JP2013177693A - 遮熱膜及びその形成方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】中空粒状体を内部に分散させたバインダからなる遮熱膜であって、中空粒状体はバインダと基材との界面まで分布させる。
【選択図】図7
Description
Q=A×h×(Tg−Twall) (1)
Claims (11)
- 中空粒状体を内部に分散させたバインダからなる遮熱膜であって、
前記中空粒状体は、前記バインダと基材との界面まで分布していることを特徴とする遮熱膜。 - 請求項1に記載の遮熱膜であって、
前記バインダ内に分散する前記中空粒状体間に空孔が形成されていることを特徴とする遮熱膜。 - 請求項2に記載の遮熱膜であって、
前記バインダ内の前記空孔の体積割合は30%以下であることを特徴とする遮熱膜。 - 請求項2又は3に記載の遮熱膜であって、
前記空孔の平均径は40μm以下であることを特徴とする遮熱膜。 - 請求項1〜4のいずれか1つに記載の遮熱膜であって、
前記中空粒状体の殻は、純度が95重量%以上のシリカガラスであることを特徴とする遮熱膜。 - 基材上に遮熱膜を形成する方法であって、
殻で囲まれた中空部を有する中空粒状体を含むバインダをスプレイで基材上に塗布する塗布工程と、
基材上に塗布された前記中空粒状体及び前記バインダを加熱して焼成する焼成工程と、
を含むことで、
前記中空粒状体を有する遮熱膜を基材上に形成することを特徴とする遮熱膜の形成方法。 - 請求項5に記載の遮熱膜の形成方法であって、
前記塗布工程と前記焼成工程を複数回繰り返すことによって遮熱膜を前記基材上に形成することを特徴とする遮熱膜の形成方法。 - 請求項5又は6に記載の遮熱膜の形成方法であって、
前記バインダ内に分散する前記中空粒状体間に空孔が形成されることを特徴とする遮熱膜の形成方法。 - 請求項8に記載の遮熱膜の形成方法であって、
前記バインダ内の前記空孔の体積割合は30%以下であることを特徴とする遮熱膜の形成方法。 - 請求項8又は9に記載の遮熱膜の形成方法であって、
前記空孔の平均径は40μm以下であることを特徴とする遮熱膜の形成方法。 - 請求項6〜10のいずれか1つに記載の遮熱膜の形成方法であって、
前記中空粒状体の殻は、純度が95重量%以上のシリカガラスであることを特徴とする遮熱膜の形成方法。
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2013
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