TFTでは、8.7×10−3cm2/Vsの電界効果移動度が得られることが分かった。 As a result of calculating the field effect mobility (μ) using the above (formula A), in the organic TFT of the compound (15) on the “bare substrate”, the field effect mobility of 8.7 × 10 −3 cm 2 / Vs. It was found that the degree was obtained.
<実施例E−1b>
実施例S−1で得られた化合物(15)を用いて、「HMDS基板」上に真空蒸着法により有機半導体層を形成し、さらにこの上に上述の方法でソース電極及びドレイン電極を形成して、有機TFTを作製し、評価を行った。
<Example E-1b>
Using the compound (15) obtained in Example S-1, an organic semiconductor layer was formed on a “HMDS substrate” by vacuum deposition, and a source electrode and a drain electrode were further formed thereon by the method described above. An organic TFT was prepared and evaluated.
(有機TFTの評価)
作製した有機TFTについて、ドレイン電圧が100Vの条件で伝達特性を測定したところ、この有機TFTはn型の半導体特性を示した。
(Evaluation of organic TFT)
When the transfer characteristics of the produced organic TFT were measured under the condition that the drain voltage was 100 V, the organic TFT showed n-type semiconductor characteristics.
上記(式A)を用いて電界効果移動度(μ)を計算した結果、「HMDS基板」上の化合物(15)の有機TFTでは、5.1×10−2cm2/Vsの電界効果移動度が得られることが分かった。 As a result of calculating the field effect mobility (μ) using the above (formula A), in the organic TFT of the compound (15) on the “HMDS substrate”, a field effect transfer of 5.1 × 10 −2 cm 2 / Vs. It was found that the degree was obtained.
<実施例E−1c>
実施例S−1で得られた化合物(15)を用いて、「PS基板」上に真空蒸着法により有機半導体層を形成し、さらにこの上に上述の方法でソース電極及びドレイン電極を形成して、有機TFTを作製し、評価を行った。
<Example E-1c>
Using the compound (15) obtained in Example S-1, an organic semiconductor layer was formed on a “PS substrate” by vacuum deposition, and a source electrode and a drain electrode were further formed thereon by the method described above. An organic TFT was prepared and evaluated.
(有機TFTの評価)
作製した有機TFTについて、ドレイン電圧が100Vの条件で伝達特性を測定したところ、この有機TFTはn型の半導体特性を示した。得られた伝達特性を図5に示す。図5の横軸はゲート電圧(V)、縦軸はドレイン電流(A)である。また、黒色塗りのまるがつけられた曲線がforeであり、白抜きのまるがつけられた曲線がbackである。
(Evaluation of organic TFT)
When the transfer characteristics of the produced organic TFT were measured under the condition that the drain voltage was 100 V, the organic TFT showed n-type semiconductor characteristics. The obtained transfer characteristics are shown in FIG. The horizontal axis in FIG. 5 is the gate voltage (V), and the vertical axis is the drain current (A). A curve with black circles is fore, and a curve with white circles is back.
上記(式A)を用いて電界効果移動度(μ)を計算した結果、「PS基板」上の化合物(15)の有機TFTでは、9.2×10−2cm2/Vsの電界効果移動度が得られることが分かった。 As a result of calculating the field effect mobility (μ) using the above (Formula A), the organic TFT of the compound (15) on the “PS substrate” has a field effect mobility of 9.2 × 10 −2 cm 2 / Vs. It was found that the degree was obtained.
<実施例E−2a>
実施例S−2で得られた化合物(22)を用いて、「HMDS基板」上に真空蒸着法により有機半導体層を形成し、さらにこの上に上述の方法でソース電極及びドレイン電極を形成して、有機TFTを作製し、評価を行った。
<Example E-2a>
Using the compound (22) obtained in Example S-2, an organic semiconductor layer was formed on the “HMDS substrate” by vacuum deposition, and a source electrode and a drain electrode were further formed thereon by the method described above. An organic TFT was prepared and evaluated.
(有機TFTの評価)
作製した有機TFTについて、ドレイン電圧が100Vの条件で伝達特性を測定したところ、この有機TFTはn型の半導体特性を示した。
(Evaluation of organic TFT)
When the transfer characteristics of the produced organic TFT were measured under the condition that the drain voltage was 100 V, the organic TFT showed n-type semiconductor characteristics.
上記(式A)を用いて電界効果移動度(μ)を計算した結果、「HMDS基板」上の化合物(22)の有機TFTでは、6.0×10−3cm2/Vsの電界効果移動度が得られることが分かった。 As a result of calculating the field effect mobility (μ) using the above (formula A), in the organic TFT of the compound (22) on the “HMDS substrate”, a field effect transfer of 6.0 × 10 −3 cm 2 / Vs is obtained. It was found that the degree was obtained.
<実施例E−2b>
実施例S−1で得られた化合物(22)を用いて、「PS基板」上に真空蒸着法により有機半導体層を形成し、さらにこの上に上述の方法でソース電極及びドレイン電極を形成して、有機TFTを作製し、評価を行った。
<Example E-2b>
Using the compound (22) obtained in Example S-1, an organic semiconductor layer was formed on a “PS substrate” by vacuum deposition, and a source electrode and a drain electrode were further formed thereon by the method described above. An organic TFT was prepared and evaluated.
(有機TFTの評価)
作製した有機TFTについて、ドレイン電圧が100Vの条件で伝達特性を測定したところ、この有機TFTはn型の半導体特性を示した。
(Evaluation of organic TFT)
When the transfer characteristics of the produced organic TFT were measured under the condition that the drain voltage was 100 V, the organic TFT showed n-type semiconductor characteristics.
上記(式A)を用いて電界効果移動度(μ)を計算した結果、「PS基板」上の化合物22)の有機TFTでは、3.1×10−3cm2/Vsの電界効果移動度が得られることが分かった。 As a result of calculating the field effect mobility (μ) using the above (formula A), in the organic TFT of the compound 22) on the “PS substrate”, the field effect mobility of 3.1 × 10 −3 cm 2 / Vs is obtained. Was found to be obtained.
<実施例E−3a>
実施例S−3で得られた化合物(23−1)を用いて、「ベア基板」上に真空蒸着法により有機半導体層を形成し、さらにこの上に上述の方法でソース電極及びドレイン電極を形成して、有機TFT素子を作製し、評価を行った。
<Example E-3a>
Using the compound (23-1) obtained in Example S-3, an organic semiconductor layer was formed on a “bare substrate” by a vacuum deposition method, and a source electrode and a drain electrode were further formed thereon by the above-described method. Then, an organic TFT element was produced and evaluated.
(有機TFTの評価)
作製した有機TFTについて、ドレイン電圧が100Vの条件で伝達特性を測定したところ、この有機TFTはn型の半導体特性を示した。
(Evaluation of organic TFT)
When the transfer characteristics of the produced organic TFT were measured under the condition that the drain voltage was 100 V, the organic TFT showed n-type semiconductor characteristics.
上記(式A)を用いて電界効果移動度(μ)を計算した結果、「ベア基板」上の化合物(23−1)の有機TFTでは、6×10−4cm2/Vsの電界効果移動度が得られることが分かった。 As a result of calculating the field effect mobility (μ) using the above (formula A), in the organic TFT of the compound (23-1) on the “bare substrate”, the field effect mobility of 6 × 10 −4 cm 2 / Vs. It was found that the degree was obtained.
<実施例E−3b>
実施例S−3で得られた化合物(23−1)を用いて、「HMDS基板」上に真空蒸着法により有機半導体層を形成し、さらにこの上に上述の方法でソース電極及びドレイン電極を形成して、有機TFTを作製し、評価を行った。
<Example E-3b>
Using the compound (23-1) obtained in Example S-3, an organic semiconductor layer was formed on the “HMDS substrate” by vacuum vapor deposition, and the source electrode and drain electrode were further formed thereon by the above-described method. The organic TFT was formed and evaluated.
(有機TFTの評価)
作製した有機TFTについて、ドレイン電圧が100Vの条件で伝達特性を測定したところ、この有機TFTはn型の半導体特性を示した。
(Evaluation of organic TFT)
When the transfer characteristics of the produced organic TFT were measured under the condition that the drain voltage was 100 V, the organic TFT showed n-type semiconductor characteristics.
上記(式A)を用いて電界効果移動度(μ)を計算した結果、「HMDS基板」上の化合物(23−1)の有機TFTでは、8×10−4cm2/Vsの電界効果移動度が得られることが分かった。 As a result of calculating the field effect mobility (μ) using the above (formula A), the field effect mobility of 8 × 10 −4 cm 2 / Vs is obtained in the organic TFT of the compound (23-1) on the “HMDS substrate”. It was found that the degree was obtained.
<実施例E−3c>
実施例S−3で得られた化合物(23−1)を用いて、「PS基板」上に真空蒸着法により有機半導体層を形成し、さらにこの上に上述の方法でソース電極及びドレイン電極を形成して、有機TFT素子を作製し、評価を行った。
<Example E-3c>
Using the compound (23-1) obtained in Example S-3, an organic semiconductor layer was formed on a “PS substrate” by a vacuum deposition method, and a source electrode and a drain electrode were further formed thereon by the above-described method. Then, an organic TFT element was produced and evaluated.
(有機TFTの評価)
作製した有機TFTについて、ドレイン電圧が100Vの条件で伝達特性を測定したところ、この有機TFTはn型の半導体特性を示した。
(Evaluation of organic TFT)
When the transfer characteristics of the produced organic TFT were measured under the condition that the drain voltage was 100 V, the organic TFT showed n-type semiconductor characteristics.
上記(式A)を用いて電界効果移動度(μ)を計算した結果、「PS基板」上の化合物(23−1)の有機TFTでは、1.0×10−3cm2/Vsの電界効果移動度が得られることが分かった。 As a result of calculating the field effect mobility (μ) using the above (formula A), in the organic TFT of the compound (23-1) on the “PS substrate”, an electric field of 1.0 × 10 −3 cm 2 / Vs. It was found that effective mobility can be obtained.
<実施例E−4a>
実施例S−4で得られた化合物(23−2)を用いて、「ベア基板」上にスピンコート法により塗布して有機半導体層を形成し、さらにソース電極及びドレイン電極を上述の通り形成して有機TFTを作製し、評価を行った。なお、有機半導体層の作製条件は以下の通りである。
<Example E-4a>
Using the compound (23-2) obtained in Example S-4, the organic semiconductor layer is formed on the “bare substrate” by spin coating to form the source electrode and the drain electrode as described above. An organic TFT was prepared and evaluated. The conditions for producing the organic semiconductor layer are as follows.
(有機半導体層の作製条件)
化合物(23−2)をクロロホルムに濃度0.1wt%となるように加え、80℃で加熱し作成した溶液(有機半導体インク)の0.18mLを「ベア基板」上に滴下し、1000rpmで30秒間スピンコートを行い、膜厚約20nmの有機半導体層を形成した。その後、有機半導体層を形成した「ベア基板」を240℃で35分間加熱した。
(Preparation conditions for organic semiconductor layer)
Compound (23-2) was added to chloroform so as to have a concentration of 0.1 wt%, and 0.18 mL of the solution (organic semiconductor ink) prepared by heating at 80 ° C. was dropped on the “bare substrate”, and 30 rpm at 1000 rpm. Spin coating was performed for 2 seconds to form an organic semiconductor layer having a thickness of about 20 nm. Thereafter, the “bare substrate” on which the organic semiconductor layer was formed was heated at 240 ° C. for 35 minutes.
(有機TFTの評価)
作製した有機TFTについて、ドレイン電圧が100Vの条件で伝達特性を測定したところ、この有機TFTはn型の半導体特性を示した。得られた伝達特性を図6に示す。図6の横軸はゲート電圧(V)、縦軸はドレイン電流(A)である。また、黒色塗りのまるがつけられた曲線がforeであり、白抜きのまるがつけられた曲線がbackである。
(Evaluation of organic TFT)
When the transfer characteristics of the produced organic TFT were measured under the condition that the drain voltage was 100 V, the organic TFT showed n-type semiconductor characteristics. The obtained transfer characteristics are shown in FIG. The horizontal axis in FIG. 6 is the gate voltage (V), and the vertical axis is the drain current (A). A curve with black circles is fore, and a curve with white circles is back.
上記(式A)を用いて電界効果移動度(μ)を計算した結果、「ベア基板」上の化合物(23−2)の有機TFTでは、5.0×10−3cm2/Vsの電界効果移動度が得られることが分かった。 As a result of calculating the field effect mobility (μ) using the above (Formula A), the organic TFT of the compound (23-2) on the “bare substrate” has an electric field of 5.0 × 10 −3 cm 2 / Vs. It was found that effective mobility can be obtained.
<実施例E−4b>
実施例S−4で得られた化合物(23−2)を用いて、「PVP基板」上にスピンコート法により塗布して有機半導体層を形成し、さらにソース電極及びドレイン電極を上述の通り形成して有機TFT素子を作製し、評価を行った。なお、有機半導体層の作製条件は以下の通りである。
<Example E-4b>
Using the compound (23-2) obtained in Example S-4, the organic semiconductor layer is formed on the “PVP substrate” by spin coating, and the source and drain electrodes are formed as described above. Then, an organic TFT element was produced and evaluated. The conditions for producing the organic semiconductor layer are as follows.
(有機半導体層の作製条件)
化合物(23−2)をクロロホルムに濃度0.1wt%となるように加え、80℃で加熱し作成した溶液(有機半導体インク)の0.18mLを「PVP基板」上に滴下し、1000rpmで30秒間スピンコートを行い、膜厚約20nmの有機半導体層を形成した。その後、有機半導体層を形成した「PVP基板」を120℃で35分間加熱した。
(Preparation conditions for organic semiconductor layer)
Compound (23-2) was added to chloroform so as to have a concentration of 0.1 wt%, and 0.18 mL of the solution (organic semiconductor ink) prepared by heating at 80 ° C. was dropped on the “PVP substrate” and 30 rpm at 1000 rpm. Spin coating was performed for 2 seconds to form an organic semiconductor layer having a thickness of about 20 nm. Thereafter, the “PVP substrate” on which the organic semiconductor layer was formed was heated at 120 ° C. for 35 minutes.
(有機TFTの評価)
作製した有機TFTについて、ドレイン電圧が100Vの条件で伝達特性を測定したところ、この有機TFTはn型の半導体特性を示した。
(Evaluation of organic TFT)
When the transfer characteristics of the produced organic TFT were measured under the condition that the drain voltage was 100 V, the organic TFT showed n-type semiconductor characteristics.
上記(式A)を用いて電界効果移動度(μ)を計算した結果、「PVP基板」上の化合物(23−2)の有機TFTでは、1.4×10−2cm2/Vsの電界効果移動度が得られることが分かった。 As a result of calculating the field effect mobility (μ) using the above (formula A), in the organic TFT of the compound (23-2) on the “PVP substrate”, an electric field of 1.4 × 10 −2 cm 2 / Vs. It was found that effective mobility can be obtained.
<比較例E−5a>
比較例S−5で得られた化合物(91)を用いて、「ベア基板」上に真空蒸着法により有機半導体層を形成し、さらにこの上に上述の方法でソース電極及びドレイン電極を形成して、有機TFTを作製し、評価を行った。
<Comparative Example E-5a>
Using the compound (91) obtained in Comparative Example S-5, an organic semiconductor layer was formed on a “bare substrate” by vacuum deposition, and a source electrode and a drain electrode were further formed thereon by the above-described method. An organic TFT was prepared and evaluated.
(有機TFTの評価)
作製した有機TFTについて、ドレイン電圧が100Vの条件で伝達特性を測定したところ、この有機TFTはトランジスタの伝達特性を示さなかった。
(Evaluation of organic TFT)
When the transfer characteristics of the manufactured organic TFT were measured under the condition that the drain voltage was 100 V, the organic TFT did not show the transfer characteristics of the transistor.
<比較例E−5b>
比較例S−5で得られた化合物(91)を用いて、「HMDS基板」上に真空蒸着法により有機半導体層を形成し、さらにこの上に上述の方法でソース電極及びドレイン電極を形成して、有機TFTを作製し、評価を行った。
<Comparative Example E-5b>
Using the compound (91) obtained in Comparative Example S-5, an organic semiconductor layer was formed on the “HMDS substrate” by vacuum deposition, and a source electrode and a drain electrode were further formed thereon by the method described above. An organic TFT was prepared and evaluated.
(有機TFTの評価)
作製した有機TFTについて、ドレイン電圧が100Vの条件で伝達特性を測定したところ、この有機TFTはトランジスタの伝達特性を示さなかった。
(Evaluation of organic TFT)
When the transfer characteristics of the manufactured organic TFT were measured under the condition that the drain voltage was 100 V, the organic TFT did not show the transfer characteristics of the transistor.
<比較例E−5c>
比較例S−5で得られた化合物(91)を用いて、「PS基板」上に真空蒸着法により有機半導体層を形成し、さらにこの上に上述の方法でソース電極及びドレイン電極を形成して、有機TFTを作製し、評価を行った。
<Comparative Example E-5c>
Using the compound (91) obtained in Comparative Example S-5, an organic semiconductor layer was formed on the “PS substrate” by vacuum deposition, and a source electrode and a drain electrode were further formed thereon by the method described above. An organic TFT was prepared and evaluated.
(有機TFTの評価)
作製した有機TFTについて、ドレイン電圧が100Vの条件で伝達特性を測定したところ、この有機TFTはトランジスタの伝達特性を示さなかった。
(Evaluation of organic TFT)
When the transfer characteristics of the manufactured organic TFT were measured under the condition that the drain voltage was 100 V, the organic TFT did not show the transfer characteristics of the transistor.
<比較例E−6a>
比較例S−6で得られた化合物(92)を用いて、「ベア基板」上にスピンコート法により塗布して有機半導体層を形成し、さらにソース電極及びドレイン電極を上述の通り形成して有機TFTを作製し、評価を行った。なお、有機半導体層の作製条件は以下の通りである。
<Comparative Example E-6a>
Using the compound (92) obtained in Comparative Example S-6, an organic semiconductor layer is formed on the “bare substrate” by spin coating, and the source and drain electrodes are formed as described above. An organic TFT was fabricated and evaluated. The conditions for producing the organic semiconductor layer are as follows.
(有機半導体層の作製条件)
化合物(92)をトルエンに濃度0.3wt%となるように加え、室温で作成した溶液(有機半導体インク)の0.18mLを「ベア基板」上に滴下し、1000rpmで30秒間スピンコートを行い、膜厚約20nmの有機半導体層を形成した。
(Preparation conditions for organic semiconductor layer)
Compound (92) is added to toluene to a concentration of 0.3 wt%, 0.18 mL of the solution (organic semiconductor ink) prepared at room temperature is dropped on the “bare substrate”, and spin coating is performed at 1000 rpm for 30 seconds. An organic semiconductor layer having a thickness of about 20 nm was formed.
(有機TFTの評価)
作製した有機TFTについて、ドレイン電圧が100Vの条件で伝達特性を測定したところ、この有機TFTはp型及びn型の半導体特性(バイポーラ型の半導体特性)を示した。得られた伝達特性を図7に示す。図7の横軸はゲート電圧(V)、縦軸はドレイン電流(A)である。また、黒色塗りのまるがつけられた曲線がforeであり、白抜きのまるがつけられた曲線がbackである。
(Evaluation of organic TFT)
When the transfer characteristics of the produced organic TFT were measured under the condition that the drain voltage was 100 V, the organic TFT showed p-type and n-type semiconductor characteristics (bipolar semiconductor characteristics). The obtained transfer characteristics are shown in FIG. In FIG. 7, the horizontal axis represents the gate voltage (V), and the vertical axis represents the drain current (A). A curve with black circles is fore, and a curve with white circles is back.
上記(式A)を用いて電界効果移動度(μ)を計算した結果、「ベア基板」上の化合物(92)の有機TFTでは、n型の半導体特性として、2.4×10−1cm2/Vsの電界効果移動度が、p型の半導体特性として、2.4×10−2cm2/Vsの電界効果移動度が、それぞれ得られることが分かった。 As a result of calculating the field effect mobility (μ) using the above (formula A), the organic TFT of the compound (92) on the “bare substrate” has an n-type semiconductor characteristic of 2.4 × 10 −1 cm. field-effect mobility of 2 / Vs is, as the semiconductor characteristics of the p-type, field effect mobility of 2.4 × 10 -2 cm 2 / Vs was found to be obtained, respectively.
<比較例E−7a>
比較例S−7で得られた化合物(93)を用いて、「ベア基板」上に真空蒸着法により有機半導体層を形成し、さらにこの上に上述の方法でソース電極及びドレイン電極を形成して、有機TFTを作製し、評価を行った。
<Comparative Example E-7a>
Using the compound (93) obtained in Comparative Example S-7, an organic semiconductor layer was formed on a “bare substrate” by vacuum deposition, and a source electrode and a drain electrode were further formed thereon by the method described above. An organic TFT was prepared and evaluated.
(有機TFTの評価)
作製した有機TFTについて、ドレイン電圧が100Vの条件で伝達特性を測定したところ、この有機TFTはトランジスタの伝達特性を示さなかった。
(Evaluation of organic TFT)
When the transfer characteristics of the manufactured organic TFT were measured under the condition that the drain voltage was 100 V, the organic TFT did not show the transfer characteristics of the transistor.
<比較例E−7b>
比較例S−7で得られた化合物(93)を用いて、「HMDS基板」上に真空蒸着法により有機半導体層を形成し、さらにこの上に上述の方法でソース電極及びドレイン電極を形成して、有機TFTを作製し、評価を行った。
<Comparative Example E-7b>
Using the compound (93) obtained in Comparative Example S-7, an organic semiconductor layer was formed on the “HMDS substrate” by vacuum deposition, and further a source electrode and a drain electrode were formed thereon by the above-described method. An organic TFT was prepared and evaluated.
(有機TFTの評価)
作製した有機TFTについて、ドレイン電圧が100Vの条件で伝達特性を測定したところ、この有機TFTはトランジスタの伝達特性を示さなかった。
(Evaluation of organic TFT)
When the transfer characteristics of the manufactured organic TFT were measured under the condition that the drain voltage was 100 V, the organic TFT did not show the transfer characteristics of the transistor.
<比較例E−7c>
比較例S−7で得られた化合物(93)を用いて、「PS基板」上に真空蒸着法により有機半導体層を形成し、さらにこの上に上述の方法でソース電極及びドレイン電極を形成して、有機TFTを作製し、評価を行った。
<Comparative Example E-7c>
Using the compound (93) obtained in Comparative Example S-7, an organic semiconductor layer was formed on a “PS substrate” by vacuum deposition, and a source electrode and a drain electrode were further formed thereon by the method described above. An organic TFT was prepared and evaluated.
(有機TFTの評価)
作製した有機TFTについて、ドレイン電圧が100Vの条件で伝達特性を測定したところ、この有機TFTはトランジスタの伝達特性を示さなかった。
(Evaluation of organic TFT)
When the transfer characteristics of the manufactured organic TFT were measured under the condition that the drain voltage was 100 V, the organic TFT did not show the transfer characteristics of the transistor.
以上の結果から、本発明のベンゾビス(チアジアゾール)誘導体は、高い電界効果移動度を示すことが分かった。 From the above results, it was found that the benzobis (thiadiazole) derivative of the present invention exhibits high field effect mobility.
本発明により、合成が簡便で電子の移動度(電界効果移動度)に優れ塗布による薄膜形成が可能であるベンゾビス(チアジアゾール)誘導体を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a benzobis (thiadiazole) derivative that is easy to synthesize, has excellent electron mobility (field effect mobility), and can form a thin film by coating.
また、本発明のベンゾビス(チアジアゾール)誘導体は、高い電界効果移動度を有しているので、この化合物を有機TFTの半導体層に用いることで高い電界効果移動度特性が実現できる。また、この化合物を有機EL素子の、特に電子輸送層に用いることで高い発光効率が実現できる。さらに、この化合物を有機薄膜太陽電池の電荷分離層や電子輸送層に用いることで、高い光電変換効率が実現できる。 Further, since the benzobis (thiadiazole) derivative of the present invention has a high field effect mobility, a high field effect mobility characteristic can be realized by using this compound for a semiconductor layer of an organic TFT. Moreover, high luminous efficiency is realizable by using this compound for an organic electroluminescent element, especially an electron carrying layer. Furthermore, high photoelectric conversion efficiency is realizable by using this compound for the charge-separation layer and electron carrying layer of an organic thin-film solar cell.
また、本発明の有機TFTと、本発明の有機EL素子又はそれと他の有機EL素子とを組み合わせてなる画素素子を配列した表示デバイスは発光効率に優れ、かつ応答性にも優れるという利点を有している。また、本発明の有機TFTは、RFIDタグやセンサーを作動させる有機TFTとして好適に用いることができる。 In addition, a display device in which the organic TFT of the present invention and a pixel element formed by combining the organic EL element of the present invention or another organic EL element are arranged has an advantage of excellent luminous efficiency and responsiveness. doing. The organic TFT of the present invention can be suitably used as an organic TFT for operating an RFID tag or a sensor.
11,21,31,111 基板
12,106 ゲート電極
13,107 ゲート絶縁層
14,110 ドレイン電極
15,109 ソース電極
16,108 有機半導体層
22,105 陽極
23,104 正孔輸送層
24,103 発光層
25,102 電子輸送層
26,101 陰極
112 バリア層
113 保護層
120 有機EL素子
121 有機TFT
32 陽極
33 電荷分離層
34 陰極
11, 21, 31, 111 Substrate 12, 106 Gate electrode 13, 107 Gate insulating layer 14, 110 Drain electrode 15, 109 Source electrode 16, 108 Organic semiconductor layer 22, 105 Anode 23, 104 Hole transport layer 24, 103 Light emission Layers 25 and 102 Electron transport layer 26 and 101 Cathode 112 Barrier layer 113 Protective layer 120 Organic EL element 121 Organic TFT
32 Anode 33 Charge separation layer 34 Cathode
Claims (18)
(式中、二つのR1は独立に、水素原子、直鎖状若しくは分岐状のアルキル基、又は下記式(2)の基のいずれかを示し、
二つのR2は独立に、水素原子、直鎖状若しくは分岐状のアルキル基、又は下記式(2)の基のいずれかを示し、
但し、二つのR1及び二つのR2の一方は、下記式(2)の基のいずれかであり、他方は下記式(2)の基のいずれでもない。);
(式中、Rは、直鎖状又は分岐状のアルキル基を示す。)。 A benzobis (thiadiazole) derivative represented by the following general formula (1):
(In the formula, two R 1 s independently represent either a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group, or a group of the following formula (2);
Two R 2 independently represent any one of a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group, or a group of the following formula (2),
However, one of the two R 1 and the two R 2 is any of the groups of the following formula (2), and the other is not any of the groups of the following formula (2). );
(In the formula, R represents a linear or branched alkyl group).
二つのR2が独立に、水素原子、又は直鎖状若しくは分岐状のアルキル基である、請求項1に記載のベンゾビス(チアジアゾール)誘導体。 In the general formula (1), two R 1 are independently any of the groups of the formula (2),
The benzobis (thiadiazole) derivative according to claim 1, wherein two R 2 are independently a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group.
二つのR2が、水素原子である、請求項1又は2に記載のベンゾビス(チアジアゾール)誘導体。 In the general formula (1), two R 1 are independently any of the groups of the formula (2),
The benzobis (thiadiazole) derivative according to claim 1 or 2, wherein two R 2 are hydrogen atoms.
二つのR2が、水素原子である、請求項1〜4のいずれか1項に記載のベンゾビス(チアジアゾール)誘導体。 In the general formula (1), two R 1 are independently any one of a trifluoromethyl group, a cyano group, and an acyl group (—C (═O) R),
The benzobis (thiadiazole) derivative according to claim 1, wherein two R 2 are hydrogen atoms.
前記有機半導体層が、請求項1〜5のいずれか1項に記載のベンゾビス(チアジアゾール)誘導体を含む、有機薄膜トランジスタ。 On the substrate, it has a gate electrode, a gate insulating layer, an organic semiconductor layer, a source electrode and a drain electrode,
The organic thin-film transistor in which the said organic-semiconductor layer contains the benzobis (thiadiazole) derivative of any one of Claims 1-5.
前記正孔輸送層及び/又は前記電子輸送層が、請求項1〜5のいずれか1項に記載のベンゾビス(チアジアゾール)誘導体を含む、有機エレクトロルミネッセンス素子。 On the substrate, it has an anode, a light emitting layer, a hole transport layer and / or an electron transport layer, and a cathode.
The organic electroluminescent element in which the said hole transport layer and / or the said electron transport layer contain the benzobis (thiadiazole) derivative of any one of Claims 1-5.
前記有機薄膜トランジスタが、請求項7又は8に記載の有機薄膜トランジスタである、表示デバイス。 A display device that drives and lights an organic electroluminescence element using an organic thin film transistor,
A display device, wherein the organic thin film transistor is the organic thin film transistor according to claim 7 or 8.
前記有機エレクトロルミネッセンス素子が、請求項9に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子である、表示デバイス。 A display device that drives and lights an organic electroluminescence element using an organic thin film transistor,
A display device, wherein the organic electroluminescence element is the organic electroluminescence element according to claim 9.
前記電荷分離層が、請求項1〜5のいずれか1項に記載のベンゾビス(チアジアゾール)誘導体を含む、有機薄膜太陽電池。 On a substrate, it has an anode, a charge separation layer containing a hole transport material and an electron transport material, and a cathode.
The organic thin-film solar cell in which the said charge separation layer contains the benzobis (thiadiazole) derivative of any one of Claims 1-5.
前記正孔輸送層及び/又は前記電子輸送層が、請求項1〜5のいずれか1項に記載のベンゾビス(チアジアゾール)誘導体を含む、有機薄膜太陽電池。 On a substrate, it has an anode, a charge separation layer containing a hole transport material and an electron transport material, a hole transport layer and / or an electron transport layer, and a cathode.
The organic thin-film solar cell in which the said positive hole transport layer and / or the said electron carrying layer contain the benzobis (thiadiazole) derivative of any one of Claims 1-5.
前記有機薄膜トランジスタが、請求項7又は8に記載の有機薄膜トランジスタである、RFIDタグ。 An RFID tag that operates using an organic thin film transistor,
An RFID tag, wherein the organic thin film transistor is the organic thin film transistor according to claim 7 or 8.
前記有機薄膜トランジスタが、請求項7又は8に記載の有機薄膜トランジスタである、センサー。 A sensor that operates using an organic thin film transistor,
A sensor, wherein the organic thin film transistor is the organic thin film transistor according to claim 7 or 8.
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018177639A (en) * | 2017-04-03 | 2018-11-15 | Dic株式会社 | Novel compound and semiconductor material containing the same |
CN109476997A (en) * | 2016-07-19 | 2019-03-15 | 默克专利股份有限公司 | Liquid crystal media |
KR20190029441A (en) * | 2017-09-12 | 2019-03-20 | 주식회사 엘지화학 | Compound and organic electronic device comprising the same |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006502981A (en) * | 2002-06-29 | 2006-01-26 | コビオン・オーガニック・セミコンダクターズ・ゲーエムベーハー | 2,1,3-Benzothiadiazole as an electroactive component |
JP2013124231A (en) * | 2011-12-14 | 2013-06-24 | Nippon Shokubai Co Ltd | Benzobisthiadiazole compound |
WO2013141182A1 (en) * | 2012-03-23 | 2013-09-26 | 宇部興産株式会社 | Benzobis(thiadiazole) derivative and organic electronics device using same |
-
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006502981A (en) * | 2002-06-29 | 2006-01-26 | コビオン・オーガニック・セミコンダクターズ・ゲーエムベーハー | 2,1,3-Benzothiadiazole as an electroactive component |
JP2013124231A (en) * | 2011-12-14 | 2013-06-24 | Nippon Shokubai Co Ltd | Benzobisthiadiazole compound |
WO2013141182A1 (en) * | 2012-03-23 | 2013-09-26 | 宇部興産株式会社 | Benzobis(thiadiazole) derivative and organic electronics device using same |
Non-Patent Citations (3)
Title |
---|
MIKROYANNIDIS, J. A. ET AL.: "Low band gap conjugated small molecules containing benzobisthiadiazole and thienothiadiazole central", JOURNAL OF MATERIALS CHEMISTRY, vol. 21(12), JPN6017049501, 2011, pages 4679 - 4688, ISSN: 0003709376 * |
TAKAHIRO KONO ET AL: "Dithienylbenzobis(thiadiazole) based organic semiconductors with low LUMO levels and narrow energy g", CHEMICAL COMMUNICATIONS, vol. Issue 19(46), JPN6014044231, 2010, pages 3265 - 3267, ISSN: 0003709374 * |
YOSHIHIDE FUJISAKI ET AL: "Air-stable n-type organic thin-film transistor array and high gain complementary inverter on flexibl", APPLIED PHYSICS LETTERS, vol. Volume 97, Issue 13, JPN7014003009, 27 September 2010 (2010-09-27), pages 133303 - 1, ISSN: 0003709375 * |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109476997A (en) * | 2016-07-19 | 2019-03-15 | 默克专利股份有限公司 | Liquid crystal media |
JP2019527748A (en) * | 2016-07-19 | 2019-10-03 | メルク・パテント・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツングMerck Patent GmbH | Liquid crystal media |
US11168257B2 (en) * | 2016-07-19 | 2021-11-09 | Merck Patent Gmbh | Liquid crystalline medium |
JP2018177639A (en) * | 2017-04-03 | 2018-11-15 | Dic株式会社 | Novel compound and semiconductor material containing the same |
KR20190029441A (en) * | 2017-09-12 | 2019-03-20 | 주식회사 엘지화학 | Compound and organic electronic device comprising the same |
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