JP2015106034A - Optical waveguide - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、光デバイスに用いられる光導波路及びその製造方法に関する。 The present invention relates to an optical waveguide used for an optical device and a manufacturing method thereof.
情報容量の増大に伴い、幹線及びアクセス系といった通信分野のみならず、ルータ及びサーバ内の情報処理にも光信号を用いる光インターコネクション技術の開発が進められている。特に、ルータ及びサーバ装置内のボード間、又はボード内の短距離信号伝送に光を用いるための光伝送路としては、光ファイバに比べて配線の自由度が高く、かつ高密度化が可能な光導波路を用いることが望ましく、中でも、加工性及び経済性に優れたポリマー材料を用いた光導波路が有望である。 With the increase in information capacity, development of an optical interconnection technology that uses optical signals not only for communication fields such as trunk lines and access systems but also for information processing in routers and servers is underway. In particular, as an optical transmission path for using light for short-distance signal transmission between boards in a router and a server device, the degree of freedom of wiring is higher than that of an optical fiber and the density can be increased. It is desirable to use an optical waveguide. Among them, an optical waveguide using a polymer material excellent in processability and economy is promising.
光導波路としては、まず、基板上に下部クラッド層を硬化形成した後に、下部クラッド層上にコアパターンを形成し、下部クラッド及びコアパターン上に上部クラッド層を積層した光導波路が提案されている(例えば、特許文献1参照)。
このような光導波路に、コアパターンを通過する光信号の光路変換を行う光路変換ミラーを設ける場合は、上部クラッド層側からダイシングブレード等を用いて形成する。
As an optical waveguide, an optical waveguide in which a lower clad layer is hardened on a substrate, a core pattern is formed on the lower clad layer, and an upper clad layer is laminated on the lower clad and the core pattern is proposed. (For example, refer to Patent Document 1).
When such an optical waveguide is provided with an optical path conversion mirror that performs optical path conversion of an optical signal passing through the core pattern, the optical waveguide is formed from the upper clad layer side using a dicing blade or the like.
しかし、従来の光導波路では、ダイシングブレード等を用いて光路変換ミラーを形成する際に、コアパターンと上部クラッド層間の剥がれが生じたり、上部クラッド層の表層にバリが生じたりすることが懸念される。生じたバリが光路変換ミラーに付着した場合には、光損失の悪化が生じる問題があった。
また、従来の光導波路では、光路変換ミラーを形成する際に、光導波路に反りが生じてしまうことが懸念される。光導波路に反りが生じてしまうと、光路変換ミラーを形成する際のハンドリング性が低下してしまう問題があった。
However, in the conventional optical waveguide, there is a concern that when the optical path conversion mirror is formed using a dicing blade or the like, peeling between the core pattern and the upper clad layer may occur or burrs may occur on the surface layer of the upper clad layer. The When the generated burr adheres to the optical path conversion mirror, there is a problem that the optical loss is deteriorated.
Further, in the conventional optical waveguide, there is a concern that the optical waveguide may be warped when the optical path conversion mirror is formed. When the optical waveguide is warped, there is a problem that handling properties when forming the optical path conversion mirror are lowered.
本発明は、上記の課題を解決するためになされたもので、層間の剥がれ及びバリの発生を低減し、かつ、反りの低減が可能な光導波路及び光導波路の製造方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made to solve the above-described problems, and an object thereof is to provide an optical waveguide that can reduce the occurrence of peeling and burrs between layers and can reduce warpage, and a method for manufacturing the optical waveguide. And
本発明者らは、鋭意検討を重ねた結果、光導波路の両面に基板を備える光導波路とすることにより、上記課題を解決し得ることを見出した。本発明は、かかる知見にもとづいて完成したものである。 As a result of intensive studies, the present inventors have found that the above problem can be solved by using an optical waveguide having substrates on both sides of the optical waveguide. The present invention has been completed based on such knowledge.
すなわち、本発明は、
(1)前記下部クラッド層上に設けられたコアパターンと、前記コアパターン上に設けられた上部クラッド層と、前記上部クラッド層上に設けられた上部基板と、前記上部基板、前記上部クラッド層及び前記コアパターンを連通してなる溝形成面を有し、前記溝形成面の少なくとも一部が前記コアパターンを通過する光信号の光路変換を行う光路変換ミラーとして機能する溝部とを備える光導波路、
(2)前記下部クラッド層が、下部基板上に設けられる(1)に記載の光導波路、
(3)前記上部基板は、少なくとも前記溝部が設けられる箇所に設けられる(1)又は(2)に記載の光導波路、
(4)前記上部基板は、前記上部クラッド層の全面に設けられる(1)〜(3)のいずれかに記載の光導波路、
(5)前記上部基板上に設けられ、前記溝部を覆う蓋を備える(1)〜(4)のいずれかに記載の光導波路、
(6)前記上部基板の弾性率は、前記上部クラッド層の弾性率より高い(1)〜(5)のいずれかに記載の光導波路、
(7)前記下部基板及び前記上部基板の弾性率の差は、0Pa以上10GPa以下である(2)〜(6)のいずれかに記載の光導波路、
(8)前記上部基板及び前記蓋の弾性率の差は、0Pa以上10GPa以下である(5)〜(7)のいずれかに記載の光導波路、
(9)前記下部基板の厚さに対する前記上部基板の厚さは、0.5倍以上2倍以下である(2)〜(8)のいずれかに記載の光導波路、
(10)前記上部基板の厚さに対する前記蓋の厚さは、0.5倍以上2倍以下である(5)〜(9)のいずれかに記載の光導波路、
(11)前記溝形成面は、前記上部基板、前記上部クラッド層、前記コアパターン及び前記下部クラッド層を連通してなる(1)〜(10)のいずれかに記載の光導波路、
(12)前記下部基板及び前記上部基板は、ポリイミドを主成分とする(2)〜(11)のいずれかに記載の光導波路、
(13)下部クラッド層、コアパターン、上部クラッド層、上部基板からなる積層体を形成する工程と、前記上部基板側から切削し、前記上部基板、前記上部クラッド層及び前記コアパターンを連通してなる溝形成面を有し、前記溝形成面の少なくとも一部が前記コアパターンを通過する光信号の光路変換を行う光路変換ミラーとして機能する溝部を形成する工程とを含む光導波路の製造方法、
(14)前記積層体を形成する工程が、下部基板上に前記積層体を形成する工程である(13)記載の光導波路の製造方法、
(15)前記上部基板を積層する工程は、少なくとも前記溝部が設けられる箇所に前記上部基板を積層する(13)又は(14)に記載の光導波路の製造方法、
(16)前記上部基板を積層する工程は、前記上部クラッド層の全面に前記上部基板を積層する(13)〜(15)のいずれかに記載の光導波路の製造方法、
(17)前記溝部を形成する工程の後に、前記上部基板上に、前記光路変換ミラーを覆う蓋を積層する(13)〜(16)のいずれかに記載の光導波路の製造方法、
(18)前記溝部を形成する工程は、ダイシングブレードによる加工で前記溝部を形成する(13)〜(17)のいずれかに記載の光導波路の製造方法
を提供するものである。
That is, the present invention
(1) A core pattern provided on the lower clad layer, an upper clad layer provided on the core pattern, an upper substrate provided on the upper clad layer, the upper substrate, and the upper clad layer And an optical waveguide having a groove forming surface that communicates with the core pattern, and at least a part of the groove forming surface functions as an optical path conversion mirror that performs optical path conversion of an optical signal that passes through the core pattern. ,
(2) The optical waveguide according to (1), wherein the lower cladding layer is provided on a lower substrate.
(3) The optical waveguide according to (1) or (2), wherein the upper substrate is provided at least at a place where the groove is provided,
(4) The optical waveguide according to any one of (1) to (3), wherein the upper substrate is provided on the entire surface of the upper cladding layer.
(5) The optical waveguide according to any one of (1) to (4), including a lid that is provided on the upper substrate and covers the groove.
(6) The optical waveguide according to any one of (1) to (5), wherein an elastic modulus of the upper substrate is higher than an elastic modulus of the upper clad layer.
(7) The optical waveguide according to any one of (2) to (6), wherein a difference in elastic modulus between the lower substrate and the upper substrate is 0 Pa or more and 10 GPa or less.
(8) The optical waveguide according to any one of (5) to (7), wherein a difference in elastic modulus between the upper substrate and the lid is 0 Pa or more and 10 GPa or less.
(9) The optical waveguide according to any one of (2) to (8), wherein the thickness of the upper substrate with respect to the thickness of the lower substrate is 0.5 times or more and 2 times or less.
(10) The optical waveguide according to any one of (5) to (9), wherein the thickness of the lid with respect to the thickness of the upper substrate is not less than 0.5 times and not more than 2 times.
(11) The optical waveguide according to any one of (1) to (10), wherein the groove forming surface communicates the upper substrate, the upper cladding layer, the core pattern, and the lower cladding layer.
(12) The optical waveguide according to any one of (2) to (11), wherein the lower substrate and the upper substrate have polyimide as a main component.
(13) A step of forming a laminate composed of a lower clad layer, a core pattern, an upper clad layer, and an upper substrate, and cutting from the upper substrate side, and communicating the upper substrate, the upper clad layer, and the core pattern. And a step of forming a groove portion that functions as an optical path conversion mirror that performs optical path conversion of an optical signal that passes through the core pattern.
(14) The method of manufacturing an optical waveguide according to (13), wherein the step of forming the stacked body is a step of forming the stacked body on a lower substrate.
(15) The step of laminating the upper substrate includes laminating the upper substrate at least at a location where the groove is provided, (13) or (14),
(16) The step of laminating the upper substrate includes laminating the upper substrate over the entire surface of the upper cladding layer. (13) The method for manufacturing an optical waveguide according to any one of (15),
(17) The method of manufacturing an optical waveguide according to any one of (13) to (16), wherein a lid that covers the optical path conversion mirror is stacked on the upper substrate after the step of forming the groove.
(18) The step of forming the groove provides the method for manufacturing an optical waveguide according to any one of (13) to (17), in which the groove is formed by processing with a dicing blade.
本発明によれば、層間の剥がれ及びバリの発生を低減し、かつ、反りの低減が可能な光導波路及び光導波路の製造方法を提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the manufacturing method of the optical waveguide and optical waveguide which can reduce peeling and deburring of an interlayer, and reduction of curvature can be provided.
(第1の実施の形態)
[光導波路]
本発明の第1の実施の形態に係る光導波路は、図1に示すように、下部基板11と、下部基板11上に設けられた下部クラッド層12と、下部クラッド層12上に設けられたコアパターン13と、コアパターン13上に設けられた上部クラッド層14と、上部クラッド層14上に設けられた上部基板15と、上部基板15、上部クラッド層14及びコアパターン13を連通してなる溝形成面18を有し、溝形成面18の少なくとも一部がコアパターン13を通過する光信号の光路変換を行う光路変換ミラー19として機能する溝部17とを備える。
(First embodiment)
[Optical waveguide]
As shown in FIG. 1, the optical waveguide according to the first embodiment of the present invention is provided on the lower substrate 11, the lower cladding layer 12 provided on the lower substrate 11, and the lower cladding layer 12. The core pattern 13, the upper clad layer 14 provided on the core pattern 13, the upper substrate 15 provided on the upper clad layer 14, and the upper substrate 15, the upper clad layer 14, and the core pattern 13 are communicated. The groove forming surface 18 is provided, and at least a part of the groove forming surface 18 includes a groove portion 17 that functions as an optical path conversion mirror 19 that performs optical path conversion of an optical signal that passes through the core pattern 13.
以下に、本発明の第1の実施の形態に係る光導波路に用いられる各部材について詳細に説明する。 Below, each member used for the optical waveguide which concerns on the 1st Embodiment of this invention is demonstrated in detail.
<下部基板及び上部基板>
下部基板11は、光導波路の下部クラッド層12側からの破断を抑制し、光導波路にダイシングブレード等を用いて溝部17を形成する場合に、光導波路の破断を抑制する効果があるため、設けることが好ましい。
上部基板15は、溝部17を形成する際に、コアパターン13と上部クラッド層14間の剥がれ、上部クラッド層14の表層にバリが生じるのを低減させる効果がある。
下部基板11及び上部基板15を有する構成とすることで、溝部17を形成する際に、光導波路に生じる反りを低減させる効果があるため好ましい。また、下部基板11及び上部基板15を有する構成とすることで、溝部17を形成する際のハンドリング性を向上させる効果があるため好ましい。
<Lower substrate and upper substrate>
The lower substrate 11 is provided because it has an effect of suppressing breakage of the optical waveguide when the groove portion 17 is formed using a dicing blade or the like in the optical waveguide while suppressing breakage of the optical waveguide from the lower cladding layer 12 side. It is preferable.
The upper substrate 15 has an effect of reducing the peeling between the core pattern 13 and the upper clad layer 14 and the generation of burrs on the surface layer of the upper clad layer 14 when the groove 17 is formed.
The configuration having the lower substrate 11 and the upper substrate 15 is preferable because there is an effect of reducing warpage generated in the optical waveguide when the groove portion 17 is formed. In addition, the configuration having the lower substrate 11 and the upper substrate 15 is preferable because there is an effect of improving the handling property when the groove portion 17 is formed.
下部基板11及び上部基板15として、強靭性を有する材質を用いると光導波路に強靭性を付与することができ、溝部17を形成する際の加圧や振動を起因とする層間の剥がれ及びバリの発生を低減し、かつ、反りを低減することができるので好ましい。また、下部基板11及び上部基板15としては、剛直な基板であってもフレキシブル性を有する基板であってもよいが、フレキシブル性を有する基板を用いると光導波路にフレキシブル性を付与することができるので好ましい。
下部基板11及び上部基板15としては、上記の観点から、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリフェニレンエーテル、ポリエーテルサルファイド、ポリアリレート、液晶ポリマー、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリイミド、それらに電気配線が形成されたフレキシブルな電気配線板等が好適に挙げられる。より好適な下部基板11及び上部基板15としては、寸法安定性、耐熱性、高屈曲の観点から、ポリイミド、ポリイミドを主とした積層体等が挙げられる。
下部基板11及び上部基板15としては、光導波路を伝送する光信号波長に対して透明な材質であると、光信号が下部基板11及び上部基板15を透過することができるため好ましい。また、下部基板11及び上部基板15としては、コアパターン13の検査に用いる検査光の波長に対して透明であると下部基板11及び上部基板15越しにコアパターン13の視認性が得られるため好ましい。上記の観点から、下部基板11及び上部基板15は、紫外光、可視光、赤外光の少なくともいずれかの波長に対して透明であることが好ましい。
When a material having toughness is used as the lower substrate 11 and the upper substrate 15, toughness can be imparted to the optical waveguide, and peeling between layers and burrs caused by pressurization and vibration at the time of forming the groove portion 17 can be provided. Since generation | occurrence | production can be reduced and curvature can be reduced, it is preferable. In addition, the lower substrate 11 and the upper substrate 15 may be rigid substrates or flexible substrates, but using a flexible substrate can impart flexibility to the optical waveguide. Therefore, it is preferable.
From the above viewpoint, the lower substrate 11 and the upper substrate 15 are, for example, polyesters such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate, polyethylene, polypropylene, polyamide, polycarbonate, polyphenylene ether, polyether sulfide, polyarylate, and liquid crystal. Preferred examples include polymers, polysulfones, polyether sulfones, polyether ether ketones, polyether imides, polyamide imides, polyimides, and flexible electric wiring boards in which electric wirings are formed. More preferable lower substrate 11 and upper substrate 15 include polyimide, a laminate mainly composed of polyimide, and the like from the viewpoint of dimensional stability, heat resistance, and high bending.
The lower substrate 11 and the upper substrate 15 are preferably made of a material that is transparent to the optical signal wavelength transmitted through the optical waveguide because the optical signal can pass through the lower substrate 11 and the upper substrate 15. The lower substrate 11 and the upper substrate 15 are preferably transparent to the wavelength of the inspection light used for the inspection of the core pattern 13 because the visibility of the core pattern 13 can be obtained through the lower substrate 11 and the upper substrate 15. . From the above viewpoint, it is preferable that the lower substrate 11 and the upper substrate 15 are transparent to at least one of ultraviolet light, visible light, and infrared light.
下部基板11の弾性率は、下部クラッド層12の弾性率より高いことが好ましい。下部基板11の弾性率が下部クラッド層12の弾性率より高いことで、光導波路全体の反りを低減させることができる。 The elastic modulus of the lower substrate 11 is preferably higher than that of the lower cladding layer 12. Since the elastic modulus of the lower substrate 11 is higher than the elastic modulus of the lower cladding layer 12, the warp of the entire optical waveguide can be reduced.
上部基板15の弾性率は、上部クラッド層14の弾性率より高いことが好ましい。上部基板15の弾性率が上部クラッド層14の弾性率より高いことで、光導波路全体の反りを低減させることができる。また、上部基板15の弾性率が上部クラッド層14の弾性率より高いことで、加工時に上部基板15全体が変形することに起因するバリを低減させることができ、上部クラッド層14が低弾性であることによる加工時の振動が原因の上部クラッド層14のバリを低減させることができる。 The elastic modulus of the upper substrate 15 is preferably higher than that of the upper clad layer 14. Since the elastic modulus of the upper substrate 15 is higher than the elastic modulus of the upper clad layer 14, the warp of the entire optical waveguide can be reduced. Further, since the elastic modulus of the upper substrate 15 is higher than the elastic modulus of the upper cladding layer 14, burrs caused by deformation of the entire upper substrate 15 during processing can be reduced, and the upper cladding layer 14 has low elasticity. It is possible to reduce burrs in the upper clad layer 14 due to vibrations caused by processing.
下部基板11及び上部基板15の弾性率の差は、光導波路全体の反りを低減させるという観点から、0Pa以上10GPa以下であることが好ましく、0Pa以上5GPa以下であることがより好ましく、0Pa以上3GPa以下であることがさらに好ましい。 The difference in elastic modulus between the lower substrate 11 and the upper substrate 15 is preferably 0 Pa or more and 10 GPa or less, more preferably 0 Pa or more and 5 GPa or less, and more preferably 0 Pa or more and 3 GPa from the viewpoint of reducing warpage of the entire optical waveguide. More preferably, it is as follows.
下部基板11及び上部基板15の厚さは、特に限定はないが、5μm以上であると、強度が得やすいという利点があり、37.5μm以下であると低背な光導波路を得られる利点がある。上記の観点から、下部基板11及び上部基板15の厚さは、5μm以上37.5μmm以下の範囲であることが好ましく、10μm以上25μmm以下の範囲であることがより好ましい。特に上部基板15の厚さを10μm以上25μm以下にすることで、上部クラッド層14のバリの低減が可能であると共に、切削量を低減できるため、光路変換ミラー19が良好に形成できる。
下部基板11の厚さに対する上部基板15の厚さは、光導波路全体の反りを低減させるという観点から、0.5倍以上2倍以下であることが好ましく、0.7倍以上1.5倍以下であることがより好ましく、0.8倍以上1.3倍以下であることがさらに好ましい。
The thickness of the lower substrate 11 and the upper substrate 15 is not particularly limited, but if it is 5 μm or more, there is an advantage that it is easy to obtain strength, and if it is 37.5 μm or less, there is an advantage that a low-profile optical waveguide can be obtained. is there. From the above viewpoint, the thickness of the lower substrate 11 and the upper substrate 15 is preferably in the range of 5 μm or more and 37.5 μm or less, and more preferably in the range of 10 μm or more and 25 μm or less. In particular, by setting the thickness of the upper substrate 15 to 10 μm or more and 25 μm or less, it is possible to reduce the burrs of the upper cladding layer 14 and reduce the amount of cutting, so that the optical path conversion mirror 19 can be formed satisfactorily.
The thickness of the upper substrate 15 with respect to the thickness of the lower substrate 11 is preferably 0.5 times or more and 2 times or less, and 0.7 times or more and 1.5 times from the viewpoint of reducing warpage of the entire optical waveguide. Or less, more preferably 0.8 times or more and 1.3 times or less.
上部基板15は、少なくとも溝部17が設けられる箇所に設けられることが好ましい。上部基板15が溝部17を設ける箇所に設けられることで、溝部17を形成する際の加圧や振動による溝部17形成箇所近辺に生じるバリ及び反りを低減させることができる。
また、上部基板15は、溝部17が設けられる箇所だけに設けても構わないが、上部クラッド層14の全面に設けられることが好ましい。上部基板15が上部クラッド層14の全面に設けられることで、溝部17を形成する際の加圧や振動による溝部17形成箇所近辺に生じるバリ及び反りを低減させる効果があり、かつ、光導波路全体の反りを低減させる効果がある。また、上部基板15が上部クラッド層14の全面に設けられることで、光導波路の厚さを均一にすることができる。
It is preferable that the upper substrate 15 is provided at a place where at least the groove portion 17 is provided. By providing the upper substrate 15 at a location where the groove portion 17 is provided, it is possible to reduce burrs and warpage generated in the vicinity of the location where the groove portion 17 is formed due to pressurization or vibration when forming the groove portion 17.
In addition, the upper substrate 15 may be provided only in a portion where the groove portion 17 is provided, but is preferably provided on the entire surface of the upper cladding layer 14. By providing the upper substrate 15 on the entire surface of the upper clad layer 14, there is an effect of reducing burrs and warpage generated in the vicinity of the groove 17 formation site due to pressurization and vibration when forming the groove 17, and the entire optical waveguide This has the effect of reducing the warpage. Further, since the upper substrate 15 is provided on the entire surface of the upper clad layer 14, the thickness of the optical waveguide can be made uniform.
<下部クラッド層及び上部クラッド層>
下部クラッド層12及び上部クラッド層14は、コアパターン13よりも低屈折率で、熱又は/及び光により硬化する樹脂であれば特に限定されず、熱硬化性樹脂や感光性樹脂を好適に使用することができる。下部クラッド層12及び上部クラッド層14を形成するクラッド層形成用樹脂は、含有する成分が同一であっても異なっていてもよく、屈折率が同一であっても異なっていてもよい。
本発明において、下部クラッド層12とは、少なくともコアパターン13と下部基板11との間に配置されるクラッド層をいい、上部クラッド層14とは、少なくともコアパターン13と上部基板15との間に配置されるクラッド層をいう。また、コアパターン13の側面を覆う同一階層に形成されるクラッド層は、下部クラッド層12や上部クラッド層14から連続する層であっても、下部クラッド層12及び上部クラッド層14と別に形成されていてもよい。換言すると、コアパターン13の側面を覆うクラッド層は、下部クラッド層12であっても上部クラッド層14であっても、それらとは異なるコアパターン13よりも低屈折率な層であってもよい。
<Lower cladding layer and upper cladding layer>
The lower clad layer 12 and the upper clad layer 14 are not particularly limited as long as they have a refractive index lower than that of the core pattern 13 and are cured by heat or / and light, and a thermosetting resin or a photosensitive resin is preferably used. can do. The clad layer forming resins for forming the lower clad layer 12 and the upper clad layer 14 may contain the same or different components, and may have the same or different refractive indexes.
In the present invention, the lower clad layer 12 is a clad layer disposed at least between the core pattern 13 and the lower substrate 11, and the upper clad layer 14 is at least between the core pattern 13 and the upper substrate 15. This refers to the clad layer that is disposed. The clad layer formed on the same layer covering the side surface of the core pattern 13 is formed separately from the lower clad layer 12 and the upper clad layer 14 even if the clad layer is continuous from the lower clad layer 12 and the upper clad layer 14. It may be. In other words, the clad layer covering the side surface of the core pattern 13 may be the lower clad layer 12 or the upper clad layer 14 or may be a layer having a lower refractive index than the core pattern 13 different from them. .
下部クラッド層12及び上部クラッド層14の厚さに関しては、特に限定するものではないが、5〜500μmの範囲であることが好ましい。パターン形成後の厚さが5μm以上であると、光の閉じ込めに必要なクラッド厚さが確保でき、500μm以下であると、低背な光導波路を得ることができる。上記の観点から、下部クラッド層12及び上部クラッド層14の厚さは、5〜100μmの範囲であることがより好ましい。 The thickness of the lower clad layer 12 and the upper clad layer 14 is not particularly limited, but is preferably in the range of 5 to 500 μm. When the thickness after pattern formation is 5 μm or more, the cladding thickness necessary for light confinement can be secured, and when it is 500 μm or less, a low-profile optical waveguide can be obtained. From the above viewpoint, the thicknesses of the lower cladding layer 12 and the upper cladding layer 14 are more preferably in the range of 5 to 100 μm.
<コアパターン>
コアパターン13としては、下部クラッド層12及び上部クラッド層14より高屈折率で、用いる光信号に対して光信号の伝送に影響がない程度に透明であれば特に限定はなく、活性光線によりパターン化し得るものを用いることが好ましい。パターン化する方法の一例としては、コアパターン13を形成する樹脂層を下部クラッド層12上に積層し、露光し、必要により現像することで形成することができる。上記の観点からコアパターン13を形成する樹脂としては、感光性樹脂組成物であることが好ましい。
<Core pattern>
The core pattern 13 is not particularly limited as long as it has a higher refractive index than the lower cladding layer 12 and the upper cladding layer 14 and is transparent to the extent that the optical signal used does not affect the transmission of the optical signal. It is preferable to use what can be converted. As an example of the patterning method, it can be formed by laminating a resin layer for forming the core pattern 13 on the lower clad layer 12, exposing it, and developing it if necessary. From the above viewpoint, the resin forming the core pattern 13 is preferably a photosensitive resin composition.
コアパターン13の厚さについては特に限定されないが、パターン形成後の厚さが、10μm以上であると、光導波路形成後の受発光素子又は光ファイバとの結合において位置合わせトレランスが拡大できるという利点があり、100μm以下であると、光導波路形成後の受発光素子又は光ファイバとの結合において、結合効率が向上するという利点がある。上記の観点から、コアパターン13の厚さは、10〜100μmの範囲であることが好ましく、30〜90μmの範囲であることが更に好ましい。 The thickness of the core pattern 13 is not particularly limited. However, when the thickness after the pattern formation is 10 μm or more, the alignment tolerance can be increased in coupling with the light emitting / receiving element or the optical fiber after the optical waveguide is formed. In the case of 100 μm or less, there is an advantage that the coupling efficiency is improved in coupling with the light emitting / receiving element or the optical fiber after the optical waveguide is formed. From the above viewpoint, the thickness of the core pattern 13 is preferably in the range of 10 to 100 μm, and more preferably in the range of 30 to 90 μm.
<溝部>
溝部17は、上部基板15、上部クラッド層14及びコアパターン13を連通してなる溝形成面18により形成されている。溝形成面18の少なくとも一部は、コアパターン13を通過する光信号の光路変換を行う光路変換ミラー19として機能する。光路変換ミラー19は、コアパターン13を伝搬した光信号を下部クラッド層12や上部クラッド層14に略垂直な方向に光路変換する機能を有する30度以上60度以下の傾斜面であることが好ましく、35度以上55度以下の傾斜面であることがより好ましい。光路変換ミラー19は、空気反射ミラーであってもよいし、溝形成面18に反射金属層を形成した金属反射ミラーであってもよい。
溝部17を形成する具体例としては、上部基板15側からダイシングブレード及びレーザーアブレーション等を用いて、上部基板15、上部クラッド層14及びコアパターン13を切削除去することで形成できる。
ダイシングブレードの形状として、具体的には、溝部17を形成する際に光路変換ミラー19を形成する深さに該当する箇所は傾斜面で、溝部17を形成する際に上部基板15を形成する深さに該当する箇所は垂直面となるブレードが挙げられる。また、ダイシングブレードの形状としては、一方の面が傾斜面で、もう一方の面が略垂直面からなるブレードが挙げられる。
<Groove>
The groove portion 17 is formed by a groove forming surface 18 formed by communicating the upper substrate 15, the upper clad layer 14, and the core pattern 13. At least a part of the groove forming surface 18 functions as an optical path conversion mirror 19 that performs optical path conversion of an optical signal passing through the core pattern 13. The optical path conversion mirror 19 is preferably an inclined surface of 30 ° or more and 60 ° or less having a function of converting an optical signal propagated through the core pattern 13 in a direction substantially perpendicular to the lower cladding layer 12 and the upper cladding layer 14. It is more preferable that the inclined surface is 35 degrees or more and 55 degrees or less. The optical path conversion mirror 19 may be an air reflecting mirror or a metal reflecting mirror in which a reflecting metal layer is formed on the groove forming surface 18.
As a specific example of forming the groove portion 17, it can be formed by cutting and removing the upper substrate 15, the upper cladding layer 14 and the core pattern 13 from the upper substrate 15 side using a dicing blade, laser ablation, or the like.
As a shape of the dicing blade, specifically, a portion corresponding to a depth at which the optical path conversion mirror 19 is formed when the groove portion 17 is formed is an inclined surface, and a depth at which the upper substrate 15 is formed when the groove portion 17 is formed. A part corresponding to this is a blade that is a vertical surface. Further, as a shape of the dicing blade, there is a blade in which one surface is an inclined surface and the other surface is a substantially vertical surface.
光路変換ミラー19以外の溝形成面18の形状は特に限定はないが、上記光路変換ミラー19の傾斜角よりも急峻な面を有していると、切削除去される上部基板15や上部クラッド層14の体積を減らすことができるため、加工効率が良好であると共に、光路変換ミラー19面の平滑性を向上させることができるため、低光損失な光路変換ミラー19が得られる。さらに、上部基板15に開口される部位の面積を低減することができるため、光路変換ミラー19への異物等の付着の低減や、光路変換ミラー19の強度向上に寄与できる。 The shape of the groove forming surface 18 other than the optical path conversion mirror 19 is not particularly limited, but if it has a surface steeper than the inclination angle of the optical path conversion mirror 19, the upper substrate 15 and the upper cladding layer to be removed by cutting are removed. Since the volume of 14 can be reduced, the processing efficiency is good and the smoothness of the surface of the optical path conversion mirror 19 can be improved, so that the optical path conversion mirror 19 with low light loss can be obtained. Furthermore, since the area of the part opened to the upper substrate 15 can be reduced, it is possible to contribute to the reduction of the adhesion of foreign matters and the like to the optical path conversion mirror 19 and the improvement of the strength of the optical path conversion mirror 19.
<蓋>
本発明の光導波路は、上部基板15上に設けられ、溝部17を覆う蓋16をさらに備えることが好ましい。溝部17を覆う蓋16を上部基板15上に設けることで、溝部17(光路変換ミラー19)における光導波路の強度を向上させることができる。また、蓋16を上部基板15上に設けることで、光路変換ミラー19に飛来物が付着するのを防ぐことができる。また、上部クラッド層14が脆弱な場合であっても、蓋16を上部基板15上に設けることで、接着性を高めて上部クラッド層14の凝集破壊を抑制することができる。
<Lid>
The optical waveguide of the present invention preferably further includes a lid 16 provided on the upper substrate 15 and covering the groove portion 17. By providing the lid 16 covering the groove portion 17 on the upper substrate 15, the strength of the optical waveguide in the groove portion 17 (optical path conversion mirror 19) can be improved. Further, by providing the lid 16 on the upper substrate 15, it is possible to prevent flying objects from adhering to the optical path conversion mirror 19. Even when the upper clad layer 14 is fragile, by providing the lid 16 on the upper substrate 15, the adhesiveness can be enhanced and the cohesive failure of the upper clad layer 14 can be suppressed.
上部基板15及び蓋16の弾性率の差は、光導波路全体の反りを低減させるという観点から、0Pa以上10GPa以下であることが好ましく、0Pa以上5GPa以下であることがより好ましく、0Pa以上3GPa以下であることがさらに好ましい。
蓋16は、上部基板15と同じ材料であっても異なる材料であってもよい。
The difference in elastic modulus between the upper substrate 15 and the lid 16 is preferably 0 Pa or more and 10 GPa or less, more preferably 0 Pa or more and 5 GPa or less, and more preferably 0 Pa or more and 3 GPa or less from the viewpoint of reducing warpage of the entire optical waveguide. More preferably.
The lid 16 may be the same material as the upper substrate 15 or a different material.
蓋16の厚さは、特に限定はないが、5μm以上であると、強度が得やすいという利点があり、37.5μm以下であると低背な光導波路を得られる利点がある。上記の観点から、蓋16の厚さは、5μm以上37.5μmm以下の範囲であることが好ましく、10μm以上25μmm以下の範囲であることがより好ましい。
上部基板15の厚さに対する蓋16の厚さは、光導波路全体の反りを低減させるという観点から、0.5倍以上2倍以下であることが好ましく、0.7倍以上1.5倍以下であることがより好ましく、0.8倍以上1.3倍以下であることがさらに好ましい。
The thickness of the lid 16 is not particularly limited, but if it is 5 μm or more, there is an advantage that strength is easily obtained, and if it is 37.5 μm or less, there is an advantage that a low-profile optical waveguide can be obtained. From the above viewpoint, the thickness of the lid 16 is preferably in the range of 5 μm to 37.5 μmm, and more preferably in the range of 10 μm to 25 μmm.
The thickness of the lid 16 with respect to the thickness of the upper substrate 15 is preferably 0.5 times or more and 2 times or less, and 0.7 times or more and 1.5 times or less, from the viewpoint of reducing warpage of the entire optical waveguide. It is more preferable that it is 0.8 times or more and 1.3 times or less.
<接着層>
上部クラッド層14と上部基板15とに接着力がない場合には、第1接着層21を介して上部クラッド層14及び上部基板15を貼合することが好ましい。
上部基板15と蓋16とに接着力がない場合には、第2接着層22を介して上部基板15及び蓋16を貼合することが好ましい。
第1接着層21の厚さは、上部基板15の厚さと比して、同一以下であることがより好ましく、50%以下であることがより好ましく、40%以下であることがさらに好ましい。
第2接着層22の厚さは、蓋16の厚さと比して、同一以下であることが好ましく、50%以下であることがより好ましく、40%以下であることがさらに好ましい。
また、コアパターン13と、上部基板15までの距離(上部クラッド層14の厚さ又は上部クラッド層14と第1接着層21との厚さの総和)は、上部基板15の厚さと比して、2倍以下であると、上部クラッド層14のバリやコアパターン13と上部クラッド層21との界面剥離を効果的に抑制できるため好ましく、1倍以下であることがより好ましい。
<Adhesive layer>
When there is no adhesive force between the upper clad layer 14 and the upper substrate 15, it is preferable to bond the upper clad layer 14 and the upper substrate 15 through the first adhesive layer 21.
When there is no adhesive force between the upper substrate 15 and the lid 16, it is preferable to bond the upper substrate 15 and the lid 16 through the second adhesive layer 22.
The thickness of the first adhesive layer 21 is more preferably equal to or less than the thickness of the upper substrate 15, more preferably 50% or less, and even more preferably 40% or less.
The thickness of the second adhesive layer 22 is preferably equal to or less than the thickness of the lid 16, more preferably 50% or less, and even more preferably 40% or less.
The distance between the core pattern 13 and the upper substrate 15 (the thickness of the upper cladding layer 14 or the sum of the thicknesses of the upper cladding layer 14 and the first adhesive layer 21) is compared with the thickness of the upper substrate 15. If it is 2 times or less, burrs of the upper clad layer 14 and interfacial peeling between the core pattern 13 and the upper clad layer 21 can be effectively suppressed, and it is more preferably 1 time or less.
[光導波路の製造方法]
以下に、本発明の実施の形態に係る光導波路の製造方法について図2及び図3を用いて説明する。
[Optical Waveguide Manufacturing Method]
Below, the manufacturing method of the optical waveguide which concerns on embodiment of this invention is demonstrated using FIG.2 and FIG.3.
まず、図2(a)に示すように、好ましくは下部基板11上に下部クラッド層12を積層する。
下部クラッド層12を形成する方法としては、特に限定はなく、例えば、下部基板11の形成面側からクラッド層形成用樹脂ワニスを、スピンコーター、ダイコーター、コンマコーター、カーテンコーター等を用いて直接塗布し、適宜硬化して下部クラッド層12にする方法が挙げられる。
下部基板11を備えない光導波路である場合は、例えば、一旦基材上に下部クラッド層等の層を形成し、その後、基材を剥離することで形成することが可能である。
First, as shown in FIG. 2A, a lower clad layer 12 is preferably laminated on the lower substrate 11.
The method for forming the lower clad layer 12 is not particularly limited. For example, the resin varnish for forming the clad layer is directly applied from the formation surface side of the lower substrate 11 using a spin coater, die coater, comma coater, curtain coater, or the like. The method of apply | coating and hardening | curing suitably and making it the lower clad layer 12 is mentioned.
In the case of an optical waveguide that does not include the lower substrate 11, it can be formed, for example, by once forming a layer such as a lower cladding layer on the substrate and then peeling the substrate.
次に、図2(b)に示すように、下部クラッド層12上にコア形成用樹脂層13aを積層する。
下部クラッド層12上にコア形成用樹脂層13aを積層する方法としては、特に限定はなく、例えば、コア層形成用樹脂ワニスやコア層形成用樹脂フィルムを用い、下部クラッド層12上に、スピンコーター、ダイコーター、コンマコーター、カーテンコーター等を用いて直接塗布し、適宜硬化して、コア形成用樹脂層13aにする方法が挙げられる。別の方法としては、あらかじめ支持フィルム上にコア形成用樹脂ワニスを塗布して形成したコア形成用樹脂フィルムを、ロールラミネート、真空ロールラミネート、平板ラミネート、真空平板ラミネート、常圧プレス、真空プレス等を用いてコア形成用樹脂層13aを積層する方法が挙げられる。
コア形成用樹脂としては、塗布の際の流動性及び積層した後に硬化するという観点から、光硬化性樹脂や熱硬化性樹脂、光/熱併用硬化性樹脂であることが好ましい。
Next, as shown in FIG. 2B, a core forming resin layer 13 a is laminated on the lower cladding layer 12.
The method for laminating the core forming resin layer 13a on the lower cladding layer 12 is not particularly limited. For example, a core layer forming resin varnish or a core layer forming resin film is used, and a spin layer is formed on the lower cladding layer 12. Examples thereof include a method of directly applying using a coater, a die coater, a comma coater, a curtain coater, etc., and appropriately curing to form a core-forming resin layer 13a. As another method, a core-forming resin film formed by applying a core-forming resin varnish on a support film in advance, roll laminate, vacuum roll laminate, flat plate laminate, vacuum flat plate laminate, atmospheric pressure press, vacuum press, etc. And a method of laminating the core-forming resin layer 13a using the above.
The core-forming resin is preferably a photocurable resin, a thermosetting resin, or a light / heat combination curable resin from the viewpoint of fluidity during application and curing after lamination.
次いで、図2(c)に示すように、コア形成用樹脂層13aをパターン化してコアパターン13を形成する。
コアパターン13を形成する方法としては、特に限定はなく、例えば、コア形成用樹脂層13aを形成した後に、エッチング等により所望の形状にコアパターン13を形成する方法が挙げられる。
コア形成用樹脂層13aが感光性の樹脂である場合には、フォトリソグラフィー加工によってパターン化することができるので好ましい。具体的なフォトリソグラフィー加工としては、所望するパターン形状が描画されたフォトマスクを介し、露光にてコア層に未硬化部と硬化部を形成し、未硬化部を溶解、除去可能な各種溶剤及びアルカリ溶液等の現像液を用いた現像処理によってパターン化することができる。
Next, as shown in FIG. 2 (c), the core forming resin layer 13 a is patterned to form the core pattern 13.
The method for forming the core pattern 13 is not particularly limited, and examples thereof include a method for forming the core pattern 13 in a desired shape by etching or the like after forming the core-forming resin layer 13a.
When the core forming resin layer 13a is a photosensitive resin, it can be patterned by photolithography, which is preferable. As specific photolithography processing, various solvents that can form uncured portions and cured portions in the core layer by exposure through a photomask on which a desired pattern shape is drawn, and dissolve and remove the uncured portions; Patterning can be performed by a developing process using a developing solution such as an alkaline solution.
次に、図2(d)に示すように、コアパターン13上に上部クラッド層14を積層する。
上部クラッド層14を形成する方法としては、特に限定はなく、例えば、コアパターン13の形成面側からクラッド層形成用樹脂ワニスを、スピンコーター、ダイコーター、コンマコーター、カーテンコーター等を用いて直接塗布し、上述したようなフォトリソグラフィー加工によって形成する方法が挙げられる。別の方法としては、あらかじめ支持フィルム上にクラッド層形成用樹脂ワニスを塗布したクラッド層形成用樹脂フィルムを、ロールラミネート、真空ロールラミネート、平板ラミネート、真空平板ラミネート、常圧プレス、真空プレス等を用いてコアパターン13の形成面側から積層し、同じくフォトリソグラフィー加工によって形成する方法が挙げられる。また、別の方法としては、クラッド層形成用樹脂ワニスを、スクリーン印刷及び所望箇所に部分的に塗布することによって形成する方法が挙げられる。
Next, as shown in FIG. 2D, the upper clad layer 14 is laminated on the core pattern 13.
The method of forming the upper clad layer 14 is not particularly limited. For example, the clad layer forming resin varnish is directly applied from the formation surface side of the core pattern 13 using a spin coater, die coater, comma coater, curtain coater, or the like. The method of apply | coating and forming by the photolithographic process as mentioned above is mentioned. As another method, a clad layer forming resin film in which a clad layer forming resin varnish is previously coated on a support film is applied to a roll laminate, a vacuum roll laminate, a flat plate laminate, a vacuum flat plate laminate, an atmospheric pressure press, a vacuum press, etc. A method of stacking from the formation surface side of the core pattern 13 and forming the core pattern 13 by photolithography is also used. Moreover, as another method, the method of forming the resin varnish for clad layer formation by screen-printing and partially apply | coating to a desired location is mentioned.
次に、図3(a)に示すように、上部クラッド層14上に上部基板15を積層する。
上部基板15を積層する方法としては、特に限定はなく、例えば、上部クラッド層14上に第1接着層21を積層した後に、所望の箇所に上部基板15を積層する方法が挙げられる。
Next, as shown in FIG. 3A, the upper substrate 15 is laminated on the upper clad layer 14.
The method of laminating the upper substrate 15 is not particularly limited. For example, a method of laminating the upper substrate 15 at a desired position after laminating the first adhesive layer 21 on the upper clad layer 14 can be mentioned.
上部基板15を積層する工程において、少なくとも溝部17が設けられる箇所に上部基板15を積層することが好ましい。上部基板15を積層することで、溝部17を形成する際に、溝部17形成箇所近辺に生じるバリ及び反りを低減させることができる。 In the step of laminating the upper substrate 15, it is preferable that the upper substrate 15 be laminated at least where the groove portions 17 are provided. By stacking the upper substrate 15, burrs and warpage that occur in the vicinity of the location where the groove 17 is formed when the groove 17 is formed can be reduced.
又は、上部基板15を積層する工程において、上部クラッド層14の全面に上部基板15を積層することが好ましい。上部基板15が上部クラッド層14の全面に設けられることで、溝部17を形成する際に、溝部17形成箇所近辺に生じるバリ及び反りを低減させることができ、かつ、光導波路全体の反りを低減させることができる。また、上部基板15が上部クラッド層14の全面に設けられることで、光導波路の厚さを均一にすることができる。 Alternatively, in the step of laminating the upper substrate 15, it is preferable to laminate the upper substrate 15 over the entire surface of the upper clad layer 14. Since the upper substrate 15 is provided on the entire surface of the upper clad layer 14, when the groove portion 17 is formed, burrs and warpage that occur in the vicinity of the groove portion 17 formation position can be reduced, and the warpage of the entire optical waveguide can be reduced. Can be made. Further, since the upper substrate 15 is provided on the entire surface of the upper clad layer 14, the thickness of the optical waveguide can be made uniform.
次に、図3(b)に示すように、上部基板15側から切削し、上部基板15、上部クラッド層14及びコアパターン13を連通してなる溝形成面18を有し、溝形成面18の少なくとも一部がコアパターン13を通過する光信号の光路変換を行う光路変換ミラー19として機能する溝部17を形成する。
溝部17を形成する方法としては、特に限定はなく、例えば、上部基板15側からダイシングブレード及びレーザーアブレーション等を用いて、上部基板15、上部クラッド層14及びコアパターン13を切削除去する方法が挙げられる。溝部17を形成するにあたって、切削除去する量が多い場合には、ダイシングブレードによる加工が容易であり好ましい。
Next, as shown in FIG. 3B, the groove forming surface 18 is cut from the upper substrate 15 side and has a groove forming surface 18 formed by communicating the upper substrate 15, the upper cladding layer 14 and the core pattern 13. A groove portion 17 that functions as an optical path conversion mirror 19 that performs optical path conversion of an optical signal that passes through the core pattern 13 is formed.
The method for forming the groove portion 17 is not particularly limited, and for example, a method of cutting and removing the upper substrate 15, the upper cladding layer 14, and the core pattern 13 from the upper substrate 15 side using a dicing blade, laser ablation, or the like can be given. It is done. When the groove portion 17 is formed, if the amount to be removed by cutting is large, processing with a dicing blade is easy and preferable.
次に、図3(c)に示すように、溝部17を形成する工程の後に、上部基板15上に、溝部17を覆う蓋16を積層する。
蓋16を積層する方法としては、特に限定はなく、例えば、上部基板15上の所望の箇所に第2接着層22を積層した後に、蓋16を積層する方法が挙げられる。
Next, as shown in FIG. 3C, after the step of forming the groove portion 17, a lid 16 that covers the groove portion 17 is laminated on the upper substrate 15.
The method of laminating the lid 16 is not particularly limited, and for example, a method of laminating the lid 16 after laminating the second adhesive layer 22 at a desired location on the upper substrate 15 can be mentioned.
本発明の第1の実施の形態に係る光導波路及び光導波路の製造方法によれば、層間の剥がれ及びバリの発生を低減し、かつ、反りの低減が可能である。 According to the optical waveguide and the method for manufacturing the optical waveguide according to the first embodiment of the present invention, it is possible to reduce the peeling between layers and the generation of burrs, and to reduce the warpage.
(第2の実施の形態)
本発明の第2の実施の形態に係る光導波路は、図4に示すように、第1の実施の形態で示した光導波路と比して、溝部17を形成する溝形成面18の構成が異なる。第2の実施の形態に係る光導波路について、第1の実施の形態に係る光導波路と実質的に同様である箇所の記載については、重複した記載となるので省略する。
(Second Embodiment)
As shown in FIG. 4, the optical waveguide according to the second embodiment of the present invention has a groove forming surface 18 that forms the groove portion 17 as compared with the optical waveguide shown in the first embodiment. Different. Regarding the optical waveguide according to the second embodiment, descriptions of portions that are substantially the same as those of the optical waveguide according to the first embodiment will be omitted because they are redundant descriptions.
溝部17は、上部基板15、上部クラッド層14、コアパターン13及び下部クラッド層12を連通してなる溝形成面18により形成されている。溝形成面18の少なくとも一部は、コアパターン13を通過する光信号の光路変換を行う光路変換ミラー19として機能する。光路変換ミラー19は、コアパターン13を伝搬した光信号を下部クラッド層12や上部クラッド層14に略垂直な方向に光路変換する機能を有する30度以上60度以下の傾斜面であることが好ましく、35度以上55度以下の傾斜面であることがより好ましい。光路変換ミラー19は、空気反射ミラーであってもよいし、溝形成面18に反射金属層を形成した金属反射ミラーであってもよい。
溝部17を形成する具体例としては、上部基板15側からダイシングブレード及びレーザーアブレーション等を用いて、上部基板15、上部クラッド層14、コアパターン13及び下部クラッド層12を切削除去することで形成できる。
The groove portion 17 is formed by a groove forming surface 18 formed by communicating the upper substrate 15, the upper clad layer 14, the core pattern 13, and the lower clad layer 12. At least a part of the groove forming surface 18 functions as an optical path conversion mirror 19 that performs optical path conversion of an optical signal passing through the core pattern 13. The optical path conversion mirror 19 is preferably an inclined surface of 30 ° or more and 60 ° or less having a function of converting an optical signal propagated through the core pattern 13 in a direction substantially perpendicular to the lower cladding layer 12 and the upper cladding layer 14. It is more preferable that the inclined surface is 35 degrees or more and 55 degrees or less. The optical path conversion mirror 19 may be an air reflecting mirror or a metal reflecting mirror in which a reflecting metal layer is formed on the groove forming surface 18.
As a specific example of forming the groove portion 17, it can be formed by cutting and removing the upper substrate 15, the upper clad layer 14, the core pattern 13 and the lower clad layer 12 from the upper substrate 15 side using a dicing blade, laser ablation, or the like. .
本発明の第2の実施の形態に係る光導波路でも、第1の実施の形態に係る光導波路と同様の効果を得ることができる。
さらに、本発明の第2の実施の形態に係る光導波路によれば、溝形成面18が上部基板15から下部クラッド層12を連通しているので、コアパターン13の全面を確実に光路変換ミラー19として機能させることができる。
Even in the optical waveguide according to the second embodiment of the present invention, the same effect as that of the optical waveguide according to the first embodiment can be obtained.
Furthermore, according to the optical waveguide according to the second embodiment of the present invention, since the groove forming surface 18 communicates the lower clad layer 12 with the upper substrate 15, the entire surface of the core pattern 13 is surely optical path conversion mirror. 19 can function.
(その他の実施の形態)
上記のように、本発明は実施の形態によって記載したが、この開示の一部をなす記述及び図面はこの発明を限定するものであると理解するべきではない。この開示から当業者には様々な代替実施の形態、実施例及び運用技術が明らかになるはずである。
(Other embodiments)
As described above, the present invention has been described according to the embodiment. However, it should not be understood that the description and drawings constituting a part of this disclosure limit the present invention. From this disclosure, various alternative embodiments, examples and operational techniques should be apparent to those skilled in the art.
例えば、第1の実施の形態において、コアパターン13の形成方法としてフォトリソグラフィー加工を例示したが、
光導波路としては、光を伝搬する高屈折率部位のコアパターンとそれを取り巻く低屈折率のクラッド層からなればよく、少なくとも光路変換ミラー19を形成する側に基板が配置されている構成であれば同様の効果が得られる。
同様の効果が得られる光導波路としては、例えば、下部クラッド層12、パターン露光することによって高屈折率部位(コアパターン)及び低屈折率部位(クラッド)が発現する感光層、上部クラッド層の順に積層されてなる光導波路が挙げられる。さらには、下部クラッド層12上に、凹版やインプリントによってコアパターン13を形成し、該コアパターン13の側面及び上面を覆う上部クラッド層14を形成してなる光導波路が挙げられる。さらには、下部クラッド層に凹部が形成され、該凹部にコアパターンとしての高屈折率材が充填され、上部クラッド層によって該高屈折率材上が覆われてなる光導波路が挙げられる。さらには、クラッド層中にコアパターン形成用材料を任意の形状に注入して形成する光導波路が挙げられる。つまり、本発明においては、上記したような光導波路を採用することができ、光路変換ミラーを加工する方向は、それらの光導波路において基板が存在する側であればよい。
For example, in the first embodiment, photolithography processing is exemplified as a method for forming the core pattern 13.
The optical waveguide only needs to be composed of a core pattern of a high refractive index portion that propagates light and a low refractive index cladding layer surrounding the core pattern, and the substrate is arranged at least on the side on which the optical path conversion mirror 19 is formed. The same effect can be obtained.
As an optical waveguide capable of obtaining the same effect, for example, the lower cladding layer 12, a photosensitive layer in which a high refractive index region (core pattern) and a low refractive index region (cladding) are expressed by pattern exposure, and an upper cladding layer are sequentially formed. Examples include laminated optical waveguides. Further, there is an optical waveguide in which a core pattern 13 is formed on the lower clad layer 12 by intaglio or imprint, and an upper clad layer 14 that covers the side surface and the upper surface of the core pattern 13 is formed. Furthermore, there is an optical waveguide in which a concave portion is formed in the lower cladding layer, the concave portion is filled with a high refractive index material as a core pattern, and the upper refractive index material is covered with the upper cladding layer. Furthermore, an optical waveguide formed by injecting a core pattern forming material into an arbitrary shape in the cladding layer can be mentioned. That is, in the present invention, the optical waveguide as described above can be adopted, and the direction in which the optical path conversion mirror is processed may be on the side where the substrate is present in those optical waveguides.
このように、本発明はここでは記載していない様々な実施の形態等を包含するということを理解すべきである。 Thus, it should be understood that the present invention includes various embodiments and the like not described herein.
以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明はその要旨を越えない限り、以下の実施例に限定されない。 EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited to a following example, unless the summary is exceeded.
(実施例1)
<光導波路の作製>
下部基板11としてのポリイミド基板(東レ・デュポン株式会社製、「カプトンEN」、厚さ25μm、引っ張り弾性率5.3GPa、サイズ100mm×100mm)上の全面に、下部クラッド層12(日立化成株式会社製、厚さ10μm、引っ張り弾性率0.7MPa)を積層形成した。
次いで、下部クラッド層12上に、コアパターン13(日立化成株式会社製、厚さ50μm、幅50μm、引っ張り弾性率1.5GPa)を4本(250μmピッチ)形成した。
次いで、コアパターン13側面及び上面を覆い、コアパターン13上の厚さが10μmになるように、上部クラッド層14(引っ張り弾性率0.7MPa)を下部クラッド層12上の全面に積層した。
次いで、上部クラッド層14の全面上に熱硬化型接着剤(日立化成株式会社製)を塗布し、第1接着層21(厚さ10μm、引っ張り弾性率1GPa)を積層した。積層した第1接着層21上に、上部基板15としてのポリイミド基板(東レ・デュポン株式会社製、「カプトンEN」、厚さ25μm、引っ張り弾性率5.3GPa)を配置し、第1接着層21を介して上部クラッド層14と上部基板15とを貼合させ、光導波路が得られた。
Example 1
<Fabrication of optical waveguide>
A lower clad layer 12 (Hitachi Chemical Co., Ltd.) is formed on the entire surface of a polyimide substrate (“Kapton EN” manufactured by Toray DuPont, thickness 25 μm, tensile elastic modulus 5.3 GPa, size 100 mm × 100 mm) as the lower substrate 11. Manufactured, having a thickness of 10 μm and a tensile elastic modulus of 0.7 MPa).
Next, four core patterns 13 (manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd., thickness 50 μm, width 50 μm, tensile elastic modulus 1.5 GPa) were formed on the lower clad layer 12 (250 μm pitch).
Next, the upper clad layer 14 (tensile modulus of 0.7 MPa) was laminated on the entire surface of the lower clad layer 12 so as to cover the side surfaces and the upper surface of the core pattern 13 and have a thickness of 10 μm on the core pattern 13.
Next, a thermosetting adhesive (manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) was applied on the entire surface of the upper clad layer 14, and a first adhesive layer 21 (thickness 10 μm, tensile elastic modulus 1 GPa) was laminated. On the laminated first adhesive layer 21, a polyimide substrate (“Kapton EN” manufactured by Toray DuPont Co., Ltd., thickness 25 μm, tensile elastic modulus 5.3 GPa) is arranged as the upper substrate 15, and the first adhesive layer 21. The upper clad layer 14 and the upper substrate 15 were bonded to each other to obtain an optical waveguide.
<ミラーの形成>
得られた両面ポリイミド基板付き光導波路の蓋形成面側から90°開口(45°の傾斜面)のダイシングブレードを回転数30,000rpm、切削速度3.0mm/sの条件で、ダイシングブレード先端が、下部クラッド層12中に食い込むように切削加工した。
その結果、コアパターン13及び上部クラッド層14間の界面剥離もなく、上部クラッド層14にはバリが発生せず、切削面に切削異物等はなかった。また、光導波路の反りもなく、良好にハンドリングが可能であった。光路変換ミラー19表面の荒れも少なく良好であった。
<Formation of mirror>
A dicing blade having a 90 ° opening (45 ° inclined surface) from the lid forming surface side of the obtained optical waveguide with a double-sided polyimide substrate was rotated at 30,000 rpm and the cutting speed was 3.0 mm / s, and the tip of the dicing blade was Then, cutting was performed so as to bite into the lower cladding layer 12.
As a result, there was no interface separation between the core pattern 13 and the upper clad layer 14, no burrs were generated in the upper clad layer 14, and no cutting foreign matter or the like was found on the cut surface. Moreover, the optical waveguide was not warped and could be handled well. The surface of the optical path conversion mirror 19 was less rough and good.
<蓋の積層>
得られた光路変換ミラー付き光導波路の光路変換ミラー加工面側から、上部基板15の光路変換ミラー19(溝部17)が設けられた箇所に熱硬化型接着剤(日立化成株式会社製)を塗布し、第2接着層22(厚さ10μm、引っ張り弾性率1GPa)を積層した。積層した第2接着層22上に、蓋16としてのポリイミド基板(東レ・デュポン株式会社製、「カプトンEN」、厚さ25μm、引っ張り弾性率5.3GPa、サイズ100mm×5mm)を積層した。
ミラー付き光導波路を曲率半径10mmで曲げても光路変換ミラー19の破断はなかった。
<Lamination of lid>
A thermosetting adhesive (manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) is applied to the portion of the upper substrate 15 where the optical path conversion mirror 19 (groove portion 17) is provided from the optical path conversion mirror processed surface side of the obtained optical waveguide with the optical path conversion mirror. Then, the second adhesive layer 22 (thickness 10 μm, tensile elastic modulus 1 GPa) was laminated. A polyimide substrate (manufactured by Toray DuPont, “Kapton EN”, thickness 25 μm, tensile elastic modulus 5.3 GPa, size 100 mm × 5 mm) was laminated on the laminated second adhesive layer 22.
Even when the optical waveguide with a mirror was bent with a curvature radius of 10 mm, the optical path conversion mirror 19 was not broken.
(実施例2)
実施例1において、ダイシングブレードの形状を一方の面が45°(光路変換ミラー側)、もう一方の面が垂直面の45°開口ブレードを用いた以外は同様の方法で行った。その結果、上部クラッド層14にはバリが発生せず、切削面に切削異物等はなかった。また、光導波路の反りもなく、良好にハンドリングが可能であった。光路変換ミラー19表面の荒れも少なく良好であった。
さらに実施例1と同様に蓋16を積層し、ミラー付き光導波路を曲率半径10mmで曲げても光路変換ミラーの破断はなかった。
(Example 2)
In Example 1, the dicing blade was shaped in the same manner except that a 45 ° opening blade having one surface of 45 ° (on the optical path conversion mirror side) and the other surface being a vertical surface was used. As a result, no burrs were generated in the upper clad layer 14, and no cutting foreign matter or the like was found on the cutting surface. Moreover, the optical waveguide was not warped and could be handled well. The surface of the optical path conversion mirror 19 was less rough and good.
Furthermore, even when the lid 16 was laminated in the same manner as in Example 1 and the optical waveguide with a mirror was bent with a curvature radius of 10 mm, the optical path conversion mirror was not broken.
(実施例3)
実施例1において、下部基板11及び蓋16をポリイミド基板(東レ・デュポン株式会社製、商品名「カプトンV」、厚さ25μm、引っ張り弾性率3.4GPa)に変更した以外は同様の方法で光路変換ミラー付き光導波路を作製した。その結果、上部クラッド層14にはバリが発生せず、切削面に切削異物等はなかった。また、光導波路の反りも少なく、良好にハンドリングが可能であった。光路変換ミラー19表面の荒れも少なく良好であった。
さらに蓋16付きのミラー付き光導波路を曲率半径10mmで曲げても光路変換ミラーの破断はなかった。
(Example 3)
In Example 1, the optical path was changed in the same manner except that the lower substrate 11 and the lid 16 were changed to a polyimide substrate (trade name “Kapton V”, thickness 25 μm, tensile elastic modulus 3.4 GPa, manufactured by Toray DuPont Co., Ltd.). An optical waveguide with a conversion mirror was produced. As a result, no burrs were generated in the upper clad layer 14, and no cutting foreign matter or the like was found on the cutting surface. In addition, the optical waveguide is less warped and can be handled well. The surface of the optical path conversion mirror 19 was less rough and good.
Furthermore, even if the optical waveguide with a mirror with the lid 16 was bent with a curvature radius of 10 mm, the optical path conversion mirror was not broken.
(実施例4)
実施例1において、下部基板11及び蓋16をポリイミド基板(宇部興産株式会社製、「ユーピレックスS」、厚さ25μm、引っ張り弾性率9.1GPa)に変更した以外は同様の方法で光路変換ミラー付き光導波路を作製した。その結果、上部クラッド層14にはバリが発生せず、切削面に切削異物等はなかった。また、光導波路の反りも少なく、良好にハンドリングが可能であった。光路変換ミラー19表面の荒れも少なく良好であった。
さらに蓋16付きのミラー付き光導波路を曲率半径10mmで曲げても光路変換ミラーの破断はなかった。
Example 4
In Example 1, an optical path conversion mirror is provided in the same manner except that the lower substrate 11 and the lid 16 are changed to a polyimide substrate (manufactured by Ube Industries, “Upilex S”, thickness 25 μm, tensile elastic modulus 9.1 GPa). An optical waveguide was produced. As a result, no burrs were generated in the upper clad layer 14, and no cutting foreign matter or the like was found on the cutting surface. In addition, the optical waveguide is less warped and can be handled well. The surface of the optical path conversion mirror 19 was less rough and good.
Furthermore, even if the optical waveguide with a mirror with the lid 16 was bent with a curvature radius of 10 mm, the optical path conversion mirror was not broken.
(実施例5)
実施例1において、下部基板11に用いたポリイミドの厚さを12.5μmに変更した以外は同様の方法で光路変換ミラー付き光導波路を作製した。その結果、上部クラッド層14にはバリが発生せず、切削面に切削異物等はなかった。また、光導波路の反りも少なく、良好にハンドリングが可能であった。光路変換ミラー19表面の荒れも少なく良好であった。
さらに蓋16付きのミラー付き光導波路を曲率半径10mmで曲げても光路変換ミラーの破断はなかった。
(Example 5)
In Example 1, an optical waveguide with an optical path conversion mirror was manufactured in the same manner except that the thickness of the polyimide used for the lower substrate 11 was changed to 12.5 μm. As a result, no burrs were generated in the upper clad layer 14, and no cutting foreign matter or the like was found on the cutting surface. In addition, the optical waveguide is less warped and can be handled well. The surface of the optical path conversion mirror 19 was less rough and good.
Furthermore, even if the optical waveguide with a mirror with the lid 16 was bent with a curvature radius of 10 mm, the optical path conversion mirror was not broken.
(実施例6)
実施例1において、上部基板15に用いたポリイミドの厚さを12.5μmに変更した以外は同様の方法で光路変換ミラー付き光導波路を作製した。その結果、上部クラッド層14にはバリが発生せず、切削面に切削異物等はなかった。また、光導波路の反りも少なく、良好にハンドリングが可能であった。光路変換ミラー19表面の荒れもおおよそ良好であった。
さらに蓋16付きのミラー付き光導波路を曲率半径10mmで曲げても光路変換ミラーの破断はなかった。
(Example 6)
In Example 1, an optical waveguide with an optical path conversion mirror was produced in the same manner except that the thickness of the polyimide used for the upper substrate 15 was changed to 12.5 μm. As a result, no burrs were generated in the upper clad layer 14, and no cutting foreign matter or the like was found on the cutting surface. In addition, the optical waveguide is less warped and can be handled well. The roughness of the surface of the optical path conversion mirror 19 was also substantially good.
Furthermore, even if the optical waveguide with a mirror with the lid 16 was bent with a curvature radius of 10 mm, the optical path conversion mirror was not broken.
(実施例7)
実施例1において、蓋16に用いたポリイミドの厚さを12.5μmに変更した以外は同様の方法で光路変換ミラー付き光導波路を作製した。その結果、上部クラッド層14にはバリが発生せず、切削面に切削異物等はなかった。また、光導波路の反りも少なく、良好にハンドリングが可能であった。光路変換ミラー19表面の荒れも少なく良好であった。
さらに蓋16付きのミラー付き光導波路を曲率半径10mmで曲げても光路変換ミラーの破断はなかった。
(Example 7)
An optical waveguide with an optical path conversion mirror was produced in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the polyimide used for the lid 16 was changed to 12.5 μm. As a result, no burrs were generated in the upper clad layer 14, and no cutting foreign matter or the like was found on the cutting surface. In addition, the optical waveguide is less warped and can be handled well. The surface of the optical path conversion mirror 19 was less rough and good.
Furthermore, even if the optical waveguide with a mirror with the lid 16 was bent with a curvature radius of 10 mm, the optical path conversion mirror was not broken.
(実施例8)
実施例1において、切削加工する位置(サイズ100mm×7mm)上に部分的に上部基板12を積層した以外は同様の方法で光路変換ミラー付き光導波路を作製した。その結果、上部クラッド層14にはバリが発生せず、切削面に切削異物等はなかった。また、切削加工時の光導波路の反りはややあったが、切削加工部位の反りはなく、良好にハンドリングが可能であり、加工が可能であった。光路変換ミラー19表面の荒れも少なく良好であった。
さらに蓋16付きのミラー付き光導波路を曲率半径10mmで曲げても光路変換ミラーの破断はなかった。
(Example 8)
In Example 1, an optical waveguide with an optical path conversion mirror was produced in the same manner except that the upper substrate 12 was partially laminated on the cutting position (size 100 mm × 7 mm). As a result, no burrs were generated in the upper clad layer 14, and no cutting foreign matter or the like was found on the cutting surface. Further, although there was some warping of the optical waveguide at the time of cutting, there was no warping of the cutting part, and it was possible to handle well and processing was possible. The surface of the optical path conversion mirror 19 was less rough and good.
Furthermore, even if the optical waveguide with a mirror with the lid 16 was bent with a curvature radius of 10 mm, the optical path conversion mirror was not broken.
(実施例9)
実施例1において、下部基板11側から、コアパターン13と上部基板15との間の上部クラッド層14中に食い込むように切削加工し光路変換ミラー19を形成した以外は同様の方法で光路変換ミラー付き光導波路を作製した。この場合、実施例1における下部基板11が上部基板15、下部クラッド層12が上部クラッド層14、上部クラッド層14が下部クラッド層12、上部基板15が下部基板11とみなすこととなる。その後、下部基板11側から、実施例1で用いた蓋16(サイズ100mm×5mm)を積層した。その結果、上部クラッド層14(実施例1では上部基板)にはバリが発生せず、切削面に切削異物等はなかった。また、切削加工時の光導波路の反りはなく、良好にハンドリングが可能であった。光路変換ミラー19表面の荒れも少なく良好であった。
さらに蓋16付きのミラー付き光導波路を曲率半径10mmで曲げても光路変換ミラーの破断はなかった。
Example 9
In the first embodiment, the optical path conversion mirror is formed in the same manner except that the optical path conversion mirror 19 is formed by cutting from the lower substrate 11 side so as to bite into the upper clad layer 14 between the core pattern 13 and the upper substrate 15. An attached optical waveguide was produced. In this case, the lower substrate 11 in Example 1 is regarded as the upper substrate 15, the lower cladding layer 12 as the upper cladding layer 14, the upper cladding layer 14 as the lower cladding layer 12, and the upper substrate 15 as the lower substrate 11. Thereafter, the lid 16 (size 100 mm × 5 mm) used in Example 1 was laminated from the lower substrate 11 side. As a result, no burrs were generated in the upper clad layer 14 (the upper substrate in Example 1), and there was no cutting foreign matter or the like on the cutting surface. Further, there was no warping of the optical waveguide during the cutting process, and it was possible to handle it satisfactorily. The surface of the optical path conversion mirror 19 was less rough and good.
Furthermore, even if the optical waveguide with a mirror with the lid 16 was bent with a curvature radius of 10 mm, the optical path conversion mirror was not broken.
(比較例1)
実施例1において、上部基板15を積層せずに、上部クラッド層14側から実施例1と同様の方法で切削加工を行ったところ、コアパターン13及び上部クラッド層14間に剥がれが観測され、上部クラッド層14にはバリが発生していた。また、光導波路の反りが大きく、切削加工時にハンドリングが困難であった。
さらに実施例1と同様に蓋16を上部クラッド層14上に積層し、ミラー付き光導波路を曲率半径10mmで曲げたところ、上部クラッド層14が凝集破壊し、溝部17(ミラー部)で破断するものがあった。
(Comparative Example 1)
In Example 1, when the upper substrate 15 was not laminated and cutting was performed from the upper clad layer 14 side in the same manner as in Example 1, peeling was observed between the core pattern 13 and the upper clad layer 14, Burrs were generated in the upper clad layer 14. Further, the warp of the optical waveguide is large, and handling is difficult at the time of cutting.
Furthermore, when the lid 16 is laminated on the upper clad layer 14 and the optical waveguide with a mirror is bent at a radius of curvature of 10 mm as in the first embodiment, the upper clad layer 14 is coherently broken and broken at the groove portion 17 (mirror portion). There was a thing.
本発明の光導波路は、安定した光伝送を行うことが可能であり、光デバイスに利用可能であるため、各種光学装置、光インターコネクション等の幅広い分野に適用可能である。 Since the optical waveguide of the present invention can perform stable optical transmission and can be used for an optical device, it can be applied to a wide range of fields such as various optical devices and optical interconnections.
11…下部基板
12…下部クラッド層
13…コアパターン
14…上部クラッド層
15…上部基板
16…蓋
17…溝部
18…溝形成面
19…光路変換ミラー
21…第1接着層
22…第2接着層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 ... Lower board | substrate 12 ... Lower clad layer 13 ... Core pattern 14 ... Upper clad layer 15 ... Upper board | substrate 16 ... Cover 17 ... Groove part 18 ... Groove formation surface 19 ... Optical path conversion mirror 21 ... 1st adhesive layer 22 ... 2nd adhesive layer
Claims (18)
前記下部クラッド層上に設けられたコアパターンと、
前記コアパターン上に設けられた上部クラッド層と、
前記上部クラッド層上に設けられた上部基板と、
前記上部基板、前記上部クラッド層及び前記コアパターンを連通してなる溝形成面を有し、前記溝形成面の少なくとも一部が前記コアパターンを通過する光信号の光路変換を行う光路変換ミラーとして機能する溝部
とを備える光導波路。 A lower cladding layer;
A core pattern provided on the lower cladding layer;
An upper clad layer provided on the core pattern;
An upper substrate provided on the upper cladding layer;
As an optical path conversion mirror which has a groove forming surface formed by communicating the upper substrate, the upper clad layer and the core pattern, and at least a part of the groove forming surface performs optical path conversion of an optical signal passing through the core pattern. An optical waveguide provided with a functioning groove.
前記上部基板側から切削し、前記上部基板、前記上部クラッド層及び前記コアパターンを連通してなる溝形成面を有し、前記溝形成面の少なくとも一部が前記コアパターンを通過する光信号の光路変換を行う光路変換ミラーとして機能する溝部を形成する工程
とを含む光導波路の製造方法。 Forming a laminate comprising a lower cladding layer, a core pattern, an upper cladding layer, and an upper substrate;
An optical signal that has a groove forming surface that is cut from the upper substrate side and that communicates the upper substrate, the upper cladding layer, and the core pattern, and at least a part of the groove forming surface passes through the core pattern. Forming a groove functioning as an optical path conversion mirror for performing optical path conversion.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013247724A JP2015106034A (en) | 2013-11-29 | 2013-11-29 | Optical waveguide |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2013247724A JP2015106034A (en) | 2013-11-29 | 2013-11-29 | Optical waveguide |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JP2015106034A true JP2015106034A (en) | 2015-06-08 |
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ID=53436185
Family Applications (1)
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JP (1) | JP2015106034A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019028117A (en) * | 2017-07-26 | 2019-02-21 | 住友ベークライト株式会社 | Method for manufacturing optical waveguide |
-
2013
- 2013-11-29 JP JP2013247724A patent/JP2015106034A/en active Pending
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