JP2013227636A

JP2013227636A - 成膜装置及び成膜方法

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Publication number: JP2013227636A
Application number: JP2012101890A
Authority: JP
Inventors: Hideyuki Amada; 英之天田; Yoshihiko Imanaka; 佳彦今中
Original assignee: Fujitsu Ltd
Current assignee: Fujitsu Ltd
Priority date: 2012-04-26
Filing date: 2012-04-26
Publication date: 2013-11-07
Anticipated expiration: 2032-04-26
Also published as: JP5928132B2

Abstract

【課題】エアロゾルデポジションによる成膜において、緻密で電気的特性等の良好な膜を成膜する
【解決手段】内部に基板が設置されている成膜チャンバーと、前記基板に成膜される材料の微粒子が入れられているエアロゾル室と、前記成膜チャンバー内に設けられているものであって、前記エアロゾル室にキャリアガスを供給することにより、前記キャリアガスとともに前記成膜される材料の微粒子を前記基板に向けて噴出するノズルと、を有し、前記エアロゾル室には第１の流路と第２の流路が設けられており、前記キャリアガスは前記第１の流路と前記第２の流路に分岐されて、前記エアロゾル室内部に供給されるものであって、前記第１の流路より供給されるキャリアガスは、前記エアロゾル室の底面に向けて、又は、底面に沿って供給されるものであり、前記第２の流路より供給されるキャリアガスは、前記エアロゾル室の底面に向けて、又は、底面に沿って供給されるものであることを特徴とする成膜装置を提供することにより上記課題を解決する。
【選択図】図２

Description

本発明は、成膜装置及び成膜方法に関するものである。

基板等に膜を成膜する方法としては、スパッタリング、真空蒸着、ＣＶＤ、ＡＬＤ、エアロゾルデポジション等が挙げられる。このうちエアロゾルデポジションは成膜時における加熱及び成膜後の熱処理等を必要としないため、熱に弱い基板等に成膜する場合には、特に有望な成膜方法とされている。このように熱に弱い基板としては、例えば、液晶ディスプレイや電子ペーパ等に用いられる樹脂材料からなる基板等が挙げられるが、液晶ディスプレイや電子ペーパ等は、今後更なる普及が予想されることから、このような基板に成膜する技術が重要となっている。

ところで、エアロゾルデポジションとは、成膜対象となる基板に微粒子を含むエアロゾルを吹きつけることにより、基板に微粒子を堆積させて成膜を行なう方法であり、フレキシブル基板等にも成膜することができる。

具体的に、図１に基づき、エアロゾルデポジションにおける成膜に用いられる成膜装置について説明する。エアロゾルデポジション成膜装置は、エアロゾル室９１０及び成膜チャンバー９２０を有している。エアロゾル室９１０には成膜される材料の微粒子９１１が入れられており、酸素等のキャリアガスが入れられたガスボンベ９３０が配管９６０を介して接続されている。また、エアロゾル室９１０と成膜チャンバー９２０とは、配管９４１により接続されており、成膜チャンバー９２０内における配管９４１の端部にはノズル９２１が設けられている。真空チャンバー９２０内においては、ノズル９２１の開口部と対向する側に、ステージ９２２が設けられており、ステージ９２２には、成膜がなされる基板９２３が設置されている。この成膜チャンバー９２０内は真空に排気可能であり、配管９４２を介し、メカニカルブースターポンプ９４３及び真空ポンプ９４４が接続されている。尚、エアロゾル室９１０内を排気することができるように、エアロゾル室９１０は、配管９４５及び不図示のバルブ等を介し配管９４２と接続されている。また、エアロゾル室９１０が設置される領域には、エアロゾル室９１０において、成膜される材料の微粒子が固まる、もしくは、成膜中に粒子が偏ることを防ぐため、エアロゾル室９１０を振動させるための振動器９５０が設けられている。

この成膜装置において、エアロゾルデポジションにおける成膜を行なう際には、成膜チャンバー９２０内をメカニカルブースターポンプ９４３及び真空ポンプ９４４により真空排気した後、ガスボンベ９３０よりキャリアガスをエアロゾル室９１０内に供給する。エアロゾル室９１０内では、供給されたキャリアガスにより成膜される材料の微粒子が巻き上げられ、成膜される材料の微粒子がキャリアガスとともに配管９４１を介し、成膜チャンバー９２０内のノズル９２１に運ばれる。この後、ノズル９２１から、キャリアガスとともに成膜される材料の微粒子が基板９２３に向けて噴出され、基板９２３の表面に向けてノズル９２１より噴出された微粒子が堆積することにより成膜が行なわれる。

特開２００９−５７６３５号公報特開２００７−１６２０７７号公報特開２００９−２９３１０７号公報

ところで、小型で大容量のキャパシタを作製することのできる有望な材料として、比較的比誘電率の高い強誘電体材料であるチタン酸バリウムがあり、このようなチタン酸バリウムの膜はエアロゾルデポジションにより成膜することが可能である。しかしながら、成膜される材料がチタン酸バリウム等の絶縁体である場合、振動器９５０によりエアロゾル室９１０を振動させると、エアロゾル室９１０内において、成膜される材料の微粒子同士が静電気等により凝集し、大きな粒子となってしまう。このように成膜される材料の大きな粒子により形成された膜は、膜は膜密度が低く、電気的特性が良好ではない膜となってしまう。

このため、エアロゾルデポジションによる成膜において、静電気等により成膜される微粒子同士が凝集することなく、緻密で電気的特性等の良好な膜を成膜することのできる成膜装置及び成膜方法が望まれている。

本実施の形態の一観点によれば、内部に基板が設置されている成膜チャンバーと、前記基板に成膜される材料の微粒子が入れられているエアロゾル室と、前記成膜チャンバー内に設けられているものであって、前記エアロゾル室にキャリアガスを供給することにより、前記キャリアガスとともに前記成膜される材料の微粒子を前記基板に向けて噴出するノズルと、を有し、前記エアロゾル室には第１の流路と第２の流路が設けられており、前記キャリアガスは前記第１の流路と前記第２の流路に分岐されて、前記エアロゾル室内部に供給されるものであって、前記第１の流路より供給されるキャリアガスは、前記エアロゾル室の底面に向けて、又は、底面に沿って供給されるものであり、前記第２の流路より供給されるキャリアガスは、前記エアロゾル室の底面に向けて、又は、底面に沿って供給されるものであることを特徴とする。

また、本実施の形態の他の一観点によれば、内部に基板が設置されている成膜チャンバーと、前記基板に成膜される材料の微粒子が入れられているエアロゾル室と、前記成膜チャンバー内に設けられているものであって、前記エアロゾル室にキャリアガスを供給することにより、前記キャリアガスとともに前記成膜される材料の微粒子を前記基板に向けて噴出するノズルと、を有し、前記エアロゾル室には第１の流路と第２の流路が設けられており、前記キャリアガスは前記第１の流路と前記第２の流路に分岐された後、前記エアロゾル室内部に供給される成膜装置における成膜方法において、前記成膜チャンバー内を真空排気する行程と、前記エアロゾル室にキャリアガスを供給する工程と、を有し、前記第１の流路より供給されるキャリアガスは、前記エアロゾル室の底面に向けて、又は、底面に沿って供給されるものであり、前記第２の流路より供給されるキャリアガスは、前記エアロゾル室の底面に向けて、又は、底面に沿って供給されるものであることを特徴とする。

開示の成膜装置及び成膜方法によれば、エアロゾルデポジションによる成膜において、成膜される微粒子同士が凝集することなく、緻密で電気的特性等の良好な膜を成膜することができる。

通常のエアロゾルデポジションによる成膜装置の構造図本実施の形態における成膜装置の構造図本実施の形態における成膜装置のエアロゾル室の構造図（１）本実施の形態における成膜装置のエアロゾル室の構造図（２）本実施の形態における成膜装置の他のエアロゾル室の構造図（１）本実施の形態における成膜装置の他のエアロゾル室の構造図（２）本実施の形態における成膜方法を説明するフローチャート

発明を実施するための形態について、以下に説明する。尚、同じ部材等については、同一の符号を付して説明を省略する。

（成膜装置）
本実施の形態における成膜装置について説明する。本実施の形態における成膜装置は、エアロゾルデポジション装置であり、エアロゾル室１０及び成膜チャンバー２０を有している。エアロゾル室１０には成膜される材料の微粒子１１が入れられており、酸素等のキャリアガスが入れられたガスボンベ３０が配管６０を介して接続されている。また、エアロゾル室１０と成膜チャンバー２０とは、配管４１により接続されており、成膜チャンバー２０内において、配管４１の端部にはノズル２１が設けられている。真空チャンバー２０内におけるノズル２１の開口部と対向する側に、ステージ２２が設けられており、ステージ２２には、成膜がなされる基板２３が設置されている。この成膜チャンバー２０内は真空に排気可能であり、配管４２を介し、メカニカルブースターポンプ４３及び真空ポンプ４４が接続されている。エアロゾル室１０はガラス等の材料により、略円形状の底面１０ａを有する円筒形の形状により形成されており、エアロゾル室１０内を排気することができるように、配管４５及び不図示のバルブ等を介し配管４２と接続されている。尚、本実施の形態における成膜装置においては、エアロゾル室１０を振動させるための振動器は設けられていない。

本実施の形態における成膜装置では、ステージ２２は、２次元に移動可能なＸＹステージであり、基板２１は、プリント基板等の絶縁体の基板の表面に銅等の膜が形成されているものが用いられている。また、成膜される材料として、強誘電体材料であるチタン酸バリウムが用いられている。尚、本実施の形態において成膜される材料としては、チタン酸バリウム以外に、チタン酸ストロンチウム、ＢＳＴ（チタン酸バリウムストロンチウム）、ＰＺＴ（チタン酸ジルコン酸鉛）、ＢＺＴ（チタン酸ジルコン酸バリウム）、ＭｇＯ、Ａｌ_２Ｏ_３、ＳｉＯ_２、ＳｉＮ等の誘電体材料または絶縁体材料が挙げられる。更には、Ｃｕ等の金属材料であってもよい。また、成膜される材料の微粒子は、平均粒径が数ｎｍから数μｍ程度のものを用いることができる。ガスボンベ３０に入れられているキャリアガスとしては、酸素、窒素、アルゴン等が挙げられる。

また、本実施の形態における成膜装置では、ガスボンベ３０からキャリアガスが供給される配管６０が、エアロゾル室１０の内部において２つに分岐されており、第１の流路６１と第２の流路６２とが形成されている。具体的には、図３及び図４に示すように、第１の流路６１は、エアロゾル室１０の中央部分に設けられており、第２の流路６２は、円筒形の形状のエアロゾル室１０の壁面の内側に設けられている。エアロゾル室１０の中央部分に設けられている第１の流路６１からは、エアロゾル室１０の底面１０ａ近傍において、中心部から周辺部に向けてキャリアガスが噴出するように開口部６１ａが形成されている。また、円筒形の形状のエアロゾル室１０の壁面の内側に形成されている第２の流路６２からは、エアロゾル室１０の底面１０ａ近傍において、周辺部から中心部に向けてキャリアガスが噴出するように４つの開口部６２ａが形成されている。従って、エアロゾル室１０の底面１０ａ近傍においては、第１の流路６１の開口部６１ａから供給されたキャリアガスは中央部から周辺部に向かって流れ、第２の流路６２の開口部６２ａから供給されたキャリアガスは周辺部から中央部に向かって流れる。よって、エアロゾル室１０の底面１０ａ近傍において、キャリアガス同士がぶつかり合う。このように、エアロゾル室１０の底面１０ａ近傍において、キャリアガス同士がぶつかり合うため、成膜される材料を微粒子のまま効率よく巻き上げることができ、成膜される材料の微粒子の凝集を防ぐことができる。従って、成膜される材料は微粒子のままノズル２１に供給することができるため、基板２３の表面には成膜される材料の微粒子が堆積し成膜がなされる。よって、基板２３の表面には、緻密で、電気的特性等の良い膜を成膜することができる。本実施の形態においては、キャリアガス同士がぶつかり合うことにより、成膜される材料を微粒子のまま効率よく巻き上げることができることから、エアロゾル室１０を外部より振動させる振動器等は不要である。また、本実施の形態においては、成膜される材料の微粒子が凝集しないため、微粒子が凝集して大きくなりすぎて成膜に寄与しないものが発生することはない。従って、安定した成膜レートで、長時間成膜を行なうことができる。尚、本実施の形態では、開口部６１ａ及び６２ａの大きさは、直径が１ｍｍ以下となるように形成されている。図３は、本実施の形態における成膜装置のエアロゾル室１０内の底面１０ａにおける説明図であり、図４は、エアロゾル室１０内の内部における説明図である。

（エアロゾル室）
次に、本実施の形態における成膜装置のエアロゾル室１０について説明する。本実施の形態においては、エアロゾル室１０は、第１の流路６１の開口部６１ａから噴出したキャリアガスと、第２の流路６２の開口部６２ａから噴出したキャリアガスとが、エアロゾル室１０の底面１０ａ近傍において、ぶつかり合うように形成されている。これにより、重力によりエアロゾル室１０の底面１０ａに堆積している成膜される材料の微粒子１１を微粒子のまま効率よく巻き上げることができる。即ち、エアロゾル室１０の底面１０ａ近傍において、キャリアガス同士がぶつかり合うように供給することにより、成膜される材料の微粒子１１は凝集することなく、微粒子のまま効率よく巻き上げられる。

尚、本実施の形態における成膜装置は、エアロゾル室１０の底面１０ａ近傍において、キャリアガス同士がぶつかり合うように形成されているものであればよい。具体的には、図５（ａ）に示すように、第２の流路６２に開口部６２ａを５以上、例えば、１２個設けた構造のものであってもよい。これにより、エアロゾル室１０の底面１０ａ近傍において、より均一に成膜される材料の微粒子１１を巻き上げることができる。また、図５（ｂ）に示すように、第２の流路６２に開口部６２ａを略均等な間隔で３つ設けた構造のものでもよく、図５（ｃ）に示すように、第２の流路６２に開口部６２ａを第１の流路６１の開口部６１ａを介し対向するように２つ設けた構造のものでもよい。図５（ｂ）及び図５（ｃ）に示すように、第２の流路６２に開口部６２ａが２つ以上設けられていれば、エアロゾル室１０の底面１０ａ近傍において、成膜される材料の微粒子１１を巻き上げることができ、成膜される材料の微粒子１１の凝集を防ぐことができる。

尚、図４においては、開口部６１ａ及び開口部６２ａから噴出したキャリアガスが、エアロゾル室１０の底面１０ａに沿って流れるように、第１の流路６１には開口部６１ａが形成され、第２の流路６２には開口部６２ａが形成されているものを記載している。しかしながら、本実施の形態における成膜装置においては、図６に示されるように、底面１０ａの側面が滑らかなエアロゾル室１０を用いた場合、開口部６２ａからキャリアガスが、エアロゾル室１０の底面１０ａに向かって略垂直に噴出するように形成された構造のものであってもよい。このような構造の場合においても、キャリアガスがエアロゾル室１０の底面１０ａにぶつかることにより方向が変わり、更に、これらのキャリアガス同士がぶつかり合うため、成膜される材料の微粒子１１を微粒子のまま効率よく巻き上げることができる。

（成膜方法）
次に、本実施の形態における成膜方法について説明する。本実施の形態における成膜方法は、図２から図４に示される成膜装置を用いて、エアロゾルデポジションによる成膜を行なうものである。具体的に、図７に基づき説明する。

最初に、ステップ１０２（Ｓ１０２）において、成膜チャンバー２０内のステージ２２に基板２３を設置する。尚、基板２３は、ノズル２１より成膜される材料の微粒子１１が噴出される側に設置される。

次に、ステップ１０４（Ｓ１０４）において、成膜チャンバー２０内を排気する。具体的には、配管４２を介し成膜チャンバー２０に接続されているメカニカルブースターポンプ２３及び真空ポンプ２４により、成膜チャンバー２０内を排気する。

次に、ステップ１０６（Ｓ１０６）において、ガスボンベ３０よりキャリアガスをエアロゾル室１０内に供給する。これにより、第１の流路６１の開口部６１ａから噴出したキャリアガスと、第２の流路６２の開口部６２ａから噴出したキャリアガスとが衝突し、エアロゾル室１０における成膜される材料の微粒子１１は、静電気等により凝集することなく効率よく巻き上げられる。

次に、ステップ１０８（Ｓ１０８）において、ノズル２１より噴出した成膜される材料の微粒子１１により、基板２３の表面に成膜される材料の膜が成膜される。具体的には、ガスボンベ３０よりキャリアガスをエアロゾル室１０内に供給することにより、エアロゾル室１０内の圧力が高くなり、成膜される材料の微粒子１１キャリアガスとともに、配管４１を介しノズル２１が設けられている側に流れる。これにより、ノズル２１より成膜される材料の微粒子１１がキャリアガスとともに基板２３に向けて噴出されるため、基板２３の表面に成膜がなされる。

以上により、本実施の形態における成膜方法により基板２３の表面に成膜を行なうことができる。

次に、本実施の形態における実施例について説明する。

（実施例１）
本実施の形態における実施例１は、図２から図４に示される本実施の形態における成膜装置を用いて、基板の表面に成膜を行なったものである。

実施例１の成膜に用いた成膜装置には、エアロゾル室１０の内部に、平均粒径が０．５μｍのチタン酸バリウム（ＢａＴｉＯ_３）の微粒子１１が入れられており、成膜チャンバー２０内のステージ２１に、表面に銅箔が形成されている基板２３が設置されている。この後、成膜チャンバー２０内を真空排気するとともに、前処理として、エアロゾル室１０の内部におけるチタン酸バリウムの微粒子１１を約１３０℃に加熱しながら、配管４５を介しエアロゾル室１０内を３０分間真空排気する。これにより、チタン酸バリウムの微粒子１１の表面に付着している水分を除去することができる。尚、エアロゾル室１０は、内径が７５ｍｍ、高さが１２０ｍｍの円筒形の形状のガラスにより形成されている。

この後、ガスボンベ３０よりキャリアガスとして、酸素を１０Ｌ／分の流量でエアロゾル室１０に供給することにより、基板２３の表面にチタン酸バリウムの膜を成膜した。尚、成膜時間は約２０分である。

（比較例１）
比較例１は、図１に示される成膜装置を用いて、基板の表面に成膜を行なったものである。

比較例１の成膜に用いた成膜装置には、エアロゾル室９１０の内部に、平均粒径が０．５μｍのチタン酸バリウムの微粒子９１１が入れられており、成膜チャンバー９２０内のステージ９２１に、表面に銅箔が形成されている基板９２３が設置されている。この後、成膜チャンバー９２０内を真空排気するとともに、前処理として、エアロゾル室９１０の内部におけるチタン酸バリウムの微粒子９１１を約１３０℃に加熱しながら、配管９４５を介しエアロゾル室９１０内を３０分間真空排気する。これにより、チタン酸バリウムの微粒子９１１の表面に付着している水分を除去することができる。尚、エアロゾル室９１０は、内径が７５ｍｍ、高さが１２０ｍｍの円筒形の形状のガラスにより形成されている。

この後、ガスボンベ９３０よりキャリアガスとして、酸素を１０Ｌ／分の流量でエアロゾル室９１０に供給することにより、基板９２３の表面にチタン酸バリウムの膜を成膜した。尚、成膜時間は約２０分である。

次に、実施例１において成膜された膜と、比較例１において成膜された膜の特性等について説明する。実施例１におけるチタン酸バリウムの膜は、膜厚が１．７μｍであり、３Ｖの電圧を印加した際のリーク電流は、１．５×１０^−７Ａ／ｃｍ^２であった。また、比較例１におけるチタン酸バリウムの膜は、膜厚が１．１μｍであり、３Ｖの電圧を印加した際のリーク電流は、５．３×１０^−７Ａ／ｃｍ^２であった。

以上の結果より、実施例１におけるチタン酸バリウムの膜は、比較例１におけるチタン酸バリウムの膜よりもリーク電流が低下しており、電気的特性等が良好な膜となっている。実施例１におけるチタン酸バリウムの膜が、比較例１におけるチタン酸バリウムの膜よりもリーク電流が低下しているのは、実施例１では、微粒子が凝集することなく微粒子の状態でノズルより噴出されるため、緻密な膜が成膜されることによるものと考えられる。言い換えるならば、成膜された膜が緻密な膜となることにより、リーク電流を減らすことができる。

また、実施例１におけるチタン酸バリウムの膜は、比較例１におけるチタン酸バリウムの膜よりも厚く形成されている。即ち、実施例１と比較例１は、ともに成膜時間は同じであるため、比較例１よりも実施例１の方が成膜レートは高い。よって、比較例１に対し実施例１の方が短時間で同じ膜厚のものを成膜することができるため、スループットを向上させることができ、製造時間を短縮することができる。従って、成膜における製造コストを低減させることができる。このように、成膜レートが比較例１よりも実施例１の方が高くなるのは、実施例１においては、チタン酸バリウムの微粒子が凝集しないため、成膜に寄与する微粒子が多く存在しているためであると考えられる。

以上、実施の形態について詳述したが、特定の実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された範囲内において、種々の変形及び変更が可能である。

上記の説明に関し、更に以下の付記を開示する。
（付記１）
内部に基板が設置されている成膜チャンバーと、
前記基板に成膜される材料の微粒子が入れられているエアロゾル室と、
前記成膜チャンバー内に設けられているものであって、前記エアロゾル室にキャリアガスを供給することにより、前記キャリアガスとともに前記成膜される材料の微粒子を前記基板に向けて噴出するノズルと、
を有し、
前記エアロゾル室には第１の流路と第２の流路が設けられており、前記キャリアガスは前記第１の流路と前記第２の流路に分岐されて、前記エアロゾル室内部に供給されるものであって、
前記第１の流路より供給されるキャリアガスは、前記エアロゾル室の底面に向けて、又は、底面に沿って供給されるものであり、
前記第２の流路より供給されるキャリアガスは、前記エアロゾル室の底面に向けて、又は、底面に沿って供給されるものであることを特徴とする成膜装置。
（付記２）
前記第１の流路より供給されるキャリアガスは、前記エアロゾル室の底面近傍において、中央部から周辺部に向けて供給され、
前記第２の流路より供給されるキャリアガスは、前記エアロゾル室の底面近傍において、周辺部から中央部に向けて供給されるものであることを特徴とする付記１に記載の成膜装置。
（付記３）
前記第２の流路には複数の開口部が設けられており、
前記第２の流路より供給されるキャリアガスは前記複数の開口部より、前記エアロゾル室内に供給されるものであることを特徴とする付記１又は２に記載の成膜装置。
（付記４）
前記エアロゾル室は、略円形状の底面を有する円筒形の形状により形成されていることを特徴とする付記１から３のいずれかに記載の成膜装置。
（付記５）
前記第２の流路には複数の開口部が設けられており、
前記複数の開口部は、前記エアロゾル室の側面近傍に設けられていることを特徴とする付記４に記載の成膜装置。
（付記６）
前記第１の流路より供給されるキャリアガスと前記第２の流路より供給されるキャリアガスとは、前記エアロゾル室の底面近傍において、相互に向かい合う方向より前記エアロゾル室内に供給されているものであることを特徴とする付記１から５のいずれかに記載の成膜装置。
（付記７）
前記成膜される材料は絶縁体であることを特徴とする付記１から６のいずれかに記載の成膜装置。
（付記８）
前記成膜される材料は強誘電体であることを特徴とする付記１から６のいずれかに記載の成膜装置。
（付記９）
前記キャリアガスは、酸素または窒素を含むものであることを特徴とする付記１から８のいずれかに記載の成膜装置。
（付記１０）
内部に基板が設置されている成膜チャンバーと、前記基板に成膜される材料の微粒子が入れられているエアロゾル室と、前記成膜チャンバー内に設けられているものであって、前記エアロゾル室にキャリアガスを供給することにより、前記キャリアガスとともに前記成膜される材料の微粒子を前記基板に向けて噴出するノズルと、を有し、前記エアロゾル室には第１の流路と第２の流路が設けられており、前記キャリアガスは前記第１の流路と前記第２の流路に分岐された後、前記エアロゾル室内部に供給される成膜装置における成膜方法において、
前記成膜チャンバー内を真空排気する行程と、
前記エアロゾル室にキャリアガスを供給する工程と、
を有し、
前記第１の流路より供給されるキャリアガスは、前記エアロゾル室の底面に向けて、又は、底面に沿って供給されるものであり、前記第２の流路より供給されるキャリアガスは、前記エアロゾル室の底面に向けて、又は、底面に沿って供給されるものであることを特徴とする成膜方法。
（付記１１）
前記第１の流路より供給されるキャリアガスは、前記エアロゾル室の底面近傍において、中央部から周辺部に向けて供給され、
前記第２の流路より供給されるキャリアガスは、前記エアロゾル室の底面近傍において、周辺部から中央部に向けて供給されルものであることを特徴とする付記１０に記載の成膜方法。
（付記１２）
前記第１の流路より供給されるキャリアガスと前記第２の流路より供給されるキャリアガスとは、前記エアロゾル室の底面近傍において、相互に向かい合う方向より前記エアロゾル室内に供給されているものであることを特徴とする付記１０または１１に記載の成膜方法。

１０エアロゾル室
１０ａ底面
１１成膜される材料の微粒子
２０成膜チャンバー
２１ノズル
２２ステージ
２３基板
３０ガスボンベ
４１配管
４２配管
４３メカニカルブースターポンプ
４４真空ポンプ
４５配管
６０配管
６１第１の流路
６１ａ開口部
６２第２の流路
６２ａ開口部

Claims

内部に基板が設置されている成膜チャンバーと、
前記基板に成膜される材料の微粒子が入れられているエアロゾル室と、
前記成膜チャンバー内に設けられているものであって、前記エアロゾル室にキャリアガスを供給することにより、前記キャリアガスとともに前記成膜される材料の微粒子を前記基板に向けて噴出するノズルと、
を有し、
前記エアロゾル室には第１の流路と第２の流路が設けられており、前記キャリアガスは前記第１の流路と前記第２の流路に分岐されて、前記エアロゾル室内部に供給されるものであって、
前記第１の流路より供給されるキャリアガスは、前記エアロゾル室の底面に向けて、又は、底面に沿って供給されるものであり、
前記第２の流路より供給されるキャリアガスは、前記エアロゾル室の底面に向けて、又は、底面に沿って供給されるものであることを特徴とする成膜装置。
前記第１の流路より供給されるキャリアガスは、前記エアロゾル室の底面近傍において、中央部から周辺部に向けて供給され、
前記第２の流路より供給されるキャリアガスは、前記エアロゾル室の底面近傍において、周辺部から中央部に向けて供給されるものであることを特徴とする請求項１に記載の成膜装置。
前記第２の流路には複数の開口部が設けられており、
前記第２の流路より供給されるキャリアガスは前記複数の開口部より、前記エアロゾル室内に供給されるものであることを特徴とする請求項１又は２に記載の成膜装置。
前記成膜される材料は絶縁体であることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の成膜装置。
前記キャリアガスは、酸素または窒素を含むものであることを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載の成膜装置。
内部に基板が設置されている成膜チャンバーと、前記基板に成膜される材料の微粒子が入れられているエアロゾル室と、前記成膜チャンバー内に設けられているものであって、前記エアロゾル室にキャリアガスを供給することにより、前記キャリアガスとともに前記成膜される材料の微粒子を前記基板に向けて噴出するノズルと、を有し、前記エアロゾル室には第１の流路と第２の流路が設けられており、前記キャリアガスは前記第１の流路と前記第２の流路に分岐された後、前記エアロゾル室内部に供給される成膜装置における成膜方法において、
前記成膜チャンバー内を真空排気する行程と、
前記エアロゾル室にキャリアガスを供給する工程と、
を有し、
前記第１の流路より供給されるキャリアガスは、前記エアロゾル室の底面に向けて、又は、底面に沿って供給されるものであり、前記第２の流路より供給されるキャリアガスは、前記エアロゾル室の底面に向けて、又は、底面に沿って供給されるものであることを特徴とする成膜方法。