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JP2011188749A - Temperature controller and electric power unit for temperature element - Google Patents

Temperature controller and electric power unit for temperature element Download PDF

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JP2011188749A
JP2011188749A JP2010055031A JP2010055031A JP2011188749A JP 2011188749 A JP2011188749 A JP 2011188749A JP 2010055031 A JP2010055031 A JP 2010055031A JP 2010055031 A JP2010055031 A JP 2010055031A JP 2011188749 A JP2011188749 A JP 2011188749A
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To make the change in temperature of a DNA specimen (reaction solution) follow the predetermined temperature pattern in the PCR method. <P>SOLUTION: A temperature element 61 has a set of a p-type semiconductor 72P and an n-type semiconductor 72N arranged apart each other and a mounting part 81 to which a container of a DNA specimen is directly mounted, and is equipped with the followings: a metal well 71 joined to each of the p-type semiconductor 72P and the n-type semiconductor 72N; an electrode/heat radiation plate 73P, joined to the p-type semiconductor 72P, to which a voltage is impressed by a temperature control part 62; and an electrode/heat radiation plate 73N, joined to the n-type semiconductor 72N, to which a voltage is impressed by a temperature control part 62. When different voltages are impressed to the respective electrode/heat radiation plates 73P and 73N by the temperature control part 62 causing a potential difference between the p-type semiconductor 72P and the n-type semiconductor 72N, the metal well 71 spreads heat, while passing an electric current, from one side to another of the p-type semiconductor 72P and the n-type semiconductor 72N creating the Peltier effect. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、DNA検体を増幅するPCR法に適用可能な温度制御装置及び温度素子用の電源装置に関する。特に、PCR法におけるDNA検体に対する温度制御の高応答性を実現可能な温度制御装置及び温度素子用の電源装置に関する。   The present invention relates to a temperature control device applicable to a PCR method for amplifying a DNA specimen and a power supply device for a temperature element. In particular, the present invention relates to a temperature control device and a power supply device for a temperature element that can realize high responsiveness of temperature control for a DNA specimen in a PCR method.

一般に、DNA(Deoxyribonucleic acid、デオキシリボ核酸)を増幅する手法として、PCR法(Polymerase chain Reaction、ポリメラーゼ連鎖反応法)が知られている。PCR法は、DNA検体に対して、当該DNA検体と反応させるプライマ、酵素、及びデオキシリボヌクレオシド三リン酸を加えた反応溶液を、温度目標値の時間推移の所定パターンにしたがって加熱又は冷却する処理を繰り返すことによって、DNAを増幅する手法である。   In general, as a technique for amplifying DNA (Deoxyribonucleic acid, deoxyribonucleic acid), a PCR method (Polymerase chain Reaction) is known. The PCR method is a process of heating or cooling a reaction solution in which a primer, an enzyme, and deoxyribonucleoside triphosphate to be reacted with the DNA sample are added according to a predetermined pattern of a temperature target value over time. This is a technique for amplifying DNA by repeating.

このようなPCR法によりDNAを増幅する従来のDNA増幅装置においては、DNA検体(反応溶液)を加熱又は冷却するために、ペルチェ効果を有する素子(以下、「ペルチェ素子」と称する)が利用されている(特許文献1,2参照)。ペルチェ効果とは、異なる導体、例えばp型半導体とn型半導体との接合に対して電流を流した場合に、その接合部で熱の吸収が発生する現象をいう。   In a conventional DNA amplification apparatus that amplifies DNA by such a PCR method, an element having a Peltier effect (hereinafter referred to as a “Peltier element”) is used to heat or cool a DNA sample (reaction solution). (See Patent Documents 1 and 2). The Peltier effect is a phenomenon in which heat absorption occurs at a junction when a current is applied to a junction between different conductors, for example, a p-type semiconductor and an n-type semiconductor.

図1は、従来のペルチェ素子1の概略構成を示す断面図である。   FIG. 1 is a cross-sectional view showing a schematic configuration of a conventional Peltier element 1.

従来のペルチェ素子1は、図1中下方から順に、放熱板21Bと、電圧が印加される電極板23P,23Nと、電極板23Pに接合されるp型半導体24P及び電極板23Nに接合されるn型半導体24Nの組と、この組に接合される電極板22Aと、放熱板21Aとが積層されて構成される。   The conventional Peltier element 1 is joined to the heat sink 21B, the electrode plates 23P and 23N to which a voltage is applied, the p-type semiconductor 24P and the electrode plate 23N joined to the electrode plate 23P in order from the lower side in FIG. A set of n-type semiconductors 24N, an electrode plate 22A joined to the set, and a heat dissipation plate 21A are stacked.

なお、特許文献2においては、電極板23P,23Nに相当する金属板a11,a12と、p型半導体24P及びn型半導体24Nの組に相当するp型半導体a4及びn型半導体a3の組と、電極板22Aに相当する金属板a2とからなるものを、ペルチェ素子と称している(特許文献2の図6参照)。しかしながら、特許文献2でいうペルチェ素子により加熱又は冷却される被温度制御対象は、熱伝導板12,22等を介在して配設されている(特許文献2の図1参照)。即ち、図1において、被温度制御対象は容器31であり、この容器31と電極板22Aとの間に放射板21Aが介在していることと、特許文献2において、被温度制御対象(容器31に相当)と金属板a2との間に熱伝導板12,22等を介在していることとは等価である。換言すると、特許文献2における熱伝導板12,22等は、図1の放熱板21Aに相当する。同様に、特許文献2における放熱フィン51,52の下面部は、図1の放熱板21Bに相当する。以上まとめると、特許文献2には、図1の従来のペルチェ素子1をそのまま用いて、被温度制御対象に対する温度制御が実行されることが単に開示されているに過ぎない。   In Patent Document 2, a set of metal plates a11 and a12 corresponding to the electrode plates 23P and 23N, a set of p-type semiconductor a4 and n-type semiconductor a3 corresponding to a set of p-type semiconductor 24P and n-type semiconductor 24N, and What consists of metal plate a2 equivalent to electrode plate 22A is called the Peltier element (refer FIG. 6 of patent document 2). However, the object to be controlled to be heated or cooled by the Peltier element referred to in Patent Document 2 is disposed with the heat conducting plates 12 and 22 interposed therebetween (see FIG. 1 of Patent Document 2). That is, in FIG. 1, the object to be controlled is a container 31, and the radiation plate 21A is interposed between the container 31 and the electrode plate 22A. It is equivalent that the heat conductive plates 12, 22 and the like are interposed between the metal plate a2 and the metal plate a2. In other words, the heat conductive plates 12, 22 and the like in Patent Document 2 correspond to the heat radiating plate 21A in FIG. Similarly, the lower surface portions of the radiation fins 51 and 52 in Patent Document 2 correspond to the radiation plate 21B of FIG. In summary, Patent Document 2 merely discloses that the temperature control for the temperature-controlled object is executed using the conventional Peltier element 1 of FIG. 1 as it is.

以下、説明の簡略上、従来のペルチェ素子1の図1中上方の面側の部位、即ち、放熱板21A及び電極板22Aをまとめて、「A面部位」と称する。一方、ペルチェ素子1の図1中下方の面側の部位、即ち、放熱板21B及び電極板23P,23Nをまとめて、「B面部位」と称する。また、電極板23Pを基準として、電極板23Pが高電位になり、電極板23Nが低電位になるように電圧が印加されることを、以下、「従来のペルチェ素子1にプラス電圧が印加される」と表現する。逆に、電極板23Pが低電位になり、電極板23Nが高電位になるように電圧が印加されることを、以下、「従来のペルチェ素子1にマイナス電圧が印加される」と表現する。   Hereinafter, for simplification of description, the portion of the conventional Peltier element 1 on the upper surface side in FIG. 1, that is, the heat radiation plate 21 </ b> A and the electrode plate 22 </ b> A are collectively referred to as “A surface portion”. On the other hand, the part on the lower surface side in FIG. 1 of the Peltier element 1, that is, the heat radiation plate 21B and the electrode plates 23P and 23N are collectively referred to as “B surface part”. Further, with reference to the electrode plate 23P, the voltage applied so that the electrode plate 23P becomes a high potential and the electrode plate 23N becomes a low potential is hereinafter referred to as “a positive voltage is applied to the conventional Peltier element 1”. " Conversely, the application of a voltage so that the electrode plate 23P is at a low potential and the electrode plate 23N is at a high potential is hereinafter expressed as “a negative voltage is applied to the conventional Peltier element 1”.

例えば図1に示すように、DNA検体(反応溶液)が収容された容器31が、従来のペルチェ素子1のA面部位側に、より具体的には、放熱板21Aの表面上に配置されているとする。   For example, as shown in FIG. 1, a container 31 containing a DNA sample (reaction solution) is disposed on the side of the A surface of the conventional Peltier element 1, more specifically, on the surface of the heat sink 21A. Suppose that

この場合、従来のペルチェ素子1にマイナス電圧が印加されると、電流が、電極板23Nから電極板23Pに向けて流れる。具体的には、電流が、電極板23N、n型半導体24N、電極板22A、p型半導体24P、及び電極板23Pの順に流れる。その結果、A面部位が吸熱部となり、B面部位が発熱部となる。具体的には、従来のペルチェ素子1に印加されたマイナス電圧によって、電極板23Nから電極板23Pに向けて流れる電流の値に応じて、A面部位が低温となりB面部位が高温となるような温度差△Tが生ずる。これにより、容器31の熱がA面部位に吸熱され、容器31が冷却される。   In this case, when a negative voltage is applied to the conventional Peltier element 1, a current flows from the electrode plate 23N toward the electrode plate 23P. Specifically, the current flows in the order of the electrode plate 23N, the n-type semiconductor 24N, the electrode plate 22A, the p-type semiconductor 24P, and the electrode plate 23P. As a result, the A surface portion becomes a heat absorbing portion, and the B surface portion becomes a heat generating portion. Specifically, due to the negative voltage applied to the conventional Peltier element 1, the A surface portion becomes low temperature and the B surface portion becomes high temperature according to the value of the current flowing from the electrode plate 23N toward the electrode plate 23P. Temperature difference ΔT occurs. Thereby, the heat of the container 31 is absorbed by the A surface portion, and the container 31 is cooled.

これに対して、従来のペルチェ素子1にプラス電圧が印加されると、電流が、プラス電圧が印加された場合とは逆方向に流れる。具体的には、電流が、電極板23P、p型半導体24P、電極板22A、n型半導体24N、及び電極板23Nの順に流れる。その結果、プラス電圧が印加された場合とは逆に、A面部位が発熱部となり、B面部位が吸熱部となる。具体的には、従来のペルチェ素子1に印加されたプラス電圧の電圧値によって、電極板23Pから電極板23Nに向けて流れる電流の値に応じて、A面部位が高温となりB面部位が低温となるような温度差△Tが生ずる。これにより、A面部位から発せられた熱が容器31に伝搬され、容器31が加熱される。   On the other hand, when a positive voltage is applied to the conventional Peltier element 1, current flows in the opposite direction to that when the positive voltage is applied. Specifically, the current flows in the order of the electrode plate 23P, the p-type semiconductor 24P, the electrode plate 22A, the n-type semiconductor 24N, and the electrode plate 23N. As a result, on the contrary to the case where a plus voltage is applied, the A surface portion becomes a heat generating portion, and the B surface portion becomes a heat absorbing portion. Specifically, depending on the value of the positive voltage applied to the conventional Peltier element 1, the value of the current flowing from the electrode plate 23P toward the electrode plate 23N increases the temperature of the A surface region and the B surface region decreases. A temperature difference ΔT is generated. Thereby, the heat generated from the A surface portion is propagated to the container 31, and the container 31 is heated.

したがって、電極板23Nと電極板23Pとの間に流れる電流の値を、温度目標値の時間推移の所定パターンに対応するように可変制御することによって、PCR法におけるDNA検体に対する温度制御が実現可能になる。   Therefore, the temperature control for the DNA specimen in the PCR method can be realized by variably controlling the value of the current flowing between the electrode plate 23N and the electrode plate 23P so as to correspond to the predetermined pattern of the time transition of the temperature target value. become.

特開2006−223292号公報JP 2006-223292 A 特開2007−198718号公報JP 2007-198718 A

しかしながら、特許文献1や2を含む従来のDNA増幅装置を利用した場合、PCR法における温度目標値の時間推移の所定パターンに応じた電流の値の変化に対して、DNA検体(反応溶液)の温度が十分に追従して推移しない。即ち、特許文献1や2を含む従来のDNA増幅装置では、PCR法におけるDNA検体(反応溶液)に対する温度制御の応答性が十分に得られない。   However, when the conventional DNA amplifying apparatus including Patent Documents 1 and 2 is used, the DNA sample (reaction solution) is changed against the change of the current value according to the predetermined pattern of the time transition of the temperature target value in the PCR method. The temperature does not follow sufficiently. That is, the conventional DNA amplification apparatus including Patent Documents 1 and 2 cannot sufficiently obtain the temperature control responsiveness to the DNA specimen (reaction solution) in the PCR method.

本発明は、このような状況に鑑みてなされたものであり、PCR法におけるDNA検体に対する温度制御の高応答性を実現することを目的とする。   The present invention has been made in view of such a situation, and an object thereof is to realize a high temperature control responsiveness to a DNA specimen in a PCR method.

本発明の温度制御装置(例えば実施形態におけるDNA増幅装置51)は、
対象物(例えば実施形態におけるプラスチックチューブ82)を加熱又は冷却する温度制御装置において、
ペルチェ効果により前記DNA検体を加熱又は冷却する温度素子(例えば実施形態における温度素子61)と、
前記温度素子に対する通電制御を行う制御部(例えば実施形態における温度制御部62)と
を備え、
前記温度素子は、
相互に離間して配置されるp型半導体(例えば実施形態におけるp型半導体72P)及びn型半導体(例えば実施形態におけるn型半導体72N)の組と、
前記対象物を装着する装着部(例えば実施形態における装着部81)を有し、前記p型半導体は第1又は第2の面で、と前記n型半導体とは前記第1又は第2の面に対向する第2又は第1の面で各々に接合する接合部位(例えば実施形態における金属製ウェル71)と、
前記p型半導体に接合され、前記制御部により電圧が印加される第1の電極部位(例えば実施形態における電極兼放熱板73P)と、
前記n型半導体に接合され、前記制御部により電圧が印加される第2の電極部位(例えば実施形態における電極兼放熱板73N)と
を有し、
前記制御部により前記第1の電極部位と前記第2の電極部位との各々に異なる電圧が印加されて、前記p型半導体と前記n型半導体との間に電位差が生じた場合、前記接合部位は、前記p型半導体と前記n型半導体との一方から他方へ電流を流すと共に熱を伝搬することで、前記ペルチェ効果を生じさせ、
前記制御部は、スイッチングレギュレータ(実施形態におけるスイッチングレギュレータ111P1乃至111M2)とリニアレギュレータ(実施形態におけるリニアレギュレータ113P及び113M)とを併せ持つ定電流源(実施形態における定電流源装置102)を有し、
前記定電流源は、
前記スイッチングレギュレータの出力電圧の絶対値が閾値以上の場合には、定電流の出力可変制御を前記スイッチングレギュレータに担当させ、
前記スイッチングレギュレータの出力電圧の絶対値が前記閾値未満の場合には、定電流の出力可変制御を前記リニアレギュレータに担当させる、
温度制御装置であることを特徴とする。
The temperature control device of the present invention (for example, the DNA amplification device 51 in the embodiment)
In a temperature control device for heating or cooling an object (for example, the plastic tube 82 in the embodiment),
A temperature element that heats or cools the DNA specimen by the Peltier effect (for example, the temperature element 61 in the embodiment);
A control unit (for example, the temperature control unit 62 in the embodiment) that performs energization control on the temperature element,
The temperature element is
A set of a p-type semiconductor (for example, the p-type semiconductor 72P in the embodiment) and an n-type semiconductor (for example, the n-type semiconductor 72N in the embodiment) that are spaced apart from each other;
It has a mounting part (for example, mounting part 81 in the embodiment) for mounting the object, the p-type semiconductor is the first or second surface, and the n-type semiconductor is the first or second surface. A bonding portion (for example, the metal well 71 in the embodiment) that is bonded to each other on the second or first surface opposite to each other;
A first electrode portion (for example, an electrode and heat dissipation plate 73P in the embodiment) that is joined to the p-type semiconductor and to which a voltage is applied by the control unit;
A second electrode portion (for example, an electrode and heat dissipation plate 73N in the embodiment) that is joined to the n-type semiconductor and to which a voltage is applied by the control unit;
When a different voltage is applied to each of the first electrode part and the second electrode part by the control unit to cause a potential difference between the p-type semiconductor and the n-type semiconductor, the junction part Causes the Peltier effect by passing a current from one of the p-type semiconductor and the n-type semiconductor to the other and propagating the heat,
The control unit includes a constant current source (constant current source device 102 in the embodiment) having both a switching regulator (switching regulators 111P1 to 111M2 in the embodiment) and a linear regulator (linear regulators 113P and 113M in the embodiment).
The constant current source is:
If the absolute value of the output voltage of the switching regulator is greater than or equal to a threshold, the switching regulator is responsible for variable output control of a constant current,
When the absolute value of the output voltage of the switching regulator is less than the threshold, the linear regulator is responsible for variable output control of a constant current.
It is a temperature control device.

この発明によれば、温度素子に設けられた接合部位は、p型半導体とn型半導体と直接接合し、p型半導体とn型半導体の一方から他方へ電流を流すと共に熱を伝搬することで、ペルチェ効果を生じさせる機能を有している。この接合部位には装着部が設けられており、DNA検体を収容した所定の容器を当該装着部に直接装着することができる。したがって、DNA検体は、温度制御系にとって遅れ要素となるもの(例えば図1の従来のペルチェ素子1の放熱板21A)を介在せずに、接合部位により直接加熱又は冷却される。その結果、従来のペルチェ素子1を採用した場合と比較して、温度制御の高応答性が実現する。   According to the present invention, the junction portion provided in the temperature element is directly joined to the p-type semiconductor and the n-type semiconductor, and allows current to flow from one of the p-type semiconductor and the n-type semiconductor to the other and propagates heat. , Has the function of producing a Peltier effect. A mounting portion is provided at the bonding site, and a predetermined container containing a DNA sample can be directly mounted on the mounting portion. Therefore, the DNA specimen is directly heated or cooled by the joining part without interposing a delay element for the temperature control system (for example, the heat radiation plate 21A of the conventional Peltier element 1 in FIG. 1). As a result, compared with the case where the conventional Peltier device 1 is adopted, high responsiveness of temperature control is realized.

さらに、この発明によれば、定電流源は、スイッチングレギュレータとリニアレギュレータとを併せ持ち、スイッチングレギュレータの出力電圧の値に応じて、定電流の出力可変制御の担当を振り分けている。これにより、例えば±30A程度の大電流かつ例えば±0.3V程度の小電圧を出力することが可能になると共に、従来のリニアレギュレータを採用した場合と比較して電力効率が飛躍的に向上する。   Further, according to the present invention, the constant current source has both a switching regulator and a linear regulator, and assigns the responsibility for the variable output control of the constant current according to the value of the output voltage of the switching regulator. As a result, it is possible to output a large current of, for example, about ± 30 A and a small voltage of, for example, about ± 0.3 V, and the power efficiency is dramatically improved as compared with the case where a conventional linear regulator is employed. .

この場合、前記対象物は、DNA(Deoxyribonucleic acid)検体収容に用いられる所定の容器であり、前記装着部には、前記容器が装着されることになる。   In this case, the object is a predetermined container used for accommodating a DNA (Deoxyribonucleic acid) sample, and the container is mounted on the mounting portion.

この発明をPCR法に適用することで、その温度目標値の時間推移の所定パターンに対して、DNA検体の温度を追従させて推移させることが可能になる。即ち、PCR法におけるDNA検体に対する温度制御の高応答性が実現可能になる。   By applying the present invention to the PCR method, it is possible to cause the temperature of the DNA specimen to follow the predetermined pattern of the time transition of the temperature target value. That is, high responsiveness of temperature control for a DNA sample in the PCR method can be realized.

この場合、前記温度素子は、
前記p型半導体及び前記n型半導体の複数の組を有し、
前記接合部位の前記第1の面(例えば実施形態における側面71a)には、前記複数の組の各々の前記p型半導体(例えば実施形態におけるp型半導体72P1及びp型半導体72P2)が接合され、前記接合部位の前記第2の面(例えば実施形態における側面71b)には、前記複数の組の各々の前記n型半導体(例えば実施形態におけるn型半導体72N1及びn型半導体72N2)が接合されており、
前記第1の電極部位には、前記複数の組の各々の前記p型半導体が接合され、前記第2の電極部位には、前記複数の組の各々の前記n型半導体が接合されているようにしてもよい。
In this case, the temperature element is
A plurality of sets of the p-type semiconductor and the n-type semiconductor;
The p-type semiconductor (for example, the p-type semiconductor 72P1 and the p-type semiconductor 72P2 in the embodiment) of each of the plurality of sets is bonded to the first surface (for example, the side surface 71a in the embodiment) of the bonding portion. The n-type semiconductors (for example, the n-type semiconductor 72N1 and the n-type semiconductor 72N2 in the embodiment) of each of the plurality of sets are bonded to the second surface (for example, the side surface 71b in the embodiment) of the bonding portion. And
The p-type semiconductor of each of the plurality of sets is joined to the first electrode portion, and the n-type semiconductor of each of the plurality of sets is joined to the second electrode portion. It may be.

或いは、この場合、前記温度素子は、
前記p型半導体及び前記n型半導体の複数の組を有し、
前記接合部位の前記第1の面(例えば実施形態における側面71a)から前記第2の面(例えば実施形態における側面71b)に至って絶縁物(例えば実施形態における絶縁物91)が挿入されることで、前記接続部位は複数の領域(例えば実施形態における領域201,202)に区分されており、
前記複数の領域毎に、前記第1の面側に前記p型半導体を接合して前記第2の面側に前記n型半導体を接合する組と(例えば実施形態におけるp型半導体72P2及びn型半導体72N2の第2組)、前記第1の面側に前記n型半導体を接合して前記第2の面側に前記p型半導体を接合する組(例えば実施形態におけるp型半導体72P1及びn型半導体72N1の第1組)とが交互に配置されており、
前記第1の電極部位(例えば実施形態における電極兼放熱板73P)には、前記第1の面に接続された所定の前記p型半導体(例えば実施形態におけるp型半導体72P2)が接合され、前記第2の電極部位(例えば実施形態における電極兼放熱板73N)には、前記第1の面に接続された所定の前記n型半導体(例えば実施形態におけるn型半導体72N1)が接合されており、
前記複数の組を直列に接合する第3の電極部位(例えば実施形態における電極兼放熱板73PN)をさらに有するようにしてもよい。
Alternatively, in this case, the temperature element is
A plurality of sets of the p-type semiconductor and the n-type semiconductor;
An insulator (for example, the insulator 91 in the embodiment) is inserted from the first surface (for example, the side surface 71a in the embodiment) of the joint portion to the second surface (for example, the side surface 71b in the embodiment). The connection part is divided into a plurality of regions (for example, the regions 201 and 202 in the embodiment),
For each of the plurality of regions, a pair in which the p-type semiconductor is bonded to the first surface side and the n-type semiconductor is bonded to the second surface side (for example, the p-type semiconductor 72P2 and the n-type in the embodiment) A second set of semiconductors 72N2), a set in which the n-type semiconductor is bonded to the first surface side and the p-type semiconductor is bonded to the second surface side (for example, the p-type semiconductor 72P1 and the n-type in the embodiment) 1st set of semiconductors 72N1) are alternately arranged,
A predetermined p-type semiconductor (for example, p-type semiconductor 72P2 in the embodiment) connected to the first surface is joined to the first electrode portion (for example, the electrode and heat dissipation plate 73P in the embodiment), A predetermined n-type semiconductor (for example, n-type semiconductor 72N1 in the embodiment) connected to the first surface is joined to a second electrode portion (for example, the electrode and heat dissipation plate 73N in the embodiment),
You may make it further have the 3rd electrode site | part (for example, electrode and heat sink 73PN in embodiment) which joins the said some group in series.

また、この場合、前記温度素子の前記第1の電極部位と前記第2の電極部位とのうち少なくとも一方を冷却する冷却部(例えば実施形態における水冷部63)をさらに備えるようにしてもよい。   In this case, a cooling unit (for example, the water cooling unit 63 in the embodiment) that cools at least one of the first electrode portion and the second electrode portion of the temperature element may be further provided.

さらにまた、この場合、前記温度制御装置は、携帯型の装置であるようにしてもよい。携帯型の装置とは、人間が自在に持ち運び可能に構成された装置をいう。   Furthermore, in this case, the temperature control device may be a portable device. A portable device refers to a device that can be freely carried by a human.

本発明の温度素子(例えば実施形態における温度素子61)用の電源装置(例えば実施形態における定電流電源装置102)は、
ペルチェ効果により対象物(例えば実施形態におけるプラスチックチューブ82)を加熱又は冷却する温度素子用の電源装置において、
相互に離間して配置されるp型半導体(例えば実施形態におけるp型半導体72P)及びn型半導体(例えば実施形態におけるn型半導体72N)の組と、
前記対象物を装着する装着部(例えば実施形態における装着部81)を有し、前記p型半導体と前記n型半導体との各々に接合する接合部位(例えば実施形態における金属製ウェル71)と、
前記p型半導体に接合され、外部から電圧が印加される第1の電極部位(例えば実施形態における電極兼放熱板73P)と、
前記n型半導体に接合され、外部から電圧が印加される第2の電極部位(例えば実施形態における電極兼放熱板73N)と
を有し、
前記第1の電極部位と前記第2の電極部位との各々に異なる電圧が外部から印加されて、前記p型半導体と前記n型半導体との間に電位差が生じた場合、前記接合部位は、前記p型半導体と前記n型半導体との一方から他方へ電流を流すと共に熱を伝搬することで、前記ペルチェ効果を生じさせ、
前記電源装置は、
スイッチングレギュレータ(実施形態におけるスイッチングレギュレータ111P1乃至111M2)とリニアレギュレータ(実施形態におけるリニアレギュレータ113P及び113M)とを併せ持つ定電流源装置であって、
前記スイッチングレギュレータの出力電圧の絶対値が閾値以上の場合には、定電流の出力可変制御を前記スイッチングレギュレータに担当させ、
前記スイッチングレギュレータの出力電圧の絶対値が前記閾値未満の場合には、定電流の出力可変制御を前記リニアレギュレータに担当させる、
温度素子用の電源装置であることを特徴とする。
A power supply device (for example, the constant current power supply device 102 in the embodiment) for the temperature element of the present invention (for example, the temperature element 61 in the embodiment)
In a power supply device for a temperature element that heats or cools an object (for example, the plastic tube 82 in the embodiment) by the Peltier effect,
A set of a p-type semiconductor (for example, the p-type semiconductor 72P in the embodiment) and an n-type semiconductor (for example, the n-type semiconductor 72N in the embodiment) that are spaced apart from each other;
A mounting portion (for example, the mounting portion 81 in the embodiment) for mounting the object, and a bonding portion (for example, a metal well 71 in the embodiment) that is bonded to each of the p-type semiconductor and the n-type semiconductor;
A first electrode portion joined to the p-type semiconductor and applied with a voltage from the outside (for example, the electrode and heat dissipation plate 73P in the embodiment);
A second electrode portion (for example, an electrode and heat dissipation plate 73N in the embodiment) that is joined to the n-type semiconductor and to which a voltage is applied from the outside.
When a different voltage is applied from the outside to each of the first electrode part and the second electrode part to generate a potential difference between the p-type semiconductor and the n-type semiconductor, the junction part is: By causing a current to flow from one of the p-type semiconductor and the n-type semiconductor to the other and propagating heat, the Peltier effect is generated,
The power supply device
A constant current source device having both a switching regulator (switching regulators 111P1 to 111M2 in the embodiment) and a linear regulator (linear regulators 113P and 113M in the embodiment),
If the absolute value of the output voltage of the switching regulator is greater than or equal to a threshold, the switching regulator is responsible for variable output control of a constant current,
When the absolute value of the output voltage of the switching regulator is less than the threshold, the linear regulator is responsible for variable output control of a constant current.
It is a power supply device for temperature elements.

この発明によれば、温度素子に設けられた接合部位は、p型半導体とn型半導体と直接接合し、p型半導体とn型半導体の一方から他方へ電流を流すと共に熱を伝搬することで、ペルチェ効果を生じさせる機能を有している。この接合部位には装着部が設けられており、冷却又は加熱の対象物を当該装着部に直接装着することができる。したがって、当該対象物は、温度制御系にとって遅れ要素となるもの(例えば図1の従来のペルチェ素子1の放熱板21A)を介在せずに、接合部位により直接加熱又は冷却される。その結果、従来のペルチェ素子1を採用した場合と比較して、温度制御の高応答性が実現する。したがって、本発明に係る温度素子をPCR法に適用することで、即ち、当該対象物としてDNA検体を収容可能な所定の容器を採用することで、PCR法における温度目標値の時間推移の所定パターンに対して、DNA検体の温度を追従させて推移させることが可能になる。即ち、PCR法におけるDNA検体に対する温度制御の高応答性が実現可能になる。   According to the present invention, the junction portion provided in the temperature element is directly joined to the p-type semiconductor and the n-type semiconductor, and allows current to flow from one of the p-type semiconductor and the n-type semiconductor to the other and propagates heat. , Has the function of producing a Peltier effect. A mounting portion is provided at the joining portion, and an object to be cooled or heated can be directly mounted on the mounting portion. Therefore, the object is directly heated or cooled by the joining portion without interposing a delay element for the temperature control system (for example, the heat radiation plate 21A of the conventional Peltier element 1 in FIG. 1). As a result, compared with the case where the conventional Peltier device 1 is adopted, high responsiveness of temperature control is realized. Therefore, by applying the temperature element according to the present invention to the PCR method, that is, by adopting a predetermined container that can contain a DNA sample as the object, a predetermined pattern of the time transition of the temperature target value in the PCR method On the other hand, the temperature of the DNA sample can be made to follow the temperature. That is, high responsiveness of temperature control for a DNA sample in the PCR method can be realized.

さらに、この発明によれば、定電流源は、スイッチングレギュレータとリニアレギュレータとを併せ持ち、スイッチングレギュレータの出力電圧の値に応じて、定電流の出力可変制御の担当を振り分けている。これにより、例えば±30A程度の大電流かつ例えば±0.3V程度の小電圧を出力することが可能になると共に、従来のリニアレギュレータを採用した場合と比較して電力効率が飛躍的に向上する。   Further, according to the present invention, the constant current source has both a switching regulator and a linear regulator, and assigns the responsibility for the variable output control of the constant current according to the value of the output voltage of the switching regulator. As a result, it is possible to output a large current of, for example, about ± 30 A and a small voltage of, for example, about ± 0.3 V, and the power efficiency is dramatically improved as compared with the case where a conventional linear regulator is employed. .

この場合、前記装着部は、前記対象物の形状に対応した加工が施されて、前記接合部位内に形成されているようにすることができる。   In this case, the mounting portion may be formed in the joint portion by being processed according to the shape of the object.

本発明によれば、PCR法におけるDNA検体に対する温度制御の高応答性が実現可能になる。   According to the present invention, high responsiveness of temperature control for a DNA sample in the PCR method can be realized.

従来のペルチェ素子の概略構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows schematic structure of the conventional Peltier device. 本発明の一実施形態に係るDNA増幅装置の概略構成を示す上面図である。It is a top view which shows schematic structure of the DNA amplification apparatus which concerns on one Embodiment of this invention. 図2のDNA増幅装置の温度素子の金属製ウェルの概略構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows schematic structure of the metal well of the temperature element of the DNA amplification apparatus of FIG. 図2のDNA増幅装置の温度制御部の概略構成を示す構成図である。It is a block diagram which shows schematic structure of the temperature control part of the DNA amplification apparatus of FIG. 図4の温度制御部の定電流電源装置の概略構成を示す構成図である。It is a block diagram which shows schematic structure of the constant current power supply device of the temperature control part of FIG. 図2のDNA増幅装置の温度素子であって、p型半導体及びn型半導体の2組が並列に配置される場合の温度素子の概略構成を示す上面図である。FIG. 3 is a top view showing a schematic configuration of the temperature element of the DNA amplification apparatus of FIG. 2 when two sets of a p-type semiconductor and an n-type semiconductor are arranged in parallel. 図6の温度素子の概略構成の斜視図である。It is a perspective view of schematic structure of the temperature element of FIG. 図6の温度素子の概略構成であって、図7とは異なる構成の斜視図である。It is a schematic structure of the temperature element of FIG. 6, Comprising: It is a perspective view of a structure different from FIG. 図2のDNA増幅装置の温度素子であって、p型半導体及びn型半導体の2組が直列に配置される場合の温度素子の概略構成を示す上面図である。FIG. 3 is a top view showing a schematic configuration of the temperature element of the DNA amplification apparatus of FIG. 2 when two sets of a p-type semiconductor and an n-type semiconductor are arranged in series. 図9の温度素子の概略構成の斜視図である。It is a perspective view of schematic structure of the temperature element of FIG. 同一条件のPCR法の試験を、図1の従来のペルチェ素子を備える従来のDNA増幅装置を用いて実現した場合と、図2のDNA増幅装置を用いて実現した場合との比較を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing a comparison between a case where the test of the PCR method under the same conditions is realized by using the conventional DNA amplification device including the conventional Peltier device of FIG. 1 and the case of using the DNA amplification device of FIG. is there.

以下、本発明の一実施形態を図面に基づいて説明する。   Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

図2は、本発明の一実施形態に係るDNA増幅装置51の概略構成を示す上面図である。   FIG. 2 is a top view showing a schematic configuration of the DNA amplification device 51 according to one embodiment of the present invention.

DNA増幅装置51は、温度素子61と、温度制御部62と、水冷部63とを備える。温度素子61は、ペルチェ効果により対象物を冷却又は加熱すべく、金属製ウェル71と、p型半導体72P及びn型半導体72Nの組と、電極兼放熱板73P,73Nと、水管74P,74Nとを備える。   The DNA amplification device 51 includes a temperature element 61, a temperature control unit 62, and a water cooling unit 63. The temperature element 61 includes a metal well 71, a set of a p-type semiconductor 72P and an n-type semiconductor 72N, electrode and heat dissipation plates 73P and 73N, and water pipes 74P and 74N, in order to cool or heat the object by the Peltier effect. Is provided.

図2に示すように、電極兼放熱板73Pには水管74Pが、電極兼放熱板73Nには水管74Nが、それぞれ接続されている。水冷部63は、水管74P,74Nの各々に水を流すことで、電極兼放熱板73P,73Nの各々を冷却して一定温度に保つ。即ち、電極兼放熱板73P,73Nは、図1の従来のペルチェ素子1の放熱板21Bと同様の機能(以下、「放熱板機能」と称する)を有している。   As shown in FIG. 2, a water pipe 74P is connected to the electrode / heat radiating plate 73P, and a water pipe 74N is connected to the electrode / heat radiating plate 73N. The water cooling section 63 cools each of the electrode / heat radiating plates 73P and 73N by keeping water flowing through each of the water pipes 74P and 74N, and keeps the temperature constant. That is, the electrode / heat radiating plates 73P and 73N have the same function as the heat radiating plate 21B of the conventional Peltier element 1 shown in FIG.

さらに、電極兼放熱板73P,73Nの各々は、温度制御部62と電気的に接続されており、温度制御部62により電圧が印加される。即ち、電極兼放熱板73Pは、図1の従来のペルチェ素子1の電極板23Pと同様の機能を有し、電極兼放熱板73Nは、図1の従来のペルチェ素子1の電極板23Nと同様の機能を有している。なお、以下、これらの機能を「電圧被印加機能」と称する。詳細については後述するが、電極兼放熱板73P,73Nに印加される電圧の電位差によって、電流が温度素子61内を流れる。この電流の値及びその向き(極性)が温度制御部62によって制御されると、温度素子61が対象物を加熱又は冷却する度合いが調整される。即ち、温度素子61を用いた温度制御が実現する。   Further, each of the electrode / heat radiating plates 73 </ b> P and 73 </ b> N is electrically connected to the temperature control unit 62, and a voltage is applied by the temperature control unit 62. That is, the electrode / heat radiating plate 73P has the same function as the electrode plate 23P of the conventional Peltier element 1 of FIG. 1, and the electrode / heat radiating plate 73N is the same as the electrode plate 23N of the conventional Peltier element 1 of FIG. It has the function of Hereinafter, these functions are referred to as “voltage applied functions”. Although details will be described later, a current flows in the temperature element 61 due to a potential difference between voltages applied to the electrode and heat dissipation plates 73P and 73N. When the value of the current and its direction (polarity) are controlled by the temperature control unit 62, the degree to which the temperature element 61 heats or cools the object is adjusted. That is, temperature control using the temperature element 61 is realized.

電極兼放熱板73P,73Nは、放熱板機能及び電圧被印加機能を有していれば、その素材や構造等は任意でよい。ただし、放熱板機能及び電圧被印加機能をより発揮すべく、電極兼放熱板73P,73Nの素材として、熱伝導率が高く、かつ、電気抵抗が小さい素材が採用されると好適である。本実施形態では、このような素材として銅(Cu)が採用されている。   As long as the electrode and heat dissipation plates 73P and 73N have a heat dissipation plate function and a voltage applied function, the materials and structures thereof may be arbitrary. However, it is preferable that a material having high thermal conductivity and low electrical resistance is adopted as the material of the electrode and heat sinks 73P and 73N in order to further exhibit the heat sink function and the voltage application function. In this embodiment, copper (Cu) is employed as such a material.

電極兼放熱板73Pにはp型半導体72Pの一端が接合されている一方で、電極兼放熱板73Nにはn型半導体72Nの一端が接合されている。即ち、p型半導体72Pは、図1の従来のペルチェ素子1のp型半導体24Pと同様の機能を有し、n型半導体72Nは、図1の従来のペルチェ素子1のn型半導体24Nと同様の機能を有している。   One end of a p-type semiconductor 72P is joined to the electrode / heat sink 73P, while one end of an n-type semiconductor 72N is joined to the electrode / heat sink 73N. That is, the p-type semiconductor 72P has the same function as the p-type semiconductor 24P of the conventional Peltier element 1 of FIG. 1, and the n-type semiconductor 72N is the same as the n-type semiconductor 24N of the conventional Peltier element 1 of FIG. It has the function of

p型半導体72P及びn型半導体72Nの組は、ペルチェ効果を奏すれば、その素材や構造等は任意でよい。ただし、本実施形態では、p型半導体72P及びn型半導体72Nの組の素材として、より大きなペルチェ効果が得られるビスマステルが採用されている。   The pair of the p-type semiconductor 72P and the n-type semiconductor 72N may have any material, structure, etc., as long as the Peltier effect is achieved. However, in the present embodiment, bismuttel which can obtain a larger Peltier effect is adopted as a material of a set of the p-type semiconductor 72P and the n-type semiconductor 72N.

p型半導体72Pの他端は、金属製ウェル71の側面71aに直接接合されている一方で、n型半導体72Nの他端は、金属製ウェル71の側面71aに対向する側面71bに直接接合されている。   The other end of the p-type semiconductor 72P is directly joined to the side surface 71a of the metal well 71, while the other end of the n-type semiconductor 72N is directly joined to the side surface 71b facing the side surface 71a of the metal well 71. ing.

ここで、本明細書において「直接接合」又は「直接装着」という用語は、温度制御系にとって遅れ要素となるもの(例えば図1の従来のペルチェ素子1の放熱板21A)を介在しない接合又は装着を意味する。従って、当然ながら、p型半導体72P及びn型半導体72Nの組と、金属製ウェル71との間には、両者を接合する目的の素材が介在する場合があり得る。具体的には例えば、本実施形態では、p型半導体72P及びn型半導体72Nの組は、その表面がニッケルでメッキされ、さらに、GaInなどの低融点合金によって、金属製ウェル71と接合される。即ち、本実施形態では、両者を接合する目的の素材として、メッキ用のニッケルと、低融点合金とが採用されている。なお、本実施形態の接合手法は例示に過ぎず、その他例えば、ニッケル以外の金属でメッキする接合手法、二重にメッキする接合手法、低融点合金として他の材料を採用する接合手法、低融点合金の代わりに半田付けにより接合する接合手法等、各種各様の接合手法を採用することが可能である。   Here, the term “direct bonding” or “direct mounting” in this specification refers to bonding or mounting that does not intervene what is a delay factor for the temperature control system (for example, the heat dissipation plate 21A of the conventional Peltier element 1 in FIG. 1). Means. Therefore, of course, there may be a target material for joining the pair of the p-type semiconductor 72P and the n-type semiconductor 72N and the metal well 71. Specifically, for example, in this embodiment, the surface of the set of the p-type semiconductor 72P and the n-type semiconductor 72N is plated with nickel, and further joined to the metal well 71 with a low melting point alloy such as GaIn. . That is, in this embodiment, nickel for plating and a low-melting-point alloy are employed as materials for joining the two. Note that the bonding method of the present embodiment is merely an example, and for example, a bonding method of plating with a metal other than nickel, a bonding method of double plating, a bonding method of using other materials as a low melting point alloy, a low melting point Various joining methods such as a joining method by soldering instead of an alloy can be employed.

換言すると、金属製ウェル71は、p型半導体72P及びn型半導体72Nの組を直接接合する機能、即ち、図1の従来のペルチェ素子1の電極板22Aと同様の機能を有している。即ち、当該機能とは、p型半導体72Pとn型半導体72Nとの一方から他方へ、電流を流すと共に熱を伝搬することで、ペルチェ効果を生じさせる機能である。なお、以下、当該効果を、「ブリッジ兼電極機能」と称する。   In other words, the metal well 71 has a function of directly joining a set of the p-type semiconductor 72P and the n-type semiconductor 72N, that is, a function similar to that of the electrode plate 22A of the conventional Peltier element 1 of FIG. That is, the function is a function that causes a Peltier effect by flowing current and propagating heat from one of the p-type semiconductor 72P and the n-type semiconductor 72N to the other. Hereinafter, this effect is referred to as “bridge and electrode function”.

金属製ウェル71は、ブリッジ兼電極機能を有していれば、その素材や構造等は任意でよい。ただし、金属製ウェル71は、ブリッジ兼電極機能をより発揮するために、電気抵抗が小さい素材が採用されると好適であり、例えば銅(Cu)やアルミニウム(Al)が採用されると好適である。なお、ここでいうアルミニウムとは、純アルミニウムのみならず、アルミニウム合金も含んでいる。本実施形態では、所定のアルミニウム合金が採用されている。   As long as the metal well 71 has a bridge and electrode function, its material, structure, etc. may be arbitrary. However, it is preferable that the metal well 71 is made of a material having a low electric resistance in order to further exhibit the bridge and electrode function. For example, copper (Cu) or aluminum (Al) is preferably used. is there. In addition, the aluminum here includes not only pure aluminum but also an aluminum alloy. In the present embodiment, a predetermined aluminum alloy is employed.

ここで注目すべき点は、金属製ウェル71の上面71uには、加熱又は冷却の対象物を直接装着する装着部81が設けられている点である。   What should be noted here is that a mounting portion 81 for directly mounting an object to be heated or cooled is provided on the upper surface 71 u of the metal well 71.

図3は、このような装着部81を有する金属製ウェル71の概略構成を示す図である。具体的には、図3Aは、装着部81に直接装着される対象物の一例であるプラスチックチューブ82の概略構成を示す側面図である。図3Bは、このようなプラスチックチューブ82を直接装着可能な装着部81を有する金属製ウェル71の概略構成を示す斜視図である。なお、図3に示す各種寸法(mmが記載されている箇所)は、本実施形態で採用されている寸法であって例示にしか過ぎない。   FIG. 3 is a diagram showing a schematic configuration of a metal well 71 having such a mounting portion 81. Specifically, FIG. 3A is a side view showing a schematic configuration of a plastic tube 82 that is an example of an object directly attached to the attachment portion 81. FIG. 3B is a perspective view showing a schematic configuration of a metal well 71 having a mounting portion 81 to which such a plastic tube 82 can be directly mounted. Note that the various dimensions shown in FIG. 3 (locations where mm is described) are dimensions employed in the present embodiment and are merely examples.

本実施形態では、温度素子61はDNA増幅装置51に備えられているため、温度素子61により加熱又は冷却される対象物は、正確にいうと、DNA検体(反応溶液)である。しかしながら、DNA検体(反応溶液)は、直接的な加熱又は冷却が困難であるので、図3Aに示すようなプラスチックチューブ82に収容されて加熱又は冷却される。したがって、以下の説明では、加熱又は冷却の対象物は、DNA検体(反応溶液)収容に用いられるプラスチックチューブ82であるとする。   In the present embodiment, since the temperature element 61 is provided in the DNA amplifying apparatus 51, the object heated or cooled by the temperature element 61 is precisely a DNA specimen (reaction solution). However, since it is difficult to directly heat or cool the DNA specimen (reaction solution), it is accommodated in a plastic tube 82 as shown in FIG. 3A and heated or cooled. Therefore, in the following description, it is assumed that the object to be heated or cooled is the plastic tube 82 used for housing the DNA specimen (reaction solution).

図3Bに示すように、このようなプラスチックチューブ82の下側部分(図3A中12mmという寸法が記載されている部分)の形状に合わせた凹部が、装着部81として、金属製ウェル71の上面71uの中央から内部下方に形成されている。換言すると、装着部81は、プラスチックチューブ82を装着すべく加工が施されている。   As shown in FIG. 3B, a concave portion that matches the shape of the lower portion of the plastic tube 82 (the portion in which the dimension of 12 mm in FIG. 3A is described) is the upper surface of the metal well 71 as the mounting portion 81. It is formed from the center of 71u to the inside downward. In other words, the mounting portion 81 is processed to mount the plastic tube 82.

このように、本実施形態では、DNA検体(反応溶液)収容に用いられるプラスチックチューブ82は、装着部81に直接装着される。このことは、図1の従来のペルチェ素子1を例えとして用いているならば、容器31がプラスチックチューブ82に相当し、電極板22Aがブリッジ兼電極機能を有していることを考慮すると、容器31が放熱板21Aを介在せずに電極板22Aの内部に直接装着されるのと等価であることを意味する。   Thus, in the present embodiment, the plastic tube 82 used for housing the DNA specimen (reaction solution) is directly attached to the attachment portion 81. If the conventional Peltier device 1 of FIG. 1 is used as an example, the container 31 corresponds to the plastic tube 82 and the electrode plate 22A has a bridge and electrode function. 31 is equivalent to being directly mounted inside the electrode plate 22A without the heat sink 21A interposed.

即ち、図1の従来のペルチェ素子1を用いて容器31を加熱又は冷却する場合、容器31は、放熱板21Aを介在して、ブリッジ兼電極機能を有する電極板22Aと熱の授受を行うことになる。したがって、従来のペルチェ素子1を用いて容器31を加熱又は冷却するための温度制御系では、セラミック等で形成される放熱板21Aは遅れ要素となる。この遅れ要素の分だけ、図1の従来のペルチェ素子1を用いた温度制御の応答性は悪化することになる。   That is, when the container 31 is heated or cooled using the conventional Peltier device 1 of FIG. 1, the container 31 performs heat transfer with the electrode plate 22A having a bridge and electrode function through the heat radiating plate 21A. become. Therefore, in the temperature control system for heating or cooling the container 31 using the conventional Peltier element 1, the heat radiating plate 21A formed of ceramic or the like becomes a delay element. The responsiveness of temperature control using the conventional Peltier device 1 of FIG. 1 is deteriorated by this delay factor.

これに対して、本実施形態の温度制御系、即ち、温度素子61を用いてプラスチックチューブ82を加熱又は冷却する温度制御系では、プラスチックチューブ82は、従来の放熱板21Aのような遅れ要素となるものを介在せずに、ブリッジ兼電極機能を有する金属製ウェル71と直接熱を授受することができる。したがって、遅れ要素が無い分だけ、本実施形態の温度制御の応答性は、図1の従来のペルチェ素子1を用いた場合と比較して高いものになる。なお、このような効果の詳細については、図11を参照して後述する。   On the other hand, in the temperature control system of this embodiment, that is, the temperature control system that heats or cools the plastic tube 82 using the temperature element 61, the plastic tube 82 is a delay element such as the conventional heat sink 21A. Heat can be directly exchanged with the metal well 71 having the function of a bridge and an electrode, without intervening. Therefore, the responsiveness of the temperature control of the present embodiment is higher than the case of using the conventional Peltier element 1 of FIG. Details of such effects will be described later with reference to FIG.

次に、このような温度素子61に対して温度制御を実行する温度制御部62について説明する。   Next, the temperature control part 62 which performs temperature control with respect to such a temperature element 61 is demonstrated.

図4は、温度制御部62の概略構成を示す構成図である。
図4に示すように、温度制御部62は、温度調整器101と、定電流電源装置102と、電流計103と、別体電源104と、直流電源105とを備える。
FIG. 4 is a configuration diagram showing a schematic configuration of the temperature control unit 62.
As shown in FIG. 4, the temperature control unit 62 includes a temperature regulator 101, a constant current power supply device 102, an ammeter 103, a separate power supply 104, and a DC power supply 105.

温度調整器101は、温度素子61の温度を検出し、その検出温度が目標温度となるように制御する。詳細についてはDNA増幅装置51の動作として後述するが、温度素子61内の電流の方向(極性)及び大きさ(値)を変化させることで、温度素子61がプラスチックチューブ82を目標温度まで加熱又は冷却することができる。そこで、温度調整器101は、温度素子61内の電流の方向及び大きさの目標値(以下、「電流目標値」と称する)を設定し、定電流電源装置102に供給する。   The temperature regulator 101 detects the temperature of the temperature element 61 and controls the detected temperature to be a target temperature. The details will be described later as the operation of the DNA amplification device 51. By changing the direction (polarity) and magnitude (value) of the current in the temperature element 61, the temperature element 61 heats the plastic tube 82 to the target temperature. Can be cooled. Therefore, the temperature regulator 101 sets a target value (hereinafter referred to as “current target value”) of the direction and magnitude of the current in the temperature element 61 and supplies it to the constant current power supply apparatus 102.

本実施形態では、電流の方向として、温度素子61の電極兼放熱板73Pから電極兼放熱板73Nに向かう方向が存在する。当該方向に電流が流れると、温度素子61はプラスチックチューブ82を加熱する動作(以下、「加熱動作」と称する)をする。そこで、以下、当該方向を「加熱方向」と称する。
また、別の電流の方向として、温度素子61の電極兼放熱板73Nから電極兼放熱板73Pに向かう方向が存在する。当該方向に電流が流れると、温度素子61は、プラスチックチューブ82を冷却する動作(以下、「冷却動作」と称する)をする。そこで、以下、当該方向を「冷却方向」と称する。
このような電流の方向は、温度調整器101の出力信号の種類によって特定される。即ち、温度調整器101は、電流の方向として加熱方向を指示する場合には、制御信号SPを出力する。これに対して、温度調整器101は、電流の方向として冷却方向を指示する場合には、制御信号SMを温度調整器101から出力する。
In the present embodiment, as the direction of current, there is a direction from the electrode / heat radiating plate 73P of the temperature element 61 toward the electrode / heat radiating plate 73N. When a current flows in this direction, the temperature element 61 operates to heat the plastic tube 82 (hereinafter referred to as “heating operation”). Therefore, hereinafter, this direction is referred to as “heating direction”.
As another current direction, there is a direction from the electrode / heat radiating plate 73N of the temperature element 61 toward the electrode / heat radiating plate 73P. When a current flows in this direction, the temperature element 61 performs an operation of cooling the plastic tube 82 (hereinafter referred to as “cooling operation”). Therefore, hereinafter, this direction is referred to as “cooling direction”.
Such a direction of the current is specified by the type of the output signal of the temperature regulator 101. That is, the temperature regulator 101 outputs the control signal SP when instructing the heating direction as the current direction. On the other hand, the temperature regulator 101 outputs a control signal SM from the temperature regulator 101 when instructing the cooling direction as the current direction.

また、本実施形態では、温度素子61内の電流目標値は、温度制御調整器101から出力される制御信号SP又はSMの信号レベルによって特定される。具体的には例えば、制御信号SP及びSMは、4乃至20mAの範囲内で可変する電流信号である。従って、制御信号SP又はSMの電流の値によって、温度素子61内の電流目標値が特定される。   In the present embodiment, the current target value in the temperature element 61 is specified by the signal level of the control signal SP or SM output from the temperature control regulator 101. Specifically, for example, the control signals SP and SM are current signals that vary within a range of 4 to 20 mA. Therefore, the current target value in the temperature element 61 is specified by the current value of the control signal SP or SM.

定電流電源装置102は、いわゆる定電流レギュレータ(安定化電源装置)として構成されている。定電流電源装置102は、温度調整器101から出力された制御信号SP又はSMに基づいて出力電流の方向及び大きさを決定し、決定した方向及び大きさの定電流を温度素子61に出力する。   The constant current power supply device 102 is configured as a so-called constant current regulator (stabilized power supply device). The constant current power supply device 102 determines the direction and magnitude of the output current based on the control signal SP or SM output from the temperature regulator 101, and outputs the constant current having the determined direction and magnitude to the temperature element 61. .

ここで、本実施形態では、温度素子61の駆動範囲は±30Aであるため、定電流電源装置102は、±30Aの範囲内で定電流を温度素子61に出力するものとする。この場合、単純に±30Aの直流電流を出力するだけならば、従来のレギュレータを採用することができる。しかしながら、本実施形態の温度素子61の電源装置として、従来のレギュレータを採用することは困難である。以下、困難な理由について説明する。   Here, in this embodiment, since the driving range of the temperature element 61 is ± 30 A, the constant current power supply device 102 outputs a constant current to the temperature element 61 within a range of ± 30 A. In this case, a conventional regulator can be employed if a DC current of ± 30 A is simply output. However, it is difficult to employ a conventional regulator as a power supply device for the temperature element 61 of the present embodiment. Hereinafter, the difficult reason will be described.

即ち、本実施形態の温度素子61の抵抗RLは非常に低いため、温度素子61に印加される電圧、即ち電極兼放熱板73P,73N間の電位差は低くなる。例えば、温度素子61の抵抗RLが10mΩならば、オームの法則に従って単純計算すると、温度素子61に引加される電圧は±0.3Vになる。このように、本実施形態の温度素子61に対しては、±30Aという大電流を温度素子61に流すと共に、±0.3V程度の小電圧を温度素子61に印加することが可能な電源装置が要求される。   That is, since the resistance RL of the temperature element 61 of the present embodiment is very low, the voltage applied to the temperature element 61, that is, the potential difference between the electrode and heat dissipation plates 73P and 73N is low. For example, if the resistance RL of the temperature element 61 is 10 mΩ, the voltage applied to the temperature element 61 is ± 0.3 V when simply calculated according to Ohm's law. As described above, for the temperature element 61 of the present embodiment, a power supply device capable of supplying a large current of ± 30 A to the temperature element 61 and applying a small voltage of about ± 0.3 V to the temperature element 61. Is required.

ここで、従来のレギュレータは、スイッチンレギュレータと、リニアレギュレータとに大別される。なお、リニアレギュレータは、シリーズレギュレータとも称されている。   Here, conventional regulators are broadly classified into switch-on regulators and linear regulators. The linear regulator is also referred to as a series regulator.

スイッチングレギュレータは、リニアレギュレータと比較すると、電力効率が良いというメリットがある反面、定電流源として機能する場合には定格電圧の10%程度までしか出力できない(出力電圧をそれ以下に降下させると動作保証ができない)というデメリットがある。スイッチングレギュレータは、当該デメリットにより、定電流源として機能したまま±0.3V程度の小電圧を温度素子61に印加することは非常に困難である。従って、スイッチングレギュレータを、温度素子61の電源装置として採用することは非常に困難である。   Switching regulators have the advantage of better power efficiency compared to linear regulators, but can only output up to about 10% of the rated voltage when functioning as a constant current source. There is a demerit that it cannot be guaranteed. Due to the disadvantages of the switching regulator, it is very difficult to apply a small voltage of about ± 0.3 V to the temperature element 61 while functioning as a constant current source. Therefore, it is very difficult to employ the switching regulator as a power supply device for the temperature element 61.

一方、リニアレギュレータは、定電流源として機能しても0V乃至定格電圧まで連続可変できるというメリットがある反面、電力効率が悪いというデメリットがある。リニアレギュレータは、当該デメリットにより、温度素子61の電源装置として採用することは現実的では無い。即ち、電力効率が悪いということは、入力電力と出力電力の差分である損失が大きいということである。この損失は、リニアレギュレータでは熱として消費されるため、放熱器が必要になる。従って、温度素子61に対して要求される出力電圧が±0.3Vと小電圧であることを考慮すると、一般的な入力電圧のリニアレギュレータでは、損失(効率)が非常に大きなものとなり、その分だけ非常に大きな放熱器が必要になる。このような非常に大きな放熱器を設けることは、スペース等の設置環境の観点からもコストの観点からも現実的でない。   On the other hand, the linear regulator has a merit that it can be continuously varied from 0 V to a rated voltage even if it functions as a constant current source, but has a demerit that power efficiency is poor. It is not realistic to employ the linear regulator as a power supply device for the temperature element 61 due to the disadvantages. That is, the power efficiency is poor that the loss that is the difference between the input power and the output power is large. Since this loss is consumed as heat in the linear regulator, a radiator is required. Therefore, considering that the output voltage required for the temperature element 61 is as small as ± 0.3 V, a loss (efficiency) is very large in a general input voltage linear regulator. A very large radiator is required. Providing such a very large radiator is not practical from the viewpoint of installation environment such as space and from the viewpoint of cost.

そこで、本実施形態の定電流電源装置102は、スイッチングレギュレータとリニアレギュレータとを併せ持ち、スイッチングレギュレータの出力電圧の値に応じて、定電流の出力可変制御の担当を振り分けている。例えば、スイッチングレギュレータの出力電圧の値が閾値以上の場合には、スイッチングレギュレータが定電流の出力可変制御を担当し、スイッチングレギュレータの出力電圧の値が閾値未満の場合には、リニアレギュレータが定電流の出力可変制御を担当する。ここで閾値は、スイッチングレギュレータが定電流源として動作保証可能な最低電圧値以上であれば特に限定されず、本実施形態では1Vが採用されている。   Therefore, the constant current power supply device 102 according to the present embodiment has both a switching regulator and a linear regulator, and distributes the responsibility for the constant current output variable control according to the value of the output voltage of the switching regulator. For example, when the output voltage value of the switching regulator is greater than or equal to the threshold value, the switching regulator is responsible for variable output control of the constant current, and when the output voltage value of the switching regulator is less than the threshold value, the linear regulator is Take charge of variable output control. Here, the threshold value is not particularly limited as long as it is equal to or higher than the minimum voltage value at which the switching regulator can guarantee operation as a constant current source, and 1 V is adopted in the present embodiment.

ここで、上述した説明では温度素子61における電圧及び電流に着目しため、温度素子の抵抗RLのみを考慮してきた。しかしながら、スイッチングレギュレータに着目すると、配線抵抗等もさらに考慮する必要があり、その結果、温度素子61に印加される電圧が±0.3Vの場合であっても、スイッチングレギュレータの出力電圧は±1Vを超えることは適宜ある。また、詳細については後述するが、複数のプラスチックチューブ82を同時に加熱又は冷却させるために、複数の金属製ウェル71が直列接続等されて温度素子61の抵抗RLが増大して、スイッチングレギュレータの出力電圧が±1Vを超えることは適宜ある。このように、温度素子61を用いた温度制御では、スイッチングレギュレータの出力電圧が±1Vを超える場合が適宜ある。このような場合には、定電流の出力可変制御の担当はスイッチングレギュレータになるため、電力効率が良い温度制御が可能になる。   Here, in the above description, only the resistance RL of the temperature element has been considered in order to focus on the voltage and current in the temperature element 61. However, paying attention to the switching regulator, it is necessary to further consider the wiring resistance and the like. As a result, even when the voltage applied to the temperature element 61 is ± 0.3V, the output voltage of the switching regulator is ± 1V. It is appropriate to exceed. As will be described in detail later, in order to simultaneously heat or cool the plurality of plastic tubes 82, a plurality of metal wells 71 are connected in series to increase the resistance RL of the temperature element 61, and the output of the switching regulator. It is appropriate that the voltage exceeds ± 1V. Thus, in the temperature control using the temperature element 61, the output voltage of the switching regulator sometimes exceeds ± 1V. In such a case, the constant current output variable control is responsible for the switching regulator, so that temperature control with high power efficiency is possible.

また、本実施形態の定電流電源装置102においては、リニアレギュレータは、入力電圧(スイッチングレギュレータの出力電圧)が1V以下の場合に定電流の出力可変制御を担当すれば良いので、従来のリニアレギュレータと比較すると電力損失も小さくなる。このため、放熱器も小さくて済むため、リニアレギュレータを、定電流電源装置102内に低コストで容易に設置することが可能になる。   Further, in the constant current power supply apparatus 102 of the present embodiment, the linear regulator only needs to be in charge of variable output control of the constant current when the input voltage (output voltage of the switching regulator) is 1 V or less. Compared with, power loss is also reduced. For this reason, since a heat radiator is also small, a linear regulator can be easily installed in the constant current power supply apparatus 102 at low cost.

なお、定電流電源装置102のさらなる詳細については、図5を参照して後述する。   Further details of the constant current power supply apparatus 102 will be described later with reference to FIG.

電流計103は、定電流電源装置102の出力電流を監視し、監視結果をユーザに提示する。別体電源104は、図示せぬ商用交流電源の交流100Vを直流12Vに変換して、定電流電源装置102の駆動用電源として供給する。直流電源105は、図示せぬ商用交流電源の交流100Vを直流12Vに変換して、定電流電源装置102の内部用電源として供給する。   The ammeter 103 monitors the output current of the constant current power supply apparatus 102 and presents the monitoring result to the user. The separate power source 104 converts AC 100 V of a commercial AC power source (not shown) into DC 12 V and supplies it as a driving power source for the constant current power source device 102. The DC power source 105 converts AC 100 V of a commercial AC power source (not shown) into DC 12 V and supplies it as an internal power source for the constant current power source device 102.

次に、このよう構成の温度制御部62のうち、定電流電源装置102の詳細について説明する。   Next, details of the constant current power supply apparatus 102 in the temperature control unit 62 having the above configuration will be described.

図5は、本実施形態の定電流電源装置102の概略構成を示す構成図である。   FIG. 5 is a configuration diagram showing a schematic configuration of the constant current power supply apparatus 102 of the present embodiment.

図5に示すように、定電流電源装置102は、スイッチングレギュレータ111P1乃至111M2と、ダイオード112P1乃至112M2と、リニアレギュレータ113P,113Mと、カレントループ電流電圧変換部114P,114Mと、を備える。   As shown in FIG. 5, the constant current power supply apparatus 102 includes switching regulators 111P1 to 111M2, diodes 112P1 to 112M2, linear regulators 113P and 113M, and current loop current / voltage converters 114P and 114M.

図5に示すように、スイッチングレギュレータ111P1及びダイオード112P1の直列接続と、スイッチングレギュレータ111P2及びダイオード112P2の直列接続とが並列接続されて構成される並列回路121Pが、定電流電源装置102に設けられている。並列回路121Pのうち、スイッチングレギュレータ111P1,111M側の一端は、別体電源104の正極出力端に接続され、ダイオード112P1,112P2側の他端は、リニアレギュレータ113Pの入力端に接続されている。リニアレギュレータ113Pの出力端は、電流計103を介して、温度素子61の電極兼放熱板73P(図2)に接続される。温度素子61の逆側の電極兼放熱板73N(図2)は、定電流電源装置102を介して別体電源104の負極出力端に接続される。   As shown in FIG. 5, the constant current power supply apparatus 102 includes a parallel circuit 121P configured by connecting a series connection of the switching regulator 111P1 and the diode 112P1 and a series connection of the switching regulator 111P2 and the diode 112P2 in parallel. Yes. Of the parallel circuit 121P, one end on the switching regulator 111P1, 111M side is connected to the positive output terminal of the separate power source 104, and the other end on the diode 112P1, 112P2 side is connected to the input terminal of the linear regulator 113P. The output terminal of the linear regulator 113P is connected to the electrode / heat radiating plate 73P (FIG. 2) of the temperature element 61 via the ammeter 103. The electrode / heat radiating plate 73 </ b> N (FIG. 2) on the opposite side of the temperature element 61 is connected to the negative output terminal of the separate power supply 104 via the constant current power supply device 102.

従って、詳細についてはDNA増幅装置51の動作として後述するが、温度素子61が加熱動作をする場合、電流は、別体電源104の正極出力端、並列回路121P、リニアレギュレータ113P、温度素子61の電極兼放熱板73P及び73N、並びに、別体電源104の負極出力端の順に流れる。   Therefore, although details will be described later as the operation of the DNA amplification device 51, when the temperature element 61 performs a heating operation, the current is supplied to the positive output terminal of the separate power source 104, the parallel circuit 121P, the linear regulator 113P, and the temperature element 61. It flows in the order of the electrode / heat dissipating plates 73P and 73N and the negative output terminal of the separate power source 104.

スイッチングレギュレータ111P1,111P2は、例えばいわゆるDC−DCコンバータとして構成されており、別体電源104により印加された直流12Vの電圧を、12V以下の直流電圧に変化して出力する。スイッチングレギュレータ111P1,111P2は、定電流源として機能しているので、カレントループ電流電圧変換部114Pによって指示された値の定電流を出力する。即ち、スイッチングレギュレータ111P1,111P2は、カレントループ電流電圧変換部114Pの指示に従って、定電流の出力可変制御を実行する。ただし、スイッチングレギュレータ111P1,111P2の出力電圧が閾値(1V)未満となった場合には、定電流の出力可変制御の担当は、スイッチングレギュレータ111P1,111P2から、リニアレギュレータ113Pに移行する。   The switching regulators 111P1 and 111P2 are configured as, for example, so-called DC-DC converters, and change the DC 12V voltage applied by the separate power source 104 to a DC voltage of 12V or less and output it. Since the switching regulators 111P1 and 111P2 function as constant current sources, the switching regulators 111P1 and 111P2 output a constant current having a value instructed by the current loop current-voltage converter 114P. That is, the switching regulators 111P1 and 111P2 perform constant current output variable control in accordance with an instruction from the current loop current-voltage converter 114P. However, when the output voltages of the switching regulators 111P1 and 111P2 become less than the threshold (1V), the responsibility for constant current output variable control is transferred from the switching regulators 111P1 and 111P2 to the linear regulator 113P.

ダイオード112P1,112P2の各々は、スイッチングレギュレータ111P1,111P2の各々の出力電圧を降下させると共に、スイッチングレギュレータ111P1,111P2の各々の出力電流の逆流を防止する。   Each of the diodes 112P1 and 112P2 drops the output voltage of each of the switching regulators 111P1 and 111P2, and prevents backflow of the output current of each of the switching regulators 111P1 and 111P2.

図2に示すように、ダイオード112P1,112P2の各々の出力電流は合算されて、リニアレギュレータ113Pに出力される。即ち、本実施形態では、スイッチングレギュレータ111P1,111P2の定格電流は15Aとされている一方で、上述したように、温度素子61の定格電流は30Aとされている。このため、定格電流が15Aの2台のスイッチングレギュレータ111P1,111P2を並列接続することで、温度素子61の定格電流である30Aを出力するようにしている。   As shown in FIG. 2, the output currents of the diodes 112P1 and 112P2 are added together and output to the linear regulator 113P. That is, in the present embodiment, the rated current of the switching regulators 111P1 and 111P2 is 15A, while the rated current of the temperature element 61 is 30A as described above. For this reason, by connecting two switching regulators 111P1 and 111P2 having a rated current of 15A in parallel, 30A that is the rated current of the temperature element 61 is output.

換言すると、定格電流が30Aのスイッチングレギュレータを採用できる場合には、並列回路121Pの代わりに、1台の当該スイッチングレギュレータを定電流電源装置102に搭載すればよい。この場合、ダイオードは特に必須ではないが、当該スイッチングレギュレータの後段に直列接続してもよい。   In other words, when a switching regulator with a rated current of 30 A can be employed, one switching regulator may be mounted on the constant current power supply device 102 instead of the parallel circuit 121P. In this case, the diode is not essential, but it may be connected in series in the subsequent stage of the switching regulator.

逆に、温度素子61の定格電流が30Aを超える場合、例えば45Aとなる場合、図示はしないが、スイッチングレギュレータ111P3及びダイオード112P3の直列接続を、並列回路121にさらに並列接続させればよい。要するに、スイッチングレギュレータ111PKの定格電流と温度素子61の定格電流との各々の大きさに応じて、並列回路121の並列数Kを可変すればよい。なお、Kは1以上の整数値であって、図2の例では2である。   Conversely, when the rated current of the temperature element 61 exceeds 30 A, for example 45 A, the series connection of the switching regulator 111P3 and the diode 112P3 may be further connected in parallel to the parallel circuit 121, although not shown. In short, the parallel number K of the parallel circuit 121 may be varied in accordance with the magnitudes of the rated current of the switching regulator 111PK and the rated current of the temperature element 61. Note that K is an integer value of 1 or more, and is 2 in the example of FIG.

リニアレギュレータ113Pは、例えばFET(Field effect transistor)を用いて構成されており、上述の如く、スイッチングレギュレータ111P1,111P2の出力電圧が閾値(1V)未満となった場合に、定電流の出力可変制御を実行する。リニアレギュレータ113Pはまた、いわゆるFETスイッチの機能も有しており、カレントループ電流電圧変換部114Mの制御により、オンオフ状態を切り替える。即ち、詳細についてはDNA増幅装置51の動作として後述するが、温度素子61が加熱動作をする場合には、リニアレギュレータ113Pはオン状態となる一方、温度素子61が冷却動作をする場合には、カレントループ電流電圧変換部114Mの制御により、リニアレギュレータ113Pはオフ状態となり、並列回路121Pの出力を遮断する。   The linear regulator 113P is configured by using, for example, a field effect transistor (FET). As described above, when the output voltage of the switching regulators 111P1 and 111P2 becomes less than the threshold (1V), the constant current output variable control. Execute. The linear regulator 113P also has a function of a so-called FET switch, and switches the on / off state under the control of the current loop current / voltage converter 114M. That is, details will be described later as the operation of the DNA amplification device 51. When the temperature element 61 performs a heating operation, the linear regulator 113P is turned on, whereas when the temperature element 61 performs a cooling operation, Under the control of the current loop current / voltage converter 114M, the linear regulator 113P is turned off, and the output of the parallel circuit 121P is cut off.

カレントループ電流電圧変換部114Pは、温度素子61が加熱動作をする場合に温度調整器101から出力された制御信号SPを入力する。制御信号SPは、上述の如く、4乃至20mAの電流信号である。そこで、カレントループ電流電圧変換部114Pは、制御信号SPを、4乃至20mAの電流の形態から1乃至5Vの電圧の形態に変換して、スイッチングレギュレータ111P1,111P2及びリニアレギュレータ113Mに供給する。スイッチングレギュレータ111P1,111P2は、カレントループ電流電圧変換部114Pから供給された電圧の値(1乃至5Vの範囲内の値)に応じて、0乃至15Aの範囲内で出力電流の値を変化させる。リニアレギュレータ114Mは、カレントループ電流電圧変換部114Pから電圧が供給されると、オン状態からオフ状態に切り替えて、並列回路121Mの出力を遮断する。   The current loop current-voltage converter 114P receives the control signal SP output from the temperature regulator 101 when the temperature element 61 performs a heating operation. The control signal SP is a current signal of 4 to 20 mA as described above. Therefore, the current loop current / voltage conversion unit 114P converts the control signal SP from a current form of 4 to 20 mA to a form of voltage of 1 to 5 V, and supplies the converted signal to the switching regulators 111P1 and 111P2 and the linear regulator 113M. The switching regulators 111P1 and 111P2 change the value of the output current within the range of 0 to 15A in accordance with the value of the voltage (a value within the range of 1 to 5V) supplied from the current loop current / voltage converter 114P. When the voltage is supplied from the current loop current-voltage converter 114P, the linear regulator 114M switches from the on state to the off state, and interrupts the output of the parallel circuit 121M.

並列回路121M及びリニアレギュレータ113Mは、並列回路121P及びリニアレギュレータ113Pと基本的に同様の構成及び機能を有しており、接続形態も同様である。ただし、並列回路121M及びリニアレギュレータ114Mの駆動タイミングは、並列回路121P及びリニアレギュレータ113Pの駆動タイミングとは逆である。即ち、温度素子61が加熱動作をする場合には、上述したように、カレントループ電流電圧変換部114Pから電圧が供給されてリニアレギュレータ113Mがオフ状態となるため、並列回路121M及びリニアレギュレータ113Mの駆動は停止する。一方、温度素子61が冷却動作をする場合には、リニアレギュレータ113Mがオン状態となるため、並列回路121M及びリニアレギュレータ113Mは駆動する。   The parallel circuit 121M and the linear regulator 113M have basically the same configuration and function as the parallel circuit 121P and the linear regulator 113P, and the connection form is also the same. However, the drive timing of the parallel circuit 121M and the linear regulator 114M is opposite to the drive timing of the parallel circuit 121P and the linear regulator 113P. That is, when the temperature element 61 performs a heating operation, as described above, the voltage is supplied from the current loop current-voltage conversion unit 114P and the linear regulator 113M is turned off, so that the parallel circuit 121M and the linear regulator 113M Driving stops. On the other hand, when the temperature element 61 performs the cooling operation, the linear regulator 113M is turned on, so that the parallel circuit 121M and the linear regulator 113M are driven.

カレントループ電流電圧変換部114Mは、温度素子61が冷却動作をする場合に温度調整器101から出力された制御信号SMを入力する。制御信号SMは、上述の如く、4乃至22mAの電流信号である。そこで、カレントループ電流電圧変換部114Mは、制御信号SMを、4乃至20mAの電流の形態から1乃至5Vの電圧の形態に変換して、スイッチングレギュレータ111M1,111M2及びリニアレギュレータ113Pに供給する。スイッチングレギュレータ111M1,111M2は、カレントループ電流電圧変換部114Mから供給された電圧の値(1乃至5Vの範囲内の値)に応じて、0乃至15Aの範囲内で出力電流の値を変化させる。リニアレギュレータ114Pは、上述したように、カレントループ電流電圧変換部114Mから電圧が供給されると、オン状態からオフ状態に切り替えて、並列回路121Pの出力を遮断する。   The current loop current / voltage converter 114M receives the control signal SM output from the temperature regulator 101 when the temperature element 61 performs a cooling operation. The control signal SM is a current signal of 4 to 22 mA as described above. Therefore, the current loop current-voltage conversion unit 114M converts the control signal SM from the form of current of 4 to 20 mA to the form of voltage of 1 to 5 V, and supplies it to the switching regulators 111M1 and 111M2 and the linear regulator 113P. The switching regulators 111M1 and 111M2 change the value of the output current within the range of 0 to 15A in accordance with the voltage value (value within the range of 1 to 5V) supplied from the current loop current / voltage conversion unit 114M. As described above, when the voltage is supplied from the current loop current-voltage conversion unit 114M, the linear regulator 114P switches from the on state to the off state and blocks the output of the parallel circuit 121P.

以上、図1乃至図5を参照して、DNA増幅装置51の構成について説明した。次に、当該DNA増幅装置51の動作について説明する。   The configuration of the DNA amplification device 51 has been described above with reference to FIGS. 1 to 5. Next, the operation of the DNA amplification device 51 will be described.

上述のごとく、機能的な視点では、本実施形態の電極兼放熱板73P,73Nは、放熱板機能及び電圧被印加機能を有するので、図1の従来のペルチェ素子1の放熱板21B及び電極板23P,23Nに相当する。したがって、電極兼放熱板73P,73Nは、従来のペルチェ素子1のB面部位と同じ振る舞いをする。そこで、以下、電極兼放熱板73P,73Nを、本実施形態の温度素子61における「B面部位」と適宜称する。   As described above, from a functional point of view, the electrode and heat dissipation plates 73P and 73N of the present embodiment have a heat dissipation plate function and a voltage applied function, so that the heat dissipation plate 21B and the electrode plate of the conventional Peltier element 1 of FIG. It corresponds to 23P and 23N. Therefore, the electrode and heat dissipation plates 73P and 73N behave the same as the B surface portion of the conventional Peltier element 1. Therefore, hereinafter, the electrode / heat dissipating plates 73P and 73N are appropriately referred to as “B surface portions” in the temperature element 61 of the present embodiment.

一方、機能的な視点では、金属製ウェル71は、ブリッジ兼電極機能を有するので、上述のごとく、図1の従来のペルチェ素子1の電極板22Aに相当する。したがって、金属製ウェル71は、従来のペルチェ素子1のA面部位と同じ振る舞いをする。そこで以下、金属製ウェル71を、本実施形態の温度素子61における「A面部位」と適宜称する。ここで、注意すべき点は、本実施形態の温度素子61におけるA面部位には、従来のペルチェ素子1におけるA面部位の放熱板21Aのような、温度制御系にとって遅れ要素となるものが存在しない点である。   On the other hand, from a functional point of view, the metal well 71 has a bridge and electrode function, and thus corresponds to the electrode plate 22A of the conventional Peltier element 1 shown in FIG. Therefore, the metal well 71 behaves the same as the A-plane portion of the conventional Peltier element 1. Therefore, hereinafter, the metal well 71 is appropriately referred to as an “A surface portion” in the temperature element 61 of the present embodiment. Here, it should be noted that the A surface portion of the temperature element 61 of the present embodiment is a delay element for the temperature control system, such as the heat sink 21A of the A surface portion of the conventional Peltier element 1. It is a point that does not exist.

また、本実施形態では、電極兼放熱板73Pの側を基準として、電極兼放熱板73Pが高電位になり、電極兼放熱板73Nが低電位になるように、温度制御部62により電圧が印加されることを、以下、「温度素子61にプラス電圧が印加される」と表現する。逆に、電極兼放熱板73Pが低電位になり、電極兼放熱板73Nが高電位になるように、温度制御部62により電圧が印加されることを、以下、「温度素子61にマイナス電圧が印加される」と表現する。   Further, in this embodiment, the voltage is applied by the temperature control unit 62 so that the electrode / heat dissipation plate 73P is at a high potential and the electrode / heat dissipation plate 73N is at a low potential with reference to the electrode / heat dissipation plate 73P side. Hereinafter, this is expressed as “a positive voltage is applied to the temperature element 61”. On the contrary, the voltage is applied by the temperature control unit 62 so that the electrode / heat sink 73P is at a low potential and the electrode / heat sink 73N is at a high potential. "Applied".

即ち、温度素子61にプラス電圧が印加される場合とは、図5に示すリニアレギュレータ113Pがオン状態となって、並列回路121P及びリニアレギュレータ113Pが駆動している場合を意味する。この場合、電流は、別体電源104の正極出力端、並列回路121P、リニアレギュレータ113P、温度素子61の電極兼放熱板73P及び73N、並びに、別体電源104の負極出力端の順に流れる。なお、リニアレギュレータ114Mはオフ状態となっているため、並列回路121M及びリニアレギュレータ113Mの駆動は停止している。
一方、温度素子61にマイナス電圧が印加される場合とは、図5に示すリニアレギュレータ113Mがオン状態となって、並列回路121M及びリニアレギュレータ113Mが駆動している場合を意味する。この場合、電流は、別体電源104の正極出力端、並列回路121M、リニアレギュレータ113M、温度素子61の電極兼放熱板73N及び73P、並びに、別体電源104の負極出力端の順に流れる。なお、リニアレギュレータ113Pはオフ状態となっているため、並列回路121P及びリニアレギュレータ113Pの駆動は停止している。
That is, the case where the plus voltage is applied to the temperature element 61 means the case where the linear regulator 113P shown in FIG. 5 is turned on and the parallel circuit 121P and the linear regulator 113P are driven. In this case, the current flows in the order of the positive output terminal of the separate power source 104, the parallel circuit 121 </ b> P, the linear regulator 113 </ b> P, the electrode and heat dissipation plates 73 </ b> P and 73 </ b> N of the temperature element 61, and the negative output terminal of the separate power source 104. Since the linear regulator 114M is in an off state, the driving of the parallel circuit 121M and the linear regulator 113M is stopped.
On the other hand, the case where a negative voltage is applied to the temperature element 61 means the case where the linear regulator 113M shown in FIG. 5 is turned on and the parallel circuit 121M and the linear regulator 113M are driven. In this case, the current flows in the order of the positive output terminal of the separate power source 104, the parallel circuit 121 </ b> M, the linear regulator 113 </ b> M, the electrode and heat dissipation plates 73 </ b> N and 73 </ b> P of the temperature element 61, and the negative output terminal of the separate power source 104. Since the linear regulator 113P is in an off state, the driving of the parallel circuit 121P and the linear regulator 113P is stopped.

このような温度制御部62により、温度素子61にマイナス電圧が印加されると、電流が、図2中右方から左方に流れる。具体的には、電流が、電極兼放熱板73N、n型半導体72N、金属製ウェル71、p型半導体72P、及び電極兼放熱板73Pの順に流れる。その結果、A面部位である金属製ウェル71が吸熱部となる。即ち、A面部位である金属製ウェル71に直接装着されたプラスチックチューブ82(図3)から発せられた熱は、金属製ウェル71に直接吸熱され、これにより、プラスチックチューブ82が冷却される。   When a negative voltage is applied to the temperature element 61 by such a temperature control unit 62, a current flows from the right to the left in FIG. Specifically, the current flows in the order of the electrode / heat radiating plate 73N, the n-type semiconductor 72N, the metal well 71, the p-type semiconductor 72P, and the electrode / heat radiating plate 73P. As a result, the metal well 71 which is the A surface portion becomes the heat absorbing portion. That is, the heat generated from the plastic tube 82 (FIG. 3) directly attached to the metal well 71 which is the A-surface portion is directly absorbed by the metal well 71, thereby cooling the plastic tube 82.

詳細には、温度素子61を流れる電流の値(絶対値)に応じて、A面部位である金属製ウェル71が低温となり、B面部位である電極兼放熱板73P,73Nが高温となるような温度差△Tが生ずる。   More specifically, according to the value (absolute value) of the current flowing through the temperature element 61, the metal well 71 that is the A-surface part has a low temperature, and the electrode and heat dissipation plates 73P and 73N that are the B-surface parts have a high temperature. Temperature difference ΔT occurs.

ここで、A面部位が低温とは、絶対的な意味で低温というのではなく、B面部位の温度に対して相対的に低温という意味である。即ち、上述したように、B面部位である電極兼放熱板73P,73Nは、水冷部63により水冷されて一定温度を保っている。以下、このようなB面部位である電極兼放熱板73P,73N側の一定温度を、「基準温度」と称する。したがって、A面部位である金属製ウェル71は、基準温度よりも温度差△Tだけ低い温度になるように冷却される。   Here, the low temperature of the A surface portion does not mean a low temperature in an absolute sense, but means that the temperature is relatively low with respect to the temperature of the B surface portion. That is, as described above, the electrode / radiation plates 73P and 73N which are the B surface portions are water-cooled by the water-cooling unit 63 and maintained at a constant temperature. Hereinafter, such a constant temperature on the side of the electrodes and heat radiation plates 73P and 73N which is the B surface portion is referred to as a “reference temperature”. Therefore, the metal well 71 which is the A-plane portion is cooled to a temperature lower than the reference temperature by a temperature difference ΔT.

この温度差△Tは、一定のリミットは存在するものの、温度素子61を流れる電流の値(絶対値)が高くなるほど大きくなる。温度素子61を流れる電流の値、即ち、定電流電源装置102から出力される電流の値は、図4の温度調整器101から出力される制御信号SMの信号レベルに基づいて制御される。従って、温度調整器101は、制御信号SMの信号レベルを高くすることによって、定電流電源装置102から出力されて温度素子61を流れる電流の値を大きくし、その結果、温度差△Tを大きくしていくことができる。このように、温度調整器101は、制御信号SMの信号レベルを高くすることによって、A面部位である金属製ウェル71の温度を降下させることができる。この場合、プラスチックチューブ82は金属製ウェル71により直接冷却されるので、従来の図1の放熱板21Aのような遅れ要素を介して冷却される場合と比較して、温度制御の応答性は高いものになる。   This temperature difference ΔT increases as the value (absolute value) of the current flowing through the temperature element 61 increases, although a certain limit exists. The value of the current flowing through the temperature element 61, that is, the value of the current output from the constant current power supply device 102 is controlled based on the signal level of the control signal SM output from the temperature regulator 101 of FIG. Therefore, the temperature regulator 101 increases the value of the current output from the constant current power supply device 102 and flowing through the temperature element 61 by increasing the signal level of the control signal SM, and as a result, increases the temperature difference ΔT. Can continue. In this way, the temperature regulator 101 can lower the temperature of the metal well 71 that is the A-plane portion by increasing the signal level of the control signal SM. In this case, since the plastic tube 82 is directly cooled by the metal well 71, the responsiveness of the temperature control is high compared to the case where the plastic tube 82 is cooled via a delay element such as the conventional heat sink 21A of FIG. Become a thing.

その後、温度制御部62により出力電圧の極性が反転された場合、即ち、温度素子61にプラス電圧が印加された場合、電流が、マイナス電圧が印加された場合とは逆方向の図2中左方から右方に流れる。具体的には、電流が、電極兼放熱板73P、p型半導体72P、金属製ウェル71、n型半導体72N、及び電極兼放熱板73Nの順に流れる。その結果、A面部位である金属製ウェル71は、今度は発熱部となる。即ち、A面部位である金属製ウェル71から発せられた熱は、プラスチックチューブ82に対して直接伝播され、これにより、プラスチックチューブ82が加熱される。   After that, when the polarity of the output voltage is inverted by the temperature control unit 62, that is, when a positive voltage is applied to the temperature element 61, the current is the opposite of the case where a negative voltage is applied. Flows from one side to the right. Specifically, the current flows in the order of the electrode / heat sink 73P, the p-type semiconductor 72P, the metal well 71, the n-type semiconductor 72N, and the electrode / heat sink 73N. As a result, the metal well 71, which is the A-surface portion, is now a heat generating portion. That is, the heat generated from the metal well 71 that is the A-surface portion is directly propagated to the plastic tube 82, whereby the plastic tube 82 is heated.

詳細には、温度素子61にプラス電圧が印加されると、A面部位である金属製ウェル71は、基準温度よりも温度差△Tだけ高い温度になるように加熱される。この温度差△Tは、一定のリミットは存在するものの、温度素子61を流れる電流の値(絶対値)が高くなるほど大きくなる。温度素子61を流れる電流の値、即ち、定電流電源装置102から出力される電流の値は、図4の温度調整器101から出力される制御信号SPの信号レベルに基づいて制御される。従って、温度調整器101は、制御信号SPの信号レベルを高くすることによって、定電流電源装置102から出力されて温度素子61を流れる電流の値を大きくし、その結果、温度差△Tを大きくしていくことができる。このように、温度調整器101は、制御信号SPの信号レベルを高くすることによって、A面部位である金属製ウェル71の温度を上昇させることができる。この場合、プラスチックチューブ82は金属製ウェル71により直接加熱されるので、従来の図1の放熱板21Aのような遅れ要素を介して加熱される場合と比較して、温度制御の応答性は高いものになる。   Specifically, when a positive voltage is applied to the temperature element 61, the metal well 71, which is the A-plane part, is heated to a temperature higher than the reference temperature by a temperature difference ΔT. This temperature difference ΔT increases as the value (absolute value) of the current flowing through the temperature element 61 increases, although a certain limit exists. The value of the current flowing through the temperature element 61, that is, the value of the current output from the constant current power supply device 102 is controlled based on the signal level of the control signal SP output from the temperature regulator 101 of FIG. Therefore, the temperature regulator 101 increases the value of the current output from the constant current power supply device 102 and flowing through the temperature element 61 by increasing the signal level of the control signal SP, and as a result, the temperature difference ΔT is increased. Can continue. As described above, the temperature regulator 101 can increase the temperature of the metal well 71 that is the A-plane portion by increasing the signal level of the control signal SP. In this case, since the plastic tube 82 is directly heated by the metal well 71, the responsiveness of the temperature control is high as compared with the case where the plastic tube 82 is heated via a delay element such as the conventional heat sink 21A of FIG. Become a thing.

このように、温度制御部62は、出力電流の方向及び大きさを変化させることで、温度素子61を用いたプラスチックチューブ82に対する温度制御を実行することが可能になる。したがって、温度目標値の時間推移の所定パターンとして、出力電流の時間推移の所定パターンが温度制御部62の温度調整器101に与えられることにより、PCR法が容易に実現可能になる。即ち、プラスチックチューブ82に収納されたDNA検体(反応溶液)が、当該所定パターンに従って変化する温度素子61の熱サイクルにより加熱又は冷却され、その結果、DNAが増幅する。   As described above, the temperature control unit 62 can perform temperature control on the plastic tube 82 using the temperature element 61 by changing the direction and magnitude of the output current. Therefore, the PCR method can be easily realized by giving the predetermined pattern of the time transition of the output current to the temperature regulator 101 of the temperature controller 62 as the predetermined pattern of the temporal transition of the temperature target value. That is, the DNA specimen (reaction solution) stored in the plastic tube 82 is heated or cooled by the thermal cycle of the temperature element 61 that changes according to the predetermined pattern, and as a result, the DNA is amplified.

なお、本発明は本実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれるものである。   It should be noted that the present invention is not limited to the present embodiment, and modifications, improvements, etc. within a scope that can achieve the object of the present invention are included in the present invention.

例えば、p型半導体及びn型半導体の組の個数は、図2の実施形態ではp型半導体72P及びn型半導体72nの組といった1組だけとされていたが、これに限定されず、複数組とすることができる。   For example, the number of pairs of p-type semiconductors and n-type semiconductors is only one pair such as the pair of p-type semiconductor 72P and n-type semiconductor 72n in the embodiment of FIG. It can be.

例えば、図6乃至図10に示すように、p型半導体72P1及びn型半導体72N1の第1組と、p型半導体72P2及びn型半導体72N2の第2組といった2組を採用することもできる。   For example, as shown in FIG. 6 to FIG. 10, two sets such as a first set of p-type semiconductor 72P1 and n-type semiconductor 72N1 and a second set of p-type semiconductor 72P2 and n-type semiconductor 72N2 can be adopted.

図6は、このような第1組及び第2組が並列に配置される場合の温度素子61の概略構成を示す上面図である。図7は、当該温度素子61の概略構成の斜視図である。図8は、当該温度素子61の概略構成であって、図7とは異なる構成の斜視図である。ただし、図7及び図8においては、電極兼放熱板73P,73Nの図示は省略されている。なお、図7と図8との構成を個々に区別する必要がある場合、図7の構成の温度素子61を特に「温度素子61a」と称し、図8の構成の温度素子61を特に「温度素子61b」と称する。   FIG. 6 is a top view showing a schematic configuration of the temperature element 61 when such a first set and a second set are arranged in parallel. FIG. 7 is a perspective view of a schematic configuration of the temperature element 61. FIG. 8 is a schematic configuration of the temperature element 61, and is a perspective view of a configuration different from that in FIG. However, in FIG.7 and FIG.8, illustration of the electrode and heat sink 73P and 73N is abbreviate | omitted. When it is necessary to individually distinguish the configurations of FIG. 7 and FIG. 8, the temperature element 61 having the configuration of FIG. 7 is particularly referred to as “temperature element 61a”, and the temperature element 61 having the configuration of FIG. This will be referred to as “element 61b”.

図6に示すように、第1組のp型半導体72P1及び第2組のp型半導体72P2は、一端が電極兼放熱板73Pに接合され、他端が金属製ウェル71の側面71aに接合される。一方、第1組のn型半導体72N1及び第2組のn型半導体72N2は、一端が電極兼放熱板73Nに接合され、他端が金属製ウェル71の側面71bに接合される。   As shown in FIG. 6, the first set of p-type semiconductors 72P1 and the second set of p-type semiconductors 72P2 have one end joined to the electrode and heat dissipation plate 73P and the other end joined to the side surface 71a of the metal well 71. The On the other hand, one end of the first set of n-type semiconductors 72N1 and the second set of n-type semiconductors 72N2 are joined to the electrode / heat dissipation plate 73N, and the other end is joined to the side surface 71b of the metal well 71.

このような第1組と第2組との配置の関係は、並列であれば特に限定されず、例えば図7の温度素子61aにおいては垂直方向に第1組と第2組とがそれぞれ配置され、例えば図8の温度素子61bにおいては水平方向に第1組と第2組とがそれぞれ配置される。また、組の並列数は、図6乃至図8に示す第1組及び第2組の2組に特に限定されず、3組以上であってもよい。   The arrangement relationship between the first set and the second set is not particularly limited as long as they are in parallel. For example, in the temperature element 61a of FIG. 7, the first set and the second set are arranged in the vertical direction. For example, in the temperature element 61b of FIG. 8, the first set and the second set are respectively arranged in the horizontal direction. Further, the number of sets in parallel is not particularly limited to two sets of the first set and the second set shown in FIGS. 6 to 8, and may be three or more sets.

図9は、このような第1組及び第2組が直列に配置される場合の温度素子61の概略構成を示す上面図である。図10は、当該温度素子61の概略構成を示す斜視図である。ただし、図10においては、電極兼放熱板73P,73N,73PNの図示は省略されている。   FIG. 9 is a top view showing a schematic configuration of the temperature element 61 in the case where the first set and the second set are arranged in series. FIG. 10 is a perspective view showing a schematic configuration of the temperature element 61. However, in FIG. 10, illustration of the electrode and heat radiation plates 73P, 73N, and 73PN is omitted.

これらの第1組と第2組とを直列に接合する場合、第1組と第2組との各々の電流が、他組の電流と混在せずに、相互に独立して流れる必要がある。このため、図9や図10に示すように、金属製ウェル71の側面71aから側面71bに至って、金属製ウェル71を分断するように絶縁物91が挿入される。これにより、金属製ウェル71は、2つの領域201,102に区分される。   When these first and second sets are joined in series, the currents of the first and second sets need to flow independently of each other without being mixed with other sets of currents. . For this reason, as shown in FIGS. 9 and 10, the insulator 91 is inserted so as to divide the metal well 71 from the side surface 71 a to the side surface 71 b of the metal well 71. Thereby, the metal well 71 is divided into two regions 201 and 102.

図9や図10の実施形態では、第1組は領域201に接合され、第2組は領域202に接合される。具体的には、第1組については、n型半導体72N1が、金属製ウェル71の側面71aの領域201側に接合され、p型半導体72P1が、金属製ウェル71の側面71bの領域201側に接合される。これとは逆に、第2組については、p型半導体72P2が、金属製ウェル71の側面71aの領域202側に接合され、n型半導体72N2が、金属製ウェル71の側面71bの領域202側に接合される。   In the embodiment of FIGS. 9 and 10, the first set is joined to the region 201 and the second set is joined to the region 202. Specifically, for the first set, the n-type semiconductor 72N1 is bonded to the region 201 side of the side surface 71a of the metal well 71, and the p-type semiconductor 72P1 is connected to the region 201 side of the side surface 71b of the metal well 71. Be joined. On the other hand, for the second set, the p-type semiconductor 72P2 is bonded to the region 202 side of the side surface 71a of the metal well 71, and the n-type semiconductor 72N2 is connected to the region 202 side of the side surface 71b of the metal well 71. To be joined.

この場合、第1組のn型半導体72N1及び第2組のp型半導体72P2に対して電圧が印加されるので、第1組のn型半導体72N1に対して電極兼放熱板73Nが接合され、第2組のp型半導体72P2に対して電極兼放熱板73Pが接合される。また、第1組と第2組とを直列に接合すべく、即ち、第1組のp型半導体72P1と第2組のn型半導体72N2の一方から他方へ電流を流すべく、第1組のp型半導体72P1及び第2組のn型半導体72N2に対して、電極兼放熱板73PNが接合される。   In this case, since a voltage is applied to the first set of n-type semiconductors 72N1 and the second set of p-type semiconductors 72P2, the electrode / heat dissipating plate 73N is joined to the first set of n-type semiconductors 72N1, Electrode and heat dissipation plate 73P is joined to the second set of p-type semiconductor 72P2. In order to join the first set and the second set in series, that is, to pass a current from one of the first set of p-type semiconductor 72P1 and the second set of n-type semiconductor 72N2 to the other, An electrode and heat dissipation plate 73PN is joined to the p-type semiconductor 72P1 and the second set of n-type semiconductors 72N2.

これらの第1組と第2組との配置の関係は、電気的に絶縁されている領域201,202の金属製ウェル71内の形成位置に依存する。例えば図10の例では、左右方向に領域201,202がそれぞれ形成されているので、水平方向に第1組と第2組とがそれぞれ配置される。例えば図示はしないが、上下方向に領域201,202がそれぞれ形成されている場合には、垂直方向に第1組と第2組とがそれぞれ配置される。換言すると、領域201,202の金属製ウェル71内での形成位置を任意に変更することで、それに応じて、第1組と第2組との配置の関係も任意に変更することができる。   The relationship of the arrangement of the first set and the second set depends on the position where the electrically insulated regions 201 and 202 are formed in the metal well 71. For example, in the example of FIG. 10, since the areas 201 and 202 are formed in the left-right direction, the first set and the second set are respectively arranged in the horizontal direction. For example, although not shown, when the areas 201 and 202 are formed in the vertical direction, the first set and the second set are arranged in the vertical direction, respectively. In other words, by arbitrarily changing the formation position of the regions 201 and 202 in the metal well 71, the arrangement relationship between the first group and the second group can be arbitrarily changed accordingly.

また、組の直列数は、図9や図10に示す第1組及び第2組の2組に特に限定されず、3組以上であってもよい。ただし、この場合、金属製ウェル71には、電気的に絶縁されている領域が組数分だけ形成される。そして、複数の領域毎に、側面71aにp型半導体72Pを接合して側面71bにn型半導体72Nを接合する組と、側面71aにn型半導体72Nを接合して側面71bにp型半導体72Pを接合する組とが交互に配置される。そして、側面71aに接合された所定の組のn型半導体72Nに対して電極兼放熱板73Nが接合され、側面71aに接合された別の組のp型半導体72Pに対して電極兼放熱板73Pが接合される。また、電極兼放熱板73PNのような複数の組を直列に接合するための電極兼放熱板も1つ以上設けられる。   Further, the number of sets in series is not particularly limited to two sets of the first set and the second set shown in FIGS. 9 and 10 and may be three or more sets. However, in this case, the metal well 71 is formed with the number of electrically insulated regions corresponding to the number of sets. For each of the plurality of regions, a pair in which the p-type semiconductor 72P is bonded to the side surface 71a and the n-type semiconductor 72N is bonded to the side surface 71b, and an n-type semiconductor 72N is bonded to the side surface 71a and the p-type semiconductor 72P is bonded to the side surface 71b. Are alternately arranged. The electrode / heat dissipating plate 73N is bonded to a predetermined set of n-type semiconductors 72N bonded to the side surface 71a, and the electrode / heat dissipating plate 73P to another set of p-type semiconductors 72P bonded to the side surface 71a. Are joined. One or more electrode / heat radiating plates for joining a plurality of sets in series, such as the electrode / heat radiating plate 73PN, are also provided.

以上、本発明の実施形態として、p型半導体及びn型半導体の組の視点で幾つかの実施形態について説明した。当然ながら、その他の視点でも、本発明は様々な実施形態を取ることが可能である。   As described above, several embodiments have been described as embodiments of the present invention from the viewpoint of a set of a p-type semiconductor and an n-type semiconductor. Of course, the present invention can take various embodiments from other viewpoints.

また例えば、温度素子61の基準温度を維持するための電極兼放熱板の冷却手法は、図2の実施形態では水冷部63による水冷式の手法が採用されていたが、これに限定されず、その他例えば、水以外の液体を使用した冷却手法を採用してもよいし、空冷式の手法を採用してもよい。   Further, for example, the cooling method of the electrode and heat radiating plate for maintaining the reference temperature of the temperature element 61 is a water cooling method by the water cooling unit 63 in the embodiment of FIG. In addition, for example, a cooling method using a liquid other than water may be employed, or an air-cooling method may be employed.

また例えば、温度素子61により冷却又は加熱される対象物は、図2の実施形態ではプラスチックチューブ82、より正確にはそれに収納されたDNA検体(反応溶液)とされていたが、金属製ウェル71の装着部81に直接装着可能な物体であれば特に限定されない。換言すると、金属製ウェル71の装着部81の形状や個数は、図3の例に特に限定されず、冷却又は加熱の対象物体に応じて任意に変更することが可能である。ただし、この場合、装着部81は、対象物の形状に対応した加工が施されて、金属製ウェル71内に形成されていると、対象物に対する加熱又は冷却の応答性がさらに一段と高まるので好適である。   Further, for example, the object to be cooled or heated by the temperature element 61 is the plastic tube 82 in the embodiment of FIG. 2, more precisely the DNA specimen (reaction solution) stored in the plastic tube 82, but the metal well 71 The object is not particularly limited as long as it is an object that can be directly mounted on the mounting portion 81. In other words, the shape and the number of the mounting portions 81 of the metal well 71 are not particularly limited to the example of FIG. 3 and can be arbitrarily changed according to the object to be cooled or heated. However, in this case, if the mounting portion 81 is processed in accordance with the shape of the object and is formed in the metal well 71, the response of heating or cooling to the object is further enhanced, which is preferable. It is.

換言すると、例えば、複数のプラスチックチューブ82を加熱又は冷却すべく、複数の金属製ウェル71を接続してもよいし、或いはまた、金属製ウェル71に形成させる装着部81の数を複数にしてもよい。
この場合、例えば、複数のプラスチックチューブ82が行列状に配置されているときには、金属製ウェル71を上述したように絶縁体で区切り、電流を流す方向を行方向と列方向とに区分することができる。これにより、行方向と列方向との各々に対する個別の温度制御が相互に独立して実行可能になる。
具体的には例えば、N行(Nは2以上の整数値)1列状、即ち直線状にN個のプラスチックチューブ82を接続することができる。この場合には、列方向に対する温度制御によって、N個のプラスチックチューブ82全体の温度制御(粗調整の温度制御)を実現できる。一方、行方向に対する温度制御によって、N個のプラスチックチューブ82各々に対する個別の温度制御(微調整の温度制御)を実現できる。
このように、複数のプラスチックチューブ82を加熱又は冷却する場合には、温度素子61の金属製ウェル71についての抵抗分が増加するので、定電流電源装置102のスイッチングレギュレータ111P1乃至111M2の出力電圧も増加して閾値(1V)を超えることが多くなる。このような場合には、スイッチングレギュレータ111P1乃至111M2が定電流の出力可変制御を担当するので、温度制御時の電力効率が向上する。
In other words, for example, a plurality of metal wells 71 may be connected to heat or cool the plurality of plastic tubes 82, or the number of mounting portions 81 formed in the metal wells 71 may be plural. Also good.
In this case, for example, when a plurality of plastic tubes 82 are arranged in a matrix, the metal well 71 is divided by an insulator as described above, and the direction of current flow can be divided into a row direction and a column direction. it can. Thereby, individual temperature control for each of the row direction and the column direction can be executed independently of each other.
Specifically, for example, N plastic tubes 82 can be connected in N rows (N is an integer value of 2 or more) in one column, that is, in a straight line. In this case, temperature control of the entire N plastic tubes 82 (rough adjustment temperature control) can be realized by temperature control in the row direction. On the other hand, individual temperature control (fine adjustment temperature control) for each of the N plastic tubes 82 can be realized by temperature control in the row direction.
Thus, when heating or cooling the plurality of plastic tubes 82, the resistance of the metal well 71 of the temperature element 61 increases, so that the output voltages of the switching regulators 111P1 to 111M2 of the constant current power supply apparatus 102 are also increased. It often increases and exceeds the threshold (1V). In such a case, since the switching regulators 111P1 to 111M2 are in charge of constant current output variable control, the power efficiency during temperature control is improved.

本発明は、このような各種各様の実施形態によらず、例えば次の(1)乃至(4)のような効果を奏することが可能である。   The present invention can provide the following effects (1) to (4), for example, regardless of the various embodiments.

(1)本発明に係る温度素子61に設けられた金属製ウェル71は、p型半導体72Pとn型半導体72nとを直接接合し、p型半導体72Pとn型半導体72nの一方から他方へ電流を流すと共に熱を伝搬することで、ペルチェ効果を生じさせる機能を有している。この金属製ウェル71には、冷却又は加熱の対象物を直接装着可能な装着部81が設けられている。したがって、当該対象物は、温度制御系にとって遅れ要素となるもの(例えば図1の従来のペルチェ素子1の放熱板21A)を介在せずに金属製ウェル71により直接加熱又は冷却される。即ち、金属製ウェル71は、p型半導体72Pとn型半導体72nとの一方から他方へ流れる電流と共に伝搬される熱の経路になっている。従って、当該経路を伝搬する熱が対象物に直接供給されることによって、当該対象物が加熱され、また、当該対象物から発生られた熱が当該経路に直接供給されることによって、当該対象物が冷却される。その結果、従来のペルチェ素子1を採用した場合と比較して、温度制御の高応答性が実現する。 (1) The metal well 71 provided in the temperature element 61 according to the present invention directly joins the p-type semiconductor 72P and the n-type semiconductor 72n, and current flows from one of the p-type semiconductor 72P and the n-type semiconductor 72n to the other. And has the function of causing the Peltier effect by propagating heat. The metal well 71 is provided with a mounting portion 81 to which a cooling or heating object can be directly mounted. Therefore, the object is directly heated or cooled by the metal well 71 without interposing a delay element for the temperature control system (for example, the heat radiation plate 21A of the conventional Peltier element 1 in FIG. 1). That is, the metal well 71 is a heat path that propagates along with the current flowing from one of the p-type semiconductor 72P and the n-type semiconductor 72n to the other. Accordingly, the object propagating through the path is directly supplied to the object, thereby heating the object, and the heat generated from the object is directly supplied to the path, thereby the object. Is cooled. As a result, compared with the case where the conventional Peltier device 1 is adopted, high responsiveness of temperature control is realized.

(2)本発明に係る温度素子61は、その構造から、従来と比較して一桁近く温度精度を向上させることが可能になる。即ち、図1の従来のペルチェ素子1は、説明の簡略上、p型半導体24P及びn型半導体24Nの組を1組だけ有する構造とされたが、PCR法に適用する従来のペルチェ素子は、このような組を複数組有し、その複数組を直列に繋げる構造を有している。このため、従来のペルチェ素子では、p型半導体又はn型半導体と放熱板との各界面(接触面)の電気抵抗及び熱抵抗が揃っておらず、このことが、位相がズレて熱応答性を鈍らせる要因となっていた。これに対して、本発明に係る温度素子61は、図6乃至図10を用いて上述したように、その構造から、p型半導体72P又はn型半導体72Nと金属製ウェル71との界面の数が極めて少ないため、熱応答性を鈍らせる影響度合が従来と比較して遥かに低くなる。その結果、従来と比較して一桁近い温度精度の向上が可能になる。 (2) Due to the structure of the temperature element 61 according to the present invention, it becomes possible to improve the temperature accuracy by almost an order of magnitude compared with the prior art. That is, the conventional Peltier device 1 of FIG. 1 has a structure having only one set of the p-type semiconductor 24P and the n-type semiconductor 24N for the sake of simplicity of explanation, but the conventional Peltier device applied to the PCR method is A plurality of such sets are provided, and the plurality of sets are connected in series. For this reason, in the conventional Peltier element, the electrical resistance and thermal resistance of each interface (contact surface) between the p-type semiconductor or the n-type semiconductor and the heat sink are not uniform, and this is out of phase and thermal response. It was a factor to slow down. In contrast, the temperature element 61 according to the present invention has the number of interfaces between the p-type semiconductor 72P or the n-type semiconductor 72N and the metal well 71, as described above with reference to FIGS. Is extremely low, the degree of influence that slows down the thermal response is much lower than in the prior art. As a result, it is possible to improve the temperature accuracy by an order of magnitude compared to the conventional case.

(3)ペルチェ効果による熱応答性は、電流が大きいほど高くなることが原理的に知られている。ここで、本発明に係る温度素子61は、図1の従来のペルチェ素子1を含む従来のペルチェ素子と比較して、p型半導体72Pとn型半導体72Nとの組数を減少させ、1組当たりの金属製ウェル71との界面の面積(接触面積)を増大させたため、より一段と大きな電流を取り扱うことが可能である。このため、本発明に係る温度素子61に対して大きな電流を流すことによって、さらに一段と熱応答性が高くなる。 (3) It is known in principle that the thermal response due to the Peltier effect increases as the current increases. Here, the temperature element 61 according to the present invention reduces the number of pairs of the p-type semiconductor 72P and the n-type semiconductor 72N as compared with the conventional Peltier element including the conventional Peltier element 1 of FIG. Since the area (contact area) of the interface with the hitting metal well 71 is increased, a much larger current can be handled. For this reason, by passing a large current through the temperature element 61 according to the present invention, the thermal response is further enhanced.

(4)このような本発明に係る温度素子61を駆動させる定電流源としては、±30A程度の大電流かつ±0.3V程度の小電圧を出力することが要求される。しかしながら、従来のスイッチングレギュレータを単に適用しても、当該要求に応えることは困難である。一方、従来のリニアレギュレータを単に適用しても、当該要求に応えること自体は可能になるが、電力効率が悪く現実的でない。そこで、本発明に係る定電流電源装置102は、スイッチングレギュレータとリニアレギュレータとを併せ持ち、スイッチングレギュレータの出力電圧の値に応じて、定電流の出力可変制御の担当を振り分けている。例えば、スイッチングレギュレータの出力電圧の値が閾値以上の場合には、スイッチングレギュレータが定電流の出力可変制御を担当し、スイッチングレギュレータの出力電圧の値が閾値未満の場合には、リニアレギュレータが定電流の出力可変制御を担当する。これにより、±30A程度の大電流かつ±0.3V程度の小電圧を出力することが可能になると共に、従来のリニアレギュレータを採用した場合と比較して電力効率が飛躍的に向上する。 (4) The constant current source for driving the temperature element 61 according to the present invention is required to output a large current of about ± 30 A and a small voltage of about ± 0.3 V. However, even if a conventional switching regulator is simply applied, it is difficult to meet this requirement. On the other hand, even if a conventional linear regulator is simply applied, it is possible to meet the request itself, but the power efficiency is low and it is not practical. Therefore, the constant current power supply device 102 according to the present invention has both a switching regulator and a linear regulator, and distributes the responsibility of constant current output variable control according to the value of the output voltage of the switching regulator. For example, when the output voltage value of the switching regulator is greater than or equal to the threshold value, the switching regulator is responsible for variable output control of the constant current, and when the output voltage value of the switching regulator is less than the threshold value, the linear regulator is Take charge of variable output control. As a result, it is possible to output a large current of about ± 30 A and a small voltage of about ± 0.3 V, and the power efficiency is dramatically improved as compared with the case where a conventional linear regulator is employed.

このような各種各様の効果を奏する温度素子61をPCR法に適用することで、即ち、当該対象物としてDNA検体収容に用いられるプラスチックチューブ82を採用することで、PCR法における温度目標値の時間推移の所定パターンに対して、DNA検体の温度を追従して変化させることが可能になる。即ち、図11に示すように、PCR法におけるDNA検体の温度制御の高応答性が実現可能になる。その結果、1工程に要する時間が短縮され、処理効率の向上や省電力性の向上が達成可能になる。   By applying the temperature element 61 having such various effects to the PCR method, that is, by adopting the plastic tube 82 used for accommodating the DNA specimen as the object, the temperature target value in the PCR method can be obtained. It becomes possible to change the temperature of the DNA specimen by following the predetermined pattern of the time transition. That is, as shown in FIG. 11, high responsiveness of temperature control of the DNA specimen in the PCR method can be realized. As a result, the time required for one process is shortened, and it is possible to improve the processing efficiency and power saving.

図11は、同一条件によるPCR法の試験を、従来のペルチェ素子1を備える従来のDNA増幅装置を用いて行った場合と、本発明に係る温度素子61を備えるDNA増幅装置51を用いて行った場合との比較を示す図である。   FIG. 11 shows a case where a PCR method test under the same conditions was performed using a conventional DNA amplification apparatus including the conventional Peltier element 1 and a DNA amplification apparatus 51 including the temperature element 61 according to the present invention. FIG.

図11Aは、従来のペルチェ素子1を備える従来のDNA増幅装置を用いてPCR法の試験を行った場合における、DNA検体(反応溶液)の温度の時系列変化を示す図である。図11Bは、本発明に係る温度素子61を備えるDNA増幅装置51を用いてPCR法の試験を行った場合における、DNA検体(反応溶液)の温度の時系列変化を示す図である。図11において、縦軸は温度(度)を示し、横軸は時間(秒)を示している。   FIG. 11A is a diagram showing a time-series change in temperature of a DNA sample (reaction solution) when a PCR method test is performed using a conventional DNA amplification device including the conventional Peltier element 1. FIG. 11B is a diagram showing a time-series change in the temperature of the DNA specimen (reaction solution) when the PCR method test is performed using the DNA amplification device 51 including the temperature element 61 according to the present invention. In FIG. 11, the vertical axis represents temperature (degrees) and the horizontal axis represents time (seconds).

この両試験におけるPCR法における温度目標値の時間推移のパターンは、次の(A)乃至(C)のとおりである。
(A)最初に、温度目標値を94度として、94度まで加熱させて、94度で30秒間保持させる。
この期間が、図11Aにおいては期間201aであり、図11Bにおいては期間201bである。
(B)次に、温度目標値を55度に切り替えて、55度まで冷却させて、55度で30秒間保持させる。
この期間が、図11Aにおいては期間202aであり、図11Bにおいては期間202bである。
(C)次に、温度目標値を72度に切り替えて、72度まで加熱させて、72度で60秒間保持させる。
この期間が、図11Aにおいては期間203aであり、図11Bにおいては期間203bである。
The time transition pattern of the temperature target value in the PCR method in both tests is as follows (A) to (C).
(A) First, the temperature target value is set to 94 degrees, and the temperature is heated to 94 degrees and held at 94 degrees for 30 seconds.
This period is a period 201a in FIG. 11A and a period 201b in FIG. 11B.
(B) Next, the temperature target value is switched to 55 degrees, cooled to 55 degrees, and held at 55 degrees for 30 seconds.
This period is a period 202a in FIG. 11A and a period 202b in FIG. 11B.
(C) Next, the temperature target value is switched to 72 degrees, heated to 72 degrees, and held at 72 degrees for 60 seconds.
This period is a period 203a in FIG. 11A and a period 203b in FIG. 11B.

また、この試験条件は次の(a)乃至(c)のとおりである。
(a)両試験とも、0.2mlの標準品のプラスチックチューブ82、及び、穴径が96mmの装着部81を2つ有する金属製ウェル71が用いられた。ただし、従来のペルチェ素子1を採用した試験では、金属製ウェル71は、放熱板21Aの表面上の所定位置、即ち図1に示す容器31の描画位置に配置された。即ち、従来のペルチェ素子1を採用した試験では、金属製ウェル71は、ブリッジ兼電極機能を発揮せずに、単にプラスチェックチューブ82を装着する装着部としての機能のみを発揮する。一方、本発明に係る温度素子61を採用した試験では、金属製ウェル71は、図3Bに示す寸法のサイズよりも肉薄にしたサイズ、即ち容積を小さくしている。また、温度調整機101内の温度検出部(センサ)は、本願出願時点において、可能な限り高精度で高応答なものを採用した。
(b)DNA検体(反応溶液)の温度は、両試験とも、同一の熱電対をプラスチックチューブ82内に挿入することで測定された。
(c)なお、本発明に係る温度素子61を備えるDNA増幅装置51を用いたPCR法の試験において、温度制御部62の出力電流は次の通りとなった。即ち、図11Bの期間201bのうち、加熱期間(94度まで温度を上昇させている期間)は19.6Aであり、温度保持期間(94度で保持させている期間)は10.4Aであった。図11Bの期間202bのうち、冷却期間(55度まで温度を下降させている期間)は18.1Aであり、温度保持期間(55度で保持させている期間)は5.4Aであった。図11Bの期間203bのうち、加熱期間(72度まで温度を上昇させている期間)は18.5Aであり、温度保持期間(72度で保持させている期間)は7.3Aであった。
The test conditions are as follows (a) to (c).
(A) In both tests, a 0.2 ml standard plastic tube 82 and a metal well 71 having two mounting portions 81 with a hole diameter of 96 mm were used. However, in the test employing the conventional Peltier element 1, the metal well 71 was disposed at a predetermined position on the surface of the heat radiating plate 21A, that is, at the drawing position of the container 31 shown in FIG. That is, in the test employing the conventional Peltier element 1, the metal well 71 does not exhibit the bridge and electrode function but only functions as a mounting portion for mounting the plus check tube 82. On the other hand, in the test employing the temperature element 61 according to the present invention, the metal well 71 has a thinner size, that is, a smaller volume than the size shown in FIG. 3B. In addition, as the temperature detection unit (sensor) in the temperature adjuster 101, a highly accurate and highly responsive one was adopted at the time of filing this application.
(B) The temperature of the DNA specimen (reaction solution) was measured by inserting the same thermocouple into the plastic tube 82 in both tests.
(C) In the PCR method test using the DNA amplifying apparatus 51 including the temperature element 61 according to the present invention, the output current of the temperature control unit 62 was as follows. That is, in the period 201b in FIG. 11B, the heating period (period in which the temperature is raised to 94 degrees) is 19.6 A, and the temperature holding period (period in which the temperature is maintained at 94 degrees) is 10.4 A. It was. In the period 202b of FIG. 11B, the cooling period (period in which the temperature is lowered to 55 degrees) is 18.1A, and the temperature holding period (period in which the temperature is maintained at 55 degrees) is 5.4A. In the period 203b of FIG. 11B, the heating period (period in which the temperature was raised to 72 degrees) was 18.5A, and the temperature holding period (period in which the temperature was maintained at 72 degrees) was 7.3A.

従来のペルチェ素子1を備える従来のDNA増幅装置を用いてPCR法の試験を行った場合には、図11Aの期間201a乃至203aの何れにおいても波形が鈍っていることから明らかなように、温度目標値の時間推移のパターンに対して、DNA検体(反応溶液)の温度が追従して変化していない。即ち、DNA検体(反応溶液)の温度が、温度目標値(期間201aにおいては94度、期間202aおいては55度、期間203aにおいては72度)に到達するまでに遅れが生じている。その結果、温度目標値の時間推移のパターンの(A)における「94度で30秒間保持させる」という目標に対して、図11Aの期間201aでは、94度±0.5度以内の時間が26秒と当該目標が達成できていない。以下同様に、温度目標値の時間推移のパターンの(B)における「55度で30秒間保持させる」という目標に対して、図11Aの期間202aでは、55度±0.5度以内の時間が20秒と当該目標が達成できていない。温度目標値の時間推移のパターンの(C)における「72度で60秒間保持させる」という目標に対して、図11Aの期間202aでは、72度±0.5度以内の時間が56秒と当該目標が達成できていない。   When a PCR method test was performed using a conventional DNA amplification apparatus including the conventional Peltier element 1, the temperature was clearly observed in any of the periods 201a to 203a in FIG. The temperature of the DNA sample (reaction solution) does not change following the pattern of the target value over time. That is, there is a delay until the temperature of the DNA specimen (reaction solution) reaches the temperature target value (94 degrees in the period 201a, 55 degrees in the period 202a, 72 degrees in the period 203a). As a result, with respect to the target of “holding at 94 degrees for 30 seconds” in (A) of the temporal transition pattern of the temperature target value, in the period 201a of FIG. Second and the target have not been achieved. Similarly, in the period 202a of FIG. 11A, the time within 55 ° ± 0.5 ° is set for the target of “holding at 55 ° C. for 30 seconds” in (B) of the time transition pattern of the temperature target value. The target has not been achieved for 20 seconds. With respect to the target of “holding at 72 degrees for 60 seconds” in the time transition pattern of the temperature target value (C), in the period 202a of FIG. 11A, the time within 72 degrees ± 0.5 degrees is 56 seconds. The goal has not been achieved.

このように、従来のペルチェ素子1を備える従来のDNA増幅装置では、温度目標値の時間推移のパターンに対してDNA検体(反応溶液)の温度が追従できない理由は次のとおりである。すなわち、上述したように、従来のペルチェ素子1のA面部位での温度変化、即ち、ブリッジ兼電極機能を有する電極板22Aでの温度変化は、遅れ要素となる放熱板21A(図1参照)を介在して、金属製ウェル71に装着されたプラスチックチューブ82に伝達されるからである。   Thus, in the conventional DNA amplifying apparatus including the conventional Peltier element 1, the reason why the temperature of the DNA sample (reaction solution) cannot follow the time transition pattern of the temperature target value is as follows. That is, as described above, the temperature change in the A-plane portion of the conventional Peltier element 1, that is, the temperature change in the electrode plate 22A having a bridge and electrode function, is a heat radiating plate 21A (see FIG. 1). This is because the signal is transmitted to the plastic tube 82 attached to the metal well 71.

これに対して、本発明に係る温度素子61を備えるDNA増幅装置51を用いてPCR法の試験を行った場合には、図11Bの期間201b乃至203bの何れにおいても波形が急峻になっていることから明らかなように、温度目標値の時間推移のパターンに対して、DNA検体(反応溶液)の温度がほぼ追従して変化している。即ち、DNA検体(反応溶液)の温度が、温度目標値(期間201bにおいては94度、期間202bにおいては55度、期間203bcにおいては72度)に到達するまでに遅れがほぼ生じていない。その結果、温度目標値の時間推移のパターンの(A)における「94度で30秒間保持させる」という目標に対して、図11Bの期間201bでは、94度±0.5度以内の時間が30秒と当該目標が達成できている。以下同様に、温度目標値の時間推移のパターンの(B)における「55度で30秒間保持させる」という目標に対して、図11Bの期間202bでは、55度±0.5度以内の時間が30秒と当該目標が達成できている。温度目標値の時間推移のパターンの(C)における「72度で60秒間保持させる」という目標に対して、図11Bの期間203bでは、72度±0.5度以内の時間が60秒と当該目標が達成できている。さらに言えば、±0.5度という目標が達成されただけではなく、それよりも遥かに高精度の±0.01度が達成できている点にも注目すべきである。さらにまた、図11bの期間204bの分だけ、PCR法の試験のトータル時間が短縮されている。   On the other hand, when the PCR method test is performed using the DNA amplification device 51 including the temperature element 61 according to the present invention, the waveform is steep in any of the periods 201b to 203b in FIG. 11B. As is clear from the above, the temperature of the DNA sample (reaction solution) changes substantially following the temporal transition pattern of the temperature target value. That is, there is almost no delay until the temperature of the DNA sample (reaction solution) reaches the temperature target value (94 degrees in the period 201b, 55 degrees in the period 202b, 72 degrees in the period 203bc). As a result, with respect to the target of “holding at 94 degrees for 30 seconds” in the pattern (A) of the time transition of the temperature target value, in the period 201b of FIG. Seconds and the target have been achieved. Similarly, in the period 202b of FIG. 11B, the time within 55 ° ± 0.5 ° is used for the target of “holding at 55 ° C. for 30 seconds” in the time transition pattern of the temperature target value (B). The target has been achieved for 30 seconds. With respect to the target of “holding at 72 degrees for 60 seconds” in (C) of the time transition pattern of the temperature target value, in the period 203b of FIG. 11B, the time within 72 degrees ± 0.5 degrees is 60 seconds. The goal has been achieved. Furthermore, it should be noted that not only the goal of ± 0.5 degrees has been achieved, but a much higher accuracy of ± 0.01 degrees has been achieved. Furthermore, the total time for the test of the PCR method is shortened by the period 204b in FIG. 11b.

なお、図11Bにおいて、温度上昇または下降時においてプロット点の間隔が空いているのは、温度勾配が急峻になったため、即ち、温度制御の応答性が向上して短時間で温度上昇又は下降ができるようになったためである。また、一定温度の時のプロット線幅が細く見えるのは、温度制御の精度が向上し、ブレが小さくなったためである。なお、金属製ウェル71として、図3Bに示す寸法のサイズよりも肉薄にしたサイズ、即ち容積を小さくしたものを採用したことも、温度精度の向上の一因になっていると推測される。   In FIG. 11B, the plot points are spaced apart when the temperature rises or falls because the temperature gradient becomes steep, that is, the temperature control response is improved and the temperature rises or falls in a short time. This is because it has become possible. Also, the reason why the plot line width appears to be narrow at a constant temperature is because the accuracy of temperature control is improved and blurring is reduced. In addition, it is presumed that the use of the metal well 71 having a smaller thickness than the size shown in FIG. 3B, that is, a smaller volume, contributes to the improvement of temperature accuracy.

このようにして本発明に係る温度素子61を備えるDNA増幅装置5では、温度目標値の時間推移のパターンに対してDNA検体(反応溶液)の温度が追従できるようになる理由は次のとおりである。すなわち、上述したように、金属製ウェル71自体がブリッジ兼電極機能を有していてA面部位として動作するため、A面部位での温度変化が、放熱板21Aのような遅れ要素となるものを一切介在せずに、プラスチックチューブ82に直接伝達されるからである。   In this way, in the DNA amplification device 5 including the temperature element 61 according to the present invention, the temperature of the DNA specimen (reaction solution) can follow the time transition pattern of the temperature target value as follows. is there. That is, as described above, since the metal well 71 itself has a bridge and electrode function and operates as the A surface portion, the temperature change at the A surface portion becomes a delay element like the heat sink 21A. This is because it is directly transmitted to the plastic tube 82 without any interposition.

以上、本発明に係る温度素子61を備えるDNA増幅装置51について説明した。このため、図5の定電流電源装置102は、温度素子61の電源装置として採用された。しかしながら、図5の定電流電源装置102は、温度素子61の電源装置のみならず、直流で動作する各種電気電子機器を負荷とする電源装置として広く採用することができる。   Heretofore, the DNA amplification device 51 including the temperature element 61 according to the present invention has been described. For this reason, the constant current power supply device 102 of FIG. 5 is adopted as the power supply device of the temperature element 61. However, the constant current power supply device 102 of FIG. 5 can be widely used not only as a power supply device for the temperature element 61 but also as a power supply device using various electric and electronic devices operating with direct current as a load.

ここで、図5の定電流電源装置102においては、スイッチングレギュレータ111P1乃至111M2の出力電圧が閾値(上述の例では1V)以上の場合には、スイッチングレギュレータ111P1乃至111M2が定電流の出力可変制御を担当することで、電力効率を高めるようにしている。一方で、スイッチングレギュレータ111P1乃至111M2の出力電圧が閾値未満の場合には、リニアレギュレータ113P,113Mが出力電流の可変制御を担当することで、大電流かつ小電圧(特に閾値未満の電圧)が求められる負荷に対しても安定して定電流を供給することが可能になる。   Here, in the constant current power supply device 102 of FIG. 5, when the output voltages of the switching regulators 111P1 to 111M2 are equal to or higher than a threshold (1 V in the above example), the switching regulators 111P1 to 111M2 perform constant current output variable control. By taking charge, I try to increase power efficiency. On the other hand, when the output voltages of the switching regulators 111P1 to 111M2 are less than the threshold value, the linear regulators 113P and 113M are in charge of variable control of the output current, thereby obtaining a large current and a small voltage (particularly a voltage less than the threshold value). It is possible to supply a constant current stably to a load that is applied.

したがって、大電流かつ小電圧が求められる負荷の電源装置として、図5の定電流電源装置102を採用すると好適である。例えばこのような負荷として、本願出願人が先に出願した特願2009−56483号に開示された「生体組織切断・接着用装置(図1参照)」が存在する。   Therefore, it is preferable to employ the constant current power supply device 102 of FIG. 5 as a power supply device for a load that requires a large current and a small voltage. For example, as such a load, there is a “biological tissue cutting / adhesion device (see FIG. 1)” disclosed in Japanese Patent Application No. 2009-56483 filed earlier by the present applicant.

即ち、特願2009−56483号の願書に添付した明細書等によれば、生体組織切断・接着用装置は、対向させて配置した半導体部2、3と、半導体部2、3の各々に配置された電極兼熱交換部5、6と、半導体部2と半導体部3との間に介在されて該半導体部2と半導体部3とを接合するもので熱伝導性を有する接合部4と、電極兼熱交換部5と電極兼熱交換部6とに各々配置された電極8、9とから少なくとも構成され、接合部4には半導体部2、3よりも外部に突出した切断・接着用部位15が形成されたものとしつつ、電極8、9から半導体部2、3に直流電流を供給する電流源18及び電流の向きを変える変換器20を備えた電気回路10と、水等が循環して流れる熱交換媒体循環路20と、この熱交換媒体循環路20上に配置されたポンプ28及び貯液槽29とを有し、熱交換媒体循環路20は電極兼熱交換部5、6の内部を通過する経路が採られたものとしている。この場合、「電極8、9から半導体部2、3に直流電流を供給する電流源18及び電流の向きを変える変換器20を備えた電気回路10」として、図5の定電流電源装置102を採用すると好適である。   That is, according to the specification attached to the application of Japanese Patent Application No. 2009-56483, the biological tissue cutting / adhesion device is disposed on each of the semiconductor portions 2 and 3 facing each other and the semiconductor portions 2 and 3 respectively. The electrode-and-heat exchanging parts 5 and 6, and the joining part 4 interposed between the semiconductor part 2 and the semiconductor part 3 to join the semiconductor part 2 and the semiconductor part 3 and having thermal conductivity; A cutting / adhesion site which is composed of at least electrodes 8 and 9 disposed in the electrode / heat exchange section 5 and the electrode / heat exchange section 6 respectively, and protrudes to the outside of the semiconductor sections 2 and 3 in the joint section 4. 15 is formed, while an electric circuit 10 including a current source 18 that supplies a direct current from the electrodes 8 and 9 to the semiconductor units 2 and 3 and a converter 20 that changes the direction of the current, water and the like circulate. And the heat exchange medium circulation path 20 that flows through the heat exchange medium circulation path 20 And a pump 28 and reservoir 29, the heat exchange medium circulation path 20 is assumed to path through the interior of the electrode Ken'netsu exchange portions 5 and 6 were taken. In this case, the constant current power supply device 102 of FIG. 5 is referred to as “the electric circuit 10 including the current source 18 that supplies a direct current from the electrodes 8 and 9 to the semiconductor units 2 and 3 and the converter 20 that changes the direction of the current”. It is preferable to adopt it.

51 DNA増幅装置
61,61a,61b 温度素子
62 温度制御部
63 水冷部
71 金属製ウェル
72P,72P1,72P2 p型半導体
72N,72N1,72N2 n型半導体
73P,73N,73PN 電極兼放熱板
74P,74N 水管
81 装着部
91 絶縁体
101 温度調整器
102 定電流電源装置
103 電流計
104 別体電源
105 直流電源
111P1,111P2,111M1,111M2 スイッチングレギュレータ
112P1,112P2,112M1,112M2 ダイオード
113P1,113M リニアレギュレータ
114P,114M カレントループ電流電圧変換部
201,202 領域
51 DNA amplification device 61, 61a, 61b Temperature element 62 Temperature control unit 63 Water cooling unit 71 Metal well 72P, 72P1, 72P2 p-type semiconductor 72N, 72N1, 72N2 n-type semiconductor 73P, 73N, 73PN Electrode and heat dissipation plate 74P, 74N Water pipe 81 Mounting portion 91 Insulator 101 Temperature regulator 102 Constant current power supply device 103 Ammeter 104 Separate power supply 105 DC power supply 111P1, 111P2, 111M1, 111M2 Switching regulator 112P1, 112P2, 112M1, 112M2 Diode 113P1, 113M Linear regulator 114P, 114M Current Loop Current-Voltage Converter 201, 202 Area

Claims (8)

対象物を加熱又は冷却する温度制御装置において、
ペルチェ効果により前記対象物を加熱又は冷却する温度素子と、
前記温度素子に対する通電制御を行う制御部と
を備え、
前記温度素子は、
相互に離間して配置されるp型半導体及びn型半導体の組と、
前記対象物を装着する装着部を有し、前記p型半導体とは第1又は第2の面で、前記n型半導体とは前記第1又は第2の面に対向する第2又は第1の面で各々に接合する接合部位と、
前記p型半導体に接合され、前記制御部により電圧が印加される第1の電極部位と、
前記n型半導体に接合され、前記制御部により電圧が印加される第2の電極部位と
を有し、
前記制御部により前記第1の電極部位と前記第2の電極部位との各々に異なる電圧が印加されて、前記p型半導体と前記n型半導体との間に電位差が生じた場合、前記接合部位は、前記p型半導体と前記n型半導体との一方から他方へ電流を流すと共に熱を伝搬することで、前記ペルチェ効果を生じさせ、
前記制御部は、スイッチングレギュレータとリニアレギュレータとを併せ持つ定電流源を有し、
前記定電流源は、
前記スイッチングレギュレータの出力電圧の絶対値が閾値以上の場合には、定電流の出力可変制御を前記スイッチングレギュレータに担当させ、
前記スイッチングレギュレータの出力電圧の絶対値が前記閾値未満の場合には、定電流の出力可変制御を前記リニアレギュレータに担当させる、
温度制御装置。
In a temperature control device that heats or cools an object,
A temperature element for heating or cooling the object by the Peltier effect;
A control unit that performs energization control on the temperature element, and
The temperature element is
A set of p-type and n-type semiconductors spaced apart from each other;
A mounting portion for mounting the object, wherein the p-type semiconductor is the first or second surface, and the n-type semiconductor is the second or first surface facing the first or second surface. A bonding portion to be bonded to each other in a plane;
A first electrode portion joined to the p-type semiconductor and applied with a voltage by the control unit;
A second electrode part joined to the n-type semiconductor and to which a voltage is applied by the control unit;
When a different voltage is applied to each of the first electrode part and the second electrode part by the control unit to cause a potential difference between the p-type semiconductor and the n-type semiconductor, the junction part Causes the Peltier effect by passing a current from one of the p-type semiconductor and the n-type semiconductor to the other and propagating the heat,
The control unit has a constant current source having both a switching regulator and a linear regulator,
The constant current source is:
If the absolute value of the output voltage of the switching regulator is greater than or equal to a threshold, the switching regulator is responsible for variable output control of a constant current,
When the absolute value of the output voltage of the switching regulator is less than the threshold, the linear regulator is responsible for variable output control of a constant current.
Temperature control device.
前記対象物は、DNA(Deoxyribonucleic acid)検体収容に用いられる所定の容器であり、
前記装着部は、前記容器を装着すべく加工が施された
請求項1に記載の温度制御装置。
The object is a predetermined container used for containing a DNA (Deoxyribonucleic acid) specimen,
The temperature control device according to claim 1, wherein the mounting portion is processed to mount the container.
前記温度素子は、
前記p型半導体及び前記n型半導体の複数の組を有し、
前記接合部位の前記第1の面には、前記複数の組の各々の前記p型半導体が接合され、前記接合部位の前記第2の面には、前記複数の組の各々の前記n型半導体が接合されており、
前記第1の電極部位には、前記複数の組の各々の前記p型半導体が接合され、前記第2の電極部位には、前記複数の組の各々の前記n型半導体が接合されている
請求項1又は2に記載の温度制御装置。
The temperature element is
A plurality of sets of the p-type semiconductor and the n-type semiconductor;
The p-type semiconductor of each of the plurality of sets is bonded to the first surface of the bonding portion, and the n-type semiconductor of each of the plurality of sets is bonded to the second surface of the bonding portion. Are joined,
The p-type semiconductor of each of the plurality of sets is joined to the first electrode portion, and the n-type semiconductor of each of the plurality of sets is joined to the second electrode portion. Item 3. The temperature control device according to Item 1 or 2.
前記温度素子は、
前記p型半導体及び前記n型半導体の複数の組を有し、
前記接合部位の前記第1の面から前記第2の面に至って絶縁物が挿入されることで、前記接合部位は複数の領域に区分されており、
前記複数の領域毎に、前記第1の面側に前記p型半導体を接合して前記第2の面側に前記n型半導体を接合する組と、前記第1の面側に前記n型半導体を接合して前記第2の面側に前記p型半導体を接合する組とが交互に配置されており、
前記第1の電極部位には、前記第1の面に接続された所定の前記p型半導体が接合され、前記第2の電極部位には、前記第1の面に接続された所定の前記n型半導体が接合されており、
前記複数の組を直列に接合する第3の電極部位をさらに有する
請求項1乃至3のいずれか1項に記載の温度制御装置。
The temperature element is
A plurality of sets of the p-type semiconductor and the n-type semiconductor;
The insulator is inserted into the second surface from the first surface of the joint portion, so that the joint portion is divided into a plurality of regions,
For each of the plurality of regions, a set in which the p-type semiconductor is bonded to the first surface side and the n-type semiconductor is bonded to the second surface side, and the n-type semiconductor on the first surface side And a pair of joining the p-type semiconductors on the second surface side by alternately joining,
The predetermined p-type semiconductor connected to the first surface is joined to the first electrode portion, and the predetermined n connected to the first surface is connected to the second electrode portion. Type semiconductor is joined,
The temperature control apparatus according to any one of claims 1 to 3, further comprising a third electrode portion that joins the plurality of sets in series.
前記温度素子の前記第1の電極部位と前記第2の電極部位とのうち少なくとも一方を冷却する冷却部
をさらに備える請求項1乃至4の何れか1項に記載の温度制御装置。
The temperature control device according to any one of claims 1 to 4, further comprising a cooling unit that cools at least one of the first electrode portion and the second electrode portion of the temperature element.
前記温度制御装置は、携帯型の装置である
請求項1乃至5のいずれか1項に記載の温度制御装置。
The temperature control device according to any one of claims 1 to 5, wherein the temperature control device is a portable device.
ペルチェ効果により対象物を加熱又は冷却する温度素子用の電源装置において、
前記温度素子は、
相互に離間して配置されるp型半導体及びn型半導体の組と、
前記対象物を装着する装着部を有し、前記p型半導体と前記n型半導体との各々に接合する接合部位と、
前記p型半導体に接合され、外部から電圧が印加される第1の電極部位と、
前記n型半導体に接合され、外部から電圧が印加される第2の電極部位と
を有し、
前記第1の電極部位と前記第2の電極部位との各々に異なる電圧が外部から印加されて、前記p型半導体と前記n型半導体との間に電位差が生じた場合、前記接合部位は、前記p型半導体と前記n型半導体との一方から他方へ電流を流すと共に熱を伝搬することで、前記ペルチェ効果を生じさせる
温度素子であって、
前記電源装置は、
スイッチングレギュレータとリニアレギュレータとを併せ持つ定電流源装置であって、
前記スイッチングレギュレータの出力電圧の絶対値が閾値以上の場合には、定電流の出力可変制御を前記スイッチングレギュレータに担当させ、
前記スイッチングレギュレータの出力電圧の絶対値が前記閾値未満の場合には、定電流の出力可変制御を前記リニアレギュレータに担当させる、
温度素子用の電源装置。
In a power supply for a temperature element that heats or cools an object by the Peltier effect,
The temperature element is
A set of p-type and n-type semiconductors spaced apart from each other;
A bonding portion for mounting the object, and a bonding portion for bonding to each of the p-type semiconductor and the n-type semiconductor;
A first electrode portion joined to the p-type semiconductor and applied with a voltage from the outside;
A second electrode portion joined to the n-type semiconductor and applied with a voltage from the outside,
When a different voltage is applied from the outside to each of the first electrode part and the second electrode part to generate a potential difference between the p-type semiconductor and the n-type semiconductor, the junction part is: A temperature element that causes the Peltier effect by flowing current from one of the p-type semiconductor and the n-type semiconductor to the other and propagating heat;
The power supply device
A constant current source device having both a switching regulator and a linear regulator,
If the absolute value of the output voltage of the switching regulator is greater than or equal to a threshold, the switching regulator is responsible for variable output control of a constant current,
When the absolute value of the output voltage of the switching regulator is less than the threshold, the linear regulator is responsible for variable output control of a constant current.
Power supply for temperature element.
前記装着部は、前記対象物の形状に対応した加工が施されて、前記接合部位内に形成されている
請求項7に記載の温度素子用の電源装置。
The power supply device for a temperature element according to claim 7, wherein the mounting portion is processed in a shape corresponding to a shape of the object and is formed in the joint portion.
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