JP2012046722A - Adhesive composition - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、ハンダリフロー等における高温環境下でも剥離を生じることなく高い接着力を維持できる一方、不要になったときには被着体を損傷することなく容易に剥がすことができる接着剤組成物に関する。 The present invention relates to an adhesive composition that can maintain a high adhesive force without causing peeling even under a high temperature environment such as solder reflow, and can be easily peeled off without damaging an adherend when it becomes unnecessary.
接着剤に求められる性能はその用途により様々であるが、用途によっては、必要な間だけ強固に被着体に接着して固定できる一方で、使用後には容易に剥がせることが要求されることがある。
例えば、電子材料の製造方法においては、SUS等の金属板、ガラス板、シリコンウエハ等の支持板上に、接着剤を用いて電子部品や配線を固定し、アルカリエッチングやメッキ等の加工を加えた後、200℃以上の温度をかけてハンダを溶融して導電接続を行うハンダリフロー工程を行う。これらの一連の工程においては、電子部品や配線がずれないように高い接着強度が求められる。一方、一連の工程が完了した後には、糊残りすることなく支持板から電子材料を剥離することが求められる。
The performance required of adhesives varies depending on the application, but depending on the application, it can be firmly adhered and fixed to the adherend as long as necessary, but it must be easily peeled off after use. There is.
For example, in an electronic material manufacturing method, an electronic component or wiring is fixed on a support plate such as a metal plate such as SUS, a glass plate, or a silicon wafer by using an adhesive, and processing such as alkali etching or plating is performed. After that, a solder reflow process is performed in which the solder is melted by applying a temperature of 200 ° C. or higher to conduct conductive connection. In these series of steps, high adhesive strength is required so that electronic components and wiring do not shift. On the other hand, after the series of steps is completed, it is required to peel the electronic material from the support plate without leaving glue.
高接着易剥離性の接着剤としては、例えば特許文献1には、接着剤中に熱膨張性マイクロカプセル等の発泡剤を配合した接着剤が開示されている。このような接着剤を加熱すると、発泡剤により接着剤の全体が発泡して、被着体との接着面積が低減することから、容易に剥離することができる。しかしながら、このような発泡型の易剥離性接着剤では、ハンダリフロー工程における加熱の際に発泡して、剥離してしまうという問題があった。
As a highly adhesive and easily peelable adhesive, for example,
特許文献2には、硬化型の接着剤中にアゾ化合物、アジド化合物等の気体発生剤を配合した接着剤が開示されている。このような接着剤に紫外線を照射したり加熱したりすると、接着剤が硬化するとともに、気体発生剤から発生した気体が被着体との接着面に放出され、接着面の少なくとも一部を剥がすことから、容易に剥離することができる。しかしながら、特許文献2に記載された接着剤も、ハンダリフロー工程における加熱の際に気体発生剤から気体が発生してしまい、剥離してしまうという問題があった。 Patent Document 2 discloses an adhesive in which a gas generating agent such as an azo compound or an azide compound is blended in a curable adhesive. When such an adhesive is irradiated with ultraviolet rays or heated, the adhesive is cured, and the gas generated from the gas generating agent is released to the adhesion surface with the adherend, and at least a part of the adhesion surface is peeled off. Therefore, it can be easily peeled off. However, the adhesive described in Patent Document 2 also has a problem in that gas is generated from the gas generating agent during heating in the solder reflow process and is peeled off.
本発明は、ハンダリフロー等における高温環境下でも剥離を生じることなく高い接着力を維持できる一方、不要になったときには被着体を損傷することなく容易に剥がすことができる接着剤組成物を提供することを目的とする。 The present invention provides an adhesive composition that can maintain a high adhesive force without causing peeling even in a high-temperature environment such as solder reflow, and can be easily peeled off without damaging an adherend when it becomes unnecessary. The purpose is to do.
本発明は、エチレングリコール骨格を有し両末端にカチオン重合性反応基を有する化合物、プロピレングリコール骨格を有し両末端にカチオン重合性反応基を有する化合物、カチオン重合性反応基を有するシリコーン化合物、及び、光カチオン重合開始剤を含有する接着剤組成物である。
以下に本発明を詳述する。
The present invention relates to a compound having an ethylene glycol skeleton and a cation polymerizable reactive group at both ends, a compound having a propylene glycol skeleton and a cation polymerizable reactive group at both ends, a silicone compound having a cation polymerizable reactive group, And an adhesive composition containing a photocationic polymerization initiator.
The present invention is described in detail below.
本発明者は、エチレングリコール骨格を有し両末端にカチオン重合性反応基を有する化合物、プロピレングリコール骨格を有し両末端にカチオン重合性反応基を有する化合物、カチオン重合性反応基を有するシリコーン化合物、及び、光カチオン重合開始剤を含有する接着剤組成物は、ハンダリフロー等における高温環境下でも剥離を生じることなく高い接着力を発揮できる一方、温水中に浸漬するだけで糊残りすることなく容易に剥離することができることを見出し、本発明を完成するに至った。 The present inventor includes a compound having an ethylene glycol skeleton and a cation polymerizable reactive group at both ends, a compound having a propylene glycol skeleton and a cation polymerizable reactive group at both ends, and a silicone compound having a cation polymerizable reactive group In addition, the adhesive composition containing the cationic photopolymerization initiator can exhibit a high adhesive force without causing peeling even in a high-temperature environment such as solder reflow, but without being left with glue simply by being immersed in warm water. The present inventors have found that it can be easily peeled off and have completed the present invention.
本発明の接着剤組成物は、接着成分として、エチレングリコール骨格を有し両末端にカチオン重合性反応基を有する化合物(本明細書中、カチオン重合性化合物(A)ともいう)とプロピレングリコール骨格を有し両末端にカチオン重合性反応基を有する化合物(本明細書中、カチオン重合性化合物(B)ともいう)とを含有する。これらのカチオン重合性化合物は、エチレングリコール骨格又はプロピレングリコール骨格を有することから、いずれも親水性が高い。このような親水性が高いカチオン重合性化合物を2種類併用することにより、高温環境下でも高い接着力を維持できる一方、不要になったときには温水中に浸漬するだけで、被着体を損傷することなく容易に剥がすことができる。 The adhesive composition of the present invention comprises, as an adhesive component, a compound having an ethylene glycol skeleton and a cation polymerizable reactive group at both ends (also referred to as a cation polymerizable compound (A) in the present specification) and a propylene glycol skeleton. And a compound having a cationically polymerizable reactive group at both ends (also referred to as a cationically polymerizable compound (B) in the present specification). Since these cationically polymerizable compounds have an ethylene glycol skeleton or a propylene glycol skeleton, all have high hydrophilicity. By using two kinds of such cationically polymerizable compounds having high hydrophilicity, high adhesive force can be maintained even in a high temperature environment, but when it becomes unnecessary, the adherend can be damaged simply by immersing in warm water. Can be easily peeled off.
上記カチオン重合性化合物(A)は、本発明の接着剤組成物に高温環境下でも高い接着力を付与するために必須の成分である。
上記カチオン重合性化合物(A)におけるカチオン重合性反応基は特に限定されず、例えば、エポキシ基、オキセタン基、脂環式エポキシ基、ビニルエーテル基等が挙げられる。
上記カチオン重合性化合物(A)は特に限定されず、例えば、下記一般式(1)で表されるエポキシ樹脂等が挙げられる。
The cationic polymerizable compound (A) is an essential component for imparting high adhesive force to the adhesive composition of the present invention even in a high temperature environment.
The cationic polymerizable reactive group in the cationic polymerizable compound (A) is not particularly limited, and examples thereof include an epoxy group, an oxetane group, an alicyclic epoxy group, and a vinyl ether group.
The cationically polymerizable compound (A) is not particularly limited, and examples thereof include an epoxy resin represented by the following general formula (1).
上記一般式(1)中、nは整数を表す。
上記一般式(1)においてnは特に限定されないが、現時点においては22を超える市販品が存在しないことから、実質的な上限は22である。nの好ましい範囲は5〜15である。nが15を超えると、接着剤組成物を調製しにくくなることがあり、また、接着剤組成物の温水中での剥離性が低下することがある。これは、nが15を超えると、ポリエチレングリコール鎖の結晶性が高くなるためと考えられる。nのより好ましい上限は13である。
In the general formula (1), n represents an integer.
In the above general formula (1), n is not particularly limited, but there is no commercially available product exceeding 22 at the present time, so the substantial upper limit is 22. The preferable range of n is 5-15. When n exceeds 15, it may be difficult to prepare an adhesive composition, and the peelability of the adhesive composition in warm water may be reduced. This is presumably because when n exceeds 15, the crystallinity of the polyethylene glycol chain increases. A more preferable upper limit of n is 13.
上記一般式(1)で表されるエポキシ樹脂は、例えば、デナコールEX−810(n=1)、デナコールEX−850(n=2)、デナコールEX−821(n=4)、デナコールEX−830(n=9)、デナコールEX−841(n=13)、デナコールEX−861(n=22)等がナガセケムテックス社より市販されており、エポライト40E(n=1)、エポライト100E(n=2)、エポライト200E(n=4)、エポライト400E(n=9)等が共栄社化学社より市販されている。 Examples of the epoxy resin represented by the general formula (1) include Denacol EX-810 (n = 1), Denacol EX-850 (n = 2), Denacol EX-821 (n = 4), and Denacol EX-830. (N = 9), Denacol EX-841 (n = 13), Denacol EX-861 (n = 22), and the like are commercially available from Nagase ChemteX Corporation. Epolite 40E (n = 1), Epolite 100E (n = 2), Epolite 200E (n = 4), Epolite 400E (n = 9), etc. are commercially available from Kyoeisha Chemical Company.
上記カチオン重合性化合物(B)は、本発明の接着剤組成物に温水中で剥離する性能を付与するために必須の成分である。
上記カチオン重合性化合物(B)におけるカチオン重合性反応基は特に限定されず、例えば、エポキシ基、オキセタン基、ビニルエーテル基等が挙げられる。
上記カチオン重合性化合物(B)は特に限定されず、例えば、下記一般式(2)で表されるエポキシ樹脂等が挙げられる。
The cationic polymerizable compound (B) is an essential component for imparting the ability to peel off in warm water to the adhesive composition of the present invention.
The cationic polymerizable reactive group in the cationic polymerizable compound (B) is not particularly limited, and examples thereof include an epoxy group, an oxetane group, and a vinyl ether group.
The cationically polymerizable compound (B) is not particularly limited, and examples thereof include an epoxy resin represented by the following general formula (2).
上記一般式(2)中、mは整数を表す。
上記一般式(2)においてmは特に限定されないが、現時点においては11を超える市販品が存在しないことから、実質的な上限は11である。mが11を超えると、接着剤組成物を調製しにくくなることがあり、また、接着剤組成物が常温で固体となることがある。mの好ましい範囲は2〜11、より好ましい範囲は3〜11である。
In the general formula (2), m represents an integer.
In the above general formula (2), m is not particularly limited, but since there is no commercially available product exceeding 11 at present, the substantial upper limit is 11. When m exceeds 11, it may be difficult to prepare an adhesive composition, and the adhesive composition may become solid at room temperature. The preferable range of m is 2 to 11, and the more preferable range is 3 to 11.
上記一般式(2)で表されるエポキシ樹脂は、例えば、デナコールEX−911(m=1)、デナコールEX−941(m=2)、デナコールEX−920(m=3)、デナコールEX−931(m=11)等がナガセケムテックス社より市販されており、エポライト70P(m=1)、エポライト200P(m=3)、エポライト400P(m=7)等が共栄社化学社より市販されている。 Examples of the epoxy resin represented by the general formula (2) include Denacol EX-911 (m = 1), Denacol EX-941 (m = 2), Denacol EX-920 (m = 3), Denacol EX-931. (M = 11) is commercially available from Nagase ChemteX Corporation, and Epolite 70P (m = 1), Epolite 200P (m = 3), Epolite 400P (m = 7), etc. are commercially available from Kyoeisha Chemical Co., Ltd. .
上記カチオン重合性化合物(A)100重量部に対する上記カチオン重合性化合物(B)の配合量の好ましい下限は30重量部、好ましい上限は5000重量部である。上記カチオン重合性化合物(B)の配合量が30重量部未満であると、得られる接着剤組成物を温水に浸漬しても剥離までに要する時間が極端に長時間となることがある。上記カチオン重合性化合物(B)の配合量が5000重量部を超えると、得られる接着剤組成物が硬化しにくくなり、接着力が低下することがある。上記カチオン重合性化合物(A)100重量部に対する上記カチオン重合性化合物(B)の配合量のより好ましい下限は50重量部、より好ましい上限は2000重量部であり、更に好ましい下限は100重量部、更に好ましい上限は1500重量部である。 The preferable lower limit of the compounding amount of the cationic polymerizable compound (B) with respect to 100 parts by weight of the cationic polymerizable compound (A) is 30 parts by weight, and the preferable upper limit is 5000 parts by weight. If the blending amount of the cationic polymerizable compound (B) is less than 30 parts by weight, the time required for peeling may be extremely long even if the resulting adhesive composition is immersed in warm water. When the compounding quantity of the said cation polymeric compound (B) exceeds 5000 weight part, the adhesive composition obtained will become difficult to harden | cure and adhesive force may fall. The more preferred lower limit of the amount of the cationic polymerizable compound (B) to 100 parts by weight of the cationic polymerizable compound (A) is 50 parts by weight, the more preferred upper limit is 2000 parts by weight, and the still more preferred lower limit is 100 parts by weight. A more preferred upper limit is 1500 parts by weight.
本発明の接着剤組成物は、カチオン重合性反応基を有するシリコーン化合物を含有する。
本発明の接着剤組成物が上記カチオン重合性反応基を有するシリコーン化合物を含有することにより、本発明の接着剤組成物を用いてガラス板、シリコンウエハ等の支持板上に半導体基板を接合した場合、温水中に浸漬して剥離する際に接着剤組成物は支持板側に固着し、半導体基板側に糊残りすることなく容易に剥離することができる。この理由は次のように推測される。
本発明の接着剤組成物は、上記カチオン重合性反応基を有するシリコーン化合物を含有するため、その硬化物は構造中にシリコーン骨格を有する。このため、例えば、カチオン重合性反応基を持たないシリコーン化合物を単独で接着剤組成物中に添加する場合と比較して、支持板に対する硬化物全体としての密着性が高くなり、温水中に浸漬して剥離する際には半導体基板側よりも支持板側に固着しやすく、半導体基板側に糊残りすることなく容易に剥離することができる。
The adhesive composition of the present invention contains a silicone compound having a cationic polymerizable reactive group.
When the adhesive composition of the present invention contains the silicone compound having the cationic polymerizable reactive group, a semiconductor substrate is bonded onto a support plate such as a glass plate or a silicon wafer using the adhesive composition of the present invention. In this case, the adhesive composition adheres to the support plate side when it is immersed in hot water and peeled off, and can be easily peeled off without leaving adhesive residue on the semiconductor substrate side. The reason is presumed as follows.
Since the adhesive composition of the present invention contains the silicone compound having the cationic polymerizable reactive group, the cured product has a silicone skeleton in the structure. For this reason, for example, compared with the case where a silicone compound having no cationically polymerizable reactive group is added alone to the adhesive composition, the adhesiveness as a whole of the cured product to the support plate is increased and immersed in warm water. Then, when peeling off, it is easier to adhere to the support plate side than to the semiconductor substrate side, and it can be easily peeled off without leaving glue on the semiconductor substrate side.
また、本発明の接着剤組成物は、上記カチオン重合性反応基を有するシリコーン化合物を含有するため、その硬化物は構造中にシリコーン骨格を有し、耐熱性にも優れる。このため、本発明の接着剤組成物を用いてガラス板、シリコンウエハ等の支持板上に半導体基板を接合した場合、本発明の接着剤組成物の硬化物は、ハンダリフロー等における高温環境下でも熱分解が抑制され、例えば、温水中に浸漬しても剥離することのできない分解物が半導体基板に付着してしまう等の問題を防止することができる。 Moreover, since the adhesive composition of this invention contains the silicone compound which has the said cation polymerizable reactive group, the hardened | cured material has a silicone frame | skeleton in a structure and is excellent also in heat resistance. For this reason, when a semiconductor substrate is bonded onto a support plate such as a glass plate or a silicon wafer using the adhesive composition of the present invention, the cured product of the adhesive composition of the present invention is in a high-temperature environment such as solder reflow. However, thermal decomposition is suppressed, and for example, it is possible to prevent problems such as decomposition products that cannot be peeled off even when immersed in warm water adhere to the semiconductor substrate.
上記カチオン重合性反応基を有するシリコーン化合物におけるカチオン重合性反応基は特に限定されず、例えば、エポキシ基、オキセタン基、ビニルエーテル基等が挙げられる。 The cationic polymerizable reactive group in the silicone compound having the cationic polymerizable reactive group is not particularly limited, and examples thereof include an epoxy group, an oxetane group, and a vinyl ether group.
上記カチオン重合性反応基を有するシリコーン化合物は特に限定されないが、本発明の接着剤組成物を厚み100μmの硬化物としたとき、当該硬化物の可視光波長600nmでの光線透過率が20%以上となるように上記カチオン重合性反応基を有するシリコーン化合物を選択することが好ましい。上記硬化物の可視光波長600nmでの光線透過率が20%未満となるようなカチオン重合性反応基を有するシリコーン化合物を用いると、得られる接着剤組成物に光を照射しても、光の散乱により硬化反応が充分に進行しないことがあり、また、上記カチオン重合性反応基を有するシリコーン化合物と、上記カチオン重合性化合物(A)及び上記カチオン重合性化合物(B)との相溶性が悪くなり、得られる接着剤組成物に強い光を照射しても、シリコーン骨格を硬化物全体に存在させることができず、支持板に対する密着性が低下することがある。 The silicone compound having a cationic polymerizable reactive group is not particularly limited, but when the adhesive composition of the present invention is a cured product having a thickness of 100 μm, the light transmittance at a visible light wavelength of 600 nm of the cured product is 20% or more. It is preferable to select a silicone compound having the above cationic polymerizable reactive group. When a silicone compound having a cationically polymerizable reactive group that causes the light transmittance at a visible light wavelength of 600 nm of the cured product to be less than 20% is used, even if the resulting adhesive composition is irradiated with light, The curing reaction may not sufficiently proceed due to scattering, and the compatibility of the silicone compound having the cationic polymerizable reactive group with the cationic polymerizable compound (A) and the cationic polymerizable compound (B) is poor. Thus, even when strong light is irradiated to the resulting adhesive composition, the silicone skeleton cannot be present in the entire cured product, and adhesion to the support plate may be reduced.
上記カチオン重合性反応基を有するシリコーン化合物として、具体的には、エポキシ基を有するシリコーン化合物が好ましい。
上記エポキシ基を有するシリコーン化合物は特に限定されず、側鎖にエポキシ基を有するシリコーン化合物であってもよく、末端にエポキシ基を有するシリコーン化合物であってもよい。
Specifically, a silicone compound having an epoxy group is preferable as the silicone compound having a cationic polymerizable reactive group.
The silicone compound having an epoxy group is not particularly limited, and may be a silicone compound having an epoxy group in a side chain or a silicone compound having an epoxy group at a terminal.
上記側鎖にエポキシ基を有するシリコーン化合物は特に限定されないが、下記一般式(3)で表される構造単位を有するシリコーン化合物が好ましい。
R1R2SiO2/2 (3)
一般式(3)中、R1はエポキシ基含有基を表し、R2は、直鎖状若しくは分岐状の炭素数1〜8の炭化水素基又はそのフッ素化物を表す。
Although the silicone compound which has an epoxy group in the said side chain is not specifically limited, The silicone compound which has a structural unit represented by following General formula (3) is preferable.
R 1 R 2 SiO 2/2 (3)
In General Formula (3), R 1 represents an epoxy group-containing group, and R 2 represents a linear or branched hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms or a fluorinated product thereof.
上記エポキシ基含有基は特に限定されないが、グリシジル基含有基が好ましく、また、エポキシシクロヘキシル基含有基ではないことが好ましい。
上記グリシジル基含有基は特に限定されず、例えば、2,3−エポキシプロピル基、3,4−エポキシブチル基、4,5−エポキシペンチル基、2−グリシドキシエチル基、3−グリシドキシプロピル基、4−グリシドキシブチル基等が挙げられる。
The epoxy group-containing group is not particularly limited, but is preferably a glycidyl group-containing group, and is preferably not an epoxycyclohexyl group-containing group.
The glycidyl group-containing group is not particularly limited. For example, 2,3-epoxypropyl group, 3,4-epoxybutyl group, 4,5-epoxypentyl group, 2-glycidoxyethyl group, 3-glycidoxy A propyl group, 4-glycidoxybutyl group, etc. are mentioned.
上記直鎖状若しくは分岐状の炭素数1〜8の炭化水素基は特に限定されず、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、イソプロピル基、イソブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、t−ペンチル基、イソへキシル基等が挙げられる。 The linear or branched hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms is not particularly limited, and examples thereof include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an n-butyl group, an n-pentyl group, and an n-hexyl group. N-heptyl group, n-octyl group, isopropyl group, isobutyl group, sec-butyl group, t-butyl group, isopentyl group, neopentyl group, t-pentyl group, isohexyl group and the like.
上記側鎖にエポキシ基を有するシリコーン化合物は、上記一般式(3)で表される構造単位以外の構造単位を有してもよい。
上記一般式(3)で表される構造単位以外の構造単位として、例えば、下記一般式(4)で表される構造単位、下記一般式(5)で表される構造単位等が挙げられる。なお、下記一般式(4)で表される構造単位及び下記一般式(5)で表される構造単位は、上記側鎖にエポキシ基を有するシリコーン化合物に単独で含まれていてもよく、2種以上含まれていてもよい。
R3R4SiO2/2 (4)
R5SiO3/2 (5)
一般式(4)及び(5)中、R3〜R5はそれぞれ、直鎖状若しくは分岐状の炭素数1〜8の炭化水素基又はそのフッ素化物を表し、これらは互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。
The silicone compound having an epoxy group in the side chain may have a structural unit other than the structural unit represented by the general formula (3).
Examples of the structural unit other than the structural unit represented by the general formula (3) include a structural unit represented by the following general formula (4), a structural unit represented by the following general formula (5), and the like. The structural unit represented by the following general formula (4) and the structural unit represented by the following general formula (5) may be contained alone in the silicone compound having an epoxy group in the side chain. More than one species may be included.
R 3 R 4 SiO 2/2 (4)
R 5 SiO 3/2 (5)
In general formulas (4) and (5), R 3 to R 5 each represents a linear or branched hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms or a fluorinated product thereof, and these may be the same as each other. Well, it can be different.
上記末端にエポキシ基を有するシリコーン化合物は特に限定されず、例えば、上記一般式(4)で表される構造単位又は上記一般式(5)で表される構造単位を単独で又は2種以上有する化合物の末端にエポキシ基含有基を有するシリコーン化合物等が挙げられる。 The silicone compound having an epoxy group at the terminal is not particularly limited, and includes, for example, the structural unit represented by the general formula (4) or the structural unit represented by the general formula (5) singly or in combination. Examples include a silicone compound having an epoxy group-containing group at the end of the compound.
上記エポキシ基を有するシリコーン化合物のエポキシ当量は特に限定されないが、好ましい下限が100、好ましい上限が5000である。上記エポキシ当量が100未満であると、得られる接着剤組成物の硬化物には、上記エポキシ基を有するシリコーン化合物が充分に取り込まれず、構造中のシリコーン骨格の割合が低下し、支持板に対する密着性が低下することがある。上記エポキシ当量が5000を超えると、上記エポキシ基を有するシリコーン化合物と、上記カチオン重合性化合物(A)及び上記カチオン重合性化合物(B)との相溶性が悪くなり、得られる接着剤組成物の硬化物の光線透過率が小さくなりすぎることがある。上記エポキシ基を有するシリコーン化合物のエポキシ当量は、より好ましい下限が150、より好ましい上限が1000である。 The epoxy equivalent of the silicone compound having an epoxy group is not particularly limited, but a preferable lower limit is 100 and a preferable upper limit is 5000. When the epoxy equivalent is less than 100, the cured product of the obtained adhesive composition does not sufficiently incorporate the silicone compound having the epoxy group, the ratio of the silicone skeleton in the structure is reduced, and the adhesion to the support plate May decrease. When the epoxy equivalent exceeds 5000, the compatibility of the silicone compound having the epoxy group with the cationic polymerizable compound (A) and the cationic polymerizable compound (B) is deteriorated, and the resulting adhesive composition The light transmittance of the cured product may become too small. The more preferable lower limit of the epoxy equivalent of the silicone compound having an epoxy group is 150, and the more preferable upper limit is 1000.
上記エポキシ基を有するシリコーン化合物を合成する方法は特に限定されず、例えば、SiH基を有するシリコーン樹脂と、エポキシ基含有基を有するビニル化合物とのハイドロシリレーション反応により、シリコーン樹脂にエポキシ基含有基を導入する方法、シロキサン化合物と、エポキシ基含有基を有するシロキサン化合物とを縮合反応させる方法等が挙げられる。
上記エポキシ基含有基を有するシロキサン化合物として、具体的には、例えば、3−グリシドキシプロピル(メチル)ジメトキシシラン、3−グリシドキシプロピル(メチル)ジエトキシシラン、3−グリシドキシプロピル(メチル)ジブトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチル(メチル)ジメトキシシラン、2,3−エポキシプロピル(メチル)ジメトキシシラン等のジアルコキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリブトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン、2,3−エポキシプロピルトリメトキシシラン、2,3−エポキシプロピルトリエトキシシラン等のトリアルコキシシラン等が挙げられる。
A method for synthesizing the silicone compound having an epoxy group is not particularly limited. For example, an epoxy group-containing group is added to the silicone resin by a hydrosilylation reaction between a silicone resin having a SiH group and a vinyl compound having an epoxy group-containing group. And a method in which a siloxane compound and a siloxane compound having an epoxy group-containing group are subjected to a condensation reaction.
Specific examples of the siloxane compound having an epoxy group-containing group include 3-glycidoxypropyl (methyl) dimethoxysilane, 3-glycidoxypropyl (methyl) diethoxysilane, 3-glycidoxypropyl ( Dialkoxysilanes such as methyl) dibutoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl (methyl) dimethoxysilane, 2,3-epoxypropyl (methyl) dimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltributoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane, 2,3-epoxypropyltrimeth Shishiran, trialkoxysilane such as 2,3-epoxy propyl triethoxy silane.
上記カチオン重合性反応基を有するシリコーン化合物の分子量は特に限定されないが、好ましい下限が300、好ましい上限が5000である。上記分子量が300未満であると、得られる接着剤組成物の硬化物は、支持板に対する密着性が低下することがある。上記分子量が5000を超えると、上記カチオン重合性反応基を有するシリコーン化合物と、上記カチオン重合性化合物(A)及び上記カチオン重合性化合物(B)との相溶性が悪くなり、得られる接着剤組成物中で上記カチオン重合性反応基を有するシリコーン化合物が層分離したり、得られる接着剤組成物の硬化物の光線透過率が小さくなりすぎたりすることがある。 The molecular weight of the silicone compound having a cationically polymerizable reactive group is not particularly limited, but a preferable lower limit is 300 and a preferable upper limit is 5000. When the molecular weight is less than 300, the cured product of the obtained adhesive composition may have poor adhesion to the support plate. When the molecular weight exceeds 5000, the compatibility of the silicone compound having the cationic polymerizable reactive group with the cationic polymerizable compound (A) and the cationic polymerizable compound (B) is deteriorated, and the resulting adhesive composition is obtained. The silicone compound having the cationically polymerizable reactive group in the product may be separated into layers, or the light transmittance of the cured product of the resulting adhesive composition may be too small.
上記カチオン重合性反応基を有するシリコーン化合物の市販品は特に限定されず、例えば、信越化学工業社製の商品名「X−22−343」、「KF−101」等の側鎖にエポキシ基を有するシリコーン化合物、信越化学工業社製の商品名「X−22−163」等の両末端にエポキシ基を有するシリコーン化合物等が挙げられる。 The commercial item of the silicone compound having the cationic polymerizable reactive group is not particularly limited. For example, an epoxy group is added to a side chain such as trade names “X-22-343” and “KF-101” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. And a silicone compound having an epoxy group at both ends such as a trade name “X-22-163” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
上記カチオン重合性反応基を有するシリコーン化合物の配合量は特に限定されないが、上記カチオン重合性化合物(A)と上記カチオン重合性化合物(B)との合計100重量部に対して、好ましい下限が0.1重量部、好ましい上限が100重量部である。上記カチオン重合性反応基を有するシリコーン化合物の配合量が0.1重量部未満であると、得られる接着剤組成物の硬化物は、構造中のシリコーン骨格の割合が低下し、支持板に対する密着性が低下することがある。上記カチオン重合性反応基を有するシリコーン化合物の配合量が100重量部を超えると、上記カチオン重合性化合物(A)及び上記カチオン重合性化合物(B)の配合量が相対的に低下し、得られる接着剤組成物の接着力又は温水中で剥離する性能が低下することがあり、また、各配合成分の相溶性が低下し、得られる接着剤組成物をフィルム化する際に良好なフィルム物性が得られないことがある。上記カチオン重合性反応基を有するシリコーン化合物の配合量は、上記カチオン重合性化合物(A)と上記カチオン重合性化合物(B)との合計100重量部に対して、より好ましい下限が2重量部、より好ましい上限が70重量部である。 The amount of the silicone compound having a cationic polymerizable reactive group is not particularly limited, but the preferred lower limit is 0 with respect to 100 parts by weight of the total of the cationic polymerizable compound (A) and the cationic polymerizable compound (B). 0.1 parts by weight, and the preferred upper limit is 100 parts by weight. When the blending amount of the silicone compound having a cationic polymerizable reactive group is less than 0.1 parts by weight, the cured product of the obtained adhesive composition has a reduced ratio of the silicone skeleton in the structure and adheres to the support plate. May decrease. When the blending amount of the silicone compound having a cationic polymerizable reactive group exceeds 100 parts by weight, the blending amounts of the cationic polymerizable compound (A) and the cationic polymerizable compound (B) are relatively lowered and obtained. The adhesive strength of the adhesive composition or the ability to peel off in warm water may decrease, the compatibility of each compounding component will decrease, and good film properties will be obtained when filming the resulting adhesive composition It may not be obtained. The amount of the silicone compound having a cationic polymerizable reactive group is more preferably 2 parts by weight with respect to a total of 100 parts by weight of the cationic polymerizable compound (A) and the cationic polymerizable compound (B). A more preferred upper limit is 70 parts by weight.
本発明の接着剤組成物は、光カチオン重合開始剤を含有する。
上記光カチオン重合開始剤は、光照射によりプロトン酸又はルイス酸を発生する化合物であれば特に限定されず、イオン性光酸発生型であっても、非イオン性光酸発生型であってもよい。
The adhesive composition of the present invention contains a photocationic polymerization initiator.
The cationic photopolymerization initiator is not particularly limited as long as it is a compound that generates a protonic acid or a Lewis acid by light irradiation, and may be an ionic photoacid generating type or a nonionic photoacid generating type. Good.
上記イオン性光酸発生型の光カチオン重合開始剤は特に限定されず、例えば、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ハロニウム塩、芳香族スルホニウム塩等のオニウム塩類、鉄−アレン錯体、チタノセン錯体、アリールシラノール−アルミニウム錯体等の有機金属錯体類等が挙げられる。これらのイオン性光酸発生型の光カチオン重合開始剤は、単独で用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。 The ionic photoacid-generating photocationic polymerization initiator is not particularly limited, and examples thereof include onium salts such as aromatic diazonium salts, aromatic halonium salts, and aromatic sulfonium salts, iron-allene complexes, titanocene complexes, and arylsilanols. -Organometallic complexes such as aluminum complexes. These ionic photoacid-generating photocationic polymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.
上記イオン性光酸発生型の光カチオン重合開始剤の市販品は特に限定されず、例えば、旭電化工業社製の商品名「アデカオプトマーSP150」、「アデカオプトマーSP170」等の「アデカオプトマー」シリーズ、ゼネラルエレクトロニクス社製の商品名「UVE−1014」、サートマー社製の商品名「CD−1012」、サンアプロ社製の商品名「CPI−100P」等が挙げられる。 Commercially available products of the ionic photoacid-generating photocationic polymerization initiator are not particularly limited. For example, “Adekaopter” such as “Adekaoptomer SP150” and “Adekaoptomer SP170” manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd. Mer ”series, the product name“ UVE-1014 ”manufactured by General Electronics Co., Ltd., the product name“ CD-1012 ”manufactured by Sartomer, and the product name“ CPI-100P ”manufactured by San Apro.
上記非イオン性光酸発生型の光カチオン重合開始剤は特に限定されず、例えば、ニトロベンジルエステル、スルホン酸誘導体、リン酸エステル、フェノールスルホン酸エステル、ジアゾナフトキノン、N−ヒドロキシイミドホスホナート等が挙げられる。これらの非イオン性光酸発生型の光カチオン重合開始剤は、単独で用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。 The nonionic photoacid-generating photocationic polymerization initiator is not particularly limited, and examples thereof include nitrobenzyl ester, sulfonic acid derivative, phosphoric acid ester, phenolsulfonic acid ester, diazonaphthoquinone, and N-hydroxyimidophosphonate. Can be mentioned. These nonionic photoacid-generating photocationic polymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.
上記光カチオン重合開始剤の配合量は特に限定されないが、上記カチオン重合性化合物(A)と上記カチオン重合性化合物(B)との合計100重量部に対して、好ましい下限が0.1重量部、好ましい上限が10重量部である。上記光カチオン重合開始剤の配合量が0.1重量部未満であると、カチオン重合反応が充分に進行しなかったり、反応が遅くなったりすることがある。上記光カチオン重合開始剤の含有量が10重量部を超えると、カチオン重合反応が速くなりすぎて、作業性が低下したり不均一な硬化物となったりすることがある。上記光カチオン重合開始剤の配合量は、上記カチオン重合性化合物(A)と上記カチオン重合性化合物(B)との合計100重量部に対して、より好ましい下限が0.3重量部、より好ましい上限が5重量部である。 Although the compounding quantity of the said photocationic polymerization initiator is not specifically limited, A preferable minimum is 0.1 weight part with respect to a total of 100 weight part of the said cationic polymerizable compound (A) and the said cationic polymerizable compound (B). The preferred upper limit is 10 parts by weight. If the amount of the photocationic polymerization initiator is less than 0.1 parts by weight, the cationic polymerization reaction may not proceed sufficiently or the reaction may be slow. When the content of the photocationic polymerization initiator is more than 10 parts by weight, the cationic polymerization reaction becomes too fast, and workability may be deteriorated or a non-uniform cured product may be obtained. The blending amount of the photocationic polymerization initiator is more preferably 0.3 parts by weight, more preferably a lower limit relative to 100 parts by weight of the total of the cationically polymerizable compound (A) and the cationically polymerizable compound (B). The upper limit is 5 parts by weight.
上記カチオン重合性反応基を有するシリコーン化合物と上記光カチオン重合開始剤との組み合わせは、上記カチオン重合性反応基を有するシリコーン化合物95.2重量%と上記光カチオン重合開始剤4.8重量%との混合物について、光DSC装置を用いて紫外線を照射しながら観察した発熱量が40J/g以上となるような組み合わせであることが好ましい。
上記発熱量がこのような範囲を満たす場合、上記カチオン重合性反応基を有するシリコーン化合物と上記光カチオン重合開始剤とは、比較的高い速硬化性を発現することのできる組み合わせであるといえる。従って、上記発熱量が上記範囲を満たすことにより、得られる接着剤組成物は速硬化性に優れ、具体的には、例えば、紫外線照射後5時間以内に充分な接着力を発現することができる。
上記発熱量が40J/g未満であると、得られる接着剤組成物は、速硬化性が低下することがある。上記発熱量は65J/g以上となることがより好ましい。
The combination of the silicone compound having the cationic polymerizable reactive group and the photo cationic polymerization initiator is 95.2% by weight of the silicone compound having the cationic polymerizable reactive group, and 4.8% by weight of the photo cationic polymerization initiator. It is preferable that the mixture is a combination such that the calorific value observed while irradiating with an ultraviolet ray using an optical DSC apparatus is 40 J / g or more.
When the calorific value satisfies such a range, it can be said that the silicone compound having the cationic polymerizable reactive group and the photo cationic polymerization initiator are a combination capable of exhibiting a relatively high fast curability. Therefore, when the calorific value satisfies the above range, the obtained adhesive composition is excellent in fast curability, and specifically, for example, can exhibit a sufficient adhesive force within 5 hours after ultraviolet irradiation. .
When the heat generation amount is less than 40 J / g, the resulting adhesive composition may have a reduced fast curability. The calorific value is more preferably 65 J / g or more.
また、上記カチオン重合性反応基を有するシリコーン化合物95.2重量%と上記光カチオン重合開始剤4.8重量%との混合物について、光DSC装置を用いて紫外線を照射しながら観察した発熱量の上限は特に限定されないが、1000J/g以下となることが好ましい。 The mixture of 95.2% by weight of the silicone compound having a cationically polymerizable reactive group and 4.8% by weight of the cationic photopolymerization initiator has a heating value observed while irradiating with an ultraviolet ray using an optical DSC apparatus. The upper limit is not particularly limited, but is preferably 1000 J / g or less.
本明細書中、光DSC装置を用いて紫外線を照射しながら観察した発熱量とは、光DSC装置を用いて試料に紫外線を照射して得られた発熱曲線から求められる発熱量を意味する。光DSC装置として、例えば、光DSC装置(TAインスツルメント社製のDSC装置Q100、冷凍機RSC、光DSC用アダプターPCA、ウシオ電機社製のスポットライト照射器SP3、ライトガイドAF−12NQ−X)等が挙げられる。
なお、図1及び2に、光DSC装置を用いて、カチオン重合性反応基を有するシリコーン化合物と光カチオン重合開始剤との混合物に紫外線を照射して得られた発熱曲線の一例を示す。図1及び2においては、斜線部分の面積が、光DSC装置を用いて紫外線を照射しながら観察した発熱量に相当する。図1のように発熱ピーク時間(発熱曲線がピークに達する時間)が短く発熱量(斜線部分の面積)が大きい場合には、上記カチオン重合性反応基を有するシリコーン化合物と上記光カチオン重合開始剤との光反応速度が速く、発熱曲線が一定値を示すまでの時間も短い。一方、図2のように発熱ピーク時間(発熱曲線がピークに達する時間)が長く発熱量(斜線部分の面積)が小さい場合には、上記カチオン重合性反応基を有するシリコーン化合物と上記光カチオン重合開始剤との光反応速度が遅く、発熱曲線が一定値を示すまでに時間がかかる。
In this specification, the calorific value observed while irradiating ultraviolet rays using an optical DSC apparatus means the calorific value obtained from an exothermic curve obtained by irradiating a sample with ultraviolet rays using the optical DSC apparatus. As an optical DSC apparatus, for example, an optical DSC apparatus (DSC apparatus Q100 manufactured by TA Instruments Co., Ltd., refrigerator RSC, optical DSC adapter PCA, USHIO spotlight irradiator SP3, light guide AF-12NQ-X ) And the like.
1 and 2 show an example of an exothermic curve obtained by irradiating a mixture of a silicone compound having a cationic polymerizable reactive group and a photo cationic polymerization initiator with ultraviolet rays using an optical DSC apparatus. In FIGS. 1 and 2, the area of the hatched portion corresponds to the amount of heat generated while irradiating ultraviolet rays using an optical DSC apparatus. As shown in FIG. 1, when the exothermic peak time (time for the exothermic curve to reach a peak) is short and the calorific value (area of the hatched portion) is large, the silicone compound having the cationically polymerizable reactive group and the photocationic polymerization initiator are used. The photoreaction rate is fast, and the time until the exothermic curve shows a constant value is also short. On the other hand, when the exothermic peak time (time for the exothermic curve to reach the peak) is long and the calorific value (area of the hatched portion) is small as shown in FIG. 2, the silicone compound having the cationically polymerizable reactive group and the photocationic polymerization are used. The photoreaction rate with the initiator is slow, and it takes time until the exothermic curve shows a constant value.
本発明の接着剤組成物は、更に、架橋剤としてのラジカル重合性反応基とカチオン重合性反応基との両方を有する化合物、及び、光ラジカル重合開始剤を含有してもよい。 The adhesive composition of the present invention may further contain a compound having both a radical polymerizable reactive group and a cationic polymerizable reactive group as a crosslinking agent, and a photo radical polymerization initiator.
上記光ラジカル重合開始剤を含有することにより、得られる接着剤組成物においては、光照射により速やかにラジカル重合が開始される。これにより、上記ラジカル重合性反応基とカチオン重合性反応基との両方を有する化合物のラジカル重合性反応基同士が重合して、カチオン重合性反応基を側鎖として有する重合体が形成される。一方、光照射により上記光カチオン重合開始剤も活性化するが、カチオン重合は、上記カチオン重合性化合物(A)におけるエチレングリコール骨格及び上記カチオン重合性化合物(B)におけるプロピレングリコール骨格の存在によって反応が遅延されるため非常に緩やかに進行する。
このため、上記ラジカル重合性反応基とカチオン重合性反応基との両方を有する化合物、及び、上記光ラジカル重合開始剤を含有することにより、得られる接着剤組成物においては、まず、ラジカル重合により、カチオン重合性反応基を側鎖として有する重合体が充分に形成された後、当該カチオン重合性反応基と、上記カチオン重合性化合物(A)、上記カチオン重合性化合物(B)及び上記カチオン重合性反応基を有するシリコーン化合物とが反応して、非常に大きな網目状構造体が形成される。
By containing the said photoradical polymerization initiator, in the adhesive composition obtained, radical polymerization is rapidly started by light irradiation. As a result, the radical polymerizable reactive groups of the compound having both the radical polymerizable reactive group and the cationic polymerizable reactive group are polymerized to form a polymer having the cationic polymerizable reactive group as a side chain. On the other hand, the photocationic polymerization initiator is also activated by light irradiation, but the cationic polymerization is caused by the presence of the ethylene glycol skeleton in the cationic polymerizable compound (A) and the propylene glycol skeleton in the cationic polymerizable compound (B). Since it is delayed, it proceeds very slowly.
For this reason, in the adhesive composition obtained by containing the compound having both the radical polymerizable reactive group and the cationic polymerizable reactive group and the photo radical polymerization initiator, first, by radical polymerization After the polymer having a cationic polymerizable reactive group as a side chain is sufficiently formed, the cationic polymerizable reactive group, the cationic polymerizable compound (A), the cationic polymerizable compound (B), and the cationic polymerization A very large network structure is formed by reaction with a silicone compound having a reactive reactive group.
上記ラジカル重合性反応基とカチオン重合性反応基との両方を有する化合物、及び、光ラジカル重合開始剤を含有することにより、得られる接着剤組成物の硬化物は非常に大きな網目状構造を有することができるため、柔軟性が極めて高い。このような接着剤組成物を用いて支持板上に半導体基板を接合した場合、当該接着剤組成物の硬化物は、ハンダリフロー等における高温環境下でも半導体基板の変形に対する追従性が高く、半導体基板が支持板から剥離してしまう等の問題を防止することができる。 By containing a compound having both the radical polymerizable reactive group and the cationic polymerizable reactive group and a photo radical polymerization initiator, the cured product of the resulting adhesive composition has a very large network structure. Can be very flexible. When a semiconductor substrate is bonded onto a support plate using such an adhesive composition, the cured product of the adhesive composition has a high followability to deformation of the semiconductor substrate even in a high-temperature environment such as solder reflow. Problems such as separation of the substrate from the support plate can be prevented.
上記ラジカル重合性反応基とカチオン重合性反応基との両方を有する化合物におけるラジカル重合性反応基は特に限定されず、例えば、(メタ)アクリル基、ビニル基、アリル等が挙げられる。
上記ラジカル重合性反応基とカチオン重合性反応基との両方を有する化合物におけるカチオン重合性反応基は特に限定されず、例えば、エポキシ基、オキセタン基等の環状エーテル基、水酸基、ビニルエーテル基、エピスルフィド基、エチレンイミン基等が挙げられる。
The radical polymerizable reactive group in the compound having both the radical polymerizable reactive group and the cationic polymerizable reactive group is not particularly limited, and examples thereof include a (meth) acryl group, a vinyl group, and allyl.
The cationic polymerizable reactive group in the compound having both the radical polymerizable reactive group and the cationic polymerizable reactive group is not particularly limited. For example, cyclic ether groups such as epoxy groups and oxetane groups, hydroxyl groups, vinyl ether groups, episulfide groups And an ethyleneimine group.
上記ラジカル重合性反応基とカチオン重合性反応基との両方を有する化合物は特に限定されないが、上記カチオン重合性化合物(A)及び上記カチオン重合性化合物(B)との相溶性に優れることから、ラジカル重合性反応基とカチオン重合性反応基とがエーテル骨格を介して結合している化合物が好ましい。
上記ラジカル重合性反応基とカチオン重合性反応基との両方を有する化合物として、より具体的には、例えば、アクリル酸2−(2−ビニロキシエトキシ)エチル、メタクリル酸2−(2−ビニロキシエトキシ)エチル等が挙げられる。なお、アクリル酸2−(2−ビニロキシエトキシ)エチル及びメタクリル酸2−(2−ビニロキシエトキシ)エチルとしては、それぞれ、商品名「VEEA」及び「VEEM」として日本触媒社より市販されている化合物を使用することもできる。
The compound having both the radically polymerizable reactive group and the cationically polymerizable reactive group is not particularly limited, but is excellent in compatibility with the cationically polymerizable compound (A) and the cationically polymerizable compound (B). A compound in which a radical polymerizable reactive group and a cationic polymerizable reactive group are bonded via an ether skeleton is preferable.
More specifically, examples of the compound having both the radical polymerizable reactive group and the cationic polymerizable reactive group include 2- (2-vinyloxyethoxy) ethyl acrylate and 2- (2-vinyloxy) methacrylate. And ethoxy) ethyl. Incidentally, 2- (2-vinyloxyethoxy) ethyl acrylate and 2- (2-vinyloxyethoxy) ethyl methacrylate are commercially available from Nippon Shokubai Co., Ltd. under the trade names “VEEA” and “VEEM”, respectively. Compounds can also be used.
また、上記ラジカル重合性反応基とカチオン重合性反応基との両方を有する化合物は、例えば、ラジカル重合性反応基を有する化合物と、カチオン重合性反応基を有する化合物との反応等によって合成されてもよい。このような反応として、例えば、(メタ)アクリル酸クロライドとジエチレングリコールモノビニルエーテルとの反応、(メタ)アクリル酸クロライドと2−ヒドロキシエチルビニルエーテルとの反応等が挙げられる。 Further, the compound having both the radical polymerizable reactive group and the cationic polymerizable reactive group is synthesized by, for example, a reaction between a compound having a radical polymerizable reactive group and a compound having a cationic polymerizable reactive group. Also good. Examples of such a reaction include a reaction between (meth) acrylic acid chloride and diethylene glycol monovinyl ether, a reaction between (meth) acrylic acid chloride and 2-hydroxyethyl vinyl ether, and the like.
上記ラジカル重合性反応基とカチオン重合性反応基との両方を有する化合物の配合量は特に限定されないが、上記カチオン重合性化合物(A)と上記カチオン重合性化合物(B)との合計100重量部に対して、好ましい下限が0.1重量部、好ましい上限が10重量部である。上記ラジカル重合性反応基とカチオン重合性反応基との両方を有する化合物の配合量が上記範囲を外れると、接着剤組成物の硬化物は、前述したような非常に大きな網目状構造体を形成しにくくなることがあり、充分に柔軟とならず、ハンダリフロー等における高温環境下で半導体基板の剥離等が生じることがある。上記ラジカル重合性反応基とカチオン重合性反応基との両方を有する化合物の配合量は、上記カチオン重合性化合物(A)と上記カチオン重合性化合物(B)との合計100重量部に対して、より好ましい下限が0.5重量部、より好ましい上限が5重量部である。 The compounding amount of the compound having both the radical polymerizable reactive group and the cationic polymerizable reactive group is not particularly limited, but a total of 100 parts by weight of the cationic polymerizable compound (A) and the cationic polymerizable compound (B). On the other hand, the preferred lower limit is 0.1 parts by weight and the preferred upper limit is 10 parts by weight. When the compounding amount of the compound having both the radical polymerizable reactive group and the cationic polymerizable reactive group is out of the above range, the cured product of the adhesive composition forms a very large network structure as described above. The semiconductor substrate may not be sufficiently flexible, and the semiconductor substrate may be peeled off under a high temperature environment such as solder reflow. The compounding amount of the compound having both the radical polymerizable reactive group and the cationic polymerizable reactive group is based on 100 parts by weight of the total of the cationic polymerizable compound (A) and the cationic polymerizable compound (B). A more preferred lower limit is 0.5 parts by weight, and a more preferred upper limit is 5 parts by weight.
上記光ラジカル重合開始剤は特に限定されず、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等のベンゾイン類、ベンゾフェノン、メチルベンゾフェノン、4,4’−ジクロロベンゾフェノン、4,4’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン等のベンゾフェノン類、アセトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキシ−2−フェニルアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、N,N−ジメチルアミノアセトフェノン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノプロパン−1−オン等のアセトフェノン類、2−メチルアントラキノン、2−エチルアントラキノン、1−クロロアントラキノン、2−アミルアントラキノン、2−アミノアントラキノン等のアントラキノン類、2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジイソプロピルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン等のチオキサントン類、アセトフェノンジメチルケタール、ベンジルジメチルケタール等のケタール類等が挙げられる。なかでも、BASF社製の商品名「IRGACURE907」が好ましい。 The radical photopolymerization initiator is not particularly limited, for example, benzoins such as benzoin and benzoin methyl ether, benzophenones such as benzophenone, methylbenzophenone, 4,4′-dichlorobenzophenone, 4,4′-bisdiethylaminobenzophenone, Acetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxy-2-phenylacetophenone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, N, N-dimethylaminoacetophenone, 2-methyl-1- [4- (methylthio ) Acetophenones such as phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, 2-methylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 1-chloroanthraquinone, 2-amylanthraquinone, 2-aminoanthraquinone, etc. Anthraquinones, 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, thioxanthones such as 2,4-diisopropylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, ketals such as acetophenone dimethyl ketal, benzyldimethyl ketal, etc. Is mentioned. Among these, the trade name “IRGACURE907” manufactured by BASF is preferable.
上記光ラジカル重合開始剤の配合量は特に限定はされないが、上記カチオン重合性化合物(A)と上記カチオン重合性化合物(B)との合計100重量部に対して、好ましい下限が0.01重量部、好ましい上限が5重量部である。上記光ラジカル重合開始剤の配合量が0.01重量部未満であると、ラジカル重合反応が充分に進行しなかったり、反応が遅くなったりすることがある。上記光ラジカル重合開始剤の配合量が5重量部を超えると、当該光ラジカル開始剤の分解物が不純物となり、アウトガスの原因となることがある。上記光ラジカル重合開始剤の配合量は、上記カチオン重合性化合物(A)と上記カチオン重合性化合物(B)との合計100重量部に対して、より好ましい下限が0.05重量部、より好ましい上限が2重量部である。 The blending amount of the radical photopolymerization initiator is not particularly limited, but a preferable lower limit is 0.01 weight with respect to a total of 100 parts by weight of the cationic polymerizable compound (A) and the cationic polymerizable compound (B). Parts, and the preferred upper limit is 5 parts by weight. When the blending amount of the photo radical polymerization initiator is less than 0.01 parts by weight, the radical polymerization reaction may not sufficiently proceed or the reaction may be delayed. When the compounding amount of the photo radical polymerization initiator exceeds 5 parts by weight, a decomposition product of the photo radical initiator may become an impurity and cause outgassing. The blending amount of the radical photopolymerization initiator is more preferably 0.05 parts by weight, more preferably a lower limit with respect to 100 parts by weight of the total of the cationic polymerizable compound (A) and the cationic polymerizable compound (B). The upper limit is 2 parts by weight.
なお、本発明の接着剤組成物においては、必要に応じて熱ラジカル重合開始剤が併用されてもよい。上記熱ラジカル重合開始剤は特に限定されず、例えば、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、2,2’−アゾビス−2−メチルブチロニトリル、2,2’−アゾビス−2,4−ジメチルバレロニトリル、1,1’−アゾビス−1−シクロヘキサンカルボニトリル、ジメチル−2,2’−アゾビスイソブチレート、4,4’−アゾビス−4−シアノ吉草酸、2,2’−アゾビス(2−アミジノプロペン)二塩酸塩、2−tert−ブチルアゾ−2−シアノプロパン、2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオンアミド)二水和物、2,2’−アゾビス(2,4,4−トリメチルペンタン)等のアゾ化合物、tert−ブチルパーオキシネオデカノエート、tert−ブチルパーオキシピバレート、tert−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、tert−ブチルパーオキシイソブチレート、tert−ブチルパーオキシラウレート、tert−ブチルパーオキシイソフタレート、tert−ブチルパーオキシアセテート、tert−ブチルパーオキシオクトエート、tert−ブチルパーオキシベンゾエート等のパーオキシエステル類、過酸化ベンゾイル等のジアシルパーオキシド類、キュメンハイドロパーオキサイド等のハイドロパーオキシド類、メチルエチルケトンパーオキサイド、カリウムパーサルフェイト、1,1−ビス(tert−ブチルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、ジアルキルパーオキシド類又はパーオキシジカーボネート類、過酸化水素等が挙げられる。 In addition, in the adhesive composition of this invention, a thermal radical polymerization initiator may be used together as needed. The thermal radical polymerization initiator is not particularly limited. For example, 2,2′-azobisisobutyronitrile, 2,2′-azobis-2-methylbutyronitrile, 2,2′-azobis-2,4 -Dimethylvaleronitrile, 1,1'-azobis-1-cyclohexanecarbonitrile, dimethyl-2,2'-azobisisobutyrate, 4,4'-azobis-4-cyanovaleric acid, 2,2'-azobis (2-amidinopropene) dihydrochloride, 2-tert-butylazo-2-cyanopropane, 2,2′-azobis (2-methylpropionamide) dihydrate, 2,2′-azobis (2,4,4) Azo compounds such as 4-trimethylpentane), tert-butylperoxyneodecanoate, tert-butylperoxypivalate, tert-butylperoxy-2-ethyl Xanoate, tert-butyl peroxyisobutyrate, tert-butyl peroxylaurate, tert-butyl peroxyisophthalate, tert-butyl peroxyacetate, tert-butyl peroxyoctoate, tert-butyl peroxybenzoate, etc. Peroxyesters, diacyl peroxides such as benzoyl peroxide, hydroperoxides such as cumene hydroperoxide, methyl ethyl ketone peroxide, potassium persulfate, 1,1-bis (tert-butylperoxy) -3, Examples include 3,5-trimethylcyclohexane, dialkyl peroxides or peroxydicarbonates, hydrogen peroxide, and the like.
本発明の接着剤組成物が、上記ラジカル重合性反応基とカチオン重合性反応基との両方を有する化合物、及び、上記光ラジカル重合開始剤を含有する場合、本発明の接着剤組成物は、更に、ラジカル重合性反応基を有するシリコーン化合物を含有することが好ましい。 When the adhesive composition of the present invention contains a compound having both the radical polymerizable reactive group and the cationic polymerizable reactive group, and the photo radical polymerization initiator, the adhesive composition of the present invention comprises: Furthermore, it is preferable to contain a silicone compound having a radical polymerizable reactive group.
上記ラジカル重合性反応基を有するシリコーン化合物を含有することにより、得られる接着剤組成物においては、光照射により上記ラジカル重合性反応基とカチオン重合性反応基との両方を有する化合物と、上記ラジカル重合性反応基を有するシリコーン化合物とが速やかに反応する。これにより、上記ラジカル重合性反応基とカチオン重合性反応基との両方を有する化合物のみからなる重合体が形成されてしまうのを防止し、硬化物の構造中に確実にシリコーン骨格を導入することができる。
また、上記ラジカル重合性反応基を有するシリコーン化合物は反応性が高いため、得られる接着剤組成物の硬化反応が充分に進行し、後工程で加熱をしなくとも良好に接合を行うことができる。
In the adhesive composition obtained by containing the silicone compound having the radical polymerizable reactive group, the compound having both the radical polymerizable reactive group and the cationic polymerizable reactive group by light irradiation, and the radical It reacts quickly with a silicone compound having a polymerizable reactive group. This prevents the formation of a polymer composed only of a compound having both the radical polymerizable reactive group and the cationic polymerizable reactive group, and reliably introduces a silicone skeleton into the structure of the cured product. Can do.
In addition, since the silicone compound having a radical polymerizable reactive group is highly reactive, the curing reaction of the resulting adhesive composition proceeds sufficiently, and bonding can be performed satisfactorily without heating in subsequent steps. .
上記ラジカル重合性反応基を有するシリコーン化合物におけるラジカル重合性反応基は特に限定されず、例えば、上記ラジカル重合性反応基とカチオン重合性反応基との両方を有する化合物におけるラジカル重合性反応基と同様のラジカル重合性反応基等が挙げられる。 The radical polymerizable reactive group in the silicone compound having the radical polymerizable reactive group is not particularly limited, and for example, the same as the radical polymerizable reactive group in the compound having both the radical polymerizable reactive group and the cationic polymerizable reactive group. And the radical polymerizable reactive group.
上記ラジカル重合性反応基を有するシリコーン化合物として、具体的には、(メタ)アクリル基を有するシリコーン化合物が好ましい。 Specifically, the silicone compound having a (meth) acryl group is preferable as the silicone compound having a radical polymerizable reactive group.
上記(メタ)アクリル基を有するシリコーン化合物のアクリル当量は特に限定されないが、好ましい下限が100、好ましい上限が15000である。上記アクリル当量が100未満であると、得られる接着剤組成物の硬化物には、上記(メタ)アクリル基を有するシリコーン化合物が充分に取り込まれず、構造中のシリコーン骨格の割合が低下し、支持板に対する密着性が低下することがある。上記アクリル当量が15000を超えると、上記(メタ)アクリル基を有するシリコーン化合物と、上記カチオン重合性化合物(A)及び上記カチオン重合性化合物(B)との相溶性が悪くなり、得られる接着剤組成物の硬化物の光線透過率が小さくなりすぎることがある。上記(メタ)アクリル基を有するシリコーン化合物のアクリル当量は、より好ましい下限が150、より好ましい上限が10000であり、更に好ましい上限が5000、更により好ましい上限が1000である。 The acrylic equivalent of the silicone compound having the (meth) acryl group is not particularly limited, but a preferable lower limit is 100 and a preferable upper limit is 15000. When the acrylic equivalent is less than 100, the cured product of the resulting adhesive composition is not sufficiently incorporated with the silicone compound having the (meth) acrylic group, and the ratio of the silicone skeleton in the structure is reduced, thereby supporting Adhesion to the plate may be reduced. When the acrylic equivalent exceeds 15000, the compatibility between the silicone compound having the (meth) acrylic group, the cationic polymerizable compound (A) and the cationic polymerizable compound (B) is deteriorated, and the resulting adhesive is obtained. The light transmittance of the cured product of the composition may be too small. The acrylic equivalent of the silicone compound having the (meth) acryl group has a more preferable lower limit of 150, a more preferable upper limit of 10,000, a still more preferable upper limit of 5000, and a still more preferable upper limit of 1000.
上記(メタ)アクリル基を有するシリコーン化合物を合成する方法は特に限定されず、例えば、SiH基を有するシリコーン樹脂と、(メタ)アクリル基含有基を有するビニル化合物とのハイドロシリレーション反応により、シリコーン樹脂に(メタ)アクリル基含有基を導入する方法、シロキサン化合物と、(メタ)アクリル基含有基を有するシロキサン化合物とを縮合反応させる方法等が挙げられる。 The method for synthesizing the silicone compound having the (meth) acrylic group is not particularly limited. For example, the silicone compound is obtained by a hydrosilylation reaction between a silicone resin having a SiH group and a vinyl compound having a (meth) acrylic group-containing group. Examples thereof include a method for introducing a (meth) acryl group-containing group into a resin, a method for causing a siloxane compound to undergo a condensation reaction with a siloxane compound having a (meth) acryl group-containing group.
上記ラジカル重合性反応基を有するシリコーン化合物の分子量は特に限定されないが、好ましい下限が300、好ましい上限が5000である。上記分子量が300未満であると、得られる接着剤組成物の硬化物は、支持板に対する密着性が低下することがある。上記分子量が5000を超えると、上記ラジカル重合性反応基を有するシリコーン化合物と、上記カチオン重合性化合物(A)及び上記カチオン重合性化合物(B)との相溶性が悪くなり、得られる接着剤組成物中で上記ラジカル重合性反応基を有するシリコーン化合物が層分離したり、得られる接着剤組成物の硬化物の光線透過率が小さくなりすぎたりすることがある。 The molecular weight of the silicone compound having a radical polymerizable reactive group is not particularly limited, but a preferable lower limit is 300 and a preferable upper limit is 5000. When the molecular weight is less than 300, the cured product of the obtained adhesive composition may have poor adhesion to the support plate. When the molecular weight exceeds 5000, the compatibility between the silicone compound having a radical polymerizable reactive group, the cationic polymerizable compound (A) and the cationic polymerizable compound (B) is deteriorated, and the resulting adhesive composition is obtained. The silicone compound having the radical polymerizable reactive group in the product may be separated into layers, or the light transmittance of the cured product of the resulting adhesive composition may be too small.
上記ラジカル重合性反応基を有するシリコーン化合物の市販品は特に限定されず、例えば、信越化学工業社製の「X−22−164(アクリル当量190)」、「X−22−164AS(アクリル当量450)」、「X−22−164A(アクリル当量860)」、「X−22−164B(アクリル当量1630)」、「X−22−164C(アクリル当量2370)」、「X−22−164E(アクリル当量3900)」等の両末端にメタクリル基を有するシリコーン化合物、信越化学工業社製の「X−22−174DX(アクリル当量4600)」、「X−22−2426(アクリル当量12000)」、「X−22−2475(アクリル当量420)」等の片末端にメタクリル基を有するシリコーン化合物、信越化学工業製の「X−22−2445(アクリル当量1600)」、「X−22−1602(アクリル当量1600)」、「X−22−1603(アクリル当量1150)」等の両末端にアクリル基を有するシリコーン化合物、「X−22−2457」等の両末端と側鎖とにアクリル基を有するシリコーン化合物、「X−22−2458(アクリル当量470)」、「X−22−2459(アクリル当量930)」等の側鎖にアクリル基を有するシリコーン化合物等が挙げられる。 The commercial item of the silicone compound which has the said radical polymerizable reactive group is not specifically limited, For example, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. "X-22-164 (acryl equivalent 190)", "X-22-164AS (acryl equivalent 450) ) "," X-22-164A (acrylic equivalent 860) "," X-22-164B (acrylic equivalent 1630) "," X-22-164C (acrylic equivalent 2370) "," X-22-164E (acrylic) Equivalent 3900) ”and other silicone compounds having methacrylic groups at both ends,“ X-22-174DX (acrylic equivalent 4600) ”,“ X-22-2426 (acrylic equivalent 12000) ”,“ X ”manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. -222-2475 (acrylic equivalent 420) "and other silicone compounds having a methacryl group at one end," X-2 "manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. A silicone compound having an acrylic group at both ends, such as “-2445 (acrylic equivalent 1600)”, “X-22-1602 (acrylic equivalent 1600)”, “X-22-1603 (acrylic equivalent 1150)”; A silicone compound having an acrylic group at both ends and side chains, such as “-2457”, and an acrylic group in side chains such as “X-22-2458 (acrylic equivalent 470)”, “X-22-2459 (acrylic equivalent 930)” And a silicone compound having a group.
本発明の接着剤組成物は、更に、ポリエチレングリコールを含有してもよい。ポリエチレングリコールは、本発明の接着剤組成物において可塑剤としての機能を果たす。即ち、ポリエチレングリコールを含有することにより、本発明の接着剤組成物は、より高い接着力と、温水中におけるより高い剥離性とを発揮することができる。
また、上記カチオン重合性化合物(A)、上記カチオン重合性化合物(B)及び上記カチオン重合性反応基を有するシリコーン化合物の相溶性が悪い場合には接着剤組成物が濁り、光を照射しても充分に内部にまで光が届かずに硬化不良を発生する場合がある。そのような場合にでも、ポリエチレングリコールが相溶化剤としての役割を果たし、接着剤組成物が濁るのを防止することができる。
The adhesive composition of the present invention may further contain polyethylene glycol. Polyethylene glycol functions as a plasticizer in the adhesive composition of the present invention. That is, by containing polyethylene glycol, the adhesive composition of the present invention can exhibit higher adhesive strength and higher peelability in warm water.
Further, when the compatibility of the cationic polymerizable compound (A), the cationic polymerizable compound (B) and the silicone compound having the cationic polymerizable reactive group is poor, the adhesive composition becomes turbid and irradiated with light. In some cases, light does not reach the interior sufficiently and poor curing occurs. Even in such a case, polyethylene glycol plays a role as a compatibilizing agent and can prevent the adhesive composition from becoming cloudy.
上記ポリエチレングリコールの重合度の好ましい下限は2、好ましい上限は50である。上記ポリエチレングリコールの重合度が2未満であると、接着剤組成物を高温に加熱したときにポリエチレングリコールが気散してしまうことがある。上記ポリエチレングリコールの重合度が50を超えると、配合した硬化性成分が硬化しないことがある。上記ポリエチレングリコールの重合度のより好ましい下限は5、より好ましい上限は30である。 The preferable lower limit of the polymerization degree of the polyethylene glycol is 2, and the preferable upper limit is 50. When the polymerization degree of the polyethylene glycol is less than 2, the polyethylene glycol may be diffused when the adhesive composition is heated to a high temperature. When the polymerization degree of the polyethylene glycol exceeds 50, the blended curable component may not be cured. The more preferable lower limit of the polymerization degree of the polyethylene glycol is 5, and the more preferable upper limit is 30.
本発明の接着剤組成物は、更に必要に応じて、平均粒子径が3〜300μmの粒径の揃った粒子等の添加剤を含有してもよい。 The adhesive composition of the present invention may further contain additives such as particles having an average particle diameter of 3 to 300 μm and a uniform particle diameter, if necessary.
本発明の接着剤組成物を製造する方法は特に限定されず、例えば、前述のようなカチオン重合性化合物(A)、カチオン重合性化合物(B)、カチオン重合性反応基を有するシリコーン化合物、光カチオン重合開始剤及びその他の成分を従来公知の方法により混練する方法等が挙げられる。 The method for producing the adhesive composition of the present invention is not particularly limited. For example, the cationic polymerizable compound (A), the cationic polymerizable compound (B), the silicone compound having a cationic polymerizable reactive group, and light as described above. The method etc. which knead | mix a cationic polymerization initiator and another component by a conventionally well-known method are mentioned.
本発明の接着剤組成物は、カチオン重合性の接着成分と光カチオン重合開始剤とを含有しており、これらの成分によるカチオン重合は非常に緩やかに進行することから、光照射後に加熱等を行いながら貼り合わせることにより、SUS等の光を透過しない支持板であっても半導体基板等を固定することができる。また、本発明の接着剤組成物は、接着成分としてカチオン重合性反応基を有するシリコーン化合物を含有することから、本発明の接着剤組成物を用いてガラス板、シリコンウエハ等の支持板上に半導体基板を接合した場合、温水中に浸漬して剥離する際に接着剤組成物は支持板側に固着し、半導体基板側に糊残りすることなく容易に剥離することができる。更に、本発明の接着剤組成物を用いてガラス板、シリコンウエハ等の支持板上に半導体基板を接合した場合、本発明の接着剤組成物の硬化物は、ハンダリフロー等における高温環境下(200〜300℃)でも熱分解が抑制され、例えば、温水中に浸漬しても剥離することのできない分解物が半導体基板に付着してしまう等の問題を防止することができる。そして、一連の工程後に不要になったときには、温水(25〜85℃)に浸漬することにより、被着体を損傷することなく容易に剥離することができる。 The adhesive composition of the present invention contains a cationically polymerizable adhesive component and a photocationic polymerization initiator, and the cationic polymerization by these components proceeds very slowly. By bonding together, the semiconductor substrate or the like can be fixed even with a support plate that does not transmit light such as SUS. Moreover, since the adhesive composition of the present invention contains a silicone compound having a cationic polymerizable reactive group as an adhesive component, the adhesive composition of the present invention is used on a support plate such as a glass plate or a silicon wafer. When the semiconductor substrates are joined, the adhesive composition adheres to the support plate side when being immersed in hot water and peeled off, and can be easily peeled off without leaving adhesive residue on the semiconductor substrate side. Furthermore, when a semiconductor substrate is bonded on a support plate such as a glass plate or a silicon wafer using the adhesive composition of the present invention, the cured product of the adhesive composition of the present invention is in a high temperature environment such as solder reflow ( (200 to 300 ° C.), the thermal decomposition is suppressed. For example, it is possible to prevent a problem that a decomposition product that cannot be peeled off even when immersed in warm water adheres to the semiconductor substrate. And when it becomes unnecessary after a series of processes, it can peel easily without damaging an adherend by immersing in warm water (25-85 ° C).
本発明によれば、ハンダリフロー等における高温環境下でも剥離を生じることなく高い接着力を維持できる一方、不要になったときには被着体を損傷することなく容易に剥がすことができる接着剤組成物を提供することができる。 According to the present invention, an adhesive composition that can maintain a high adhesive force without causing peeling even in a high temperature environment such as solder reflow, and can be easily peeled off without damaging the adherend when no longer needed. Can be provided.
以下に実施例を挙げて本発明の態様を更に詳しく説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されない。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in more detail with reference to examples. However, the present invention is not limited to these examples.
(参考例)
表1に示すカチオン重合性反応基を有するシリコーン化合物1gに対し、光カチオン重合開始剤としてWPI−113(和光純薬工業社製)を0.05g加えて溶解し、試料を調製した。光DSC用アルミパンに試料1mgを加え、光DSC装置(TAインスツルメント社製のDSC装置Q100、冷凍機RSC、光DSC用アダプターPCA、ウシオ電機社製のスポットライト照射器SP3、ライトガイドAF−12NQ−X)を用いて紫外線を照射して得られた発熱曲線から、発熱ピーク時間(分)及び発熱量(J/g)を求めた。結果を表1に示した。
(Reference example)
0.05 g of WPI-113 (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) as a photocationic polymerization initiator was added to 1 g of a silicone compound having a cationically polymerizable reactive group shown in Table 1 and dissolved to prepare a sample. 1 mg of sample is added to an aluminum pan for optical DSC, and an optical DSC device (DSC device Q100 manufactured by TA Instruments, refrigerator RSC, optical DSC adapter PCA, USHIO spotlight irradiator SP3, light guide AF) The exothermic peak time (minutes) and calorific value (J / g) were determined from the exothermic curve obtained by irradiating ultraviolet rays using (-12NQ-X). The results are shown in Table 1.
カチオン重合性反応基を有するシリコーン化合物と光カチオン重合開始剤との組み合わせとしては、上記の参考例で求めたような発熱量が大きくなるような組み合わせ、具体的には、発熱量が40J/g以上となるような組み合わせであることが好ましい。これにより、接着剤組成物は速硬化性が向上する。 The combination of the silicone compound having a cationic polymerizable reactive group and the photocationic polymerization initiator is a combination that increases the calorific value as determined in the above Reference Example, specifically, the calorific value is 40 J / g. A combination as described above is preferable. Thereby, quick-curing property improves the adhesive composition.
(実施例1)
カチオン重合性化合物(A)としてデナコールEX−821(ナガセケムテックス社製、上記一般式(1)においてn=4のエポキシ樹脂)25重量部に、カチオン重合性化合物(B)としてデナコールEX−931(ナガセケムテックス社製、上記一般式(2)においてm=11のエポキシ樹脂)175重量部を配合し、更に、カチオン重合性反応基を有するシリコーン化合物として、側鎖エポキシ基を有するシリコーン化合物X−22−343(エポキシ当量525、信越化学工業社製)50重量部と、光カチオン重合開始剤としてCPI−100P(サンアプロ社製)5重量部とを配合して、接着剤組成物を調製した。
また、カチオン重合性反応基を有するシリコーン化合物としての側鎖エポキシ基を有するシリコーン化合物X−22−343(エポキシ当量525、信越化学工業社製)95.2重量%と、光カチオン重合開始剤としてのCPI−100P(サンアプロ社製)4.8重量%との混合物を別途用意し、光DSC装置(TAインスツルメント社製のDSC装置Q100、冷凍機RSC、光DSC用アダプターPCA、ウシオ電機社製のスポットライト照射器SP3、ライトガイドAF−12NQ−X)を用いて紫外線を照射して得られた発熱曲線から、発熱量(J/g)を求めた。
Example 1
Denacol EX-821 (manufactured by Nagase ChemteX Corporation, n = 4 epoxy resin in the above general formula (1)) as a cationic polymerizable compound (A) 25 parts by weight, and Denacol EX-931 as a cationic polymerizable compound (B) (Nagase ChemteX Corporation, m = 11 epoxy resin in the above general formula (2)) 175 parts by weight, and as a silicone compound having a cationic polymerizable reactive group, a silicone compound X having a side chain epoxy group An adhesive composition was prepared by blending 50 parts by weight of -22-343 (epoxy equivalent 525, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and 5 parts by weight of CPI-100P (manufactured by San Apro) as a photocationic polymerization initiator. .
Moreover, the silicone compound X-22-343 (epoxy equivalent 525, the Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. product) which has a side chain epoxy group as a silicone compound which has a cationically polymerizable reactive group 95.2 weight%, and a photocationic polymerization initiator Of CPI-100P (manufactured by San Apro Co., Ltd.), 4.8% by weight, separately prepared, optical DSC device (TA Instrument DSC device Q100, refrigerator RSC, optical DSC adapter PCA, USHIO INC.) The calorific value (J / g) was determined from the exothermic curve obtained by irradiating with ultraviolet rays using a spotlight irradiator SP3 (light guide AF-12NQ-X).
(実施例2〜17、比較例1〜4)
各配合成分の種類及び配合量を表2、3、4又は5に示したように変更したこと以外は実施例1と同様にして、接着剤組成物を調製した。また、実施例1と同様にして、発熱量(J/g)を求めた。
(Examples 2 to 17, Comparative Examples 1 to 4)
An adhesive composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the types and amounts of each component were changed as shown in Table 2, 3, 4 or 5. Further, the calorific value (J / g) was determined in the same manner as in Example 1.
(評価)
実施例及び比較例で調製した接着剤組成物について、以下の評価を行った。結果を表2、3、4又は5に示した。
(Evaluation)
The following evaluation was performed about the adhesive composition prepared by the Example and the comparative example. The results are shown in Table 2, 3, 4 or 5.
(1)接着力測定
長さ8cm、巾2cm、厚み1.5mmのスライドグラスに、0.001gの接着剤組成物を塗布し、高圧水銀灯にて積算光量1000mJ/cm2(365nm)の線量を照射した。照射後、同じサイズのスライドグラスを十字に重ね合わせた。その後、更にオーブンで80℃、30分加熱し、サンプル(加熱前)を得た。このときの接着面積は4mm2であった。
次いで、リフロー炉(日本アントム社製、UNI5016F)にサンプル(加熱前)を通過させて高温に曝し、サンプル(加熱後)を得た。なお、サンプルに熱電対を装着しリフロー炉での温度履歴を確認したところ、250〜260℃が3分、260〜280℃が2分、280〜283℃が1分であった。
JIS K6850に準拠して、サンプル(加熱前)及びサンプル(加熱後)の引っ張り剪断力(kgf/cm2)を測定した。測定は、万能試験機にて、温度23℃、湿度55%、引っ張り速度10mm/分の条件で行った。
(1) Adhesive strength measurement 0.001 g of adhesive composition is applied to a slide glass having a length of 8 cm, a width of 2 cm, and a thickness of 1.5 mm, and a dose of 1000 mJ / cm 2 (365 nm) of integrated light quantity is applied with a high-pressure mercury lamp. Irradiated. After irradiation, slide glasses of the same size were stacked on a cross. Thereafter, the sample was further heated in an oven at 80 ° C. for 30 minutes to obtain a sample (before heating). The adhesion area at this time was 4 mm 2 .
Next, the sample (before heating) was passed through a reflow furnace (Nihon Antom Co., Ltd., UNI5016F) and exposed to high temperature to obtain a sample (after heating). In addition, when the thermocouple was mounted | worn with the sample and the temperature history in the reflow furnace was confirmed, 250-260 degreeC was 3 minutes, 260-280 degreeC was 2 minutes, and 280-283 degreeC was 1 minute.
The tensile shear force (kgf / cm 2 ) of the sample (before heating) and the sample (after heating) was measured according to JIS K6850. The measurement was performed with a universal testing machine under conditions of a temperature of 23 ° C., a humidity of 55%, and a pulling speed of 10 mm / min.
(2)剥離試験
長さ7cm、巾3cm、厚み1.0mmの電極が形成されたガラスエポキシ基板に、0.2gの接着剤組成物を塗布し、高圧水銀灯にて積算光量1000mJ/cm2(365nm)の線量を照射した。照射後、長さ7.5cm、巾5.3cm、厚さ1mmのスライドガラスを重ね合わせた。その後、更にオーブンで80℃、30分加熱し、サンプル(加熱前)を得た。このときの接着面積は21cm2であった。
次いで、リフロー炉(日本アントム社製、UNI5016F)にサンプル(加熱前)を通過させて高温に曝し、サンプル(加熱後)を得た。なお、サンプルに熱電対を装着しリフロー炉での温度履歴を確認したところ、250〜260℃が3分、260〜280℃が2分、280〜283℃が1分であった。
2Lのビーカーに水を1.5L加え、ウォーターバスにてビーカーを80℃の温度に保った。この温水中にサンプル(加熱前)及びサンプル(加熱後)を投入し、ガラスエポキシ基板とスライドガラスとが剥離するまでの時間(分)を測定した。
(2) Peel test A 0.2 g adhesive composition was applied to a glass epoxy substrate on which an electrode having a length of 7 cm, a width of 3 cm, and a thickness of 1.0 mm was formed, and an integrated light quantity of 1000 mJ / cm 2 ( A dose of 365 nm). After irradiation, a slide glass having a length of 7.5 cm, a width of 5.3 cm, and a thickness of 1 mm was overlaid. Thereafter, the sample was further heated in an oven at 80 ° C. for 30 minutes to obtain a sample (before heating). The adhesion area at this time was 21 cm 2 .
Next, the sample (before heating) was passed through a reflow furnace (Nihon Antom Co., Ltd., UNI5016F) and exposed to high temperature to obtain a sample (after heating). In addition, when the thermocouple was mounted | worn with the sample and the temperature history in the reflow furnace was confirmed, 250-260 degreeC was 3 minutes, 260-280 degreeC was 2 minutes, and 280-283 degreeC was 1 minute.
1.5 L of water was added to a 2 L beaker, and the beaker was kept at a temperature of 80 ° C. with a water bath. A sample (before heating) and a sample (after heating) were put into this warm water, and the time (minutes) until the glass epoxy substrate and the slide glass were peeled was measured.
(3)耐リフロー炉試験
巾5cm、長さ8cm、厚み1.2mmのガラス基板に、0.3gの接着剤組成物を塗布し、高圧水銀灯にて積算光量1000mJ/cm2(365nm)の線量を照射した。照射後、ガラスエポキシ基板を重ね合わせた。その後、更にオーブンで80℃、30分加熱し、サンプル(加熱前)を得た。このときの接着面積は21cm2であった。
次いで、リフロー炉(日本アントム社製、UNI5016F)にサンプル(加熱前)を通過させて高温に曝し、サンプル(加熱後)を得た。なお、サンプルに熱電対を装着しリフロー炉での温度履歴を確認したところ、250〜260℃が3分、260〜280℃が2分、280〜283℃が1分であった。
リフロー炉投入後のサンプル(加熱後)をガラス基板側から観察し、ガラスエポキシ基板とガラス基板との浮きを観察した。ガラスエポキシ基板とガラス基板との浮きの面積が接合面積全体の5%以下であった場合を◎、5%を超えて15%に満たなかった場合を○、15%以上であった場合を×とした。
(3) Reflow oven test width 0.3 cm of an adhesive composition is applied to a glass substrate having a width of 5 cm, a length of 8 cm, and a thickness of 1.2 mm, and a dose of 1000 mJ / cm 2 (365 nm) of integrated light quantity using a high-pressure mercury lamp. Was irradiated. After irradiation, a glass epoxy substrate was overlaid. Thereafter, the sample was further heated in an oven at 80 ° C. for 30 minutes to obtain a sample (before heating). The adhesion area at this time was 21 cm 2 .
Next, the sample (before heating) was passed through a reflow furnace (Nihon Antom Co., Ltd., UNI5016F) and exposed to high temperature to obtain a sample (after heating). In addition, when the thermocouple was mounted | worn with the sample and the temperature history in the reflow furnace was confirmed, 250-260 degreeC was 3 minutes, 260-280 degreeC was 2 minutes, and 280-283 degreeC was 1 minute.
The sample (after heating) after charging the reflow furnace was observed from the glass substrate side, and the float between the glass epoxy substrate and the glass substrate was observed. The case where the floating area of the glass epoxy substrate and the glass substrate is 5% or less of the entire bonding area, ◎ if it exceeds 5% and does not reach 15%, ○ if it is 15% or more It was.
(4)温水浸せき後の糊残り状態
上記(3)の耐リフロー炉試験におけるリフロー炉投入後のサンプル(加熱後)を、85℃の温水入りビーカーに投入した。30分浸せきすることにより、ガラス基板とガラスエポキシ基板とが剥離した後、ガラスエポキシ基板側に残った接着剤組成物の糊残り状態を観察した。糊残り面積が接合面積全体の5%以下であった場合を◎、5%を超えて15%に満たなかった場合を○、15%以上であった場合を×とした。
(4) Adhesive remaining state after immersion in hot water The sample (after heating) in the reflow furnace test in (3) above was put into a beaker containing 85 ° C. hot water. After immersing for 30 minutes, after the glass substrate and the glass epoxy substrate were peeled off, the adhesive residue state of the adhesive composition remaining on the glass epoxy substrate side was observed. A case where the adhesive remaining area was 5% or less of the entire bonding area was evaluated as “A”, a case where it exceeded 5% and less than 15%, and a case where it was 15% or more.
(5)光線透過率
離型PETフィルムに接着剤組成物を流延し、高圧水銀灯にて積算光量5000mJ/cm2(365nm)の線量を照射した。照射後、85℃、1時間加熱して、厚さ100μmの硬化物を得た。得られた硬化物について、分光光度計(日立ハイテクノロジー社製)にて800nm〜400nmの透過光を測定することにより、可視光波長600nmでの光線透過率(%)を測定した。
(5) Light transmittance The adhesive composition was cast on a release PET film and irradiated with a dose of 5000 mJ / cm 2 (365 nm) with a high-pressure mercury lamp. After irradiation, it was heated at 85 ° C. for 1 hour to obtain a cured product having a thickness of 100 μm. About the obtained hardened | cured material, the light transmittance (%) in visible-light wavelength 600nm was measured by measuring the transmitted light of 800 nm-400 nm with a spectrophotometer (made by Hitachi High-Technology company).
(6)速硬化性
接着剤組成物に紫外線照射後、2時間以内で固化した場合を◎、2時間以上5時間以内で固化した場合を○、5時間以上経過しても固化しなかった場合を×として評価した。
(6) When the fast-curing adhesive composition is solidified within 2 hours after irradiation with ultraviolet rays, ◎ When solidified within 2 hours to 5 hours, ○ When not solidified after 5 hours Was evaluated as x.
本発明によれば、ハンダリフロー等における高温環境下でも剥離を生じることなく高い接着力を維持できる一方、不要になったときには被着体を損傷することなく容易に剥がすことができる接着剤組成物を提供することができる。 According to the present invention, an adhesive composition that can maintain a high adhesive force without causing peeling even in a high temperature environment such as solder reflow, and can be easily peeled off without damaging the adherend when no longer needed. Can be provided.
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