JP2012109422A - 半導体基板のエッジ研磨装置 - Google Patents
半導体基板のエッジ研磨装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2012109422A JP2012109422A JP2010257466A JP2010257466A JP2012109422A JP 2012109422 A JP2012109422 A JP 2012109422A JP 2010257466 A JP2010257466 A JP 2010257466A JP 2010257466 A JP2010257466 A JP 2010257466A JP 2012109422 A JP2012109422 A JP 2012109422A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polishing
- polishing tape
- semiconductor substrate
- edge
- protective film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
Abstract
【課題】 半導体基板の裏面研削砥石の寿命を低下させない保護フィルム貼付半導体基板を得るエッジ研磨装置の提供。
【解決手段】 回転軸4aに軸承されたカム状フレーム4bに、ストップピン4c、半導体基板のエッジ部に前記研磨テープTの研磨面を当接するとともに供給リール2より供給された研磨テープを表面滑走させるシリコンゴムスポンジ製当て板4d、この当て板を挟んで離間して設けた一対の第一研磨テープ送りローラ4eと第二研磨テープ送りローラ4f、前記第一エンジニアリング樹脂製研磨テープ送りローラの背面に設けられ巻取リール3側に研磨テープを返送する第三研磨テープ送りローラ4gを設けた研磨ヘッド4を備える半導体基板のエッジ研磨装置1。
【選択図】 図1
【解決手段】 回転軸4aに軸承されたカム状フレーム4bに、ストップピン4c、半導体基板のエッジ部に前記研磨テープTの研磨面を当接するとともに供給リール2より供給された研磨テープを表面滑走させるシリコンゴムスポンジ製当て板4d、この当て板を挟んで離間して設けた一対の第一研磨テープ送りローラ4eと第二研磨テープ送りローラ4f、前記第一エンジニアリング樹脂製研磨テープ送りローラの背面に設けられ巻取リール3側に研磨テープを返送する第三研磨テープ送りローラ4gを設けた研磨ヘッド4を備える半導体基板のエッジ研磨装置1。
【選択図】 図1
Description
本発明は、シリコン基盤表面にプリント配線が施された半導体基板、またはこの半導体基板のプリント配線面に保護フィルムを貼付し、この半導体基板のシリコン基盤面を上方に向けて吸着チャックに吸着させ、吸着チャックの回転により回転している半導体基板のエッジ面にエッジ研磨装置の研磨テープを押し当てて半導体基板のエッジ面を研磨するに用いるエッジ研磨装置に関する。このエッジ研磨装置により半導体基板のエッジ部の20〜88度斜角を残してエッジ研磨された半導体基板は、このエッジ研磨加工の次工程のカップホイール型研削砥石を用いて半導体基板のシリコン基盤面を裏面研削加工して厚み20〜100μmまでシリコン基盤厚みを減じる裏面研削方法において、半導体基板のチッピングが防止された厚み20〜100μmシリコン基盤の半導体基板を得ることができる。また、前記裏面研削時のカップホイール型砥石の使用寿命が向上される。
半導体基板の裏面(シリコン基盤面)を研削する方法において、裏面研削中の基板のチッピング防止のため、あるいは裏面研削された基板の搬送パッドによる搬送途中でのチッピング防止のため、半導体基板の裏面研削加工前の工程もしくは裏面研削と一緒に半導体基板のベベル部およびエッジ部を砥石ローラや研磨テープを用いてトリミングすることが行われている。
特開平11−33887号公報(特許文献1)は、半導体基板を保持するチャックテーブルと、前記チャックテーブルに保持された前記半導体基板の片面に押し付けられて、該半導体基板の片面を研削加工する研削用砥石と、前記チャックテーブルに保持された前記半導体基板のエッジに押し付けられて、該半導体基板のエッジを面取り加工する面取り用砥石とを備え、前記研削用砥石による研削加工と、前記面取り用砥石による面取り加工とを同時に行うことが可能な半導体基板の研削装置を提案する。
また、特開2003−273053号公報(特許文献2)は、保護フィルムが貼付された半導体基板の裏面を平面研削する平面研削方法であって、前記半導体基板の周縁部を周方向に沿って砥石で切断して前記裏面に対して略垂直な垂直切断面または前記裏面側から表面側にかけて外側に傾斜した傾斜切断面を形成する周縁部切断工程と、前記周縁部が砥石により切断された半導体基板の裏面を前記垂直切断面または前記傾斜切断面を残存させながら平面研削する裏面研削工程、とを含む平面研削方法を提案する。
また、特許第4125148号明細書(特許文献3)は、研磨テープを基板の所定の箇処に押圧し、該研磨テープと基板との摺接により基板の研磨を行なう基板処理装置において、研磨テープを弾性部材で支持し前記弾性部材を延ばして張力を発生させ、この張力により一定の力で前記研磨テープの砥粒バインダー塗工層を基板のベベル部に押圧して該ベベル部を研磨するベベル部研磨部と、前記基板の研磨中に、基板の被研磨面に摺接して研磨を行なう研磨テープに加わるテンションまたは基板の被研磨面に研磨テープを押圧する機構部に加わるテンションを計測し被研磨面の研磨状態を判断する制御部を備えた基板処理装置を提案する。
さらに、特許第4463326号明細書(特許文献4)は、半導体素子が形成された表面を保護シートにより貼着された半導体ウェーハの外周端部を研磨する装置であって、
前記半導体ウェーハの前記表面を下に裏面を上に向けて、水平方向に保持する半導体ウェーハ保持手段と、
該半導体ウェーハ保持手段により保持された半導体ウェーハの外周端部を研削するための走行可能な研磨テープを内装した研磨ヘッドとを備え、
該研磨ヘッドは、前記研磨テープを前記半導体ウェーハの外周端部に押し当てて下から上に向けて垂直方向、または水平方向に走行して、前記保護シートと共に前記半導体ウェーハ外周端部を研磨するように、回動可能に設けられ、
前記研磨テープは、砥粒を静電散布により付着されたものであることを特徴とする半導体ウェーハ外周端部のテープ研磨装置を提案する。
前記半導体ウェーハの前記表面を下に裏面を上に向けて、水平方向に保持する半導体ウェーハ保持手段と、
該半導体ウェーハ保持手段により保持された半導体ウェーハの外周端部を研削するための走行可能な研磨テープを内装した研磨ヘッドとを備え、
該研磨ヘッドは、前記研磨テープを前記半導体ウェーハの外周端部に押し当てて下から上に向けて垂直方向、または水平方向に走行して、前記保護シートと共に前記半導体ウェーハ外周端部を研磨するように、回動可能に設けられ、
前記研磨テープは、砥粒を静電散布により付着されたものであることを特徴とする半導体ウェーハ外周端部のテープ研磨装置を提案する。
前記特許文献2、特許文献3および特許文献4記載の半導体基板のエッジおよびベベル部を研磨テープで研磨して得られた半導体基板の厚み720〜770μmのシリコン基盤面をカップホイール型砥石を用いて裏面研削し、シリコン基盤の厚みを20〜80μmにまで減らすとき、シリコン基盤の厚み半分からプリント配線表面部に到る厚みは、鋭角を示すので保護フィルムの1〜3mm幅の外周縁円で半導体基板に貼付されていない環状部分が有り、裏面研削時にこの未貼付部分の保護フィルム、またはその研削屑が研削により高温となったカップホイール型砥石の砥石刃に付着し、研削能力を低下させることが判明した。
また、米国特許第6641464号明細書(特許文献5)は、トップウエハとボトムウエハの2枚を接着剤で貼り合わせた接合ウエハのトップウエハと接着剤のエッジ部を60〜160度の傾斜角度に研磨テープでエッジトリミングする方法およびそれに用いるエッジ研磨装置を開示する。
半導体基板のシリコン基盤厚み720〜770μmを厚み20〜100μmにまで減らす半導体基板の裏面研削加工において、裏面研削加工された半導体基板の割れやチッピングを防止するため、半導体基板のプリント配線面に光硬化性アクリル系樹脂粘着剤や熱分解型発泡樹脂粘着剤をフィルムに塗布した保護フィルムを貼付し、保護フィルム貼付半導体基板のエッジトリミングおよび裏面研削加工が行われる。
前記特許文献1記載の半導体基板の研削装置では、裏面研削加工とエッジトリミングが同時に行われるため、カップホイール型研削砥石の刃先に保護フィルムの残滓が接着することが予測される。
本願発明は、後工程の上記半導体基板の裏面研削工程でカップホイール型砥石の使用寿命を延ばすことができる半導体基板エッジ部を形成する半導体基板のエッジ研磨装置の提供を目的とする。
請求項1の発明は、
研磨面を有する研磨テープが巻回された供給リールと、
前記研磨テープを巻取る巻取リールと、
回転軸に軸承されたカム状フレームに、ストップピン、半導体基板のエッジ部に前記研磨テープの研磨面を当接するとともに前記供給リールより供給された研磨テープを表面滑走させるシリコンゴムスポンジ製当て板、この当て板を挟んで離間して設けた一対の第一エンジニアリング樹脂製研磨テープ送りローラと第二エンジニアリング樹脂製研磨テープ送りローラ、前記第一エンジニアリング樹脂製研磨テープ送りローラの背面に設けられ前記巻取リール側に研磨テープを返送する第三エンジニアリング樹脂製研磨テープ送りローラとを設けた研磨ヘッドと、
前記研磨ヘッドの回転軸を回転駆動させるサーボモータと、
前記巻取リールを回転させるモータと、
前記供給リールより研磨テープを引き出し、前記研磨ヘッドの第一エンジニアリング樹脂製研磨テープ送りローラに研磨テープを供給する中継送りローラを回転駆動させるステッピングモータと、
を備えることを特徴とする半導体基板のエッジ研磨装置を提供するものである。
研磨面を有する研磨テープが巻回された供給リールと、
前記研磨テープを巻取る巻取リールと、
回転軸に軸承されたカム状フレームに、ストップピン、半導体基板のエッジ部に前記研磨テープの研磨面を当接するとともに前記供給リールより供給された研磨テープを表面滑走させるシリコンゴムスポンジ製当て板、この当て板を挟んで離間して設けた一対の第一エンジニアリング樹脂製研磨テープ送りローラと第二エンジニアリング樹脂製研磨テープ送りローラ、前記第一エンジニアリング樹脂製研磨テープ送りローラの背面に設けられ前記巻取リール側に研磨テープを返送する第三エンジニアリング樹脂製研磨テープ送りローラとを設けた研磨ヘッドと、
前記研磨ヘッドの回転軸を回転駆動させるサーボモータと、
前記巻取リールを回転させるモータと、
前記供給リールより研磨テープを引き出し、前記研磨ヘッドの第一エンジニアリング樹脂製研磨テープ送りローラに研磨テープを供給する中継送りローラを回転駆動させるステッピングモータと、
を備えることを特徴とする半導体基板のエッジ研磨装置を提供するものである。
請求項2の発明は、請求項1記載の半導体基板のエッジ研磨装置を用い、ワーク吸着チャックテーブル上に載置された保護フィルム貼付半導体基板を回転し、前記保護フィルム貼付半導体基板のエッジ部に研磨ヘッドの回転軸をサーボモータで回動させて当て板の前面に供給された研磨テープの研磨面を2〜70度の傾斜角度で当接させてトリミング加工して得られた、保護フィルムからシリコン基盤面に到るエッジ傾斜角度(θ)が20〜88度の保護フィルム貼付半導体基板を提供するものである。
本願発明のエッジ研磨装置は、半導体基板のエッジ部およびベベル部を研磨テープで斜めに切り落とすことができるので、特許文献2、特許文献3および特許文献4記載の基板エッジ・ベベル部研磨装置のように基板のベベル部の上下を押す押圧材が不要である。また、本願発明のエッジ研磨装置は、当て板の前面を第一エンジニアリング樹脂製研磨テープ送りローラと第二エンジニアリング樹脂製研磨テープ送りローラの回転軸より半導体基板のエッジ部側に近い位置となるようカム状フレームに固定して設けたので、特許文献2、特許文献3および特許文献4記載の基板エッジ・ベベル部研磨装置のように当て板を半導体基板のエッジ方向へ水平に進退させるエアーシリンダーのような送り機構が不要となり、エッジ研磨装置をコンパクトに設計できた。
保護フィルム貼付半導体基板のエッジ部を半導体基板の直径に応じて傾斜角度20〜88度残るように研磨テープを利用してトリミング加工し、保護フィルムと半導体基板間の隙間が無い保護フィルム貼付半導体基板を得ることができるので、保護フィルム残滓がカップホイール型研削砥石の刃先に付着する危惧が解消される。よって、新しいカップホイール型砥石に交換するまでのカップホイール型砥石の使用期間(寿命)が保護フィルム未貼付の半導体基板の裏面研削加工のときと比較して短くなることがない。
以下、図面を用いて本発明の半導体基板のエッジ研磨装置を説明する。
図1および図2に示す半導体基板wのエッジ研磨装置1は、研磨面Taを有する研磨テープTが巻回された供給リール2と、
前記研磨テープTを巻取る巻取リール3と、
回転軸4aに軸承されたカム状フレーム4bに、ストップピン4c、半導体基板のエッジ部に前記研磨テープの研磨面Taを当接するとともに前記供給リール2より供給された研磨テープを表面滑走させるシリコンゴムスポンジ製当て板4d、この当て板4dを挟んで離間して設けた一対の第一エンジニアリング樹脂製研磨テープ送りローラ4eと第二エンジニアリング樹脂製研磨テープ送りローラ4f、前記第一エンジニアリング樹脂製研磨テープ送りローラ4eの背面に設けられ前記巻取リール側に研磨テープを返送する第三エンジニアリング樹脂製研磨テープ送りローラ4gとを設けた研磨ヘッド4と、
前記研磨ヘッドの回転軸4aを回転駆動させるサーボモータ5と、
前記巻取リール3を回転駆動させるトルクモータ6と、
前記供給リール2より研磨テープTを引き出し、前記研磨ヘッドの第一エンジニアリング樹脂製研磨テープ送りローラ4eに研磨テープを供給する中継送りローラ7a,7bを回転駆動させるステッピングモータ7を備える。
前記研磨テープTを巻取る巻取リール3と、
回転軸4aに軸承されたカム状フレーム4bに、ストップピン4c、半導体基板のエッジ部に前記研磨テープの研磨面Taを当接するとともに前記供給リール2より供給された研磨テープを表面滑走させるシリコンゴムスポンジ製当て板4d、この当て板4dを挟んで離間して設けた一対の第一エンジニアリング樹脂製研磨テープ送りローラ4eと第二エンジニアリング樹脂製研磨テープ送りローラ4f、前記第一エンジニアリング樹脂製研磨テープ送りローラ4eの背面に設けられ前記巻取リール側に研磨テープを返送する第三エンジニアリング樹脂製研磨テープ送りローラ4gとを設けた研磨ヘッド4と、
前記研磨ヘッドの回転軸4aを回転駆動させるサーボモータ5と、
前記巻取リール3を回転駆動させるトルクモータ6と、
前記供給リール2より研磨テープTを引き出し、前記研磨ヘッドの第一エンジニアリング樹脂製研磨テープ送りローラ4eに研磨テープを供給する中継送りローラ7a,7bを回転駆動させるステッピングモータ7を備える。
図中、1aはエッジ研磨装置のハウジング、4kは、回転軸4aのハウジング4h先端し面に設けられた位置決めピンで、サーボモータ5により回動されたカム状フレーム4b端面またはストップピン4cがこの位置決めピン4kに当接してその回転角以上カム状フレーム4b端面が回動しない役目をなす。4sは変位センサを、10は冷却水噴出ノズルを示す。
前記研磨テープ送りローラ4e、4fは、ポリエーテル・エーテルケトン樹脂(PEEK)、ポリアセタール樹脂、ナイロン6,10、ナイロン6,12等のエンジニアリング樹脂を素材とし、耐熱性、滑り性に優れる研磨テープ送りローラである。
前記シリコンゴムスポンジ製当て板4dは、表面滑り性に優れるとともに、弾力性に富み、半導体基板wのエッジ部に研磨テープTを押し当てたときの応力に応じて厚み方向に伸縮できる弾性を有する弾性体である。図面では、厚み9mm、高さ26mm、幅48mmのシリコンゴムスポンジ製当て板を用いた。シリコンゴムスポンジ製当て板4dは、その前面が、前記第一エンジニアリング樹脂製研磨テープ送りローラ4eの回転軸と第二エンジニアリング樹脂製研磨テープ送りローラ4fの回転軸より半導体基板のエッジに近い位置となる(図3では3mm研磨テープ送りローラ4e,4fの回転軸面より出張って当て板4dの前面は設けられている)位置にカム状フレーム4bに固定される。
前記シリコンゴムスポンジ製当て板4dの素材は、オルガノポリシロキサン発泡体、ポリイミドオルガノポリシロキサン発泡体、あるいは、ポリウレタン発泡体表面にオルガノポリシロキサンコーティング剤を5〜30μm厚み塗布し、硬化して膜を形成した積層体などが利用される。発泡体の独立したセル径は20〜300μmが好ましい。
図1において仮想線で示される位置に研磨ヘッド4は、サーボモータ5駆動により回転軸4aが回動され、吸着チャックテーブル9上に吸着して固定された半導体基板wのエッジ部に研磨テープTを間に介してエッジ端面の垂直面に対し、70〜2度の傾斜角(90−θ)を以ってシリコンゴムスポンジ製当て板4dは当接される。前記傾斜角(90−θ)は半導体基板wの直径に依存し、200mm、300mm、450mm径半導体基板では2〜5度、4〜6インチ径半導体基板では55〜70度である。よって、エッジトリミングされた保護フィルムからシリコン基盤面に到るエッジ傾斜角度(θ)は20〜88度、即ち、200mm,300mm、450mm径半導体基板では85〜88度、4インチ径半導体基板では20〜35度のエッジ傾斜角(θ)を有する保護フィルム貼付半導体基板が得られる(図5参照)。
保護フィルムFと半導体基板w間の接着面は、自由な保護フィルム部分Fgも含め半導体基板のベベル部およびエッジ部が斜め切断(研磨加工)されたことにより、後工程の裏面研削において、保護フィルム研削残滓がカップホイール型砥石の砥石刃先に付着することがないので、保護フィルム起因によるカップホイール型砥石の寿命低減が解消される。
半導体基板としては、DRAM、LED基板、MEMS基板、STV基板、SOI基板などが利用できる。
前記保護フィルムFの基材フィルム素材は、直鎖線状低密度ポリエチレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリイミド等が使用されており、そのフィルム厚みは20〜200μmが一般である。前記保護フィルムFは、古河電工株式会社、リンテック株式会社、積水化学工業株式会社、三井化学株式会社、日立化成株式会社、東亞合成株式会社、東レ株式会社などから入手できる。
前記保護フィルムFは半導体基板wのプリント配線面に保護フィルムF外周縁Fgが1〜3mm幅半導体基板の外周縁よりはみ出る寸法で貼付される。よって、保護フィルム貼付半導体基板の研磨テープによるエッジトリミング加工の際、エッジトリミング加工された保護フィルム貼付半導体基板の断面において図3bに示すように保護フィルムFと半導体基板w間に隙間が生じないよう、および半導体基板の外周縁から外み出す保護フィルムFgが存在しないようトリミング加工する必要が生じる。
研磨テープTとしては、日本ミクロコーティング株式会社が市販している厚みが100〜150μmの二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム基材(Tb)表面に砥番#4,000〜#10,000の炭化珪素砥粒および/または砥番#4,000〜#12,000のダイヤモンド砥粒の分散した砥粒バインダー塗工剤を5〜10μmの厚みで塗布し、乾燥して砥粒バインダー塗工層(Tf)を設けた研磨テープが好ましい。
研磨テープ利用半導体基板のエッジ研磨装置1を用い、保護フィルムが貼付された半導体基板のエッジ部をトリミングする研磨加工は次の工程を経て行われる。
(1)収納カセット内に収納されたシリコン基盤ws表面にプリント配線が施された半導体基板wのプリント配線面に保護フィルムFを貼付した保護フィルム貼付半導体基板は、多関節型搬送ロボット装置に把持または吸着され、前記保護フィルム貼付半導体基板のシリコン基盤ws面を上方に向け、保護フィルム面を吸着チャックテーブル9面に向けて移送され、そこで吸着チャックテーブル9にバキューム吸着させ固定される。
(2)次いで、吸着チャックテーブル9を昇降させ、研磨開始位置に保護フィルム貼付半導体基板の高さ位置を調整する。
(3)吸着チャックテーブル9を回転させる。吸着チャックテーブル9の回転数は、1,800〜5,000min−1が好ましい。
(4)トルクモータ6を稼動することにより巻取リール3の回動軸を回転させ、この回転軸に研磨テープを巻き取る作業を開始する。この際、ステッピングモータ7も稼動させ、中継送りローラ7aの回転軸の回転速度を巻取リール3の回動軸の回転速度より小さくし、巻き取られる研磨テープのスピードをブレーキ制御することにより、研磨ヘッド4の第一エンジニアリング樹脂製研磨テープ送りローラ4e、当て板4d、第二エンジニアリング樹脂製研磨テープ送りローラ4f、第三エンジニアリング樹脂製研磨テープ送りローラ4g間における研磨テープを弛ませることなく緊張した状態に保って研磨テープ送りすることができる。
(5)研磨ヘッド4のサーボモータ5の稼動により回転軸4aを(90−θ)度回転させ、当て板4dを回転している半導体基板wのエッジ部に研磨テープの研磨面Taを当接させ、摺擦させてエッジ研磨加工を開始する。この際、冷却水供給ノズル10より研磨テープの研磨面Taと半導体基板wのエッジ部が接する加工作用部にむけて冷却水が供給される。
(6)エッジ研磨加工を5〜20秒行い、ついで、トルクモータ6、ステッピングモータ7の稼動を止め、研磨テープの移動を停止させた後、サーボモータ5を回転軸4aが−(90−θ)度の元の位置に戻るように逆回転方向に稼動させ、研磨ヘッド4を待機位置に戻す。
(7)吸着チャックテーブル9の回転を停止し、ついで、昇降させて研磨開始位置に戻す。
本発明の半導体基板のエッジ研磨装置は、コンパクトに設計されており、半導体基板製造機械への設置が容易である。また、エッジトリミング加工された保護フィルム貼付半導体基板の裏面研削加工時において、カップホイール型研削砥石の刃先に保護フィルム残滓が融着することも無いので、カップホイール型研削砥石の交換時期(寿命)が従来の裏面研削装置のカップホイール型研削砥石の交換時期より短くなることもない。
1 半導体基板のエッジ研磨装置
2 供給リール
3 巻取リール
4 研磨ヘッド
4a 回転軸
4b カム状フレーム
4d シリコンゴムスポンジ製当て板
4e 第一エンジニアリング樹脂製研磨テープ送りローラ
4f 第二エンジニアリング樹脂製研磨テープ送りローラ
5 サーボモータ
6 トルクモータ
7 ステッピングモータ
T 研磨テープ
F 保護フィルム
w 半導体基板
2 供給リール
3 巻取リール
4 研磨ヘッド
4a 回転軸
4b カム状フレーム
4d シリコンゴムスポンジ製当て板
4e 第一エンジニアリング樹脂製研磨テープ送りローラ
4f 第二エンジニアリング樹脂製研磨テープ送りローラ
5 サーボモータ
6 トルクモータ
7 ステッピングモータ
T 研磨テープ
F 保護フィルム
w 半導体基板
Claims (2)
- 研磨面を有する研磨テープが巻回された供給リールと、
前記研磨テープを巻取る巻取リールと、
回転軸に軸承されたカム状フレームに、ストップピン、半導体基板のエッジ部に前記研磨テープの研磨面を当接するとともに前記供給リールより供給された研磨テープを表面滑走させるシリコンゴムスポンジ製当て板、この当て板を挟んで離間して設けた一対の第一エンジニアリング樹脂製研磨テープ送りローラと第二エンジニアリング樹脂製研磨テープ送りローラ、前記第一エンジニアリング樹脂製研磨テープ送りローラの背面に設けられ前記巻取リール側に研磨テープを返送する第三エンジニアリング樹脂製研磨テープ送りローラとを設けた研磨ヘッドと、
前記研磨ヘッドの回転軸を回転駆動させるサーボモータと、
前記巻取リールを回転させるモータと、
前記供給リールより研磨テープを引き出し、前記研磨ヘッドの第一エンジニアリング樹脂製研磨テープ送りローラに研磨テープを供給する中継送りローラを回転駆動させるステッピングモータと、
を備えることを特徴とする半導体基板のエッジ研磨装置。 - 請求項1記載の半導体基板のエッジ研磨装置を用い、ワーク吸着チャックテーブル上に載置された保護フィルム貼付半導体基板を回転し、前記保護フィルム貼付半導体基板のエッジ部に研磨ヘッドの回転軸をサーボモータで回動させて当て板の前面に供給された研磨テープの研磨面を2〜70度の傾斜角度で当接させてトリミング加工して得られた、保護フィルムからシリコン基盤面に到るエッジ傾斜角度(θ)が20〜88度の保護フィルム貼付半導体基板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010257466A JP2012109422A (ja) | 2010-11-18 | 2010-11-18 | 半導体基板のエッジ研磨装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010257466A JP2012109422A (ja) | 2010-11-18 | 2010-11-18 | 半導体基板のエッジ研磨装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012109422A true JP2012109422A (ja) | 2012-06-07 |
Family
ID=46494721
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010257466A Pending JP2012109422A (ja) | 2010-11-18 | 2010-11-18 | 半導体基板のエッジ研磨装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2012109422A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111775005A (zh) * | 2020-07-09 | 2020-10-16 | 厦门市诺盛测控技术有限公司 | 一种应变计自动打磨调阻装置 |
CN118493218A (zh) * | 2024-07-09 | 2024-08-16 | 深圳西可实业有限公司 | 曲面单面抛光机 |
-
2010
- 2010-11-18 JP JP2010257466A patent/JP2012109422A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111775005A (zh) * | 2020-07-09 | 2020-10-16 | 厦门市诺盛测控技术有限公司 | 一种应变计自动打磨调阻装置 |
CN118493218A (zh) * | 2024-07-09 | 2024-08-16 | 深圳西可实业有限公司 | 曲面单面抛光机 |
CN118493218B (zh) * | 2024-07-09 | 2024-09-13 | 深圳西可实业有限公司 | 曲面单面抛光机 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5339680B2 (ja) | 表面の研磨 | |
JP5519256B2 (ja) | 裏面が研削された基板を研磨する方法および装置 | |
JP4895671B2 (ja) | 加工装置 | |
US20090036042A1 (en) | Methods and apparatus for polishing an edge of a substrate | |
JP4855097B2 (ja) | 半導体チップ分離装置 | |
JP2008290233A (ja) | 半導体製造における基板斜面及び縁部の研磨用の高性能及び低価格の研磨テープのための方法及び装置 | |
TW201001515A (en) | Method and apparatus for polishing outer circumferential end section of semiconductor wafer | |
JP6850099B2 (ja) | 半導体装置の製造方法及び半導体製造装置 | |
US8506362B2 (en) | Polishing apparatus and polishing method | |
KR101049024B1 (ko) | 반도체 웨이퍼에의 보호테이프 접착방법 및 접착장치 | |
JP4904198B2 (ja) | シート貼付装置、シート切断方法及びウエハ研削方法 | |
JP2012074545A (ja) | 保護フィルム貼付半導体基板の裏面研削方法 | |
JP2012109422A (ja) | 半導体基板のエッジ研磨装置 | |
JP5501062B2 (ja) | シート貼付装置および貼付方法 | |
US7179159B2 (en) | Materials for chemical mechanical polishing | |
US20150306727A1 (en) | Polishing method and holder | |
JP2007221030A (ja) | 基板の加工方法 | |
KR20200042849A (ko) | 웨이퍼의 가공 방법 | |
JP2006100786A (ja) | ウェハの製造方法 | |
JP5558300B2 (ja) | 粘着シート貼り替え用補助治具 | |
JP2016049606A (ja) | 研磨装置 | |
JP2006156688A (ja) | 鏡面面取り装置およびそれ用の研磨布 | |
JP2004090119A (ja) | 板状体の片面研磨装置および該装置に用いるバックパッドとその成形方法 | |
JP2015205389A (ja) | 研磨パッド及び研磨装置 | |
US20220037160A1 (en) | Processing method of wafer, protective sheet, and protective sheet laying method |