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JP2010201102A5 - 光断層撮像装置および光断層撮像方法 - Google Patents

光断層撮像装置および光断層撮像方法 Download PDF

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Description

本発明は、光断層撮像装置および光断層撮像方法に関し、特に眼科診療等に用いられる光断層撮像装置および光断層撮像方法に関するものである。
本発明は、上記課題に鑑み、横分解能が高いOCTシステムにより断層画像を撮像するに際し、被検査物の動きによる画像のブレをより一層軽減することが可能となる光断層撮像装置および光断層撮像方法を提供することを目的とする。
本発明は、つぎのように構成した光断層撮像装置および光断層撮像方法を提供するものである。
本発明の光断層撮像装置は、光干渉断層法を用いて被検査物の断層画像を撮る光断層撮像装置であって
1の照射光に基づく前記被検査物の第1断層画像情報と、前記被検査物における該第1の照射光のスポット径よりも小さく且つ焦点深度が浅い第2の照射ビームに基づき且つ該第1画像情報より狭い範囲の前記被検査物の第2断層画像情報を取得する取得手段と
記第1断層画像情報を用いて前記第2断層画像情報の位置を補正する補正手段と、
を有することを特徴とする。
また、本発明の光断層撮像方法は、光干渉断層法を用いて被検査物の断層画像を撮る光断層撮像方法であって、
第1の照射光に基づく前記被検査物の第1断層画像情報と、前記被検査物における該第1の照射光のスポット径よりも小さく且つ焦点深度が浅い第2の照射ビームに基づき且つ該第1画像情報より狭い範囲の前記被検査物の第2断層画像情報を取得する工程と、
前記第1断層画像情報を用いて前記第2断層画像情報の位置を補正する工程と、
を有することを特徴とする。
本発明によれば、横分解能が高いOCTシステムにより断層画像を撮像するに際し、被検査物の動きによる画像のブレをより一層軽減することが可能となる光断層撮像装置および光断層撮像方法を実現することができる。
本発明の実施形態における光断層撮像装置および光断層撮像方法の構成例を、以下の実施例により説明する。

Claims (15)

  1. 光干渉断層法を用いて被検査物の断層画像を撮る光断層撮像装置であって
    1の照射光に基づく前記被検査物の第1断層画像情報と、前記被検査物における該第1の照射光のスポット径よりも小さく且つ焦点深度が浅い第2の照射ビームに基づき且つ該第1画像情報より狭い範囲の前記被検査物の第2断層画像情報を取得する取得手段と
    記第1断層画像情報を用いて前記第2断層画像情報の位置を補正する補正手段と、
    を有することを特徴とする光断層撮像装置。
  2. 前記補正手段は、基準画像情報に基づいて前記第1断層画像情報の位置を特定し、前記特定された位置に基づいて前記第2断層画像情報の位置を補正することを特徴とする請求項1に記載の光断層撮像装置。
  3. 記基準画像情報が、前記第1の照射光を前記被検査物上においてスキャンして得られた画像情報であることを特徴とする請求項2に記載の光断層撮像装置。
  4. 前記補正手段は、前記第1断層画像情報における互いの位置関係により前記第2断層画像情報の位置を補正することを特徴とする請求項1に記載の光断層撮像装置。
  5. 前記被検査物上において前記第1及び第2の照射光を同期してスキャンさせる手段を更に有することを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の光断層撮像装置。
  6. 前記第1及び第2断層画像情報の位置関係は、前記スキャンさせる手段により前記同期してスキャンすることで保たれる距離であることを特徴とする請求項5に記載の光断層撮像装置。
  7. 前記スキャンさせる手段は、前記第1及び第2の照射を、該スキャンを制御する手段を介して前記被検査物上に近接して照射することを特徴とする請求項5または6に記載の光断層撮像装置。
  8. 前記第2断層画像情報の位置の補正は、XYZ座標におけるZ方向に当たる深さ方向と、XY方向に当たる横方向と、に対する補正であることを特徴とする請求項1乃至のいずれか1項に記載の光断層撮像装置。
  9. 前記第1断層画像情報は、複数のAスキャン情報から成り、
    前記複数のAスキャン情報の位置を特定することを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項に記載の光断層撮像装置。
  10. 前記第1断層画像情報による画像の横分解能が、前記第2断層画像情報による画像の横分解能よりも低いことを特徴とする請求項1乃至9のいずれか1項に記載の光断層撮像装置。
  11. 光干渉断層法を用いて被検査物の断層画像を撮る光断層撮像方法であって、
    第1の照射光に基づく前記被検査物の第1断層画像情報と、前記被検査物における該第1の照射光のスポット径よりも小さく且つ焦点深度が浅い第2の照射ビームに基づき且つ該第1画像情報より狭い範囲の前記被検査物の第2断層画像情報を取得する工程と、
    前記第1断層画像情報を用いて前記第2断層画像情報の位置を補正する工程と、
    を有することを特徴とする光断層撮像方法。
  12. 前記補正する工程において、基準画像情報に基づいて前記第1断層画像情報の位置を特定し、前記特定された位置に基づいて前記第2断層画像情報の位置を補正することを特徴とする請求項11に記載の光断層撮像方法。
  13. 前記基準画像情報が、前記第1の照射光を前記被検査物上においてスキャンして得られた画像情報であることを特徴とする請求項12に記載の光断層撮像方法。
  14. 前記補正する工程において、前記第1断層画像情報における互いの位置関係により前記第2断層画像情報の位置を補正することを特徴とする請求項11に記載の光断層撮像方法。
  15. 請求項11乃至14のいずれか1項に記載の光断層撮像方法の各工程をコンピュータに実行させることを特徴とするプログラム。
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