[go: up one dir, main page]
More Web Proxy on the site http://driver.im/

JP2013149312A - Suspension substrate, suspension, suspension with head, and hard disk drive - Google Patents

Suspension substrate, suspension, suspension with head, and hard disk drive Download PDF

Info

Publication number
JP2013149312A
JP2013149312A JP2012008314A JP2012008314A JP2013149312A JP 2013149312 A JP2013149312 A JP 2013149312A JP 2012008314 A JP2012008314 A JP 2012008314A JP 2012008314 A JP2012008314 A JP 2012008314A JP 2013149312 A JP2013149312 A JP 2013149312A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
insulating
suspension
layer
external connection
head
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2012008314A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masao Onuki
貫 正 雄 大
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority to JP2012008314A priority Critical patent/JP2013149312A/en
Publication of JP2013149312A publication Critical patent/JP2013149312A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
  • Supporting Of Heads In Record-Carrier Devices (AREA)
  • Moving Of The Head To Find And Align With The Track (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a suspension substrate capable of improving reliability of electric connection with an external apparatus.SOLUTION: A suspension substrate 1 comprises: an insulating layer 10 having an insulating end 10a; a metal support layer 11; and a wiring layer 12 having a plurality of wiring lines 13a, 13b, 13c and an external connection part 16 extending outward from the insulating end 10a. The external connection part 16 has an external connection face 16a, which is located at the insulating layer 10 side and which is to be electrically connected to an actuator element 44 via a conductive adhesive. The insulating layer 10 has an island-like insulating support part 30 disposed on the external connection face 16a and separated from the insulating end 10a. At least a part of the insulating support part 10 is disposed in a top end region 18 in an outer peripheral edge region of the external connection part 16.

Description

本発明は、サスペンション用基板、サスペンション、ヘッド付サスペンションおよびハードディスクドライブに係り、とりわけ、外部機器との電気的な接続の信頼性を向上させることができるサスペンション用基板、サスペンション、ヘッド付サスペンションおよびハードディスクドライブに関する。   The present invention relates to a suspension board, a suspension, a suspension with a head, and a hard disk drive, and more particularly to a suspension board, a suspension, a suspension with a head, and a hard disk drive that can improve the reliability of electrical connection with an external device. About.

一般に、ハードディスクドライブ(HDD)は、データが記憶されるディスクに対してデータの書き込みおよび読み取りを行う磁気ヘッドスライダが実装されたサスペンション用基板を備えている。このサスペンション用基板は、金属支持層と、金属支持層に絶縁層を介して積層された複数の配線を有する配線層と、を備えており、各配線に電気信号を流すことにより、ディスクに対してデータの書き込みまたは読み取りを行うようになっている。   In general, a hard disk drive (HDD) includes a suspension board on which a magnetic head slider for writing and reading data to and from a disk storing data is mounted. The suspension substrate includes a metal support layer and a wiring layer having a plurality of wirings stacked on the metal support layer with an insulating layer interposed therebetween. To write or read data.

このようなハードディスクドライブにおいては、ディスク上の所望のデータトラックに磁気ヘッドスライダを移動させるために、磁気ヘッドスライダを支持するアクチュエータアームを回転させるVCMアクチュエータ(例えば、ボイスコイルモータ)を、サーボコントロールシステムによって制御している。   In such a hard disk drive, in order to move the magnetic head slider to a desired data track on the disk, a VCM actuator (for example, a voice coil motor) that rotates an actuator arm that supports the magnetic head slider is used as a servo control system. Is controlled by.

ところで、近年、ディスクの高密度化により、トラックの幅が小さくなっている。このため、VCMアクチュエータによって、磁気ヘッドスライダを所望のトラックに精度良く位置合わせすることが困難な場合がある。   By the way, in recent years, the track width has been reduced by increasing the density of the disk. For this reason, it may be difficult to accurately align the magnetic head slider to a desired track by the VCM actuator.

このことに対処するために、VCMアクチュエータとPZTマイクロアクチュエータ(Dual Stage Actuator:DSA)とを協働させて、所望のトラックに磁気ヘッドスライダを移動させるデュアルアクチュエータ方式のサスペンションが知られている(例えば、特許文献1参照)。このPZTマイクロアクチュエータは、PZT(チタン酸ジルコン酸鉛)からなる圧電素子等のピエゾ素子により構成され、電圧が印加されることにより伸縮し、磁気ヘッドスライダを微小に移動させるようになっている。このようなデュアルアクチュエータ方式のサスペンションにおいては、VCMアクチュエータが、磁気ヘッドスライダの位置を大まかに調整し、PZTマイクロアクチュエータが、磁気ヘッドスライダの位置を微小調整する。このようにして、磁気ヘッドスライダを、所望のトラックに、迅速に、かつ精度良く位置合わせするようになっている。   In order to cope with this, a dual actuator type suspension is known in which a VCM actuator and a PZT microactuator (Dual Stage Actuator: DSA) cooperate to move a magnetic head slider to a desired track (for example, , See Patent Document 1). This PZT microactuator is constituted by a piezoelectric element such as a piezoelectric element made of PZT (lead zirconate titanate), and expands and contracts when a voltage is applied to move the magnetic head slider minutely. In such a dual actuator type suspension, the VCM actuator roughly adjusts the position of the magnetic head slider, and the PZT microactuator finely adjusts the position of the magnetic head slider. In this way, the magnetic head slider is aligned with a desired track quickly and accurately.

特許文献1に示すサスペンション用基板においては、外部機器としての圧電素子に給電するための端子部において電気絶縁層に貫通孔が設けられて銅の端子が露出され、電気絶縁層の圧電素子側の面にステンレスリングが設けられている。ステンレスリングの内部に液状の導電性接着剤を注入することにより、導電性接着剤が銅の端子および圧電素子に接合されて、圧電素子が銅の端子に電気的に接続されるようになっている。   In the suspension substrate shown in Patent Document 1, a through-hole is provided in the electrical insulating layer in a terminal portion for supplying power to a piezoelectric element as an external device, and a copper terminal is exposed, and the piezoelectric element side of the electrical insulating layer is exposed. A stainless steel ring is provided on the surface. By injecting a liquid conductive adhesive inside the stainless steel ring, the conductive adhesive is bonded to the copper terminal and the piezoelectric element, and the piezoelectric element is electrically connected to the copper terminal. Yes.

特開2011−238860号公報JP2011-238860A

しかしながら、特許文献1に示すように、電気絶縁層に貫通孔を設けて銅の端子を露出させる場合、銅の端子のうち、電極として有効な導電性接着剤と接触する接触面積は小さくなる。とりわけ、銅の端子の導電性接着剤との接触面積は、圧電素子の導電性接着剤との接触面積よりも著しく小さくなる傾向にある。このため、銅の端子と導電性接着剤との電気的接続が不安定になるという問題が生じ、電気的接続の信頼性の向上が困難になっている。   However, as shown in Patent Document 1, when a through hole is provided in an electrical insulating layer to expose a copper terminal, the contact area of the copper terminal that comes into contact with a conductive adhesive effective as an electrode is reduced. In particular, the contact area of the copper terminal with the conductive adhesive tends to be significantly smaller than the contact area of the piezoelectric element with the conductive adhesive. For this reason, the problem that the electrical connection between the copper terminal and the conductive adhesive becomes unstable arises, and it is difficult to improve the reliability of the electrical connection.

ところで、サスペンション用基板の銅の端子と圧電素子とを接合するための導電性接着剤には、以下のような理由から、銀ペーストを用いることが主流になっている。すなわち、圧電素子の電極としては、一般的に、銀または金が用いられているが、このような金属は、半田に含まれている錫に対して可溶性を有している。このため、半田付けの作業時間が長くなると、電極の銀または金が半田の中に溶け込み、圧電素子の電極が消失される。電極の消失を防止するためには、数%の金または銀を半田に含有させる対策が挙げられるが、このような対策を行った場合であっても、電極の消失を完全に防ぐことは困難である。また、半田付け作業時の温度上昇により、消極(Depolarization)を引き起こす可能性がある。このような観点から、錫に対して可溶性ではなく、かつ、接着温度が低い銀ペーストが用いられている。   By the way, silver paste is mainly used for the conductive adhesive for joining the copper terminal of the suspension substrate and the piezoelectric element for the following reasons. That is, silver or gold is generally used as the electrode of the piezoelectric element, but such a metal is soluble in tin contained in solder. For this reason, when the soldering operation time becomes long, the silver or gold of the electrode melts into the solder, and the electrode of the piezoelectric element disappears. In order to prevent the disappearance of the electrode, there is a measure to contain several percent of gold or silver in the solder. However, even if such a measure is taken, it is difficult to completely prevent the disappearance of the electrode. It is. Moreover, depolarization may be caused by the temperature rise during the soldering operation. From such a viewpoint, a silver paste that is not soluble in tin and has a low adhesion temperature is used.

銀ペーストには、接着性が要求されることはもちろんのこと、消極の防止を目的として低いガラス転移温度が要求されると共に、圧電素子の伸縮に対して効果的にスライダを変位させることを目的として低い弾性率が要求される。ところで、銀ペーストの導電性を向上させるためには銀フィラーの含有量を増大させることが有効と考えられるが、銀フィラーの含有量を増大させた場合、銀ペーストのガラス転移温度が高くなるという問題がある。また、銀ペーストの接着性を向上させるためには銀フィラーを微細化することが有効と考えられるが、銀フィラーを微細化した場合、銀ペーストの弾性率が高くなるという問題がある。これらのことから、導電性接着剤としての銀ペーストを改良することにより、銀ペーストとサスペンション用基板の端子との導電性および接着性を向上させることは困難である。   Silver paste requires not only adhesiveness but also a low glass transition temperature to prevent depolarization and to displace the slider effectively against expansion and contraction of piezoelectric elements. A low elastic modulus is required. By the way, in order to improve the electrical conductivity of the silver paste, it is considered effective to increase the content of the silver filler. However, when the content of the silver filler is increased, the glass transition temperature of the silver paste is increased. There's a problem. Further, it is considered effective to refine the silver filler in order to improve the adhesiveness of the silver paste. However, when the silver filler is refined, there is a problem that the elastic modulus of the silver paste increases. For these reasons, it is difficult to improve the conductivity and adhesion between the silver paste and the terminals of the suspension substrate by improving the silver paste as the conductive adhesive.

本発明は、このような点を考慮してなされたものであり、外部機器との電気的な接続の信頼性を向上させることができるサスペンション用基板、サスペンション、ヘッド付サスペンションおよびハードディスクドライブを提供することを目的とする。   The present invention has been made in consideration of such points, and provides a suspension substrate, a suspension, a suspension with a head, and a hard disk drive that can improve the reliability of electrical connection with an external device. For the purpose.

本発明は、第1の解決手段として、アクチュエータ素子に導電性接着剤を介して接続される接続構造領域を有するサスペンション用基板において、絶縁端部を有する絶縁層と、前記絶縁層の一方の面に設けられた金属支持層と、前記絶縁層の他方の面に設けられた複数の配線と、前記接続構造領域に設けられ、複数の前記配線のうちの一の前記配線に接続されると共に、前記絶縁端部から外方に延びる外部接続部と、を有する配線層と、を備え、前記外部接続部は、前記絶縁層の側に位置した、前記アクチュエータ素子に前記導電性接着剤を介して電気的に接続される露出された外部接続面を有し、前記絶縁層は、前記外部接続面に設けられた、前記絶縁端部から離間した島状の絶縁支持部を有し、前記外部接続部の前記外部接続面は、前記絶縁端部側の基端側領域と、前記絶縁端部とは反対側の先端側領域と、に区分けされ、 前記絶縁支持部の少なくとも一部は、前記外部接続部の外周縁領域であって前記先端側領域に配置されていることを特徴とするサスペンション用基板を提供する。   As a first solution, the present invention provides a suspension substrate having a connection structure region connected to an actuator element via a conductive adhesive, an insulating layer having an insulating end, and one surface of the insulating layer. A metal support layer provided on the other side, a plurality of wirings provided on the other surface of the insulating layer, provided in the connection structure region, and connected to one of the plurality of wirings, A wiring layer having an external connection portion extending outward from the insulating end portion, and the external connection portion is located on the insulating layer side with the conductive adhesive interposed therebetween. The exposed external connection surface is electrically connected, and the insulating layer has an island-shaped insulating support portion provided on the external connection surface and spaced apart from the insulating end, and the external connection The external connection surface of the part It is divided into a base end side region on the edge end side and a tip end side region opposite to the insulating end portion, and at least a part of the insulating support portion is an outer peripheral edge region of the external connection portion, Provided is a suspension substrate, which is disposed in the tip side region.

なお、上述した第1の解決手段によるサスペンション用基板において、前記絶縁支持部は、前記外部接続部の先端部に配置されているようにしてもよい。   Note that, in the suspension substrate according to the first solving means described above, the insulating support portion may be disposed at a distal end portion of the external connection portion.

また、上述した第1の解決手段によるサスペンション用基板において、前記絶縁支持部は、前記先端側領域と前記基端側領域とにわたって形成されているようにしてもよい。   In the suspension substrate according to the first solving means described above, the insulating support portion may be formed over the distal end side region and the proximal end side region.

また、上述した第1の解決手段によるサスペンション用基板において、前記配線および前記外部接続部を覆う保護層を更に備え、前記絶縁支持部は、平面視で、前記外部接続部から外方に突出しており、前記保護層は、前記外部接続部から前記絶縁支持部上に延びているようにしてもよい。   The suspension board according to the first solving means described above further includes a protective layer that covers the wiring and the external connection portion, and the insulating support portion protrudes outward from the external connection portion in plan view. The protective layer may extend from the external connection portion onto the insulating support portion.

また、上述した第1の解決手段によるサスペンション用基板において、前記保護層に、前記外部接続部の当該保護層側の面の一部分を露出させる貫通孔が設けられているようにしてもよい。   Further, in the suspension substrate according to the first solving means described above, a through hole that exposes a part of the surface of the external connection portion on the protective layer side may be provided in the protective layer.

また、上述した第1の解決手段によるサスペンション用基板において、前記外部接続部の側面の一部は、露出されているようにしてもよい。   Further, in the suspension substrate according to the first solving means described above, a part of the side surface of the external connection portion may be exposed.

また、本発明は、第2の解決手段として、ヘッドスライダが載置されるヘッド領域を有し、当該ヘッドスライダを検査するための検査用サスペンション用基板において、絶縁端部を有する絶縁層と、前記絶縁層の一方の面に設けられた金属支持層と、前記絶縁層の他方の面に設けられた複数の配線と、前記ヘッド領域に設けられ、複数の前記配線のうちの一の前記配線に接続されると共に、前記絶縁端部から外方に細長状に延びる外部接続部と、を有する配線層と、を備え、前記外部接続部は、前記絶縁層の側に位置した、前記ヘッドスライダに電気的に接続される露出された外部接続面を有し、前記絶縁層は、前記外部接続面に設けられた、前記絶縁端部から離間した島状の絶縁支持部を有し、前記絶縁支持部は、前記外部接続部の先端部に配置されていることを特徴とするサスペンション用基板を提供する。   Further, the present invention provides, as a second solution, a head region on which the head slider is placed, an inspection suspension substrate for inspecting the head slider, an insulating layer having an insulating end; A metal support layer provided on one surface of the insulating layer; a plurality of wires provided on the other surface of the insulating layer; and the one of the plurality of wires provided in the head region. And a wiring layer having an external connection portion extending outwardly from the insulating end, and the external connection portion is located on the insulating layer side. And the insulating layer has an island-shaped insulating support portion provided on the external connecting surface and spaced from the insulating end portion, and the insulating layer is electrically connected to the insulating connecting portion. The support part is a tip part of the external connection part. To provide a substrate for suspension, characterized in being arranged.

本発明は、ベースプレートと、前記ベースプレートに、ロードビームを介して取り付けられた上述のサスペンション用基板と、前記ベースプレートおよび前記ロードビームの少なくとも一方に接合されると共に、前記サスペンション用基板の前記接続構造領域に前記導電性接着剤を介して接続された前記アクチュエータ素子と、を備えたことを特徴とするサスペンションを提供する。   The present invention is a base plate, the above-described suspension substrate attached to the base plate via a load beam, and joined to at least one of the base plate and the load beam, and the connection structure region of the suspension substrate. And the actuator element connected via the conductive adhesive.

本発明は、上述のサスペンションと、前記サスペンションに実装されたヘッドスライダと、を備えたことを特徴とするヘッド付サスペンションを提供する。   The present invention provides a suspension with a head comprising the above-described suspension and a head slider mounted on the suspension.

本発明は、上述のヘッド付サスペンションを備えたことを特徴とするハードディスクドライブを提供する。   The present invention provides a hard disk drive including the above-described suspension with a head.

本発明によれば、外部機器との電気的な接続の信頼性を向上させることができる。   According to the present invention, the reliability of electrical connection with an external device can be improved.

図1は、本発明の第1の実施の形態におけるサスペンション用基板の一例を示す平面図である。FIG. 1 is a plan view showing an example of a suspension substrate according to the first embodiment of the present invention. 図2は、図1のA部詳細(接続構造領域)を示す平面図である。FIG. 2 is a plan view showing the details (connection structure region) of part A in FIG. 図3は、図2のB−B線断面を示す図である。FIG. 3 is a cross-sectional view taken along line BB in FIG. 図4は、図2のC−C線断面を示す図である。4 is a cross-sectional view taken along the line CC of FIG. 図5は、図3のD方向からみた配線接続部を示す裏面図である。FIG. 5 is a back view showing the wiring connection portion as seen from the direction D of FIG. 図6は、本発明の第1の実施の形態におけるサスペンションの一例を示す平面図である。FIG. 6 is a plan view showing an example of a suspension in the first embodiment of the present invention. 図7は、図6のサスペンションの一部を示す裏面図である。FIG. 7 is a back view showing a part of the suspension of FIG. 図8は、図6のサスペンションにおけるピエゾ素子の一例を示す斜視図である。FIG. 8 is a perspective view showing an example of a piezo element in the suspension of FIG. 図9は、図6のサスペンションの接続構造領域の断面であって、図3に対応する断面を示す図である。FIG. 9 is a cross-sectional view of the suspension connection structure region of FIG. 6 and corresponding to FIG. 図10は、図6のサスペンションの接続構造領域の断面であって、図4に対応する断面を示す図である。FIG. 10 is a cross-sectional view of the suspension connection structure region of FIG. 6 and corresponding to FIG. 図11は、本発明の第1の実施の形態におけるヘッド付サスペンションの一例を示す平面図である。FIG. 11 is a plan view showing an example of a suspension with a head according to the first embodiment of the present invention. 図12は、本発明の第1の実施の形態におけるハードディスクドライブの一例を示す斜視図である。FIG. 12 is a perspective view showing an example of the hard disk drive according to the first embodiment of the present invention. 図13(a)〜(g)は、本発明の第1の実施の形態におけるサスペンション用基板の製造方法を示す図である。FIGS. 13A to 13G are views showing a method for manufacturing a suspension substrate in the first embodiment of the present invention. 図14は、図13(d)に示す工程における配線接続部を示す裏面図である。FIG. 14 is a back view showing the wiring connection part in the step shown in FIG. 図15は、絶縁支持部の変形例を示す図である。FIG. 15 is a diagram illustrating a modified example of the insulating support portion. 図16は、本発明の第2の実施の形態におけるサスペンション用基板において、ヘッド領域の一例を示す平面図である。FIG. 16 is a plan view showing an example of the head region in the suspension substrate according to the second embodiment of the present invention. 図17は、図16の検査用ヘッド端子の断面を示す図である。FIG. 17 is a view showing a cross section of the inspection head terminal of FIG. 図18は、図17のE方向からみた検査用ヘッド端子を示す裏面図である。FIG. 18 is a back view showing the inspection head terminal as viewed from the direction E of FIG. 図19は、図16の検査用ヘッド端子を用いたヘッドスライダの検査方法を示す図である。FIG. 19 is a diagram showing a head slider inspection method using the inspection head terminal of FIG. 図20(a)は、比較例1における配線接続部を示す裏面図であり、図20(b)は、比較例2における配線接続部を示す裏面図である。20A is a back view showing the wiring connection portion in Comparative Example 1, and FIG. 20B is a back view showing the wiring connection portion in Comparative Example 2. FIG.

図1乃至図14を用いて、本発明の実施の形態におけるサスペンション用基板、サスペンション、ヘッド付サスペンションおよびハードディスクドライブについて説明する。なお、本明細書に添付する図面においては、図示と理解のしやすさの便宜上、適宜縮尺および縦横の寸法比等を、実物のそれらから変更し誇張してある。   The suspension substrate, suspension, suspension with head, and hard disk drive according to the embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. In the drawings attached to the present specification, for the sake of illustration and ease of understanding, the scale, the vertical / horizontal dimension ratio, and the like are appropriately changed and exaggerated from those of the actual ones.

(第1の実施の形態)
本実施の形態においては、サスペンション用基板1が外部機器としてのピエゾ素子(アクチュエータ素子)44に接続される例について説明する。なお、ピエゾ素子44は、後述するように、サスペンション用基板1に実装されるヘッドスライダ52(図11参照)を微小移動させるためのものである。
(First embodiment)
In the present embodiment, an example in which the suspension substrate 1 is connected to a piezo element (actuator element) 44 as an external device will be described. The piezo element 44 is for minutely moving the head slider 52 (see FIG. 11) mounted on the suspension substrate 1 as will be described later.

図1に示すように、サスペンション用基板1は、基板本体領域2と、一対のピエゾ素子(アクチュエータ素子、図6参照)44に導電性接着剤(例えば、銀ペースト)を介して接続可能な接続構造領域3と、を有している。このうち基板本体領域2は、後述のヘッドスライダ52(図11参照)が実装されるヘッド領域2aと、FPC基板(外部機器、図11参照)71が接続されるテール領域2bと、を有している。ヘッド領域2aには、ヘッドスライダ52に接続される複数のヘッド端子5が設けられ、テール領域2bには、FPC基板71に接続される複数のテール端子(外部機器接続端子)6が設けられており、ヘッド端子5とテール端子6とが、後述する信号配線13aを介してそれぞれ接続されている。また、一対の接続構造領域3は、基板本体領域2の両側方に配置されており、連結領域4を介して基板本体領域2に連結されている。   As shown in FIG. 1, the suspension substrate 1 is connected to the substrate body region 2 and a pair of piezo elements (actuator element, see FIG. 6) 44 via a conductive adhesive (for example, silver paste). And a structural region 3. Among these, the board body area 2 has a head area 2a on which a head slider 52 (see FIG. 11) described later is mounted, and a tail area 2b to which an FPC board (external device, see FIG. 11) 71 is connected. ing. A plurality of head terminals 5 connected to the head slider 52 are provided in the head region 2a, and a plurality of tail terminals (external device connection terminals) 6 connected to the FPC board 71 are provided in the tail region 2b. The head terminal 5 and the tail terminal 6 are connected to each other via a signal wiring 13a described later. Further, the pair of connection structure regions 3 are arranged on both sides of the substrate body region 2 and are connected to the substrate body region 2 via the connection region 4.

図1および図3に示すように、サスペンション用基板1は、絶縁層10と、絶縁層10の一方の面(接続されるピエゾ素子44の側の面)に設けられた金属支持層11と、絶縁層10の他方の面に設けられ、複数の配線13a、13b、13cを有する配線層12と、を備えている。なお、図示しないが、絶縁層10と配線層12との間に、ニッケル(Ni)、クロム(Cr)、銅(Cu)からなり、約300nm厚さを有するシード層が介在されており、絶縁層10と配線層12との密着性を向上させている。   As shown in FIGS. 1 and 3, the suspension substrate 1 includes an insulating layer 10, a metal support layer 11 provided on one surface of the insulating layer 10 (the surface on the side of the piezo element 44 to be connected), The wiring layer 12 is provided on the other surface of the insulating layer 10 and includes a plurality of wirings 13a, 13b, and 13c. Although not shown, a seed layer made of nickel (Ni), chromium (Cr), and copper (Cu) and having a thickness of about 300 nm is interposed between the insulating layer 10 and the wiring layer 12, so The adhesion between the layer 10 and the wiring layer 12 is improved.

図1に示すように、複数の配線は、一対の読取配線と一対の書込配線とを含む信号配線13aと、ピエゾ素子44に接続される一対の素子配線13bと、を含んでいる。このうち一対の素子配線13bは、金属支持層11の金属支持配線部分11bを介して、互いに電気的に接続されている。この金属支持層11の金属支持配線部分11bは、金属支持層11の本体部分11aから分離されて島状に形成されており、当該本体部分11aとは電気的に絶縁されるようになっている。また、金属支持層11の金属支持配線部分11bと素子配線13bとは、絶縁層10を貫通する配線ビア27によって互いに電気的に接続されている。このようにして、ピエゾ素子44から延びる2つの素子配線13bは、基板本体領域2にて合流し、テール領域2bに設けられた対応する一のテール端子6に接続されるようになっている。このことにより、一対のピエゾ素子44に印加される電圧を均等にして、各ピエゾ素子44の伸縮量の精度を向上させている。   As shown in FIG. 1, the plurality of wirings include a signal wiring 13 a including a pair of reading wirings and a pair of writing wirings, and a pair of element wirings 13 b connected to the piezo element 44. Among these, the pair of element wirings 13 b are electrically connected to each other via the metal support wiring portion 11 b of the metal support layer 11. The metal support wiring portion 11b of the metal support layer 11 is separated from the main body portion 11a of the metal support layer 11 and formed in an island shape, and is electrically insulated from the main body portion 11a. . The metal support wiring portion 11 b of the metal support layer 11 and the element wiring 13 b are electrically connected to each other by a wiring via 27 that penetrates the insulating layer 10. In this way, the two element wires 13b extending from the piezo element 44 merge in the substrate body region 2 and are connected to the corresponding one tail terminal 6 provided in the tail region 2b. Thereby, the voltage applied to the pair of piezo elements 44 is made uniform, and the accuracy of the expansion / contraction amount of each piezo element 44 is improved.

また、ヘッド領域2aには、接地用のヘッド端子5の接地をとるための接地ビア28が設けられている。この接地ビア28は、接地配線13cを介して接地用のヘッド端子5に接続されており、絶縁層10を貫通して、接地用のヘッド端子5と金属支持層11の本体部分11aとを電気的に接続している。   The head region 2a is provided with a ground via 28 for grounding the head terminal 5 for grounding. The ground via 28 is connected to the head terminal 5 for grounding via the ground wiring 13 c and passes through the insulating layer 10 to electrically connect the head terminal 5 for grounding and the main body portion 11 a of the metal support layer 11. Connected.

図1乃至図5に示すように、配線層12は、各接続構造領域3に設けられた配線接続部(外部接続部)16を有している。各配線接続部16は、対応する素子配線13bに接続されると共に、ピエゾ素子44に導電性接着剤を介して電気的に接続されるようになっている。また、各配線接続部16は、図3および図5に示すように、後述する絶縁層10の絶縁端部10aから、外方に延びるように形成されている。すなわち、各配線接続部16は、平面視で円形状に形成され、配線接続部16の周縁の一部が絶縁端部10aによって支持されており、絶縁端部10aを基端として片持ち状に形成されている。なお、図2および図5においては、便宜上、連結領域4が基板本体領域2に対して垂直に形成されている例を示している。   As shown in FIGS. 1 to 5, the wiring layer 12 includes a wiring connection portion (external connection portion) 16 provided in each connection structure region 3. Each wiring connection portion 16 is connected to the corresponding element wiring 13b and is electrically connected to the piezo element 44 via a conductive adhesive. Further, as shown in FIGS. 3 and 5, each wiring connection portion 16 is formed to extend outward from an insulating end portion 10a of the insulating layer 10 described later. That is, each wiring connection portion 16 is formed in a circular shape in plan view, a part of the periphery of the wiring connection portion 16 is supported by the insulating end portion 10a, and cantilevered with the insulating end portion 10a as a base end. Is formed. 2 and 5 show an example in which the connection region 4 is formed perpendicular to the substrate body region 2 for convenience.

図3乃至図5に示すように、配線接続部16は、絶縁層10の側に位置した、ピエゾ素子44に導電性接着剤を介して電気的に接続される露出された配線接続面(外部接続面)16aを有している。すなわち、接続構造領域3において、金属支持層11を構成する部分は設けられておらず、また、絶縁層10を構成する後述の絶縁支持部30以外の部分は設けられていない。このようにして、配線接続部16の配線接続面16aは、金属支持層11および絶縁支持部30以外の絶縁層10に覆われることなく、ピエゾ素子44の側に露出されている。   As shown in FIGS. 3 to 5, the wiring connection portion 16 is an exposed wiring connection surface (externally connected to the piezo element 44 via a conductive adhesive, located on the insulating layer 10 side. Connection surface) 16a. That is, in the connection structure region 3, no part constituting the metal support layer 11 is provided, and no part other than an insulating support part 30 described later constituting the insulating layer 10 is provided. In this way, the wiring connection surface 16 a of the wiring connection portion 16 is exposed to the piezo element 44 side without being covered by the insulating layer 10 other than the metal support layer 11 and the insulating support portion 30.

図5に示すように、配線接続部16の配線接続面16aは、絶縁端部10a側の基端側領域17と、絶縁端部10aとは反対側の先端側領域18と、に区分けされている。ここで、基端側領域17とは、配線接続面16aの中心Oと絶縁端部10aとを結ぶ線(Y)に対して直交するとともに当該中心Oを通る境界線(Z)によって配線接続面16aを2つの領域に区分けしたときに、絶縁端部10aの側に位置する一方の領域をいい、先端側領域18とは、絶縁端部10aとは反対側に位置する他方の領域をいう。   As shown in FIG. 5, the wiring connection surface 16a of the wiring connection portion 16 is divided into a base end side region 17 on the insulating end portion 10a side and a tip end side region 18 on the side opposite to the insulating end portion 10a. Yes. Here, the base end side region 17 is a wiring connection surface defined by a boundary line (Z) orthogonal to a line (Y) connecting the center O of the wiring connection surface 16a and the insulating end 10a and passing through the center O. When 16a is divided into two regions, it refers to one region located on the insulating end portion 10a side, and the tip end region 18 refers to the other region located on the opposite side of the insulating end portion 10a.

図3および図4に示すように、配線接続部16の配線接続面16aには、めっき層32が設けられている。このめっき層32は、配線接続面16a上に設けられたニッケル(Ni)めっき層33と、ニッケルめっき層33上に設けられた金(Au)めっき層34と、を有している。すなわち、配線接続部16の配線接続面16a上に、ニッケルめっきおよび金めっきが順次施されて、めっき層32が形成されている。また、ニッケルめっき層33の厚さは、0.3μm〜4.0μm、金めっき層34の厚さは、0.5μm〜3.0μmであることが好適である。なお、図2および図5においては、図面を明瞭にするために、めっき層32は省略している。   As shown in FIGS. 3 and 4, a plating layer 32 is provided on the wiring connection surface 16 a of the wiring connection portion 16. The plating layer 32 includes a nickel (Ni) plating layer 33 provided on the wiring connection surface 16 a and a gold (Au) plating layer 34 provided on the nickel plating layer 33. That is, nickel plating and gold plating are sequentially performed on the wiring connection surface 16 a of the wiring connection portion 16 to form the plating layer 32. Further, it is preferable that the nickel plating layer 33 has a thickness of 0.3 μm to 4.0 μm, and the gold plating layer 34 has a thickness of 0.5 μm to 3.0 μm. 2 and 5, the plating layer 32 is omitted for the sake of clarity.

図3乃至図5に示すように、絶縁層10は、絶縁端部10aと、配線接続部16の配線接続面16aに設けられた、絶縁端部10aから離間した島状の絶縁支持部30と、を有している。このうち絶縁端部10aは、片持ち状の配線接続部16を支持する基端として構成されている。ここで、島状とは、配線接続部16の配線接続面16aが導電性接着剤と接触する接触面積が、絶縁支持部30によって大きく失われることはないとみなすことができ、かつ、後述するように配線接続部16を支持することが可能な程度の平面形状に形成された状態を意味するものとして用いている。   As shown in FIGS. 3 to 5, the insulating layer 10 includes an insulating end portion 10 a and an island-shaped insulating support portion 30 provided on the wiring connection surface 16 a of the wiring connection portion 16 and spaced from the insulating end portion 10 a. ,have. Of these, the insulating end portion 10 a is configured as a base end that supports the cantilevered wiring connection portion 16. Here, the island shape can be considered that the contact area where the wiring connection surface 16a of the wiring connection portion 16 contacts the conductive adhesive is not largely lost by the insulating support portion 30, and will be described later. Thus, it is used to mean a state where the wiring connection portion 16 is formed in a planar shape capable of supporting the wiring connection portion 16.

絶縁支持部30の少なくとも一部は、配線接続部16の外周縁領域に配置されると共に、先端側領域18に配置されている。ここで、外周縁領域とは、配線接続部16の配線接続面16aにおいて、当該面の外周縁を含み、当該外周縁から中心Oの側に延びる当該外周縁に近接した領域を示すものとして用いている。   At least a part of the insulating support portion 30 is disposed in the outer peripheral region of the wiring connection portion 16 and is disposed in the distal end side region 18. Here, the outer peripheral edge region is used to indicate a region in the wiring connecting surface 16a of the wiring connecting portion 16 that includes the outer peripheral edge of the surface and is close to the outer peripheral edge extending from the outer peripheral edge toward the center O. ing.

本実施の形態においては、図5に示すように、絶縁支持部30は、全体として、配線接続部16の配線接続面16aの先端側領域18に配置されており、とりわけ、配線接続部16の先端部に配置されている。言い換えると、絶縁支持部30は、配線接続部16の配線接続面16aの中心Oに対して絶縁端部10aとは反対側に、すなわち、配線接続面16aの中心Oと絶縁端部10aとを結ぶ線(Y)の延長上に配置されている。また、絶縁支持部30は、平面視で、配線接続部16から外方に突出している。なお、図5においては、絶縁支持部30は、楕円形状に形成されている例を示しているが、このことに限られることはなく、島状に形成されていれば、任意の形状とすることができる。   In the present embodiment, as shown in FIG. 5, the insulating support portion 30 as a whole is disposed in the distal end side region 18 of the wiring connection surface 16 a of the wiring connection portion 16. It is arranged at the tip. In other words, the insulating support part 30 is located on the side opposite to the insulating end 10a with respect to the center O of the wiring connecting surface 16a of the wiring connecting part 16, that is, the center O of the wiring connecting surface 16a and the insulating end 10a. It is arranged on the extension of the connecting line (Y). Further, the insulating support portion 30 protrudes outward from the wiring connection portion 16 in plan view. In addition, in FIG. 5, although the insulation support part 30 has shown the example formed in the ellipse shape, it is not restricted to this, If it is formed in island shape, it will be set as arbitrary shapes be able to.

図2および図3に示すように、絶縁層10上には、配線層12の配線接続部16を覆う保護層20が設けられている。保護層20は、配線接続部16から絶縁支持部30上に延びている。すなわち、保護層20は、絶縁支持部30上に形成された保護支持部20aを有しており、当該保護支持部20aが、配線接続部16から絶縁支持部30上に延びている。この保護支持部20aにより、配線接続部16の側面の先端側の部分が覆われている。他方、配線接続部16の側面の他の部分は、保護層20に覆われることなく露出されている。すなわち、配線接続部16の側面の一部は露出されている。また、配線接続部16の上面(配線接続面16aとは反対側の面)の外周縁領域の一部は、保護層20に覆われることなく露出されている。そして、めっき層32は、配線接続部16の配線接続面16aから、露出された側面および上面に延びるように形成されている。   As shown in FIGS. 2 and 3, a protective layer 20 that covers the wiring connection portion 16 of the wiring layer 12 is provided on the insulating layer 10. The protective layer 20 extends from the wiring connection portion 16 onto the insulating support portion 30. That is, the protective layer 20 has a protective support portion 20 a formed on the insulating support portion 30, and the protective support portion 20 a extends from the wiring connection portion 16 onto the insulating support portion 30. The protective support portion 20 a covers the tip side portion of the side surface of the wiring connection portion 16. On the other hand, the other part of the side surface of the wiring connection part 16 is exposed without being covered with the protective layer 20. That is, a part of the side surface of the wiring connection portion 16 is exposed. A part of the outer peripheral edge region of the upper surface of the wiring connection portion 16 (the surface opposite to the wiring connection surface 16 a) is exposed without being covered with the protective layer 20. The plating layer 32 is formed so as to extend from the wiring connection surface 16a of the wiring connection portion 16 to the exposed side surface and upper surface.

また、保護層20には、配線接続部16の上面(保護層20の側の面)の一部分(中央領域の部分)を露出させる検査用貫通孔21が設けられている。この検査用貫通孔21において配線接続部16の露出された面に、検査用ニッケルめっき層23と検査用金めっき層24とを有する検査用めっき層22が形成されている。これら検査用ニッケルめっき層23と検査用金めっき層24とは、上述したニッケルめっき層33および金めっき層34と同様にして形成することができる。この検査用貫通孔21において配線接続部16が露出されているため、プローブ等の導通検査器を用いることにより、配線接続部16の上面から配線接続部16とピエゾ素子44との間の導通検査を行うことができるようになっている。   Further, the protective layer 20 is provided with an inspection through hole 21 that exposes a part (a central region portion) of the upper surface (the surface on the protective layer 20 side) of the wiring connection portion 16. An inspection plating layer 22 having an inspection nickel plating layer 23 and an inspection gold plating layer 24 is formed on the exposed surface of the wiring connection portion 16 in the inspection through hole 21. The nickel plating layer 23 for inspection and the gold plating layer 24 for inspection can be formed in the same manner as the nickel plating layer 33 and the gold plating layer 34 described above. Since the wiring connection portion 16 is exposed in the inspection through hole 21, a continuity test between the wiring connection portion 16 and the piezoelectric element 44 is performed from the upper surface of the wiring connection portion 16 by using a continuity tester such as a probe. Can be done.

保護層20は、基板本体領域2および連結領域4においては、配線層12の各配線13a、13b、13cを覆うように形成されている。なお、図1においては、図面を明瞭にするために、保護層20は省略している。   The protective layer 20 is formed so as to cover the wirings 13 a, 13 b and 13 c of the wiring layer 12 in the substrate body region 2 and the connection region 4. In FIG. 1, the protective layer 20 is omitted for the sake of clarity.

また、図1に示すように、基板本体領域2において、金属支持層11および絶縁層10を貫通して、後述のロードビーム43との位置合わせを行うための2つの治具孔25が設けられている。各治具孔25は、後述するロードビーム43の長手方向軸線(X)上に配置されている。すなわち、当該長手方向軸線(X)は、各治具孔25を通っている。   In addition, as shown in FIG. 1, two jig holes 25 are provided in the substrate body region 2 so as to pass through the metal support layer 11 and the insulating layer 10 and perform alignment with a load beam 43 described later. ing. Each jig hole 25 is disposed on a longitudinal axis (X) of a load beam 43 described later. That is, the longitudinal axis (X) passes through each jig hole 25.

次に、各構成部材について詳細に述べる。   Next, each component will be described in detail.

絶縁層10の材料としては、所望の絶縁性を有する材料であれば特に限定されることはないが、例えば、ポリイミド(PI)を用いることが好適である。なお、絶縁層10の材料は、感光性材料であっても非感光性材料であっても用いることができる。また、絶縁層10の厚さは、5μm〜30μm、とりわけ8μm〜10μmであることが好ましい。このことにより、金属支持層11と各配線13a、13b、13cとの間の絶縁性能を確保するとともに、サスペンション用基板1全体としての剛性が喪失されることを防止することができる。   The material of the insulating layer 10 is not particularly limited as long as it is a material having a desired insulating property. For example, it is preferable to use polyimide (PI). Note that the material of the insulating layer 10 can be a photosensitive material or a non-photosensitive material. The thickness of the insulating layer 10 is preferably 5 μm to 30 μm, particularly 8 μm to 10 μm. As a result, it is possible to ensure insulation performance between the metal support layer 11 and the wirings 13a, 13b, and 13c, and to prevent loss of rigidity of the suspension substrate 1 as a whole.

各配線13a、13b、13cは、電気信号を伝送するための導体として構成されており、各配線13a、13b、13cの材料としては、所望の導電性を有する材料であれば特に限定されることはないが、銅(Cu)を用いることが好適である。銅以外にも、純銅に準ずる電気特性を有する材料であれば用いることもできる。ここで、各配線13a、13b、13cの厚さは、例えば1μm〜18μm、とりわけ9μm〜12μmであることが好ましい。このことにより、各配線13a、13b、13cの伝送特性を確保するとともに、サスペンション用基板1全体としての柔軟性が喪失されることを防止することができる。なお、ヘッド端子5、テール端子6および配線接続部16は、各配線13a、13b、13cと同一の材料、同一の厚みで形成されており、各配線13a、13b、13cと共に配線層12を構成している。   Each of the wirings 13a, 13b, and 13c is configured as a conductor for transmitting an electrical signal, and the material of each of the wirings 13a, 13b, and 13c is particularly limited as long as it has a desired conductivity. However, it is preferable to use copper (Cu). In addition to copper, any material having electrical characteristics similar to pure copper can be used. Here, it is preferable that the thickness of each wiring 13a, 13b, 13c is, for example, 1 μm to 18 μm, especially 9 μm to 12 μm. As a result, the transmission characteristics of the wirings 13a, 13b, and 13c can be ensured, and the loss of flexibility of the suspension substrate 1 as a whole can be prevented. The head terminal 5, tail terminal 6 and wiring connection portion 16 are formed of the same material and the same thickness as the wirings 13a, 13b and 13c, and constitute the wiring layer 12 together with the wirings 13a, 13b and 13c. doing.

金属支持層11の材料としては、所望の導電性、弾力性、および強度を有するものであれば特に限定されることはないが、例えば、ステンレス、アルミニウム、ベリリウム銅、またはその他の銅合金を用いることができ、ステンレスを用いることが好適である。なお、金属支持層11の厚さは、配線13a、13b、13cの厚さよりも大きいことが好ましい。また、金属支持層11の厚さは、一例として、10μm〜30μm、とりわけ15μm〜20μmとすることができる。このことにより、金属支持層11の導電性、剛性、および弾力性を確保することができる。   The material of the metal support layer 11 is not particularly limited as long as it has desired conductivity, elasticity, and strength. For example, stainless steel, aluminum, beryllium copper, or other copper alloys are used. It is preferable to use stainless steel. The thickness of the metal support layer 11 is preferably larger than the thickness of the wirings 13a, 13b, and 13c. Moreover, the thickness of the metal support layer 11 can be 10 micrometers-30 micrometers as an example, and can be 15 micrometers-20 micrometers especially. As a result, the conductivity, rigidity, and elasticity of the metal support layer 11 can be ensured.

保護層20の材料としては、樹脂材料、例えば、ポリイミドを用いることが好適である。なお、保護層20の材料は、感光性材料であっても非感光性材料であっても用いることができる。保護層20の厚さは、2μm〜30μmであることが好ましい。   As a material of the protective layer 20, it is preferable to use a resin material such as polyimide. The material of the protective layer 20 can be a photosensitive material or a non-photosensitive material. The thickness of the protective layer 20 is preferably 2 μm to 30 μm.

次に、図6乃至図11を用いて、本実施の形態におけるサスペンション41について説明する。図6に示すサスペンション41は、ベースプレート42と、ベースプレート42上に取り付けられ、サスペンション用基板1の金属支持層11を保持するロードビーム43と、上述のサスペンション用基板1と、ベースプレート42およびロードビーム43の少なくとも一方に接合されると共に、サスペンション用基板1の接続構造領域3に接続されたピエゾ素子44と、を有している。   Next, the suspension 41 in the present embodiment will be described with reference to FIGS. The suspension 41 shown in FIG. 6 is attached to the base plate 42, the load beam 43 that holds the metal support layer 11 of the suspension substrate 1, the suspension substrate 1, the base plate 42, and the load beam 43. And a piezo element 44 connected to the connection structure region 3 of the suspension substrate 1.

このうちベースプレート42は、ステンレスからなり、図7に示すように、サスペンション用基板1のヘッド領域2aの側に配置されたヘッド側プレート42aと、テール領域2bの側に配置されたテール側プレート42bと、ヘッド側プレート42aとテール側プレート42bとを連結した可撓部42cと、を有している。また、ベースプレート42は、ピエゾ素子44を収容する収容開口部42dを有している。この収容開口部42dは、ヘッド側プレート42a、テール側プレート42bおよび可撓部42cにより形成されている。   Of these, the base plate 42 is made of stainless steel, and as shown in FIG. 7, a head side plate 42a disposed on the head region 2a side of the suspension substrate 1 and a tail side plate 42b disposed on the tail region 2b side. And a flexible portion 42c connecting the head side plate 42a and the tail side plate 42b. The base plate 42 has an accommodation opening 42 d for accommodating the piezo element 44. The accommodation opening 42d is formed by a head side plate 42a, a tail side plate 42b, and a flexible portion 42c.

ロードビーム43は、ベースプレート42と同様にステンレスからなり、図6および図7に示すように、サスペンション用基板1のヘッド領域2aの側に配置されたヘッド側ビーム43aと、テール領域2bの側に配置されたテール側ビーム43bと、ヘッド側ビーム43aとテール側ビーム43bとを連結した可撓部43cと、を有している。また、ロードビーム43は、ピエゾ素子44の接続構造領域3の側の面を露出させる露出開口部43dを有している。この露出開口部43dは、ヘッド側ビーム43a、テール側ビーム43bおよび可撓部43cにより形成されている。   Like the base plate 42, the load beam 43 is made of stainless steel, and as shown in FIGS. 6 and 7, the head beam 43a disposed on the head region 2a side of the suspension substrate 1 and the tail region 2b side. The tail-side beam 43b is disposed, and a flexible portion 43c that connects the head-side beam 43a and the tail-side beam 43b. In addition, the load beam 43 has an exposed opening 43 d that exposes the surface of the piezo element 44 on the connection structure region 3 side. The exposed opening 43d is formed by a head side beam 43a, a tail side beam 43b, and a flexible portion 43c.

このようにして形成されたベースプレート42およびロードビーム43にピエゾ素子44が接合されている。すなわち、図6および図7に示すように、ピエゾ素子44は、ベースプレート42の収容開口部42dに収容されて、ベースプレート42に接合されると共に、ロードビーム43のベースプレート42の側の面に接合されている。また、図10に示すように、サスペンション用基板1の接続構造領域3は、ロードビーム43の露出開口部43dを介してピエゾ素子44に接続されている。   A piezo element 44 is joined to the base plate 42 and the load beam 43 thus formed. That is, as shown in FIGS. 6 and 7, the piezo element 44 is accommodated in the accommodation opening 42 d of the base plate 42, joined to the base plate 42, and joined to the surface of the load beam 43 on the side of the base plate 42. ing. As shown in FIG. 10, the connection structure region 3 of the suspension substrate 1 is connected to the piezo element 44 through the exposed opening 43 d of the load beam 43.

ロードビーム43には、サスペンション用基板1の各治具孔25に対応して、ビーム治具孔(図示せず)が設けられており、サスペンション用基板1にロードビーム43を取り付ける際に、サスペンション用基板1とロードビーム43との位置合わせを行うことができるようになっている。このロードビーム43の治具孔は、長手方向軸線(X)上に配置されている。そして、ロードビーム43とサスペンション用基板1とが溶接により固定されるようになっている。   The load beam 43 is provided with a beam jig hole (not shown) corresponding to each jig hole 25 of the suspension substrate 1. When the load beam 43 is attached to the suspension substrate 1, the suspension beam 1 is suspended. The substrate 1 and the load beam 43 can be aligned. The jig hole of the load beam 43 is disposed on the longitudinal axis (X). The load beam 43 and the suspension substrate 1 are fixed by welding.

ピエゾ素子44は、電圧が印加されることにより、図6、図11の矢印P方向に伸縮する圧電素子として構成されており、ヘッドスライダ52をスウェイ方向(旋回方向、図6、図11の矢印Q方向)に移動させるためのものである。各ピエゾ素子44は、図8に示すように、互いに対向する一対の電極44aと、一対の電極44a間に介在され、例えばPZT(チタン酸ジルコン酸鉛)等の圧電セラミックスにより形成された圧電材料部44bと、を有している。一対のピエゾ素子44の圧電材料部44bは、互いに180°異なる分極方向となるように形成されており、所定の電圧が印加されると、一方のピエゾ素子44が収縮すると共に、他方のピエゾ素子44が伸長するようになっている。このようなピエゾ素子44は、図6に示すように、ロードビーム43の長手方向軸線(X)に沿って配置されており、その伸縮方向が、当該長手方向軸線(X)に平行になっている。また、ピエゾ素子44は、長手方向軸線(X)に対して互いに線対称に配置されており、各ピエゾ素子44の伸縮が、ヘッドスライダ52に均等に伝達されるようになっている。また、本実施の形態においては、ピエゾ素子44に接続される接続構造領域3が、基板本体領域2の両側方に配置されており、ピエゾ素子44の伸縮を効果的にヘッドスライダ52の変位に利用することができるようになっている。   The piezo element 44 is configured as a piezoelectric element that expands and contracts in the direction of the arrow P in FIGS. 6 and 11 when a voltage is applied, and moves the head slider 52 in the sway direction (the turning direction, the arrow in FIGS. 6 and 11). Q direction). As shown in FIG. 8, each piezo element 44 is interposed between a pair of electrodes 44a facing each other and a pair of electrodes 44a, and is formed of a piezoelectric material such as PZT (lead zirconate titanate). Part 44b. The piezoelectric material portions 44b of the pair of piezo elements 44 are formed to have polarization directions different from each other by 180 °. When a predetermined voltage is applied, one piezo element 44 contracts and the other piezo element 44 44 extends. As shown in FIG. 6, such a piezo element 44 is disposed along the longitudinal axis (X) of the load beam 43, and its expansion / contraction direction is parallel to the longitudinal axis (X). Yes. The piezo elements 44 are arranged symmetrically with respect to the longitudinal axis (X) so that the expansion and contraction of each piezo element 44 is evenly transmitted to the head slider 52. Further, in the present embodiment, the connection structure region 3 connected to the piezo element 44 is disposed on both sides of the substrate body region 2, and the expansion and contraction of the piezo element 44 is effectively converted into the displacement of the head slider 52. It can be used now.

図10に示すように、各ピエゾ素子44は、非導電性接着剤からなる非導電性接着部46を介してベースプレート42およびロードビーム43に接合されている。また、ピエゾ素子44の一方(サスペンション用基板1とは反対側)の電極44aは、図7および図10に示すように、導電性接着剤からなる第1導電性接着部47を介してベースプレート42に電気的に接続されている。さらに、ピエゾ素子44の他方(サスペンション用基板1の側)の電極44aは、図9および図10に示すように、導電性接着剤からなる第2導電性接着部48を介して接続構造領域3に接合されると共に電気的に接続されている。すなわち、配線接続部16とピエゾ素子44との間に導電性接着剤からなる第2導電性接着部48が形成され、ピエゾ素子44が第2導電性接着部48を介して配線接続部16に接合されると共に、ピエゾ素子44の当該他方の電極44aが、第2導電性接着部48を介して配線接続部16に電気的に接続されている。   As shown in FIG. 10, each piezo element 44 is joined to the base plate 42 and the load beam 43 through a nonconductive adhesive portion 46 made of a nonconductive adhesive. Further, as shown in FIGS. 7 and 10, one electrode 44a of the piezo element 44 (on the side opposite to the suspension substrate 1) is connected to the base plate 42 via a first conductive adhesive portion 47 made of a conductive adhesive. Is electrically connected. Further, the electrode 44a on the other side of the piezo element 44 (on the suspension substrate 1 side) is connected to the connection structure region 3 via a second conductive adhesive portion 48 made of a conductive adhesive, as shown in FIGS. And electrically connected to each other. That is, a second conductive adhesive portion 48 made of a conductive adhesive is formed between the wiring connection portion 16 and the piezo element 44, and the piezo element 44 is connected to the wiring connection portion 16 via the second conductive adhesive portion 48. While being joined, the other electrode 44 a of the piezo element 44 is electrically connected to the wiring connection portion 16 via the second conductive adhesive portion 48.

なお、上述した導電性接着剤は、好適には銀ペーストを用いることができる。この銀ペーストは、基材としてのエポキシ樹脂に銀フィラーを混合させたものであり、機械的な接合性と電気的な接続性とを兼ね備えたものである。   Note that a silver paste can be preferably used as the conductive adhesive described above. This silver paste is obtained by mixing an epoxy resin as a base material with a silver filler, and has both mechanical joining properties and electrical connectivity properties.

次に、図11により、本実施の形態におけるヘッド付サスペンション51について説明する。図11に示すヘッド付サスペンション51は、上述したサスペンション41と、サスペンション用基板1に実装され、そのヘッド端子5に接続されたヘッドスライダ52とを有している。   Next, referring to FIG. 11, the suspension with head 51 in the present embodiment will be described. A suspension 51 with a head shown in FIG. 11 has the above-described suspension 41 and a head slider 52 mounted on the suspension substrate 1 and connected to the head terminal 5.

続いて、図12により、本実施の形態におけるハードディスクドライブ61について説明する。図12に示すハードディスクドライブ61は、ケース62と、このケース62に回転自在に取り付けられ、データが記憶されるディスク63と、このディスク63を回転させるスピンドルモータ64と、ディスク63に所望のフライングハイトを保って近接するように設けられ、ディスク63に対してデータの書き込みおよび読み取りを行うヘッドスライダ52を含むヘッド付サスペンション51と、を有している。このうちヘッド付サスペンション51は、ケース62に対して移動自在に取り付けられており、ケース62にはヘッド付サスペンション51のヘッドスライダ52をディスク63上に沿って移動させるボイスコイルモータ65が取り付けられている。また、ヘッド付サスペンション51は、ボイスコイルモータ65にアーム66を介して取り付けられると共に、ハードディスクドライブ61を制御する制御部(図示せず)に接続されたFPC基板71(図11参照)に接続されている。このようにして、電気信号が、サスペンション用基板1とFPC基板71を介して、制御部とヘッドスライダ52との間で伝送されるようになっている。   Next, the hard disk drive 61 in the present embodiment will be described with reference to FIG. A hard disk drive 61 shown in FIG. 12 is attached to a case 62, a disk 63 that is rotatably attached to the case 62, stores data, a spindle motor 64 that rotates the disk 63, and a desired flying height on the disk 63. And a suspension 51 with a head including a head slider 52 that writes and reads data to and from the disk 63. Among them, the suspension with head 51 is attached to the case 62 so as to be movable, and the voice coil motor 65 for moving the head slider 52 of the suspension with head 51 along the disk 63 is attached to the case 62. Yes. The suspension 51 with a head is attached to the voice coil motor 65 via an arm 66 and is connected to an FPC board 71 (see FIG. 11) connected to a control unit (not shown) that controls the hard disk drive 61. ing. In this way, an electrical signal is transmitted between the control unit and the head slider 52 via the suspension board 1 and the FPC board 71.

次に、本実施の形態によるサスペンション用基板1の製造方法について説明する。ここでは、一例として、接続構造領域3の断面を示す図13を用いて、サブトラクティブ法によりサスペンション用基板1を製造する方法について説明する。なお、サスペンション用基板1は、サブトラクティブ法に限らず、アディティブ法により作製してもよい。   Next, a method for manufacturing the suspension substrate 1 according to the present embodiment will be described. Here, as an example, a method for manufacturing the suspension substrate 1 by the subtractive method will be described with reference to FIG. 13 showing a cross section of the connection structure region 3. The suspension substrate 1 is not limited to the subtractive method, and may be manufactured by an additive method.

まず、絶縁層10と、絶縁層10の一方の面(接続されるピエゾ素子44側の面)に設けられた金属支持層11と、絶縁層10の他方の面に設けられた配線層12と、を有する積層体35を準備する(図13(a)参照)。この場合、まず、金属支持層11を準備し、この金属支持層11上に、非感光性ポリイミドを用いた塗工方法により絶縁層10が形成される。続いて、絶縁層10上に、ニッケル、クロムおよび銅がスパッタ工法により順次コーティングされ、シード層(図示せず)が形成される。その後、このシード層を導通媒体として、銅めっきにより配線層12が形成される。このようにして、絶縁層10と金属支持層11と配線層12とを有する積層体35が得られる。   First, the insulating layer 10, the metal support layer 11 provided on one surface of the insulating layer 10 (the surface on the side of the piezo element 44 to be connected), the wiring layer 12 provided on the other surface of the insulating layer 10, and Are prepared (see FIG. 13A). In this case, first, the metal support layer 11 is prepared, and the insulating layer 10 is formed on the metal support layer 11 by a coating method using non-photosensitive polyimide. Subsequently, nickel, chromium and copper are sequentially coated on the insulating layer 10 by a sputtering method to form a seed layer (not shown). Thereafter, the wiring layer 12 is formed by copper plating using the seed layer as a conductive medium. In this way, a laminate 35 having the insulating layer 10, the metal support layer 11, and the wiring layer 12 is obtained.

続いて、配線層12において複数の配線13a、13b、13cと配線接続部16とが形成されるとともに、金属支持層11において配線接続部16の配線接続面16aを露出させるための金属支持開口部11cが形成される(図13(b)参照)。この場合、フォトファブリケーションの手法により、配線層12上および金属支持層11上にパターン状のレジスト(図示せず)が形成され、レジストの開口から、塩化第二鉄水溶液などの腐食液により配線層12および金属支持層11がエッチングされる。このようにして、所望の形状を有する配線層12が形成されると共に金属支持開口部11cが形成される。なお、配線接続部16を形成する際、基板本体領域2では、図1に示すようなヘッド端子5およびテール端子6が形成される。その後、レジストは除去される。   Subsequently, a plurality of wirings 13a, 13b, 13c and a wiring connection portion 16 are formed in the wiring layer 12, and a metal support opening for exposing the wiring connection surface 16a of the wiring connection portion 16 in the metal support layer 11 is formed. 11c is formed (see FIG. 13B). In this case, a patterned resist (not shown) is formed on the wiring layer 12 and the metal support layer 11 by a photofabrication technique, and the wiring is formed from the resist opening with a corrosive liquid such as ferric chloride aqueous solution. Layer 12 and metal support layer 11 are etched. Thus, the wiring layer 12 having a desired shape is formed and the metal support opening 11c is formed. When forming the wiring connection portion 16, the head terminal 5 and the tail terminal 6 as shown in FIG. Thereafter, the resist is removed.

次に、絶縁層10上に、配線層12の各配線13a、13b、13cおよび配線接続部16を覆う所望の形状の保護層20が形成される(図13(c)参照)。この場合、非感光性ポリイミドが、ダイコータを用いて、絶縁層10上にコーティングされ、これを乾燥させて、保護層20が形成される。続いて、形成された保護層20上に、パターン状のレジスト(図示せず)が形成され、保護層20のうち露出された部分がエッチングされ、保護層20を硬化させる。このようにして、所望の形状の保護層20が得られる。この際、保護層20には検査用貫通孔21が形成されるとともに保護支持部20aが形成される。なお、保護層20をエッチングする方法は、特に限定されるものではないが、ウェットエッチングを行うことが好ましい。とりわけ、エッチング液は、保護層20の材料の種類に応じて適宜選択することが好ましいが、例えば、保護層20がポリイミド樹脂により形成される場合には、有機アルカリエッチング液等のアルカリ系エッチング液を用いることができる。その後、レジストが除去される。   Next, a protective layer 20 having a desired shape is formed on the insulating layer 10 to cover the wirings 13a, 13b, 13c and the wiring connection portion 16 of the wiring layer 12 (see FIG. 13C). In this case, non-photosensitive polyimide is coated on the insulating layer 10 using a die coater, and dried to form the protective layer 20. Subsequently, a patterned resist (not shown) is formed on the formed protective layer 20, and the exposed portion of the protective layer 20 is etched to cure the protective layer 20. In this way, the protective layer 20 having a desired shape is obtained. At this time, the protective layer 20 is formed with the inspection through hole 21 and the protective support portion 20a. The method for etching the protective layer 20 is not particularly limited, but it is preferable to perform wet etching. In particular, the etching solution is preferably selected as appropriate according to the type of material of the protective layer 20. For example, when the protective layer 20 is formed of a polyimide resin, an alkaline etching solution such as an organic alkaline etching solution is used. Can be used. Thereafter, the resist is removed.

保護層20が得られた後、絶縁支持部30が形成されると共に、絶縁層10が所望の形状に外形加工される(図13(d)参照)。この場合、まず、パターン状のレジスト(図示せず)が形成され、絶縁層10の露出された部分がエッチングされて、絶縁支持部30が形成されると共に絶縁層10が外形加工される。このことにより、配線接続部16の配線接続面16aが金属支持開口部11cを介して露出されるようになる。この際、図14に示すように、金属支持開口部11cの外縁の一部が、絶縁支持部30に平面視で重なり、絶縁支持部30は、サスペンション用基板1を製造するための製造装置に支持された金属支持層11の補強部11dにより支持される。このことにより、配線接続部16の先端部を金属支持層11の補強部11dにより確実に支持することが可能となる。なお、絶縁層10をエッチングする方法は、保護層20をエッチングする方法と同様に、特に限定されるものではないが、ウェットエッチングを行うことが好ましい。とりわけ、エッチング液は、絶縁層10の材料の種類に応じて適宜選択することが好ましいが、例えば、絶縁層10がポリイミド樹脂により形成される場合には、有機アルカリエッチング液等のアルカリ系エッチング液を用いることができる。エッチングが行われた後、レジストは除去される。   After the protective layer 20 is obtained, the insulating support part 30 is formed, and the outer shape of the insulating layer 10 is processed into a desired shape (see FIG. 13D). In this case, first, a patterned resist (not shown) is formed, and the exposed portion of the insulating layer 10 is etched to form the insulating support 30 and the outer shape of the insulating layer 10 is processed. As a result, the wiring connection surface 16a of the wiring connection portion 16 is exposed through the metal support opening 11c. At this time, as shown in FIG. 14, a part of the outer edge of the metal support opening 11 c overlaps the insulating support 30 in plan view, and the insulating support 30 is a manufacturing apparatus for manufacturing the suspension substrate 1. It is supported by the reinforcing portion 11d of the supported metal support layer 11. As a result, the tip end portion of the wiring connection portion 16 can be reliably supported by the reinforcing portion 11 d of the metal support layer 11. The method for etching the insulating layer 10 is not particularly limited as in the method for etching the protective layer 20, but wet etching is preferably performed. In particular, the etching solution is preferably selected as appropriate according to the type of material of the insulating layer 10. For example, when the insulating layer 10 is formed of a polyimide resin, an alkaline etching solution such as an organic alkaline etching solution is used. Can be used. After the etching is performed, the resist is removed.

次に、配線接続部16にニッケルめっき層33が形成される(図13(e)参照)。この場合、まず、金属支持層11上に、ドライフィルムを用いて、ニッケルめっき層33が形成される部分を露出するようにパターン状のレジスト(図示せず)が形成される。続いて、レジストから露出された部分が、酸洗浄されて、電解めっき法によりニッケルめっきが施されてニッケルめっき層33が形成される。この場合、ヘッド端子5およびテール端子6(いずれも図1参照)にも同様にしてニッケルめっきが施され、配線接続部16の検査用貫通孔21により露出された部分にもニッケルめっきが施される(すなわち、検査用ニッケルめっき層23が形成される)。なお、めっきを施す方法としては、電解めっき法に限られることはなく、浸漬めっき法、治具めっき法などを用いることもできる。   Next, the nickel plating layer 33 is formed in the wiring connection part 16 (refer FIG.13 (e)). In this case, first, a patterned resist (not shown) is formed on the metal support layer 11 using a dry film so as to expose a portion where the nickel plating layer 33 is to be formed. Subsequently, the portion exposed from the resist is subjected to acid cleaning, and nickel plating is performed by an electrolytic plating method to form a nickel plating layer 33. In this case, nickel plating is similarly applied to the head terminal 5 and the tail terminal 6 (both refer to FIG. 1), and nickel plating is also applied to the portion exposed by the inspection through hole 21 of the wiring connection portion 16. (That is, the inspection nickel plating layer 23 is formed). The plating method is not limited to the electrolytic plating method, and an immersion plating method, a jig plating method, or the like can also be used.

続いて、ニッケルめっき層33上に、金めっき層34が形成される(図13(f)参照)。この場合、上述したニッケルめっき層33を形成するためのレジストがそのまま使用されて、当該レジストから露出された部分(すなわち、ニッケルめっき層33上)に、電解めっき法により金めっきが施されて、金めっき層34が形成される。その後、レジストが剥離される。このようにして、ニッケルめっき層33と金めっき層34とを有するめっき層32が形成される。この場合、上述したニッケルめっきの工程と同様にして、ヘッド端子5およびテール端子6(いずれも図1参照)にも同様にして金めっきが施され、配線接続部16上の検査用ニッケルめっき層23上にも金めっきが施される(すなわち、検査用金めっき層24が形成される)。   Subsequently, a gold plating layer 34 is formed on the nickel plating layer 33 (see FIG. 13F). In this case, the above-described resist for forming the nickel plating layer 33 is used as it is, and a portion exposed from the resist (that is, on the nickel plating layer 33) is subjected to gold plating by an electrolytic plating method. A gold plating layer 34 is formed. Thereafter, the resist is peeled off. Thus, the plating layer 32 having the nickel plating layer 33 and the gold plating layer 34 is formed. In this case, in the same manner as the nickel plating step described above, the head terminal 5 and the tail terminal 6 (both see FIG. 1) are similarly plated with gold, and the inspection nickel plating layer on the wiring connection portion 16 is applied. 23 is also plated with gold (that is, a gold plating layer 24 for inspection is formed).

めっき層32が形成された後、金属支持層11が外形加工される(図13(g)参照)。この場合、まず、金属支持層11の下面に、ドライフィルムを用いて、パターン状のレジスト(図示せず)が形成される。次に、例えば、塩化鉄系エッチング液により、金属支持層11のうちレジストから露出された部分がエッチングされ、金属支持層11が所望の形状に外形加工される。この際、絶縁支持部30を支持していた金属支持層11の補強部11dは除去される。このことにより、配線接続部16は、絶縁端部10aを基端として片持ち状になる。その後、レジストは除去され、本実施の形態によるサスペンション用基板1が得られる。   After the plating layer 32 is formed, the metal support layer 11 is trimmed (see FIG. 13G). In this case, first, a patterned resist (not shown) is formed on the lower surface of the metal support layer 11 using a dry film. Next, for example, a portion of the metal support layer 11 exposed from the resist is etched with an iron chloride-based etchant, and the metal support layer 11 is trimmed into a desired shape. At this time, the reinforcing portion 11d of the metal support layer 11 supporting the insulating support portion 30 is removed. As a result, the wiring connection portion 16 is cantilevered with the insulating end portion 10a as a base end. Thereafter, the resist is removed, and the suspension substrate 1 according to the present embodiment is obtained.

次に、このようにして得られたサスペンション用基板1を用いたサスペンションの製造方法について説明する。   Next, a suspension manufacturing method using the suspension substrate 1 thus obtained will be described.

まず、ベースプレート42およびロードビーム43を準備すると共に、上述したサスペンション用基板1を準備する。   First, the base plate 42 and the load beam 43 are prepared, and the above-described suspension substrate 1 is prepared.

次に、ベースプレート42に、ロードビーム43を介して、サスペンション用基板1が、溶接により取り付けられる。この場合、まず、ベースプレート42にロードビーム43が溶接により固定され、続いて、ロードビーム43に設けられたビーム治具孔(図示せず)と、サスペンション用基板1に設けられた治具孔25とにより、ロードビーム43とサスペンション用基板1とのアライメントが行われる。その後、サスペンション用基板1の金属支持層11に溶接が施されて、ロードビーム43とサスペンション用基板1が互いに接合されて固定される。   Next, the suspension substrate 1 is attached to the base plate 42 via the load beam 43 by welding. In this case, first, the load beam 43 is fixed to the base plate 42 by welding, then, a beam jig hole (not shown) provided in the load beam 43 and a jig hole 25 provided in the suspension substrate 1. As a result, the alignment of the load beam 43 and the suspension substrate 1 is performed. Thereafter, the metal support layer 11 of the suspension substrate 1 is welded, and the load beam 43 and the suspension substrate 1 are joined and fixed to each other.

次に、ピエゾ素子44が、接着剤を用いてベースプレート42およびロードビーム43に接合されると共に、サスペンション用基板1の接続構造領域3にそれぞれ接続される(図9および図10参照)。この場合、まず、ピエゾ素子44が非導電性接着部46を介してベースプレート42およびロードビーム43に接合される。次いで、導電性接着剤が塗布されて第1導電性接着部47が形成され、第1導電性接着部47を介してピエゾ素子44の一方(サスペンション用基板1とは反対側)の電極44aが、ベースプレート42に導電性接着剤を介して電気的に接続される。   Next, the piezo element 44 is bonded to the base plate 42 and the load beam 43 using an adhesive, and connected to the connection structure region 3 of the suspension substrate 1 (see FIGS. 9 and 10). In this case, first, the piezo element 44 is bonded to the base plate 42 and the load beam 43 via the non-conductive adhesive portion 46. Next, a conductive adhesive is applied to form a first conductive adhesive portion 47, and an electrode 44 a on one side (opposite side of the suspension substrate 1) of the piezo element 44 is formed via the first conductive adhesive portion 47. The base plate 42 is electrically connected via a conductive adhesive.

また、ピエゾ素子44の他方(サスペンション用基板1の側)の電極44aは、第2導電性接着部48を介してサスペンション用基板1の接続構造領域3に接合されると共に電気的に接続される。なお、サスペンション用基板1の配線接続部16のピエゾ素子44の側の面に導電性接着剤が予め塗布されており、ピエゾ素子44をベースプレート42およびロードビーム43に接合した際、配線接続部16は、ピエゾ素子44の一方の電極44aに接合されると共に電気的に接続される。   Further, the other electrode 44a (the suspension substrate 1 side) of the piezo element 44 is joined and electrically connected to the connection structure region 3 of the suspension substrate 1 through the second conductive adhesive portion 48. . Note that a conductive adhesive is applied in advance to the surface of the wiring connection portion 16 of the suspension substrate 1 on the piezoelectric element 44 side, and when the piezoelectric element 44 is bonded to the base plate 42 and the load beam 43, the wiring connection portion 16 is applied. Is joined to and electrically connected to one electrode 44a of the piezo element 44.

このようにして、本実施の形態によるサスペンション41が得られる。   In this way, the suspension 41 according to the present embodiment is obtained.

このサスペンション41のヘッド端子5に、ヘッドスライダ52が接続されて図11に示すヘッド付サスペンション51が得られる。さらに、このヘッド付サスペンション51がハードディスクドライブ61のアーム66に取り付けられると共に、サスペンション用基板1のテール端子6にFPC基板71が接続されて、図12に示すハードディスクドライブ61が得られる。   A head slider 52 is connected to the head terminal 5 of the suspension 41 to obtain a suspension with head 51 shown in FIG. Further, the suspension 51 with the head is attached to the arm 66 of the hard disk drive 61 and the FPC board 71 is connected to the tail terminal 6 of the suspension board 1 to obtain the hard disk drive 61 shown in FIG.

図12に示すハードディスクドライブ61においてデータの書き込みおよび読み取りを行う際、ボイスコイルモータ65によりヘッド付サスペンション51のヘッドスライダ52がディスク63上に沿って移動し、スピンドルモータ64により回転しているディスク63に所望のフライングハイトを保って近接する。このことにより、ヘッドスライダ52とディスク63との間で、データの受け渡しが行われる。この間、サスペンション用基板1とFPC基板71を介して、FPC基板71に接続されている制御部(図示せず)とヘッドスライダ52との間で電気信号が伝送される。このような電気信号は、サスペンション用基板1においては、各信号配線13aによって、ヘッド端子5(図1参照)とテール端子6との間で伝送される。   When data is written and read in the hard disk drive 61 shown in FIG. 12, the head slider 52 of the suspension 51 with the head is moved along the disk 63 by the voice coil motor 65 and is rotated by the spindle motor 64. Keep close to the desired flying height. As a result, data is exchanged between the head slider 52 and the disk 63. During this time, an electrical signal is transmitted between the control unit (not shown) connected to the FPC board 71 and the head slider 52 via the suspension board 1 and the FPC board 71. Such an electrical signal is transmitted between the head terminal 5 (see FIG. 1) and the tail terminal 6 through the signal wirings 13a in the suspension board 1.

ヘッドスライダ52を移動させる際、ボイスコイルモータ65が、ヘッドスライダ52の位置を大まかに調整し、ピエゾ素子44が、ヘッドスライダ52の位置を微小調整する。すなわち、サスペンション用基板1の接続構造領域3の側のピエゾ素子44の電極44aに所定の電圧を印加することにより、長手方向軸線(X)に沿った方向(図6、11の矢印P方向)に、一方のピエゾ素子44が収縮すると共に他方のピエゾ素子44が伸長する。この場合、ベースプレート42の可撓部42bとロードビーム43の可撓部43cとが弾性変形し、ロードビーム43の先端側に位置するヘッドスライダ52がスウェイ方向(旋回方向Q)に移動することができる。なお、ピエゾ素子44の電極44aに印加される電圧は、素子配線13b、配線接続部16および第2導電性接着部48を介して当該電極44aに入力される。このようにして、ヘッドスライダ52を、ディスク63の所望のトラックに、迅速に、かつ精度良く位置合わせすることができる。   When moving the head slider 52, the voice coil motor 65 roughly adjusts the position of the head slider 52, and the piezo element 44 finely adjusts the position of the head slider 52. That is, by applying a predetermined voltage to the electrode 44a of the piezo element 44 on the connection structure region 3 side of the suspension substrate 1, the direction along the longitudinal axis (X) (the direction of the arrow P in FIGS. 6 and 11). In addition, one piezo element 44 contracts and the other piezo element 44 expands. In this case, the flexible portion 42b of the base plate 42 and the flexible portion 43c of the load beam 43 are elastically deformed, and the head slider 52 located on the tip side of the load beam 43 moves in the sway direction (turning direction Q). it can. Note that the voltage applied to the electrode 44 a of the piezo element 44 is input to the electrode 44 a via the element wiring 13 b, the wiring connection portion 16, and the second conductive adhesive portion 48. In this way, the head slider 52 can be quickly and accurately aligned with a desired track of the disk 63.

このように本実施の形態によれば、ピエゾ素子44に導電性接着剤を介して電気的に接続される配線接続部16は、絶縁層10の側に位置するピエゾ素子44側に露出された配線接続面16aを有しており、当該配線接続面16aに、絶縁層10の絶縁端部10aから離間した島状の絶縁支持部30が設けられている。すなわち、配線接続部16の配線接続面16aは、絶縁端部30以外の領域でピエゾ素子44の側に露出されている。このことにより、配線接続部16の配線接続面16aと導電性接着剤との接触面積を増大させることができる。このため、接続構造領域3とピエゾ素子44との電気的接続を安定化させることができ、サスペンション用基板1とピエゾ素子44との電気的な接続の信頼性を向上させることができる。   As described above, according to the present embodiment, the wiring connection portion 16 that is electrically connected to the piezo element 44 via the conductive adhesive is exposed to the piezo element 44 side located on the insulating layer 10 side. The wiring connection surface 16a is provided, and an island-shaped insulating support portion 30 spaced from the insulating end portion 10a of the insulating layer 10 is provided on the wiring connection surface 16a. That is, the wiring connection surface 16 a of the wiring connection portion 16 is exposed to the piezo element 44 side in a region other than the insulating end portion 30. As a result, the contact area between the wiring connection surface 16a of the wiring connection portion 16 and the conductive adhesive can be increased. For this reason, the electrical connection between the connection structure region 3 and the piezoelectric element 44 can be stabilized, and the reliability of the electrical connection between the suspension substrate 1 and the piezoelectric element 44 can be improved.

また、本実施の形態によれば、絶縁支持部30は、配線接続部の配線接続面16aのうち先端側領域18に配置されている。そして、この絶縁支持部30は、サスペンション用基板1の製造時(とりわけ、図13(d)〜(f)に示す工程の間)に、金属支持層11の補強部11dによって支持することができる。このため、絶縁端部10aから片持ち状に延びる配線接続部16を、金属支持層11の補強部11dによって支持することができ、配線接続部16が、その自重により絶縁端部10aを基端として撓んで変形することを防止できる。また、レジストを除去するための除去液を配線接続部16の上方(または下方)から流している間であっても、この液流により配線接続部16が絶縁端部10aを基端として撓んで変形することを抑制できる。とりわけ、本実施の形態によれば、絶縁支持部30は、配線接続部16の先端部に配置されていることから、配線接続部16が絶縁端部10aを基端として撓むことをより一層抑制できる。   Further, according to the present embodiment, the insulating support portion 30 is disposed in the distal end side region 18 of the wiring connection surface 16a of the wiring connection portion. And this insulation support part 30 can be supported by the reinforcement part 11d of the metal support layer 11 at the time of manufacture of the board | substrate 1 for suspensions (especially during the process shown to FIG.13 (d)-(f)). . For this reason, the wiring connection part 16 extended in a cantilever form from the insulating end part 10a can be supported by the reinforcing part 11d of the metal support layer 11, and the wiring connection part 16 has the base end of the insulating end part 10a by its own weight. Can be prevented from being bent and deformed. Further, even while the removing liquid for removing the resist is flowing from above (or below) the wiring connection portion 16, the wiring connection portion 16 bends with the insulating end 10a as the base end due to this liquid flow. Deformation can be suppressed. In particular, according to the present embodiment, since the insulating support portion 30 is disposed at the distal end portion of the wiring connection portion 16, it is further prevented that the wiring connection portion 16 bends with the insulating end portion 10a as the base end. Can be suppressed.

また、本実施の形態によれば、保護層20が、配線接続部16から絶縁支持部30上に延びている。このことにより、絶縁支持部30を保護層20によっても支持することができ、配線接続部16が絶縁端部10aを基端として撓むことをより一層抑制できる。   Further, according to the present embodiment, the protective layer 20 extends from the wiring connection portion 16 onto the insulating support portion 30. Thereby, the insulation support part 30 can be supported also by the protective layer 20, and it can suppress further that the wiring connection part 16 bends by using the insulation edge part 10a as a base end.

さらに、本実施の形態によれば、配線接続部16の側面の一部が、保護層20に覆われることなく露出されている。このため、配線接続部16の側面の一部に導電性接着剤を接触させることにより、配線接続部16と導電性接着剤との接触面積をより一層増大させることができ、接続構造領域3とピエゾ素子44との電気的接続をより一層安定化させることができる。   Furthermore, according to the present embodiment, a part of the side surface of the wiring connection portion 16 is exposed without being covered with the protective layer 20. For this reason, the contact area between the wiring connection portion 16 and the conductive adhesive can be further increased by bringing the conductive adhesive into contact with a part of the side surface of the wiring connection portion 16, and the connection structure region 3 and The electrical connection with the piezo element 44 can be further stabilized.

なお、本実施の形態においては、絶縁支持部30が、配線接続部16の配線接続面16aの先端側領域18であって、配線接続部16の先端部に配置されている例について説明した。しかしながら、このことに限られることはなく、絶縁支持部30は、図15に示すように、絶縁支持部30の一部が先端側領域18に配置されて、絶縁支持部30が基端側領域17と先端側領域18とにわたって形成されていてもよい。この場合においても、絶縁端部10aから延びる配線接続部16を、金属支持層11の補強部11dによって支持することができ、各処理工程において、配線接続部16が絶縁端部10aを基端として撓むことを防止できる。   In the present embodiment, the example in which the insulating support portion 30 is disposed at the distal end portion 18 of the wiring connection portion 16 in the distal end side region 18 of the wiring connection surface 16 a of the wiring connection portion 16 has been described. However, the present invention is not limited to this, and as shown in FIG. 15, the insulating support portion 30 is configured such that a part of the insulating support portion 30 is disposed in the distal end side region 18 and the insulating support portion 30 is in the proximal end side region. 17 and the front end side region 18 may be formed. Even in this case, the wiring connection portion 16 extending from the insulating end portion 10a can be supported by the reinforcing portion 11d of the metal support layer 11. In each processing step, the wiring connection portion 16 has the insulating end portion 10a as the base end. It can prevent bending.

また、上述した実施の形態においては、サスペンション用基板1が、図1に示すように、一対のピエゾ素子44に接続可能なように、基板本体領域2の両側方に配置された一対の接続構造領域3を有している例について説明した。しかしながら、このことに限られることはなく、基板本体領域2の一側方に連結領域4を介して接続構造領域3が設けられたサスペンション用基板1に本発明を適用することも可能である。さらに、連結領域4を用いることなく、接続構造領域3が基板本体領域2内に配置されているサスペンション用基板1にも本発明を適用することができる。   Further, in the above-described embodiment, a pair of connection structures disposed on both sides of the substrate body region 2 so that the suspension substrate 1 can be connected to the pair of piezo elements 44 as shown in FIG. The example which has the area | region 3 was demonstrated. However, the present invention is not limited to this, and the present invention can also be applied to the suspension substrate 1 in which the connection structure region 3 is provided on one side of the substrate body region 2 via the connection region 4. Further, the present invention can be applied to the suspension substrate 1 in which the connection structure region 3 is disposed in the substrate body region 2 without using the connection region 4.

(第2の実施の形態)
次に、図16乃至図19により、本発明の第2の実施の形態におけるサスペンション用基板について説明する。
(Second Embodiment)
Next, the suspension substrate in the second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

図16乃至図19に示す第2の実施の形態においては、本発明をヘッドスライダの検査用サスペンション用基板に適用した場合について説明する。なお、図16乃至図19において、図1乃至図14に示す第1の実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。   In the second embodiment shown in FIG. 16 to FIG. 19, the case where the present invention is applied to an inspection suspension substrate for a head slider will be described. 16 to 19, the same parts as those of the first embodiment shown in FIGS. 1 to 14 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.

本実施の形態におけるサスペンション用基板は、ヘッドスライダ52(図11参照)を検査するための検査用サスペンション用基板81となっている。なお、検査用サスペンション用基板81は、第1の実施の形態におけるサスペンション用基板1とほぼ同様の構造を有しており、ここでは、当該サスペンション用基板1との主な相違点について説明する。   The suspension substrate in the present embodiment is an inspection suspension substrate 81 for inspecting the head slider 52 (see FIG. 11). The inspection suspension substrate 81 has substantially the same structure as the suspension substrate 1 in the first embodiment, and here, main differences from the suspension substrate 1 will be described.

検査用サスペンション用基板81のヘッド領域2aには、絶縁層10および金属支持層11を貫通するヘッド開口部82が設けられ、このヘッド開口部82上に外部接続部としての検査用ヘッド端子83が複数(図16においては6つ)設けられている。これらの検査用ヘッド端子83は、信号配線13a、接地配線13cにそれぞれ接続されている。また、検査用ヘッド端子83は、ヘッドスライダ52の検査時に略直角に折り曲げられて、外部機器としてのヘッドスライダ52に電気的に接続されるようになっている(図19参照)。   The head region 2 a of the inspection suspension substrate 81 is provided with a head opening 82 that penetrates the insulating layer 10 and the metal support layer 11, and an inspection head terminal 83 as an external connection portion is provided on the head opening 82. A plurality (six in FIG. 16) are provided. These inspection head terminals 83 are connected to the signal wiring 13a and the ground wiring 13c, respectively. The inspection head terminal 83 is bent at a substantially right angle when the head slider 52 is inspected, and is electrically connected to the head slider 52 as an external device (see FIG. 19).

検査用ヘッド端子83は、図16乃至図18に示すように、絶縁端部84から外方に細長状に延び、平面視で、細長の矩形状に形成されている。また、検査用ヘッド端子83は、第1の実施の形態におけるサスペンション用基板1のヘッド端子5(図1参照)よりも長手寸法が長くなっているが、ヘッド端子5と同様にして形成されるものである。さらに、検査用ヘッド端子83は、第1の実施の形態における配線接続部16と同様に、絶縁層10の側に位置した、ヘッドスライダ52に電気的に接続される露出されたヘッド接続面83aを有している。なお、本実施の形態における絶縁端部84は、上述したヘッド開口部82の一部分を画定している。   As shown in FIGS. 16 to 18, the inspection head terminal 83 extends in an elongated shape outward from the insulating end portion 84 and is formed in an elongated rectangular shape in plan view. The inspection head terminal 83 has a longer dimension than the head terminal 5 (see FIG. 1) of the suspension substrate 1 in the first embodiment, but is formed in the same manner as the head terminal 5. Is. Further, the inspection head terminal 83 is exposed at the exposed head connection surface 83a that is electrically connected to the head slider 52 located on the insulating layer 10 side, similarly to the wiring connection portion 16 in the first embodiment. have. Note that the insulating end portion 84 in the present embodiment defines a part of the head opening 82 described above.

検査用ヘッド端子83のヘッド接続面83aには、絶縁端部84から離間した島状の絶縁支持部85が設けられている。この絶縁支持部85は、図17および図18に示すように、検査用ヘッド端子83の先端部に配置されている。また、絶縁支持部85は、平面視で、検査用ヘッド端子83から先端側の外方に突出している。さらに、絶縁支持部85は、後述するように、ヘッドスライダ52の端子(図示せず)が当接した場合に、ヘッドスライダ52と干渉することがない位置に配置されている。   The head connection surface 83 a of the inspection head terminal 83 is provided with an island-shaped insulating support portion 85 that is separated from the insulating end portion 84. As shown in FIGS. 17 and 18, the insulating support portion 85 is disposed at the distal end portion of the inspection head terminal 83. Further, the insulating support portion 85 protrudes outward from the head terminal for inspection 83 in a plan view. Further, as will be described later, the insulating support portion 85 is disposed at a position where it does not interfere with the head slider 52 when a terminal (not shown) of the head slider 52 abuts.

検査用ヘッド端子83は、保護層20により覆われておらず、上方にも露出されている。そして、めっき層32は、検査用ヘッド端子83のヘッド接続面83a、側面および上面(ヘッド接続面83aとは反対側の面)に形成されている。   The inspection head terminal 83 is not covered with the protective layer 20 and is exposed upward. The plating layer 32 is formed on the head connection surface 83a, the side surface, and the upper surface (surface opposite to the head connection surface 83a) of the inspection head terminal 83.

次に、本実施の形態による検査用サスペンション用基板81を用いて、ヘッドスライダ52を検査する方法について図19を用いて説明する。   Next, a method for inspecting the head slider 52 using the inspection suspension substrate 81 according to the present embodiment will be described with reference to FIG.

まず、検査用ヘッド端子83が略直角に上方に折り曲げられる。続いて、ヘッド開口部82に、ヘッドスライダ52を載置するための載置治具86が取り付けられる。次に、載置治具86上に、ヘッドスライダ52が載置される。この際、ヘッドスライダ52は、その複数の端子(図示せず)が、折り曲げられた検査用ヘッド端子83にそれぞれ当接するように載置される。このことにより、ヘッドスライダ52の端子が、検査用ヘッド端子83にそれぞれ電気的に接続される。その後、図示しない検査機器が検査用サスペンション用基板81のテール端子6(図1参照)に接続され、信号配線13aおよび検査用ヘッド端子83を介して、当該検査機器とヘッドスライダ52との間で検査信号が伝送される。このようにして、ヘッドスライダ52を検査することができる。   First, the inspection head terminal 83 is bent upward at a substantially right angle. Subsequently, a mounting jig 86 for mounting the head slider 52 is attached to the head opening 82. Next, the head slider 52 is placed on the placement jig 86. At this time, the head slider 52 is placed such that a plurality of terminals (not shown) are in contact with the bent inspection head terminals 83. As a result, the terminals of the head slider 52 are electrically connected to the inspection head terminals 83, respectively. Thereafter, an inspection device (not shown) is connected to the tail terminal 6 (see FIG. 1) of the inspection suspension substrate 81, and between the inspection device and the head slider 52 via the signal wiring 13a and the inspection head terminal 83. A test signal is transmitted. In this way, the head slider 52 can be inspected.

このように本実施の形態によれば、ヘッドスライダ52に電気的に接続される細長状の検査用ヘッド端子83は、絶縁層10の側に位置する露出されたヘッド接続面83aを有しており、当該ヘッド接続面83aに、絶縁層10の絶縁端部84から離間した島状の絶縁支持部85が設けられ、当該絶縁支持部85が、検査用ヘッド端子83の先端部に配置されている。このことにより、絶縁支持部85を介在させることなく、検査用ヘッド端子83のヘッド接続面83aとヘッドスライダ52の端子とを電気的に接続して、電気的な接続の信頼性を向上させることができ、ヘッドスライダ52の検査を効率良く行うことができる。   As described above, according to the present embodiment, the elongated inspection head terminal 83 electrically connected to the head slider 52 has the exposed head connection surface 83a located on the insulating layer 10 side. In addition, an island-shaped insulating support portion 85 spaced from the insulating end portion 84 of the insulating layer 10 is provided on the head connection surface 83a, and the insulating support portion 85 is disposed at the tip portion of the inspection head terminal 83. Yes. Accordingly, the head connection surface 83a of the inspection head terminal 83 and the terminal of the head slider 52 are electrically connected without interposing the insulating support portion 85, thereby improving the reliability of the electrical connection. Thus, the head slider 52 can be inspected efficiently.

また、本実施の形態によれば、上述したように、絶縁支持部85が検査用ヘッド端子83の先端部に配置されていることから、検査用サスペンション用基板81の製造時(例えば、図13(d)〜(f)に示す工程の間)に、絶縁支持部85を、(図14に示す補強部11dと同様に)金属支持層11によって支持することができる。このため、絶縁端部84から片持ち状に細長状に延びる検査用ヘッド端子83を、金属支持層11によって支持することができ、検査用ヘッド端子83が、その自重により絶縁端部84を基端として撓んで変形することを抑制できる。また、レジストを除去するための除去液を検査用ヘッド端子83の上方(または下方)から流している間であっても、この液流により検査用ヘッド端子83が絶縁端部84を基端として撓んで変形することを抑制できる。   Further, according to the present embodiment, as described above, since the insulating support portion 85 is disposed at the tip portion of the inspection head terminal 83, the inspection suspension substrate 81 is manufactured (for example, FIG. 13). During the steps shown in (d) to (f), the insulating support portion 85 can be supported by the metal support layer 11 (similar to the reinforcing portion 11d shown in FIG. 14). Therefore, the inspection head terminal 83 extending in a cantilever shape from the insulating end portion 84 can be supported by the metal support layer 11, and the inspection head terminal 83 is based on the insulating end portion 84 by its own weight. It can suppress that it bends and deform | transforms as an edge. Further, even while the removing liquid for removing the resist is flowing from above (or below) the inspection head terminal 83, the inspection head terminal 83 causes the insulating end portion 84 to be the base end by this liquid flow. It is possible to suppress bending and deformation.

以上、本発明の実施の形態について詳細に説明してきたが、本発明によるサスペンション用基板、サスペンション、ヘッド付サスペンションおよびハードディスクドライブは、上記実施の形態に何ら限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更が可能であり、以下に示す各変形例を適宜組み合わせることも可能である。   As described above, the embodiments of the present invention have been described in detail. However, the suspension substrate, the suspension, the suspension with a head, and the hard disk drive according to the present invention are not limited to the above-described embodiments, and the gist of the present invention. Various modifications can be made without departing from the scope of the invention, and the following modifications can be combined as appropriate.

上述した本発明の第1の実施の形態によるサスペンション用基板1、すなわち、ピエゾ素子44に接続される配線接続部16の先端部に絶縁支持部30を設けたサスペンション用基板1を作製し、配線接続部16が変形するかどうかを確認した。   The suspension substrate 1 according to the first embodiment of the present invention described above, that is, the suspension substrate 1 provided with the insulating support portion 30 at the tip of the wiring connection portion 16 connected to the piezo element 44 is manufactured. It was confirmed whether the connection part 16 deform | transformed.

比較例1として、図20(a)に示すように、絶縁支持部30が形成されないサスペンション用基板を作製して、配線接続部16の変形の有無を調べた。また、比較例2として、図20(b)に示すような、三日月状の絶縁支持部87を絶縁端部10aに連接させた(すなわち、絶縁支持部87を、連結領域4における絶縁層10に一体に形成した)サスペンション用基板を作製して、配線接続部16の変形の有無を調べた。これらの結果を、表1に示す。   As Comparative Example 1, as shown in FIG. 20A, a suspension substrate in which the insulating support portion 30 was not formed was produced, and the presence or absence of deformation of the wiring connection portion 16 was examined. Further, as Comparative Example 2, a crescent-shaped insulating support portion 87 as shown in FIG. 20B is connected to the insulating end portion 10a (that is, the insulating support portion 87 is connected to the insulating layer 10 in the connection region 4). A suspension substrate (which was integrally formed) was produced, and the presence or absence of deformation of the wiring connection portion 16 was examined. These results are shown in Table 1.

Figure 2013149312
Figure 2013149312

なお、配線接続部16の変形の有無は、実体顕微鏡(ニコン製実体顕微鏡SMZ645、48灯LEDリングライト)を用いて調べた。すなわち、サスペンション用基板1を白色ボードに載せ、上述の実体顕微鏡を用いて、倍率を20倍にし、当該実体顕微鏡を5度傾けて変形の有無を調べた。このように実体顕微鏡を5度傾けることにより、変形が生じている部位は、当該部位からの反射光の総量が減少して、外観上黒く確認できる。特に、金めっきが施されている部位は、金めっきの反射率が高いため、顕著にその差異を確認することができる。このようにして配線接続部16の変形の有無を調べ、配線接続部16に黒く視認される部分がある場合に、当該配線接続部16が変形していると判断した。   In addition, the presence or absence of the deformation | transformation of the wiring connection part 16 was investigated using the stereomicroscope (Nikon stereomicroscope SMZ645, 48 light LED ring light). That is, the suspension substrate 1 was placed on a white board, the magnification was set to 20 times using the above-described stereomicroscope, and the stereomicroscope was tilted by 5 degrees to examine the presence or absence of deformation. By tilting the stereomicroscope by 5 degrees in this way, a portion where deformation has occurred can be confirmed to be black in appearance by reducing the total amount of reflected light from the portion. In particular, since the gold-plated part has a high gold plating rate, the difference can be remarkably confirmed. In this manner, the presence or absence of deformation of the wiring connection portion 16 was examined, and when the wiring connection portion 16 had a portion visually recognized as black, it was determined that the wiring connection portion 16 was deformed.

表1に示されているように、絶縁支持部30を、配線接続部16の先端部に設けることにより、配線接続部16の変形を抑制することが確認できた。   As shown in Table 1, it was confirmed that the deformation of the wiring connection portion 16 was suppressed by providing the insulating support portion 30 at the distal end portion of the wiring connection portion 16.

1 サスペンション用基板
2 基板本体領域
2a ヘッド領域
2b テール領域
3 接続構造領域
4 連結領域
5 ヘッド端子
6 テール端子
10 絶縁層
10a 絶縁端部
11 金属支持層
11a 本体部分
11b 金属支持配線部分
11c 金属支持開口部
11d 補強部
12 配線層
13a 信号配線
13b 素子配線
13c 接地配線
16 配線接続部
16a 露出面
17 基端側領域
18 先端側領域
20 保護層
20a 保護支持部
21 検査用貫通孔
22 検査用めっき層
23 検査用ニッケルめっき層
24 検査用金めっき層
25 治具孔
27 配線ビア
28 接地ビア
30 絶縁支持部
32 めっき層
33 ニッケルめっき層
34 金めっき層
35 積層体
41 サスペンション
42 ベースプレート
42a ヘッド側プレート
42b テール側プレート
42c 可撓部
42d 収容開口部
43 ロードビーム
43a ヘッド側ビーム
43b テール側ビーム
43c 可撓部
43d 露出開口部
44 ピエゾ素子
44a 電極
44b 圧電材料部
46 非導電性接着部
47 第1導電性接着部
48 第2導電性接着部
51 ヘッド付サスペンション
52 ヘッドスライダ
61 ハードディスクドライブ
62 ケース
63 ディスク
64 スピンドルモータ
65 ボイスコイルモータ
66 アーム
71 FPC基板
81 検査用サスペンション用基板
82 ヘッド開口部
83 検査用ヘッド端子
83a ヘッド接続面
84 絶縁端部
85 絶縁支持部
86 載置治具
87 絶縁支持部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Suspension board | substrate 2 Substrate body area | region 2a Head area | region 2b Tail area | region 3 Connection structure area | region 4 Connection area | region 5 Head terminal 6 Tail terminal 10 Insulating layer 10a Insulating edge part 11 Metal support layer 11a Main body part 11b Metal support wiring part 11c Metal support opening Part 11d Reinforcement part 12 Wiring layer 13a Signal wiring 13b Element wiring 13c Ground wiring 16 Wiring connection part 16a Exposed surface 17 Base end side area 18 Front end side area 20 Protective layer 20a Protective support part 21 Inspection through hole 22 Inspection plating layer 23 Inspection nickel plating layer 24 Inspection gold plating layer 25 Jig hole 27 Wiring via 28 Ground via 30 Insulation support 32 Plating layer 33 Nickel plating layer 34 Gold plating layer 35 Laminate 41 Suspension 42 Base plate 42a Head side plate 42b Tail side Plate 42c Flexible part 42d Accommodation open Mouth part 43 Load beam 43a Head side beam 43b Tail side beam 43c Flexible part 43d Exposed opening 44 Piezo element 44a Electrode 44b Piezoelectric material part 46 Nonconductive adhesive part 47 First conductive adhesive part 48 Second conductive adhesive part 51 Suspension with Head 52 Head Slider 61 Hard Disk Drive 62 Case 63 Disk 64 Spindle Motor 65 Voice Coil Motor 66 Arm 71 FPC Board 81 Inspection Suspension Board 82 Head Opening 83 Inspection Head Terminal 83a Head Connection Surface 84 Insulating End 85 Insulation support part 86 Mounting jig 87 Insulation support part

Claims (10)

アクチュエータ素子に導電性接着剤を介して接続される接続構造領域を有するサスペンション用基板において、
絶縁端部を有する絶縁層と、
前記絶縁層の一方の面に設けられた金属支持層と、
前記絶縁層の他方の面に設けられた複数の配線と、前記接続構造領域に設けられ、複数の前記配線のうちの一の前記配線に接続されると共に、前記絶縁端部から外方に延びる外部接続部と、を有する配線層と、を備え、
前記外部接続部は、前記絶縁層の側に位置した、前記アクチュエータ素子に前記導電性接着剤を介して電気的に接続される露出された外部接続面を有し、
前記絶縁層は、前記外部接続面に設けられた、前記絶縁端部から離間した島状の絶縁支持部を有し、
前記外部接続部の前記外部接続面は、前記絶縁端部側の基端側領域と、前記絶縁端部とは反対側の先端側領域と、に区分けされ、
前記絶縁支持部の少なくとも一部は、前記外部接続部の外周縁領域であって前記先端側領域に配置されていることを特徴とするサスペンション用基板。
In a suspension substrate having a connection structure region connected to an actuator element via a conductive adhesive,
An insulating layer having an insulating end;
A metal support layer provided on one surface of the insulating layer;
A plurality of wirings provided on the other surface of the insulating layer and provided in the connection structure region, connected to one of the plurality of wirings and extending outward from the insulating end portion A wiring layer having an external connection part,
The external connection portion is located on the insulating layer side, and has an exposed external connection surface that is electrically connected to the actuator element via the conductive adhesive,
The insulating layer includes an island-shaped insulating support portion provided on the external connection surface and spaced from the insulating end portion.
The external connection surface of the external connection portion is divided into a base end side region on the insulating end side and a tip end region on the opposite side to the insulating end portion,
At least a part of the insulating support portion is arranged in the outer peripheral edge region of the external connection portion and in the distal end side region.
前記絶縁支持部は、前記外部接続部の先端部に配置されていることを特徴とする請求項1に記載のサスペンション用基板。   The suspension substrate according to claim 1, wherein the insulating support portion is disposed at a distal end portion of the external connection portion. 前記絶縁支持部は、前記先端側領域と前記基端側領域とにわたって形成されていることを特徴とする請求項1に記載のサスペンション用基板。   The suspension substrate according to claim 1, wherein the insulating support portion is formed across the distal end side region and the proximal end side region. 前記配線および前記外部接続部を覆う保護層を更に備え、
前記絶縁支持部は、平面視で、前記外部接続部から外方に突出しており、
前記保護層は、前記外部接続部から前記絶縁支持部上に延びていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載のサスペンション用基板。
Further comprising a protective layer covering the wiring and the external connection portion,
The insulating support part protrudes outward from the external connection part in plan view,
The suspension substrate according to claim 1, wherein the protective layer extends from the external connection portion onto the insulating support portion.
前記保護層に、前記外部接続部の当該保護層側の面の一部分を露出させる貫通孔が設けられていることを特徴とする請求項4に記載のサスペンション用基板。   The suspension substrate according to claim 4, wherein the protective layer is provided with a through hole that exposes a part of the surface of the external connection portion on the protective layer side. 前記外部接続部の側面の一部は、露出されていることを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載のサスペンション用基板。   The suspension substrate according to any one of claims 1 to 5, wherein a part of a side surface of the external connection portion is exposed. ヘッドスライダが載置されるヘッド領域を有し、当該ヘッドスライダを検査するための検査用サスペンション用基板において、
絶縁端部を有する絶縁層と、
前記絶縁層の一方の面に設けられた金属支持層と、
前記絶縁層の他方の面に設けられた複数の配線と、前記ヘッド領域に設けられ、複数の前記配線のうちの一の前記配線に接続されると共に、前記絶縁端部から外方に細長状に延びる外部接続部と、を有する配線層と、を備え、
前記外部接続部は、前記絶縁層の側に位置した、前記ヘッドスライダに電気的に接続される露出された外部接続面を有し、
前記絶縁層は、前記外部接続面に設けられた、前記絶縁端部から離間した島状の絶縁支持部を有し、
前記絶縁支持部は、前記外部接続部の先端部に配置されていることを特徴とするサスペンション用基板。
In the suspension substrate for inspection for inspecting the head slider, having a head region on which the head slider is placed,
An insulating layer having an insulating end;
A metal support layer provided on one surface of the insulating layer;
A plurality of wirings provided on the other surface of the insulating layer, and provided in the head region, connected to one of the plurality of wirings, and elongated outward from the insulating end portion An external connection portion extending to the wiring layer, and
The external connection portion is located on the insulating layer side, and has an exposed external connection surface that is electrically connected to the head slider,
The insulating layer includes an island-shaped insulating support portion provided on the external connection surface and spaced from the insulating end portion.
The suspension substrate according to claim 1, wherein the insulating support portion is disposed at a distal end portion of the external connection portion.
ベースプレートと、
前記ベースプレートに、ロードビームを介して取り付けられた請求項1乃至7のいずれかに記載の前記サスペンション用基板と、を備えたことを特徴とするサスペンション。
A base plate;
A suspension comprising the suspension substrate according to any one of claims 1 to 7 attached to the base plate via a load beam.
請求項8に記載の前記サスペンションと、
前記サスペンションに実装されたヘッドスライダと、を備えたことを特徴とするヘッド付サスペンション。
The suspension according to claim 8;
A suspension with a head, comprising: a head slider mounted on the suspension.
請求項9に記載の前記ヘッド付サスペンションを備えたことを特徴とするハードディスクドライブ。   A hard disk drive comprising the suspension with a head according to claim 9.
JP2012008314A 2012-01-18 2012-01-18 Suspension substrate, suspension, suspension with head, and hard disk drive Pending JP2013149312A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012008314A JP2013149312A (en) 2012-01-18 2012-01-18 Suspension substrate, suspension, suspension with head, and hard disk drive

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012008314A JP2013149312A (en) 2012-01-18 2012-01-18 Suspension substrate, suspension, suspension with head, and hard disk drive

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2013149312A true JP2013149312A (en) 2013-08-01

Family

ID=49046680

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2012008314A Pending JP2013149312A (en) 2012-01-18 2012-01-18 Suspension substrate, suspension, suspension with head, and hard disk drive

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2013149312A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2021096889A (en) * 2019-12-19 2021-06-24 日本発條株式会社 Flexure of suspension of disk device

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2021096889A (en) * 2019-12-19 2021-06-24 日本発條株式会社 Flexure of suspension of disk device
JP7297657B2 (en) 2019-12-19 2023-06-26 日本発條株式会社 Flexure for disk unit suspension

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4977906B2 (en) Suspension substrate, suspension, suspension with head, hard disk drive, suspension substrate manufacturing method, and suspension continuity inspection method
JP4962879B2 (en) Suspension board, suspension, suspension with head, and hard disk drive
JP5093701B2 (en) Suspension substrate, suspension, suspension with head, hard disk drive, and method for manufacturing suspension substrate
JP4962878B2 (en) Suspension substrate, suspension, suspension with head, hard disk drive, and method for manufacturing suspension
US8879211B2 (en) Suspension substrate, suspension, head suspension, hard disk drive, and method for manufacturing suspension substrate
JP5999490B2 (en) Suspension board, suspension, suspension with head and hard disk drive
JP5365944B1 (en) Suspension board, suspension board with outer frame, suspension, suspension with head, and hard disk drive
JP5974824B2 (en) Suspension substrate, suspension, suspension with head, hard disk drive, and method for manufacturing suspension substrate
JP5945911B2 (en) Suspension board, suspension, suspension with head and hard disk drive
JP2013149312A (en) Suspension substrate, suspension, suspension with head, and hard disk drive
JP5382558B2 (en) Suspension board, suspension, suspension with head, and hard disk drive
JP5142056B2 (en) Suspension board, suspension board with outer frame, suspension, suspension with head, and hard disk drive
JP5495149B2 (en) Suspension board, suspension board with outer frame, suspension, suspension with head, and hard disk drive
JP6268619B2 (en) Suspension board, suspension, suspension with head and hard disk drive
JP2013149311A (en) Suspension substrate, suspension, suspension with head, and hard disk drive
JP5131614B2 (en) Suspension substrate, suspension, suspension with head, hard disk drive, and method for manufacturing suspension
JP5672538B2 (en) Suspension, suspension with head, and hard disk drive
JP6191931B2 (en) Suspension substrate, suspension, suspension with head, hard disk drive, and method for manufacturing suspension substrate
JP6169321B2 (en) Suspension substrate, suspension, suspension with head, hard disk drive, and method for manufacturing suspension substrate
JP6177502B2 (en) Suspension board, suspension, suspension with head and hard disk drive
JP2016219080A (en) Suspension board with outer frame, suspension board with element and outer frame, suspension board, method for forming the suspension board with outer frame, method for forming the suspension board with element and outer frame, and method for forming the suspension board
JP2013257923A (en) Substrate for suspension, suspension, suspension with head, and hard disk drive
JP6333508B2 (en) Suspension board, suspension, suspension with head and hard disk drive
JP2013004157A (en) Substrate for suspension, suspension, suspension with head, and hard disk drive
JP2017059293A (en) Substrate for suspension, suspension, suspension with head, and hard disk drive