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JP2013177693A - 遮熱膜及びその形成方法 - Google Patents

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JP2013177693A JP2013105889A JP2013105889A JP2013177693A JP 2013177693 A JP2013177693 A JP 2013177693A JP 2013105889 A JP2013105889 A JP 2013105889A JP 2013105889 A JP2013105889 A JP 2013105889A JP 2013177693 A JP2013177693 A JP 2013177693A
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Hidemasa Kosaka
英雅 小坂
Yoshifumi Wakizaka
佳史 脇坂
Minaji Inayoshi
三七二 稲吉
Yoshihiro Hotta
義博 堀田
Kiyomi Nakakita
清己 中北
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Abstract

【課題】遮熱性及び耐久性に優れた遮熱膜200を提供する。
【解決手段】中空粒状体を内部に分散させたバインダからなる遮熱膜であって、中空粒状体はバインダと基材との界面まで分布させる。
【選択図】図7

Description

本発明は、耐熱性が高い遮熱膜及びその形成方法に関する。
熱伝導率の低いセラミックス(例えば、ジルコニア)からなる単一材料の遮熱膜を内燃機関の燃焼室内壁に形成することで、燃焼室内の燃焼ガスからの熱伝達を低下させて熱効率の向上を図る技術が開示されている(非特許文献1,2)。
また、構造体部品の表面に耐熱性材質の被覆層を柱状晶組織,微細結晶粒組織、又は柱状晶組織と微細結晶粒組織で積層させる技術が開示されている(特許文献1)。この耐熱被覆層は熱応力の負荷により膜厚方向に微細なクラックを生じて熱応力と緩和することができる。
また、膜の材料を基材上に滴下してスピンコートすることよって基材上に膜を形成する技術において、滴下開始時と滴下終了時の基材の回転速度を変化させることで塗膜内の異物を低減し、均一な厚さの膜を形成する技術が開示されている(特許文献2)。
特開平9−3647号公報 特開2001−300408号公報
Gerhard Woschni他,"Heat Insulation of Combustion Chamber Walls - A Measure to Decrease the Fuel Combustion of I.C. Engines?",SAE Paper 870339,Society of Automotive Engineers,1987 Victor W.Wong他,"Assessment of Thin Thermal Barrier Coatings for I.C. Engines",SAE Paper 950980,Society of Automotive Engineers,1995
遮熱材料として熱伝導率の低いセラミックスを使用した場合、金属に比べて熱膨張率が低く、高温に曝されて温度が上昇した際に基材との熱膨張差によって割れや剥離が生じ易い。
また、バインダに中空体を混合させて遮熱膜の特性を向上させる技術がある。ここで、バインダに中空体を混合させてスピンコート等の従来技術により基材に塗布すると、中空体の浮力によってバインダの上部に中空体が浮き、バインダと基材との界面付近には中空体が存在しない領域が発生し、バインダ内に中空体を均一に分散させることができない。
このような構造では、遮熱性が低下するおそれがある。また、バインダの上部に中空体が密に存在することによって、基材との熱膨張差によって割れや剥離が生じ易い。
本発明は、上記課題を鑑み、遮熱性及び耐久性が高い遮熱膜及びその形成方法を提供することを目的とする。
本発明の1つの態様は、中空粒状体を内部に分散させたバインダからなる遮熱膜であって、前記中空粒状体は、前記バインダと基材との界面まで分布していることを特徴とする。
ここで、前記バインダ内に分散する前記中空粒状体間に空孔が形成されていることが好適である。特に、前記バインダ内の前記空孔の体積割合は30%以下であることがより好適である。また、前記空孔の平均径は中空粒状体の平均径よりも小さいことが好適であり、具体的には40μm以下であることが好適である。
また、前記中空粒状体の殻は、純度が95重量%以上のシリカガラスであることが好適である。
また、本発明の別の態様は、基材上に遮熱膜を形成する方法であって、殻で囲まれた中空部を有する中空粒状体を含むバインダをスプレイで基材上に塗布する塗布工程と、基材上に塗布された前記中空粒状体及び前記バインダを加熱して焼成する焼成工程と、を含むことで、前記中空粒状体を有する遮熱膜を基材上に形成することを特徴とする。
ここで、前記塗布工程と前記焼成工程を複数回繰り返すことによって遮熱膜を前記基材上に形成することが好適である。
これにより、前記バインダ内に分散する前記粒子間に空孔を形成することが好適である。また、前記バインダ内の前記空孔の体積割合を30%以下とすることが好適である。さらに、前記空孔の平均径は前記粒子の平均径よりも小さくすることが好適であり、具体的には40μm以下とすることが好適である。
また、前記粒子の殻は、純度が95重量%以上のシリカガラスとすることが好適である。
本発明によれば、遮熱性及び耐久性が高い遮熱膜及びその形成方法を提供することができる。
本発明の実施形態に係る製造方法により製造された内燃機関の概略構成を示す図である。 遮熱膜を形成する方法の一例を説明するフローチャートである。 遮熱膜を形成する方法の一例を説明する図である。 遮熱膜を形成するスプレイ法を説明する模式図である。 遮熱膜を形成する方法の一例を説明する図である。 遮熱膜を形成する方法の一例を説明する図である。 遮熱膜を形成する方法の一例を説明する図である。 遮熱膜のシリカガラスの純度と耐熱性との関係を示す図である。
本発明の実施の形態に係る遮熱膜は、図1に示す内燃機関100の構造体部品の表面に形成される。内燃機関(エンジン)100は、シリンダブロック10及びシリンダヘッド12を備える。シリンダブロック10内には、その軸線方向に往復運動するピストン14が収容されている。ピストン14の頂面14a、シリンダブロック10の内壁面10a、及びシリンダヘッド12の下面12aに囲まれた空間は、燃焼室16を形成する。シリンダヘッド12には、燃焼室16に連通する吸気ポート18、及び燃焼室16に連通する排気ポート20が形成されている。さらに、吸気ポート18と燃焼室16との境界を開閉する吸気弁22、及び排気ポート20と燃焼室16との境界を開閉する排気弁24が設けられている。シリンダブロック10には、冷却水ジャケット26が形成されており、冷却水ジャケット26に冷却水が供給されることで、内燃機関100の冷却が行われる。
なお、図1では、説明の便宜上、燃料噴射弁や点火栓等の構成の図示を省略しているが、本実施形態に係る内燃機関100は、ディーゼルエンジン等の圧縮自着火式内燃機関であってもよいし、ガソリンエンジン等の火花点火式内燃機関であってもよい。圧縮自着火式内燃機関の場合は、例えばピストン14が圧縮上死点付近に位置するときに燃料噴射弁から燃焼室16内に燃料を噴射することで、燃焼室16内の燃料が自着火して燃焼する。火花点火式内燃機関の場合は、点火時期にて点火栓の火花放電により燃焼室16内の混合気に点火することで、燃焼室16内の混合気を火炎伝播燃焼させる。燃焼室16内の燃焼ガスは、排気行程にて排気ポート20へ排出される。
本実施形態では、燃焼室16を形成する構造体部品の少なくとも一部の、燃焼室16内に臨む(面する)壁面上には、燃焼室16内の燃焼ガスから構造体部品への伝熱を抑制するための遮熱膜200が形成されている。
ここでは、燃焼室16を形成する構造体部品として、シリンダブロック(シリンダライナ)10、シリンダヘッド12、ピストン14、吸気弁22及び排気弁24を挙げることができる。そして、燃焼室16内に臨む壁面として、シリンダブロック内壁面(シリンダライナ内壁面)10a、シリンダヘッド下面12a、ピストン頂面14a、吸気弁底面(傘部底面)22a、及び排気弁底面(傘部底面)24aのいずれか1つ以上を挙げることができる。図1では、シリンダブロック内壁面10a、シリンダヘッド下面12a、ピストン頂面14a、吸気弁底面22a、及び排気弁底面24aの各々に遮熱膜200を形成した例を示している。ただし、必ずしもシリンダブロック内壁面10a、シリンダヘッド下面12a、ピストン頂面14a、吸気弁底面22a、及び排気弁底面24aのすべてに遮熱膜200を形成する必要はない。すなわち、遮熱膜200は、シリンダブロック内壁面10a、シリンダヘッド下面12a、ピストン頂面14a、吸気弁底面22a及び排気弁底面24aのいずれか1つ以上に形成することでいくらかの効果は得ることができる。
次に、本実施形態に係る内燃機関100の製造方法、特に、遮熱膜200を形成する方法について説明する。なお、遮熱膜200を形成する工程以外の内燃機関100の製造工程については、周知の工程で実現可能である。
図2は、遮熱膜200を形成する方法の一例を説明するフローチャートである。まずステップS100の粒子製造工程においては、図3に示すように、遮熱用材料として、周りを殻31bとなる材料で形成した中空部31aを有する粒子31を製造する。ここでの殻31bとなる材料は、後述するバインダよりも弾性率が低い材料とする。
粒子31としては、例えば、殻31bとしてシリカ(二酸化珪素、SiO2)を主成分とする微細多孔構造の断熱材を挙げることができる。特に、バインダとしてジルコニア(ZrO2)、アルミナ(Al23)、窒化珪素や炭化珪素やコージェライト等のセラミック材料を用いた場合、殻31bとなる材料はシリカ(二酸化珪素、SiO2)とすることが好適である。ジルコニアの縦弾性係数は245GPa程度であり、炭化ケイ素の縦弾性係数は450GPa程度であるので、縦弾性係数が240GPa以下、より好ましくは65GPa以上90GPa以下であるシリカを殻31bとなる材料として用いることが好適である。
また、殻31bとなる材料は、高純度のシリカとすることが好適である。すなわち、純度が95重量%以上のシリカとすることが好適である。また、各粒子31の平均外径は100μm以下、より好ましくは50μm以下とすることが好適である。
なお、粒子31の平均径は、例えば、最終的に形成される遮熱膜200の顕微鏡観察の断面図における粒子31の断面積を平均し、その平均値を粒子31の断面が円であると仮定した場合の直径として換算して求めることができる。
次に、ステップS102の薄膜塗布工程では、バインダ32に粒子31を多数分散させて基材に塗布する。すなわち、多数の粒子31をバインダ32に混入させ、図4に示すように、構造体部品30の壁面30a上に薄膜状に塗布することで、バインダ32と多数の粒子31とを含む薄膜200を構造体部品30の壁面30a上に形成する。薄膜200の厚さは、例えば約100μm程度とすることが好適である。
本実施の形態では、粒子31とバインダ32との混合液をスプレイ法により構造体部品30の壁面30a上に塗布する。具体的には、図4に示すように、スプレイガン40を用いて粒子31とバインダ32との混合液を壁面30a上に塗布する。
バインダ32は、構造体部品30以下の熱伝導率を有し、構造体部品30よりも低いまたは構造体部品30とほぼ同等の単位体積あたりの熱容量を有する材料とすることが好適である。一方、粒子31は、構造体部品30よりも低い熱伝導率及び構造体部品30よりも低い単位体積あたりの熱容量を有することが好適である。
バインダ32は、燃焼室内等の高温及び高圧の燃焼ガスに対する耐熱性及び耐圧性を有しており、粒子31よりも高い耐熱温度を有し、且つ粒子31よりも高い強度を有する。
一方、多数の粒子31は、バインダ32の内部に混入されていることで、燃焼室16内の燃焼ガスとは接触しない。バインダ32は、燃焼室16内の燃焼ガスから構造体部品30への伝熱を抑制する機能の他に、粒子31を燃焼室16内の高温及び高圧の燃焼ガスから保護する保護材としての機能も有する。バインダ32は、多数の粒子31をつなぐ接着材としての機能も有する。一方、粒子31は、断熱用薄膜(遮熱膜)200全体での熱伝導率及び単位体積あたりの熱容量を下げる機能を有する。
バインダ32の具体例としては、例えばジルコニア(ZrO2)、アルミナ(Al23)、窒化珪素や炭化珪素等のセラミックを挙げることができる。さらに、これらの材料を複数組み合わせてバインダ32に用いることもできる。塗布時には、粘度を調整するために、水等の溶媒を用いてもよい。
ジルコニアにおいては、熱伝導率λは2.5[W/(m・K)]程度であり、単位体積あたりの熱容量ρCは2500×103[J/(m3・K)]程度であり、耐熱温度Tmは2700[℃]程度であり、強度(曲げ強度)σは1470[MPa]程度である。ジルコニアの他に、コージェライト(熱伝導率λは4[W/(m・K)]程度、単位体積あたりの熱容量ρCは1900×103[J/(m3・K)]程度)も用いることができ、さらに、アルミナ系や窒化珪素系のセラミックも一部混合して用いることができる。また、例えば、シリコン、チタンまたはジルコニウム、炭素、及び酸素を含んで構成することができ、この場合、熱伝導率λは2.5[W/(m・K)]程度であり、単位体積あたりの熱容量ρCは1600×103[J/(m3・K)]程度であり、耐熱温度Tmは1300[℃]程度であり、強度(引張強度)σは3300[MPa]程度である
スプレイ法を適用することによって、空気を巻き込みながらバインダ32を壁面30a上に塗布することができ、バインダ32の乾燥が早くなり、塗布後のバインダ32内で浮力により粒子31が浮く前にバインダ32の固化が始まる。これにより、図5の断面図に示すように、形成される遮熱膜200の下部、すなわちバインダ32と壁面30aとの界面付近から遮熱膜200の上部まで粒子31を偏ることなく分散させることができる。
バインダ32への粒子31の充填率は50%以上70%未満とすることが好適である。スプレイ法を用いて、塗布する圧力を調整しつつ粒子31を上記充填率で分散させることによって、図6の拡大断面図に示すように、空気を巻き込みながら塗布されたバインダ32内には粒子31間に空孔33が形成される。
なお、薄膜200内の粒子31の充填率は、最終的に形成される遮熱膜200の顕微鏡観察の断面図において、遮熱膜200の全断面積に対する粒子33に相当する領域の面積の割合として求めることができる。
また、空孔33は、遮熱膜200内の体積割合として最大で30%以下とすることが好適である。また、空孔33の平均径は粒子31の平均径よりも小さくすることが好適である。例えば、粒子31の平均径は50μm以下とすることが好適であるので、空孔33の平均径は40μm以下とすることが好適である。
なお、遮熱膜200内の空孔33の体積割合は、遮熱膜200の顕微鏡観察の断面図において、遮熱膜200の全断面積に対する空孔33に相当する領域の面積の割合として求めることができる。また、空孔33の平均径は、例えば、遮熱膜200の顕微鏡観察の断面図における空孔33の断面積を平均し、その平均値を空孔33の断面が円であるとして仮定した場合の直径として換算して求めることができる。
バインダ32のセラミック材料(例えばジルコニア)は、塗布後に粒子31が浮力により浮かない程度に固化するが、まだ焼成されておらず、緻密化されていない状態となる。すなわち、セラミック材料は、粗な構造であり、完全には固化されていない。
なお、構造体部品30は、シリンダブロック(シリンダライナ)10であってもよいし、シリンダヘッド12であってもよいし、ピストン14であってもよいし、吸気弁22であってもよいし、排気弁24であってもよい。すなわち、構造体部品30の壁面30aは、シリンダブロック内壁面(シリンダライナ内壁面)10aであってもよいし、シリンダヘッド下面12aであってもよいし、ピストン頂面14aであってもよいし、吸気弁底面22aであってもよいし、排気弁底面24aであってもよい。
また、構造体部品30の材料の具体例としては、例えば鉄(鋼)、アルミニウムもしくはアルミニウム合金、またはセラミック等を挙げることができる。鉄においては、熱伝導率λは80.3[W/(m・K)]程度であり、単位体積あたりの熱容量ρCは3500×103[J/(m3・K)]程度である。アルミニウムにおいては、熱伝導率λは193[W/(m・K)]程度であり、単位体積あたりの熱容量ρCは2400×103[J/(m3・K)]程度(ジルコニアとほぼ同等)である。例えば、構造体部品30に鉄(鋼)、バインダ32にセラミック(ジルコニア)、粒子31にシリカビーズを用いる場合は、バインダ32の熱伝導率及び単位体積あたりの熱容量は構造体部品30よりも低くなり、粒子31の熱伝導率及び単位体積あたりの熱容量はバインダ32よりも低くなる。そして、バインダ32の耐熱温度及び強度が粒子31よりも高くなる。
次に、ステップS104の焼成用加熱工程では、図7に示すように、薄膜200を加熱して、粒子31の殻31bを緻密化させるとともにバインダ32を焼成する。ここでの薄膜200の加熱では、赤外線による加熱や、レーザによる加熱や、火炎(バーナ)による加熱を用いることが可能である。ここでは、薄膜200の温度が約200℃以上250℃以下の温度で焼成処理を行う。これにより、バインダ32が焼成される。以上の工程により、各粒子31内に中空部31aを有する遮熱膜200が構造体部品30の壁面30a上に形成される。
内燃機関のシリンダ内における熱損失Q[W]については、シリンダ内の圧力やガス流に起因する熱伝達係数h[W/(m2・K)]、シリンダ内の表面積A[m2]、シリンダ内のガス温度Tg[K]、及びシリンダ内に面する(シリンダ内の燃焼ガスと接触する)壁面の温度Twall[K]を用いて、以下の(1)式で表すことができる。
Q=A×h×(Tg−Twall) (1)
内燃機関のサイクルにおいては、シリンダ内ガス温度Tgが時々刻々変化するが、壁面温度Twallをシリンダ内ガス温度Tgに追従させるよう時々刻々変化させることで、(1)式における(Tg−Twall)の値を小さくすることができ、熱損失Qを低減することができる。壁面温度Twallをシリンダ内ガス温度Tgに追従させるよう変化させるためには、燃焼室内に臨む壁面に形成する遮熱膜については、熱伝導率及び単位体積あたりの熱容量が低いことが望ましい。
本実施形態では、遮熱膜200内に中空部31aが形成されていることで、遮熱膜200の熱伝導率及び単位体積あたりの熱容量を低くすることができる。その結果、燃焼室壁面温度Twallのシリンダ内ガス温度Tgへの追従性を向上させることができ、内燃機関100の熱効率を向上させることができる。
また、本実施の形態では、スプレイ法を適用することによって、空気を巻き込みながらバインダ32を壁面30a上に塗布することができ、形成される遮熱膜200の下部から上部まで粒子31を偏ることなく分散させることができる。したがって、熱伝導率を遮熱膜200の下部から上部まで均一化でき、遮熱効果を高めることができる。
また、遮熱膜200のバインダ32内にバインダ32よりも低い弾性率を有するシリカガラスの殻31bを有する粒子31を混入させているため、母材となる構造体部品30の壁面30aが加熱された場合であっても母材との界面に生ずるせん断応力を小さくすることができ、大きな歪みにも耐えられるものとなる。
すなわち、遮熱膜200の内部で破断が発生しないためには、膜が変形した状態で発生するせん断応力以上の強度があればよく、母材との熱膨張の差によって母材界面に発生するせん断応力は、遮熱膜200の弾性率に比例して低下するので、バインダ32内部にバインダ32よりも低い弾性率を有するシリカガラスの殻31bを有する中空の粒子31を分散させることによってせん断応力を低下させ、より大きな歪みに耐えられるものとしている。
なお、バインダ32への粒子31の充填率を50%以上90%以下、より好ましくは60%以上70%未満とすることによって遮熱膜200の上記効果を顕著なものにすることができる。
また、粒子31の殻31bに含まれる不純物の濃度を5重量%未満、すなわちシリカガラスの純度を95重量%以上とすることによって、遮熱膜200に対する加熱による粒子31の耐熱性を高めることができる。すなわち、95重量%以上の純度を有するシリカガラスの殻31bとした場合、1000℃以上に加熱したときの遮熱膜200の電子顕微鏡観察では粒子31の殻31bは粒子形状をほとんど崩さず保っており、高い遮熱性及び耐久性を維持することができる。一方、シリカガラスの殻31bの純度を70重量%〜80重量%まで下げた場合、1000℃以上に加熱したときの遮熱膜200の電子顕微鏡観察では粒子31の殻31bは溶解し、粒子31の形状が崩れてしまい、高い遮熱性及び耐久性を維持することができない。
図8に粒子31のシリカガラスの純度と耐熱性との関係を示す。シリカガラスの純度を高くするほど遮熱膜200の耐熱温度も高くなり、シリカガラスの純度が95重量%以上で約1000℃の耐熱性を得ることができる。
また、本実施の形態では、スプレイ法を適用することによって、バインダ32内の粒子31間に空孔33を形成することができる。このような空孔33は、粒子31の中空部31aと同様に、遮熱膜200の熱伝導率及び単位体積あたりの熱容量を低くする作用をもたらす。その結果、内燃機関100の熱効率を向上させることができる。
さらに、薄膜200を焼成する際や使用時に高温になった際に壁面30aとの熱膨張差による応力を緩和する作用を有する。したがって、遮熱膜200の破損や剥離を抑制する効果を奏する。
また、遮熱膜200内の空孔33の体積割合を最大で30%以下とし、粒子31が剥離せず、遮熱膜200をガスが透過することを防ぐことができる。また、遮熱膜200の構造的な強度の低下を抑えることができる。
また、空孔33の平均径は粒子31の平均径よりも小さくすることによって、粒子31が剥離せず、遮熱膜200をガスが透過することを防ぐことができる。また、遮熱膜200の構造的な強度の低下を抑えることができる。
また、ステップS102の薄膜塗布工程では一回に塗布する薄膜200の厚さを目標の厚さよりも薄くしてもよい。例えば、一回に塗布する薄膜200の厚さを目標厚さの1/2〜1/5程度とする。ここでの目標厚さは例えば100μm程度の厚さである。その後、ステップS104の焼成工程を行う。
次に、構造体部品30の壁面30a上に形成された薄膜200の合計厚さが目標の厚さに達したか否かを判定し、薄膜200の合計厚さが目標の厚さに達していない場合は、薄膜200の合計厚さが目標の厚さに達するまでステップS102の薄膜塗布工程とステップS104の焼成工程とを交互に繰り返す。一方、薄膜200の合計厚さが目標の厚さに達した場合は、薄膜200の塗布及び加熱(焼成)を終了する。
このように、目標の厚さの薄膜200を形成する際に、薄い薄膜200の塗りと焼成とを交互に複数回繰り返して目標の厚さにすることによって、1回あたりに焼成される薄膜200の厚さを薄くすることができ、バインダ32内に粒子遮熱材を均等に分散させることができる。
10 シリンダブロック、10a シリンダブロック内壁面、12 シリンダヘッド、12a シリンダヘッド下面、14 ピストン、14a ピストン頂面、16 燃焼室、18 吸気ポート、20 排気ポート、22 吸気弁、22a 吸気弁底面、24 排気弁、24a 排気弁底面、26 冷却水ジャケット、30 構造体部品、30a 壁面、31 粒子、31a 中空部、31b 殻、32 バインダ、33 空孔、200 遮熱膜(薄膜)。
本発明の1つの態様は、中空粒状体を内部に分散させたセラミックスからなるバインダからなる遮熱膜であって、前記中空粒状体は、前記遮熱膜の表面から前記バインダと基材との界面まで分布し、前記バインダ上部に前記中空粒状体が密に存在することを防止することを特徴とする内燃機関に用いる遮熱膜である。ここで、前記バインダ内に分散する前記中空粒状体間に複数の前記中空粒状体に跨がった空孔が形成されていることが好適である。
また、3つ以上の前記中空粒状体に跨がる前記空孔を有することが好適である。特に、前記バインダ内の前記空孔の体積割合は30%以下であることがより好適である。また、前記空孔の平均径は中空粒状体の平均径よりも小さいことが好適であり、具体的には40μm以下であることが好適である。
また、本発明の別の態様は、上記遮熱膜を形成する方法であって、中空粒状体を含むバインダをスプレイで基材上に塗布する塗布工程と、基材上に塗布された前記中空粒状体及び前記バインダを加熱して焼成する焼成工程と、を含むことを特徴とする。
ここで、前記塗布工程と前記焼成工程を複数回繰り返すことによって遮熱膜を前記基材上に形成することが好適である。

Claims (11)

  1. 中空粒状体を内部に分散させたバインダからなる遮熱膜であって、
    前記中空粒状体は、前記バインダと基材との界面まで分布していることを特徴とする遮熱膜。
  2. 請求項1に記載の遮熱膜であって、
    前記バインダ内に分散する前記中空粒状体間に空孔が形成されていることを特徴とする遮熱膜。
  3. 請求項2に記載の遮熱膜であって、
    前記バインダ内の前記空孔の体積割合は30%以下であることを特徴とする遮熱膜。
  4. 請求項2又は3に記載の遮熱膜であって、
    前記空孔の平均径は40μm以下であることを特徴とする遮熱膜。
  5. 請求項1〜4のいずれか1つに記載の遮熱膜であって、
    前記中空粒状体の殻は、純度が95重量%以上のシリカガラスであることを特徴とする遮熱膜。
  6. 基材上に遮熱膜を形成する方法であって、
    殻で囲まれた中空部を有する中空粒状体を含むバインダをスプレイで基材上に塗布する塗布工程と、
    基材上に塗布された前記中空粒状体及び前記バインダを加熱して焼成する焼成工程と、
    を含むことで、
    前記中空粒状体を有する遮熱膜を基材上に形成することを特徴とする遮熱膜の形成方法。
  7. 請求項5に記載の遮熱膜の形成方法であって、
    前記塗布工程と前記焼成工程を複数回繰り返すことによって遮熱膜を前記基材上に形成することを特徴とする遮熱膜の形成方法。
  8. 請求項5又は6に記載の遮熱膜の形成方法であって、
    前記バインダ内に分散する前記中空粒状体間に空孔が形成されることを特徴とする遮熱膜の形成方法。
  9. 請求項8に記載の遮熱膜の形成方法であって、
    前記バインダ内の前記空孔の体積割合は30%以下であることを特徴とする遮熱膜の形成方法。
  10. 請求項8又は9に記載の遮熱膜の形成方法であって、
    前記空孔の平均径は40μm以下であることを特徴とする遮熱膜の形成方法。
  11. 請求項6〜10のいずれか1つに記載の遮熱膜の形成方法であって、
    前記中空粒状体の殻は、純度が95重量%以上のシリカガラスであることを特徴とする遮熱膜の形成方法。
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