JP2013174787A

JP2013174787A - Optical member

Info

Publication number: JP2013174787A
Application number: JP2012040204A
Authority: JP
Inventors: Tomoyuki Inoue; 知之井上; Hiroshi Tamaru; 博田丸; Hikari Tsujimoto; 光辻本; Ryutaro Kunioka; 竜太郎國岡; Yasushi Hanada; 泰花田; Atsushi Tanaka; 厚志田中
Original assignee: Panasonic Corp
Current assignee: Panasonic Corp
Priority date: 2012-02-27
Filing date: 2012-02-27
Publication date: 2013-09-05
Also published as: TW201336092A; TWI495116B

Abstract

【課題】本発明の目的とするところは、導体層を支持するために使用される光学部材であって、良好な透明性を有し、且つ導体層が視認されにくくなる光学部材を提供することにある。
【解決手段】光学部材は、基材１、第一の層２、第二の層３、及び第三の層４を備える。前記第一の層２の屈折率が、１．５２以上１．６５以下の範囲、前記第一の層２の厚みが、０．５μｍ以上１０．０μｍ以下の範囲である。前記第二の層３の屈折率が、１．７５以上１．９５以下の範囲であり、前記第二の層３の厚みが１５ｎｍ以上１００ｎｍ以下の範囲である。前記第三の層４の屈折率が、１．３５以上１．５０以下の範囲であり、前記第三の層４の厚みが、２０ｎｍ以上５０ｎｍ以下の範囲である。前記第二の層３が、ルチル型酸化チタン粒子を３０質量％以上８０質量％以下の範囲で含有する。
【選択図】図１An object of the present invention is to provide an optical member that is used to support a conductor layer, has good transparency, and the conductor layer is hardly visible. It is in.
An optical member includes a substrate, a first layer, a second layer, and a third layer. The refractive index of the first layer 2 is in the range of 1.52 to 1.65, and the thickness of the first layer 2 is in the range of 0.5 μm to 10.0 μm. The refractive index of the second layer 3 is in the range of 1.75 to 1.95, and the thickness of the second layer 3 is in the range of 15 nm to 100 nm. The refractive index of the third layer 4 is in the range of 1.35 to 1.50, and the thickness of the third layer 4 is in the range of 20 nm to 50 nm. Said 2nd layer 3 contains a rutile type titanium oxide particle in 30 mass% or more and 80 mass% or less.
[Selection] Figure 1

Description

本発明は、導体層を支持するために使用される光学部材、並びに導体層を備える光学部材に関する。 The present invention relates to an optical member used for supporting a conductor layer, and an optical member including the conductor layer.

透明な基材と、この基材上に支持されている透明な導体層とを備える導電性光学部材は、発光素子、太陽電池、ディスプレイ、タッチパネルなどの電極などのように、光学的機能と導電性とを必要とされる分野に広く利用されている（特許文献１参照）。 A conductive optical member including a transparent base material and a transparent conductor layer supported on the base material has an optical function and a conductive property such as a light emitting element, a solar cell, a display, and an electrode of a touch panel. It is widely used in the field where the performance is required (see Patent Document 1).

導体層の材料として一般的に使用されている酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）等の金属酸化物は、基材の材料として一般的に使用されるガラスやプラスチック基材に比べ、屈折率が高い。また、このような金属酸化物を光が透過する場合、短波長域での光の透過率が低下するため、導体層の透過色が黄色味を帯びやすくなる。このため、導電性光学部材において、導体層が視認されやすくなってしまう。特に、導電性光学部材がタッチパネルに適用される場合には、導体層がパターニングされるため、タッチパネルを見る者によって、このタッチパネルにおける導体層の形が視認されてしまう。そうすると、タッチパネルを備える画像表示機器で表示される画像等の視認性が悪くなってしまうなどの、不具合が生じてしまう。 A metal oxide such as indium tin oxide (ITO) generally used as a material for the conductor layer has a higher refractive index than a glass or plastic substrate generally used as a material for the substrate. Further, when light is transmitted through such a metal oxide, the transmittance of light in a short wavelength region is lowered, so that the transmitted color of the conductor layer is easily yellowish. For this reason, in the conductive optical member, the conductor layer is likely to be visually recognized. In particular, when the conductive optical member is applied to a touch panel, the conductor layer is patterned, so that the shape of the conductor layer in the touch panel is visually recognized by a person viewing the touch panel. If it does so, malfunctions will arise, such as the visibility of the image etc. which are displayed with an image display device provided with a touch panel worsening.

しかし、従来、導電性光学部材の良好な透明性を維持しながら、導体層が視認されにくくすることは、達成されていなかった。 However, conventionally, it has not been achieved that the conductive layer is hardly visible while maintaining good transparency of the conductive optical member.

特開２０１１−２２１８４２号公報JP 2011-221842 A

本発明は上記の点に鑑みてなされたものであり、導体層を支持するために使用される光学部材であって、良好な透明性を有し、且つ導体層が視認されにくくなる光学部材を提供することを、目的とする。 The present invention has been made in view of the above points, and is an optical member used for supporting a conductor layer, which has good transparency and the conductor layer is hardly visible. The purpose is to provide.

また、本発明は、導体層を備える光学部材であって、良好な透明性を有し、且つ導体層が視認されにくくなる光学部材を提供することも、目的とする。 Another object of the present invention is to provide an optical member having a conductor layer, which has good transparency and is difficult to visually recognize the conductor layer.

本発明に係る光学部材は、基材、第一の層、第二の層、及び第三の層を備え、これらの要素が前記の順番に積層し、
前記第一の層の屈折率が、１．５２以上１．６５以下の範囲、前記第一の層の厚みが、０．５μｍ以上１０．０μｍ以下の範囲であり、
前記第二の層の屈折率が、１．７５以上１．９５以下の範囲であり、前記第二の層の厚みが１５ｎｍ以上１００ｎｍ以下の範囲であり、
前記第三の層の屈折率が、１．３５以上１．５０以下の範囲であり、前記第三の層の厚みが、２０ｎｍ以上５０ｎｍ以下の範囲であり、
前記第二の層が、ルチル型酸化チタン粒子を３０質量％以上８０質量％以下の範囲で含有する。 The optical member according to the present invention includes a base material, a first layer, a second layer, and a third layer, and these elements are laminated in the order described above.
The refractive index of the first layer is in the range of 1.52 to 1.65, the thickness of the first layer is in the range of 0.5 μm to 10.0 μm,
The refractive index of the second layer is in the range of 1.75 or more and 1.95 or less, and the thickness of the second layer is in the range of 15 nm or more and 100 nm or less,
The refractive index of the third layer is in the range of 1.35 or more and 1.50 or less, and the thickness of the third layer is in the range of 20 nm or more and 50 nm or less,
The second layer contains rutile-type titanium oxide particles in a range of 30% by mass to 80% by mass.

前記第三の層が、フッ素置換アルキル基を備える加水分解性オルガノシラン縮重合物を含有することが好ましい。 It is preferable that the third layer contains a hydrolyzable organosilane polycondensate having a fluorine-substituted alkyl group.

本発明に係る光学部材は、前記基材の前記第一の層とは反対側の面を被覆する透明な第四の層を更に備えることが好ましい。 It is preferable that the optical member according to the present invention further includes a transparent fourth layer that covers a surface of the substrate opposite to the first layer.

本発明に係る光学部材は、前記第三の層の前記第二の層とは反対側の面上に積層しており、且つ屈折率が１．８０以上２．３０以下の範囲の透明な導体層を更に備えてもよい。 The optical member according to the present invention is laminated on the surface of the third layer opposite to the second layer, and has a refractive index in the range of 1.80 to 2.30. A layer may further be provided.

本発明によれば、第一の層、第二の層、及び第三の層の屈折率及び厚みが特定の範囲に規制されることで、第三の層の上に導体層が支持されていても、導体層が視認されにくくなり、更に第二の層の屈折率がルチル型酸化チタン粒子によって調整されることで、光学部材の耐光性が高くなる。 According to the present invention, the conductor layer is supported on the third layer by regulating the refractive index and thickness of the first layer, the second layer, and the third layer to a specific range. However, it becomes difficult to visually recognize the conductor layer, and the light resistance of the optical member is increased by adjusting the refractive index of the second layer with the rutile-type titanium oxide particles.

本発明の第一の実施形態に係る光学部材を示す概略の断面図である。1 is a schematic cross-sectional view showing an optical member according to a first embodiment of the present invention. 本発明の第二の実施形態に係る光学部材を示す概略の断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the optical member which concerns on 2nd embodiment of this invention. 前記第二の実施形態に係る光学部材を備える画像表示機器の例を示す概略の断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the example of an image display apparatus provided with the optical member which concerns on said 2nd embodiment.

［第一の実施形態］
本実施形態に係る光学部材１１（導体層支持用光学部材）は、導体層５を備えない中間品である。本実施形態では、光学部材１１は、図１に示されるように、基材１、第一の層２（ハードコート層）、第二の層３（高屈折率層）、及び第三の層４（低屈折率層）を備える。基材１、第一の層２、第二の層３、及び第三の層４は、この順番に積層している。すなわち、基材１の第一の主面上に第一の層２が積層し、第一の層２の基材１とは反対側の主面上に第二の層３が積層し、第二の層３の第一の層２とは反対側の主面上に第三の層４が積層している。基材１、第一の層２、第二の層３、及び第三の層４のうちのいずれの要素も光透過性を有し、光学部材１１が全体として光透過性を有する。この光学部材１１は、第三の層４の上で導体層５を支持するために使用される（図２参照）。 [First embodiment]
The optical member 11 (optical member for supporting a conductor layer) according to this embodiment is an intermediate product that does not include the conductor layer 5. In the present embodiment, as shown in FIG. 1, the optical member 11 includes a base material 1, a first layer 2 (hard coat layer), a second layer 3 (high refractive index layer), and a third layer. 4 (low refractive index layer). The base material 1, the first layer 2, the second layer 3, and the third layer 4 are laminated in this order. That is, the first layer 2 is laminated on the first main surface of the substrate 1, the second layer 3 is laminated on the main surface of the first layer 2 opposite to the substrate 1, A third layer 4 is laminated on the main surface of the second layer 3 opposite to the first layer 2. Any element of the base material 1, the first layer 2, the second layer 3, and the third layer 4 has light transmittance, and the optical member 11 has light transmittance as a whole. This optical member 11 is used to support the conductor layer 5 on the third layer 4 (see FIG. 2).

基材１の光線透過率は、５０％以上であることが好ましく、７０％以上であればより好ましく、８０％以上であれば特に好ましい。 The light transmittance of the substrate 1 is preferably 50% or more, more preferably 70% or more, and particularly preferably 80% or more.

基材１の形状は、特に制限されないが、板状又はフィルム状であることが好ましい。特に、光学部材１１の生産性及び運搬性を向上する観点からは、基材１の形状はフィルム状であることが好ましい。 The shape of the substrate 1 is not particularly limited, but is preferably a plate shape or a film shape. In particular, from the viewpoint of improving the productivity and transportability of the optical member 11, the shape of the substrate 1 is preferably a film.

フィルム状の基材１の厚みは１０μｍ以上５００μｍ以下の範囲であることが好ましい。この場合、基材１の透明性が特に良好になり、また光学部材１１の生産時及び取り扱い時の作業性も良好になる。基材１の厚みは、更に２５μｍ以上２００μｍ以下の範囲であることが好ましい。特に基材１の厚みが２５μｍ以上１００μｍ以下であると、光学部材１１の薄型化、軽量化が可能となり、また光学部材１１の表裏における干渉の発生が抑制され、更に基材１が加熱される際の熱収縮が抑制されて基材１の熱収縮による加工性の悪化等の不具合が抑制される。 The thickness of the film-like substrate 1 is preferably in the range of 10 μm to 500 μm. In this case, the transparency of the substrate 1 is particularly good, and the workability during production and handling of the optical member 11 is also good. The thickness of the substrate 1 is preferably in the range of 25 μm to 200 μm. In particular, when the thickness of the substrate 1 is 25 μm or more and 100 μm or less, the optical member 11 can be reduced in thickness and weight, the occurrence of interference on the front and back of the optical member 11 is suppressed, and the substrate 1 is further heated. The thermal contraction at the time is suppressed, and problems such as deterioration of workability due to the thermal contraction of the substrate 1 are suppressed.

基材１の材質は、特に制限されない。基材１の材質の例としては、ガラス、透明樹脂等が挙げられる。透明樹脂の例としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチル共重合体、トリアセチルセルロース、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリ塩化ビニル、非晶質ポリオレフィン、シクロオレフィンポリマー、シクロオレフィンコポリマー等が挙げられる。 The material of the substrate 1 is not particularly limited. Examples of the material of the substrate 1 include glass and transparent resin. Examples of transparent resins include polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polybutylene terephthalate, polycarbonate, polymethyl methacrylate copolymer, triacetyl cellulose, polyolefin, polyamide, polyvinyl chloride, amorphous polyolefin, cycloolefin polymer, cyclohexane Examples thereof include olefin copolymers.

特に、基材１がポリエステルから形成されることが好ましい。ポリエステルフィルムのうち、特に、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）又はポリエチレンナフタレートからなる２軸延伸フィルムは、優れた機械的特性、耐熱性、耐薬品性等を有するため、磁気テープ、強磁性薄膜テープ、包装用フィルム、電子部品用フィルム、電気絶縁フィルム、ラミネート用フィルム、ディスプレイ等の表面に貼るフィルム、各種部材の保護用フィルム等の素材として好適である。特に、ディスプレイ用途に関しては、液晶表示装置の部材であるプリズムレンズシート、タッチパネル、バックライト等のベースフィルムや、テレビの光学フィルムのベースフィルム、プラズマテレビの前面光学フィルターに用いられる光学フィルム、近赤外線カットフィルム、電磁波シールドフィルムのベースフィルム等として好適である。 In particular, the substrate 1 is preferably formed from polyester. Among the polyester films, in particular, biaxially stretched films made of polyethylene terephthalate (PET) or polyethylene naphthalate have excellent mechanical properties, heat resistance, chemical resistance, etc., so magnetic tape, ferromagnetic thin film tape, packaging Films for electronic use, films for electronic parts, electrical insulating films, films for laminating, films to be attached to the surface of displays, and films for protecting various members. Especially for display applications, base films such as prism lens sheets, touch panels, and backlights, which are members of liquid crystal display devices, TV optical film base films, optical films used for plasma TV front optical filters, and near infrared rays It is suitable as a cut film, a base film for an electromagnetic wave shielding film, and the like.

ポリエステルとして、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、２，６−ナフタリンジカルボン酸、４，４′−ジフェニルジカルボン酸等の芳香族ジカルボン酸成分と、エチレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、１，６−ヘキサンジオール等のグリコール成分とが反応することで生成する芳香族ポリエステルが好ましい。特に、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタリンジカルボキシレートなどが、好ましい。またポリエステルは、前記例示した複数の成分等を共重合して生成したものでもよい。 Examples of polyesters include aromatic dicarboxylic acid components such as terephthalic acid, isophthalic acid, 2,6-naphthalene dicarboxylic acid, 4,4′-diphenyldicarboxylic acid, ethylene glycol, 1,4-butanediol, 1,4- Aromatic polyesters produced by reaction with glycol components such as cyclohexanedimethanol and 1,6-hexanediol are preferred. In particular, polyethylene terephthalate, polyethylene-2,6-naphthalene dicarboxylate and the like are preferable. The polyester may be produced by copolymerizing a plurality of the exemplified components.

基材１は有機または無機の粒子を含有してもよい。この場合、基材１の巻き取り性、搬送性等が向上する。基材１が含有することができる粒子として、炭酸カルシウム粒子、酸化カルシウム粒子、酸化アルミニウム粒子、カオリン、酸化珪素粒子、酸化亜鉛粒子、架橋アクリル樹脂粒子、架橋ポリスチレン樹脂粒子、尿素樹脂粒子、メラミン樹脂粒子、架橋シリコーン樹脂粒子等が挙げられる。 The substrate 1 may contain organic or inorganic particles. In this case, the winding property and transportability of the substrate 1 are improved. As the particles that can be contained in the substrate 1, calcium carbonate particles, calcium oxide particles, aluminum oxide particles, kaolin, silicon oxide particles, zinc oxide particles, crosslinked acrylic resin particles, crosslinked polystyrene resin particles, urea resin particles, melamine resin Examples thereof include particles and crosslinked silicone resin particles.

また、基材１は、更に着色剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、潤滑剤、触媒、他の樹脂等も、透明性を損なわない範囲で含有してもよい。 The substrate 1 may further contain a colorant, an antistatic agent, an ultraviolet absorber, an antioxidant, a lubricant, a catalyst, other resins, and the like as long as the transparency is not impaired.

基材１のヘイズは３％以下であることが好ましい。この場合、光学部材１１を通した映像等の視認性が向上し、光学的用途の部材として特に適するようになる。ヘイズが１．５％以下であれば更に好ましい。 The haze of the substrate 1 is preferably 3% or less. In this case, the visibility of images and the like through the optical member 11 is improved, and it is particularly suitable as a member for optical applications. More preferably, the haze is 1.5% or less.

基材１の第一の主面上に第五の層（易接着層、図示せず）が積層していることも好ましい。すなわち、基材１と第一の層２との間に第五の層が介在していることも好ましい。第五の層は、光学部材１１の材料である基材１の単独膜がロール状に巻き回されるなどして重ねられる場合のブロッキングの発生を抑制したり滑性を向上したりするために形成される。更に第五の層は、基材１と第一の層２との間の接着性向上のためにも利用され得る。 It is also preferable that a fifth layer (an easy-adhesion layer, not shown) is laminated on the first main surface of the substrate 1. That is, it is also preferable that the fifth layer is interposed between the substrate 1 and the first layer 2. The fifth layer is for suppressing the occurrence of blocking or improving the slipperiness when the single film of the base material 1 that is the material of the optical member 11 is rolled up and stacked. It is formed. Furthermore, the fifth layer can be used to improve the adhesion between the substrate 1 and the first layer 2.

第五の層の材質に制限はないが、特に第五の層がポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂等から形成されることが好ましい。 The material of the fifth layer is not limited, but the fifth layer is particularly preferably formed from a polyester resin, an acrylic resin, or the like.

第五の層の表面での界面反射によって光学部材１１の反射率が増大することを抑制するためには、第五の層の屈折率が、基材１の屈折率及び第一の層２の屈折率に近いことが望ましく、特に１．５８以上１．７５以下の範囲であることが好ましい。また、第五の層の光学膜厚が１２０ｎｍ以上１６０ｎｍ以下の範囲であることが好ましい。この場合、基材１と第一の層２との間の高い密着性を確保しつつ、第五の層が存在することによる反射率の増大や干渉ムラの発生が抑制される。 In order to suppress an increase in the reflectance of the optical member 11 due to interface reflection on the surface of the fifth layer, the refractive index of the fifth layer is such that the refractive index of the substrate 1 and the first layer 2 It is desirable that the refractive index be close to the refractive index, and it is particularly preferable that the refractive index is in the range of 1.58 to 1.75. Moreover, it is preferable that the optical film thickness of a 5th layer is the range of 120 to 160 nm. In this case, while ensuring high adhesiveness between the base material 1 and the first layer 2, an increase in reflectance and occurrence of interference unevenness due to the presence of the fifth layer are suppressed.

基材１の、第一の主面とは反対側の第二の主面上には、透明な第四の層６が積層していることが好ましい。この場合、基材１が加熱されても基材１から低分子量成分が析出しにくくなり、このため基材１の白化が抑制される。このため、例えば第一の層２、第二の層３及び第三の層４のうち少なくとも一種が加熱処理を伴う方法により形成される場合や、後述するように導電層の低抵抗化のために光学部材１１が加熱される場合でも、基材１の白化が抑制される。このため、光学部材１１の良好な透明性が維持される。 It is preferable that a transparent fourth layer 6 is laminated on the second main surface of the substrate 1 opposite to the first main surface. In this case, even if the base material 1 is heated, it becomes difficult for the low molecular weight component to precipitate from the base material 1, and thus whitening of the base material 1 is suppressed. For this reason, for example, when at least one of the first layer 2, the second layer 3, and the third layer 4 is formed by a method involving heat treatment, or for reducing the resistance of the conductive layer as described later. Even when the optical member 11 is heated, the whitening of the substrate 1 is suppressed. For this reason, the favorable transparency of the optical member 11 is maintained.

第四の層６の材質は、特に制限されないが、例えばアクリレート樹脂、ウレタンアクリレート樹脂等から形成される。 The material of the fourth layer 6 is not particularly limited, but is formed from, for example, an acrylate resin, a urethane acrylate resin, or the like.

また、第四の層６が、基材１からの低分子量成分の析出を充分に抑制するためには、第四の層６の厚みが、０．５μｍ以上１０μｍ以下の範囲であることが好ましい。 Further, in order for the fourth layer 6 to sufficiently suppress the precipitation of the low molecular weight component from the substrate 1, the thickness of the fourth layer 6 is preferably in the range of 0.5 μm or more and 10 μm or less. .

また、第四の層６は、アンチブロッキング性を有することが好ましい。すなわち、光学部材１１がロール状に巻き回されるなどして重ねられる場合に、第四の層６によってブロッキングが抑制されることが好ましい。第四の層６によってブロッキングを抑制するためには、第四の層６の表面が凹凸に形成されることが好ましい。そのためには、第四の層６の表面に機械的加工が施されることでこの表面が凹凸に形成されることが好ましい。また、第四の層６がシリカ粒子等のフィラーを含有することでこの第四の層６の表面に凹凸が形成されることも好ましい。この場合、第四の層６が、例えばアクリレート樹脂またはウレタンアクリレート樹脂を８０質量％以上９５質量％以下の範囲で含有し、更に平均粒子径２５０ｎｍのシリカ粒子を５質量％以上２０質量％以下の範囲で含有することが好ましい。 The fourth layer 6 preferably has antiblocking properties. That is, it is preferable that blocking is suppressed by the fourth layer 6 when the optical member 11 is stacked in a roll shape. In order to suppress blocking by the fourth layer 6, the surface of the fourth layer 6 is preferably formed to be uneven. For this purpose, it is preferable that the surface of the fourth layer 6 is formed with irregularities by mechanical processing. It is also preferable that the fourth layer 6 contains a filler such as silica particles so that irregularities are formed on the surface of the fourth layer 6. In this case, the fourth layer 6 contains, for example, acrylate resin or urethane acrylate resin in the range of 80% by mass to 95% by mass, and further silica particles having an average particle size of 250 nm of 5% by mass to 20% by mass. It is preferable to contain in the range.

また、第四の層６によって光学部材１１の滑性を向上することも好ましく、そのためには、第四の層６が例えばシリコーン系のレベリング剤を含有することも好ましい。 Moreover, it is also preferable to improve the lubricity of the optical member 11 by the 4th layer 6, and it is also preferable for the 4th layer 6 to contain a silicone type leveling agent for that purpose, for example.

第四の層６が形成される場合、基材１の、第四の層６と重なる面には、第四の層６が形成される前に、表面処理が施されることが好ましい。この場合、基材１と第四の層６との間の濡れ性、密着性等の向上が可能となる。また、基材１の、第一の層２と重なる面にも、第一の層２が形成される前に、表面処理が施されることが好ましい。この場合、基材１と第一の層２との間の濡れ性、密着性等の向上が可能となる。表面処理の方法としては、プラズマ処理、コロナ放電処理、フレーム処理などの物理的表面処理、カップリング剤、酸、アルカリによる化学的表面処理などが挙げられる。 When the fourth layer 6 is formed, it is preferable that the surface of the base material 1 overlapping the fourth layer 6 is subjected to a surface treatment before the fourth layer 6 is formed. In this case, the wettability and adhesion between the substrate 1 and the fourth layer 6 can be improved. Moreover, it is preferable that the surface of the base material 1 that is overlapped with the first layer 2 is subjected to a surface treatment before the first layer 2 is formed. In this case, it is possible to improve wettability and adhesion between the substrate 1 and the first layer 2. Examples of the surface treatment include physical surface treatment such as plasma treatment, corona discharge treatment and flame treatment, and chemical surface treatment with a coupling agent, acid and alkali.

第一の層２の屈折率は、１．５２以上１．６５以下であり、且つ、この第一の層２の厚みは０．５μｍ以上１０．０μｍ以下の範囲である。このような条件下において、光学部材１１に導体層５が重ねられた場合に、この導体層５が視認されにくくなる。第一の層２の屈折率は更に１．５２以上１．５７以下の範囲であることが好ましい。また、第一の層２の厚みは、更に１．０μｍ以上５．０μｍ以下の範囲であることが好ましい。 The refractive index of the first layer 2 is 1.52 or more and 1.65 or less, and the thickness of the first layer 2 is in the range of 0.5 μm or more and 10.0 μm or less. Under such conditions, when the conductor layer 5 is overlaid on the optical member 11, the conductor layer 5 becomes difficult to be visually recognized. The refractive index of the first layer 2 is preferably in the range of 1.52 to 1.57. Moreover, it is preferable that the thickness of the 1st layer 2 is the range of 1.0 micrometer or more and 5.0 micrometers or less further.

第一の層２は、基材１よりも高い硬度を有することが好ましい。これにより、光学部材１１の機械的強度が向上する。第一の層２の鉛筆硬度はＨ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であれば更に好ましい。 The first layer 2 preferably has a higher hardness than the substrate 1. Thereby, the mechanical strength of the optical member 11 is improved. The pencil hardness of the first layer 2 is preferably H or higher, more preferably 2H or higher.

第一の層２は、反応性硬化型樹脂を含有する組成物から形成されることが好ましい。この場合、第一の層２を、湿式の成膜法により形成することができる。このため、第一の層２を蒸着法等の乾式の成膜法で形成する場合と比べて、光学部材１１の生産性を向上することができ、また光学部材１１の製造コストを低減することができる。反応性硬化型樹脂としては、例えば熱硬化型樹脂と電離放射線硬化型樹脂の少なくとも一方が用いられることが好ましい。 The first layer 2 is preferably formed from a composition containing a reactive curable resin. In this case, the first layer 2 can be formed by a wet film forming method. For this reason, the productivity of the optical member 11 can be improved and the manufacturing cost of the optical member 11 can be reduced as compared with the case where the first layer 2 is formed by a dry film formation method such as a vapor deposition method. Can do. For example, at least one of a thermosetting resin and an ionizing radiation curable resin is preferably used as the reactive curable resin.

熱硬化型樹脂としては、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、珪素樹脂、ポリシロキサン樹脂等が、挙げられる。組成物は、熱硬化性樹脂と共に、必要に応じて架橋剤、重合開始剤、硬化剤、硬化促進剤、溶剤等を含有してもよい。このような熱硬化型樹脂を含有する組成物が、例えば基材１上或いは第五の層上に塗布され、続いてこの熱硬化型樹脂組成物が加熱されて熱硬化することで、第一の層２が形成され得る。組成物の塗布にあたっては、例えばロールコート法、スピンコート法、ディップコート法などの適宜の方法が採用される。 Examples of the thermosetting resin include phenol resin, urea resin, diallyl phthalate resin, melamine resin, unsaturated polyester resin, polyurethane resin, epoxy resin, aminoalkyd resin, silicon resin, polysiloxane resin, and the like. The composition may contain a crosslinking agent, a polymerization initiator, a curing agent, a curing accelerator, a solvent, and the like as necessary together with the thermosetting resin. A composition containing such a thermosetting resin is applied on, for example, the substrate 1 or the fifth layer, and then the thermosetting resin composition is heated and thermally cured, whereby the first Layer 2 can be formed. In applying the composition, an appropriate method such as a roll coating method, a spin coating method, or a dip coating method is employed.

電離放射線硬化型樹脂としては、アクリレート系の官能基を有する樹脂が用いられることが好ましい。アクリレート系の官能基を有する樹脂としては、例えば比較的低分子量の多官能化合物の（メタ）アクリレート等のオリゴマー、プレポリマーなどが挙げられる。前記の多官能化合物としては、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等が挙げられる。電離放射線硬化型樹脂を含有する組成物は、更に反応性希釈剤を含有することも好ましい。反応性希釈剤としては、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等の単官能モノマー、並びにトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートの多官能モノマーが挙げられる。 As the ionizing radiation curable resin, a resin having an acrylate functional group is preferably used. Examples of the resin having an acrylate functional group include oligomers such as (meth) acrylates of a relatively low molecular weight polyfunctional compound, prepolymers, and the like. Examples of the polyfunctional compound include polyester resins, polyether resins, acrylic resins, epoxy resins, urethane resins, alkyd resins, spiroacetal resins, polybutadiene resins, polythiol polyene resins, and polyhydric alcohols. It is preferable that the composition containing the ionizing radiation curable resin further contains a reactive diluent. Examples of reactive diluents include monofunctional monomers such as ethyl (meth) acrylate, ethylhexyl (meth) acrylate, styrene, methylstyrene, N-vinylpyrrolidone, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, and hexanediol (meth) acrylate. , Tripropylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di The polyfunctional monomer of (meth) acrylate is mentioned.

電離放射線硬化型樹脂が紫外線硬化型樹脂などの光硬化型樹脂である場合には、組成物が更に光重合開始剤を含有することが好ましい。光重合開始剤としてはアセトフェノン類、ベンゾフェノン類、α−アミロキシムエステル、チオキサントン類などが挙げられる。光硬化型樹脂を含有する組成物が、光重合開始剤に加えて、或いは光重合開始剤に代えて、光増感剤を含有してもよい。光増感剤としては、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、チオキサントンなどが挙げられる。このような組成物が例えば基材１上或いは第五の層上に塗布され、続いてこの光硬化型樹脂組成物に紫外線などの光が照射されて光硬化することで、第一の層２が形成され得る。組成物の塗布にあたっては、例えばロールコート法、スピンコート法、ディップコート法などの適宜の方法が採用される。 When the ionizing radiation curable resin is a photocurable resin such as an ultraviolet curable resin, the composition preferably further contains a photopolymerization initiator. Examples of the photopolymerization initiator include acetophenones, benzophenones, α-amyloxime esters, thioxanthones, and the like. The composition containing the photocurable resin may contain a photosensitizer in addition to the photopolymerization initiator or in place of the photopolymerization initiator. Examples of the photosensitizer include n-butylamine, triethylamine, tri-n-butylphosphine, and thioxanthone. Such a composition is applied on, for example, the substrate 1 or the fifth layer, and then the photocurable resin composition is irradiated with light such as ultraviolet rays to be photocured, whereby the first layer 2 Can be formed. In applying the composition, an appropriate method such as a roll coating method, a spin coating method, or a dip coating method is employed.

第一の層２の屈折率は、第一の層２を形成するための組成物の組成によって、容易に調整され得る。例えば、組成物が屈折率調整用の樹脂を含有することで、第一の層２が屈折率調整用の粒子を含有すると共にその割合が調整されることで、第一の層２の屈折率が調整されることも好ましい。 The refractive index of the first layer 2 can be easily adjusted by the composition of the composition for forming the first layer 2. For example, when the composition contains a resin for adjusting the refractive index, the first layer 2 contains particles for adjusting the refractive index and the ratio thereof is adjusted, whereby the refractive index of the first layer 2 is adjusted. Is also preferably adjusted.

屈折率調整用の粒子の粒径は十分に小さいこと、すなわち屈折率調整用の粒子がいわゆる超微粒子であるが好ましい。この場合、第一の層２の光透過性が十分に維持されるようになる。屈折率調整用の粒子の粒径は特に、０．５ｎｍ以上２００ｎｍ以下の範囲であることが好ましい。この屈折率調整用の粒子の粒径とは、粒子の電子顕微鏡写真画像から算出される投影面積と同一の面積を有する円（面積相当円）の径のことである。 The particle diameter of the refractive index adjusting particles is preferably sufficiently small, that is, the refractive index adjusting particles are preferably so-called ultrafine particles. In this case, the light transmittance of the first layer 2 is sufficiently maintained. The particle size of the particles for adjusting the refractive index is particularly preferably in the range of 0.5 nm to 200 nm. The particle diameter of the particles for adjusting the refractive index is the diameter of a circle (area equivalent circle) having the same area as the projected area calculated from the electron micrograph image of the particles.

屈折率調整用の粒子は、比較的屈折率の高い粒子であることが好ましく、特に屈折率が１．６以上の粒子であることが好ましい。この粒子は、金属や金属酸化物の粒子であることが好ましい。 The refractive index adjusting particles are preferably particles having a relatively high refractive index, and particularly preferably particles having a refractive index of 1.6 or more. These particles are preferably metal or metal oxide particles.

第一の層２中の屈折率調整用の粒子の含有量は、第一の層２の屈折率が適切な値となるように適宜調整されるが、特に第一の層２中の屈折率調整用の粒子の割合が５体積％以上７０体積％以下となるように調整されることが好ましい。 The content of the particles for adjusting the refractive index in the first layer 2 is appropriately adjusted so that the refractive index of the first layer 2 has an appropriate value, but the refractive index in the first layer 2 is particularly suitable. It is preferable to adjust so that the ratio of the particles for adjustment may be 5 volume% or more and 70 volume% or less.

屈折率調整用の粒子の具体例としては、チタン、アルミニウム、セリウム、イットリウム、ジルコニウム、ニオブ、アンチモンから選ばれる一種あるいは二種以上の酸化物を含有する粒子が挙げられる。酸化物の具体例としては、ＺｎＯ（屈折率１．９０）、ＴｉＯ₂（屈折率２．３〜２．７）、ＣｅＯ₂（屈折率１．９５）、Ｓｂ₂Ｏ₅（屈折率１．７１）、ＳｎＯ₂、ＩＴＯ（屈折率１．９５）、Ｙ₂Ｏ₃（屈折率１．８７）、Ｌａ₂Ｏ₃（屈折率１．９５）、ＺｒＯ₂（屈折率２．０５）、Ａｌ₂Ｏ₃（屈折率１．６３）等が挙げられる。 Specific examples of the particles for adjusting the refractive index include particles containing one or more oxides selected from titanium, aluminum, cerium, yttrium, zirconium, niobium, and antimony. Specific examples of the oxide include ZnO (refractive index 1.90), TiO ₂ (refractive index 2.3 to 2.7), CeO ₂ (refractive index 1.95), Sb ₂ O ₅ (refractive index 1. 71), SnO _2, ITO (refractive index 1.95), Y ₂ O ₃ (refractive index 1.87), La ₂ O ₃ (refractive index 1.95), ZrO ₂ (refractive index 2.05), Al ₂ O ₃ (refractive index 1.63) and the like.

第一の層２の、第二の層３と重なる面には、第二の層３が形成される前に表面処理が施されることが好ましい。この場合、第一の層２と第二の層３との間の濡れ性、密着性等の向上が可能となる。表面処理の方法としては、プラズマ処理、コロナ放電処理、フレーム処理などの物理的表面処理、カップリング剤、酸、アルカリによる化学的表面処理などが挙げられる。 The surface of the first layer 2 that overlaps the second layer 3 is preferably subjected to a surface treatment before the second layer 3 is formed. In this case, the wettability, adhesion, etc. between the first layer 2 and the second layer 3 can be improved. Examples of the surface treatment include physical surface treatment such as plasma treatment, corona discharge treatment and flame treatment, and chemical surface treatment with a coupling agent, acid and alkali.

第二の層３の屈折率は１．７５以上１．９５以下の範囲であり、厚みは１５ｎｍ以上１００ｎｍ以下の範囲である。このような条件下において、光学部材１１に導体層５が重ねられた場合に、この導体層５が視認されにくくなる。第二の層３の屈折率は更に１．７８以上１．８５以下の範囲であることが好ましい。また、第二の層３の厚みは、更に２５ｎｍ以上６０ｎｍ以下の範囲であることが好ましい。 The refractive index of the second layer 3 is in the range of 1.75 to 1.95, and the thickness is in the range of 15 nm to 100 nm. Under such conditions, when the conductor layer 5 is overlaid on the optical member 11, the conductor layer 5 becomes difficult to be visually recognized. The refractive index of the second layer 3 is preferably in the range of 1.78 to 1.85. The thickness of the second layer 3 is preferably in the range of 25 nm or more and 60 nm or less.

第二の層３は、ルチル型酸化チタン粒子を、第二の層３全体に対して３０質量％以上８０質量％以下の範囲で含有する。これにより、第二の層３の、１．７５以上１．９５以下の範囲という高い屈折率を達成することができる。更に、ルチル型酸化チタン粒子の光触媒活性は比較的低いため、第二の層３は光により劣化しにくくなる。このため光学部材１１の良好な透明性が長期に亘って維持される。ルチル型酸化チタン粒子の粒径は、特に制限されないが、第二の層３の透明性を向上する観点からは、ルチル型酸化チタン粒子の粒径は５ｎｍ以上１００ｎｍ以下の範囲であることが好ましい。この粒径は、粒子の電子顕微鏡写真画像から算出される投影面積と同一の面積を有する円（面積相当円）の径のことである。 The second layer 3 contains rutile-type titanium oxide particles in a range of 30% by mass to 80% by mass with respect to the entire second layer 3. Thereby, the high refractive index of the range of 1.75 or more and 1.95 or less of the 2nd layer 3 can be achieved. Furthermore, since the photocatalytic activity of the rutile-type titanium oxide particles is relatively low, the second layer 3 is hardly deteriorated by light. For this reason, the favorable transparency of the optical member 11 is maintained over a long period of time. The particle size of the rutile titanium oxide particles is not particularly limited, but from the viewpoint of improving the transparency of the second layer 3, the particle size of the rutile titanium oxide particles is preferably in the range of 5 nm to 100 nm. . This particle size is the diameter of a circle (area equivalent circle) having the same area as the projected area calculated from the electron micrograph image of the particle.

第二の層３は、ルチル型酸化チタン粒子とバインダー材料を含有する組成物から形成されることが好ましい。この場合、第二の層３を、湿式の成膜法により形成することができる。このため、第二の層３を蒸着法等の乾式の成膜法で形成する場合と比べて、光学部材１１の生産性を向上することができ、また光学部材１１の製造コストを低減することができる。 The second layer 3 is preferably formed from a composition containing rutile titanium oxide particles and a binder material. In this case, the second layer 3 can be formed by a wet film forming method. For this reason, the productivity of the optical member 11 can be improved and the manufacturing cost of the optical member 11 can be reduced as compared with the case where the second layer 3 is formed by a dry film formation method such as a vapor deposition method. Can do.

第二の層３は、ルチル型酸化チタン粒子と、反応性硬化型樹脂とを含有する組成物から形成されることが好ましい。反応性硬化型樹脂として、例えば熱硬化型樹脂と電離放射線硬化型樹脂の少なくとも一方が用いられることが好ましい。 The second layer 3 is preferably formed from a composition containing rutile titanium oxide particles and a reactive curable resin. As the reactive curable resin, for example, at least one of a thermosetting resin and an ionizing radiation curable resin is preferably used.

熱硬化型樹脂としては、珪素樹脂、ポリシロキサン樹脂、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂等が挙げられる。この場合、組成物は、必要に応じて更に架橋剤、重合開始剤、硬化剤、硬化促進剤、溶剤等を含有してもよい。このような熱硬化型樹脂を含有する組成物が、第一の層２上に塗布され、続いてこの組成物が加熱されて熱硬化することで、第二の層３が形成され得る。組成物の塗布にあたっては、例えばロールコート法、スピンコート法、ディップコート法などの適宜の方法が採用される。 Examples of the thermosetting resin include silicon resin, polysiloxane resin, phenol resin, urea resin, diallyl phthalate resin, melamine resin, unsaturated polyester resin, polyurethane resin, epoxy resin, amino alkyd resin, and the like. In this case, the composition may further contain a crosslinking agent, a polymerization initiator, a curing agent, a curing accelerator, a solvent and the like as necessary. The composition containing such a thermosetting resin is apply | coated on the 1st layer 2, Then, the 2nd layer 3 can be formed by this composition being heated and thermosetting. In applying the composition, an appropriate method such as a roll coating method, a spin coating method, or a dip coating method is employed.

電離放射線硬化型樹脂が、紫外線硬化型樹脂などの光硬化型樹脂である場合には、組成物が光重合開始剤を更に含有することが好ましい。光重合開始剤としてはアセトフェノン類、ベンゾフェノン類、α−アミロキシムエステル、チオキサントン類などが挙げられる。組成物が、光重合開始剤に加えて、或いは光重合開始剤に代えて、光増感剤を含有してもよい。光増感剤としては、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、チオキサントンなどが挙げられる。このような組成物が第一の層２上に塗布され、続いてこの組成物に紫外線などの光が照射されて光硬化することで、第二の層３が形成され得る。組成物の塗布にあたっては、例えばロールコート法、スピンコート法、ディップコート法などの適宜の方法が採用される。 When the ionizing radiation curable resin is a photocurable resin such as an ultraviolet curable resin, the composition preferably further contains a photopolymerization initiator. Examples of the photopolymerization initiator include acetophenones, benzophenones, α-amyloxime esters, thioxanthones, and the like. The composition may contain a photosensitizer in addition to or in place of the photopolymerization initiator. Examples of the photosensitizer include n-butylamine, triethylamine, tri-n-butylphosphine, and thioxanthone. The second layer 3 can be formed by applying such a composition on the first layer 2 and subsequently irradiating the composition with light such as ultraviolet rays to photo-cure. In applying the composition, an appropriate method such as a roll coating method, a spin coating method, or a dip coating method is employed.

第二の層３が、メタクリル官能性シランと、アクリル官能性シランとのうち少なくとも一方を含有することも好ましい。この場合、第二の層３と第三の層４との密着性が向上する。メタクリル官能性シランとしては、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン等が挙げられる。アクリル官能性シランとしては３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン等が挙げられる。 It is also preferable that the second layer 3 contains at least one of methacryl functional silane and acrylic functional silane. In this case, the adhesion between the second layer 3 and the third layer 4 is improved. Examples of the methacrylic functional silane include 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane and 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane. Examples of the acrylic functional silane include 3-acryloxypropyltrimethoxysilane and 3-acryloxypropylmethyldimethoxysilane.

第二の層３中のメタクリル官能性シランとアクリル官能性シランの含有量は特に制限されないが、第二の層３中のメタクリル官能性シランとアクリル官能性シランの総量の割合が５質量％以上３０質量％以下の範囲であることが好ましい。前記割合が５質量％以上であると第二の層３と第三の層４との密着性が十分に高くなり、また前記割合が３０質量％以下であると第二の層３中の架橋密度が十分に向上して第二の層３の硬度が十分に高くなる。 Although the content of the methacryl functional silane and the acrylic functional silane in the second layer 3 is not particularly limited, the ratio of the total amount of the methacryl functional silane and the acrylic functional silane in the second layer 3 is 5% by mass or more. The range is preferably 30% by mass or less. When the proportion is 5% by mass or more, the adhesion between the second layer 3 and the third layer 4 is sufficiently high, and when the proportion is 30% by mass or less, the crosslinking in the second layer 3 is performed. The density is sufficiently improved and the hardness of the second layer 3 is sufficiently increased.

第二の層３の、第一の層２とは反対側の主面には、第三の層４が形成される前に表面処理が施されることが好ましい。この場合、第二の層３と第三の層４との間の濡れ性、密着性等の向上が可能となる。表面処理の方法としては、プラズマ処理、コロナ放電処理、フレーム処理などの物理的表面処理、カップリング剤、酸、アルカリによる化学的表面処理などが挙げられる。 The main surface of the second layer 3 opposite to the first layer 2 is preferably subjected to a surface treatment before the third layer 4 is formed. In this case, it is possible to improve wettability and adhesion between the second layer 3 and the third layer 4. Examples of the surface treatment include physical surface treatment such as plasma treatment, corona discharge treatment and flame treatment, and chemical surface treatment with a coupling agent, acid and alkali.

第三の層４の屈折率は、１．３５以上１．５０以下の範囲である。また、第三の層４の厚みは２０ｎｍ以上５０ｎｍ以下の範囲である。このような条件下において、光学部材１１に導体層５が重ねられた場合に、この導体層５が更に視認されにくくなる。第三の層４の屈折率は更に１．４以上１．４５以下の範囲であることが好ましい。また、第三の層４の厚みは、２５ｎｍ以上４５ｎｍ以下の範囲であればより好ましく、３０ｎｍ以上４０ｎｍ以下の範囲であれば更に好ましい。 The refractive index of the third layer 4 is in the range of 1.35 to 1.50. The thickness of the third layer 4 is in the range of 20 nm to 50 nm. Under such conditions, when the conductor layer 5 is superimposed on the optical member 11, the conductor layer 5 becomes even less visible. The refractive index of the third layer 4 is preferably in the range of 1.4 to 1.45. The thickness of the third layer 4 is more preferably in the range of 25 nm or more and 45 nm or less, and further preferably in the range of 30 nm or more and 40 nm or less.

第三の層４は、例えばバインダー材料を含有する組成物から形成される。この場合、第三の層４を、湿式の成膜法により形成することができる。この組成物は、必要に応じて更に屈折率調整用の粒子を含有してもよい。バインダー材料と屈折率調整用の粒子とが併用される場合には、バインダー材料との種類が選択されたり、屈折率調整用の粒子の種類が選択されたり、配合比等が調整されたりすることで、第三の層４の屈折率が適宜調整される。 The third layer 4 is formed from, for example, a composition containing a binder material. In this case, the third layer 4 can be formed by a wet film forming method. This composition may further contain particles for adjusting the refractive index, if necessary. When the binder material and the particles for adjusting the refractive index are used in combination, the type of the binder material is selected, the type of the particles for adjusting the refractive index is selected, or the mixing ratio is adjusted. Thus, the refractive index of the third layer 4 is adjusted as appropriate.

バインダー材料としては、シリコンアルコキシド系樹脂、飽和炭化水素及びポリエーテルの少なくともいずれかを主鎖とするポリマー（例えばＵＶ硬化型樹脂組成物、熱硬化型樹脂組成物等）、ポリマー鎖中にフッ素原子を含む単位を含む樹脂などが挙げられる。 As the binder material, a polymer having a main chain of at least one of silicon alkoxide resin, saturated hydrocarbon and polyether (for example, UV curable resin composition, thermosetting resin composition, etc.), fluorine atom in the polymer chain And a resin containing a unit containing.

第三の層４は、上記のような組成物が第二の層３の上に塗布され、更にこの組成物がバインダー材料の性状に応じて加熱、加湿、紫外線照射、電子線照射等の処理が施されることで硬化することにより、形成され得る。組成物の塗布にあたっては、例えばロールコート法、スピンコート法、ディップコート法などの適宜の方法が採用される。 In the third layer 4, the composition as described above is applied on the second layer 3, and the composition is further subjected to treatment such as heating, humidification, ultraviolet irradiation, electron beam irradiation according to the properties of the binder material. Can be formed by curing. In applying the composition, an appropriate method such as a roll coating method, a spin coating method, or a dip coating method is employed.

特に、第三の層４はフッ素置換アルキル基を備える加水分解性オルガノシラン重縮合物を含有することが好ましい。この場合、第三の層４上に、後述する第二の実施形態のように導体層５が形成されると、第三の層４と導体層５との間の密着性が向上する。また、第三の層４の耐水性及び耐アルカリ性が向上する。このため、第三の層４上の導体層５にエッチング処理が施されても、第三の層４が劣化しにくくなる。更に、このような特性を備える第三の層４を、湿式の成膜法によって形成することが可能になる。このため、蒸着法等の乾式の成膜法が採用される場合と比べて、製造設備の簡便化が可能となる。また、光学部材１１の製造効率が向上する。 In particular, the third layer 4 preferably contains a hydrolyzable organosilane polycondensate having a fluorine-substituted alkyl group. In this case, when the conductor layer 5 is formed on the third layer 4 as in the second embodiment described later, the adhesion between the third layer 4 and the conductor layer 5 is improved. Moreover, the water resistance and alkali resistance of the third layer 4 are improved. For this reason, even if the conductor layer 5 on the third layer 4 is subjected to an etching process, the third layer 4 is hardly deteriorated. Further, the third layer 4 having such characteristics can be formed by a wet film forming method. For this reason, compared with the case where dry-type film-forming methods, such as a vapor deposition method, are employed, manufacturing facilities can be simplified. Further, the manufacturing efficiency of the optical member 11 is improved.

フッ素置換アルキル基を備える加水分解性オルガノシラン重縮合物を含有する第三の層４を、バインダー材料を含有する組成物を用いて、湿式の成膜方により形成することについ、更に説明する。この場合、バインダー材料が、フッ素置換アルキル基を備える加水分解性シラン化合物と、その部分加水分解物とから選ばれる、少なくとも一種を含有することが好ましい。フッ素置換アルキル基を備える加水分解性シラン化合物としては、例えば一般式Ｘ₃Ｓｉ−（ＣＦ₂）_n−ＳｉＸ₃で示される化合物、一般式Ｘ₃Ｓｉ−（ＣＨ₂）₂−（ＣＦ₂）_n−（ＣＨ₂）₂−ＳｉＸ₃で示される化合物、一般式Ｘ₃Ｓｉ−（ＣＦ₂）_m−ＣＦ₃で示される化合物、一般式Ｘ₃Ｓｉ−（ＣＨ₂）₂−（ＣＦ₂）_m−ＣＦ₃で示される化合物などが、挙げられる。これらの式において、Ｘは加水分解縮合反応性を有する官能基を示す。このＸは、例えばＯＣＨ₃、ＯＣＨ₂ＣＨ₃、ＯＣＨ（ＣＨ₃）₂等のアルコキシ基、Ｃｌ、Ｆ等のハロゲンなどから、選択されることができる。一分子中の複数のＸの種類は、各々独立に選択される。ｎは整数であり、特にｎが、１以上１０以下の整数であることが好ましい。また、ｍは整数であり、特にｍが、０以上９以下の整数であることが好ましい。 The formation of the third layer 4 containing a hydrolyzable organosilane polycondensate having a fluorine-substituted alkyl group by a wet film formation method using a composition containing a binder material will be further described. In this case, it is preferable that the binder material contains at least one selected from a hydrolyzable silane compound having a fluorine-substituted alkyl group and a partial hydrolyzate thereof. Examples of the hydrolyzable silane compound having a fluorine-substituted alkyl group include a compound represented by the general formula X ₃ Si— (CF ₂ ) _n —SiX ₃ , a general formula X ₃ Si— (CH ₂ ) ₂ — (CF ₂ ). _n - the compound represented by (CH _{₂₎ 2} -SiX _3, a compound represented by the general formula _{_{_{X 3 Si- (CF 2) m}}} -CF 3, the formula _{_{_{X 3 Si- (CH 2) 2}}} - (CF 2) and compounds represented by _m -CF ₃ may be mentioned. In these formulas, X represents a functional group having hydrolytic condensation reactivity. This X can be selected from, for example, alkoxy groups such as OCH ₃ , OCH ₂ CH ₃ , OCH (CH ₃ ) ₂ , halogens such as Cl and F, and the like. A plurality of types of X in one molecule are independently selected. n is an integer, and it is particularly preferable that n is an integer of 1 to 10. M is an integer, and it is particularly preferable that m is an integer of 0 or more and 9 or less.

屈折率調整用の粒子としては、比較的低屈折率の粒子が使用されることが好ましい。屈折率調整用の粒子の材質としては、シリカ、フッ化マグネシウム、フッ化リチウム、フッ化アルミニウム、フッ化カルシウム、フッ化ナトリウム等が挙げられる。屈折率調整用の粒子が中空粒子を含むことが好ましい。中空粒子とは外殻によって包囲された空洞を有する粒子である。中空粒子の屈折率は１．２０以上１．４５以下の範囲であることが好ましい。 As the particles for adjusting the refractive index, it is preferable to use particles having a relatively low refractive index. Examples of the material for adjusting the refractive index include silica, magnesium fluoride, lithium fluoride, aluminum fluoride, calcium fluoride, sodium fluoride, and the like. It is preferable that the refractive index adjusting particles include hollow particles. A hollow particle is a particle having a cavity surrounded by an outer shell. The refractive index of the hollow particles is preferably in the range of 1.20 or more and 1.45 or less.

屈折率調整用の粒子には、必要に応じて、バインダー材料との濡れ性を向上するための表面処理が施されていることが好ましい。 The particles for adjusting the refractive index are preferably subjected to a surface treatment for improving the wettability with the binder material, if necessary.

屈折率調整用の粒子の粒径は十分に小さいこと、すなわち屈折率調整用の粒子がいわゆる超微粒子であることが好ましく、この場合、第三の層４の光透過性が十分に維持されるようになる。屈折率調整用の粒子の粒径は特に、０．５ｎｍ以上２００ｎｍ以下の範囲であることが好ましい。粒子の粒径とは、粒子の電子顕微鏡写真画像から算出される投影面積と同一の面積を有する円（面積相当円）の径のことである。 The particle diameter of the refractive index adjusting particles is preferably sufficiently small, that is, the refractive index adjusting particles are preferably so-called ultrafine particles. In this case, the light transmittance of the third layer 4 is sufficiently maintained. It becomes like this. The particle size of the particles for adjusting the refractive index is particularly preferably in the range of 0.5 nm to 200 nm. The particle diameter of a particle is the diameter of a circle (area equivalent circle) having the same area as the projected area calculated from an electron micrograph image of the particle.

第三の層４中の屈折率調整用の粒子の含有量は、第三の層４の屈折率の値が適切な値となるように適宜調整されるが、特に第三の層４中の屈折率調整用の粒子の割合が２０体積％以上９９体積％以下の範囲となるように調整されることが好ましい。 The content of the refractive index adjusting particles in the third layer 4 is appropriately adjusted so that the refractive index value of the third layer 4 is an appropriate value. It is preferable that the ratio of the particles for adjusting the refractive index is adjusted so as to be in the range of 20% by volume to 99% by volume.

組成物は、更に撥水、撥油性材料を含有してもよい。この場合、第三の層４に防汚性が付与され得る。撥水、撥油性材料としては、一般的なワックス系の材料等が使用され得る。特に含フッ素化合物が使用されると、第三の層４の汚れ、指紋等の除去性が特に向上すると共に、第三の層４の表面の摩擦抵抗が低減して第三の層４の耐摩耗性が向上する。 The composition may further contain a water and oil repellent material. In this case, antifouling property can be imparted to the third layer 4. As the water and oil repellent material, a general wax-based material or the like can be used. In particular, when a fluorine-containing compound is used, the removability of the third layer 4 such as dirt and fingerprints is particularly improved, and the frictional resistance of the surface of the third layer 4 is reduced, so that the resistance of the third layer 4 is reduced. Abrasion is improved.

尚、第三の層４が、乾式の成膜法により形成されてもよい。例えば、酸化珪素、フッ化ランタン、フッ化マグネシウム、フッ化セリウム、フッ化マグネシウム等からなる第三の層４が、スパッタリング法、抵抗蒸着法、電子ビーム蒸着法等の、乾式の成膜法により形成されてもよい。 The third layer 4 may be formed by a dry film forming method. For example, the third layer 4 made of silicon oxide, lanthanum fluoride, magnesium fluoride, cerium fluoride, magnesium fluoride or the like is formed by a dry film formation method such as a sputtering method, a resistance vapor deposition method, or an electron beam vapor deposition method. It may be formed.

光学部材１１が、上記のように屈折率及び厚みが調整された第一の層２、第二の層３、及び第三の層４を備えるため、この第三の層４上に導体層５が重ねられることで、導体層５が光学部材１１に支持されても、この導体層５が視認されにくくなる。これは、導体層５が基材１よりも高い屈折率を有するにもかかわらず、この屈折率が人の視覚に与える影響が、第一の層２、第二の層３、及び第三の層４によって抑制されるためであると、考えられる。また、導体層５の黄色みがかった透過色が、第一の層２、第二の層３、第三の層４、及び導体層５の各界面での反射光の干渉によって目立たなくなるためでもあると、考えられる。一方、第一の層２、第二の層３、第三の層４、及び導体層５の屈折率及び厚みが所定の範囲から外れる場合には、導体層５の透過色が黄色みがかって見えてしまうこととなる。導体層５の色が目立たなくなるためには、ＣＩＥが規定する標準Ｃ光源からの光が光学部材に入射した場合、導体層を含む、光学部材を構成する全ての層を透過した透過光の色の、ＣＩＥ１９７６Ｌ^*ａ^*ｂ^*色空間による透過色度ｂ^＊が、−１．５以上１．５以下となることが好ましい。 Since the optical member 11 includes the first layer 2, the second layer 3, and the third layer 4 whose refractive index and thickness are adjusted as described above, the conductor layer 5 is provided on the third layer 4. When the conductor layer 5 is supported by the optical member 11, the conductor layer 5 becomes difficult to be visually recognized. This is because, although the conductor layer 5 has a higher refractive index than that of the substrate 1, the influence of this refractive index on human vision is affected by the first layer 2, the second layer 3, and the third layer. This is considered to be because it is suppressed by the layer 4. Moreover, even if the yellowish transmitted color of the conductor layer 5 becomes inconspicuous due to interference of reflected light at each interface of the first layer 2, the second layer 3, the third layer 4, and the conductor layer 5. It is believed that there is. On the other hand, when the refractive index and thickness of the first layer 2, the second layer 3, the third layer 4, and the conductor layer 5 are out of the predetermined range, the transmission color of the conductor layer 5 is yellowish. It will be visible. In order for the color of the conductor layer 5 to become inconspicuous, when light from a standard C light source defined by the CIE is incident on the optical member, the color of the transmitted light that has passed through all the layers constituting the optical member including the conductor layer The transmission chromaticity b ^* by the CIE 1976 L ^* a ^* b ^* color space is preferably −1.5 or more and 1.5 or less.

［第二の実施形態］
本実施形態に係る光学部材１２（導電性光学部材）は、透明な導体層５を備える完成品である。本実施形態では、光学部材１２は図２に示されるように、基材１、第一の層２（ハードコート層）、第二の層３（高屈折率層）、第三の層４（低屈折率層）、及び導体層５を備える。基材１、第一の層２、第二の層３、第三の層４、及び導体層５は、この順番に積層している。すなわち、基材１の第一の主面上に第一の層２が積層し、第一の層２の基材１とは反対側の主面上に第二の層３が積層し、第二の層３の第一の層２とは反対側の主面上に第三の層４が積層し、第三の層４の第二の層３とは反対側の主面上に導体層５が積層している。基材１、第一の層２、第二の層３、第三の層４、及び導体層５のうちのいずれの要素も光透過性を有し、光学部材１２が全体として光透過性を有する。 [Second Embodiment]
The optical member 12 (conductive optical member) according to the present embodiment is a finished product including the transparent conductor layer 5. In this embodiment, as shown in FIG. 2, the optical member 12 includes a base material 1, a first layer 2 (hard coat layer), a second layer 3 (high refractive index layer), and a third layer 4 ( Low refractive index layer) and conductor layer 5. The base material 1, the first layer 2, the second layer 3, the third layer 4, and the conductor layer 5 are laminated in this order. That is, the first layer 2 is laminated on the first main surface of the substrate 1, the second layer 3 is laminated on the main surface of the first layer 2 opposite to the substrate 1, The third layer 4 is laminated on the main surface of the second layer 3 opposite to the first layer 2, and the conductor layer is formed on the main surface of the third layer 4 opposite to the second layer 3. 5 are stacked. All the elements of the base material 1, the first layer 2, the second layer 3, the third layer 4, and the conductor layer 5 have light transmittance, and the optical member 12 has light transmittance as a whole. Have.

基材１、第一の層２、第二の層３、及び第三の層４の構成は、第一の実施形態の場合と同じであるため、その説明は省略する。また、本実施形態に係る光学部材１２は、図２に示すように、第四の層６を更に備えてもよい。この第四の層６の構成も、第一の実施形態の場合と同じであるため、その説明は省略する。 Since the structure of the base material 1, the 1st layer 2, the 2nd layer 3, and the 3rd layer 4 is the same as the case of 1st embodiment, the description is abbreviate | omitted. Moreover, the optical member 12 according to the present embodiment may further include a fourth layer 6 as shown in FIG. Since the configuration of the fourth layer 6 is also the same as that in the first embodiment, description thereof is omitted.

本実施形態に係る光学部材１２は、中間品である第一の実施形態に係る光学部材１１（導体層支持用光学部材）における第三の層４の上に、導体層５を形成することによって、得られる。 The optical member 12 according to this embodiment is formed by forming the conductor layer 5 on the third layer 4 in the optical member 11 (conductor member supporting optical member) according to the first embodiment which is an intermediate product. ,can get.

本実施形態に係る光学部材１２では、第三の層４上の導体層５が視認されにくくなる。このため、光学部材１２における導体層５が形成されている部分と、導体層５が形成されていない部分とが、目視により区別されにくくなる。このため、導体層５がパターニングされていても、この導体層５のパターンが視認されにくくなる。 In the optical member 12 according to the present embodiment, the conductor layer 5 on the third layer 4 is hardly visible. For this reason, it becomes difficult to visually distinguish the part in which the conductor layer 5 is formed in the optical member 12 and the part in which the conductor layer 5 is not formed. For this reason, even if the conductor layer 5 is patterned, the pattern of this conductor layer 5 becomes difficult to be visually recognized.

導体層５の屈折率は、１．８０以上２．３０以下の範囲であることが好ましい。この場合、第三の層４上の導体層５が、より視認されにくくなる。このような導体層５の材料として、例えばＩＴＯ（酸化インジウムスズ）、ＡＺＯ（酸化亜鉛アルミニウム）、ＩＺＯ（酸化インジウム亜鉛）等の金属酸化物が挙げられる。 The refractive index of the conductor layer 5 is preferably in the range of 1.80 or more and 2.30 or less. In this case, the conductor layer 5 on the third layer 4 becomes less visible. Examples of the material of the conductor layer 5 include metal oxides such as ITO (indium tin oxide), AZO (zinc aluminum oxide), and IZO (indium zinc oxide).

また、導体層５の厚みは、特に制限されないが、１５〜５０ｎｍの範囲であることが好ましく、この場合、導体層５が更に視認されにくくなる。 In addition, the thickness of the conductor layer 5 is not particularly limited, but is preferably in the range of 15 to 50 nm. In this case, the conductor layer 5 is further hardly visually recognized.

導体層５は、必要に応じて適宜のパターン状に形成される。例えば導体層５上にエッチングレジストを形成してから、この導体層５に塩化鉄を含むエッチング液などを用いた公知のエッチング処理を施し、続いてエッチングレジストをアルカリ性溶液等を用いて除去することで、導体層５をパターニングすることができる。 The conductor layer 5 is formed in an appropriate pattern as required. For example, after forming an etching resist on the conductor layer 5, the conductor layer 5 is subjected to a known etching process using an etching solution containing iron chloride, and then the etching resist is removed using an alkaline solution or the like. Thus, the conductor layer 5 can be patterned.

尚、上述のとおり、第三の層４がフッ素置換アルキル基を備える加水分解性オルガノシラン重縮合物を含有すると、第三の層４が高い耐エッチング性を発揮する。この場合、第三の層４上で導体層５にエッチング処理が施されても、第三の層４が劣化しにくくなる。このため、光学部材１２の良好な光透過性が維持される。 As described above, when the third layer 4 contains a hydrolyzable organosilane polycondensate having a fluorine-substituted alkyl group, the third layer 4 exhibits high etching resistance. In this case, even if the conductor layer 5 is etched on the third layer 4, the third layer 4 is hardly deteriorated. For this reason, the favorable light transmittance of the optical member 12 is maintained.

導体層５には加熱処理が施されることが好ましい。この場合、導体層５の導電性が向上する。加熱処理の条件は、特に制限されないが、例えば加熱温度を１５０℃、加熱時間を１時間とすることができる。このような加熱処理が施される場合に、光学部材１２が第四の層６を備えていると、上述の通り、基材１の白化が抑制される。このため、光学部材１２の良好な光透過性が維持される。 The conductor layer 5 is preferably subjected to heat treatment. In this case, the conductivity of the conductor layer 5 is improved. The conditions for the heat treatment are not particularly limited. For example, the heating temperature can be 150 ° C. and the heating time can be 1 hour. When such a heat treatment is performed, if the optical member 12 includes the fourth layer 6, the whitening of the base material 1 is suppressed as described above. For this reason, the favorable light transmittance of the optical member 12 is maintained.

本実施形態に係る光学部材１２は、タッチパネル８の電極を構成するために、好適に用いられる。このようなタッチパネル８を備える画像表示機器２０の例の概略構成を、図３に示す。 The optical member 12 according to the present embodiment is preferably used in order to configure the electrodes of the touch panel 8. A schematic configuration of an example of the image display device 20 including such a touch panel 8 is shown in FIG.

図３に示される画像表示機器２０は、液晶表示装置などの画像表示装置７とタッチパネル８とを備える。タッチパネル８は、反射防止層１０と、二つの光学部材１２（以下、第一の光学部材１２１及び第二の光学部材１２２という）と、透明なカバー部材１５とを備える。反射防止層１０は、例えば公知の反射防止フィルムから形成される。尚、図３では、第一の光学部材１２１及び第二の光学部材１２２の構造の詳細についての図示を省略している。 The image display device 20 shown in FIG. 3 includes an image display device 7 such as a liquid crystal display device and a touch panel 8. The touch panel 8 includes an antireflection layer 10, two optical members 12 (hereinafter referred to as a first optical member 121 and a second optical member 122), and a transparent cover member 15. The antireflection layer 10 is formed from, for example, a known antireflection film. In FIG. 3, the detailed structure of the first optical member 121 and the second optical member 122 is not shown.

カバー部材１５は、例えばガラス板、アイコンシート等から構成される。反射防止層１０、第一の光学部材１２１、第二の光学部材１２２、及びカバー部材１５は、この順番に積層している。反射防止層１０と、第一の光学部材１２１における導体層５とは反対側の面とは、透明粘着層（ＯＣＡ（optically clear adhesive）層）１１を介して接合されている。第一の光学部材１２１における導体層５側の面と、第二の光学部材１２２における導体層５とは反対側の面とは、透明粘着層（ＯＣＡ（optically clear adhesive）層）１３を介して接合されている。また、第二の光学部材１２２における導体層５側の面と、カバー部材１５とは、透明粘着層（ＯＣＡ（optically clear adhesive）層）１４を介して接合されている。 The cover member 15 is comprised from a glass plate, an icon sheet, etc., for example. The antireflection layer 10, the first optical member 121, the second optical member 122, and the cover member 15 are laminated in this order. The antireflection layer 10 and the surface of the first optical member 121 opposite to the conductor layer 5 are joined via a transparent adhesive layer (OCA (optically clear adhesive) layer) 11. The surface of the first optical member 121 on the conductor layer 5 side and the surface of the second optical member 122 opposite to the conductor layer 5 are interposed through a transparent adhesive layer (OCA (optically clear adhesive) layer) 13. It is joined. Further, the surface of the second optical member 122 on the conductor layer 5 side and the cover member 15 are joined via a transparent adhesive layer (OCA (optically clear adhesive) layer) 14.

このタッチパネル８における反射防止層１０の外面と、画像表示装置７とが、粘着テープ９により固定されている。 The outer surface of the antireflection layer 10 in the touch panel 8 and the image display device 7 are fixed by an adhesive tape 9.

このように構成される画像表示機器２０では、タッチパネル８を見る者がこのタッチパネル８における導体層５の形を視認しにくくなる。このため、画像表示機器２０で表示される画像等の視認性が高くなる。 In the image display device 20 configured as described above, it is difficult for a person viewing the touch panel 8 to visually recognize the shape of the conductor layer 5 in the touch panel 8. For this reason, the visibility of an image or the like displayed on the image display device 20 is increased.

［実施例１］
基材としては、厚み１００μｍのポリエステルフィルム（東洋紡績株式会社製、品名コスモシャイン（登録商標）Ａ４３００、易接着処理（両面）、表面反射率５．１％）を用いた。このポリエステルフィルムの両主面には易接着処理が施されており、これにより、ポリエステルフィルムの両主面上には、第五の層に相当する層が、設けられている。 [Example 1]
As a base material, a polyester film having a thickness of 100 μm (manufactured by Toyobo Co., Ltd., product name Cosmo Shine (registered trademark) A4300, easy adhesion treatment (both sides), surface reflectance 5.1%) was used. Both main surfaces of this polyester film are subjected to an easy adhesion treatment, whereby a layer corresponding to the fifth layer is provided on both main surfaces of the polyester film.

このポリエチレンフィルムにおける易接着処理が施されている二つの主面のうちの一方の主面上に、次のようにして第四の層を形成した。アクリル系紫外線硬化型樹脂（大日精化工業株式会社製、品番ＰＥＴ−ＨＣ３０１、固形分６０質量％）とシリカ粒子（ＣＩＫナノテック株式会社製、品番ＳＩＲＭＩＢＫ１５ＷＴ％−Ｈ２４、平均粒子径５０ｎｍ）とを、シリカ粒子の割合（固形分換算）がアクリル系紫外線硬化型樹脂とシリカ粒子の合計量に対して１５質量％となるように配合し、これらを混合することで、紫外線硬化型の樹脂組成物を得た。この樹脂組成物を、基材上に、ワイヤーバーコーター＃１０を用いて塗布した。続いてこの樹脂組成物を８０℃で５分間加熱することにより乾燥させ、続いてこの樹脂組成物に紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ²の条件で照射した。これにより、樹脂組成物を硬化させて、厚み３μｍの第四の層を形成した。 A fourth layer was formed as follows on one main surface of the two main surfaces of the polyethylene film on which easy adhesion treatment was performed. Acrylic ultraviolet curable resin (manufactured by Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd., product number PET-HC301, solid content 60% by mass) and silica particles (product number manufactured by CIK Nanotech Co., Ltd., product number SIRMIBK15WT% -H24, average particle size 50 nm), The proportion of silica particles (in terms of solid content) is blended so as to be 15% by mass with respect to the total amount of the acrylic ultraviolet curable resin and the silica particles, and these are mixed to obtain an ultraviolet curable resin composition. Obtained. This resin composition was applied onto a substrate using a wire bar coater # 10. Subsequently, the resin composition was dried by heating at 80 ° C. for 5 minutes, and then the resin composition was irradiated with ultraviolet rays under the condition of 500 mJ / cm ² . Thereby, the resin composition was cured to form a fourth layer having a thickness of 3 μm.

次に、ポリエチレンフィルムにおける易接着処理が施されている二つの主面のうちの、第四の層とは反対側の主面上に、次のようにして第一の層（ハードコート層）を形成した。まず、アクリル系紫外線硬化型樹脂（大日精化工業株式会社製、商品名セイカビームＰＥＴ−ＨＣ３０１、有効成分（固形分）割合６０質量％）をトルエンで希釈することで、固形分割合３０質量％の組成物を得た。この組成物を、ワイヤーバーコーター＃１０を用いてポリエステルフィルムの上に塗布した。続いてこの組成物を８０℃で５分間加熱することで組成物を乾燥させ、更に紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ²の条件で照射することにより組成物を硬化させた。これにより、第一の層を形成した。このハードコート層の屈折率と厚みとを、後掲の表に示す。 Next, the first layer (hard coat layer) is formed as follows on the main surface opposite to the fourth layer of the two main surfaces subjected to the easy adhesion treatment in the polyethylene film. Formed. First, an acrylic ultraviolet curable resin (manufactured by Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd., trade name Seika Beam PET-HC301, active ingredient (solid content) ratio 60 mass%) is diluted with toluene, so that the solid content ratio is 30 mass%. A composition was obtained. This composition was applied onto a polyester film using a wire bar coater # 10. Subsequently, this composition was heated at 80 ° C. for 5 minutes to dry the composition, and further irradiated with ultraviolet rays under the condition of 500 mJ / cm ² to cure the composition. Thereby, the first layer was formed. The refractive index and thickness of the hard coat layer are shown in the table below.

続いて、第一の層の上に第二の層（高屈折率層）を、次のようにして形成した。まず、アクリル系紫外線硬化型樹脂（大日精化工業株式会社製、品名セイカビームＭＤ−２クリヤー、有効成分（固形分）割合６０質量％）と、酸化チタン粒子のトルエン分散液（テイカ株式会社製、品番７６０Ｔ、固形分割合４８質量％）とを、４０：６０の固形分質量比で混合することで、混合物を得た。この混合物をトルエンで希釈することで、固形分割合２質量％の組成物を得た。この組成物を、ワイヤーバーコーター＃４を用いて、第一の層の上に塗布した。続いて、この組成物を８０℃で５分間加熱することで乾燥させ、更に紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ²の条件で照射することで、組成物を硬化させた。これにより、第二の層を形成した。この第二の層の屈折率と厚みとを、後掲の表に示す。 Subsequently, a second layer (high refractive index layer) was formed on the first layer as follows. First, acrylic ultraviolet curable resin (manufactured by Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd., product name Seika Beam MD-2 Clear, active ingredient (solid content) ratio 60 mass%) and toluene dispersion of titanium oxide particles (manufactured by Teika Corporation No. 760T and a solid content ratio of 48% by mass) were mixed at a solid content mass ratio of 40:60 to obtain a mixture. By diluting this mixture with toluene, a composition having a solid content ratio of 2% by mass was obtained. This composition was applied over the first layer using a wire bar coater # 4. Subsequently, the composition was dried by heating at 80 ° C. for 5 minutes, and further the composition was cured by irradiating with ultraviolet rays under the condition of 500 mJ / cm ² . Thereby, the second layer was formed. The refractive index and thickness of this second layer are shown in the table below.

続いて、第二の層の上に、真空成膜法により、ＳｉＯ₂からなる第三の層（低屈折率層）を形成した。この第三の層の屈折率と厚みとを、後掲の表に示す。 Subsequently, a third layer (low refractive index layer) made of SiO ₂ was formed on the second layer by a vacuum film forming method. The refractive index and thickness of this third layer are shown in the table below.

続いて、第三の層の上に、真空成膜法によりＩＴＯからなる導体層を形成した。更に、この導体層に、加熱温度１５０℃、加熱時間１時間の条件で、加熱処理を施した。この導体層の屈折率と厚みとを、後掲の表に示す。 Subsequently, a conductor layer made of ITO was formed on the third layer by a vacuum film forming method. Furthermore, this conductor layer was subjected to a heat treatment under the conditions of a heating temperature of 150 ° C. and a heating time of 1 hour. The refractive index and thickness of this conductor layer are shown in the table below.

以上により、光学部材を得た。 Thus, an optical member was obtained.

［実施例２］
実施例１において、第二の層を形成する際に、ワイヤーバーコーター＃２を使用することで、第二の層の厚みを変更した。それ以外は実施例１と同じ方法及び同じ条件で、光学部材を得た。 [Example 2]
In Example 1, when forming a 2nd layer, the thickness of the 2nd layer was changed by using wire bar coater # 2. Otherwise, the optical member was obtained in the same manner and under the same conditions as in Example 1.

［実施例３］
基材としては、厚み１００μｍのポリエステルフィルム（東洋紡績株式会社製、品名コスモシャイン（登録商標）Ａ４３００、易接着処理（両面）、表面反射率５．１％）を用いた。このポリエステルフィルムの両主面には易接着処理が施されており、これにより、ポリエステルフィルムの両主面上には、第五の層に相当する層が、設けられている。 [Example 3]
As a base material, a polyester film having a thickness of 100 μm (manufactured by Toyobo Co., Ltd., product name Cosmo Shine (registered trademark) A4300, easy adhesion treatment (both sides), surface reflectance 5.1%) was used. Both main surfaces of this polyester film are subjected to an easy adhesion treatment, whereby a layer corresponding to the fifth layer is provided on both main surfaces of the polyester film.

このポリエチレンフィルムにおける易接着処理が施されている二つの主面のうちの一方の主面上に、実施例１の場合と同じ方法で、第四の層を形成した。 A fourth layer was formed by the same method as in Example 1 on one of the two main surfaces of the polyethylene film that had been subjected to the easy adhesion treatment.

続いて、第一の層の上に第二の層（高屈折率層）を、次のようにして形成した。まず、アクリル系紫外線硬化型樹脂（大日精化工業株式会社製、品名セイカビームＭＤ−２クリヤー、有効成分（固形分）割合６０質量％）と、ルチル型酸化チタン粒子のトルエン分散液（テイカ株式会社製、品番７６０Ｔ、固形分割合４８質量％）とを、４０：６０の固形分質量比で混合することで、混合物を得た。この混合物をトルエンで希釈することで、固形分割合２質量％の組成物を得た。この組成物を、ワイヤーバーコーター＃１０を用いて、第一の層の上に塗布した。続いて、この組成物を８０℃で５分間加熱することで乾燥させ、更に紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ²の条件で照射することで、組成物を硬化させた。これにより、第二の層を形成した。この第二の層の屈折率と厚みとを、後掲の表に示す。 Subsequently, a second layer (high refractive index layer) was formed on the first layer as follows. First, an acrylic ultraviolet curable resin (manufactured by Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd., product name Seika Beam MD-2 Clear, active ingredient (solid content) ratio 60 mass%), and a toluene dispersion of rutile titanium oxide particles (Taika Corporation) Product, product number 760T, solid content ratio 48 mass%) was mixed at a solid content mass ratio of 40:60 to obtain a mixture. By diluting this mixture with toluene, a composition having a solid content ratio of 2% by mass was obtained. This composition was applied over the first layer using a wire bar coater # 10. Subsequently, the composition was dried by heating at 80 ° C. for 5 minutes, and further the composition was cured by irradiating with ultraviolet rays under the condition of 500 mJ / cm ² . Thereby, the second layer was formed. The refractive index and thickness of this second layer are shown in the table below.

続いて、第二の層の上に第三の層（低屈折率層）を、次のようにして形成した。まず、加水分解性アルコキシシラン（三菱化学株式会社製、品番ＭＳ５６Ｓ）０．６質量部と、中空シリカ微粒子ゾル（日揮触媒化成株式会社製、品番ＣＳ６０−ＩＰＡ、固形分割合２０質量％）３．２質量部と、０．１Ｎ硝酸４．６質量部と、イソプロピルアルコール８９．６質量部と、２−ブトキシエタノール２．０質量部とを混合することで、第三の層を形成するための組成物を得た。この組成物を、第二の層上にワイヤーバーコーター＃２により塗布し、続いて１２０℃で１分間加熱することで乾燥させ、更に酸素雰囲気下で１２０℃で５分間加熱した。これにより、第三の層を形成した。この第三の層の屈折率と厚みとを、後掲の表に示す。 Subsequently, a third layer (low refractive index layer) was formed on the second layer as follows. First, 0.6 parts by mass of hydrolyzable alkoxysilane (manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd., product number MS56S) and hollow silica fine particle sol (manufactured by JGC Catalysts and Chemicals Co., Ltd., product number CS60-IPA, solid content ratio 20% by mass). 2 parts by mass, 4.6 parts by mass of 0.1N nitric acid, 89.6 parts by mass of isopropyl alcohol, and 2.0 parts by mass of 2-butoxyethanol are mixed to form the third layer. A composition was obtained. This composition was applied onto the second layer by wire bar coater # 2, subsequently dried by heating at 120 ° C. for 1 minute, and further heated at 120 ° C. for 5 minutes in an oxygen atmosphere. This formed the third layer. The refractive index and thickness of this third layer are shown in the table below.

［実施例４〜１５］
実施例３において、第一の層、第二の層、及び第三の層の、屈折率及び厚みを、後掲の表に示すように変更した。 [Examples 4 to 15]
In Example 3, the refractive index and thickness of the first layer, the second layer, and the third layer were changed as shown in the table below.

尚、第一の層の屈折率の変更にあたっては、屈折率調整用の粒子として中空シリカ微粒子ゾル（日揮触媒化成株式会社製、品番ＣＳ６０−ＩＰＡ、固形分割合２０質量％）、又は酸化チタン粒子のトルエン分散液（テイカ株式会社製、品番７６０Ｔ、固形分割合４８質量％）を用い、その使用量を調整した。また、第二の層の屈折率の変更にあたっては、酸化チタン粒子の使用量を調整した。また、第三の層の屈折率の変更にあたっては、屈折率調整用の粒子として中空シリカ微粒子ゾル（日揮触媒化成株式会社製、品番ＣＳ６０−ＩＰＡ、固形分割合２０質量％）を用い、その使用量を調整した。 In changing the refractive index of the first layer, hollow silica fine particle sol (manufactured by JGC Catalysts & Chemicals Co., Ltd., product number CS60-IPA, solid content ratio 20% by mass) or titanium oxide particles as refractive index adjusting particles Was used, and its use amount was adjusted. In changing the refractive index of the second layer, the amount of titanium oxide particles used was adjusted. Further, in changing the refractive index of the third layer, a hollow silica fine particle sol (manufactured by JGC Catalysts & Chemicals Co., Ltd., product number CS60-IPA, solid content ratio 20% by mass) is used as the refractive index adjusting particle. The amount was adjusted.

［比較例１］
実施例１において、第二の層を形成するための組成物の固形分割合を０．７質量％に調整した。それによって、第二の層の厚みを、後掲の表に示すように変更した。それ以外は実施例１と同じ方法及び同じ条件で、光学部材を得た。 [Comparative Example 1]
In Example 1, the solid content ratio of the composition for forming the second layer was adjusted to 0.7 mass%. Thereby, the thickness of the second layer was changed as shown in the table below. Otherwise, the optical member was obtained in the same manner and under the same conditions as in Example 1.

［比較例２］
実施例１において、第二の層を形成するための組成物の固形分割合を６質量％に調整した。それによって、第二の層の厚みを、後掲の表に示すように変更した。それ以外は実施例１と同じ方法及び同じ条件で、光学部材を得た。 [Comparative Example 2]
In Example 1, the solid content ratio of the composition for forming the second layer was adjusted to 6% by mass. Thereby, the thickness of the second layer was changed as shown in the table below. The optical member was obtained by the same method and the same conditions as Example 1 except it.

［比較例３］
実施例３において、第二の層を形成するにあたり、ルチル型酸化チタン粒子のトルエン分散液に代えて、アナターゼ型酸化チタンのＩＰＡ（イソプロピルアルコール）分散液（テイカ株式会社製、品番ＴＫＤ−７０２、固形分割合１６％）を、固形分７０質量比の割合で使用した。それ以外は実施例３と同じ方法及び同じ条件で、光学部材を得た。 [Comparative Example 3]
In Example 3, in forming the second layer, instead of the toluene dispersion of rutile titanium oxide particles, an anatase-type titanium oxide IPA (isopropyl alcohol) dispersion (product number TKD-702, manufactured by Teika Co., Ltd.) Solid content ratio 16%) was used at a ratio of 70 mass ratio of solid content. Otherwise, the optical member was obtained in the same manner and under the same conditions as in Example 3.

［評価試験］
各実施例及び比較例で得られた光学部材について、次の評価試験を実施した。その結果を、後掲の表に示す。 [Evaluation test]
The following evaluation tests were carried out on the optical members obtained in the examples and comparative examples. The results are shown in the table below.

（ヘイズ測定）
光学部材のヘイズを、ヘイズメータ（日本電色工業株式会社製、型番ＮＤＨ２０００）を使用して測定した。 (Haze measurement)
The haze of the optical member was measured using a haze meter (manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd., model number NDH2000).

（全光線透過率測定）
光学部材の全光線透過率を、ヘイズメータ（日本電色工業株式会社製、型番ＮＤＨ２０００）を使用して測定した。 (Total light transmittance measurement)
The total light transmittance of the optical member was measured using a haze meter (manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd., model number NDH2000).

（透過色評価）
光学部材に、ＣＩＥが規定する標準Ｃ光源からの光を低屈折率層側から入射し、光学部材を透過した透過光の色のＣＩＥ１９７６Ｌ^*ａ^*ｂ^*色空間による透過色度ｂ^＊を、コニカミノルタ株式会社製分光測色計（型番ＣＭ３６００Ｄ）使用して測定した。 (Transparent color evaluation)
The CIE 1976L ^* a ^* b ^* color space transmission chromaticity b ^* of the color of the transmitted light that is incident on the optical member from the low refractive index layer side from the standard C light source specified by the CIE is transmitted. Using a spectrocolorimeter (model number CM3600D) manufactured by Konica Minolta Co., Ltd.

（表面抵抗値測定）
導体層の表面抵抗値を、株式会社三菱化学アナリテック製の抵抗率計（ロレスタＥＰＭＣＰ−Ｔ３６０型）を用いて測定した。 (Surface resistance measurement)
The surface resistance value of the conductor layer was measured using a resistivity meter (Loresta EP MCP-T360 type) manufactured by Mitsubishi Chemical Analytech Co., Ltd.

（導体層のパターン視認性）
光学部材における導体層上にエッチングレジストを形成してから、塩化鉄水溶液を用いてエッチング処理を施した。続いて、アルカリ性溶液を用いてエッチングレジストを溶解させて除去した。これにより、導体層をパターニングした。 (Conductor layer pattern visibility)
After forming an etching resist on the conductor layer in the optical member, an etching process was performed using an aqueous iron chloride solution. Subsequently, the etching resist was dissolved and removed using an alkaline solution. Thereby, the conductor layer was patterned.

続いて、光学部材に、導体層とは反対側から、光を照射した。光源としては、２７Ｗの３波長形蛍光灯（昼白色）を用いた。光の照射角度を種々変更しながら、光学部材を光源とは反対側から目視で観察し、それにより、導体層のパターン形状が視認できるか否かを確認した。その結果、パターン形状が全く視認されない場合を「◎」、光学部材を特定の方向から見た場合にのみパターン形状が視認される場合を「○」、パターン形状が容易に視認される場合を「×」と、評価した。 Subsequently, the optical member was irradiated with light from the side opposite to the conductor layer. As a light source, a 27 W three-wavelength fluorescent lamp (lunch white) was used. While changing the irradiation angle of light variously, the optical member was visually observed from the side opposite to the light source, thereby confirming whether or not the pattern shape of the conductor layer was visible. As a result, "◎" when the pattern shape is not visually recognized at all, "○" when the pattern shape is visually recognized only when the optical member is viewed from a specific direction, " “×” was evaluated.

（耐酸性）
耐エッチング性の指標の一つとして、次のように光学部材の耐酸性を評価した。光学部材における第三の層を、２５℃の１規定ＨＣｌ水溶液に１０分間浸漬した。続いて、第三の層の外観を目視で観察し、その結果を次のように評価した。
○：第三の層に変化が認められない。
△：第三の層の表面に、ＨＣｌ水溶液に浸漬されたことによる跡が認められる。
×：第三の層が剥離する。 (Acid resistance)
As one index of etching resistance, the acid resistance of the optical member was evaluated as follows. The third layer in the optical member was immersed in a 1N HCl aqueous solution at 25 ° C. for 10 minutes. Subsequently, the appearance of the third layer was visually observed, and the results were evaluated as follows.
○: No change is observed in the third layer.
(Triangle | delta): The trace by having been immersed in HCl aqueous solution is recognized on the surface of a 3rd layer.
X: The third layer peels off.

（耐アルカリ性）
耐エッチング性の指標の一つとして、次のように光学部材の耐アルカリ性を評価した。光学部材における第三の層を、２５℃の１規定ＮａＯＨ水溶液に１０分間浸漬した。続いて、第三の層の外観を目視で観察し、その結果を次のように評価した。
○：第三の層に変化が認められない。
△：第三の層の表面に、ＮａＯＨ水溶液に浸漬されたことによる跡が認められる。
×：第三の層が剥離する。 (Alkali resistance)
As one index of etching resistance, the alkali resistance of the optical member was evaluated as follows. The third layer in the optical member was immersed in a 1N NaOH aqueous solution at 25 ° C. for 10 minutes. Subsequently, the appearance of the third layer was visually observed, and the results were evaluated as follows.
○: No change is observed in the third layer.
(Triangle | delta): The trace by having been immersed in NaOH aqueous solution is recognized on the surface of a 3rd layer.
X: The third layer peels off.

（密着性）
ＪＩＳ−Ｋ−５６００で規定されているクロスカット法に準拠して、第三の層と導体層との間の密着性を評価した。その結果を、「（剥離しなかったマス目数）／（試験したマス目数）」で評価した。 (Adhesion)
The adhesion between the third layer and the conductor layer was evaluated based on the cross-cut method defined in JIS-K-5600. The result was evaluated by “(number of cells not peeled) / (number of cells tested)”.

（耐光性）
光学部材に対し、ＪＩＳ−Ｋ−５６００−７−７に準拠して、キセノンアーク試験を実施した。試験条件は、６０Ｗ／ｍ^２（３００〜４００ｎｍ）、５５０Ｗ／ｍ^２（３００〜８００ｎｍ）、窓ガラスフィルター設置１００時間、ブラックパネル温度６３℃、とした。その結果、試験前後で光学部材に変化が認められない場合を「○」、試験後の光学部材内に層間剥離が生じてしまった場合を「×」と、評価した。 (Light resistance)
A xenon arc test was performed on the optical member in accordance with JIS-K-5600-7-7. The test ^{^{conditions, 60W / m 2 (300~400nm)}} , 550W / m 2 (300~800nm), window glass filter installation 100 hours, black panel temperature 63 ° C., and the. As a result, the case where no change was observed in the optical member before and after the test was evaluated as “◯”, and the case where delamination occurred in the optical member after the test was evaluated as “X”.

１１光学部材
１２光学部材
１基材
２第一の層
３第二の層
４第三の層
５導電層
６第四の層 DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 Optical member 12 Optical member 1 Base material 2 1st layer 3 2nd layer 4 3rd layer 5 Conductive layer 6 4th layer

Claims

Comprising a substrate, a first layer, a second layer, and a third layer, these elements are laminated in the order described above,
The refractive index of the first layer is in the range of 1.52 to 1.65, the thickness of the first layer is in the range of 0.5 μm to 10.0 μm,
The refractive index of the second layer is in the range of 1.75 or more and 1.95 or less, and the thickness of the second layer is in the range of 15 nm or more and 100 nm or less,
The refractive index of the third layer is in the range of 1.35 or more and 1.50 or less, and the thickness of the third layer is in the range of 20 nm or more and 50 nm or less,
The optical member, wherein the second layer contains rutile-type titanium oxide particles in a range of 30% by mass to 80% by mass.

The optical member according to claim 1, wherein the third layer contains a hydrolyzable organosilane polycondensate having a fluorine-substituted alkyl group.

The optical member according to claim 1, further comprising a transparent fourth layer that covers a surface of the substrate opposite to the first layer.

The transparent conductor layer which is laminated | stacked on the surface on the opposite side to said 2nd layer of said 3rd layer, and whose refractive index is 1.80 or more and 2.30 or less is further provided. 4. The optical member according to 3.