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JP2015011491A - Input device and manufacturing method therefor - Google Patents

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JP2015011491A
JP2015011491A JP2013135946A JP2013135946A JP2015011491A JP 2015011491 A JP2015011491 A JP 2015011491A JP 2013135946 A JP2013135946 A JP 2013135946A JP 2013135946 A JP2013135946 A JP 2013135946A JP 2015011491 A JP2015011491 A JP 2015011491A
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JP
Japan
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conductor layer
lead
input device
layer
wiring
Prior art date
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Application number
JP2013135946A
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Japanese (ja)
Inventor
橋田 淳二
Junji Hashida
淳二 橋田
融 澤田
Toru Sawada
融 澤田
定雄 北野
Sadao Kitano
定雄 北野
厚志 松田
Atsushi Matsuda
厚志 松田
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Alps Alpine Co Ltd
Original Assignee
Alps Electric Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an input device capable of realizing the narrowing down of a frame and also capable of improving the effect of shielding by a conductor layer.SOLUTION: An input device 10 according to the present invention has a base substance 30, an electrode 31 provided on the base substance 30, a leader wiring 36 connected to the electrode 31, and a conductor layer 50, the input device 10 being characterized in that the leader wiring 36 and the conductor layer 50 are arranged on the same surface of the base substance 30 adjacent to each other with a space therebetween, and the thickness of the conductor layer 50 is greater than the thickness of the leader wiring 36.

Description

本発明は、入力位置情報を検出する入力装置及びその製造方法に関し、特に、導体層が設けられた入力装置及びその製造方法に関する。   The present invention relates to an input device for detecting input position information and a method for manufacturing the same, and more particularly to an input device provided with a conductor layer and a method for manufacturing the same.

スマートフォン、携帯電話機、パーソナルコンピュータ等の電子機器では、表示装置(液晶ディスプレイ等)の表面に、透光型の入力装置が配置されている。特許文献1には、このような入力装置として、導体層を設けることにより外部から侵入する電磁ノイズの影響を受けにくくした入力装置が開示されている。   In electronic devices such as smartphones, mobile phones, and personal computers, a translucent input device is disposed on the surface of a display device (liquid crystal display or the like). Patent Document 1 discloses an input device that is less affected by electromagnetic noise entering from the outside by providing a conductor layer as such an input device.

図9は、特許文献1に記載されている第1の従来例の入力装置について部分拡大断面図を示す。図9に示すように、第1の従来例の入力装置110は、透光性の基材130と、基材130に形成された複数の第1の電極131及び複数の第2の電極(図9では複数の第2の電極同士を接続する連結部134のみを示す)を有して構成される。また、第1の電極131及び複数の第2の電極には引出配線136が接続されており、引出配線136は基材130の非入力領域116に形成されている。   FIG. 9 is a partially enlarged sectional view of the input device of the first conventional example described in Patent Document 1. As shown in FIG. 9, a first conventional input device 110 includes a translucent base material 130, a plurality of first electrodes 131 and a plurality of second electrodes formed on the base material 130 (FIG. 9). 9 shows only a connecting portion 134 for connecting a plurality of second electrodes). In addition, a lead wire 136 is connected to the first electrode 131 and the plurality of second electrodes, and the lead wire 136 is formed in the non-input region 116 of the base material 130.

第1の従来例の入力装置110において、第1の電極131と第2の電極(図示しない)との間に静電容量が形成されている。入力操作の際に、操作者が指などの被検出体を入力装置110の入力領域115に接触させ、または接触させずに近づけたときに、第1の電極131と第2の電極との間の静電容量が変化して、これに基づいて入力位置情報を検出することができる。   In the input device 110 of the first conventional example, a capacitance is formed between the first electrode 131 and the second electrode (not shown). During an input operation, when an operator brings a detected object such as a finger into contact with the input region 115 of the input device 110 or approaches it without bringing it into contact, the first electrode 131 and the second electrode Based on this, the input position information can be detected.

検出された入力位置情報は、引出配線136を通して外部回路(図示しない)へと伝達されるため、外部から電磁ノイズが侵入して引出配線136に重畳すると、入力位置情報と混同して誤検出や誤動作が発生する。図9に示すように、第1の従来例の入力装置110において、導体層150が層間絶縁層135を介して引出配線136と重なって配置されている。これにより、入力操作側の外部から侵入する電磁ノイズを遮蔽することができる。   Since the detected input position information is transmitted to an external circuit (not shown) through the lead wiring 136, if electromagnetic noise enters from outside and superimposes on the lead wiring 136, it is confused with the input position information, A malfunction occurs. As shown in FIG. 9, in the input device 110 of the first conventional example, the conductor layer 150 is disposed so as to overlap the lead-out wiring 136 via the interlayer insulating layer 135. Thereby, the electromagnetic noise which invades from the outside of the input operation side can be shielded.

特開2011−028535号公報JP 2011-028535 A 特表2012−530992号公報Special table 2012-530992 gazette

図9に示すように、導体層150は、層間絶縁層135を介して引出配線136と重なる位置に形成されるとともに、層間絶縁層135の上面135aから側面135b及び基材130の表面にわたって連続して形成されている。そして、導体層150は、基材130の表面を引き回されて外部回路(図示しない)に接続される。これにより、導体層150の電位を所定の値に制御することができ、導体層150と引出配線136との間に形成される静電容量を制御できる。   As shown in FIG. 9, the conductor layer 150 is formed at a position overlapping the lead wiring 136 via the interlayer insulating layer 135 and is continuous from the upper surface 135 a to the side surface 135 b and the surface of the base material 130 of the interlayer insulating layer 135. Is formed. The conductor layer 150 is routed around the surface of the substrate 130 and connected to an external circuit (not shown). As a result, the potential of the conductor layer 150 can be controlled to a predetermined value, and the capacitance formed between the conductor layer 150 and the lead-out wiring 136 can be controlled.

しかしながら、図9に示すように、層間絶縁層135は、引出配線136や電極131によって形成された凹凸を覆って設けられるため、層間絶縁層135を形成する際にピンホールが生じる場合がある。ピンホールを通して導体層150と引出配線136とが導通すると、導体層150に侵入したノイズが引出配線136に伝達されてしまい、導体層150の遮蔽効果が得られなくなるという課題が生じる。   However, as shown in FIG. 9, since the interlayer insulating layer 135 is provided to cover the unevenness formed by the lead wiring 136 and the electrode 131, a pinhole may occur when the interlayer insulating layer 135 is formed. When the conductor layer 150 and the lead-out wiring 136 are conducted through the pinhole, the noise that has entered the conductor layer 150 is transmitted to the lead-out wiring 136, which causes a problem that the shielding effect of the conductor layer 150 cannot be obtained.

また、層間絶縁層135の上面135a及び基材130の表面における導体層150の厚さに比べて、層間絶縁層135の側面135bにおける導体層150の厚さは薄く形成されてしまう。そのため、層間絶縁層135と基材130との段差により導体層150の断線が発生する場合がある。断線が生じると導体層150の電位を制御することができず、導体層150と引出配線136との間の静電容量が変動し易くなる。これにより、検出感度の低下や誤検出が発生する場合がある。   Further, the thickness of the conductor layer 150 on the side surface 135b of the interlayer insulating layer 135 is formed thinner than the thickness of the conductor layer 150 on the upper surface 135a of the interlayer insulating layer 135 and the surface of the base material 130. Therefore, the conductor layer 150 may be disconnected due to a step between the interlayer insulating layer 135 and the base material 130. When disconnection occurs, the potential of the conductor layer 150 cannot be controlled, and the capacitance between the conductor layer 150 and the lead-out wiring 136 is likely to fluctuate. As a result, a decrease in detection sensitivity or erroneous detection may occur.

特許文献2には、操作者の指などの接近または位置を検出可能な静電容量式センサについて記載されている。図10は、特許文献2に記載されている第2の従来例の入力装置を示し、図10(a)は電極構成を示す部分拡大平面図であり、図10(b)は、図10(a)のX−X線で切断して矢印方向から見たときの部分拡大断面図である。   Patent Document 2 describes a capacitive sensor capable of detecting the approach or position of an operator's finger or the like. FIG. 10 shows an input device of a second conventional example described in Patent Document 2, FIG. 10 (a) is a partially enlarged plan view showing an electrode configuration, and FIG. 10 (b) is shown in FIG. It is a partial expanded sectional view when it cut | disconnects by the XX line of a) and it looked at from the arrow direction.

図10(a)及び図10(b)に示すように、基材230の一方の面にセンサ電極231、232及び複数の引出配線236が形成されてる。また、センサ電極231、232及び複数の引出配線236が形成された面と同一面に導体層250が形成されており、導体層250と引出配線236とは間隔を設けて配置されている。図10(b)に示すように、入力装置210は、液晶ディスプレイ等の表示装置270に重ねて用いられ、引出配線236及び導体層250は、表示装置270の画像を視認することができない非入力領域216に形成されている。   As shown in FIGS. 10A and 10B, sensor electrodes 231 and 232 and a plurality of lead wires 236 are formed on one surface of the base material 230. In addition, the conductor layer 250 is formed on the same surface as the surface on which the sensor electrodes 231 and 232 and the plurality of lead wires 236 are formed, and the conductor layer 250 and the lead wires 236 are arranged with a space therebetween. As shown in FIG. 10B, the input device 210 is used by being overlapped with a display device 270 such as a liquid crystal display, and the lead-out wiring 236 and the conductor layer 250 are not input so that the image of the display device 270 cannot be visually recognized. A region 216 is formed.

これによれば、導体層250が、引出配線236及びセンサ電極231、232と同一面に形成されているため、第1の従来例の入力装置110における導体層150の断線の問題や、層間絶縁層135のピンホールを通して導体層150と引出配線136とが導通するという不具合は発生しない。   According to this, since the conductor layer 250 is formed on the same surface as the lead-out wiring 236 and the sensor electrodes 231, 232, there is a problem of disconnection of the conductor layer 150 in the input device 110 of the first conventional example, and interlayer insulation. There is no problem that the conductor layer 150 and the lead-out wiring 136 are electrically connected through the pinhole of the layer 135.

しかしながら、図10(b)に示すように、導体層250は引出配線236と同じ厚さで形成され、引出配線236の上方が導体層250によって覆われていない。そのため、外部から侵入する電磁ノイズを遮蔽する効果、又は引出配線136がセンサ電極231、232に及ぼす影響を遮蔽する効果を、導体層250により十分に得ることが困難である。したがって、図10(a)に示すように、引出配線236の幅に対して導体層250を広い幅で形成して遮蔽効果を向上させる必要がある。よって、第2の従来例の入力装置210において、入力装置210の非入力領域216の面積が大きくなり、狭額縁化が困難であるという課題が生じる。   However, as shown in FIG. 10B, the conductor layer 250 is formed with the same thickness as the lead wiring 236, and the upper portion of the lead wiring 236 is not covered with the conductor layer 250. Therefore, it is difficult to sufficiently obtain the effect of shielding the electromagnetic noise entering from the outside or the effect of shielding the influence of the lead wiring 136 on the sensor electrodes 231 and 232 by the conductor layer 250. Therefore, as shown in FIG. 10A, it is necessary to improve the shielding effect by forming the conductor layer 250 wider than the width of the lead wiring 236. Therefore, in the input device 210 of the second conventional example, the area of the non-input region 216 of the input device 210 becomes large, and there is a problem that it is difficult to narrow the frame.

本発明は、上記課題を解決して、狭額縁化を実現すると共に、導体層による遮蔽効果を向上させることが可能な入力装置を提供することを目的とする。   An object of the present invention is to solve the above-described problems and provide an input device capable of realizing a narrow frame and improving a shielding effect by a conductor layer.

本発明の入力装置は、基材と、前記基材に設けられた電極と、前記電極に接続された引出配線と、導体層とを有し、前記引出配線と前記導体層とは、前記基材の同一面上において互いに間隔を有して隣り合って配置されており、前記導体層の厚さは前記引出配線の厚さよりも厚いことを特徴とする。   The input device of the present invention includes a base material, an electrode provided on the base material, a lead wire connected to the electrode, and a conductor layer. The lead wire and the conductor layer include the base The conductor layers are arranged adjacent to each other with a gap on the same surface, and the thickness of the conductor layer is larger than the thickness of the lead-out wiring.

これによれば、引出配線と導体層とは、基材の同一面上において互いに間隔を有して隣り合って配置されている。よって、第1の従来例の入力装置のように層間絶縁層と基材との段差部に導体層が設けられていないため、層間絶縁層と基材との段差部における導体層の断線が生じない。また、導体層が層間絶縁層を介して引出配線に重なって設けられていないため、絶縁層のピンホールを介して引出配線と導体層とが導通することを防止できる。   According to this, the lead-out wiring and the conductor layer are arranged adjacent to each other with an interval on the same surface of the base material. Therefore, since the conductor layer is not provided at the step portion between the interlayer insulating layer and the base material as in the first conventional input device, the conductor layer is disconnected at the step portion between the interlayer insulating layer and the base material. Absent. In addition, since the conductor layer is not provided so as to overlap the lead wiring via the interlayer insulating layer, the lead wiring and the conductor layer can be prevented from conducting through the pin hole of the insulating layer.

引出配線と導体層とは基材の同一面上において互いに間隔を有して隣り合って配置されているため、引出配線の側方から侵入する電磁ノイズが遮蔽される。そして、導体層の厚さは引出配線の厚さよりも厚いため、引出配線よりも厚く形成された部分の導体層によって、引出配線の上方斜め方向から侵入する電磁ノイズを効果的に遮蔽することができる。よって、導体層の平面積を大きくすることなく導体層の遮蔽効果を向上させることができ、入力装置の狭額縁化を実現することができる。   Since the lead-out wiring and the conductor layer are arranged adjacent to each other with a space on the same surface of the substrate, electromagnetic noise entering from the side of the lead-out wiring is shielded. And since the thickness of the conductor layer is thicker than the thickness of the lead-out wiring, the electromagnetic noise entering from the oblique direction above the lead-out wiring can be effectively shielded by the portion of the conductor layer formed thicker than the lead-out wiring. it can. Therefore, the shielding effect of the conductor layer can be improved without increasing the plane area of the conductor layer, and a narrow frame of the input device can be realized.

したがって、本発明の入力装置によれば、狭額縁化を実現すると共に、導体層による遮蔽効果を向上させることが可能である。   Therefore, according to the input device of the present invention, it is possible to realize a narrow frame and improve the shielding effect by the conductor layer.

本発明の入力装置において、前記導体層は、第1の導体層と第2の導体層との積層構造を有しており、前記第1の導体層は前記引出配線と同じ厚さを有して前記基材に設けられ、前記第2の導体層は前記第1の導体層の上に設けられていることが好適である。これによれば、第2の導体層を嵩上げ層として設けることで、導体層の厚さを確実に厚く形成することができ、外部から侵入する電磁ノイズを第2の導体層によって遮蔽することができる。   In the input device of the present invention, the conductor layer has a laminated structure of a first conductor layer and a second conductor layer, and the first conductor layer has the same thickness as the lead-out wiring. It is preferable that the second conductive layer is provided on the base material, and the second conductive layer is provided on the first conductive layer. According to this, by providing the second conductor layer as a raised layer, the thickness of the conductor layer can be reliably increased, and electromagnetic noise entering from the outside can be shielded by the second conductor layer. it can.

本発明の入力装置において、前記引出配線は、前記電極と同じ材料からなる下地層と、前記下地層の上に積層された金属層とを有し、前記第1の導体層は前記引出配線と同じ積層構造を有することが好ましい。これによれば、第1の導体層を引出配線と同一の工程で形成することができ、製造コストを低減できる。   In the input device according to the aspect of the invention, the lead-out wiring includes a base layer made of the same material as the electrode, and a metal layer laminated on the base layer, and the first conductor layer includes the lead-out wiring. It is preferable to have the same laminated structure. According to this, a 1st conductor layer can be formed in the same process as extraction wiring, and manufacturing cost can be reduced.

本発明の入力装置において、前記電極は前記基材の入力領域に配置され、前記引出配線は前記入力領域の外側の非入力領域に複数配置されており、前記導体層は、前記複数の引出配線よりも外側の前記非入力領域に配置されていることが好適である。これによれば、入力装置の側方から侵入する電磁ノイズを効果的に遮蔽できる。   In the input device of the present invention, the electrode is disposed in the input region of the base material, a plurality of the lead wires are disposed in a non-input region outside the input region, and the conductor layer is formed of the plurality of lead wires. It is preferable to arrange in the non-input area outside. According to this, the electromagnetic noise which invades from the side of the input device can be effectively shielded.

本発明の入力装置において、複数の前記引出配線は、互いに間隔を有して隣り合って配置されており、前記導体層は、隣り合う前記引出配線同士の間に配置されていることが好適である。これによれば、導体層によって、隣り合う引出配線間の電磁ノイズを遮蔽して、引出配線同士の干渉による誤動作や誤検出することを防止できる。また、導体層を所定の電位に制御することにより、引出配線と導体層との間に形成される静電容量を所定の値に制御することができる。よって、引出配線間、または引出配線と被検出体(例えば指など)との間の静電容量変化に起因する誤動作や誤検出を防止することができる。   In the input device according to the aspect of the invention, it is preferable that the plurality of lead wires are arranged adjacent to each other with a space therebetween, and the conductor layer is arranged between the lead wires adjacent to each other. is there. According to this, electromagnetic noise between adjacent lead wires can be shielded by the conductor layer, and malfunctions and erroneous detection due to interference between the lead wires can be prevented. Further, by controlling the conductor layer to a predetermined potential, the capacitance formed between the lead-out wiring and the conductor layer can be controlled to a predetermined value. Therefore, it is possible to prevent malfunction or erroneous detection due to a capacitance change between the lead wires or between the lead wires and the detection target (for example, a finger).

本発明の入力装置において、前記導体層は、前記複数の引出配線と前記電極との間に配置されていることが好適である。これによれば、引出配線と前記電極との間が導体層により遮蔽されるため、引出配線を伝達される信号の影響によって入力領域の電極間の静電容量が変化することを防止して、誤動作や誤検出を防止することができる。   In the input device according to the aspect of the invention, it is preferable that the conductor layer is disposed between the plurality of lead wires and the electrode. According to this, since the space between the lead wire and the electrode is shielded by the conductor layer, the capacitance between the electrodes in the input region is prevented from changing due to the influence of the signal transmitted through the lead wire, It is possible to prevent malfunctions and detection errors.

本発明の入力装置の製造方法は、基材と、前記基材に設けられた電極と、前記電極に接続された引出配線と、導体層とを有する入力装置の製造方法であって、前記基材の同一面上に、前記引出配線及び第1の導体層を互いに間隔を設けて隣り合って形成する工程と、前記第1の導体層の上に第2の導体層を設けて、前記第1の導体層と前記第2の導体層からなる前記導体層を形成する工程とを有し、前記導体層の厚さを前記引出配線の厚さよりも厚く形成することを特徴とする。これによれば、第1の導体層と引出配線とを同一の工程で形成することができ、製造コストを低減できる。また、第1の導体層の上に第2の導体層を設けることで、引出配線よりも導体層を厚く形成することができ、導体層の平面積を大きくすることなく、外部から侵入する電磁ノイズに対する遮蔽効果を向上させることができる。   A method for manufacturing an input device according to the present invention is a method for manufacturing an input device having a base material, an electrode provided on the base material, a lead-out wiring connected to the electrode, and a conductor layer. Forming the lead-out wiring and the first conductor layer adjacent to each other on the same surface of the material, and providing a second conductor layer on the first conductor layer; Forming a conductor layer comprising one conductor layer and the second conductor layer, wherein the conductor layer is formed thicker than the lead wiring. According to this, the first conductor layer and the lead wiring can be formed in the same process, and the manufacturing cost can be reduced. Further, by providing the second conductor layer on the first conductor layer, the conductor layer can be formed thicker than the lead-out wiring, and the electromagnetic waves entering from the outside can be obtained without increasing the plane area of the conductor layer. The shielding effect against noise can be improved.

本発明の入力装置及び製造方法によれば、狭額縁化を実現すると共に、導体層による遮蔽効果を向上させることが可能である。   According to the input device and the manufacturing method of the present invention, it is possible to realize a narrow frame and improve the shielding effect by the conductor layer.

本発明の実施形態における入力装置の分解斜視図である。It is a disassembled perspective view of the input device in the embodiment of the present invention. 本実施形態の入力装置の平面図である。It is a top view of the input device of this embodiment. 図2のIII−III線で切断して矢印方向から見たときの断面図である。It is sectional drawing when it cut | disconnects by the III-III line | wire of FIG. 本実施形態の入力装置を構成する、導体層及び引出配線を拡大して示す部分拡大平面図である。It is a partial enlarged plan view which expands and shows a conductor layer and extraction wiring which constitute an input device of this embodiment. 図4のV−V線で切断して矢印方向から見たときの部分拡大断面図である。It is a partial expanded sectional view when it cut | disconnects by the VV line | wire of FIG. 4, and it sees from the arrow direction. 本実施形態の第1の変形例を示す部分拡大断面図である。It is a partial expanded sectional view which shows the 1st modification of this embodiment. 本実施形態の第2の変形例を示す部分拡大断面図である。It is a partial expanded sectional view which shows the 2nd modification of this embodiment. 本発明の入力装置の製造方法を説明するための工程図である。It is process drawing for demonstrating the manufacturing method of the input device of this invention. 第1の従来例の入力装置を示す部分拡大断面図である。It is a partial expanded sectional view which shows the input device of the 1st prior art example. (a)第2の従来例の入力装置における部分拡大断面図、及び(b)図10(a)のX−X線で切断して矢印方向から見たときの部分拡大断面図である。(A) The partial expanded sectional view in the input device of the 2nd prior art example, (b) It is a partially expanded sectional view when cut | disconnected by the XX line of Fig.10 (a) and seeing from the arrow direction.

以下、本発明の具体的な実施形態について、図面を参照しながら説明する。なお、各図面の寸法は適宜変更して示している。   Hereinafter, specific embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In addition, the dimension of each drawing is changed and shown suitably.

<入力装置>
図1は、本実施形態の入力装置を示す分解斜視図である。図1に示すように、本実施形態の入力装置10は、基材30と表面パネル21とを有して構成され、基材30と表面パネル21とは粘着層24を介して貼り合わされる。基材30は入力位置を検出可能なフィルムセンサであり、表面パネル21は基材30の入力操作側(図1のZ1方向)に配置される。操作者は、表面パネル21の入力面21aに指などの被検出体を接触させて、または、接触させずに近づけた状態で入力操作を行うことができる。
<Input device>
FIG. 1 is an exploded perspective view showing the input device of the present embodiment. As shown in FIG. 1, the input device 10 of this embodiment includes a base material 30 and a surface panel 21, and the base material 30 and the surface panel 21 are bonded together via an adhesive layer 24. The base material 30 is a film sensor capable of detecting an input position, and the front panel 21 is disposed on the input operation side (Z1 direction in FIG. 1) of the base material 30. The operator can perform an input operation in a state in which a detection target such as a finger is brought into contact with the input surface 21a of the front panel 21 or close to the input surface 21a.

表面パネル21は、透光性のガラス材料又は樹脂材料を用いて平板状に形成されている。図1に示すように、表面パネル21の裏面(図1のZ2方向の面)には着色された加飾層22が設けられており、加飾層22は表面パネル21の外周部において枠状に設けられている。加飾層22によって区分けされて加飾層22に囲まれた領域が、入力操作を行う入力領域15である。また、入力領域15の外側の加飾層22と重なる領域が非入力領域16である。   The front panel 21 is formed in a flat plate shape using a translucent glass material or a resin material. As shown in FIG. 1, a colored decorative layer 22 is provided on the back surface (the surface in the Z2 direction of FIG. 1) of the front panel 21, and the decorative layer 22 has a frame shape at the outer peripheral portion of the front panel 21. Is provided. An area divided by the decoration layer 22 and surrounded by the decoration layer 22 is an input area 15 for performing an input operation. Further, a region that overlaps the decoration layer 22 outside the input region 15 is a non-input region 16.

なお、表面パネル21は図1に示すような平板状に限定されず、曲面を有する立体的な表面形状を有するものでもよく、または、電子機器の筐体の一部を表面パネル21としても良い。加飾層22は、表面パネル21に直接形成される構成のほか、加飾層22が設けられた加飾フィルムを別に用意して、これを表面パネル21に貼り合わせても良い。   The front panel 21 is not limited to a flat plate shape as shown in FIG. 1, and may have a three-dimensional surface shape with a curved surface, or a part of the casing of the electronic device may be the front panel 21. . The decorative layer 22 may be prepared directly on the front panel 21, or a separate decorative film provided with the decorative layer 22 may be prepared and bonded to the front panel 21.

図2は本実施形態の入力装置の平面図であり、基材に形成された各電極、引出配線、及び導体層を示す平面図である。また、図3は、図1に示す入力装置を組み立てたときに、図2のIII−III線で切断して矢印方向から見たときの入力装置の断面図を示す。   FIG. 2 is a plan view of the input device of this embodiment, and is a plan view showing each electrode, lead-out wiring, and conductor layer formed on the substrate. FIG. 3 is a cross-sectional view of the input device when the input device shown in FIG. 1 is assembled and cut along the line III-III in FIG.

図2及び図3に示すように、本実施形態の入力装置10は、基材30と、基材30に設けられた第1の電極31及び第2の電極32と、第1の電極31及び第2の電極32に接続された引出配線36とを有している。さらに、基材30には、引出配線36が形成された面と同一面に導体層50が設けられている。   As shown in FIGS. 2 and 3, the input device 10 of this embodiment includes a base material 30, a first electrode 31 and a second electrode 32 provided on the base material 30, a first electrode 31, and And a lead-out wiring 36 connected to the second electrode 32. Further, the base material 30 is provided with a conductor layer 50 on the same surface as the surface on which the lead wirings 36 are formed.

図2に示すように、第1の電極31及び第2の電極32は菱形形状のパッド電極であり、基材30の入力領域15に形成されている。第1の電極31は、X1−X2方向に間隔を設けて配置されており、X1−X2方向に隣り合う第1の電極31同士はブリッジ部33によって接続される。接続された複数の第1の電極31は、X1−X2方向において延在するとともに、Y1−Y2方向において間隔を設けて複数本配列されている。また、第2の電極32はY1−Y2方向において間隔を設けて配列されており、Y1−Y2方向に隣り合う第2の電極32同士は幅細の連結部34によって接続されている。接続された複数の第2の電極32は、Y1−Y2方向において延在するとともに、X1−X2方向において間隔を設けて複数本配列されている。   As shown in FIG. 2, the first electrode 31 and the second electrode 32 are rhombic pad electrodes, and are formed in the input region 15 of the substrate 30. The first electrodes 31 are arranged at intervals in the X1-X2 direction, and the first electrodes 31 adjacent in the X1-X2 direction are connected to each other by a bridge portion 33. The plurality of connected first electrodes 31 extend in the X1-X2 direction, and a plurality of first electrodes 31 are arranged at intervals in the Y1-Y2 direction. The second electrodes 32 are arranged at intervals in the Y1-Y2 direction, and the second electrodes 32 adjacent to each other in the Y1-Y2 direction are connected to each other by a narrow connecting portion 34. The plurality of connected second electrodes 32 extend in the Y1-Y2 direction, and a plurality of second electrodes 32 are arranged at intervals in the X1-X2 direction.

図2に示すように、接続された複数の第1の電極31と、接続された複数の第2の電極32とは、互いに交差して形成されている。また、図3に示すように、連結部34とブリッジ部33とが交差する部分において、連結部34を覆うようにブリッジ部絶縁層35が設けられており、連結部34及びブリッジ部絶縁層35を跨がってブリッジ部33が形成されている。図3に示すように、連結部34をX1−X2方向に挟むように配置された第1の電極31同士はブリッジ部33によって接続されている。   As shown in FIG. 2, the plurality of connected first electrodes 31 and the plurality of connected second electrodes 32 are formed so as to cross each other. Further, as shown in FIG. 3, a bridge portion insulating layer 35 is provided so as to cover the connecting portion 34 at a portion where the connecting portion 34 and the bridge portion 33 intersect, and the connecting portion 34 and the bridge portion insulating layer 35 are provided. A bridge portion 33 is formed across the bridge. As shown in FIG. 3, the first electrodes 31 arranged so as to sandwich the connecting portion 34 in the X1-X2 direction are connected by a bridge portion 33.

図2及び図3に示すように、第1の電極31と第2の電極32とは、互いに絶縁された状態で形成され、第1の電極31と第2の電極32との間で静電容量が形成される。操作者が入力操作を行う際に、表面パネル21表面の入力領域15に指などの被検出体を接触させて、または接触させずに近づけた場合に、第1の電極31と第2の電極32との間の静電容量と、各電極31、32と被検出体との間に形成される静電容量とが結合する。この静電容量変化に基づいて入力位置情報が検出される。なお、入力位置情報を検出するための電極パターンは、図2に示すものに限定されず、例えばブリッジ部33を設けない電極パターンであっても良い。   As shown in FIG. 2 and FIG. 3, the first electrode 31 and the second electrode 32 are formed in a state of being insulated from each other, and are electrostatically connected between the first electrode 31 and the second electrode 32. A capacitance is formed. When the operator performs an input operation, the first electrode 31 and the second electrode are brought into contact with a detection target such as a finger or the like, without touching the input region 15 on the surface of the front panel 21. The electrostatic capacity between the electrodes 32 and 32 and the electrostatic capacity formed between the electrodes 31 and 32 and the detection target are combined. Input position information is detected based on this capacitance change. The electrode pattern for detecting the input position information is not limited to that shown in FIG. 2, and may be an electrode pattern in which the bridge portion 33 is not provided, for example.

また、図2に示すように第1の電極31及び第2の電極32に接続された複数の引出配線36は、基材30の非入力領域16に形成されている。複数の引出配線36は、基材30の非入力領域16を引き回されて、外部回路(図示しない)と接続するための接続端子17に接続される。入力操作の際に検出された入力位置情報の信号は、引出配線36を介して外部回路に伝達される。   As shown in FIG. 2, the plurality of lead wires 36 connected to the first electrode 31 and the second electrode 32 are formed in the non-input region 16 of the base material 30. The plurality of lead wirings 36 are routed through the non-input area 16 of the base material 30 and connected to the connection terminals 17 for connection to an external circuit (not shown). The signal of the input position information detected during the input operation is transmitted to the external circuit via the lead wiring 36.

本実施形態において、基材30は、フィルム状の樹脂材料を用いて形成されており、ポリカーボネート樹脂(PC)、ポリエチレンテレフタレート樹脂(PET)、ポリエチレンナフタレート樹脂(PEN)、環状ポリオレフィン(COP)、ポリメタクリル酸メチル樹脂(PMMA)等の透光性樹脂材料が用いられる。第1の電極31、第2の電極32、及び連結部34は、ITO(Indium Tin Oxide)、SnO、ZnO等の透明導電材料を用いて形成されており、スパッタや蒸着等の薄膜法により形成される。また、ブリッジ部33は、Cu、Ag、Au等の金属材料やCuNi、AgPd等の合金、ITO等の導電性酸化物材料を用いることができる。引出配線36及び接続端子17には、Cu、Ag、Au等の金属材料やITO等の導電性酸化物材料を用いることができる。 In this embodiment, the base material 30 is formed using a film-like resin material, and is made of polycarbonate resin (PC), polyethylene terephthalate resin (PET), polyethylene naphthalate resin (PEN), cyclic polyolefin (COP), A translucent resin material such as polymethyl methacrylate resin (PMMA) is used. The first electrode 31, the second electrode 32, and the connecting portion 34 are formed using a transparent conductive material such as ITO (Indium Tin Oxide), SnO 2 , ZnO, and the like by a thin film method such as sputtering or vapor deposition. It is formed. The bridge portion 33 can be made of a metal material such as Cu, Ag, or Au, an alloy such as CuNi or AgPd, or a conductive oxide material such as ITO. For the lead-out wiring 36 and the connection terminal 17, a metal material such as Cu, Ag, Au, or a conductive oxide material such as ITO can be used.

図2及び図3に示すように、基材30の非入力領域16に複数の導体層50が設けられており、導体層50は引出配線36と間隔を設けて隣り合って配置される。導体層50によって、外部から侵入する電磁ノイズが遮蔽される。また、図2に示すように、引出配線36と同様に、複数の導体層50のそれぞれが接続端子17に接続される。これにより、導体層50が外部回路(図示しない)に接続されて、導体層50の電位が所定の値に制御される。次に、導体層50の詳細な構成について説明する。   As shown in FIGS. 2 and 3, a plurality of conductor layers 50 are provided in the non-input region 16 of the base material 30, and the conductor layers 50 are arranged adjacent to the lead-out wiring 36 with a gap. The conductor layer 50 shields electromagnetic noise entering from the outside. As shown in FIG. 2, each of the plurality of conductor layers 50 is connected to the connection terminal 17 in the same manner as the lead wiring 36. Thereby, the conductor layer 50 is connected to an external circuit (not shown), and the potential of the conductor layer 50 is controlled to a predetermined value. Next, a detailed configuration of the conductor layer 50 will be described.

図4は、本実施形態の入力装置を構成する、導体層及び引出配線を拡大して示す部分拡大平面図である。なお、図4では導体層50に斜線を付して示している。また、図5は、図4のV−V線で切断して矢印方向から見たときの部分拡大断面図である。   FIG. 4 is a partially enlarged plan view showing the conductor layer and the lead wiring constituting the input device of this embodiment in an enlarged manner. In FIG. 4, the conductor layer 50 is indicated by hatching. FIG. 5 is a partially enlarged cross-sectional view taken along the line V-V in FIG. 4 and viewed from the arrow direction.

図4及び図5に示すように、導体層50と引出配線36とは、基材30の同一面に形成されており、導体層50は、引出配線36と間隔を有して隣り合って配置されている。そして、図5に示すように、導体層50の厚さは引出配線36の厚さよりも厚く形成されており、例えば、導体層50は引出配線36の厚さの2倍程度の厚さを有している。   As shown in FIGS. 4 and 5, the conductor layer 50 and the lead wiring 36 are formed on the same surface of the base material 30, and the conductor layer 50 is arranged adjacent to the lead wiring 36 with a space therebetween. Has been. As shown in FIG. 5, the conductor layer 50 is formed thicker than the lead wiring 36. For example, the conductor layer 50 has a thickness about twice that of the lead wiring 36. doing.

図5に示すように、導体層50を設けることにより、引出配線36と導体層50とは基材30の同一面上において互いに間隔を有して隣り合って配置されているため、引出配線36の側方から侵入する電磁ノイズが遮蔽される。また、引出配線36よりも厚く形成された部分の導体層50(第2の導体層52)によって、引出配線36の上方斜め方向から侵入する電磁ノイズを効果的に遮蔽することができる。よって、導体層50の平面積を大きくすることなく導体層50の遮蔽効果を向上させることができ、入力装置10の狭額縁化を実現することができる。   As shown in FIG. 5, by providing the conductor layer 50, the lead-out wiring 36 and the conductor layer 50 are arranged adjacent to each other with a space on the same surface of the base material 30. The electromagnetic noise which invades from the side of is blocked. In addition, electromagnetic noise that enters from the upper oblique direction of the lead wiring 36 can be effectively shielded by the portion of the conductor layer 50 (second conductor layer 52) formed thicker than the lead wiring 36. Therefore, the shielding effect of the conductor layer 50 can be improved without increasing the plane area of the conductor layer 50, and the narrowing of the input device 10 can be realized.

また、図9に示す第1の従来例の入力装置110のように、層間絶縁層135と基材130との段差部に導体層150が設けられていないため、層間絶縁層135と基材130との段差部における導体層150の断線が生じない。また、導体層150が層間絶縁層135を介して引出配線136に重なって設けられていないため、層間絶縁層135のピンホールを介して引出配線136と導体層150とが導通することを防止できる。   Further, unlike the input device 110 of the first conventional example shown in FIG. 9, the conductor layer 150 is not provided at the step portion between the interlayer insulating layer 135 and the base material 130, so that the interlayer insulating layer 135 and the base material 130 are not provided. There is no disconnection of the conductor layer 150 at the step portion. In addition, since the conductor layer 150 is not provided so as to overlap the lead wiring 136 via the interlayer insulating layer 135, it is possible to prevent the lead wiring 136 and the conductor layer 150 from conducting through the pinhole of the interlayer insulating layer 135. .

したがって、本実施形態の入力装置10によれば、狭額縁化を実現すると共に、導体層50による遮蔽効果を向上させることが可能である。   Therefore, according to the input device 10 of the present embodiment, it is possible to realize a narrow frame and improve the shielding effect by the conductor layer 50.

図4に示すように、第1の電極31及び第2の電極32(図4では省略して示す)は基材30の入力領域15に配置され、第1の電極31及び第2の電極32に接続された引出配線36は、入力領域15の外側の非入力領域16に配置されている。図4に示すように、複数の引出配線36は、互いに間隔をもって並行に配置されている。   As shown in FIG. 4, the first electrode 31 and the second electrode 32 (not shown in FIG. 4) are arranged in the input region 15 of the base material 30, and the first electrode 31 and the second electrode 32. The lead-out wiring 36 connected to is arranged in the non-input area 16 outside the input area 15. As shown in FIG. 4, the plurality of lead-out wirings 36 are arranged in parallel at intervals.

そして、図4及び図5に示すように、導体層50についても複数の導体層50a〜50dが設けられている。導体層50aは、複数の引出配線36よりも外側の非入力領域16に配置されており、入力装置10の側方(図4及び図5のX1方向)から入射する電磁ノイズを効果的に遮蔽することができる。   As shown in FIGS. 4 and 5, the conductor layer 50 is also provided with a plurality of conductor layers 50 a to 50 d. The conductor layer 50a is disposed in the non-input area 16 outside the plurality of lead wires 36, and effectively shields electromagnetic noise incident from the side of the input device 10 (X1 direction in FIGS. 4 and 5). can do.

また、図4及び図5に示すように、導体層50b、50cは、隣り合う引出配線36同士の間に配置されている。複数の導体層50b、50cによって、隣り合う引出配線36間の電磁ノイズを遮蔽して、引出配線36同士の干渉による誤動作や誤検出することを防止できる。   Further, as shown in FIGS. 4 and 5, the conductor layers 50 b and 50 c are disposed between the adjacent lead wires 36. The plurality of conductor layers 50b and 50c can shield electromagnetic noise between the adjacent lead wires 36, thereby preventing malfunctions and erroneous detection due to interference between the lead wires 36.

図4に示すように、導体層50b〜50dは、第1の電極31と引出配線36との間の非入力領域16に形成され、また、図4には図示しないが、第2の電極32と引出配線36との間の非入力領域16にも導体層50が形成されている。これによれば、引出配線36と各電極31、32との間が導体層50により遮蔽されるため、引出配線36を伝達する信号の影響によって入力領域15における各電極31、32間の静電容量が変化することを防止して、誤動作や誤検出を防止することができる。   As shown in FIG. 4, the conductor layers 50 b to 50 d are formed in the non-input region 16 between the first electrode 31 and the extraction wiring 36, and the second electrode 32 is not shown in FIG. 4. A conductor layer 50 is also formed in the non-input region 16 between the lead wire 36 and the lead-out wiring 36. According to this, since the space between the lead wire 36 and each electrode 31, 32 is shielded by the conductor layer 50, the electrostatic capacitance between each electrode 31, 32 in the input region 15 due to the influence of the signal transmitted through the lead wire 36. It is possible to prevent malfunction and erroneous detection by preventing the capacitance from changing.

また、図2に示すように、複数の導体層50はそれぞれ接続端子17に接続されており、外部回路(図示しない)に接続される。これにより、導体層50を所定の電位に制御することができ、引出配線36と導体層50との間に形成される静電容量を所定の値に制御することができる。   As shown in FIG. 2, the plurality of conductor layers 50 are connected to the connection terminals 17 and connected to an external circuit (not shown). Thereby, the conductor layer 50 can be controlled to a predetermined potential, and the capacitance formed between the lead-out wiring 36 and the conductor layer 50 can be controlled to a predetermined value.

本実施形態において、図5に示すように、各導体層50a〜50dの厚さが厚く形成されているため、導体層50を引出配線36と同等の厚さに形成する場合に比べて、導体層50と引出配線36との間の実効的な対向面積が大きくなる。よって、引出配線36と導体層50との間の静電容量を所定の値に制御することが容易になり、引出配線36同士の間、または引出配線36と被検出体(例えば指など)との間の静電容量変化による誤動作や誤検出を防止することができる。   In the present embodiment, as shown in FIG. 5, since the thickness of each of the conductor layers 50 a to 50 d is formed thicker, the conductor layer 50 is more conductive than the case where the conductor layer 50 is formed to the same thickness as the lead-out wiring 36. The effective facing area between the layer 50 and the lead wiring 36 is increased. Therefore, it becomes easy to control the electrostatic capacitance between the lead-out wiring 36 and the conductor layer 50 to a predetermined value, and between the lead-out wirings 36 or between the lead-out wiring 36 and the detected object (for example, a finger). It is possible to prevent malfunctions and erroneous detections due to capacitance changes during the period.

図5に示すように、導体層50は、第1の導体層51と第2の導体層52との積層構造を有している。第1の導体層51は引出配線36と同じ厚さを有して基材30に設けられ、第2の導体層52は第1の導体層51の上に設けられている。引出配線36は、第1の電極31及び第2の電極32と同じ材料からなり、第1の電極31または第2の電極32から連続して形成された配線下地層37と、配線下地層37の上に積層された配線金属層38とを有して構成される。また、第1の導体層51は、引出配線36の配線下地層37と同じ材料からなる導体下地層51aと、配線金属層38と同じ材料からなる導体金属層51bとの積層構造を有する。つまり、第1の導体層51は、引出配線36と同じ材料からなり、同じ積層構造を有する。   As shown in FIG. 5, the conductor layer 50 has a laminated structure of a first conductor layer 51 and a second conductor layer 52. The first conductor layer 51 has the same thickness as the lead wiring 36 and is provided on the base material 30, and the second conductor layer 52 is provided on the first conductor layer 51. The lead wiring 36 is made of the same material as the first electrode 31 and the second electrode 32, and a wiring base layer 37 formed continuously from the first electrode 31 or the second electrode 32, and the wiring base layer 37. And a wiring metal layer 38 laminated thereon. The first conductor layer 51 has a laminated structure of a conductor base layer 51 a made of the same material as the wiring base layer 37 of the lead-out wiring 36 and a conductor metal layer 51 b made of the same material as the wiring metal layer 38. That is, the first conductor layer 51 is made of the same material as the lead wiring 36 and has the same laminated structure.

これによれば、第1の導体層51を引出配線36と同一工程で形成することができ、製造コストを低減できる。また、第2の導体層52を嵩上げ層として設けることで、導体層50の厚さを確実に厚く形成することができ、引出配線36の上方斜め方向から侵入する電磁ノイズを第2の導体層52によって遮蔽することができる。本実施形態において、第2の導体層52を、第1の導体層51と同等の厚さ以上に形成することにより電磁ノイズを効果的に遮蔽することができる。   According to this, the 1st conductor layer 51 can be formed in the same process as the lead-out wiring 36, and manufacturing cost can be reduced. Further, by providing the second conductor layer 52 as a raised layer, the thickness of the conductor layer 50 can be surely increased, and electromagnetic noise that enters from the oblique direction above the lead-out wiring 36 is prevented from being generated by the second conductor layer. It can be shielded by 52. In the present embodiment, electromagnetic noise can be effectively shielded by forming the second conductor layer 52 with a thickness equal to or greater than that of the first conductor layer 51.

本実施形態において、配線下地層37及び導体下地層51aには、ITO等の透明導電材料が用いられる。また、配線金属層38、導体金属層51b及び第2の導体層52には、Cu、Ag、Au等の金属材料や、CuNi、AgPd等の合金材料のいずれかを用いることができる。また、異なる材料を用いて複数層を積層することも可能である。   In the present embodiment, a transparent conductive material such as ITO is used for the wiring base layer 37 and the conductor base layer 51a. The wiring metal layer 38, the conductor metal layer 51b, and the second conductor layer 52 can be made of a metal material such as Cu, Ag, or Au, or an alloy material such as CuNi or AgPd. It is also possible to stack a plurality of layers using different materials.

図6は、本実施形態の入力装置の第1の変形例を示す部分拡大断面図である。本変形例の入力装置11において、導体層50が単層で形成されている点が異なっている。本変形例によれば、導体層50について、第1の電極31、第2の電極32(図示しない)、及び引出配線36とは別工程で形成することができる。よって、例えば、引出配線36等を薄膜工程およびフォトリソグラフィ法で形成した後に、インクジェット印刷などの印刷法により形成することができる。印刷法で形成することにより、導体層50を薄膜法により形成した場合に比べ、厚く形成することが容易であり、例えば1μm〜10μm程度の厚さに形成することができる。   FIG. 6 is a partial enlarged cross-sectional view showing a first modification of the input device of this embodiment. The input device 11 of this modification is different in that the conductor layer 50 is formed as a single layer. According to this modification, the conductor layer 50 can be formed in a separate process from the first electrode 31, the second electrode 32 (not shown), and the lead-out wiring 36. Therefore, for example, after the lead wiring 36 and the like are formed by a thin film process and a photolithography method, they can be formed by a printing method such as inkjet printing. By forming by the printing method, it is easier to form the conductor layer 50 thicker than when the conductor layer 50 is formed by the thin film method. For example, the conductor layer 50 can be formed to a thickness of about 1 μm to 10 μm.

図7は、本実施形態の入力装置の第2の変形例を示す部分拡大断面図である。本変形例の入力装置12において、引出配線36が配線絶縁層39に覆われて形成されていることが好適である。本変形例において、隣り合う配線絶縁層39同士の間を充填して導体層50b、50cが設けられている。こうすれば、配線絶縁層39によって、引出配線36と導体層50との間の電気的絶縁が確保され、また、引出配線36を外部の環境から保護することが可能である。配線絶縁層39を設けた場合であっても、引出配線36に重なる位置に、導体層50が設けられていないため、引出配線36と導体層50との絶縁を確保することができる。また、配線絶縁層39の間を充填するように導体層50を形成することにより、導体層50を厚く形成することが容易である。   FIG. 7 is a partially enlarged cross-sectional view showing a second modification of the input device of this embodiment. In the input device 12 of this modification, it is preferable that the lead wiring 36 is formed so as to be covered with the wiring insulating layer 39. In this modification, conductor layers 50b and 50c are provided so as to fill between adjacent wiring insulating layers 39. In this way, the wiring insulation layer 39 ensures electrical insulation between the lead-out wiring 36 and the conductor layer 50, and the lead-out wiring 36 can be protected from the external environment. Even when the wiring insulating layer 39 is provided, since the conductor layer 50 is not provided at a position overlapping the lead wiring 36, insulation between the lead wiring 36 and the conductor layer 50 can be ensured. Further, by forming the conductor layer 50 so as to fill the space between the wiring insulating layers 39, it is easy to form the conductor layer 50 thick.

<入力装置の製造方法>
図8は、本発明の入力装置の製造方法を説明するための工程図である。図8(a)〜図8(e)各図は、図5と同じ箇所を示す部分拡大断面図である。図8(a)の工程では、基材30の入力領域15及び非入力領域16に亘って、透明導電層61、第1の金属層62の順に積層する。透明導電層61としてITO等の透明導電材料を用い、第1の金属層62としてCu等の金属材料、またはCuNi等の合金材料を用いて、それぞれ薄膜法により形成される。
<Manufacturing method of input device>
FIG. 8 is a process diagram for explaining the manufacturing method of the input device of the present invention. Each of FIGS. 8A to 8E is a partially enlarged cross-sectional view showing the same portion as FIG. In the process of FIG. 8A, the transparent conductive layer 61 and the first metal layer 62 are laminated in this order over the input region 15 and the non-input region 16 of the base material 30. A transparent conductive material such as ITO is used as the transparent conductive layer 61, and a metal material such as Cu or an alloy material such as CuNi is used as the first metal layer 62, respectively, by a thin film method.

図8(b)の工程では、配線金属層38及び導体金属層51bを残し、それ以外の第1の金属層62をエッチングにより除去する。その後、透明導電層61をエッチングにより除去して、配線下地層37及び導体下地層51aを形成すると同時に、第1の電極31及び第2の電極32(図示しない)を形成する。これにより、引出配線36と第1の導体層51とが同一の工程において形成される。   8B, the wiring metal layer 38 and the conductor metal layer 51b are left, and the other first metal layer 62 is removed by etching. Thereafter, the transparent conductive layer 61 is removed by etching to form the wiring base layer 37 and the conductor base layer 51a, and at the same time, the first electrode 31 and the second electrode 32 (not shown) are formed. Thereby, the lead-out wiring 36 and the first conductor layer 51 are formed in the same process.

次に、図8(c)では、引出配線36を覆い、かつ第1の導体層51は露出するように、配線絶縁層39を形成する。配線絶縁層39には、アクリル樹脂やノボラック樹脂などの樹脂材料を用いることができる。   Next, in FIG. 8C, a wiring insulating layer 39 is formed so as to cover the lead wiring 36 and expose the first conductor layer 51. A resin material such as an acrylic resin or a novolac resin can be used for the wiring insulating layer 39.

そして、図8(d)の工程では、第1の導体層51、引出配線36及び配線絶縁層39等を覆って、第2の金属層63を全体に積層する。その後、図8(e)の工程で、第2の金属層63をエッチングにより除去して第2の導体層52を形成する。これにより、第1の導体層51と第2の導体層52との積層構造を有する導体層50が形成されて、導体層50を引出配線36よりも厚く形成することができる。   8D, the second metal layer 63 is laminated on the entire surface so as to cover the first conductor layer 51, the lead wiring 36, the wiring insulating layer 39, and the like. Thereafter, in the step of FIG. 8E, the second metal layer 63 is removed by etching to form the second conductor layer 52. Thereby, the conductor layer 50 having a laminated structure of the first conductor layer 51 and the second conductor layer 52 is formed, and the conductor layer 50 can be formed thicker than the lead wiring 36.

本実施形態の入力装置13の製造方法によれば、第2の導体層52を第1の導体層51の上に積層して導体層50の厚さを引出配線36よりも厚くすることができる。これにより、非入力領域16の面積の増大を抑制しつつ、第2の導体層52を設けることにより外部から侵入する電磁ノイズに対する遮蔽効果を向上させることができる。   According to the method for manufacturing the input device 13 of the present embodiment, the second conductor layer 52 can be laminated on the first conductor layer 51 so that the thickness of the conductor layer 50 can be made thicker than the lead wiring 36. . Thereby, the shielding effect with respect to the electromagnetic noise which penetrate | invades from the outside can be improved by providing the 2nd conductor layer 52, suppressing the increase in the area of the non-input area | region 16. FIG.

また、本実施形態の入力装置13の製造方法によれば、例えば、引出配線36と導体層50とを別々の工程で形成する工程と比較して、引出配線36よりも厚い部分である第2の導体層52を形成する工程を追加するのみで良く、製造コストの低減が図られる。   Further, according to the method for manufacturing the input device 13 of the present embodiment, for example, the second portion which is thicker than the lead wiring 36 compared to the process of forming the lead wiring 36 and the conductor layer 50 in separate steps. It is only necessary to add a step of forming the conductor layer 52, and the manufacturing cost can be reduced.

10、11、12、13 入力装置
15 入力領域
16 非入力領域
17 接続端子
21 表面パネル
30 基材
31 第1の電極
32 第2の電極
33 ブリッジ部
34 連結部
35 ブリッジ部絶縁層
36 引出配線
37 配線下地層
38 配線金属層
39 配線絶縁層
50、50a〜50d 導体層
51 第1の導体層
51a 導体下地層
51b 導体金属層
52 第2の導体層
61 透明導電層
62 第1の金属層
63 第2の金属層
10, 11, 12, 13 Input device 15 Input region 16 Non-input region 17 Connection terminal 21 Front panel 30 Base material 31 First electrode 32 Second electrode 33 Bridge portion 34 Connecting portion 35 Bridge portion insulating layer 36 Lead wiring 37 Wiring underlayer 38 Wiring metal layer 39 Wiring insulating layer 50, 50a to 50d Conductor layer 51 First conductor layer 51a Conductor underlayer 51b Conductor metal layer 52 Second conductor layer 61 Transparent conductive layer 62 First metal layer 63 First 2 metal layers

Claims (7)

基材と、前記基材に設けられた電極と、前記電極に接続された引出配線と、導体層とを有し、
前記引出配線と前記導体層とは、前記基材の同一面上において互いに間隔を有して隣り合って配置されており、前記導体層の厚さは前記引出配線の厚さよりも厚いことを特徴とする入力装置。
A substrate, an electrode provided on the substrate, a lead-out wiring connected to the electrode, and a conductor layer;
The lead-out wiring and the conductor layer are arranged adjacent to each other with a space on the same surface of the base material, and the thickness of the conductor layer is larger than the thickness of the lead-out wiring. An input device.
前記導体層は、第1の導体層と第2の導体層との積層構造を有しており、前記第1の導体層は前記引出配線と同じ厚さを有して前記基材に設けられ、前記第2の導体層は前記第1の導体層の上に設けられていることを特徴とする請求項1に記載の入力装置。   The conductor layer has a laminated structure of a first conductor layer and a second conductor layer, and the first conductor layer has the same thickness as the lead-out wiring and is provided on the base material. The input device according to claim 1, wherein the second conductor layer is provided on the first conductor layer. 前記引出配線は、前記電極と同じ材料からなる下地層と、前記下地層の上に積層された金属層とを有し、前記第1の導体層は前記引出配線と同じ積層構造を有することを特徴とする請求項2に記載の入力装置。   The lead wiring has a base layer made of the same material as the electrode, and a metal layer stacked on the base layer, and the first conductor layer has the same stacked structure as the lead wiring. The input device according to claim 2, wherein 前記電極は前記基材の入力領域に配置され、前記引出配線は前記入力領域の外側の非入力領域に複数配置されており、
前記導体層は、複数の前記引出配線よりも外側の前記非入力領域に配置されていることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の入力装置。
The electrodes are arranged in the input area of the base material, and a plurality of the lead wires are arranged in a non-input area outside the input area,
4. The input device according to claim 1, wherein the conductor layer is arranged in the non-input region outside a plurality of the lead wires. 5.
複数の前記引出配線は、互いに間隔を有して隣り合って配置されており、前記導体層は、隣り合う前記引出配線同士の間に配置されていることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の入力装置。   The plurality of lead wires are arranged adjacent to each other with a space therebetween, and the conductor layer is arranged between the lead wires adjacent to each other. 5. The input device according to any one of 4. 前記導体層は、前記複数の引出配線と前記電極との間に配置されていることを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の入力装置。   The input device according to claim 1, wherein the conductor layer is disposed between the plurality of lead wires and the electrode. 基材と、前記基材に設けられた電極と、前記電極に接続された引出配線と、導体層とを有する入力装置の製造方法であって、
前記基材の同一面上に、前記引出配線及び第1の導体層を互いに間隔を設けて隣り合って形成する工程と、
前記第1の導体層の上に第2の導体層を設けて、前記第1の導体層と前記第2の導体層からなる前記導体層を形成する工程とを有し、
前記導体層の厚さを前記引出配線の厚さよりも厚く形成することを特徴とする入力装置の製造方法。
A manufacturing method of an input device having a base material, an electrode provided on the base material, a lead-out wiring connected to the electrode, and a conductor layer,
Forming the lead-out wiring and the first conductor layer adjacent to each other on the same surface of the base material with a space therebetween;
Providing a second conductor layer on the first conductor layer to form the conductor layer composed of the first conductor layer and the second conductor layer;
A method of manufacturing an input device, wherein the conductor layer is formed thicker than the lead wiring.
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