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JP2015174777A - tempered glass substrate - Google Patents

tempered glass substrate Download PDF

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JP2015174777A
JP2015174777A JP2014049751A JP2014049751A JP2015174777A JP 2015174777 A JP2015174777 A JP 2015174777A JP 2014049751 A JP2014049751 A JP 2014049751A JP 2014049751 A JP2014049751 A JP 2014049751A JP 2015174777 A JP2015174777 A JP 2015174777A
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JP
Japan
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glass substrate
tempered glass
stress remains
curved surface
substrate
Prior art date
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Pending
Application number
JP2014049751A
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Japanese (ja)
Inventor
直己 上村
Naomi Uemura
直己 上村
秀晴 鳥井
Hideharu Torii
秀晴 鳥井
玉井 喜芳
Kiyoshi Tamai
喜芳 玉井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
AGC Inc
Original Assignee
Asahi Glass Co Ltd
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Publication date
Application filed by Asahi Glass Co Ltd filed Critical Asahi Glass Co Ltd
Priority to JP2014049751A priority Critical patent/JP2015174777A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a tempered glass substrate having excellent strength even when a reinforcing layer is not formed on an end surface.SOLUTION: A tempered glass substrate 10 has: front and rear principal surfaces having an area where a compressive stress remains; and an end surface positioned between the front and rear principal surfaces and having an area where a compressive stress remains and an area where a tensile stress remains. The area where the tensile stress remains has first and second curved surface parts 18 and 18 having a predetermined curvature radius and has a straight part 19 having 1.7 mm or more of a curvature radius larger than the predetermined curvature radius between the first and second curved surface parts 18.

Description

本発明の一態様は強化ガラス基板に関する。   One embodiment of the present invention relates to a tempered glass substrate.

カバーガラス基板にセンサを形成し、カバーガラス基板とセンサガラス基板とを一体化したタッチパネル(いわゆるカバーガラス一体型タッチパネル)が注目されている。カバーガラス一体型タッチパネルでは、タッチパネルにおける光学透明接着剤及びセンサガラス基板が不要となるため、薄型化、軽量化が可能となる。   A touch panel (so-called cover glass integrated touch panel) in which a sensor is formed on a cover glass substrate and the cover glass substrate and the sensor glass substrate are integrated has attracted attention. In the cover glass-integrated touch panel, the optical transparent adhesive and the sensor glass substrate in the touch panel are not necessary, so that the thickness and weight can be reduced.

強化ガラスは非強化ガラスに比べ切断が難しい。そのため、従来のタッチセンサに用いるカバーガラス基板の製造工程では、製品形状まで切断した後、化学強化を行っていた。一方、カバーガラス一体型タッチパネルに用いるカバーガラス基板の製造工程では、生産効率向上の観点から、短辺が1000mm以上の大型ガラス基板のまま化学強化し、その大型ガラス基板を中型ガラス基板に切断する。この化学強化された中型基板上に、遮光膜、透明導電膜、金属配線、有機絶縁層、保護層を形成する等様々な加工を実施した後、製品形状まで切断する(例えば、特許文献1参照。)。   Cutting of tempered glass is more difficult than non-tempered glass. Therefore, in the manufacturing process of the cover glass substrate used for the conventional touch sensor, chemical strengthening is performed after cutting to the product shape. On the other hand, in the manufacturing process of the cover glass substrate used for the cover glass integrated type touch panel, from the viewpoint of improving production efficiency, the large glass substrate having a short side of 1000 mm or more is chemically strengthened and the large glass substrate is cut into a medium glass substrate. . After performing various processes such as forming a light-shielding film, a transparent conductive film, a metal wiring, an organic insulating layer, and a protective layer on the chemically strengthened medium-sized substrate, it is cut into a product shape (see, for example, Patent Document 1) .)

前記の中型ガラス基板は、化学強化された大型ガラス基板を切断して製造されるため、端面には強化が入っていない基板である。前記した様々な加工の実施工程において、アライメント等の必要性から、ガラス基板の端面が必然的に加工・成膜装置内の治具にぶつかり、ガラス基板が破損してしまうという問題がある。   Since the medium glass substrate is manufactured by cutting a chemically strengthened large glass substrate, the end surface is a substrate that is not strengthened. In the various processing steps described above, due to the necessity for alignment and the like, there is a problem that the end surface of the glass substrate inevitably hits a jig in the processing / film forming apparatus and the glass substrate is damaged.

特開2011−197708号公報JP 2011-197708 A

端面に強化層が形成されていなくても、強度に優れた強化ガラス基板を提供することを目的とする。   An object of the present invention is to provide a tempered glass substrate having excellent strength even when a reinforced layer is not formed on the end face.

本発明の一態様に係る強化ガラス基板は、圧縮応力が残留する領域を有する表裏の主面と、前記表裏の主面間に位置し、圧縮応力が残留する領域および引張応力が残留する領域を有する端面とを有する強化ガラス基板であって、前記引張応力が残留する領域は所定の曲率半径を有する第一の曲面部と第二の曲面部を有し、前記第一及び第二の曲面部の間に、前記所定の曲率半径よりも大きく、かつ1.7mm以上の曲率半径を有する直線部を有することを特徴とする。   The tempered glass substrate according to an aspect of the present invention includes a front and back main surface having a region where compressive stress remains, a region located between the front and back main surfaces, and a region where compressive stress remains and a region where tensile stress remains. A tempered glass substrate having an end surface, wherein the region where the tensile stress remains has a first curved surface portion and a second curved surface portion having a predetermined radius of curvature, and the first and second curved surface portions. Between the two, a straight portion having a radius of curvature larger than the predetermined curvature radius and 1.7 mm or more is provided.

本発明の一形態によれば、端面に強化層が形成されていなくても、強度に優れた強化ガラス基板を提供することができる。   According to one embodiment of the present invention, a tempered glass substrate having excellent strength can be provided even if a tempering layer is not formed on the end face.

本発明の実施の形態に係る強化ガラス基板の断面図である。It is sectional drawing of the tempered glass substrate which concerns on embodiment of this invention. 本実施形態の強化ガラス基板の端部を模式的に示した断面図である。It is sectional drawing which showed typically the edge part of the tempered glass substrate of this embodiment. 本実施形態の比較例の強化ガラス基板の端部を模式的に示した断面図である。It is sectional drawing which showed typically the edge part of the tempered glass substrate of the comparative example of this embodiment. 強化ガラス基板の端面形状の違いによる衝撃強度の変化を表したグラフである。It is a graph showing the change of the impact strength by the difference in the end surface shape of a tempered glass substrate. 本実施形態に係る強化ガラス基板の強度測定方法の一例を示した模式図である。It is the schematic diagram which showed an example of the strength measuring method of the tempered glass substrate which concerns on this embodiment. 強化ガラス基板の端面形状の違いによる加傷強度の変化を表したグラフである。It is a graph showing the change of the flaw strength by the difference in the end surface shape of a tempered glass substrate. 本実施形態の強化ガラス基板10を用いたカバーガラス一体型タッチパネルの断面図である。It is sectional drawing of the cover glass integrated touch panel using the tempered glass board | substrate 10 of this embodiment. 本実施形態に係る強化ガラス基板の製造方法について説明するためのフローチャートである。It is a flowchart for demonstrating the manufacturing method of the tempered glass board | substrate which concerns on this embodiment.

以下、本発明を適用した具体的な実施の形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。ただし、本発明が以下の実施の形態に限定される訳ではない。また、説明を明確にするため、以下の記載及び図面は、適宜、簡略化されている。   Hereinafter, specific embodiments to which the present invention is applied will be described in detail with reference to the drawings. However, the present invention is not limited to the following embodiment. In addition, for clarity of explanation, the following description and drawings are simplified as appropriate.

まず、図1を参照して、本発明の実施の形態に係る強化ガラス基板について説明する。図1は、本発明の実施の形態に係る強化ガラス基板10の断面図である。図1において、矢印の方向は、残留応力の作用方向を示し、矢印の大きさは、応力の大きさを示す。図1に示すように、強化ガラス基板10は、表面層13及び裏面層15と、表面層13と裏面層15との間に設けられた中間層17とを有し、強化ガラス基板10の端面には中間層17が露出している。表面層13及び裏面層15には、下記の化学強化法により圧縮応力が残留している。また、その反作用として、中間層17には引張応力が残留している。   First, a tempered glass substrate according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a cross-sectional view of a tempered glass substrate 10 according to an embodiment of the present invention. In FIG. 1, the direction of the arrow indicates the direction of action of the residual stress, and the size of the arrow indicates the magnitude of the stress. As shown in FIG. 1, the tempered glass substrate 10 includes a surface layer 13 and a back surface layer 15, and an intermediate layer 17 provided between the surface layer 13 and the back surface layer 15, and an end surface of the tempered glass substrate 10. The intermediate layer 17 is exposed. Compressive stress remains on the front surface layer 13 and the back surface layer 15 by the following chemical strengthening method. Further, as a reaction, tensile stress remains in the intermediate layer 17.

強化ガラス基板10は、化学強化法により作製される。強化用のガラスの種類としては、アルカリアルミノシリケートガラスやソーダライムガラスが用いられる。化学強化法は、ガラスの表面及び裏面をイオン交換し、ガラスに含まれる小さなイオン半径のイオン(例えば、Liイオン、Naイオン)を、大きなイオン半径のイオン(例えば、Kイオン)に置換することで、圧縮応力が残留する表面層及び裏面層を形成する。   The tempered glass substrate 10 is produced by a chemical tempering method. As the glass for strengthening, alkali aluminosilicate glass or soda lime glass is used. In the chemical strengthening method, the front and back surfaces of glass are ion-exchanged, and ions having a small ion radius (for example, Li ions and Na ions) contained in the glass are replaced with ions having a large ion radius (for example, K ions). Thus, the front surface layer and the back surface layer in which the compressive stress remains are formed.

また、強化ガラス基板の内部残留引張応力CT(MPa)は、通常、表面圧縮応力CS(MPa)及び表面層13及び裏面層15の厚さDOL(μm)を測定し、その測定値と、強化ガラス基板の厚さt(μm)とから以下の式1を用いて算出することができる。
CT=(CS×DOL)/(t−2×DOL) ・・・式1
Further, the internal residual tensile stress CT (MPa) of the tempered glass substrate is usually measured by measuring the surface compressive stress CS (MPa) and the thickness DOL (μm) of the surface layer 13 and the back surface layer 15, and the measured value and strengthening. It can be calculated from the thickness t (μm) of the glass substrate using the following formula 1.
CT = (CS × DOL) / (t−2 × DOL) Equation 1

最大残留圧縮応力CSや内部残留引張応力CT、表面層13及び裏面層15の厚さDOLは、強化処理条件により調節可能である。化学強化法の場合、ガラスを処理液(例えば、KNO溶融塩)に浸漬してイオン交換するため、処理液の濃度や温度、浸漬時間などにより調節することができる。 The maximum residual compressive stress CS, the internal residual tensile stress CT, and the thickness DOL of the surface layer 13 and the back surface layer 15 can be adjusted by the strengthening process conditions. In the case of the chemical strengthening method, since the glass is immersed in a treatment liquid (for example, KNO 3 molten salt) for ion exchange, it can be adjusted by the concentration, temperature, immersion time, etc. of the treatment liquid.

強化ガラス基板10の厚さt(mm)は、0.1〜1.1mmであることが好ましい。化学強化ガラスの場合、厚さt(mm)が1.1mmを超えると、基板の質量が大きくなってしまう。一方、厚さt(mm)が0.1mm未満になると、ガラスに化学強化処理を施すことが難しくなる。強化ガラス基板10の厚さt(mm)は、0.3〜0.7mmがさらに好ましい。   The thickness t (mm) of the tempered glass substrate 10 is preferably 0.1 to 1.1 mm. In the case of chemically strengthened glass, if the thickness t (mm) exceeds 1.1 mm, the mass of the substrate becomes large. On the other hand, when the thickness t (mm) is less than 0.1 mm, it is difficult to perform chemical strengthening treatment on the glass. The thickness t (mm) of the tempered glass substrate 10 is more preferably 0.3 to 0.7 mm.

図2は、本実施形態の強化ガラス基板10の端部を模式的に示した断面図である。図2に示すように、本実施形態の強化ガラス基板10の端面は曲面部18と直線部19とを組み合わせた形状に加工されている。曲面部と直線部とを組み合わせた形状とすることで引っ張り応力が残留している中間層17が端面に露出しているガラス板であったとしても端面の強度を向上させることができる。なお、本実施形態の強化ガラス基板10の端面は厳密な意味での平滑な直線部を有している必要は無く、曲率半径R=1.7mm以上に抑えれば直線部として効果が期待出来るものとして構わない。   FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing an end portion of the tempered glass substrate 10 of the present embodiment. As shown in FIG. 2, the end surface of the tempered glass substrate 10 of this embodiment is processed into a shape in which a curved surface portion 18 and a linear portion 19 are combined. By combining the curved surface portion and the straight portion, the strength of the end surface can be improved even if the intermediate layer 17 where the tensile stress remains is a glass plate exposed on the end surface. In addition, the end surface of the tempered glass substrate 10 of this embodiment does not need to have a smooth straight portion in a strict sense, and an effect can be expected as a straight portion if the curvature radius R is suppressed to 1.7 mm or more. It does n’t matter.

言い換えると、本実施形態の強化ガラス基板10の端部は第一の曲面部と第二の曲面部の間に第一及び第二の曲面部の曲率半径よりも大きい曲率半径を有する直線部を有しており、その曲率半径Rが1.7mm以上である。本実施形態では基板の端部に直線部を有しているため、加工工程で端部に位置決め治具等が接触しても、衝撃が接触面に広く分散されるため高い強度を維持することができる。   In other words, the end portion of the tempered glass substrate 10 of the present embodiment has a linear portion having a radius of curvature larger than the radius of curvature of the first and second curved surface portions between the first curved surface portion and the second curved surface portion. The curvature radius R is 1.7 mm or more. In this embodiment, since the end portion of the substrate has a straight portion, even if a positioning jig or the like contacts the end portion in the processing step, the impact is widely dispersed on the contact surface, so that high strength is maintained. Can do.

図3は、本実施形態の比較例の強化ガラス基板20の端部を模式的に示した断面図である。図3に示すように、比較例の強化ガラス基板20の端面は、直線部を有さず曲面部18のみからなる形状に加工されている。端部が曲面部18のみからなる形状の場合は、最も外側に位置している一点のみに衝撃が集中するため、曲面部と直線部とを組み合わせた形状と比較して強化ガラス基板の強度が低くなってしまう。   FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing an end portion of the tempered glass substrate 20 of the comparative example of the present embodiment. As shown in FIG. 3, the end face of the tempered glass substrate 20 of the comparative example is processed into a shape including only the curved surface portion 18 without having a straight portion. In the case where the end portion has a shape including only the curved surface portion 18, the impact concentrates on only one point located on the outermost side, so that the strength of the tempered glass substrate is higher than the shape combining the curved surface portion and the straight portion. It will be lower.

図4は、強化ガラス基板の端面形状の違いによる衝撃強度の変化を表したグラフである。図4において、各サンプルにおける線分の上端と下端は最大値及び最小値を表しており、幅広の領域は第1四分位点から第3四分位点の値が含まれる領域を表している。縦軸は各サンプルが破損した破壊エネルギーを表している。図5は、本実施形態に係る強化ガラス基板の強度測定方法の一例を示した模式図である。図5に示すように、基台50上に固定した強化ガラス基板10端面に5mmΦの超硬ピン51を水平に衝突させて、割れが発生した破壊エネルギーを衝撃強度とした。   FIG. 4 is a graph showing the change in impact strength due to the difference in the end face shape of the tempered glass substrate. In FIG. 4, the upper and lower ends of the line segment in each sample represent the maximum value and the minimum value, and the wide region represents the region including the values of the first quartile to the third quartile. Yes. The vertical axis represents the breaking energy at which each sample was damaged. FIG. 5 is a schematic view showing an example of a method for measuring the strength of the tempered glass substrate according to the present embodiment. As shown in FIG. 5, a 5 mmφ carbide pin 51 was collided horizontally against the end face of the tempered glass substrate 10 fixed on the base 50, and the breaking energy at which cracking occurred was defined as impact strength.

図6は、強化ガラス基板の端面形状の違いによる加傷強度の変化を表したグラフである。強化ガラス基板端面に10mmΦのPEEK材を水平に180mJで衝突させた後、衝突させた部分を下にして4点曲げ試験を実施し、割れが発生した破壊応力を加傷強度とした。PEEK材の衝突の方法は、前記記した衝撃強度測定の場合と同様とした。なお、衝撃強度、加傷強度のいずれの測定も、0.56mm厚で表面圧縮応力700MPa、圧縮応力層深さ18μmの強化ガラス基板サンプルを使用した。   FIG. 6 is a graph showing a change in scratch strength due to a difference in the end face shape of the tempered glass substrate. A 10 mmφ PEEK material was collided horizontally at 180 mJ to the end face of the tempered glass substrate, and then the collided portion was placed downward, and a four-point bending test was performed. The method of collision of the PEEK material was the same as in the case of the impact strength measurement described above. Note that, for both measurements of impact strength and scratch strength, a tempered glass substrate sample having a thickness of 0.56 mm, a surface compressive stress of 700 MPa, and a compressive stress layer depth of 18 μm was used.

4点曲げ試験は、縦置き4点曲げ試験装置(島津製作所社製オートグラフAG−X)を用いて測定した。図10は、縦置き4点曲げ試験装置の模式図である。支持部間隔=60mm、荷重部間隔=20mm、クロスヘッド(荷重部)スピード=1mm/minとした。試験片において破壊強度が測定される端面は、支持部に支持された下側の端面である。   The 4-point bending test was measured using a vertical 4-point bending test apparatus (Autograph AG-X, manufactured by Shimadzu Corporation). FIG. 10 is a schematic diagram of a vertical four-point bending test apparatus. Support part interval = 60 mm, load part interval = 20 mm, and crosshead (load part) speed = 1 mm / min. The end face whose fracture strength is measured in the test piece is the lower end face supported by the support portion.

続いて、図7を参照して、本実施形態の強化ガラス基板10の用途に好適なカバーガラス一体型タッチパネルについて説明する。図7は、本実施形態の強化ガラス基板10を用いたカバーガラス一体型タッチパネルの断面図である。図7のカバーガラス一体型タッチパネルは、静電容量方式のタッチパネルである。   Then, with reference to FIG. 7, the cover glass integrated touch panel suitable for the use of the tempered glass board | substrate 10 of this embodiment is demonstrated. FIG. 7 is a cross-sectional view of a cover glass integrated touch panel using the tempered glass substrate 10 of the present embodiment. The cover glass integrated touch panel in FIG. 7 is a capacitive touch panel.

図7に示すように、強化ガラス基板10からなるカバーガラス基板30の周縁部上には、ブラックマトリクス膜などの遮光膜31が形成されている。一対の金属配線35が、カバーガラス基板30の外側(図7におけるカバーガラス基板30の下面側)から視認されないように、遮光膜31上の両側に形成されている。なお、遮光膜31の色は特に限定されず、例えば白色であってもよい。   As shown in FIG. 7, a light shielding film 31 such as a black matrix film is formed on the peripheral edge portion of the cover glass substrate 30 made of the tempered glass substrate 10. A pair of metal wirings 35 are formed on both sides of the light shielding film 31 so as not to be seen from the outside of the cover glass substrate 30 (the lower surface side of the cover glass substrate 30 in FIG. 7). In addition, the color of the light shielding film 31 is not particularly limited, and may be white, for example.

カバーガラス基板30の中央部には、透明導電膜34a、34bが形成さている。透明導電膜34aは図7のx軸方向に延設されており、透明導電膜34bは図7のy軸方向に延設されている。すなわち、透明導電膜34a、34bは互いに直交するように延設されている。つまり、平面的には透明導電膜34a、34bは格子状に形成されている(不図示)。なお、図7には、透明導電膜34bが2本しか示されていないが、実際には透明導電膜34a、34bはいずれも多数設けられている。ここで、図7に示すように、透明導電膜34aは両側の金属配線35の間を跨ぐように形成されている。   Transparent conductive films 34 a and 34 b are formed at the center of the cover glass substrate 30. The transparent conductive film 34a extends in the x-axis direction in FIG. 7, and the transparent conductive film 34b extends in the y-axis direction in FIG. That is, the transparent conductive films 34a and 34b are extended so as to be orthogonal to each other. That is, in a plan view, the transparent conductive films 34a and 34b are formed in a lattice shape (not shown). In FIG. 7, only two transparent conductive films 34b are shown. Actually, however, a large number of transparent conductive films 34a and 34b are provided. Here, as shown in FIG. 7, the transparent conductive film 34a is formed so as to straddle between the metal wirings 35 on both sides.

図7に示すように、有機絶縁層36は、透明導電膜34a、34bを互いに絶縁するため、透明導電膜34a、34bの間に形成されている。
保護層37は、遮光膜31、透明導電膜34a、34b、金属配線35、有機絶縁層36を覆うように、カバーガラス基板30の略全面に形成されている。
As shown in FIG. 7, the organic insulating layer 36 is formed between the transparent conductive films 34a and 34b in order to insulate the transparent conductive films 34a and 34b from each other.
The protective layer 37 is formed on substantially the entire surface of the cover glass substrate 30 so as to cover the light shielding film 31, the transparent conductive films 34 a and 34 b, the metal wiring 35, and the organic insulating layer 36.

ところで、本実施形態に係る強化ガラス基板は、短辺が1000mm以上の大型ガラス基板を化学強化し、これを切断して複数枚に分割することにより得られる。つまり、強化ガラス基板10の端面では、内部残留引張応力CTを有する中間層17が露出している。そのため、内部残留引張応力CTが大きくなり過ぎると、強化ガラス基板10の端面からクラックが伸展し易くなり、センサ形成工程でのハンドリングが難しくなる。また、内部残留引張応力CTが大きいほど、切断自体も困難になる。従って、内部残留引張応力CTは、35MPa以下であることが好ましくい。また、内部残留引張応力CTは、30MPa以下であることがより好ましくは、20MPa以下であることがさらに好ましい。   By the way, the tempered glass substrate according to the present embodiment is obtained by chemically strengthening a large glass substrate having a short side of 1000 mm or more, and cutting it into a plurality of pieces. That is, the intermediate layer 17 having the internal residual tensile stress CT is exposed at the end face of the tempered glass substrate 10. Therefore, if the internal residual tensile stress CT becomes too large, cracks are likely to extend from the end face of the tempered glass substrate 10, and handling in the sensor forming process becomes difficult. Further, the larger the internal residual tensile stress CT, the more difficult the cutting itself. Therefore, the internal residual tensile stress CT is preferably 35 MPa or less. Further, the internal residual tensile stress CT is more preferably 30 MPa or less, still more preferably 20 MPa or less.

次に、図8を参照して、本実施形態に係る強化ガラス基板の製造方法について説明する。図8は、本実施形態に係る強化ガラス基板の製造方法について説明するためのフローチャートである。図8には、実線で示された強化ガラス基板の製造フロー(ステップS1〜S3)に加え、破線で示されたその後のフロー(ステップS4〜S8)についても併せて記載されている。また、図8には、製造フローとともに各工程におけるガラス基板サイズも併せて示されている。なお、ガラス基板サイズは目安であるため、このサイズの基板での実施に限定される訳ではない。   Next, with reference to FIG. 8, the manufacturing method of the tempered glass substrate which concerns on this embodiment is demonstrated. FIG. 8 is a flowchart for explaining a method for manufacturing a tempered glass substrate according to this embodiment. In FIG. 8, in addition to the manufacturing flow (steps S1 to S3) of the tempered glass substrate indicated by the solid line, the subsequent flow (steps S4 to S8) indicated by the broken line is also described. FIG. 8 also shows the glass substrate size in each step together with the manufacturing flow. In addition, since the glass substrate size is a standard, it is not necessarily limited to implementation with a substrate of this size.

まず、図8に示すように、端面が面取加工された短辺が1000mm以上の大型ガラス基板を化学強化する(ステップS1)。大型ガラス基板としては、いわゆるG6サイズ(長辺1850mm×短辺1500mm)と呼ばれる矩形状のものを用いることができる。本発明は、短辺が1000mm以上の大型ガラス基板に好適であるため、大型ガラス基板としては、G5サイズ(長辺1200mm×短辺1000mm)のものを用いてもよい。もちろん、短辺が1000mm以上の大型ガラス基板であれば、G5、G6以外のサイズであってもよい。   First, as shown in FIG. 8, a large glass substrate having a short side whose end face is chamfered and whose short side is 1000 mm or more is chemically strengthened (step S1). As a large glass substrate, a so-called G6 size (long side: 1850 mm × short side: 1500 mm) having a rectangular shape can be used. Since the present invention is suitable for a large glass substrate having a short side of 1000 mm or more, a large glass substrate having a G5 size (long side 1200 mm × short side 1000 mm) may be used. Of course, as long as it is a large glass substrate having a short side of 1000 mm or more, it may be a size other than G5 and G6.

次に、化学強化された大型ガラス基板を切断し、複数の中型ガラス基板へ分割する(ステップS2)。中型ガラス基板としては、いわゆるG1サイズ(長辺400mm×短辺300mm)、G2サイズ(長辺470mm×短辺370mm)、G3サイズ(長辺650mm×短辺550mm)、G4サイズ(長辺880mm×短辺680mm)を挙げることができる。これらのサイズは、センサ形成工程における装置上の制約によるものである。中型ガラス基板は、長辺が1000mm未満の矩形状のガラス基板であって、カバーガラス一体型タッチパネルを複数形成可能であれば、上記サイズ以外であってもよい。なお、ステップS2の前に化学強化された大型ガラス基板の端面を検査してもよい。   Next, the chemically strengthened large glass substrate is cut and divided into a plurality of medium-sized glass substrates (step S2). As medium-sized glass substrates, so-called G1 size (long side 400 mm × short side 300 mm), G2 size (long side 470 mm × short side 370 mm), G3 size (long side 650 mm × short side 550 mm), G4 size (long side 880 mm × Short side of 680 mm). These sizes are due to device limitations in the sensor formation process. The medium size glass substrate is a rectangular glass substrate having a long side of less than 1000 mm, and may have a size other than the above as long as a plurality of cover glass integrated touch panels can be formed. In addition, you may test | inspect the end surface of the large sized glass substrate chemically strengthened before step S2.

化学強化された大型ガラス基板の切断方法としては、例えばカッタホイールにより大型ガラス基板上にスクライブ線を導入して折り割りする方法や、大型ガラス基板にレーザ光を照射することより切断する方法などを用いることができる。   As a method for cutting a chemically strengthened large glass substrate, for example, a method of introducing a scribe line on a large glass substrate with a cutter wheel and breaking it, a method of cutting by irradiating a laser beam on the large glass substrate, etc. Can be used.

次に、強化ガラス基板10の端面を面取加工する(ステップS3)。この面取加工では、強化ガラス基板10の端面全体を研削しても良い。本実施形態の強化ガラス基板は、C面取り後、ブラシによる研磨等を用いて曲面部と直線部とを組み合わせた形状に加工しても良いし、複数の砥石を組み合わせて研磨し、曲面部と直線部とを組み合わせた形状に加工しても良い。   Next, the end surface of the tempered glass substrate 10 is chamfered (step S3). In this chamfering process, the entire end surface of the tempered glass substrate 10 may be ground. The tempered glass substrate of this embodiment may be processed into a combination of a curved surface portion and a straight portion using C brushing or the like after polishing with a brush, or a combination of a plurality of grindstones to polish the curved surface portion. You may process into the shape which combined the linear part.

以下に、製造された強化ガラス基板10にセンサを形成するセンサ形成工程について説明する。
まず、強化ガラス基板上にブラックマトリクス膜などの遮光膜を印刷形成する(ステップS4)。
次に、スパッタリング法により、強化ガラス基板上に透明導電膜(例えばITO膜)からなる配線を形成する(ステップS5)。続けて、スパッタリング法により、強化ガラス基板上に金属配線を形成する(ステップS6)。以上により、強化ガラス基板上にタッチセンサが形成される。
Below, the sensor formation process which forms a sensor in the manufactured tempered glass board | substrate 10 is demonstrated.
First, a light shielding film such as a black matrix film is printed on a tempered glass substrate (step S4).
Next, the wiring which consists of a transparent conductive film (for example, ITO film | membrane) is formed on a tempered glass board | substrate by sputtering method (step S5). Subsequently, metal wiring is formed on the tempered glass substrate by sputtering (step S6). Thus, the touch sensor is formed on the tempered glass substrate.

その後、タッチセンサが形成された強化ガラス基板を、製品形状まで切断し(ステップS7)、各製品形状のガラス基板の端面を面取加工する(ステップS8)。
以上により、カバーガラス一体型タッチパネルが得られる。
Thereafter, the tempered glass substrate on which the touch sensor is formed is cut to a product shape (step S7), and the end surface of the glass substrate of each product shape is chamfered (step S8).
The cover glass integrated touch panel is obtained as described above.

本実施形態では、強化ガラス基板の端部を曲面部と直線部とを組み合わせた形状に加工しているため、強化ガラス基板にセンサを形成するセンサ形成工程(ステップS4〜S8)における基板のハンドリング時の衝撃強度が高い強化ガラス基板とすることができる。   In this embodiment, since the edge part of the tempered glass substrate is processed into a shape in which the curved surface part and the straight line part are combined, the substrate handling in the sensor forming step (steps S4 to S8) for forming the sensor on the tempered glass substrate. A tempered glass substrate having a high impact strength can be obtained.

なお、本発明は上記の実施形態に限られたものではなく、趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更することが可能である。   Note that the present invention is not limited to the above-described embodiment, and can be modified as appropriate without departing from the spirit of the present invention.

10、20、30 強化ガラス基板
13 表面層
15 裏面層
17 中間層
18 曲面部
19 直線部
31 遮光膜
34a、34b 透明導電膜
35 金属配線
36 有機絶縁層
37 保護層
50 基台
51 超硬ピン
10, 20, 30 Tempered glass substrate 13 Surface layer 15 Back layer 17 Intermediate layer 18 Curved portion 19 Linear portion 31 Light-shielding films 34a and 34b Transparent conductive film 35 Metal wiring 36 Organic insulating layer 37 Protective layer 50 Base 51 Carbide pin

Claims (1)

圧縮応力が残留する領域を有する表裏の主面と、前記表裏の主面間に位置し、圧縮応力が残留する領域および引張応力が残留する領域を有する端面とを有する強化ガラス基板であって、
前記引張応力が残留する領域は所定の曲率半径を有する第一の曲面部と第二の曲面部を有し、
前記第一及び第二の曲面部の間に、前記所定の曲率半径よりも大きく、かつ1.7mm以上の曲率半径を有する直線部を有することを特徴とする強化ガラス基板。
A tempered glass substrate having a front and back main surface having a region where compressive stress remains, and an end surface located between the front and back main surfaces and having a region where compressive stress remains and a region where tensile stress remains,
The region where the tensile stress remains has a first curved surface portion and a second curved surface portion having a predetermined radius of curvature,
A tempered glass substrate comprising a linear portion having a radius of curvature greater than the predetermined radius of curvature and not less than 1.7 mm between the first and second curved surface portions.
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