JP2013114095A - Optical scanner - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は光走査装置に関し、特に複数の光束を偏向走査することで潜像を形成し、トナー等により可視化した像を転写部材に転写、定着させることで画像情報の記録を行うレーザビームプリンタやデジタル複写機等の画像形成装置に好適な光走査装置に関するものである。 The present invention relates to an optical scanning device, and more particularly to a laser beam printer that forms a latent image by deflecting and scanning a plurality of light beams, and records image information by transferring and fixing an image visualized with toner or the like to a transfer member. The present invention relates to an optical scanning device suitable for an image forming apparatus such as a digital copying machine.
複数の光束を偏向走査することで潜像を形成する光走査装置は、電子写真プロセスを有するレーザビームプリンタやデジタル複写機等に広く利用されている。図14は、従来の光走査装置の主走査(被走査面上をレーザビームが走査する方向)断面図を示している。複数の発光点を有する光源手段10からは画像情報に応じて変調され明滅する複数の光束が射出され、コリメータレンズ20を通過した後、シリンドリカルレンズ30に入射する。シリンドリカルレンズ30は、主走査方向と光軸の双方に直行する副走査方向にのみパワーを有しており、シリンドリカルレンズ30を通過した各光束は開口絞り40により光束幅を制限され、偏向手段であるポリゴンミラー50の反射面51の近傍に主走査方向に長い線像として結像される。ポリゴンミラー50により反射偏向された各光束は、結像光学系60により感光ドラム面等の被走査面70上に光スポットとして結像され、ポリゴンミラー50が回転することにより被走査面70上を光スポットが走査することで潜像を形成する。
Optical scanning devices that form a latent image by deflecting and scanning a plurality of light beams are widely used in laser beam printers and digital copying machines having an electrophotographic process. FIG. 14 is a cross-sectional view of a main scanning (direction in which a laser beam scans a surface to be scanned) of a conventional optical scanning device. The light source means 10 having a plurality of light emitting points emits a plurality of light fluxes that are modulated and blinked according to image information, pass through the
しかしながら、光源手段10や結像光学系60等の光学部品に製造時や組立時に傾きやシフトといった製造誤差・組立誤差が生じると、複数の光束が被走査面70上で光スポットとして結像される位置に設計値からのズレが発生する。特に副走査方向のズレ量については、主走査方向の走査位置によりズレ量が異なると共に各々の光束毎にそのズレ量が異なるために、主走査方向の走査位置に応じて各光束が被走査面70上に描く走査線の副走査方向の間隔(以下、ピッチ間隔と称す)にムラが生じる。
However, when a manufacturing error or an assembly error such as tilt or shift occurs in an optical component such as the light source means 10 or the imaging
この問題を解決する為に、例えば特許文献1では結像光学系のfθ係数、隣り合う発光点の主走査方向の間隔に応じて、コリメータレンズの焦点距離を長くし、主走査方向の光束幅を制限する主走査絞りを偏向手段であるポリゴンミラーに近づけることで隣接した2光束の主走査方向の間隔を狭めて結像光学系を構成する結像レンズ面での入射角差を低減することで、組立誤差・製造誤差によるピッチ間隔の変動量を抑える方法が開示されている。
In order to solve this problem, for example, in
しかしながら、特許文献1に開示された従来技術では、コリメータレンズの焦点距離、及び主走査絞りの位置に制限があり、入射光学系の設計自由度が落ちてしまう。
そこで、本発明の目的は、コリメータレンズの焦点距離や主走査絞りの位置に制限を設けることなく、光学部品の製造誤差・組立誤差によるピッチ間隔の変動を低減した光走査装置を提供することである。
However, in the prior art disclosed in
Accordingly, an object of the present invention is to provide an optical scanning device that reduces variations in pitch interval due to manufacturing errors and assembly errors of optical components without limiting the focal length of the collimator lens and the position of the main scanning aperture. is there.
上記目的を達成するために、本発明は、少なくとも主走査方向に離間した複数の発光点を備えた光源手段と、前記光源手段からの複数の光束を偏向させる偏向手段と、前記偏向手段により偏向された複数の光束を被走査面上に結像させる結像光学系と、を有し、前記結像光学系は、前記複数の発光点のうち最も主走査方向に離間している2つの発光点から射出される光束の主光線を各々A、Bとし、前記主光線A、Bの中央を通る線である中央線をLとした時、有効走査域全域において、副走査方向のパワーの絶対値が最も大きい光学面上での前記主光線AとBの主走査断面内における離間量D(mm)は、
本発明によれば、コリメータレンズの焦点距離や主走査絞りの位置に制限を設けることなく、光学部品の組立誤差、製造誤差によるピッチ間隔の変動を抑制した光走査装置を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide an optical scanning device that suppresses variations in pitch interval due to assembly errors and manufacturing errors of optical components without limiting the focal length of the collimator lens and the position of the main scanning aperture.
以下に、本発明の好ましい実施の形態を、添付の図面に基づいて詳細に説明する。 Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
図1は、本発明の第1の実施例の光走査装置の主走査断面図である。複数の発光点を有する光源手段である半導体レーザアレイ10の各々の発光点から射出された複数の光束は、張り合わせレンズからなるコリメータレンズ20により各々が略平行な光束に変換される。コリメータレンズ2から射出された各光束は、副走査方向にのみパワーを有するシリンドリカルレンズ30に入射し、副走査方向にのみ屈折されて主走査断面内では略平行光束のまま、副走査断面内においては収束光として射出される。その後、各光束は開口絞り40により光束幅を制限された後、偏向手段であるポリゴンミラー50の反射面51の近傍に主走査方向に長い線像として結像される。ポリゴンミラー50により偏向反射された各光束は結像光学系60により被走査面である感光ドラム面70上(被走査面上)に光スポットとして結像される。ポリゴンミラー50が図中矢印方向に回転することにより感光ドラム面70上を光スポットが走査し、静電潜像を形成する。
FIG. 1 is a main scanning sectional view of an optical scanning device according to a first embodiment of the present invention. A plurality of light beams emitted from each light emission point of the
本発明の光走査装置は、複数の発光点のうち最も主走査方向に離間している2つの発光点から射出される光束の主光線をA、Bとし、主光線AとBの中央を通る線である中央線をLとした時、有効走査域全域において、副走査方向のパワーの絶対値が最も大きい光学面上での主光線AとBの主走査断面内における離間量D(mm)が、
このように結像光学系60の光学面を構成することで、製造誤差・組立誤差によるピッチ間隔の変動量に対する結像レンズ62の敏感度を低減することが出来る。表1に、第1の実施例の光走査装置における走査光学系の諸数値を示す。ここで半導体レーザアレイ10は100(μm)間隔で並んだ4つの発光点を有しており、感光ドラム面70上で副走査方向に関して解像度に応じた画素密度となるように光軸周りに3.886(deg)だけ回転されている。この時、最も主走査方向に離間した2つの発光点は、主走査方向に299.310(μm)、副走査方向に20.331(μm)離間している。結像光学系60を構成する結像レンズ61、及び62の各光学面61a〜62bは主走査断面内の形状(母線形状)が表1に示された係数を用いて、
副走査断面内の形状(子線形状)は円弧で、Y軸に沿ってその曲率半径が変化しており、その曲率半径の変化は次式で与えられる。
副走査断面内の曲率半径の変化の仕方はレーザ側(図1における上側)と反レーザ側(図1における下側)で異なっており、レーザ側の係数には添え字uを附し、反レーザ側の係数には添え字lを附している。結像レンズ62の光学面62bに副走査方向のパワーが集中しており、副走査方向のパワーの絶対値を光学面62bが大きくすることで製造誤差・組立誤差によるピッチ間隔の変動量に対する他の光学面61a、61b、62aの敏感度を低減させることが出来る。より好ましくは、結像光学系の結像光学素子のうち副走査方向のパワーの絶対値が最も大きい光学面の副走査方向のパワーφs、結像光学系のすべての光学面のパワーを合成した副走査方向のパワーφtは、
図2は、半導体レーザアレイ10の4つの発光点のうち最も主走査方向に離間した2つの発光点からの各光束の任意の走査位置での主光線AとBの主走査断面内における光路図である。2つの発光点は主走査方向に離間しているため、コリメータレンズ2から射出される主光線AとBは各々光軸に対してある角度を有している。シリンドリカルレンズ30を通過後、主光線AとBは開口絞り40の中央で交差して、ポリゴンミラー50の反射面51にある間隔をもって到達する。ポリゴンミラー50により反射偏向された主光線AとBは、結像光学系60を介して感光ドラム面70に到達する。この際、感光ドラム面70上の同一走査位置に到達するよう書き出しタイミングを微小時間ずらし、主光線AとBに対するポリゴンミラー50の回転角を微小角異ならせている。主光線AとBはポリゴンミラー50の反射面51上で主走査方向に離間しているため、結像光学系60を構成する結像レンズ61、62の各光学面61a〜62b上においても主走査方向に離間している。
FIG. 2 is an optical path diagram in the main scanning section of the principal rays A and B at arbitrary scanning positions of the light beams from the two light emitting points farthest in the main scanning direction among the four light emitting points of the
図3は、任意の走査位置における結像レンズ62に入射してから感光ドラム面70に至るまでの主光線AとBの光路及び、主光線AとBの中央を通る線である中央線Lの主走査断面拡大図である。主光線AとBは、結像光学系60の副走査方向のパワーの絶対値が最も大きい光学面である光学面62b上において主走査方向に離間している。その離間量D(mm)は走査位置ごとに異なっており、有効走査域全域において[数3]を満たしている。この時、主走査断面内において、走査位置ごとに中央線Lと、結像光学系60の副走査方向のパワーの絶対値が最も大きい光学面である光学面62bの交点における光学面62bの法線Nと、中央線Lとの成す角Δθ(rad)が、有効走査域全域において[数4]を満たすように光学面62bの母線形状を構成している。このように結像光学系60を構成することで、製造誤差・組立誤差によるピッチ間隔の変動量に対する結像レンズ62の敏感度を低減することが出来る。
FIG. 3 shows the optical paths of principal rays A and B from the incidence on the
好ましくは、主光線AとBのうち光軸に近い側を通過する主光線(図3では主光線B)と他方の主光線(図3では主光線A)の光軸方向に沿った面のサグ量(通過位置の差)dXと、離間量Dとの比dX/Dが軸上から周辺部へ向かって減少するように、副走査方向のパワーの絶対値が最も大きい光学面である光学面62bの母線形状を構成することが望ましい。光学面62bへの入射光線の角度が周辺部ほど大きくなるため、出射光線の角度も周辺部ほど大きくなる。従ってΔθを小さくするためには、光学面62bの母線形状を軸上から周辺部へ向かってポリゴンミラー50へ近づく形状とし、面法線の角度を大きくする必要がある。このためdX/Dを軸上から周辺部に向かって減少するように光学面62bの母線形状を構成するのが良い。但し、dXは被走査面に向かう方向を正とする。さらに好ましくは、本実施例のように軸上(走査位置0mm)以外の少なくとも1つの点でΔθが0となっていることが望ましい。
Preferably, of the principal rays A and B, the surface along the optical axis direction of the principal ray (primary ray B in FIG. 3) passing through the side closer to the optical axis and the other principal ray (principal ray A in FIG. 3). An optical surface that has the largest absolute value of power in the sub-scanning direction so that the ratio dX / D between the sag amount (passage position difference) dX and the separation amount D decreases from the on-axis toward the periphery. It is desirable to configure the bus bar shape of the
図4に、従来の光走査装置と実施例1の光装置の最も主走査方向に離間した2つの発光点から射出された光束の主光線AとBの光学面62b上における走査位置ごとの主走査方向の離間量Dを示す。最小値は0.373(mm)であり式(1)を満足している。
FIG. 4 shows the principals at the scanning positions of the principal rays A and B of the light beams emitted from the two light emitting points farthest in the main scanning direction of the conventional optical scanning device and the optical device of the first embodiment on the
図5は、従来の光走査装置と実施例1の光装置の主走査断面内において主光線AとBの中央を通る中央線Lと光学面62bの交点における光学面62bの法線と、中央線Lとの成す角Δθ(rad)の走査位置ごとでのグラフである。Δθの値は、従来例よりも小さく抑えられており有効走査域全域で式(2)を満たしている。また、図4から分かるように離間量Dは軸外へいくほど大きくなっているため、軸上以外にΔθが0となる点があるように構成することで軸外でのピッチ間隔の変動量をより抑えることが可能である。
FIG. 5 shows the normal line of the
図6は、実施例1の光走査装置の主光線A、B間の面のサグ量dXと離間量Dとの比を示すグラフである。dX/Dが周辺部に向かって減少していることが分かる。従って、光学面62bの各主走査位置における面法線の角度は、周辺部に向かって大きくなっている。
FIG. 6 is a graph showing the ratio between the sag amount dX and the separation amount D of the surface between the principal rays A and B of the optical scanning device of the first embodiment. It can be seen that dX / D decreases toward the periphery. Therefore, the angle of the surface normal at each main scanning position of the
図7は、従来の光走査装置と実施例1の光走査装置の、結像レンズ61が−0.1(mm)、結像レンズ62が+0.1(mm)それぞれ副走査方向にシフトした時のピッチ間隔の設計値からの変動量を走査位置ごとに描いたグラフである。図4から分かるように離間量Dは従来例と実施例1とでほぼ同等であるが、図5から分かるように従来例ではΔθが大きく有効走査域全域では式(2)を満たしていないためピッチ間隔の変動量が大きくなってしまっている。しかし、実施例1では副走査方向のパワーを光学面62bに集中させることでピッチ間隔の変動量に対する光学面61a、61bおよび62aによる敏感度を低減し、主走査断面内において光学面62bの法線と中央線Lの成す角Δθを有効走査域全域で式(2)を満たすように抑えてピッチ間隔の変動量に対する光学面62bによる敏感度を低減したことで、製造誤差・組立誤差によるピッチ間隔の変動量を低減出来ていることが分かる。
FIG. 7 shows the conventional optical scanning device and the optical scanning device of Example 1 when the
図8は、本発明の第2の実施例の光走査装置の主走査断面図である。実施例1と異なる点は、結像レンズ61の主走査方向のパワーを小さくし、結像レンズ62の主走査方向のパワーを大きくすることで、レンズ面62bの曲率を実施例1のように大きくせずにピッチ間隔の変動量を低減させている。
FIG. 8 is a main scanning sectional view of the optical scanning device according to the second embodiment of the present invention. The difference from the first embodiment is that the power of the
表2は、第2の実施例の光走査装置における走査光学系の諸数値を示す表である。半導体レーザアレイ10は、100(μm)間隔で並んだ4つの発光点を有しており、光軸周りに4.124(deg)回転され、最も主走査方向に離間した2つの発光点は主走査方向に299.223(μm)、副走査方向に21.575(μm)離間している。
Table 2 is a table showing various numerical values of the scanning optical system in the optical scanning device of the second embodiment. The
図9に、従来の光走査装置と実施例1の光装置の最も主走査方向に離間した2つの発光点から射出された光束の主光線AとBの光学面62b上における走査位置ごとの主走査方向の離間量Dを示す。最小値は0.425(mm)であり式(1)を満足しており、従来例の離間量Dよりも大きくなっている。
FIG. 9 shows principals at the scanning positions of the principal rays A and B of the light beams emitted from the two light emitting points farthest in the main scanning direction of the conventional optical scanning device and the optical device of the first embodiment on the
図10は、従来の光走査装置と実施例2の光装置の主走査断面内において、主光線AとBの中央を通る中央線Lと光学面62bの交点における光学面62bの法線と、中央線Lとの成す角Δθ(rad)を主走査位置に対してプロットしたグラフである。Δθの値は従来例よりも小さくなっており有効走査域全域で式(2)を満たしている。また、軸上以外にΔθが0となる点を有する。
FIG. 10 shows the normal line of the
図11は、実施例2の光装置の主光線A、B間の面のサグ量dXと離間量Dとの比を示すグラフである。dX/Dが周辺部に向かって減少していることが分かる。従って、光学面62bの各主走査位置における面法線の角度は、周辺部に向かって大きくなっている。
FIG. 11 is a graph showing the ratio between the sag amount dX and the separation amount D of the surface between the principal rays A and B of the optical device according to the second embodiment. It can be seen that dX / D decreases toward the periphery. Therefore, the angle of the surface normal at each main scanning position of the
図12は、従来の光走査装置と実施例2の光装置の、結像レンズ61が−0.1(mm)、結像レンズ62が+0.1(mm)それぞれ副走査方向にシフトした時のピッチ間隔の設計値からの変動量を走査位置ごとに描いたグラフである。副走査方向のパワーを光学面62bに集中させ、主走査断面内において光学面62bの法線と中央線Lの成す角Δθを式(2)を満たすように抑えたことでピッチ間隔の変動量を低減出来ていることが分かる。光学面62bの副走査方向のパワーφsと結像レンズ61および62の4つの光学面の副走査方向のパワーを合成した副走査方向のパワーφtは、式(5)を満たしており、
軸上における副走査方向の結像倍率βs、有効走査域における軸上以外の任意の走査位置での副走査方向の結像倍率βaは、
以上、本発明の好ましい実施の形態について説明した。光源手段として100(μm)間隔で並んだ4つの発光点を有する半導体レーザアレイを用いたが、これに限定するものではなく発光点の配列は1次元に配列されていても2次元に配列されていてもよく、発光点同士の間隔や発光点の数も変更可能である。その際には、全ての発光点のうち最も主走査方向に離間した2つの発光点について、上述した各条件を満足させれば良い。 The preferred embodiments of the present invention have been described above. As the light source means, a semiconductor laser array having four light emitting points arranged at intervals of 100 (μm) is used. However, the present invention is not limited to this, and the light emitting points are arranged in two dimensions even if they are arranged in one dimension. The interval between the light emitting points and the number of the light emitting points can also be changed. In that case, it is only necessary to satisfy the above-mentioned conditions for the two light emitting points that are the most distant from each other in the main scanning direction.
また、上記の実施例においては、最も被走査面側の結像レンズの光学面は、副走査方向のパワーの絶対値が最も大きい光学面であって主走査断面内の形状が非球面形状である場合を例示したように、副走査方向のパワーの絶対値が最も大きい光学面を有する結像光学素子の少なくとも1つの面は、主走査断面内の形状が非球面形状であってもよい。しかし、本発明はこれに限定されることはなく、副走査方向のパワーの絶対値が最も大きい光学面を有する結像光学素子の主走査断面内の形状は非球面に限らず式(2)を満足すれば球面でも良い。 In the above embodiment, the optical surface of the imaging lens closest to the surface to be scanned is an optical surface having the largest absolute value of power in the sub-scanning direction, and the shape in the main scanning section is aspherical. As illustrated in a case, at least one surface of the imaging optical element having an optical surface having the largest absolute value of power in the sub-scanning direction may have an aspheric shape in the main scanning section. However, the present invention is not limited to this, and the shape in the main scanning section of the imaging optical element having an optical surface having the largest absolute value of power in the sub-scanning direction is not limited to an aspherical surface. A spherical surface may be used if the above is satisfied.
結像光学系は2つの結像レンズにより構成したが、たとえば1つの結像レンズでも良い。その場合は、その1つの結像レンズの入射面と出射面の一方について副走査方向のパワーを大きくし、上述した各条件を満足させれば良い。あるいは3つ以上の結像レンズでも良く、その場合は最も副走査方向のパワーの絶対値が大きい光学面について各条件を満足させれば良い。 The imaging optical system is composed of two imaging lenses, but may be, for example, a single imaging lens. In that case, it is only necessary to increase the power in the sub-scanning direction on one of the entrance surface and the exit surface of the one imaging lens to satisfy the above-described conditions. Alternatively, three or more imaging lenses may be used, and in this case, each condition may be satisfied for an optical surface having the largest absolute value of power in the sub-scanning direction.
10 半導体レーザアレイ
20 コリメータレンズ
30 シリンドリカルレンズ
40 開口絞り
50 ポリゴンミラー
51 ポリゴンミラーの反射面
60 結像光学系
61 1つめの結像レンズ(61a:入射面、61b:射出面)
62 2つめの結像レンズ(62a:入射面、62b:射出面)
70 感光ドラム面
DESCRIPTION OF
62 Second imaging lens (62a: entrance surface, 62b: exit surface)
70 Photosensitive drum surface
Claims (6)
前記光源手段からの複数の光束を偏向させる偏向手段と、
前記偏向手段により偏向された複数の光束を被走査面上に結像させる結像光学系と、
を有し、
前記結像光学系は、
前記複数の発光点のうち最も主走査方向に離間している2つの発光点から射出される光束の主光線をA、Bとし、前記主光線AとBの中央を通る線である中央線をLとした時、
有効走査域全域において、副走査方向のパワーの絶対値が最も大きい光学面上での前記主光線AとBの主走査断面内における離間量D(mm)は、
主走査断面内において、前記副走査方向のパワーの絶対値が最も大きい光学面の前記中央線Lの射出位置における法線と前記中央線Lとの成す角をΔθ(rad)とした時、
前記副走査方向のパワーの絶対値が最も大きい光学面の主走査断面内の形状は、
ことを特徴とする光走査装置。 Light source means comprising at least a plurality of light emitting points spaced apart in the main scanning direction;
Deflecting means for deflecting a plurality of light beams from the light source means;
An imaging optical system for imaging a plurality of light beams deflected by the deflecting means on a scanned surface;
Have
The imaging optical system is
Of the plurality of light emitting points, chief rays of light beams emitted from the two light emitting points farthest in the main scanning direction are denoted as A and B, and a center line that is a line passing through the center of the chief rays A and B is defined as a central line. When L
The separation amount D (mm) of the principal rays A and B in the main scanning section on the optical surface where the absolute value of the power in the sub-scanning direction is the largest in the entire effective scanning area is:
In the main scanning section, when the angle formed by the normal line at the emission position of the central line L of the optical surface having the largest absolute value of the power in the sub-scanning direction and the central line L is Δθ (rad),
The shape in the main scanning section of the optical surface having the largest absolute value of the power in the sub-scanning direction is
An optical scanning device.
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