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JP2012080048A - Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium - Google Patents

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium Download PDF

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JP2012080048A
JP2012080048A JP2010226762A JP2010226762A JP2012080048A JP 2012080048 A JP2012080048 A JP 2012080048A JP 2010226762 A JP2010226762 A JP 2010226762A JP 2010226762 A JP2010226762 A JP 2010226762A JP 2012080048 A JP2012080048 A JP 2012080048A
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JP
Japan
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sulfuric acid
tank
substrate processing
waste sulfuric
unit
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP2010226762A
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Japanese (ja)
Inventor
Masaya Aoki
木 賢 哉 青
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Tokyo Electron Ltd
Original Assignee
Tokyo Electron Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent the bumping in a supply tank and an evaporation tank of a sulfuric acid-regenerating unit of a substrate processing apparatus.SOLUTION: The substrate processing apparatus has: a substrate-processing part 60 for processing a substrate W to be processed using sulfuric acid; and a sulfuric acid-regenerating unit 1 for regenerating waste sulfuric acid consisting of the sulfuric acid used in the substrate-processing part 60. The sulfuric acid-regenerating unit 1 includes: evaporation tanks 15a and 15b for storing the waste sulfuric acid; a heating parts 17a and 17b for heating the waste sulfuric acid in the evaporation tanks 15a and 15b; a supply tank 10 for supplying the waste sulfuric acid to the evaporation tanks 15a and 15b; supply pipes 12a and 12b for connecting between the supply tank 10 and the evaporation tanks 15a and 15b; and flow-rate regulators 13a and 13b for regulating the amount of the waste sulfuric acid supplied from the supply tank 10 to the evaporation tanks 15a and 15b. As to the evaporation tanks 15a and 15b, a first pressure-reducing part 24 for reducing the pressures inside the evaporation tanks 15a and 15b is provided. The supply tank 10 is provided with a pressure regulator 11 for making the pressure inside the supply tank 10 higher than the pressures inside the evaporation tanks 15a and 15b.

Description

本発明は、廃硫酸を再生する硫酸再生装置を備えた基板処理装置および基板処理方法、並びに、当該基板処理方法を基板処理装置に実行させるためのコンピュータプログラムを格納した記憶媒体に関する。   The present invention relates to a substrate processing apparatus and a substrate processing method provided with a sulfuric acid regenerating apparatus for regenerating waste sulfuric acid, and a storage medium storing a computer program for causing the substrate processing apparatus to execute the substrate processing method.

従来から、廃硫酸を収容する蒸留槽と、蒸留槽に収容された廃硫酸を加熱する加熱部と、を備えた硫酸再生装置が知られている(例えば、特許文献1参照)。しかしながら、このように一つの蒸発槽で一気に廃硫酸の再生処理を行うと、廃硫酸に含まれた過酸化水素が分解することによって、液面が揺れて突沸が生じるおそれがある。   2. Description of the Related Art Conventionally, a sulfuric acid regenerating apparatus including a distillation tank that stores waste sulfuric acid and a heating unit that heats waste sulfuric acid stored in the distillation tank is known (see, for example, Patent Document 1). However, when waste sulfuric acid is regenerated at a time in one evaporation tank, hydrogen peroxide contained in the waste sulfuric acid is decomposed, and the liquid surface may be shaken to cause bumping.

特開平08−091811号公報Japanese Patent Laid-Open No. 08-091811

本開示は、基板処理装置の硫酸再生装置における供給槽および蒸発槽での突沸を防止することができる基板処理装置および基板処理方法、並びに、当該基板処理方法を基板処理装置に実行させるためのコンピュータプログラムを格納した記憶媒体を提供する。   The present disclosure relates to a substrate processing apparatus and a substrate processing method capable of preventing bumping in a supply tank and an evaporation tank in a sulfuric acid regeneration apparatus of a substrate processing apparatus, and a computer for causing the substrate processing apparatus to execute the substrate processing method A storage medium storing a program is provided.

本開示による基板処理装置は、
被処理基板を硫酸を用いて処理する基板処理部と、
前記基板処理部で用いられた廃硫酸を再生するための硫酸再生装置と、を備え、
前記硫酸再生装置が、
前記廃硫酸を収容する蒸発槽と、
前記蒸発槽内に収容された前記廃硫酸を加熱する加熱部と、
前記廃硫酸を収容するとともに、前記蒸発槽に該廃硫酸を供給する供給槽と、
前記供給槽と前記蒸発槽とを連結する供給管と、
前記供給管に設けられ、前記供給槽から前記蒸発槽へ供給される前記廃硫酸の量を調整するための流量調整部と、
前記蒸発槽に設けられ、該蒸発槽内の圧力を減圧する第一減圧部と、
前記供給槽に設けられ、該供給槽内の圧力を前記蒸発槽内の圧力よりも高くする圧力調整部と、を有する。
A substrate processing apparatus according to the present disclosure includes:
A substrate processing unit for processing a substrate to be processed using sulfuric acid;
A sulfuric acid regenerating apparatus for regenerating waste sulfuric acid used in the substrate processing unit,
The sulfuric acid regenerator is
An evaporation tank containing the waste sulfuric acid;
A heating unit for heating the waste sulfuric acid accommodated in the evaporation tank;
A supply tank for containing the waste sulfuric acid and supplying the waste sulfuric acid to the evaporation tank;
A supply pipe connecting the supply tank and the evaporation tank;
A flow rate adjusting unit for adjusting an amount of the waste sulfuric acid provided in the supply pipe and supplied from the supply tank to the evaporation tank;
A first pressure reducing unit provided in the evaporation tank, for reducing the pressure in the evaporation tank;
A pressure adjusting unit that is provided in the supply tank and makes the pressure in the supply tank higher than the pressure in the evaporation tank.

本開示による基板処理装置において、
前記供給槽から前記蒸発槽へ前記廃硫酸が供給される際に、該廃硫酸によって該供給槽と該蒸発槽との間の気体の流れが遮断されてもよい。
In the substrate processing apparatus according to the present disclosure,
When the waste sulfuric acid is supplied from the supply tank to the evaporation tank, a gas flow between the supply tank and the evaporation tank may be blocked by the waste sulfuric acid.

本開示による基板処理装置において、
前記圧力調整部は、前記供給槽に設けられて外部と繋がった圧力調整管であってもよい。
In the substrate processing apparatus according to the present disclosure,
The pressure adjusting unit may be a pressure adjusting pipe provided in the supply tank and connected to the outside.

本開示による基板処理装置において、
前記圧力調整部は、前記供給槽内の圧力を高くする加圧部であってもよい。
In the substrate processing apparatus according to the present disclosure,
The pressure adjusting unit may be a pressurizing unit that increases the pressure in the supply tank.

本開示による基板処理装置は、
前記蒸発槽に連結され、該蒸発槽において濃縮された硫酸を受ける製品受給槽と、
前記製品受給槽に連結され、該製品受給槽内を減圧するための第二減圧部と、をさらに備えてもよい。
A substrate processing apparatus according to the present disclosure includes:
A product receiving tank connected to the evaporation tank and receiving sulfuric acid concentrated in the evaporation tank;
A second decompression unit connected to the product receiving tank and decompressing the inside of the product receiving tank may further be provided.

本開示による基板処理装置において、
前記蒸発槽から前記製品受給槽に前記濃縮された硫酸が移される際に、該製品受給槽内が前記第二減圧部によって減圧されてもよい。
In the substrate processing apparatus according to the present disclosure,
When the concentrated sulfuric acid is transferred from the evaporation tank to the product receiving tank, the inside of the product receiving tank may be depressurized by the second decompression unit.

本開示による基板処理装置は、
前記蒸発槽に連結され、該蒸発槽において濃縮された硫酸を受ける複数の製品受給槽と、
前記製品受給槽の各々に連結され、該製品受給槽内を減圧するための第二減圧部と、をさらに備え、
前記蒸発槽から前記製品受給槽の少なくとも一つに前記濃縮された硫酸が移される際に、該濃縮された硫酸が移される製品受給槽内が前記第二減圧部によって減圧され、該濃縮された硫酸が移されない製品受給槽内は減圧されなくてもよい。
A substrate processing apparatus according to the present disclosure includes:
A plurality of product receiving tanks connected to the evaporation tank and receiving sulfuric acid concentrated in the evaporation tank;
A second decompression unit connected to each of the product receiving tanks and for depressurizing the inside of the product receiving tanks,
When the concentrated sulfuric acid is transferred from the evaporation tank to at least one of the product receiving tanks, the inside of the product receiving tank to which the concentrated sulfuric acid is transferred is depressurized and concentrated by the second pressure reducing unit. The inside of the product receiving tank where the sulfuric acid is not transferred does not have to be depressurized.

本開示による基板処理装置において、
前記供給槽と前記蒸発槽の間に、該供給槽から該蒸発槽へ供給される前記廃硫酸の量を調整するための流量調整部が設けられてもよい。
In the substrate processing apparatus according to the present disclosure,
A flow rate adjusting unit for adjusting the amount of the waste sulfuric acid supplied from the supply tank to the evaporation tank may be provided between the supply tank and the evaporation tank.

本開示による基板処理装置において、
前記基板処理部は、過酸化水素を含有する廃硫酸を用いて前記被処理基板を処理し、
前記基板処理部に、前記廃硫酸に含まれる前記過酸化水素を分解して除去する脱気部が連結され、
前記供給槽は、前記脱気部で前記過酸化水素が除去された廃硫酸を収容してもよい。
In the substrate processing apparatus according to the present disclosure,
The substrate processing unit processes the substrate to be processed using waste sulfuric acid containing hydrogen peroxide,
A deaeration unit for decomposing and removing the hydrogen peroxide contained in the waste sulfuric acid is connected to the substrate processing unit,
The supply tank may contain waste sulfuric acid from which the hydrogen peroxide has been removed in the deaeration unit.

本開示による基板処理装置において、
前記基板処理部は、過酸化水素を含有する廃硫酸を用いて前記被処理基板を処理し、
前記基板処理部に、前記廃硫酸に含まれる前記過酸化水素を分解して除去する脱気部が連結され、
前記脱気部は、前記過酸化水素を含有した前記廃硫酸を収容する脱気槽と、該過酸化水素を含有した該廃硫酸を加熱する加熱部とを有し、
前記供給槽は前記脱気槽であってもよい。
In the substrate processing apparatus according to the present disclosure,
The substrate processing unit processes the substrate to be processed using waste sulfuric acid containing hydrogen peroxide,
A deaeration unit for decomposing and removing the hydrogen peroxide contained in the waste sulfuric acid is connected to the substrate processing unit,
The deaeration unit includes a deaeration tank that stores the waste sulfuric acid containing the hydrogen peroxide, and a heating unit that heats the waste sulfuric acid containing the hydrogen peroxide,
The supply tank may be the deaeration tank.

本開示による基板処理方法は、
被処理基板を硫酸を含有する処理液を用いて処理することと、
前記基板処理部で用いられた廃硫酸を再生することと、を備え、
廃硫酸を再生することは、
供給槽から蒸発槽に廃硫酸を供給することと、
前記蒸発槽内に収容された廃硫酸を、減圧下で加熱することと、を有し、
前記供給槽から前記蒸発槽に前記廃硫酸を供給する際に、該廃硫酸の流量が調整されるとともに、前記供給槽内の圧力が前記蒸発槽内の圧力よりも高くなっている。
A substrate processing method according to the present disclosure includes:
Treating the substrate to be treated with a treatment solution containing sulfuric acid;
Regenerating the waste sulfuric acid used in the substrate processing unit,
Recycling waste sulfuric acid
Supplying waste sulfuric acid from the supply tank to the evaporation tank;
Heating the waste sulfuric acid accommodated in the evaporation tank under reduced pressure,
When supplying the waste sulfuric acid from the supply tank to the evaporation tank, the flow rate of the waste sulfuric acid is adjusted, and the pressure in the supply tank is higher than the pressure in the evaporation tank.

本開示による基板処理方法において、
前記供給槽から前記蒸発槽に前記廃硫酸を供給する際に、該廃硫酸によって該供給槽と該蒸発槽との間の気体の流れが遮断されてもよい。
In the substrate processing method according to the present disclosure,
When supplying the waste sulfuric acid from the supply tank to the evaporation tank, a gas flow between the supply tank and the evaporation tank may be blocked by the waste sulfuric acid.

本開示による記憶媒体は、
基板処理装置に基板処理方法を実行させるためのコンピュータプログラムを格納した記憶媒体であって、
前記基板処理方法が、
被処理基板を硫酸を含有する処理液を用いて処理することと、
前記基板処理部で用いられた廃硫酸を再生することと、を備え、
廃硫酸を再生することは、
供給槽から蒸発槽に廃硫酸を供給することと、
前記蒸発槽内に収容された廃硫酸を、減圧下で加熱することと、を有し、
前記供給槽から前記蒸発槽に前記廃硫酸を供給する際に、該廃硫酸の流量が調整されるとともに、前記供給槽内の圧力が前記蒸発槽内の圧力よりも高くなっている方法である。
A storage medium according to the present disclosure includes:
A storage medium storing a computer program for causing a substrate processing apparatus to execute a substrate processing method,
The substrate processing method comprises:
Treating the substrate to be treated with a treatment solution containing sulfuric acid;
Regenerating the waste sulfuric acid used in the substrate processing unit,
Recycling waste sulfuric acid
Supplying waste sulfuric acid from the supply tank to the evaporation tank;
Heating the waste sulfuric acid accommodated in the evaporation tank under reduced pressure,
When supplying the waste sulfuric acid from the supply tank to the evaporation tank, the flow rate of the waste sulfuric acid is adjusted, and the pressure in the supply tank is higher than the pressure in the evaporation tank. .

本発明によれば、供給槽と蒸発槽とを連結する供給管に流量調整部が設けられているので、蒸発槽に少しずつ廃硫酸が供給される。このため、蒸発槽で突沸が生じることを防止することができる。また、供給槽内の圧力を蒸発槽内の圧力よりも高くする圧力調整部が設けられているので、供給槽での突沸を防止することができる。さらに、蒸発槽内の圧力が減圧されるので、常圧下で行うより低温で廃硫酸内の水分を蒸発させることができ、廃硫酸を効率良く濃縮することができる。   According to the present invention, since the flow rate adjusting unit is provided in the supply pipe that connects the supply tank and the evaporation tank, the waste sulfuric acid is supplied to the evaporation tank little by little. For this reason, bumping can be prevented from occurring in the evaporation tank. Moreover, since the pressure adjustment part which makes the pressure in a supply tank higher than the pressure in an evaporation tank is provided, bumping in a supply tank can be prevented. Furthermore, since the pressure in the evaporation tank is reduced, the water in the waste sulfuric acid can be evaporated at a lower temperature than that under normal pressure, and the waste sulfuric acid can be concentrated efficiently.

本発明の第1の実施の形態による基板処理装置の構成を示す図。The figure which shows the structure of the substrate processing apparatus by the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1の実施の形態の変形例による基板処理装置の構成の一部を示す拡大図。The enlarged view which shows a part of structure of the substrate processing apparatus by the modification of the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1の実施の形態による基板処理装置における信号の流れを説明するための図。The figure for demonstrating the flow of the signal in the substrate processing apparatus by the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第2の実施の形態による基板処理装置の構成を示す図。The figure which shows the structure of the substrate processing apparatus by the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第2の実施の形態の変形例による基板処理装置の構成の一部を示す拡大図。The enlarged view which shows a part of structure of the substrate processing apparatus by the modification of the 2nd Embodiment of this invention.

第1の実施の形態
以下、本発明に係る硫酸再生装置の第1の実施の形態について、図面を参照して説明する。ここで、図1乃至図3は本発明の第1の実施の形態を示す図である。
First Embodiment Hereinafter, a first embodiment of a sulfuric acid regenerating apparatus according to the present invention will be described with reference to the drawings. Here, FIG. 1 to FIG. 3 are diagrams showing a first embodiment of the present invention.

図1に示すように、硫酸再生装置1は、廃硫酸を収容する蒸発槽15a,15bと、蒸発槽15a,15b内に収容された廃硫酸を加熱するための加熱部17a,17bと、を有する蒸発部5を備えている。また、硫酸再生装置1は、蒸発槽15a,15bに廃硫酸を供給する供給槽10と、蒸発槽15a,15bと供給槽10との間に配置された供給管12a,12bも備えている。なお、本実施の形態では、蒸発槽が二つ設けられている態様を用いて説明しているが、あくまでも一例であり、蒸発槽は一つだけであってもよいし、三つ以上設けられていてもよい。   As shown in FIG. 1, the sulfuric acid regenerator 1 includes evaporation tanks 15a and 15b for storing waste sulfuric acid, and heating units 17a and 17b for heating the waste sulfuric acid stored in the evaporation tanks 15a and 15b. The evaporation unit 5 is provided. The sulfuric acid regenerating apparatus 1 also includes a supply tank 10 that supplies waste sulfuric acid to the evaporation tanks 15 a and 15 b, and supply pipes 12 a and 12 b that are disposed between the evaporation tanks 15 a and 15 b and the supply tank 10. In addition, in this Embodiment, although demonstrated using the aspect with which two evaporation tanks are provided, it is an example to the last, and there may be only one evaporation tank, and three or more are provided. It may be.

図1に示すように、蒸発槽15a,15bには、蒸発槽15a,15b内の圧力を減圧する第一減圧部である真空ポンプ24が排気管18を介して連結されている。また、排気管18には、蒸発槽15a,15bから蒸発する水蒸気を冷却して水に変える熱交換器16が設けられている。なお、熱交換器16で生成された水は、排水管19を介して、外部へ排出される。   As shown in FIG. 1, a vacuum pump 24, which is a first pressure reducing unit for reducing the pressure in the evaporation tanks 15 a and 15 b, is connected to the evaporation tanks 15 a and 15 b through an exhaust pipe 18. The exhaust pipe 18 is provided with a heat exchanger 16 that cools the water vapor evaporated from the evaporation tanks 15a and 15b and converts it into water. The water generated by the heat exchanger 16 is discharged to the outside through the drain pipe 19.

また、供給槽10には、外部と繋がっており、供給槽10内の圧力を外部と概ね等しい圧力にする圧力調整管11が設けられている。なお、本実施の形態では、この圧力調整管11が、供給槽10内の圧力を蒸発槽15a,15b内の圧力よりも高くする圧力調整部を構成している。ところで、圧力調整部としては、このような圧力調整管11には限られず、図2に示すように供給槽10内の圧力を高くする加圧部11’なども用いることができる。   The supply tank 10 is connected to the outside, and is provided with a pressure adjusting pipe 11 that makes the pressure in the supply tank 10 substantially equal to the outside. In the present embodiment, the pressure adjusting pipe 11 constitutes a pressure adjusting unit that makes the pressure in the supply tank 10 higher than the pressure in the evaporation tanks 15a and 15b. By the way, the pressure adjusting unit is not limited to such a pressure adjusting tube 11, and a pressurizing unit 11 ′ for increasing the pressure in the supply tank 10 as shown in FIG. 2 can also be used.

また、図1に示すように、供給管12a,12bには、供給管12a,12bの開閉を切り換えるための開閉バルブ14a,14bと、この開閉バルブ14a,14bの下流側に設けられたオリフィス13a,13bが設けられている。なお、このオリフィス13a,13bが、供給槽10から蒸発槽15a,15bへ供給される廃硫酸の量を調整する流量調整部を構成している。ところで、オリフィス13a,13bとしては、開度が固定されている固定オリフィスや、開度が変更可能な可変オリフィスやエアオペバルブなどを用いることができる。なお、オリフィス13a,13bとして固定オリフィスを用いる場合であっても、供給槽10と蒸発槽15a,15bとの間の圧力差を一定に維持することで、蒸発槽15a,15bへ供給される廃硫酸の量を一定にすることができる。   As shown in FIG. 1, the supply pipes 12a and 12b are provided with open / close valves 14a and 14b for switching the supply pipes 12a and 12b, and an orifice 13a provided on the downstream side of the open / close valves 14a and 14b. , 13b are provided. The orifices 13a and 13b constitute a flow rate adjusting unit that adjusts the amount of waste sulfuric acid supplied from the supply tank 10 to the evaporation tanks 15a and 15b. By the way, as the orifices 13a and 13b, a fixed orifice whose opening degree is fixed, a variable orifice whose air opening degree can be changed, an air operation valve, or the like can be used. Even when fixed orifices are used as the orifices 13a and 13b, the waste supplied to the evaporation tanks 15a and 15b can be maintained by maintaining a constant pressure difference between the supply tank 10 and the evaporation tanks 15a and 15b. The amount of sulfuric acid can be made constant.

また、蒸発槽15a,15bには、開閉バルブ22a,22bの設けられた供給管21を介して水分が蒸発された後の濃縮された硫酸(以下、「濃縮硫酸」とも言う。)を受ける製品受給槽である製品槽20a,20bが複数(本実施の形態では2つ)設けられている。製品槽20a,20bの各々には、上記の真空ポンプ24が、開閉バルブ27a,27bの設けられた排気管28を介して設けられている。そして、蒸発槽15a,15bから製品槽20a,20bのうちの一つ(例えば製品槽20a)に濃縮硫酸が移される際には開閉バルブ27aが開けられており、濃縮硫酸が供給される製品槽20a内が真空ポンプ24によって減圧されるように構成されている。他方、このように製品槽20aに濃縮硫酸が移される際には開閉バルブ27bは閉じられており、製品槽20b内は真空ポンプ24によって減圧されないように構成されている。ところで、製品槽20a,20bの各々には、製品槽20a,20b内を常圧に戻すためのリーク弁25a,25bが設けられている。   The evaporating tanks 15a and 15b receive a concentrated sulfuric acid (hereinafter also referred to as “concentrated sulfuric acid”) after the water is evaporated through the supply pipe 21 provided with the opening and closing valves 22a and 22b. A plurality (two in the present embodiment) of product tanks 20a and 20b, which are receiving tanks, are provided. Each of the product tanks 20a and 20b is provided with the vacuum pump 24 via an exhaust pipe 28 provided with opening and closing valves 27a and 27b. When the concentrated sulfuric acid is transferred from the evaporation tanks 15a and 15b to one of the product tanks 20a and 20b (for example, the product tank 20a), the open / close valve 27a is opened and the product tank to which the concentrated sulfuric acid is supplied. The interior of 20a is configured to be depressurized by a vacuum pump 24. On the other hand, when the concentrated sulfuric acid is transferred to the product tank 20a in this way, the open / close valve 27b is closed and the inside of the product tank 20b is not depressurized by the vacuum pump 24. By the way, each of the product tanks 20a and 20b is provided with leak valves 25a and 25b for returning the product tanks 20a and 20b to normal pressure.

本実施の形態では、蒸発槽15a,15b内の圧力を減圧する第一減圧部と、製品槽(製品受給槽)20a,20b内を減圧するための第二減圧部が、同じ真空ポンプ24からなっているが、これに限られることはなく、第一減圧部と第二減圧部が別個の例えば真空ポンプからなってもよい。   In the present embodiment, the first vacuum part for reducing the pressure in the evaporation tanks 15 a and 15 b and the second pressure reducing part for reducing the pressure in the product tanks (product receiving tanks) 20 a and 20 b are provided from the same vacuum pump 24. However, the present invention is not limited to this, and the first decompression unit and the second decompression unit may be composed of separate vacuum pumps, for example.

また、供給槽10には、使用済みの硫酸過水(過酸化水素を含有した廃硫酸)を加熱することで過酸化水素を分解して除去する脱気部70が、開閉バルブ77の設けられた連結管79を介して連結されている。そして、この脱気部70は、使用済みの硫酸過水を収容する脱気槽71と、脱気槽71内の使用済みの硫酸過水を循環させるための循環管78と、循環管78に設けられて脱気槽71内に収容されている使用済みの硫酸過水に駆動力を与えるポンプなどの駆動部73と、循環管内で循環する使用済みの硫酸過水を加熱する加熱部72と、を有している。なお、この脱気部70は、廃硫酸が過酸化水素を含有している場合にのみ必要なものであり、硫酸再生装置1で再生される廃硫酸に過酸化水素が含有されていない場合には、特に設ける必要はない。この点、本実施の形態では、廃硫酸に過酸化水素が含有されている態様(すなわち、使用済みの硫酸過水)を用いて説明する。   In addition, the supply tank 10 is provided with an opening / closing valve 77 that includes a degassing unit 70 that decomposes and removes hydrogen peroxide by heating used sulfuric acid / hydrogen peroxide (waste sulfuric acid containing hydrogen peroxide). Are connected via a connecting pipe 79. The deaeration unit 70 includes a deaeration tank 71 for storing used sulfuric acid / hydrogen peroxide, a circulation pipe 78 for circulating the used sulfuric acid / hydrogen peroxide in the degassing tank 71, and a circulation pipe 78. A drive unit 73 such as a pump that provides drive power to the used sulfuric acid superwater that is provided and accommodated in the deaeration tank 71, and a heating unit 72 that heats the used sulfuric acid hydrogen peroxide circulated in the circulation pipe, ,have. The deaeration unit 70 is necessary only when the waste sulfuric acid contains hydrogen peroxide, and when the waste sulfuric acid regenerated by the sulfuric acid regeneration device 1 does not contain hydrogen peroxide. Need not be provided. In this respect, this embodiment will be described using an aspect in which hydrogen peroxide is contained in waste sulfuric acid (that is, used sulfuric acid / hydrogen peroxide).

また、製品槽20a,20bの各々には、加熱されて濃縮された濃縮硫酸を冷却するための冷却部30が連結管29を介して連結されている。なお、この連結管29には、連結管29内の濃縮硫酸に駆動力を付与するためのポンプなどの駆動部23が設けられている。   In addition, a cooling unit 30 for cooling the concentrated sulfuric acid heated and concentrated is connected to each of the product tanks 20 a and 20 b through a connecting pipe 29. The connecting pipe 29 is provided with a driving unit 23 such as a pump for applying a driving force to the concentrated sulfuric acid in the connecting pipe 29.

冷却部30は、濃縮硫酸を収容するための冷却槽31と、冷却槽31内に収容された濃縮硫酸に駆動力を付与して排出するためのポンプなどの駆動部33と、を有している。また、冷却槽31の周縁には、冷却水を流すための配管(図示せず)が設けられており、この配管内に冷却水を流すことによって、冷却槽31に収容された濃縮硫酸が冷却されるようになっている。なお、本実施の形態では、冷却槽が二つ設けられている態様を用いて説明しているが、あくまでも一例であり、冷却槽は一つだけであってもよいし、三つ以上設けられていてもよい。   The cooling unit 30 includes a cooling tank 31 for storing concentrated sulfuric acid, and a driving unit 33 such as a pump for applying a driving force to the concentrated sulfuric acid stored in the cooling tank 31 and discharging the concentrated sulfuric acid. Yes. In addition, a pipe (not shown) for flowing cooling water is provided at the periphery of the cooling tank 31, and the concentrated sulfuric acid accommodated in the cooling tank 31 is cooled by flowing cooling water through the pipe. It has come to be. In addition, in this Embodiment, although demonstrated using the aspect with which two cooling tanks are provided, it is an example to the last, and only one cooling tank may be provided, and three or more are provided. It may be.

また、冷却部30には、後述する基板処理部60に供給する処理液を準備する処理液生成部50が連結管39を介して連結されている。この処理液生成部50は、処理液の材料となる硫酸水溶液を収容する処理液槽51と、処理液槽51内の硫酸水溶液を循環させるための循環管58と、循環管58に設けられて処理液槽51内に収容されている硫酸水溶液に駆動力を与えるポンプなどの駆動部53と、循環管58内で循環する硫酸水溶液を加熱する加熱部52と、を有している。なお、循環管58には、後述する基板処理部60に処理液である硫酸過水を供給するための処理液供給管59が設けられている。この処理液供給管59は、複数ある基板処理部60の各々に対応して設けられている。   In addition, a processing liquid generation unit 50 that prepares a processing liquid to be supplied to a substrate processing unit 60 described later is connected to the cooling unit 30 via a connecting pipe 39. The treatment liquid generator 50 is provided in the treatment liquid tank 51 for containing a sulfuric acid aqueous solution as a material for the treatment liquid, a circulation pipe 58 for circulating the sulfuric acid aqueous solution in the treatment liquid tank 51, and the circulation pipe 58. A driving unit 53 such as a pump for applying a driving force to the aqueous sulfuric acid solution stored in the treatment liquid tank 51 and a heating unit 52 for heating the aqueous sulfuric acid solution circulating in the circulation pipe 58 are provided. The circulation pipe 58 is provided with a processing liquid supply pipe 59 for supplying sulfuric acid / hydrogen peroxide as a processing liquid to a substrate processing unit 60 described later. The processing liquid supply pipe 59 is provided corresponding to each of the plurality of substrate processing units 60.

また、処理液槽51には、濃硫酸(例えば98%の濃度からなる濃硫酸)と純水(DIW)とを混合するプレ混合部40が、開閉バルブ47の設けられた連結管49を介して連結されている。このプレ混合部40は、濃硫酸と純水が供給される混合槽41と、混合槽41内の濃硫酸と純水を循環させるための循環管48と、循環管48に設けられて混合槽41内に収容されている濃硫酸と純水に駆動力を与えるポンプなどの駆動部43と、を有している。なお、本実施の形態では、混合槽が二つ設けられている態様を用いて説明しているが、あくまでも一例であり、混合槽は一つだけであってもよいし、三つ以上設けられていてもよい。   Further, in the treatment liquid tank 51, a premixing unit 40 for mixing concentrated sulfuric acid (for example, concentrated sulfuric acid having a concentration of 98%) and pure water (DIW) is connected via a connecting pipe 49 provided with an opening / closing valve 47. Are connected. The pre-mixing unit 40 includes a mixing tank 41 to which concentrated sulfuric acid and pure water are supplied, a circulation pipe 48 for circulating the concentrated sulfuric acid and pure water in the mixing tank 41, and a mixing tank provided in the circulation pipe 48. 41, and a driving unit 43 such as a pump for applying a driving force to concentrated sulfuric acid and pure water accommodated in 41. In addition, in this Embodiment, although demonstrated using the aspect with which two mixing tanks are provided, it is an example to the last, only one mixing tank may be provided, and three or more are provided. It may be.

また、処理液供給管59の各々には、開閉バルブ57の下流側で、硫酸水溶液に過酸化水素水を供給することで硫酸過水を生成する過酸化水素水供給部56が連結されている。なお、この過酸化水素水供給部56は、一つの過酸化水素水供給部56から枝分かれして各処理液供給管59に連結されてもよいし、処理液供給管59の各々に別個の過酸化水素水供給部56が設けられてもよい。   Further, each of the treatment liquid supply pipes 59 is connected to a hydrogen peroxide solution supply unit 56 that generates sulfuric acid / hydrogen peroxide by supplying hydrogen peroxide solution to the sulfuric acid aqueous solution downstream of the opening / closing valve 57. . The hydrogen peroxide solution supply unit 56 may be branched from one hydrogen peroxide solution supply unit 56 and connected to each treatment liquid supply pipe 59. A hydrogen oxide water supply unit 56 may be provided.

また、処理液供給管59の下流側には、処理液供給管59から供給される硫酸過水によって被処理基板Wを処理するための基板処理部60が設けられている。なお、処理液供給管59および基板処理部60の各々は複数個(例えば20個)設けられている。そして、処理液供給管59の各々に設けられた開閉バルブ57を開閉することで、生成された硫酸過水が各基板処理部60に適宜供給されるようになっている。なお、被処理基板Wとしては、例えばウエハやガラス基板などを挙げることができる。   A substrate processing unit 60 for processing the substrate W to be processed with sulfuric acid / hydrogen peroxide supplied from the processing liquid supply pipe 59 is provided on the downstream side of the processing liquid supply pipe 59. Note that a plurality of (for example, 20) processing liquid supply pipes 59 and substrate processing units 60 are provided. Then, by opening and closing the open / close valve 57 provided in each of the processing liquid supply pipes 59, the generated sulfuric acid / hydrogen peroxide is appropriately supplied to each substrate processing unit 60. Examples of the substrate W to be processed include a wafer and a glass substrate.

また、基板処理部60には、基板処理部60で用いた使用済みの処理液である硫酸過水を排出するための排液管69が設けられており、この排液管69を介して、使用済みの硫酸過水が脱気槽71へ排出されることとなる。なお、本実施の形態では、脱気槽71、循環管78、駆動部73および加熱部72のセットが二つ設けられており、一セットの脱気槽71、循環管78、駆動部73および加熱部72を用いて使用済みの硫酸過水に含有された過酸化水素を分解している際には、他のセットの脱気槽71に、基板処理部60で用いた使用済みの硫酸過水が排液管69を介して排出されるようになっている。なお、二つある脱気槽71のいずれに使用済みの硫酸過水を排出するかの選択は、排液管69に設けられた三方弁74を切り換えることによって行われる。   Further, the substrate processing unit 60 is provided with a drain pipe 69 for discharging sulfuric acid / hydrogen peroxide, which is a used processing liquid used in the substrate processing unit 60, and through the drain pipe 69, Used sulfuric acid / hydrogen peroxide is discharged to the deaeration tank 71. In this embodiment, two sets of the deaeration tank 71, the circulation pipe 78, the drive unit 73, and the heating unit 72 are provided, and one set of the deaeration tank 71, the circulation pipe 78, the drive unit 73, and When the hydrogen peroxide contained in the used sulfuric acid / hydrogen peroxide is decomposed using the heating unit 72, the used sulfuric acid / hydrogen peroxide used in the substrate processing unit 60 is placed in another set of degassing tanks 71. Water is discharged through the drainage pipe 69. The selection of which of the two degassing tanks 71 is used to discharge the used sulfuric acid / hydrogen peroxide is performed by switching the three-way valve 74 provided in the drainage pipe 69.

また、図3に示すように、オリフィス13a,13b、開閉バルブ14a,14b,22a,22b,27a,27b,47,57,77、加熱部17a,17b,52,72、駆動部23,33,43,53,73、真空ポンプ24、三方弁74などには、これらを制御する制御部80が接続されている。   3, orifices 13a and 13b, on-off valves 14a, 14b, 22a, 22b, 27a, 27b, 47, 57, 77, heating units 17a, 17b, 52, 72, driving units 23, 33, The control part 80 which controls these is connected to 43,53,73, the vacuum pump 24, the three-way valve 74, etc.

ところで、本実施の形態においては、後述する基板処理方法を基板処理装置に実行させるためのコンピュータプログラムが記憶媒体86に格納されている(図3参照)。そして、基板処理装置は、当該記憶媒体86を受け付けるコンピュータ85も備えている。そして、制御部80は、コンピュータ85からの信号を受けて、基板処理装置自身を制御するように構成されている。なお、本願において記憶媒体86とは、例えば、CD、DVD、MD、ハードディスク、RAMなどを意味している。   By the way, in the present embodiment, a computer program for causing the substrate processing apparatus to execute a substrate processing method described later is stored in the storage medium 86 (see FIG. 3). The substrate processing apparatus also includes a computer 85 that receives the storage medium 86. The control unit 80 is configured to receive a signal from the computer 85 and control the substrate processing apparatus itself. In the present application, the storage medium 86 means, for example, a CD, DVD, MD, hard disk, RAM, or the like.

次に、このような構成からなる本実施の形態の作用および効果について説明する。   Next, the operation and effect of the present embodiment having such a configuration will be described.

(処理液の供給)
最初に、処理液である硫酸過水を被処理基板Wに供給するまでの過程について説明する。
(Processing liquid supply)
First, a process until the sulfuric acid / hydrogen peroxide as a processing liquid is supplied to the substrate W to be processed will be described.

まず、混合槽41に、98%の濃度の濃硫酸と純水(DIW)が供給される。次に、混合槽41内に収容されている濃硫酸と純水に駆動部43によって駆動力が付与され、濃硫酸と純水が循環管48で循環されることで互いに混合される。なお、このとき連結管49に設けられた開閉バルブ47は閉じられている。   First, 98% concentrated sulfuric acid and pure water (DIW) are supplied to the mixing tank 41. Next, a driving force is applied to the concentrated sulfuric acid and pure water stored in the mixing tank 41 by the driving unit 43, and the concentrated sulfuric acid and pure water are mixed with each other by being circulated through the circulation pipe 48. At this time, the opening / closing valve 47 provided in the connecting pipe 49 is closed.

このようにして濃硫酸と純水が混合された後、制御部80からの信号を受けて開閉バルブ47が開けられ、連結管49を介して処理液槽51内に、濃硫酸と純水が混合されることで生成された硫酸水溶液が供給されて、処理液槽51内に収容される。   After the concentrated sulfuric acid and pure water are mixed in this way, the open / close valve 47 is opened in response to a signal from the control unit 80, and the concentrated sulfuric acid and pure water are introduced into the processing liquid tank 51 through the connecting pipe 49. A sulfuric acid aqueous solution generated by mixing is supplied and accommodated in the processing liquid tank 51.

次に、処理液槽51内に収容された硫酸水溶液に、駆動部53から駆動力が付与されて、硫酸水溶液が循環管58で循環される。なおこの際、硫酸水溶液が適切な温度になるよう、加熱部52が制御部80によって制御されている。   Next, a driving force is applied from the drive unit 53 to the aqueous sulfuric acid solution stored in the processing liquid tank 51, and the aqueous sulfuric acid solution is circulated through the circulation pipe 58. At this time, the heating unit 52 is controlled by the control unit 80 so that the aqueous sulfuric acid solution has an appropriate temperature.

被処理基板Wに硫酸過水を供給して処理する際には、制御部80からの信号を受けて開閉バルブ57が開けられる。そして、処理液生成部50から供給される硫酸水溶液に過酸化水素水供給部56から過酸化水素水が加えられて硫酸過水が生成される。そして、このようにして生成された硫酸過水が被処理基板Wに供給されて、当該被処理基板Wが硫酸過水で処理される。   When the sulfuric acid / hydrogen peroxide is supplied to the substrate W to be processed, the open / close valve 57 is opened in response to a signal from the controller 80. Then, the hydrogen peroxide solution is added from the hydrogen peroxide solution supply unit 56 to the sulfuric acid aqueous solution supplied from the processing solution generation unit 50 to generate sulfuric acid / hydrogen peroxide. Then, the sulfuric acid / hydrogen peroxide generated in this way is supplied to the substrate to be processed W, and the substrate to be processed W is processed with sulfuric acid / hydrogen peroxide.

(処理液の再生)
次に、被処理基板Wを処理する際に用いられた処理液である硫酸過水から濃縮硫酸を生成するまでの過程について説明する。
(Regeneration of treatment liquid)
Next, a process until the production of concentrated sulfuric acid from sulfuric acid / hydrogen peroxide, which is a processing liquid used when processing the target substrate W, will be described.

被処理基板Wを処理する際に用いられた使用済みの硫酸過水が、排液管69を介して脱気槽71まで送られて、当該脱気槽71に収容される。   The used sulfuric acid / hydrogen peroxide used in processing the substrate W to be processed is sent to the deaeration tank 71 through the drainage pipe 69 and accommodated in the deaeration tank 71.

次に、脱気槽71に収容された使用済みの硫酸過水が、駆動部73から駆動力を受けて、循環管78内で循環される。このように循環管78内で使用済みの硫酸過水が循環されている間に、加熱部72によって使用済みの硫酸過水が加熱される。そして、使用済みの硫酸過水が加熱されることで、使用済みの硫酸過水に含有された過酸化水素が分解されて、水と酸素となる。なお、このとき連結管79に設けられた開閉バルブ77は閉じられている。ところで、本実施の形態では、上述のように、脱気槽71、循環管78、駆動部73および加熱部72のセットが二つ設けられている。そして、一セットの脱気槽71、循環管78、駆動部73および加熱部72を用いて使用済みの硫酸過水に含有された過酸化水素を分解している際には、他のセットの脱気槽71に、基板処理部60で用いた使用済みの硫酸過水が排液管69を介して排出されることとなる。このため、基板処理部60で用いられた使用済みの硫酸過水を脱気槽71で常に回収することができる。   Next, the used sulfuric acid superwater accommodated in the deaeration tank 71 receives a driving force from the driving unit 73 and is circulated in the circulation pipe 78. In this way, while the used sulfuric acid / hydrogen peroxide is being circulated in the circulation pipe 78, the used sulfuric acid / hydrogen peroxide is heated by the heating unit 72. Then, when the used sulfuric acid / hydrogen peroxide is heated, hydrogen peroxide contained in the used sulfuric acid / hydrogen peroxide is decomposed to become water and oxygen. At this time, the open / close valve 77 provided in the connecting pipe 79 is closed. By the way, in this Embodiment, as mentioned above, two sets of the deaeration tank 71, the circulation pipe 78, the drive part 73, and the heating part 72 are provided. When the hydrogen peroxide contained in the used sulfuric acid / hydrogen peroxide is decomposed using one set of the deaeration tank 71, the circulation pipe 78, the drive unit 73, and the heating unit 72, another set of The used sulfuric acid / hydrogen peroxide used in the substrate processing unit 60 is discharged into the deaeration tank 71 through the drainage pipe 69. For this reason, the used sulfuric acid overwater used in the substrate processing unit 60 can always be collected in the deaeration tank 71.

脱気部70で使用済みの硫酸過水に含まれた過酸化水素が分解された後、連結管79に設けられた開閉バルブ77が開けられて、供給槽10に過酸化水素の除去された廃硫酸が送られる。この際、開閉バルブ14a,14bは閉じられている。   After the hydrogen peroxide contained in the used sulfuric acid / hydrogen peroxide was decomposed in the deaeration unit 70, the open / close valve 77 provided in the connecting pipe 79 was opened, and the hydrogen peroxide was removed from the supply tank 10. Waste sulfuric acid is sent. At this time, the on-off valves 14a and 14b are closed.

供給槽10に過酸化水素の除去された廃硫酸が送られて当該供給槽10に貯留された後、開閉バルブ14a,14bが開けられて、供給槽10から蒸発槽15a,15bへ廃硫酸が供給される。この際、蒸発槽15a,15b内の圧力は真空ポンプ24によって減圧されている。他方、供給槽10は圧力調整管11によって外部に連通されていることから、供給槽10内の圧力は外部の圧力と概ね等しくなっている。   After the waste sulfuric acid from which hydrogen peroxide has been removed is sent to the supply tank 10 and stored in the supply tank 10, the open / close valves 14a and 14b are opened, and the waste sulfuric acid is transferred from the supply tank 10 to the evaporation tanks 15a and 15b. Supplied. At this time, the pressure in the evaporation tanks 15 a and 15 b is reduced by the vacuum pump 24. On the other hand, since the supply tank 10 is communicated to the outside by the pressure adjusting pipe 11, the pressure in the supply tank 10 is substantially equal to the external pressure.

ところで、本実施の形態では、わずかな開度のオリフィス13a,13bを介して蒸発槽15a,15bに少しずつ廃硫酸を供給することができ、蒸発槽15a,15bに急激に廃硫酸を供給することを防止することができるので、蒸発槽15a,15bで廃硫酸が突沸することを防止することができる。   By the way, in this Embodiment, waste sulfuric acid can be supplied little by little to the evaporation tanks 15a and 15b via the orifices 13a and 13b with a slight opening, and the waste sulfuric acid is rapidly supplied to the evaporation tanks 15a and 15b. Since this can be prevented, waste sulfuric acid can be prevented from bumping in the evaporation tanks 15a and 15b.

また、本実施の形態では、わずかな開度のオリフィス13a,13b内を廃硫酸が通過しているので、この廃硫酸によって供給槽10と蒸発槽15a,15bとの間の気体の流れが遮断されており、供給槽10を外部の圧力と概ね等しくしつつ、蒸発槽15a,15bを減圧することができる。そしてこのように、供給槽10が外部の圧力と概ね等しく維持されているので、高い温度の廃硫酸が供給槽10に供給されても廃硫酸が突沸することを防止することができる。さらに、供給槽10は内面が凹凸形状からなってもよい。このように内面が凹凸形状からなっている場合には、供給槽10の内面の表面積を増やすことができ、突沸が生じることをより確実に防止することができる。また、供給槽10内には、沸騰石のような部材を入れてもよく、このように沸騰石のような部材を入れることで、突沸が生じることをより確実に防止することができる。   In the present embodiment, since the waste sulfuric acid passes through the orifices 13a and 13b having a slight opening, the flow of gas between the supply tank 10 and the evaporation tanks 15a and 15b is blocked by the waste sulfuric acid. The evaporation tanks 15a and 15b can be depressurized while making the supply tank 10 substantially equal to the external pressure. In this way, since the supply tank 10 is maintained substantially equal to the external pressure, it is possible to prevent the waste sulfuric acid from boiling even when high-temperature waste sulfuric acid is supplied to the supply tank 10. Furthermore, the inner surface of the supply tank 10 may be uneven. Thus, when the inner surface has an uneven shape, the surface area of the inner surface of the supply tank 10 can be increased, and the occurrence of bumping can be more reliably prevented. In addition, a member such as a boiling stone may be placed in the supply tank 10, and it is possible to more reliably prevent bumping from occurring by inserting a member such as a boiling stone in this way.

なお、このように供給槽10内で廃硫酸が突沸することを防止する方法として供給槽10に供給される廃硫酸の温度を下げることも考えられるが、このように供給槽10に供給される廃硫酸の温度を下げると蒸発槽15a,15bに供給する際の廃硫酸も冷却されてしまうことから、蒸発槽15a,15bで廃硫酸内の水分を除去するのに余分なエネルギーが必要となり、効率が悪くなってしまう。これに対して、本実施の形態によれば、そのような余分なエネルギーは不要である点で有益である。   In addition, as a method for preventing the waste sulfuric acid from suddenly boiling in the supply tank 10 as described above, it is conceivable to lower the temperature of the waste sulfuric acid supplied to the supply tank 10, but it is supplied to the supply tank 10 in this way. When the temperature of the waste sulfuric acid is lowered, the waste sulfuric acid supplied to the evaporation tanks 15a and 15b is also cooled. Therefore, extra energy is required to remove the water in the waste sulfuric acid in the evaporation tanks 15a and 15b. Efficiency will be reduced. On the other hand, according to the present embodiment, such extra energy is beneficial in that it is unnecessary.

また、オリフィス13a,13bとして開度が変更可能な可変オリフィスやエアオペバルブなどを用いた場合には、廃硫酸が流れる流路の幅を適宜調整することができる。このため、オリフィス13a,13b内を流れる廃硫酸によって供給槽10と蒸発槽15a,15bとの間での気体の流れを確実に遮断することができ、供給槽10を外部の圧力と概ね等しくしつつ蒸発槽15a,15bを減圧することを確実に達成することができる。   Moreover, when a variable orifice or an air operated valve whose opening degree can be changed is used as the orifices 13a and 13b, the width of the flow path through which the waste sulfuric acid flows can be adjusted as appropriate. For this reason, the flow of gas between the supply tank 10 and the evaporation tanks 15a and 15b can be reliably blocked by the waste sulfuric acid flowing in the orifices 13a and 13b, and the supply tank 10 is made approximately equal to the external pressure. It is possible to reliably achieve decompression of the evaporation tanks 15a and 15b.

また、本実施の形態では、減圧下で蒸発槽15a,15b内の廃硫酸を加熱することができるので、常圧下で行うより低温で廃硫酸内の水分を蒸発させることができ、廃硫酸を効率良く濃縮することができる。なお、蒸発した水分は、熱交換器16で冷却された後、排水管19を介して外部へ排出される。   Further, in the present embodiment, since the waste sulfuric acid in the evaporation tanks 15a and 15b can be heated under reduced pressure, the water in the waste sulfuric acid can be evaporated at a lower temperature than that performed under normal pressure. It can concentrate efficiently. The evaporated water is cooled by the heat exchanger 16 and then discharged to the outside through the drain pipe 19.

なお、供給槽10内の廃硫酸が全て蒸発槽15a,15bに供給された後、制御部80からの信号を受けて開閉バルブ14a,14bが閉じられる。   In addition, after all the waste sulfuric acid in the supply tank 10 is supplied to the evaporation tanks 15a and 15b, the open / close valves 14a and 14b are closed in response to a signal from the control unit 80.

上記のように水分が除去されて廃硫酸が濃縮された後、この濃縮硫酸は製品槽20a,20bの一つに供給される(本実施の形態では、以下、製品槽20aに濃縮硫酸が供給される態様を用いて説明する。)。この際、開閉バルブ22aが開けられ開閉バルブ22bは閉じられている。また、開閉バルブ27aが開けられており、濃縮硫酸が供給される製品槽20a内は真空ポンプ24によって減圧されている。このため、減圧された蒸発槽15a,15bから製品槽20aへの濃縮硫酸の移動をスムーズに行うことができる。なおこの際には、開閉バルブ27bは閉じられており、製品槽20b内は真空ポンプ24によって減圧されていない。   After the water is removed and the waste sulfuric acid is concentrated as described above, this concentrated sulfuric acid is supplied to one of the product tanks 20a and 20b (in this embodiment, hereinafter, the concentrated sulfuric acid is supplied to the product tank 20a). This will be described with reference to the embodiment. At this time, the opening / closing valve 22a is opened and the opening / closing valve 22b is closed. The open / close valve 27a is opened, and the inside of the product tank 20a to which concentrated sulfuric acid is supplied is decompressed by the vacuum pump 24. For this reason, the concentrated sulfuric acid can be smoothly moved from the decompressed evaporation tanks 15a and 15b to the product tank 20a. At this time, the open / close valve 27b is closed, and the inside of the product tank 20b is not depressurized by the vacuum pump 24.

蒸発槽15a,15bで生成された濃縮硫酸の全てが製品槽20aに貯留された後、開閉バルブ27aが閉じられて真空ポンプ24によって製品槽20a内が減圧されなくなる。その後、リーク弁25aが開けられて製品槽20a内は常圧に戻される。なお、開閉バルブ27aが閉じられた後、その代わりに、開閉バルブ27bが開けられて製品槽20bが減圧され始める。そして、その後、開閉バルブ22bが開けられて、減圧された製品槽20bに新たに生成された濃縮硫酸が供給されて貯留されることとなる。この際には、開閉バルブ22aは閉じられている。   After all of the concentrated sulfuric acid generated in the evaporation tanks 15a and 15b is stored in the product tank 20a, the open / close valve 27a is closed and the inside of the product tank 20a is not depressurized by the vacuum pump 24. Thereafter, the leak valve 25a is opened and the inside of the product tank 20a is returned to normal pressure. After the opening / closing valve 27a is closed, the opening / closing valve 27b is opened instead, and the product tank 20b starts to be depressurized. Thereafter, the opening / closing valve 22b is opened, and the newly generated concentrated sulfuric acid is supplied and stored in the decompressed product tank 20b. At this time, the opening / closing valve 22a is closed.

製品槽20a内の濃硫酸は、駆動部23から駆動力を受けて、製品槽20aから冷却槽31へ送られる。なお、冷却槽31の周縁には、冷却水を流すための配管が設けられており、この配管内に冷却水を流すことによって、冷却槽31に収容された濃縮硫酸が冷却される。そして、このように冷却槽31で濃縮硫酸が冷却された後、当該濃縮硫酸は、駆動部33からの駆動力を受けて処理液槽51へ送られる。そして、処理液槽51と循環管58で、このようにして再生された濃縮硫酸と、プレ混合部40から供給される濃硫酸と純水の混合液とが混合される。   Concentrated sulfuric acid in the product tank 20 a receives a driving force from the drive unit 23 and is sent from the product tank 20 a to the cooling tank 31. In addition, piping for flowing cooling water is provided in the periphery of the cooling tank 31, and the concentrated sulfuric acid accommodated in the cooling tank 31 is cooled by flowing cooling water into this piping. Then, after the concentrated sulfuric acid is cooled in the cooling tank 31 in this way, the concentrated sulfuric acid receives a driving force from the driving unit 33 and is sent to the processing liquid tank 51. Then, the concentrated sulfuric acid regenerated in this way and the mixed solution of concentrated sulfuric acid and pure water supplied from the pre-mixing unit 40 are mixed in the treatment liquid tank 51 and the circulation pipe 58.

本実施の形態によれば、一つの製品槽20aから冷却槽31へ濃縮硫酸が供給されている間に、もう一つの製品槽20bが減圧されて、当該製品槽20bに新たに生成された濃縮硫酸が供給される。このため、蒸発槽15a,15bで生成される濃縮硫酸を停止させることなく製品槽20bへ供給することができるので、硫酸を再生するために必要な時間を短縮することができる。   According to the present embodiment, while the concentrated sulfuric acid is being supplied from one product tank 20a to the cooling tank 31, the other product tank 20b is decompressed and newly generated in the product tank 20b. Sulfuric acid is supplied. For this reason, since the concentrated sulfuric acid produced | generated by the evaporation tanks 15a and 15b can be supplied to the product tank 20b, without stopping, the time required in order to reproduce | regenerate sulfuric acid can be shortened.

ところで、圧力調整部として、図2に示すように供給槽10内の圧力を高くする加圧部11’を用いた場合には、圧力調整部として圧力調整管11を用いた場合よりも供給槽10内の圧力をより高くすることができるので、供給槽10内で廃硫酸が突沸することをより確実に防止することができる。なお、加圧部11’は例えば窒素などの不活性ガスを供給槽10内に供給することで、供給槽10内の圧力を高く(例えば0.3MPaほどに)するように構成されている。   By the way, as shown in FIG. 2, when the pressurizing unit 11 ′ that increases the pressure in the supply tank 10 is used as the pressure adjusting unit, the supply tank is more than when the pressure adjusting tube 11 is used as the pressure adjusting unit. Since the pressure in 10 can be made higher, it is possible to more reliably prevent waste sulfuric acid from bumping into the supply tank 10. The pressurizing unit 11 ′ is configured to increase the pressure in the supply tank 10 (for example, about 0.3 MPa) by supplying an inert gas such as nitrogen into the supply tank 10.

また、このような加圧部11’を設けることで供給槽10内の圧力を自在に調整することができ、蒸発槽15a,15b内に供給される廃硫酸の流量を調整することができる。なお、オリフィス13a,13bとして固定オリフィスを用いた場合には、開度を調整することができないので、加圧部11’による圧力調整で蒸発槽15a,15b内に供給される廃硫酸の流量を調整することは有益である。   Moreover, by providing such a pressurizing part 11 ', the pressure in the supply tank 10 can be freely adjusted, and the flow rate of waste sulfuric acid supplied into the evaporation tanks 15a and 15b can be adjusted. When fixed orifices are used as the orifices 13a and 13b, the opening degree cannot be adjusted. Therefore, the flow rate of the waste sulfuric acid supplied into the evaporation tanks 15a and 15b by adjusting the pressure by the pressurizing unit 11 ′ is adjusted. It is beneficial to adjust.

第1の実施の形態の変形例
供給槽10から蒸発槽15a,15bへの廃硫酸の流れと、蒸発槽15a,15bから製品槽20a,20bへの濃縮硫酸の流れが、上記で述べた第1の実施の形態と異なる変形例について、以下説明する。なお、上記の第1の実施の形態と記載が重複する部分については、適宜省略しつつ説明する。
Modification of First Embodiment The flow of waste sulfuric acid from the supply tank 10 to the evaporation tanks 15a and 15b and the flow of concentrated sulfuric acid from the evaporation tanks 15a and 15b to the product tanks 20a and 20b are as described above. A modification example different from the first embodiment will be described below. Note that portions overlapping the description of the first embodiment will be described as appropriate.

より具体的には、本変形例では、開閉バルブ14a,14bは常に開状態になっており、供給槽10に貯留されている廃硫酸の量が一定量以上になると、供給槽10から蒸発槽15a,15bへ常に廃硫酸が流れ続けるように構成されている。(なお、再生する廃硫酸の量が少ないときは、二つの開閉バルブ14a,14bのうちいずれか一方は閉じられることとなる。)   More specifically, in this modification, the on-off valves 14a and 14b are always open, and when the amount of waste sulfuric acid stored in the supply tank 10 exceeds a certain amount, the supply tank 10 and the evaporation tank The waste sulfuric acid always flows to 15a and 15b. (Note that when the amount of waste sulfuric acid to be regenerated is small, one of the two on-off valves 14a and 14b is closed.)

また、開閉バルブ22a,22bのいずれか一つ(例えば開閉バルブ22a)は常に開状態になっており、蒸発槽15a,15bに貯留されている濃縮硫酸の量が一定量以上になると、蒸発槽15a,15bから製品槽20a,20bのいずれか一つ(例えば製品槽20a)へ常に濃縮硫酸が流れ続けるように構成されている。ところで、上記のように開閉バルブ14a,14bを開けておくと、供給槽10から蒸発槽15a,15bへ、濃縮前の廃硫酸が常に流れ込むことになるが、硫酸の比重が水よりも重いことと、蒸発槽15a,15bの底面に供給管21が連結されて蒸発槽15a,15bの底面から製品槽20aへ濃縮硫酸が送られることから、水の混じらない濃縮硫酸を製品槽20aへ供給することができる。   In addition, any one of the opening / closing valves 22a and 22b (for example, the opening / closing valve 22a) is always in an open state, and when the amount of concentrated sulfuric acid stored in the evaporation tanks 15a and 15b becomes a certain amount or more, the evaporation tank. Concentrated sulfuric acid always flows from 15a, 15b to any one of the product tanks 20a, 20b (for example, the product tank 20a). By the way, if the on-off valves 14a and 14b are opened as described above, waste sulfuric acid before concentration always flows from the supply tank 10 to the evaporation tanks 15a and 15b, but the specific gravity of sulfuric acid is heavier than that of water. Since the supply pipe 21 is connected to the bottom surfaces of the evaporation tanks 15a and 15b and concentrated sulfuric acid is sent from the bottom surfaces of the evaporation tanks 15a and 15b to the product tank 20a, concentrated sulfuric acid not mixed with water is supplied to the product tank 20a. be able to.

なお、本変形例でも上記の第1の実施の形態と同様、一つの製品槽20aに濃縮硫酸が貯留された後、一つの製品槽20aから冷却槽31へ濃縮硫酸が供給されている間に、もう一つの製品槽20bが減圧されて、当該製品槽20bに新たに生成された濃縮硫酸が供給されるように構成されている。   In the present modification as well, as in the first embodiment, after concentrated sulfuric acid is stored in one product tank 20a, the concentrated sulfuric acid is supplied from one product tank 20a to the cooling tank 31. The other product tank 20b is depressurized, and the newly generated concentrated sulfuric acid is supplied to the product tank 20b.

ところで、このような変形例でも、当然、上記の第1の実施の形態と同様の効果を奏することができる。   Incidentally, even in such a modified example, the same effects as those of the first embodiment can be naturally obtained.

第2の実施の形態
次に、図4および図5により、本発明の第2の実施の形態について説明する。
Second Embodiment Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

第1の実施の形態は、脱気槽71と供給槽10とが別体を構成する態様であったが、本実施の形態では、脱気部70の脱気槽71が供給槽を構成している。そして、脱気槽71には、圧力調整部として外部に連通された圧力調整管76が設けられている。第2の実施の形態において、その他の構成は、第1の実施の形態と略同一の態様となっている。   Although 1st Embodiment was the aspect in which the deaeration tank 71 and the supply tank 10 comprised a different body, in this Embodiment, the deaeration tank 71 of the deaeration part 70 comprises a supply tank. ing. The deaeration tank 71 is provided with a pressure adjusting pipe 76 communicated to the outside as a pressure adjusting unit. In the second embodiment, other configurations are substantially the same as those in the first embodiment.

図4および図5に示す第2の実施の形態において、図1乃至図3に示す第1の実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。   In the second embodiment shown in FIG. 4 and FIG. 5, the same parts as those in the first embodiment shown in FIG. 1 to FIG.

以下、処理液を再生する際の本実施の形態の作用および効果について説明する。なお、第1の実施の形態と記載が重複する部分については、適宜省略しつつ説明する。   Hereinafter, the operation and effect of the present embodiment when the treatment liquid is regenerated will be described. In addition, the part which overlaps description with 1st Embodiment is demonstrated, abbreviate | omitting suitably.

ところで、本実施の形態における処理液を供給する際の作用および効果は、第1の実施の形態と同様であるので省略する。   By the way, since the operation and effect at the time of supplying the processing liquid in the present embodiment are the same as those in the first embodiment, the description thereof is omitted.

基板処理部60で被処理基板Wを処理する際に用いられた使用済みの硫酸過水が、排液管69を介して脱気槽71まで送られて、当該脱気槽71に収容される。   Used sulfuric acid / hydrogen peroxide used for processing the substrate W to be processed by the substrate processing unit 60 is sent to the deaeration tank 71 via the drainage pipe 69 and accommodated in the deaeration tank 71. .

ところで、本実施の形態でも、脱気槽71、循環管78、駆動部73および加熱部72のセットが二つ設けられている。そして、一セットの脱気槽71、循環管78、駆動部73および加熱部72を用いて使用済みの硫酸過水に含有された過酸化水素を分解している際には、他のセットの脱気槽71に、基板処理部60で用いた使用済みの硫酸過水が排液管69を介して排出されることとなる。このため、基板処理部60で用いられた使用済みの硫酸過水を脱気槽71で常に回収することができる。   By the way, also in this Embodiment, two sets of the deaeration tank 71, the circulation pipe 78, the drive part 73, and the heating part 72 are provided. When the hydrogen peroxide contained in the used sulfuric acid / hydrogen peroxide is decomposed using one set of the deaeration tank 71, the circulation pipe 78, the drive unit 73, and the heating unit 72, another set of The used sulfuric acid / hydrogen peroxide used in the substrate processing unit 60 is discharged into the deaeration tank 71 through the drainage pipe 69. For this reason, the used sulfuric acid overwater used in the substrate processing unit 60 can always be collected in the deaeration tank 71.

脱気槽71に収容された使用済みの硫酸過水は、駆動部73から駆動力を受けて、循環管78内で循環される。このように循環管78内で使用済みの硫酸過水が循環されている間に、加熱部72によって使用済みの硫酸過水が加熱され、この使用済みの硫酸過水に含有された過酸化水素が分解されて、水と酸素となる。なお、このとき連結管79に設けられた開閉バルブ77は閉じられている。   The used sulfuric acid superwater accommodated in the deaeration tank 71 receives a driving force from the driving unit 73 and is circulated in the circulation pipe 78. In this way, while the used sulfuric acid superwater is circulated in the circulation pipe 78, the used sulfuric acid hydrogen is heated by the heating unit 72, and hydrogen peroxide contained in this used sulfuric acid hydrogen peroxide is used. Is decomposed into water and oxygen. At this time, the open / close valve 77 provided in the connecting pipe 79 is closed.

脱気部70で使用済みの硫酸過水に含まれた過酸化水素が分解された後、連結管79に設けられた開閉バルブ77が開けられて、脱気槽71から蒸発槽15a,15bへ廃硫酸が供給される。この際、蒸発槽15a,15b内の圧力は真空ポンプ24によって減圧されている。他方、脱気槽71は圧力調整管76によって外部に連通されていることから、脱気槽71内の圧力は外部の圧力と概ね等しくなっている。   After the hydrogen peroxide contained in the used sulfuric acid / hydrogen peroxide is decomposed in the deaeration unit 70, the opening / closing valve 77 provided in the connecting pipe 79 is opened, and the deaeration tank 71 is transferred to the evaporation tanks 15a and 15b. Waste sulfuric acid is supplied. At this time, the pressure in the evaporation tanks 15 a and 15 b is reduced by the vacuum pump 24. On the other hand, since the deaeration tank 71 communicates with the outside through the pressure adjusting pipe 76, the pressure in the deaeration tank 71 is substantially equal to the external pressure.

ところで、本実施の形態でも、わずかな開度のオリフィス13a,13bを介して蒸発槽15a,15bに少しずつ廃硫酸を供給することができ、蒸発槽15a,15bに急激に廃硫酸を供給することを防止することができるので、蒸発槽15a,15bで廃硫酸が突沸することを防止することができる。   By the way, also in this embodiment, waste sulfuric acid can be supplied little by little to the evaporation tanks 15a and 15b via the orifices 13a and 13b with a slight opening, and the waste sulfuric acid is supplied to the evaporation tanks 15a and 15b abruptly. Since this can be prevented, waste sulfuric acid can be prevented from bumping in the evaporation tanks 15a and 15b.

また、わずかな開度のオリフィス13a,13b内を廃硫酸が通過しているので、この廃硫酸によって脱気槽71と蒸発槽15a,15bとの間の気体の流れが遮断されており、脱気槽71を外部の圧力と概ね等しくしつつ、蒸発槽15a,15bを減圧することができる。そしてこのように、脱気槽71が外部の圧力と概ね等しく維持されているので、高い温度の廃硫酸が脱気槽71に供給されても廃硫酸が突沸することを防止することができる。さらに、脱気槽71は内面が凹凸形状からなってもよい。このように内面が凹凸形状からなっている場合には、脱気槽71の内面の表面積を増やすことができ、突沸が生じることをより確実に防止することができる。また、脱気槽71内には、沸騰石のような部材を入れてもよく、このように沸騰石のような部材を入れることで、突沸が生じることをより確実に防止することができる。   Further, since the waste sulfuric acid passes through the orifices 13a and 13b having a slight opening, the flow of gas between the deaeration tank 71 and the evaporation tanks 15a and 15b is blocked by the waste sulfuric acid, The evaporation tanks 15a and 15b can be decompressed while making the air tank 71 substantially equal to the external pressure. As described above, since the deaeration tank 71 is maintained substantially equal to the external pressure, the waste sulfuric acid can be prevented from bumping even when high temperature waste sulfuric acid is supplied to the deaeration tank 71. Further, the inner surface of the deaeration tank 71 may be uneven. Thus, when the inner surface has an uneven shape, the surface area of the inner surface of the deaeration tank 71 can be increased, and the occurrence of bumping can be more reliably prevented. In addition, a member such as a boiling stone may be placed in the deaeration tank 71. By inserting a member such as a boiling stone in this way, it is possible to more reliably prevent bumping.

また、オリフィス13a,13bとして開度が変更可能な可変オリフィスやエアオペバルブなどを用いた場合には、廃硫酸が流れる流路の幅を適宜調整することができる。このため、オリフィス13a,13b内を流れる廃硫酸によって脱気槽71と蒸発槽15a,15bとの間での気体の流れを確実に遮断することができ、脱気槽71を外部の圧力と概ね等しくしつつ蒸発槽15a,15bを減圧することを確実に達成することができる。   Moreover, when a variable orifice or an air operated valve whose opening degree can be changed is used as the orifices 13a and 13b, the width of the flow path through which the waste sulfuric acid flows can be adjusted as appropriate. For this reason, the flow of gas between the deaeration tank 71 and the evaporation tanks 15a and 15b can be reliably interrupted by the waste sulfuric acid flowing in the orifices 13a and 13b, and the deaeration tank 71 can be roughly connected to the external pressure. It is possible to reliably achieve depressurization of the evaporation tanks 15a and 15b while making them equal.

また、本実施の形態では、減圧下で蒸発槽15a,15b内の廃硫酸を加熱することができるので、常圧下で行うより低温で廃硫酸内の水分を蒸発させることができ、廃硫酸を効率良く濃縮することができる。   Further, in the present embodiment, since the waste sulfuric acid in the evaporation tanks 15a and 15b can be heated under reduced pressure, the water in the waste sulfuric acid can be evaporated at a lower temperature than that performed under normal pressure. It can concentrate efficiently.

なお、脱気槽71の廃硫酸が全て蒸発槽15a,15bに供給された後、制御部80からの信号を受けて開閉バルブ14a,14bが閉じられる。   In addition, after all the waste sulfuric acid in the deaeration tank 71 is supplied to the evaporation tanks 15a and 15b, the open / close valves 14a and 14b are closed in response to a signal from the control unit 80.

上記のように水分が除去されて廃硫酸が濃縮された後、この濃縮硫酸は製品槽20a,20bの一つに供給される(本実施の形態では、以下、製品槽20aに濃縮硫酸が供給される態様を用いて説明する。)。この際、開閉バルブ22aが開けられ開閉バルブ22bは閉じられている。また、開閉バルブ27aが開けられており、濃縮硫酸が供給される製品槽20a内は真空ポンプ24によって減圧されている。このため、減圧された蒸発槽15a,15bから製品槽20aへの濃縮硫酸の移動をスムーズに行うことができる。なおこの際には、開閉バルブ27bは閉じられており、製品槽20b内は真空ポンプ24によって減圧されていない。   After the water is removed and the waste sulfuric acid is concentrated as described above, this concentrated sulfuric acid is supplied to one of the product tanks 20a and 20b (in this embodiment, hereinafter, the concentrated sulfuric acid is supplied to the product tank 20a). This will be described with reference to the embodiment. At this time, the opening / closing valve 22a is opened and the opening / closing valve 22b is closed. The open / close valve 27a is opened, and the inside of the product tank 20a to which concentrated sulfuric acid is supplied is decompressed by the vacuum pump 24. For this reason, the concentrated sulfuric acid can be smoothly moved from the decompressed evaporation tanks 15a and 15b to the product tank 20a. At this time, the open / close valve 27b is closed, and the inside of the product tank 20b is not depressurized by the vacuum pump 24.

蒸発槽15a,15bで生成された濃縮硫酸の全てが製品槽20aに貯留された後、開閉バルブ27aが閉じられて真空ポンプ24によって製品槽20a内が減圧されなくなる。その後、リーク弁25aが開けられて製品槽20a内は常圧に戻される。なお、開閉バルブ27aが閉じられた後、その代わりに、開閉バルブ27bが開けられて製品槽20bが減圧され始める。そして、その後、開閉バルブ22bが開けられて、減圧された製品槽20bに新たに生成された濃縮硫酸が供給されて貯留されることとなる。この際には、開閉バルブ22aは閉じられている。   After all of the concentrated sulfuric acid generated in the evaporation tanks 15a and 15b is stored in the product tank 20a, the open / close valve 27a is closed and the inside of the product tank 20a is not depressurized by the vacuum pump 24. Thereafter, the leak valve 25a is opened and the inside of the product tank 20a is returned to normal pressure. After the opening / closing valve 27a is closed, the opening / closing valve 27b is opened instead, and the product tank 20b starts to be depressurized. Thereafter, the opening / closing valve 22b is opened, and the newly generated concentrated sulfuric acid is supplied and stored in the decompressed product tank 20b. At this time, the opening / closing valve 22a is closed.

製品槽20a内の濃硫酸は、駆動部23から駆動力を受けて、製品槽20aから冷却槽31へ送られる。そして、冷却槽31で濃縮硫酸が冷却された後、当該濃縮硫酸は、駆動部33からの駆動力を受けて処理液槽51へ送られる。そして、処理液槽51と循環管58で、このようにして再生された濃縮硫酸と、プレ混合部40から供給される濃硫酸と純水の混合液とが混合される。   Concentrated sulfuric acid in the product tank 20 a receives a driving force from the drive unit 23 and is sent from the product tank 20 a to the cooling tank 31. Then, after the concentrated sulfuric acid is cooled in the cooling tank 31, the concentrated sulfuric acid receives a driving force from the driving unit 33 and is sent to the processing liquid tank 51. Then, the concentrated sulfuric acid regenerated in this way and the mixed solution of concentrated sulfuric acid and pure water supplied from the pre-mixing unit 40 are mixed in the treatment liquid tank 51 and the circulation pipe 58.

本実施の形態によっても、一つの製品槽20aから冷却槽31へ濃縮硫酸が供給されている間に、もう一つの製品槽20bが減圧されて、当該製品槽20bに新たに生成された濃縮硫酸が供給されるようになっている。このため、蒸発槽15a,15bで生成される濃縮硫酸を停止させることなく製品槽20bへ供給することができるので、硫酸を再生するために必要な時間を短縮することができる。   Also according to the present embodiment, while concentrated sulfuric acid is being supplied from one product tank 20a to the cooling tank 31, another product tank 20b is decompressed and newly generated concentrated sulfuric acid is generated in the product tank 20b. Is to be supplied. For this reason, since the concentrated sulfuric acid produced | generated by the evaporation tanks 15a and 15b can be supplied to the product tank 20b, without stopping, the time required in order to reproduce | regenerate sulfuric acid can be shortened.

ところで、圧力調整部として、図5に示すように脱気槽71内の圧力を高くする加圧部76’を用いた場合には、圧力調整部として圧力調整管76を用いた場合よりも脱気槽71内の圧力をより高くすることができるので、脱気槽71内で廃硫酸が突沸することをより確実に防止することができる。   By the way, as shown in FIG. 5, when the pressurizing unit 76 ′ that increases the pressure in the deaeration tank 71 is used as the pressure adjusting unit, the pressure adjusting unit is removed more than when the pressure adjusting pipe 76 is used as the pressure adjusting unit. Since the pressure in the air tank 71 can be made higher, it is possible to more reliably prevent the waste sulfuric acid from boiling suddenly in the deaeration tank 71.

また、このような加圧部76’を設けることで脱気槽71内の圧力を自在に調整することができ、蒸発槽15a,15b内に供給される廃硫酸の流量を調整することができる。   Moreover, by providing such a pressurizing part 76 ', the pressure in the deaeration tank 71 can be adjusted freely, and the flow rate of the waste sulfuric acid supplied into the evaporation tanks 15a and 15b can be adjusted. .

また、本実施の形態においても、第1の実施の形態の変形例と同様の構成をとることができる。より具体的には、開閉バルブ14a,14bが常に開状態になっており、脱気槽71に貯留されている廃硫酸の量が一定量以上になると、脱気槽71から蒸発槽15a,15bへ常に廃硫酸が流れ続けるように構成されてもよい。また、開閉バルブ22a,22bのいずれか一つが常に開状態になり、蒸発槽15a,15bに貯留されている濃縮硫酸の量が一定量以上になると、蒸発槽15a,15bから製品槽20a,20bのいずれか一つへ常に濃縮硫酸が流れ続けるように構成されてもよい。   Also in this embodiment, the same configuration as that of the modification of the first embodiment can be adopted. More specifically, when the on-off valves 14a and 14b are always open and the amount of waste sulfuric acid stored in the deaeration tank 71 exceeds a certain level, the evaporation tanks 15a and 15b are removed from the deaeration tank 71. It may be configured so that the waste sulfuric acid always flows. Further, when any one of the opening / closing valves 22a and 22b is always opened and the amount of concentrated sulfuric acid stored in the evaporation tanks 15a and 15b exceeds a certain level, the evaporation tanks 15a and 15b to the product tanks 20a and 20b. Concentrated sulfuric acid may always flow to any one of the above.

1 硫酸再生装置
5 蒸発部
10 供給槽
11 圧力調整管(圧力調整部)
11’ 加圧部(圧力調整部)
12a,12b 供給管
13a,13b オリフィス
15a,15b 蒸発槽
17a,17b 加熱部
20a,20b 製品槽(製品受給槽)
24 真空ポンプ(減圧部)
27a,27b 開閉バルブ
30 冷却部
40 プレ混合部
50 処理液生成部
56 過酸化水素水供給部
60 基板処理部
70 脱気部
80 制御部
85 コンピュータ
86 記憶媒体
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Sulfuric acid regenerating apparatus 5 Evaporating part 10 Supply tank 11 Pressure adjusting pipe (pressure adjusting part)
11 'Pressurizing part (pressure adjusting part)
12a, 12b Supply pipes 13a, 13b Orifices 15a, 15b Evaporating tanks 17a, 17b Heating units 20a, 20b Product tank (product receiving tank)
24 Vacuum pump (decompression unit)
27a, 27b Open / close valve 30 Cooling unit 40 Pre-mixing unit 50 Processing liquid generation unit 56 Hydrogen peroxide solution supply unit 60 Substrate processing unit 70 Deaeration unit 80 Control unit 85 Computer 86 Storage medium

Claims (12)

被処理基板を硫酸を用いて処理する基板処理部と、
前記基板処理部で用いられた廃硫酸を再生するための硫酸再生装置と、を備え、
前記硫酸再生装置は、
前記廃硫酸を収容する蒸発槽と、
前記蒸発槽内に収容された前記廃硫酸を加熱する加熱部と、
前記廃硫酸を収容するとともに、前記蒸発槽に該廃硫酸を供給する供給槽と、
前記供給槽と前記蒸発槽とを連結する供給管と、
前記供給管に設けられ、前記供給槽から前記蒸発槽へ供給される前記廃硫酸の量を調整するための流量調整部と、
前記蒸発槽に設けられ、該蒸発槽内の圧力を減圧する第一減圧部と、
前記供給槽に設けられ、該供給槽内の圧力を前記蒸発槽内の圧力よりも高くする圧力調整部と、を有することを特徴とする基板処理装置。
A substrate processing unit for processing a substrate to be processed using sulfuric acid;
A sulfuric acid regenerating apparatus for regenerating waste sulfuric acid used in the substrate processing unit,
The sulfuric acid regenerator is:
An evaporation tank containing the waste sulfuric acid;
A heating unit for heating the waste sulfuric acid accommodated in the evaporation tank;
A supply tank for containing the waste sulfuric acid and supplying the waste sulfuric acid to the evaporation tank;
A supply pipe connecting the supply tank and the evaporation tank;
A flow rate adjusting unit for adjusting an amount of the waste sulfuric acid provided in the supply pipe and supplied from the supply tank to the evaporation tank;
A first pressure reducing unit provided in the evaporation tank, for reducing the pressure in the evaporation tank;
A substrate processing apparatus, comprising: a pressure adjusting unit that is provided in the supply tank and makes a pressure in the supply tank higher than a pressure in the evaporation tank.
前記供給槽から前記蒸発槽へ前記廃硫酸が供給される際に、該廃硫酸によって該供給槽と該蒸発槽との間の気体の流れが遮断されることを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。   2. The gas flow between the supply tank and the evaporation tank is blocked by the waste sulfuric acid when the waste sulfuric acid is supplied from the supply tank to the evaporation tank. Substrate processing equipment. 前記圧力調整部は、前記供給槽に設けられて外部と繋がった圧力調整管であることを特徴とする請求項1または2のいずれかに記載の基板処理装置。   The substrate processing apparatus according to claim 1, wherein the pressure adjusting unit is a pressure adjusting tube provided in the supply tank and connected to the outside. 前記圧力調整部は、前記供給槽内の圧力を高くする加圧部であることを特徴とする請求項1または2のいずれかに記載の基板処理装置。   The substrate processing apparatus according to claim 1, wherein the pressure adjusting unit is a pressurizing unit that increases a pressure in the supply tank. 前記蒸発槽に連結され、該蒸発槽において濃縮された硫酸を受ける製品受給槽と、
前記製品受給槽に連結され、該製品受給槽内を減圧するための第二減圧部と、
をさらに備えたことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の基板処理装置。
A product receiving tank connected to the evaporation tank and receiving sulfuric acid concentrated in the evaporation tank;
A second decompression unit connected to the product receiving tank and for decompressing the product receiving tank;
The substrate processing apparatus according to claim 1, further comprising:
前記蒸発槽から前記製品受給槽に前記濃縮された硫酸が移される際に、該製品受給槽内が前記第二減圧部によって減圧されていることを特徴とする請求項5に記載の基板処理装置。   The substrate processing apparatus according to claim 5, wherein when the concentrated sulfuric acid is transferred from the evaporation tank to the product receiving tank, the inside of the product receiving tank is depressurized by the second decompression unit. . 前記蒸発槽に連結され、該蒸発槽において濃縮された硫酸を受ける複数の製品受給槽と、
前記製品受給槽の各々に連結され、該製品受給槽内を減圧するための第二減圧部と、をさらに備え、
前記蒸発槽から前記製品受給槽の少なくとも一つに前記濃縮された硫酸が移される際に、該濃縮された硫酸が移される製品受給槽内が前記第二減圧部によって減圧され、該濃縮された硫酸が移されない製品受給槽内は減圧されないことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の基板処理装置。
A plurality of product receiving tanks connected to the evaporation tank and receiving sulfuric acid concentrated in the evaporation tank;
A second decompression unit connected to each of the product receiving tanks and for depressurizing the inside of the product receiving tanks,
When the concentrated sulfuric acid is transferred from the evaporation tank to at least one of the product receiving tanks, the inside of the product receiving tank to which the concentrated sulfuric acid is transferred is depressurized and concentrated by the second pressure reducing unit. 5. The substrate processing apparatus according to claim 1, wherein the inside of the product receiving tank to which sulfuric acid is not transferred is not depressurized.
前記基板処理部は、過酸化水素を含有する廃硫酸を用いて前記被処理基板を処理し、
前記基板処理部に、前記廃硫酸に含まれる前記過酸化水素を分解して除去する脱気部が連結され、
前記供給槽は、前記脱気部で前記過酸化水素が除去された廃硫酸を収容することを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載の基板処理装置。
The substrate processing unit processes the substrate to be processed using waste sulfuric acid containing hydrogen peroxide,
A deaeration unit for decomposing and removing the hydrogen peroxide contained in the waste sulfuric acid is connected to the substrate processing unit,
The substrate processing apparatus according to claim 1, wherein the supply tank contains waste sulfuric acid from which the hydrogen peroxide has been removed in the deaeration unit.
前記基板処理部は、過酸化水素を含有する廃硫酸を用いて前記被処理基板を処理し、
前記基板処理部に、前記廃硫酸に含まれる前記過酸化水素を分解して除去する脱気部が連結され、
前記脱気部は、前記過酸化水素を含有した前記廃硫酸を収容する脱気槽と、該過酸化水素を含有した該廃硫酸を加熱する加熱部とを有し、
前記供給槽は前記脱気槽であることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載の基板処理装置。
The substrate processing unit processes the substrate to be processed using waste sulfuric acid containing hydrogen peroxide,
A deaeration unit for decomposing and removing the hydrogen peroxide contained in the waste sulfuric acid is connected to the substrate processing unit,
The deaeration unit includes a deaeration tank that stores the waste sulfuric acid containing the hydrogen peroxide, and a heating unit that heats the waste sulfuric acid containing the hydrogen peroxide,
The substrate processing apparatus according to claim 1, wherein the supply tank is the deaeration tank.
被処理基板を硫酸を含有する処理液を用いて処理することと、
前記基板処理部で用いられた廃硫酸を再生することと、を備え、
廃硫酸を再生することは、
供給槽から蒸発槽に廃硫酸を供給することと、
前記蒸発槽内に収容された廃硫酸を、減圧下で加熱することと、を有し、
前記供給槽から前記蒸発槽に前記廃硫酸を供給する際に、該廃硫酸の流量が調整されるとともに、前記供給槽内の圧力が前記蒸発槽内の圧力よりも高くなっていることを特徴とする基板処理方法。
Treating the substrate to be treated with a treatment solution containing sulfuric acid;
Regenerating the waste sulfuric acid used in the substrate processing unit,
Recycling waste sulfuric acid
Supplying waste sulfuric acid from the supply tank to the evaporation tank;
Heating the waste sulfuric acid accommodated in the evaporation tank under reduced pressure,
When supplying the waste sulfuric acid from the supply tank to the evaporation tank, the flow rate of the waste sulfuric acid is adjusted, and the pressure in the supply tank is higher than the pressure in the evaporation tank. A substrate processing method.
前記供給槽から前記蒸発槽に前記廃硫酸を供給する際に、該廃硫酸によって該供給槽と該蒸発槽との間の気体の流れが遮断されることを特徴とする請求項10に記載の基板処理方法。   The gas flow between the supply tank and the evaporation tank is blocked by the waste sulfuric acid when the waste sulfuric acid is supplied from the supply tank to the evaporation tank. Substrate processing method. 基板処理装置に基板処理方法を実行させるためのコンピュータプログラムを格納した記憶媒体において、
前記基板処理方法は、
被処理基板を硫酸を含有する処理液を用いて処理することと、
前記基板処理部で用いられた廃硫酸を再生することと、を備え、
廃硫酸を再生することは、
供給槽から蒸発槽に廃硫酸を供給することと、
前記蒸発槽内に収容された廃硫酸を、減圧下で加熱することと、を有し、
前記供給槽から前記蒸発槽に前記廃硫酸を供給する際に、該廃硫酸の流量が調整されるとともに、前記供給槽内の圧力が前記蒸発槽内の圧力よりも高くなっている方法であることを特徴とする記憶媒体。
In a storage medium storing a computer program for causing a substrate processing apparatus to execute a substrate processing method,
The substrate processing method includes:
Treating the substrate to be treated with a treatment solution containing sulfuric acid;
Regenerating the waste sulfuric acid used in the substrate processing unit,
Recycling waste sulfuric acid
Supplying waste sulfuric acid from the supply tank to the evaporation tank;
Heating the waste sulfuric acid accommodated in the evaporation tank under reduced pressure,
When supplying the waste sulfuric acid from the supply tank to the evaporation tank, the flow rate of the waste sulfuric acid is adjusted, and the pressure in the supply tank is higher than the pressure in the evaporation tank. A storage medium characterized by that.
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