JP2011198466A - Semiconductor memory device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、電流補正手段を備えた半導体記憶装置、周波数補正手段を備えた半導体記憶装置に関するものである。 The present invention relates to a semiconductor memory device provided with current correcting means and a semiconductor memory device provided with frequency correcting means.
従来の電圧・電流・オシレータ回路等のトリミングは、外部装置(例えばLSIテスター)を用いて電圧測定や電流測定、周波数測定を実施し、目標値に最も近い値に補正するためのトリミング(最適化)データを算出して、そのトリミングデータを不揮発メモリにプログラムしていた。 Trimming (optimization) for correcting voltage, current, and frequency using an external device (for example, LSI tester) and correcting to the closest value to the target value by trimming voltage, current, and oscillator circuits. ) The data was calculated and the trimming data was programmed into the non-volatile memory.
例えば、半導体記憶装置の製造においては、製造プロセス毎に、ゲート酸化膜の膜厚、各部の寸法、拡散領域の不純物濃度等のパラメータのばらつきがある。それにより、最適な書き込み電位、読出し電位、消去電位を設定する基準電圧や、その他の電圧のばらつきがある。このような製造上のばらつきにより、実際の半導体記憶装置の状態が、設計上の半導体記憶装置の状態とは異なる場合がある。このように半導体記憶装置の製造上のばらつきを吸収するため、半導体記憶装置に対してトリミングすることにより、最適化を図ることができるようにしている。 For example, in the manufacture of a semiconductor memory device, there are variations in parameters such as the thickness of the gate oxide film, the size of each part, the impurity concentration of the diffusion region, etc., for each manufacturing process. As a result, there are variations in the reference voltage for setting the optimum write potential, read potential, and erase potential, and other voltages. Due to such manufacturing variations, the actual state of the semiconductor memory device may differ from the designed state of the semiconductor memory device. Thus, in order to absorb variations in manufacturing of the semiconductor memory device, the semiconductor memory device is trimmed so that optimization can be achieved.
このようなトリミングデータには、例えば、電圧トリミングに関しては、LSI内部で発生した電圧をADコンバーターでモニターし、常にトリミングデータを発生することで、特別な検査やトリミング値を格納するための手段が不用となる手法が提案されている。(例えば、特許文献1参照。)。 In such trimming data, for example, with respect to voltage trimming, a voltage generated inside the LSI is monitored by an AD converter, and by always generating trimming data, there is a means for storing special inspections and trimming values. An unnecessary method has been proposed. (For example, refer to Patent Document 1).
しかしながら、従来の外部装置を用いたトリミング手法では、トリミングデータはチップ毎に固有のランダムなデータである。このため、外部装置により複数のチップを同時測定している場合、測定・計算・不揮発メモリのプログラム・リードを実施する際、チップ個別の制御が必要となる。 However, in the trimming method using a conventional external device, the trimming data is random data unique to each chip. For this reason, when a plurality of chips are simultaneously measured by an external device, it is necessary to control the individual chips when performing measurement, calculation, programming / reading of the nonvolatile memory.
また、特許文献1で提案されている手法では、トリミング補正後のチップ動作時には毎回補正を実施するので、その分の電流を余分に消費する。さらに、補正の分解能は一定であり、補正に必要な時間と分解能をフレキシブルに選択することはできなかった。 In the method proposed in Patent Document 1, since correction is performed every time the chip is operated after trimming correction, an extra current is consumed. Furthermore, the resolution of correction is constant, and the time and resolution necessary for correction cannot be flexibly selected.
このため、チップ内部でトリミングを実施する場合、消費電流の増加とトリミング精度の低下を招くという問題があった。 For this reason, when trimming is performed inside the chip, there is a problem that current consumption increases and trimming accuracy decreases.
本発明の第1の半導体記憶装置は、オシレータと、外部より入力される任意の期間において前記オシレータのクロック数を計数するカウンタと、前記カウンタの出力するクロック数と外部より入力されるクロック数との差分を求めるクロック数比較手段と、前記クロック数比較手段の比較結果をトリミングデータとして記憶する不揮発性メモリセルアレイと、トリミングデータの値に応じて前記オシレータの周波数を調節する周波数調節手段とを備えたものである。 The first semiconductor memory device of the present invention includes an oscillator, a counter for counting the number of clocks of the oscillator in an arbitrary period inputted from the outside, a clock number outputted from the counter, and a clock number inputted from outside A clock number comparing means for obtaining a difference between the clock number comparing means, a nonvolatile memory cell array for storing the comparison result of the clock number comparing means as trimming data, and a frequency adjusting means for adjusting the frequency of the oscillator according to the value of the trimming data. It is a thing.
なお、前記オシレータの温度特性に応じてトリミングデータを補正するデータ補正手段をさらに備えていてもよい。また、前記オシレータの複数の温度特性に応じてトリミングデータを補正するデータ補正手段をさらに備えていてもよい。さらに、温度検知手段と、前記温度検知手段による検知結果に応じて前記不揮発性メモリアレイより読み出したトリミングデータを補正するデータ補正手段とをさらに備えていてもよい。 Note that data correction means for correcting trimming data according to the temperature characteristics of the oscillator may be further provided. Further, a data correction means for correcting trimming data according to a plurality of temperature characteristics of the oscillator may be further provided. Furthermore, a temperature detection unit and a data correction unit that corrects trimming data read from the nonvolatile memory array according to a detection result by the temperature detection unit may be further provided.
本発明の第1の半導体記憶装置によると、チップ内部で周波数トリミング値を算出して不揮発性メモリに記憶でき、以降は不揮発性メモリに記憶されたトリミングデータに基いて、定常的にオシレータの周波数を一定値に保つことができる。また、必要とされる周波数トリミングの精度に応じて、クロック数を計数する時間とトリミング分解能を選択できる。 According to the first semiconductor memory device of the present invention, the frequency trimming value can be calculated inside the chip and stored in the nonvolatile memory, and thereafter, the frequency of the oscillator is steadily based on the trimming data stored in the nonvolatile memory. Can be kept constant. Also, the time for counting the number of clocks and the trimming resolution can be selected according to the required frequency trimming accuracy.
本発明の第2の半導体記憶装置は、オシレータと、前記オシレータの出力するクロックと外部より入力されるクロックとの位相を比較する位相比較手段と、前記位相比較手段の比較結果をトリミングデータとして記憶する不揮発性メモリセルアレイと、トリミングデータの値に応じて前記オシレータの周波数を調節する周波数調節手段とを備えたものである。 According to a second semiconductor memory device of the present invention, an oscillator, phase comparison means for comparing phases of a clock output from the oscillator and an externally input clock, and a comparison result of the phase comparison means are stored as trimming data. And a frequency adjusting means for adjusting the frequency of the oscillator according to the value of the trimming data.
なお、前記オシレータの温度特性に応じてトリミングデータを補正するデータ補正手段をさらに備えていてもよい。また、前記オシレータの複数の温度特性に応じてトリミングデータを補正するデータ補正手段をさらに備えていてもよい。さらに、温度検知手段と、前記温度検知手段による検知結果に応じて前記不揮発性メモリアレイより読み出したトリミングデータを補正するデータ補正手段とをさらに備えていてもよい。 Note that data correction means for correcting trimming data according to the temperature characteristics of the oscillator may be further provided. Further, a data correction means for correcting trimming data according to a plurality of temperature characteristics of the oscillator may be further provided. Furthermore, a temperature detection unit and a data correction unit that corrects trimming data read from the nonvolatile memory array according to a detection result by the temperature detection unit may be further provided.
本発明の第2の半導体記憶装置によると、チップ内部でより高速に周波数トリミング値を算出して不揮発性メモリに記憶でき、以降は不揮発性メモリに記憶されたトリミングデータに基いて、定常的にオシレータの周波数を一定値に保つことができる。 According to the second semiconductor memory device of the present invention, the frequency trimming value can be calculated and stored in the non-volatile memory at a higher speed inside the chip, and thereafter, based on the trimming data stored in the non-volatile memory. The frequency of the oscillator can be kept constant.
さらに、本発明の第1,2の半導体記憶装置において、基準電流,セル電流,オシレータの温度特性に応じて、トリミングデータを補正するデータ補正手段をさらに備えた構成とすることにより、トリミングデータ算出時と、リファレンスセル再設定時あるいはオシレータ使用時とで温度が異なる場合にも、正確なトリミングを行うことができる。 Further, in the first and second semiconductor memory devices of the present invention, the trimming data calculation is performed by further including data correction means for correcting the trimming data according to the reference current, the cell current, and the temperature characteristics of the oscillator. Even when the temperature differs between when the reference cell is reset or when the oscillator is used, accurate trimming can be performed.
本発明の半導体記憶装置によると、チップ毎に固有のランダムなトリミングデータの測定・計算・不揮発メモリのプログラムをチップ内部で行えるので、外部装置により複数チップを同時測定している場合でも、チップ個別の制御が不要となる。 According to the semiconductor memory device of the present invention, the random trimming data unique to each chip can be measured / calculated / programmed in the nonvolatile memory inside the chip. Therefore, even when a plurality of chips are simultaneously measured by an external device, the individual chips This control becomes unnecessary.
また、本発明の第1の半導体記憶装置によると、補正に必要な時間と分解能をフレキシブルに選択できるので、チップ内部でのトリミングを実現しながら、より精度の高いトリミングを実現できる。 Further, according to the first semiconductor memory device of the present invention, the time and resolution required for correction can be selected flexibly, so that trimming with higher accuracy can be realized while realizing trimming inside the chip.
また、本発明の第2の半導体記憶装置によると、高周波かつ高精度なトリミングが要求される場合に、より高速に周波数トリミング値を算出することができ、高速動作・テスト時間削減が可能となる。 Further, according to the second semiconductor memory device of the present invention, when high-frequency and high-precision trimming is required, the frequency trimming value can be calculated at a higher speed, and high-speed operation and test time can be reduced. .
さらに、本発明の半導体記憶装置によると、温度特性補正機能をチップ内部に持たせているので、テスト工程間や実使用状態の様々な温度条件下でも、温度変化がない場合と同等の効果を得ることができる。 Furthermore, according to the semiconductor memory device of the present invention, the temperature characteristic correction function is provided in the chip, so that the same effect as that in the case where there is no temperature change can be obtained even during various test conditions and in various temperature conditions during actual use. Obtainable.
以下、本発明の実施の形態を、図面を参照しながら説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
(参考例1)
図1は本発明の参考例1にかかる半導体記憶装置のブロック図である。
(Reference Example 1)
FIG. 1 is a block diagram of a semiconductor memory device according to Reference Example 1 of the present invention.
図1において、100は、メモリセルのデータ読出し時に、電流比較のリファレンス(参照)手段として用いるリファレンスセルである。110は、リファレンスセル100の電流量をデジタル値に変換するAD変換器である。120は、内部にユーザ使用領域以外にトリミングデータ領域を備え、このトリミングデータ領域にリファレンスセル100の電流量をAD変換した値をトリミングデータとして記憶する不揮発性メモリセルアレイである。130は、不揮発性メモリセルアレイ120に記憶されているトリミングデータに応じて、基準電流量を調節する基準電流発生手段である。140は、基準電流と、リファレンスセル100のセル電流とを比較する電流比較手段である。150は、電流比較手段140の結果によって、リファレンスセル100に対する書込みの要否を判定する書込み要否判定手段である。160は、書込み要否判定手段150の判定結果に基づいて、または外部装置20からの外部入力信号に基づいて、リファレンスセル100への書込みを行うリファレンスセル書込み手段である。なお、これらリファレンスセル100〜リファレンスセル書込み手段160は、チップであるメモリコア10内に設けられている。170は、外部装置20に設けられ、リファレンスセル100のセル電流の測定の実施と、その測定に基づいて書込み要否の判定の実施とを行う電流測定&書込み要否判定手段である。
In FIG. 1,
また、スイッチ181は、リファレンスセル100のセル電流が、電流比較手段140へ伝達されるか、あるいはスイッチ182へ伝達されるかを切替えるものである。スイッチ182は、リファレンスセル100のセル電流が、AD変換器110へ伝達されるか、あるいは電流測定&書込み要否判定手段170へ伝達されるかを切替えるものである。スイッチ183は、書込み要否判定手段150からの書込み要の命令、または電流測定&書込み要否判定手段170からの書込み要の命令を、それぞれリファレンスセル書込み手段160へ伝達するものである。
The
以上のように構成された参考例1の半導体記憶装置について、以下、その動作を説明する。 The operation of the semiconductor memory device of Reference Example 1 configured as described above will be described below.
(トリミングデータ設定)
まず、リファレンスセル100のVt(閾値)レベルを所定のレベルに設定するために、外部装置20(例えばLSIテスター)の電流測定&書込み要否判定手段170にて、リファレンスセル100の電流測定を実施する。なお、上記所定のレベルとは、メモリセルの“1”または“0”のデータ判定が可能となるレベルであって、“1”データのVtレベルと“0”データのVtレベルの中間値である。
(Trimming data setting)
First, in order to set the Vt (threshold) level of the
そして、リファレンスセル100の電流測定の結果に応じて、レファレンスセル100への書込みの要否を判断する。すなわち、電流測定&書込み要否判定手段170は、書込み否の場合、メモリコア10に対しては何も行わず、書込み要の場合、リファレンスセル書込み手段160に対して書込み命令を出す。
Then, according to the result of current measurement of the
リファレンスセル100のVtレベルが所定のレベルに未到達の場合、リファレンスセル書込み手段160にてリファレンスセル100にVtレベルを上げる書込みを実施する。
When the Vt level of the
リファレンスセル100のVtレベルが所定のレベルに到達した場合、AD変換器110にてリファレンスセル100のセル電流量をデジタル変換し、そのデジタル値をトリミングデータとしてメモリセルアレイ120に記憶させる。なお、上記リファレンスセル100のVtレベルが所定のレベルに到達したか否かの判断は、LSIテスター等の外部装置20またはマイクロコードが持っている期待値と比較して、外部装置20が判断する。
When the Vt level of the
(トリミングデータ再設定)
リファレンスセル100のVtレベルが熱ストレス等により劣化した場合には、Vtレベルの再設定が必要となる。以下、再設定時の動作について説明する。
(Resetting trimming data)
When the Vt level of the
メモリセルアレイ120に格納されているトリミングデータに基いて、基準電流発生手段130の基準電流を調整する。そして、Vtレベルが劣化している状態のリファレンスセル100のセル電流量と、上記調整した基準電流量とを電流比較手段140にて比較する。
Based on the trimming data stored in the
上記比較結果に応じて、リファレンスセル100の書込み要否を書込み要否判定手段150にて判断する。そして、リファレンスセル100のVtレベルが所定のレベルに未到達の場合、リファレンスセル書込み手段160にてリファレンスセル100にVtレベルを上げる書込みを実施する。
In accordance with the comparison result, the write
以降、リファレンスセル100のVtレベルが所定のレベルに到達するまで、電流比較手段140による電流比較、書込み要否判定手段150による書込み要否判断、リファレンスセル書込み手段160によるリファレンスセル100書込みの動作を繰り返す。
Thereafter, until the Vt level of the
このように構成された半導体記憶装置によると、チップ内部で電流トリミング値を算出してメモリセルアレイ120に記憶でき、リファレンスセル100のVtレベルが熱ストレス等により劣化した場合の再設定の際にのみ、メモリセルアレイ120からトリミングデータを取り出して、リファレンスセル100の比較参照元である基準電流の電流量を調節することで、リファレンスセル100を劣化前のVtレベルに復元できる。
According to the semiconductor memory device configured as described above, the current trimming value can be calculated and stored in the
また、チップ毎に固有のランダムなトリミングデータの測定・計算・不揮発メモリのプログラムをチップ内部で行えるので、外部装置20により複数チップを同時測定している場合でも、チップ個別の制御が不要となる。このため、テスト時間・テストプログラム開発工数等のテストコストを削減でき、テストプログラム複雑化によるヒューマンエラーを低減できる。
In addition, since the random trimming data unique to each chip can be measured / calculated and the nonvolatile memory program can be performed inside the chip, even when a plurality of chips are simultaneously measured by the
さらに、トリミング補正をリファレンスセル100の再設定時にのみ実施すればよく、以降のチップ動作時には補正不要なので、チップ内部でのトリミングを実現しながら消費電流を低減することができる。
Furthermore, trimming correction only needs to be performed when the
(参考例2)
図2は、本発明の参考例2における半導体記憶装置のブロック図である。なお、図1と同一部分は同一符号を付してその説明を省略する。
(Reference Example 2)
FIG. 2 is a block diagram of a semiconductor memory device in Reference Example 2 of the present invention. The same parts as those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.
図2において、210は、メモリコア10内に設けられ、外部から入力された温度指定に基いて、トリミングデータを補正するデータ補正手段である。220は、外部装置20に設けられ、リファレンスセル100の再設定時の温度指定手段である。
In FIG. 2,
以上のように構成された参考例2の半導体記憶装置について、以下、その動作を説明する。 The operation of the semiconductor memory device of Reference Example 2 configured as described above will be described below.
参考例2の動作は、基本的に参考例1と同様である。参考例1と異なる点は、AD変換器110にてリファレンスセル100の電流量をデジタル変換した後、そのデジタル値からなるトリミングデータを、温度指定手段220より入力された指定温度に応じてデータ補正手段210にて補正を行う点である。
The operation of Reference Example 2 is basically the same as that of Reference Example 1. The difference from the reference example 1 is that after the current amount of the
温度指定手段220より入力される指定温度とは、例えば、検査工程において高温、常温、低温と複数の温度で検査を実施する場合に、その都度、指定する現在の温度のことである。すなわち、参考例1で示したように、メモリセルアレイ120にはトリミングデータが記憶されている。今、このトリミングデータが常温での製造工程において設定された値とし、現在の検査工程が常温の場合、両温度が同一であることから、メモリセルアレイ120に記憶されているトリミングデータをそのまま用いて、製造工程から検査工程の間におけるリファレンスセル100のVtレベルの劣化した場合の、当該Vtレベルの再設定を行う。なお、トリミングデータ再設定は、参考例1に示した方法にて行う。
The designated temperature input from the temperature designation means 220 is, for example, the current temperature designated each time when the inspection is performed at a plurality of temperatures of high temperature, normal temperature, and low temperature in the inspection process. That is, as shown in Reference Example 1, the
しかし、現在の検査工程が高温の場合、熱ストレスによるリファレンスセル100のVtレベルの劣化が、常温時の同劣化に比べて大きくなる。仮に、高温でのVtレベルの劣化が常温でのVtレベルの劣化より“1”だけ大きくなるとすると、データ補正手段210にて、メモリセルアレイ120に記憶されているトリミングデータを+1するデータ補正を行う。これにより、“1”だけ劣化度の大きい高温では、+1されたトリミングデータに基づいてVtレベルの再設定が行われることになり、常温と同様、正確に劣化前のVtレベルに復元できる。
However, when the current inspection process is at a high temperature, the deterioration of the Vt level of the
また、逆に、現在の検査工程が低温の場合、熱ストレスによるリファレンスセル100のVtレベルの劣化が、常温時の同劣化に比べて小さくなる。仮に、低温でのVtレベルの劣化が常温でのVtレベルの劣化より“1”だけ小さくなるとすると、データ補正手段210にて、メモリセルアレイ120に記憶されているトリミングデータを−1するデータ補正を行う。これにより、“1”だけ劣化度の小さい低温では、−1されたトリミングデータに基づいてVtレベルの再設定が行われることになり、常温と同様、正確に劣化前のVtレベルに復元できる。
Conversely, when the current inspection process is at a low temperature, the deterioration of the Vt level of the
なお、上記、検査工程における高温、常温、低温の検査は一例であって、これら3種類の温度に限るものではない。また、製造工程や検査工程は一例であって、これらの工程に限るものではない。 In addition, the inspection of the high temperature, normal temperature, and low temperature in the inspection process described above is an example, and is not limited to these three types of temperatures. In addition, the manufacturing process and the inspection process are examples, and are not limited to these processes.
このように、リファレンスセル100のVtレベル再設定時には、補正されたトリミングデータに基いて基準電流を調節し、リファレンスセル100のVtを所定のレベルに再設定する。
Thus, when the Vt level of the
なお、データ補正手段210による温度指定手段220より入力された指定温度に基づくトリミングデータ補正は、回路でもソフト演算処理でも実現することができる。例えば、加算器、減算器を用いて、常温のトリミングデータに対して、高温時には+1、低温時には−1の演算を行う回路を搭載する。具体的には、常温トリミングデータ“0010”に対して、高温時には“0011”、低温時には“0001”にそれぞれ補正する。ソフトの場合、この演算を例えばマイクロコード等のソフトウェアで計算させる。
The trimming data correction based on the specified temperature input from the
このように構成された半導体記憶装置においても、参考例1と同様の効果が得られる。さらに、基準電流,セル電流の温度特性に応じて、トリミングデータを補正するデータ補正手段210をさらに備えた構成とすることにより、トリミングデータ算出時と、リファレンスセル再設定時とで温度が異なる場合にも、正確なトリミングを行うことができる。よって、テスト工程間や実使用状態の様々な温度条件下でも、温度変化がない場合と同等の効果を得ることができる。 Also in the semiconductor memory device configured as described above, the same effect as in Reference Example 1 can be obtained. Further, when the configuration is further provided with the data correction means 210 for correcting the trimming data according to the temperature characteristics of the reference current and the cell current, the temperature is different between the trimming data calculation and the reference cell resetting. In addition, accurate trimming can be performed. Therefore, an effect equivalent to that in the case where there is no temperature change can be obtained even under various temperature conditions between test steps and in actual use.
(参考例3)
図3は、本発明の参考例3における半導体記憶装置のブロック図である。なお、図1,2と同一部分は同一符号を付してその説明を省略する。
(Reference Example 3)
FIG. 3 is a block diagram of a semiconductor memory device in Reference Example 3 of the present invention. The same parts as those in FIGS. 1 and 2 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.
図3において、310は、複数のデジタル値をトリミングデータとして記憶する不揮発性メモリセルアレイである。
In FIG. 3,
以上のように構成された参考例3の半導体記憶装置について、以下、その動作を説明する。 The operation of the semiconductor memory device of Reference Example 3 configured as described above will be described below.
参考例3における動作は、基本的に参考例2と同様である。参考例2と異なる点は、複数の温度補正用トリミングデータをメモリセルアレイ310で記憶する点である。なお、複数の温度補正用トリミングデータとは、例えば、参考例2で示したように、常温での製造工程においてメモリセルアレイ120に記憶されたトリミングデータに対し、検査工程において高温、常温、低温と複数の温度で検査を実施する場合に、データ補正手段210にて高温用に補正されたデータ、常温用に補正されたデータ(この場合は補正不要)、低温用に補正されたデータであり、これらの補正データをメモリセルアレイ310の別々の領域に記憶させる。
The operation in Reference Example 3 is basically the same as that in Reference Example 2. The difference from Reference Example 2 is that a plurality of temperature correction trimming data is stored in the
リファレンスセル100のVtレベル再設定時には、補正された複数のトリミングデータの内、適切なデータに基いて基準電流を調節し、リファレンスセル100のVtを所定のレベルに再設定する。なお、適切なデータとは、例えば、メモリセルアレイ310に記憶させた高温用に補正されたデータ、常温用に補正されたデータ、低温用に補正されたデータの中から、温度指定手段220により指定される温度に対応するデータのことであり、当該対応する補正データを選択する。
When the Vt level of the
なお、指定温度によるトリミングデータの補正は、参考例2と同様、回路でもソフト演算処理でも実現することができる。 Note that the correction of the trimming data by the specified temperature can be realized by a circuit or a software calculation process as in the second reference example.
このように構成された半導体記憶装置においても、参考例2と同様の効果が得られる。 Also in the semiconductor memory device configured as described above, the same effect as in Reference Example 2 can be obtained.
(参考例4)
図4は、本発明の参考例4における半導体記憶装置のブロック図である。なお、図1と同一部分は同一符号を付してその説明を省略する。
(Reference Example 4)
FIG. 4 is a block diagram of a semiconductor memory device in Reference Example 4 of the present invention. The same parts as those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.
図4において、410は、メモリコア10内に設けられ、現時点の温度に基いてトリミングデータを補正するデータ補正手段である。420は、メモリコア10内に設けた温度検知手段である。
In FIG. 4,
以上のように構成された参考例4の半導体記憶装置について、以下、その動作を説明する。 The operation of the semiconductor memory device of Reference Example 4 configured as described above will be described below.
参考例4における動作は、基本的に参考例1と同様である。参考例1と異なる点は、メモリセルアレイ120から取り出したトリミングデータを、温度検知手段420によって検知された現在の温度に基いて、データ補正手段410にて補正する点である。具体的には、例えば、参考例2で示したように、常温での製造工程においてメモリセルアレイ120に記憶されたトリミングデータに対し、検査工程において高温、常温、低温と複数の温度で検査を実施する場合に、温度検知手段420にて現在の検査工程における温度を検知し、高温の場合には高温用にデータを補正(加算の演算)し、常温の場合にはそのままのデータ、低温の場合には低温用にデータを補正(減算の演算)する。
The operation in Reference Example 4 is basically the same as that in Reference Example 1. The difference from the reference example 1 is that the trimming data extracted from the
リファレンスセル100のVtレベル再設定時には、上記補正されたトリミングデータに基いて基準電流を調節し、リファレンスセル100のVtを所定のレベルに再設定する。
When the Vt level of the
なお、検知温度によるトリミングデータの補正は、参考例2と同様、回路でもソフト演算処理でも実現することができる。 Note that the correction of the trimming data based on the detected temperature can be realized by a circuit or a software calculation process, as in the second reference example.
このように構成された半導体記憶装置においても、参考例2と同様の効果が得られる。 Also in the semiconductor memory device configured as described above, the same effect as in Reference Example 2 can be obtained.
(実施の形態5)
図5は、本発明の実施の形態5における半導体記憶装置のブロック図である。
(Embodiment 5)
FIG. 5 is a block diagram of the semiconductor memory device according to the fifth embodiment of the present invention.
図5において、500は、オシレータである。510は、外部より入力される任意の期間、オシレータ500のクロック数を計数するカウンタである。520は、カウンタ510の出力するクロック数と、外部より入力されるクロック数との差分を求めるクロック数比較手段である。530は、クロック数比較手段520の比較結果をトリミングデータとして記憶する不揮発性メモリセルアレイである。540は、トリミングデータの値に応じて、オシレータ500の周波数を調節する周波数調節手段である。550は、周辺回路である。なお、これらオシレータ500〜周辺回路550は、チップであるメモリコア30内に設けられている。560は、外部装置40に設けられたサンプリング時間指定手段である。570は、外部装置40に設けられたターゲットカウント値指定手段である。
In FIG. 5,
また、スイッチ581は、クロック数比較手段520の比較結果をメモリセルアレイ530へ伝達するか、あるいはスイッチ582へ伝達するかを切替えるものである。スイッチ582は、クロック数比較手段520の比較結果か、あるいはメモリセルアレイ530からのトリミングデータを、切替えて周波数調節手段540へ伝達されるものである。すなわち、クロック数比較手段520の比較結果をリアルタイムで使用する場合、クロック数比較手段520、スイッチ581、スイッチ582、周波数調節手段540の順にデータが伝達される。また、クロック数比較手段520の比較結果を一旦メモリセルアレイ530に記憶させて、以降電源をオフ後に再使用する場合、クロック数比較手段520、スイッチ581、メモリセルアレイ530、スイッチ582、周波数調節手段540の順にデータが伝達される。
The
以上のように構成された実施の形態5の半導体記憶装置について、以下、その動作を説明する。 The operation of the semiconductor memory device according to the fifth embodiment configured as described above will be described below.
まず、外部装置40のサンプリング時間指定手段560から入力されるサンプリング時間中、オシレータ500のクロック数をカウンタ510で計数する。なお、サンプリング時間指定手段560から入力されるサンプリング時間は任意であり、サンプリング時間を長くすれば精度が上がり、逆に短くすれば測定時間の短縮が図れる。
First, the clock number of the
次に、外部装置40のターゲットカウント値指定手段570から入力されたカウント値であるクロック数と、カウンタ510の計数結果であるクロック数とを、クロック数比較手段520にて比較して差分を求め、比較結果をトリミングデータとしてメモリセルアレイ530に記憶させる。なお、ターゲットカウント値指定手段570から入力されるカウント値とは、サンプリング時間指定手段560から入力されるサンプリング時間中に、オシレータ500が本来発振する回数である。すなわち、カウンタ510の出力するクロック数と、ターゲットカウント値指定手段570から入力されたクロック数の差分を求めることで、オシレータ500の周波数が期待通りに調節されているかを判定する。判定の結果、例えば、ターゲットカウント値指定手段570から入力されたクロック数が“5”の場合に、カウンタ510の出力するクロック数が“4”のときにはデータを+1補正、カウンタ510の出力するクロック数が“6”のときには−1補正するといったトリミングデータが求められる。
Next, the clock number comparison means 520 compares the clock number, which is the count value input from the target count value specifying means 570 of the
以降は、メモリセルアレイ530に格納されているトリミングデータ(リアルタイムで使用する場合にはメモリセルアレイ530を経由せず)に基いて、周波数調節手段540でオシレータ500の周波数を調節し、調節された周波数にて周辺回路570を動作させる。
Thereafter, the frequency adjusting means 540 adjusts the frequency of the
このように構成された半導体記憶装置によると、チップ内部で周波数トリミング値を算出してメモリセルアレイ530に記憶でき、以降はメモリセルアレイ530に記憶されたトリミングデータに基いて、定常的にオシレータ500の周波数を一定値に保つことができる。また、必要とされる周波数トリミングの精度に応じて、クロック数を計数する時間とトリミング分解能を選択できる。
According to the semiconductor memory device configured as described above, the frequency trimming value can be calculated inside the chip and stored in the
また、チップ毎に固有のランダムなトリミングデータの測定・計算・不揮発メモリのプログラムをチップ内部で行えるので、外部装置40により複数チップを同時測定している場合でも、チップ個別の制御が不要となる。このため、テスト時間・テストプログラム開発工数等のテストコストを削減でき、テストプログラム複雑化によるヒューマンエラーを低減できる。
In addition, since the random trimming data unique to each chip can be measured, calculated and programmed in the nonvolatile memory inside the chip, even when a plurality of chips are simultaneously measured by the
さらに、補正に必要な時間と分解能をフレキシブルに選択できるので、チップ内部でのトリミングを実現しながら、より精度の高いトリミングを実現できる。 Furthermore, since the time and resolution required for correction can be selected flexibly, trimming with higher accuracy can be achieved while realizing trimming inside the chip.
(実施の形態6)
図6は、本発明の実施の形態6における半導体記憶装置のブロック図である。なお、図5と同一部分は同一符号を付してその説明を省略する。
(Embodiment 6)
FIG. 6 is a block diagram of the semiconductor memory device according to the sixth embodiment of the present invention. The same parts as those in FIG. 5 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.
図6において、610は、メモリコア30内に設けられ、外部から入力された温度指定に基いて、トリミングデータを補正するデータ補正手段である。620は、外部装置40に設けられ、オシレータ500の使用時における温度指定手段である。
In FIG. 6,
以上のように構成された実施の形態6の半導体記憶装置について、以下、その動作を説明する。 The operation of the semiconductor memory device according to the sixth embodiment configured as described above will be described below.
実施の形態6における動作は、基本的に実施の形態5と同様である。実施の形態5と異なる点は、クロック数比較手段520にて、カウンタ510の出力するクロック数と、ターゲットカウント値指定手段570より入力されるクロック数との差分を求めた後、その値を、温度指定手段620より入力された指定温度に応じて、データ補正手段610にてトリミングデータの補正を行う点である。
The operation in the sixth embodiment is basically the same as that in the fifth embodiment. The difference from the fifth embodiment is that the clock number comparing means 520 obtains the difference between the clock number output from the
なお、温度指定手段620より入力される指定温度、ならびにデータ補正手段610で行われる指定温度に基づく補正については、参考例2に示した温度指定手段220より入力される指定温度、ならびにデータ補正手段210で行われる指定温度に基づく補正と同様である。 As for the correction based on the specified temperature input from the temperature specifying means 620 and the specified temperature performed by the data correction means 610, the specified temperature input from the temperature specifying means 220 shown in Reference Example 2 and the data correction means. This is the same as the correction based on the designated temperature performed at 210.
オシレータ500の使用時には、補正されたトリミングデータに基いて周波数を調節し、周辺回路550を動作させる。
When the
なお、指定温度によるトリミングデータの補正は、参考例2と同様、回路でもソフト演算処理でも実現することができる。 Note that the correction of the trimming data by the specified temperature can be realized by a circuit or a software calculation process as in the second reference example.
このように構成された半導体記憶装置においても、実施の形態5と同様の効果が得られる。さらに、オシレータ500の温度特性に応じて、トリミングデータを補正するデータ補正手段610をさらに備えた構成とすることにより、トリミングデータ算出時と、オシレータ使用時とで温度が異なる場合にも、正確なトリミングを行うことができる。よって、テスト工程間や実使用状態の様々な温度条件下でも、温度変化がない場合と同等の効果を得ることができる。
Also in the semiconductor memory device configured as described above, the same effect as in the fifth embodiment can be obtained. Furthermore, by providing a configuration that further includes data correction means 610 that corrects trimming data according to the temperature characteristics of the
(実施の形態7)
図7は、本発明の実施の形態7における半導体記憶装置のブロック図である。なお、図5,6と同一部分は同一符号を付してその説明を省略する。
(Embodiment 7)
FIG. 7 is a block diagram of the semiconductor memory device according to the seventh embodiment of the present invention. 5 and 6 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.
図7において、710は、複数のデジタル値をトリミングデータとして記憶する不揮発性メモリセルアレイである。
In FIG. 7,
以上のように構成された本実施の形態7の半導体記憶装置について、以下、その動作を説明する。 The operation of the semiconductor memory device according to the seventh embodiment configured as described above will be described below.
本実施の形態7における動作は、基本的に実施の形態6と同様である。実施の形態6と異なる点は、複数の温度補正用トリミングデータを、メモリセルアレイ710で記憶する点である。なお、複数の温度補正用トリミングデータを記憶するメモリセルアレイ710は、参考例3のメモリセルアレイ310と同様であり、例えば、高温用に補正されたデータ、常温用に補正されたデータ、低温用に補正されたデータであり、メモリセルアレイ710の別々の領域に記憶させる。
The operation in the seventh embodiment is basically the same as that in the sixth embodiment. The difference from the sixth embodiment is that a plurality of temperature correction trimming data is stored in the
オシレータ500使用時には、補正された複数のトリミングデータの内、適切なデータに基いて周波数を調節し、周辺回路550を動作させる。なお、適切なデータとは、参考例3に示したように、例えば、メモリセルアレイ710に記憶させた高温用に補正されたデータ、常温用に補正されたデータ、低温用に補正されたデータの中から、温度指定手段620により指定される温度に対応するデータである。
When the
なお、指定温度によるトリミングデータの補正は、参考例2と同様、回路でもソフト演算処理でも実現することができる。 Note that the correction of the trimming data by the specified temperature can be realized by a circuit or a software calculation process as in the second reference example.
このように構成された半導体記憶装置においても、実施の形態6と同様の効果が得られる。 Also in the semiconductor memory device configured as described above, the same effect as in the sixth embodiment can be obtained.
(実施の形態8)
図8は、本発明の実施の形態8における半導体記憶装置のブロック図である。なお、図5と同一部分は同一符号を付してその説明を省略する。
(Embodiment 8)
FIG. 8 is a block diagram of the semiconductor memory device according to the eighth embodiment of the present invention. The same parts as those in FIG. 5 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.
図8において、810は、メモリコア30内に設けた温度検知手段、820は、メモリコア30内に設けられ、現時点の温度に基いてトリミングデータを補正するデータ補正手段である。
In FIG. 8,
以上のように構成された本実施の形態8の半導体記憶装置について、以下、その動作を説明する。 The operation of the semiconductor memory device according to the eighth embodiment configured as described above will be described below.
本実施の形態8における動作は、基本的に実施の形態5と同様である。実施の形態5と異なる点は、温度検知手段810によって特定された現在の温度に基いて、メモリセルアレイ530から取り出したトリミングデータをデータ補正手段820にて補正する点である。具体的には、例えば、参考例4で示したように、常温でのトリミングデータ算出時においてメモリセルアレイ530に記憶されたトリミングデータに対し、オシレータ使用時において高温、常温、低温と複数の温度で使用する場合に、温度検知手段810にて現在の温度を検知し、高温の場合には高温用にデータを補正(加算の演算)し、常温の場合にはそのままのデータ、低温の場合には低温用にデータを補正(減算の演算)する。
The operation in the eighth embodiment is basically the same as that in the fifth embodiment. The difference from the fifth embodiment is that the
オシレータ500使用時には、補正されたトリミングデータに基いて周波数を調節し、周辺回路550を動作させる。
When the
なお、検知温度によるトリミングデータの補正は、参考例2と同様、回路でもソフト演算処理でも実現することができる。 Note that the correction of the trimming data based on the detected temperature can be realized by a circuit or a software calculation process, as in the second reference example.
このように構成された半導体記憶装置においても、実施の形態6と同様の効果が得られる。 Also in the semiconductor memory device configured as described above, the same effect as in the sixth embodiment can be obtained.
(実施の形態9)
図9は、本発明の実施の形態9における半導体記憶装置のブロック図である。
(Embodiment 9)
FIG. 9 is a block diagram of a semiconductor memory device according to the ninth embodiment of the present invention.
図9において、900は、オシレータである。910は、オシレータ900の出力するクロックと、外部より入力されるクロックとの位相を比較する位相比較手段である。920は、位相比較手段910の比較結果をトリミングデータとして記憶する不揮発性メモリセルアレイである。930は、トリミングデータの値に応じて、オシレータ900の周波数を調節する周波数調節手段である。940は、周辺回路である。なお、これらオシレータ900〜周辺回路940は、チップであるメモリコア50内に設けられている。950は、外部装置60に設けられたターゲットクロック発生手段である。
In FIG. 9,
また、スイッチ961は、位相比較手段910の比較結果をメモリセルアレイ920へ伝達されるか、あるいはスイッチ962へ伝達されるかを切替えるものである。スイッチ962は、位相比較手段910の比較結果か、あるいはメモリセルアレイ920からのトリミングデータを、切替えて周波数調節手段930へ伝達されるものである。すなわち、位相比較手段910の比較結果をリアルタイムで使用する場合、位相比較手段910、スイッチ961、スイッチ962、周波数調節手段930の順にデータが伝達される。また、位相比較手段910の比較結果を一旦メモリセルアレイ920に記憶させて、以降電源をオフ後に再使用する場合、位相比較手段910、スイッチ961、メモリセルアレイ920、スイッチ962、周波数調節手段930の順にデータが伝達される。
The
以上のように構成された本実施の形態9の半導体記憶装置について、以下、その動作を説明する。 The operation of the semiconductor memory device according to the ninth embodiment configured as described above will be described below.
本実施の形態9における動作は、基本的に実施の形態5と同様である。実施の形態5と異なる点は、オシレータ900のクロックと外部装置のターゲットクロック発生手段950より入力されるクロックとの位相比較によってトリミングデータを算出する点である。なお、ターゲットクロック発生手段950より入力されるクロックは、オシレータ900の本来のクロック数である。すなわち、オシレータ900の出力するクロック数と、ターゲットクロック発生手段950から入力されたクロック数の差分を求めることで、オシレータ900の周波数が期待通りに調節されているかを判定する。判定の結果、例えば、ターゲットクロック発生手段950から入力されたクロック数が“5”の場合に、オシレータ900の出力するクロック数が“4”のときにはデータを+1補正、オシレータ900の出力するクロック数が“6”のときには−1補正するといったトリミングデータが求められる。
The operation in the ninth embodiment is basically the same as that in the fifth embodiment. The difference from the fifth embodiment is that trimming data is calculated by phase comparison between the clock of the
以降は、メモリセルアレイ920に格納されているトリミングデータ(リアルタイムで使用する場合にはメモリセルアレイ920を経由せず)に基いて、周波数調節手段930でオシレータ900の周波数を調節し、調節された周波数にて周辺回路940を動作させる。
Thereafter, the frequency adjustment means 930 adjusts the frequency of the
このように構成された半導体記憶装置によると、チップ内部でより高速に周波数トリミング値を算出してメモリセルアレイ920に記憶でき、以降はメモリセルアレイ920に記憶されたトリミングデータに基いて、定常的にオシレータ900の周波数を一定値に保つことができる。
According to the semiconductor memory device configured as described above, the frequency trimming value can be calculated and stored in the
また、チップ毎に固有のランダムなトリミングデータの測定・計算・不揮発メモリのプログラムをチップ内部で行えるので、外部装置60により複数チップを同時測定している場合でも、チップ個別の制御が不要となる。このため、テスト時間・テストプログラム開発工数等のテストコストを削減でき、テストプログラム複雑化によるヒューマンエラーを低減できる。
In addition, since the random trimming data specific to each chip can be measured / calculated and the nonvolatile memory program can be performed inside the chip, even when a plurality of chips are simultaneously measured by the
さらに、高周波かつ高精度なトリミングが要求される場合に、より高速に周波数トリミング値を算出することができ、高速動作・テスト時間削減が可能となる。 Further, when high-frequency and high-precision trimming is required, the frequency trimming value can be calculated at a higher speed, and high-speed operation and test time can be reduced.
(実施の形態10)
図10は、本発明の実施の形態10における半導体記憶装置のブロック図である。なお、図9と同一部分は同一符号を付してその説明を省略する。
(Embodiment 10)
FIG. 10 is a block diagram of the semiconductor memory device according to the tenth embodiment of the present invention. The same parts as those in FIG. 9 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.
図10において、1010は、メモリコア50内に設けられ、外部から入力された温度指定に基いてトリミングデータを補正するデータ補正手段である。1020は、外部装置60に設けられ、オシレータ900の使用時における温度指定手段である。
In FIG. 10,
以上のように構成された本実施の形態10の半導体記憶装置について、以下、その動作を説明する。 The operation of the semiconductor memory device of the tenth embodiment configured as described above will be described below.
実施の形態10における動作は、基本的に実施の形態9と同様である。実施の形態9と異なる点は、位相比較手段910にて、オシレータのクロックと外部より入力されるクロックとを位相比較した後、その値を、温度指定手段1020より入力された指定温度に応じてデータ補正手段1010にてトリミングデータの補正を行う点である。
The operation in the tenth embodiment is basically the same as that in the ninth embodiment. The difference from the ninth embodiment is that the
なお、温度指定手段1020より入力される指定温度、ならびにデータ補正手段1010で行われる指定温度に基づく補正については、参考例2に示した温度指定手段220より入力される指定温度、ならびにデータ補正手段210で行われる指定温度に基づく補正と同様である。
As for the correction based on the specified temperature input from the
オシレータ900使用時には、補正されたトリミングデータに基いて周波数を調節し、周辺回路940を動作させる。
When the
なお、指定温度によるトリミングデータの補正は、参考例2と同様、回路でもソフト演算処理でも実現することができる。 Note that the correction of the trimming data by the specified temperature can be realized by a circuit or a software calculation process as in the second reference example.
このように構成された半導体記憶装置においても、実施の形態9と同様の効果が得られる。さらに、オシレータ900の温度特性に応じて、トリミングデータを補正するデータ補正手段1010をさらに備えた構成とすることにより、トリミングデータ算出時と、オシレータ使用時とで温度が異なる場合にも、正確なトリミングを行うことができる。よって、テスト工程間や実使用状態の様々な温度条件下でも、温度変化がない場合と同等の効果を得ることができる。
Also in the semiconductor memory device configured as described above, the same effect as in the ninth embodiment can be obtained. Furthermore, by providing a configuration that further includes data correction means 1010 that corrects trimming data according to the temperature characteristics of the
(実施の形態11)
図11は、本発明の実施の形態11における半導体記憶装置のブロック図である。なお、図9,10と同一部分は同一符号を付してその説明を省略する。
(Embodiment 11)
FIG. 11 is a block diagram of the semiconductor memory device according to the eleventh embodiment of the present invention. In addition, the same part as FIG. 9, 10 is attached | subjected the same code | symbol and the description is abbreviate | omitted.
図11において、1110は、複数のデジタル値をトリミングデータとして記憶する不揮発性メモリセルアレイである。
In FIG. 11,
以上のように構成された本実施の形態11の半導体記憶装置について、以下、その動作を説明する。 The operation of the semiconductor memory device according to the eleventh embodiment configured as described above will be described below.
本実施の形態11における動作は、基本的に実施の形態10と同様である。実施の形態10と異なる点は、複数の温度補正用トリミングデータをメモリセルアレイ1110で記憶する点である。なお、複数の温度補正用トリミングデータを記憶するメモリセルアレイ1110は、参考例3のメモリセルアレイ310と同様であり、例えば、高温用に補正されたデータ、常温用に補正されたデータ、低温用に補正されたデータであり、メモリセルアレイ1110の別々の領域に記憶させる。
The operation in the eleventh embodiment is basically the same as that in the tenth embodiment. The difference from the tenth embodiment is that the
オシレータ900使用時には、補正された複数のトリミングデータの内、適切なデータに基いて周波数を調節し、周辺回路940を動作させる。なお、適切なデータとは、参考例3に示したように、例えば、メモリセルアレイ1110に記憶させた高温用に補正されたデータ、常温用に補正されたデータ、低温用に補正されたデータの中から、温度指定手段1020により指定される温度に対応するデータである。
When the
なお、指定温度によるトリミングデータの補正は、参考例2と同様、回路でもソフト演算処理でも実現することができる。 Note that the correction of the trimming data by the specified temperature can be realized by a circuit or a software calculation process as in the second reference example.
このように構成された半導体記憶装置においても、実施の形態10と同様の効果が得られる。 Also in the semiconductor memory device configured as described above, the same effect as in the tenth embodiment can be obtained.
(実施の形態12)
図12は、本発明の実施の形態12における半導体記憶装置のブロック図である。なお、図9と同一部分は同一符号を付してその説明を省略する。
(Embodiment 12)
FIG. 12 is a block diagram of the semiconductor memory device according to the twelfth embodiment of the present invention. The same parts as those in FIG. 9 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.
図12において、1210は、メモリコア50内に設けられた温度検知手段である。1220は、メモリコア50内に設けられ、現時点の温度に基いてトリミングデータを補正するデータ補正手段である。
In FIG. 12,
以上のように構成された本実施の形態12の半導体記憶装置について、以下、その動作を説明する。 The operation of the semiconductor memory device according to the twelfth embodiment configured as described above will be described below.
実施の形態12における動作は、基本的に実施の形態9と同様である。実施の形態9と異なる点は、温度検知手段1210によって特定された現在の温度に基いてメモリセルアレイ920から取り出したトリミングデータをデータ補正手段1210にて補正する点である。具体的には、例えば、参考例4で示したように、常温でのトリミングデータ算出時においてメモリセルアレイ920に記憶されたトリミングデータに対し、オシレータ使用時において高温、常温、低温と複数の温度で使用する場合に、温度検知手段1210にて現在の温度を検知し、高温の場合には高温用にデータを補正(加算の演算)し、常温の場合にはそのままのデータ、低温の場合には低温用にデータを補正(減算の演算)する。
The operation in the twelfth embodiment is basically the same as that in the ninth embodiment. A difference from the ninth embodiment is that the
オシレータ900使用時には、補正されたトリミングデータに基いて周波数を調節し、周辺回路940を動作させる。
When the
なお、検知温度によるトリミングデータの補正は、参考例2と同様、回路でもソフト演算処理でも実現することができる。 Note that the correction of the trimming data based on the detected temperature can be realized by a circuit or a software calculation process, as in the second reference example.
このように構成された半導体記憶装置においても、実施の形態10と同様の効果が得られる。 Also in the semiconductor memory device configured as described above, the same effect as in the tenth embodiment can be obtained.
本発明にかかる半導体記憶装置は、チップ内部での自己電流トリミング機能・自己周波数トリミング機能、さらに温度補正機能を有し、高効率・高精度なトリミングが実現可能な半導体記憶装置として有用である。 The semiconductor memory device according to the present invention has a self-current trimming function, a self-frequency trimming function inside the chip, and a temperature correction function, and is useful as a semiconductor memory device capable of realizing highly efficient and highly accurate trimming.
10,30,50 メモリコア(チップ)
20,40,60 外部装置
100 リファレンスセル
110 AD変換器
120,310,530,710,920,1110 不揮発性メモリセルアレイ
130 基準電流発生手段
140 電流比較手段
150 書込み要否判定手段
160 リファレンスセル書込み手段
170 電流測定&書込み要否判定手段
210,410,610,820,1010,1220 データ補正手段
220,620,1020 温度指定手段
420,810,1210 温度検知手段
500,900 オシレータ
510 カウンタ
520 クロック数比較手段
540,930 周波数調節手段
550,940 周辺回路
560 サンプリング時間指定手段
570 ターゲットカウント値指定手段
910 位相比較手段
950 ターゲットクロック発生手段
10, 30, 50 Memory core (chip)
20, 40, 60
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