JP2014127543A - 冷却装置および半導体レーザ装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】複雑な制御を必要とせず簡単な構成で、半導体レーザが出力するレーザ光のスペックルノイズを低減する。
【解決手段】半導体レーザ素子を搭載した複数の部材と、その複数の部材が配置される冷却ジャケットを備える。複数の部材は、少なくとも第1の群と第2の群に分けて、冷却ジャケットの表面に配置される。冷却ジャケットは、第1の群の部材が配置される第1領域と、第2の群の部材が配置される第2領域とを表面に有する。第1領域の近傍で第2領域から離れた冷却ジャケットの内部には、冷却媒体が通過する冷却媒体流路が配置される。
【選択図】図1
【解決手段】半導体レーザ素子を搭載した複数の部材と、その複数の部材が配置される冷却ジャケットを備える。複数の部材は、少なくとも第1の群と第2の群に分けて、冷却ジャケットの表面に配置される。冷却ジャケットは、第1の群の部材が配置される第1領域と、第2の群の部材が配置される第2領域とを表面に有する。第1領域の近傍で第2領域から離れた冷却ジャケットの内部には、冷却媒体が通過する冷却媒体流路が配置される。
【選択図】図1
Description
本開示は、半導体レーザ素子が取り付けられた半導体レーザ装置、およびその半導体レーザ装置に使用される冷却装置に関する。
半導体レーザは、発光した光の直進性が高く、高輝度で色純度が高いため、プロジェクタ用の光源に使用されている。例えば特許文献1には、プロジェクタ用の光源として、同一の波長の光を出力する複数の半導体レーザ素子を並べて使用して、表示画像の輝度を高くする点についての記載がある。
半導体レーザをプロジェクタ用の光源として用いる場合、スクリーンで散乱した光が相互に干渉して、微細な斑点模様であるスペックルノイズが発生しやすく、このスペックルノイズが表示画像のちらつきの原因になっていた。
このスペックルノイズは、レーザ光の可干渉性に起因して生じる現象であり、スペックルノイズを低減するためには、レーザ光の可干渉性を低下させる対策が有効であることが知られている。可干渉性はレーザ光の出力スペクトル幅に概ね反比例しており、レーザ光の出力スペクトル幅が広がると可干渉性が低下する。したがって、レーザ光の出力スペクトル幅を広くすることが、スペックルノイズの低減につながる。
このスペックルノイズは、レーザ光の可干渉性に起因して生じる現象であり、スペックルノイズを低減するためには、レーザ光の可干渉性を低下させる対策が有効であることが知られている。可干渉性はレーザ光の出力スペクトル幅に概ね反比例しており、レーザ光の出力スペクトル幅が広がると可干渉性が低下する。したがって、レーザ光の出力スペクトル幅を広くすることが、スペックルノイズの低減につながる。
特許文献1には、このスペックルノイズを低減する手法として、一対の半導体レーザ素子のそれぞれに冷却部を設け、それぞれの冷却部で冷却する温度が異なるように制御することについての記載がある。異なる温度になるように制御する具体的な例として、特許文献1には、各冷却部の内部の冷媒の流路の断面積を変化させることについての記載がある。
しかしながら、一対の半導体レーザ素子のそれぞれに個別に冷却部を設ける構成とした場合、冷却部が半導体レーザ素子の配置箇所ごとに必要である。したがって、従来の構成では、プロジェクタ装置は多数の冷却部が必要であり、またそれぞれの冷却部の冷却温度を異なる温度に制御する必要があり、冷却のための構成や制御が複雑である問題があった。
本開示は、複雑な制御を必要とせず簡単な構成で、スペックルノイズを低減することができる半導体レーザ装置および冷却装置を提供することを目的とする。
本開示の半導体レーザ装置は、半導体レーザ素子を搭載した複数の部材と、その複数の部材が配置される冷却ジャケットを備える。複数の部材は、少なくとも第1の群と第2の群に分けて、冷却ジャケットの表面に配置される。冷却ジャケットは、第1の群の部材が配置される第1領域と、第2の群の部材が配置される第2領域とを表面に有する。冷却ジャケットの内部で第1領域の近傍で第2領域から離れた箇所には、冷却媒体が通過する冷却媒体流路が配置される。
本開示の冷却装置は、半導体レーザ素子を搭載した部材が配置される第1領域と第2領域とを表面に有する冷却ジャケットと、冷却ジャケットの内部に配置され第1領域の近傍で第2領域から離れた冷却媒体が通過する冷却媒体流路とを備える。
本開示によると、冷却ジャケットの各領域に配置された半導体レーザ素子を搭載した部材は、冷却媒体流路が通過する冷却媒体により冷却される。但し、冷却媒体流路は第1領域の近傍であり第2領域からは離れているため、第1領域の半導体レーザ素子の方が、第2領域の半導体レーザ素子よりも効率よく冷却される。したがって、第1領域の半導体レーザ素子と、第2領域の半導体レーザ素子とで、冷却温度に差がつくようになる。半導体レーザ素子は温度特性を持つため、2つの領域の半導体レーザ素子が出力するレーザ光の波長が、冷却温度差に対応して相違するようになる。このため、冷却ジャケットに配置された半導体レーザ素子の出力スペクトル幅が広がるように作用する。半導体レーザ素子の出力スペクトル幅が広がることは、スペックルノイズの低減につながる。
本開示によると、1つの冷却ジャケットが備える冷却媒体流路に冷却媒体を通過させるだけで、冷却ジャケットに配置された半導体レーザ素子が2つの異なる冷却温度で冷却されて、スペックルノイズを低減するように作用する。したがって、冷却媒体流路を1つ設けるだけの簡単な構成で、良好な状態にレーザ光を出力する半冷却ジャケット導体レーザ装置が得られる効果を有する。
本開示の実施の形態の例を、以下の順序で説明する。
1.一実施の形態の半導体レーザ装置の構成(図1,図2,図3)
2.半導体レーザチップアレイの構成(図4)
3.半導体レーザ素子の出力特性(図5)
4.変形例1の半導体レーザ装置の構成(図6,図7)
5.変形例2の半導体レーザ装置の構成(図8,図9)
6.変形例3の半導体レーザ装置の構成(図10,図11)
7.その他の変形例
1.一実施の形態の半導体レーザ装置の構成(図1,図2,図3)
2.半導体レーザチップアレイの構成(図4)
3.半導体レーザ素子の出力特性(図5)
4.変形例1の半導体レーザ装置の構成(図6,図7)
5.変形例2の半導体レーザ装置の構成(図8,図9)
6.変形例3の半導体レーザ装置の構成(図10,図11)
7.その他の変形例
[1.一実施の形態の半導体レーザ装置の構成]
図1〜図3は、本開示の一実施の形態に係る半導体レーザ装置の構成を示す図である。図1は半導体レーザ装置を示す斜視図であり、図2は図1のA−A線に沿う断面図である。また、図3は、図1に示す半導体レーザ装置を分解して示す図である。
図1に示す半導体レーザ装置100は、画像表示を行うプロジェクタ装置の光源として使用される。不図示のプロジェクタ装置は、赤,緑,青の3つの原色ごとに、半導体レーザ装置100よりなる光源を備える。それぞれの色の半導体レーザ装置100から出力されたレーザ光が、プロジェクタ装置の光学系によりスクリーンに照射されることで、スクリーン上に画像が表示される。なお、プロジェクタ装置は、赤,緑,青の3つの原色のそれぞれが、以下に説明する半導体レーザ装置100を光源として使用してもよいが、例えば赤などの特定の色の光源として半導体レーザ装置100を使用し、他の色については別の構成の光源を使用してもよい。
図1〜図3は、本開示の一実施の形態に係る半導体レーザ装置の構成を示す図である。図1は半導体レーザ装置を示す斜視図であり、図2は図1のA−A線に沿う断面図である。また、図3は、図1に示す半導体レーザ装置を分解して示す図である。
図1に示す半導体レーザ装置100は、画像表示を行うプロジェクタ装置の光源として使用される。不図示のプロジェクタ装置は、赤,緑,青の3つの原色ごとに、半導体レーザ装置100よりなる光源を備える。それぞれの色の半導体レーザ装置100から出力されたレーザ光が、プロジェクタ装置の光学系によりスクリーンに照射されることで、スクリーン上に画像が表示される。なお、プロジェクタ装置は、赤,緑,青の3つの原色のそれぞれが、以下に説明する半導体レーザ装置100を光源として使用してもよいが、例えば赤などの特定の色の光源として半導体レーザ装置100を使用し、他の色については別の構成の光源を使用してもよい。
半導体レーザ装置100は、図1に示すように、箱形の冷却ジャケット110の平面状の表面111に、半導体レーザ素子10を備えた部材である半導体レーザチップアレイ1を複数配置する。なお、半導体レーザ素子10は、後述するようにサブマウント21を介して半導体レーザチップアレイ1に取り付けてある。冷却ジャケット110の表面111は、例えば1辺が数cmから十数cm程度の大きさである。
図1に示すように、複数の半導体レーザチップアレイ1は、第1列1aと第2列1bの2列に分けて配置される。それぞれの列1a,1bには、例えば数mm程度の間隔で、半導体レーザチップアレイ1を配置する。この図1の例では、第1列1aに配置する第1の群の半導体レーザチップアレイ1と、第2列1bに配置する第2の群の半導体レーザチップアレイ1とは、同じ数とする。
図1に示すように、複数の半導体レーザチップアレイ1は、第1列1aと第2列1bの2列に分けて配置される。それぞれの列1a,1bには、例えば数mm程度の間隔で、半導体レーザチップアレイ1を配置する。この図1の例では、第1列1aに配置する第1の群の半導体レーザチップアレイ1と、第2列1bに配置する第2の群の半導体レーザチップアレイ1とは、同じ数とする。
冷却ジャケット110は、銅やアルミニウムなどの熱伝導率の高い金属で構成され、内部に冷却水流路114を備える。冷却水流路114は、第1列1aの半導体レーザチップアレイ1を配置した箇所の近傍に配置する。すなわち、図2に断面で示すように、冷却水流路114は、第1列1aの半導体レーザチップアレイ1を配置した領域の直下に直線状に配置し、第2列1bの半導体レーザチップアレイ1を配置した領域の直下には配置しない。この冷却水流路114は、一方の側面112の冷却装置接続部121から、他方の側面113の冷却装置接続部122まで貫通している。図2に示すように、冷却水流路114の断面形状は四角形としたが、円形などの他の形状でもよい。また、第1列1aの下側に配置される形状であれば、冷却水流路114は、直線状でない形状のものを配置してもよい。
このような構成としたことで、冷却装置接続部121の孔121aから入力した冷却水が、冷却ジャケット110内の冷却水流路114を通過して、冷却装置接続部122の孔122aから出力される。冷却装置接続部122から出力された冷却水は、図示しない冷却装置で冷却された後、冷却装置接続部121に戻される。
このような構成としたことで、冷却装置接続部121の孔121aから入力した冷却水が、冷却ジャケット110内の冷却水流路114を通過して、冷却装置接続部122の孔122aから出力される。冷却装置接続部122から出力された冷却水は、図示しない冷却装置で冷却された後、冷却装置接続部121に戻される。
図3は、半導体レーザ装置100を分解して示す図である。
図3に示すように、冷却ジャケット110の表面111には、半導体レーザチップアレイ1の配置箇所に対応してネジ孔115を設ける。また、各半導体レーザチップアレイ1のヒートシンク20には、一端と他端にネジ31を貫通させるための透孔23を有する。そして、ヒートシンク20の透孔23を貫通したネジ31を、ネジ孔115に嵌めることで、各列1a,1bの半導体レーザチップアレイ1が、冷却ジャケット110の表面111に取り付けられる。ネジ31を使用して半導体レーザチップアレイ1を冷却ジャケット110に取り付けるのは1つの例であり、その他の構成でもよい。
図3に示すように、冷却ジャケット110の表面111には、半導体レーザチップアレイ1の配置箇所に対応してネジ孔115を設ける。また、各半導体レーザチップアレイ1のヒートシンク20には、一端と他端にネジ31を貫通させるための透孔23を有する。そして、ヒートシンク20の透孔23を貫通したネジ31を、ネジ孔115に嵌めることで、各列1a,1bの半導体レーザチップアレイ1が、冷却ジャケット110の表面111に取り付けられる。ネジ31を使用して半導体レーザチップアレイ1を冷却ジャケット110に取り付けるのは1つの例であり、その他の構成でもよい。
[2.半導体レーザチップアレイの構成]
図4は、半導体レーザチップアレイ1の構成を示す図である。
半導体レーザチップアレイ1は、複数の半導体レーザ素子10を、サブマウント21を介してヒートシンク20上に一列に実装したものである。例えば、1個の半導体レーザチップアレイ1が、8個の半導体レーザ素子10を備える。1個の半導体レーザ装置100に取り付けられる半導体レーザチップアレイ1上の全ての半導体レーザ素子10は、出力波長が同じになるように素子を選別してサブマウント上にマウントするようにしてもよい。
例えば、赤色の光源として使用される半導体レーザ装置100の場合、その半導体レーザ装置100に取り付けられる全ての半導体レーザ素子10は、中心出力波長が640nmのものを使用する。但し、素子を製造する際のばらつきで、出力波長や出力レベルに多少の相違があってもよい。
図4は、半導体レーザチップアレイ1の構成を示す図である。
半導体レーザチップアレイ1は、複数の半導体レーザ素子10を、サブマウント21を介してヒートシンク20上に一列に実装したものである。例えば、1個の半導体レーザチップアレイ1が、8個の半導体レーザ素子10を備える。1個の半導体レーザ装置100に取り付けられる半導体レーザチップアレイ1上の全ての半導体レーザ素子10は、出力波長が同じになるように素子を選別してサブマウント上にマウントするようにしてもよい。
例えば、赤色の光源として使用される半導体レーザ装置100の場合、その半導体レーザ装置100に取り付けられる全ての半導体レーザ素子10は、中心出力波長が640nmのものを使用する。但し、素子を製造する際のばらつきで、出力波長や出力レベルに多少の相違があってもよい。
ヒートシンク20は、銅やアルミニウムなどの熱伝導率の高い金属で構成される放熱体である。サブマウント21は互いに独立して配設されており、ここでは、1つのサブマウント21上に1つの半導体レーザ素子10を配置する。各半導体レーザ素子10は、ここではワイヤ22を介して直列に接続する。また、直列に接続された半導体レーザ素子10は、ワイヤ22を介して半導体レーザ駆動回路側に接続された回路パターンに接続する。図4では回路パターンへの接続状態については省略する。
図4に示すように、ヒートシンク20は端部に透孔23を備える。ヒートシンク20上の透孔23が形成された面は、サブマウント21を介して半導体レーザ素子10が取り付けられる面とは異なる面である。この透孔23を使用したネジ止めで、ヒートシンク20が冷却ジャケット110の表面に固定される。冷却ジャケット110の表面にヒートシンク20が取り付けられた状態では、図1などに示すように、半導体レーザ素子10がヒートシンク20の側面に位置する。
半導体レーザチップアレイ1にはヒートシンク20が取り付けてあるため、1つの半導体レーザチップアレイ1に取り付けられた複数の半導体レーザ素子10は、ほぼ同じ温度になる。
図4に示すように、ヒートシンク20は端部に透孔23を備える。ヒートシンク20上の透孔23が形成された面は、サブマウント21を介して半導体レーザ素子10が取り付けられる面とは異なる面である。この透孔23を使用したネジ止めで、ヒートシンク20が冷却ジャケット110の表面に固定される。冷却ジャケット110の表面にヒートシンク20が取り付けられた状態では、図1などに示すように、半導体レーザ素子10がヒートシンク20の側面に位置する。
半導体レーザチップアレイ1にはヒートシンク20が取り付けてあるため、1つの半導体レーザチップアレイ1に取り付けられた複数の半導体レーザ素子10は、ほぼ同じ温度になる。
[3.半導体レーザ素子の出力特性]
図5は、半導体レーザ装置100の出力特性例を示す図である。
既に説明したように半導体レーザ装置100は、半導体レーザチップアレイ1を第1列1aと第2列1bの2列に分けて配置し、第1列1aの近傍に冷却水流路114を配置した。このため、プロジェクタ装置に半導体レーザ装置100を組み込み、冷却水流路114に冷却水を流したとき、第1列1aの半導体レーザチップアレイ1が効率よく冷却される。第2列1bの半導体レーザチップアレイ1については、第1列1aよりも若干冷却効率が落ちる。したがって、第1列1aの半導体レーザチップアレイ1と第2列1bの半導体レーザチップアレイ1とで、冷却温度に相違が発生する。この冷却温度の相違を利用して、第1列1aの半導体レーザチップアレイ1内の各素子10が出力するレーザ光の波長と、第2列1bの半導体レーザチップアレイ1の各素子10が出力するレーザ光の波長を変化させる。
図5は、半導体レーザ装置100の出力特性例を示す図である。
既に説明したように半導体レーザ装置100は、半導体レーザチップアレイ1を第1列1aと第2列1bの2列に分けて配置し、第1列1aの近傍に冷却水流路114を配置した。このため、プロジェクタ装置に半導体レーザ装置100を組み込み、冷却水流路114に冷却水を流したとき、第1列1aの半導体レーザチップアレイ1が効率よく冷却される。第2列1bの半導体レーザチップアレイ1については、第1列1aよりも若干冷却効率が落ちる。したがって、第1列1aの半導体レーザチップアレイ1と第2列1bの半導体レーザチップアレイ1とで、冷却温度に相違が発生する。この冷却温度の相違を利用して、第1列1aの半導体レーザチップアレイ1内の各素子10が出力するレーザ光の波長と、第2列1bの半導体レーザチップアレイ1の各素子10が出力するレーザ光の波長を変化させる。
図5に示した各例について説明する。図5Aは、全ての半導体レーザチップアレイ1の冷却温度が同じ場合の例である。本実施の形態の例の半導体レーザ装置100は、上述したように各列の半導体レーザチップアレイ1の冷却温度が異なるが、図5Aでは、仮に全ての半導体レーザチップアレイ1の冷却温度が同じ場合を想定する。この図5Aの例は、25℃に冷却した場合である。このとき、半導体レーザ素子10が出力するレーザ光L11は、例えば25℃温度条件下で中心波長640nmの場合であり、出力が最も高い状態から半分になったときの出力幅である半値幅が約1.2nmである。
図5Bは、第1列1aの半導体レーザチップアレイ1を25℃に冷却し、第2列1bの半導体レーザチップアレイ1を26℃に冷却し、2つの列で1℃の温度差を持たせた例である。このとき、第1列1aの半導体レーザ素子10が出力するレーザ光L21は、図5Aのレーザ光L11と同じ特性であり、中心波長が640nmで半値幅が約1.2nmである。
一方、第2列1bの半導体レーザ素子10が出力するレーザ光L22は、温度が1℃高いために、中心波長が0.2nm高くなった640.2nmになる。半値幅は約1.2nmである。
したがって、2つのレーザ光L21,L22を合わせた総合的な特性で見ると、半値幅は約1.4nmになる。
一方、第2列1bの半導体レーザ素子10が出力するレーザ光L22は、温度が1℃高いために、中心波長が0.2nm高くなった640.2nmになる。半値幅は約1.2nmである。
したがって、2つのレーザ光L21,L22を合わせた総合的な特性で見ると、半値幅は約1.4nmになる。
図5Cは、第1列1aの半導体レーザチップアレイ1を25℃に冷却し、第2列1bの半導体レーザチップアレイ1を27.5℃に冷却し、2つの列で2.5℃の温度差を持たせた例である。このとき、第1列1aの半導体レーザ素子10が出力するレーザ光L31は、図5Aのレーザ光L11と同じ特性であり、中心波長が640nmである。
一方、第2列1bの半導体レーザ素子10が出力するレーザ光L32は、温度が2.5℃高いために、中心波長が0.5nm高くなった640.5nmになる。半値幅は約1.2nmである。
したがって、2つのレーザ光L31,L32を合わせた総合的な特性で見ると、半値幅は約1.7nmになる。
一方、第2列1bの半導体レーザ素子10が出力するレーザ光L32は、温度が2.5℃高いために、中心波長が0.5nm高くなった640.5nmになる。半値幅は約1.2nmである。
したがって、2つのレーザ光L31,L32を合わせた総合的な特性で見ると、半値幅は約1.7nmになる。
図5Dは、第1列1aの半導体レーザチップアレイ1を25℃に冷却し、第2列1bの半導体レーザチップアレイ1を30℃に冷却し、2つの列で5℃の温度差を持たせた例である。このとき、第1列1aの半導体レーザ素子10が出力するレーザ光L41は、図5Aのレーザ光L11と同じ特性であり、中心波長が640nmである。
一方、第2列1bの半導体レーザ素子10が出力するレーザ光L32は、温度が5℃高いために、中心波長が1.0nm高くなった641nmになる。半値幅は約1.2nmである。
したがって、2つのレーザ光L41,L42を合わせた総合的な特性で見ると、半値幅は約2.2nmになる。
一方、第2列1bの半導体レーザ素子10が出力するレーザ光L32は、温度が5℃高いために、中心波長が1.0nm高くなった641nmになる。半値幅は約1.2nmである。
したがって、2つのレーザ光L41,L42を合わせた総合的な特性で見ると、半値幅は約2.2nmになる。
本実施の形態の例の半導体レーザ装置100は、この図5Dに示すように、冷却水流路114の配置状態で、第1列1aの半導体レーザチップアレイ1の冷却温度と第2列1bの半導体レーザチップアレイ1の冷却温度とに約5℃の差を持たせる。このようにすることで、レーザ光の半値幅が約2.2nmになる。このため、全ての半導体レーザチップアレイ1の発光波長が同じ場合(図5Aの例)に比べて、半値幅が約2倍に広がり、背景技術の欄で説明したスペックルノイズの低減につながる。すなわち、半導体レーザ装置100から出力されるレーザ光をスクリーンに投影したとき、レーザ光の出力波長の出力スペクトル幅が狭い場合には、スクリーンで散乱した光が相互に干渉してスペックルノイズと称される画像のちらつきが発生する。ここで、本実施の形態の例の半導体レーザ装置100の場合には、図5Dに示すようにレーザ光の出力波長の出力スペクトル幅を約2倍に広げることができ、スペックルノイズを低減することができる。
本実施の形態の例の場合、温度差は冷却水流路114の配置状態で決まるため、第1列1aの半導体レーザチップアレイ1を25℃などの決められた温度に冷却することができれば、自動的に第2列1bの半導体レーザチップアレイ1の温度も決まる。したがって、本実施の形態の例の半導体レーザ装置100は、2つの列の温度を個別に制御する必要がなく、非常に簡単な構成および制御処理でスペックルノイズを低減できる良好な光源が得られる。
なお、図5Dに示すように2つの列で5℃の温度差を持たせるのは1つの例であり、またその温度差で得られる出力スペクトル幅についても一例を示すものであり、5℃を越える温度差を持たせるようにしてもよい。
一般的に半導体レーザ素子は、温度差を持たせる程、それぞれの出力波長が変化して、出力スペクトル幅を広げることができるが、温度が高い側の半導体レーザ素子がそれだけ高い温度で作動することになる。半導体レーザ素子の駆動時の温度が高いということは、素子の寿命をそれだけ縮める可能性がある。ここで、例えば半導体レーザ素子の好ましい冷却温度が25℃で、それより5℃高い30℃に冷却した場合には、半導体レーザ素子の寿命にそれほど影響を与えることなく、出力スペクトル幅を広げる作用を持たせることができる。なお、半導体レーザ素子の好ましい冷却温度が25℃であるとき、第1列1aを20℃に冷却し、第2列1bを25℃にするようにしてもよい。
なお、図5Dに示すように2つの列で5℃の温度差を持たせるのは1つの例であり、またその温度差で得られる出力スペクトル幅についても一例を示すものであり、5℃を越える温度差を持たせるようにしてもよい。
一般的に半導体レーザ素子は、温度差を持たせる程、それぞれの出力波長が変化して、出力スペクトル幅を広げることができるが、温度が高い側の半導体レーザ素子がそれだけ高い温度で作動することになる。半導体レーザ素子の駆動時の温度が高いということは、素子の寿命をそれだけ縮める可能性がある。ここで、例えば半導体レーザ素子の好ましい冷却温度が25℃で、それより5℃高い30℃に冷却した場合には、半導体レーザ素子の寿命にそれほど影響を与えることなく、出力スペクトル幅を広げる作用を持たせることができる。なお、半導体レーザ素子の好ましい冷却温度が25℃であるとき、第1列1aを20℃に冷却し、第2列1bを25℃にするようにしてもよい。
[4.変形例1の半導体レーザ装置の構成]
図6および図7は、本開示の一実施の形態の変形例1の半導体レーザ装置を示す図である。図6は半導体レーザ装置を示す斜視図であり、図7は図6のB−B線に沿う断面図である。
図6に示す例の半導体レーザ装置200は、冷却ジャケット210の表面211に、半導体レーザチップアレイ1を4列に配置した点が、図1例の半導体レーザ装置100と異なる。すなわち、図6に示すように、半導体レーザ装置200は、冷却ジャケット210の表面211に半導体レーザチップアレイ1を配置する列として、第1列1cと第2列1dと第3列1eと第4列1fとを備える。それぞれの列1c〜1fには、複数の半導体レーザチップアレイ1が配置してある。各半導体レーザチップアレイ1は、図4に示したように、複数の半導体レーザ素子10を備える。
図6および図7は、本開示の一実施の形態の変形例1の半導体レーザ装置を示す図である。図6は半導体レーザ装置を示す斜視図であり、図7は図6のB−B線に沿う断面図である。
図6に示す例の半導体レーザ装置200は、冷却ジャケット210の表面211に、半導体レーザチップアレイ1を4列に配置した点が、図1例の半導体レーザ装置100と異なる。すなわち、図6に示すように、半導体レーザ装置200は、冷却ジャケット210の表面211に半導体レーザチップアレイ1を配置する列として、第1列1cと第2列1dと第3列1eと第4列1fとを備える。それぞれの列1c〜1fには、複数の半導体レーザチップアレイ1が配置してある。各半導体レーザチップアレイ1は、図4に示したように、複数の半導体レーザ素子10を備える。
そして、冷却ジャケット210が内部に冷却水流路214を備える。この例の冷却水流路214はU字型であり、第1列1cと第4列1fの半導体レーザチップアレイ1の配置した領域の近傍に配置する。すなわち、図7に断面で示すように、冷却水流路214は、第1列1cの半導体レーザチップアレイ1を配置した領域の直下と、第4列1fの半導体レーザチップアレイ1を配置した領域の直下に配置する。そして、第2列1dと第3列1eの半導体レーザチップアレイ1を配置した領域の真下には、冷却水流路214を配置しない。
冷却水流路214はU字形状であるため、その冷却水流路214の一端と他端の冷却装置接続部221,222は、冷却ジャケット210の一方の側面213に並べて配置する。他方の側面212には、冷却装置接続部221,222を設けない。
この図6および図7に示す半導体レーザ装置200によると、4列の半導体レーザチップアレイ1の内で、第1列1cと第4列1fの2つの列の半導体レーザチップアレイ1は、近くを通過する冷却水流路214で高い冷却効率で冷却される。一方、第2列1dと第3列1eの2つの列の半導体レーザチップアレイ1は、冷却水流路214から離れているため、第1列1cと第4列1fよりも冷却効率が劣る。したがって、半導体レーザチップアレイ1の温度として、規定された温度に冷却される第1の群(第1列1c、第4列1f)と、第1の群よりも温度が高い第2の群(第2列1d、第3列1e)に分けられるようになる。
このように温度が異なる2つの群に分けられることで、半導体レーザチップアレイ1として、出力スペクトル幅が広い特性が得られる。例えば、第1の群と第2の群とで、例えば温度に5℃の違いが出るようにすれば、図5Dに示すような特性が得られる。
[5.変形例2の半導体レーザ装置の構成]
図8および図9は、本開示の一実施の形態の変形例2の半導体レーザ装置を示す図である。図8は半導体レーザ装置を示す斜視図であり、図9は図8のC−C線に沿う断面図である。図8に示す例の半導体レーザ装置200′は、冷却ジャケット210内に断熱空間215を設けた点が、図6に示す例の半導体レーザ装置200と異なる。
図8および図9は、本開示の一実施の形態の変形例2の半導体レーザ装置を示す図である。図8は半導体レーザ装置を示す斜視図であり、図9は図8のC−C線に沿う断面図である。図8に示す例の半導体レーザ装置200′は、冷却ジャケット210内に断熱空間215を設けた点が、図6に示す例の半導体レーザ装置200と異なる。
すなわち、冷却ジャケット210の表面211に4列に半導体レーザチップアレイ1を配置すると共に、外側の2列1c,1fの近くに冷却水流路214を配置し、冷却水流路214から離れた内側の2列1d,1eの近くに断熱空間215を設ける。この断熱空間215は、図9の断面で示すように、第2列1dと第3列1eの2つの列の真下に、比較的大きな容積で配置する。
このような断熱空間215を設けることで、内側の2列1d,1eの半導体レーザチップアレイ1で発する熱が冷却水流路214に伝わり難くなる。このため、外側の2列1c,1fの半導体レーザチップアレイ1と、内側の2列1d,1eとで、変形例1(図6例)よりも高い温度差をつけることが可能になる。
[6.変形例3の半導体レーザ装置の構成]
図10および図11は、本開示の一実施の形態の変形例3の半導体レーザ装置を示す図である。図10は半導体レーザ装置を示す斜視図であり、図11は図6のD−D線に沿う断面図である。
図10に示す例の半導体レーザ装置300は、冷却ジャケット310の表面311に、半導体レーザチップアレイ1を3列に配置した点が、図1例や図6例の半導体レーザ装置100,200と異なる。すなわち、図10に示すように、半導体レーザ装置300は、冷却ジャケット310の表面211に半導体レーザチップアレイ1を配置する列として、第1列1gと第2列1hと第3列1iとを備える。それぞれの列1g〜1iには、複数の半導体レーザチップアレイ1が配置してある。各半導体レーザチップアレイ1は、図4に示したように、複数の半導体レーザ素子10を備える。
図10および図11は、本開示の一実施の形態の変形例3の半導体レーザ装置を示す図である。図10は半導体レーザ装置を示す斜視図であり、図11は図6のD−D線に沿う断面図である。
図10に示す例の半導体レーザ装置300は、冷却ジャケット310の表面311に、半導体レーザチップアレイ1を3列に配置した点が、図1例や図6例の半導体レーザ装置100,200と異なる。すなわち、図10に示すように、半導体レーザ装置300は、冷却ジャケット310の表面211に半導体レーザチップアレイ1を配置する列として、第1列1gと第2列1hと第3列1iとを備える。それぞれの列1g〜1iには、複数の半導体レーザチップアレイ1が配置してある。各半導体レーザチップアレイ1は、図4に示したように、複数の半導体レーザ素子10を備える。
冷却ジャケット310は、内部に冷却水流路314を備える。この例の冷却水流路314はU字型であり、第1列1gと第3列1iの半導体レーザチップアレイ1の配置した領域の近傍に配置する。すなわち、図7に断面で示すように、冷却水流路314は、第1列1gの半導体レーザチップアレイ1を配置した領域の直下と、第3列1iの半導体レーザチップアレイ1を配置した領域の直下に配置する。そして、第2列1hの半導体レーザチップアレイ1を配置した領域の真下には、冷却水流路314を配置しない。
冷却水流路314はU字形状であるため、その冷却水流路314の一端と他端の冷却装置接続部321,322は、冷却ジャケット310の一方の側面313に並べて配置する。他方の側面312には、冷却装置接続部321,322を設けない。
この図10および図11に示す半導体レーザ装置300によると、第1列1gと第3列1iの2つの列の半導体レーザチップアレイ1は、近くを通過する冷却水流路314で高い冷却効率で冷却される。一方、第2列1hの半導体レーザチップアレイ1は、冷却水流路314から離れているため、第1列1gと第3列1iよりも冷却効率が劣る。したがって、半導体レーザチップアレイ1の温度として、設定された温度に冷却される第1の群(第1列1g、第3列1i)と、第1の群よりも温度が高い第2の群(第2列1h)に分けられるようになる。
ここで、各列1g〜1iが備える半導体レーザチップアレイ1の数が同じであるとすると、全体の2/3の半導体レーザチップアレイ1の冷却効率が高く、残りの1/3の半導体レーザチップアレイ1の冷却効率が劣ることになる。
したがって、この例では半導体レーザチップアレイ1の冷却温度が2つの群に分けられる点は他の例と同じであるが、温度が低い半導体レーザチップアレイ1の数と、温度が高い半導体レーザチップアレイ1の数とを相違させることができる。
したがって、この例では半導体レーザチップアレイ1の冷却温度が2つの群に分けられる点は他の例と同じであるが、温度が低い半導体レーザチップアレイ1の数と、温度が高い半導体レーザチップアレイ1の数とを相違させることができる。
[7.その他の変形例]
なお、本開示の半導体レーザ装置は、各図に示す構成に限定されるものではない。
例えば、本開示の半導体レーザ装置は、複数の半導体レーザ素子10が配置された半導体レーザチップアレイ1を、冷却ジャケット110,210,310に取り付けるようにした。これに対して、その他の形状の半導体レーザ素子を、冷却ジャケット110,210,310に取り付けるようにしてもよい。具体的には、φ9やφ5.6等のサイズの円形の金属ケースなどに納められた半導体レーザ素子(キャンパッケージ型レーザダイオード)をヒートシンクに固定した後、各冷却ジャケット110,210,310の表面111,211,312に配置するようにしてもよい。
なお、本開示の半導体レーザ装置は、各図に示す構成に限定されるものではない。
例えば、本開示の半導体レーザ装置は、複数の半導体レーザ素子10が配置された半導体レーザチップアレイ1を、冷却ジャケット110,210,310に取り付けるようにした。これに対して、その他の形状の半導体レーザ素子を、冷却ジャケット110,210,310に取り付けるようにしてもよい。具体的には、φ9やφ5.6等のサイズの円形の金属ケースなどに納められた半導体レーザ素子(キャンパッケージ型レーザダイオード)をヒートシンクに固定した後、各冷却ジャケット110,210,310の表面111,211,312に配置するようにしてもよい。
また、半導体レーザ素子10が取り付けられた部材である半導体レーザチップアレイ1についても、図4に示した構成は単なる一例を示したものであり、図4に示した構成に限定されない。例えば、図4の例では、ヒートシンク20上にサブマウント21を介して半導体レーザ素子10を取り付けるようにしたが、サブマウント21を省略して、ヒートシンク20上に直接半導体レーザ素子10を取り付けるようにしてもよい。このサブマウント21を省略した場合には、熱抵抗が下がる効果がある。但し、サブマウント21を省略した場合には、半導体レーザ素子10を接続する配線が複雑化する。すなわち、サブマウント21を省略した場合、半導体レーザ素子を配線で並列接続することになり、配線数が増えると共に電流への負荷が増加するなどのデメリットがある。
また、図5の特性図で説明した例では、1つの冷却ジャケット110の表面111に取り付けられた半導体レーザチップアレイ1は、出力波長が全て同じであるとした。これに対して、個々の半導体レーザチップアレイ1が備える半導体レーザ素子10の出力波長のばらつきを予め測定して、その測定結果に基づいて、各列に配置する半導体レーザチップアレイ1を決めるようにしてもよい。
例えば、個々の半導体レーザチップアレイ1に配置された半導体レーザ素子10の出力波長特性として、中心波長が640nmから640.5nmの範囲でばらつきがあるとする。このとき、中心波長が640nmに近い半導体レーザ素子10が取り付けられた半導体レーザチップアレイ1を、低い温度に冷却される列(図6の場合は第1列1a)に配置する。また、中心波長が640.5nmに近い半導体レーザ素子10が取り付けられた半導体レーザチップアレイ1を、高い温度になる列(図6の場合は第2列1b)に配置する。
このようにすることで、冷却温度の差による波長差と、個々の半導体レーザ素子10が持つばらつきによる波長差との相乗効果で、より大きな波長差を持たせることが可能になり、スペックルノイズを低減できる効果がより高くなる。
例えば、個々の半導体レーザチップアレイ1に配置された半導体レーザ素子10の出力波長特性として、中心波長が640nmから640.5nmの範囲でばらつきがあるとする。このとき、中心波長が640nmに近い半導体レーザ素子10が取り付けられた半導体レーザチップアレイ1を、低い温度に冷却される列(図6の場合は第1列1a)に配置する。また、中心波長が640.5nmに近い半導体レーザ素子10が取り付けられた半導体レーザチップアレイ1を、高い温度になる列(図6の場合は第2列1b)に配置する。
このようにすることで、冷却温度の差による波長差と、個々の半導体レーザ素子10が持つばらつきによる波長差との相乗効果で、より大きな波長差を持たせることが可能になり、スペックルノイズを低減できる効果がより高くなる。
また、個々の半導体レーザ素子10の出力レベルのばらつきについても考慮して、各列に配置する半導体レーザチップアレイ1を決めるようにしてもよい。すなわち、発光効率がよい半導体レーザ素子と、発光効率が悪い半導体レーザ素子とを混在させたとき、同一温度で使用した場合には、各半導体レーザ素子10の光出力に差が生じてしまう。ここで、発光効率が悪い半導体レーザ素子10が取り付けられた半導体レーザチップアレイ1を、低い温度に冷却される列(図6の場合は第1列1a)に配置する。また、発光効率が良い半導体レーザ素子10が取り付けられた半導体レーザチップアレイ1を、高い温度になる列(図6の場合は第2列1b)に配置する。
このようにすることで、冷却温度の差が出力レベルを補正するようにも働き、複数の半導体レーザ素子10の出力レベルのばらつきを補正することができるようになる。
なお、半導体レーザ素子10の出力波長特性のばらつきと、半導体レーザ素子10の出力レベルのばらつきの双方を組み合わせて、各列に配置する半導体レーザチップアレイ1を決めるようにしてもよい。
このようにすることで、冷却温度の差が出力レベルを補正するようにも働き、複数の半導体レーザ素子10の出力レベルのばらつきを補正することができるようになる。
なお、半導体レーザ素子10の出力波長特性のばらつきと、半導体レーザ素子10の出力レベルのばらつきの双方を組み合わせて、各列に配置する半導体レーザチップアレイ1を決めるようにしてもよい。
また、各例で説明した冷却ジャケットは、冷却水が流れる冷却水流路を設けるようにしたが、冷却水以外の冷却媒体を使用して冷却を行う冷却ジャケットに適用してもよい。
なお、本開示は以下のような構成も取ることができる。
(1)
それぞれが半導体レーザ素子を搭載した第1の群と第2の群とからなる複数の部材と、
前記第1の群の部材が配置される第1領域と、前記第2の群の部材が配置される第2領域とを表面に有する冷却ジャケットと、
前記冷却ジャケットの内部の前記第1領域の近傍で前記第2領域から離れたに配置され、冷却媒体が通過する冷却媒体流路とを備えた
半導体レーザ装置。
(2)
前記部材は、半導体レーザ素子をヒートシンク上に複数個配置したレーザ素子アレイ、または、サブマウント上の半導体レーザ素子をヒートシンク上に複数個配置したレーザ素子アレイである
前記(1)記載の半導体レーザ装置。
(3)
前記第1領域は、複数の領域に分割された領域であり、
前記第2領域は、前記第1領域の一方の領域と他方の領域との間に配置し、
前記冷却媒体流路は、前記一方の領域と前記他方の領域との近傍を通過するように配置した
前記(1)又は(2)記載の半導体レーザ装置。
(4)
前記第2領域の近傍の前記冷却ジャケット内に、前記冷却媒体が通過しない断熱用空間を配置した
前記(1)〜(3)のいずれか1項に記載の半導体レーザ装置。
(5)
搭載された半導体レーザ素子の出力レーザ光の個体差に基づいて、前記第1の群の部材と、前記第2の群の部材とに振り分け、
前記第1領域に配置された前記部材が搭載する半導体レーザ素子と、前記第2領域に配置された前記部材が搭載する半導体レーザ素子とで、出力レーザ光の波長の差又は出力レベルに差を持たせるようにした
前記(1)〜(4)のいずれか1項に記載の半導体レーザ装置。
(6)
半導体レーザ素子を搭載した部材が配置される第1領域と第2領域とを表面に有する冷却ジャケットと、
前記冷却ジャケットの内部の前記第1領域の近傍で前記第2領域から離れた位置に配置され、冷却媒体が通過する冷却媒体流路とを備えた
冷却装置。
(7)
前記第2領域の近傍の前記冷却ジャケット内に、前記冷却媒体が通過しない断熱用空間を配置した
前記(6)記載の冷却装置。
(1)
それぞれが半導体レーザ素子を搭載した第1の群と第2の群とからなる複数の部材と、
前記第1の群の部材が配置される第1領域と、前記第2の群の部材が配置される第2領域とを表面に有する冷却ジャケットと、
前記冷却ジャケットの内部の前記第1領域の近傍で前記第2領域から離れたに配置され、冷却媒体が通過する冷却媒体流路とを備えた
半導体レーザ装置。
(2)
前記部材は、半導体レーザ素子をヒートシンク上に複数個配置したレーザ素子アレイ、または、サブマウント上の半導体レーザ素子をヒートシンク上に複数個配置したレーザ素子アレイである
前記(1)記載の半導体レーザ装置。
(3)
前記第1領域は、複数の領域に分割された領域であり、
前記第2領域は、前記第1領域の一方の領域と他方の領域との間に配置し、
前記冷却媒体流路は、前記一方の領域と前記他方の領域との近傍を通過するように配置した
前記(1)又は(2)記載の半導体レーザ装置。
(4)
前記第2領域の近傍の前記冷却ジャケット内に、前記冷却媒体が通過しない断熱用空間を配置した
前記(1)〜(3)のいずれか1項に記載の半導体レーザ装置。
(5)
搭載された半導体レーザ素子の出力レーザ光の個体差に基づいて、前記第1の群の部材と、前記第2の群の部材とに振り分け、
前記第1領域に配置された前記部材が搭載する半導体レーザ素子と、前記第2領域に配置された前記部材が搭載する半導体レーザ素子とで、出力レーザ光の波長の差又は出力レベルに差を持たせるようにした
前記(1)〜(4)のいずれか1項に記載の半導体レーザ装置。
(6)
半導体レーザ素子を搭載した部材が配置される第1領域と第2領域とを表面に有する冷却ジャケットと、
前記冷却ジャケットの内部の前記第1領域の近傍で前記第2領域から離れた位置に配置され、冷却媒体が通過する冷却媒体流路とを備えた
冷却装置。
(7)
前記第2領域の近傍の前記冷却ジャケット内に、前記冷却媒体が通過しない断熱用空間を配置した
前記(6)記載の冷却装置。
また、本発明は上述した実施の形態例に限られるものではなく、特許請求の範囲に記載した本発明の要旨を逸脱しない限りその他種々の応用例、変形例を取り得ることは勿論である。
1…半導体レーザチップアレイ、1a…第1列、1b…第2列、1c…第1列、1d…第2列、1e…第3列、1f…第4列、1g…第1列、1h…第2列、1i…第3列、10…半導体レーザ素子、20…ヒートシンク、21…サブマウント、22…ワイヤ、23…ネジ孔、31…ネジ、100…半導体レーザ装置、110…冷却ジャケット、111…表面、114…冷却水流路、115…ネジ孔、121,122…冷却装置接続部、200…半導体レーザ装置、210…冷却ジャケット、211…表面、214…冷却水流路、215…断熱空間、221,222…冷却装置接続部、300…半導体レーザ装置、310…冷却ジャケット、311…表面、314…冷却水流路、321,322…冷却装置接続部
Claims (7)
- それぞれが半導体レーザ素子を搭載した第1の群と第2の群とからなる複数の部材と、
前記第1の群の部材が配置される第1領域と、前記第2の群の部材が配置される第2領域とを表面に有する冷却ジャケットと、
前記冷却ジャケットの内部の前記第1領域の近傍で前記第2領域から離れたに配置され、冷却媒体が通過する冷却媒体流路とを備えた
半導体レーザ装置。 - 前記部材は、半導体レーザ素子をヒートシンク上に複数個配置したレーザ素子アレイ、または、サブマウント上の半導体レーザ素子をヒートシンク上に複数個配置したレーザ素子アレイである
請求項1記載の半導体レーザ装置。 - 前記第1領域は、複数の領域に分割された領域であり、
前記第2領域は、前記第1領域の一方の領域と他方の領域との間に配置し、
前記冷却媒体流路は、前記一方の領域と前記他方の領域との近傍を通過するように配置した
請求項1記載の半導体レーザ装置。 - 前記第2領域の近傍の前記冷却ジャケット内に、前記冷却媒体が通過しない断熱用空間を配置した
請求項1記載の半導体レーザ装置。 - 搭載された半導体レーザ素子の出力レーザ光の個体差に基づいて、前記第1の群の部材と、前記第2の群の部材とに振り分け、
前記第1領域に配置された前記部材が搭載する半導体レーザ素子と、前記第2領域に配置された前記部材が搭載する半導体レーザ素子とで、出力レーザ光の波長の差又は出力レベルに差を持たせるようにした
請求項1記載の半導体レーザ装置。 - 半導体レーザ素子を搭載した部材が配置される第1領域と第2領域とを表面に有する冷却ジャケットと、
前記冷却ジャケットの内部の前記第1領域の近傍で前記第2領域から離れた位置に配置され、冷却媒体が通過する冷却媒体流路とを備えた
冷却装置。 - 前記第2領域の近傍の前記冷却ジャケット内に、前記冷却媒体が通過しない断熱用空間を配置した
請求項6記載の冷却装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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