JP2013040062A - Hexagonal boron nitride powder, thermally conductive resin composition containing the same, and molded product obtained by the resin composition - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、六方晶窒化ホウ素粉末、それを含有する熱伝導性樹脂組成物及びそれによる成形体に関する。 The present invention relates to a hexagonal boron nitride powder, a thermally conductive resin composition containing the powder, and a molded body formed thereby.
近年、電子装置の高密度化に向けて、種々の課題が指摘されているが、その内の一つにトランジスタや配線等のデバイスから発する熱の放熱問題がある。この問題は、半導体デバイスチップに用いられる充填材組成物の熱伝導が、金属やセラミックなどに比べ一般的に非常に低いことに起因し、半導体デバイスチップ内での蓄熱によるパフォーマンスの低下が懸念されている。 In recent years, various problems have been pointed out toward higher density of electronic devices, and one of them is a problem of heat dissipation from a device such as a transistor or a wiring. This problem is caused by the fact that the heat conduction of the filler composition used for semiconductor device chips is generally very low compared to metals, ceramics, etc., and there is a concern about performance degradation due to heat storage in the semiconductor device chips. ing.
この課題を解決する一つの手法として、充填材組成物の高熱伝導化が挙げられ、この手法では充填材組成物を構成する樹脂と高熱伝導性無機フィラーとを複合化させることで、充填材組成物を高熱伝導化して、熱伝導性樹脂組成物としている。 One technique for solving this problem is to increase the thermal conductivity of the filler composition. In this technique, the filler composition is obtained by combining the resin constituting the filler composition with the highly thermal conductive inorganic filler. The material is made highly thermally conductive to form a thermally conductive resin composition.
一方で、高熱伝導性無機フィラーとして、従来から窒化ホウ素粉体を用いる技術が知られており、そのような窒化ホウ素として、例えば、特定の粒径、粒度分布を有する窒化ホウ素粉体が知られている(例えば、特許文献1)。また、これとは別に表面積、粒度、タップ密度等の粒子特性の異なる二種の混合窒化ホウ素を用いる技術(例えば、特許文献2)が知られている。 On the other hand, a technique using boron nitride powder has been conventionally known as a high thermal conductive inorganic filler. As such boron nitride, for example, boron nitride powder having a specific particle size and particle size distribution is known. (For example, Patent Document 1). In addition to this, a technique using two types of mixed boron nitride having different particle characteristics such as surface area, particle size, and tap density (for example, Patent Document 2) is known.
また、六方晶窒化ホウ素(以下、h−BNとも言う)粉体は、熱伝導性に優れた材料として知られており、粗六方晶窒化ホウ素粉体を水洗後、不活性ガス気流中で1500〜1800℃で加熱処理することで、高結晶性窒化ホウ素を作製する技術が知られている(特許文献3)。この技術では、窒化ホウ素の結晶子の100面の結晶子サイズ(La)を成長させている。
また、特許文献4では、粗製六方晶窒化ホウ素粉末に、特定の処理を施すことで、粒子径が大きく、潤滑性に優れる六方晶窒化ホウ素粉末を得られることが記載されている。また、特許文献5には、同じく粗製六方晶窒化ホウ素粉末にランタンを主成分とする化合物を混合し、非酸化性ガス雰囲気下で特定の温度範囲で加熱処理することで、002面の結晶子サイズ(Lc)を成長させて得られる六方晶窒化ホウ素粉末が記載され、この六方晶窒化ホウ素粉末は、分散性に優れ、高結晶性を有することが記載されている。
また、六方晶窒化ホウ素に関しては、特許文献6に、粗製六方晶窒化ホウ素粉末を大気雰囲気中60℃以下で1週間以上養生させた後に特定の焼成を行うと粒径が大きくかつ高結晶性のものが得られる旨が記載されており、特許文献7には、粗製六方晶窒化ホウ素粉末について大気雰囲気中60℃以下で1週間以上養生させた後に、洗浄してから特定の焼成処理を行うことで、平均粒径が10μm以上に成長した六方晶窒化ホウ素粉末が記載されている。
In addition, hexagonal boron nitride (hereinafter also referred to as h-BN) powder is known as a material having excellent thermal conductivity. After washing the crude hexagonal boron nitride powder with water, it is 1500 in an inert gas stream. A technique for producing highly crystalline boron nitride by heat treatment at ˜1800 ° C. is known (Patent Document 3). In this technique, the crystallite size (La) of 100 faces of boron nitride crystallites is grown.
Patent Document 4 describes that a specific treatment is performed on a crude hexagonal boron nitride powder to obtain a hexagonal boron nitride powder having a large particle diameter and excellent lubricity. Patent Document 5 also discloses that a 002-plane crystallite is obtained by mixing a crude hexagonal boron nitride powder with a compound containing lanthanum as a main component and heat-treating it in a specific temperature range in a non-oxidizing gas atmosphere. Hexagonal boron nitride powder obtained by growing the size (Lc) is described, and this hexagonal boron nitride powder is described as having excellent dispersibility and high crystallinity.
Regarding hexagonal boron nitride, Patent Document 6 discloses that when specific firing is performed after curing a crude hexagonal boron nitride powder in an air atmosphere at 60 ° C. or lower for 1 week or longer, the particle size is large and the crystallinity is high. Patent Document 7 describes that a crude hexagonal boron nitride powder is cured in an air atmosphere at 60 ° C. or lower for 1 week or longer and then washed and then subjected to a specific baking treatment. The hexagonal boron nitride powder grown to an average particle size of 10 μm or more is described.
熱伝導性粒子と、樹脂とを含有する熱伝導性樹脂組成物では、例えばこれを用いる成形品の生産性の観点から、熱伝導性粒子の含有量が低いことが求められている。特に、高い熱伝導性を達成するために、熱伝導性粒子と樹脂とを含有する熱伝導性樹脂組成物に、熱伝導粒子として窒化ホウ素を多く含有させると、当該組成物の粘度が増加して、その成形加工性が低下するという問題があった。そこで本発明では、熱伝導性樹脂組成物に対して低粘度かつ高い熱伝導性の両方の特性を付与することが可能な、高い流動性を有し、かつ高い熱伝導性を有する六方晶窒化ホウ素粉末を提供することを課題とする。 In the heat conductive resin composition containing the heat conductive particles and the resin, for example, from the viewpoint of productivity of a molded product using the resin, the content of the heat conductive particles is required to be low. In particular, in order to achieve high thermal conductivity, when a thermal conductive resin composition containing thermal conductive particles and a resin contains a large amount of boron nitride as the thermal conductive particles, the viscosity of the composition increases. Thus, there is a problem that the molding processability is lowered. Therefore, in the present invention, hexagonal nitriding having high fluidity and high thermal conductivity capable of imparting both low viscosity and high thermal conductivity properties to the thermally conductive resin composition. An object is to provide boron powder.
本発明者が鋭意検討した結果、002面の結晶子サイズ(Lc)が450[Å]以上であり、100面の結晶子サイズ(La)が500[Å]以上であり、前記結晶子サイズ(Lc)と前記結晶子サイズ(La)が以下の関係式(1)を満たし、0.70≦Lc/La(1)、酸素含有量が0.30重量%以下であることを特徴とする六方晶窒化ホウ素粉末が、上記課題を解決できることがわかり本発明に到達した。 As a result of intensive studies by the inventors, the crystallite size (Lc) of the 002 plane is 450 [Å] or more, the crystallite size (La) of the 100 plane is 500 [Å] or more, and the crystallite size ( Lc) and the crystallite size (La) satisfy the following relational expression (1), 0.70 ≦ Lc / La (1), and the oxygen content is 0.30% by weight or less. It has been found that the crystal boron nitride powder can solve the above problems, and the present invention has been achieved.
すなわち、本発明は、以下のとおりである。
[1]002面の結晶子径(Lc)が450[Å]以上であり、100面の結晶子径(La)が500[Å]以上であり、前記結晶子径(Lc)と前記結晶子径(La)が以下の関係式(1)を満たし、0.70≦Lc/La(1)、酸素含有量が0.30重量%以下である六方晶窒化ホウ素粉末。
[2]前記窒化六方晶窒化ホウ素粉末の平均粒径が10μm以下である[1]に記載の六方晶窒化ホウ素粉末。
[3][1]又は[2]に記載の六方晶窒化ホウ素粉末と樹脂とを含有する熱伝導性樹脂組成物。
[4][3]に記載の熱伝導性樹脂組成物を成形してなる成形体。
That is, the present invention is as follows.
[1] The crystallite diameter (Lc) of the 002 plane is 450 [Å] or more, the crystallite diameter (La) of the 100 plane is 500 [Å] or more, and the crystallite diameter (Lc) and the crystallite Hexagonal boron nitride powder having a diameter (La) satisfying the following relational expression (1), 0.70 ≦ Lc / La (1), and an oxygen content of 0.30 wt% or less.
[2] The hexagonal boron nitride powder according to [1], wherein the hexagonal boron nitride powder has an average particle size of 10 μm or less.
[3] A thermally conductive resin composition comprising the hexagonal boron nitride powder according to [1] or [2] and a resin.
[4] A molded article obtained by molding the thermally conductive resin composition according to [3].
本発明によれば、本発明の六方晶窒化ホウ素粉末は高い流動性を有し、かつ高熱伝導性を有する。そのため、本発明の六方晶窒化ホウ素粉末と樹脂とを含有させた熱伝導性樹脂組成物は、六方晶窒化ホウ素粉末の含有量が従来と同程度の場合でも熱伝導性が損なわれることなく、また、十分に低い粘度が得られる。あるいは、六方晶窒化ホウ素粉末の含有量を従来よりも大きくした場合でも、高い熱伝導性が得られるばかりでなく、十分に低い粘度が得られる。このことから、当該熱伝導性樹脂組成物は成形加工性に優れ、これを成形して得られる成形体は、高い熱伝導性を有する。 According to the present invention, the hexagonal boron nitride powder of the present invention has high fluidity and high thermal conductivity. Therefore, the heat conductive resin composition containing the hexagonal boron nitride powder and the resin of the present invention is not impaired in thermal conductivity even when the content of the hexagonal boron nitride powder is similar to the conventional one, Also, a sufficiently low viscosity is obtained. Alternatively, even when the content of the hexagonal boron nitride powder is made larger than before, not only high thermal conductivity can be obtained, but also a sufficiently low viscosity can be obtained. From this, the said heat conductive resin composition is excellent in moldability, and the molded object obtained by shape | molding this has high heat conductivity.
以下、本発明について実施形態及び例示物等を示して詳細に説明するが、本発明は以下の実施形態及び例示物等に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において任意に変更して実施できる。 Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to embodiments, examples, etc., but the present invention is not limited to the following embodiments, examples, etc., and can be arbitrarily set within the scope of the present invention. Can be changed and implemented.
本発明でいう結晶子のサイズは、002面及び100面それぞれの結晶子径であり、002面の結晶子径(Lc)は、X線回折の2θ=26.5°のピークの半価幅を測定し、下記(2)式によって求めることができる。100面の結晶子径(La)についても同様に、X線回折の2θ=41.5°のピークの半価幅を測定し、下記式(2)によって求められる。
L(Å)=(0.9λ・180)/(β・cosθ・π) ・・・・・(2)
λ:1.54056Å
β:ピーク半価幅
The crystallite size referred to in the present invention is the crystallite diameter of each of the 002 and 100 planes, and the crystallite diameter (Lc) of the 002 plane is the half width of the peak at 2θ = 26.5 ° of X-ray diffraction. Can be obtained by the following equation (2). Similarly, the crystallite diameter (La) of the 100 plane is obtained by the following formula (2) by measuring the half width of the peak of 2θ = 41.5 ° of X-ray diffraction.
L (Å) = (0.9λ · 180) / (β · cosθ · π) (2)
λ: 1.54056Å
β: Peak half width
本発明の六方晶窒化ホウ素粉末は、100面の結晶子サイズ(La)が500[Å]以上である。このLaが500[Å]以上であることで、結晶子界面が十分に少なくなり、高い熱電導性を得られる。このLaは、熱伝導性をさらに高める観点から、550[Å]以上であることがより好ましく、600[Å]以上であることが特に好ましい。
一方、工業的な生産性の観点から、このLaは2000[Å]以下であることが好ましく、1000[Å]以下であることがより好ましい。
このLaは、本発明の六方晶窒化ホウ素粉末の製造時において、例えばLaが500Å未満の六方晶窒化ホウ素粉末を非酸化性ガス中、1800℃〜2300℃の高温で熱処理を行うことによって調製することができ、Laを大きくするには、前記温度範囲のできるだけ高温の条件で、長時間熱処理する方法を取ることができる。
The hexagonal boron nitride powder of the present invention has a crystallite size (La) of 100 faces of 500 [Å] or more. When this La is 500 [Å] or more, the crystallite interface is sufficiently reduced, and high thermal conductivity can be obtained. This La is more preferably 550 [Å] or more, and particularly preferably 600 [Å] or more, from the viewpoint of further increasing the thermal conductivity.
On the other hand, from the viewpoint of industrial productivity, La is preferably 2000 [Å] or less, and more preferably 1000 [Å] or less.
This La is prepared, for example, by heat-treating a hexagonal boron nitride powder having a La of less than 500% at a high temperature of 1800 ° C. to 2300 ° C. in a non-oxidizing gas during the production of the hexagonal boron nitride powder of the present invention. In order to increase La, a method of performing heat treatment for a long time under conditions as high as possible in the above temperature range can be employed.
本発明の六方晶窒化ホウ素粉末は、002面の結晶子サイズ(Lc:六角網面積層方向)が450[Å]以上である。このLcが450[Å]以上であることで、結晶子界面が十分に少なくなり、高い熱電導性を得られる。このLcは、熱伝導性をさらに高める観点から、470[Å]以上であることがより好ましく、500[Å]以上であることが特に好ましい。
一方、工業的な生産性の観点から、このLcは2000[Å]以下であることが好ましく、1000[Å]以下であることがより好ましい。
このLcは、本発明の六方晶窒化ホウ素粉末の製造時において、例えばLcが450Å未満の六方晶窒化ホウ素を非酸化性ガス中、1800℃〜2300℃の高温で熱処理を行うことによって調製することができ、Lcを大きくするには、前記原料の六方晶窒化ホウ素の酸素含有量が1.0重量%未満のものを使用する方法を取ることができる。
The hexagonal boron nitride powder of the present invention has a 002-plane crystallite size (Lc: hexagonal network area layer direction) of 450 [Å] or more. When Lc is 450 [Å] or more, the crystallite interface is sufficiently reduced, and high thermal conductivity can be obtained. This Lc is more preferably 470 [Å] or more, and particularly preferably 500 [Å] or more, from the viewpoint of further increasing the thermal conductivity.
On the other hand, from the viewpoint of industrial productivity, Lc is preferably 2000 [Å] or less, and more preferably 1000 [Å] or less.
In the production of the hexagonal boron nitride powder of the present invention, this Lc is prepared, for example, by heat-treating hexagonal boron nitride having an Lc of less than 450% at a high temperature of 1800 ° C. to 2300 ° C. in a non-oxidizing gas. In order to increase Lc, a method can be used in which the raw material hexagonal boron nitride having an oxygen content of less than 1.0% by weight is used.
本発明の六方晶窒化ホウ素粉末は、上記LcとLaの関係が、以下の関係式(1)を満たす。
0.70≦Lc/La (1)
上記関係式(1)は、本発明の六方晶窒化ホウ素粉末の形状異方性を示すものであり、Lc/Laが1に近いほど、形状異方性が小さいことを示す。本発明の六方晶窒化ホウ素粉末が、上記の関係式(1)を満たすことで、これを樹脂と共に組成物に含有させたときに、当該組成物の粘度が上がることを防ぐことができる。LcとLaの関係は、0.75≦Lc/Laであることがより好ましく、0.78≦Lc/Laであることが特に好ましい。
一方、LcとLaの関係は、Lc/La≦1.2であることが、形状異方性を小さくする観点から好ましい。
In the hexagonal boron nitride powder of the present invention, the relationship between Lc and La satisfies the following relational expression (1).
0.70 ≦ Lc / La (1)
The relational expression (1) indicates the shape anisotropy of the hexagonal boron nitride powder of the present invention. The closer Lc / La is to 1, the smaller the shape anisotropy is. When the hexagonal boron nitride powder of the present invention satisfies the above-mentioned relational expression (1), it can be prevented that the viscosity of the composition increases when it is contained in the composition together with the resin. The relationship between Lc and La is more preferably 0.75 ≦ Lc / La, and particularly preferably 0.78 ≦ Lc / La.
On the other hand, the relationship between Lc and La is preferably Lc / La ≦ 1.2 from the viewpoint of reducing shape anisotropy.
本発明の六方晶窒化ホウ素粉末は、その酸素含有量が0.30重量%以下である。六方晶窒化ホウ素粉末の酸素含有量が0.30重量%以下であることで、これを樹脂とともに組成物に含有させたとき、当該組成物の熱伝導率が好ましいものになる。この酸素含有量は0.25重量%以下であることがより好ましく、0.15重量%以下であることが特に好ましい。一方、この酸素含有量の下限値は、通常、0.01重量以上である。
本発明の六方晶窒化ホウ素粉末の酸素含有量をこのような範囲にすることは、後述する六方晶窒化ホウ素粉末の製造工程において、非酸化性ガス雰囲気下で焼成することで達成できる。酸素含有量を減少させるために、窒素ガス雰囲気下で焼成することが特に好ましい。
なお、本発明における、六方晶窒化ホウ素粉末の酸素含有量は、不活性ガス融解−赤外線吸収法によりHORIBA製酸素・窒素分析計を用いて測定することができる。
The hexagonal boron nitride powder of the present invention has an oxygen content of 0.30% by weight or less. When the oxygen content of the hexagonal boron nitride powder is 0.30% by weight or less, when this is contained in the composition together with the resin, the thermal conductivity of the composition becomes preferable. The oxygen content is more preferably 0.25% by weight or less, and particularly preferably 0.15% by weight or less. On the other hand, the lower limit of the oxygen content is usually 0.01 weight or more.
Setting the oxygen content of the hexagonal boron nitride powder of the present invention in such a range can be achieved by firing in a non-oxidizing gas atmosphere in the process for producing the hexagonal boron nitride powder described below. In order to reduce the oxygen content, firing in a nitrogen gas atmosphere is particularly preferable.
In the present invention, the oxygen content of the hexagonal boron nitride powder can be measured by an inert gas melting-infrared absorption method using a HORIBA oxygen / nitrogen analyzer.
本発明の六方晶窒化ホウ素粉末は、平均粒径が10μm以下であることが好ましい。また、本発明の六方晶窒化ホウ素粉末は、平均粒径が7μm以下であることがより好ましく、平均粒径が5μm以下であることがさらに好ましく、4μm以下であることが特に好ましい。一方、平均粒径は、0.1μm以上であることが、良好な熱伝導性及び良好な流動性を得る観点から好ましい。
本発明の熱伝導性樹脂組成物は、高い熱伝導率を有する六方晶窒化ホウ素粉末を含有することにより、熱伝導性樹脂組成物に高い熱伝導性を付与することが可能となる。よって、例えばこれを成形してなる成形体を半導体基板間の充填層として用いる場合、この半導体基板間の熱伝導を促進させて半導体デバイス基板の温度を低下させることにより、半導体デバイスを安定的に動作させることが可能となる。
本発明における六方晶窒化ホウ素粉末の平均粒径は、例えば、これを適当な溶剤に分散させ、堀場製作所レーザ回折/散乱式粒度分布測定装置LA−920にて測定することが可能である。得られた粒度分布から六方晶窒化ホウ素粉末の平均粒径を求めることができる。ここで言う平均粒径は、体積基準の平均粒径である。熱伝導性樹脂組成物中の六方晶窒化ホウ素粉末の平均粒径についても同様に、これを適当な溶剤に分散させ、上記と同様の装置で測定することが可能である。
The hexagonal boron nitride powder of the present invention preferably has an average particle size of 10 μm or less. In addition, the hexagonal boron nitride powder of the present invention preferably has an average particle size of 7 μm or less, more preferably 5 μm or less, and particularly preferably 4 μm or less. On the other hand, the average particle size is preferably 0.1 μm or more from the viewpoint of obtaining good thermal conductivity and good fluidity.
The heat conductive resin composition of the present invention can impart high heat conductivity to the heat conductive resin composition by containing hexagonal boron nitride powder having high heat conductivity. Therefore, for example, when a molded body formed by molding this is used as a filling layer between semiconductor substrates, the semiconductor device can be stably stabilized by promoting the heat conduction between the semiconductor substrates and lowering the temperature of the semiconductor device substrate. It becomes possible to operate.
The average particle diameter of the hexagonal boron nitride powder in the present invention can be measured, for example, by dispersing it in an appropriate solvent and using a Horiba laser diffraction / scattering particle size distribution analyzer LA-920. The average particle size of the hexagonal boron nitride powder can be obtained from the obtained particle size distribution. The average particle diameter referred to here is a volume-based average particle diameter. Similarly, the average particle size of the hexagonal boron nitride powder in the heat conductive resin composition can be dispersed in a suitable solvent and measured with the same apparatus as described above.
本発明の成形品が適用されうる、例えば高度に集積化された三次元集積回路においては、熱伝導性樹脂組成物からなるチップ間の層の厚みは、10〜50μm程度にまで小さくなっている。そのため、熱伝導性樹脂組成物に配合する六方晶窒化ホウ素粉末の粒径が10μmを超えると硬化した後の層の表面に六方晶窒化ホウ素粉末が突出して、層の表面形状が悪化する傾向にある。
一方で、六方晶窒化ホウ素粉末の粒径が小さ過ぎると、必要な熱伝導パス数が増加してチップ間の厚み方向に上から下まで繋がる確率が小さくなり、熱伝導性の高いエポキシ樹脂と組み合わせても、層の厚み方向への熱伝導率が不十分になる。また、六方晶窒化ホウ素粉末の粒径が小さ過ぎると、六方晶窒化ホウ素粉末が凝集しやすくなり熱伝導性樹脂組成物中での分散性が悪くなる。
ここで、六方晶窒化ホウ素粉末の平均粒径を、上記範囲とすることにより、六方晶窒化ホウ素粉末同士の過度の凝集が抑制され、厚み方向へ充分な熱伝導率を有する層を得ることができる。
For example, in a highly integrated three-dimensional integrated circuit to which the molded article of the present invention can be applied, the thickness of the layer between chips made of the heat conductive resin composition is as small as about 10 to 50 μm. . Therefore, when the particle size of the hexagonal boron nitride powder blended in the thermally conductive resin composition exceeds 10 μm, the hexagonal boron nitride powder protrudes on the surface of the layer after curing, and the surface shape of the layer tends to deteriorate. is there.
On the other hand, if the particle size of the hexagonal boron nitride powder is too small, the number of necessary heat conduction paths increases and the probability of connecting from the top to the bottom in the thickness direction between the chips decreases, and the epoxy resin having high heat conductivity and Even if combined, the thermal conductivity in the thickness direction of the layer becomes insufficient. On the other hand, if the particle size of the hexagonal boron nitride powder is too small, the hexagonal boron nitride powder tends to aggregate and the dispersibility in the heat conductive resin composition becomes poor.
Here, by setting the average particle diameter of the hexagonal boron nitride powder within the above range, excessive aggregation between the hexagonal boron nitride powders can be suppressed, and a layer having sufficient thermal conductivity in the thickness direction can be obtained. it can.
なお、六方晶窒化ホウ素粉末は、合成直後では、粉末が凝集して、上記粒径範囲を満たさない場合がある。そのため、六方晶窒化ホウ素粉末を上記粒径範囲を満たすように粉砕して用いることが好ましい。
六方晶窒化ホウ素粉末の粉砕の方法は特に限定されず、ジルコニアビーズ等の粉砕用メディアと共に攪拌混合する方法や、ジェット噴射等の従来公知の粉砕方法を適用できる。
また、六方晶窒化ホウ素粉末は、熱伝導性樹脂組成物中での分散性を高めるため、適宜表面処理を行ってもよい。
In addition, the hexagonal boron nitride powder may be agglomerated immediately after synthesis and may not satisfy the above particle size range. Therefore, it is preferable to use the hexagonal boron nitride powder after pulverization so as to satisfy the above particle size range.
The method of pulverizing the hexagonal boron nitride powder is not particularly limited, and a conventionally known pulverization method such as jet mixing and the like can be applied together with a pulverizing medium such as zirconia beads.
Further, the hexagonal boron nitride powder may be appropriately subjected to a surface treatment in order to improve dispersibility in the heat conductive resin composition.
<六方晶窒化ホウ素粉末の製造方法>
本発明の六方晶窒化ホウ素粉末を得るために用いられる原料としては、市販の六方晶窒化ホウ素、市販のαおよびβ―窒化ホウ素、ホウ素化合物とアンモニアの還元窒化法により作製された窒化ホウ素、ホウ素化合物とメラミンなどの含窒素化合物から合成される窒化ホウ素、ホウ水素ナトリウムと塩化アンモニウムから作製される窒化ホウ素など何れも制限なく使用できるが、特に六方晶窒化ホウ素が好ましく用いられる。
これらの原料の中でも、本発明の六方晶窒化ホウ素粉末が所定の結晶子サイズを有するように、六方晶窒化ホウ素粉末であって、特にLaが300[Å]以上であり、より好ましくはまた、Lcが250[Å]以上であり、Lc/Laが0.8〜1.0のものを用い
ることが特に好ましい。
<Method for producing hexagonal boron nitride powder>
Examples of raw materials used to obtain the hexagonal boron nitride powder of the present invention include commercially available hexagonal boron nitride, commercially available α and β-boron nitride, boron nitride prepared by a reduction nitriding method of boron compound and ammonia, boron Any of boron nitride synthesized from a compound and a nitrogen-containing compound such as melamine and boron nitride produced from sodium borohydride and ammonium chloride can be used without limitation, but hexagonal boron nitride is particularly preferably used.
Among these raw materials, the hexagonal boron nitride powder is a hexagonal boron nitride powder so that the hexagonal boron nitride powder of the present invention has a predetermined crystallite size, and particularly La is 300 [300] or more, more preferably, It is particularly preferable to use a material having Lc of 250 [Å] or more and Lc / La of 0.8 to 1.0.
本発明の六方晶窒化ホウ素粉末は、上記の原料を非酸化性ガスの雰囲気下、1800℃〜2300℃の温度で焼成することで得られる。
非酸化性ガスとしては、窒素ガス、ヘリウムガス、アルゴンガス、アンモニアガス、一酸化炭素等を用いることができ、特に窒素ガスが好適に用いられる。
焼成時間は、1時間〜20時間程度、より好ましくは3〜15時間、特に好ましくは5〜15時間である。
焼成温度や焼成時間は、本発明の六方晶窒化ホウ素粉末のLc及びLaが同時に大きくなるように適宜調整して決めることができる。
また、焼成に用いる炉はカーボン炉であることが特に好ましく、焼成の際に六方晶窒化ホウ素粉末を入れる坩堝は、カーボン製であることが特に好ましい。
また、焼成の際には六方晶窒化ホウ素粉末の所望の結晶成長を阻害しない範囲で、添加剤を加えて行ってもよい。
The hexagonal boron nitride powder of the present invention can be obtained by firing the above raw material at a temperature of 1800 ° C. to 2300 ° C. in a non-oxidizing gas atmosphere.
As the non-oxidizing gas, nitrogen gas, helium gas, argon gas, ammonia gas, carbon monoxide and the like can be used, and nitrogen gas is particularly preferably used.
The firing time is about 1 hour to 20 hours, more preferably 3 to 15 hours, and particularly preferably 5 to 15 hours.
The firing temperature and firing time can be determined by appropriately adjusting so that Lc and La of the hexagonal boron nitride powder of the present invention simultaneously increase.
The furnace used for firing is particularly preferably a carbon furnace, and the crucible into which the hexagonal boron nitride powder is put during firing is particularly preferably made of carbon.
In addition, an additive may be added in the firing so long as the desired crystal growth of the hexagonal boron nitride powder is not inhibited.
<熱伝導性樹脂組成物>
本発明の熱伝導性樹脂組成物は、本発明の六方晶窒化ホウ素粉末と樹脂とを含有する。
本発明の熱伝導性樹脂組成物における六方晶窒化ホウ素粉末の含有量は、35〜80重量%であることが好ましい。窒化ホウ素粉体の含有量を35重量%以上とすることで、熱伝導性樹脂組成物による成形体の熱伝導率が好ましい値となる傾向にある。一方、六方晶窒化ホウ素粉末の含有量が80重量%以下であると、熱伝導性樹脂組成物の成形性を好適に保ち、均一な成形体を得られる傾向にある。六方晶窒化ホウ素粉末の含有量は、成形体における熱伝導率を高める観点から、40重量%以上70重量%以下であることがより好ましい。
<Thermal conductive resin composition>
The heat conductive resin composition of the present invention contains the hexagonal boron nitride powder of the present invention and a resin.
The content of hexagonal boron nitride powder in the heat conductive resin composition of the present invention is preferably 35 to 80% by weight. By setting the content of the boron nitride powder to 35% by weight or more, the thermal conductivity of the molded body by the heat conductive resin composition tends to be a preferable value. On the other hand, when the content of the hexagonal boron nitride powder is 80% by weight or less, the moldability of the thermally conductive resin composition is suitably maintained, and a uniform molded product tends to be obtained. The content of the hexagonal boron nitride powder is more preferably 40% by weight or more and 70% by weight or less from the viewpoint of increasing the thermal conductivity in the molded body.
本発明の熱伝導性樹脂組成物には、樹脂が含まれるが、この樹脂は、オリゴマーやモノマーも含む有機化合物である。オリゴマーやモノマーを含有させる場合は、樹脂の成形時などにこれを硬化させることができる。
そのような有機化合物としては、重合可能な有機化合物(硬化性樹脂モノマー)やその重合体、熱可塑性樹脂、ゴムを何れも制限なく用いることが出来る。
硬化性樹脂モノマーとしては、熱硬化性、光硬化性、電子線硬化性など重合可能なモノマーであれば良いが、耐熱性、吸水性、寸法安定性などの点で、熱硬化性樹脂モノマーが好ましく、特にエポキシ樹脂モノマー、シリコーン樹脂モノマーが好適に例示できる。
Although the resin is contained in the heat conductive resin composition of this invention, this resin is an organic compound also including an oligomer and a monomer. When an oligomer or monomer is contained, it can be cured at the time of molding the resin.
As such an organic compound, any polymerizable organic compound (curable resin monomer), a polymer thereof, a thermoplastic resin, and rubber can be used without limitation.
The curable resin monomer may be any polymerizable monomer such as thermosetting, photocurable, and electron beam curable. However, in terms of heat resistance, water absorption, dimensional stability, the thermosetting resin monomer may be used. Particularly preferable examples include an epoxy resin monomer and a silicone resin monomer.
熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体樹脂等のポリオレフィン樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、液晶ポリエステル樹脂等のポリエステル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、フェノキシ樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエーテルアミドイミド樹脂、ポリエーテルアミド樹脂及びポリエーテルイミド樹脂が挙げられる。また、それらのブロック共重合体、グラフト共重合体等の共重合体も含まれる。 Examples of the thermoplastic resin include polyolefin resins such as polyethylene resin, polypropylene resin, and ethylene-vinyl acetate copolymer resin, polyester resins such as polyethylene terephthalate resin, polybutylene terephthalate resin, and liquid crystal polyester resin, polyvinyl chloride resin, and phenoxy. Resins, acrylic resins, polycarbonate resins, polyphenylene sulfide resins, polyphenylene ether resins, polyamide resins, polyamideimide resins, polyimide resins, polyetheramideimide resins, polyetheramide resins, and polyetherimide resins. Moreover, copolymers, such as those block copolymers and a graft copolymer, are also contained.
ゴム成分としては、例えば、天然ゴム、ポリイソプレンゴム、スチレン−ブタジエン共重合体ゴム、ポリブタジエンゴム、エチレン−プロピレン共重合体ゴム、エチレン−プロピレン−ジエン共重合体ゴム、ブタジエン−アクリロニトリル共重合体ゴム、イソブチレン−イソプレン共重合体ゴム、クロロプレンゴム、シリコンゴム、フッソゴム、クロロ・スルホン化ポリエチレン、及びポリウレタンゴムが挙げられる。 Examples of the rubber component include natural rubber, polyisoprene rubber, styrene-butadiene copolymer rubber, polybutadiene rubber, ethylene-propylene copolymer rubber, ethylene-propylene-diene copolymer rubber, butadiene-acrylonitrile copolymer rubber. , Isobutylene-isoprene copolymer rubber, chloroprene rubber, silicone rubber, fluorine rubber, chlorosulfonated polyethylene, and polyurethane rubber.
樹脂としては、後述する成形体の耐熱性等の観点から、エポキシ樹脂を用いることが好
ましい。
エポキシ樹脂は1種類の構造単位を有するエポキシ樹脂のみであってもよいが、構造単位の異なる複数のエポキシ樹脂を組み合わせてもよい。
ここで、塗膜性ないしは成膜性や接着性と併せて、接合時のボイドを低減して高熱伝導の硬化物を得るために、エポキシ樹脂として少なくとも後述するフェノキシ樹脂(以下、「エポキシ樹脂(A)」と称す。)を含むことが好ましく、特にエポキシ樹脂全量に対するエポキシ樹脂(A)の重量比率が、5〜95重量%の範囲で含有されることが好ましい。より好ましくは10〜90重量%、さらに好ましくは20〜80重量%の範囲で含有されることが好ましい。
以下、エポキシ樹脂(A)について説明する。
As the resin, it is preferable to use an epoxy resin from the viewpoint of the heat resistance of the molded body described later.
The epoxy resin may be only an epoxy resin having one type of structural unit, but a plurality of epoxy resins having different structural units may be combined.
Here, in combination with coating properties or film-forming properties and adhesiveness, in order to obtain a highly heat-conductive cured product by reducing voids at the time of bonding, at least a phenoxy resin (hereinafter referred to as “epoxy resin” (to be described later) as an epoxy resin. A) ”is preferably included, and it is particularly preferable that the weight ratio of the epoxy resin (A) to the total amount of the epoxy resin is in the range of 5 to 95% by weight. More preferably, it is contained in the range of 10 to 90% by weight, still more preferably 20 to 80% by weight.
Hereinafter, the epoxy resin (A) will be described.
(エポキシ樹脂(A))
フェノキシ樹脂とは、通常、エピハロヒドリンと2価フェノール化合物とを反応させて得られる樹脂、または2価のエポキシ化合物と2価のフェノール化合物とを反応させて得られる樹脂を指すが、本発明においてはこれらのうち、特に重量平均分子量10000以上の高分子量エポキシ樹脂であるフェノキシ樹脂をエポキシ樹脂(A)という。
(Epoxy resin (A))
The phenoxy resin usually refers to a resin obtained by reacting an epihalohydrin and a dihydric phenol compound, or a resin obtained by reacting a divalent epoxy compound and a divalent phenol compound. Among these, a phenoxy resin which is a high molecular weight epoxy resin having a weight average molecular weight of 10,000 or more is particularly referred to as an epoxy resin (A).
エポキシ樹脂(A)としては、ナフタレン骨格、フルオレン骨格、ビフェニル骨格、アントラセン骨格、ピレン骨格、キサンテン骨格、アダマンタン骨格およびジシクロペンタジエン骨格からなる群から選択された少なくとも1つの骨格を有するフェノキシ樹脂が好ましい。中でも、耐熱性がより一層高められるので、フルオレン骨格および/またはビフェニル骨格を有するフェノキシ樹脂が特に好ましい。 The epoxy resin (A) is preferably a phenoxy resin having at least one skeleton selected from the group consisting of naphthalene skeleton, fluorene skeleton, biphenyl skeleton, anthracene skeleton, pyrene skeleton, xanthene skeleton, adamantane skeleton and dicyclopentadiene skeleton. . Among them, a phenoxy resin having a fluorene skeleton and / or a biphenyl skeleton is particularly preferable because the heat resistance is further improved.
上述のようにエポキシ樹脂は、構造単位の異なる複数のエポキシ樹脂を含むものであってもよい。
上記エポキシ樹脂(A)以外のエポキシ樹脂としては、分子内に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂(以下「エポキシ樹脂(B)」と称す場合がある。)であることが好ましく、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、フェノールアラルキル型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、多官能フェノール型エポキシ樹脂等の、各種エポキシ樹脂が挙げられる。
これらは1種を単独でまたは2種以上の混合体として使用することができる。
As described above, the epoxy resin may include a plurality of epoxy resins having different structural units.
The epoxy resin other than the epoxy resin (A) is preferably an epoxy resin having two or more epoxy groups in the molecule (hereinafter sometimes referred to as “epoxy resin (B)”). Bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, phenol aralkyl type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, triphenylmethane type epoxy resin, dicyclopentadiene Various epoxy resins, such as a type epoxy resin, a glycidyl ester type epoxy resin, a glycidyl amine type epoxy resin, and a polyfunctional phenol type epoxy resin, can be mentioned.
These can be used alone or as a mixture of two or more.
エポキシ樹脂(B)は、溶融粘度制御の観点から、その平均分子量が、好ましくは、100〜5000であり、より好ましくは、200〜2000である。平均分子量が100より低いものでは、耐熱性が劣る傾向にあり、5000より高いと、エポキシ樹脂の融点が高くなり、作業性が低下する傾向がある。 The average molecular weight of the epoxy resin (B) is preferably 100 to 5000, more preferably 200 to 2000, from the viewpoint of controlling the melt viscosity. When the average molecular weight is lower than 100, the heat resistance tends to be inferior. When the average molecular weight is higher than 5000, the melting point of the epoxy resin increases, and the workability tends to decrease.
また、本発明のエポキシ樹脂組成物は、その目的を損なわない範囲において、エポキシ樹脂(A)とエポキシ樹脂(B)以外のエポキシ樹脂(以下、「他のエポキシ樹脂」)を含んでいてもよい。他のエポキシ樹脂の含有量は、エポキシ樹脂(A)とエポキシ樹脂(B)の合計に対して、通常、50重量%以下、好ましくは、30重量%以下である。 In addition, the epoxy resin composition of the present invention may contain an epoxy resin other than the epoxy resin (A) and the epoxy resin (B) (hereinafter referred to as “other epoxy resin”) as long as the purpose is not impaired. . The content of the other epoxy resin is usually 50% by weight or less, preferably 30% by weight or less based on the total of the epoxy resin (A) and the epoxy resin (B).
本発明のエポキシ樹脂組成物において、エポキシ樹脂(A)とエポキシ樹脂(B)を含む全エポキシ樹脂中のエポキシ樹脂(A)の割合は、その合計を100重量%として、10〜90重量%、好ましくは20〜80重量%である。なお、「エポキシ樹脂(A)とエポキシ樹脂(B)を含む全エポキシ樹脂」とは、本発明のエポキシ樹脂組成物に含まれるエポキシ樹脂が、エポキシ樹脂(A)及びエポキシ樹脂(B)のみの場合には、エポキシ樹脂(A)とエポキシ樹脂(B)の合計を意味し、さらに他のエポキシ樹脂を含む場合には、エポキシ樹脂(A)、エポキシ樹脂(B)及び他のエポキシ樹脂の合計を意味する。
エポキシ樹脂(A)の割合が10重量%以上であることにより、エポキシ樹脂(A)を配合することによる熱伝導性の向上効果を十分に得ることができ、所望の高熱伝導性を得ることができる。エポキシ樹脂(A)の割合が90重量%未満でエポキシ樹脂(B)が10重量%以上であることにより、エポキシ樹脂(B)の配合効果が発揮され、硬化性、硬化物の物性が十分なものとなる。
In the epoxy resin composition of the present invention, the ratio of the epoxy resin (A) in the total epoxy resin including the epoxy resin (A) and the epoxy resin (B) is 10 to 90% by weight, with the total as 100% by weight, Preferably it is 20 to 80 weight%. The "all epoxy resins including epoxy resin (A) and epoxy resin (B)" means that the epoxy resin contained in the epoxy resin composition of the present invention is only an epoxy resin (A) and an epoxy resin (B). In the case, it means the sum of the epoxy resin (A) and the epoxy resin (B), and when it contains other epoxy resins, the sum of the epoxy resin (A), the epoxy resin (B) and the other epoxy resins. Means.
When the ratio of the epoxy resin (A) is 10% by weight or more, the effect of improving the thermal conductivity by blending the epoxy resin (A) can be sufficiently obtained, and desired high thermal conductivity can be obtained. it can. When the proportion of the epoxy resin (A) is less than 90% by weight and the epoxy resin (B) is 10% by weight or more, the blending effect of the epoxy resin (B) is exhibited, and the curability and physical properties of the cured product are sufficient. It will be a thing.
本発明の熱伝導性樹脂組成物は、本発明の効果が得られる範囲において、さらなる成分を含有していてもよい。このようなさらなる成分としては、例えば、液晶性エポキシ樹脂等の、前記の樹脂に機能性を付与した機能性樹脂、窒化アルミニウム、窒化ケイ素、繊維状窒化ホウ素等の窒化物粒子、アルミナ、繊維状アルミナ、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、酸化ベリリウム、酸化チタン等の絶縁性金属酸化物、ダイヤモンド、フラーレン等の絶縁性炭素成分、樹脂硬化剤、樹脂硬化促進剤、粘度調整剤、分散安定剤、及び溶剤が挙げられる。
また、本発明の六方晶窒化ホウ素粉末を含有する熱伝導性樹脂組成物には、その効果を損なわない限り、上記の窒化物粒子や絶縁性金属酸化物として例示されているものに加えて、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウムなどの無機フィラー、無機フィラーとマトリックス樹脂の界面接着強度を改善するシランカップリング剤などの表面処理剤、還元剤などを添加しても良い。
The heat conductive resin composition of this invention may contain the further component in the range with which the effect of this invention is acquired. Such additional components include, for example, functional resins imparting functionality to the above resins, such as liquid crystalline epoxy resins, nitride particles such as aluminum nitride, silicon nitride, and fibrous boron nitride, alumina, and fibrous Insulating metal oxides such as alumina, zinc oxide, magnesium oxide, beryllium oxide and titanium oxide, insulating carbon components such as diamond and fullerene, resin curing agents, resin curing accelerators, viscosity modifiers, dispersion stabilizers, and solvents Is mentioned.
Further, in the heat conductive resin composition containing the hexagonal boron nitride powder of the present invention, in addition to those exemplified as the nitride particles and the insulating metal oxide, as long as the effect is not impaired, An inorganic filler such as aluminum hydroxide or magnesium hydroxide, a surface treatment agent such as a silane coupling agent that improves the interfacial adhesive strength between the inorganic filler and the matrix resin, a reducing agent, or the like may be added.
樹脂硬化剤は、用いられる樹脂の種類に応じて適宜に選ばれる。例えばエポキシ樹脂用の樹脂硬化剤としては、酸無水物系硬化剤やアミン系硬化剤が挙げられる。酸無水物系硬化剤としては、例えば、テトラヒドロフタル酸無水物、メチルテトラヒドロフタル酸無水物、ヘキサヒドロフタル酸無水物、及びベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物が挙げられる。アミン系硬化剤としては、例えば、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン等の脂肪族ポリアミン、ジアミノジフェニルスルホン、ジアミノジフェニルメタン、ジアミノジフェニルエーテル、m−フェニレンジアミン等の芳香族ポリアミン及びジシアンジアミドが挙げられる。エポキシ樹脂用の硬化剤であれば、通常、エポキシ樹脂に対して当量比で、0.3〜1.5の範囲で配合される。 The resin curing agent is appropriately selected according to the type of resin used. For example, as the resin curing agent for epoxy resin, an acid anhydride curing agent and an amine curing agent can be used. Examples of the acid anhydride curing agent include tetrahydrophthalic acid anhydride, methyltetrahydrophthalic acid anhydride, hexahydrophthalic acid anhydride, and benzophenone tetracarboxylic acid anhydride. Examples of the amine curing agent include aliphatic polyamines such as ethylenediamine, diethylenetriamine, and triethylenetetramine, aromatic polyamines such as diaminodiphenylsulfone, diaminodiphenylmethane, diaminodiphenyl ether, and m-phenylenediamine, and dicyandiamide. If it is a hardening | curing agent for epoxy resins, it will mix | blend in the range of 0.3-1.5 normally by an equivalent ratio with respect to an epoxy resin.
樹脂硬化促進剤は、用いられる樹脂や樹脂硬化剤の種類に応じて適宜に選ばれる。例えば前記酸無水系硬化剤用の樹脂硬化促進剤としては、例えば三フッ化ホウ素モノエチルアミン、2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−イソブチル−2−メチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾールが挙げられる。エポキシ樹脂用の硬化促進剤であれば、エポキシ樹脂100質量部に対して0.1〜5質量部の含有量で用いられる。 The resin curing accelerator is appropriately selected according to the type of resin used and the resin curing agent. For example, as the resin curing accelerator for the acid anhydride curing agent, for example, boron trifluoride monoethylamine, 2-ethyl-4-methylimidazole, 1-isobutyl-2-methylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole Is mentioned. If it is a hardening accelerator for epoxy resins, it will be used at a content of 0.1 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the epoxy resin.
溶剤は、熱伝導性樹脂組成物の粘度を下げる観点から用いることができる。溶剤には、公知の溶剤の中から樹脂を溶解する溶剤が用いられる。このような溶剤としては、例えば、メチルエチルケトン、アセトン、シクロヘキサノン、トルエン、キシレン、モノクロルベンゼン、ジクロルベンゼン、トリクロルベンゼン、フェノール、及びヘキサフルオロイソプロパノールが挙げられる。溶剤は、樹脂100質量部に対して、0〜10,000質量部の含有量で用いられる。 A solvent can be used from a viewpoint of reducing the viscosity of a heat conductive resin composition. As the solvent, a solvent that dissolves the resin from among known solvents is used. Examples of such solvents include methyl ethyl ketone, acetone, cyclohexanone, toluene, xylene, monochlorobenzene, dichlorobenzene, trichlorobenzene, phenol, and hexafluoroisopropanol. A solvent is used by content of 0-10,000 mass parts with respect to 100 mass parts of resin.
<熱伝導性樹脂組成物/成形体の製造方法>
本発明の熱伝導性樹脂組成物(複合材組成物ともいう)は、前記六方晶窒化ホウ素粉末、樹脂、及び必要に応じてさらなる成分を含む材料を撹拌や混練によって均一に混合することによって得ることができる。例えば、ミキサー、ニーダー、単軸又は二軸混練機等の一般的な混練装置を用いて、必要に応じて加熱して前記の材料を混練することによって本発明の組成物を得ることができる。
<Thermal conductive resin composition / Method for producing molded article>
The heat conductive resin composition (also referred to as a composite material composition) of the present invention is obtained by uniformly mixing the hexagonal boron nitride powder, a resin, and a material containing additional components as necessary by stirring or kneading. be able to. For example, the composition of the present invention can be obtained by kneading the above materials by heating as necessary using a general kneading apparatus such as a mixer, kneader, single-screw or twin-screw kneader.
一方、本発明の成形体は、本発明の熱伝導性樹脂組成物を成形してなるものである。成形体の成形は、熱伝導性樹脂組成物の成形に一般に用いられる方法を利用して、熱伝導性樹脂組成物の状態や樹脂の種類に応じて適宜に行うことができる。
例えば、可塑性や流動性を有する熱伝導性樹脂組成物の成形は、熱伝導性樹脂組成物を所望の形状で、例えば型へ収容した状態で、硬化させることによって行うことができる。このような成形体の製造では、射出成形、射出圧縮成形、押出成形、及び圧縮成形を利用することができる。前記の熱伝導性樹脂組成物がエポキシ樹脂やシリコーン樹脂等を含む熱硬化性樹脂組成物である場合では、成形体の成形、すなわち硬化は、それぞれの硬化温度条件で行うことができる。前記の熱伝導性樹脂組成物が熱可塑性樹脂を含む場合では、成形体の成形は、熱可塑性樹脂の溶融温度以上の温度及び所定の成形速度や圧力の条件で行うことができる。また、前記成形体は、熱伝導性樹脂組成物の硬化物を所望の形状に削り出すことによっても得ることができる。
On the other hand, the molded article of the present invention is formed by molding the thermally conductive resin composition of the present invention. Molding of the molded body can be appropriately performed according to the state of the thermally conductive resin composition and the type of resin using a method generally used for molding of the thermally conductive resin composition.
For example, the heat conductive resin composition having plasticity and fluidity can be molded by curing the heat conductive resin composition in a desired shape, for example, in a state of being accommodated in a mold. In the production of such a molded body, injection molding, injection compression molding, extrusion molding, and compression molding can be used. When the said heat conductive resin composition is a thermosetting resin composition containing an epoxy resin, a silicone resin, etc., shaping | molding of a molded object, ie, hardening, can be performed on each hardening temperature conditions. When the thermal conductive resin composition contains a thermoplastic resin, the molded body can be molded under conditions of a temperature equal to or higher than the melting temperature of the thermoplastic resin and a predetermined molding speed and pressure. Moreover, the said molded object can be obtained also by cutting out the hardened | cured material of a heat conductive resin composition in a desired shape.
本発明の熱伝導性樹脂組成物の用途としては、たとえば、放熱フィンや放熱板等のヒートシンクと半導体パッケージおよび配線基板の間に取り付ける柔軟性をもった熱可塑性熱伝導性シート、高い耐熱性が要求される環境下での使用に供されるポリイミド等の樹脂複合熱伝導材または、HEVおよび電気自動車用モーター部品用熱可塑性樹脂複合材、半導体封止材、アンダーフィル等の層間充填組成物、三次元集積回路の層間充填組成物等が挙げられる。
以下、本発明の熱伝導性樹脂組成物を用いて作製可能な成形体の用途の一つとして三次元集積回路の製造方法について説明する。
この製造方法は、複数の半導体基板に、上述の熱伝導性樹脂組成物を成膜後に、これらの半導体基板を加圧接着して積層する工程を含んでいる。
この製造方法では、初めに半導体基板上に熱伝導性樹脂組成物の薄膜を形成する。
例えば、樹脂の硬化が始まらない温度範囲において熱伝導性樹脂組成物を加温して溶融させたものを用いて、任意の方法で半導体基板上に熱伝導性樹脂組成物からなる膜を成膜としてもよい。
また、本発明の熱伝導性樹脂組成物は、フィルム成形に適した十分な伸び性を有するため、本発明の熱伝導性樹脂組成物をフィルム成形し、該フィルムを半導体基板上に設置することで成膜してもよい。
Applications of the heat conductive resin composition of the present invention include, for example, a thermoplastic heat conductive sheet having flexibility to attach between a heat sink such as a heat radiating fin or a heat radiating plate and a semiconductor package and a wiring board, and high heat resistance. Resin composite heat conductive materials such as polyimide, used for use in the required environment, thermoplastic resin composite materials for motor parts for HEV and electric vehicles, semiconductor sealing materials, interlayer filling compositions such as underfill, Examples thereof include an interlayer filling composition for a three-dimensional integrated circuit.
Hereinafter, a method for producing a three-dimensional integrated circuit will be described as one of uses of a molded body that can be produced using the heat conductive resin composition of the present invention.
This manufacturing method includes a step of laminating these semiconductor substrates by press-bonding them after forming the above-described thermally conductive resin composition on a plurality of semiconductor substrates.
In this manufacturing method, a thin film of a heat conductive resin composition is first formed on a semiconductor substrate.
For example, a film made of a thermally conductive resin composition is formed on a semiconductor substrate by an arbitrary method using a material obtained by heating and melting a thermally conductive resin composition in a temperature range where resin curing does not start. It is good.
In addition, since the heat conductive resin composition of the present invention has sufficient elongation suitable for film molding, the heat conductive resin composition of the present invention is formed into a film and the film is placed on a semiconductor substrate. You may form into a film.
次に上記方法にて成膜した熱伝導性樹脂組成物からなる膜を加熱してタック性を発現させた後に、接合対象の半導体基板と仮接着を行う。仮接着の温度としては、エポキシ樹脂の組成にもよるが、80〜150℃の温度で行うことが好ましい。半導体基板の接合が複数層の場合には、前記仮接着を基板の層数分繰り返しても良いし、B−ステージ化膜を形成した基板を複数層重ね合わせた後に、加熱してまとめて仮接着させても良い。仮接着の際には必要に応じて基板間に1gf/cm2〜1Kgf/cm2の荷重をかけて実施することが好ましい。 Next, after heating the film | membrane which consists of a heat conductive resin composition formed into a film by the said method and expresses tackiness, temporary bonding with the semiconductor substrate of joining object is performed. Although it depends on the composition of the epoxy resin, the temporary bonding temperature is preferably 80 to 150 ° C. When the bonding of the semiconductor substrates is a plurality of layers, the temporary bonding may be repeated for the number of layers of the substrates, or the substrates on which the B-staging film is formed are stacked and then heated to be temporarily combined. It may be adhered. In temporary bonding, it is preferable to apply a load of 1 gf / cm 2 to 1 Kgf / cm 2 between the substrates as necessary.
仮接着の後には半導体基板の本接合を行う。仮接着させた半導体基板を200℃以上、好ましくは220℃以上に加圧接着することにより、熱伝導性樹脂組成物の樹脂の溶融粘度を低下させて半導体基板間の電気端子の接続を促進すると同時に、組成物中のフラックスを活性化させて半導体基板間のはんだ接合を実現することが出来る。なお、加熱温度の上限は、使用するエポキシ樹脂が分解、変質しない温度であり、樹脂の種類、グレードにより適宜決定されるが、通常300℃以下で行われる。
また、加圧接着の際には必要に応じて基板間に10gf/cm2〜10Kgf/cm2の荷重をかけて実施することが好ましい。
After the temporary bonding, the semiconductor substrate is finally bonded. When the temporarily bonded semiconductor substrate is pressure-bonded to 200 ° C. or higher, preferably 220 ° C. or higher, thereby reducing the melt viscosity of the resin of the heat conductive resin composition and promoting the connection of electrical terminals between the semiconductor substrates. At the same time, the solder in the composition can be realized by activating the flux in the composition. The upper limit of the heating temperature is a temperature at which the epoxy resin to be used is not decomposed or altered, and is appropriately determined depending on the type and grade of the resin, but is usually 300 ° C. or lower.
In addition, it is preferable to apply a load of 10 gf / cm 2 to 10 Kgf / cm 2 between the substrates as needed at the time of pressure bonding.
本発明の六方晶窒化ホウ素粉末を樹脂組成物における熱伝導性粒子として用いることで
、樹脂組成物としての粘度が低減され、その成形加工性が改善できるだけでなく、高い熱伝導性も維持できる。そのため、従来の窒化ホウ素粉末を大きな含有量で含んだ樹脂組成物で問題となっていた高粘度化を大幅に改善できる。この特徴を利用し、本発明の六方晶窒化ホウ素粉末を含有する熱伝導性樹脂組成物は、例えば半導体デバイスチップの積層の際に用いられる層間充填材組成物として用いることができ、それを成形した場合には、半導体デバイスチップ間の層となる。
By using the hexagonal boron nitride powder of the present invention as the thermally conductive particles in the resin composition, not only the viscosity as the resin composition is reduced and the molding processability can be improved, but also high thermal conductivity can be maintained. Therefore, it is possible to greatly improve the increase in viscosity, which has been a problem with conventional resin compositions containing a large amount of boron nitride powder. Utilizing this feature, the thermally conductive resin composition containing the hexagonal boron nitride powder of the present invention can be used as, for example, an interlayer filler composition used in the lamination of semiconductor device chips, and molding it. In this case, it becomes a layer between the semiconductor device chips.
以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention, this invention is not limited to these.
<熱伝導性樹脂組成物の熱伝導率測定>
熱伝導性樹脂組成物の熱伝導率は、以下の装置により熱拡散率、比重及び比熱を測定し、この3つの測定値を乗じることにより求めた。
1)熱拡散率:熱伝導率評価用サンプルを切り出して、直径12mm、厚み約0.5mmの円盤状の検体に成形したのち、アルバック理工(株)製 全自動レーザーフラッシュ法熱定数測定装置TC−7000を用いて、熱拡散率を測定した。
2)比重:メトラー・トレド株式会社製 天秤 製品名「XS204」(「固体比重測定キット」使用)を用いて、比重を測定した。
3)比熱:株式会社パーキンエルマー製 示差走査熱量計 製品名「DSC7」を用い、10℃/分の昇温条件の下、25℃における比熱をDSC7のソフトウエアを用いて測定した。
<Measurement of thermal conductivity of thermal conductive resin composition>
The thermal conductivity of the thermally conductive resin composition was determined by measuring the thermal diffusivity, specific gravity and specific heat with the following apparatus and multiplying these three measured values.
1) Thermal diffusivity: A sample for thermal conductivity evaluation was cut out and formed into a disk-shaped specimen having a diameter of 12 mm and a thickness of about 0.5 mm, and then fully automatic laser flash method thermal constant measuring device TC manufactured by ULVAC-RIKO Co., Ltd. The thermal diffusivity was measured using -7000.
2) Specific gravity: A balance manufactured by METTLER TOLEDO Co., Ltd. Specific gravity was measured using a product name “XS204” (using “Solid Specific Gravity Measurement Kit”).
3) Specific heat: Differential scanning calorimeter manufactured by PerkinElmer Co., Ltd. Using the product name “DSC7”, the specific heat at 25 ° C. was measured using DSC7 software under the temperature rising condition of 10 ° C./min.
<熱伝導性樹脂組成物の粘度測定>
後述する、3本ロールに5回通した、硬化剤を添加する前の熱伝導性樹脂組成物について、ティー・エー・インスツルメント製 動的粘弾性測定装置ARES(直径8mmパラレルプレート、ギャップ間隔0.3mm)を用いて、温度25℃、角周波数1rad/s、歪み量0.2%における動的粘性率を測定した。
<Measurement of viscosity of thermally conductive resin composition>
About the thermally conductive resin composition before adding the curing agent, which was passed five times through three rolls, which will be described later, a dynamic viscoelasticity measuring device ARES (diameter 8 mm parallel plate, gap interval, manufactured by TA Instruments) 0.3 mm) was used to measure the dynamic viscosity at a temperature of 25 ° C., an angular frequency of 1 rad / s, and a strain of 0.2%.
<X線回析による六方晶窒化ホウ素粉末の結晶子サイズの測定>
上記で説明したとおり、六方晶窒化ホウ素粉末の002面の結晶子径(Lc)は、X線回折の2θ=26.5°のピークの半価幅を測定し、上記(2)式によって求めた。同様に、100面の結晶子径(La)についても、X線回折の2θ=41.5°のピークの半価幅を測定し、上記式(2)によって求めた。X線回折装置としてはPANalytical社製PW1700を用いた。
<Measurement of crystallite size of hexagonal boron nitride powder by X-ray diffraction>
As described above, the crystallite diameter (Lc) of the 002 plane of the hexagonal boron nitride powder is obtained by measuring the half width of the peak at 2θ = 26.5 ° of X-ray diffraction and calculating the above formula (2). It was. Similarly, the half width of the peak at 2θ = 41.5 ° of X-ray diffraction was also measured for the crystallite diameter (La) of the 100 plane, and was obtained by the above formula (2). As an X-ray diffractometer, PW1700 manufactured by PANalytical was used.
<六方晶窒化ホウ素粉末の酸素含有量の測定>
不活性ガス融解−赤外線吸収法による定量分析により、六方晶窒化ホウ素粉末の酸素含有量を測定した。分析装置としてHORIBA製 酸素・窒素分析装置 EMGA−620Wを用いた。
<Measurement of oxygen content of hexagonal boron nitride powder>
The oxygen content of the hexagonal boron nitride powder was measured by quantitative analysis using an inert gas melting-infrared absorption method. An oxygen / nitrogen analyzer EMGA-620W manufactured by HORIBA was used as an analyzer.
<実施例1>
本発明の六方晶窒化ホウ素粉末は、日新リフラテック社製のR−BN(X線回折における002面の結晶子サイズが299Åと100面の結晶子サイズが339Åである六方晶窒化ホウ素)200gをカーボン製坩堝に入れ、カーボン炉を用いて2100℃で15時間、窒素ガス雰囲気下で焼成することで得られた。得られた六方晶窒化ホウ素粉末の平均粒径は3.5μmであった。
この六方晶窒化ホウ素粉末を5g、エポキシ樹脂(三菱化学製エポキシ樹脂、1750およびYED216を重量比90/10で配合)5gに添加した(六方晶窒化ホウ素粉末の含有量34.8vol%)。その後、ギャップ間隔を10μmに調整した3本ロール(株式会社 小平製作所製)に5回通して熱伝導性樹脂組成物を得た。
得られた熱伝導性樹脂組成物の粘度測定を実施した。結果を表1に示す。
さらに、得られた熱伝導性樹脂組成物2.5gに硬化剤として2−エチル−4−メチルイミダゾールを2部添加して均一に攪拌混合した。ガラス板に離型PETを敷き、シリコーンゴムで500μmにギャップを調整して硬化剤入りの熱伝導性樹脂組成物を挟み込み、100℃で1h、次いで150℃で4h硬化させて、熱伝導率評価用サンプルを得た。得られたサンプルを用い、熱伝導率の測定を実施した。結果を表1に示す。
<Example 1>
The hexagonal boron nitride powder of the present invention is 200 g of R-BN (hexagonal boron nitride having a 002 crystallite size of 299 mm and a 100 crystallite size of 339 mm in X-ray diffraction) manufactured by Nisshin Rifratech. It was obtained by placing in a carbon crucible and firing in a nitrogen furnace at 2100 ° C. for 15 hours in a nitrogen gas atmosphere. The obtained hexagonal boron nitride powder had an average particle size of 3.5 μm.
5 g of this hexagonal boron nitride powder and 5 g of epoxy resin (Mitsubishi Chemical's epoxy resin, 1750 and YED216 were blended at a weight ratio of 90/10) were added (content of hexagonal boron nitride powder 34.8 vol%). Then, it passed 5 times through 3 rolls (made by Kodaira Manufacturing Co., Ltd.) which adjusted the gap space | interval to 10 micrometers, and obtained the heat conductive resin composition.
The viscosity measurement of the obtained heat conductive resin composition was implemented. The results are shown in Table 1.
Furthermore, 2 parts of 2-ethyl-4-methylimidazole as a curing agent was added to 2.5 g of the obtained heat conductive resin composition, and the mixture was uniformly stirred and mixed. Put release PET on a glass plate, adjust the gap to 500 μm with silicone rubber, sandwich the thermally conductive resin composition containing a curing agent, cure at 100 ° C. for 1 h, then at 150 ° C. for 4 h, and evaluate thermal conductivity A sample was obtained. Using the obtained sample, the thermal conductivity was measured. The results are shown in Table 1.
<比較例1>
実施例1で用いた焼成を行った六方晶窒化ホウ素粉末の代わりに、市販の窒化ホウ素粉末(日新リフラテック製 商品名R−BN)を焼成を行わず、そのまま用いた以外は同様の方法にて粘度の測定及び熱伝導性の測定を実施した。結果を表1に示す。また、六方晶窒化ホウ素粉末の平均粒径は2.0μmであった。
<Comparative Example 1>
Instead of firing the hexagonal boron nitride powder used in Example 1, commercially available boron nitride powder (trade name R-BN, manufactured by Nisshin Rifratech) was used without any firing, and the same method was used. The viscosity and the thermal conductivity were measured. The results are shown in Table 1. The average particle size of the hexagonal boron nitride powder was 2.0 μm.
<比較例2>
実施例1で用いた焼成を行った六方晶窒化ホウ素粉末の代わりに、市販の窒化ホウ素粉末(電気化学工業社製 商品名SP2)200gをカーボン製坩堝に入れ、カーボン炉を用いて2100℃で15時間、窒素ガス雰囲気下で焼成したものを用いた以外は、実施例1と同様の方法にて粘度の測定及び熱伝導性の測定を実施した。結果を表1に示す。また、得られた六方晶窒化ホウ素粉末の平均粒径は5.3μmであった。
<Comparative example 2>
In place of the calcined hexagonal boron nitride powder used in Example 1, 200 g of commercially available boron nitride powder (trade name SP2 manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd.) was placed in a carbon crucible and used at 2100 ° C. using a carbon furnace. Viscosity was measured and thermal conductivity was measured in the same manner as in Example 1 except that a material fired in a nitrogen gas atmosphere for 15 hours was used. The results are shown in Table 1. The obtained hexagonal boron nitride powder had an average particle size of 5.3 μm.
<比較例3>
実施例1で用いた焼成を行った六方晶窒化ホウ素粉末の代わりに、市販の窒化ホウ素粉末(電気化学工業社製 商品名SP3−7)200gをカーボン製坩堝に入れ、カーボン炉を用いて2100℃で15時間、窒素ガス雰囲気下で焼成したものを用いた以外は、実施例1と同様の方法にて粘度の測定及び熱伝導性の測定を実施した。結果を表1に示す。また、得られた六方晶窒化ホウ素粉末の平均粒径は2.5μmであった。
In place of the fired hexagonal boron nitride powder used in Example 1, 200 g of a commercially available boron nitride powder (trade name SP3-7, manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd.) was placed in a carbon crucible, and 2100 using a carbon furnace. Viscosity was measured and thermal conductivity was measured in the same manner as in Example 1 except that a material fired at 15 ° C. for 15 hours in a nitrogen gas atmosphere was used. The results are shown in Table 1. The obtained hexagonal boron nitride powder had an average particle size of 2.5 μm.
Claims (4)
100面の結晶子径(La)が500[Å]以上であり、
前記結晶子径(Lc)と前記結晶子径(La)が以下の関係式(1)を満たし、
0.70≦Lc/La (1)
酸素含有量が0.30重量%以下である六方晶窒化ホウ素粉末。 The crystallite diameter (Lc) of the 002 plane is 450 [Å] or more,
100 crystallite diameter (La) is 500 [Å] or more,
The crystallite diameter (Lc) and the crystallite diameter (La) satisfy the following relational expression (1):
0.70 ≦ Lc / La (1)
Hexagonal boron nitride powder having an oxygen content of 0.30% by weight or less.
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