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JP2011149756A - Processing operation device, acf attached condition inspection method, or display substrate module assembly line - Google Patents

Processing operation device, acf attached condition inspection method, or display substrate module assembly line Download PDF

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JP2011149756A
JP2011149756A JP2010009874A JP2010009874A JP2011149756A JP 2011149756 A JP2011149756 A JP 2011149756A JP 2010009874 A JP2010009874 A JP 2010009874A JP 2010009874 A JP2010009874 A JP 2010009874A JP 2011149756 A JP2011149756 A JP 2011149756A
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JP
Japan
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acf
substrate
processing work
imaging
processing
Prior art date
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Pending
Application number
JP2010009874A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yuji Akiba
祐司 秋葉
Hideaki Doi
秀明 土井
Keiichi Ebisawa
圭一 海老澤
Junichi Tamamoto
淳一 玉本
Takafumi Hisa
隆文 比佐
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi High Tech Corp
Original Assignee
Hitachi High Technologies Corp
Hitachi High Tech Corp
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Publication date
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a processing operation device or an ACF attachment inspection method capable of effectively inspecting various ACF attached conditions or surely inspecting ACF attached conditions and distinguishing a cause of trouble when luminance has changed, in particular trouble of luminance drop such as illumination deterioration has generated, or a display substrate module assembly line with a higher uptime ratio by noticing the cause of trouble and providing maintenance of the cause (preparation, correspondence). <P>SOLUTION: A predetermined position is illuminated and imaged, a determination area is set at a region where the ACF must exist in the image data obtained by the imaging, the image data on a circumference of the determination area is processed, an attached condition of the ACF is inspected based on the processing result or a luminance level of the image data is detected, and the cause of change of the luminance level is distinguished based on the change with time of the luminance level. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、液晶やプラズマなどのFPD(=Flat Panel Display)の表示基板の周辺に駆動ICの搭載やCOF(Chip on Film)、FPC(Flexible Printed Circuits)などのいわゆるTAB(=Tape Automated Bonding)接続および周辺基板(PCB=printed circuit board)を実装する処理作業装置及びそれ等から構成される表示基板モジュール組立ラインに関するものである。より具体的には、異方性導電フィルム(ACF=Anisotropic Conductive Film)の貼付け状態を検査する検査ユニット及び検査方法並びに検査ユニットまたは検査結果に基づいて構成される表示基板モジュール組立ラインに関するものである。   The present invention is a so-called TAB (= Tape Automated Bonding) such as mounting of a driving IC around a display substrate of an FPD (= Flat Panel Display) such as liquid crystal or plasma, COF (Chip on Film), FPC (Flexible Printed Circuits), etc. The present invention relates to a processing work apparatus for mounting a connection and a peripheral board (PCB = printed circuit board), and a display board module assembly line composed of them. More specifically, the present invention relates to an inspection unit and an inspection method for inspecting the application state of an anisotropic conductive film (ACF) and a display substrate module assembly line configured based on the inspection unit or the inspection result. .

表示基板モジュール組立ラインは、液晶、プラズマなどのFPDの表示基板(以下、基本的には単に基板と略し、その他の基板、例えばPCBの場合はPCB基板と明記する)に、複数の処理作業工程を順次行なうことで、該基板の周辺に、駆動IC、COFおよびPCB基板などを実装する装置である。   The display substrate module assembly line is a process substrate for FPD display substrates such as liquid crystal and plasma (hereinafter, simply abbreviated as a substrate, and clearly described as a PCB substrate in the case of a PCB, for example). Is a device for mounting a driving IC, a COF, a PCB substrate, and the like around the substrate by sequentially performing the above.

例えば、処理工程の一例としては、(1)基板端部のTAB貼付け部を清掃する端子クリーニング工程、(2)清掃後の基板端部にACFを貼付けるACF工程、(3)貼付けたACFの貼付け状態を検査するACF検査工程、(4)ACFを貼付けた位置の基板配線にTABやICを位置決めして搭載する搭載工程、(5)搭載したTABを加熱圧着することで、ACFにより固定する圧着工程、(6)圧着したTABやICの位置や接続状態を検査する搭載検査工程、(7)TABの基板側とは反対側にPCB基板をACFなどで貼付け搭載しACF貼付け状態を検査するPCB工程(複数の工程)などからなる。さらには、処理する基板の辺の数や処理するTABやICの数などで各処理装置の数や基板を回転する処理ユニットなどが必要となる。このような工程を得ることによって、基板側の電極とTAB/IC等の側の電極との間に設けたACFを熱圧着することによって両電極を電気的に接続するものである。   For example, as an example of the processing step, (1) a terminal cleaning step for cleaning the TAB pasting portion at the substrate end, (2) an ACF step for pasting ACF on the substrate end after cleaning, and (3) an ACF pasted ACF inspection process for inspecting the pasting state, (4) Mounting process for positioning and mounting TAB and IC on the substrate wiring at the position where ACF is pasted, (5) Fixing by ACF by thermocompression bonding of the mounted TAB Crimping process, (6) Mounting inspection process for inspecting the position and connection state of TAB and IC that have been crimped, (7) Inspecting the ACF adhering state by attaching a PCB substrate to the side opposite to the TAB substrate side with ACF etc. It consists of a PCB process (a plurality of processes). Furthermore, the number of processing apparatuses, processing units for rotating the substrates, and the like are required depending on the number of sides of the substrate to be processed and the number of TABs and ICs to be processed. By obtaining such a process, both electrodes are electrically connected by thermocompression bonding of an ACF provided between an electrode on the substrate side and an electrode on the TAB / IC side.

上述の(3)や(6)に記すACFの貼付状態を検査する従来技術としては特許文献1がある。特許文献1は、基板に貼付けられたACFの端部を撮像し、ACF部とリード部の輝度差の間に閾値を設定し、リード部の輝度が高い場合に、該閾値をリード部の輝度に基づいて設定している。また、特許文献1は、前記撮像範囲をACF部(黒画素)とリード部(白画素)に二値化し、撮像範囲の白黒画素の割合からACFの端部の捲くれを検出している。   As a conventional technique for inspecting the ACF sticking state described in the above (3) and (6), there is Patent Document 1. Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-133620 images the end of the ACF attached to the substrate, sets a threshold value between the luminance differences between the ACF part and the lead part, and sets the threshold value to the brightness of the lead part when the brightness of the lead part is high. Set based on. Further, Patent Document 1 binarizes the image pickup range into an ACF portion (black pixel) and a lead portion (white pixel), and detects the end of the ACF from the ratio of black and white pixels in the image pickup range.

特開2008−185574号公報JP 2008-185574 A

しかしながら、特許文献1はリード輝度の変化はリード形成の処理のムラ等で生じるとしているが、その他の原因には何があるか、実際にその原因が何であるかについての開示はない。   However, although Patent Document 1 states that a change in lead luminance is caused by unevenness in the process of lead formation, there is no disclosure as to what is the other cause and what is actually the cause.

また、ACF貼付け状態の検査には、ACFの貼付け忘れ、捲くれ(剥がれ)の他に、ACFの位置ズレ、ネジレなどがあるが、ACF端部における白黒画素の割合だけではその判断が困難である。また、撮像範囲をACF貼付位置全体とすると画像処理に時間が掛かる虞がある。   In addition, in the inspection of the ACF attachment state, there are ACF misalignment, twisting, etc. in addition to forgetting ACF attachment and curling (peeling). is there. Further, if the imaging range is the entire ACF attachment position, it may take time for image processing.

本発明の第1の目的は、様々なACF貼付け状態を効率よく検査できる処理作業装置またはACF貼付検査方法を提供することである。
また、本発明の第2の目的は、輝度の変化、特に照明劣化等の輝度低下の不具合が発生しても、確実にACFの貼付状態を検査し、不具合原因を判別できる処理作業装置またはACF貼付検査方法を提供することである。
さらに、本発明の第3の目的は、上記処理作業装置またはACF貼付検査方法を用いることによって、不具合原因を知ることができるので、予めその原因に対する保全(準備、対処)をすることができる稼働率の高い表示基板モジュール組立ラインを提供することである。
The first object of the present invention is to provide a processing work apparatus or an ACF sticking inspection method capable of efficiently inspecting various ACF sticking states.
A second object of the present invention is a processing work apparatus or ACF that can reliably inspect the state of ACF sticking and determine the cause of a failure even if a failure in brightness reduction such as a change in brightness, particularly illumination deterioration occurs. It is to provide a sticking inspection method.
Further, the third object of the present invention is to know the cause of the failure by using the processing apparatus or the ACF sticking inspection method, so that the operation for preserving (preparing and coping with) the cause can be performed in advance. It is to provide a display board module assembly line with a high rate.

上記の第1の目的を達成するために、基板の所定位置に貼付けられたACFの貼付け状態を検査する際に、前記所定位置を照明し、撮像し、前記撮像によって得られた撮像データに前記ACFが存在しなければいけない領域に判定エリアを設定し、前記判定エリアの外周部の撮像データのうち一部または全部を処理し、前記処理結果に基づいて前記ACFの貼付け状態を検査することを第1の特徴とする。   In order to achieve the first object, when inspecting the attachment state of the ACF attached to a predetermined position of the substrate, the predetermined position is illuminated and imaged, and the imaging data obtained by the imaging is added to the imaging data obtained by the imaging. Setting a determination area in an area where an ACF must exist, processing a part or all of imaging data of an outer peripheral portion of the determination area, and inspecting the pasting state of the ACF based on the processing result First feature.

また、上記第1の目的を達成するために、第1の特徴に加え、前記判定エリアは前記領域に隣接した内側に設定されたことを第2の特徴とする。
さらに、上記第1の目的を達成するために、第1の特徴に加え、前記画像処理手段は前記画像の2値化データを得る手段であり、前記検査手段は前記2値化データの一方のレベルの連続性に基づいてACFの貼付け状態を検査することを第3の特徴とする。
In order to achieve the first object, in addition to the first feature, a second feature is that the determination area is set on the inner side adjacent to the region.
Furthermore, in order to achieve the first object, in addition to the first feature, the image processing means is means for obtaining binarized data of the image, and the inspection means is one of the binarized data. The third feature is to inspect the application state of the ACF based on the level continuity.

また、上記第1の目的を達成するために、第1の特徴に加え、前記判定エリアは4角形であり、前記外周部は4角形の4辺であることを第4の特徴とする。
さらに、上記第1の目的を達成するために、第1または第2の特徴に加え、前記検査はACFの位置ずれ、ネジレ、貼付なし、剥がれの各状態のうち少なくとも一つ以上を検査することを第5の特徴とする。
In order to achieve the first object, in addition to the first feature, a fourth feature is that the determination area is a quadrangular shape and the outer peripheral portion is a quadrilateral four sides.
Furthermore, in order to achieve the first object, in addition to the first or second feature, the inspection is to inspect at least one of ACF misalignment, twist, no sticking, and peeling. Is the fifth feature.

また、上記の第1の目的を達成するために、第1の特徴に加え、前記撮像は前記基板を後段の他の処理作業装置に搬送中に行なわれることを第6の特徴とする。
さらに、上記の第1の目的を達成するために、第1乃至第6のいずれかの特徴に加え、前記撮像はラインセンサカメラで行なわれることを第7の特徴とする。
In order to achieve the first object, in addition to the first feature, the sixth feature is that the imaging is performed while the substrate is being transported to another processing work apparatus at a subsequent stage.
Furthermore, in order to achieve the first object, in addition to any of the first to sixth features, a seventh feature is that the imaging is performed by a line sensor camera.

また、上記の第2の目的を達成するために、基板の所定位置に貼付けられたACFの貼付け状態を検査する際に、前記所定位置を照明し、撮像し、前記撮像で得られる撮像データの輝度レベルを検出し、前記輝度レベルの時系列変化に基づき前記変化の原因を判別することを第8の特徴とする。
さらに、上記の第2の目的を達成するために、第8の特徴に加え、前記輝度レベルは前記基板のアライメントマークの輝度により前記輝度レベルを検出することを第9の特徴とする。
In order to achieve the second object, when inspecting the attachment state of the ACF attached to a predetermined position of the substrate, the predetermined position is illuminated and imaged, and the imaging data obtained by the imaging is obtained. The eighth feature is that a luminance level is detected and the cause of the change is determined based on a time-series change of the luminance level.
Furthermore, in order to achieve the second object, in addition to the eighth feature, the ninth feature is that the luminance level is detected by the luminance of the alignment mark on the substrate.

また、上記の第2の目的を達成するために、第8の特徴に加え、前記輝度レベルは前記基板に設けられたリードの輝度により前記輝度レベルを検出することを第10の特徴とする。
さらに、上記の第2の目的を達成するために、第8の特徴に加え、前記輝度レベルは前記基板に設けられた輝度レベル検出用の専用マークの輝度により前記輝度レベルを検出することを第11の特徴とする。
In order to achieve the second object, in addition to the eighth feature, the tenth feature is that the luminance level is detected by the luminance of a lead provided on the substrate.
Further, in order to achieve the second object, in addition to the eighth feature, the brightness level is detected by the brightness of a dedicated mark for brightness level detection provided on the substrate. Eleven features.

また、上記の第2の目的を達成するために、第8の特徴に加え、前記撮像を2値化する閾値を前記輝度レベルに基づいて補正することを第12の特徴とする。
さらに、上記の第2の目的を達成するために、第8の特徴に加え、前記撮像は前記基板を後段の処理作業装置に搬送中に行なわれることを第13の特徴とする。
また、上記の第2の目的を達成するために、第8乃至第13のいずれかの特徴に加え、前記撮像はラインセンサカメラで行なわれることを第14の特徴とする。
In order to achieve the second object, in addition to the eighth feature, a twelfth feature is that a threshold value for binarizing the imaging is corrected based on the luminance level.
Furthermore, in order to achieve the second object, in addition to the eighth feature, the imaging is carried out while the substrate is being transported to a subsequent processing apparatus.
In order to achieve the second object, in addition to any of the eighth to thirteenth features, a fourteenth feature is that the imaging is performed by a line sensor camera.

最後に、上記の第3の目的を達成するために、基板を搬送し、基板の辺の所定位置にACFを貼付け、ACF貼付け状態を検査し、前記2つの処理作業と他の処理作業を順次行なって表示基板モジュール組立をする際に、前記所定位置を照明し、撮像し、前記撮像で得られる撮像データの輝度レベルを検出し、前記輝度レベルの時系列変化に基づき前記変化の原因を判別し、前記2つの処理作業と他の処理作業をするための保全(準備、対処)をするまたは促すことを第15の特徴とする。   Finally, in order to achieve the third object, the substrate is transported, ACF is pasted at a predetermined position on the side of the substrate, the ACF pasting state is inspected, and the two processing operations and other processing operations are sequentially performed. When assembling the display board module in a row, the predetermined position is illuminated and imaged, the luminance level of the image data obtained by the imaging is detected, and the cause of the change is determined based on the time-series change of the luminance level The fifteenth feature is that maintenance (preparation, coping) for the two processing operations and other processing operations is performed or promoted.

本発明によれば、様々なACF貼付け状態を効率よく検査できるACF貼付検査装置またはACF貼付検査方法を提供できる。
また、本発明によれば、輝度の変化、特に照明劣化等の輝度低下の不具合が発生しても、確実にACFの貼付状態を検査し、不具合原因を判別できる処理作業装置またはACF貼付検査方法を提供することである。
さらに、本発明によれば、上記処理作業装置またはACF貼付検査方法を用いることによって、不具合原因を知ることができるので、予めその原因に対する保全(準備、対処)をすることができる稼働率の高い表示基板モジュール組立ラインを提供することである。
ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the ACF sticking inspection apparatus or the ACF sticking inspection method which can test | inspect various ACF sticking states efficiently can be provided.
In addition, according to the present invention, even if a failure in luminance, such as a deterioration in luminance, such as illumination deterioration, occurs, a processing work apparatus or an ACF attachment inspection method that can reliably inspect the application state of the ACF and determine the cause of the failure. Is to provide.
Furthermore, according to the present invention, since the cause of the failure can be known by using the processing work apparatus or the ACF sticking inspection method, maintenance (preparation, countermeasure) for the cause can be performed in advance. It is to provide a display substrate module assembly line.

本発明の第1の実施形態である表示基板モジュール組立ラインを示した図である。It is the figure which showed the display substrate module assembly line which is the 1st Embodiment of this invention. 本発明の実施形態である表示基板の搬送装置の基本構成と動作説明図であるIt is a basic composition and operation explanatory view of a display board transfer device which is an embodiment of the present invention. 図1に示す表示基板モジュール組立ラインのうちACF貼付処理作業装置、ACF貼付状態検査ユニット及びTAB/IC搭載処理作業装置等を示した図である。It is the figure which showed the ACF sticking processing work apparatus, the ACF sticking state inspection unit, the TAB / IC mounting processing work apparatus, etc. among the display board module assembly lines shown in FIG. 図3に示す構成のうちACF貼付状態の検査に必要な主要部分及び検査対象である表示基板を示した図であるIt is the figure which showed the display substrate which is the main part required for the test | inspection of an ACF sticking state among the structures shown in FIG. 3, and a test object. 本実施形態の一つの特徴である様々なACF貼付け状態を効率よく検査できる方法を説明する図であるIt is a figure explaining the method which can test | inspect efficiently the various ACF sticking states which are one characteristic of this embodiment. 基板、リード及びACFに対するそれぞれの輝度レベル及び判定閾値を相対的に示した図である。It is the figure which showed relatively each luminance level and determination threshold value with respect to a board | substrate, a lead | read | reed, and ACF. ACFの様々な貼付状態に対して判定エリアの外周部の白黒画像を示した図である。It is the figure which showed the black-and-white image of the outer peripheral part of the determination area with respect to various sticking states of ACF. ACF貼付状態検査の検査動作を主体とした処理フローを示した図である。It is the figure which showed the processing flow mainly having the test | inspection operation | movement of an ACF sticking state test | inspection. 作業内容に基づく品種パラメータの例を示した図である。It is the figure which showed the example of the kind parameter based on work content. 輝度低下等の不具合が生じた時の各輝度レベルの変動例と判定閾値の補正方法を示した図である。It is the figure which showed the example of a fluctuation | variation of each luminance level when malfunctions, such as a brightness fall, and the correction method of a determination threshold value. 判定閾値の時系列変動例を示した図である。It is the figure which showed the time series fluctuation | variation example of the determination threshold value. 図11の各時系列変動例に対して、考えられる原因、その対処方法を纏めた表である。12 is a table that summarizes possible causes and countermeasures for each time-series variation example in FIG. 11. 輝度変化に対する判定閾値の補正及び輝度変化の原因の判別並びにその対処の動作を処理フローを示した図である。It is the figure which showed the processing flow about the correction | amendment of the determination threshold value with respect to a luminance change, the discrimination | determination of the cause of a luminance change, and the operation | movement of the countermeasure. 判定エリアの他の実施例を示した図である。It is the figure which showed the other Example of the determination area.

以下、本発明の第1の実施形態を図1から図6を用いて説明する。   Hereinafter, a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

図1は、本発明の一実施形態である表示基板モジュール組立ライン1を、図2は、その基板の搬送装置2の基本構成を示した図である。   FIG. 1 is a diagram showing a basic configuration of a display board module assembly line 1 according to an embodiment of the present invention, and FIG.

図1の装置は、基板Pを保持する基板保持手段12とその基板を隣接する処理作業装置の位置まで搬送するための基板搬送手段11からなる搬送装置によって、図中左から右に向かって基板を順次搬送しながら、基板の周辺部に各種処理作業を行って、ICやTABなどの実装組立作業を行なう装置である。図1の装置は、まず、左側の基板長辺側の処理作業装置群13Lで基板長辺側の処理を行ない、基板長辺側の処理を行った後、基板を基板回転手段19で回転させ、同様な構成を有する基板短辺側の処理作業装置群13Sで基板短辺側の処理を行なう。基板長辺側13L及び基板短辺側13Sにおいて、以下同一装置、同一機能については同一符号を記す。   The apparatus shown in FIG. 1 includes a substrate holding means 12 for holding a substrate P and a substrate transfer means 11 for transferring the substrate to the position of the adjacent processing work apparatus. Is a device that performs various processing operations on the periphery of the substrate while sequentially transporting ICs, and performs mounting assembly operations such as IC and TAB. The apparatus shown in FIG. 1 first performs processing on the long side of the substrate by the processing work device group 13L on the long side of the left substrate, performs processing on the long side of the substrate, and then rotates the substrate with the substrate rotating means 19. Then, processing on the short side of the substrate is performed by the processing apparatus group 13S on the short side of the substrate having the same configuration. In the substrate long side 13L and the substrate short side 13S, the same symbols are used for the same devices and functions.

図1で示す基板長辺側処理として、左から(1)基板端部のTAB貼付け部を清掃する端子クリーニング工程,(2)清掃後の基板端部に異方性導電フィルム(ACF)を貼付けるACF工程、(3)貼付けたACFの貼付け状態を検査するACF検査工程、(4)ACFを貼付けた位置の基板配線にTABやICを位置決めして搭載する搭載工程、(5)搭載したTABやICを加熱圧着し、ACFフィルムにより固定する圧着工程を順次行ない、さらに基板辺の最後、または全ての処理辺が終了した後に周辺基板であるPCB基板を実装する処理作業を行うように構成されている。   As the substrate long side processing shown in FIG. 1, from the left, (1) a terminal cleaning process for cleaning the TAB attachment portion at the substrate end, (2) an anisotropic conductive film (ACF) is attached to the substrate end after cleaning ACF process, (3) ACF inspection process for inspecting the attached state of the ACF, (4) Mounting process for positioning and mounting the TAB and IC on the substrate wiring at the position where the ACF is attached, (5) Mounted TAB It is configured to perform a process of mounting a PCB substrate, which is a peripheral substrate, after sequentially performing a crimping process in which the IC and the IC are heat-bonded and fixed with an ACF film, and after the end of the substrate side or all the processing sides are completed. ing.

図中の14〜20は、長辺側、短辺側とも同一符号で示し、それぞれ、端子クリーニング処理作業装置14、ACF貼付処理作業装置15、TAB/IC搭載処理作業装置16,本圧着処理作業装置17、基板回転手段19及びACF貼付処理作業装置15とTAB/IC搭載処理作業装置16の間の搬送路上に設けられたACF貼付状態検査ユニット20を示している。なお、PCB基板実装処理作業装置は割愛している。なお、基板長辺側及び基板短辺側ともにACF貼付処理作業装置15が複数のACF貼付処理作業ユニットを有しているのは、同作業の処理時間が長いために、各ユニットで作業を分担し、表示基板モジュール組立ラインの各装置の処理時間を均一化し、表示基板モジュール組立ラインとしてスループットの向上を図るためである。   14 to 20 in the figure are denoted by the same reference numerals on the long side and the short side, respectively, and the terminal cleaning processing work device 14, the ACF sticking processing work device 15, the TAB / IC mounting processing work device 16, and the main pressure bonding processing work, respectively. The apparatus 17, the substrate rotating means 19, and the ACF sticking state inspection unit 20 provided on the conveyance path between the ACF sticking processing work device 15 and the TAB / IC mounting processing work device 16 are shown. Note that a PCB substrate mounting processing work apparatus is omitted. The reason why the ACF attachment processing work device 15 has a plurality of ACF attachment processing work units on both the long side of the substrate and the short side of the substrate is because the processing time of the work is long, and the work is shared by each unit. In order to improve the throughput of the display substrate module assembly line, the processing time of each device of the display substrate module assembly line is made uniform.

図2は基板Pの搬送方向であるX方向から見たA−A断面図である。同図に示すように、搬送装置2は、基板搬送手段11と基板保持手段12と有し、後述する図3に示すように各処理作業装置に搬送される各基板の位置を検出するリニアエンコーダ2aが設けてある。基板保持手段12は基板搬送方向に細長い基板保持部材12Aを複数(図2では4本)有する。一方、基板搬送手段は前記基板保持部材12Aの間に複数(図2では3本)並置し、やはり、基板搬送方向に細長い基板搬送部材11Aと、図2(a)(b)に示すように基板Pを前記基板保持部材12Aに載置又は離間するために前記基板搬送部材11Aを昇降させる基板搬送部材昇降手段11Bと、基板搬送手段11をガイドレール11C上で搬送方向に移動させるスライダ11Dを有する。   FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line AA when viewed from the X direction, which is the transport direction of the substrate P. As shown in the figure, the transfer apparatus 2 has a substrate transfer means 11 and a substrate holding means 12, and detects the position of each substrate transferred to each processing work apparatus as shown in FIG. 2a is provided. The substrate holding means 12 has a plurality (four in FIG. 2) of substrate holding members 12A elongated in the substrate transport direction. On the other hand, a plurality of substrate transfer means (three in FIG. 2) are juxtaposed between the substrate holding members 12A, and the substrate transfer member 11A is elongated in the substrate transfer direction, as shown in FIGS. 2 (a) and 2 (b). A substrate transport member lifting / lowering means 11B for moving the substrate transport member 11A up and down in order to place or separate the substrate P on the substrate holding member 12A, and a slider 11D for moving the substrate transport means 11 on the guide rail 11C in the transport direction. Have.

このような構造における搬送方法を、図1に示す基板PをACF貼付処理作業装置15からTAB/IC搭載処理作業装置16に搬送する場合を例に説明する。基板搬送手段11は、ACF貼付処理作業装置15の場所で、図2(b)に示すように基板Pを基板搬送部材11Aにより保持し、基板搬送部材昇降手段11Bにより上昇させ、基板Pを基板保持部材12Aから離間させる。その後、基板Pを上昇保持したままで、スライダ11Dにより基板PをTAB/IC搭載処理作業装置16の位置まで搬送する。このとき、基板搬送部材11Aは、基板保持部材12Aの部材の間を移動する。TAB/IC搭載処理作業装置16では、基板Pを下降させ基板保持部材12Aに載置(図2(a))し、基板搬送部材11Aを基板Pから離間させる。そして、基板PはTAB/IC搭載処理作業装置16で搭載作業が行なわれる。この搭載作業中に、基板搬送手段11は、基板を保持していない姿勢を保持し、次の基板を搬送するためにACF貼付処理作業装置15まで戻る。上記一連動作は、組立ライン1で作業中のすべての基板Pに対して同期して行なわれるので、全ての基板が同期して搬送され、処理が行なわれることになる。   A transport method in such a structure will be described by taking as an example the case where the substrate P shown in FIG. 1 is transported from the ACF attachment processing work device 15 to the TAB / IC mounting processing work device 16. As shown in FIG. 2B, the substrate transfer means 11 holds the substrate P by the substrate transfer member 11A and raises the substrate P by the substrate transfer member lifting / lowering means 11B at the location of the ACF attaching processing work device 15. Separated from the holding member 12A. Thereafter, the substrate P is transported to the position of the TAB / IC mounting processing work device 16 by the slider 11D while the substrate P is held upward. At this time, the substrate transport member 11A moves between the members of the substrate holding member 12A. In the TAB / IC mounting processing work device 16, the substrate P is lowered and placed on the substrate holding member 12A (FIG. 2A), and the substrate transport member 11A is separated from the substrate P. The substrate P is loaded by the TAB / IC loading processing work device 16. During this mounting operation, the substrate transfer means 11 holds the posture not holding the substrate, and returns to the ACF application processing work device 15 to transfer the next substrate. Since the above series of operations are performed in synchronism with all the substrates P working in the assembly line 1, all the substrates are conveyed in synchronism and processed.

図1、図2に示す表示基板モジュール組立ライン及び搬送装置は一実施形態であって、特に、どのような処理作業装置を連ねる必要があるかは、組立作業を行なう表示基板モジュール構成に依存することは言うまでもない。   The display substrate module assembly line and the transfer device shown in FIG. 1 and FIG. 2 are an embodiment. In particular, what kind of processing work devices need to be connected depends on the configuration of the display substrate module that performs the assembly work. Needless to say.

以下、本実施形態において最も特徴とするACF貼付状態検査ユニット20について説明する。本実施形態の基本的な考え方は以下の通りである。従来、ACFが正常な領域内にあるかを判定する撮像データの輝度閾値を固定にしていた。一方、本実施形態では、輝度的に安定してできるクロム製のアライメントマークの時系列的変動により輝度変動量を検出し、その輝度変動量に基づいて前記輝度閾値を補正して検査する。   Hereinafter, the ACF sticking state inspection unit 20 that is the most characteristic feature of the present embodiment will be described. The basic concept of this embodiment is as follows. Conventionally, the luminance threshold value of imaging data for determining whether the ACF is in a normal region has been fixed. On the other hand, in the present embodiment, the luminance fluctuation amount is detected based on the time-series fluctuation of the chromium alignment mark that is stably generated in luminance, and the luminance threshold value is corrected based on the luminance fluctuation amount and inspected.

図3は上述した方法を実現する本実施形態の構成を示す図である。図3は、図1に示す表示基板モジュール組立ラインのうち、ACF貼付処理作業装置15、ACF貼付状態検査ユニット20、TAB/IC搭載処理作業装置16、搬送装置2、表示基板モジュール組立ライン全体を制御する統括制御部60及びラインの状態等を表示するモニタ62を示した図である。
図4は、図3に示す構成のうち検査に必要な主要部分及び検査対象である表示基板Pを示した図である。搬送装置2は統括制御部60に制御され、図2に示した搬送手段11を駆動する駆動ユニット2dや表示基板Pを位置認識するためのリニアエンコーダ2aを有する。
FIG. 3 is a diagram showing a configuration of the present embodiment for realizing the above-described method. FIG. 3 shows the display substrate module assembly line shown in FIG. 1 in which the ACF application processing device 15, the ACF application state inspection unit 20, the TAB / IC mounting processing device 16, the transfer device 2, and the entire display substrate module assembly line. It is the figure which showed the monitor 62 which displays the overall control part 60 to control, the state of a line, etc.
FIG. 4 is a diagram showing a main part necessary for inspection and the display substrate P to be inspected in the configuration shown in FIG. The transport device 2 is controlled by the overall control unit 60 and includes a drive unit 2d for driving the transport unit 11 shown in FIG. 2 and a linear encoder 2a for recognizing the position of the display substrate P.

以下、図3、図4を用いてACF貼付状態検査ユニット20の構成及びその動作を説明する。
図1に示すように、長辺側では、ACF貼付処理作業装置15は4台のACF貼付処理作業ユニット15a〜dを有している。本実施形態のACF貼付状態検査ユニット20は、4台のうち下流のユニット装置15dとTAB/IC搭載処理作業装置16間の搬送上に設けられ、基板を次のTAB/IC搭載処理作業装置16に搬送中に、前段の4台のACF貼付処理作業ユニットで貼付けたACFを撮像し検査する。このACF貼付状態検査ユニット20は、基板長辺側及び基板短辺側の処理作業装置群13L、13S毎に楕円で示した位置に1台づつ設けられている。
Hereinafter, the configuration and operation of the ACF attachment state inspection unit 20 will be described with reference to FIGS. 3 and 4.
As shown in FIG. 1, on the long side, the ACF attachment processing work device 15 has four ACF attachment processing work units 15a to 15d. The ACF sticking state inspection unit 20 of the present embodiment is provided on the transport between the downstream unit device 15d and the TAB / IC mounting processing work device 16 among the four units, and the substrate is placed on the next TAB / IC mounting processing work device 16. During transportation, the ACF pasted by the four ACF pasting processing work units in the preceding stage is imaged and inspected. One ACF sticking state inspection unit 20 is provided at a position indicated by an ellipse for each of the processing apparatus groups 13L and 13S on the long side and the short side of the substrate.

ACF貼付状態検査ユニット20は、ACF貼付部を撮像するために照明手段21と、撮像手段22と、ACF貼付処理作業装置の装置制御部30からの指示を受けて撮像タイミング等の制御、撮像した画像信号を処理する検査制御手段である画像処理部23と、ACF貼付結果等を表示する表示部24とを有する。   The ACF application state inspection unit 20 controls the imaging timing and the like in response to an instruction from the illumination unit 21, the imaging unit 22, and the device control unit 30 of the ACF application processing work device in order to image the ACF application unit. It has an image processing unit 23 that is an inspection control means for processing an image signal, and a display unit 24 that displays an ACF pasting result and the like.

図4に示すように、照明手段21はLED21a、集光レンズ21b及びLED電源21cからなり、撮像手段22は、ラインセンサカメラ22a、レンズ22b及び偏光フィルタ22cからなる。また、ラインセンサカメラ22aは、ACF貼付け状態検査に際し、基板アライメントマーク25(以下、基板マークという)を検出できる画素分解能と最大搬送速度に対して画像ブレを発生しないシャッタ開放速度を有している。なお、SHは基板搬送中にACF貼付状態を検査するための撮像領域を示す。   As shown in FIG. 4, the illumination unit 21 includes an LED 21a, a condenser lens 21b, and an LED power source 21c, and the imaging unit 22 includes a line sensor camera 22a, a lens 22b, and a polarization filter 22c. In addition, the line sensor camera 22a has a pixel resolution capable of detecting a substrate alignment mark 25 (hereinafter referred to as a substrate mark) and a shutter opening speed that does not cause image blur for the maximum transport speed during the ACF attachment state inspection. . SH denotes an imaging region for inspecting the ACF attachment state during substrate transport.

図5は、本実施形態の一つの特徴である様々なACF貼付け状態を効率よく検査できる方法を説明する図である。また、図5は図4に示す撮像領域SHをさらに詳しく示した図でもある。   FIG. 5 is a diagram for explaining a method capable of efficiently inspecting various ACF application states, which is one feature of the present embodiment. FIG. 5 is also a diagram showing the imaging region SH shown in FIG. 4 in more detail.

本実施形態のACF貼付状態検査は、ACFが存在しなければいけない領域(判定エリア5)を各ACFの貼付位置に設け、その判定エリアのエッジである外周部(4辺)上の画素のみで処理を行なう。図5において、一番上のACF3aは合格、その他のACF3b、3c及び3eは不合格の例を示している。判定エリア5は、合格であるACF3aの位置に示すようにACF貼付位置より貼付誤差分を引いた内側の領域とする。   In the ACF application state inspection of the present embodiment, an area (determination area 5) in which an ACF must exist is provided at each ACF application position, and only the pixels on the outer peripheral portion (four sides) that are the edges of the determination area. Perform processing. In FIG. 5, the top ACF 3a shows an example of acceptance, and the other ACFs 3b, 3c, and 3e show examples of failure. The determination area 5 is an inner area obtained by subtracting the pasting error from the ACF pasting position, as indicated by the position of the ACF 3a that passes.

図6は、基板P、リード4及びACF3に対するそれぞれの輝度レベルPv、4v及び3vと判定閾値Svを相対的に示したものである。通常、ACF3は黒(レベル)に、リード4は白(レベル)に、そして基板Pはその中間の灰(レベル)に撮像される。判定閾値SvはACFと基板の中間位置に設定される。   FIG. 6 shows the relative luminance levels Pv, 4v and 3v and the determination threshold value Sv for the substrate P, the lead 4 and the ACF 3. Usually, the ACF 3 is imaged in black (level), the lead 4 is imaged in white (level), and the substrate P is imaged in the middle ash (level). The determination threshold value Sv is set at an intermediate position between the ACF and the substrate.

以下の説明では、判定閾値より下の画素を黒画素、判定閾値以上の画素を白画素と呼ぶ。図7は図5に示すACF貼付け例3a、3b、3c、3e及び3aの例で図面下側が剥がれた場合に対して、判定エリアの外周部を黒画素、白画素で示した図である。   In the following description, pixels below the determination threshold are referred to as black pixels, and pixels above the determination threshold are referred to as white pixels. FIG. 7 is a diagram showing the outer periphery of the determination area with black pixels and white pixels when the lower side of the drawing is peeled off in the examples of ACF attachment examples 3a, 3b, 3c, 3e and 3a shown in FIG.

そこで、もし、合格例であるACF3aのように、合格条件である判定エリア5がACF3内にあれば、その外周部の輝度値はすべてACF3の輝度レベル3v、即ちすべて黒画素となり図7(a)となる。実際には輝度値は、種々の原因により多少のふらつきがあるのである範囲内で変動する。基板やリードの輝度値も同様である。また、図5のACF3bのようにACFが判定エリアの左上側に位置がずれれば、判定エリア5の右辺及び下辺外周部の輝度値は基板またはリード端子の輝度レベルPvまたは4vを示し、その部分の画素は白画素となり、図7(b)となる。   Therefore, if the determination area 5 that is a pass condition is within the ACF 3 as in the case of the ACF 3a that is a pass example, all the luminance values of the outer peripheral portion become the brightness level 3v of the ACF 3, that is, all black pixels. ). Actually, the luminance value varies within a certain range due to various fluctuations due to various causes. The same applies to the luminance values of the substrate and leads. Further, if the ACF is displaced to the upper left side of the determination area as in ACF 3b in FIG. 5, the luminance values of the right and lower outer peripheries of the determination area 5 indicate the luminance level Pv or 4v of the substrate or the lead terminal. The pixel in the portion is a white pixel, as shown in FIG.

即ち、判定エリアの外周部(4辺)上の輝度値を判定閾値Svと順次比較し、全外周部の輝度値が判定閾値Svより低ければ、図5のACF3aのように、ACFは正常な位置に正常な状態で貼付けられたことになり、合格と判定する。そうでない場合は不合格とする。実際には、電気的なノイズおよびACF表面の微小な散乱光の影響を考慮して、連続したNG画素(2画素以上)が発生した場合にACFの貼付状態を不合格(ACF貼付不良)と判定とする。   That is, the luminance values on the outer peripheral part (four sides) of the determination area are sequentially compared with the determination threshold value Sv, and if the luminance values of all the outer peripheral parts are lower than the determination threshold value Sv, the ACF is normal as shown by ACF 3a in FIG. It is affixed to the position in a normal state, and is determined to be acceptable. Otherwise, it will be rejected. Actually, considering the influence of electrical noise and the minute scattered light on the surface of the ACF, when continuous NG pixels (2 pixels or more) occur, the ACF application state is rejected (ACF application failure). Judgment.

また、図7に示すように白画素、黒画素のパターンで貼付異常の種類を判定できる。上述したように、すべて黒画素であれば正常であり、図5のACF3bのように並行して位置ズレした場合、位置ズレした反対側の辺が白画素辺となる。また、図5のACF3cのようにACFにネジレのみが発生すると、図7(c)に示すように、辺とその対辺に反対のパターンが発生する。図5のACF3eのように、全くACFが貼付けされていなければ全体が白画素となり図7(e)となる。さらに、図5のACF3aの例で図面下側が剥がれた場合は、剥がれた部分が白画素となり図7(d)となる。   Also, as shown in FIG. 7, the type of sticking abnormality can be determined by the pattern of white pixels and black pixels. As described above, if all the pixels are black, it is normal. When the positions are shifted in parallel as in ACF 3b in FIG. 5, the opposite side where the position is shifted is the white pixel side. Further, when only a twist occurs in the ACF as in the ACF 3c in FIG. 5, an opposite pattern is generated on the side and the opposite side as shown in FIG. 7C. If no ACF is pasted as in ACF 3e in FIG. 5, the entire pixel is a white pixel, which is shown in FIG. 7 (e). Furthermore, in the example of the ACF 3a in FIG. 5, when the lower side of the drawing is peeled off, the peeled portion becomes a white pixel, and FIG. 7 (d) is obtained.

実際は図5のACF3b、ACF3cのパターンなどを複合したパターンがあるので上述した特徴を捉えて判断して判定する。   Actually, there is a pattern in which the patterns of ACF 3b and ACF 3c in FIG.

上記の実施形態では判定エリアをACF貼付位置により貼付誤差分を引いた内側の領域とした。図14は判定エリアの他の実施例を示した図で、判定エリアの外周部を太線で示している。図14(a)は、内側の領域に加えて外側の領域にも判定エリアを追加設定することで、ACF貼付時の余長や伸びなどを検出することができる。   In the above embodiment, the determination area is an inner area obtained by subtracting the pasting error by the ACF pasting position. FIG. 14 is a diagram showing another embodiment of the determination area, and the outer periphery of the determination area is indicated by a thick line. In FIG. 14 (a), by setting the determination area additionally in the outer area in addition to the inner area, it is possible to detect the extra length and elongation when the ACF is pasted.

図14(b)は判定するものが限られている場合の検査対象に適用する場合の例を示したのである。上記の実施形態では判定エリアの4辺すべての画素で2値化処理したが、判定するものが限られている場合には必ずしも4辺を処理する必要がない。例えば、位置ズレやネジレの場合には直交する2辺を処理すれば、必ずその2辺に正常な画素とは反対の画素が現れる。   FIG. 14B shows an example in the case of applying to the inspection object when the judgment is limited. In the above embodiment, the binarization process is performed on all the pixels on the four sides of the determination area. However, when the determination is limited, it is not always necessary to process the four sides. For example, in the case of misalignment or twisting, if two orthogonal sides are processed, pixels opposite to normal pixels always appear on the two sides.

図14(c)は判定エリアを規定する4辺のうち基板Pの辺に垂直な2辺がACFの外側の領域に設定された例である。図14(d)は判定エリアを規定する4辺のうち基板Pの辺に垂直な2辺に処理辺を設けず、基板Pの辺に平行な方向であって内側領域に更に一本又は複数本の処理辺を設けた例である。図14(e)、図14(f)、図14(g)はそれぞれ上記の実施形態で説明した判定エリア、図14(a)、図14(c)に示す判定エリアの外周部の角部をカットした例である。また、図14(h)は判定エリアを形成する4辺の処理部の一部を検査には影響ない程度に間引きした例である。
図14(c)から図14(h)においても、上記の実施形態で説明した判定エリアと同様に
ACFの貼付状態を検査することができる。
FIG. 14C shows an example in which two sides perpendicular to the side of the substrate P among the four sides that define the determination area are set as regions outside the ACF. FIG. 14D shows that one of the four sides defining the determination area is not provided with two processing sides that are perpendicular to the side of the substrate P, and one or more are provided in the inner region in the direction parallel to the side of the substrate P. This is an example in which a processing side of a book is provided. 14 (e), 14 (f), and 14 (g) are the determination areas described in the above embodiment, and the corners of the outer periphery of the determination areas shown in FIGS. 14 (a) and 14 (c), respectively. This is an example of cutting. FIG. 14 (h) shows an example in which a part of the four side processing units forming the determination area is thinned to such an extent that it does not affect the inspection.
14C to 14H, it is possible to inspect the application state of the ACF similarly to the determination area described in the above embodiment.

図8は以上説明したACF貼付状態検査の検査動作を主体とした処理フローを示す。まず、図3に示すACF貼付処理作業装置15でACF貼付処理作業が終了したことを検知し、基板Pを次のTAB/IC搭載処理作業装置16に搬送し、その搬送中に図4に示す撮像領域SHの画像を取得する(Step1)。その後、取込画像から基板アライメントマーク(基板マーク)25を検出する(Step2)。次に、後述する輝度変化に対する判定閾値の補正及び輝度変化の原因の判別並びにその対処を行なう(Step3)。次に、図9に示す作業内容の品種パラメータに基づく両端の基板マーク25間の長さと取込みデータに基づき算出された基板マーク25間の長さにより画像の伸縮の補正と、アライメントによる基板の角度補正とを行なう(Step4)。また、前記品種パラメータと画像処理で得られら基板マーク25に基づき判定アリア5を設定する(Step5)。Step3で得られた判定閾値により判定エリアの外周部の2値化処理を行ない、図7に示す2値化データを得る(Step6)。2値化処理の結果に基づき、図7で説明したようにACF貼付け状態を判定する(Step7)。判定結果、取込画像データ等を統括制御部60に転送する(Step8)。   FIG. 8 shows a processing flow mainly including the inspection operation of the ACF attachment state inspection described above. First, it is detected by the ACF sticking processing work device 15 shown in FIG. 3 that the ACF sticking processing work has been completed, and the substrate P is transported to the next TAB / IC mounting processing work device 16 and shown in FIG. An image of the imaging region SH is acquired (Step 1). Thereafter, the substrate alignment mark (substrate mark) 25 is detected from the captured image (Step 2). Next, correction of a determination threshold for luminance change described later, determination of the cause of the luminance change, and countermeasures are performed (Step 3). Next, correction of image expansion / contraction is performed based on the length between the substrate marks 25 at both ends based on the product parameters of the work content shown in FIG. 9 and the length between the substrate marks 25 calculated based on the captured data, and the angle of the substrate by alignment. Correction is performed (Step 4). Further, the determination area 5 is set based on the substrate parameters 25 obtained by the product type parameters and the image processing (Step 5). The binarization processing of the outer peripheral portion of the determination area is performed using the determination threshold obtained in Step 3 to obtain binarized data shown in FIG. 7 (Step 6). Based on the result of the binarization process, the ACF application state is determined as described with reference to FIG. 7 (Step 7). The determination result, the captured image data, etc. are transferred to the overall control unit 60 (Step 8).

以上説明したように、本実施形態によれば、ACF貼付位置の全画像データを処理することなく、判定エリアの辺の外周部の画素データを処理するだけで、ACF貼付状態を効率よく検査できる。   As described above, according to the present embodiment, the ACF application state can be efficiently inspected only by processing the pixel data of the outer peripheral portion of the side of the determination area without processing all the image data at the ACF application position. .

また、以上説明したように、本実施形態によれば、各辺の外周部の画素データの白画素と黒画素パターンにより貼付け有無だけでなく、位置ズレやネジレあるいは剥がれ等を検出することができる。   Further, as described above, according to the present embodiment, not only the presence / absence of pasting but also misalignment, twisting, or peeling can be detected by the white pixel and black pixel patterns of the pixel data in the outer peripheral portion of each side. .

次に、本実施形態の他の特徴である、輝度の変化、特に照明劣化等の輝度低下の不具合が発生しても、確実にACFの貼付状態を検査し、不具合原因を判別できる方法について説明する。   Next, another feature of the present embodiment, which is a method of reliably inspecting the ACF sticking state and determining the cause of a failure even when a failure in brightness reduction such as a change in brightness, particularly illumination deterioration, occurs. To do.

上述したACFの貼付け状態を検査する際において、輝度変化、特に照度の低下、光軸のズレ、基板の傾き等により輝度低下の不具合が発生する場合がある。図10はその不具合が発生した場合の1例を示した図である。実線は不具合発生前のレベルを示し、破線は不具合発生後のレベルを示す。図10に示すように、ACFの輝度レベル3vは零に近い黒レベルであるのであまり変化はない。しかし、基板Pの輝度レベルPvは基板マーク25の輝度レベル25vの低下に応じて大きく低下する。低下し判定閾値Svに近づくと、基板Pの検出輝度信号もある程度のふらつきがあるが、極端な場合は基板Pの輝度レベルPvが判定閾値Sv以下となり、基板にACFが貼り付けられていない場合も含め、すべてのACFが正しく貼り付けられていると判断されてしまう。その結果、実際の不具合に対する原因究明が遅れ、多くの不良製品を生む可能性もある。   When inspecting the above-described ACF application state, there may be a case where a problem of a decrease in luminance occurs due to a change in luminance, in particular, a decrease in illuminance, an optical axis shift, a substrate tilt, and the like. FIG. 10 is a diagram showing an example when the problem occurs. The solid line indicates the level before the occurrence of the defect, and the broken line indicates the level after the occurrence of the defect. As shown in FIG. 10, the luminance level 3v of the ACF is a black level close to zero, so that there is not much change. However, the luminance level Pv of the substrate P is greatly reduced as the luminance level 25v of the substrate mark 25 is decreased. When the value decreases and approaches the determination threshold value Sv, the detection luminance signal of the substrate P also has some fluctuation, but in an extreme case, the luminance level Pv of the substrate P becomes equal to or less than the determination threshold value Sv and the ACF is not attached to the substrate In other words, it is determined that all ACFs are correctly pasted. As a result, the cause investigation for the actual failure is delayed, and there is a possibility that many defective products are produced.

そこで、本実施形態では図5に示す基板マーク25の輝度値の変動を監視し、その輝度変動値によって判定閾値Svを補正し、補正した判定閾値で確実にACF貼付状態を検査する。また、本実施形態では判定閾値の時系列的変動を監視することによって輝度低下の原因を判別する。   Therefore, in this embodiment, the variation of the luminance value of the substrate mark 25 shown in FIG. 5 is monitored, the determination threshold value Sv is corrected by the luminance variation value, and the ACF application state is reliably inspected by the corrected determination threshold value. In the present embodiment, the cause of the luminance decrease is determined by monitoring the time-series fluctuation of the determination threshold.

アライメントマーク25を選ぶ理由は、クロムなどの金属製なので安定した高い輝度を得られるからである。従って、マーク25の他に安定した高い輝度が得られるものであればよい。例えば、クロム等の金属製の専用マークを基板Pに設けてもよいし、図5に示したリード、特にACFによる接続には用いられない基板上のダミーリードを用いてもよい。   The reason for selecting the alignment mark 25 is that a stable high luminance can be obtained because it is made of metal such as chrome. Therefore, it is sufficient if a stable high luminance can be obtained in addition to the mark 25. For example, a dedicated mark made of metal such as chrome may be provided on the substrate P, or a lead shown in FIG. 5, particularly a dummy lead on the substrate that is not used for connection by ACF may be used.

図10は判定閾値の補正方法の一例も示している。何らかの原因で輝度低下の不具合が生じマーク25の輝度レベル25vが実線から破線にΔML低下したとする。その不具合の影響は輝度レベルの高い対象ほど大きく、輝度レベルの低い対象ほど小さい。基板Pの輝度レベルPvはマークの輝度レベル25vの約1/2であるから、判定閾値Svを輝度変動値ΔMLの1/2低くし、新たな判定閾値Svを得る。式(1)において、括弧内のtは時刻を、0は初期値を示す。   FIG. 10 also shows an example of a determination threshold value correction method. Assume that for some reason a problem of a decrease in luminance occurs and the luminance level 25v of the mark 25 decreases from the solid line to the broken line by ΔML. The influence of the defect is larger as the object has a higher luminance level and smaller as the object has a lower luminance level. Since the luminance level Pv of the substrate P is about 1/2 of the luminance level 25v of the mark, the determination threshold value Sv is lowered by 1/2 of the luminance fluctuation value ΔML to obtain a new determination threshold value Sv. In the formula (1), t in parentheses indicates time and 0 indicates an initial value.

Sv(t)=Sv(0)−1/2*ML(t)
なお、輝度の変化に対する判定閾値の補正の割合は1/2に限らずその他の割合でもよい。
Sv (t) = Sv (0) −1 / 2 * ML (t)
Note that the ratio of correction of the determination threshold with respect to the change in luminance is not limited to 1/2, and other ratios may be used.

以上の輝度値変化に対する判定閾値の補正に対する実施例によれば、輝度が変化しても、安定してACFの貼付状態を検査することができる。   According to the embodiment for the correction of the determination threshold value with respect to the change in the luminance value, the ACF application state can be inspected stably even when the luminance changes.

図11は判定閾値の時系列変動例を示した図である。図11(a)は時間の経過に伴いアライメントマークの輝度が長い時間掛かって徐々に低下する例である。図11(b)はある時突然段階的に変化する例である。図11(c)は一時的に輝度値が低下する例である。図11(d)は一時的に輝度値が上昇する例である。図11(e)は判定閾値がふらつく例である。   FIG. 11 is a diagram illustrating an example of time-series variation of the determination threshold. FIG. 11A shows an example in which the brightness of the alignment mark gradually decreases over time with the passage of time. FIG. 11B shows an example in which the voltage changes suddenly step by step. FIG. 11C shows an example in which the luminance value temporarily decreases. FIG. 11D shows an example in which the luminance value temporarily increases. FIG. 11E shows an example in which the determination threshold fluctuates.

図12は図11の各時系列変動例に対して、考えられる原因及びその対処方法を纏めたものである。基本的にはACF貼付状態検査ユニット20の表示部24に判定結果を表示し近くの作業員に対処を求める。また、ラインの状態等を表示するモニタ62に表示してもよい。
図11(a)のケースは図4に示す照明手段のLED21aの照度低下が原因である。図3の表示部24にその旨を表示し近くの作業員に伝える。作業員は照度低下が小さければLED電源にフィードバックし調光する。調光は自動的に行なってもよい。許容限界に近づいてくれば、作業員は次の作業の段取り替え時にLEDの交換ができるように準備をする。
FIG. 12 summarizes possible causes and countermeasures for each time series variation example of FIG. Basically, the determination result is displayed on the display unit 24 of the ACF sticking state inspection unit 20 and a nearby worker is requested to deal with it. Further, it may be displayed on the monitor 62 for displaying the line state and the like.
The case of FIG. 11A is caused by a decrease in illuminance of the LED 21a of the illumination means shown in FIG. That fact is displayed on the display unit 24 in FIG. 3 to inform nearby workers. If the illuminance drop is small, the worker feeds back to the LED power source and adjusts the light. Dimming may be performed automatically. If the tolerance limit is approached, the worker prepares for the replacement of the LED at the next task setup change.

図11(b)は機械的な突発的な原因と考えられる。この原因として、図4に示す照明手段21もしくは撮像手段22の光軸のずれ、基板Pを次の処理作業装置の搬送する図2に示す搬送装置2の基板搬送部材11Aの傾斜が考えられる。本実施形態における搬送装置は次の処理作業装置との往復移動であるから、基板搬送部材11Aの傾斜が一度発生するとその後は継続的に発生する。この場合は、作業員は該当候補の目視検査をし、次の作業の段取り替え時に調整できるように準備する。   FIG. 11B is considered to be a mechanical sudden cause. As a cause of this, the deviation of the optical axis of the illumination means 21 or the imaging means 22 shown in FIG. 4 and the inclination of the substrate transfer member 11A of the transfer apparatus 2 shown in FIG. Since the transfer apparatus in the present embodiment is reciprocating with the next processing work apparatus, once the substrate transfer member 11A is inclined, it continuously occurs thereafter. In this case, the worker visually inspects the candidate and prepares it so that it can be adjusted when the next work is changed.

図11(c)の一時的な低下の原因としては、流れてきた基板Pの傾斜、基板マーク部分の基板の反りが考えられる。また、搬送装置が本実施形態のように往復移動タイプでなく、ループタイプであれば一定の周期で一時的な変化が現れる。対処としては該当する基板の番号を記録し必要ならば適切な場所で当該基板を検査する。
図11(d)は輝度が一時的に上昇する例で、原因としては基板マーク部分の基板の反りが考えられる。対処内容は図11(c)の場合と同じである。
図11(e)のふらつき変化の原因としては搬送装置の振動によるものと考えられる。搬送装置のラインの全体状況を考慮して対処する。
As a cause of the temporary decrease in FIG. 11C, the flowing substrate P may be inclined and the substrate mark portion may be warped. Further, if the transfer device is not a reciprocating movement type as in the present embodiment but a loop type, a temporary change appears at a constant cycle. As a countermeasure, the number of the corresponding board is recorded, and if necessary, the board is inspected at an appropriate place.
FIG. 11D shows an example in which the luminance increases temporarily. A possible cause is the substrate warpage of the substrate mark portion. The countermeasure content is the same as in the case of FIG.
The cause of the wobbling change in FIG. 11 (e) is considered to be due to the vibration of the transfer device. Take action in consideration of the overall condition of the line of the transport device.

図13は、以上の説明した輝度変化に対する判定閾値の補正及び輝度変化の原因の判別並びにその対処の動作を処理フローとして纏めたものである。本フローは図8のサブルーチィンであるStep3を示す。
まず、基板アライメントマークの輝度値を算出する(Step1)。 次に、算出輝度値即ちマークの輝度値が許容範囲内であるかを判定する(Step2)。許容範囲内であれば図10に示す輝度変動値ΔMLを算出し判定閾値を補正する(Step3)。次に、補正した判定閾値が許容範囲内であるかを判定する(Step4)。例えば、本実施形態では補正した判定閾値が低くなりすぎることなく、ある一定以上の値を有するかを判定する。許容範囲内であれば、図8のStep4に行く。Step4において補正した判定閾値が許容範囲外であれば、変動原因を判定し、その結果を表示部24あるいはモニタ62に表示し作業員に対処を促す(Step5)。最後に、Step2においてマークの輝度値が許容範囲外であれば、輝度値異常をモニタ62に表示し、エラー処理を実施する。エラー処理としては、ラインを停止することも一つの候補である(Step6)。ラインを停止することもあり得るので、Step2の判定は上位の統括制御部60で行なってもよい。
FIG. 13 summarizes, as a processing flow, the correction of the determination threshold for the luminance change described above, the determination of the cause of the luminance change, and the coping operation. This flow shows Step 3, which is the subroutine of FIG.
First, the luminance value of the substrate alignment mark is calculated (Step 1). Next, it is determined whether the calculated luminance value, that is, the luminance value of the mark is within an allowable range (Step 2). If it is within the allowable range, the luminance fluctuation value ΔML shown in FIG. 10 is calculated and the determination threshold value is corrected (Step 3). Next, it is determined whether the corrected determination threshold value is within the allowable range (Step 4). For example, in the present embodiment, it is determined whether the corrected determination threshold value has a certain value or more without becoming too low. If it is within the allowable range, go to Step 4 in FIG. If the determination threshold value corrected in Step 4 is outside the allowable range, the cause of the change is determined, and the result is displayed on the display unit 24 or the monitor 62 to prompt the worker to deal with it (Step 5). Finally, if the brightness value of the mark is outside the allowable range in Step 2, the brightness value abnormality is displayed on the monitor 62, and error processing is performed. As an error process, stopping the line is one candidate (Step 6). Since the line may be stopped, the determination of Step 2 may be performed by the upper overall control unit 60.

以上の輝度値変化に対する不具合原因を判別する実施形態によれば、不具合の原因を事前に検知でき、保全する時間を短縮でき稼働率の高い表示基板モジュール組立ラインを提供することができる。   According to the embodiment for discriminating the cause of the defect with respect to the change in the luminance value as described above, it is possible to provide a display substrate module assembly line that can detect the cause of the defect in advance, shorten the maintenance time, and have a high operating rate.

上記実施形態では、基板を搬送中に撮像領域の画像を取得したが、ACF貼付状態検査ユニット20をACF貼付処理作業装置の後段に設け、基板を搬送後停止させエリアカメラで一度に撮像領域を撮像し、判定エリアのACF貼付状態を検査して、輝度値変化に対する不具合原因を判別しても本発明を適用でき、上記実施形態と同様な効果を得ることができる。   In the above embodiment, the image of the imaging area is acquired while the substrate is being transported. However, the ACF sticking state inspection unit 20 is provided at the rear stage of the ACF sticking processing work apparatus, the board is transported and stopped, and the imaging region is picked up at once by the area camera. The present invention can be applied even if an image is taken and the ACF sticking state of the determination area is inspected to determine the cause of the defect with respect to the change in luminance value, and the same effect as in the above embodiment can be obtained.

また、ACF貼付処理作業装置内でACFを貼付けた後ACFを含む領域を撮像し、判定エリアのACF貼付状態を検査して、輝度値変化に対する不具合原因を判別しても本発明を適用でき、上記実施形態と同様な効果を得ることができる。   Further, the present invention can be applied even if the area including the ACF is imaged after the ACF is pasted in the ACF pasting processing work device, the ACF pasting state of the determination area is inspected, and the cause of the defect with respect to the luminance value change is determined, The same effect as the above embodiment can be obtained.

さらに、上記実施形態では表示基板にACFを貼付ける場合を説明したがPCB基板にACFを貼付ける場合にも本発明を適用でき、上記実施形態と同様の効果を得ることができる。   Furthermore, although the case where ACF is affixed on a display board was demonstrated in the said embodiment, this invention can be applied also when affixing ACF on a PCB board | substrate, and the effect similar to the said embodiment can be acquired.

さらにまた、上記実施形態では表示基板にACFを貼付ける場合を説明したがCOFやFPCなどのいわゆるTABなどにACFを貼付ける場合にも、本発明を適用でき上記実施形態と同様の効果を得ることができる。   Furthermore, in the above embodiment, the case where the ACF is attached to the display substrate has been described. However, the present invention can be applied to the case where the ACF is attached to a so-called TAB such as COF or FPC, and the same effect as the above embodiment can be obtained. be able to.

1:表示基板モジュール組立ライン 2:搬送装置
2a:リニアエンコーダ 2d:駆動ユニット
3(3a〜3c、3e):ACF 3v:ACFの輝度レベル
4(4a〜4c、4e):リード 4v:リードの輝度レベル
5(5a〜5c、5e):判定エリア 11:基板搬送手段
12:基板保持手段 13L:基板長辺側の処理作業装置群
13S:基板短辺側の処理作業装置群
15:ACF貼付処理作業装置 15a〜d:ACF貼付処理作業ユニット
15ah〜dh:ACF貼付ヘッド 16:TAB/IC搭載処理作業装置
20:ACF貼付状態検査ユニット 21:照明手段
22:撮像手段 22a:ラインセンサカメラ
23:画像処理部 24:表示部
25:基板アライメントマーク 30:装置制御部
60:統括制御部 P:基板(表示基板)
Pv:基板(表示基板)の輝度レベル SH:撮像領域
Sv:判定閾値。
1: Display board module assembly line 2: Transfer device 2a: Linear encoder 2d: Drive unit 3 (3a-3c, 3e): ACF 3v: ACF luminance level 4 (4a-4c, 4e): Lead 4v: Lead luminance Level 5 (5a to 5c, 5e): Determination area 11: Substrate transport means 12: Substrate holding means 13L: Substrate long side processing work equipment group 13S: Substrate short side processing work equipment group 15: ACF attachment processing work Equipment 15a to d: ACF sticking processing unit 15ah to dh: ACF sticking head 16: TAB / IC mounting processing work device 20: ACF sticking state inspection unit 21: Illuminating means 22: Imaging means 22a: Line sensor camera 23: Image processing Unit 24: Display unit 25: Substrate alignment mark 30: Device control unit 60: General control unit P: Substrate (display substrate)
Pv: luminance level of the substrate (display substrate) SH: imaging region Sv: determination threshold value.

Claims (33)

基板の所定位置に貼付けられたACFの貼付け状態を検査するACF貼付状態検査ユニットを有する処理作業装置において、
前記ACF貼付け状態検査ユニットは、前記所定位置を照明する照明手段と、前記所定位置を撮像する撮像手段と、前記撮像手段により撮像された画像のうち前記ACFが存在しなければいけない領域に設定された判定エリアの外周部の画像のうち一部又は全部を処理する画像処理手段と、前記画像処理手段の結果に基づいて前記ACFの貼付け状態を検査する検査手段とを有することを特徴とする処理作業装置。
In a processing work apparatus having an ACF attachment state inspection unit for inspecting an attachment state of an ACF attached to a predetermined position of a substrate,
The ACF sticking state inspection unit is set to an area where the ACF must be present in an illuminating unit that illuminates the predetermined position, an imaging unit that images the predetermined position, and an image captured by the imaging unit. The image processing means for processing a part or all of the image of the outer periphery of the determination area, and the inspection means for inspecting the attachment state of the ACF based on the result of the image processing means Work equipment.
前記判定エリアは前記領域に隣接した内側に設定されたことを特徴とする請求項1に記載の処理作業装置。   2. The processing work apparatus according to claim 1, wherein the determination area is set on an inner side adjacent to the area. 前記画像処理手段は前記外周部の画像の2値化データを得る手段であり、前記検査手段は前記2値化データの一方のレベルの連続性に基づいてACFの貼付け状態を検査することを特徴とする請求項1に記載の処理作業装置。   The image processing means is means for obtaining binarized data of the image of the outer periphery, and the inspection means inspects the ACF attachment state based on continuity of one level of the binarized data. The processing work apparatus according to claim 1. 前記判定エリアは4角形であり、前記外周部は4角形の4辺であることを特徴とする請求項1に記載の処理作業装置。   The processing work apparatus according to claim 1, wherein the determination area is a quadrangle, and the outer peripheral portion is four sides of a quadrangle. 前記4辺のうち前記基板の辺と平行な2辺は前記領域に隣接した内側に設定されたことを特徴とする請求項4に記載の処理作業装置。   The processing work apparatus according to claim 4, wherein two sides parallel to the side of the substrate among the four sides are set on the inner side adjacent to the region. 前記検査はACFの位置ずれ、ネジレ、貼付なし、剥がれの各状態のうち少なくとも一つを検査することを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載の処理作業装置。   6. The processing work apparatus according to claim 1, wherein the inspection is performed by inspecting at least one of ACF misalignment, twisting, no sticking, and peeling. 前記撮像は前記基板を後段の他の処理作業装置に搬送する搬送手段による搬送中に行なわれることを特徴とする請求項1に記載の処理作業装置。   The processing work apparatus according to claim 1, wherein the imaging is performed during transfer by a transfer unit that transfers the substrate to another subsequent process work apparatus. 前記撮像手段はラインセンサカメラを有することを特徴とする請求項1乃至7のいずれかに記載の処理作業装置。   8. The processing work apparatus according to claim 1, wherein the imaging unit includes a line sensor camera. 前記撮像手段は、前記搬送手段から得られる前記基板の搬送位置情報に基づき前記撮像をすることを特徴とする請求項7に記載の処理作業装置。   The processing apparatus according to claim 7, wherein the imaging unit performs the imaging based on transport position information of the substrate obtained from the transport unit. 前記撮像は前記ACFを貼付けるACF貼付処理作業装置内で行なわれることを特徴とする請求項1に記載の処理作業装置。   The processing operation apparatus according to claim 1, wherein the imaging is performed in an ACF application processing operation apparatus that attaches the ACF. 前記処理作業装置は前記ACFを貼付けるACF貼付処理作業装置の後段に設けられたことを特徴とする請求項1に記載の処理作業装置。   The processing work apparatus according to claim 1, wherein the processing work apparatus is provided at a subsequent stage of an ACF sticking processing work apparatus for sticking the ACF. 基板の所定位置に貼付けられたACFの貼付け状態を検査するACF貼付け状態検査方法において、
前記所定位置を照明し、撮像し、前記撮像によって得られた撮像データに前記ACFが存在しなければいけない領域に判定エリアを設定し、前記判定エリアの外周部の少なくとも一部の撮像データを処理し、前記処理結果に基づいて前記ACFの貼付け状態を検査することを特徴とするACF貼付け状態検査方法。
In the ACF attachment state inspection method for inspecting the attachment state of the ACF attached to a predetermined position of the substrate,
Illuminate and image the predetermined position, set a determination area in an area where the ACF must be present in the image data obtained by the imaging, and process at least a part of the image data of the outer periphery of the determination area And the ACF sticking state inspection method characterized by testing the sticking state of the ACF based on the processing result.
前記判定エリアは前記領域に隣接した内側に設定されたことを特徴とする請求項12に記載のACF貼付け状態検査方法。   The ACF sticking state inspection method according to claim 12, wherein the determination area is set on an inner side adjacent to the region. 前記処理は前記撮像データを2値化処理し、前記検査は前記2値化レベルの一方のレベルの連続性に基づいてACFの貼付け状態を検査することを特徴とする請求項12に記載の処理作業方法。   13. The process according to claim 12, wherein the processing binarizes the imaging data, and the inspection inspects an ACF attachment state based on continuity of one of the binarization levels. Work method. 前記検査はACFの位置ずれ、ネジレ、貼付なし、はがれの各状態のうち少なくとも一つを検査することを特徴とする請求項12乃至14のいずれかに記載のACF貼付け状態検査方法。   The ACF sticking state inspection method according to claim 12, wherein the inspection is performed by inspecting at least one of ACF misalignment, twisting, no sticking, and peeling. 前記撮像は前記基板を後段の処理作業装置に搬送中に行なわれることを特徴とする請求項12に記載のACF貼付け状態検査方法。   The ACF sticking state inspection method according to claim 12, wherein the imaging is performed while the substrate is being transported to a subsequent processing work apparatus. 前記撮像はラインセンサカメラで行なわれることを特徴とする請求項12乃至16のいずれかに記載のACF貼付け状態検査方法。   The ACF sticking state inspection method according to claim 12, wherein the imaging is performed by a line sensor camera. 基板の所定位置に貼付けられたACFの貼付け状態を検査するACF貼付状態検査ユニットを有する処理作業装置において、
前記ACF貼付け状態検査ユニットは、前記所定位置を照明する照明手段と、前記所定位置を撮像する撮像手段と、前記撮像で得られる撮像データの輝度レベルを検出する輝度レベル検出手段と、前記輝度レベルの時系列変化に基づき前記輝度レベルの変化の原因を判別する判別手段とを有することを特徴とする処理作業装置。
In a processing work apparatus having an ACF attachment state inspection unit for inspecting an attachment state of an ACF attached to a predetermined position of a substrate,
The ACF sticking state inspection unit includes an illumination unit that illuminates the predetermined position, an imaging unit that images the predetermined position, a luminance level detection unit that detects a luminance level of imaging data obtained by the imaging, and the luminance level. And a discriminating means for discriminating the cause of the change in the luminance level based on the time-series change.
前記輝度レベル検出手段は前記基板のアライメントマークの輝度により前記輝度レベルを検出することを特徴とする請求項18に記載の処理作業装置。   The processing work apparatus according to claim 18, wherein the brightness level detecting means detects the brightness level based on brightness of an alignment mark on the substrate. 前記輝度レベル検出手段は前記基板に設けられたリードの輝度により前記輝度レベルを検出することを特徴とする請求項18に記載の処理作業装置。   19. The processing work apparatus according to claim 18, wherein the brightness level detecting means detects the brightness level based on a brightness of a lead provided on the substrate. 前記輝度レベル検出手段は前記基板に設けられた輝度レベル検出用の専用マークの輝度により前記輝度レベルを検出することを特徴とする請求項18に記載の処理作業装置。   19. The processing work apparatus according to claim 18, wherein the brightness level detecting means detects the brightness level based on brightness of a dedicated mark for detecting brightness level provided on the substrate. 前記処理作業装置は前記撮像で得られた撮像データの輝度レベルを2値化する閾値を前記輝度レベルに基づいて補正することを特徴とする請求項18に記載の処理作業装置。   19. The processing work apparatus according to claim 18, wherein the processing work apparatus corrects a threshold value for binarizing a luminance level of the imaging data obtained by the imaging based on the luminance level. 前記撮像は前記基板を後段の他の処理作業装置に搬送する搬送手段による搬送中に行なわれることを特徴とする請求項18に記載の処理作業装置。   19. The processing work apparatus according to claim 18, wherein the imaging is performed during transport by a transport unit that transports the substrate to another processing work apparatus at a subsequent stage. 前記撮像手段はラインセンサカメラを有することを特徴とする請求項18乃至23のいずれかに記載の処理作業装置。   The processing apparatus according to claim 18, wherein the imaging unit includes a line sensor camera. 前記撮像手段は、前記搬送手段から得られる前記基板の搬送位置情報に基づき前記撮像をすることを特徴とする請求項23に記載の処理作業装置。   24. The processing apparatus according to claim 23, wherein the imaging unit performs the imaging based on transport position information of the substrate obtained from the transport unit. 基板の所定位置に貼付けられたACFの貼付け状態を検査するACF貼付け状態検査方法において、
前記所定位置を照明し、撮像し、前記撮像で得られる撮像データの輝度レベルを検出し、前記輝度レベルの時系列変化に基づき前記輝度レベルの変化の原因を判別することを特徴とするACF貼付け状態検査方法。
In the ACF attachment state inspection method for inspecting the attachment state of the ACF attached to a predetermined position of the substrate,
ACF pasting characterized in that the predetermined position is illuminated, imaged, a luminance level of imaging data obtained by the imaging is detected, and a cause of the luminance level change is determined based on a time-series change of the luminance level Condition inspection method.
前記輝度レベルは前記基板のアライメントマークの輝度により検出することを特徴とする請求項26に記載のACF貼付け状態検査方法。   27. The ACF sticking state inspection method according to claim 26, wherein the brightness level is detected by brightness of an alignment mark on the substrate. 前記輝度レベルは前記基板に設けられたリードの輝度により検出することを特徴とする請求項26に記載のACF貼付け状態検査方法。   27. The ACF sticking state inspection method according to claim 26, wherein the brightness level is detected by brightness of a lead provided on the substrate. 前記輝度レベルは前記基板に設けられた輝度レベル検出用の専用マークの輝度により検出することを特徴とする請求項26に記載のACF貼付け状態検査方法。   27. The ACF sticking state inspection method according to claim 26, wherein the brightness level is detected by brightness of a dedicated mark for brightness level detection provided on the substrate. 前記輝度レベルを2値化する閾値を前記時系列変化に基づいて補正することを特徴とする請求項26に記載のACF貼付け状態検査方法。   27. The ACF sticking state inspection method according to claim 26, wherein a threshold value for binarizing the luminance level is corrected based on the time series change. 前記撮像は前記基板を後段の処理作業装置に搬送中に行なわれることを特徴とする請求項26に記載のACF貼付け状態検査方法。   27. The ACF sticking state inspection method according to claim 26, wherein the imaging is performed while the substrate is transported to a subsequent processing work apparatus. 前記撮像はラインセンサカメラで行なわれることを特徴とする請求項26乃至31のいずれかに記載のACF貼付け状態検査方法。   32. The ACF attachment state inspection method according to claim 26, wherein the imaging is performed by a line sensor camera. 基板の辺の所定位置に貼付けたACFの貼付け状態を検査するACF貼付状態検査ユニットを有する処理作業装置と、前記基板に他の処理作業を行なう他処理作業装置と、前記基板を前記処理作業装置及び前記他処理作業装置間に順次搬送する搬送手段と、それらを制御する統括制御部とを有する表示基板モジュール組立ラインにおいて、
前記処理作業装置は請求項18乃至25のいずれかに記載の処理作業装置であって、前記統括制御部は前記ACF貼付け状態検査ユニットの判別手段の結果に基づいて、前記処理作業装置及び前記他処理作業装置の保全(準備、対処)を促す手段を有することを特徴とする表示基板モジュール組立ライン。
A processing work apparatus having an ACF sticking state inspection unit for inspecting a sticking state of the ACF attached to a predetermined position on the side of the substrate, another processing work apparatus for performing other processing work on the substrate, and the substrate as the processing work apparatus. And in the display substrate module assembly line having a transport means for sequentially transporting between the other processing work devices, and a general control unit for controlling them,
The processing work device according to any one of claims 18 to 25, wherein the overall control unit is configured to determine the processing work device and the others based on a result of a determination unit of the ACF sticking state inspection unit. A display substrate module assembly line characterized by having means for promoting maintenance (preparation, handling) of processing work devices.
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