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JP2015176866A - 試料観察装置 - Google Patents

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JP2015176866A JP2015043543A JP2015043543A JP2015176866A JP 2015176866 A JP2015176866 A JP 2015176866A JP 2015043543 A JP2015043543 A JP 2015043543A JP 2015043543 A JP2015043543 A JP 2015043543A JP 2015176866 A JP2015176866 A JP 2015176866A
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Abstract

【課題】試料を大気圧下において観察及び分析することができる電子顕微鏡付き試料観察装置を提供すること。【解決手段】試料観察装置100は、テーブル110と、テーブル110の上に配設され、大気圧状態で試料50が載置されるステージ120と、テーブル110の上に配設され、一の方向の第1軸及び該第1軸と交差する方向の第2軸にステージ120と相対移動可能な第1軸及び第2軸移動部130、140と、第1軸及び第2軸移動部130、140に連結され、試料50が観察可能であり、内部が真空状態である電子顕微鏡部200とを備える。【選択図】図2

Description

本発明は、試料観察装置に関し、さらに詳しくは、大気圧状態で試料を観察及び分析することができる走査電子顕微鏡付き試料観察装置に関する。
最近、ディスプレイ用基板、太陽電池用基板及び半導体用ウェーハなどの需要の増加並びに大型化の傾向に照らして、生産に当たっての安定性を高めるための多大な努力が傾注されている。このような大面積の基板を製造するために、大面積基板の欠陥をチェックして分析する過程は必要不可欠である。基板に発生したパーティクルの大きさ、形状及び成分などを観察して分析するために、一般に、走査電子顕微鏡(Scanning Electron Microscope;SEM)が用いられる。上記の半導体製造などに走査電子顕微鏡を用いる従来の技術は、例えば、下記の特許文献1などに開示されている。
図1は、従来の走査電子顕微鏡1の構成を示す図である。
図1を参照すると、従来の走査電子顕微鏡1は、電子ビームを放出する発振部11と、該発振部11から放出された電子の量と電子ビームの大きさとを調節する集光レンズ(condenser lens)と、絞り(aperture)と、像の焦点を合わせる対物レンズ(objective lens)などを有する光学部12と、該光学部12を通過した電子ビームを試料21に照射する加工部13とを有する走査電子顕微鏡部(SEM column)10と、試料21が載置されるステージ22と、イメージの検出のためのディテクタ(detector)23及び走査電子顕微鏡1の内部を真空状態にするための真空ポンプ(vacuum pump)24を有する走査電子顕微鏡チャンバ(SEM chamber)20とを備える。
このような走査電子顕微鏡1は、試料21が真空状態で走査電子顕微鏡チャンバ20の内部に配置されなければならないため、真空状態で元の状態を維持し難い試料(例えば、液体のように真空状態で形状を維持し難い試料)を観察することが困難であるという問題があった。
また、走査電子顕微鏡チャンバ20の内部に試料を入れなければならないため、大型の試料を観察するために大型の走査電子顕微鏡チャンバ20を必要としたり、試料そのものを破損又は破壊して小さくし、走査電子顕微鏡チャンバ20内に配置したりしなければならないという問題があった。
さらに、試料が不導体である場合には、真空状態で電子ビームにより試料の表面に電子が蓄積されてチャージングが生じるという帯電効果(charge−up effect)が起こり、これにより、チャージングが電子を歪曲又は偏向させて、正常なイメージを観察することができなくなる。このため、これを解決するために、不導体である試料の表面に白金、金又はカーボンなどの伝導体をコーティングする前処理過程が必要となる。このような前処理過程もまた別途の装備を必要とし、しかも、複数の過程を経るため試料の観察のために長時間を要するという問題があった。
大韓民国公開特許第10−2008−0071793号公報
したがって、本発明は、真空状態ではない大気圧状態で試料を観察及び分析することができる試料観察装置を提供する。
また、本発明は、大型の試料を破損又は破壊することなく元の状態のままで観察及び分析することができる試料観察装置を提供する。
さらに、本発明は、白金などの伝導体をコーティングする前処理過程を省略して工程時間及びコストを節減することができる試料観察装置を提供する。
本発明の実施形態に係る試料観察装置は、テーブルと、該テーブルの上に配設され、大気圧状態で試料が載置されるステージと、テーブルの上に配設され、一の方向の第1軸及び該第1軸と交差する方向の第2軸にステージと相対移動可能な第1軸及び第2軸移動部と、該第1軸及び第2軸移動部に連結され、試料が観察可能であり、内部が真空状態である電子顕微鏡部とを備える。
ステージが第1軸及び第2軸方向に移動するか、又は第1軸及び第2軸移動部が第1軸及び第2軸方向に移動し、ステージが上下方向に移動するか、又は第1軸及び第2軸移動部が上下方向に移動してもよい。
第1軸及び第2軸移動部は、第1軸に移動可能な第1軸移動部、及び該第1軸移動部の上に配設されて第2軸に移動可能な第2軸移動部を有し、電子顕微鏡部は、第2軸移動部に配設されてもよい。
電子顕微鏡部は、テーブルの大きさの範囲内においてステージの全体領域上のいかなる位置にも配置されるように第1軸及び第2軸方向に移動可能である。
電子顕微鏡部は、電子ビームを放出して試料に照射する照射ユニットと、試料から放出される電子ビーム、電子、エネルギー及びX線のうちの少なくとも一つの信号を感知するディテクタとを有していてもよい。
電子顕微鏡部には、電子顕微鏡部の内部を真空状態に維持するための真空ポンプが連結されてもよい。
ステージ並びに第1軸及び第2軸移動部のうちの少なくとも一つが移動して、試料上の所定の位置に電子顕微鏡部を移動させ、大気圧状態で試料を観察可能にしてもよい。
試料観察装置は、第1軸及び第2軸移動部に連結され、電子顕微鏡部よりも低い倍率で試料が観察可能な光学顕微鏡部をさらに備えていてもよい。
テーブルの下側には、テーブルの振動を防ぐ除振台がさらに配設されてもよい。
試料観察装置は、複数の支持ピンを上昇させて試料を載せ、複数の支持ピンを下降させて試料をステージ内に載置するリフトピンアップ/ダウンユニットをさらに備えていてもよい。
本発明の実施形態によれば、電子顕微鏡部の内部のみを真空状態に維持し、試料は大気圧状態のステージの上に載置するので、真空状態ではない大気圧状態で試料を観察及び分析することができる。
また、本発明の実施形態によれば、大型の試料を破損又は破壊することなく元の状態のままで観察及び分析することができ、且つ、白金などの伝導体をコーティングする前処理過程を省略して工程時間及びコストを節減することができる。
さらに、本発明の実施形態によれば、大気圧状態で試料を観察及び分析することができるので、液体、固体、無機物、有機物、伝導体及び不導体など試料の選択対象範囲が広くなる。すなわち、様々な状態及び大きさの試料を、電子顕微鏡を用いて直接に観察することができる。
図1は従来の走査電子顕微鏡の構成を示す断面図である。 図2は本発明の一実施形態に係る試料観察装置を示す斜視図である。 図3は本発明の一実施形態に係る試料観察装置を示す正面図である。 図4は本発明の一実施形態に係る試料観察装置のリフトアップ/ダウンユニットを示す斜視図である。 図5は本発明の一実施形態に係る試料観察装置の走査電子顕微鏡部及び光学顕微鏡部を示す拡大斜視図である。 図6は本発明の一実施形態に係る試料観察装置の走査電子顕微鏡部及び光学顕微鏡部を示す後方拡大斜視図である。
後述する本発明についての詳細な説明は、本発明が実施可能な特定の実施形態を例示として示す添付図面を参照して行う。これらの実施形態は、当業者が本発明を十分に実施できるように詳細に説明する。本発明の様々な実施形態は異なるが、相互排他的である必要はないということが理解されるべきである。例えば、ここに記載されている特定の形状、構造及び特性は、一実施形態に関連して本発明の精神及び範囲を逸脱しない限り他の実施形態として実現可能である。また、各々の開示された実施形態内の個別的な構成要素の位置又は配置は、本発明の精神及び範囲を逸脱しない限り変更可能であるということが理解されるべきである。よって、後述する詳細な説明は限定的な意味として取ろうとするものではなく、本発明の範囲は、適切に説明される限り、その請求項が主張するものと均等なあらゆる範囲と共に添付の請求項によってのみ限定される。図中、類似の参照符号は、様々な側面に亘って同一又は類似の機能を指し示し、長さ、面積及び厚さなどとその形状は便宜のために誇張されて表現されてもよい。
以下、本発明が属する技術分野において通常の知識を有する者が本発明を容易に実施できるようにするために、本発明の好適な実施形態について添付図面に基づいて詳細に説明する。
図2は本発明の一実施形態に係る試料観察装置100を示す斜視図であり、図3は本発明の一実施形態に係る試料観察装置100を示す正面図であり、図4は本発明の一実施形態に係る試料観察装置100におけるリフトピンアップ/ダウンユニット150を示す斜視図である。
まず、本発明の一実施形態に係る試料観察装置100は、テーブル110と、該テーブル110の上に配設され、大気圧状態で試料50が載置されるステージ120と、テーブル110の上に配設され、ステージ120と一の方向の第1軸及び該1軸と交差する方向の第2軸に相対移動可能な第1軸移動部130及び第2軸移動部140と、該第1軸移動部130及び第2軸移動部140と連結され、試料50が観察可能であり、内部が真空状態である電子顕微鏡部200とを備える。
ここで、第1軸及び第2軸は、同一面の上において互いに交差する方向の軸であり、例えば、第1軸がX方向に延びるX軸であり、第2軸がY方向に延びるY軸であってもよい。もちろん、第1軸がY軸であり、第2軸がX軸であってもよい。なお、これらの第1軸及び第2軸に直交する方向に延びる軸は、上下方向の軸であってもよい。
また、ステージ120と第1軸移動部130及び第2軸移動部140が相対移動するとは、ステージ120が移動してもよく、第1軸移動部130及び第2軸移動部140が移動してもよく、両方とも移動してもよいということを意味する。移動とは、第1軸方向及び第2軸方向への移動を意味する。すなわち、X軸方向及びY軸方向に移動することができる。もちろん、上下方向に移動してもよい。このような移動により、第1軸移動部130及び第2軸移動部140に配設される電子顕微鏡部200がステージ120の上における、又はステージ120上の試料50の上における所望の位置に配置される。これにより、電子顕微鏡部200は、テーブル110の大きさの範囲内においてステージ120の全体領域上のいかなる位置にも配置されるように第1軸及び第2軸方向に移動可能である。また、テーブル110及びステージ120の大きさは特に限定されるものではなく、種々に変更可能である。すなわち、ガラスパネルなどの大型の基板を試料として観察するためには大型のステージが使用可能であり、小型のサンプルを試料として観察するためには小型のステージが使用可能である。したがって、本発明に係る試料観察装置は、試片の大きさ及び観察位置とは無関係に電子顕微鏡部200が試片を観察及び分析することが可能となる。
以下、第1軸をX軸とし、第2軸をY軸とするX軸移動部130及びY軸移動部140を備え、Y軸移動部140に電子顕微鏡部を設けた場合を例示する。もちろん、X及びY方向への移動及び電子顕微鏡部の配設構造は種々に変更可能である。なお、電子顕微鏡部200として走査電子顕微鏡部200を例示する。もちろん、電子顕微鏡部200も走査型のものに何ら限定されるものではなく、種々に変更可能である。
図2を参照すると、本発明の一実施形態による試料観察装置100は、テーブル110と、ステージ120と、X軸移動部130及びY軸移動部140と、リフトピンアップ/ダウンユニット(lift pin up/down unit)150と、クランプ(clamp)160と、走査電子顕微鏡部200及び光学顕微鏡部300と、除振台400となどを備える。
まず、テーブル110は、上面が平らであり、所定の面積及び厚さを有し、後述するステージ120を支持する基台の役割を果たす。例えば、所定の厚さのプレートであってもよい。テーブル110は、地面に対して強固に配設されて外部の振動や衝撃を防ぐフレーム構造物の上に配設される。テーブル110の上面は、信頼性良く試料の観察及び分析を行うために、正確な水平面とする。
テーブル110の上には、試料50が載置されて支持されるステージ120が配設される。本発明において、試料50は、大気圧状態でステージ120に載置される。ステージ120は、試料50が載置可能な大きさ、例えば、試料50に等しいか該試料50よりも大きいプレートを備えていてもよい。なお、ステージ120は、試料50の形状に対応する形状であってもよい。
試料50は、ロボットのアーム(図示せず)に支持されてステージ120の上方に搬送される。試料50がステージ120の上方に搬送されると、図4に示す、ステージ120の下側に配設されるリフトピンアップ/ダウンユニット150に組み込まれる複数の支持ピン151が上昇し、複数の支持ピン151が上昇すると、上記のロボットのアームが下降して試料50を複数の支持ピン151の上に載せる。複数の支持ピン151の上に試料50が載せられると、複数の支持ピン151が下降し、これにより、試料50がステージ120に載置されて支持される。これらの複数の支持ピン151が上昇及び下降するように、ステージ120には複数の支持ピン151が通過可能な複数の孔(図示せず)が形成される。
ステージ120に載置されて支持された試料50は、ステージ120の外側に配設されるクランプ160により並べられる。
ステージ120には、ポンプ(図示せず)などのポンピング手段と連通される複数の吸入孔(図示せず)が形成される。吸入孔は、ステージ120に並べられる試料50を吸入して、試料50がステージ120に強固に載置されて支持されるようにする。
テーブル110の両側には、直線状を呈する一対のX軸移動部130が互いに連動するように設けられ、X軸移動部130の各々には直線状を呈するY軸移動部140の両端が連結されてX軸移動部130の動作によりテーブル110の上部において移動自在に設けられる。
X軸移動部130は、第1案内レール131及び第1可動レール132を備え、Y軸移動部140は、第2案内レール141及び第2可動レール142を備える。X軸移動部130及びY軸移動部140は、モータ(図示せず)の駆動力により作動する。
ステージ120の外側のテーブル110部位には、X軸方向と平行に対をなす第1案内レール131が配設され、第1案内レール131には、該第1案内レール131に沿って往復運動する第1可動レール132が配設される。
また、第1可動レール132には、第1案内レール131と直交する方向であるY軸方向と平行に第2案内レール141が配設され、第2案内レール141には第2可動レール142が配設される。
第2可動レール142には、試料50の表面を観察して表面成分を分析する走査電子顕微鏡部200が配設される。走査電子顕微鏡部200の一方の側面に配置される支持ブラケット201が第2可動レール142と係合されて、走査電子顕微鏡部200が第2可動レール142に配設される。このように、第2可動レール142がX軸移動部130及びY軸移動部140によりX軸方向及びY軸方向に移動可能に配設されるので、走査電子顕微鏡部200もX軸方向及びY軸方向に移動することができる。なお、第2可動レール142の上側には、走査電子顕微鏡部200の制御装置及び電力装置などが組み込まれる走査電子顕微鏡制御部250が配設される。
一方、第2可動レール142には、光学顕微鏡部300がさらに配設される。光学顕微鏡部300の一方の側面に配置される支持ブラケット301が第2可動レール142と係合されて、光学顕微鏡部300が第2可動レール142に配設される。第2可動レール142がX軸移動部130及びY軸移動部140によりX軸方向及びY軸方向に移動可能に配設されるので、光学顕微鏡部300も走査電子顕微鏡部200と共にX軸方向及びY軸方向に移動することができる。加えて、光学顕微鏡部300は、走査電子顕微鏡部200の側面に配設されてもよい。
本発明に係る試料観察装置100は、テーブル120の振動を防ぐために、除振台400を備える。走査電子顕微鏡部200を用いて試料50を観察する際に、非常に僅かな振動が発生する環境下であっても試料50の表面のイメージの解像度に影響を及ぼす。このため、除振台400、好ましくは、アクティブ除振台(active isolator)をテーブル120の下側に設けて振動を防ぐ。
図5及び図6は、本発明の一実施形態に係る試料観察装置100の走査電子顕微鏡部200及び光学顕微鏡部300を示す拡大斜視図及び後方拡大斜視図である。
図5及び図6を参照すると、本発明に係る走査電子顕微鏡部200の内部構成は、図1に示す走査電子顕微鏡1と比較すると、試料21が載置される空間を提供する走査電子顕微鏡チャンバ20にのみ相違点があり、残りの構成は同等であると理解されるべきである。
このため、走査電子顕微鏡部200は、電子ビームを放出して試料50(21)に照射する照射ユニットと、該試料50(21)から放出される電子ビーム、電子、エネルギー及びX線のうちの少なくとも一つの信号を感知するディテクタとを備える。すなわち、走査電子顕微鏡部200は、電子ビームを放出する発振部11と、該発振部11から放出される電子の量と電子ビームの大きさとを調節する集光レンズと、絞りと、像の焦点を合わせる対物レンズなどを有する光学部12と、該光学部12を通過した電子ビームを試料50(21)に照射する加工部13とを備える。
走査電子顕微鏡部200の内部には、二次電子(SE:secondary electron)ディテクタ、後方散乱電子(BSE:backscattered electron)ディテクタ、又はエネルギー分散型分光分析(EDS:energy dispersive spectroscopy)ディテクタのうちの少なくとも一つが組み込まれる。このため、二次電子(SE)又は後方散乱電子(BSE)の信号を感知して試料の表面形状を観察することができ、放出されるX線をエネルギー分散型分光分析(EDS)ディテクタが感知して試料の成分を分析することができる。
また、走査電子顕微鏡部200は、該走査電子顕微鏡部200の内部を真空状態に維持するための真空ポンプ220を備える。特に、ポンプ自体から振動が発生せず、到達可能な真空度が高く(すなわち圧力が低く)、油や水銀を用いないことから内部をさらに清潔に維持可能なイオンポンプ(ion pump)を備えることが好ましい。さらに、真空ポンプ220は小型にして照射ユニットと隣り合うように取り付けてもよく、これにより、走査電子顕微鏡部200と共に容易に移動可能である。したがって、本発明に係る試料観察装置100は、走査電子顕微鏡部200の内部のみを真空状態に維持し、試料50は大気圧状態で配置されて、該試料50が配置されるチャンバを走査電子顕微鏡部200と一体に形成することが不要となる。その結果、大面積の試料を破損又は破壊することなく、元の状態のままで観察及び分析することができるというメリットがある。
上述したように、光学顕微鏡部300は第2可動レール142に配設されて走査電子顕微鏡部200と共にX軸方向及びY軸方向に移動することができる。走査電子顕微鏡は、約5,000〜300,000の倍率にて試料を観察することができ、光学顕微鏡は、走査電子顕微鏡よりも低い倍率である約1〜100の倍率にて試料を観察することができる。大面積の試料の特定の部分を観察する際に走査電子顕微鏡のみを用いると、観察しようとする試料の位置を探すことが困難になる虞がある。このため、本発明は、走査電子顕微鏡部200と光学顕微鏡部300とが共に移動するので、相対的に倍率が低い光学顕微鏡部300を用いて、観察しようとする大面積の試料の位置をある程度特定した後に、相対的に倍率が高い走査電子顕微鏡部200を用いて試料を細かく観察することができ、さらに効率良く試料50を観察して分析することが可能になるというメリットがある。
一方、走査電子顕微鏡は、微細な振動も試料50の表面の観察に影響を及ぼす虞があるため、X軸移動部130及びY軸移動部140を用いて走査電子顕微鏡部200を移動させながら、試料50の特定の位置を観察してもよい。また、走査電子顕微鏡部200を固定し、試料50が載置されたステージ120をX軸及びY軸に移動して、該試料50を観察及び分析してもよい。ステージ120をX軸及びY軸に移動するために、ステージ120の外側のテーブル110の部位に直線運動可能なように可動ブロック(図示せず)及び固定ブロック(図示せず)をさらに設けて、該ステージ120を移動してもよい。なお、試料50をZ軸方向に移動して走査電子顕微鏡部200との距離を調節可能なようにステージ120をZ軸方向に移動可能に構成してもよい。
以上説明したように、本発明の実施形態に係る試料観察装置は、走査電子顕微鏡部の内部のみを真空状態に維持し、試料を大気圧状態で配置して、大面積の試料を元の状態のままで観察及び分析することができるというメリットがある。また、大気圧状態では不導体試料の表面に電子が蓄積される帯電効果も生じないので、伝導体をコーティングする前処理過程を省略することができ、その結果、工程時間及びコストを節減することができるというメリットがある。さらに、大気圧状態で試料を観察及び分析することができるので、液体、固体、無機物、有機物、伝導体及び不導体など試料の選択対象範囲が広くなるというメリットがある。
本発明は、上述したような好適な実施形態を例にとって図示及び説明をしたが、これらの実施形態に何ら限定されるものではなく、本発明の精神を逸脱しない範囲内において当該発明が属する技術分野において通常の知識を有する者により種々に変形及び変更可能である。このような変形例及び変更例は、本発明と添付の特許請求の範囲内に属するものとみなすべきである。
1 走査電子顕微鏡
10、200 走査電子顕微鏡部(電子顕微鏡部)
20 走査電子顕微鏡チャンバ
50 試料
100 試料観察装置
110 テーブル
120 ステージ
130 X軸移動部(第1軸及び第2軸移動部)
131 第1案内レール
132 第1可動レール
141 第2案内レール
142 第2可動レール
140 Y軸移動部(第1軸及び第2軸移動部)
150 リフトアップ/ダウンユニット
160 クランプ
300 光学顕微鏡部
400 除振台

Claims (10)

  1. テーブルと、
    前記テーブルの上に配設され、大気圧状態で試料が載置されるステージと、
    前記テーブルの上に配設され、一の方向の第1軸及び該第1軸と交差する方向の第2軸に前記ステージと相対移動可能な第1軸及び第2軸移動部と、
    前記第1軸及び第2軸移動部に連結され、前記試料が観察可能であり、内部が真空状態である電子顕微鏡部と、
    を備える試料観察装置。
  2. 前記ステージが前記第1軸及び第2軸方向に移動するか、又は前記第1軸及び第2軸移動部が前記第1軸及び第2軸方向に移動し、
    前記ステージが上下方向に移動するか、又は前記第1軸及び第2軸移動部が上下方向に移動する請求項1に記載の試料観察装置。
  3. 前記第1軸及び第2軸移動部は、前記第1軸に移動可能な第1軸移動部、及び前記第1軸移動部の上に配設されて前記第2軸に移動可能な第2軸移動部を有し、
    前記電子顕微鏡部は、前記第2軸移動部に配設される請求項2に記載の試料観察装置。
  4. 前記電子顕微鏡部は、前記テーブルの大きさの範囲内において前記ステージの全体領域上のいかなる位置にも配置されるように前記第1軸及び第2軸方向に移動可能である請求項1から請求項3のうちのいずれか一項に記載の試料観察装置。
  5. 前記電子顕微鏡部は、
    電子ビームを放出して前記試料に照射する照射ユニットと、
    前記試料から放出される電子ビーム、電子、エネルギー及びX線のうちの少なくとも一つの信号を感知するディテクタと、
    を有する請求項1から請求項3のうちのいずれか一項に記載の試料観察装置。
  6. 前記電子顕微鏡部には、前記電子顕微鏡部の内部を真空状態に維持するための真空ポンプが連結される請求項5に記載の試料観察装置。
  7. 前記ステージ並びに前記第1軸及び第2軸移動部のうちの少なくとも一つが移動して、前記試料上の所定の位置に前記電子顕微鏡部を移動させ、大気圧状態で前記試料を観察可能にする請求項1から請求項3のうちのいずれか一項に記載の試料観察装置。
  8. 前記第1軸及び第2軸移動部に連結され、前記電子顕微鏡部よりも低い倍率で試料が観察可能な光学顕微鏡部をさらに備える請求項1から請求項3のうちのいずれか一項に記載の試料観察装置。
  9. 前記テーブルの下側には、前記テーブルの振動を防ぐ除振台がさらに配設される請求項1から請求項3のうちのいずれか一項に記載の試料観察装置。
  10. 複数の支持ピンを上昇させて前記試料を搭載し、前記複数の支持ピンを下降させて前記試料を前記ステージ内に載置するリフトピンアップ/ダウンユニットをさらに備える請求項1から請求項3のうちのいずれか一項に記載の試料観察装置。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2020512656A (ja) * 2018-02-22 2020-04-23 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated ディスプレイ製造用基板上での自動限界寸法測定方法、ディスプレイ製造用大面積基板の検査方法、ディスプレイ製造用大面積基板の検査装置及びその操作方法

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107039694A (zh) * 2017-06-08 2017-08-11 合肥国轩高科动力能源有限公司 一种锂离子电池极片电化学反应过程的观察装置及方法
TWI697658B (zh) * 2019-03-05 2020-07-01 漢民科技股份有限公司 影像複合檢測系統
KR102181456B1 (ko) * 2019-08-16 2020-11-23 참엔지니어링(주) 검사 장치, 수리 장치 및 입자 빔 장치

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07130315A (ja) * 1993-10-29 1995-05-19 Fujitsu Ltd ゲッタポンプ及びそれを用いた電子ビーム装置
JP2007207683A (ja) * 2006-02-03 2007-08-16 Tokyo Seimitsu Co Ltd 電子顕微鏡
JP2013115384A (ja) * 2011-11-30 2013-06-10 Sony Corp 基板の歪み測定装置、基板の歪み測定方法、および半導体装置の製造方法
JP2013251262A (ja) * 2012-05-30 2013-12-12 Samsung Display Co Ltd 走査電子顕微鏡を利用した検査システム
JP2014157772A (ja) * 2013-02-18 2014-08-28 Horon:Kk 走査型電子顕微鏡および検査装置

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10241620A (ja) * 1997-02-27 1998-09-11 Nikon Corp 環境制御型走査型電子顕微鏡
US6198299B1 (en) * 1998-08-27 2001-03-06 The Micromanipulator Company, Inc. High Resolution analytical probe station
US6337478B1 (en) * 1998-11-06 2002-01-08 Trek, Inc. Electrostatic force detector with cantilever and shield for an electrostatic force microscope
JP2001084940A (ja) * 1999-09-13 2001-03-30 Hitachi Ltd 試料交換装置を備えた走査型電子顕微鏡
JP2001338603A (ja) * 2000-05-30 2001-12-07 Hitachi Ltd 走査形電子顕微鏡における観察条件支援装置
JP2005291413A (ja) * 2004-04-01 2005-10-20 Jeol Ltd 制振除振装置
CN202794696U (zh) * 2012-06-21 2013-03-13 上海华力微电子有限公司 一种用于立体光学显微镜的样品台

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07130315A (ja) * 1993-10-29 1995-05-19 Fujitsu Ltd ゲッタポンプ及びそれを用いた電子ビーム装置
JP2007207683A (ja) * 2006-02-03 2007-08-16 Tokyo Seimitsu Co Ltd 電子顕微鏡
JP2013115384A (ja) * 2011-11-30 2013-06-10 Sony Corp 基板の歪み測定装置、基板の歪み測定方法、および半導体装置の製造方法
JP2013251262A (ja) * 2012-05-30 2013-12-12 Samsung Display Co Ltd 走査電子顕微鏡を利用した検査システム
JP2014157772A (ja) * 2013-02-18 2014-08-28 Horon:Kk 走査型電子顕微鏡および検査装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2020512656A (ja) * 2018-02-22 2020-04-23 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated ディスプレイ製造用基板上での自動限界寸法測定方法、ディスプレイ製造用大面積基板の検査方法、ディスプレイ製造用大面積基板の検査装置及びその操作方法
JP2021119565A (ja) * 2018-02-22 2021-08-12 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials, Incorporated ディスプレイ製造用基板上での自動限界寸法測定方法、ディスプレイ製造用大面積基板の検査方法、ディスプレイ製造用大面積基板の検査装置及びその操作方法

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