JP2011141155A - シラン系ガス中の水分濃度の測定方法および測定装置 - Google Patents

Abstract

【課題】モノシランなどのシラン系ガス中の微量の水分の濃度をキャビティリングダウン分光法（ＣＲＤＳ法）によって、正確に計測できるようにする。
【解決手段】ＣＲＤＳ装置１の測定セル７にサンプルガスライン５からサンプルガスを送る。シラン系ガスからなる測定対象ガスを測定対象ガスライン２を介してサンプルガスライン５に流すとともに窒素などからなる希釈ガスを希釈ガスライン３からサンプルガスライン５に流し、合流させる。測定セル７内の圧力をベンチュリポンプ２４によって１００〜５００ｔｏｒｒとし、かつ測定対象ガスの分圧を５０ｔｏｒｒ以下となるように希釈ガスで測定対象ガスを希釈する。
【選択図】図１

Description

この発明は、モノシランなどのシラン系ガス中に不純物として微量に含まれる水分の濃度をキャビティリングダウン分光法（ＣＲＤＳ法と呼ぶことがある。）によって測定する方法および装置に関する。

アンモニア、アルシン、フォスフィンなどのガス中に含まれる１ｐｐｍ以下の微量の水分の濃度を測定する方法として、近時ＣＲＤＳ法が用いられるようになった。
ＣＲＤＳ法については、１９８８年にＯ’Ｋｅｅｆｅらによって開発された分光分析法であって、既に周知技術であり、多くの報告等がなされているので、ここではその説明を省略する。

アンモニアなどと同様の水素化物であるモノシランなどのシラン系ガス中の微量の水分の濃度を測定するため、このＣＲＤＳ法を適用しようとすると以下の不都合があることが判明した。
すなわち、水の吸収波長である１３９２ｎｍ付近にモノシランによる大きな吸収があることである。このため、モノシランの妨害を受けて水分濃度を正確に測定できないことになる。

特表２００９−５３０８３１号公報 特開２００９−２３６５０１号公報 特開２００７−９２５４号公報

木村 孝子、ぶんせき ３４３（２００７）ｐｐ３９５〜４００ 大陽日酸技報 ２３ （２００４） ４３ Ａ．Ｏ’Ｋｅｅｆｅ，Ｄ．Ｄ．Ｇ．Ｄｅａｃｏｎ Ｒｅｖ．Ｓｃｉ．Ｉｎｓｔｒｕｍ．５９ （１９８８）２５４４ 寺崎、江頭、近藤 分光研究 ５９，６２（２００７）

本発明における課題は、モノシランなどのシラン系ガス中の微量の水分の濃度をＣＲＤＳ法によって、正確に計測できるようにすることにある。

かかる課題を解決するため、
請求項１に係る発明は、シラン系ガスを測定対象ガスとし、この測定対象ガス中の水分の濃度をキャビティリングダウン分光法によって測定する方法であって、
キャビティリングダウン分光装置の測定セルに導入するサンプルガス中の測定対象ガスの分圧を５０ｔｏｒｒ以下として測定することを特徴とするシラン系ガス中の水分濃度の測定方法である。
請求項２に係る発明は、シラン系ガスを測定対象ガスとし、この測定対象ガス中の水分の濃度をキャビティリングダウン分光法によって測定する方法であって、
キャビティリングダウン分光装置の測定セルに導入するサンプルガスの圧力を１００〜５００ｔｏｒｒとし、かつサンプルガス中の測定対象ガスの分圧を５０ｔｏｒｒ以下として測定することを特徴とするシラン系ガス中の水分濃度の測定方法である。

請求項３に係る発明は、前記サンプルガスが測定対象ガスを不活性ガスからなる希釈ガスで希釈してなるガスであり、このサンプルガスを摺動部分を有しないポンプによって減圧してサンプルガス中の測定対象ガスの分圧が５０ｔｏｒｒ以下とすることを特徴とする請求項１記載のシラン系ガス中の水分濃度の測定方法である。
請求項４に係る発明は、前記サンプルガスが測定対象ガスを不活性ガスからなる希釈ガスで希釈してなるガスであり、このサンプルガスを摺動部分を有しないポンプによって減圧してサンプルガスの圧力を１００〜５００ｔｏｒｒとし、かつサンプルガス中の測定対象ガスの分圧を５０ｔｏｒｒ以下として測定することを特徴とする請求項２記載のシラン系ガス中の水分濃度の測定方法である。
請求項５に係る発明は、希釈ガスによって、測定対象ガスをその濃度が１／２〜１／２０になるように希釈することを特徴とする請求項３または４記載のシラン系ガス中の水分濃度の測定方法である。

請求項６に係る発明は、シラン系ガスを測定対象ガスとし、この測定対象ガス中の水分の濃度をキャビティリングダウン分光法によって測定する装置であって、
キャビティリングダウン分光装置（以下、ＣＲＤＳ装置と呼ぶことがある）と、このキャビティリングダウン分光装置の測定セルに測定対象ガスと希釈ガスとからなるサンプルガスを導入するサンプルガスラインと、このサンプルガスラインに測定対象ガスを送る測定対象ガスラインと、前記サンプルガスラインに希釈ガスを送る希釈ガスラインと、測定セル内の圧力を１００〜５００ｔｏｒｒとする摺動部分を有しないポンプと、前記測定対象ガスラインと希釈ガスラインとに流れるそれぞれのガスの流量を調整する流量調整装置を備えたシラン系ガス中の水分濃度の測定装置である。
請求項７に係る発明は、前記摺動部分を有しないポンプがベンチュリポンプである請求項６に記載のシラン系ガス中の水分濃度の測定装置である。

本発明によれば、測定セル内のシラン系ガスの分圧を５０ｔｏｒｒ以下とすることで、シラン系ガス中の水分の濃度をＣＲＤＳ法によってシラン系ガスの妨害を受けることなく正確に測定できる。
また、測定セル内のサンプルガスの圧力を１００〜５００ｔｏｒｒとし、測定対象ガスの分圧を５０ｔｏｒｒ以下とすることで、シラン系ガス中の水分の濃度をＣＲＤＳ法によってシラン系ガスの妨害を受けることなく正確に測定できるとともにＣＲＤＳ装置の光源であるＤＦＢレーザ（分布帰還型レーザ）として発振波長の波長安定性のさほど高いものを用いなくとも、測定誤差を伴うことなく、水分濃度を求めることができる。

本発明者の検討によれば、ＣＲＤＳ装置の測定セルに導入されるシラン系ガスの分圧を５０ｔｏｒｒ以下とすると、シラン系ガスの妨害を受けることなく、シラン系ガスに含まれる１ｐｐｍ以下の微量の水分の濃度を正確に測定できることが判明した。

ところが、シラン系ガスの分圧が５０ｔｏｒｒ以下とするには測定セル内を真空ポンプにより減圧する必要が生じる。真空ポンプに排気性能の高いダイヤフラムポンプなどのポンプを構成する部材と部材とがその動作にともなって摺動するタイプのポンプを用いた場合には、ポンプ内部にわずかの外気が侵入し、この空気中の酸素がシラン系ガスと反応して二酸化ケイ素の白色粉末が生成し、これが管路を詰まらせることになった。

このため、ポンプとして摺動部材が存在せず、外気の侵入がないタイプのポンプ、例えばベンチュリポンプを用いることが考えられたが、ベンチュリポンプでは排気性能が低く、測定セル内のシラン系ガスの分圧を５０ｔｏｒｒ以下にすることが不可能である。
したがって、シラン系ガスの分圧を５０ｔｏｒｒ以下とするために、窒素などの不活性ガスからなる希釈ガスでシラン系ガスを希釈してやれば、排気性能の低いベンチュリポンプなどの摺動部材を有しないポンプを用いても、測定セル内でのシラン系ガスの分圧を５０ｔｏｒｒ以下とすることができることになる。
かくして、シラン系ガス中の水分の濃度がシラン系ガスの妨害を受けることなく正確に測定できる。

また、測定セル内のサンプルガスの圧力（全圧）を１００〜５００ｔｏｒｒとすることで、水分に起因する吸収ピークの形状がさほど急峻にならないことがわかった。吸収ピークの形状が急峻となると、測定に供するレーザ光源の発振波長の安定性が高くないと、測定誤差が生じる可能性が高くなる。このため、サンプルガスの圧力をこの範囲にすることで、測定用レーザ光源として高い発振波長安定性を有するものを用いなくともよくなり、ＣＲＤＳ装置として安価なものを使用しても測定誤差を生じることがない。

本発明の測定装置の一例を示す概略構成図である。 ＣＲＤＳ法による水分濃度と測定セル内圧力との関係を示す図表である。 具体例の結果を示す図表である。 具体例の結果を示す図表である。 具体例の結果を示す図表である。

図１は、本発明の水分濃度測定装置の一例を示すものである。図１中、符号１は周知のＣＲＤＳ装置を、符号２は測定対象ガスラインを、符号３は希釈ガスラインを、符号４は標準ガスラインを、符号５はサンプルガスラインを、符号６は排気ラインを示す。
ＣＲＤＳ装置１内には測定セル７が設けられ、この測定セル７の入口端にはサンプルガスライン５が接続され、サンプルガスライン５を通ってサンプルガスが導入されるようになっている。また、測定セル７の出口端には排気ライン６が接続され、測定セル７内のサンプルガスが排出されるようになっている。
排気ライン６には、弁２３、ベンチュリポンプ２４が設けられ、測定セル７内のガスを排気して測定セル７内の圧力を所定値にすることができるようになっている。

測定対象ガスライン２には、シラン系ガスからなる測定対象ガスの供給源８が接続されており、この供給源８からの測定対象ガスが弁９、１０を通り、第１マスフローコントローラ１１を経て、その流量、圧力が調整されたうえ、サンプルガスライン５に流れるようになっている。
希釈ガスライン３には、図示しない水分を含まない高純度の窒素、アルゴンなどの不活性ガスからなる希釈ガスの供給源が接続されており、この供給源からの希釈ガスが弁１２、第２マスフローコントローラ１３、弁１４を経て、その流量、圧力が調整されたうえ、サンプルガスライン５に流れるようになっており、サンプルガスライン５に測定対象ガスと希釈ガスの混合ガスが流れるようになっている。

標準ガスライン４には、既知量の水分を含む高純度の窒素、アルゴンなどの不活性ガスからなる標準ガスの供給源１５が接続され、この供給源１５からの標準ガスが弁１６、第３マスフローコントローラ１７、弁１８を経て、その流量、圧力が調整されたうえ、サンプルガスライン５に流れるようになっている。この標準ガスライン４は水分濃度測定装置の校正を行う際に用いられるものである。
また、測定対象ガスライン２にはバイパスライン１９が設けられており、弁１０を閉とすることで、測定対象ガスがバイパスライン１９に流れ、弁２０、水分除去器２１、弁２２を経て、測定対象ガスライン２に戻るようになっている。
測定対象ガスがバイパスライン１９を流れる場合には、測定対象ガス中に含まれる水分が水分除去器２１にて完全に除去されて測定対象ガスライン２に戻るようになっている。このバイパスライン１９も水分濃度測定装置の校正の際に用いられるものである。
なお、図１中、Ｐ１〜Ｐ６はいずれも圧力計を示し、Ｐ６は測定セル７内の圧力を計測するものである。

次に、この測定装置を用いてシラン系ガスからなる測定対象ガス中の水分の濃度を測定する方法を説明する。
本発明において、測定対象ガスとなるシラン系ガスとしては、Ｓｉ_ＸＨ_{（２Ｘ＋２）}（Ｘ＝１、２、３、４）で表されるシランガス、（ＣＨ_３）_ＸＳｉＨ_{（４−Ｘ）}（Ｘ＝１、２、３）または（Ｃ_２Ｈ_５）_ＸＳｉＨ_{（４−Ｘ）}（Ｘ＝１、２、３）で表される有機シランガスが挙げられ、これらの混合ガスであってもよい。

まず、本測定装置の標準的な測定手順を説明する。
サンプルガスライン５の弁２５を開としてサンプルガスライン５からのサンプルガスを測定セル７に導入する。この際、上述のように、測定セル７内に存在するサンプルガス中の測定対象ガスの分圧が５０ｔｏｒｒ以下、好ましくは１０〜４０ｔｏｒｒとする必要がある。
この条件を満たすために、ベンチュリポンプ２４を作動させ、弁２３を開として測定セル７内を減圧とするが、ベンチュリポンプ２４の排気性能では測定セル７内のサンプルガスの圧力を１００ｔｏｒｒ以下にまで減圧することはできない。このため、サンプルガスとして測定対象ガスを希釈ガスで希釈した混合ガスを用いる。これにより、測定セル７内での測定対象ガスの分圧５０ｔｏｒｒ以下とすることができる。
例えば、ベンチュリポンプ２４によって達成しうる圧力が２００ｔｏｒｒとすれば、測定対象ガスを希釈ガスで２５％（体積比）以下に希釈すればよい。
そのためには、測定対象ガスライン２の第１マスフローコントローラ１１と希釈ガスライン３の第２マスフローコントローラ１３を調整して２種のガスの流量を調整し、測定対象ガスをその濃度が１／２〜１／２０になるように希釈ガスで希釈する。

一方、測定セル７内のサンプルガスの圧力（全圧）を１００ｔｏｒｒ以上にしないと、測定値に誤差が生じる問題がある。
図２は、サンプルガスとして濃度１０００ｐｐｂの水分を含む窒素ガスを対象として、測定セル７内の圧力を変化させた時の測定値の圧力依存性を示したグラフである。このグラフから、圧力を変化させても水分濃度はほとんど影響を受けたいことがわかる。しかし、圧力が低下するにつれて吸収ピークの形状がより急峻になることがわかる。

一般的なＣＲＤＳ装置に用いられている光源にはＤＦＢレーザ（分布帰還型レーザ）が用いられており、その発振波長は温度制御によって制御されている。吸収ピークの形状が急峻になると、ＤＦＢレーザの発振波長の波長安定性を高くしないと測定誤差を生じる。このため、ＤＦＢレーザの温度制御を十分高いものとする必要があるが、実用的にはＣＤＲＳ装置の製造コストなどの点から温度制御には限界がある。
したがって、吸収ピークの形状がさほど急峻にならない圧力で測定することが好ましく、測定セル７内のサンプルガスの圧力を１００〜５００ｔｏｒｒ、さらに好ましくは１５０〜３００ｔｏｒｒとすることが望ましい。
このような理由によって、測定対象ガスを希釈ガスで希釈してサンプルガス中の測定対象ガスの分圧を５０ｔｏｒｒ以下とし、同時にサンプルガスの圧力（全圧）を１００〜５００ｔｏｒｒとすることが必要である。

このような測定条件にてＣＲＤＳ法によりシラン系ガス中の１ｐｐｍ以下の微量の水分の濃度を、シラン系ガスの妨害を受けることなく、測定誤差を伴うことなく、正確に測定することができる。
実際の測定対象ガス中の水分濃度を求める測定作業の前に、予め水分濃度測定装置の校正作業を行う。
標準ガス供給源１５から水分量が既知の水分を含む高純度窒素ガスなどの標準ガスを標準ガスライン４からサンプルガスライン５に流す。これと同時に測定対象ガス源８から測定対象ガスとなる未知量の水分を含むシラン系ガスを測定対象ガスライン２に送り出し、弁１０を閉とし、弁２０を開としてこのガスをバイパスライン１９に流す。水分除去器２１を通過することによって水分が完全に除去された測定対象ガスは弁２２、第１マスフローコントローラ１１を経てサンプルガスライン５に流入する。

この時、測定対象ガスおよび標準ガスのそれぞれの流量を第１マスフローコントローラ１１および第３マスフローコントローラ１７によってそれぞれ調整し、測定対象ガスを標準ガスによって希釈し、その濃度を１／２〜１／２０となるようにする。このようにして得られたサンプルガスはサンプルガスライン５から測定セル７に導入される。ついで、ベンチュリポンプ２４を作動させて、測定セル７内の圧力を１００〜５００ｔｏｒｒとする。これにより、測定セル７内の測定対象ガスの分圧を５０ｔｏｒｒ以下とし、測定セル７内のサンプルガスの圧力を１００〜５００ｔｏｒｒとする。こののち、ＣＲＤＳ装置１によりサンプルガス中の水分濃度を示す減衰時間を測定する。標準ガスとして含有水分量が異なるガスを数種類用いることで検量線が得られる。

ついで、標準ガスライン４からの標準ガスの供給を停止し、バイパスライン１９を閉止する。そして、測定対象ガス源８から測定対象ガスを測定対象ガスライン２に流し、希釈ガス源からの希釈ガスを希釈ガスライン３に流し、これらをサンプルガスライン５で合流させる。
この時、測定対象ガスおよび希釈ガスのそれぞれの流量を第１マスフローコントローラ１１および第２マスフローコントローラ１３によってそれぞれ調整し、測定対象ガスを希釈ガスによって希釈し、その濃度を１／２〜１／２０となるようにする。このようにして得られたサンプルガスはサンプルガスライン５から測定セル７に導入される。ついで、ベンチュリポンプ２４を作動させて、測定セル７内の圧力を１００〜５００ｔｏｒｒとする。これにより、測定セル７内の測定対象ガスの分圧を５０ｔｏｒｒ以下とし、測定セル７内のサンプルガスの圧力を１００〜５００ｔｏｒｒとする。こののち、ＣＲＤＳ装置１によりサンプルガス中の水分濃度を示す減衰時間を測定する。

以下、具体例を示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。
（実施例１）
図１に示した構成の水分濃度測定装置を使用し、以下の条件で測定対象ガスとしてモノシランガス中の水分濃度を測定した。
ＣＲＤＳ装置 Ｔｉｇｅｒ Ｏｐｔｉｃｓ社製 ＭＴＯ−１０００−Ｈ２Ｏ
モノシランガス流量 １００ｃｃ／ｍｉｎ．
乾燥窒素流量 ４００ｃｃ／ｍｉｎ．
モノシランガス濃度 ２０％
測定セル内圧力 １９０ｔｏｒｒ
使用ポンプ ベンチュリポンプ（日酸ＴＡＮＡＫＡ製ＴＥ−１４０Ａ）

この例では、測定対象ガスライン２のバイパスライン１９を使い、モノシランガスをバイパスライン１９に流して、これに含まれる水分を完全に除去したうえサンプルガスライン５に流した。既知の濃度の水分を含む標準ガス３種を標準ガスライン４からサンプルガスライン５に流した。そのときのスペクトルを図３に示す。
また、水分濃度の異なる標準ガスを３０分毎に変えて測定対象ガスに添加したときの減衰時間変化を図４に示す。濃度応答は３０分以内であり、安定性も非常に良い。
このときの定量下限は２ｐｐｂとなった。よってモノシランガス中水分濃度の定量下限は１０ｐｐｂと計算できる。

（比較例１）
実施例１と同様の条件で図１でのベンチュリポンプ２４を除いた。このときの測定圧力は大気圧（７６０ｔｏｒｒ）である。
モノシランガス流量 １００ｃｃ／ｍｉｎ．
乾燥窒素流量 ４００ｃｃ／ｍｉｎ．
モノシランガス濃度 ２０％
測定セル内圧力 ７６０ ｔｏｒｒ
使用ポンプ なし
この場合、減衰時間が短くなりすぎ測定不能となった。

（比較例２）
比較例１のようにベンチュリポンプ２４を除いた装置として、実施例のモノシランガス、乾燥窒素の流量をそれぞれ２５ｃｃ／ｍｉｎ．、４７５ｃｃ／ｍｉｎ．とした。この条件で実施例と同様の測定を実施した。
モノシランガス流量 ２５ｃｃ／ｍｉｎ．
乾燥窒素流量 ４７５ｃｃ／ｍｉｎ．
モノシランガス濃度 ５％
測定セル内圧力 ７６０ｔｏｒｒ
このときの定量下限は実施例と同様２ｐｐｂとなった。よってモノシランガス中水分濃度の定量下限は４０ｐｐｂと計算できる。
同様にモノシランガス、乾燥窒素の流量をそれぞれ５０ｃｃ／ｍｉｎ．，４５０ｃｃ／ｍｉｎ．とし、モノシランガス濃度を１０％としたときにも定量下限は実施例と同様２ｐｐｂとなった。
つまりモノシラン−窒素混合ガス中の水分濃度の測定において、モノシラン濃度が１０％以下の領域では、その定量下限は測定する混合ガスの濃度に依存せずに測定が可能であったが、１０％以上の濃度ではモノシランの影響により測定できなかった。
この場合、モノシラン中の水分濃度を最も高感度で測定できるのはモノシラン濃度を高濃度で導入できる１０％の場合であり、その水分濃度の定量下限は２０ｐｐｂであった。

（比較例３）
実施例と同様の条件で図１のベンチュリポンプに代えてダイヤフラムポンプを使用した。このときの測定圧力は５０ｔｏｒｒである。
モノシランガス流量 １００ｃｃ／ｍｉｎ．
乾燥窒素流量 ４００ｃｃ／ｍｉｎ．
モノシランガス濃度 ２０％
測定セル内圧力 ５０ｔｏｒｒ
使用ポンプ ダイヤフラムポンプ（Ｅｄｏｗｒｄｓ製ＭＤ１Ｃ）
実施例１と同様に規定濃度添加したときの減衰時間変化を図５に示す。濃度応答は３０分以内であり、実施例１と同様に非常に速い応答を示すが安定性は実施例１と比較すると劣る。これは図２から予想されることであり、測定圧力が低い場合には測定する水分のピークが急峻になるためピーク近傍での減衰時間の測定誤差が大きくなる為である。
従ってモノシランガス中の水分濃度を測定する場合、モノシランの影響を低減させる方法として測定圧力を低くすることは有効であるものの、圧力が低すぎる場合には測定値の安定性で劣る。筆者は種々の圧力条件で測定した結果、圧力が１００ｔｏｒｒ以下であるとより測定値の不安定さが顕著になることを見出した。

（比較例４）
比較例３から引き続き、測定セル７の出口端とダイヤフラムポンプの間にオリフィスを設置して圧力を１９０ｔｏｒｒに保持して同様の測定を試みた。
モノシランガス流通後に圧力が若干上昇した。測定１２０分後の圧力は２０３ｔｏｒｒとなった。真空ポンプの出口側の配管に白色固体が堆積していた。この配管を新しく取り替えると同様に圧力を１９０ｔｏｒｒに保持できるようになったが、測定を続けると徐々に圧力は上昇を始めた。

以上の具体例は、測定対象ガスとしてモノシランを用いた例であるが、これ以外のジシラン、トリシランについても同様の結果を得ることができた。

１・・ＣＲＤＳ装置、２・・測定対象ガスライン、３・・希釈ガスライン、５・・サンプルガスライン、６・・排気ライン、７・・測定セル、１１・・第１マスフローコントローラ、１３・・第２マスフローコントローラ、２４・・ベンチュリポンプ

Claims (7)

1. シラン系ガスを測定対象ガスとし、この測定対象ガス中の水分の濃度をキャビティリングダウン分光法によって測定する方法であって、
   キャビティリングダウン分光装置の測定セルに導入するサンプルガス中の測定対象ガスの分圧を５０ｔｏｒｒ以下として測定することを特徴とするシラン系ガス中の水分濃度の測定方法。
2. シラン系ガスを測定対象ガスとし、この測定対象ガス中の水分の濃度をキャビティリングダウン分光法によって測定する方法であって、
   キャビティリングダウン分光装置の測定セルに導入するサンプルガスの圧力を１００〜５００ｔｏｒｒとし、かつサンプルガス中の測定対象ガスの分圧を５０ｔｏｒｒ以下として測定することを特徴とするシラン系ガス中の水分濃度の測定方法。
3. 前記サンプルガスが測定対象ガスを不活性ガスからなる希釈ガスで希釈してなるガスであり、このサンプルガスを摺動部分を有しないポンプによって減圧してサンプルガス中の測定対象ガスの分圧が５０ｔｏｒｒ以下とすることを特徴とする請求項１記載のシラン系ガス中の水分濃度の測定方法。
4. 前記サンプルガスが測定対象ガスを不活性ガスからなる希釈ガスで希釈してなるガスであり、このサンプルガスを摺動部分を有しないポンプによって減圧してサンプルガスの圧力を１００〜５００ｔｏｒｒとし、かつサンプルガス中の測定対象ガスの分圧を５０ｔｏｒｒ以下として測定することを特徴とする請求項２記載のシラン系ガス中の水分濃度の測定方法。
5. 希釈ガスによって、測定対象ガスをその濃度が１／２〜１／２０になるように希釈することを特徴とする請求項３または４記載のシラン系ガス中の水分濃度の測定方法。
6. シラン系ガスを測定対象ガスとし、この測定対象ガス中の水分の濃度をキャビティリングダウン分光法によって測定する装置であって、
   キャビティリングダウン分光装置と、このキャビティリングダウン分光装置の測定セルに測定対象ガスと希釈ガスとからなるサンプルガスを導入するサンプルガスラインと、このサンプルガスラインに測定対象ガスを送る測定対象ガスラインと、前記サンプルガスラインに希釈ガスを送る希釈ガスラインと、測定セル内の圧力を１００〜５００ｔｏｒｒとする摺動部分を有しないポンプと、前記測定対象ガスラインと希釈ガスラインとに流れるそれぞれのガスの流量を調整する流量調整装置を備えたシラン系ガス中の水分濃度の測定装置。
7. 前記摺動部分を有しないポンプがベンチュリポンプである請求項６に記載のシラン系ガス中の水分濃度の測定装置。

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