JP2011074012A - New aromatic compound and method for producing the same - Google Patents
New aromatic compound and method for producing the same Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011074012A JP2011074012A JP2009227101A JP2009227101A JP2011074012A JP 2011074012 A JP2011074012 A JP 2011074012A JP 2009227101 A JP2009227101 A JP 2009227101A JP 2009227101 A JP2009227101 A JP 2009227101A JP 2011074012 A JP2011074012 A JP 2011074012A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ring
- formula
- group
- acid
- compound
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 0 CC1(NC1)O* Chemical compound CC1(NC1)O* 0.000 description 2
- ZEGJXZIWWSYDBA-UHFFFAOYSA-N Oc1ccc(C(C2c(cc3)ccc3O)c3cccc4cccc2c34)cc1 Chemical compound Oc1ccc(C(C2c(cc3)ccc3O)c3cccc4cccc2c34)cc1 ZEGJXZIWWSYDBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
Description
本発明は、2つの特定の芳香環基がオルト位の位置関係で芳香環に置換した構造を有する新規な芳香族化合物およびその製造方法に関する。 The present invention relates to a novel aromatic compound having a structure in which two specific aromatic ring groups are substituted with an aromatic ring in the ortho position, and a method for producing the same.
芳香族ポリオール(ジオールなど)は、耐熱性などの優れた特性を有しているため、各種ポリマーのモノマーなどとして使用されている。例えば、9,9−ビス(ヒドロキシフェニル)フルオレンなどのフルオレン骨格を有するジオールは、耐熱性が高い、高屈折率である、複屈折が小さいといった特徴を有しており、光学材料の原料などとして有用である。 Aromatic polyols (such as diols) have excellent properties such as heat resistance and are therefore used as monomers for various polymers. For example, a diol having a fluorene skeleton such as 9,9-bis (hydroxyphenyl) fluorene has characteristics such as high heat resistance, high refractive index, and low birefringence, and is used as a raw material for optical materials. Useful.
このように、モノマー用途などとして、新規な芳香族ポリオールの開発が期待されている。 Thus, development of a novel aromatic polyol is expected for use as a monomer.
なお、特開2005−326838号公報(特許文献1)には、特定のポリフェノール化合物と、特定の酸発生剤と、酸架橋剤とを含む感放射線レジスト組成物が開示されており、前記ポリフェノール化合物の例として、下記式で表される化合物などを開示している。 JP-A-2005-326838 (Patent Document 1) discloses a radiation-sensitive resist composition containing a specific polyphenol compound, a specific acid generator, and an acid crosslinking agent. As an example, a compound represented by the following formula is disclosed.
従って、本発明の目的は、高耐熱性、高屈折率などの特性を有する新規な芳香族化合物、およびその製造方法を提供することにある。 Accordingly, an object of the present invention is to provide a novel aromatic compound having characteristics such as high heat resistance and a high refractive index, and a method for producing the same.
本発明の他の目的は、上記のような新規な芳香族化合物を効率よく製造する方法を提供することにある。 Another object of the present invention is to provide a method for efficiently producing such a novel aromatic compound.
本発明者らは、前記課題を達成するため鋭意検討した結果、キノン類と、ヒドロキシアレーン類又はヒドロキシ(ポリ)アルコキシアレーン類とを反応させると、ヒドロキシアレーン類又はヒドロキシ(ポリ)アルコキシアレーン類に対応する2つの芳香環基が、オルト位の位置関係で、前記キノン類に対応する芳香環に置換した新規な芳香族化合物が得られること、そして、得られる芳香族化合物(環集合芳香族化合物)は、高耐熱性、高屈折率などの特性を有していることを見出し、本発明を完成した。 As a result of intensive studies to achieve the above-mentioned problems, the present inventors have reacted quinones with hydroxyarenes or hydroxy (poly) alkoxyarenes to produce hydroxyarenes or hydroxy (poly) alkoxyarenes. A novel aromatic compound in which two corresponding aromatic ring groups are substituted with an aromatic ring corresponding to the quinones in the ortho-position is obtained, and the resulting aromatic compound (ring assembled aromatic compound) ) Was found to have characteristics such as high heat resistance and high refractive index, and the present invention was completed.
すなわち、本発明の新規な芳香族化合物は、下記式(1)で表される化合物である。 That is, the novel aromatic compound of the present invention is a compound represented by the following formula (1).
(式中、環Xは芳香環、R1は置換基、pは0以上の整数、環Zは芳香族炭化水素環、R2はアルキレン基、qは0以上の整数、rは1以上の整数、R3は置換基、sは0以上の整数を示す。)
前記式(1)において、Xは、縮合多環式芳香族炭化水素環(例えば、アセナフチレン、アセアントリレン、フェナントレンなど)であってもよく、特に、前記式(1)で表される化合物は、下記式(1A)又は(1B)で表される化合物であってもよい。
(In the formula, ring X is an aromatic ring, R 1 is a substituent, p is an integer of 0 or more, ring Z is an aromatic hydrocarbon ring, R 2 is an alkylene group, q is an integer of 0 or more, and r is 1 or more. An integer, R 3 represents a substituent, and s represents an integer of 0 or more.)
In the formula (1), X may be a condensed polycyclic aromatic hydrocarbon ring (for example, acenaphthylene, acanthrylene, phenanthrene, etc.). In particular, the compound represented by the formula (1) is Or a compound represented by the following formula (1A) or (1B).
(式中、p1は0〜3の整数、p2は0〜4の整数を示し、R1、Z、R2、q、r、R3、sは前記と同じ。)
前記式(1)(前記式(1A)および(1B)を含む。以下同じ)において、代表的には、環Zがベンゼン環又はナフタレン環であり、qが0〜4であり、rが1〜3であってもよい。
(In the formula, p1 represents an integer of 0 to 3, p2 represents an integer of 0 to 4, and R 1 , Z, R 2 , q, r, R 3 , and s are the same as described above.)
In the formula (1) (including the formulas (1A) and (1B), the same applies hereinafter), typically, the ring Z is a benzene ring or a naphthalene ring, q is 0 to 4, and r is 1. It may be ~ 3.
本発明には、前記新規な芳香族化合物の製造方法も含まれる。このような製造方法は、例えば、酸触媒の存在下、下記式(2)で表される化合物と下記式(3)で表される化合物とを反応させて、前記化合物(前記式(1)で表される化合物)を製造する方法であってもよい。 The present invention also includes a method for producing the novel aromatic compound. In such a production method, for example, in the presence of an acid catalyst, a compound represented by the following formula (2) and a compound represented by the following formula (3) are reacted to form the compound (formula (1) The compound represented by this may be used.
(式中、環Yは、前記芳香環Xのo−キノンから2つのオキソ基を除いた環を示し、R1、p、Z、R2、q、r、R3、sは前記と同じ。)
前記方法において、酸触媒は、スルホン酸(特に、ハロアルカンスルホン酸)で構成してもよい。スルホン酸で酸触媒を構成すると、前記式(2)で表される化合物と前記式(3)で表される化合物との反応をより一層効率よく進行させることができる。
(In the formula, ring Y represents a ring obtained by removing two oxo groups from o-quinone of the aromatic ring X, and R 1 , p, Z, R 2 , q, r, R 3 , and s are the same as above. .)
In the method, the acid catalyst may be composed of sulfonic acid (particularly haloalkanesulfonic acid). When an acid catalyst is comprised with a sulfonic acid, reaction with the compound represented by the said Formula (2) and the compound represented by the said Formula (3) can be advanced still more efficiently.
前記方法では、酸触媒に加えて、さらに、チオール類の存在下で反応させてもよい。このようなチオール類を併用する方法では、代表的には、酸触媒が、ハロアルカンスルホン酸(特に、フルオロアルカンスルホン酸)で構成されており、かつチオール類が、アルキルメルカプタンで構成されていてもよい。 In the method, in addition to the acid catalyst, the reaction may be performed in the presence of thiols. In such a method using thiols in combination, typically, the acid catalyst is composed of a haloalkanesulfonic acid (particularly, fluoroalkanesulfonic acid), and the thiols are composed of an alkyl mercaptan. Good.
本発明の新規な芳香族化合物は、高耐熱性、高屈折率などの特性を有している。このような芳香族化合物は、樹脂原料、酸化防止剤、硬化剤などの用途に適用可能である。例えば、本発明の芳香族化合物は、複数のヒドロキシル基を有しているため、樹脂(例えば、ポリエステル樹脂など)のポリオール成分(例えば、ジオール成分)として使用でき、樹脂に前記のような高耐熱性や高屈折率を付与する効果が期待できる。特に、本発明の化合物は、共役構造を有する高性能材料であるため、有機EL素子などの発光素子の材料などとしての使用が期待できる。また、本発明の方法では、上記のような新規な芳香族化合物を効率よく製造できる。 The novel aromatic compound of the present invention has characteristics such as high heat resistance and high refractive index. Such aromatic compounds are applicable to uses such as resin raw materials, antioxidants, and curing agents. For example, since the aromatic compound of the present invention has a plurality of hydroxyl groups, it can be used as a polyol component (for example, a diol component) of a resin (for example, a polyester resin), and the resin has a high heat resistance as described above. And the effect of imparting high refractive index can be expected. In particular, since the compound of the present invention is a high-performance material having a conjugated structure, it can be expected to be used as a material for light-emitting elements such as organic EL elements. Moreover, in the method of this invention, the above novel aromatic compounds can be manufactured efficiently.
[芳香族化合物]
本発明の新規な芳香族化合物は、下記式(1)で表される。
[Aromatic compounds]
The novel aromatic compound of the present invention is represented by the following formula (1).
(式中、環Xは芳香環、R1は置換基、pは0以上の整数、環Zは芳香族炭化水素環、R2はアルキレン基、qは0以上の整数、rは1以上の整数、R3は置換基、sは0以上の整数を示す。)
上記式(1)において、芳香環Xとしては、芳香族複素環(フェナントロリンなど)であってもよいが、通常、芳香族炭化水素(環)であってもよい。芳香族炭化水素(環)としては、例えば、ベンゼン環、縮合多環式芳香族炭化水素(環)(例えば、インデン、ナフタレン、インダセン、アセナフチレン、フルオレン、アントラセン、フェナントレン、フルオランテン、アセアントリレン、アセフェナントリレン、ピレン、トリフェニレン、ナフタセン、クリセン、ペリレン、ペンタフェン、ジベンゾフェナントレン、ヘキサフェンなどの縮合2乃至10環式芳香族炭化水素(環)、好ましくは縮合2乃至6環式芳香族炭化水素、さらに好ましくは縮合3又は4環式芳香族炭化水素など)などが挙げられる。
(In the formula, ring X is an aromatic ring, R 1 is a substituent, p is an integer of 0 or more, ring Z is an aromatic hydrocarbon ring, R 2 is an alkylene group, q is an integer of 0 or more, and r is 1 or more. An integer, R 3 represents a substituent, and s represents an integer of 0 or more.)
In the above formula (1), the aromatic ring X may be an aromatic heterocyclic ring (such as phenanthroline), but may usually be an aromatic hydrocarbon (ring). Examples of the aromatic hydrocarbon (ring) include a benzene ring, a condensed polycyclic aromatic hydrocarbon (ring) (for example, indene, naphthalene, indacene, acenaphthylene, fluorene, anthracene, phenanthrene, fluoranthene, acanthrylene, aceto Condensed 2- to 10-ring aromatic hydrocarbons (rings) such as phenanthrylene, pyrene, triphenylene, naphthacene, chrysene, perylene, pentaphene, dibenzophenanthrene, hexaphene, preferably condensed 2- to 6-ring aromatic hydrocarbons, Preferably, condensed 3 or 4-cyclic aromatic hydrocarbons and the like are used.
これらのうち、好ましい芳香環Xは、縮合多環式芳香族炭化水素(例えば、アセナフチレン、アセアントリレン、フェナントレンなどの縮合2乃至6環式芳香族炭化水素)であり、特に、アセナフチレン、フェナントレンなどの縮合3又は4環式芳香族炭化水素が好ましい。 Among these, preferred aromatic rings X are condensed polycyclic aromatic hydrocarbons (for example, condensed 2- to 6-ring aromatic hydrocarbons such as acenaphthylene, aceanthrylene, phenanthrene), and particularly acenaphthylene, phenanthrene, and the like. The condensed 3 or 4-cyclic aromatic hydrocarbons are preferred.
環Xの置換基R1としては、例えば、ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子など)、アミノ基、カルバモイル基、ニトロ基、シアノ基、スルホニル基、炭化水素基{例えば、アルキル基(メチル、エチル、ブチル、t−ブチル基、ペンチル基などのC1−20アルキル基、好ましくはC1−10アルキル基、さらに好ましくはC1−6アルキル基、特にC1−4アルキル基)、シクロアルキル基(シクロペンチル基、シクロへキシル基などのC5−10シクロアルキル基、好ましくはC5−8シクロアルキル基、さらに好ましくはC5−6シクロアルキル基など)、アリール基[フェニル基、アルキルフェニル基(メチルフェニル基(又はトリル基、2−メチルフェニル基、3−メチルフェニル基など)、ジメチルフェニル基(キシリル基)など)、ナフチル基などのC6−14アリール基、好ましくはC6−10アリール基、さらに好ましくはC6−8アリール基]、アラルキル基(ベンジル基、フェネチル基などのC6−10アリール−C1−4アルキル基など)など}、ヒドロキシル基、メルカプト基、アルコキシ基(メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、n−ブトキシ基、イソブトキシ基、t−ブトキシ基などのC1−6アルコキシ基、好ましくはC1−4アルコキシ基)、アルキルチオ基(例えば、メチルチオ基などのC1−6アルキルチオ基など)、アシル基[ホルミル基、アルキルカルボニル基(例えば、アセチル、プロピオニル基などのC1−6アルキル−カルボニル基)、アロイル基(例えば、ベンゾイル基など)など]、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基(例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ブトキシカルボニル基などのC1−6アルコキシ−カルボニル基)、これらの置換基同士が結合した置換基[例えば、アルコキシアリール基(例えば、メトキシフェニル基などのC1−4アルコキシC6−10アリール基)、アルコキシカルボニルアリール基(例えば、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシカルボニルフェニル基などのC1−4アルコキシ−カルボニルC6−10アリール基など)]などが挙げられる。環Xは、これらの置換基を単独又は組み合わせて有していてもよい。 Examples of the substituent R 1 for ring X include a halogen atom (fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom, etc.), amino group, carbamoyl group, nitro group, cyano group, sulfonyl group, hydrocarbon group {for example, Alkyl group (C 1-20 alkyl group such as methyl, ethyl, butyl, t-butyl group, pentyl group, etc., preferably C 1-10 alkyl group, more preferably C 1-6 alkyl group, especially C 1-4 alkyl Group), a cycloalkyl group (C 5-10 cycloalkyl group such as cyclopentyl group and cyclohexyl group, preferably C 5-8 cycloalkyl group, more preferably C 5-6 cycloalkyl group etc.), aryl group [ Phenyl group, alkylphenyl group (methylphenyl group (or tolyl group, 2-methylphenyl group, 3-methylphenyl group etc.), dimethyl group, Butylphenyl group (xylyl), etc.), C 6-14 aryl group such as a naphthyl group, preferably a C 6-10 aryl group, more preferably a C 6-8 aryl group, an aralkyl group (benzyl group, a phenethyl group C 6-10 aryl-C 1-4 alkyl group, etc.)}, hydroxyl group, mercapto group, alkoxy group (methoxy group, ethoxy group, propoxy group, n-butoxy group, isobutoxy group, t-butoxy group, etc.) 1-6 alkoxy group, preferably C 1-4 alkoxy group), alkylthio group (for example, C 1-6 alkylthio group such as methylthio group), acyl group [formyl group, alkylcarbonyl group (for example, acetyl, propionyl group) C 1-6 alkyl-carbonyl group such as, aroyl group (for example, benzoyl group, etc.)] A carboxyl group, an alkoxycarbonyl group (for example, a C 1-6 alkoxy-carbonyl group such as a methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, or butoxycarbonyl group), a substituent in which these substituents are bonded to each other [for example, an alkoxyaryl group (for example, C 1-4 alkoxy C 6-10 aryl group such as methoxyphenyl group), alkoxycarbonylaryl group (for example, C 1-4 alkoxy-carbonyl C 6-10 aryl group such as methoxycarbonylphenyl group, ethoxycarbonylphenyl group, etc.) )] And the like. Ring X may have these substituents alone or in combination.
代表的なR1には、シアノ基、ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子など)、炭化水素基[例えば、アルキル基、アリール基(フェニル基などのC6−10アリール基)など]などが挙げられ、特に、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基(C1−4アルキル基など)、アルコキシ基(C1−4アルコキシ基など)、アリール基(C6−8アリール基など)であってもよい。 Typical R 1 includes a cyano group, a halogen atom (fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, etc.), a hydrocarbon group [eg, alkyl group, aryl group (C 6-10 aryl group such as phenyl group), etc.] In particular, a halogen atom, a cyano group, an alkyl group (such as a C 1-4 alkyl group), an alkoxy group (such as a C 1-4 alkoxy group), and an aryl group (such as a C 6-8 aryl group). May be.
置換基R1の置換数pは、0以上の整数であればよく、環Xの種類にもよるが、例えば、0〜8、好ましくは0〜6、さらに好ましくは0〜3程度であってもよく、特に0であってもよい。 The substitution number p of the substituent R 1 may be an integer of 0 or more, and is, for example, 0 to 8, preferably 0 to 6, and more preferably about 0 to 3, depending on the type of the ring X. In particular, it may be 0.
芳香族炭化水素環Zとしては、前記芳香環Zの項で例示の芳香族炭化水素環が挙げられる。代表的な芳香族炭化水素環は、ベンゼン環、縮合多環式炭化水素環[例えば、縮合二環式炭化水素環(例えば、インデン、ナフタレンなどのC8−20縮合二環式炭化水素環、好ましくはC10−16縮合二環式炭化水素環)、縮合三環式炭化水素環(例えば、アントラセン、フェナントレンなど)などの縮合2乃至4環式炭化水素環]などであり、ベンゼン環又はナフタレン環(特に、ベンゼン環)であるのが好ましい。なお、2つの環Zは同一の又は異なる環であってもよく、通常、同一の環であってもよい。 Examples of the aromatic hydrocarbon ring Z include the aromatic hydrocarbon rings exemplified in the paragraph of the aromatic ring Z. Representative aromatic hydrocarbon rings include benzene rings, condensed polycyclic hydrocarbon rings [for example, condensed bicyclic hydrocarbon rings (for example, C 8-20 condensed bicyclic hydrocarbon rings such as indene, naphthalene, etc., C 10-16 condensed bicyclic hydrocarbon ring), condensed tricyclic hydrocarbon rings (for example, condensed 2 to 4 cyclic hydrocarbon rings such as anthracene, phenanthrene, etc.), etc., and benzene ring or naphthalene A ring (particularly a benzene ring) is preferred. The two rings Z may be the same or different rings, and may usually be the same ring.
芳香環Xに対する2つの環Z(又は環Zを含むユニット)の置換位置は、芳香環Xを構成し、互いに隣接する炭素原子であればよく、例えば、(a)環Xがナフタレン環である場合には、ナフタレン環の1および2位、2および3位などであってもよく、(b)環Xがアセナフチレン環である場合には、アセナフチレン環の1および2位などであってもよく、(c)環Xがアントラセン環である場合には、アントラセン環の1および2位などであってもよく、(d)環Xがアセアントリレン環である場合には、アセアントリレン環の1および2位などであってもよく、(e)環Xがフェナントレン環である場合には、フェナントレン環の9および10位などであってもよく、(f)環Xがクリセン環である場合には、クリセン環の5および6位などであってもよい。 The substitution position of the two rings Z (or the unit containing the ring Z) with respect to the aromatic ring X may be any carbon atom constituting the aromatic ring X and adjacent to each other. For example, (a) Ring X is a naphthalene ring In this case, it may be the 1st, 2nd, 2nd and 3rd positions of the naphthalene ring. (B) When the ring X is an acenaphthylene ring, it may be the 1st and 2nd positions of the acenaphthylene ring. , (C) when ring X is an anthracene ring, it may be the 1- and 2-positions of the anthracene ring, and (d) when ring X is an asanthrylene ring, 1 and 2 positions, etc. (e) When ring X is a phenanthrene ring, it may be positions 9 and 10 of the phenanthrene ring, and (f) When ring X is a chrysene ring Includes chrysene rings 5 and 6 Or the like may be used.
また、前記式(1)において、基R2で表されるアルキレン基としては、例えば、エチレン基、プロピレン基(1,2−プロパンジイル基)、トリメチレン基、1,2−ブタンジイル基、テトラメチレン基などのC2−10アルキレン基(例えば、C2−6アルキレン基)、好ましくはC2−4アルキレン基、さらに好ましくはC2−3アルキレン基(特にエチレン基)が挙げられる。なお、qが2以上であるとき、アルキレン基は異なるアルキレン基で構成されていてもよく、通常、同一のアルキレン基で構成されていてもよい。また、2つの芳香族炭化水素環Zにおいて、基R2は同一であっても、異なっていてもよく、通常同一であってもよい。 In the formula (1), examples of the alkylene group represented by the group R 2 include an ethylene group, a propylene group (1,2-propanediyl group), a trimethylene group, a 1,2-butanediyl group, and a tetramethylene group. A C 2-10 alkylene group (for example, a C 2-6 alkylene group) such as a group, preferably a C 2-4 alkylene group, and more preferably a C 2-3 alkylene group (particularly an ethylene group). When q is 2 or more, the alkylene group may be composed of different alkylene groups, and usually may be composed of the same alkylene group. In the two aromatic hydrocarbon rings Z, the groups R 2 may be the same or different, and may usually be the same.
オキシアルキレン基(OR2)の数(付加モル数)qは、0以上(例えば、0〜10)であればよく、例えば、0〜8(例えば、1〜8)、好ましくは0〜4(例えば、1〜4)、さらに好ましくは0〜3(例えば、1〜3)、特に0〜1であってもよい。qは、異なる環Zに対して、同一であっても、異なっていてもよい。 The number (addition molar number) q oxyalkylene groups (OR 2) may be any of 0 or more (e.g., 0-10), for example, 0-8 (e.g., 1-8), preferably 0 to 4 ( For example, it may be 1 to 4), more preferably 0 to 3 (for example, 1 to 3), particularly 0 to 1. q may be the same or different for different rings Z.
また、前記式(1)において、ヒドロキシル基又はヒドロキシ(ポリ)アルコキシ基[すなわち、−(R2O)q−OH]の環Zに対する置換数rは、1以上であればよく、環Zに種類にもよるが、例えば、1〜6(例えば、1〜4)、好ましくは1〜3、さらに好ましくは1〜2、特に1であってもよい。なお、ヒドロキシル基又はヒドロキシ(ポリ)アルコキシ基の置換位置は、特に限定されず、環Zの適当な置換位置に置換していればよい。例えば、ヒドロキシル基又はヒドロキシ(ポリ)アルコキシ基は、環Zがベンゼン環である場合、フェニル基の2〜6位(例えば、フェニル基の3位、4位など)に置換していればよく、好ましくは4位に置換していてもよい。また、ヒドロキシル基又はヒドロキシ(ポリ)アルコキシ基は、環Zが縮合多環式炭化水素環である場合、縮合多環式炭化水素環において、環Xに結合した炭化水素環とは別の炭化水素環(例えば、ナフタレン環の5位、6位など)に少なくとも置換している場合が多い。 In the formula (1), the number of substitutions r for the ring Z of the hydroxyl group or hydroxy (poly) alkoxy group [ie, — (R 2 O) q—OH] may be 1 or more. Depending on the type, for example, 1 to 6 (for example, 1 to 4), preferably 1 to 3, more preferably 1 to 2, particularly 1 may be used. In addition, the substitution position of a hydroxyl group or a hydroxy (poly) alkoxy group is not specifically limited, What is necessary is just to substitute to the suitable substitution position of the ring Z. For example, when the ring Z is a benzene ring, the hydroxyl group or the hydroxy (poly) alkoxy group may be substituted at the 2-6 position of the phenyl group (for example, the 3-position, 4-position, etc. of the phenyl group) Preferably it may be substituted at the 4-position. In addition, when the ring Z is a condensed polycyclic hydrocarbon ring, the hydroxyl group or the hydroxy (poly) alkoxy group is a hydrocarbon different from the hydrocarbon ring bonded to the ring X in the condensed polycyclic hydrocarbon ring. In many cases, the ring (for example, the 5-position, 6-position, etc. of the naphthalene ring) is substituted at least.
環Zの置換基R3としては、前記R1の項で例示の置換基などが挙げられる。代表的には、基R3は、炭化水素基(例えば、アルキル基、アリール基など)、アルコキシ基、アルキルチオ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、置換アミノ基などであってもよい。好ましいR3としては、炭化水素基[例えば、アルキル基(例えば、C1−6アルキル基)、シクロアルキル基(例えば、C5−8シクロアルキル基)、アリール基(例えば、C6−10アリール基)、アラルキル基(例えば、C6−8アリール−C1−2アルキル基)など]、アルコキシ基(C1−4アルコキシ基など)などが挙げられる。特に、R3は、アルキル基[C1−4アルキル基(特にメチル基)など]、アリール基[例えば、C6−10アリール基(特にフェニル基)など]などであるのが好ましい。 Examples of the substituent R 3 of the ring Z include the substituents exemplified in the above R 1 section. Typically, the group R 3 is a hydrocarbon group (eg, alkyl group, aryl group, etc.), alkoxy group, alkylthio group, acyl group, alkoxycarbonyl group, halogen atom, nitro group, cyano group, substituted amino group, etc. It may be. Preferable R 3 is a hydrocarbon group [eg, alkyl group (eg, C 1-6 alkyl group), cycloalkyl group (eg, C 5-8 cycloalkyl group), aryl group (eg, C 6-10 aryl] Group), an aralkyl group (for example, a C 6-8 aryl-C 1-2 alkyl group), an alkoxy group (C 1-4 alkoxy group, etc.), and the like. In particular, R 3 is preferably an alkyl group [C 1-4 alkyl group (particularly a methyl group)], an aryl group [eg C 6-10 aryl group (particularly a phenyl group)], or the like.
なお、同一の環Zにおいて、sが複数(2以上)である場合、基R3は互いに異なっていてもよく、同一であってもよい。また、2つの環Zにおいて、基R3は同一であってもよく、異なっていてもよい。また、好ましい置換数sは、0〜8、好ましくは0〜4(例えば、0〜3)、さらに好ましくは0〜2であってもよい。なお、異なる環Zにおいて、置換数sは、互いに同一又は異なっていてもよく、通常同一であってもよい。 In the same ring Z, when s is plural (two or more), the groups R 3 may be different from each other or the same. In the two rings Z, the groups R 3 may be the same or different. The preferred substitution number s may be 0 to 8, preferably 0 to 4 (for example, 0 to 3), more preferably 0 to 2. In different rings Z, the number of substitutions s may be the same or different from each other, and may usually be the same.
代表的な前記式(1)で表される化合物には、例えば、下記式(1A)で表される化合物(前記式(1)において、Xがアセナフチレン環であり、このアセナフチレン環の1および2位に環Zが置換した化合物)、下記式(1B)で表される化合物(前記式(1)において、Xがフェナントレン環であり、このフェナントレン環の9および10位に環Zが置換した化合物)などが含まれる。 Representative compounds represented by the formula (1) include, for example, compounds represented by the following formula (1A) (in the formula (1), X represents an acenaphthylene ring, and 1 and 2 of the acenaphthylene ring). A compound in which ring Z is substituted at the position), a compound represented by the following formula (1B) (in the formula (1), X is a phenanthrene ring, and a compound in which ring Z is substituted at positions 9 and 10 of this phenanthrene ring) ) Etc. are included.
(式中、p1は0〜3の整数、p2は0〜4の整数を示し、R1、Z、R2、q、r、R3、sは前記と同じ。)
上記式において、p1は、好ましくは0〜1、さらに好ましくは0であってもよい。2つのp1は同一又は異なっていてもよい。また、p2は、好ましくは0〜2、さらに好ましくは0〜1、特に0であってもよい。2つのp2は同一又は異なっていてもよい。なお、上記式(1)において、R1、Z、R2、q、r、R3、sは前記と同じである。なお、前記式(1A)において、R1の置換位置は、3〜8位のいずれであってもよいが、好ましくは3又は5位、特に5位であってもよい。また、前記式(1B)において、R1の置換位置は、1〜8位のいずれであってもよいが、好ましくは2又は5位であってもよい。
(In the formula, p1 represents an integer of 0 to 3, p2 represents an integer of 0 to 4, and R 1 , Z, R 2 , q, r, R 3 , and s are the same as described above.)
In the above formula, p1 may be preferably 0 to 1, more preferably 0. Two p1 may be the same or different. Further, p2 is preferably 0 to 2, more preferably 0 to 1, particularly 0. Two p2 may be the same or different. In the above formula (1), R 1 , Z, R 2 , q, r, R 3 and s are the same as described above. In the above formula (1A), the substitution position of R 1 may be any of 3 to 8 positions, preferably 3 or 5 positions, particularly 5 positions. In the formula (1B), the substitution position of R 1 may be any of 1 to 8 positions, but preferably 2 or 5 positions.
具体的な前記式(1A)で表される化合物には、例えば、1,2−ビス(ヒドロキシフェニル)アセナフチレン[例えば、1,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)アセナフチレンなど]、1,2−ビス(アルキル−ヒドロキシフェニル)アセナフチレン[例えば、1,2−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)アセナフチレン、1,2−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)アセナフチレンなどの1,2−ビス(C1−10アルキル−ヒドロキシフェニル)アセナフチレン、好ましくは1,2−ビス(C1−6アルキル−ヒドロキシフェニル)アセナフチレン、さらに好ましくは1,2−ビス(C1−4アルキル−ヒドロキシフェニル)アセナフチレン]、1,2−ビス(アリール−ヒドロキシフェニル)アセナフチレン[例えば、1,2−ビス(4−ヒドロキシ−3−フェニルフェニル)アセナフチレンなどの1,2−ビス(C6−14アリール−ヒドロキシフェニル)アセナフチレン、好ましくは1,2−ビス(C6−10アリール−ヒドロキシフェニル)アセナフチレン、さらに好ましくは1,2−ビス(C6−8アリール−ヒドロキシフェニル)アセナフチレン]、1,2−ビス(ジ又はトリヒドロキシフェニル)アセナフチレン[例えば、1,2−ビス(3,4−ジヒドロキシフェニル)アセナフチレンなど]、1,2−ビス(ヒドロキシナフチル)アセナフチレン{例えば、1,2−ビス[1−(5−ヒドロキシナフチル)]アセナフチレン、1,2−ビス[2−(6−ヒドロキシナフチル)]アセナフチレンなど}などの前記式(1A)において、環Zがベンゼン環又はナフタレン環、s=0〜4、q=0、r=1〜3(ただし、環Zがベンゼン環であるとき、s+r≦5)である化合物;1,2−ビス(ヒドロキシアルコキシフェニル)アセナフチレン{例えば、1,2−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]アセナフチレンなどの1,2−ビス(ヒドロキシC2−4アルコキシフェニル)アセナフチレン}、1,2−ビス(アルキル−ヒドロキシアルコキシフェニル)アセナフチレン{例えば、1,2−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−3−メチルフェニル]アセナフチレン、1,2−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−3,5−ジメチルフェニル]アセナフチレンなどの1,2−ビス(C1−10アルキル−ヒドロキシC2−4アルコキシフェニル)アセナフチレン、好ましくは1,2−ビス(C1−6アルキル−ヒドロキシC2−4アルコキシフェニル)アセナフチレン、さらに好ましくは1,2−ビス(C1−4アルキル−ヒドロキシC2−4アルコキシフェニル)アセナフチレン}、1,2−ビス(アリール−ヒドロキシアルコキシフェニル)アセナフチレン{例えば、1,2−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−3−フェニルフェニル]アセナフチレンなどの1,2−ビス(C6−14アルキル−ヒドロキシC2−4アルコキシフェニル)アセナフチレン、好ましくは1,2−ビス(C6−10アリール−ヒドロキシC2−4アルコキシフェニル)アセナフチレン、さらに好ましくは1,2−ビス(C6−8アリール−ヒドロキシC2−4アルコキシフェニル)アセナフチレン}、1,2−ビス[ジ又はトリ(ヒドロキシアルコキシ)フェニル]アセナフチレン{例えば、1,2−ビス[3,4−ジ(ヒドロキシC2−4アルコキシ)フェニル)]アセナフチレンなど}、1,2−ビス[(ヒドロキシアルコキシ)ナフチル]アセナフチレン{例えば、1,2−ビス{1−[5−(2−ヒドロキシエトキシ)ナフチル]}アセナフチレン、1,2−ビス{2−[6−(2−ヒドロキシエトキシ)ナフチル]}アセナフチレンなどの1,2−ビス[(ヒドロキシC2−4アルコキシ)ナフチル]アセナフチレン}などの前記式(1A)において、環Zがベンゼン環又はナフタレン環、s=0〜4、qが1以上(例えば、1〜4)、r=1〜3(ただし、環Zがベンゼン環であるとき、s+r≦5)である化合物などが含まれる。 Specific examples of the compound represented by the formula (1A) include 1,2-bis (hydroxyphenyl) acenaphthylene [eg 1,2-bis (4-hydroxyphenyl) acenaphthylene], 1,2- Bis (alkyl-hydroxyphenyl) acenaphthylene [for example, 1,2-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) acenaphthylene, 1,2-bis (4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) acenaphthylene, etc. 2-bis (C 1-10 alkyl-hydroxyphenyl) acenaphthylene, preferably 1,2-bis (C 1-6 alkyl-hydroxyphenyl) acenaphthylene, more preferably 1,2-bis (C 1-4 alkyl-hydroxy) Phenyl) acenaphthylene], 1,2-bis (aryl-hydroxyphenyl) acena Styrene [e.g., 1,2-bis (4-hydroxy-3-phenylphenyl) acenaphthylene such as 1,2-bis (C 6-14 aryl - hydroxyphenyl) acenaphthylene, preferably 1,2-bis (C 6- 10 aryl-hydroxyphenyl) acenaphthylene, more preferably 1,2-bis (C 6-8 aryl-hydroxyphenyl) acenaphthylene], 1,2-bis (di- or trihydroxyphenyl) acenaphthylene [eg 1,2-bis (3,4-dihydroxyphenyl) acenaphthylene, etc.], 1,2-bis (hydroxynaphthyl) acenaphthylene {eg, 1,2-bis [1- (5-hydroxynaphthyl)] acenaphthylene, 1,2-bis [2- (6-hydroxynaphthyl)] acenaphthylene, etc.} Wherein the ring Z is a benzene ring or a naphthalene ring, s = 0 to 4, q = 0, and r = 1 to 3 (provided that when the ring Z is a benzene ring, s + r ≦ 5); 1,2- Bis (hydroxyalkoxyphenyl) acenaphthylene {eg, 1,2-bis (hydroxyC 2-4 alkoxyphenyl) acenaphthylene such as 1,2-bis [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] acenaphthylene}, 1,2- Bis (alkyl-hydroxyalkoxyphenyl) acenaphthylene {eg, 1,2-bis [4- (2-hydroxyethoxy) -3-methylphenyl] acenaphthylene, 1,2-bis [4- (2-hydroxyethoxy) -3 , 5-dimethylphenyl] acenaphthylene, etc. 1,2-bis (C 1-10 alkyl-hydroxy C 2-4 alkoxy Phenyl) acenaphthylene, preferably 1,2-bis (C 1-6 alkyl-hydroxy C 2-4 alkoxyphenyl) acenaphthylene, more preferably 1,2-bis (C 1-4 alkyl-hydroxy C 2-4 alkoxyphenyl) ) Acenaphthylene}, 1,2-bis (aryl-hydroxyalkoxyphenyl) acenaphthylene {eg, 1,2-bis (C, eg 1,2-bis [4- (2-hydroxyethoxy) -3-phenylphenyl] acenaphthylene) 6-14 alkyl-hydroxy C 2-4 alkoxyphenyl) acenaphthylene, preferably 1,2-bis (C 6-10 aryl-hydroxy C 2-4 alkoxyphenyl) acenaphthylene, more preferably 1,2-bis (C 6 -8 aryl-hydroxy C2-4 alkoxypheny Le) acenaphthylene}, 1,2-bis [di or tri (hydroxyalkoxy) phenyl] acenaphthylene {e.g., 1,2-bis [3,4-di (hydroxy C 2-4 alkoxy) phenyl)] acenaphthylene, etc.}, 1,2-bis [(hydroxyalkoxy) naphthyl] acenaphthylene {eg, 1,2-bis {1- [5- (2-hydroxyethoxy) naphthyl]} acenaphthylene, 1,2-bis {2- [6- ( 2-hydroxyethoxy) naphthyl]} 1,2-bis [(hydroxyC 2-4 alkoxy) naphthyl] acenaphthylene} such as acenaphthylene}, wherein the ring Z is a benzene ring or a naphthalene ring, s = 0 -4, q is 1 or more (for example, 1-4), r = 1-3 (however, when ring Z is a benzene ring, s + r≤5) Etc. a compound.
また、具体的な前記式(1B)で表される化合物には、例えば、9,10−ビス(ヒドロキシフェニル)フェナントレン[例えば、9,10−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フェナントレンなど]、9,10−ビス(アルキル−ヒドロキシフェニル)フェナントレン[例えば、9,10−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)フェナントレン、9,10−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)フェナントレンなどの9,10−ビス(C1−10アルキル−ヒドロキシフェニル)フェナントレン、好ましくは9,10−ビス(C1−6アルキル−ヒドロキシフェニル)フェナントレン、さらに好ましくは9,10−ビス(C1−4アルキル−ヒドロキシフェニル)フェナントレン]、9,10−ビス(アリール−ヒドロキシフェニル)フェナントレン[例えば、9,10−ビス(4−ヒドロキシ−3−フェニルフェニル)フェナントレンなどの9,10−ビス(C6−14アリール−ヒドロキシフェニル)フェナントレン、好ましくは9,10−ビス(C6−10アリール−ヒドロキシフェニル)フェナントレン、さらに好ましくは9,10−ビス(C6−8アリール−ヒドロキシフェニル)フェナントレン]、9,10−ビス(ジ又はトリヒドロキシフェニル)フェナントレン[例えば、9,10−ビス(3,4−ジヒドロキシフェニル)フェナントレンなど]、9,10−ビス(ヒドロキシナフチル)フェナントレン{例えば、9,10−ビス[1−(5−ヒドロキシナフチル)]フェナントレン、9,10−ビス[2−(6−ヒドロキシナフチル)]フェナントレンなど}などの前記式(1B)において、環Zがベンゼン環又はナフタレン環、s=0〜4、q=0、r=1〜3(ただし、環Zがベンゼン環であるとき、s+r≦5)である化合物;9,10−ビス(ヒドロキシアルコキシフェニル)フェナントレン{例えば、9,10−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]フェナントレンなどの9,10−ビス(ヒドロキシC2−4アルコキシフェニル)フェナントレン}、9,10−ビス(アルキル−ヒドロキシアルコキシフェニル)フェナントレン{例えば、9,10−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−3−メチルフェニル]フェナントレン、9,10−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−3,5−ジメチルフェニル]フェナントレンなどの9,10−ビス(C1−10アルキル−ヒドロキシC2−4アルコキシフェニル)フェナントレン、好ましくは9,10−ビス(C1−6アルキル−ヒドロキシC2−4アルコキシフェニル)フェナントレン、さらに好ましくは9,10−ビス(C1−4アルキル−ヒドロキシC2−4アルコキシフェニル)フェナントレン}、9,10−ビス(アリール−ヒドロキシアルコキシフェニル)フェナントレン{例えば、9,10−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−3−フェニルフェニル]フェナントレンなどの9,10−ビス(C6−14アルキル−ヒドロキシC2−4アルコキシフェニル)フェナントレン、好ましくは9,10−ビス(C6−10アリール−ヒドロキシC2−4アルコキシフェニル)フェナントレン、さらに好ましくは9,10−ビス(C6−8アリール−ヒドロキシC2−4アルコキシフェニル)フェナントレン}、9,10−ビス[ジ又はトリ(ヒドロキシアルコキシ)フェニル]フェナントレン{例えば、9,10−ビス[3,4−ジ(ヒドロキシC2−4アルコキシ)フェニル)]フェナントレンなど}、9,10−ビス[(ヒドロキシアルコキシ)ナフチル]フェナントレン{例えば、9,10−ビス{1−[5−(2−ヒドロキシエトキシ)ナフチル]}フェナントレン、9,10−ビス{2−[6−(2−ヒドロキシエトキシ)ナフチル]}フェナントレンなどの9,10−ビス[(ヒドロキシC2−4アルコキシ)ナフチル]フェナントレン}などの前記式(1B)において、環Zがベンゼン環又はナフタレン環、s=0〜4、qが1以上(例えば、1〜4)、r=1〜3(ただし、環Zがベンゼン環であるとき、s+r≦5)である化合物などが含まれる。 Specific examples of the compound represented by the formula (1B) include 9,10-bis (hydroxyphenyl) phenanthrene [eg, 9,10-bis (4-hydroxyphenyl) phenanthrene], 9, 10-bis (alkyl-hydroxyphenyl) phenanthrene [for example, 9,10-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) phenanthrene, 9,10-bis (4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) phenanthrene, etc. 9,10-bis (C 1-10 alkyl-hydroxyphenyl) phenanthrene, preferably 9,10-bis (C 1-6 alkyl-hydroxyphenyl) phenanthrene, more preferably 9,10-bis (C 1-4 alkyl) -Hydroxyphenyl) phenanthrene], 9,10-bis (aryl-hi Rokishifeniru) phenanthrene [e.g., 9,10-bis (4-hydroxy-3-phenyl-phenyl) phenanthrene 9,10-bis (C 6-14 aryl - hydroxyphenyl) phenanthrene, preferably 9,10-bis ( C 6-10 aryl-hydroxyphenyl) phenanthrene, more preferably 9,10-bis (C 6-8 aryl-hydroxyphenyl) phenanthrene], 9,10-bis (di or trihydroxyphenyl) phenanthrene [eg, 9, 10-bis (3,4-dihydroxyphenyl) phenanthrene, etc.], 9,10-bis (hydroxynaphthyl) phenanthrene {eg, 9,10-bis [1- (5-hydroxynaphthyl)] phenanthrene, 9,10-bis [2- (6-Hydroxynaphthyl In the formula (1B) such as phenanthrene}, ring Z is a benzene ring or naphthalene ring, s = 0 to 4, q = 0, r = 1 to 3 (provided that when ring Z is a benzene ring, s + r ≦ 5), compound; 9,10-bis (hydroxyalkoxy phenyl) phenanthrene {e.g., 9,10-bis [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] phenanthrene such as 9,10-bis (hydroxy C 2 4- alkoxyphenyl) phenanthrene}, 9,10-bis (alkyl-hydroxyalkoxyphenyl) phenanthrene {eg, 9,10-bis [4- (2-hydroxyethoxy) -3-methylphenyl] phenanthrene, 9,10-bis 9,10 such as [4- (2-hydroxyethoxy) -3,5-dimethylphenyl] phenanthrene Bis (C 1-10 alkyl - hydroxy C 2-4 alkoxyphenyl) phenanthrene, preferably 9,10-bis (C 1-6 alkyl - hydroxy C 2-4 alkoxyphenyl) phenanthrene, more preferably 9,10-bis (C 1-4 alkyl-hydroxy C 2-4 alkoxyphenyl) phenanthrene}, 9,10-bis (aryl-hydroxyalkoxyphenyl) phenanthrene {eg, 9,10-bis [4- (2-hydroxyethoxy) -3 9,10-bis (C 6-14 alkyl-hydroxy C 2-4 alkoxyphenyl) phenanthrene, such as -phenylphenyl] phenanthrene, preferably 9,10-bis (C 6-10 aryl-hydroxy C 2-4 alkoxyphenyl) ) Phenanthrene, more preferred 9,10-bis (C 6-8 aryl - hydroxy C 2-4 alkoxyphenyl) phenanthrene}, 9,10-bis [di or tri (hydroxyalkoxy) phenyl] phenanthrene {e.g., 9,10-bis [3, 4-di (hydroxy C 2-4 alkoxy) phenyl)] phenanthrene, etc.}, 9,10-bis [(hydroxyalkoxy) naphthyl] phenanthrene {e.g., 9,10-bis {1- [5- (2-hydroxyethoxy ) Naphthyl]} phenanthrene, 9,10-bis {2- [6- (2-hydroxyethoxy) naphthyl]} phenanthrene and the like, such as 9,10-bis [(hydroxyC 2-4 alkoxy) naphthyl] phenanthrene} and the like. In the formula (1B), the ring Z is a benzene ring or a naphthalene ring, s = 0 to 4, and q is 1 or more. (E.g., 1 to 4), r = 1 to 3 (provided that when ring Z is a benzene ring, s + r ≦ 5), and the like compounds wherein.
[製造方法]
本発明の新規な芳香族化合物の製造方法としては、特に限定されないが、通常、下記式(2)で表される化合物(o−キノン化合物)と、下記式(3)で表される化合物とを反応させることにより製造することができる。
[Production method]
Although it does not specifically limit as a manufacturing method of the novel aromatic compound of this invention, Usually, the compound (o-quinone compound) represented by following formula (2), and the compound represented by following formula (3) Can be made to react.
(式中、環Yは、前記芳香環Xのo−キノンから2つのオキソ基を除いた環を示し、R1、p、Z、R2、q、r、R3、sは前記と同じ。)
上記式(2)において、環Yは、前記芳香環Xのo−キノンから2つのオキソ基(ジオン骨格、=O)を除いた環(前記芳香環Xのo−キノンに対応する環)である。このような前記式(2)で表される化合物(o−キノン化合物)としては、前記式(1)で表される化合物の項において記載の芳香環Xのo−キノン[例えば、o−ベンゾキノン、縮合多環式芳香族炭化水素のo−キノン(例えば、o−ナフトキノン、アセナフテンキノン、o−アセアントレンキノン(1,2−アセアントレンキノンなど)、o−フェナントレンキノン(9,10−フェナントレンキノンなど)などの縮合2乃至10環式芳香族炭化水素のo−キノン、好ましくは縮合2乃至6環式芳香族炭化水素のo−キノン、さらに好ましくは縮合3又は4環式芳香族炭化水素のo−キノン)など]の他、これらのo−キノンに対応し、pが1以上である化合物(例えば、5−ブロモアセナフテンキノンなど)などのo−キノン化合物が挙げられる。
(In the formula, ring Y represents a ring obtained by removing two oxo groups from o-quinone of the aromatic ring X, and R 1 , p, Z, R 2 , q, r, R 3 , and s are the same as above. .)
In the above formula (2), ring Y is a ring obtained by removing two oxo groups (dione skeleton, ═O) from o-quinone of aromatic ring X (ring corresponding to o-quinone of aromatic ring X). is there. Examples of the compound represented by the formula (2) (o-quinone compound) include o-quinone of the aromatic ring X described in the section of the compound represented by the formula (1) [for example, o-benzoquinone. O-quinones of condensed polycyclic aromatic hydrocarbons (for example, o-naphthoquinone, acenaphthenequinone, o-aceanthrenequinone (1,2-aceanthrenequinone, etc.), o-phenanthrenequinone (9,10-phenanthrene) O-quinones of condensed 2- to 10-ring aromatic hydrocarbons such as quinone, etc., preferably o-quinones of condensed 2- to 6-ring aromatic hydrocarbons, more preferably condensed 3- or 4-ring aromatic hydrocarbons O-quinone compounds such as 5-bromoacenaphthenequinone and the like corresponding to these o-quinones and having a p of 1 or more. It is below.
なお、前記式(1A)で表される化合物を製造する場合には、前記式(2)で表される化合物として、下記式(2A)で表される化合物(アセナフテンキノン化合物)、前記式(1B)で表される化合物を製造する場合には、下記式(2B)で表される化合物(9,10−フェナントレンキノン化合物)を使用すればよい。 In addition, when manufacturing the compound represented by the said Formula (1A), as a compound represented by the said Formula (2), the compound (acenaphthenequinone compound) represented by the following formula (2A), the said formula When producing the compound represented by (1B), a compound represented by the following formula (2B) (9,10-phenanthrenequinone compound) may be used.
(式中、R1、p1、p2は前記と同じ。)
使用するo−キノン化合物の純度は、特に限定されないが、通常、95重量%以上、好ましくは99重量%以上であってもよい。
(In the formula, R 1 , p 1 and p 2 are the same as above.)
The purity of the o-quinone compound to be used is not particularly limited, but may be usually 95% by weight or more, preferably 99% by weight or more.
前記式(3)で表される化合物(ヒドロキシル基を有する芳香族炭化水素化合物)は、前記式(1)において、ヒドロキシル基を有する芳香族炭化水素環に対応している。すなわち、式(3)において、環Zは前記式(1)における環Zに対応しており、前記例示の芳香族炭化水素環(例えば、ベンゼン環、ナフタレン環)が挙げられる。また、前記式(3)において、R2、R3、q、rおよびsは前記と同じであり、好ましい態様なども同じである。 The compound represented by the formula (3) (the aromatic hydrocarbon compound having a hydroxyl group) corresponds to the aromatic hydrocarbon ring having a hydroxyl group in the formula (1). That is, in the formula (3), the ring Z corresponds to the ring Z in the formula (1), and examples thereof include the aromatic hydrocarbon rings exemplified above (for example, a benzene ring and a naphthalene ring). In the formula (3), R 2 , R 3 , q, r and s are the same as those described above, and preferred embodiments are also the same.
前記式(3)で表される化合物としては、(i)qが0である化合物と、(ii)qが1以上である化合物とに大別できる。 The compounds represented by the formula (3) can be broadly classified into (i) compounds in which q is 0 and (ii) compounds in which q is 1 or more.
(i)qが0である化合物
前記式(3)においてqが0である代表的な化合物としては、環Zがベンゼン環である化合物、環Zがナフタレン環である化合物が挙げられる。
(I) Compound in which q is 0 As a typical compound in which q is 0 in the formula (3), a compound in which ring Z is a benzene ring and a compound in which ring Z is a naphthalene ring are exemplified.
環Zがベンゼン環である化合物としては、フェノール類{例えば、フェノール、置換基を有するフェノール[例えば、アルキルフェノール(例えば、o−クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾール、2,3−ジメチルフェノール、2,5−ジメチルフェノール、2,6−ジメチルフェノールなどのモノ又はジC1−4アルキル−フェノールなど)、シクロアルキルフェノール(例えば、2−シクロヘキシルフェノールなどのC5−8シクロアルキル−フェノール)、アリールフェノール(例えば、o−フェニルフェノールなどのC6−10アリール−フェノール)、アルコキシフェノール(o−メトキシフェノールなどのC1−4アルコキシ−フェノールなど)など]、ポリヒドロキシベンゼン類{例えば、ジヒドロキシベンゼン(カテコール、レゾルシノール、ヒドロキノン)、アルキル−ジヒドロキシベンゼン[ジヒドロキシトルエン、ジヒドロキシキシレンなどのモノ又はジC1−4アルキル−ジヒドロキシベンゼンなど]などのジヒドロキシベンゼン類;トリヒドロキシベンゼン(ヒドロキシヒドロキノン、フロログルシノールなど)などのトリヒドロキシベンゼン類などのジ又はトリヒドロキシベンゼン類}などが挙げられる。 Examples of the compound in which ring Z is a benzene ring include phenols {for example, phenol, phenol having a substituent [for example, alkylphenol (for example, o-cresol, m-cresol, p-cresol, 2,3-dimethylphenol, 2 , 5-dimethylphenol, mono- or di-C 1-4 alkyl-phenols such as 2,6-dimethylphenol), cycloalkylphenols (eg C 5-8 cycloalkyl-phenols such as 2-cyclohexylphenol), arylphenols (For example, C 6-10 aryl-phenol such as o-phenylphenol), alkoxyphenol (such as C 1-4 alkoxy-phenol such as o-methoxyphenol), etc.], polyhydroxybenzenes {for example, dihydroxybenzene (carbon Dihydroxybenzenes such as techol, resorcinol, hydroquinone), alkyl-dihydroxybenzene [mono- or di-C 1-4 alkyl-dihydroxybenzene such as dihydroxytoluene, dihydroxyxylene, etc.]; trihydroxybenzene (hydroxyhydroquinone, phloroglucinol, etc.) Di- or trihydroxybenzenes such as trihydroxybenzenes} and the like.
また、環Zがナフタレン環である化合物としては、ナフトール類{すなわち、式(3)において環Zがナフタレン環、rが1である化合物、例えば、ナフトール(1−ナフトール、2−ナフトール)、置換基を有するナフトール[例えば、メチルナフトール、エチルナフトール、ジメチルナフトールなどのアルキルナフトール(例えば、C1−4アルキルナフトールなど)など]、アルコキシナフトール(例えば、エトキシナフトールなどのC1−4アルコキシナフトール)など}、これらのナフトール類(又はモノヒドロキシナフタレン類)に対応するポリヒドロキシナフタレン類(すなわち、式(3)において環Zがナフタレン環、rが2以上である化合物、例えば、1,3−ジヒドロキシナフタレン、1,4−ジヒドロキシナフタレン、2,3−ジヒドロキシナフタレン、1,5−ジヒドロキシナフタレン、1,7−ジヒドロキシナフタレン、1,8−ジヒドロキシナフタレン、2,6−ジヒドロキシナフタレン、2,7−ジヒドロキシナフタレン、1,2,4−トリヒドロキシナフタレン、1,3,8−トリヒドロキシナフタレンなどのジ又はトリヒドロキシナフタレン類)などが挙げられる。 In addition, examples of the compound in which the ring Z is a naphthalene ring include naphthols {that is, a compound in which the ring Z in the formula (3) is a naphthalene ring and r is 1, such as naphthol (1-naphthol, 2-naphthol), substituted Naphthol having a group [for example, alkyl naphthol such as methyl naphthol, ethyl naphthol and dimethyl naphthol (for example, C 1-4 alkyl naphthol)], alkoxy naphthol (for example, C 1-4 alkoxy naphthol such as ethoxy naphthol), etc. }, Polyhydroxynaphthalenes corresponding to these naphthols (or monohydroxynaphthalenes) (that is, compounds in which ring Z is a naphthalene ring and r is 2 or more in formula (3), for example, 1,3-dihydroxynaphthalene 1,4-dihydroxynaphthalene 2,3-dihydroxynaphthalene, 1,5-dihydroxynaphthalene, 1,7-dihydroxynaphthalene, 1,8-dihydroxynaphthalene, 2,6-dihydroxynaphthalene, 2,7-dihydroxynaphthalene, 1,2,4-tri And di- or trihydroxynaphthalenes such as hydroxynaphthalene and 1,3,8-trihydroxynaphthalene).
(ii)qが1以上である化合物
前記式(3)においてqが1以上である代表的な化合物としては、アルキレングリコールモノフェニルエーテル類[例えば、アルキレングリコールモノフェニルエーテル(例えば、2−フェノキシエタノール(エチレングリコールモノフェニルエーテル)、プロピレングリコールモノフェニルエーテル、テトラエチレングリコールモノフェニルエーテルなどのC2−4アルキレングリコールモノフェニルエーテル)、アルキレングリコールモノアルキルフェニルエーテル(例えば、2−(2−メチルフェノキシ)エタノール、2−(2,6−ジメチルフェノキシ)エタノールなどのC2−4アルキレングリコールモノ(モノ又はジC1−4アルキルフェニル)エーテル)、アルキレングリコールモノ(アリールフェニル)エーテル(例えば、エチレングリコールモノビフェニリルエーテル(エチレングリコールモノ(2−ビフェニリル)エーテルなど)などのC2−4アルキレングリコールモノ(モノ又はジC6−10アリールフェニル)エーテル)、アルキレングリコールモノ(アルキル−アリールフェニル)エーテル(例えば、エチレングリコールモノ(3−メチル−2−ビフェニリル)エーテルなどのC2−4アルキレングリコールモノ(モノ又はジC1−4アルキル−モノ又はジC6−10アリール−フェニル)エーテル)など]などの前記式(3)において、qおよびrがいずれも1であるアルコール類;ジアルキレングリコールモノフェニルエーテル類[例えば、ジアルキレングリコールモノフェニルエーテル(例えば、ジエチレングリコールモノフェニルエーテル、ジプロピレングリコールモノフェニルエーテルなどのジC2−4アルキレングリコールモノフェニルエーテル)など]などのqが1、rが2以上であるアルコール類;これらに対応し、qが3以上であるアルコール類;これらに対応し、環Zがナフタレン環であるアルコール類(例えば、1−(2−ヒドロキシエトキシ)ナフタレン、2−(2−ヒドロキシエトキシ)ナフタレンなどのアルキレングリコールモノナフチルエーテル類など)などが挙げられる。
(Ii) Compound in which q is 1 or more Representative compounds in which q is 1 or more in the formula (3) include alkylene glycol monophenyl ethers [for example, alkylene glycol monophenyl ether (for example, 2-phenoxyethanol ( Ethylene glycol monophenyl ether), propylene glycol monophenyl ether, C2-4 alkylene glycol monophenyl ether such as tetraethylene glycol monophenyl ether), alkylene glycol monoalkyl phenyl ether (for example, 2- (2-methylphenoxy) ethanol) , C 2-4 alkylene glycol mono (mono or di C 1-4 alkylphenyl) ether) such as 2- (2,6-dimethylphenoxy) ethanol, alkylene glycol mono (ali Ether phenyl) ether (for example, C 2-4 alkylene glycol mono (mono or di C 6-10 arylphenyl) ether such as ethylene glycol monobiphenylyl ether (such as ethylene glycol mono (2-biphenylyl) ether)), alkylene glycol mono C 2-4 alkylene glycol mono (mono or di C 1-4 alkyl-mono or di C 6-10 aryl such as (alkyl-arylphenyl) ether (eg ethylene glycol mono (3-methyl-2-biphenylyl) ether) -Phenyl) ether) etc.] in the above formula (3); q and r are both 1; dialkylene glycol monophenyl ethers [eg dialkylene glycol monophenyl ether (eg diethyl) Glycol monophenyl ether, alcohols q such dipropylene glycol di C 2-4 alkylene glycol monophenyl ether, such as monophenyl ether), etc.] is 1, r is 2 or more; response to these, q is 3 Corresponding to these alcohols in which ring Z is a naphthalene ring (for example, alkylene glycol mononaphthyl ethers such as 1- (2-hydroxyethoxy) naphthalene and 2- (2-hydroxyethoxy) naphthalene) Etc.).
これらの前記式(3)で表される化合物は単独で又は2種以上組み合わせてもよい。 These compounds represented by the formula (3) may be used alone or in combination of two or more.
原料として使用する前記式(3)で表される化合物(例えば、フェノール類、ナフトール類、アルキレングリコールモノフェニルエーテル類など)の純度は特に限定されないが、通常、95重量%以上であり、好ましくは99重量%以上である。 The purity of the compound represented by the formula (3) used as a raw material (for example, phenols, naphthols, alkylene glycol monophenyl ethers, etc.) is not particularly limited, but is usually 95% by weight or more, preferably 99% by weight or more.
反応において、前記式(3)で表される化合物の割合(使用割合)は、前記式(2)で表される化合物1モルに対して、2〜100モル(例えば、2〜80モル)程度の範囲から選択でき、例えば、2〜50モル(例えば、2.1〜40モル)、好ましくは2〜30モル(例えば、2.2〜25モル)、さらに好ましくは2〜20モル(例えば、2.3〜15モル)、特に2〜12モル(例えば、2.5〜10モル)程度であってもよく、通常3〜30モル(例えば、4〜25モル、好ましくは5〜20モル)程度であってもよい。 In the reaction, the ratio (use ratio) of the compound represented by the formula (3) is about 2 to 100 mol (for example, 2 to 80 mol) with respect to 1 mol of the compound represented by the formula (2). For example, 2 to 50 mol (for example, 2.1 to 40 mol), preferably 2 to 30 mol (for example, 2.2 to 25 mol), more preferably 2 to 20 mol (for example, 2.3 to 15 mol), in particular, about 2 to 12 mol (for example, 2.5 to 10 mol), and usually 3 to 30 mol (for example, 4 to 25 mol, preferably 5 to 20 mol). It may be a degree.
前記式(2)で表される化合物と前記式(3)で表される化合物との反応は、特に限定されないが、通常、酸触媒の存在下で行うことができる。酸触媒としては、無機酸{例えば、硫酸、ハロゲン化水素(塩化水素、臭化水素、ヨウ化水素など)、ハロゲン化水素酸[例えば、塩酸(例えば、5〜36重量%、好ましくは20〜36重量%程度の塩化水素の水溶液など)、臭化水素酸、ヨウ化水素酸など]、リン酸など}、有機酸{例えば、カルボン酸、スルホン酸[例えば、アルカンスルホン酸(例えば、メタンスルホン酸などのC1−4アルカンスルホン酸など)、アレーンスルホン酸(例えば、ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸(p−トルエンスルホン酸など)などのC6−10アレーンスルホン酸)、ハロアルカンスルホン酸(例えば、トリフルオロメタンスルホン酸などのハロC1−4アルカンスルホン酸など)など]など]などが挙げられる。前記硫酸には、希硫酸(例えば、濃度30〜90重量%程度の硫酸)、濃硫酸(例えば、濃度90重量%以上の硫酸)、発煙硫酸などが含まれ、反応系において硫酸に転化可能であれば、硫酸前駆体として、三酸化硫黄を使用してもよい。通常、硫酸として、H2SO4換算で、80〜99重量%(例えば、85〜98重量%)、好ましくは90〜97.5重量%程度の硫酸(濃硫酸)を使用してもよい。 The reaction between the compound represented by the formula (2) and the compound represented by the formula (3) is not particularly limited, but can usually be performed in the presence of an acid catalyst. Examples of the acid catalyst include inorganic acids {for example, sulfuric acid, hydrogen halide (hydrogen chloride, hydrogen bromide, hydrogen iodide, etc.), hydrohalic acid [for example, hydrochloric acid (for example, 5-36% by weight, preferably 20- About 36% by weight of an aqueous solution of hydrogen chloride, etc.), hydrobromic acid, hydroiodic acid, etc.], phosphoric acid, etc.}, organic acid {eg, carboxylic acid, sulfonic acid [eg, alkanesulfonic acid (eg, methanesulfone, etc.) C 1-4 alkane sulfonic acid such as acid), arene sulfonic acid (eg C 6-10 arene sulfonic acid such as benzene sulfonic acid, toluene sulfonic acid (p-toluene sulfonic acid etc.)), haloalkane sulfonic acid (eg And halo C 1-4 alkanesulfonic acid such as trifluoromethanesulfonic acid)] and the like]. The sulfuric acid includes dilute sulfuric acid (for example, sulfuric acid having a concentration of about 30 to 90% by weight), concentrated sulfuric acid (for example, sulfuric acid having a concentration of 90% by weight or more), fuming sulfuric acid, and the like, and can be converted into sulfuric acid in the reaction system. If present, sulfur trioxide may be used as the sulfuric acid precursor. Usually, as sulfuric acid, 80 to 99% by weight (for example, 85 to 98% by weight), preferably about 90 to 97.5% by weight sulfuric acid (concentrated sulfuric acid) may be used in terms of H 2 SO 4 .
また、酸触媒として固体酸を使用することもできる。固体酸としては、無機固体酸[金属化合物(SiO2、Al2O3、TiO2、Fe2O3、ZrO2、SnO2、V2O5などの酸化物、SiO2−Al2O3、SiO2−TiO2、TiO2−ZrO2、SiO2−ZrO2などの複合酸化物、ZnSなどの硫化物、CaSO4、Fe2(SO4)3、CuSO4、NiSO4、Al2(SO4)3、MnSO4、BaSO4、CoSO4、ZnSO4などの硫酸塩、P、Mo、V、W、Siなどの元素を含有するポリ酸(AlPO4、Tiのリン酸塩などのリン酸塩など)など);(NH4)2SO4などの非金属硫酸塩;粘土鉱物(酸性白土、モンモリロナイトなど);ゼオライト(酸性OH基を有するY型、X型、A型、ZSM5、モルデナイト、VIPI5、AlPO4−5、AlPO4−11など);カオリンなど]、有機固体酸(イオン交換樹脂など)などを例示できる。固体酸は、固体酸の種類に応じて多孔性又は非多孔性であってもよい。 Moreover, a solid acid can also be used as an acid catalyst. Examples of the solid acid include inorganic solid acids [metal compounds (SiO 2 , Al 2 O 3 , TiO 2 , Fe 2 O 3 , ZrO 2 , SnO 2 , V 2 O 5 and other oxides, SiO 2 —Al 2 O 3]. , SiO 2 —TiO 2 , TiO 2 —ZrO 2 , SiO 2 —ZrO 2 and other complex oxides, sulfides such as ZnS, CaSO 4 , Fe 2 (SO 4 ) 3 , CuSO 4 , NiSO 4 , Al 2 ( SO 4 ) 3 , MnSO 4 , BaSO 4 , CoSO 4 , ZnSO 4 and other sulfates, P, Mo, V, W, Si and other polyacids (AlPO 4 , Ti phosphates, etc.) salt, etc.), etc.); clay minerals (acid clay, montmorillonite, etc.);; (NH 4) 2 SO 4 nonmetal sulfates such as zeolite (Y-type having an acidic OH group, X type, a type, ZSM , Mordenite, VIPI 5, AlPO 4 -5, including AlPO 4 -11); kaolin, etc.], can be exemplified an organic solid acid (such as ion-exchange resins). The solid acid may be porous or non-porous depending on the type of solid acid.
イオン交換樹脂としては、主に、強酸性陽イオン交換樹脂[例えば、スルホン酸基を有するイオン交換樹脂[スチレン−ジビニルベンゼンコポリマーなどの架橋ポリスチレンのスルホン化物、スルホン酸基(又は−CF2CF2SO3H基)を有する含フッ素樹脂(例えば、[2−(2−スルホテトラフルオロエトキシ)ヘキサフルオロプロポキシ]トリフルオロエチレンとテトラフルオロエチレンとのブロック共重合体(デュポン社製のナフィオン)などの含フッ素イオン交換樹脂など]など]、弱酸性陽イオン交換樹脂[例えば、カルボン酸基を有するイオン交換樹脂(メタクリル酸−ジビニルベンゼンコポリマーなど)など]などの陽イオン交換樹脂(酸型イオン交換樹脂)などを使用できる。また、分子内に臭素を導入した耐熱性のイオン交換樹脂も使用できる。これらの固体酸の中でも、陽イオン交換樹脂が好ましい。 The ion exchange resin mainly includes strong acid cation exchange resin [for example, ion exchange resin having sulfonic acid group [sulfonated product of crosslinked polystyrene such as styrene-divinylbenzene copolymer, sulfonic acid group (or —CF 2 CF 2]. A fluorine-containing resin having a SO 3 H group (for example, a block copolymer of [2- (2-sulfotetrafluoroethoxy) hexafluoropropoxy] trifluoroethylene and tetrafluoroethylene (Nafion manufactured by DuPont), etc. Fluorine-containing ion exchange resins, etc.], weak acid cation exchange resins [for example, ion exchange resins having a carboxylic acid group (methacrylic acid-divinylbenzene copolymer, etc.), etc.] ), Etc. In addition, heat resistance with bromine introduced into the molecule Can also be used in the ion exchange resin. Among these solid acid cation exchange resin is preferred.
イオン交換樹脂は、ゲル型イオン交換樹脂であってもよいが、通常、触媒活性の点より、ポーラス型イオン交換樹脂[ミクロポアーの他にマクロポアー(例えば、孔径が50〜1000Å程度の細孔)を有するイオン交換樹脂]が好ましい。ポーラス型イオン交換樹脂のうち、例えば、ジビニルベンゼンの比率(架橋度)の高いスチレン−ジビニルベンゼンコポリマーを基体としたイオン交換樹脂は、ハイポーラス樹脂と呼ばれる。ポーラス型イオン交換樹脂の多孔度は、通常、0.03〜0.6cm3/g程度であり、例えば、0.05〜0.55cm3/g、好ましくは0.1〜0.5cm3/g、さらに好ましくは0.15〜0.45cm3/g(特に0.2〜0.4cm3/g)程度であってもよい。イオン交換樹脂の窒素吸着比表面積は、通常、10〜90m2/g程度であり、例えば、15〜80m2/g、好ましくは20〜70m2/g、さらに好ましくは25〜60m2/g(特に30〜50m2/g)程度であってもよい。固体酸として、例えば、バイエル社製の「レバチットK2649」;オルガノ社製の「アンバーリスト31」、「アンバーリスト131」、「アンバーリスト121」;デュポン社製の「ナフィオン」などの市販のイオン交換樹脂を使用してもよい。 The ion exchange resin may be a gel type ion exchange resin, but usually, from the viewpoint of catalytic activity, a porous ion exchange resin [in addition to micropores, macropores (for example, pores having a pore diameter of about 50 to 1000 mm) are used. Having an ion exchange resin]. Among porous ion exchange resins, for example, an ion exchange resin based on a styrene-divinylbenzene copolymer having a high divinylbenzene ratio (crosslinking degree) is called a high porous resin. The porosity of the porous ion exchange resin is usually about 0.03 to 0.6 cm 3 / g, for example, 0.05 to 0.55 cm 3 / g, preferably 0.1 to 0.5 cm 3 / g. g, more preferably about 0.15 to 0.45 cm 3 / g (particularly 0.2 to 0.4 cm 3 / g). The nitrogen adsorption specific surface area of the ion exchange resin is usually about 10 to 90 m 2 / g, for example, 15 to 80 m 2 / g, preferably 20 to 70 m 2 / g, more preferably 25 to 60 m 2 / g ( In particular, it may be about 30 to 50 m 2 / g). Commercially available ion exchanges such as “Levacit K2649” manufactured by Bayer; “Amberlist 31”, “Amberlist 131”, “Amberlist 121” manufactured by Organo; “Nafion” manufactured by DuPont, etc. A resin may be used.
固体酸の形態は、特に制限はなく、膜状であってもよいが、通常、粒状であり、微粒状であってもよい。 There is no restriction | limiting in particular in the form of a solid acid, Although a film form may be sufficient, Usually, it is granular and fine particle may be sufficient.
好ましい酸触媒には、前記式(3)で表される化合物の種類などにもよるが、ハロゲン化水素酸(塩酸など)、硫酸、スルホン酸などが含まれる。特に好ましい酸触媒は、ハロアルカンスルホン酸(例えば、トリフルオロメタンスルホン酸などのハロC1−4アルカンスルホン酸、特にフルオロC1−4アルカンスルホン酸)などのスルホン酸である。後述するように、前記式(1)で表される化合物は、前駆体(後述の化合物(4))を経た段階的な反応により生成する場合があるが、スルホン酸(特に、ハロアルカンスルホン酸)を使用すると、一段階の反応でも(又は前駆体を経る段階的な反応であっても効率よく)、生成物としての前記式(1)で表される化合物を得ることができる。そのため、酸触媒は、少なくともハロアルカンスルホン酸で構成してもよい。 Preferred acid catalysts include hydrohalic acid (such as hydrochloric acid), sulfuric acid, and sulfonic acid, although depending on the type of compound represented by the formula (3). Particularly preferred acid catalysts are sulfonic acids such as haloalkane sulfonic acids (eg, halo C 1-4 alkane sulfonic acids such as trifluoromethane sulfonic acid, especially fluoro C 1-4 alkane sulfonic acids). As described later, the compound represented by the formula (1) may be produced by a stepwise reaction through a precursor (compound (4) described later), but sulfonic acid (particularly, haloalkanesulfonic acid). Can be used to obtain the compound represented by the above formula (1) as a product even in a one-step reaction (or even in a stepwise reaction via a precursor). Therefore, the acid catalyst may be composed of at least haloalkanesulfonic acid.
なお、通常、前記式(3)で表される化合物は、q=0である化合物(すなわち、フェノール性水酸基を有する化合物)と、qが1以上である化合物(すなわち、アルコール性ヒドロキシル基を有する化合物)とで、前記式(2)で表される化合物に対する反応性が大きく相違する場合が多い。例えば、前記式(3)においてq=0である化合物(例えば、フェノール、クレゾール、ナフトールなど)は、硫酸や塩酸を酸触媒として使用しても、前記式(2)で表される化合物との反応が進行する。一方、前記式(3)においてqが1以上である化合物(例えば、フェノキシエタノールなど)は、硫酸や塩酸を酸触媒として使用すると、前記式(2)で表される化合物との反応が全く進行しないか又は進行しても著しく反応性が低くなるが、酸触媒としてスルホン酸などを使用すると、前記式(2)で表される化合物との反応が効率よく進行する場合が多い。 In general, the compound represented by the formula (3) is a compound in which q = 0 (that is, a compound having a phenolic hydroxyl group) and a compound in which q is 1 or more (that is, having an alcoholic hydroxyl group). In many cases, the reactivity of the compound) with the compound represented by the formula (2) is greatly different. For example, a compound in which q = 0 in the formula (3) (for example, phenol, cresol, naphthol, etc.) can be obtained from the compound represented by the formula (2) even if sulfuric acid or hydrochloric acid is used as an acid catalyst. The reaction proceeds. On the other hand, a compound in which q is 1 or more in the formula (3) (for example, phenoxyethanol) does not proceed at all with the compound represented by the formula (2) when sulfuric acid or hydrochloric acid is used as an acid catalyst. However, even if it proceeds, the reactivity is significantly lowered. However, when sulfonic acid or the like is used as the acid catalyst, the reaction with the compound represented by the formula (2) often proceeds efficiently.
そのため、前記式(3)で表される化合物のうち、特に、qが1以上である化合物を使用する場合には、酸触媒は、スルホン酸(例えば、メタンスルホン酸などのアルカンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸などのハロアルカンスルホン酸)で構成してもよい。なお、スルホン酸の使用により触媒活性が向上する理由は定かではないが、スルホン酸に対する前記式(3)で表される化合物の溶解性の高さなども影響しているものと考えられる。 For this reason, among the compounds represented by the formula (3), particularly when a compound having q of 1 or more is used, the acid catalyst is a sulfonic acid (for example, alkane sulfonic acid such as methanesulfonic acid, trifluoro It may be composed of haloalkanesulfonic acid such as romethanesulfonic acid). The reason why the catalytic activity is improved by the use of sulfonic acid is not clear, but it is considered that the high solubility of the compound represented by the formula (3) in sulfonic acid is also affected.
酸触媒は単独で又は2種以上組み合わせてもよい。 The acid catalysts may be used alone or in combination of two or more.
酸触媒(例えば、前記無機酸又は前記有機酸)の使用量は、酸触媒の種類に応じて選択できるが、例えば、前記式(2)で表される化合物100重量部に対して、0.001〜150重量部、好ましくは0.01〜100重量部、さらに好ましくは0.5〜25重量部程度であってもよい。また、酸触媒の使用量は、前記式(2)で表される化合物1モルに対して、0.1〜200モル(例えば、0.5〜150モル)、好ましくは1〜120モル(例えば、2〜100モル)、さらに好ましくは3〜100モル(例えば、4〜80モル)、特に5〜70モル(例えば、8〜50モル)程度であってもよく、通常5〜100モル(例えば、10〜80モル、好ましくは15〜60モル)程度であってもよい。上記のように比較的多量の酸触媒(スルホン酸など)を使用することにより、前記式(1)で表される化合物の生成が有利になる理由は定かではないが、多量の酸触媒により、前記式(1)で表される化合物の生成における過程で副生する水の反応系からの脱水が進行しやすくなることもその要因であるものと考えられる。なお、前記式(2)においてqが1以上である化合物を使用する場合、酸触媒(スルホン酸など)の割合は、前記式(2)で表される化合物1モルに対して、比較的多い割合[例えば、1〜200モル、好ましくは2〜150モル、さらに好ましくは3〜120モル(例えば、4〜100モル)、特に5〜80モル(例えば、8〜60モル)、通常5〜100モル(例えば、10〜80モル、好ましくは15〜60モル)]であってもよい。 Although the usage-amount of an acid catalyst (for example, the said inorganic acid or the said organic acid) can be selected according to the kind of acid catalyst, for example with respect to 100 weight part of compounds represented by the said Formula (2), 0. It may be about 001 to 150 parts by weight, preferably 0.01 to 100 parts by weight, and more preferably about 0.5 to 25 parts by weight. Moreover, the usage-amount of an acid catalyst is 0.1-200 mol (for example, 0.5-150 mol) with respect to 1 mol of compounds represented by the said Formula (2), Preferably it is 1-120 mol (for example, 2 to 100 mol), more preferably 3 to 100 mol (for example, 4 to 80 mol), particularly about 5 to 70 mol (for example, 8 to 50 mol), and usually 5 to 100 mol (for example, 10 to 80 mol, preferably 15 to 60 mol). The reason why the production of the compound represented by the formula (1) is advantageous by using a relatively large amount of an acid catalyst (such as sulfonic acid) as described above is not clear, but with a large amount of acid catalyst, It is also considered that the dehydration from the reaction system of water produced as a by-product in the process of producing the compound represented by the formula (1) easily proceeds. In addition, when using the compound whose q is 1 or more in the said Formula (2), the ratio of an acid catalyst (sulfonic acid etc.) is comparatively much with respect to 1 mol of compounds represented by the said Formula (2). Ratio [e.g. 1 to 200 mol, preferably 2 to 150 mol, more preferably 3 to 120 mol (e.g. 4 to 100 mol), in particular 5 to 80 mol (e.g. 8 to 60 mol), usually 5 to 100 Mol (for example, 10 to 80 mol, preferably 15 to 60 mol)].
反応は、通常、酸触媒に加えて、助触媒としてのチオール類を併用して行ってもよい。酸触媒とチオール類とを組み合わせると、反応を有効に進行できる。また、このような組合せにより、簡便にかつ効率よく、残留硫黄分が少ない高純度の生成物を高収率で得ることができる。そのため、これらの組み合わせにより、本発明の化合物を工業的に安価に量産可能である。 In general, the reaction may be carried out in combination with a thiol as a co-catalyst in addition to the acid catalyst. When the acid catalyst and thiols are combined, the reaction can proceed effectively. In addition, by such a combination, a high-purity product with a low residual sulfur content can be obtained in a high yield simply and efficiently. Therefore, these combinations enable industrial production of the compound of the present invention at low cost.
チオール類としては、助触媒として機能する慣用のチオール類、例えば、メルカプトカルボン酸(チオ酢酸、β−メルカプトプロピオン酸、α−メルカプトプロピオン酸、チオグリコール酸、チオシュウ酸、メルカプトコハク酸、メルカプト安息香酸など)、アルキルメルカプタン(例えば、メチルメルカプタン、エチルメルカプタン、プロピルメルカプタン、イソプロピルメルカプタン、n−ブチルメルカプタン、ドデシルメルカプタンなどのC1−20アルキルメルカプタン、好ましくはC1−16アルキルメルカプタンなど)、アラルキルメルカプタン(ベンジルメルカプタンなど)などが挙げられる。これらのチオール類のうち、メルカプトC2−6カルボン酸(例えば、β−メルカプトプロピオン酸)、アルキルメルカプタン(例えば、C1−16アルキルメルカプタン)が好ましく、特に、炭素数4以上のアルキルメルカプタン(例えば、ドデカンチオールなどのC6−20アルキルメルカプタン、好ましくはC8−18アルキルメルカプタン、さらに好ましくはC10−16アルキルメルカプタン)などのアルキルメルカプタンが好ましい。チオール類は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。 Examples of thiols include conventional thiols that function as promoters, such as mercaptocarboxylic acids (thioacetic acid, β-mercaptopropionic acid, α-mercaptopropionic acid, thioglycolic acid, thiooxalic acid, mercaptosuccinic acid, mercaptobenzoic acid. Etc.), alkyl mercaptans (for example, C 1-20 alkyl mercaptans such as methyl mercaptan, ethyl mercaptan, propyl mercaptan, isopropyl mercaptan, n-butyl mercaptan, dodecyl mercaptan, preferably C 1-16 alkyl mercaptan), aralkyl mercaptans ( Benzyl mercaptan etc.). Among these thiols, mercapto C 2-6 carboxylic acid (for example, β-mercaptopropionic acid) and alkyl mercaptan (for example, C 1-16 alkyl mercaptan) are preferable, and in particular, alkyl mercaptan having 4 or more carbon atoms (for example, And alkyl mercaptans such as C 6-20 alkyl mercaptans such as dodecanethiol, preferably C 8-18 alkyl mercaptans, and more preferably C 10-16 alkyl mercaptans. Thiols can be used alone or in combination of two or more.
チオール類を使用する場合、チオール類の使用量は、前記式(2)で表される化合物1重量部に対して、0.1〜1重量部程度の範囲から選択でき、例えば、0.005〜0.8重量部、好ましくは0.01〜0.7重量部、さらに好ましくは0.05〜0.5重量部程度であってもよい。また、チオール類の使用量は、前記式(2)で表される化合物100モルに対して、例えば、0.1〜100モル、好ましくは0.5〜70モル、さらに好ましくは1〜60モル(例えば、1.5〜50モル)程度であってもよい。 When using thiols, the usage-amount of thiols can be selected from the range of about 0.1-1 weight part with respect to 1 weight part of compounds represented by said Formula (2), for example, 0.005 It may be about -0.8 parts by weight, preferably 0.01-0.7 parts by weight, more preferably about 0.05-0.5 parts by weight. Moreover, the usage-amount of thiols is 0.1-100 mol with respect to 100 mol of compounds represented by said Formula (2), Preferably it is 0.5-70 mol, More preferably, it is 1-60 mol. About (for example, 1.5-50 mol) may be sufficient.
また、チオール類の使用量は、酸触媒1重量部に対して、0.01〜50重量部程度の範囲から選択でき、例えば、0.015〜40重量部、好ましくは0.02〜30重量部、さらに好ましくは0.03〜20重量部程度であってもよい。さらに、チオール類の使用量は、酸触媒100モルに対して、0.001〜20モル程度の範囲から選択でき、例えば、0.05〜15モル、好ましくは0.1〜10モル、さらに好ましくは0.2〜8モル、特に0.3〜5モル(例えば、0.4〜3モル)程度であってもよい。 Moreover, the usage-amount of thiols can be selected from the range of about 0.01-50 weight part with respect to 1 weight part of acid catalysts, for example, 0.015-40 weight part, Preferably it is 0.02-30 weight part. Part, more preferably about 0.03 to 20 parts by weight. Furthermore, the usage-amount of thiols can be selected from the range of about 0.001-20 mol with respect to 100 mol of acid catalysts, for example, 0.05-15 mol, Preferably it is 0.1-10 mol, More preferably May be about 0.2 to 8 mol, particularly about 0.3 to 5 mol (for example, 0.4 to 3 mol).
反応は、溶媒の非存在下で行ってもよく、溶媒中で行ってもよい。本発明では、溶媒を使用しなくても(又は実質的に使用しなくても)、前記式(2)で表される化合物と前記式(3)で表される化合物との反応を効率よく進行させることができる。必要に応じて溶媒を使用する場合、溶媒としては、前記酸触媒に対して非反応性で、かつ前記式(2)で表される化合物および前記式(3)で表される化合物を溶解可能であれば特に限定されず、幅広い範囲で使用できる。代表的な有機溶媒としては、エーテル系溶媒(ジエチルエーテルなどのジアルキルエーテル類、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどの環状エーテル類など)、ハロゲン系溶媒(塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素類など)、芳香族系溶媒(ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、アニソールなど)などが挙げられる。溶媒は、単独で又は2種以上組み合わせてもよい。 The reaction may be performed in the absence of a solvent or in a solvent. In the present invention, the reaction between the compound represented by the formula (2) and the compound represented by the formula (3) can be efficiently performed without using a solvent (or substantially without using a solvent). Can be advanced. When a solvent is used as necessary, the solvent is non-reactive with the acid catalyst and can dissolve the compound represented by the formula (2) and the compound represented by the formula (3). If it is, it will not specifically limit, It can use in the wide range. Typical organic solvents include ether solvents (dialkyl ethers such as diethyl ether, cyclic ethers such as tetrahydrofuran and dioxane), halogenated solvents (halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform and carbon tetrachloride). Etc.), aromatic solvents (aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene, anisole and the like). The solvents may be used alone or in combination of two or more.
溶媒の使用量は、前記式(2)で表される化合物1重量部に対して、0.1〜25重量部程度の範囲から選択でき、例えば、1〜15重量部、好ましくは3〜10重量部程度であってもよい。 The usage-amount of a solvent can be selected from the range of about 0.1-25 weight part with respect to 1 weight part of compounds represented by said Formula (2), for example, 1-15 weight part, Preferably it is 3-10. It may be about parts by weight.
反応温度は、使用する前記式(2)で表される化合物、前記式(3)で表される化合物、酸触媒、チオール類などの種類に応じて選択できるが、通常、10〜150℃、好ましくは20〜120℃程度で行う場合が多い。また、反応時間は、原料の種類、反応温度や溶媒中の濃度などに応じて調整でき、例えば、30分〜48時間、好ましくは1〜36時間、さらに好ましくは2〜24時間程度であってもよい。 The reaction temperature can be selected according to the type of the compound represented by the formula (2) to be used, the compound represented by the formula (3), the acid catalyst, the thiols, and the like. Preferably, it is often performed at about 20 to 120 ° C. The reaction time can be adjusted according to the type of raw material, the reaction temperature, the concentration in the solvent, etc., for example, 30 minutes to 48 hours, preferably 1 to 36 hours, more preferably about 2 to 24 hours. Also good.
また、反応は、攪拌しながら行ってもよく、空気中又は不活性雰囲気(窒素、希ガスなど)中で行ってもよく、常圧又は加圧下でおこなってもよい。なお、反応の進行は、高速液体クロマトグラフィー(HPLC)、薄層クロマトグラフィー(TLC)などにより確認(又は追跡)できる。 The reaction may be performed with stirring, may be performed in air or in an inert atmosphere (nitrogen, rare gas, etc.), or may be performed at normal pressure or under pressure. The progress of the reaction can be confirmed (or traced) by high performance liquid chromatography (HPLC), thin layer chromatography (TLC), or the like.
以上のような工程により、前記式(1)で表される化合物を得ることができるが、使用する触媒や、反応条件などに応じて、前記式(1)で表される化合物の前駆体(下記式(4)で表される化合物)が生成する場合がある。このような前駆体(又は中間体)が生成する場合、(a)そのまま反応を継続して、最終生成物としての前記式(1)で表される化合物を製造してもよく、(b)単離した前駆体から前記式(1)で表される化合物を生成させてもよい。前記方法(a)では、必要に応じて、反応系を慣用の方法(例えば、溶媒を用いた共沸脱水など)により脱水しつつ反応を継続してもよい。なお、前駆体が生成する理由は、定かではないが、前記式(2)で表される化合物と前記式(3)で表される化合物との反応により生成する水が、前駆体から前記式(1)で表される化合物への反応ステップの反応速度や反応活性を低下させることがその一因であるものと考えられる。 The compound represented by the formula (1) can be obtained by the steps as described above, but the precursor of the compound represented by the formula (1) (depending on the catalyst used, reaction conditions, etc.) A compound represented by the following formula (4) may be produced. When such a precursor (or intermediate) is produced, (a) the reaction may be continued as it is to produce the compound represented by the formula (1) as a final product, (b) The compound represented by the formula (1) may be generated from the isolated precursor. In the method (a), if necessary, the reaction may be continued while dehydrating the reaction system by a conventional method (for example, azeotropic dehydration using a solvent). The reason why the precursor is generated is not clear, but water generated by the reaction between the compound represented by the formula (2) and the compound represented by the formula (3) is converted from the precursor into the formula. It is considered that one of the causes is to reduce the reaction rate and reaction activity of the reaction step to the compound represented by (1).
(式中、X、R1、p、Z、R2、q、r、R3、sは前記と同じ。)
なお、前記式(1)で表される化合物として、前記式(1A)で表される化合物を得る場合には、下記式(4A)で表される化合物が、前記式(1B)で表される化合物を得る場合には、下記式(4B)で表される化合物が、それぞれ前駆体として得られる。
(Wherein, X, R 1 , p, Z, R 2 , q, r, R 3 , and s are the same as described above.)
In addition, when obtaining the compound represented by said Formula (1A) as a compound represented by said Formula (1), the compound represented by following formula (4A) is represented by said Formula (1B). In the case of obtaining a compound, a compound represented by the following formula (4B) is obtained as a precursor.
(式中、R1、p1、p2、Z、R2、q、r、R3、sは前記と同じ。)
なお、上記方法(b)において、反応混合物から前駆体(前記式(4)で表される化合物)の単離(精製)は、慣用の方法、例えば、濾過、濃縮、抽出、晶析、再結晶、カラムクロマトグラフィーなどの分離手段や、これらを組み合わせた分離手段を利用できる。
(In the formula, R 1 , p 1 , p 2, Z, R 2 , q, r, R 3 , and s are the same as above.)
In the above method (b), isolation (purification) of the precursor (compound represented by the formula (4)) from the reaction mixture can be performed by a conventional method such as filtration, concentration, extraction, crystallization, recrystallization, and the like. Separation means such as crystals and column chromatography, or a separation means combining them can be used.
上記方法(b)において、単離した前駆体から前記式(1)で表される化合物を製造する方法としては、(b1)前駆体を酸触媒で処理する(前駆体と酸触媒とを混合する又は反応させる)方法、(b2)前駆体を還元剤で処理する方法などが挙げられる。代表的な方法は、酸触媒で処理する方法(b1)である。酸触媒としては、前記例示の酸触媒が挙げられ、好ましい酸触媒も前記と同様である。酸触媒の使用量もまた、前記と同様の範囲から選択できる(すなわち、前記式(2)で表される化合物に代えて前記式(4)で表される化合物を所定の割合で使用すればよい。以下同じ。)。 In the method (b), as a method for producing the compound represented by the formula (1) from the isolated precursor, (b1) the precursor is treated with an acid catalyst (the precursor and the acid catalyst are mixed). And (b2) a method of treating a precursor with a reducing agent, and the like. A typical method is a method (b1) of treating with an acid catalyst. Examples of the acid catalyst include the acid catalysts exemplified above, and preferred acid catalysts are the same as described above. The amount of the acid catalyst used can also be selected from the same range as above (that is, if the compound represented by the formula (4) is used in a predetermined ratio instead of the compound represented by the formula (2). Good, the same applies below).
また、必要に応じて、前記と同様に酸触媒とともに、チオール類を併用してもよく、好ましいチオール類やチオール類の割合も前記と同様の範囲から選択できる。 Moreover, if necessary, thiols may be used in combination with the acid catalyst in the same manner as described above, and preferred thiols and ratios of thiols can be selected from the same range as described above.
さらに、必要に応じて、酸触媒(およびチオール類)とともに、前記式(3)で表される化合物を使用してもよい。前記式(3)で表される化合物は、前駆体の使用に用いた化合物と同じ化合物を使用するのが好ましく、その割合は、前記と同様の範囲から選択できる。 Furthermore, you may use the compound represented by said Formula (3) with an acid catalyst (and thiols) as needed. As the compound represented by the formula (3), it is preferable to use the same compound as the compound used for the precursor, and the ratio thereof can be selected from the same range as described above.
処理温度(反応温度)や処理時間(反応時間)、もまた、前記と同様の範囲から選択できる。また、酸触媒による処理(反応)は、攪拌しながら行ってもよく、空気中又は不活性雰囲気(窒素、希ガスなど)中で行ってもよく、常圧又は加圧下でおこなってもよい。 The treatment temperature (reaction temperature) and the treatment time (reaction time) can also be selected from the same ranges as described above. Further, the treatment (reaction) with the acid catalyst may be performed while stirring, may be performed in air or in an inert atmosphere (nitrogen, rare gas, etc.), and may be performed under normal pressure or under pressure.
なお、反応終了後の反応混合物には、通常、生成した前記式(1)で表される化合物以外に、未反応の前記式(2)で表される化合物、未反応の前記式(3)で表される化合物、触媒(酸触媒、チオール類)、副反応生成物などが含まれている。そのため、慣用の方法、例えば、濾過、濃縮、抽出、晶析、再結晶、カラムクロマトグラフィーなどの分離手段や、これらを組み合わせた分離手段により分離精製できる。 In addition, in the reaction mixture after completion | finish of reaction, in addition to the compound represented by the said Formula (1) produced | generated normally, the compound represented by the said unreacted said Formula (2), the said unreacted Formula (3) The compound represented by these, a catalyst (acid catalyst, thiols), a side reaction product, etc. are contained. Therefore, it can be separated and purified by a conventional method, for example, separation means such as filtration, concentration, extraction, crystallization, recrystallization, column chromatography, etc., or a separation means combining these.
前記晶析溶媒としては、炭化水素類[脂肪族炭化水素(ヘキサン、ヘプタンなど)、脂環族炭化水素(シクロヘキサンなど)、芳香族炭化水素(トルエン、キシレンなど)、ハロゲン化炭化水素(ジクロロメタンなど)など]、水、アルコール類[メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノールなどの低級脂肪族アルコール(C1−3アルカノールなど)]、ケトン類[アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジエチルケトン、エチルプロピルケトン、ジ−n−プロピルケトン、ジイソプロピルケトンなどの低級脂肪族ケトン(C3−7ジアルキルケトンなど)、シクロヘキサノンなど]、エーテル類(ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテルなどのジアルキルエーテルなど)などが挙げられる。晶析溶媒は、単独で又は2種以上組み合わせてもよい。 Examples of the crystallization solvent include hydrocarbons [aliphatic hydrocarbons (hexane, heptane, etc.), alicyclic hydrocarbons (cyclohexane, etc.), aromatic hydrocarbons (toluene, xylene, etc.), halogenated hydrocarbons (dichloromethane, etc. ), Etc.], water, alcohols [lower aliphatic alcohols such as methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol ( C1-3 alkanols, etc.)], ketones [acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, diethyl ketone, ethylpropyl Examples include ketones, lower aliphatic ketones (such as C 3-7 dialkyl ketones) such as di-n-propyl ketone and diisopropyl ketone, cyclohexanones, etc., ethers (such as dialkyl ethers such as diethyl ether and diisopropyl ether), and the like. The crystallization solvents may be used alone or in combination of two or more.
晶析溶媒の使用量は、特に限定されず、反応混合物(固形分換算)1重量部に対して、0.5〜50重量部、好ましくは1〜10重量部、さらに好ましくは1〜5重量部程度であってもよい。このような晶析操作は一回行ってもよく、複数回繰り返して行ってもよい。 The amount of the crystallization solvent used is not particularly limited, and is 0.5 to 50 parts by weight, preferably 1 to 10 parts by weight, more preferably 1 to 5 parts by weight with respect to 1 part by weight of the reaction mixture (solid content conversion). It may be about a part. Such a crystallization operation may be performed once or may be repeated a plurality of times.
以上のようにして、前記式(1)で表される化合物を得ることができる。なお、前記式(1)において、qが1以上である化合物は、効率よく反応させるためには、前記方法により製造するのが好ましいが、前記式(3)で表される化合物として、qが0である化合物を用いて、前記式(1)においてqが0である化合物を生成した後、生成した化合物(前記式(1)において、qが0である化合物)と、アルキレン基R2(又はオキシアルキレン基OR2)に対応する化合物とを反応させて製造することもできる。 As described above, the compound represented by the formula (1) can be obtained. In addition, in the said Formula (1), in order to make it react efficiently, the compound whose q is 1 or more is preferable to manufacture by the said method, However, q is represented as the compound represented by the said Formula (3). A compound in which q is 0 in the formula (1) is generated using a compound in which the compound is 0, and then the compound (a compound in which q is 0 in the formula (1)) and an alkylene group R 2 ( Alternatively, it can also be produced by reacting a compound corresponding to the oxyalkylene group OR 2 ).
アルキレン基R4に対応する化合物としては、アルキレンオキシド(エチレンオキシド、プロピレンオキシド、ブチレンオキシドなどのC2−4アルキレンオキシド、特にC2−3アルキレンオキシドなど)、アルキレンカーボネート(エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、ブチレンカーボネートなどのC2−4アルキレンカーボネート、特にC2−3アルキレンカーボネートなど)、ハロアルカノール(例えば、3−クロロプロパノールなどのハロC2−6アルカノールなど)などとの反応(又は付加)生成物などが挙げられる。これらの化合物は、単独で又は2種以上組み合わせてもよい。なお、アルキレンオキシド又はアルキレンカーボネートを反応させると、前記式(1)で表される化合物(qが0である化合物)のヒドロキシル基を介して(ポリ)オキシアルキレン単位を導入できる。アルキレンカーボネートを使用する場合、アルキレンカーボネートが付加したのち、脱炭酸反応が生じることにより、オキシアルキレン単位(アルコキシ単位)が導入される。 Examples of the compound corresponding to the alkylene group R 4 include alkylene oxide (C 2-4 alkylene oxide such as ethylene oxide, propylene oxide and butylene oxide, particularly C 2-3 alkylene oxide) and alkylene carbonate (ethylene carbonate, propylene carbonate and butylene). C 2-4 alkylene carbonates such as carbonates, such as especially C 2-3 alkylene carbonate), halo alkanol (e.g., 3-reaction with a halo C 2-6 alkanol, etc.), such as chloropropanol (or addition) products such as Is mentioned. These compounds may be used alone or in combination of two or more. When alkylene oxide or alkylene carbonate is reacted, a (poly) oxyalkylene unit can be introduced through the hydroxyl group of the compound represented by the formula (1) (a compound in which q is 0). When using an alkylene carbonate, an oxyalkylene unit (alkoxy unit) is introduced by decarboxylation after the addition of the alkylene carbonate.
以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on examples, but the present invention is not limited to these examples.
なお、実施例において、化合物の特性は以下の方法により測定した。 In the examples, the properties of the compounds were measured by the following methods.
(1)熱重量分析
熱重量分析は、エスアイアイナノテクノロジー(株)製、「EXSTAR TG/DTA 6200」を用いて、窒素雰囲気下(流量20ml/分)中、加熱速度10℃/分で行い、重量が5%減少する熱分解温度(Td(5%))を測定した。
(1) Thermogravimetric analysis Thermogravimetric analysis was performed at a heating rate of 10 ° C / min in a nitrogen atmosphere (flow rate 20 ml / min) using "EXSTAR TG / DTA 6200" manufactured by SII Nano Technology. The thermal decomposition temperature (Td (5%)) at which the weight decreases by 5% was measured.
(実施例1)
窒素で膨らませた風船をつけた3方コックを連結した冷却管を装着した3つ口フラスコに攪拌子、アセナフタレンキノン1.81g(9.94mmol)、フェノール3.85g(40.9mmol)、1−ドデカンチオール0.04g(0.20mmol)を加え窒素置換し、75℃まで加熱した。メタンスルホン酸2mlを添加し、75℃で4時間攪拌した。冷却後酢酸エチル、蒸留水を加え、抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、乾燥剤をろ過し、エバポレーターで濃縮した。シリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル:トルエン=1:4)で精製した後にトルエンを加えて、結晶をろ過、乾燥して1.73gの淡黄色結晶を得た(収率49%)。
Example 1
A three-necked flask equipped with a condenser tube connected with a three-way cock with a balloon inflated with nitrogen was added to a stirrer, acenaphthalenequinone 1.81 g (9.94 mmol), phenol 3.85 g (40.9 mmol), 1 -Dodecanethiol 0.04g (0.20mmol) was added, nitrogen substitution was carried out, and it heated to 75 degreeC. 2 ml of methanesulfonic acid was added and stirred at 75 ° C. for 4 hours. After cooling, ethyl acetate and distilled water were added for extraction, and the organic layer was washed with saturated brine, dried over sodium sulfate, the desiccant was filtered, and concentrated with an evaporator. After purification by silica gel chromatography (ethyl acetate: toluene = 1: 4), toluene was added, and the crystals were filtered and dried to obtain 1.73 g of pale yellow crystals (yield 49%).
以下に、生成物である2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)アセナフテン−1(2H)−オンの化学式、1H−NMR、および13C−NMRスペクトルデータを示す。 The chemical formula, 1 H-NMR, and 13 C-NMR spectrum data of the product 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) acenaphthen-1 (2H) -one are shown below.
1H−NMR(CDCl3)ppm;6.65(d,4H),6.92(d,4H),7.48(d,1H),7.72(t,1H),7.86(t,1H),7.97(d,1H),8.02(d,1H),8.32(d,1H),9.40(d,2H)
13C−NMR(CDCl3)ppm;65.5,114.9,122.4,122.5,124.0,128.7,128.9,129.1,130.3,131.5,132.1,132.5,139.9,143.2,156.1,203.6。
1 H-NMR (CDCl 3 ) ppm; 6.65 (d, 4H), 6.92 (d, 4H), 7.48 (d, 1H), 7.72 (t, 1H), 7.86 ( t, 1H), 7.97 (d, 1H), 8.02 (d, 1H), 8.32 (d, 1H), 9.40 (d, 2H)
13 C-NMR (CDCl 3 ) ppm; 65.5, 114.9, 122.4, 122.5, 124.0, 128.7, 128.9, 129.1, 130.3, 131.5, 132.1, 132.5, 139.9, 143.2, 156.1, 203.6.
そして、窒素で膨らませた風船を付けた3方コックを装着したナスフラスコに、攪拌子、上記工程により得られた2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)アセナフテン−1−(2H)−オン0.35g(0.99mmol)、フェノール0.73g(7.8mmol)、1−ドデカンチオール0.085g(0.42mmol)を加え、窒素置換し、75℃まで加熱した。トリフルオロメタンスルホン酸2mLを加え、75℃で7時間攪拌し、反応させた。反応混合液を冷却後、酢酸エチル、蒸留水を加えて抽出し、有機層を蒸留水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、乾燥剤をろ過し、エバポレーターで濃縮した。濃縮液をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(トルエン:酢酸エチル=6:1)で精製した後にヘキサンと少量のトルエンを加えて結晶化させ、濾過・乾燥して0.16gの生成物(オレンジ色結晶)を得た。収率は48%であった。また、生成物の融点は245.5℃、Td(5%)は320.9℃であった。
以下に、生成物である1,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)アセナフチレンの化学式、1H−NMR、および13C−NMRスペクトルデータを示す。
Then, in a eggplant flask equipped with a three-way cock with a balloon inflated with nitrogen, a stirrer, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) acenaphthene-1- (2H) -on 0 obtained by the above process .35 g (0.99 mmol), phenol 0.73 g (7.8 mmol), and 1-dodecanethiol 0.085 g (0.42 mmol) were added, the atmosphere was replaced with nitrogen, and the mixture was heated to 75 ° C. 2 mL of trifluoromethanesulfonic acid was added, and the mixture was stirred at 75 ° C. for 7 hours to be reacted. After cooling the reaction mixture, extraction was performed by adding ethyl acetate and distilled water, and the organic layer was washed with distilled water, dried over sodium sulfate, the desiccant was filtered, and concentrated with an evaporator. The concentrated solution is purified by silica gel column chromatography (toluene: ethyl acetate = 6: 1), then crystallized by adding hexane and a small amount of toluene, filtered and dried to obtain 0.16 g of product (orange crystals). Obtained. The yield was 48%. The product had a melting point of 245.5 ° C and Td (5%) of 320.9 ° C.
The chemical formula, 1 H-NMR, and 13 C-NMR spectral data of the product 1,2-bis (4-hydroxyphenyl) acenaphthylene are shown below.
1H−NMR(CDCl3)ppm;9.56(d,2H),7.91(d,2H),7.65(m,4H),7.20(m,4H)6.80(m,4H)
13C−NMR(CDCl3)ppm;156.5,139.5,136.0,130.7,129.2,128.7,128.0,127.9,128.0,127.9,127.8,126.8,125.2,123.3,118.6,115.4,115.1。
1 H-NMR (CDCl 3 ) ppm; 9.56 (d, 2H), 7.91 (d, 2H), 7.65 (m, 4H), 7.20 (m, 4H) 6.80 (m , 4H)
13 C-NMR (CDCl 3 ) ppm; 156.5, 139.5, 136.0, 130.7, 129.2, 128.7, 128.0, 127.9, 128.0, 127.9, 127.8, 126.8, 125.2, 123.3, 118.6, 115.4, 115.1.
本発明の新規な芳香族化合物は、高屈折率、高耐熱性などの特性を有しており、樹脂のモノマー、酸化防止剤、硬化剤などとして利用可能である。例えば、本発明の芳香族化合物は、複数のヒドロキシル基を有しているため、樹脂(例えば、ポリエステル樹脂、ポリウレタン系樹脂、エポキシ樹脂、熱又は光硬化性(メタ)アクリル系樹脂など)のポリオール成分(例えば、ジオール成分)として使用できる。 The novel aromatic compound of the present invention has characteristics such as a high refractive index and high heat resistance, and can be used as a resin monomer, an antioxidant, a curing agent, and the like. For example, since the aromatic compound of the present invention has a plurality of hydroxyl groups, a polyol of a resin (for example, a polyester resin, a polyurethane resin, an epoxy resin, a heat or photocurable (meth) acrylic resin, etc.) It can be used as a component (for example, a diol component).
Claims (9)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009227101A JP5612290B2 (en) | 2009-09-30 | 2009-09-30 | Novel aromatic compound and method for producing the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009227101A JP5612290B2 (en) | 2009-09-30 | 2009-09-30 | Novel aromatic compound and method for producing the same |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011074012A true JP2011074012A (en) | 2011-04-14 |
JP5612290B2 JP5612290B2 (en) | 2014-10-22 |
Family
ID=44018374
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009227101A Active JP5612290B2 (en) | 2009-09-30 | 2009-09-30 | Novel aromatic compound and method for producing the same |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5612290B2 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102391089A (en) * | 2011-10-31 | 2012-03-28 | 中钢集团鞍山热能研究院有限公司 | Method for catalyzing and synthesizing bisphenol acenaphthenone with concentrated sulfuric acid |
-
2009
- 2009-09-30 JP JP2009227101A patent/JP5612290B2/en active Active
Non-Patent Citations (4)
Title |
---|
JPN6014009137; Synlett No.13, 2007, p.2053-6 * |
JPN6014009138; Chemistry Letters Vol.32, No.6, 2003, p.538-9 * |
JPN6014009139; Journal of the American Chemical Society Vol.68, 1946, p.1094-6 * |
JPN6014009140; Journal of the American Chemical Society Vol.65, 1943, p.2304-5 * |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102391089A (en) * | 2011-10-31 | 2012-03-28 | 中钢集团鞍山热能研究院有限公司 | Method for catalyzing and synthesizing bisphenol acenaphthenone with concentrated sulfuric acid |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5612290B2 (en) | 2014-10-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5543817B2 (en) | Fluorene derivative and method for producing the same | |
EP3051350B1 (en) | Alcoholic compound and method for producing alcoholic compound | |
JP5782276B2 (en) | Fluorene polynuclear compound and method for producing the same | |
JP5564091B2 (en) | Compound having fluorene skeleton and method for producing the same | |
JP5325627B2 (en) | Method for producing alcohol having fluorene skeleton | |
JP5513825B2 (en) | Method for producing alcohol having fluorene skeleton | |
JP2007099741A (en) | Compound having fluorene skeleton and method for producing the same | |
JP4033682B2 (en) | Method for producing bisphenolfluorenes | |
US20120029244A1 (en) | Method for producing fluorene derivative | |
JP5307990B2 (en) | Monofunctional fluorene compound and method for producing the same | |
JP5049073B2 (en) | Method for producing alcohol having fluorene skeleton | |
JP5883461B2 (en) | Alcohol and resin having fluorene skeleton | |
JP2020083813A (en) | Production method of compound having fluorene skeleton and compound having fluorene skeleton of less impurity | |
JP5562605B2 (en) | Novel aromatic compound and method for producing the same | |
JP7128582B2 (en) | Bisaryl alcohols having a naphthalene skeleton and method for producing the same | |
JP5612290B2 (en) | Novel aromatic compound and method for producing the same | |
JP4332007B2 (en) | Polyhydric alcohol having fluorene skeleton and method for producing the same | |
JP6077903B2 (en) | Polyhydroxy compounds having a fluorene skeleton | |
JP6016303B2 (en) | Method for producing xanthene compound having fluorene skeleton | |
JP5054299B2 (en) | Method for producing fluorene derivative | |
JP6829135B2 (en) | Method for producing fluorene derivative | |
JP2011026257A (en) | Method for producing fluorene derivative | |
JP5193353B2 (en) | Compound having fluorene skeleton and method for producing the same | |
JP5607393B2 (en) | Fluorene derivative and method for producing the same | |
JP5461037B2 (en) | Method for producing bromine-containing fluorene compound |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120830 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140304 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140306 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140425 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140520 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140626 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140722 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140729 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140826 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140904 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5612290 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |