JP2014128877A - Surface processing apparatus and method - Google Patents
Surface processing apparatus and method Download PDFInfo
- Publication number
- JP2014128877A JP2014128877A JP2014040917A JP2014040917A JP2014128877A JP 2014128877 A JP2014128877 A JP 2014128877A JP 2014040917 A JP2014040917 A JP 2014040917A JP 2014040917 A JP2014040917 A JP 2014040917A JP 2014128877 A JP2014128877 A JP 2014128877A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- grindstone
- workpiece
- free abrasive
- surface processing
- abrasive grains
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
- Grinding Of Cylindrical And Plane Surfaces (AREA)
- Grinding-Machine Dressing And Accessory Apparatuses (AREA)
Abstract
Description
本発明は、半導体ウエハなどのワークの表面を加工するための砥石及び表面加工方法に関する。 The present invention relates to a grindstone and a surface processing method for processing the surface of a workpiece such as a semiconductor wafer.
ウエハの製造工程は、切り出されたウエハを所望の厚さまで薄くするための研削工程を施し、その後、所望の面粗さや平面精度を得るためにラッピング工程を施す。ラッピング工程は、定盤上に滴下される遊離砥粒によりワークを研削する。ワークと定盤との間に遊離砥粒を安定的に供給することが研削の必須条件となるため、定盤の回転数を上げすぎると遊離砥粒の飛散などが生じてしまい、回転数を上げることには一定の限界がある。そのため、ラッピング工程は多くの時間が費やされることになりウエハ加工レートの向上において障害となっている。とくに、LED(Light Emitting Diode)を製造するために用いられるサファイアやパワーデバイスの製造に用いられる炭化ケイ素などの高硬度かつ高脆性の材料の加工レート向上に対する要請は、それらの製品の需要増加に伴いより強くなっている。 In the wafer manufacturing process, a grinding process for thinning the cut wafer to a desired thickness is performed, and then a lapping process is performed to obtain a desired surface roughness and planar accuracy. In the lapping process, the workpiece is ground by the free abrasive grains dropped on the surface plate. Since it is an indispensable condition for grinding to stably supply loose abrasive grains between the workpiece and the surface plate, if the rotational speed of the surface plate is increased too much, loose abrasive grains will be scattered and the rotational speed will be reduced. There is a certain limit to raising it. For this reason, the wrapping process takes a lot of time, which is an obstacle in improving the wafer processing rate. In particular, the demand for improving the processing rate of high hardness and brittle materials such as sapphire used for manufacturing LEDs (Light Emitting Diodes) and silicon carbide used for manufacturing power devices is expected to increase the demand for these products. It is getting stronger.
そこで、研削からラッピングまでの工程のうち、ラッピングに要する時間を減らすために、研削工程を粗研削と仕上げ研削との工程に分け、仕上げ研削においてある程度の面粗さを得るための工夫がなされている。これにより、後のラッピング工程に要する時間を減らそうというものである。このような技術として、特許文献1に記載の発明を挙げることができる。 Therefore, in order to reduce the time required for lapping among the processes from grinding to lapping, the grinding process is divided into a rough grinding process and a finishing grinding process, and ingenuity has been made to obtain a certain level of surface roughness in the finish grinding. Yes. This is intended to reduce the time required for the subsequent lapping process. As such a technique, the invention described in Patent Document 1 can be cited.
特許文献1に記載の発明は、ワークに対して砥石による研削を行った後、引き続き同一研削軸上で遊離砥粒による仕上げ研削を行うものである。具体的には、砥石による研削を行う形態で、研削部分に2000番〜8000番という大きな番手の遊離砥粒を供給し、遊離砥粒による研削を行うことで良好な面粗さを得ようとするものである。 In the invention described in Patent Document 1, after grinding a workpiece with a grindstone, finish grinding is subsequently performed with loose abrasive grains on the same grinding shaft. Specifically, in a form in which grinding with a grindstone is performed, an attempt is made to obtain a good surface roughness by supplying free abrasive grains having a large number of 2000 to 8000 to the grinding portion and grinding with free abrasive grains. To do.
ラッピングにおける研削は、供給される遊離砥粒が定盤に突き刺さり保持され、保持された遊離砥粒とワークとの摩擦が生じることで行われる。したがって、引用文献1においては、砥石が遊離砥粒を保持することができなければラッピングと同様の研削を行うことはできない。 Grinding in lapping is performed by causing the supplied loose abrasive grains to be pierced and held on a surface plate and causing friction between the loose abrasive grains being held and the workpiece. Therefore, in Cited Document 1, grinding similar to lapping cannot be performed unless the grindstone can hold loose abrasive grains.
特許文献1の発明は、粗研削から仕上げ研削まで砥石の交換をすることなく連続的に行えることが記載されているように特殊な砥石ではなく通常の砥石を用いるものである。ここで、通常の砥石は砥粒とボンド材とが硬く結合しているため、供給された遊離砥粒を十分に保持することができない。すなわち、通常の砥石を用いる限り、供給される遊離砥粒は研削に資することはできない。 The invention of Patent Document 1 uses a normal whetstone instead of a special whetstone as described that it can be continuously performed from rough grinding to finish grinding without exchanging the whetstone. Here, in a normal grindstone, since the abrasive grains and the bonding material are bonded firmly, the supplied free abrasive grains cannot be sufficiently retained. That is, as long as a normal grindstone is used, the supplied free abrasive grains cannot contribute to grinding.
そこで、上記課題を解決するために本発明において、以下の砥石などを提供する。
すなわち、第一の発明としては、ワークを加工するために加工ホイールに配置される砥石と、ワークを砥石に対して定圧加重する定圧加重部と、遊離砥粒供給部と、遊離砥粒供給部からの遊離砥粒を供給する加工ホイールの砥石が保持される周縁よりも内周側に配置される遊離砥粒供給口と、を有する表面加工装置を提供する。
Therefore, in order to solve the above problems, the present invention provides the following grindstones.
That is, as a first invention, a grindstone disposed on a processing wheel for machining a workpiece, a constant pressure weighting unit that applies a constant pressure to the grindstone, a free abrasive grain supply unit, and a free abrasive grain supply unit A surface processing apparatus having a free abrasive grain supply port disposed on an inner peripheral side of a peripheral edge where a grindstone of a processing wheel for supplying free abrasive grains from the peripheral edge is held.
第二の発明としては、ワークを加工するために加工ホイールに配置される砥石と、ワークを砥石に対して定圧加重する定圧加重部と、遊離砥粒供給部と、遊離砥粒供給部からの遊離砥粒を供給する加工ホイールに隣接して配置される砥石間に配置される遊離砥粒供給口と、を有する表面加工装置を提供する。 As 2nd invention, from the grindstone arranged in a processing wheel in order to process a work, a constant pressure load part which carries out a constant pressure load to a grindstone, a free abrasive supply part, and a free abrasive supply part from There is provided a surface processing apparatus having a free abrasive grain supply port arranged between grindstones arranged adjacent to a processing wheel for supplying free abrasive grains.
第三の発明としては、ワークを加工するために加工ホイールに配置される砥石と、ワークを砥石に対して定圧加重する定圧加重部と、遊離砥粒供給部と、砥石の一部に穴を貫通させ、その穴から遊離砥粒が流出するように構成した遊離砥粒供給部からの遊離砥粒を供給する遊離砥粒供給口を有する表面加工装置を提供する。 As a third aspect of the invention, a grindstone disposed on a machining wheel for machining a workpiece, a constant pressure weighting portion for applying a constant pressure to the grindstone, a free abrasive grain supply portion, and a hole in a part of the grindstone. Provided is a surface processing apparatus having a free abrasive grain supply port for supplying free abrasive grains from a free abrasive grain supply section which is configured to penetrate and free abrasive grains to flow out from the hole.
第四の発明としては、前記砥石の穴の一部に溝を設けた第三の発明に記載の表面加工装置を提供する。 As 4th invention, the surface processing apparatus as described in 3rd invention which provided the groove | channel in a part of hole of the said grindstone is provided.
第五の発明としては、前記溝は、ワークとの相対進行方向に対して略直角に設けられている第四の発明に記載の表面加工装置を提供する。 As 5th invention, the said groove | channel provides the surface processing apparatus as described in 4th invention provided in the substantially right angle with respect to the relative advancing direction with a workpiece | work.
第六の発明としては、遊離砥粒供給部は、タイムスケジュールに従って異なる種類の遊離砥粒を供給するように構成されている第一から第五の発明のいずれか一に記載の表面加工装置を提供する。 As a sixth aspect of the invention, the loose abrasive grain supply unit includes the surface processing apparatus according to any one of the first to fifth aspects of the invention configured to supply different types of loose abrasive grains according to a time schedule. provide.
第七の発明としては、遊離砥粒供給部はワークと砥石の接触中に、この接触領域内で遊離砥粒を流出させるように構成された第一から第六の発明に記載の表面加工装置を提供する。 According to a seventh aspect of the invention, the loose abrasive grain supply unit is configured to cause the loose abrasive grains to flow out in the contact area during the contact between the workpiece and the grindstone. I will provide a.
本発明により、遊離砥粒をしっかりと保持し得る砥石を提供することにより、ラッピングと同様に面粗さに優れる研削を行うことが可能となる。 According to the present invention, by providing a grindstone capable of firmly holding loose abrasive grains, it becomes possible to perform grinding with excellent surface roughness similarly to lapping.
以下、本発明の実施の形態について、添付図面を用いて説明する。なお、本発明は、これら実施形態に何ら限定されるべきものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において、種々なる態様で実施し得る。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. In addition, this invention should not be limited to these embodiments at all, and can be implemented in various modes without departing from the gist thereof.
<実施形態1>
<実施形態1 概要>
<Embodiment 1>
<Summary of Embodiment 1>
本実施形態に係る砥石が用いられる表面加工装置の一例の概念図を図1に示す。この表面加工装置は、「ワーク」(0102)と、このワークを保持する「ワーク保持テーブル」(0101)と、「砥石」(0104)を保持し回転摺動させることにより保持されているワークの表面を加工するための「加工ホイール」(0103)とを備える。ワーク保持テーブルと加工ホイールとが摺動することで効率的に砥石とワークとが接触し表面加工が行われる。なお、本実施形態に係る砥石は遊離砥粒を用いた表面加工に好適なものであるが、遊離砥粒の供給については後述する。 The conceptual diagram of an example of the surface processing apparatus in which the grindstone concerning this embodiment is used is shown in FIG. This surface processing apparatus holds a “work” (0102), a “work holding table” (0101) for holding the work, and a “grinding stone” (0104), and holds the work held by rotating and sliding. “Processing wheel” (0103) for processing the surface. As the work holding table and the processing wheel slide, the grindstone and the work efficiently come into contact with each other and surface processing is performed. In addition, although the grindstone according to the present embodiment is suitable for surface processing using loose abrasive grains, supply of loose abrasive grains will be described later.
図2は、加工ホイールに保持される砥石の態様を例示するための概念図である。図2(a)に示すように、一の「加工ホイール」(0201)に「砥石」(0202)を複数配置するように構成してもよいし、あるいは、図2(b)に示すように、一の「加工ホイール」(0203)に一のリング状の「砥石」(0204)を配置するように構成してもよい。 FIG. 2 is a conceptual diagram for illustrating an aspect of a grindstone held by a processing wheel. As shown in FIG. 2A, a plurality of “grinding stones” (0202) may be arranged on one “processing wheel” (0201), or as shown in FIG. 2B. A ring-shaped “grinding stone” (0204) may be arranged on one “processing wheel” (0203).
図3は、本実施形態に係る砥石の構成を拡大して表した概念図である。「微粒金属体」(0301)の表面には、「高硬度の微粒石」(0302)が突き刺さって配置されている。この高硬度の微粒石がワークを削り砥粒の働きをすることになる。そして、この微粒金属体が「樹脂」(0303)により分散状態で形状維持されている。なお、一般的な砥石と同様に「空洞」(0304)を含んだ状態で形状維持されている。 FIG. 3 is an enlarged conceptual view of the configuration of the grindstone according to the present embodiment. On the surface of the “fine metal body” (0301), “high-hardness fine stone” (0302) is pierced and arranged. This high-hardness fine stone cuts the workpiece and acts as an abrasive. The fine metal body is maintained in a dispersed state by “resin” (0303). The shape is maintained in a state including a “cavity” (0304) as in a general grindstone.
図4は、遊離砥粒を用いて表面加工が行われているときの砥石の態様を拡大して表した概念図である。図4(a)に示すように、「ワーク」(0401)の上に「遊離砥粒」(0405)を含む「スラリー」(0404)が供給されている。そして、砥石に含まれる「微粒金属体」(0402)がワークに接する。微粒金属体の表面には「高硬度の微粒石」(0403)が突き刺さっている。 FIG. 4 is an enlarged conceptual view of a grindstone when surface processing is performed using loose abrasive grains. As shown in FIG. 4A, “slurry” (0404) containing “free abrasive grains” (0405) is supplied on “work” (0401). Then, the “fine metal body” (0402) included in the grindstone contacts the workpiece. The surface of the fine metal body is pierced with “high hardness fine stone” (0403).
ワークの表面加工は、微粒金属体に突き刺さった高硬度の微粒石がワークを削ることで行われる。また、図4(b)に示すように、ワークに突き刺さっていた砥粒が脱落して目こぼれが生じた場合(0406)などには、その後、図4(c)に示すように、遊離砥粒(0405)が微粒金属体に突き刺さる。これにより、遊離砥粒が微粒金属体に保持され固定砥粒化する。また、遊離砥粒はドレッシングの働きをもするため、目づまりが生じにくくなる。 Surface processing of the work is performed by cutting the work with a high-hardness fine stone pierced into the fine metal body. Also, as shown in FIG. 4 (b), when the abrasive grains that have pierced the workpiece fall off and spillage occurs (0406), then, as shown in FIG. Grain (0405) pierces the fine metal body. As a result, the loose abrasive grains are held by the fine metal body and become fixed abrasive grains. In addition, the loose abrasive grains also act as a dressing, so clogging is less likely to occur.
このように高硬度の微粒石が表面に突き刺さった微粒金属体が砥石のなかに分散状態で存在し、また、上述したような遊離砥粒との協働が行われることにより、良好な切れ味が常に維持されて加工レートを向上させることが可能となる。 In this way, a fine-grained metal body with high-hardness fine stones pierced on the surface is present in a dispersed state in the grindstone, and by cooperation with the free abrasive grains as described above, a good sharpness is obtained. It is always maintained and the processing rate can be improved.
本実施形態における砥石を用いることで、これまでのワークの加工プロセスを大きく変化させることができる。図5は、従来のプロセスと本発明に係る砥石を用いる加工プロセスを、各プロセスに要する時間を含めて表した概念図である。図5に示すように、従来の加工プロセスは、「粗研削」、「仕上げ研削」、「粗ラップ」、「仕上げラップ」、「ポリッシュ」という各プロセスを行っていた。これに対して、本加工プロセスは、従来の「仕上げ研削」と「粗ラップ」と「仕上げラップ」にて行っていた加工と相当する加工を行うものである。そして、この加工を従来の研削と同等の加工レートにて行う。すなわち、仕上げ研削を経てラップを行わなければ得られなかった面粗さを、研削と同等の加工レートで得ることができるのである。これにより、ワークの加工時間を大幅に短縮することが可能となる。 By using the grindstone in the present embodiment, it is possible to greatly change the machining process of the workpiece so far. FIG. 5 is a conceptual diagram showing a conventional process and a machining process using the grindstone according to the present invention including the time required for each process. As shown in FIG. 5, the conventional processing processes include “rough grinding”, “finish grinding”, “rough lap”, “finish lap”, and “polish”. On the other hand, this processing process performs processing corresponding to the processing performed by the conventional “finish grinding”, “rough lap”, and “finish lap”. And this process is performed at the same processing rate as the conventional grinding. That is, surface roughness that could not be obtained without lapping through finish grinding can be obtained at a processing rate equivalent to grinding. As a result, the machining time of the workpiece can be greatly shortened.
上述したように、あるいは、後述するように、本実施形態に係る加工は、これまでの「研削」や「ラップ」という加工の定義と必ずしも一致しない場合がある。そこで、本明細書においては、ワークの表面を削り平滑にする加工として、「表面加工」という文言を用いる。
<実施形態1 構成>
As described above or as will be described later, the processing according to the present embodiment may not always match the conventional definition of “grinding” or “lapping”. Therefore, in the present specification, the term “surface processing” is used as a process for cutting and smoothing the surface of a workpiece.
<Configuration of Embodiment 1>
本実施形態の砥石は、微粒金属体と、前記微粒金属体の表面に突き刺さって配置される高硬度の微粒石と、微粒石が突き刺さった微粒金属体を分散状態で形状維持するための樹脂とからなる。 The grindstone of the present embodiment includes a fine metal body, a high-hardness fine stone arranged so as to pierce the surface of the fine metal body, and a resin for maintaining the shape of the fine metal body stuck with the fine stone in a dispersed state. Consists of.
「微粒金属体」は、例えば、錫、亜鉛、ビスマス、銅などの金属、あるいは、それらを含む合金などからなる。形状は、球体、直方体、あるいは、より不均一な形状であってもよいが、高硬度の微粒石をより多く表面に突き刺し得るという点では、球体であることが好ましい。 The “fine metal body” is made of, for example, a metal such as tin, zinc, bismuth, copper, or an alloy containing them. The shape may be a sphere, a rectangular parallelepiped, or a more non-uniform shape, but is preferably a sphere in that it can pierce the surface with more high-hardness fine stone.
微粒金属体の性質としては、硬すぎず、じん性(靱性)に富むものが好ましい。じん性とは、物質の粘り強さを表すもので、「ねばさ」とも言われるものである。後述する高硬度の微粒石が表面に突き刺さるともに、これを保持するためには、ある程度の柔らかさとねばさを備えるものが好ましい。また、加工の際に砥石には、ワークに対して押しつけられたり、摩擦によりひっぱられたりする力が作用する。この際、じん性を備えることにより、そのような力の作用に応じて微粒金属体がつぶれたり延びたりしてワークに対して過度な衝撃を与えずに済む。これにより、脆性の高いワークに対する加工ダメージを減少することができる。 As the properties of the fine metal body, those which are not too hard and rich in toughness (toughness) are preferable. Toughness represents the tenacity of a substance and is also called “nebasa”. It is preferable to have a certain degree of softness and stickiness in order to hold a high-hardness granite stone, which will be described later, pierce the surface. In addition, a force that is pressed against the workpiece or pulled by friction acts on the grindstone during processing. At this time, by providing toughness, it is possible to prevent the fine metal body from collapsing or extending according to the action of such a force so as to prevent the workpiece from being excessively impacted. Thereby, the processing damage with respect to a highly brittle workpiece | work can be reduced.
微粒金属体のじん性は、表面加工の仕上がりにおける面粗さを左右する要素となる。すなわちじん性に富む錫は、錫よりもじん性に劣る銅と比較すると、仕上がりにおいてより良好な面粗さを得ることができる。このようなじん性と面粗さとの関係は、従来のラッピング技術においても周知であり、例えば、粗ラップにおいては銅の定盤を用い、仕上げラップにおいて錫の定盤を用いるなどしている。その一方、じん性の高さは表面加工レートを低下させる要因にもなる。すなわち、錫を用いる場合には、その加工レートは銅を用いる場合と比較して低下する。したがって、加工レートを優先させる場合には、銅のように錫程にはじん性の高くない物質を用い、面粗さを優先させる場合には、錫のようにじん性のより高い物質を用いるなどすればよい。 The toughness of the fine metal body is an element that affects the surface roughness of the finished surface processing. That is, tin rich in toughness can obtain better surface roughness in the finish as compared to copper, which is less tough than tin. Such a relationship between toughness and surface roughness is well known in the conventional lapping technology. For example, a copper surface plate is used in the rough lap and a tin surface plate is used in the finishing lap. On the other hand, high toughness also causes a reduction in the surface processing rate. That is, when using tin, the processing rate is lower than when using copper. Therefore, when priority is given to the processing rate, a material that is not as tough as tin, such as copper, is used, and when priority is given to surface roughness, a material that is more tough, such as tin, is used. do it.
微粒金属体は、銅や錫などの単一元素による純金属としてもよいし、他の元素を添加した合金としてもよい。例えば、錫を主体としてビスマスや銅、アンチモンなどを添加して合金とした場合には、錫が持つじん性を低下させずに錫単一金属よりも硬さが向上する場合がある。また、銅を主体として鉛や錫などを添加した合金とした場合には、銅の硬さを保持しつつじん性を向上させる場合がある。このように、添加する元素や組成比などに応じて、微粒金属体の性質を適宜選択し得る。 The fine metal body may be a pure metal made of a single element such as copper or tin, or an alloy to which other elements are added. For example, when an alloy is formed by adding bismuth, copper, antimony or the like mainly containing tin, the hardness may be improved as compared with a single metal tin without reducing the toughness of tin. In addition, when an alloy is mainly composed of copper and lead or tin is added, the toughness may be improved while maintaining the hardness of the copper. Thus, the properties of the fine metal body can be appropriately selected according to the element to be added and the composition ratio.
このような微粒金属体の大きさは、例えば、微粒金属体が球体である場合には、その粒径は50μm〜200μm程度が好ましい。少なくとも高硬度の微粒石が表面に突き刺さり得る程度の大きさであれば小さい方が、砥石に含まれる高硬度の微粒石の密度が高くなり、表面加工の能力が多くなる。一方、大き過ぎる場合には、砥石に含まれる高硬度の微粒石の総量が少なくなり表面加工の能力がやや低下するおそれがある。 As for the size of such a fine metal body, for example, when the fine metal body is a sphere, the particle diameter is preferably about 50 μm to 200 μm. If the size is such that at least the high-hardness fine stone can be pierced on the surface, the smaller the density of the high-hardness fine stone contained in the grindstone, the higher the surface processing ability. On the other hand, if it is too large, the total amount of high-hardness fine particles contained in the grindstone may be reduced, and the surface processing ability may be slightly reduced.
「高硬度の微粒石」は、微粒金属体の表面に突き刺さって配置される。この高硬度の微粒石は、例えば、粉末状のダイアモンドやCBN(立方晶窒化ホウ素)などを用いることができる。高硬度の微粒石は、これと接するワークを削ることにより砥粒の機能を果たす。モース硬度が9であるサファイアや炭化ケイ素などのように高硬度の材料をワークとして加工する場合には、より高度の高いダイアモンドを微粒石として用いることが好ましい。ワークの硬度がサファイアなどよりも低い場合には、必ずしもダイアモンドとしなければならないものではなく、ワークの硬度に応じて適宜選択して用いればよい。 The “high hardness granite” is pierced and placed on the surface of the fine metal body. For example, powdered diamond, CBN (cubic boron nitride), or the like can be used as the high-hardness fine stone. High-hardness fine stone fulfills the function of abrasive grains by scraping the workpiece in contact with it. When a high hardness material such as sapphire or silicon carbide having a Mohs hardness of 9 is processed as a workpiece, it is preferable to use diamond having a higher degree as fine stone. When the hardness of the workpiece is lower than sapphire or the like, it does not necessarily have to be diamond, and may be appropriately selected and used according to the hardness of the workpiece.
高硬度の微粒石の大きさは、少なくとも微粒金属体よりも小さいことが望ましい。例えば、良好な面粗さを求める場合には、その粒径が5μm以下となるものが好ましい。このような粒径は、一般的な砥粒における2000番以上に相当する。高硬度の微粒石の粒径は、従来の砥石における番手と同様に要求する仕上がりに応じて適宜定めることができる。 The size of the high-hardness fine stone is desirably at least smaller than the fine metal body. For example, when obtaining good surface roughness, those having a particle size of 5 μm or less are preferable. Such a particle size corresponds to 2000 or more in general abrasive grains. The particle size of the high-hardness fine stone can be appropriately determined according to the required finish in the same manner as the count of the conventional grindstone.
微粒金属体の表面に高硬度の微粒石が突き刺さった状態とするためには、例えば、微粒金属体と高硬度の微粒石とをボールミルなどを用いて十分に攪拌することで、係る状態とすることができる。 In order to achieve a state in which high-hardness fine stones are stuck on the surface of the fine metal body, for example, the fine metal body and the high-hardness fine stone are sufficiently stirred using a ball mill or the like to achieve such a state. be able to.
「樹脂」は、微粒石が突き刺さった微粒金属体を分散状態で形状維持する機能を果たす。メタルボンドやビトリファイドボンドなどと比較すると、硬すぎないためワークに対する当たりが柔らかく良好な面粗さを得ることに寄与する。 The “resin” fulfills the function of maintaining the shape of the fine-grained metal body pierced with fine stones in a dispersed state. Compared to metal bonds, vitrified bonds, and the like, it is not too hard, so it is soft against the work and contributes to obtaining good surface roughness.
また、微粒金属体が分散し、かつ、その表面に高硬度の微粒石が突き刺さっているため、この微粒石がワークに対して豊富に接することとなる。そして、微粒金属体のじん性が高硬度の微粒石とワークとの当たりを適度に緩衝させることによりワークに対してダメージを与えることを低減することが可能となる。また、微粒金属体は遊離砥粒を良好に保持することができ、遊離砥粒をいわば固定砥粒化することができ加工効率の向上に資する。 In addition, since the fine metal body is dispersed and the high-hardness fine stone is stuck on the surface, the fine stone comes into contact with the work in abundance. And it becomes possible to reduce giving a damage to a workpiece | work by moderately buffering the contact of the toughness of a fine-grained metal body and a highly hard granule stone and a workpiece | work. Further, the fine metal body can hold the free abrasive grains satisfactorily, and the free abrasive grains can be converted into fixed abrasive grains, which contributes to the improvement of processing efficiency.
本実施形態に係る砥石を形成するためには、上述したように攪拌により高硬度の微粒石が表面に突き刺さった微粒金属体に、さらに粉体の樹脂を混ぜ攪拌した後、所望の型に入れ焼成するなどして行う。ここで、微粒金属体の表面に高硬度の微粒石を突き刺すための攪拌などの工程において、突き刺さらずに残存する高硬度の微粒石がある場合に、そのまま樹脂を混ぜて焼成などを行ってもよい。このとき微粒金属体に突き刺さらずに残存した高硬度の微粒石は、樹脂と混ざり合い砥石の硬度を上げる効果もある。なお、砥石の形成工程においては、周知技術の通り、砥石中に気泡を形成するための発泡剤を用いることが好ましい。 In order to form the grindstone according to the present embodiment, as described above, the powdered resin is further mixed and stirred in the fine-grained metal body in which the fine stone with high hardness has been pierced on the surface by stirring, and then placed in a desired mold. This is done by firing. Here, in the step such as stirring to pierce the surface of the fine metal body with high hardness fine stone, if there is high hardness fine stone remaining without being pierced, the resin is mixed as it is and baked. Also good. At this time, the high-hardness fine stone remaining without being pierced into the fine-grained metal body is mixed with the resin and has an effect of increasing the hardness of the grindstone. In addition, in the formation process of a grindstone, it is preferable to use the foaming agent for forming a bubble in a grindstone as well-known technique.
ここで、微粒金属体が分散状態で維持されて形成されるために、微粒金属体が熱により軟化する温度と、樹脂が熱により軟化する温度とを比較した場合に、前者より後者の方が低いことを要す。例えば、微粒金属体として錫を用いる場合、錫の融点は230℃程度であるので、150℃あたりから軟化するフェノール樹脂を用いて、200℃程度で焼結すれば、微粒金属体が形状を維持したまま砥石を形成することができる。なお、微粒金属体が合金からなる場合には、その組成を調節することで軟化点の調節が可能である。 Here, since the fine metal body is maintained and formed in a dispersed state, when the temperature at which the fine metal body is softened by heat and the temperature at which the resin is softened by heat are compared, the latter is more preferable than the former. It needs to be low. For example, when tin is used as the fine metal body, since the melting point of tin is about 230 ° C., the shape of the fine metal body can be maintained by sintering at about 200 ° C. using a phenol resin that softens from around 150 ° C. A grindstone can be formed as it is. When the fine metal body is made of an alloy, the softening point can be adjusted by adjusting the composition.
図6は、本実施形態に係る砥石が取り付けられた加工ホイールの写真を示したものである。図7は、図6における砥石を拡大した写真を示したものである。粒状に見えるものが微粒金属体である。 FIG. 6 shows a photograph of the processing wheel to which the grindstone according to the present embodiment is attached. FIG. 7 shows an enlarged photograph of the grindstone in FIG. What appears to be granular is a fine metal body.
本発明に係る砥石における他の実施態様として、微粒金属体がその表面に突き刺さった遊離砥粒を保持することが可能である点を利用する態様がある。すなわち、砥石を高硬度の微粒石が表面に突き刺さっていない微粒金属体と樹脂とで形成し、ワーク加工の際に供給される遊離砥粒に高硬度の微粒石を含ませておくことで、供給される高硬度の微粒石が微粒金属体の表面に突き刺さり保持されることになる。これにより、先に述べた実施形態に係る砥石と同様の作用が得られる。 As another embodiment of the grindstone according to the present invention, there is an embodiment utilizing the point that the fine metal body can hold the free abrasive grains pierced on the surface thereof. That is, by forming a grindstone with a fine metal body that does not pierce the surface with high-hardness fine stones and a resin, and by including high-hardness fine stones in the free abrasive grains that are supplied during workpiece processing, The supplied high-hardness fine stone is stuck and held on the surface of the fine metal body. Thereby, the effect | action similar to the grindstone which concerns on embodiment described previously is acquired.
ここまで説明してきた本実施形態に係る砥石は、おもにワークを保持するテーブルが回転運動する平面研削装置に用いられることを想定したものであるが、これに限られず、左右に往復運動する角テーブルを備える平面研削装置などの各種の研削装置に用いることができる。また、ラッピング装置における定盤としても用いることが可能である。
<実施形態1 効果>
The grindstone according to the present embodiment that has been described so far is assumed to be used in a surface grinding apparatus in which a table that holds a workpiece is mainly rotated, but is not limited to this, and is a square table that reciprocates left and right. Can be used for various grinding apparatuses such as a surface grinding apparatus. It can also be used as a surface plate in a wrapping apparatus.
<Embodiment 1 effect>
本実施形態の砥石により、微粒金属体が遊離砥粒をしっかりと保持することにより、ラッピングと同様に面粗さに優れる表面加工を行うことが可能となる。
<実施形態2>
<実施形態2 概要>
By the grindstone of the present embodiment, the fine metal body firmly holds the loose abrasive grains, so that it is possible to perform surface processing that is excellent in surface roughness similarly to lapping.
<Embodiment 2>
<Overview of Embodiment 2>
本実施形態の砥石は、微粒金属体が二種以上の微粒金属体群がブレンドされてなることを特徴とする。 The grindstone of this embodiment is characterized in that a fine metal body is a blend of two or more kinds of fine metal bodies.
上述したように、微粒金属体を構成するための金属元素の選定や合金の組成及び組成比の選定により、砥石の性能を適宜定め得る。本実施形態においては、砥石の性能を適宜定め得るための他の態様として、異質の微粒金属体を複数ブレンドして砥石を形成することにより、砥石の性能を調節し得るようになる。すなわち、硬さやじん性などの異なる複数種の微粒金属体を適宜配合して砥石を形成することで、例えば、加工レートを優先させた砥石としたり、あるいは、面粗さを優先させた砥石としたりすることができる。組成等を適宜選択して合金をつくることよりも、容易に所望の性質の砥石を形成することができる場合がある。
<実施形態2 構成>
As described above, the performance of the grindstone can be appropriately determined by selecting a metal element for constituting the fine metal body, and selecting an alloy composition and composition ratio. In the present embodiment, as another aspect for appropriately determining the performance of the grindstone, the performance of the grindstone can be adjusted by forming a grindstone by blending a plurality of different fine metal bodies. That is, by appropriately blending multiple types of fine metal bodies with different hardness and toughness to form a grindstone, for example, a grindstone giving priority to the processing rate, or a grindstone giving priority to surface roughness Can be. There are cases in which it is possible to easily form a grindstone having desired properties, rather than making an alloy by appropriately selecting the composition and the like.
<Embodiment 2 configuration>
本実施形態に係る砥石は、実施形態1を基本とし、微粒金属体が二種以上の微粒金属体群がブレンドされてなる。 The grindstone according to the present embodiment is based on the first embodiment, and is formed by blending two or more kinds of fine metal body groups.
「二種以上の微粒金属体群がブレンドされる」とは、微粒金属体を構成する金属の元素あるいは組成及び組成比において相違する微粒金属体が二種以上配合されていることをいう。 “Blend group of two or more kinds of fine metal bodies is blended” means that two or more kinds of fine metal bodies different in element or composition and composition ratio of metals constituting the fine metal bodies are blended.
例えば、銅からなる微粒金属体と錫からなる微粒金属体とが共に砥石の中に含まれる場合がある。また、錫を主体とする合金からなる微粒金属体であって添加される他の元素の組成が異なる二種以上の微粒金属体がともに砥石に含まれる場合もある。また、組成が同じであっても組成比において異なる二種以上の微粒金属体を配合する場合についても同様である。
<実施形態2 効果>
For example, there are cases where both a fine metal body made of copper and a fine metal body made of tin are contained in a grindstone. Further, there may be a case where two or more kinds of fine metal bodies made of an alloy mainly composed of tin and having different compositions of other elements added are included in the grindstone. The same applies to the case where two or more kinds of fine metal bodies having the same composition but different composition ratios are blended.
<Embodiment 2 effect>
性質の異なる微粒金属体を複数種用いることにより、都度合金をつくることよりも容易に所望の性質の砥石を形成することができる。
<実施形態3>
<実施形態3 概要>
By using a plurality of fine metal bodies having different properties, a grindstone having desired properties can be formed more easily than making an alloy each time.
<Embodiment 3>
<Overview of Embodiment 3>
本実施形態は、実施形態1又は2の砥石を用いた表面加工装置に関する。この表面加工装置は、実施形態1又は2の砥石の特性を最も好適に活用し得る表面加工装置であるといえ、良好な面粗さと加工レートを得ることが可能となる。
<実施形態3 構成>
The present embodiment relates to a surface processing apparatus using the grindstone of Embodiment 1 or 2. This surface processing apparatus can be said to be a surface processing apparatus that can best utilize the characteristics of the grindstone of Embodiment 1 or 2, and can obtain a good surface roughness and processing rate.
<Embodiment 3 configuration>
本実施形態に係る表面加工装置は、ワークを保持するワーク保持テーブルと、実施形態1又は2の砥石と、この砥石を保持し砥石を回転摺動させることにより前記保持されているワークの表面を加工するための加工ホイールと、前記砥石と保持されるべきワークとの隙間に遊離砥粒を少なくとも前記ワークの表面を加工する間供給し続けるための遊離砥粒供給部と、ワークに対する加工ホイールの荷重を定圧加重とする定圧加重部を有する。 The surface processing apparatus according to the present embodiment includes a workpiece holding table that holds a workpiece, the grindstone according to the first or second embodiment, and the surface of the workpiece that is held by rotating and sliding the grindstone while holding the grindstone. A processing wheel for processing, a free abrasive grain supply unit for continuously supplying free abrasive grains to a gap between the grindstone and the work to be held at least during the processing of the surface of the work, and a processing wheel for the work It has a constant pressure load part which makes a load a constant pressure load.
図8は、図1を用いて説明した態様の表面加工装置と同様の構成を有するもので、水平方向視にて表した概念図である。「ワーク保持テーブル」(0801)は、ワーク(0802)を保持する。ワークの保持は真空チャックなど種々の技術による行われる。加工を行うにあたりワークを確実に保持し得る限りにおいて特定の技術に限定するものではなく、公知の技術を用いることもできる。なお、周知の研削装置や研磨装置と同様にワーク保持テーブルにおいても軸回転する構成となっていることが好ましい。 FIG. 8 has a configuration similar to that of the surface processing apparatus of the aspect described with reference to FIG. The “work holding table” (0801) holds the work (0802). The workpiece is held by various techniques such as a vacuum chuck. It is not limited to a specific technique as long as the workpiece can be reliably held in processing, and a known technique can also be used. In addition, it is preferable that the workpiece holding table is configured to rotate about the shaft as well as the known grinding device and polishing device.
「加工ホイール」(0803)は、砥石(0804)を保持し砥石を回転摺動させることにより保持されているワークの表面を加工する。加工ホイールについても、公知の技術などを用いることができる。 The “processing wheel” (0803) holds the grindstone (0804) and processes the surface of the workpiece held by rotating the grindstone. A well-known technique etc. can be used also about a process wheel.
「定圧加重部」(0805)は、ワークに対する加工ホイールの荷重を定圧加重とする。定圧加重部は、公知のラッピング装置などにおいて用いられているエアバッグなどを用いることができる。定圧加重部は、表面粗さをより求める場合にとくに有効である。なお、表面加工を行っている間に、ワークに対する加工ホイールの荷重を加減し得るように構成してもよい。 The “constant pressure load unit” (0805) sets the load of the processing wheel on the workpiece as a constant pressure load. As the constant pressure weighting unit, an airbag used in a known wrapping apparatus or the like can be used. The constant pressure weighting part is particularly effective when the surface roughness is further obtained. In addition, you may comprise so that the load of the process wheel with respect to a workpiece | work can be adjusted during surface processing.
公知の研削装置においては、ワークに対して研削ホイールを所定の速度にて進行させながら研削を行うことで所望の研削量を得ることができる。その一方で、必ずしも進行速度に応じた量だけ研削できるわけではないので、進行が過度になればワークに対してダメージを与えてしまうことになる。そこで、本実施形態においては、ダメージを生じさせないために、進行させずに定圧加重にて表面加工を行う。 In a known grinding apparatus, a desired amount of grinding can be obtained by grinding the workpiece while a grinding wheel is advanced at a predetermined speed. On the other hand, since it is not always possible to grind by an amount corresponding to the traveling speed, if the progress becomes excessive, the workpiece is damaged. Therefore, in this embodiment, in order not to cause damage, surface processing is performed with constant pressure load without progressing.
「遊離砥粒供給部」は、砥石と保持されるべきワークとの隙間に遊離砥粒を少なくとも前記ワークの表面を加工する間供給し続ける機能を有する。これにより、表面加工の間ワークに対して、微粒金属体の表面に突き刺さっている高硬度の微粒石による表面加工と、供給される遊離砥粒による表面加工と、供給される遊離砥粒が微粒金属体に突き刺さることにより固定化した遊離砥粒による表面加工が複合的に行われることになる。すなわち、高硬度の微粒石と遊離砥粒とがワークに対して常に高密度で接することになり加工レートを高めることに資する。さらに、供給される遊離砥粒は砥石に対してドレッシングを施すことになり、優れた自生作用を得ることでさらに加工レートを高めることができる。 The “free abrasive grain supply unit” has a function of continuing to supply free abrasive grains to the gap between the grindstone and the work to be held at least during the processing of the surface of the work. As a result, the surface processing by the high-hardness fine stone pierced on the surface of the fine-grained metal body, the surface processing by the supplied free abrasive grains, and the supplied free abrasive grains are fine particles for the workpiece during the surface processing Surface treatment with loose abrasive grains fixed by piercing the metal body is performed in a composite manner. That is, high-hardness fine stones and loose abrasive grains are always in contact with the workpiece at a high density, which contributes to an increase in the processing rate. Furthermore, the supplied free abrasive grains are subjected to dressing on the grindstone, and the processing rate can be further increased by obtaining an excellent self-generating effect.
遊離砥粒供給部は、遊離砥粒をためておくタンクや、遊離砥粒をタンクからワークと砥石との隙間へ供給するためのパイプや供給口、遊離砥粒を回収し循環させるためのポンプなどが含まれるものとする。また、遊離砥粒供給部は、エッチング液などの化学的に表面加工を行うための薬液を、遊離砥粒とともに、あるいは、遊離砥粒に替えて供給し得るようにしてもよい。このような薬液は、切削くずを溶かしたりするなどして表面加工の効率を向上させる場合がある。 The loose abrasive grain supply unit is a tank for collecting loose abrasive grains, a pipe and supply port for feeding loose abrasive grains from the tank to the gap between the workpiece and the grindstone, and a pump for collecting and circulating the loose abrasive grains Etc. shall be included. Moreover, the loose abrasive grain supply unit may be configured to supply a chemical solution for chemically performing surface processing such as an etching solution together with the loose abrasive grains or in place of the loose abrasive grains. Such a chemical solution may improve the efficiency of surface processing by, for example, melting cutting scraps.
遊離砥粒を砥石とワークとの隙間に供給するためには、遊離砥粒が砥石の近傍から供給されることが好ましい。例えば、図9(a)に示すように砥石(0902)を保持する加工ホイール(0901)において、砥石が保持される周縁よりも内周側に供給口(0903)を設けることが好ましい。加工ホイールが回転摺動しながら表面加工を行うときに、当該供給口から供給される遊離砥粒は遠心力により砥石の方に流れるため、表面加工の間砥石とワークとの隙間に供給されることになる。また、図9(b)に示すように、複数の砥石(0905)が加工ホイール(0904)の周縁に断続的に配置される場合には、隣接して配置される砥石間に遊離砥粒の供給口(0906)を設けてもよい。 In order to supply the loose abrasive grains to the gap between the grindstone and the workpiece, the loose abrasive grains are preferably supplied from the vicinity of the grindstone. For example, as shown in FIG. 9A, in the processing wheel (0901) for holding the grindstone (0902), it is preferable to provide the supply port (0903) on the inner circumferential side with respect to the peripheral edge where the grindstone is held. When surface processing is performed while the processing wheel rotates and slides, the free abrasive grains supplied from the supply port flow toward the grindstone due to centrifugal force, and thus are supplied to the gap between the grindstone and the workpiece during surface processing. It will be. Further, as shown in FIG. 9 (b), when a plurality of grindstones (0905) are intermittently disposed on the periphery of the processing wheel (0904), free abrasive grains are disposed between adjacent grindstones. A supply port (0906) may be provided.
さらに好ましくは、遊離砥粒供給部はワークと砥石の接触中に、この接触領域内で遊離砥粒を流出させるための遊離砥粒流出口を備えていてもよい。例えば、砥石から遊離砥粒が流出するかのごとく遊離砥粒流出口を備えるように構成することができる。 More preferably, the loose abrasive grain supply unit may include a loose abrasive outlet for allowing the loose abrasive grains to flow out in the contact area during contact between the workpiece and the grindstone. For example, it can comprise so that a free abrasive grain outlet may be provided as if a free abrasive grain flows out from a grindstone.
図10は、遊離砥粒流出口を表した概念図である。図10(a)は、ブロック型の砥石(1001)の一部に穴(1002)を貫通させ、その穴から遊離砥粒が流出するように構成したものである。また、図10(b)は、円筒型の砥石(1003)の一部に穴(1004)を貫通させ、その穴から遊離砥粒が流出するように構成したものである。図示するように穴の一部に溝を設けることが好ましいこのように形成することにより、砥石とワークとが接触する際に穴を塞ぐことなく遊離砥粒の流出が淀みなく行われる。このように遊離砥粒流出口を備えることにより、ワークと砥石とが接触する領域においてより確実に遊離砥粒が供給される。 FIG. 10 is a conceptual diagram showing the free abrasive outlet. FIG. 10A shows a configuration in which a hole (1002) is passed through a part of a block-type grindstone (1001) and free abrasive grains flow out from the hole. FIG. 10B shows a configuration in which a hole (1004) is passed through a part of a cylindrical grindstone (1003) and free abrasive grains flow out of the hole. As shown in the drawing, it is preferable to provide a groove in a part of the hole, so that when the grindstone and the workpiece come into contact with each other, the free abrasive grains are allowed to flow out without clogging the hole. By providing the loose abrasive outlet in this way, loose abrasive is more reliably supplied in the region where the workpiece and the grindstone are in contact.
以上のように構成した表面加工装置を用いた表面加工方法は、例えば、LED(Light Emitting Diode)を製造する際の窒化ガリウムの成長基板となるサファイア基板やパワーデバイスなどに用いられる炭化ケイ素基板などをワークとする場合にとくに好適であり、面粗さに優れる表面加工を高効率にて行い得る。 A surface processing method using the surface processing apparatus configured as described above is, for example, a sapphire substrate used as a gallium nitride growth substrate when manufacturing an LED (Light Emitting Diode), a silicon carbide substrate used for a power device, or the like. It is particularly suitable when a workpiece is used, and surface processing with excellent surface roughness can be performed with high efficiency.
遊離砥粒供給部は、タイムスケジュールに従って異なる種類の遊離砥粒を供給するように構成してもよい。タイムスケジュールとは、表面加工を行う際の時間的な計画のことである。例えば、表面加工の開始の段階では、粒径の大きい遊離砥粒を供給するようにし、その後段階的に粒径の小さい遊離砥粒を供給するようにしてもよい。表面加工の進み具合に応じて、遊離砥粒の番手を上げていくことができる。また、タイムスケジュールにエッチング液などを供給する工程を含めてもよい。 The loose abrasive grain supply unit may be configured to supply different types of loose abrasive grains according to the time schedule. The time schedule is a time plan when performing surface processing. For example, loose abrasive grains having a large particle diameter may be supplied at the start of surface processing, and loose abrasive grains having a small particle diameter may be supplied thereafter. Depending on the progress of the surface processing, the count of the loose abrasive can be increased. Moreover, you may include the process of supplying etching liquid etc. to a time schedule.
なお、本実施形態の表面加工装置は、定圧加重部と併せて加工ホイールをワークに対して進行させる機構を備えるものとしてもよい。例えば、表面加工の初期の段階においては良好な面粗さを得ることよりも、研削量や加工の速さを優先させる場合がある。そのような場合には、公知の研削装置のように加工ホイールをワークに対して進行させる機構を用いることで、加工レートを向上させることに資する。このとき、砥石とワークとの研削抵抗を検知し、その値によりワークに対する進行速度を制御したり、進行を停止し定圧加重へ切り替える制御をしたりするように構成することが好ましい。 In addition, the surface processing apparatus of this embodiment is good also as a thing provided with the mechanism in which a processing wheel advances with respect to a workpiece | work together with a constant pressure load part. For example, in the initial stage of surface processing, priority may be given to the amount of grinding and the speed of processing rather than obtaining good surface roughness. In such a case, it is possible to improve the processing rate by using a mechanism for moving the processing wheel relative to the workpiece as in a known grinding apparatus. At this time, it is preferable that the grinding resistance between the grindstone and the workpiece is detected, and the traveling speed of the workpiece is controlled based on the value, or the progression is stopped and the control is switched to constant pressure load.
本実施形態に係る表面加工装置は、複数のワークを保持し得るテーブルと複数の加工ホイールを回転摺動させ得るマルチ式の表面加工装置に用いることで、ワークの加工レートをより高めることができる。 The surface processing apparatus according to the present embodiment can be used in a multi-type surface processing apparatus that can rotate and slide a table that can hold a plurality of workpieces and a plurality of processing wheels, thereby further increasing the workpiece processing rate. .
図11は、マルチ式の表面加工装置を表した概念図である。テーブル(1101)にはワークを保持するためのチャック(1102)が複数配置され、それぞれが軸回転する。チャックに保持されているワーク(1103)は「A」の研削ホイール(1104)にて研削される。この研削は公知の研削装置におけるものでよい。すなわち研削ホイールを進行させながら研削を行うものである。そして、所望の薄さまでワークを研削した後、ワークをチャックしたままテーブルを回転させ「B」の加工ホイール(1105)にて表面加工を行い、さらに仕上げとして「C」の加工ホイール(1106)にて表面加工を行う。なお、図示しないがポリッシングを行うための加工ホイールを含む構成としてもよい。 FIG. 11 is a conceptual diagram showing a multi-type surface processing apparatus. A plurality of chucks (1102) for holding a workpiece are arranged on the table (1101), and each of them rotates about its axis. The workpiece (1103) held by the chuck is ground by the grinding wheel (1104) of “A”. This grinding may be performed by a known grinding apparatus. That is, grinding is performed while the grinding wheel is advanced. Then, after grinding the workpiece to a desired thickness, the table is rotated while the workpiece is chucked, and surface processing is performed with the processing wheel (1105) of “B”, and the processing wheel (1106) of “C” is further finished. And surface treatment. In addition, although not shown in figure, it is good also as a structure containing the process wheel for performing polishing.
ここで、「B」と「C」において本実施形態に係る表面加工装置の構成を用いることができる。例えば、「B」には銅を主体とした微粒金属体を用いた砥石を使用し、「C」には錫を主体とした微粒金属体を用いた砥石を使用する。このように構成することによりウエハ加工をより効率的に行うことが可能となる。 Here, the configuration of the surface processing apparatus according to the present embodiment can be used in “B” and “C”. For example, a grindstone using a fine metal body mainly composed of copper is used for “B”, and a grindstone using a fine metal body mainly composed of tin is used for “C”. With this configuration, wafer processing can be performed more efficiently.
本実施形態における別の態様として、「定圧加重部」を含まない構成としてもよい。すなわち、従来の研削装置における研削ホイールのように、加工ホイールをワークに対して進行させながら表面加工を行ってもよい。この場合、表面加工の加工レートは定圧加重部を用いる場合に対して向上する。その一方で、ワークに対するダメージが生じるおそれは相対的に高くなるが、本実施形態に係る砥石を用いているため、従来の研削装置と比べればそのおそれは十分に低いものとなる。
<実施形態3 試験結果>
As another aspect in this embodiment, it is good also as a structure which does not contain a "constant pressure weighting part." That is, like a grinding wheel in a conventional grinding apparatus, surface processing may be performed while the processing wheel is advanced with respect to the workpiece. In this case, the processing rate of the surface processing is improved as compared with the case where the constant pressure load portion is used. On the other hand, the risk of damage to the workpiece is relatively high, but since the grindstone according to the present embodiment is used, the risk is sufficiently low as compared with a conventional grinding apparatus.
<Embodiment 3 test results>
ここで、本実施形態に係る表面加工装置の試験結果を示す。従来のウエハ加工における粗ラップ工程と仕上げラップ工程との二工程相当において従来装置と比較した。まず、ワークとして直径4インチで厚さ420μmのサファイアウエハを用いた。前工程である研削工程における研削量を390μmとし、粗ラップで10μm、仕上げラップで5μmをそれぞれ研削するものとした。 Here, a test result of the surface processing apparatus according to the present embodiment is shown. Compared with the conventional apparatus in two steps of a rough lapping process and a finishing lapping process in conventional wafer processing. First, a sapphire wafer having a diameter of 4 inches and a thickness of 420 μm was used as a workpiece. The amount of grinding in the grinding step, which is the previous step, was set to 390 μm, and 10 μm was rough ground and 5 μm was ground with a finishing lap.
まず、従来における粗ラップ工程は、銅定盤のラッピング装置を用い遊離砥粒として3μmのダイアモンドスラリーを用いた。この装置における加工レートは0.4μm/secであるため、工程時間は25分であった。また、面粗さを示すRa値は0.5μmであった。続いて仕上げラップとして錫定盤を用いて同様のダイアモンドスラリーを用いた。この工程の加工レートは0.05μm/secであるため、工程時間は100分であった。また、Ra値は0.08μmであった。結果として、二工程で計125分要した。 First, in the conventional rough lapping process, a diamond slurry of 3 μm was used as free abrasive grains using a copper surface plate lapping apparatus. Since the processing rate in this apparatus was 0.4 μm / sec, the process time was 25 minutes. Moreover, Ra value which shows surface roughness was 0.5 micrometer. Subsequently, a similar diamond slurry was used using a tin surface plate as a finishing lap. Since the processing rate of this process was 0.05 μm / sec, the process time was 100 minutes. The Ra value was 0.08 μm. As a result, it took 125 minutes in total for the two steps.
本実施形態に係る表面加工装置(以下、本装置と略す。)の場合は、粗ラップ工程に相当するものとして銅を主体とする合金からなる微粒金属体を用いた砥石を使用し、仕上げラップ工程に相当するものとして錫を主体とする合金からなる微粒金属体を用いた砥石を使用した。また、高硬度の微粒石として3μmのダイアモンドを用いた。遊離砥粒については従来装置の場合と同様のダイアモンドスラリーを用いた。銅合金の微粒金属体の場合の本装置の加工レートは2μm/secであるため、工程時間は5分であった。また、Ra値は0.1μmであった。続いて錫合金の微粒金属体の本装置の加工レートは0.5μm/secであるため、工程時間は10分であった。また、Ra値は0.05μmであった。 In the case of the surface processing apparatus according to the present embodiment (hereinafter abbreviated as the present apparatus), a grinding wheel using a fine metal body made of an alloy mainly composed of copper is used as a rough lapping process, and a finish lapping A grindstone using a fine metal body made of an alloy mainly composed of tin was used as an equivalent to the process. Moreover, a diamond of 3 μm was used as high-hardness fine particles. For the free abrasive grains, the same diamond slurry as in the conventional apparatus was used. Since the processing rate of this apparatus in the case of a copper alloy fine metal body was 2 μm / sec, the process time was 5 minutes. The Ra value was 0.1 μm. Subsequently, since the processing rate of this apparatus for the fine metal body of the tin alloy was 0.5 μm / sec, the process time was 10 minutes. The Ra value was 0.05 μm.
以上の結果から、本装置が従来装置に比較して良好な面粗さを高い加工レートで得ることが分かる。なお、この試験は研削量(加工量)を等しくして行ったため、ウエハの最終的な面粗さにおいて差が生じることとなった。すなわち、従来装置を用いる場合には、本装置で得られたRa値に至るまでには、さらなる加工時間が必要となるということも分かる。
<実施形態3 効果>
From the above results, it can be seen that the present apparatus can obtain better surface roughness at a higher processing rate than the conventional apparatus. Since this test was performed with the same grinding amount (processing amount), a difference in the final surface roughness of the wafer occurred. That is, it can be seen that when the conventional apparatus is used, further processing time is required to reach the Ra value obtained by the present apparatus.
<Embodiment 3 effects>
実施形態1又は2の砥石の特性を最も好適に活用することで、良好な面粗さと高い加工レートを得ることのできる表面加工装置を提供することができる。 By utilizing the characteristics of the grindstone of Embodiment 1 or 2 most suitably, it is possible to provide a surface processing apparatus that can obtain good surface roughness and a high processing rate.
0301 微粒金属体
0302 高硬度の微粒石
0303 樹脂
0304 空洞
0301 Fine metal body 0302 High-hardness fine stone 0303 Resin 0304 Cavity
Claims (13)
ワークを砥石に対して定圧加重する定圧加重部と、
遊離砥粒供給部と、
遊離砥粒供給部からの遊離砥粒を供給する加工ホイールの砥石が保持される周縁よりも内周側に配置される遊離砥粒供給口と、
を有する表面加工装置。 A grindstone placed on the processing wheel to machine the workpiece;
A constant pressure load section for applying a constant pressure load to the grindstone;
Free abrasive grain supply unit;
A free abrasive grain supply port arranged on the inner peripheral side of the peripheral edge where the grindstone of the processing wheel that supplies the free abrasive grains from the free abrasive grain supply unit is held;
A surface processing apparatus.
ワークを砥石に対して定圧加重する定圧加重部と、
遊離砥粒供給部と、
遊離砥粒供給部からの遊離砥粒を供給する加工ホイールに隣接して配置される砥石間に配置される遊離砥粒供給口と、
を有する表面加工装置。 A grindstone placed on the processing wheel to machine the workpiece;
A constant pressure load section for applying a constant pressure load to the grindstone;
Free abrasive grain supply unit;
A free abrasive grain supply port arranged between grindstones arranged adjacent to a processing wheel for supplying free abrasive grains from the free abrasive grain supply unit;
A surface processing apparatus.
ワークを砥石に対して定圧加重する定圧加重部と、
遊離砥粒供給部と、
砥石の一部に穴を貫通させ、その穴から遊離砥粒が流出するように構成した遊離砥粒供給部からの遊離砥粒を供給する遊離砥粒供給口
を有する表面加工装置。 A grindstone placed on the processing wheel to machine the workpiece;
A constant pressure load section for applying a constant pressure load to the grindstone;
Free abrasive grain supply unit;
A surface processing apparatus having a free abrasive grain supply port for supplying free abrasive grains from a free abrasive grain supply unit configured such that a hole penetrates a part of a grindstone and free abrasive grains flow out from the hole.
砥石と、
この砥石を保持し砥石を回転摺動せることにより前記保持されているワークの表面を加工するための加工ホイールと、によりワークの表面を加工するための表面加工方法であって、
前記砥石と保持されるべきワークとの隙間に遊離砥粒を少なくとも前記ワークの表面を加工する間供給し続ける表面加工方法。 A workpiece holding table for holding workpieces;
Whetstone,
It is a surface processing method for processing the surface of the workpiece by a processing wheel for processing the surface of the workpiece held by holding the grindstone and rotating and sliding the grindstone,
A surface processing method in which loose abrasive grains are continuously supplied to a gap between the grindstone and a work to be held at least while the surface of the work is processed.
The method of manufacturing an electronic component according to claim 12, wherein the electronic component is an LED.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014040917A JP2014128877A (en) | 2014-03-03 | 2014-03-03 | Surface processing apparatus and method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014040917A JP2014128877A (en) | 2014-03-03 | 2014-03-03 | Surface processing apparatus and method |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011245729A Division JP2013099831A (en) | 2011-11-09 | 2011-11-09 | Grinding stone |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016192150A Division JP6281988B2 (en) | 2016-09-29 | 2016-09-29 | Surface processing apparatus and method |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014128877A true JP2014128877A (en) | 2014-07-10 |
Family
ID=51407748
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014040917A Pending JP2014128877A (en) | 2014-03-03 | 2014-03-03 | Surface processing apparatus and method |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2014128877A (en) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2016081951A1 (en) * | 2014-11-23 | 2016-05-26 | M Cubed Technologies | Wafer pin chuck fabrication and repair |
JP2016127051A (en) * | 2014-12-26 | 2016-07-11 | 新日鐵住金株式会社 | Side face processing method of silicon carbide single crystal ingot |
WO2019154630A1 (en) * | 2018-02-06 | 2019-08-15 | Asml Netherlands B.V. | System, device and method for reconditioning a substrate support |
WO2020020568A1 (en) * | 2018-07-27 | 2020-01-30 | Asml Netherlands B.V. | Tool for modifying a support surface |
US10702968B2 (en) | 2015-08-14 | 2020-07-07 | M Cubed Technologies, Inc. | Machine for finishing a work piece, and having a highly controllable treatment tool |
US10790181B2 (en) | 2015-08-14 | 2020-09-29 | M Cubed Technologies, Inc. | Wafer chuck featuring reduced friction support surface |
US10792778B2 (en) | 2015-08-14 | 2020-10-06 | M Cubed Technologies, Inc. | Method for removing contamination from a chuck surface |
US10953513B2 (en) | 2015-08-14 | 2021-03-23 | M Cubed Technologies, Inc. | Method for deterministic finishing of a chuck surface |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03294160A (en) * | 1990-04-11 | 1991-12-25 | Hitachi Ltd | Grinding stone and grinding device |
JP2001007064A (en) * | 1999-06-17 | 2001-01-12 | Sumitomo Metal Ind Ltd | Grinding method of semiconductor wafer |
JP2002079464A (en) * | 2000-09-06 | 2002-03-19 | Nagase Integrex Co Ltd | Grinding method and grinding machine |
JP2004358616A (en) * | 2003-06-05 | 2004-12-24 | Yasuhiro Tani | Polishing tool, polishing device and method |
JP2005224892A (en) * | 2004-02-12 | 2005-08-25 | Nippon Tokushu Kento Kk | Polishing method |
JP2010094806A (en) * | 2010-02-04 | 2010-04-30 | Mezoteku Dia Kk | Surface polishing method, surface polishing device and surface polishing plate |
JP2011167818A (en) * | 2010-02-19 | 2011-09-01 | Disco Corp | Machining device |
-
2014
- 2014-03-03 JP JP2014040917A patent/JP2014128877A/en active Pending
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03294160A (en) * | 1990-04-11 | 1991-12-25 | Hitachi Ltd | Grinding stone and grinding device |
JP2001007064A (en) * | 1999-06-17 | 2001-01-12 | Sumitomo Metal Ind Ltd | Grinding method of semiconductor wafer |
JP2002079464A (en) * | 2000-09-06 | 2002-03-19 | Nagase Integrex Co Ltd | Grinding method and grinding machine |
JP2004358616A (en) * | 2003-06-05 | 2004-12-24 | Yasuhiro Tani | Polishing tool, polishing device and method |
JP2005224892A (en) * | 2004-02-12 | 2005-08-25 | Nippon Tokushu Kento Kk | Polishing method |
JP2010094806A (en) * | 2010-02-04 | 2010-04-30 | Mezoteku Dia Kk | Surface polishing method, surface polishing device and surface polishing plate |
JP2011167818A (en) * | 2010-02-19 | 2011-09-01 | Disco Corp | Machining device |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2016081951A1 (en) * | 2014-11-23 | 2016-05-26 | M Cubed Technologies | Wafer pin chuck fabrication and repair |
CN107206567A (en) * | 2014-11-23 | 2017-09-26 | M丘比德技术公司 | The nail chuck manufacture of chip pin and repairing |
US9941148B2 (en) | 2014-11-23 | 2018-04-10 | M Cubed Technologies, Inc. | Wafer pin chuck fabrication and repair |
US10242905B2 (en) | 2014-11-23 | 2019-03-26 | M Cubed Technologies, Inc. | Wafer pin chuck fabrication and repair |
JP2016127051A (en) * | 2014-12-26 | 2016-07-11 | 新日鐵住金株式会社 | Side face processing method of silicon carbide single crystal ingot |
US10702968B2 (en) | 2015-08-14 | 2020-07-07 | M Cubed Technologies, Inc. | Machine for finishing a work piece, and having a highly controllable treatment tool |
US10790181B2 (en) | 2015-08-14 | 2020-09-29 | M Cubed Technologies, Inc. | Wafer chuck featuring reduced friction support surface |
US10792778B2 (en) | 2015-08-14 | 2020-10-06 | M Cubed Technologies, Inc. | Method for removing contamination from a chuck surface |
US10953513B2 (en) | 2015-08-14 | 2021-03-23 | M Cubed Technologies, Inc. | Method for deterministic finishing of a chuck surface |
WO2019154630A1 (en) * | 2018-02-06 | 2019-08-15 | Asml Netherlands B.V. | System, device and method for reconditioning a substrate support |
WO2020020568A1 (en) * | 2018-07-27 | 2020-01-30 | Asml Netherlands B.V. | Tool for modifying a support surface |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2014128877A (en) | Surface processing apparatus and method | |
CN104858737B (en) | Method for grinding flat surface of workpiece | |
US10414020B2 (en) | Grindstone and grinding/polishing device using same | |
CN106985003A (en) | It is ground emery wheel and method for grinding | |
JP2013099831A (en) | Grinding stone | |
JP5498857B2 (en) | Wafer processing method | |
US20150231759A1 (en) | Chemical mechanical polishing conditioner with high performance | |
US20160361793A1 (en) | Abrasive grindstone | |
JP6281988B2 (en) | Surface processing apparatus and method | |
JP2014205225A (en) | Grinding abrasive wheel for high-hardness brittle material | |
JP2008073832A (en) | Grinding wheel for manufacturing thin wafer and grinding method | |
JP2016198878A (en) | Grind stone, processing device and processing method of workpiece | |
JP2008207302A (en) | Grinding wheel dressing method and dressing tool | |
JP4537778B2 (en) | How to sharpen vitrified bond wheels | |
CN113329846B (en) | Metal bond grindstone for high-hardness brittle material | |
JP4746788B2 (en) | Super-abrasive wheel for surface honing, dressing method thereof, and grinding apparatus using the wheel | |
TW200412277A (en) | Cutting tool for processing soft material | |
JP3456979B2 (en) | Beveling wheel for peripheral processing of silicon wafer | |
JP2012213833A (en) | Sintered body for pad conditioning and its manufacturing method | |
JPH10180630A (en) | Dressing method for grinding wheel | |
WO2022102335A1 (en) | Method for manufacturing porous metal bonded grindstone, and method for manufacturing porous metal bonded wheel | |
JP2003225866A (en) | Metal bond diamond lapping surface plate for processing thin sheet | |
JP2006218577A (en) | Dresser for polishing cloth | |
JP2007266441A (en) | Cup-like grinding stone for semiconductor wafer rear surface grinding and grinding method | |
JP6178216B2 (en) | Grinding / lapping / polishing method and apparatus thereof |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20140402 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20141022 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20141126 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20150225 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20150827 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150902 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20151029 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160105 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20160630 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20160929 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20160929 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20161116 |