JP2011016264A - 透明導電フィルム構造 - Google Patents

Abstract

【課題】反射率調整層の厚み及び屈折率により、透明導電フィルムの反射率を制御し、エッチング工程の後に異なるブロックの間の反射率の差をなくすことによって、上記異なるブロックの間に同一の光学表示効果向上させる透明導電フィルム構造を提供する。
【解決手段】透明導電フィルム構造１は、基板１０と、前記基板上に形成された多層膜構造２０とを含み、前記多層膜構造２０は、前記基板１０に最も近い位置から順に反射率調整層２１と透明導電フィルム２２とからなる。
【選択図】図２

Description

本発明は、透明導電フィルム構造に関し、特に、画像品質を向上させる透明導電フィルム構造に関するものである。

製造技術の進歩及び様々な応用的側面における持続的な展開に伴い、電子製品は、さらに、多様化且つ機能や整合性の高い用途性を提供し、ユーザの操作を便利にしている。例えば、ユーザに、より便利にまた直感的に電子用品を制御させるため、現在の電子情報製品には、従来の押しボタン型の制御ボタンに代わって、タッチコントロール式の表示パネルが広く搭載されつつある。

現在、タッチパネルは、大きく、抵抗式、容量式、赤外式及び超音波式等のタイプに分けられ、中でも、抵抗式タッチパネル及び容量式タッチパネルは、最も汎用な製品である。応用的側面において、容量式タッチパネルは、複数点の接触で制御できる特徴を持ち、より人間的な操作モードを提供できるので、市場やユーザから好意を持って迎えられた。しかし、容量式タッチパネルは、例えば、指のような導体材質でタッチパネルに接触しないと、電子製品を操作することができないという欠点がある。一方、抵抗式タッチパネルは、ユーザがあらゆる材質でタッチパネルと接触しても、電子製品の操作及び制御を行うことができるので、タッチパネルの使用の便利性が向上している。また、抵抗式タッチパネルは、そのコストが低く、技術も成熟しているので、現在の中級レベルの製品ラインは、主に、抵抗式タッチパネルを用いる。

従来のタッチパネルは、ガラス基板の表面に透明導電フィルムが直接に積層され、該透明導電フィルムを接触することによって、信号入力またはタッチ位置感知等の機能を達成する。

しかしながら、透明導電フィルムは、黄光現像やエッチングの工程を経て回路パターンを形成することにより、関連の駆動回路を構成しなければならない。実際の製造プロセスでは、エッチング工程によりエッチングの痕跡がパネルに残され、例えば、透明導電フィルムに段差のある構造が形成される。光学的分析において、エッチングによる露出されたガラス基板とエッチングされない透明導電フィルムとの間では、反射率が大きく違っており、スペクトルに著しい落差が生じるので、ユーザの視覚に暗い画像またはブロックとなる、或いは、著しい境界線等が現れ、電子製品の品質を低下させてしまうことになる。

そのため、本発明者は、上記欠点の改良を目的とし、長年この領域で積み立てた経験により、専念して観察かつ研究をし、さらに学術理論の運用を合わせ、合理的な設計かつ前記欠点を有効に改善できる本発明を提案した。

本発明の主な目的は、基板と最外層の構造との間に反射率調整層を形成し、該反射率調整層の屈折率及び厚みの関係に基づいて反射率の調整を行い、異なるブロック（例えば、エッチング部分及びエッチングされない部分）の反射率の落差を制御し、異なるブロックの間の色表示の差異をなくし、製造プロセスによる痕跡が目で視認されないようにし、光学上の表示効果を向上させる透明導電フィルム構造を提供することにある。

前記目的を達成するため、本発明による透明導電フィルム構造は、基板と、前記基板上に形成された多層膜構造とを含み、前記多層膜構造は、前記基板に最も近い位置から順に反射率調整層と透明導電フィルムとが積層してなり、前記反射率調整層は前記基板上に配置され、前記反射率調整層は、前記基板よりも屈折率が低い化合物からなり、前記透明導電フィルムは前記反射率調整層上に配置され、前記透明導電フィルム構造がエッチングされた後に、前記透明導電フィルム構造のエッチングされた部分とエッチングされない部分とは、反射率が近いものとなる。

本発明は、さらに、前記透明導電フィルム構造を用いる表示装置を提供し、前記透明導電フィルム構造の反射率調整層の役割によって、前記透明導電フィルム構造の表示面の色を均一にし、表示装置が最適な現像効果を得る。

本発明は、以下の有益な効果を有する。本発明は、透明導電フィルム構造のエッチングされた部分とエッチングされない部分との反射率が近くなるように、反射率調整層で透明導電フィルムの反射率を調整し、異なるブロックの間の反射率の落差を制御することにより、エッチング工程による痕跡が視認されないようにし、最適な画像品質を提供することができる。

図１は、本発明による透明導電フィルム構造を示す図である。 図２は、本発明による透明導電フィルム構造のエッチングされた後の構造を示す図である。

本発明の特徴及び技術内容をさらに理解するため、以下本発明に関わる詳細な説明及び添付図面を参照することにより、深く且つ具体的な理解を得ること＾とするが、それらの添付図面は参考及び説明のみに使用され、本発明の範囲を狭義的に制限するものではないことは言うまでもないことである。

図１を参照すると、本発明は透明導電フィルム構造１を提供する。本発明にかかる透明導電フィルム構造１は、表面反射率を調整する原理を利用して、エッチング部分とエッチングされない部分の反射率の差をなるべく小さくし、色表示の違いを小さくすることで、エッチング工程による痕跡が光学的に目で視認し難くなり、より好ましい高画質な画像を得ることができる。透明導電フィルム構造１は、基板１０と、基板１０上に形成された多層膜構造２０を含む。多層膜構造２０は、反射率調整層２１と透明導電フィルム２２とを有し、反射率調整層２１及び透明導電フィルム２２は基板１０上に順次形成され、言い換えれば、基板１０に最も近い箇所から順に反射率調整層２１及び透明導電フィルム２２が、基板１０上に形成される。

一方、反射率調整層２１及び透明導電フィルム２２は、各膜の屈折率を変化させ表面の反射率の差を小さくする効果を達成するように特別な配列態様を持っており、エッチング工程による痕跡が目で視認されないようにする。以下、各膜の屈折率の関係及び厚み等の関連パラメータを詳しく説明する。反射率調整層２１は基板１０上に配置され、反射率調整層２１は、基板１０より屈折率が低い化合物からなるものであり、透明導電フィルム２２は反射率調整層２１上に配置され、透明導電フィルム２２は、導電性及び高屈折率を持つ光学フィルムである。

表１は、本発明の具体的な実施例であり、本発明は三つの実施例を例示しているが、以下の実施態様に限られるものではない。

以下、本発明の第一実施例を説明する。第一の具体的な実施例では、基板１０はガラス／ＰＥＴ材質であるが、上記に限られず、例えば、基板１０はＰＣ、ＰＭＭＡ、ＰＥＴ、ＡＲＴＯＮ等のようなプラスチック板であってもよく、或いは、基板１０はガラス材質であっても良い。ガラス材質である基板１０を例にすると、基板１０の屈折率は、１．５２である。

また、反射率調整層２１の屈折率は、１．４２〜１．４６であり、言い換えれば、反射率調整層２１の屈折率は、基板１０の屈折率より低い。また、反射率調整層２１の材質は、酸化物、フッ化物、または酸化物とフッ化物の組合せのいずれかである。この具体的な実施例では、反射率調整層２１の材質は酸化物で、例えば、ＳｉＯ_２であり、ＳｉＯ_２からなる反射率調整層２１の膜厚の厚みは、７００Åである。

最外層の透明導電フィルム２２は、ＳｎＯ_２，ＺｎＯ_２，Ｉｎ_２Ｏ_３またはＩＴＯ等の材質のいずれかからなり、透明導電フィルム２２の膜厚の厚みは、１３０Å〜２００Åである。この具体的な実施例の透明導電フィルム２２の材質はＩＴＯであり、ＩＴＯからなる透明導電フィルム２２の膜厚の厚みは、１８０Åである。しかし、透明導電フィルム２２は表面層であり、あらゆる透明導電フィルムであっても良く、また、１．９〜２．１の高い屈折率を有することが好ましい。上記透明導電フィルム２２は導電性を有するので、該フィルム構造は、応用される際にグランド過程を簡易化するとともに製造プロセスの歩留まりを向上させることができ、また、透明導電フィルム２２は導電層で、電極が透明導電フィルム２２に形成し易いので、本発明は、特に、タッチ型表示手段に適用されるが、これに限られない。

さらに、表１を参照すると、第二実施例が第一実施例と異なる所は、反射率調整層２１の材質がフッ化物で、例えば、ＭｇＦ_２であり、しかも、ＭｇＦ_２からなる反射率調整層２１の膜厚の厚みは、８００Åである。

また、表１に示す第三実施例が、第一、第二実施例と異なる所は、反射率調整層２１の材質が酸化物とフッ化物との組合せで、例えば、ＳｉＯ_２及びＭｇＦ_２の混合膜であり、しかも、ＳｉＯ_２とＭｇＦ_２の組合せからなる反射率調整層２１の膜厚の厚みは、７５０Åである。

表１に示す実施例から明らかなように、本発明にかかる透明導電フィルム構造１は、下記のように構成されている。即ち、基板１０はガラス／ＰＥＴ材質である。そして、反射率調整層２１の屈折率は１．４２〜１．４６で基板１０の屈折率よりも低く、且つ反射率調整層２１の膜厚の厚みは、３００Å〜８００Åである。また、反射率調整層２１の材質は酸化物であり、例えば、反射率調整層２１は、膜厚の厚みが７００ÅのＳｉＯ_２からなるものとしてもよく、或いは、反射率調整層２１の材質はフッ化物であり、例えば、反射率調整層２１は、膜厚の厚みが８００ÅのＭｇＦ_２からなるものとしてもよく、或いは、反射率調整層２１の材質は、酸化物とフッ化物の組合せであり、例えば、反射率調整層２１は、膜厚の厚みが７５０ÅのＳｉＯ_２とＭｇＦ_２の組合せからなるものとしてもよい。そして、透明導電フィルム２２の膜厚の厚みは、１３０Å〜２００Åであり、透明導電フィルム２２の材質はＩＴＯである。

図１及び図２を参照すると、上記透明導電フィルム構造１が積層された後に、最外層の透明導電フィルム２２の表面反射率は、Ａである（図１に示すように）。そして透明導電フィルム構造１については、エッチング工程の後に、透明導電フィルム構造１のエッチングされた部分の反射率はＢになり、透明導電フィルム構造１のエッチングされない部分の反射率は、Ａのままである（図２に示すように）。本発明は、反射率調整層２１の厚み及び屈折率を調整することにより、上記ＡとＢの数値を近似させ、言い換えれば、エッチング工程を経ても透明導電フィルム構造１のエッチングされた部分とエッチングされない部分はその反射率が近く、色表示の違いを減少させ、エッチングの痕跡の目立つ程度を低下させることができる。

本発明の具体的な実施結果によれば、透明導電フィルム構造１のエッチングされた部分の反射率（即ち、Ｂの値）は８．６で、透明導電フィルム構造１のエッチングされない部分の反射率（即ち、Ａの値）は８．８であり、両者の数値は近い。したがって、視覚的に、透明導電フィルム構造１のエッチングされない部分とエッチングされた部分とは、近い色表示、画像表示を有し、言い換えれば、エッチング工程による痕跡（例えば、図２の段差）が視認し難くなり、表示画像の品質が向上される。

本発明は、さらに、透明導電フィルム構造１を用いる表示装置、例えば、ＬＣＤ、ＣＲＴ及びタッチパネル等のディスプレイその他の表示装置、或いは、上記表示装置を有する電子製品を提供する。

以上のように、本発明は、以下の利点を有する。
本発明は、反射率調整層２１の光学的効果により、透明導電フィルム構造のエッチングされない部分とエッチングされた部分との反射率を近い範囲に制御し、エッチングの後に異なる膜による反射率の差を制御し、両ブロックの間の色表示の落差をなくし、エッチング工程による痕跡或いは構造上の違いが目で視認されなくなるので、本発明の膜構造の表示結果を向上することができる。

以上の説明は、単に本発明の好ましい具体的な実施例の詳細説明及び図面を例示するもので、本発明の特許請求の範囲を制限するものではなく、当該分野における通常の知識を有するいずれの専門家も本発明の分野の中で、適当に変更や修飾などを実施できるが、それらの実施内容が本発明の主張範囲内に含まれるべきことは言うまでもないことである。

１ 透明導電フィルム構造
１０ 基板
２０ 多層膜構造
２１ 反射率調整層
２２ 透明導電フィルム
Ａ、Ｂ反射率

Claims (5)

1. 基板と、前記基板上に形成された多層膜構造とを含む透明導電フィルム構造であって、
   前記多層膜構造は、基板に最も近い位置から順に反射率調整層と透明導電フィルムとからなり、
   前記反射率調整層は前記基板上に配置され、前記反射率調整層は、前記基板より屈折率が低い化合物からなるものであり、
   前記透明導電フィルムは前記反射率調整層上に配置され、
   前記透明導電フィルム積層構造がエッチングされた後に、前記透明導電フィルム構造のエッチングされた部分とエッチングされない部分との反射率が近いことを特徴とする透明導電フィルム構造。
2. 前記基板の材質は、ガラス、ＰＥＴ、またはガラス／ＰＥＴのいずれかであり、前記基板の屈折率は、１．５２であることを特徴とする請求項１に記載の透明導電フィルム構造。
3. 前記反射率調整層の材質は、酸化物、フッ化物、または酸化物とフッ化物の組合せのいずれかであり、前記反射率調整層の屈折率は、１．４２〜１．４６であり、前記反射率調整層の膜厚の厚みは、３００Å〜８００Åであり、
   前記透明導電フィルムの材質は、ＩＴＯであり、前記透明導電フィルムの膜厚の厚みは、１３０Å〜２００Åであることを特徴とする請求項１に記載の透明導電フィルム構造。
4. 前記反射率調整層の材質は、ＳｉＯ_２、ＭｇＦ_２、またはＳｉＯ_２とＭｇＦ_２との組合せのいずれかであることを特徴とする請求項３に記載の透明導電フィルム構造。
5. 前記透明導電フィルム構造のエッチングされた部分の反射率は８．６であり、前記透明導電フィルムのエッチングされない部分の反射率は８．８であることを特徴とする請求項１に記載の透明導電フィルム構造。

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