JP2011114222A - Semiconductor light-emitting device, semiconductor light-emitting device assembly, and method of manufacturing the semiconductor light-emitting device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、半導体発光装置およびその製造方法に関し、特に、基板の表面に半導体発光素子が搭載された表面実装型の半導体発光装置、その半導体発光装置を複数備える半導体発光装置アセンブリ、および、その半導体発光装置の製造方法に関する。 The present invention relates to a semiconductor light-emitting device and a method for manufacturing the same, and more particularly, to a surface-mounted semiconductor light-emitting device having a semiconductor light-emitting element mounted on the surface of a substrate, a semiconductor light-emitting device assembly including a plurality of the semiconductor light-emitting devices, The present invention relates to a method for manufacturing a light emitting device.
最近、非常に高輝度の白色半導体発光装置が開発されている。LED(Light Emitting Diode)チップに代表される半導体発光素子を使用した半導体発光装置は、消費電力が少なく省エネルギー化が達成できるので、低消費電力化の流れに対応して、液晶のバックライト装置、照明機器などの光源として、広く使用されるようになっている。 Recently, a very bright white semiconductor light emitting device has been developed. A semiconductor light-emitting device using a semiconductor light-emitting element typified by an LED (Light Emitting Diode) chip has low power consumption and can achieve energy saving. Therefore, a liquid crystal backlight device, Widely used as a light source for lighting equipment and the like.
液晶のバックライト装置、照明機器などの光源装置は、面状に配置された複数の白色半導体発光装置を備える。面内での輝度むらなどの観点から、配光特性の広い光源、逆に集光した光源など、配光特性を考慮した光源が要求されている。そのため、基板上に搭載された青色半導体発光素子が赤色、緑色蛍光体などの蛍光体を含有する透光性封止樹脂によって封止され、その封止体の表面がレンズ形状やドーム形状に加工された、白色半導体発光装置が製品化されている。上記構成の白色半導体発光装置では、青色半導体発光素子が青色光を放出し、この青色光により蛍光体含有透光性樹脂層中の蛍光体が励起され、蛍光光を放出する。蛍光光と青色光との混色によって、白色光が発光する。 A light source device such as a liquid crystal backlight device or a lighting device includes a plurality of white semiconductor light emitting devices arranged in a planar shape. From the viewpoint of uneven brightness in the surface, a light source that takes into consideration the light distribution characteristics such as a light source with a wide light distribution characteristic and a light source that condenses the light is required. Therefore, the blue semiconductor light-emitting element mounted on the substrate is sealed with a translucent sealing resin containing phosphors such as red and green phosphors, and the surface of the sealing body is processed into a lens shape or a dome shape. White semiconductor light-emitting devices that have been manufactured have been commercialized. In the white semiconductor light emitting device having the above configuration, the blue semiconductor light emitting element emits blue light, and the phosphor in the phosphor-containing translucent resin layer is excited by the blue light, and emits fluorescent light. White light is emitted by the mixed color of fluorescent light and blue light.
このような白色半導体発光装置の形成方法の一例として、たとえば、特許文献1には、発光性能および信頼性が向上した発光ダイオードのような光学素子の生産を可能にすることを目的とした蛍光フィラおよびその形成方法が開示されている。特許文献1には、LEDチップと、LEDチップの周囲に形成された蛍光化合物粒子およびエポキシの混合物を含む小ドーム状の滴状物と、滴状物の表面を覆う蛍光体を含まない透明な光学ドームと、を有するLED素子が、従来技術として記載されている。
As an example of a method for forming such a white semiconductor light-emitting device, for example,
特許文献2には、極めて薄型で発光面からの光の取出し効率が良好な、また、製造工程において色調調節が可能な、発光装置が提案されている。特許文献2に記載の発光装置は、発光ダイオードを覆っている樹脂を備え、樹脂は、発光ダイオードを多い蛍光体を含む第1透明樹脂と、第1透明樹脂を覆う第2透明樹脂とを有する。
特許文献3には、蛍光体含有材料をLEDに一様に塗布することを目的とした、発光半導体装置上に発光層を形成する方法が提案されている。特許文献3に記載の方法は、基板上に設けられた発光半導体装置がステンシルの開口部内に位置するように、基板上でステンシルの位置決めを行う工程と、発光材料を含むステンシル組成物を開口部に堆積させる工程と、基板からステンシルを除去する工程と、ステンシル組成物を固体状態まで硬化させる工程と、を含む。
特許文献4には、モールド部材で基板上の発光素子を被覆する発光装置の製造方法が開示されている。特許文献4では、基板上に発光素子が配置されたパッケージにダムシートのような型をあらかじめ設置し、この型にモールド部材を注入して、発光素子をモールド部材で被覆する方法が提案されている。
蛍光光の外部への取り出しは、蛍光体の位置と蛍光体を含まない透光性樹脂層の外周面との位置関係で決まり、白色半導体発光装置の配光特性を左右する。したがって、ある程度の精度内に蛍光体含有透光性樹脂層を作製できるような形状に、半導体発光装置を形成する必要がある。または、ある程度の精度内に蛍光体含有透光性樹脂層を作製できるような製造方法を使用して、半導体発光装置を製造する必要がある。 The extraction of the fluorescent light to the outside is determined by the positional relationship between the position of the phosphor and the outer peripheral surface of the translucent resin layer not including the phosphor, and affects the light distribution characteristics of the white semiconductor light emitting device. Therefore, it is necessary to form the semiconductor light emitting device in such a shape that the phosphor-containing translucent resin layer can be produced within a certain degree of accuracy. Or it is necessary to manufacture a semiconductor light-emitting device using the manufacturing method which can produce a fluorescent substance containing translucent resin layer within a certain amount of precision.
蛍光体含有透光性樹脂を作製する方法として、従来、樹脂のチキソトロピー性を利用し、粘性の高い樹脂を使用してポッティングなどにより形成する方法がある。しかしこの方法では、生産時の樹脂中の蛍光体量のばらつきが樹脂粘度に影響を及ぼすので、蛍光体含有透光性樹脂層の形状の安定化が不十分である。また他の方法として、スクリーン印刷やダムシートのような樹脂を堰き止める部材を使用し、樹脂の形状を安定化させる方法がある。しかしこの方法では、作製可能な蛍光体含有透光性樹脂層のサイズに限界があり、また堰き止め部材の使用によりコストが増大する課題がある。 As a method for producing a phosphor-containing translucent resin, there is a method of forming by potting using a highly viscous resin by utilizing the thixotropic property of the resin. However, in this method, variation in the amount of phosphor in the resin during production affects the resin viscosity, so that the shape of the phosphor-containing translucent resin layer is not sufficiently stabilized. As another method, there is a method of stabilizing the shape of the resin by using a member for blocking the resin such as screen printing or a dam sheet. However, in this method, there is a limit to the size of the phosphor-containing translucent resin layer that can be produced, and there is a problem that the cost increases due to the use of a damming member.
本発明は上記の課題に鑑みてなされたものであり、その主たる目的は、蛍光体を含有する透光性樹脂によって半導体発光素子が覆われた半導体発光装置であって、樹脂層の形状安定化およびコスト低減を達成でき、量産性の高い装置を提供することである。 The present invention has been made in view of the above problems, and a main object thereof is a semiconductor light-emitting device in which a semiconductor light-emitting element is covered with a light-transmitting resin containing a phosphor, and the shape of the resin layer is stabilized. It is another object of the present invention to provide an apparatus that can achieve cost reduction and has high mass productivity.
本発明に係る半導体発光装置は、主表面を有する基板と、主表面上に配置された半導体発光素子とを備える。半導体発光装置はまた、半導体発光素子を覆う封止樹脂部と、封止樹脂部の周囲を取り囲む周壁部と、封止樹脂部と周壁部とを接続する接続部と、を含み、主表面上に設けられた第一の透明樹脂部を備える。半導体発光装置はまた、蛍光体を含み、周壁部の内側に形成され封止樹脂部を覆う、第二の透明樹脂部と、第二の透明樹脂部を覆う第三の透明樹脂部と、を備える。 A semiconductor light emitting device according to the present invention includes a substrate having a main surface and a semiconductor light emitting element arranged on the main surface. The semiconductor light emitting device also includes a sealing resin portion that covers the semiconductor light emitting element, a peripheral wall portion that surrounds the periphery of the sealing resin portion, and a connection portion that connects the sealing resin portion and the peripheral wall portion on the main surface. Provided with a first transparent resin portion. The semiconductor light emitting device also includes a second transparent resin portion that includes a phosphor and is formed inside the peripheral wall portion and covers the sealing resin portion, and a third transparent resin portion that covers the second transparent resin portion. Prepare.
好ましくは、第一の透明樹脂部と第二の透明樹脂部と第三の透明樹脂部とは、同一の屈折率を有する。 Preferably, the first transparent resin part, the second transparent resin part, and the third transparent resin part have the same refractive index.
好ましくは、第三の透明樹脂部は、封止樹脂部の周壁部の外周側面と上端部とをさらに覆い、大気との境界をなす外周面を含み、外周面の少なくとも一部は、球面状に形成されている。 Preferably, the third transparent resin portion further includes an outer peripheral surface that covers an outer peripheral side surface and an upper end portion of the peripheral wall portion of the sealing resin portion and forms a boundary with the atmosphere, and at least a part of the outer peripheral surface is spherical. Is formed.
好ましくは、封止樹脂部は、主表面から最も離れた頂部を有し、周壁部は、主表面からの距離が封止樹脂部の周囲全体に亘って頂部よりも大きい上端部を有する。 Preferably, the sealing resin portion has a top portion farthest from the main surface, and the peripheral wall portion has an upper end portion whose distance from the main surface is larger than the top portion over the entire periphery of the sealing resin portion.
好ましくは、封止樹脂部の外表面の少なくとも一部は、球面状に形成されている。
好ましくは、半導体発光素子は、発光層を含み、接続部は、基板の厚み方向において、主表面と発光層との間の距離よりも小さい厚みを有する。
Preferably, at least a part of the outer surface of the sealing resin portion is formed in a spherical shape.
Preferably, the semiconductor light emitting element includes a light emitting layer, and the connecting portion has a thickness smaller than a distance between the main surface and the light emitting layer in the thickness direction of the substrate.
好ましくは、接続部は、基板の厚み方向において、50μm以上の厚みを有する。
好ましくは、蛍光体は、第二の透明樹脂部中において略均等に分散している。
Preferably, the connection portion has a thickness of 50 μm or more in the thickness direction of the substrate.
Preferably, the phosphor is dispersed substantially uniformly in the second transparent resin portion.
好ましくは、第二の透明樹脂部は、蛍光体の含有濃度が相対的に高い蛍光体層を有し、蛍光体層は、封止樹脂部に面接触する。 Preferably, the second transparent resin portion has a phosphor layer having a relatively high phosphor content, and the phosphor layer is in surface contact with the sealing resin portion.
好ましくは、第一の透明樹脂部と第三の透明樹脂部とは、対称軸を共有する軸対称な形状を有する。 Preferably, the first transparent resin portion and the third transparent resin portion have an axisymmetric shape sharing a symmetry axis.
本発明の他の局面に係る半導体発光装置アセンブリは、上記のいずれかに記載の半導体発光装置を複数備える。半導体発光装置の第一の透明樹脂部は、半導体発光装置に隣接する他の半導体発光装置の第一の透明樹脂部と一体の構造を有する。半導体発光装置の第三の透明樹脂部は、他の半導体発光装置の第三の透明樹脂部と一体の構造を有する。 A semiconductor light emitting device assembly according to another aspect of the present invention includes a plurality of the semiconductor light emitting devices according to any one of the above. The first transparent resin portion of the semiconductor light emitting device has a structure integrated with the first transparent resin portion of another semiconductor light emitting device adjacent to the semiconductor light emitting device. The third transparent resin portion of the semiconductor light emitting device has an integral structure with the third transparent resin portion of another semiconductor light emitting device.
本発明のさらに他の局面に係る半導体発光装置の製造方法は、主表面を有する基板を準備する工程と、主表面上に半導体発光素子を配置する工程と、を備える。当該方法はまた、主表面上に、半導体発光素子を覆う封止樹脂部と、封止樹脂部の周囲を取り囲む周壁部と、封止樹脂部と周壁部とを接続する接続部と、を含む第一の透明樹脂部を形成する工程を備える。当該方法はまた、周壁部の内側に、封止樹脂部を覆うように、蛍光体を含む第二の透明樹脂部を形成する工程と、第二の透明樹脂部を覆う第三の透明樹脂部を形成する工程と、を備える。 A method for manufacturing a semiconductor light emitting device according to still another aspect of the present invention includes a step of preparing a substrate having a main surface and a step of disposing a semiconductor light emitting element on the main surface. The method also includes, on the main surface, a sealing resin portion that covers the semiconductor light emitting element, a peripheral wall portion that surrounds the periphery of the sealing resin portion, and a connection portion that connects the sealing resin portion and the peripheral wall portion. Forming a first transparent resin portion; The method also includes a step of forming a second transparent resin part including a phosphor so as to cover the sealing resin part inside the peripheral wall part, and a third transparent resin part covering the second transparent resin part. Forming a step.
好ましくは、第一の透明樹脂部を形成する工程は、主表面上に金型を設置する工程と、金型の内部空間に樹脂材料を供給する工程と、供給された樹脂材料を硬化させる工程と、金型を取り除く工程と、を備える。 Preferably, the step of forming the first transparent resin portion includes a step of installing a mold on the main surface, a step of supplying a resin material to the internal space of the mold, and a step of curing the supplied resin material And a step of removing the mold.
好ましくは、第二の透明樹脂部を形成する工程は、周壁部の内側に樹脂材料をポッティングする工程と、ポッティングされた樹脂材料を硬化させる工程と、を備える。 Preferably, the step of forming the second transparent resin portion includes a step of potting a resin material inside the peripheral wall portion, and a step of curing the potted resin material.
好ましくは、第二の透明樹脂部を形成する工程は、ポッティングされた樹脂材料に含まれる蛍光体を沈降させる工程を備える。 Preferably, the step of forming the second transparent resin portion includes a step of precipitating the phosphor contained in the potted resin material.
好ましくは、第三の透明樹脂部を形成する工程は、封止樹脂部を覆う金型を設置する工程と、金型の内部空間に樹脂材料を供給する工程と、供給された樹脂材料を硬化させる工程と、金型を取り除く工程と、を備える。 Preferably, the step of forming the third transparent resin portion includes a step of installing a mold that covers the sealing resin portion, a step of supplying a resin material to the inner space of the mold, and curing the supplied resin material. And a step of removing the mold.
本発明によると、樹脂層の形状安定化およびコスト低減を達成でき、量産性の高い半導体発光装置を提供することができる。 According to the present invention, the shape of the resin layer can be stabilized and the cost can be reduced, and a semiconductor light emitting device with high mass productivity can be provided.
以下、図面に基づいてこの発明の実施の形態を説明する。なお、以下の図面において、同一または相当する部分には同一の参照番号を付し、その説明は繰返さない。 Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. In the following drawings, the same or corresponding parts are denoted by the same reference numerals, and description thereof will not be repeated.
図1は、本実施の形態に係る半導体発光装置の断面図である。図1に示すように、本実施の形態の半導体発光装置1は、主表面4と、主表面4とは反対側の裏面8とを有する基板2を備える。基板2は、任意の材料を使用して形成されてもよく、たとえばセラミック基板、表面に絶縁層を形成した金属基板、メタルコア基板、高放熱多層樹脂基板などであってもよい。
FIG. 1 is a cross-sectional view of the semiconductor light emitting device according to the present embodiment. As shown in FIG. 1, the semiconductor
基板2の主表面4上には、半導体発光素子10が配置されている。半導体発光素子10は、たとえば青色光を放出する青色LED(Light Emitting Diode)チップである。図1に示す半導体発光素子10は、二つの電極を上面側、すなわち、基板2の主表面4に対向する面と反対の面に設ける、表面2電極型と呼ばれる構造を有する。なお、半導体発光素子10は、両方の面にそれぞれ一つの電極を設ける、上下電極型の構造を有してもよい。
A semiconductor
基板2には、主表面4から裏面8へ向かって基板2を貫通する、スルーホール6が形成されている。電極パターン16は、基板2の主表面4上から、スルーホール6内を経由して、裏面8へ至るように形成されている。図1に示すように、半導体発光装置1には、二つの電極パターン16が形成され、その一方がアノード電極として機能し、他方がカソード電極として機能する。裏面8側の電極パターン16は、半導体発光装置1を実装基板上に搭載する際、実装基板上のアノードおよびカソードランドパターンとはんだなどで接続固定される、アノード外部電極およびカソード外部電極として機能する。主表面4上の電極パターン16は、基板2内(スルーホール6内)に形成された貫通電極を通じて、裏面8側のアノード外部電極およびカソード外部電極と電気的接続される。
A through hole 6 is formed in the
半導体発光素子10は、二つの電極パターン16の各々に電気的に接続されている。図1に示す表面2電極型の半導体発光素子10は、ワイヤ14を介したワイヤボンディングによって、電極パターン16と電気的に接続されている。上下電極型の半導体発光素子10の場合、はんだやダイボンド用樹脂ペーストを使用して半導体発光素子10を主表面4上に接着固定するとともに電極パターン16に電気的に接続する、ダイボンディングが使用されてもよい。
The semiconductor
または、半導体発光素子10は、バンプ接続を使用して基板2にフリップチップ実装されてもよい。つまり、半導体発光素子10は、主表面4上にフェイスダウン方式で搭載され、バンプと呼ばれる突起状の端子によって電極パターン16に電気的に接続されてもよい。
Alternatively, the semiconductor
主表面4上には、第一の透明樹脂部20が設けられている。第一の透明樹脂部20は、蛍光体を含まない透明樹脂層である。第一の透明樹脂部20は、半導体発光素子10を覆う封止樹脂部22を含む。本実施の形態の半導体発光素子10がワイヤボンディングにより電極パターン16に接続されているので、封止樹脂部22は二本のワイヤ14も覆うように形成されている。封止樹脂部22は、半導体発光素子10付近ではドーム状(球面状)に形成されており、図1に示す断面円弧状の外表面23を有する。封止樹脂部22は、ドーム型の封止形状を有する。なお、封止樹脂部22は、矩形状の断面を有する直方体の箱状に形成されてもよい。
A first
第一の透明樹脂部20はまた、封止樹脂部22の周囲を取り囲む周壁部26と、封止樹脂部22と周壁部26とを接続する接続部34と、を含む。半導体発光装置1はまた、周壁部26の内側に形成され封止樹脂部22を覆う、第二の透明樹脂部40を備える。半導体発光素子10の周囲に形成される周壁部26は、第二の透明樹脂部40を形成する樹脂材料を周壁部26の内側に溜め、第一の透明樹脂部20上に第二の透明樹脂部40を形成するための、堰き止め部として機能する。
The first
図2は、図1に示す半導体発光素子10付近を拡大して示す断面図である。図2を参照して、封止樹脂部22を取り囲む周壁部26の内側には、第一の透明樹脂部20が窪んだ凹部38が形成されている。周壁部26は、封止樹脂部22と対向する側の環状の内周側面28と、内周側面28よりも半導体発光素子10から離れた環状の外周側面32(図1参照)とを有する。周壁部26はまた、内周側面28と外周側面32とを連結し、基板2の主表面4に対し略平行に設けられた、環状の上端部30を有する。上端部30は、堰き止め部として機能する周壁部26の天端面を成す。なお図2では、第二の透明樹脂部40は図示を省略されている。
FIG. 2 is an enlarged cross-sectional view showing the vicinity of the semiconductor
凹部38は、周壁部26の内周側面28と、封止樹脂部22の外表面23とによって囲まれる。封止樹脂部22は、主表面4から最も離れた頂部24を有する。頂部24は、ドーム状の封止樹脂部22の外表面23の最上部に位置する。堰き止め部の上部を成す周壁部26の上端部30は、封止樹脂部22の頂部24よりも高くなるように設定されている。主表面4から上端部30への距離が、封止樹脂部22の周囲全体に亘って、頂部24よりも大きくなるように、封止樹脂部22と周壁部26とは形成されている。
The
このように第一の透明樹脂部20を形成すると、第二の透明樹脂部40を形成する樹脂材料を凹部38内に充填するとき、当該樹脂材料は封止樹脂部22の外表面23の全体を覆う。そのため、半導体発光素子10の直上付近で第二の透明樹脂部40の厚みが小さくなりすぎるのを防止し、頂部24の近傍において第二の透明樹脂部40の適切な厚みを確保することができる。したがって、封止樹脂部22の全体の上側に十分な厚みを有する第二の透明樹脂部40を設けることができ、これにより半導体発光装置1の配光特性の均一性を向上させることができる。
When the first
図2に示すように、半導体発光素子10は、光を発生する発光層12を含む。発光層12の上下の層の一方はn型半導体層であり、他方はp型半導体層である。発光層12は、n型半導体層とp型半導体層との間に配置されている。半導体発光素子10は、n型半導体層と発光層とp型半導体層が積層された、積層構造を有する。
As shown in FIG. 2, the semiconductor
図3は、第二の透明樹脂部40の構成を示す断面模式図である。図3には、図1に示す半導体発光装置1の、第二の透明樹脂部40付近の一部分が拡大されて図示されている。図3に示すように、第一の透明樹脂部20によって形成された凹部38(図2参照)の内側に樹脂材料が充填されて、第二の透明樹脂部40が形成されている。第二の透明樹脂部40は、その内部に蛍光体42を含む。凹部38に溜められる第二の透明樹脂部40は、その内部に蛍光体42を含有する、蛍光体入り透明樹脂部である。
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing the configuration of the second
蛍光体42としては、YAG(イットリウム・アルミニウム・ガーネット)系、TAG(テルビウム・アルミニウム・ガーネット)系、またはBOS(Barium Ortho-Silicate)系黄色蛍光体を使用することができる。または、CaAlSiN3:Euなどの窒化物系赤色蛍光体と、緑色蛍光体Ca3(Sc,Mg)2Si3O12:Ce、BOS系、β-サイアロンとの組合せなどを、好適に用いることができる。
As the
蛍光体42は第二の透明樹脂部40内において沈降し、これにより、封止樹脂部22に近接する部分に、蛍光体42の含有濃度が相対的に高い蛍光体層44を形成する。第二の透明樹脂部40は、封止樹脂部22の外表面23に接触する接触面43付近に形成された、蛍光体層44を有する。蛍光体層44の表面を成す接触面43は、封止樹脂部22の外表面23に面接触する。
The
蛍光体42は、第二の透明樹脂部40中で均一に分散してもよいが、図3に示すように蛍光体42を沈降させてドーム形状の封止樹脂部22の外表面23に沿うような層状の蛍光体層44を形成することにより、半導体発光装置1の配光特性の均一性を向上させることができる。第二の透明樹脂部40内での蛍光体42の分布が不均一になると、青色光と蛍光光との光量のバランスが光の取り出し方向で異なることになる。その結果、色度の角度依存性が大きくなるので、半導体発光装置1を面状の光源装置の光源として使用しにくくなる。これに対し、封止樹脂部22に沿う蛍光体層44に蛍光体42を沈降させると、色度の角度依存性の発生を抑制でき、半導体発光装置1の配向特性をより均一化させることができる点で有利である。
The
図2に戻って、封止樹脂部22と周壁部26とを接続する接続部34は、基板2の厚み方向において、主表面4と発光層12との間の距離dLよりも小さい厚みdを有する。つまり、接続部34における、第一の透明樹脂部20の表面から基板2の主表面4までの、基板2の厚み方向に沿う距離が厚みdであるが、この厚みdは、基板2の厚み方向において発光層12が基板2の主表面4から離れる距離dLよりも小さい。
Returning to FIG. 2, the connecting
接続部34の厚みdが距離dLよりも大きければ、蛍光体層44を経由せずに直接外部に取り出される光の量が多くなる。その結果、蛍光体42によって蛍光光に変換されない半導体発光素子10からの青色光の光量が増加するので、半導体発光装置1からの光の色度に関する配光特性の分布が大きくなる。上記のように接続部34の厚みを制限することで、半導体発光素子10から取り出される青色光は蛍光体層44を経由して外部へ放出されるので、所望の光量の青色光を蛍光体42によって蛍光光へ変換することができる。したがって、半導体発光装置1が発生する光の色度に関する配向特性の分布が大きくなることを抑制でき、半導体発光装置1の配光特性の均一性を向上させることができる。
If the thickness d of the connecting
図4は、図3に示す半導体発光装置1の一部分の平面図である。図4に示すように、堰き止め部としての周壁部26の内周側面28(換言すると、堰き止め部の内側に形成された凹部38の外形)を上方から見た形状は、円形状である。ただしこの形状に限られるものではなく、周壁部26は、基板2の外周辺にその一辺が平行な正方形、または基板2の外周辺に対して45°傾いた正方形でもよい。所望の発光パターンおよび配光特性に応じて、周壁部26の形状を任意に変更可能である。
4 is a plan view of a part of the semiconductor
本実施の形態では、封止樹脂部22はドーム形状であって、封止樹脂部22を上方から見た二次元的な形状もまた円形である。図1および図4を参照して、封止樹脂部22の外形が形成する円と、周壁部26の内周側面28が形成する円とは、対称軸Sをそれぞれの円の中心として共有する。すなわち、封止樹脂部22と内周側面28と第二の透明樹脂部40とは、同心円状に形成されている。半導体発光素子10もまた、この対称軸Sを中心として、基板2上に搭載されている。このような構造によって、半導体発光素子10から取り出された光は、その光の取り出し方向に依存せず、中心対称に封止樹脂部22を経由して蛍光体層44へ到達し、蛍光光に変換されて、対称軸S周りの周方向に均等に白色光が放出される。
In the present embodiment, the sealing
なお、本実施の形態では、一つの半導体発光素子10を対称軸S中心に配置しているが、対称軸S周りに複数の半導体発光素子を対称配置してもよい。または、対称軸S中心に一つの半導体発光素子を配置し、他の複数の半導体発光素子をその一つの半導体発光素子を取り囲むように対称軸S周りに対称配置してもよい。
In the present embodiment, one semiconductor
再び図1を参照して、半導体発光装置1はさらに、第二の透明樹脂部40を覆う第三の透明樹脂部50を備える。第三の透明樹脂部50は、封止樹脂部22の周壁部26の外周側面32と上端部30とをさらに覆う。第三の透明樹脂部50は、蛍光体を含まない透明樹脂層である。第三の透明樹脂部50は、大気との境界をなす外周面52を含む。第三の透明樹脂部50は、第一の透明樹脂部20の封止樹脂部22、接続部34および周壁部26を覆い、また第二の透明樹脂部40の全体を覆うように設けられている。
Referring to FIG. 1 again, the semiconductor
周壁部26の環状の外周側面32と外周側面32の内径側との全体を覆う第三の透明樹脂部50は、ドーム状に形成されており、図1に示す断面円弧状の外周面52を有する。第三の透明樹脂部50の、封止樹脂部22および第二の透明樹脂部40を覆う外周面52の一部は、球面状に形成されている。外周面52が球面状の第三の透明樹脂部50によって、半導体発光装置1の封止体最表面を球面状にできるので、半導体発光素子10および蛍光体42からの放出光を外部(大気層)へ効率よく等方的に均等に取り出すことができる。第三の透明樹脂部50が第一および第二の透明樹脂部20,40を部分的に覆うと外周面52の形状が不規則になり易いが、第三の透明樹脂部50で第一の透明樹脂部20と第二の透明樹脂部40との全体を覆うことにより、簡単に封止体最表面を半球面状に形成することができる。
The third
図1に示す第三の透明樹脂部50の断面形状は、対称軸Sを中心とする線対称な形状を有する。上述した周壁部26の内周側面28、封止樹脂部22、第二の透明樹脂部40、および第三の透明樹脂部50がいずれも対称軸Sを共有する軸対称な形状を有し、封止樹脂部22の外表面23、第二の透明樹脂部40の外表面および第三の透明樹脂部50の外周面52の各々の形状が中心軸対称である。そのため半導体発光装置1は、より中心対称な発光パターンを得ることができる。
The cross-sectional shape of the third
第一の透明樹脂部20と第二の透明樹脂部40と第三の透明樹脂部50とは、たとえばシリコーン樹脂などの、同一の樹脂材料から形成されてもよい。または、第一の透明樹脂部20と第二の透明樹脂部40と第三の透明樹脂部50とは、同一の屈折率および同一の熱膨張係数を有してもよい。同一の屈折率とすることにより、樹脂層界面での散乱ロスを防止できる。同一の熱膨張係数とすることにより、樹脂層界面でのはがれを防止することができる。
The first
図5は、図1に示す半導体発光装置に、原点Oを中心とする仮想的な球面を示した図である。図6は、図1に示す半導体発光装置を、原点Oを中心とする座標上に模式的に示した図である。第一、第二および第三の透明樹脂部20,40,50が同一屈折率の場合には、蛍光体層44の形状ならびに第三の透明樹脂部50の材質および形状は、R>r・nの関係が成立するように決定されている。
FIG. 5 is a diagram showing a virtual spherical surface with the origin O as the center in the semiconductor light emitting device shown in FIG. FIG. 6 is a diagram schematically showing the semiconductor light emitting device shown in FIG. 1 on coordinates with the origin O as the center. When the first, second, and third
ここで、Rは、基板2上の半導体発光素子10の搭載位置を中心(原点O)とし、第三の透明樹脂部50の外周面52を含む球面の半径を示す。rは、蛍光体層44を内部に含む仮想的な球面91の半径を示す。なお、蛍光体42が第二の透明樹脂部40中において沈降せず略均等に分散しており、その結果蛍光体層44が第二の透明樹脂部40中に形成されていない場合には、rは、第二の透明樹脂部40の全体を内部に含む仮想的な球面の半径を示す。nは、第一、第二および第三の透明樹脂部20,40,50の屈折率を示す。このような構成により、球面91の内側で発せられた光を効率的に大気層に取り出すことができる。以下、その理由について説明する。
Here, R represents the radius of the spherical surface including the outer
図6を参照して、原点Oを中心とする座標上において、球面91(蛍光体層44を内部に含む仮想的な球面に相当)上の任意の位置に発光点Lがプロットされている。発光点Lは、蛍光体42、半導体発光素子10の光取り出し表面(電極に覆われていない、P型/N型半導体層、発光層、半導体発光素子の基板の結晶表面部分)のことを指す。発光点Lから発せられた光が入射角αで入射する外周面52(第三の透明樹脂部50の外周面52を含む球面に相当)上の位置に、樹脂表面Aがプロットされている。原点Oおよび発光点L間を結ぶ線分と、発光点Lおよび樹脂表面A間を結ぶ線分とがなす角度を、θとする。
Referring to FIG. 6, emission point L is plotted at an arbitrary position on spherical surface 91 (corresponding to a virtual spherical surface including phosphor layer 44) on coordinates centered on origin O. The light emitting point L indicates the
このとき、正弦定理より下記の関係式が成立する。
(R/sinθ)=(r/sinα)
上式を整理すると、
sinα=r・sinθ/R
となり、この式から、θ=π/2のとき、αは最大値(αmax)をとる。
At this time, the following relational expression is established from the sine theorem.
(R / sin θ) = (r / sin α)
Organizing the above formula,
sin α = r · sin θ / R
From this equation, when θ = π / 2, α takes the maximum value (αmax).
すなわち、下記の(式1)が成立する。
sinα≦sin(αmax)=r/R (式1)
入射角αと、第三の透明樹脂部50および大気層の境界における全反射の臨界角θcとの間には、スネルの法則から下記の(式2)が成立する。
sinθc=1/n (式2)
今、半導体発光装置1において常にα<θc、すなわち、
αmax<θc (式3)
の関係が成立するならば、発光点Lから発せられた光を全て大気層46に取り出すことができる。
That is, the following (Formula 1) is established.
sin α ≦ sin (αmax) = r / R (Formula 1)
The following (Formula 2) is established between the incident angle α and the critical angle θc of total reflection at the boundary between the third
sin θc = 1 / n (Formula 2)
Now, in the semiconductor
αmax <θc (Formula 3)
If this relationship is established, all the light emitted from the light emitting point L can be extracted to the atmospheric layer 46.
(式1)〜(式3)を整理すると、下記の関係式が成立する。
r/R=sin(αmax)<sinθc=1/n
結果、R>r・nの関係が成立するように蛍光体層44ならびに第一、第二および第三の透明樹脂部20,40,50を設けることによって、球面91の内側から外側に発せられた光を全て大気層に取り出すことができる。
By arranging (Formula 1) to (Formula 3), the following relational expression is established.
r / R = sin (αmax) <sin θc = 1 / n
As a result, by providing the
以上のような構成を有する半導体発光装置1の製造方法について、以下に詳細に説明する。図7は、半導体発光装置1の製造工程を示す流れ図である。図7に示すように、まず工程(S10)において、主表面4を有する基板2を準備する。基板2として、セラミック基板、表面に絶縁層を形成した金属基板、メタルコア基板、高放熱多層樹脂基板などの、任意の好適な基板を使用することができる。
A method for manufacturing the semiconductor
次に工程(S20)において、電極パターン16を形成するためのメタルパターンを、基板2の主表面4および裏面8上に形成する。必要に応じて、基板2を厚み方向に貫通するスルーホール6を形成し、スルーホール6を経由する貫通電極によって主表面4側のメタルパターンと裏面8側のメタルパターンとを接続する。
Next, in step (S20), a metal pattern for forming
次に工程(S30)において、基板2の主表面4上に半導体発光素子10を配置する。半導体発光素子10は、その中心が対称軸Sと合わせられるように、主表面4上に配置される。続いて工程(S40)において、半導体発光素子10の電極と電極パターン16とを電気的接続する。たとえば、ワイヤ14を使用したワイヤボンディング、ダイボンディングまたはフリップチップ実装などの任意の好適な方法によって、半導体発光素子10の電極と電極パターン16とが電気的に接続される。
Next, in the step (S30), the semiconductor
次に工程(S50)において、主表面4上に第一の透明樹脂部20を形成する。第一の透明樹脂部20は、半導体発光素子10を覆う封止樹脂部22と、封止樹脂部22の周囲を取り囲む周壁部26と、封止樹脂部22と周壁部26とを接続する接続部34と、を含む。第一の透明樹脂部20を形成する工程(S50)の詳細は後述する。
Next, in the step (S50), the first
次に工程(S60)において、周壁部26の内側に、封止樹脂部22を覆うように、蛍光体42を含む第二の透明樹脂部40を形成する。第二の透明樹脂部40を形成する工程(S60)の詳細は後述する。
Next, in a process (S60), the 2nd
次に工程(S70)において、第一の透明樹脂部20、第二の透明樹脂部40の全体を覆う第三の透明樹脂部50を形成する。第三の透明樹脂部50を形成する工程(S70)の詳細は後述する。
Next, in a process (S70), the 3rd
次に工程(S80)において、後処理が行なわれる。たとえば、必要に応じて、第三の透明樹脂部50の外周面52に発生したバリ取りが行なわれる、またたとえば、同一の基板2上に複数形成された同一形状の半導体発光装置1を、ダイシングにより切断することで、単一の半導体発光装置1を得る。このようにして、所望の光学特性を有する半導体発光装置1が完成する。
Next, post-processing is performed in step (S80). For example, if necessary, deburring that has occurred on the outer
図8は、第一の透明樹脂部20を形成する工程(S50)の詳細を示す流れ図である。図8に示すように、第一の透明樹脂部20を形成する工程(S50)は、主表面4上に金型62を設置する工程(S51)と、金型62の内部空間64に樹脂材料68を供給する工程(S52)と、供給された樹脂材料68を硬化させる工程(S53)と、金型62を取り除く工程(S54)と、を備える。
FIG. 8 is a flowchart showing details of the step (S50) of forming the first
図9は、基板2の主表面4上に金型62を設置した状態を示す断面図である。図10は、金型62の内部に樹脂材料68が充填された状態を示す断面図である。図9および図10に示すように、第一の透明樹脂部20は、金型62を適切な位置に配置して、その後図9中の矢印に従って金型62の内部空間64に樹脂材料68が充填される、金型成型を使用して作製される。金型成型は、金型62の作製のために初期投資費用を必要とするが、一旦金型62を作製すれば、安定した形状の樹脂成型品を安価にかつ量産性よく形成できる方法である。本例は、金型成型の一例であるトランスファー成型を適用した事例である。
FIG. 9 is a cross-sectional view showing a state in which the
他の金型成型を用いた第一の透明樹脂部20の形成方法としては、圧縮成型、射出成型などを使用することができる。
As a method for forming the first
図9に示すように、複数の第一の透明樹脂部20に対応する形状の金型62を準備すれば、金型62の内部空間64に樹脂材料68を供給する一工程によって、封止樹脂部22と周壁部26とを同時に形成することができ、かつ、複数の第一の透明樹脂部20を同時に形成することができる。このように金型成型で一括して形成された封止樹脂部22と周壁部26との間には、これらを接続する厚みdの薄い部分である接続部34(図1および図2参照)があるが、この接続部34は樹脂材料68を供給する際に樹脂が通過する経路として役立つ。樹脂材料68が樹脂注入経路としての接続部34を経由して供給されることにより、第一の透明樹脂部20の形状が形成される。
As shown in FIG. 9, if a
樹脂注入経路を確保するために、接続部34は、基板2の厚み方向において、50μm以上の厚みdを有する。接続部34の厚みdを50μm以上とすることにより、樹脂材料68の注入のために十分な樹脂注入経路を確保できるので、金型62の内部空間64全体に容易に樹脂材料を充填することができる。したがって、金型成型の生産性を向上させることができる。
In order to secure the resin injection path, the connecting
しかしながら、前述にあるように、半導体発光装置1が発生する光の色度に関する配向特性の分布を改善する観点からは、この厚みdを基板2の厚み方向において発光層12が基板2の主表面4から離れる距離dLよりも小さくする必要がある。そのため、厚みdを、この50μm以上の範囲内でなるべく小さい厚みにすることが望ましく、使用する半導体発光素子10の基板2の裏面8からの発光層12の高さに準じて、厚みdを適宜決める必要がある。逆に、使用する半導体発光素子10の裏面8からの発光層12の高さを大きくすれば、接続部34の厚みdをより厚くでき、第一の透明樹脂部20の製造上のマージンを十分確保できる。
However, as described above, from the viewpoint of improving the distribution of orientation characteristics related to the chromaticity of light generated by the semiconductor
また、後工程において第二の透明樹脂部40を形成する樹脂材料用の堰き止め部は、金型成型によって一体に成形される。したがって、堰き止め部を基板2上に配置する工程を別に設ける必要はなく、また堰き止め部を除去する必要もない。その結果、半導体発光装置1の製造工程を簡略化できるので、製造コストを低減することができる。
In addition, the damming portion for the resin material that forms the second
図11は、第二の透明樹脂部40を形成する工程(S60)の詳細を示す流れ図である。図11に示すように、第二の透明樹脂部40を形成する工程(S60)は、周壁部26の内側に樹脂材料78をポッティングする工程(S61)と、ポッティングされた樹脂材料78を硬化させる工程(S62)と、を備える。
FIG. 11 is a flowchart showing details of the step (S60) of forming the second
図12は、ポッティング装置74が準備された状態を示す断面図である。図13は、第二の透明樹脂部40を形成する樹脂材料78が充填された状態を示す断面図である。図12に示すように、第一の透明樹脂部20の周壁部26により囲まれて形成された凹部38に、蛍光体が含有された透明の樹脂材料78をポッティングにより注入するための、ポッティング装置74が準備される。図13では、ポッティング装置74を使用して樹脂材料78が凹部38の内部に注入され、この樹脂材料78が硬化されて、第二の透明樹脂部40が形成された状態が図示される。
FIG. 12 is a cross-sectional view showing a state where the
樹脂材料78を硬化させる際の初期加熱段階時に、樹脂材料78の粘度が低下する。この粘度低下時間を長く調整することで、ポッティングされた樹脂材料78に含まれる蛍光体42を容易に沈降させることができる。初期加熱段階時に低下する粘度がより低い値の樹脂材料78を使用することで、蛍光体42を短時間で沈降させることができ、蛍光体42の沈降に要する時間を短縮することができる。
During the initial heating stage when the
逆に、第二の透明樹脂部40中において蛍光体42をほぼ均一に分散させる場合は、上記の粘度低下時間を短くすればよく、または、初期加熱段階時の粘度の低下が小さい樹脂材料78を使用すればよい。
Conversely, in the case where the
このポッティングの際に、周壁部26と封止樹脂部22とによって囲まれた凹部38の形状によって、第二の透明樹脂部40の形状を安定化させることができる。樹脂材料78の堰き止め部として機能する周壁部26は、金型成型によって同一の形状に形成される。そのため、金型成型で形成した凹部38に等量の樹脂材料78を注入すれば、略同一の形状を有する第二の透明樹脂部40を容易に得ることができる。
During the potting, the shape of the second
図14は、第三の透明樹脂部50を形成する工程(S70)の詳細を示す流れ図である。図14に示すように、第三の透明樹脂部50を形成する工程(S70)は、封止樹脂部22を覆う金型82を設置する工程(S71)と、金型82の内部空間84に樹脂材料88を供給する工程(S72)と、供給された樹脂材料88を硬化させる工程(S73)と、金型82を取り除く工程(S74)と、を備える。
FIG. 14 is a flowchart showing details of the step (S70) of forming the third
図15は、封止樹脂部22を覆う金型82を設置した状態を示す断面図である。図16は、金型82の内部に樹脂材料88が充填された状態を示す断面図である。図15および図16に示すように、第三の透明樹脂部50は、金型82を適切な位置に配置して、その後図15中の矢印に従って金型82の内部空間84に樹脂材料88が充填される、金型成型を使用して作製される。本例は、トランスファー成型の事例である。
FIG. 15 is a cross-sectional view illustrating a state in which a
他の金型成型を用いた第三の透明樹脂部50の形成方法として、上述した第一の透明樹脂部20と同様に、圧縮成型、射出成型などを使用することができる。
As a method for forming the third
図15に示すように、複数の第三の透明樹脂部50に対応する形状の金型82を準備すれば、金型82の内部空間84に樹脂材料を供給する一工程によって、複数の第三の透明樹脂部50を形成することができる。
As shown in FIG. 15, if a
図17は、本実施の形態の製造方法により作製された半導体発光装置アセンブリ100の断面図である。図17に示す半導体発光装置アセンブリ100は、複数の半導体発光装置、すなわち、半導体発光装置1と、半導体発光装置1に隣接する他の半導体発光装置101とを備える。
FIG. 17 is a cross-sectional view of the semiconductor light emitting
半導体発光装置1の第一の透明樹脂部20と、他の半導体発光装置101の第一の透明樹脂部120とは、図8〜図10を参照して説明した金型成型によって一体に成形されている。半導体発光装置1の第三の透明樹脂部50と、他の半導体発光装置101の第三の透明樹脂部150とは、図14〜図16を参照して説明した金型成型によって一体に成形されている。
The first
第一の透明樹脂部20,120が同一の工程において金型成型を用いて形成されたため、半導体発光装置1と他の半導体発光装置101との間には、第一の透明樹脂部20,120を連結する連結部129が形成されている。第三の透明樹脂部50,150が同一の工程において金型成型を用いて形成されたため、半導体発光装置1と他の半導体発光装置101との間には、第三の透明樹脂部50,150を連結する連結部159が形成されている。連結部129,159は、金型成型において金型の内部空間に樹脂材料を充填する際の、樹脂材料の充填経路によって生じた部分である。
Since the first
第一の透明樹脂部20,120は、それらの間に連結部129を介在させた、一体の構造を有する。第三の透明樹脂部50,150は、それらの間に連結部159を介在させた、一体の構造を有する。このように、第一の透明樹脂部20,120および第三の透明樹脂部50,150が金型成型によって形成された半導体発光装置アセンブリ100では、ドーム状の第三の透明樹脂部50,150の周囲において、基板2の主表面4に沿って、複数の半導体発光装置1,101間を繋ぐ薄い樹脂層(連結部129,159)が残る構成となる。
The first
複数の半導体発光装置1,101を備える半導体発光装置アセンブリ100を、照明機器などの面状の光源として使用することが可能である。また、図15に示すダイシングラインDに沿って半導体発光装置アセンブリ100を切断し、個辺化された半導体発光装置1,101をそれぞれ別々に使用してもよい。
A semiconductor light emitting
以上説明したように、本実施の形態の半導体発光装置1では、シリコーン樹脂やフッ素樹脂などのシートに穴をあけたシート(ダムシート)を使用した、ダムシートの穴にポッティング法により樹脂を流し込み、樹脂を硬化させ、その後ダムシートを除去する方法によって樹脂成型品を形成する必要はない。その代わりに、金型成型により形成された周壁部26が、第二の透明樹脂部40をポッティング成型する際の堰き止め部として機能する。したがって、使い捨てのダムシートを使用することなく、半導体発光装置1を製造することができる。かつ、第一の透明樹脂部20と第三の透明樹脂部50とは、同一材料で形成することができる。金型で形成される第一の透明樹脂部20において、樹脂材料の注入経路確保の必要性から半導体発光素子10の周辺部のみを封止する孤立した封止体構造をとることは困難なため、第一の透明樹脂部20は封止樹脂部22と周壁部26と接続部34とを含む構造とされている。
As described above, in the semiconductor
また、先行技術において提案された2重ドーム構造(2重とも金型成型で形成され、1重目のドームに蛍光体を含有させる場合)と比較した場合、1重目の蛍光体含有ドームでは蛍光体含有樹脂がドーム以外の基板上にも薄く形成されるので、蛍光体の無駄が多くなるとともに、基板の反射効率を低下させる。これに対し、本実施の形態の半導体発光装置1の第二の透明樹脂部40では、半導体発光素子10を覆う封止樹脂部22の周辺にのみ、蛍光体42を含有する樹脂層である蛍光体層44が形成される。したがって、蛍光体42が無駄にならず、かつ基板2の反射効果を向上させることもできる。
In addition, when compared with the double dome structure proposed in the prior art (both of which are formed by mold molding and the phosphor is contained in the first dome), the first phosphor-containing dome is Since the phosphor-containing resin is thinly formed on the substrate other than the dome, the phosphor is wasted and the reflection efficiency of the substrate is lowered. On the other hand, in the second
以上のように本発明の実施の形態について説明を行なったが、今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって、制限的なものではないと考えられるべきである。この発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味、および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。 Although the embodiment of the present invention has been described as above, the embodiment disclosed this time should be considered as illustrative in all points and not restrictive. The scope of the present invention is defined by the terms of the claims, rather than the description above, and is intended to include any modifications within the scope and meaning equivalent to the terms of the claims.
1,101 半導体発光装置、2 基板、4 主表面、10 半導体発光素子、12 発光層、20,120 第一の透明樹脂部、22 封止樹脂部、23 外表面、24 頂部、26 周壁部、28 内周側面、30 上端部、32 外周側面、34 接続部、38 凹部、40 第二の透明樹脂部、42 蛍光体、43 接触面、44 蛍光体層、50,150 第三の透明樹脂部、52 外周面、62,82 金型、64,84 内部空間、68,78,88 樹脂材料、74 ポッティング装置、100 半導体発光装置アセンブリ、129,159 連結部。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1,101 Semiconductor light-emitting device, 2 board | substrate, 4 main surface, 10 semiconductor light emitting element, 12 light emitting layer, 20,120 1st transparent resin part, 22 sealing resin part, 23 outer surface, 24 top part, 26 peripheral wall part, 28 inner peripheral side surface, 30 upper end portion, 32 outer peripheral side surface, 34 connection portion, 38 concave portion, 40 second transparent resin portion, 42 phosphor, 43 contact surface, 44 phosphor layer, 50, 150 third
Claims (16)
前記主表面上に配置された半導体発光素子と、
前記半導体発光素子を覆う封止樹脂部と、前記封止樹脂部の周囲を取り囲む周壁部と、前記封止樹脂部と前記周壁部とを接続する接続部とを含み、前記主表面上に設けられた第一の透明樹脂部と、
蛍光体を含み、前記周壁部の内側に形成され前記封止樹脂部を覆う、第二の透明樹脂部と、
前記第二の透明樹脂部を覆う第三の透明樹脂部と、を備える、半導体発光装置。 A substrate having a main surface;
A semiconductor light emitting device disposed on the main surface;
A sealing resin portion that covers the semiconductor light emitting element; a peripheral wall portion that surrounds the periphery of the sealing resin portion; and a connection portion that connects the sealing resin portion and the peripheral wall portion, and is provided on the main surface. A first transparent resin portion formed,
A second transparent resin part including a phosphor and covering the sealing resin part formed inside the peripheral wall part;
And a third transparent resin portion covering the second transparent resin portion.
前記外周面の少なくとも一部は、球面状に形成されている、請求項1または請求項2に記載の半導体発光装置。 The third transparent resin portion further covers an outer peripheral side surface and an upper end portion of the peripheral wall portion of the sealing resin portion, and includes an outer peripheral surface that forms a boundary with the atmosphere,
The semiconductor light emitting device according to claim 1, wherein at least a part of the outer peripheral surface is formed in a spherical shape.
前記周壁部は、前記主表面からの距離が前記封止樹脂部の周囲全体に亘って前記頂部よりも大きい上端部を有する、請求項1から請求項3のいずれかに記載の半導体発光装置。 The sealing resin portion has a top portion farthest from the main surface,
4. The semiconductor light emitting device according to claim 1, wherein the peripheral wall portion has an upper end portion whose distance from the main surface is larger than the top portion over the entire periphery of the sealing resin portion.
前記接続部は、前記基板の厚み方向において、前記主表面と前記発光層との間の距離よりも小さい厚みを有する、請求項1から請求項5のいずれかに記載の半導体発光装置。 The semiconductor light emitting device includes a light emitting layer,
6. The semiconductor light emitting device according to claim 1, wherein the connection portion has a thickness smaller than a distance between the main surface and the light emitting layer in a thickness direction of the substrate.
前記蛍光体層は、前記封止樹脂部に面接触する、請求項1から請求項8のいずれかに記載の半導体発光装置。 The second transparent resin part has a phosphor layer having a relatively high concentration of the phosphor,
The semiconductor light emitting device according to claim 1, wherein the phosphor layer is in surface contact with the sealing resin portion.
前記半導体発光装置の前記第一の透明樹脂部は、前記半導体発光装置に隣接する他の半導体発光装置の第一の透明樹脂部と一体の構造を有し、
前記半導体発光装置の前記第三の透明樹脂部は、前記他の半導体発光装置の第三の透明樹脂部と一体の構造を有する、半導体発光装置アセンブリ。 A semiconductor light emitting device assembly comprising a plurality of semiconductor light emitting devices according to any one of claims 1 to 10,
The first transparent resin portion of the semiconductor light emitting device has a structure integrated with a first transparent resin portion of another semiconductor light emitting device adjacent to the semiconductor light emitting device,
The semiconductor light emitting device assembly, wherein the third transparent resin portion of the semiconductor light emitting device has a structure integrated with a third transparent resin portion of the other semiconductor light emitting device.
前記主表面上に半導体発光素子を配置する工程と、
前記主表面上に、前記半導体発光素子を覆う封止樹脂部と、前記封止樹脂部の周囲を取り囲む周壁部と、前記封止樹脂部と前記周壁部とを接続する接続部と、を含む第一の透明樹脂部を形成する工程と、
前記周壁部の内側に、前記封止樹脂部を覆うように、蛍光体を含む第二の透明樹脂部を形成する工程と、
前記第二の透明樹脂部を覆う第三の透明樹脂部を形成する工程と、を備える、半導体発光装置の製造方法。 Preparing a substrate having a main surface;
Disposing a semiconductor light emitting element on the main surface;
A sealing resin portion covering the semiconductor light emitting element; a peripheral wall portion surrounding the periphery of the sealing resin portion; and a connection portion connecting the sealing resin portion and the peripheral wall portion on the main surface. Forming a first transparent resin portion;
Forming a second transparent resin portion containing a phosphor so as to cover the sealing resin portion inside the peripheral wall portion; and
Forming a third transparent resin portion covering the second transparent resin portion.
前記主表面上に金型を設置する工程と、
前記金型の内部空間に樹脂材料を供給する工程と、
供給された前記樹脂材料を硬化させる工程と、
前記金型を取り除く工程と、を備える、請求項12に記載の半導体発光装置の製造方法。 The step of forming the first transparent resin portion includes
Installing a mold on the main surface;
Supplying a resin material to the internal space of the mold;
Curing the supplied resin material;
The method for manufacturing a semiconductor light emitting device according to claim 12, further comprising a step of removing the mold.
前記周壁部の内側に樹脂材料をポッティングする工程と、
ポッティングされた前記樹脂材料を硬化させる工程と、を備える、請求項12に記載の半導体発光装置の製造方法。 The step of forming the second transparent resin portion includes:
Potting resin material inside the peripheral wall,
The method of manufacturing a semiconductor light emitting device according to claim 12, further comprising: curing the potted resin material.
前記封止樹脂部を覆う金型を設置する工程と、
前記金型の内部空間に樹脂材料を供給する工程と、
供給された前記樹脂材料を硬化させる工程と、
前記金型を取り除く工程と、を備える、請求項12に記載の半導体発光装置の製造方法。 The step of forming the third transparent resin portion includes
Installing a mold for covering the sealing resin portion;
Supplying a resin material to the internal space of the mold;
Curing the supplied resin material;
The method for manufacturing a semiconductor light emitting device according to claim 12, further comprising a step of removing the mold.
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