JP2014215576A - 赤外線カットフィルター - Google Patents

Abstract

【課題】フィルター面に対して角度を持って入射した光が赤外線カットフィルターを透過してもその光に対する透過特性がなるべくシフトしないような赤外線カットフィルターを提供すること。
【解決手段】透明な基板上に屈折率の異なる２種以上の誘電体膜を交互に積層状に成膜させて構成される赤外線カットフィルターにおいて、一例として高屈折率材料からなる誘電体膜をＴｉＯ₂とし、低屈折率材料からなる誘電体膜はＳｉＯ₂とし、ＴｉＯ₂からなる誘電体膜の平均光学膜厚をｄ_Ｈとし、ＳｉＯ₂からなる誘電体膜の平均光学膜厚をｄ_Ｌとした場合に光学膜厚比ｄ_Ｈ／ｄ_Ｌ＝３〜１９となるように設定し、フィルター面への法線又は垂線を基準とした光の入射角度が０度から３０度に変化した際のＩＲ半値波長のシフト量が２０ｎｍ以下で１３ｎｍ以上となるように設定する。
【選択図】なし

Description

本発明は例えばデジタルスチルカメラ、デジタルビデオカメラ又はスマートフォンのように受光素子を内蔵したデジタル撮像機能を有する撮像装置の光学系に配置される赤外線カットフィルターに関するものである。

従来から、例えばデジタルスチルカメラ、デジタルビデオカメラ又はスマートフォンのように受光素子を内蔵したデジタル撮像機能を有する撮像装置の光学系の受光素子の前面には赤外線カットフィルターが配置される。受光素子（一般には、受光素子の集合体としてのＣＣＤ：Charge Coupled DeviceやＣＭＯＳセンサー）は近赤外線領域の光線に視感度を持つため、物体が実際の見え方と異なる色になってしまうことを防止するためにその物体側前面に赤外線カットフィルターを配置するようにしている。
赤外線カットフィルターに関する先行技術として特許文献１〜３を一例として挙げる。
特開２００５−３３８３９５号公報 特開２００９−１４５７７９号公報 特開２０１３−２９７０８号公報

ところで、撮像装置の光学系には集光のための凸レンズが配設されている。画像は凸レンズを透過してＣＣＤに達するが、その際に特に画像の周囲ほど凸レンズに大きく屈折させられＣＣＤ等に受光されることとなる。この場合にレンズとＣＣＤ等の距離が十分に取れるようであれば大きく屈折することなく設計することができるが、撮像装置によってはこの距離をあまり大きく取ることができない場合がある。例えば厚みの薄いスマートフォンで厚み方向を光軸方向とする場合には比較的ＣＣＤ等に接近した位置に凸レンズを配置せざるを得ない。その他、構造上の制限で凸レンズをＣＣＤ等に接近させざるを得ない場合がある。そのような場合では自ずと画像周囲からの光の屈折量が大きくなってしまう。ここに「屈折量が大きくなる」とは言い換えると、レンズの光軸方向（すなわちＣＣＤ等の面に対する垂線方向）を基準とした画像周囲の光の入射角度が大きくなってしまうことである。
しかしながら、光学薄膜から構成される赤外線カットフィルターでは入射角度によって透過率特性が異なり、入射角度が大きいほど全体として短波側にシフトするという現象が生じることとなる。そのため、従来から特に入射角度が大きくなる領域の色調の変化が問題となっていた。このような赤外線カットフィルターの透過特性のシフトを防止するためには入射角度が小さくなるように凸レンズをＣＣＤ等から離間させなければならず、設計上の大きな制限が生じていた。
そのため、フィルター面に対して角度を持って入射した光が赤外線カットフィルターを透過してもその光に対する透過特性がなるべくシフトしないような赤外線カットフィルターが望まれていた。
本発明は、上記課題を解消するためになされたものであり、その目的はフィルター面に対して角度を持って入射した光が赤外線カットフィルターを透過してもその光に対する透過特性がなるべくシフトしないような赤外線カットフィルターを提供することにある。

上記目的を達成するために、第１の手段として、透明な基板の一方の面あるいは両面に屈折率の異なる２種以上の誘電体膜を交互に積層状に成膜させて構成される赤外線カットフィルターにおいて、可視光から近赤外光への透過率特性の移行領域における半値波長（以下、ＩＲ半値波長とする）を規定するための交互積層部の前記誘電体膜について高屈折率材料からなる前記誘電体膜の平均光学膜厚を低屈折率材料からなる前記誘電体膜の平均光学膜厚よりも厚く構成したことをその要旨とする。
第２の手段として第１の手段に加え、前記高屈折率材料からなる前記誘電体膜の平均光学膜厚をｄ_Ｈとし、低屈折率材料からなる前記誘電体膜の平均光学膜厚をｄ_Ｌとした場合に光学膜厚比ｄ_Ｈ／ｄ_Ｌ＝３〜１９となるように設定したことをその要旨とする。
第３の手段として第１又は第２の手段に加え、ＩＲ半値波長を規定する２種の前記誘電体膜において、前記高屈折率材料からなる前記誘電体膜はＴｉＯ₂、Ｎｂ₂Ｏ₅、Ｔａ₂Ｏ₅、ＺｒＯ₂、ＨｆＯ₂、ＴｉＯ₂-Ｌａ₂Ｏ₃、ＺｒＯ₂-ＴｉＯ₂の群から選ばれる１又は複数の酸化物からなり、低屈折率材料からなる前記誘電体膜はＳｉＯ₂、ＭｇＦ₂の群から選ばれる酸化物又はフッ化物からなることをその要旨とする。
第４の手段として第１又は第２の手段に加え、ＩＲ半値波長を規定する２種の前記誘電体膜において、前記高屈折率材料からなる前記誘電体膜がＴｉＯ₂又はＮｂ₂Ｏ₅であり、低屈折率材料からなる前記誘電体膜はＳｉＯ₂である場合に、フィルター面への法線又は垂線を基準とした光の入射角度が０度から３０度に変化した際のＩＲ半値波長のシフト量が２０ｎｍ以下で１３ｎｍ以上となるように設定したことをその要旨とする。
第５の手段として第１〜４のいずれかの手段に加え、少なくとも６００ｎｍの光の透過率が９０％以上であり７００ｎｍの光の透過率が１０％以下であるように設定したことをその要旨とする。

上記各手段によれば、ＩＲ半値波長を規定するための交互積層部の誘電体膜について高屈折率材料からなる誘電体膜の平均光学膜厚を低屈折率材料からなる前記誘電体膜の平均光学膜厚よりも厚く構成することによって、フィルター面への法線又は垂線を基準として０度よりも大きな角度を持った光が赤外線カットフィルターを透過する際にその光に対する透過特性が短波側へシフトするシフト量を軽減させることが可能となる。
ここに、「高屈折率」と「低屈折率」はあくまでも相対的なものであり、例えば具体的な屈折率が高いことで高屈折率というわけではない。「法線又は垂線」とはフィルター面が平面の場合にはその垂線を基準とするが、フィルター面が曲面を有する場合には法線を基準とする意である。

また、出願人はＩＲ半値波長を規定するための交互積層部の誘電体膜の平均光学膜厚について高屈折率材料からなる誘電体膜を低屈折率材料からなる誘電体膜よりも厚く構成する場合のシフト量と光学膜厚比との関係に着目した。ここで、光学膜厚比は高屈折率材料からなる誘電体膜の平均光学膜厚をｄ_Ｈとし、低屈折率材料からなる誘電体膜の平均光学膜厚をｄ_Ｌとした場合にｄ_Ｈ／ｄ_Ｌ又はｄ_Ｈ：ｄ_Ｌで表される。
この光学膜厚比についてはｄ_Ｈ／ｄ_Ｌ＝３付近までは等比的にシフト量が軽減されていく。但し、３付近から光学膜厚比を大きくしていっても確かにシフト量は軽減されるものの、光学膜厚比を大きくする割にはそれほどシフト量の軽減に貢献しないという知見を得た。
一方で、光学膜厚比を大きくした場合には赤外線カットフィルターとしての機能として求められる性能を得るために交互積層部の積層数を多くしなければならないという知見も得た。
ここに、一般に赤外線カットフィルターとしての機能を十分発現するためには６００ｎｍでの光の透過率が９０％程度であり、７００ｎｍでの光の透過率が１０％程度であることが求められる。これはＩＲ半値波長に対応した範囲であり、ＩＲ半値波長は６５０ｎｍ〜６８０ｎｍの範囲で設定される。より赤外線カットフィルターとしての機能を十分発現するためには６２０ｎｍでの光の透過率が９０％程度であり、７００ｎｍでの光の透過率が１０％程度であることがよい。
光学膜厚比ｄ_Ｈ／ｄ_Ｌを大きくしていくとシフト量の軽減量はそれほどかせげないにも関わらず、交互積層部の積層数を非常に多くしなければこのような赤外線カットフィルターとしての機能が十分発現できなくなってしまう。具体的には光学膜厚比はｄ_Ｈ／ｄ_Ｌ＝１９付近よりも大きいとシフト量の軽減量はほとんど期待できず、一方で積層数は非常に多くなるため光学膜厚比ｄ_Ｈ／ｄ_Ｌをこれ以上とするメリットはない。
従って、シフト量と積層数との関係で最も効率のよい光学膜厚比として少なくとも３以上であり１９以下であることがよい。

ここに、ＩＲ半値波長を規定するための交互積層部は基板に直接成膜されていてもよく、他の誘電体膜や入射媒質に隣接するように成膜されていてもよい。また交互積層部全体のどの位置にあってもよい。本発明に使用される２種の誘電体膜として高屈折率材料からなる誘電体膜はＴｉＯ₂、Ｎｂ₂Ｏ₅、Ｔａ₂Ｏ₅、ＺｒＯ₂、ＨｆＯ₂、ＴｉＯ₂-Ｌａ₂Ｏ₃、ＺｒＯ₂-ＴｉＯ₂の群から選ばれる１又は複数の酸化物からなり、低屈折率材料からなる誘電体膜はＳｉＯ₂、ＭｇＦ₂の群から選ばれる酸化物又はフッ化物からなることがよい。ＩＲ半値波長を規定する２種の前記誘電体膜は他の波長を規定する誘電体膜と同じ酸化物又はフッ化物でもよく、異なる酸化物又はフッ化物でもよい。
また、膜構成としてＩＲ半値波長を規定するための交互積層部は膜全体のどの位置にあってもよい。
本発明の赤外線カットフィルターは蒸着法、イオンアシスト法、イオンプレーティング法、スパッタリング法等の既知の方法で成膜することが可能である。

また、ＩＲ半値波長を規定するための交互積層部として、高屈折率材料からなる誘電体膜がＴｉＯ₂又はＮｂ₂Ｏ₅であり、低屈折率材料からなる前記誘電体膜はＳｉＯ₂である場合において、フィルター面への法線又は垂線を基準とした光の入射角度が０度から３０度に変化した際のＩＲ半値波長のシフト量が２０ｎｍ以下で１３ｎｍ以上となるように設定することがよい。
このような素材ではシフト量が２０ｎｍ付近までは光学膜厚比を大きくしていくと、等比的にシフト量が減少するからであり、２０ｎｍよりシフト量を小さくするために光学膜厚比を大きくすると交互積層部の積層数が多くなってしまう。そのため、２０ｎｍとすることがよい。一方で、１３ｎｍ付近からはシフト量を小さくしようとして光学膜厚比を大きくしても容易にシフト量は減少せず、一方で交互積層部の積層数がきわめて多くなってしまい、成膜作業に支障をきたしてしまう。
つまり、このような素材において、このようなシフト量とすることが、シフト量と光学膜厚比の関係で効率がよいこととなる。

本発明に使用される基材は特に限定されるものではなくガラス素材もプラスチック素材も使用可能である。例えばプラスチック基材であればポリイミド、ポリメチルメタクレート及びその共重合体、ポリカーボネート、ポリジエチレングリコールビスアリルカーボネート（ＣＲ−３９）、セルロースアセテート、ポリオレフィン、ポリアリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリ塩化ビニル、ポリウレタン樹脂、ポリチオウレタン、その他硫黄含有樹脂等あるいはこれらの複合体が一例として挙げられる。基材形状はフィルム状でも板状でも構わない。

上記各請求項に記載の発明によれば、フィルター面に対して角度を持って入射した光が赤外線カットフィルターを透過してもその光に対する透過特性がなるべくシフトしないような赤外線カットフィルターを提供することが可能となる。

１．光学膜厚比とシフト量との関係
まず、光学膜厚比とＩＲ半値波長でのシフト量との関係について表１に基づいて説明する。表１は横軸に高屈折率材料からなる誘電体膜の平均光学膜厚ｄ_Ｈと低屈折率材料からなる誘電体膜の平均光学膜厚ｄ_Ｌの光学膜厚比をとり、縦軸にＩＲ半値波長でのシフト量をとったグラフである。
このグラフでは実際の赤外線カットフィルターではなく高屈折率材料としてＴｉＯ₂を、低屈折率材料としてＳｉＯ₂を使用することを想定し、それらの実際の屈折率を使用してＩＲ半値波長を規定するための交互積層部を４０層と２０層の２種類のパターンのシミュレーションモデルとして設計したものをグラフに示した。そして、各シミュレーションモデルでは光学膜厚比としてｄ_Ｈ：ｄ_Ｌが０．１０：１．９０、０．２５：１．７５、０．５０：１．５０、１．００：１．００、１．５０：０．５０、１．７５：０．２５、１．９０：０．１０となる７種類を設定した。つまり、光学膜厚比においてｄ_Ｈ：ｄ_Ｌ＝１．００：１．００を基準として平均光学膜厚ｄ_Ｈが大きくなる場合と逆に平均光学膜厚ｄ_Ｌが大きくなる場合を横軸にとった。
また、この設計のシミュレーションモデルではフィルター面に対する垂線を基準としてこの角度０度の状態での半値波長が６８０ｎｍであったため、角度３０度の入射角の状態で各光学膜厚比においてどの程度６８０ｎｍからシフトしているかをシミュレーションによって求めた。
このグラフの結果から高屈折率材料からなる誘電体膜の平均光学膜厚ｄ_Ｈが低屈折率材料からなる誘電体膜の平均光学膜厚ｄ_Ｌよりも大きくなるにつれて徐々にＩＲ半値波長でのシフト量は小さくなっていくのが検証できた。また、４０層でも２０層でもその特性に大きな差はないため、シフト量の軽減には膜層の数には依存しないことが検証できた。
また、ｄ_Ｈ：ｄ_Ｌ＝０．５０：１．５０〜１．５０：０．５０の範囲においてはｄ_Ｈ／ｄ_Ｌが大きくなるにつれて等比的にＩＲ半値波長でのシフト量が減少していくが、ｄ_Ｈ：ｄ_Ｌ＝１．５０：０．５（ｄ_Ｈ／ｄ_Ｌ＝３）を境としてＩＲ半値波長でのシフト量の減少率が少なくなっていき、減少はするものの光学膜厚比を大きくしてもそれほどは減少しないことが検証できた。そして、ｄ_Ｈ：ｄ_Ｌ＝ｄ_Ｈ／ｄ_Ｌ＝１９付近から光学膜厚比のシフト量への貢献は非常に少なくなることがわかる。

２．光学膜厚比、ＩＲ半値波長でのシフト量及び膜積層膜数との関係
表２は横軸に波長をとり、縦軸に透過率をとった本発明を説明するための透過特性グラフである。但し、表２も上記表１のシミュレーションモデルと同様に実際の赤外線カットフィルターによる透過特性ではなく高屈折率材料としてＴｉＯ₂を、低屈折率材料としてＳｉＯ₂を想定し、それらの実際の屈折率を使用して交互積層部を４０層と２０層と１６層の３種類のパターンについてシミュレーションモデルを設計し、そのシミュレーションモデルについて透過特性を示している。そのため、可視光から近赤外光にかけての領域以外の特性は実際の赤外線カットフィルターとは異なる。ここでは光学膜厚比としてｄ_Ｈ：ｄ_Ｌ＝１．７５：０．２５に設定した。
また、赤外線カットフィルターとして必要なＩＲカットの条件として６５０ｎｍでの光の透過率を９０％、７００ｎｍでの光の透過率を１０％とした。この条件では４０層と２０層のシミュレーションモデルは赤外線カットフィルターとしての条件を充足するが、１６層のシミュレーションモデルは充足しなかった。

表３は表２と同様に横軸に波長をとり、縦軸に透過率をとった透過特性グラフである。表３も同様に実際の赤外線カットフィルターによる透過特性ではなく高屈折率材料としてＴｉＯ₂を、低屈折率材料としてＳｉＯ₂を想定し、それらの実際の屈折率を使用して交互積層部を４０層と１２層と８層の３種類のパターンについてシミュレーションモデルを設計し、そのシミュレーションモデルの透過特性を示している。表３は本発明に対する比較として光学膜厚比としてｄ_Ｈ：ｄ_Ｌ＝１．００：１．００に設定した。
表２と同様にＩＲカットの条件を設定し検証したところ、４０層と１２層はシミュレーションモデルは赤外線カットフィルターとしての条件を充足するが、８層のシミュレーションモデルは充足しなかった。表２及び表３から本発明のようにｄ_Ｈ／ｄ_Ｌを大きくすると交互積層部の層数を多くしなければ赤外線カットフィルターの条件を充足しない可能性があることがわかった。

表４は光学膜厚比とＩＲカットに必要なＩＲ半値波長を規定するための交互積層部の積層数との関係を示すグラフである。
このグラフでは３種類の異なる高屈折率材料を想定した屈折率で高屈折率材料からなる誘電体膜と、低屈折率材料を想定した屈折率ｎ_Ｌを１．４６とした低屈折率材料からなる誘電体膜とを想定し、それら屈折率を使用して交互積層部を６０層としたパターンについてシミュレーションモデルを設計し、そのシミュレーションモデルについての積層数との関係を示している。高屈折率材料の屈折率の違いは材料の違いを示している。ここではｎ_Ｈ＝２．１５はＺｒＯ₂を、ｎ_Ｈ＝２．２５はＴａ₂Ｏ₅を、ｎ_Ｈ＝２．４はＴｉＯ₂又はＮｂ₂Ｏ₅を想定している。各シミュレーションモデルでは光学膜厚比としてｄ_Ｈ：ｄ_Ｌが０．１０：１．９０、０．２５：１．７５、０．５０：１．５０、１．００：１．００、１．５０：０．５０、１．７５：０．２５、１．９０：０．１０となる７種類を設定した。
また、表５は表４と同じシミュレーションモデルについて表１と同様に光学膜厚比とＩＲ半値波長でのシフト量との関係について示したものである。
これら表４及び表５から演繹できることとして、まず、表４からはどのシミュレーションモデルでも光学膜厚比ｄ_Ｈ／ｄ_Ｌが大きくなるとＩＲ半値波長を規定するための交互積層部の積層数を増やす必要があることが検証できた。一方、表５からどのシミュレーションモデルでも表１と同様にｄ_Ｈ：ｄ_Ｌ＝１．５０：０．５（ｄ_Ｈ／ｄ_Ｌ＝３）を境としてＩＲ半値波長でのシフト量の減少率が少なくなっていき、ｄ_Ｈ：ｄ_Ｌ＝ｄ_Ｈ／ｄ_Ｌ＝１９付近では光学膜厚比のシフト量への貢献は非常に少ないことがわかる。
このことから、材料が変わったとしてもいずれも光学膜厚比ｄ_Ｈ／ｄ_Ｌを大きくすることでＩＲ半値波長でのシフト量の減少に寄与することがわかる。そして、交互積層部の積層数との関係では光学膜厚比ｄ_Ｈ／ｄ_Ｌを大きくするならば積層数もそれに応じて多くする必要があるため、実際に赤外線カットフィルターとして効率がよいのはｄ_Ｈ／ｄ_Ｌ＝３〜１９でより効率がよいのはｄ_Ｈ／ｄ_Ｌ＝３〜７である。

（実施例１）
実施例１の赤外線カットフィルターは基材に一方の面に交互積層部として合計７４層の交互多層膜として構成した。そのうちＩＲ半値波長を規定するための交互積層部は３８層でその膜構成は表６の通りである。表６における膜厚は光学膜厚であって中心波長λ₀＝７００ｎｍでλ₀／４＝１として計算したものである。
実施例１では水晶基材（屈折率1.54（於：波長550nm））の片面に多層膜を真空蒸着法により成膜させた。本実施例では基板温度100℃、真空度8×10^-4Paの雰囲気中にて蒸着を実行した。高屈折率材料としてＴｉＯ₂を使用し、低屈折率材料としてＳｉＯ₂を使用した。
高屈折率材料からなる誘電体膜の平均光学膜厚ｄ_Ｈは１．７８９であり、低屈折率材料からなる誘電体膜の平均光学膜厚ｄ_Ｌは０．２３６である。これらの値を平均値が１となるように重みをつけた値としてそれぞれ１．７６７と０．２３３に調整した。その結果実施例１の光学膜厚比はｄ_Ｈ／ｄ_Ｌ≒７である。
このような実施例１の赤外線カットフィルターの透過特性を表７に示す。表７ではフィルター面に対する垂線に沿った方向（角度０度）から光を入射させた場合の透過特性を実線で示し、フィルター面に対する垂線を基準に３０度の角度で光を入射させた場合の透過特性を破線で示す。角度０度の位置を基準として角度３０度の場合のＩＲ半値波長でのシフト量は１５ｎｍであった。

（比較例１）
比較例１の赤外線カットフィルターは基材に一方の面に交互積層部として合計４７層の交互多層膜として構成した。そのうちＩＲ半値波長を規定するための交互積層部は１４層でその膜構成は表８の通りである。表８における膜厚も光学膜厚であって中心波長λ₀＝７００ｎｍでλ₀／４＝１として計算したものである。比較例１も真空蒸着法で同じ基材を用いて成膜させた。
高屈折率材料からなる誘電体膜の平均光学膜厚ｄ_Ｈは１．１１７であり、低屈折率材料からなる誘電体膜の平均光学膜厚ｄ_Ｌは１．１１３である。これらの値を平均値が１となるように重みをつけた値としてそれぞれ１．００２と０．９９８に調整した。その結果比較例１の光学膜厚比はｄ_Ｈ／ｄ_Ｌ≒１である。
このような比較例１の赤外線カットフィルターの透過特性を表９に示す。表９でも表２と同様にフィルター面に対する垂線に沿った方向（角度０度）から光を入射させた場合の透過特性を実線で示し、フィルター面に対する垂線を基準に３０度の角度で光を入射させた場合の透過特性を破線で示す。角度０度の位置を基準として角度３０度の場合のＩＲ半値波長でのシフト量は３０ｎｍであった。
比較例１と実施例１では角度３０度の場合のＩＲ半値波長でのシフト量は比較例に比べて大幅に改善されている。

＜結果＞
上記実施例１と比較例１を比べると、上記のシミュレーションモデルと同様に実施例１では光学膜厚比を大きくしたことによって実施例１ではＩＲ半値波長でのシフト量は１５ｎｍと比較例１の半分に減少した。但し、実施例１ではＩＲカットの条件を充足するためにＩＲ半値波長を規定するための交互積層部の積層数も比較例１よりも増加しており、結果として全積層数も増加することとなっている。このｄ_Ｈ／ｄ_Ｌ≒７での交互積層部の積層数はＩＲ半値波長でのシフト量の減少効果に対して許容できる範囲の積層数であった。

Claims (5)

1. 透明な基板の一方の面あるいは両面に屈折率の異なる２種以上の誘電体膜を交互に積層状に成膜させて構成される赤外線カットフィルターにおいて、透過率特性の移行領域における半値波長（以下、ＩＲ半値波長とする）を規定するための交互積層部の前記誘電体膜について高屈折率材料からなる前記誘電体膜の平均光学膜厚を低屈折率材料からなる前記誘電体膜の平均光学膜厚よりも厚く構成したことを特徴とする赤外線カットフィルター。
2. 前記高屈折率材料からなる前記誘電体膜の平均光学膜厚をｄ_Ｈとし、低屈折率材料からなる前記誘電体膜の平均光学膜厚をｄ_Ｌとした場合に光学膜厚比ｄ_Ｈ／ｄ_Ｌ＝３〜１９となるように設定したことを特徴とする請求項１に記載の赤外線カットフィルター。
3. ＩＲ半値波長を規定する２種の前記誘電体膜において、前記高屈折率材料からなる前記誘電体膜はＴｉＯ₂、Ｎｂ₂Ｏ₅、Ｔａ₂Ｏ₅、ＺｒＯ₂、ＨｆＯ₂、ＴｉＯ₂-Ｌａ₂Ｏ₃、ＺｒＯ₂-ＴｉＯ₂の群から選ばれる１又は複数の酸化物からなり、低屈折率材料からなる前記誘電体膜はＳｉＯ₂、ＭｇＦ₂の群から選ばれる酸化物又はフッ化物からなることを特徴とする請求項１又は２に記載の赤外線カットフィルター。
4. ＩＲ半値波長を規定する２種の前記誘電体膜において、前記高屈折率材料からなる前記誘電体膜がＴｉＯ₂又はＮｂ₂Ｏ₅であり、低屈折率材料からなる前記誘電体膜はＳｉＯ₂である場合に、フィルター面への法線又は垂線を基準とした光の入射角度が０度から３０度に変化した際のＩＲ半値波長のシフト量が２０ｎｍ以下で１３ｎｍ以上となるように設定したことを特徴とする請求項４に記載の赤外線カットフィルター。
5. 少なくとも６００ｎｍの光の透過率が９０％以上であり７００ｎｍの光の透過率が１０％以下であるように設定したことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の赤外線カットフィルター。