JP2014114429A - Solvent-soluble polyimide resin - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、溶剤可溶性ポリイミド樹脂に関する。 The present invention relates to a solvent-soluble polyimide resin.
従来、ポリイミド樹脂は耐熱性や強度、電気絶縁性に優れることから電子材料用樹脂として多く使用されてきた。しかしながら、一般的なポリイミド樹脂は着色が強い為、用途に限界があった。 Conventionally, polyimide resins have been widely used as resins for electronic materials because of their excellent heat resistance, strength, and electrical insulation. However, since general polyimide resins are highly colored, their use is limited.
そこで、ポリイミド樹脂の色相改善の研究が行われ、ポリイミド樹脂原料にフッ素化合物を用いる手法が発見されている(非特許文献1)。しかしながら、フッ素原子を有するポリイミド樹脂原料は製造方法が難しく、高価である為に非経済的であった。 Therefore, research on improving the hue of polyimide resin has been conducted, and a technique using a fluorine compound as a polyimide resin raw material has been discovered (Non-Patent Document 1). However, the polyimide resin raw material having fluorine atoms is uneconomical because it is difficult to produce and expensive.
ポリイミド樹脂の色相改善についての別の手法として、ポリイミド樹脂原料に脂肪族または脂環式化合物を用いる研究が行われてきた。特に脂環式酸二無水物を用いる場合が色相改善に大きな効果があることが見出されてきた(非特許文献2)。また、ポリイミド樹脂に芳香環や多重結合を有する箇所を含む場合、紫外線を照射した際に色相の劣化が生じることが知られている(特許文献1)。その為、光学材料としては脂環ポリイミド樹脂が好ましいものと考えられている。 As another method for improving the hue of a polyimide resin, studies have been conducted using an aliphatic or alicyclic compound as a polyimide resin raw material. In particular, it has been found that the use of alicyclic acid dianhydrides has a great effect on hue improvement (Non-patent Document 2). Moreover, when the location which has an aromatic ring or a multiple bond is contained in a polyimide resin, it is known that the deterioration of a hue will arise when it irradiates with an ultraviolet-ray (patent document 1). Therefore, an alicyclic polyimide resin is considered preferable as an optical material.
また、ポリイミド成型品はその前駆体化合物であるポリアミド酸を熱イミド化反応して作成することが一般的に知られているが、その際に必要な温度は300℃以上と高温であり、製造工程上使用できない用途も出てきた。特に、脂環ポリアミド酸の場合、高温により熱分解が生じやすく、また、ポリイミド樹脂が着色する傾向があった。その為、熱イミド化反応を必要としない溶剤可溶性の脂環ポリイミド樹脂の開発が望まれている。 In addition, it is generally known that polyimide molded products are prepared by thermal imidization reaction of polyamic acid, which is a precursor compound, but the necessary temperature at that time is as high as 300 ° C or higher. Applications that cannot be used in the process have come out. In particular, in the case of alicyclic polyamic acid, thermal decomposition tends to occur at a high temperature, and the polyimide resin tends to be colored. Therefore, development of a solvent-soluble alicyclic polyimide resin that does not require a thermal imidization reaction is desired.
しかしながら、当該脂環ポリイミド樹脂は、その重合時において、原料のテトラカルボン酸とジアミンが強固な塩を形成する為に高分子量化が難しく、脆い成形体となることが多かった。溶剤可溶性の脂環ポリイミド樹脂としては水素化ピロメリット酸二無水物と4,4’−メチレンビス(シクロヘキシルアミン)との脂環ポリイミド樹脂が知られている(特許文献2)。当該ポリイミド樹脂は、無色透明性、耐熱性に優れているが、線膨張係数が60ppm/K以上と高く、溶剤可溶性の脂環ポリイミド樹脂として無色透明性、耐熱性を保持したまま、線膨張係数が小さいポリイミド樹脂が望まれていた。 However, the alicyclic polyimide resin is difficult to increase in molecular weight because the raw material tetracarboxylic acid and diamine form a strong salt during the polymerization, and often becomes a brittle molded product. As a solvent-soluble alicyclic polyimide resin, an alicyclic polyimide resin of hydrogenated pyromellitic dianhydride and 4,4'-methylenebis (cyclohexylamine) is known (Patent Document 2). The polyimide resin is excellent in colorless transparency and heat resistance, but has a linear expansion coefficient as high as 60 ppm / K or more, and retains colorless transparency and heat resistance as a solvent-soluble alicyclic polyimide resin while maintaining linear transparency coefficient and heat resistance. A polyimide resin having a small size has been desired.
本発明は、低線膨張係数、無色透明性及び耐熱性に優れた溶剤可溶性のポリイミド樹脂を提供することを目的とする。 An object of this invention is to provide the solvent-soluble polyimide resin excellent in the low linear expansion coefficient, colorless transparency, and heat resistance.
本発明者らは、上記の課題を解決すべく鋭意検討を進めた結果、特定のテトラカルボン酸二酸無水物と特定の脂環式ジアミン化合物を原料に用いることで、低線膨張係数、無色透明性及び耐熱性に優れた溶剤可溶性のポリイミド樹脂が得られることを見出だし、更に鋭意検討した結果、本発明を完成するに至った。 As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the present inventors have used a specific tetracarboxylic dianhydride and a specific alicyclic diamine compound as raw materials, resulting in a low linear expansion coefficient, colorlessness. As a result of finding out that a solvent-soluble polyimide resin excellent in transparency and heat resistance can be obtained, and further earnestly examining it, the present invention has been completed.
即ち、本発明は、以下のポリイミド樹脂を提供するものである。 That is, the present invention provides the following polyimide resins.
[項1]
一般式(1)
脂環式ジアミン化合物とを、モル比で該テトラカルボン酸二無水物100に対して、該脂環式ジアミン化合物90〜110の範囲でイミド化重合反応して得られる溶剤可溶性ポリイミド樹脂。
[Claim 1]
General formula (1)
A solvent-soluble polyimide resin obtained by imidation polymerization reaction of the alicyclic diamine compound with respect to the tetracarboxylic dianhydride 100 in a molar ratio in the range of the alicyclic diamine compound 90 to 110.
[項2]
脂環式ジアミン化合物が、下記一般式(2)のジアミン化合物で表される少なくとも1種である、項1に記載のポリイミド樹脂。
Item 2. The polyimide resin according to Item 1, wherein the alicyclic diamine compound is at least one kind represented by the diamine compound of the following general formula (2).
[項3]
項1に記載のポリイミド樹脂及び有機溶剤を含有するポリイミドワニス。
[Section 3]
Item 5. A polyimide varnish containing the polyimide resin according to item 1 and an organic solvent.
[項4]
項3に記載のポリイミドワニスを成形加工して得られるポリイミド成形体。
[Claim 4]
Item 5. A polyimide molded body obtained by molding the polyimide varnish according to Item 3.
[項5]
ポリイミド成形体が、膜状、フィルム状又はシート状の形態である、項4に記載のポリイミド成形体。
[Section 5]
Item 5. The polyimide molded body according to Item 4, wherein the polyimide molded body is in the form of a film, a film, or a sheet.
[項6]
ポリイミド成形体の線膨張係数が60ppm/K以下、全光線透過率が85%以上及びガラス転移温度が250℃以上である、項4又は5に記載のポリイミド成形体。
[Claim 6]
Item 6. The polyimide molded article according to item 4 or 5, wherein the polyimide molded article has a linear expansion coefficient of 60 ppm / K or less, a total light transmittance of 85% or more, and a glass transition temperature of 250 ° C or more.
[項7]
項4〜6の何れかに記載のポリイミド成形体からなるプラスチック基板。
[Claim 7]
Item 7. A plastic substrate comprising the polyimide molded body according to any one of Items 4 to 6.
[項8]
項7に記載のプラスチック基板を備えた電気部品又は電子部品。
[Section 8]
Item 8. An electrical component or electronic component comprising the plastic substrate according to Item 7.
[項9]
項1又は2に記載のポリイミド樹脂を使用した、耐熱絶縁材、耐熱塗料、耐熱コーティング材又は耐熱接着材。
[Claim 9]
Item 3. A heat-resistant insulating material, heat-resistant paint, heat-resistant coating material, or heat-resistant adhesive using the polyimide resin according to Item 1 or 2.
本発明によれば、低線膨張係数、無色透明性及び耐熱性に優れた溶剤可溶性のポリイミド樹脂を得ることができ、当該ポリイミド樹脂の成形体からなるプラスチック基板が電気部品、電子部品に使用できる。 According to the present invention, a solvent-soluble polyimide resin excellent in low linear expansion coefficient, colorless transparency and heat resistance can be obtained, and a plastic substrate formed of a molded body of the polyimide resin can be used for an electrical component and an electronic component. .
また、当該ポリイミド樹脂は、耐熱絶縁材、耐熱塗料、耐熱コーティング材、耐熱接着材に使用できる。 In addition, the polyimide resin can be used for heat-resistant insulating materials, heat-resistant paints, heat-resistant coating materials, and heat-resistant adhesives.
[溶剤可溶性ポリイミド樹脂]
本発明の溶剤可溶性ポリイミド樹脂は、一般式(1)
脂環式ジアミン化合物とを、イミド化重合反応を行うことにより得られる。
[Solvent-soluble polyimide resin]
The solvent-soluble polyimide resin of the present invention has the general formula (1)
It is obtained by performing an imidization polymerization reaction with an alicyclic diamine compound.
(テトラカルボン酸二無水物)
テトラカルボン酸二無水物は、上記一般式(1)で表される、ビシクロ[4.2.0]オクタン−3,4,7,8−テトラカルボン酸二無水物であり、本発明の溶剤可溶性ポリイミド樹脂の構成成分である。
(Tetracarboxylic dianhydride)
The tetracarboxylic dianhydride is a bicyclo [4.2.0] octane-3,4,7,8-tetracarboxylic dianhydride represented by the above general formula (1), and is a solvent of the present invention. It is a constituent component of a soluble polyimide resin.
一般式(1)で表されるテトラカルボン酸二無水物の製造方法としては光二量化反応が推奨される。具体例としては、テトラヒドロフタル酸無水物と無水マレイン酸の等モル量を、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒、酢酸エチル等のエステル系溶媒またはジオキサン等のエーテル系溶媒に溶解させて、高圧水銀ランプ等を用いて250〜400nmの光を照射することで当該テトラカルボン酸二無水物反応物を得ることができる。 As a method for producing the tetracarboxylic dianhydride represented by the general formula (1), a photodimerization reaction is recommended. As specific examples, equimolar amounts of tetrahydrophthalic anhydride and maleic anhydride are dissolved in a ketone solvent such as methyl ethyl ketone, an ester solvent such as ethyl acetate, or an ether solvent such as dioxane, and a high pressure mercury lamp or the like. The tetracarboxylic dianhydride reactant can be obtained by irradiating light of 250 to 400 nm using.
テトラカルボン酸二無水物は、テトラカルボン酸、又はテトラカルボン酸のモノ、ジ、トリ又はテトラ酸塩化物、及び、炭素数1〜4の低級アルコールとのモノ、ジ、トリ又はテトラエステルなどの誘導体として使用することもできる。 Tetracarboxylic dianhydrides include tetracarboxylic acids or mono, di, tri or tetra acid chlorides of tetracarboxylic acids and mono, di, tri or tetra esters of lower alcohols having 1 to 4 carbon atoms. It can also be used as a derivative.
テトラカルボン酸二無水物は、本発明の効果を妨げない範囲で、テトラカルボン酸二無水物の一部を他のテトラカルボン酸二無水物に置き換えて使用することができる。他のテトラカルボン酸二無水物としては、芳香族テトラカルボン酸二無水物、脂環式テトラカルボン酸二無水物、脂肪族テトラカルボン酸二無水物が挙げられる。 The tetracarboxylic dianhydride can be used by replacing a part of the tetracarboxylic dianhydride with another tetracarboxylic dianhydride as long as the effects of the present invention are not impaired. Other tetracarboxylic dianhydrides include aromatic tetracarboxylic dianhydrides, alicyclic tetracarboxylic dianhydrides, and aliphatic tetracarboxylic dianhydrides.
具体的には、芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、ピロメリット酸二無水物、3,3’ ,4,4’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、4,4’−オキシジフタル酸二無水物、2,2’ ,3,3’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,2’ ,3,3’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシフェニル)プロパン二無水物、1,1−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,2−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,1−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、4,4’−(p−フェニレンジオキシ)ジフタル酸二無水物、4,4’−(m−フェニレンジオキシ)ジフタル酸二無水物、2,3,6,7−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、1,4,5,8−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、1,2−エチレンビス(アンヒドロトリメリテート)、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−5(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)ナフト[1,2−c]フラン−1.3−ジオン及びそれらの誘導体などが例示される。 Specifically, examples of the aromatic tetracarboxylic dianhydride include pyromellitic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-diphenylsulfone tetracarboxylic dianhydride, and 4,4′-oxydiphthalic acid dianhydride. Anhydride, 2,2 ′, 3,3′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 2,2 ′, 3,3′-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis (3,4-di Carboxyphenyl) propane dianhydride, 2,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenoxyphenyl) propane dianhydride, 1,1 -Bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,1-bis (3,4-dicarboxyphenyl) ethane Dianhydride 1,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, bis (2,3-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, 4,4 ′-(p-phenylenedioxy) diphthalic dianhydride, 4,4 ′-(m-phenylenedioxy) diphthalic dianhydride, 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride 1,4,5,8-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 1,2-ethylenebis (anhydrotrimellitate), 1,3,3a, 4,5,9b-hexahydro-5 (tetrahydro- 2,5-dioxo-3-furanyl) naphtho [1,2-c] furan-1.3-dione and derivatives thereof are exemplified.
脂環式テトラカルボン酸二無水物としては、1,2,4,5−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,3−ジメチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸、1,2,3,4−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、2,3,5−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物、3,5,6−トリカルボキシノルボナン−2−酢酸二無水物、2,3,4,5−テトラヒドロフランテトラカルボン酸二無水物、5−(2,5−ジオキソテトラヒドロフラル)−3−メチル−3−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸二無水物、ビシクロ[2.2.2]−オクト−7−エン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物及びそれらの誘導体などが例示される。 Examples of the alicyclic tetracarboxylic dianhydride include 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1,3-dimethyl- 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic acid, 1,2,3,4-cyclopentanetetracarboxylic dianhydride, 2,3,5-tricarboxycyclopentylacetic acid dianhydride, 3,5,6- Tricarboxynorbonane-2-acetic acid dianhydride, 2,3,4,5-tetrahydrofurantetracarboxylic dianhydride, 5- (2,5-dioxotetrahydrofural) -3-methyl-3-cyclohexene-1 , 2-dicarboxylic dianhydride, bicyclo [2.2.2] -oct-7-ene-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride and derivatives thereof.
また、脂肪族テトラカルボン酸二無水物としては、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−ペンタンテトラカルボン酸二無水物及びそれらの誘導体などが例示される。 Examples of the aliphatic tetracarboxylic dianhydride include 1,2,3,4-butanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-pentanetetracarboxylic dianhydride, and derivatives thereof. Illustrated.
上記の他のテトラカルボン酸二無水物は、単独で又は2種以上を適宜混合して当該イミド化重合反応に供することができる。 Said other tetracarboxylic dianhydride can be used for the imidation polymerization reaction alone or in combination of two or more.
テトラカルボン酸二無水物の一部を上記の他のテトラカルボン酸二無水物に置き換えて使用する場合には、その使用量は全テトラカルボン酸二無水物のモル数に対して、好ましくは20モル%以下、より好ましくは10モル%以下、特に5モル%以下が推奨される。 When a part of the tetracarboxylic dianhydride is used in place of the other tetracarboxylic dianhydrides, the amount used is preferably 20 with respect to the total number of tetracarboxylic dianhydrides. A mol% or less, more preferably 10 mol% or less, particularly 5 mol% or less is recommended.
(脂環式ジアミン化合物)
脂環式ジアミン化合物は、本発明のポリイミド樹脂の構成成分である。脂環式ジアミン化合物は、特に制限はなく市販品や従来公知の製造方法により得られるものが使用できる。
(Alicyclic diamine compound)
The alicyclic diamine compound is a constituent component of the polyimide resin of the present invention. The alicyclic diamine compound is not particularly limited, and commercially available products or those obtained by a conventionally known production method can be used.
脂環式ジアミン化合物の具体例としては、ジアミノシクロヘキサン、ジアミノジシクロヘキシルメタン、ジメチルージアミノジシクロヘキシルメタン、テトラメチルージアミノジシクロヘキシルメタン、ジアミノジシクロヘキシルプロパン、ジアミノビシクロ[2.2.1]ヘプタン、ビス(アミノメチル)−ビシクロ[2.2.1]ヘプタン、3(4),8(9)−ビス(アミノメチル)トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン、1,3−ビスアミノメチルシクロヘキサン、イソホロンジアミンなどが例示される。これらの中でも、ジアミノシクロヘキサン、ジアミノジシクロヘキシルメタン、ジメチルージアミノジシクロヘキシルメタン、ジアミノビシクロ[2.2.1]ヘプタン、ビス(アミノメチル)−ビシクロ[2.2.1]ヘプタン、3(4),8(9)−ビス(アミノメチル)トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン、1,3−ビスアミノメチルシクロヘキサン、イソホロンジアミンが好ましい。特に好ましいジアミン化合物として、下記一般式(2)のジアミン化合物が挙げられる。これらの脂環式ジアミン化合物は、単独で使用してもよいし2種以上適宜混合して用いてもよい。
脂環式ジアミン化合物は、本発明の効果を妨げない範囲で、脂環式ジアミン化合物の一部を他のジアミン化合物に置き換えて使用することができる。他のジアミン化合物としては、芳香族ジアミン化合物、脂肪族ジアミン化合物が挙げられる。 The alicyclic diamine compound can be used by replacing a part of the alicyclic diamine compound with another diamine compound as long as the effects of the present invention are not hindered. Examples of other diamine compounds include aromatic diamine compounds and aliphatic diamine compounds.
具体的には、芳香族ジアミン化合物としては、m−フェニレンジアミン、p−フェニレンジアミン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルプロパン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,3’−ジアミノジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、3,4’−ジアミノジフェニルスルホン、3,3’−ジアミノジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノジフェニルスルフィド、3,4’−ジアミノジフェニルスルフィド、3,3’−ジアミノジフェニルスルフィド、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、4,4'−ビス(3−アミノフェノキシ)ビフェニル、ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]エーテル、ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]エーテル、9,9−ビス(4−アミノフェニル)フルオレン、O−トリジン、m−トリジンなどが例示される。 Specifically, examples of the aromatic diamine compound include m-phenylenediamine, p-phenylenediamine, 4,4′-diaminodiphenylmethane, 4,4′-diaminodiphenylpropane, 4,4′-diaminodiphenyl ether, 3,4 '-Diaminodiphenyl ether, 3,3'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone, 3,4'-diaminodiphenyl sulfone, 3,3'-diaminodiphenyl sulfone, 4,4'-diaminodiphenyl sulfide, 3 , 4′-diaminodiphenyl sulfide, 3,3′-diaminodiphenyl sulfide, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,4-bis (3 -Aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (3 Aminophenoxy) benzene, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfone, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (3-aminophenoxy) ) Phenyl] propane, 4,4′-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, 4,4′-bis (3-aminophenoxy) biphenyl, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] ether, bis [4 Examples include-(3-aminophenoxy) phenyl] ether, 9,9-bis (4-aminophenyl) fluorene, O-tolidine, m-tolidine and the like.
また、脂肪族ジアミン化合物の具体例としては、エチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、オクタメチレンジアミン、デカメチレンジアミンなどが例示される。 Specific examples of the aliphatic diamine compound include ethylene diamine, hexamethylene diamine, octamethylene diamine, and decamethylene diamine.
上記の他のジアミン化合物は、単独で又は2種以上を適宜混合して当該イミド化重合反応に供することができる。 The other diamine compounds described above can be used alone or in combination of two or more kinds for the imidation polymerization reaction.
脂環式ジアミン化合物の一部を上記の他のジアミン化合物に置き換えて使用する場合には、その使用量は全ジアミン化合物のモル数に対して、好ましくは20モル%以下、より好ましくは10モル%以下、特に5モル%以下が推奨される。 When a part of the alicyclic diamine compound is replaced with the other diamine compound, the amount used is preferably 20 mol% or less, more preferably 10 mol, based on the number of moles of the total diamine compound. % Or less, especially 5 mol% or less is recommended.
本発明に係るイミド化重合反応でのモル比は、全てのテトラカルボン酸二無水物100に対して、全てのジアミン化合物90〜110の範囲であり、より好ましくは95〜105の範囲であり、さらに好ましくは98〜102の範囲である。この範囲内でイミド化重合反応を行うことで、十分な重合度のポリイミド樹脂を得ることができる。 The molar ratio in the imidation polymerization reaction according to the present invention is in the range of all diamine compounds 90 to 110, more preferably in the range of 95 to 105, with respect to all tetracarboxylic dianhydrides 100. More preferably, it is the range of 98-102. By performing the imidization polymerization reaction within this range, a polyimide resin having a sufficient degree of polymerization can be obtained.
本明細書及び特許請求の範囲において、脂環式ジアミン化合物は、「ジアミン」の形態で記載しているが、反応性の向上の目的で且つ本発明の効果を奏する限り、それらの代わりにアミノ基の一部又は全部をイソシアネート基に変換した化合物やシリル化した化合物等を使用することができる。 In the present specification and claims, the alicyclic diamine compound is described in the form of “diamine”. However, as long as the effect of the present invention is exhibited for the purpose of improving the reactivity, an amino group is used instead. A compound obtained by converting a part or all of the group into an isocyanate group, a silylated compound, or the like can be used.
(反応溶媒)
本発明に係るイミド化重合反応で使用される反応溶媒は、イミド化重合反応より生成するポリイミド樹脂を溶解できるものであれば何れの反応溶媒でも良い。例えば、非プロトン性溶媒、フェノール系溶媒、エーテル系溶媒、カーボネート系溶媒などが好ましい例として挙げられる。
(Reaction solvent)
The reaction solvent used in the imidation polymerization reaction according to the present invention may be any reaction solvent as long as it can dissolve the polyimide resin produced from the imidization polymerization reaction. For example, preferred examples include aprotic solvents, phenol solvents, ether solvents, carbonate solvents, and the like.
非プロトン性溶媒の具体例としては、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン、N−メチルカプロラクタム、1,3−ジメチルイミダゾリジノン、テトラメチル尿素などのアミド系溶媒、γ−ブチロラクトン、γ−バレロラクトンなどのラクトン系溶媒、ヘキサメチルホスホリックアミド、ヘキサメチルホスフィントリアミドなどの含リン系アミド系溶媒、ジメチルスルホン、ジメチルスルホキシド、スルホランなどの含硫黄系溶媒、アセトン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサノンなどのケトン系溶媒、ピコリン、ピリジンなどのアミン系溶媒、酢酸(2−メトキシ−1−メチルエチル)などのエステル系溶媒などが例示される。 Specific examples of the aprotic solvent include N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, N-methylcaprolactam, 1,3-dimethylimidazolidinone, tetramethylurea and the like. Amide solvents, lactone solvents such as γ-butyrolactone, γ-valerolactone, phosphorus-containing amide solvents such as hexamethylphosphoric amide, hexamethylphosphine triamide, sulfur-containing dimethylsulfone, dimethylsulfoxide, sulfolane, etc. Examples thereof include a system solvent, a ketone solvent such as acetone, cyclohexane and methylcyclohexanone, an amine solvent such as picoline and pyridine, and an ester solvent such as acetic acid (2-methoxy-1-methylethyl).
フェノール系溶媒の具体例としては、フェノール、o−クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾール、2,3−キシレノール、2,4−キシレノール、2,5−キシレノール、2,6−キシレノール、3,4−キシレノール、3,5−キシレノールなどが例示される。 Specific examples of the phenol solvent include phenol, o-cresol, m-cresol, p-cresol, 2,3-xylenol, 2,4-xylenol, 2,5-xylenol, 2,6-xylenol, 3,4 -Xylenol, 3,5-xylenol and the like are exemplified.
エーテル系溶媒の具体例としては、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサンなどが例示される。 Specific examples of the ether solvent include ethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, triethylene glycol dimethyl ether, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane and the like.
また、カーボネート系溶媒の具体例としては、ジエチルカーボネート、メチルエチルカーボネート、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネートなどが例示される。上記の反応溶媒は単独で又は2種類以上混合して用いてもよい。 Specific examples of the carbonate solvent include diethyl carbonate, methyl ethyl carbonate, ethylene carbonate, propylene carbonate, and the like. You may use said reaction solvent individually or in mixture of 2 or more types.
これらの反応溶媒の中でも、特に、N−メチル−2−ピロリドン、1,3−ジメチルイミダゾリジノン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、γ−ブチロラクトンが推奨される。 Among these reaction solvents, N-methyl-2-pyrrolidone, 1,3-dimethylimidazolidinone, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, and γ-butyrolactone are particularly recommended.
反応溶媒の使用量としては、生成する全脂環ポリイミド樹脂を溶解できる量であれば良い。具体的な全脂環ポリイミド樹脂の濃度としては、好ましくは5〜50重量%、より好ましくは10〜40重量%、さらに好ましくは10〜30重量%となるように調整することが推奨される。 The amount of the reaction solvent used may be an amount that can dissolve the produced all-alicyclic polyimide resin. It is recommended that the specific concentration of the total alicyclic polyimide resin be adjusted to preferably 5 to 50% by weight, more preferably 10 to 40% by weight, and still more preferably 10 to 30% by weight.
反応溶媒は、本発明に係るポリイミドワニスを構成する有機溶剤と同一でも異なってもよいが、溶媒置換の作業等の煩雑さを考慮すると同一であることが好ましい。 The reaction solvent may be the same as or different from the organic solvent constituting the polyimide varnish according to the present invention, but is preferably the same in consideration of the complexity of the solvent replacement operation.
(イミド化重合反応)
イミド化重合反応の方法としては、(1)反応溶媒と少量の共沸溶剤の存在下でテトラカルボン酸二無水物とジアミン化合物とを加熱し、生成水を共沸により系外に留去させる熱イミド化方法、(2)ポリイミド前駆体のポリアミド酸を製造後、無水酢酸、無水プロピオン酸等の酸無水物、又はジシクロヘキシルカルボジイミド等のカルボジイミド化合物の脱水作用を用いる化学イミド化方法、(3)ポリイミド前駆体のポリアミド酸を製造後、300℃以上に加熱する熱イミド化方法等が挙げられる。
(Imidation polymerization reaction)
As a method of imidation polymerization reaction, (1) tetracarboxylic dianhydride and diamine compound are heated in the presence of a reaction solvent and a small amount of azeotropic solvent, and the generated water is distilled out of the system by azeotropic distillation. Thermal imidization method, (2) Chemical imidization method using dehydration action of carbodiimide compounds such as acid anhydrides such as acetic anhydride and propionic anhydride, or dicyclohexylcarbodiimide after producing polyamic acid as polyimide precursor, (3) Examples thereof include a thermal imidization method in which a polyamic acid as a polyimide precursor is produced and then heated to 300 ° C. or higher.
上記ポリイミド樹脂の製造方法のうち(1)の熱イミド化方法が工業的に好ましく、例えば、反応溶媒中にテトラカルボン酸二無水物及びジアミン化合物全量を溶解させるか、又はテトラカルボン酸二無水物及び/又はジアミン化合物の一部を段階的に溶解後、好ましくは100〜250℃、より好ましくは150〜200℃に加熱し、共沸溶剤により系中の生成水を留去してイミド化重合反応する方法が挙げられる。 Of the above polyimide resin production methods, the thermal imidation method (1) is industrially preferable. For example, the total amount of tetracarboxylic dianhydride and diamine compound is dissolved in the reaction solvent, or tetracarboxylic dianhydride is dissolved. And / or after partially dissolving the diamine compound, it is preferably heated to 100 to 250 ° C., more preferably 150 to 200 ° C., and water formed in the system is distilled off with an azeotropic solvent to perform imidization polymerization. The method of reacting is mentioned.
また、テトラカルボン酸二無水物に対して、ジアミン化合物を過剰に用いることによりポリイミド樹脂のポリマー末端をアミン末端とすることができ、一方、テトラカルボン酸二無水物をジアミン化合物より過剰に用いることによりポリイミド樹脂のポリマー末端を酸末端とすることができる。 Moreover, the polymer terminal of a polyimide resin can be made into an amine terminal by using a diamine compound excessively with respect to tetracarboxylic dianhydride, On the other hand, using tetracarboxylic dianhydride more excessively than a diamine compound. Thus, the polymer terminal of the polyimide resin can be made an acid terminal.
上記の生成水を系外に留去するための共沸溶剤としては、トルエン、キシレン、ソルベントナフサ等の芳香族炭化水素、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ジメチルシクロヘキサン等の脂環族炭化水素等が例示され、これらは単独で又は混合系として用いることができる。その使用量としては、反応溶媒量に対して通常1〜30重量%程度、好ましくは5〜10重量%程度である。 Examples of the azeotropic solvent for distilling the generated water out of the system include aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene and solvent naphtha, and alicyclic hydrocarbons such as cyclohexane, methylcyclohexane and dimethylcyclohexane. These can be used alone or as a mixed system. The amount used is usually about 1 to 30% by weight, preferably about 5 to 10% by weight, based on the amount of the reaction solvent.
反応系内は、その反応系の着色防止及び安全性の観点から、不活性ガス雰囲気下とすることが望ましい。通常、不活性ガスで反応系内を置換し、反応中は不活性ガスを流通させるおく方法が推奨される。不活性ガスとしては、窒素、アルゴンなどが例示される。 The inside of the reaction system is desirably an inert gas atmosphere from the viewpoint of preventing coloration and safety of the reaction system. Usually, a method of replacing the inside of the reaction system with an inert gas and allowing the inert gas to flow during the reaction is recommended. Examples of the inert gas include nitrogen and argon.
本発明に係るイミド化重合反応において、公知の触媒を使用することができる。しかし、後処理が煩雑になること、また、使用触媒が微量残存することによるポリイミドワニスの貯蔵安定性の悪化及びポリイミドワニスの着色などの観点から、無触媒下で該反応を行うことが好ましい。 In the imidation polymerization reaction according to the present invention, a known catalyst can be used. However, it is preferable to carry out the reaction in the absence of a catalyst from the viewpoints of complicated post-treatment, deterioration of the storage stability of the polyimide varnish due to the residual amount of catalyst used, and coloring of the polyimide varnish.
触媒を使用する場合には、例えば、塩基触媒としては、ピリジン、キノリン、イソキノリン、α−ピコリン、β−ピコリン、2,4−ルチジン、2,6−ルチジン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、イミダゾール、N,N−ジメチルアニリン、N,N−ジエチルアニリンなどの有機塩基触媒、水酸化カリウムや水酸化ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウムで代表される無機塩基触媒が例示される。 When a catalyst is used, for example, pyridine, quinoline, isoquinoline, α-picoline, β-picoline, 2,4-lutidine, 2,6-lutidine, trimethylamine, triethylamine, tripropylamine, trimethylamine, Organic base catalysts such as butylamine, imidazole, N, N-dimethylaniline, N, N-diethylaniline, inorganic bases represented by potassium hydroxide, sodium hydroxide, potassium carbonate, sodium carbonate, potassium bicarbonate, sodium bicarbonate Examples are catalysts.
また、酸触媒としては、クロトン酸、アクリル酸、トランス−3−ヘキセノイック酸、桂皮酸、安息香酸、メチル安息香酸、オキシ安息香酸、テレフタル酸、ベンゼンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸などが例示される。 Examples of the acid catalyst include crotonic acid, acrylic acid, trans-3-hexenoic acid, cinnamic acid, benzoic acid, methylbenzoic acid, oxybenzoic acid, terephthalic acid, benzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, naphthalenesulfonic acid, and the like. Is exemplified.
イミド化重合反応の反応時間は、仕込み比率、基質濃度などにもよるが、 生成水の留出開始後、通常2〜10時間程度が好ましい。反応時間が短すぎる場合には、イミド化率が低くなる傾向が認められる。反応時間が長すぎる場合には、部分的に熱架橋反応を起こして反応系が増粘したりゲル状物が副生したり、また、反応溶媒の熱劣化により反応系が着色することがある。 The reaction time of the imidation polymerization reaction is preferably about 2 to 10 hours after the start of distilling of the produced water, although it depends on the charging ratio and the substrate concentration. When reaction time is too short, the tendency for imidation ratio to become low is recognized. If the reaction time is too long, the reaction system may partially cause a thermal crosslinking reaction to thicken the reaction system or form a gel-like material, or the reaction system may be colored due to thermal degradation of the reaction solvent. .
イミド化重合反応で得られる本発明のポリイミド樹脂の数平均分子量は、好ましくは6,000以上、且つ、重量平均分子量が10,000以上であり、より好ましくは数平均分子量が6,000〜100,000で、且つ、重量平均分子量が10,000〜500,000の範囲のものである。この範囲は、特に成形体を与えることができる程度の重合度を有している範囲である。なお、本明細書及び特許請求範囲においてポリイミド樹脂の分子量は、後術の実施例に記載した方法で測定された値である。 The number average molecular weight of the polyimide resin of the present invention obtained by imidation polymerization reaction is preferably 6,000 or more, and the weight average molecular weight is 10,000 or more, more preferably the number average molecular weight is 6,000 to 100. And a weight average molecular weight in the range of 10,000 to 500,000. This range is a range having a degree of polymerization that can give a molded product. In addition, in this specification and a claim, the molecular weight of a polyimide resin is the value measured by the method described in the Example of the postoperative.
上記イミド化重合反応におけるイミド化率は、通常70%以上、好ましくは80%以上、より好ましくは90%以上、特に95%以上が推奨される。さらに、ポリイミド樹脂の使用用途によってはイミド化率を100%に近づけることが望ましい場合もある。 The imidation rate in the imidation polymerization reaction is usually 70% or more, preferably 80% or more, more preferably 90% or more, and particularly 95% or more. Furthermore, it may be desirable to make the imidization rate close to 100% depending on the use application of the polyimide resin.
その他に、本発明の効果を損なわない範囲において、分子量制御等を目的に、この分野で使用される公知の1官能の酸無水物やモノアミン等をエンドキャップ剤として併用することができる。該エンドキャップ剤の具体例としては、酸無水物では無水フタル酸、無水マレイン酸、無水ナジック酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸など、モノアミンではアニリン、メチルアニリン、アリルアミンなどが例示される。 In addition, known monofunctional acid anhydrides, monoamines and the like used in this field can be used in combination as an end cap agent for the purpose of controlling the molecular weight and the like within a range not impairing the effects of the present invention. Specific examples of the end cap agent include phthalic anhydride, maleic anhydride, nadic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, etc. for acid anhydrides, and aniline, methylaniline, allylamine, etc. for monoamines. .
[ポリイミドワニス]
本発明のポリイミドワニスは、ポリイミド樹脂と有機溶剤とを含有することを特徴とするものである。
[Polyimide varnish]
The polyimide varnish of the present invention is characterized by containing a polyimide resin and an organic solvent.
ポリイミドワニスの調製方法としては、(i)イミド化重合反応で得られたポリイミド樹脂の反応溶媒溶液をそのままポリイミドワニスとする方法、(ii)イミド化重合反応で得られたポリイミド樹脂の反応溶媒溶液からポリイミド樹脂を単離し、次いで所望の有機溶剤に単離したポリイミド樹脂を溶解させてポリイミドワニスを得る方法などが例示される。 As a method for preparing a polyimide varnish, (i) a method of using a reaction solvent solution of a polyimide resin obtained by an imidization polymerization reaction as it is as a polyimide varnish, (ii) a reaction solvent solution of a polyimide resin obtained by an imidization polymerization reaction Examples are a method of obtaining a polyimide varnish by isolating a polyimide resin from the following and then dissolving the isolated polyimide resin in a desired organic solvent.
ポリイミドワニスの粘度として所望の用途により適宜選択することができるが、好ましくは、0.1〜500Pa・s、より好ましくは1〜100Pa・sである。 Although it can select suitably as a viscosity of a polyimide varnish by a desired use, Preferably it is 0.1-500 Pa.s, More preferably, it is 1-100 Pa.s.
ポリイミドワニス中のポリイミド樹脂の濃度としては、好ましくは5〜50重量%であり、より好ましくは10〜40重量%、さらに好ましくは10〜30重量%となるように調整することが推奨される。 The concentration of the polyimide resin in the polyimide varnish is preferably 5 to 50% by weight, more preferably 10 to 40% by weight, and further preferably 10 to 30% by weight.
有機溶剤は、本発明に係るポリイミド樹脂を溶解させることができる有機溶剤であれば特に限定されないが、具体的には上記の反応溶媒として例示したものが挙げられる。これらは単独で又は混合系として用いることもできる。これらのうち特に、N−メチル−2−ピロリドン、1,3−ジメチルイミダゾリジノン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、γ−ブチロラクトンが推奨される。 The organic solvent is not particularly limited as long as it is an organic solvent capable of dissolving the polyimide resin according to the present invention, and specific examples include those exemplified as the reaction solvent. These can be used alone or as a mixed system. Among these, N-methyl-2-pyrrolidone, 1,3-dimethylimidazolidinone, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, and γ-butyrolactone are recommended.
また、ポリイミドワニスからポリイミド樹脂の塗膜を得る際に、乾燥工程を効率よく行う目的で、有機溶剤の一部を低沸点溶剤に代えることができる。係る低沸点溶剤としては、トルエン、キシレン、ソルベントナフサ等の芳香族炭化水素や、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ジメチルシクロヘキサン等の脂環式炭化水素、プロピレングリコールモノメチルエーテル、又はアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類が例示される。これらの低沸点溶剤を使用する場合、その使用量は、全有機溶剤量に対して、好ましくは1〜30重量%、より好ましくは、5〜20重量%の範囲が推奨される。 Moreover, when obtaining the coating film of a polyimide resin from a polyimide varnish, a part of organic solvent can be replaced with a low boiling point solvent for the purpose of performing a drying process efficiently. Such low boiling point solvents include aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, solvent naphtha, alicyclic hydrocarbons such as cyclohexane, methylcyclohexane, dimethylcyclohexane, propylene glycol monomethyl ether, or acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, etc. The ketones are exemplified. When these low-boiling solvents are used, the amount used is preferably 1 to 30% by weight, more preferably 5 to 20% by weight, based on the total amount of organic solvent.
また、本発明のポリイミドワニスには、本発明の効果を妨げない範囲でその他の成分を添加しても良い。例えば、ポリエステル樹脂、ポリイミド樹脂(本発明のポリイミド樹脂を除く。)、ポリアミドイミド樹脂、ポリアミド樹脂などの高分子化合物、平滑剤、レベリング剤、脱泡剤、難燃剤、消泡剤、酸化防止剤などが例示される。 Moreover, you may add another component to the polyimide varnish of this invention in the range which does not inhibit the effect of this invention. For example, polyester resin, polyimide resin (excluding the polyimide resin of the present invention), polymer compound such as polyamideimide resin, polyamide resin, smoothing agent, leveling agent, defoaming agent, flame retardant, antifoaming agent, antioxidant Etc. are exemplified.
かくして得られるポリイミドワニスは、貯蔵安定性に優れ、種々用途に使用される。 The polyimide varnish thus obtained is excellent in storage stability and used for various purposes.
[ポリイミド成形体]
本発明のポリイミド成形体は、本ポリイミドワニスを成形加工して得られるものである。成形加工する方法としては、特に制限なく従来公知の方法が使用できる。
例えば、該ポリイミドワニスを、基板に塗布した後(膜状、フィルム状又はシート状に塗布若しくは成形した後)、該ポリイミドワニスから有機溶媒を除去して、膜状、フィルム状又はシート状のポリイミド成形体に成形する方法などが例示される。
[Polyimide molded product]
The polyimide molded body of the present invention is obtained by molding the polyimide varnish. As a method for molding, a conventionally known method can be used without any particular limitation.
For example, after the polyimide varnish is applied to a substrate (after being applied or formed into a film, film, or sheet), the organic solvent is removed from the polyimide varnish to form a film, film, or sheet polyimide. The method etc. which shape | mold into a molded object are illustrated.
ポリイミド成形体を製造する例としては、PET基板(ポリエチレンテレフタレート基板)上にポリイミドワニスをキャストし、真空乾燥機内(減圧度1〜10mmHg)で、室温にて30分〜2時間、さらに約200℃まで30分〜2時間で昇温し、その温度で1〜4時間溶剤を留去させる。室温まで冷却後、真空乾燥機からPET基板上に形成されたポリイミドフィルムを取出し、PET基板から剥離する。剥離したポリイミドフィルムをステンレス製の金属枠に固定し、再び真空乾燥機にて、室温から230〜280℃まで1〜4時間で昇温し、その温度で2〜5時間乾燥し溶剤を完全に留去し、室温まで冷却後、真空乾燥機から取出すことでポリイミドフィルムを得ることができる。このように得られたポリイミドフィルムの厚みは、キャスト時の塗工厚みを調整することで目的の厚さに調整する方法が挙げられる。 As an example of producing a polyimide molded body, a polyimide varnish is cast on a PET substrate (polyethylene terephthalate substrate), and is placed in a vacuum dryer (decompression degree 1 to 10 mmHg) at room temperature for 30 minutes to 2 hours, and further about 200 ° C Until 30 minutes to 2 hours, and the solvent is distilled off at that temperature for 1 to 4 hours. After cooling to room temperature, the polyimide film formed on the PET substrate is taken out from the vacuum dryer and peeled off from the PET substrate. Fix the peeled polyimide film to a stainless steel metal frame, and again raise the temperature from room temperature to 230 to 280 ° C. in 1 to 4 hours in a vacuum dryer, and dry at that temperature for 2 to 5 hours to completely remove the solvent. After distilling off and cooling to room temperature, a polyimide film can be obtained by taking out from the vacuum dryer. A method of adjusting the thickness of the polyimide film thus obtained to a target thickness by adjusting the coating thickness at the time of casting can be mentioned.
本発明のポリイミド樹脂の線膨張係数の範囲は好ましくは60ppm/K以下であり、さらに好ましくは58ppm/K以下、特に56ppm/K以下が好ましい。線膨張係数は、本明細書及び特許請求の範囲において、後述の実施例に記載した方法にて得られる値である。例えば、上記の線膨張係数の範囲は、特に有機EL等の透明フレキシブル基板用途では有効な範囲である。 The range of the linear expansion coefficient of the polyimide resin of the present invention is preferably 60 ppm / K or less, more preferably 58 ppm / K or less, and particularly preferably 56 ppm / K or less. The linear expansion coefficient is a value obtained by the method described in Examples described later in the present specification and claims. For example, the range of the above linear expansion coefficient is an effective range particularly for the use of a transparent flexible substrate such as an organic EL.
本発明のポリイミド樹脂の無色透明性は、全光線透過率で評価することができる。全光線透過率の範囲は、好ましくは80%以上であり、さらに好ましくは85%以上、特に90%以上が好ましい。全光線透過率は、本明細書及び特許請求の範囲において、後述の実施例に記載した方法にて得られる値である。例えば、上記の全光線透過率の範囲は、特に無色透明性を要求される用途では有効な範囲である。 The colorless transparency of the polyimide resin of the present invention can be evaluated by the total light transmittance. The range of the total light transmittance is preferably 80% or more, more preferably 85% or more, and particularly preferably 90% or more. The total light transmittance is a value obtained by the method described in Examples described later in this specification and claims. For example, the above-mentioned total light transmittance range is an effective range particularly in applications requiring colorless transparency.
本発明のポリイミド樹脂の耐熱性は、ガラス転移温度で評価することができる。ガラス転移温度の範囲は好ましくは250℃以上であり、さらに好ましくは280℃以上、特に300℃以上が好ましい。ガラス転移温度は、本明細書及び特許請求の範囲において、後述の実施例に記載した方法にて得られる値である。例えば、上記のガラス転移温度の範囲は、特に耐熱性を要求される用途では有効な範囲である。 The heat resistance of the polyimide resin of the present invention can be evaluated by the glass transition temperature. The range of the glass transition temperature is preferably 250 ° C. or higher, more preferably 280 ° C. or higher, and particularly preferably 300 ° C. or higher. The glass transition temperature is a value obtained by the method described in Examples described later in the present specification and claims. For example, the above glass transition temperature range is an effective range particularly in applications requiring heat resistance.
[プラスチック基板/電気部品・電子部品]
本発明のプラスチック基板は、上記ポリイミド成形体からなることを特徴とする。その製造方法は、従来公知の製造方法を用いることができる。
[Plastic substrates / Electric and electronic components]
The plastic substrate of the present invention is characterized by comprising the polyimide molded body. As the manufacturing method, a conventionally known manufacturing method can be used.
該プラスチック基板は、本発明のポリイミド成形体が低い線膨張係数、高い全光線透過率及び高いガラス転移温度を有することにより、例えば、フレキシブル透明基板などに好適に使用される。 The plastic substrate is suitably used for, for example, a flexible transparent substrate because the polyimide molded body of the present invention has a low coefficient of linear expansion, a high total light transmittance, and a high glass transition temperature.
また、フレキシブル透明基板は、電気部品又は電子部品で数多く使用されており、例えば、電子ペーパー、有機太陽電池、有機EL照明、フレキシブル液晶ディスプレーなどの部品として好適に使用される。 Moreover, many flexible transparent substrates are used by an electrical component or an electronic component, for example, are used suitably as components, such as electronic paper, an organic solar cell, organic EL lighting, and a flexible liquid crystal display.
[耐熱絶縁材/耐熱塗料/耐熱コーティング材/耐熱接着材]
本発明の耐熱絶縁材、耐熱塗料、耐熱コーティング材又は耐熱接着材は本発明のポリイミド樹脂を使用したものである。 その製造方法は、従来公知の製造方法を用いることができる。何れも、該ポリイミド樹脂が低い線膨張係数、高い全光線透過率及び高いガラス転移温度を有することから、好適に使用される。
[Heat-resistant insulation / heat-resistant paint / heat-resistant coating / heat-resistant adhesive]
The heat-resistant insulating material, heat-resistant coating material, heat-resistant coating material or heat-resistant adhesive material of the present invention uses the polyimide resin of the present invention. As the manufacturing method, a conventionally known manufacturing method can be used. In any case, the polyimide resin is suitably used because it has a low linear expansion coefficient, a high total light transmittance, and a high glass transition temperature.
以下に実施例を示し、本発明を更に詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例によって制限されるものではない。尚、実施例及び比較例中の各特性の測定方法、化合物の略称は以下の通りである。 The present invention will be described in more detail with reference to the following examples, but the present invention is not limited to these examples. In addition, the measuring method of each characteristic in an Example and a comparative example and the abbreviation of a compound are as follows.
<化合物の略号>
[テトラカルボン酸二無水物(A)]
BCODA:ビシクロ[4.2.0]オクタン−3,4,7,8−テトラカルボン酸二無水物
HPMDA:1,2,4,5−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物
BTA−H:ビシクロ[2.2.2]オクタン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物
CBDA:1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物
TDA:4−(2,5−ジオキソテトラヒドロフランー3−イル)−1,2,3,4−テトラヒドロナフタレンー1,2−ジカルボン酸無水物
[ジアミン化合物(B)]
HDAM:4,4’−メチレンビス(シクロヘキシルアミン)
TCDDA:3(4),8(9)−ビス(アミノメチル)トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン
NBDA: ノルボルナンジアミン
DMHDAM:2,2‘−ジメチル−4,4’−メチレンビス(シクロヘキシルアミン)
[反応溶媒]
NMP :N−メチル−2−ピロリドン
[シリル化剤]
BSA :N,O−ビス(トリメチルシリル)アセトアミド
<Abbreviation of compound>
[Tetracarboxylic dianhydride (A)]
BCODA: Bicyclo [4.2.0] octane-3,4,7,8-tetracarboxylic dianhydride HPMDA: 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride BTA-H: Bicyclo [2 2.2] Octane-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride CBDA: 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride TDA: 4- (2,5-dioxotetrahydrofuran N-3-yl) -1,2,3,4-tetrahydronaphthalene-1,2-dicarboxylic anhydride [diamine compound (B)]
HDAM: 4,4′-methylenebis (cyclohexylamine)
TCDDA: 3 (4), 8 (9) -bis (aminomethyl) tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane NBDA: norbornanediamine DMHDAM: 2,2′-dimethyl-4,4′-methylenebis (Cyclohexylamine)
[Reaction solvent]
NMP: N-methyl-2-pyrrolidone [silylating agent]
BSA: N, O-bis (trimethylsilyl) acetamide
<ポリイミド樹脂の数平均分子量と重量平均分子量>
ポリイミド樹脂の反応溶液(ポリイミドワニス)約1gをN,N−ジメチルホルムアミド約30mlで希釈して、分子量測定用の試料溶液を調製する。ゲルパーミエーションクロマトクラフィー(GPC)を用いて下記の測定条件でポリスチレン換算の数平均分子量(Mn)及び重量平均分子量(Mw)を求めた。
[測定条件]
装置:東ソー株式会社製 EcoSEC HLC−8320GPC
カラム:東ソー株式会社製 SuperH−Hを1本とSuperHM−Mを3本直列に連結
カラム温度:40℃
溶離液:(5.15mmol/L−臭化リチウム+5.10mmol/L−リン酸)/N,N−ジメチルホルムアミド
流速:0.5mL/min
検出器:RI
<Number average molecular weight and weight average molecular weight of polyimide resin>
About 1 g of a polyimide resin reaction solution (polyimide varnish) is diluted with about 30 ml of N, N-dimethylformamide to prepare a sample solution for molecular weight measurement. The number average molecular weight (Mn) and weight average molecular weight (Mw) in terms of polystyrene were determined under the following measurement conditions using gel permeation chromatography (GPC).
[Measurement condition]
Device: EcoSEC HLC-8320GPC manufactured by Tosoh Corporation
Column: manufactured by Tosoh Corporation One SuperH-H and three SuperHM-Ms connected in series Column temperature: 40 ° C
Eluent: (5.15 mmol / L-lithium bromide + 5.10 mmol / L-phosphoric acid) / N, N-dimethylformamide Flow rate: 0.5 mL / min
Detector: RI
<溶剤溶解性の評価>
溶剤可溶性は、イミド化重合反応終了後、ポリイミド樹脂の濃度を15重量%に調整し、24時間室温で放置した後の状態を目視で観察して評価した。その評価の基準は次のとおりである。該基準では、○が溶剤可溶性に優れる。×が溶剤可溶性に劣るとの評価になる。その評価の基準は、次のとおりである。
○:24時間放置した後も、析出物の発生も反応溶液のゲル化も全く認められなかった。
×:24時間以内に、析出物の発生または反応溶液のゲル化が明らかに認められた。
<Evaluation of solvent solubility>
Solvent solubility was evaluated by visually observing the state after adjusting the concentration of the polyimide resin to 15% by weight after completion of the imidation polymerization reaction and leaving it at room temperature for 24 hours. The criteria for the evaluation are as follows. On the basis of this criterion, ◯ is excellent in solvent solubility. It becomes evaluation that x is inferior to solvent solubility. The criteria for the evaluation are as follows.
○: Neither generation of precipitate nor gelation of the reaction solution was observed even after standing for 24 hours.
X: Generation of precipitates or gelation of the reaction solution was clearly observed within 24 hours.
<線膨張係数>
JIS K7197(1991年)に準拠し、ポリイミドフィルム(40μm)を順風乾燥機内で300℃×30分間加熱して応力緩和処理を行った。このフィルムから切り取った4.0×10.0mmをエスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社製TMA/SS6100を用いて100〜200℃の範囲を窒素流量200ml/min、昇温速度10℃/minの条件で測定し、その測定値の平均値を線膨張係数とした。
<Linear expansion coefficient>
In accordance with JIS K7197 (1991), the polyimide film (40 μm) was heated in a normal air dryer at 300 ° C. for 30 minutes for stress relaxation treatment. 4.0 × 10.0 mm cut from this film was measured using a TMA / SS6100 manufactured by SII NanoTechnology Co., Ltd. under the conditions of a nitrogen flow rate of 200 ml / min and a heating rate of 10 ° C./min. The average value of the measured values was taken as the linear expansion coefficient.
<全光線透過率>
JIS K7361−1(1997年)に準拠し、ポリイミドフィルム(40μm)を株式会社東洋精機製作所製HAZE−GUARD IIを用いて、D65光源を使用したシングルビーム法により測定した。
<Total light transmittance>
Compliant with JIS K7361-1 (1997 years), polyimide film (40 [mu] m) using a Toyo Seiki Seisakusho HAZE-GUARD II Ltd., was measured by single beam method using illuminant D 65.
<ガラス転移温度>
動的粘弾性測定装置RHEOGEL−E4000(ユーピーエム社製)を用いて、下記の測定条件下、ポリイミド成形体のtanδを測定した。そのtanδの極大値をガラス転移温度(℃)とした。
測定条件;
測定モード:引張モード
正弦波:10Hz
昇温速度:5℃/min
空気流速:10L/min
<Glass transition temperature>
Using a dynamic viscoelasticity measuring device RHEOGEL-E4000 (manufactured by UPM), tan δ of the polyimide molded body was measured under the following measurement conditions. The maximum value of tan δ was defined as the glass transition temperature (° C.).
Measurement condition;
Measurement mode: Tensile mode Sine wave: 10 Hz
Temperature increase rate: 5 ° C / min
Air flow rate: 10L / min
<機械的物性評価>
ポリイミド成形体の「弾性率」、「強度」及び「伸び」は、インストロン製の万能材料試験機5565を用いて、JIS K−7161(1994年)に準拠して測定した。
<Mechanical properties evaluation>
The “elastic modulus”, “strength”, and “elongation” of the polyimide molded body were measured according to JIS K-7161 (1994) by using a universal material testing machine 5565 manufactured by Instron.
[製造例]
BCODAは特許文献US3423431を参考に製造した。具体的には、内容積1500ml内部照射型パイレックス(登録商標)ガラス製五つ口反応フラスコに無水マレイン酸95.0g(969mmol)と1,2,3,6−テトラヒドロフタル酸無水物192.0g(1262mmol)及び酢酸n−ブチル1200gを仕込み、反応器外壁をアルミ箔で被いながら室温で撹拌溶解させた。さらに窒素ガスを用いて15分間バブリングして、反応容器中の酸素を除いた。続いて撹拌しながら反応容器を20℃に冷却し、フラスコ中央部の光源冷却管中の400W高圧水銀ランプを用いて光照射を24時間続けた。反応終了後、析出した結晶を濾過、酢酸n−ブチル60gで洗浄し、ついで乾燥してBCODA結晶59.9g(239mmol、収率25%)を得た。
[Production example]
BCODA was produced with reference to US Pat. No. 3,234,431. Specifically, 95.0 g (969 mmol) of maleic anhydride and 192.0 g of 1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride were added to a 1500 ml internal irradiation type Pyrex (registered trademark) glass five-necked reaction flask. (1262 mmol) and 1,200 g of n-butyl acetate were charged and stirred and dissolved at room temperature while covering the outer wall of the reactor with aluminum foil. Further, nitrogen gas was bubbled for 15 minutes to remove oxygen in the reaction vessel. Subsequently, the reaction vessel was cooled to 20 ° C. while stirring, and light irradiation was continued for 24 hours using a 400 W high-pressure mercury lamp in a light source cooling tube in the center of the flask. After completion of the reaction, the precipitated crystals were filtered, washed with 60 g of n-butyl acetate, and then dried to obtain 59.9 g (239 mmol, 25% yield) of BCODA crystals.
[実施例1]
温度計、撹拌機、窒素導入管、分液デカンタ及び、冷却管を備えた200mLの4つ口フラスコにBCODA13.37g(53mmol)、ジアミン化合物としてHDAM11.02g(52mmol)、反応溶媒としてNMP114.8g、共沸溶剤としてキシレン12.8gを仕込み、反応系内を窒素置換した後、窒素気流下、180℃で攪拌し、生成水を系外に除去しながら5時間脱水イミド化重合反応を行った。反応後、樹脂濃度が15重量%になるようにNMPを追加し、本発明のポリイミド樹脂のNMP溶液(本発明のポリイミドワニス)を得た。得られたポリイミド樹脂の平均分子量及び溶剤溶解性の測定結果を表1に示す。
[Example 1]
BCODA 13.37 g (53 mmol), HDAM 11.02 g (52 mmol) as a diamine compound, NMP 114.8 g as a reaction solvent in a 200 mL four-necked flask equipped with a thermometer, stirrer, nitrogen inlet tube, separator decanter, and condenser tube Then, 12.8 g of xylene was charged as an azeotropic solvent, and the inside of the reaction system was purged with nitrogen. Then, the mixture was stirred at 180 ° C. in a nitrogen stream, and a dehydration imidation polymerization reaction was performed for 5 hours while removing the generated water from the system. . After the reaction, NMP was added so that the resin concentration was 15% by weight to obtain an NMP solution of the polyimide resin of the present invention (polyimide varnish of the present invention). Table 1 shows the measurement results of the average molecular weight and solvent solubility of the obtained polyimide resin.
[実施例2]
ジアミン化合物をTCDDA10.30g(53mmol)に変更した以外は、実施例1と同様の方法で本発明のポリイミドワニスを得た。得られたポリイミド樹脂の平均分子量及び溶剤溶解性の測定結果を表1に示す。
[Example 2]
A polyimide varnish of the present invention was obtained in the same manner as in Example 1 except that the diamine compound was changed to 10.30 g (53 mmol) of TCDDA. Table 1 shows the measurement results of the average molecular weight and solvent solubility of the obtained polyimide resin.
[実施例3]
ジアミン化合物をHDAM5.57g(26.5mmol)とNBDA4.09g(26.5mmol)に変更した以外は、実施例1と同様の方法で本発明のポリイミドワニスを得た。得られたポリイミド樹脂の平均分子量及び溶剤溶解性の測定結果を表1に示す。
[Example 3]
A polyimide varnish of the present invention was obtained in the same manner as in Example 1 except that the diamine compound was changed to 5.57 g (26.5 mmol) of HDAM and 4.09 g (26.5 mmol) of NBDA. Table 1 shows the measurement results of the average molecular weight and solvent solubility of the obtained polyimide resin.
[実施例4]
ジアミン化合物をHDAM5.57g(26.5mmol)とTCDDA5.15g(26.5mmol)に変更した以外は、実施例1と同様の方法で本発明のポリイミドワニスを得た。得られたポリイミド樹脂の平均分子量及び溶剤溶解性の測定結果を表1に示す。
[Example 4]
A polyimide varnish of the present invention was obtained in the same manner as in Example 1 except that the diamine compound was changed to 5.57 g (26.5 mmol) of HDAM and 5.15 g (26.5 mmol) of TCDDA. Table 1 shows the measurement results of the average molecular weight and solvent solubility of the obtained polyimide resin.
[実施例5]
ジアミン化合物をHDAM5.57g(26.5mmol)とDMHDAM6.32g(26.5mmol)に変更した以外は、実施例1と同様の方法で本発明のポリイミドワニスを得た。得られたポリイミド樹脂の平均分子量及び溶剤溶解性の測定結果を表1に示す。
[Example 5]
A polyimide varnish of the present invention was obtained in the same manner as in Example 1 except that the diamine compound was changed to HDAM 5.57 g (26.5 mmol) and DMHDAM 6.32 g (26.5 mmol). Table 1 shows the measurement results of the average molecular weight and solvent solubility of the obtained polyimide resin.
[比較例1]
BCODAをHPMDA11.88g(53mmol)に変更した以外は、実施例1と同様の方法でポリイミドワニスを得た。得られたポリイミド樹脂の平均分子量及び溶剤溶解性の測定結果を表1に示す。
[Comparative Example 1]
A polyimide varnish was obtained in the same manner as in Example 1 except that BCODA was changed to 11.88 g (53 mmol) of HPMDA. Table 1 shows the measurement results of the average molecular weight and solvent solubility of the obtained polyimide resin.
[比較例2]
BCODAをHPMDA11.88g(53mmol)に変更した以外は、実施例3と同様の方法でポリイミドワニスを得た。得られたポリイミド樹脂の平均分子量及び溶剤溶解性の測定結果を表1に示す。
[Comparative Example 2]
A polyimide varnish was obtained in the same manner as in Example 3 except that BCODA was changed to 11.88 g (53 mmol) of HPMDA. Table 1 shows the measurement results of the average molecular weight and solvent solubility of the obtained polyimide resin.
[比較例3]
BCODAをBTA−H13.26g(53mmol)に変更した以外は、実施例1と同様の方法でポリイミドワニスの作成を試みたが、反応温度が180℃に達した時点で樹脂が不溶となり析出して白く濁った。
[Comparative Example 3]
Except that BCODA was changed to 13.26 g (53 mmol) of BTA-H, an attempt was made to produce a polyimide varnish by the same method as in Example 1. However, when the reaction temperature reached 180 ° C., the resin became insoluble and precipitated. It was cloudy white.
[比較例4]
撹拌機を備え付けた200mL三角フラスコにHDAM11.15g(53mmol)及びシリル化剤BSA10.78g(53mmol)とNMP114.8gを加え15分間撹拌した後に、BTA−H13.26g(53mmol)を加えてから終夜撹拌してポリアミド酸ワニスを得た。得られたポリアミド酸ワニスの平均分子量の測定結果を表1に示す。
[Comparative Example 4]
After adding 11.15 g (53 mmol) of HDAM, 10.78 g (53 mmol) of silylating agent BSA and 114.8 g of NMP to a 200 mL Erlenmeyer flask equipped with a stirrer and stirring for 15 minutes, 13.26 g (53 mmol) of BTA-H was added overnight. Stirring gave a polyamic acid varnish. The measurement results of the average molecular weight of the obtained polyamic acid varnish are shown in Table 1.
[比較例5]
BCODAをCBDA10.39g(53mmol)に変更した以外は、実施例1と同様の方法でポリイミドワニスの作成を試みたが、反応温度が180℃に達した時点で樹脂が不溶となり析出して白く濁った。
[Comparative Example 5]
Except that BCODA was changed to 10.39 g (53 mmol) of CBDA, an attempt was made to prepare a polyimide varnish by the same method as in Example 1, but when the reaction temperature reached 180 ° C., the resin became insoluble and precipitated and became cloudy white. It was.
[比較例6]
撹拌機を備え付けた200mL三角フラスコにHDAM11.15g(53mmol)及びシリル化剤BSA10.78g(53mmol)とNMP114.8gを加え15分間撹拌した後に、CBDA10.39g(53mmol)を加えてから終夜撹拌してポリアミド酸ワニスを得た。得られたポリアミド酸ワニスの平均分子量の測定結果を表1に示す。
[Comparative Example 6]
To a 200 mL Erlenmeyer flask equipped with a stirrer, 11.15 g (53 mmol) of HDAM, 10.78 g (53 mmol) of silylating agent BSA and 114.8 g of NMP were added and stirred for 15 minutes, and then 10.39 g (53 mmol) of CBDA was added and stirred overnight. Thus, a polyamic acid varnish was obtained. The measurement results of the average molecular weight of the obtained polyamic acid varnish are shown in Table 1.
[比較例7]
BCODAをTDA15.91g(53mmol)に変更した以外は、実施例1と同様の方法でポリイミドワニスを得た。得られたポリイミド樹脂の平均分子量及び溶剤溶解性の測定結果を表1に示す。
[Comparative Example 7]
A polyimide varnish was obtained in the same manner as in Example 1 except that BCODA was changed to 15.91 g (53 mmol) of TDA. Table 1 shows the measurement results of the average molecular weight and solvent solubility of the obtained polyimide resin.
[実施例6]
実施例1〜5及び比較例1、2、7で得られたポリイミドワニスまたは比較例4,6で得られたポリアミド酸ワニスを、ガラス基板上にバーコーターを用いて、乾燥膜厚が40μmとなるよう塗布し、真空乾燥機内で真空下(減圧度10mmHg以下)、300℃×1時間乾燥し、室温へ冷却後、ガラス基板より剥離させ、ポリイミド成形体(フィルム)を得た。尚、比較例4のポリアミド酸ワニスから作成したポリイミドフィルムは脆弱であり、各物性測定が困難であった。比較例6のポリアミド酸ワニスから作成したポリイミドワニスは脆弱であり、機械的物性評価が困難であった。得られたポリイミド成形体(フィルム)の線膨張係数、全光線透過率、ガラス転移温度及び機械的特性の測定結果を表1に示す。
[Example 6]
The polyimide varnish obtained in Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1, 2, and 7 or the polyamic acid varnish obtained in Comparative Examples 4 and 6 was used with a bar coater on a glass substrate, and the dry film thickness was 40 μm. It was applied so that it was dried in a vacuum dryer under a vacuum (degree of vacuum: 10 mmHg or less) at 300 ° C. for 1 hour, cooled to room temperature, peeled off from the glass substrate, and a polyimide molded body (film) was obtained. In addition, the polyimide film created from the polyamic acid varnish of Comparative Example 4 was fragile, and it was difficult to measure each physical property. The polyimide varnish produced from the polyamic acid varnish of Comparative Example 6 was fragile and it was difficult to evaluate mechanical properties. Table 1 shows the measurement results of the linear expansion coefficient, total light transmittance, glass transition temperature, and mechanical properties of the obtained polyimide molded body (film).
本発明のポリイミド樹脂は、表1から溶剤可溶性を有するポリイミド樹脂であり、60ppm/K以下という低い線膨張係数、90%以上という高い全光線透過率且つ270℃以上という高いガラス転移温度の優れた物性を有していることが明らかである。 The polyimide resin of the present invention is a polyimide resin having solvent solubility from Table 1, and has an excellent linear expansion coefficient of 60 ppm / K or less, a high total light transmittance of 90% or more, and a high glass transition temperature of 270 ° C. or more. It is clear that it has physical properties.
比較例1、2のポリイミド樹脂の場合、BCODAを用いた場合と比べてガラス転移温度が低いことがわかる。また比較例3、5のポリイミド樹脂は溶剤に不溶であり、また、比較例7のポリイミド樹脂は、全光線透過率が90%を下回り、更に線膨張係数が高く透明フレキシブル基板用途には不向きと考えられる。即ち、本発明のポリイミド樹脂は、良好な溶剤溶解性、低い線膨張係数、高い全光線透過率及び高いガラス転移温度を同時に満たすポリイミド樹脂であることがわかる。 In the case of the polyimide resins of Comparative Examples 1 and 2, it can be seen that the glass transition temperature is lower than when BCODA is used. Further, the polyimide resins of Comparative Examples 3 and 5 are insoluble in the solvent, and the polyimide resin of Comparative Example 7 has a total light transmittance of less than 90%, and further has a high linear expansion coefficient and is not suitable for use as a transparent flexible substrate. Conceivable. That is, it can be seen that the polyimide resin of the present invention is a polyimide resin that simultaneously satisfies good solvent solubility, low linear expansion coefficient, high total light transmittance, and high glass transition temperature.
本発明のポリイミド樹脂は、60ppm/K以下と低い線膨張係数、270℃以上と高いガラス転移温度、90%以上と高い全光線透過率及び溶剤溶解性を併せ持っている。そのため、該ポリイミド樹脂のポリイミドワニスを成形加工して得られるポリイミド成形体は、ディスプレーや照明等の光学材料に好適に用いることができる。また、当該ポリイミド樹脂は、耐熱絶縁材、耐熱塗料、耐熱コーティング材、耐熱接着材に使用できる。 The polyimide resin of the present invention has both a low coefficient of linear expansion of 60 ppm / K or less, a high glass transition temperature of 270 ° C. or higher, a high total light transmittance of 90% or higher, and solvent solubility. Therefore, the polyimide molded body obtained by molding the polyimide varnish of the polyimide resin can be suitably used for optical materials such as displays and lighting. In addition, the polyimide resin can be used for heat-resistant insulating materials, heat-resistant paints, heat-resistant coating materials, and heat-resistant adhesives.
Claims (9)
脂環式ジアミン化合物とを、モル比で該テトラカルボン酸二無水物100に対して、該脂環式ジアミン化合物90〜110の範囲でイミド化重合反応して得られる溶剤可溶性ポリイミド樹脂。 General formula (1)
A solvent-soluble polyimide resin obtained by imidation polymerization reaction of the alicyclic diamine compound with respect to the tetracarboxylic dianhydride 100 in a molar ratio in the range of the alicyclic diamine compound 90 to 110.
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