JP2013029569A - 投写光学系及びこれを備えるプロジェクター - Google Patents
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Abstract
【解決手段】光変調素子側レンズ群20bが液晶パネル18G(18R,18B)の縦方向と横方向とで異なるパワーを持つので、投写光学系20の全系としても、縦横方向に異なる焦点距離を持ち縦横方向の拡大倍率も異なるものとなり、液晶パネル18G(18R,18B)の画像の横縦比とスクリーンSC上に投写される画像の横縦比とを異なるものにできる。つまり、本投写光学系20により、幅と高さとの比であるアスペクト比の変換が可能になる。この際、絞り70と光変調素子側レンズ群20bのスクリーンSC側の最端面20fとの距離p及び距離p'が所定の条件式を満たすので、第1動作状態と第2動作状態との双方で一定以上のテレセントリック性を確保することができる。
【選択図】図3
Description
FFPx<FFPyのとき、絞りは、光変調素子側レンズ群の調整光学要素が光路上にある状態において
FFPx<p<FFPy (1)
となる位置にあり、
FFPy<FFPxのとき、絞りは、光変調素子側レンズ群の調整光学要素が光路上にある状態において
FFPy<p<FFPx (1)'
となる位置にある。この場合、調整光学要素が光路上にあり横縦比を変換して投写する第1動作状態において、絞りと光変調素子側レンズ群の被投写面側の最端面との距離pが上記条件式(1)、(1)'を満たすので、縦方向と横方向との双方で一定以上のテレセントリック性を確保することができる。たとえば、FFPx<p<FFPyの場合、縦方向の主光線は被投写面に向けて内向きに傾き、横方向の主光線は被投写面に向けて外向きに傾くが、全体としてテレセントリック性は保たれる。逆に、FFPy<p<FFPxの場合、縦方向の主光線は被投写面に向けて外向きに傾き、横方向の主光線は被投写面に向けて内向きに傾くが、全体としてテレセントリック性は保たれる。
FFPx<FFPyのとき、光変調素子側レンズ群の調整光学要素が光路上にある状態において
FFPx<p≦(FFPy+FFPx)/2 (2)
であり、
FFPy<FFPxのとき、光変調素子側レンズ群の調整光学要素が光路上にある状態において
FFPy<p≦(FFPy+FFPx)/2 (2)'
である。この場合、横方向と縦方向との中間方向におけるテレセントリック性を比較的高くすることができ、テレセントリック性の方向的な偏りを低減することができ、観察方向等に依存してムラの生じにくい明るい画像を投写することができる。
図1に示すように、本発明の第1実施形態に係るプロジェクター2は、画像信号に応じて画像光PLを形成し、当該画像光PLをスクリーンSC等の被投写面へ向けて投写する。プロジェクター2の投写光学系20は、プロジェクター2内に内蔵された光変調素子である液晶パネル18G(18R,18B)の画像をスクリーン(被投写面)SC上に拡大投写する際に、液晶パネル18G(18R,18B)の画像の横縦比(アスペクト比)AR0に対して、スクリーンSC上に投写される画像の横縦比(アスペクト比)AR2を異なるものとすることができる。つまり、液晶パネル18Gの表示領域A0の横縦比AR0と、スクリーンSCの表示領域A2の横縦比AR2とは、異なるものとすることができるが、同一のものとすることもできる。具体的には、液晶パネル18Gの表示領域A0の横縦比AR0は、例えば1.78:1であり、スクリーンSCの表示領域A2の横縦比AR2は、例えば1.78:1、1.85:1、2.35:1、2.4:1等とされる。
FFPx<p<FFPy (1)
また、FFPy<FFPxであるとき、距離pは、下記条件(1)'の範囲内で設定される。
FFPy<p<FFPx (1)'
ここで、図6(A)及び6(B)に例示する投写光学系20は、横断面の焦点FPxの方が縦断面の焦点FPyよりも最端面20fに近くなってFFPx<FFPyとなっており、横方向に相対的に大きな拡大率を有し画像のアスペクト比を増大させるものとなっている。この場合、距離pは、条件(1)の範囲内に設定され、下限のFFPxよりも大きく、上限のFFPyよりも小さくなる。
FFPx<p≦(FFPy+FFPx)/2 (2)
また、FFPy<FFPxであるとき、距離pは、下記条件(2)'の範囲内で設定される。
FFPy<p≦(FFPy+FFPx)/2 (2)'
ここで、図6(A)及び6(B)に例示する投写光学系20は、FFPx<FFPyとなっており、横方向に相対的に大きな拡大率を有し画像のアスペクト比を増大させるものとなっている。この場合、距離pは、条件(2)の範囲内に設定され、下限のFFPxよりも大きく、上限の(FFPy+FFPx)/2よりも小さくなる。これにより、横方向と縦方向との中間方向におけるテレセントリック性を比較的高くすることができ、テレセントリック性の方向的な偏りを低減することができ、観察方向等に依存してムラの生じにくい明るい画像を投写することができる。
p'≒FFPL (3)
となるように、絞り70は、絞り駆動機構としての駆動機構61(図3参照)によって光軸OAの延びる方向に沿って移動する。この場合、第2動作状態においても、テレセントリック性の方向的な偏りを低減することができる。なお、正確にp'=FFPLとなっている場合、テレセントリック性を実現させるために最適な状態となる。ただし、実際にはレンズの収差を考慮する必要があり、その上で可能な限りp'の値をFFPLに近づけることが望ましい。
ここで、yは光軸OAからの像の高さ(像高)、cは基準とする球面の曲率、kは円錐定数、A2、A4、A6、A8、A10、・・・のそれぞれは所定の補正項とする。
Σ(φi×νi)≒0
ここで、
φi:第2群40を構成する各レンズの屈折率
νi:第2群40を構成する各レンズのアッベ数
が成り立つことが望ましい。
に適宜数値を入れることで、形状が特定される。
以下、第2実施形態に係る投写光学系等について説明する。なお、本実施形態は、第1実施形態の投写光学系等の変形例であり、特に説明しない部分又は事項は、第1実施形態の場合と同様である。
以下、第3実施形態に係る投写光学系等について説明する。なお、本実施形態は、第1実施形態の投写光学系等の変形例であり、特に説明しない部分又は事項は、第1実施形態の場合と同様である。
FFPy<p<FFPx (1)'
の範囲内に設定され、下限のFFPyよりも大きく、上限のFFPxよりも小さくなる。これにより、横方向と縦方向との双方におけるテレセントリック性を高くすることができる。
FFPy<p≦(FFPy+FFPx)/2 (2)'
の範囲内に設定され、下限のFFPyよりも大きく、上限の(FFPy+FFPx)/2よりも小さくなる。これにより、横方向と縦方向との中間方向におけるテレセントリック性を比較的高くすることができる。
以下、第4実施形態に係る投写光学系等について説明する。なお、本実施形態は、第1実施形態の投写光学系等の変形例であり、特に説明しない部分又は事項は、第1実施形態の場合と同様である。
Claims (12)
- 画像を被投写面上に拡大投写する際に、光変調素子の画像の横縦比と、前記被投写面に投写される画像の横縦比とを異なるものとする投写光学系であって、
光束の通過を制限する絞りと、
前記光変調素子から前記絞りまでの間に配置され、前記光変調素子の縦方向と横方向とで異なるパワーを持つとともに光路上に進退可能な調整光学要素を含む光変調素子側レンズ群とを有し、
前記絞りは、前記光変調素子側レンズ群の前記調整光学要素の進退動作に連動して、光軸方向の異なる位置において光束の通過を制限する、
投写光学系。 - 前記絞りと前記光変調素子側レンズ群の前記被投写面側の最端面との距離をpとして、
前記光変調素子側レンズ群の横断面において、前記被投写面側の焦点と前記被投写面側の最端面との距離をFFPxとし、
前記光変調素子側レンズ群の縦断面において、前記被投写面側の焦点と前記被投写面側の最端面との距離をFFPyとし、
FFPx<FFPyのとき、前記絞りは、前記光変調素子側レンズ群の前記調整光学要素が光路上にある状態においてFFPx<p<FFPyとなる位置にあり、
FFPy<FFPxのとき、前記絞りは、前記光変調素子側レンズ群の前記調整光学要素が光路上にある状態においてFFPy<p<FFPxとなる位置にある、請求項1に記載の投写光学系。 - 前記絞りと前記物体側レンズ群の前記被投写面側の最端面との距離pと前記調整光学要素群が光路上から退避した状態の前記物体側レンズ群における前記投写面側の焦点と前記被投写面側の最端面との距離FFPLとは略等しい、請求項2に記載の投写光学系。
- FFPx<FFPyのとき、前記光変調素子側レンズ群の前記調整光学要素が光路上にある状態においてFFPx<p≦(FFPy+FFPx)/2であり、
FFPy<FFPxのとき、前記光変調素子側レンズ群の前記調整光学要素が光路上にある状態においてFFPy<p≦(FFPy+FFPx)/2である、請求項2及び3のいずれか一項に記載の投写光学系。 - 前記被投写面側から順に、拡大用の第1群と、前記光変調素子の縦方向と横方向とで異なるパワーを持つとともに、光路上に進退可能な前記調整光学要素である第2群と、正のパワーを持つ第3群とからなる、請求項1から4までのいずれか一項に記載の投写光学系。
- 前記被投写面側から順に、拡大用の第1群と、前記光変調素子の縦方向と横方向とで異なるパワーを持つとともに、光路上に進退可能な前記調整光学要素である第2群とからなる、請求項1から4までのいずれか一項に記載の投写光学系。
- 前記第2群を進退させる進退駆動機構と、前記進退駆動機構に連動して前記絞りを動作させる絞り駆動機構と、をさらに備える請求項5及び6のいずれか一項に記載の投写光学系。
- 前記絞り駆動機構は、前記第2群の進退に伴って前記絞りを光軸方向に沿ってスライド移動させる、請求項7に記載の投写光学系。
- 前記絞りは、光軸方向について異なる位置に複数配置され、前記絞り駆動機構は、前記第2群の進退に伴って前記絞りの口径を変化させる、請求項7に記載の投写光学系。
- 前記第2群は、前記光変調素子の縦方向の断面において、前記被投写面側から順に、正のパワーをもつ第1の光学要素群と、負のパワーをもつ第2の光学要素群とで構成されている、請求項5から9までのいずれか一項に記載の投写光学系。
- 前記第2群は、前記光変調素子の横方向の断面において、前記被投写面側から順に、負のパワーをもつ第1の光学要素群と、正のパワーをもつ第2の光学要素群とで構成されている、請求項5から9までのいずれか一項に記載の投写光学系。
- 請求項1から11までのいずれか一項に記載の投写光学系と、
前記光変調素子とを備える、
プロジェクター。
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Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI421558B (zh) * | 2010-12-10 | 2014-01-01 | Delta Electronics Inc | 用於一成像模組之投影鏡頭及成像模組 |
JP2013003566A (ja) * | 2011-06-22 | 2013-01-07 | Seiko Epson Corp | 投写光学系及びこれを備えるプロジェクター |
JP5621723B2 (ja) * | 2011-07-04 | 2014-11-12 | セイコーエプソン株式会社 | 投写光学系及びこれを備えるプロジェクター |
JP5533798B2 (ja) * | 2011-07-04 | 2014-06-25 | セイコーエプソン株式会社 | 投写光学系及びこれを備えるプロジェクター |
JP2013029569A (ja) | 2011-07-27 | 2013-02-07 | Seiko Epson Corp | 投写光学系及びこれを備えるプロジェクター |
TW201530246A (zh) * | 2014-01-29 | 2015-08-01 | Yi-Rou Lin | 投影機及其投影鏡頭與投影方法 |
JP6496994B2 (ja) * | 2014-07-28 | 2019-04-10 | セイコーエプソン株式会社 | 投射光学系及び投射型画像表示装置 |
TWI680342B (zh) * | 2018-03-20 | 2019-12-21 | 健翔光學股份有限公司 | 投影機及其投影鏡頭 |
US11287618B2 (en) * | 2019-02-14 | 2022-03-29 | Iain A. Neil | Anamorphic objective lens system and method for forming anamorphic objective lens assemblies having different focal lengths |
JP2020136909A (ja) * | 2019-02-20 | 2020-08-31 | セイコーエプソン株式会社 | 投写画像の調整方法、及び投写装置 |
CN112578543B (zh) * | 2019-09-29 | 2022-10-04 | 中强光电股份有限公司 | 变焦投影镜头及投影机 |
JP7363518B2 (ja) * | 2020-01-24 | 2023-10-18 | セイコーエプソン株式会社 | 投写光学系およびプロジェクター |
CN112285889B (zh) * | 2020-11-05 | 2024-10-18 | 安徽长庚光学科技有限公司 | 一种变形宽荧幕镜头及具有其的数码摄影机 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58108510A (ja) * | 1981-12-23 | 1983-06-28 | Canon Inc | 切換え式変倍レンズ系 |
JPH0643362A (ja) * | 1992-07-24 | 1994-02-18 | Canon Inc | アナモフィックコンバーター |
JP2002118053A (ja) * | 2000-10-11 | 2002-04-19 | Nikon Corp | 投影光学系,該投影光学系を備えた露光装置,及び該露光装置を用いたデバイスの製造方法 |
JP2003098432A (ja) * | 2001-09-20 | 2003-04-03 | Canon Inc | ズームレンズ及びそれを有する光学機器 |
JP2005221597A (ja) * | 2004-02-04 | 2005-08-18 | Canon Inc | アナモフィックコンバーター |
JP2011107312A (ja) * | 2009-11-16 | 2011-06-02 | Canon Inc | ズームレンズ及びそれを有する撮像装置 |
Family Cites Families (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5285268A (en) * | 1991-12-10 | 1994-02-08 | Victor Company Of Japan, Ltd. | Projection type display device having a mask for cutting off unnecessary light parts of displayed picture |
US5442484A (en) * | 1992-01-06 | 1995-08-15 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Retro-focus type lens and projection-type display apparatus |
JP3013721B2 (ja) * | 1994-10-20 | 2000-02-28 | キヤノン株式会社 | デジタル画像形成手段を有した光学装置 |
JP4158317B2 (ja) * | 2000-05-31 | 2008-10-01 | 三菱電機株式会社 | 照明装置およびこの照明装置を用いた投写型表示装置 |
JP2003140049A (ja) * | 2001-11-05 | 2003-05-14 | Canon Inc | 投影光学系及びそれを用いた投影装置 |
CN1299143C (zh) * | 2002-06-19 | 2007-02-07 | 精工爱普生株式会社 | 投影透镜制造装置/方法,用该方法制造的透镜及投影机 |
JP4488287B2 (ja) | 2003-11-21 | 2010-06-23 | フジノン株式会社 | ビーム集光用レンズ |
JP4196815B2 (ja) * | 2003-11-28 | 2008-12-17 | 株式会社日立製作所 | 背面投写型映像表示装置 |
US20080151364A1 (en) * | 2004-01-14 | 2008-06-26 | Carl Zeiss Smt Ag | Catadioptric projection objective |
JP4537108B2 (ja) | 2004-04-12 | 2010-09-01 | キヤノン株式会社 | アナモフィックコンバータ |
US7085066B2 (en) | 2004-08-20 | 2006-08-01 | Panavision International, L.P. | Anamorphic imaging system |
JP2007094335A (ja) * | 2005-09-30 | 2007-04-12 | Fujinon Corp | 投写レンズ及びプロジェクタ装置 |
DE102006006981A1 (de) | 2006-02-14 | 2007-08-23 | Jos. Schneider Optische Werke Gmbh | Projektionsobjektiv für die digitale Kinoprojektion |
JP5006069B2 (ja) * | 2006-05-01 | 2012-08-22 | 株式会社リコー | 投射光学系及び画像表示装置 |
US7760425B2 (en) * | 2007-09-05 | 2010-07-20 | Carl Zeiss Smt Ag | Chromatically corrected catadioptric objective and projection exposure apparatus including the same |
JP2009300526A (ja) | 2008-06-10 | 2009-12-24 | Konica Minolta Opto Inc | アナモフィックコンバータおよび画像投影システム |
CN102662297B (zh) | 2009-01-08 | 2015-08-05 | 日立麦克赛尔株式会社 | 倾斜投射光学系统及使用该系统的投射型图像显示装置 |
JP2011033737A (ja) * | 2009-07-30 | 2011-02-17 | Fujifilm Corp | 投写光学系およびこれを用いた投写型表示装置 |
JP5929478B2 (ja) | 2011-06-17 | 2016-06-08 | セイコーエプソン株式会社 | 投写光学系及びこれを備えるプロジェクター |
JP2013003566A (ja) | 2011-06-22 | 2013-01-07 | Seiko Epson Corp | 投写光学系及びこれを備えるプロジェクター |
JP5621723B2 (ja) | 2011-07-04 | 2014-11-12 | セイコーエプソン株式会社 | 投写光学系及びこれを備えるプロジェクター |
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Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58108510A (ja) * | 1981-12-23 | 1983-06-28 | Canon Inc | 切換え式変倍レンズ系 |
JPH0643362A (ja) * | 1992-07-24 | 1994-02-18 | Canon Inc | アナモフィックコンバーター |
JP2002118053A (ja) * | 2000-10-11 | 2002-04-19 | Nikon Corp | 投影光学系,該投影光学系を備えた露光装置,及び該露光装置を用いたデバイスの製造方法 |
JP2003098432A (ja) * | 2001-09-20 | 2003-04-03 | Canon Inc | ズームレンズ及びそれを有する光学機器 |
JP2005221597A (ja) * | 2004-02-04 | 2005-08-18 | Canon Inc | アナモフィックコンバーター |
JP2011107312A (ja) * | 2009-11-16 | 2011-06-02 | Canon Inc | ズームレンズ及びそれを有する撮像装置 |
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