JP2012094348A - 光電変換装置、及び光電変換装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】第一基板11、第一電極12、有機層15、第二電極16、及び第二基板17が、この順に配置される光電変換装置1であって、第一電極12と有機層15との間に補助電極13が配置され、光電変換装置1を第一基板11の厚さ方向断面で見た場合に、補助電極13の厚さ寸法は、有機層15の厚さ寸法よりも大きいことを特徴とする。
【選択図】図1
Description
このような光電変換素子においては、水や空気が素子寿命などの性能に大きく影響を及ぼすため、光電変換素子を水や空気から保護するための封止構造が重要であり、種々の封止構造が検討されている。
例えば、特許文献1には、凹部が形成された封止缶により有機EL素子が封止された有機EL発光装置が記載されている。この有機EL発光装置は、照明装置としても用いられる。この有機EL発光装置では、透明ガラス基板上に、透明電極が形成され、この透明電極上に所定パターンの補助電極が形成され、当該補助電極は、積層構造の絶縁層によって被覆されている。また、この透明電極上に有機EL層が形成され、絶縁層と有機EL層を被覆して対向電極が設けられている。そして、封止缶と透明ガラス基板とが接着材を介して透明ガラス基板の外周縁で接合され、有機EL素子が当該凹部に収容され、封止缶と対向電極とが接触しないようになっている。
また、特許文献2には、第1保護膜、及び第2保護膜からなる保護部により外部の水分または酸素による劣化から発光領域を保護する電界発光パネルが記載されている。この電界発光パネルは、照明の光源にも用いられる。この電界発光パネルは、基板上に、第1電極と、第1電極上に形成される補助電極と、第1電極、及び補助電極上に形成され発光領域を画定する発光層と、発光層上に形成された第2電極とを含む。保護部は、第1保護膜と第2保護膜で形成されている。
但し、特許文献2に記載の電界発光パネルでは、保護部が膜からなるので外部からの衝撃に弱い。そのため、実際にこの電界発光パネルを照明装置として用いる場合には、凹部が形成された封止基板と基板とを基板の外周縁で接合し、発光領域を当該凹部に収容し、封止基板と第2電極とが接触しないようにする封止構造が採用される。
特に、特許文献1の有機EL発光装置や特許文献2の電界発光パネルのように、有機EL素子を照明装置の光源に用いることを想定している場合には、可能な限り基板上のほぼ全面に電極や発光層を形成して発光部面積を大きくする。そして、透明電極または第1電極上には、有機EL素子の発光ムラを少なくするために補助電極を形成する。この補助電極が形成された部分は、非発光部となるため、非発光部をさらに増やさないためにも、支持部材を別途配置する封止構造は、採用されていない。よって、凹部が形成された封止基板等を用いた封止構造が主流となっている。
また、光電変換素子が有機薄膜太陽電池素子の場合も、受光部の面積を大きくする必要があるので、同様に、凹部が形成された封止基板等を採用する封止構造が主流となっている。
また、当該凹部を形成するための加工費用が高いという問題もある。
第一基板、第一電極、有機層、第二電極、及び第二基板が、この順に配置される光電変換装置であって、
前記第一電極と前記有機層との間に補助電極が配置され、
前記光電変換装置を前記第一基板の厚さ方向断面で見た場合に、前記補助電極の厚さ寸法は、前記有機層の厚さ寸法よりも大きい
ことを特徴とする。
よって、本発明の光電変換装置では、第一基板、及び第二基板に従来技術のザグリのような光電変換素子を収容するための凹部が不要である。ゆえに、本発明の光電変換装置は、従来の封止構造と比べて厚さ寸法を小さくでき、かつ安価に製造できる。
このように、厚さ寸法を小さくできるため、本発明の光電変換装置は、光電変換素子に有機EL素子を用いたフレキシブル照明用途にも適している。
前記第二電極、及び前記第二基板が接触している
ことが好ましい。
前記第一基板、及び前記第二基板の間には、前記有機層を封止する封止部材が前記第一基板、及び前記第二基板の外周縁に沿って配置され、
前記補助電極の厚さ寸法、及び前記封止部材の厚さ寸法は、下記式(1)を満たす
ことが好ましい。
0.2X < Y < 5X ・・・(1)
前記補助電極の厚さ寸法が、0.5μm以上30μm以下である
ことが好ましい。
前記封止部材は、絶縁性材料からなる
ことが好ましい。
前記補助電極が配置されない前記第一電極、及び前記第二電極の間の領域は、前記有機層が配置される発光部とされ、
前記発光部では、前記第二電極が前記第二基板と離間している
ことが好ましい。
前記発光部の前記第二電極、及び前記第二基板の間には、放熱部材が配置されている
ことが好ましい。
前記光電変換装置を前記第一基板の面に向かって見た場合、前記補助電極は、前記発光部を囲む枠状に形成されている
ことが好ましい。
さらに、放熱部材が流動性を有する場合には、放熱部材が当該枠内に配置され、当該枠外への流出を防止できる。すなわち、厚さ寸法が有機層のそれよりも大きい補助電極が枠状に形成されたことで、補助電極は、流動性の放熱部材に対して堤防の機能を果たす。
そのため、放熱部材が第一基板と第二基板との接合部へ流出して接合を妨げたり、光電変換装置外部へと流出したりすることを防止できる。
前記光電変換装置を前記第一基板の面に向かって見た場合、前記補助電極は、前記発光部を囲み、一部が開放されたパターン状に形成されている
ことが好ましい。
一方で、補助電極のパターンが枠状に形成され、開放された部分が形成されていないと、上記と同様の繰り返し折り曲げによって第二電極が補助電極の枠状のパターンに沿って断線するおそれがある。第二電極が枠状に断線してしまうと、第二電極には、断線部分によって閉じた領域が形成され、開放された部分が残らない。すなわち、第二電極には、電気的に接続していない部分が形成されてしまう。よって、第二電極の枠状に断線した部分の当該枠内に通電しなくなる。例えば、光電変換素子が有機EL素子の場合には、この第二電極の当該枠内と対応する位置の有機層が発光しなくなる。
前記補助電極と前記第一電極とは導通し、前記補助電極と前記有機層とは絶縁されている
ことが好ましい。
前記補助電極と前記有機層との間に絶縁部が形成されている
ことが好ましい。
前記絶縁部は、ポリイミドを含む
ことが好ましい。
前記補助電極は、銀、金、タングステン、及びネオジウムの内の少なくとも一つと樹脂とを含む
ことが好ましい。
前記第一基板は、透光性基板であり、
前記第一電極は、透明電極である
ことが好ましい。
前記第二基板は、金属である
ことが好ましい。
また、第二電極を透明電極とすれば、当該第二基板を反射板として利用できる。
第一基板、第一電極、有機層、第二電極、及び第二基板が、この順に配置される光電変換装置の製造方法であって、
前記第一基板の一方の面に前記第一電極を形成する工程と、
前記第一電極の上に補助電極を形成する工程と、
前記第一電極、及び前記補助電極の上に前記有機層を形成する工程と、
前記有機層の上に、前記第二電極を形成する工程と、
前記第二電極を形成した後、前記第一基板と前記第二基板とを貼り合わせて接合する工程と、を実施し、
前記光電変換装置を前記第一基板の厚さ方向断面で見た場合に、前記補助電極の厚さ寸法を前記有機層の厚さ寸法よりも大きく形成する
ことを特徴とする。
さらに、第一基板、及び第二基板にザグリのような凹部を形成する必要もないので、光電変換装置の厚さ寸法を小さくできるし、安価に製造できる。
前記補助電極を形成する工程で、前記第一基板の面に向かって見た場合に、前記補助電極を枠状に形成し、
前記第二電極を形成する工程の後であって前記第一基板と前記第二基板とを貼り合わせて接合する工程の前に、前記補助電極の当該枠内に流動性の放熱部材を注入する工程を実施する
ことが好ましい。
そのため、放熱部材の注入作業が容易になる。さらに、放熱部材が第一基板と第二基板との接合部へ流出したり、光電変換装置外部へと流出したりすることを防止できる。
前記補助電極を形成する工程の後であって前記有機層を形成する工程の前に、前記補助電極の上に絶縁部を形成する工程を実施し、
前記有機層と前記補助電極との間に前記絶縁部を介在させる
ことが好ましい。
また、この発明によって製造される光電変換装置は、補助電極の厚さ寸法を有機層の厚さ寸法よりも大きく形成するので、補助電極を形成するための材料に銀ペーストなどの金属、及び樹脂を含むペースト状の材料を用いて厚さ寸法を大きく形成し易くすることがある。そして、ペースト状の材料を用いた補助電極の形成に続いて、絶縁部を形成することなく有機層を蒸着法やスパッタリング法などのように減圧下で形成しようとすると、ペースト状の材料からガスが放出して、有機層に不純物が混入するおそれがある。
しかしながら、この発明によれば、補助電極の上に絶縁部が形成されるので、補助電極の表面を絶縁部で覆うことができる。そのため、有機層の形成時に補助電極からのガス放出を防止し、有機層への不純物混入を防止できる。
以下、本発明の第一実施形態を図面に基づいて説明する。
(光電変換装置の全体構成)
図1は、本発明の第一実施形態に係る光電変換装置1の基板厚さ方向に沿った断面図である。図2〜図9は、光電変換装置1の製造工程を説明する斜視図、もしくは断面図である。
光電変換装置1では、第一基板11、第一電極12、有機層15、第二電極16、及び第二基板17が、この順に配置される。第一電極12、有機層15、及び第二電極16で光電変換素子が構成され、第一実施形態では、光電変換素子が有機EL素子である場合について説明する。また、第一電極12と有機層15との間には、補助電極13が配置され、補助電極13と有機層15との間には、絶縁部14が形成されている。さらに、第一基板11、及び第二基板17の間には、有機層15を封止する封止部材18が第一基板11、及び第二基板17の外周縁に沿って配置されている。そして、第二電極16と第二基板17との間には、放熱部材19が備えられている。
なお、第一実施形態の説明において、上下左右の方向を示す場合は、図1の断面図のように、第一基板11を下に、第二基板17を上にした場合に基づいているものとする。
また、図2おいて、(B)の断面図は、(A)のII−II線に沿って第一基板11を切断し、矢印方向に見た場合の断面図である。同様に図1、及び図3〜9の断面図についても、図2と同じ第一基板11の位置で切断して、矢印方向に見た断面図を示すものとする。
第一基板11は、第一電極12などを支持するための平滑な板状の部材である。
第一実施形態では、第一基板11を透光性の基板とし、第一基板11側を有機EL素子の光の取出し方向とする。そのため、第一基板11の可視領域(400nm以上700nm以下)の光の透過率は、50%以上であることが好ましい。具体的には、ガラス板、ポリマー板などが挙げられる。ガラス板としては、特にソーダ石灰ガラス、バリウム・ストロンチウム含有ガラス、鉛ガラス、アルミノケイ酸ガラス、ホウケイ酸ガラス、バリウムホウケイ酸ガラス、石英などが挙げられる。またポリマー板としては、ポリカーボネート系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエチレンテレフタレート系樹脂、ポリエーテルサルファイド系樹脂、ポリサルフォン系樹脂などを原料として用いてなるものを挙げることができる。光電変換装置1がフレキシブル性を必要とする用途に用いられる場合は、第一基板11の材料としては、可撓性のある材料が好ましく、例えば、ポリマー板が好ましい。
また、第一基板11の寸法としては、複数の光電変換装置1を隣接配置させて照明の光源とする場合には、例えば、縦の長さ寸法がおよそ80mmから100mmまで、横の長さ寸法がおよそ80mmから100mmまで、厚さ寸法が0.1mm以上から5mmまでの板材を用いることができる。なお、大型の基板材料から複数枚の第一基板11を切り出して用いてもよい。
第一電極12は、有機EL素子における陽極として、正孔を有機層15に注入する役割を担うものであり、4.5eV以上の仕事関数を有することが効果的である。
第一電極12は、第一基板11上に形成される。このとき、第一基板11の接続部11Aには、陽極としての第一電極12から電気的取出しを行うための取出電極12Aが第一電極12に連続して形成される。また、第一基板11の接続部11Bには、陰極としての第二電極16から電気的取出しを行うための取出電極12Bが溝部11Cを介して形成されている。取出電極12Bは、第一電極12と電気的に接続していない。
光電変換装置1では、有機層15からの発光を第一電極12側から取り出すため、第一電極12の可視領域の光の透過率を10%より大きくすることが好ましい。また、第一電極12のシート抵抗は、数百Ω/□(Ω/sq。オーム・パー・スクウェア。)以下が好ましい。第一電極12の厚さ寸法は、用いる材料にもよるが、通常10nm以上1μm以下、好ましくは10nm以上200nm以下の範囲で選択される。
補助電極13は、第一電極12に用いる透明電極材料の電気抵抗による電圧低下を防ぎ、第一電極12に電圧を供給し、第一基板11上の位置による第一電極12に供給される電圧のばらつきを小さくする。補助電極13と第一電極12との間では、両者が電気的に接続されている。また、補助電極13と有機層15との間では、後に詳述する絶縁部14によって、両者が電気的に絶縁されている。
補助電極13は、図1や図3のように、第一電極12の上であって、複数のラインが離間して形成されている。そして、補助電極13は、開口13Cを4つ有する枠状に形成され、第一電極12は、開口13Cを介して露出する。
また、取出電極12Aの上には、第一電極12から電気的取出しを行うための取出補助電極13Aが形成されている。同様にして、取出電極12Bの上には、第二電極16から電気的取出しを行うための取出補助電極13Bが形成されている。取出補助電極13Aは、補助電極13に連続して形成され、取出補助電極13Bは、溝部11Cを介して補助電極13とは連続せずに形成されている。取出補助電極13Bは、補助電極13や第一電極12と電気的に接続していない。
補助電極13の形状は、図3(A)に示すような枠の数や大きさに制限されず、補助電極13のいずれの枠も、第二電極16の面に対して閉じていればよい。すなわち、補助電極13は、堤防のように形成されていればよい。
そして、補助電極13の厚さ寸法をY[μm]とし、後に詳述する封止部材18の厚さ寸法をX[μm]としたときに、前記式(1)を満たすことが好ましい。さらには、補助電極13の厚さ寸法は、1μm以上50μm以下とするのが好ましい。
補助電極13の巾寸法や補助電極13同士の間隔は、素子構成や第一電極12の導電率、補助電極13の枠の形状や数に応じて適宜設定される。しかしながら、補助電極13が形成された部分は、第一基板11の面に向かって見た場合、発光しない部分(非発光部15B)なので、発光面積を大きくする観点からすると、補助電極13の巾寸法は、小さい方が好ましく、補助電極13のライン間隔は、大きい方が好ましい。
補助電極13の抵抗率は、10−4Ωcm以下が好ましい。
そして、第一電極12と第二電極16との間に補助電極13が配置されずに有機層15が配置される領域が第一電極12と第二電極16間に電圧が印加されたときに有機層15に電流が流れることにより発光する。つまり、当該補助電極13が配置されずに有機層15が配置される領域が発光部15Aとなる。第一電極12と第二電極16との間に補助電極13、及び有機層15が配置される領域は、第一電極12と第二電極16間に電圧が印加されたときにも後述する絶縁層14により電流が流れず、発光しない。つまり、当該補助電極13、及び有機層15が配置される領域は、非発光部15Bとなる。
そして、補助電極13の厚さ寸法が、有機層15の厚さ寸法よりも大きくなるように、補助電極13には、金属や合金、及び樹脂材料を含有するペースト材料を用いるのが好ましい。樹脂材料は、バインダの役割を果たすものであり、アクリル樹脂やPETなどを用いることができる。その他、ペースト状にするために粘度調整のための有機溶剤などを含有してもよい。ペースト材料としては、銀ペーストが好ましい。
絶縁部14は、補助電極13と有機層15とが電気的に絶縁されるように、両者の間に形成されている。このとき、補助電極13と第一電極12との電気的接続は確保されている。また、絶縁部14は、補助電極13と第二電極16との短絡を防止する。補助電極13と第二電極16の間には有機層15が配置されるが、有機層15の膜厚は、1μm以下に形成されることが一般的であり、この場合に、絶縁部14は、後述する第二基板17側からの外力が光電変換装置1に加わることにより有機層15が破損して補助電極13と第二電極16とが短絡することを防止する。
絶縁部14は、補助電極13の上に、補助電極13を覆うように形成される。そして、図5(A)のように、第一電極12が、開口13Cを介して露出している。絶縁部14は、図1や図5(B)のように補助電極13の第一電極12と接していない部分(上面、及び側面)に形成され、有機層15と補助電極13とが接しないようになっている。このように、第一電極12は、開口13Cを介して露出するので、この露出する第一電極12の上に有機層15、及び第二電極16が形成されることになる。すなわち、この露出する部分が前述の発光部15Aを成す位置に相当する。
また、絶縁部14は、取出補助電極13Aの上面全体を覆わないように、取出補助電極13Aの一部を露出させて形成されている。つまり、取出補助電極13Aは、電気的取り出しが可能な程度、露出していればよい。
さらに、絶縁部14は、補助電極13側と取出補助電極13B側とで溝部11Cを介して、連続せずに形成されている。そして、絶縁部14は、取出補助電極13Bの上面全体を覆わないように、取出補助電極13Bの一部を露出させて形成されている。つまり、取出補助電極13Bも、電気的取り出しが可能な程度、露出していればよい。
なお、補助電極13が第一電極12より低抵抗である場合に、開口13Cよりも補助電極13の位置に電流が集中することがある。絶縁部14は、当該補助電極13の位置で高輝度で発光し、輝度ムラとなることを防止する。
また、補助電極13が金属や合金、及び樹脂材料を含有するペースト材料を用いた場合には、補助電極13から溶媒、樹脂材料からの放出ガス、水分、大気成分等が放出されることがある。絶縁部14は、これらのガスが有機層15に対してダメージを与えることを防止する。
また、絶縁部14は、補助電極13とは異なる部材を用いて形成してもよいし、補助電極13の表面に対して処理を施して補助電極13を構成する導電性の材料を絶縁性の材料(金属酸化膜など)に変質させて形成してもよい。
有機層15は、絶縁部14で覆われた補助電極13、及び開口13Cを介して露出する第一電極12の上に形成されている。
また、有機層15は、図6のように、取出補助電極13A、及び取出補助電極13Bの上面全体を覆わないように、絶縁部14の左右端部よりも内側、もしくは同じ位置まで形成されている。その結果、取出補助電極13A、及び取出補助電極13Bの上面は、電気的取り出しが可能な程度、露出している。
さらに、有機層15は、溝部11Cを介して、第一電極12側から取出電極12B側まで連続して形成されている。
発光層は、蛍光発光性であっても燐光発光性であってもよい。
また、正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、及び電子輸送層などを構成する材料としては、従来の有機EL素子において使用される公知のものの中から任意のものを選択して用いることができる。
第二電極16は、有機EL素子における陰極として、電子を有機層15に注入する役割を担うものであり、仕事関数の小さい材料が好ましい。
第二電極16は、有機層15の上に形成されている。
また、接続部11A側の第二電極16は、図7のように、取出補助電極13Aと接触して電気的に接続しないように、絶縁部14の左端部よりも内側、さらには、有機層15の左端部よりも内側、もしくは同じ位置まで形成されている。
一方、接続部11B側の第二電極16は、図7のように、絶縁部14の右端部よりもさらに外側にまで延在して形成され、取出補助電極13Bと接触して電気的に接続している。ただし、取出補助電極13Bの上面は、電気的取り出しが可能な程度、露出している。
さらに、第二電極16は、溝部11Cを介して、第一電極12側から取出電極12B側まで連続して形成されている。
また、第二電極16側から、有機層15からの発光を取り出す態様を採用することもできる。有機層15からの発光を第二電極16側から取り出す場合、第二電極16には、透明電極材料を用い、第二電極16の可視領域の光の透過率を10%より大きくすることが好ましい。また、このような場合は、第一電極12には、金属や合金などが用いられる。
第二電極16のシート抵抗は、数百Ω/□以下が好ましい。
第二電極16の厚さ寸法は、用いる材料にもよるが、通常10nm以上1μm以下、好ましくは50nm以上200nm以下の範囲で選択される。
第二基板17は、後に詳述する封止部材18によって第一基板11と接合される部材であって、平滑な板状の部材である。光電変換装置1における有機EL素子は、第一基板11と第二基板17とが封止部材18によって接合されて封止される。
第二基板17は、第一電極12の上に枠状に形成された補助電極13によって支持されている。上記のとおり、補助電極13の厚さ寸法は、有機層15の厚さ寸法よりも大きく形成され、図1のように、補助電極13は、第二基板17側へ隆起し、補助電極13が形成された部分の有機層15、及び第二電極16は、当該補助電極13の形状に対応して第二基板17側へ隆起している。そして、補助電極13が形成された部分で第二基板17と第二電極16とが接触して第二基板17が支持されている。
また、第二基板17の厚さ寸法としては、複数の光電変換装置1を隣接配置させて照明の光源とする場合には、例えば、縦の長さ寸法がおよそ80mmから100mmまで、横の長さ寸法がおよそ80mmから100mmまで、厚さ寸法が0.1mmから5mmまでの板材を用いることができる。厚さ寸法が0.1mm以下であると、空気の透過率が上昇し密封性能が低下する。
なお、大型の基板材料から複数枚の第二基板17を切り出して用いてもよい。
放熱部材19は、有機EL素子で発生した熱を第二基板17側へ効率的に伝達させる役割を担う。
放熱部材19は、発光部15Aの第二電極16と第二基板17との間に備えられている。
第一実施形態では、放熱部材19は、流動性を有し、枠状に形成された補助電極13の開口13Cの内側に注入され、当該枠から流れ出ないように備えられている(図1、3、及び8参照)。補助電極13は、放熱部材19が、接続部11Aや接続部11Bまで流れ出さないように、堤防の役割も果たしている。そのため、光電変換装置1における補助電極13のいずれの枠も、閉じており、開放していない。
放熱部材19を注入する量としては、第一基板11と第二基板17とを貼り合わせた際に、接続部11Aや接続部11Bまで溢れ出さない程度の量にすることが好ましい。さらに、熱の伝達効率を考えると、第一基板11と第二基板17とを貼り合わせた際に第二電極16と第二基板17との間に形成される空間内が放熱部材19で充填されていて、空気が入っていない状態とするのが好ましい。
放熱部材19としては、熱伝導性が良く、かつ不活性な部材が好ましく、フッ素系オイルなどを用いることができる。
封止部材18は、第一基板11と第二基板17とを接合して、有機層15を封止するための部材である。
封止部材18は、第一基板11、及び第二基板17の外周縁に沿って配置される。そして、封止部材18は、有機層15を囲うようにして枠状に形成されている。なお、図1のように、第一基板11の上であって、第一電極12、補助電極13、取出補助電極13A、取出補助電極13Bが形成されている箇所では、封止部材18は、第一基板11と直接に接触しておらず、第一電極12、補助電極13、取出補助電極13A、取出補助電極13Bのいずれかと接触して接合する。それ以外の箇所では、封止部材18は、第一基板11と直接に接触して接合する。
次に、光電変換装置の製造方法を図に基づいて説明する。
まず、図2に示すように、第一基板11の上に第一電極12を形成し、第一基板11の接続部11Aの上に取出電極12Aを形成し、第一基板11の接続部11Bの上に取出電極12Bを形成する。このとき、溝部11Cも形成する。第一電極12、取出電極12A、及び取出電極12Bは、同じ材料で同時に形成することが好ましい。光電変換装置1では、第一電極12側から光を取り出すため、透明電極材料(ITOなど)で形成する。形成方法としては、スパッタリング法により成膜し、その後フォトリソグラフィ工程によりパターンニングする方法やマスク蒸着法などが挙げられる。
補助電極13、取出補助電極13A、及び取出補助電極13Bは、同じ材料で同時に形成することが好ましい。
形成方法としては、真空蒸着、スパッタリング、プラズマ、イオンプレーティングなどの乾式成膜法やスクリーン印刷、インクジェット印刷、スピンコーティング、ディッピング、フローコーティングなどの湿式成膜法などの公知の方法を採用することができる。光電変換装置1においては、補助電極13の厚さ寸法を大きくする必要があるので、金属や合金、及び樹脂材料を含有するペースト材料(銀ペーストなど)を用いたスクリーン印刷法が好ましい。
補助電極13用のペースト状材料をスクリーン印刷法にて塗布した後、当該ペースト材料を乾燥させて補助電極13、取出補助電極13A、及び取出補助電極13Bを形成する。
まず、図4に示すように、補助電極13の上に絶縁部14を構成するペースト状の電気絶縁性材料を湿式成膜法で塗布する。この際、取出補助電極13Aの上面全体、及び取出補助電極13Bの上面全体を電気絶縁性材料で覆わないようにするとともに、補助電極13の上及び補助電極13の側面部が電気絶縁性材料で覆われるようにする。この塗布を行った時点では、開口13Cの内部にも電気絶縁性材料が塗布されていてもよい。
この塗布の後、第一基板11側から光を電気絶縁性材料に照射する(露光)。この時、光が、開口13C及び溝部11Cの内部に塗布された電気絶縁性材料には照射されるが、補助電極13の上面に塗布された電気絶縁性材料には照射されない。そのため、この露光の後、現像液によって現像すると、開口13C及び溝部11Cの内部に塗布された電気絶縁性材料の部分が除去され、未露光部分が残る。
この現像後に、加熱処理を行うことで、図5に示すように、絶縁部14が補助電極13の上面、及び側面に形成される。そのため、後に形成する有機層15と補助電極13とが接しないようになる。
なお、上記は電気絶縁性材料として、電気絶縁性の樹脂を含むポジ型のフォトレジスト材料を用いる場合について説明したが、電気絶縁性の樹脂を含む熱硬化型レジスト材料を用いて塗布されてもよい。この場合には、前記熱硬化型レジスト材料が、スクリーン印刷法により補助電極13の上及び補助電極13の側面部のみが電気絶縁材料で覆われるように塗布されるのが好ましい。スクリーン印刷法により前記熱硬化型レジスト材料を塗布する場合は、補助電極13の上部及び補助電極13の側面部の鉛直上方に対応する位置に電気絶縁材料を印刷することが好ましい。この場合に、一般的な熱硬化型レジスト材料は、平坦性を有するため、補助電極13の上部と下部との段差があるのに対し、その側面部が完全に被覆されるように成膜される。
次に、第二基板17側の製造工程を説明する。この製造工程では、封止部材18としてフリットガラスを用いる。
まず、封止部材18を第二基板17の第一基板11と接合される面の上に塗布する。この際、第二基板17の外周縁に沿って封止部材18を塗布する。封止部材18の塗布幅は、接合強度を確保しうる接合幅となるように塗布する。塗布する方法としては、ディスペンサ法などが挙げられる。
なお、図9に第二基板17に対して下側に封止部材18が塗布された状態が示されているが、これは図9が第一基板11と第二基板17とを接合する状態を説明する図であるためである。したがって、実際の第二基板17側の製造工程では、第二基板17を下にして、第二基板17の上に封止部材18を塗布する。
そこで、封止部材18を塗布した第二基板17の面とは反対側の面に対してホットプレートなどの加熱手段を配置し、当該反対側の面から第二基板17を加熱して焼成を行う。この焼成によって、前述のアルコール成分を除去する。なお、加熱方法としては、加熱炉内に、当該第二基板17を入れる方法としてもよい。
図9に示すように、第一基板11の第一電極12などが形成された面を上に向けて、第二基板17の封止部材18が塗布された面を下に向けて、所定の接合部位に合わせて貼り合わせる。貼り合わせに際しては、正確な部位で接合するために位置決め治具などを用いてもよい。
続いて、第二基板17を上にした状態で封止部材18が塗布された部位に対してレーザー照射などを行い、当該部位を局所的に加熱する。この加熱によって、封止部材18を溶融させ、封止部材18と接する部材(第一基板11など)とを接合し、有機層15を封止する。接合する際には、放射温度計を使用し、封止部材18の温度が600℃になるよう、レーザー出力、及びレーザー移動速度を調整する。
このようにして、光電変換装置1が製造される。
(1)光電変換装置1を第一基板11の厚さ方向断面で見た場合に、補助電極13の厚さ寸法が、有機層15の厚さ寸法よりも大きい。そのため、第二基板17は、第一電極12の上に枠状に形成された補助電極13によって支持されている。すなわち、第一電極12と有機層15との間に補助電極13を配置することで、補助電極13は、従来の補助電極としての機能だけで無く、第一基板11と第二基板17との間隔を保持するためのスペーサとしての機能も果たす。光電変換装置1では、第一基板11、及び第二基板17に従来の封止構造で採用される光電変換素子を収容するための凹部を形成する必要がない。すなわち、第二基板17は、有機層15の発光部に接触することはないため、有機層15を押し潰すことなく光電変換装素子を封止することができる。ゆえに、光電変換装装置1は、従来の封止構造をとることなく、安全に光電変換素子を封止することができ、厚さ寸法も従来に比べて小さくすることができる。
次に本発明に係る第二実施形態について、図面に基づいて説明する。
第二実施形態に係る光電変換装置2は、図10に示すように、補助電極13と有機層15との間に絶縁部が形成されていない点を除いて、第一実施形態の光電変換装置1と同様の構成である。第二実施形態の説明において第一実施形態と同一の構成要素は同一符号を付して説明を省略もしくは簡略にする。
光電変換装置2では、補助電極13が形成された部分周辺の有機層15が優先的に発光する傾向にある。そのため、補助電極13の枠を構成するライン間隔を小さくすることで、発光する箇所同士が近くなり、発光部を面状に発光させることができる。
次に本発明に係る第三実施形態について、図面に基づいて説明する。
第三実施形態に係る光電変換装置は、図11に示すように、第一実施形態における補助電極13の形状と異なる点を除いて、第一実施形態の光電変換装置1と同様の構成である。第三実施形態の説明において第一実施形態と同一の構成要素は同一符号を付して説明を省略もしくは簡略にする。
第三実施形態に係る光電変換装置において、補助電極33によって形成される補助電極パターンは、第一実施形態に係る補助電極13のように枠状ではなく、フォークの先端のような形状となっている。すなわち、複数本の補助電極33のラインが略平行に第一基板11の一辺側から対辺側に向かって伸びている。そして、補助電極33のラインの先端33Dは、隣のラインの先端33Dと連結していない。すなわち、当該補助電極パターンは、補助電極13の4つの枠のように第二電極16の面に対して閉じた領域が形成されているのではなく、いずれも開放されている。
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲で以下に示される変形をも含むものである。
補助電極のパターンは、その他、網目状、直線もしくは曲線のストライプ状、又は櫛型などに配置したものでもよい。さらに、正三角形、二等辺三角形、直角三角形などの三角形、正方形、長方形、菱形、平行四辺形、台形などの四角形、六角形、八角形などのn角形、円、楕円、星形、ハニカム形などを組み合わせた幾何学図形のラインパターンを規則的に組み合わせて配置したものでもよいし、不規則な形状、不規則なパターンなどで構成してもよい。
例えば、470mm×370mmの1枚の第一基板から、80mm×80mmのサイズの光電変換装置を製造する場合で考えれば、各光電変換装置間の距離を考慮して、20個の光電変換装置1を製造できる。
この場合の製造工程としては、例えば次のようにして行うことができる。
当該第一基板上に、第一実施形態で説明したように、第一電極から順に形成し、当該第一基板と同サイズの第二基板を減圧下で貼り合わせて接合する。その後、大気圧下で、貼り合わせ後の基板をレーザーでカットして、各光電変換装置1を取り出す。
有機薄膜太陽電池素子の場合、第一基板11側を光の入射面とした場合に、第一基板11側から順に、透明導電膜、P型有機半導体、N型有機半導体、導電膜を積層させた構造とすることができる。透明導電膜は、第一基板11側からの光が太陽電池層(P型有機半導体及びN型有機半導体)に到達できるよう、透明の電極部材を用いることができ、ITO(酸化インジウム錫)、ZnO(酸化亜鉛)、SnO2(酸化錫)などの材料から形成される透明電極とすることができる。
導電膜は、反射膜として、光の吸収が少なく反射の高いアルミ、金、銀、チタンなどの金属電極を用いることができる。また、それらの金属同士の多層構造電極、あるいはそれらの金属と別の金属や上記透明電極材のような導電性酸化物や導電性の有機物との多層構造の電極を反射膜として用いても良い。その他の構成は、上記実施形態と同じものを採用することができる。
また、放熱部材19を備えずに、第二基板17と第二電極16との間に不活性ガスを注入してもよい。
11…第一基板
12…第一電極
13,33,43,53…補助電極
14,34…絶縁部
15…有機層
15A…発光部
16…第二電極
17…第二基板
18…封止部材
19…放熱部材
Claims (18)
- 第一基板、第一電極、有機層、第二電極、及び第二基板が、この順に配置される光電変換装置であって、
前記第一電極と前記有機層との間に補助電極が配置され、
前記光電変換装置を前記第一基板の厚さ方向断面で見た場合に、前記補助電極の厚さ寸法は、前記有機層の厚さ寸法よりも大きい
ことを特徴とする光電変換装置。 - 請求項1に記載の光電変換装置において、
前記第二電極、及び前記第二基板が接触している
ことを特徴とする光電変換装置。 - 請求項1又は請求項2に記載の光電変換装置において、
前記第一基板、及び前記第二基板の間には、前記有機層を封止する封止部材が前記第一基板、及び前記第二基板の外周縁に沿って配置され、
前記補助電極の厚さ寸法、及び前記封止部材の厚さ寸法は、下記式(1)を満たす
ことを特徴とする光電変換装置。
[数1]
0.2X < Y < 5X ・・・(1)
(但し、上記式(1)において、前記補助電極の厚さ寸法をY[μm]、前記封止部材の厚さ寸法をX[μm]とする。) - 請求項1から請求項3までのいずれか一項に記載の光電変換装置において、
前記補助電極の厚さ寸法が、0.5μm以上30μm以下である
ことを特徴とする光電変換装置。 - 請求項3又は請求項4に記載の光電変換装置において、
前記封止部材は、絶縁性材料からなる
ことを特徴とする光電変換装置。 - 請求項1から請求項5までのいずれか一項に記載の光電変換装置において、
前記補助電極が配置されない前記第一電極、及び前記第二電極の間の領域は、前記有機層が配置される発光部とされ、
前記発光部では、前記第二電極が前記第二基板と離間している
ことを特徴とする光電変換装置。 - 請求項6に記載の光電変換装置において、
前記発光部の前記第二電極、及び前記第二基板の間には、放熱部材が配置されている
ことを特徴とする光電変換装置。 - 請求項7に記載の光電変換装置において、
前記光電変換装置を前記第一基板の面に向かって見た場合、前記補助電極は、前記発光部を囲む枠状に形成されている
ことを特徴とする光電変換装置。 - 請求項6又は請求項7に記載の光電変換装置において、
前記光電変換装置を前記第一基板の面に向かって見た場合、前記補助電極は、前記発光部を囲み、一部が開放されたパターン状に形成されている
ことを特徴とする光電変換装置。 - 請求項1から請求項9までのいずれか一項に記載の光電変換装置において、
前記補助電極と前記第一電極とは導通し、前記補助電極と前記有機層とは絶縁されている
ことを特徴とする光電変換装置。 - 請求項10に記載の光電変換装置において、
前記補助電極と前記有機層との間に絶縁部が形成されている
ことを特徴とする光電変換装置。 - 請求項11に記載の光電変換装置において、
前記絶縁部は、ポリイミドを含む
ことを特徴とする光電変換装置。 - 請求項1から請求項12までのいずれか一項に記載の光電変換装置において、
前記補助電極は、銀、金、タングステン、及びネオジムの内の少なくとも一つと樹脂とを含む
ことを特徴とする光電変換装置。 - 請求項1から請求項13までのいずれか一項に記載の光電変換装置において、
前記第一基板は、透光性基板であり、
前記第一電極は、透明電極である
ことを特徴とする光電変換装置。 - 請求項1から請求項14までのいずれか一項に記載の光電変換装置において、
前記第二基板は、金属である
ことを特徴とする光電変換装置。 - 第一基板、第一電極、有機層、第二電極、及び第二基板が、この順に配置される光電変換装置の製造方法であって、
前記第一基板の一方の面に前記第一電極を形成する工程と、
前記第一電極の上に補助電極を形成する工程と、
前記第一電極、及び前記補助電極の上に前記有機層を形成する工程と、
前記有機層の上に、前記第二電極を形成する工程と、
前記第二電極を形成した後、前記第一基板と前記第二基板とを貼り合わせて接合する工程と、を実施し、
前記光電変換装置を前記第一基板の厚さ方向断面で見た場合に、前記補助電極の厚さ寸法を前記有機層の厚さ寸法よりも大きく形成する
ことを特徴とする光電変換装置の製造方法。 - 請求項16に記載の光電変換装置の製造方法において、
前記補助電極を形成する工程で、前記第一基板の面に向かって見た場合に、前記補助電極を枠状に形成し、
前記第二電極を形成する工程の後であって前記第一基板と前記第二基板とを貼り合わせて接合する工程の前に、前記補助電極の当該枠内に流動性の放熱部材を注入する工程を実施する
ことを特徴とする光電変換装置の製造方法。 - 請求項16又は請求項17に記載の光電変換装置の製造方法において、
前記補助電極を形成する工程の後であって前記有機層を形成する工程の前に、前記補助電極の上に絶縁部を形成する工程を実施し、
前記有機層と前記補助電極との間に前記絶縁部を介在させる
ことを特徴とする光電変換装置の製造方法。
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Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013089231A1 (ja) * | 2011-12-16 | 2013-06-20 | パナソニック株式会社 | 有機エレクトロルミネッセンス照明デバイス及びその製造方法 |
WO2014030367A1 (ja) * | 2012-08-21 | 2014-02-27 | Necライティング株式会社 | 有機el照明パネル用基板、有機el照明パネル用基板の製造方法、有機el照明パネルおよび有機el照明装置 |
WO2014041764A1 (ja) * | 2012-09-13 | 2014-03-20 | パナソニック株式会社 | 有機エレクトロルミネッセンス素子 |
JP2014150030A (ja) * | 2013-02-04 | 2014-08-21 | Mitsubishi Chemicals Corp | 有機elデバイス |
WO2015023162A1 (ko) * | 2013-08-16 | 2015-02-19 | 주식회사 엘지화학 | 전도성 기판 및 이의 제조방법 |
WO2015174154A1 (ja) * | 2014-05-16 | 2015-11-19 | パイオニア株式会社 | 発光装置 |
WO2016047622A1 (ja) * | 2014-09-24 | 2016-03-31 | 日本精機株式会社 | 有機elパネル及びその製造方法 |
JP2016192342A (ja) * | 2015-03-31 | 2016-11-10 | パイオニア株式会社 | 発光装置 |
US9947729B2 (en) | 2015-03-05 | 2018-04-17 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Organic electroluminescent element, lighting device, and lighting system |
US10418581B2 (en) | 2015-03-25 | 2019-09-17 | Pioneer Corporation | Light emitting device |
JP2020035755A (ja) * | 2019-11-01 | 2020-03-05 | パイオニア株式会社 | 発光装置 |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TW201327856A (zh) * | 2011-12-27 | 2013-07-01 | Mke Technology Co Ltd | 染料敏化太陽能電池 |
KR101614035B1 (ko) * | 2012-05-31 | 2016-04-20 | 엘지디스플레이 주식회사 | 유기 발광 소자 및 이의 제조방법 |
CN105393376B (zh) * | 2013-06-14 | 2017-11-17 | 株式会社Lg化学 | 有机太阳能电池及其制造方法 |
KR102080008B1 (ko) | 2013-07-12 | 2020-02-24 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기발광표시장치 및 그 제조방법 |
JP6111461B2 (ja) * | 2013-10-23 | 2017-04-12 | 株式会社Joled | 表示装置および電子機器 |
WO2015121906A1 (ja) * | 2014-02-12 | 2015-08-20 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 有機el素子、照明装置及び有機el素子の製造方法 |
DE102014111037B4 (de) * | 2014-08-04 | 2017-06-01 | Osram Oled Gmbh | Verfahren zur Herstellung einer organischen Leuchtdiode und organische Leuchtdiode |
KR102441681B1 (ko) * | 2017-12-05 | 2022-09-07 | 엘지디스플레이 주식회사 | 조명 장치용 oled 패널 및 그 제조 방법 |
Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10335068A (ja) * | 1997-05-30 | 1998-12-18 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 発光型表示装置 |
JPH118073A (ja) * | 1997-06-16 | 1999-01-12 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 有機el表示装置 |
JP2000091083A (ja) * | 1998-09-09 | 2000-03-31 | Sony Corp | 有機elディスプレイ |
JP2001230086A (ja) * | 2000-02-16 | 2001-08-24 | Idemitsu Kosan Co Ltd | アクティブ駆動型有機el発光装置およびその製造方法 |
JP2003133080A (ja) * | 2001-10-30 | 2003-05-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | 発光素子 |
JP2004349138A (ja) * | 2003-05-23 | 2004-12-09 | Toyota Industries Corp | 有機電界発光素子及びその製造方法 |
JP2005302508A (ja) * | 2004-04-12 | 2005-10-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | 透明導電性シートおよびそれを用いたエレクトロルミネッセンス素子 |
JP2007512666A (ja) * | 2003-11-21 | 2007-05-17 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 表示パネル |
JP2008103305A (ja) * | 2006-10-17 | 2008-05-01 | Lg Electron Inc | 電界発光パネル及びそれを含む光源装置 |
WO2008126269A1 (ja) * | 2007-03-30 | 2008-10-23 | Pioneer Corporation | 発光装置 |
JP2010141250A (ja) * | 2008-12-15 | 2010-06-24 | Dainippon Printing Co Ltd | 有機薄膜太陽電池およびその製造方法 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5821692A (en) * | 1996-11-26 | 1998-10-13 | Motorola, Inc. | Organic electroluminescent device hermetic encapsulation package |
JP3992001B2 (ja) * | 2004-03-01 | 2007-10-17 | セイコーエプソン株式会社 | 有機エレクトロルミネッセンス装置及び電子機器 |
JP2005327674A (ja) * | 2004-05-17 | 2005-11-24 | Sharp Corp | 有機エレクトロルミネッセント表示素子、それを有する表示装置、及び、その製造方法 |
JP2006004781A (ja) * | 2004-06-17 | 2006-01-05 | Tohoku Pioneer Corp | 有機el素子および有機el表示パネル |
US7417370B2 (en) * | 2006-03-23 | 2008-08-26 | Eastman Kodak Company | OLED device having improved light output |
US20090139558A1 (en) * | 2007-11-29 | 2009-06-04 | Shunpei Yamazaki | Photoelectric conversion device and manufacturing method thereof |
TWI587734B (zh) * | 2009-03-26 | 2017-06-11 | 精工愛普生股份有限公司 | 有機el裝置、有機el裝置之製造方法、及電子機器 |
KR101456154B1 (ko) * | 2009-08-25 | 2014-11-04 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기 발광 조명 장치 |
JP4935910B2 (ja) * | 2010-01-07 | 2012-05-23 | 大日本印刷株式会社 | 有機薄膜太陽電池 |
JP2011192544A (ja) * | 2010-03-15 | 2011-09-29 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 光電変換装置 |
JP2012099458A (ja) * | 2010-10-05 | 2012-05-24 | Seiko Epson Corp | 有機el照明装置およびその製造方法 |
-
2010
- 2010-10-26 JP JP2010240120A patent/JP5421218B2/ja active Active
-
2011
- 2011-10-21 WO PCT/JP2011/074250 patent/WO2012057011A1/ja active Application Filing
- 2011-10-21 US US13/882,000 patent/US20130221341A1/en not_active Abandoned
- 2011-10-21 KR KR1020137010317A patent/KR20130079552A/ko not_active Application Discontinuation
Patent Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10335068A (ja) * | 1997-05-30 | 1998-12-18 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 発光型表示装置 |
JPH118073A (ja) * | 1997-06-16 | 1999-01-12 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 有機el表示装置 |
JP2000091083A (ja) * | 1998-09-09 | 2000-03-31 | Sony Corp | 有機elディスプレイ |
JP2001230086A (ja) * | 2000-02-16 | 2001-08-24 | Idemitsu Kosan Co Ltd | アクティブ駆動型有機el発光装置およびその製造方法 |
JP2003133080A (ja) * | 2001-10-30 | 2003-05-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | 発光素子 |
JP2004349138A (ja) * | 2003-05-23 | 2004-12-09 | Toyota Industries Corp | 有機電界発光素子及びその製造方法 |
JP2007512666A (ja) * | 2003-11-21 | 2007-05-17 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 表示パネル |
JP2005302508A (ja) * | 2004-04-12 | 2005-10-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | 透明導電性シートおよびそれを用いたエレクトロルミネッセンス素子 |
JP2008103305A (ja) * | 2006-10-17 | 2008-05-01 | Lg Electron Inc | 電界発光パネル及びそれを含む光源装置 |
WO2008126269A1 (ja) * | 2007-03-30 | 2008-10-23 | Pioneer Corporation | 発光装置 |
JP2010141250A (ja) * | 2008-12-15 | 2010-06-24 | Dainippon Printing Co Ltd | 有機薄膜太陽電池およびその製造方法 |
Cited By (27)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5639720B2 (ja) * | 2011-12-16 | 2014-12-10 | パナソニック株式会社 | 有機エレクトロルミネッセンス照明デバイス及びその製造方法 |
WO2013089231A1 (ja) * | 2011-12-16 | 2013-06-20 | パナソニック株式会社 | 有機エレクトロルミネッセンス照明デバイス及びその製造方法 |
US9966555B2 (en) | 2012-08-21 | 2018-05-08 | Nec Lighting, Ltd. | Organic EL lighting panel substrate, method for manufacturing organic EL lighting panel substrate, organic EL lighting panel, and organic EL lighting device |
WO2014030367A1 (ja) * | 2012-08-21 | 2014-02-27 | Necライティング株式会社 | 有機el照明パネル用基板、有機el照明パネル用基板の製造方法、有機el照明パネルおよび有機el照明装置 |
US9559333B2 (en) | 2012-08-21 | 2017-01-31 | Nec Lighting, Ltd. | Organic el lighting panel substrate, method for manufacturing organic el lighting panel substrate, organic el lighting panel, and organic el lighting device |
WO2014041764A1 (ja) * | 2012-09-13 | 2014-03-20 | パナソニック株式会社 | 有機エレクトロルミネッセンス素子 |
JPWO2014041764A1 (ja) * | 2012-09-13 | 2016-08-12 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 有機エレクトロルミネッセンス素子 |
US9583731B2 (en) | 2012-09-13 | 2017-02-28 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Organic electroluminescence element |
JP2014150030A (ja) * | 2013-02-04 | 2014-08-21 | Mitsubishi Chemicals Corp | 有機elデバイス |
WO2015023162A1 (ko) * | 2013-08-16 | 2015-02-19 | 주식회사 엘지화학 | 전도성 기판 및 이의 제조방법 |
US10111340B2 (en) | 2013-08-16 | 2018-10-23 | Lg Display Co., Ltd. | Method of manufacturing a conductive substrate |
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CN105453191B (zh) * | 2013-08-16 | 2018-04-24 | 乐金显示有限公司 | 导电基板及其制造方法 |
TWI552656B (zh) * | 2013-08-16 | 2016-10-01 | 樂金顯示科技股份有限公司 | 導電基板及其製造方法 |
JP2016533004A (ja) * | 2013-08-16 | 2016-10-20 | エルジー ディスプレイ カンパニー リミテッド | 導電性基板およびその製造方法 |
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