JP2010267806A - ステージ装置、ケーブル保持装置、露光装置、及びデバイス製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】性能の低下を抑制できるステージ装置を提供する。
【解決手段】ステージ装置は、第１ステージと、第１ステージ上において第１ステージに対して水平面内の第１方向に相対的に移動可能な第２ステージとを有する。ステージ装置は、一端部が第１ステージに接続され、他端部が第２ステージに接続され、第１ステージ及び第２ステージの少なくとも一方の移動に伴って、第１方向と交差する方向に配列された複数のケーブルを保持して屈曲可能なケーブル保持装置と、複数のケーブルの配列方向が傾斜するように、水平面に対してケーブル保持装置を傾斜させて支持する支持機構とを備えている。
【選択図】図１

Description

本発明は、ステージ装置、ケーブル保持装置、露光装置、及びデバイス製造方法に関する。

半導体デバイス等のマイクロデバイスの製造工程において、基板を露光光で露光する露光装置が使用される。露光装置は、基板を保持して移動するステージ装置（基板ステージ）を有する。ステージ装置に接続される各種のケーブルは、例えば、ケーブルベア（登録商標）と呼ばれる屈曲可能なケーブル保持装置によって保持される。下記特許文献には、ケーブル保持装置及びステージ装置に関する技術の一例が開示されている。

特開２００３−０３７１５３号公報 特開２００３−１１０００７号公報

ケーブル保持装置に求められる性能の一つとして、複数のケーブルを良好に保持して屈曲できることが挙げられる。例えばケーブル保持装置が複数のケーブルを良好に保持できず、ケーブル保持装置に対してケーブルが動いてしまうと、振動が発生したり、異物が発生したりする可能性がある。また、ケーブル保持装置が良好に屈曲できず、例えば屈曲半径が大きくなってしまうと、ケーブル保持装置が占める空間が大きくなる可能性がある。これらの不具合が生じると、ステージ装置の性能の低下を招き、ひいては露光装置の性能の低下を招く可能性がある。その結果、不良デバイスが発生する可能性がある。

本発明の態様は、性能の低下を抑制できるステージ装置を提供することを目的とする。また本発明の態様は、複数のケーブルを良好に保持して屈曲できるケーブル保持装置を提供することを目的とする。また本発明の態様は、性能の低下を抑制できる露光装置を提供することを目的とする。また本発明の態様は、不良デバイスの発生を抑制できるデバイス製造方法を提供することを目的とする。

本発明の第１の態様に従えば、第１ステージと、前記第１ステージ上において前記第１ステージに対して水平面内の第１方向に相対的に移動可能な第２ステージとを有するステージ装置であって、一端部が前記第１ステージに接続され、他端部が前記第２ステージに接続され、前記第１ステージ及び前記第２ステージの少なくとも一方の移動に伴って、前記第１方向と交差する方向に配列された複数のケーブルを保持して屈曲可能なケーブル保持装置と、複数の前記ケーブルの配列方向が傾斜するように、前記水平面に対して前記ケーブル保持装置を傾斜させて支持する支持機構と、を備えるステージ装置が提供される。

本発明の第２の態様に従えば、第１方向に長く、前記第１方向と交差する方向に配列された複数のケーブルを保持して屈曲可能なケーブル保持装置であって、前記第１方向に所定サイズを有する所定保持部材と、前記第１方向に前記所定サイズより小さい第１サイズを有し、前記所定保持部材と対向して、複数の前記ケーブルを配置可能な第１空間を形成可能な第１保持部材と、前記第１方向に前記所定サイズより小さい第２サイズを有し、前記所定保持部材と対向して、複数の前記ケーブルを配置可能な第２空間を形成可能な第２保持部材と、前記ケーブルと前記所定保持部材との間、及び前記ケーブルと前記第１保持部材との間の少なくとも一方において、前記配列方向に関して前記第１空間の中心に対して対称になるように配置される第１スペーサ部材と、前記ケーブルと前記所定保持部材との間、及び前記ケーブルと前記第２保持部材との間の少なくとも一方において、前記配列方向に関して前記第２空間の中心に対して対称になるように、且つ前記第１スペーサ部材と異なる位置に配置される第２スペーサ部材と、前記配列方向に関して前記第１空間の外側で、前記所定保持部材と前記第１保持部材との両端を固定して、前記第１スペーサ部材を、複数の前記ケーブルのうち、一部のケーブルに押し付ける第１固定機構と、前記配列方向に関して前記第２空間の外側で、前記所定保持部材と前記第２支持部材との両端を固定して、前記第２スペーサ部材を、複数の前記ケーブルのうち、一部のケーブルに押し付ける第２固定機構と、を備えるケーブル保持装置が提供される。

本発明の第３の態様に従えば、基板を露光光で露光する露光装置であって、前記露光光を射出する光学系と、前記光学系からの前記露光光が照射可能な位置に対して前記基板を保持して移動可能な第１の態様のステージ装置と、を備える露光装置が提供される。

本発明の第４の態様に従えば、第３の態様の露光装置を用いて基板を露光することと、露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法が提供される。

本発明の態様によれば、性能の低下を抑制できるステージ装置が提供される。また本発明の態様によれば、複数のケーブルを良好に保持して屈曲できるケーブル保持装置が提供される。また本発明の態様によれば、性能の低下を抑制できる露光装置が提供される。また本発明の態様によれば、不良デバイスの発生を抑制できるデバイス製造方法が提供される。

本実施形態に係る露光装置の一例を示す概略構成図である。 本実施形態に係るステージ装置の一例を示す斜視図である。 本実施形態に係るステージ装置の一例を示す斜視図である。 本実施形態に係るケーブル保持装置の一例を示す図である。 本実施形態に係るケーブル保持装置の一例を示す図である。 本実施形態に係るケーブル保持装置の一例を示す図である。 本実施形態に係るケーブル保持装置の一例を示す図である。 マイクロデバイスの製造工程の一例を説明するためのフローチャートである。

以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明するが、本発明はこれに限定されない。以下の説明においては、ＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部の位置関係について説明する。水平面内の所定方向をＸ軸方向、水平面内においてＸ軸方向と直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向のそれぞれと直交する方向（すなわち鉛直方向）をＺ軸方向とする。また、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸まわりの回転（傾斜）方向をそれぞれ、θＸ、θＹ、及びθＺ方向とする。

図１は、本実施形態に係る露光装置ＥＸの一例を示す概略構成図である。図１において、露光装置ＥＸは、マスクＭを保持して移動可能なステージを有するマスクステージ装置ＭＳＴと、基板Ｐを保持して移動可能なステージを有する基板ステージ装置ＰＳＴと、マスクＭを露光光ＥＬで照明する照明システムＩＳと、露光光ＥＬで照明されたマスクＭのパターンの像を基板Ｐに投影する投影システムＰＳと、露光装置ＥＸ全体の動作を制御する制御装置ＣＮＴとを備えている。

マスクＭは、基板Ｐに投影されるデバイスパターンが形成されたレチクルを含む。基板Ｐは、例えばガラスプレート等の基材と、その基材上に形成された感光膜（塗布された感光剤）とを含む。本実施形態において、基板Ｐは、大型のガラスプレートを含み、その基板Ｐの一辺のサイズは、例えば５００ｍｍ以上である。本実施形態においては、基板Ｐの基材として、一辺が約３０００ｍｍの矩形のガラスプレートを用いる。

また、露光装置ＥＸは、ボディＢＤを備えている。ボディＢＤは、例えばクリーンルーム内の支持面（例えば床面）ＦＬ上に防振台ＢＬを介して配置されたベースプレート１００と、ベースプレート１００上に配置された第１コラム１０１と、第１コラム１０１上に配置された第２コラム１０２とを有する。本実施形態において、ボディＢＤは、投影システムＰＳ、マスクステージ装置ＭＳＴ、及び基板ステージ装置ＰＳＴのそれぞれを支持する。本実施形態において、投影システムＰＳは、定盤１０３を介して、第１コラム１０１に支持される。マスクステージ装置ＭＳＴの少なくとも一部は、第２コラム１０２に対して移動可能に支持される。基板ステージ装置ＰＳＴの少なくとも一部は、ベースプレート１００に対して移動可能に支持される。

本実施形態において、投影システムＰＳは、複数の投影光学系ＰＬを有する。照明システムＩＳは、複数の投影光学系ＰＬに対応する複数の照明モジュールＩＬを有する。また、本実施形態の露光装置ＥＸは、マスクＭと基板Ｐとを所定の走査方向に同期移動しながら、マスクＭのパターンの像を基板Ｐに投影する。すなわち、本実施形態の露光装置ＥＸは、所謂、マルチレンズ型スキャン露光装置である。

照明システムＩＳは、露光光ＥＬを射出して、所定の照明領域に露光光ＥＬを照射可能である。照明領域は、各照明モジュールＩＬから射出される露光光ＥＬが照射可能な位置を含む。照明システムＩＳは、異なる複数の照明領域のそれぞれを露光光ＥＬで照明する。照明システムＩＳは、マスクＭのうち照明領域に配置された部分を、均一な照度分布の露光光ＥＬで照明する。本実施形態においては、照明システムＩＳから射出される露光光ＥＬとして、例えば水銀ランプから射出される輝線（ｇ線、ｈ線、ｉ線）を用いる。

マスクステージ装置ＭＳＴは、マスクＭを保持して移動可能なステージ１と、そのステージ１を移動する駆動システム２とを含む。ステージ１は、マスクＭを保持する保持部３を有し、照明領域に対してマスクＭを保持して移動可能である。ステージ１は、マスクＭの下面（パターン形成面）とＸＹ平面とがほぼ平行となるように、マスクＭを保持する。駆動システム２は、リニアモータを含み、第２コラム１０２のガイド面１０２Ｇ上においてステージ１を移動可能である。本実施形態において、ガイド面１０２Ｇは、ＸＹ平面とほぼ平行である。本実施形態において、ステージ１は、駆動システム２の作動により、マスクＭを保持した状態で、Ｘ軸、Ｙ軸、及びθＺ方向の３つの方向に移動可能である。

投影システムＰＳは、露光光ＥＬを射出して、所定の投影領域に露光光ＥＬを照射可能である。投影領域は、各投影光学系ＰＬから射出される露光光ＥＬが照射可能な位置を含む。投影システムＰＳは、異なる複数の投影領域のそれぞれにパターンの像を投影する。投影システムＰＳは、基板Ｐのうち投影領域に配置された部分に、マスクＭのパターンの像を所定の投影倍率で投影する。

基板ステージ装置ＰＳＴは、第１ステージ４と、第１ステージ４上において第１ステージ４に対して水平面内（ＸＹ平面内）の所定方向に相対的に移動可能な第２ステージ５と、第１ステージ４を移動する駆動システム６と、第２ステージ５を移動する駆動システム７とを含む。第２ステージ５は、基板Ｐを保持する保持部８を有し、投影領域に対して基板Ｐを保持して移動可能である。第２ステージ５は、基板Ｐの表面（露光面）とＸＹ平面とがほぼ平行となるように、基板Ｐを保持する。駆動システム６は、リニアモータを含み、ベースプレート１００のガイド面１００Ｇ上において第１ステージ４を移動可能である。本実施形態において、ガイド面１００Ｇは、ＸＹ平面とほぼ平行である。駆動システム７は、リニアモータを含み、第１ステージ４上において第２ステージ５を移動可能である。本実施形態において、第２ステージ５は、駆動システム６，７の作動により、基板Ｐを保持した状態で、Ｘ軸方向及びＹ軸方向に移動可能である。

図２は、基板ステージ装置ＰＳＴを示す斜視図である。図２に示すように、駆動システム６は、リニアモータ１３，１４を含み、駆動システム７は、リニアモータ１９，２０を含む。駆動システム６は、Ｙ軸方向に長い一対のガイド部材９，１０と、一方のガイド部材９に沿って移動可能なスライド部材１１と、他方のガイド部材１０に沿って移動可能なスライド部材１２と、スライド部材１１とスライド部材１２との間に配置された第１ステージ４と、第１ステージ４上において移動可能な第２ステージ５とを備えている。

本実施形態において、ガイド部材９，１０のそれぞれは、複数のコイルを含むコイルユニットを備えている。一方のガイド部材９は、スライド部材１１をＹ軸方向に移動可能に支持し、他方のガイド部材１０は、スライド部材１２をＹ軸方向に移動可能に支持する。スライド部材１１，１２のそれぞれは、永久磁石を含む磁石ユニットを備えている。ガイド部材９のコイルユニット及びスライド部材１１の磁石ユニットによってリニアモータ１３が形成され、ガイド部材１０のコイルユニット及びスライド部材１２の磁石ユニットによってリニアモータ１４が形成される。なお、リニアモータ１３，１４におけるコイルユニットと磁石ユニットとの配置関係はこれに限定されず、ガイド部材９，１０に磁石ユニットを設け、スライド部材１１，１２にコイルユニットを設けてもよい。

第１ステージ４の一端（−Ｘ側の端）は、スライド部材１１に接続され、他端（＋Ｘ側の端）は、スライド部材１２に接続される。リニアモータ１３，１４が作動して、ガイド部材９，１０に沿ってスライド部材１１，１２がＹ軸方向に移動することによって、そのスライド部材１１，１２に接続されている第１ステージ４は、Ｙ軸方向に移動する。

また、駆動システム７は、第１ステージ４上に配置され、Ｘ軸方向に長い一対のガイド部材１５，１６と、第２ステージ５に配置され、一方のガイド部材１５に沿って移動可能なスライド部材１７と、第２ステージ５に配置され、他方のガイド部材１６に沿って移動可能なスライド部材１８とを備えている。

本実施形態において、ガイド部材１５，１６のそれぞれは、複数のコイルを含むコイルユニットを備えている。一方のガイド部材１５は、スライド部材１７をＸ軸方向に移動可能に支持し、他方のガイド部材１６は、スライド部材１８をＸ軸方向に移動可能に支持する。スライド部材１７，１８のそれぞれは、永久磁石を含む磁石ユニットを備えている。ガイド部材１５のコイルユニット及びスライド部材１７の磁石ユニットによってリニアモータ１９が形成され、ガイド部材１６のコイルユニット及びスライド部材１８の磁石ユニットによってリニアモータ２０が形成される。なお、リニアモータ１９，２０におけるコイルユニットと磁石ユニットとの配置関係はこれに限定されず、ガイド部材１５，１６に磁石ユニットを設け、スライド部材１７，１８にコイルユニットを設けてもよい。

リニアモータ１９，２０の作動により、ガイド部材１５，１６に沿ってスライド部材１７，１８がＸ軸方向に移動することによって、そのスライド部材１７，１８に接続されている第２ステージ５は、Ｘ軸方向に移動する。

また、制御装置ＣＮＴは、リニアモータ１３の作動量とリニアモータ１４の作動量とに差異を設けることによって、第１，第２ステージ４，５をθＺ方向に移動（回転）させることができる。また、本実施形態においては、駆動システム７は、第１ステージ４に対して第２ステージ５をＺ軸，θＸ，及びθＹ方向に移動させる、例えばボイスコイルモータ等のアクチュエータを有する。制御装置ＣＮＴは、駆動システム６，７を制御して、基板Ｐを保持する第２ステージ５を、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ方向の６つの方向に移動することができる。

本実施形態において、基板ステージ装置ＰＳＴは、一端部２１Ａが第１ステージ４に接続され、他端部２１Ｂが第２ステージ５に接続され、第２ステージ５の移動に伴って、Ｘ軸方向と交差する方向に配列された複数のケーブルを保持して屈曲可能なケーブル保持装置２１と、複数のケーブルの配列方向が傾斜するように、水平面（ＸＹ平面）に対してケーブル保持装置２１を傾斜させて支持する支持機構２２とを備えている。

図３は、ケーブル保持装置２１及び支持機構２２の近傍を示す図である。ケーブル保持装置２１は、ケーブルベア（登録商標）、あるいはケーブルキャリアと呼ばれる部材を含み、屈曲可能である。

支持機構２２は、第１ステージ４に接続され、ケーブル保持装置２１の一端部２１Ａを支持する第１支持部材２３と、第２ステージ５に接続され、ケーブル保持装置２１の他端部２１Ｂを支持する第２支持部材２４とを有する。

また、支持機構２２は、ケーブル保持装置２１の一端部２１Ａと他端部２２Ｂとの間の屈曲可能なケーブル保持装置２１の中間部２１Ｃを支持する第３支持部材２５を有する。

また、支持機構２２は、第３支持部材２５に支持され、ケーブル保持装置２１の中間部２１Ｃの下面の少なくとも一部を支持可能なプレート部材２６を有する。

第１，第２支持部材２３，２４は、Ｙ軸方向を向く第１，第２ステージ４，５の側面４Ｓ，５Ｓに設けられ、側面４Ｓ，５Ｓから離れる方向に徐々に細くなる三角形の断面を有する張出部材である。本実施形態において、第１支持部材２３は、プレート部材２６を支持する。プレート部材２６は、第１，第３支持部材２３，２５によって支持される。第１支持部材２３は、プレート部材２６を介して、ケーブル保持装置２１の一端部２１Ａを支持する。

第１，第２支持部材２３，２４は、ケーブル保持装置２１の下面の少なくとも一部を支持する傾斜した支持面２３Ｓ，２４Ｓを有する。また、第３支持部材２５も、ケーブル保持装置２１の下面の少なくとも一部を支持する傾斜した支持面２５Ｓを有する。本実施形態において、支持面２３Ｓ，２５Ｓは、プレート部材２６を介して、ケーブル保持装置２１の下面の少なくとも一部を支持する。本実施形態において、ケーブル保持装置２１の下面と対向するプレート部材２６の支持面２６Ｓは、傾斜している。支持機構２２は、傾斜した支持面２６Ｓで、ケーブル保持装置２１の下面の少なくとも一部を支持する。

本実施形態において、支持面２３Ｓ，２４Ｓ，２５Ｓ，２６Ｓは、側面４Ｓ，５Ｓから離れる方向に関して徐々に下方に傾斜する。

本実施形態においては、ケーブル保持装置２１が傾斜して配置されているので、Ｚ軸方向に関してケーブル保持装置２１が占める空間が大きくなることを抑制することができる。すなわち、本実施形態においては、Ｚ軸方向に関する省スペース化を実現することができる。

これにより、ケーブル保持装置２１は、従来技術にかかるケーブル保持装置に比べ、同じスペース内において、比較的長く屈曲し難い（例えば太さが太い）ケーブルＣを保持することができる。あるいは、ケーブル保持装置２１は、多数のケーブルＣを保持することができる。

また、第１，第２，第３支持部材２３，２４，２５は、三角形の断面を有する張出部材であり、その重力方向の断面係数は向上する。これにより、第１，第２，第３支持部材２３，２４，２５の強度は向上する。また、第１，第２，第３支持部材２３，２４，２５の軽量化が実現可能となる。また、第１，第２，第３支持部材２３，２４，２５の省スペース化が実現される。また、ケーブル保持装置２１の断面係数も向上する。

また、ケーブル保持装置２１が傾いているので、例えば重力の作用により、ケーブル保持装置２１に保持される複数のケーブルＣの位置が固定される。したがって、第２ステージ５の移動によって、ケーブル保持装置２１が屈曲しても、そのケーブル保持装置２１に保持されている複数のケーブルＣの位置がずれる、蛇行する等の不具合の発生が抑制される。そのため、振動の発生、異物の発生（発塵）等を抑制することができる。

また、本実施形態においては、図１に示すように、基板ステージ装置ＰＳＴは、第１ステージ４を移動可能に支持するベース部材１００のガイド面１００Ｇと対向する支持機構２２の所定部位に設けられ、ベース部材１００をクリーニングするクリーニング部材２７を備えている。本実施形態において、クリーニング部材２７は、ガイド面１００Ｇと対向可能な第１支持部材２３の下面に配置されている。

クリーニング部材２７は、ガイド面１００Ｇと接触可能な接触部を有し、第１ステージ４の移動によって、接触部がガイド面１００Ｇと接触しながら移動する。これにより、ガイド面１００Ｇがクリーニングされる。例えば、ガイド面１００Ｇ上の異物は、クリーニング部材２７によって、第１ステージ４の移動範囲の外側に排出される。

図４は、ケーブル保持装置２１の一端部２１Ａの近傍の構造の一例を示す平面図、図５は、側面図である。ケーブル保持装置２１は、Ｘ軸方向に長く、Ｘ軸方向と交差する方向（ほぼＹ軸方向）に配列された複数のケーブルＣを保持して屈曲可能である。図４及び図５において、ケーブル保持装置２１は、Ｘ軸方向に所定サイズＷ０を有する所定保持部材３０と、Ｘ軸方向に所定サイズＷ０より小さい第１サイズＷ１を有し、所定保持部材３０と対向して、複数のケーブルＣを配置可能な第１空間Ｓ１を形成可能な第１保持部材３１と、Ｘ軸方向に所定サイズＷ０より小さい第２サイズＷ２を有し、所定保持部材３０と対向して、複数のケーブルＣを配置可能な第２空間Ｓ２を形成可能な第２保持部材３２と、ケーブルＣと所定保持部材３０との間、及びケーブルＣと第１保持部材３１との間の少なくとも一方において、複数のケーブルＣの配列方向に関して第１空間Ｓ１の中心に対して対称になるように配置される第１スペーサ部材３３と、ケーブルＣと所定保持部材３０との間、及びケーブルＣと第２保持部材３２との間の少なくとも一方において、複数のケーブルＣの配列方向に関して第２空間Ｓ２の中心に対して対称になるように、且つ第１スペーサ部材３３と異なる位置に配置される第２スペーサ部材３４とを備えている。本実施形態において、第１スペーサ部材３３は、第１保持部材３１とケーブルＣとの間に配置される。第２スペーサ部材３４は、第２保持部材３２とケーブルＣとの間に配置される。

本実施形態においては、第１保持部材３１と第２保持部材３２とは、Ｘ軸方向に隣接するように配置される。

また、ケーブル保持装置２１は、ケーブルＣの配列方向に関して第１空間Ｓ１の外側で、所定保持部材３０と第１保持部材３１との両端を固定して、第１スペーサ部材３３を、複数のケーブルＣのうち、一部のケーブルＣに押し付ける第１固定機構３５と、ケーブルＣの配列方向に関して第２空間Ｓ２の外側で、所定保持部材３０と第２保持部材３２との両端を固定して、第２スペーサ部材３４を、複数のケーブルＣのうち、一部のケーブルＣに押し付ける第２固定機構３６とを備えている。本実施形態において、第１固定機構３５及び第２固定機構３６は、ボルト部材を含む。図６は、図４のＡ−Ａ線矢視図に相当する図であり、第１固定機構３５によって所定保持部材３０と第１保持部材３１とが固定されている状態を示す。図７は、図４のＢ−Ｂ線矢視図に相当する図であり、第２固定機構３６によって所定保持部材３０と第２保持部材３２とが固定されている状態を示す。

図４，図５，図６，及び図７に示すように、第１，第２スペーサ部材３３，３４のそれぞれは、複数のケーブルＣのうち、一部の複数のケーブルＣに接触するように配置される。

本実施形態において、第１スペーサ部材３３と第２スペーサ部材３４とは、異なるケーブルＣに接触するように配置される。

本実施形態においては、図５に示すように、第１スペーサ部材３３は、第１保持部材３１に設けられ、第２スペーサ部材３４は、第２保持部材３２に設けられている。

本実施形態において、第１，第２スペーサ部材３３，３４は、所定保持部材３０、第１保持部材３１、及び第２保持部材３２より柔らかい。本実施形態において、所定保持部材３０、第１保持部材３１、及び第２保持部材３２は、例えばアルミニウム、あるいはステンレス製である。第１，第２スペーサ部材３３，３４は、例えばゴム、あるいは合成樹脂製である。ケーブルと接触する第１，第２スペーサ部材３３，３４が柔らかい材料で形成されているので、ケーブルの損傷の発生等を抑制することができる。

本実施形態においては、第１，第２スペーサ部材３３，３４が設けられているので、複数のケーブルを良好に保持することができる。例えば、図６及び図７に示すように、第１，第２固定機構３５，３６で固定することによって、第１，第２保持部材３１，３２が撓んでしまう状況が発生しても、第１，第２スペーサ部材３３，３４によって、複数のケーブルＣを均一な力で保持することができる。したがって、複数のケーブルＣのうち特定のケーブルＣに応力が集中したり、あるいは十分な力が作用していないケーブルＣの位置がずれてしまったりすることが抑制される。これにより、ケーブル保持装置２１は、複数のケーブルＣを良好に保持することができる。

次に、上述の構成を有する露光装置ＥＸを用いて基板Ｐを露光する方法について説明する。

マスクＭがステージ１にロードされ、基板Ｐが第２ステージ５にロードされた後、制御装置ＣＮＴは、基板Ｐの露光を開始する。制御装置ＣＮＴは、基板ステージ装置ＰＳＴを制御して、投影領域に露光光ＥＬを照射しながら、投影領域に対して、基板Ｐを例えば＋Ｘ方向に移動する。これにより、基板Ｐに露光光ＥＬが照射され、基板Ｐが露光光ＥＬで露光される。

基板Ｐの露光の少なくとも一部の期間において、第２ステージ５が第１ステージ４に対してＸ軸方向に移動する。本実施形態においては、ケーブル保持装置２１は、複数のケーブルＣを良好に保持して屈曲することができる。したがって、基板ステージ装置ＰＳＴの動作（例えば第１ステージ４に対して第２ステージ５が移動する動作）は、円滑に実行される。したがって、基板ステージ装置ＰＳＴの性能の低下が抑制され、基板Ｐは、基板ステージ装置ＰＳＴに保持された状態で良好に露光される。

以上説明したように、本実施形態によれば、ケーブル保持装置２１は、複数のケーブルＣを良好に保持して屈曲することができる。したがって、露光不良の発生を抑制でき、不良デバイスの発生を抑制できる。

なお、本実施形態においては、ケーブル保持装置２１が、第２ステージ５の移動に伴って移動（屈曲）することとしたが、第１ステージ４の移動に伴って移動してもよい。

なお、上述の実施形態の基板Ｐとしては、ディスプレイデバイス用のガラス基板のみならず、半導体デバイス製造用の半導体ウエハ、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウエハ、あるいは露光装置で用いられるマスクまたはレチクルの原版（合成石英、シリコンウエハ）等が適用される。

なお、露光装置ＥＸとしては、マスクＭと基板Ｐとを同期移動してマスクＭのパターンを介した露光光ＥＬで基板Ｐを走査露光するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置（スキャニングステッパ）の他に、マスクＭと基板Ｐとを静止した状態でマスクＭのパターンを一括露光し、基板Ｐを順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置（ステッパ）にも適用することができる。

また、本発明は、米国特許第６３４１００７号明細書、米国特許第６２０８４０７号明細書、米国特許第６２６２７９６号明細書等に開示されているような、複数の基板ステージを備えたツインステージ型の露光装置にも適用できる。

また、本発明は、米国特許第６８９７９６３号明細書、欧州特許出願公開第１７１３１１３号明細書等に開示されているような、基板を保持する基板ステージと、基板を保持せずに、基準マークが形成された基準部材及び／又は各種の光電センサを搭載した計測ステージとを備えた露光装置にも適用することができる。また、複数の基板ステージと計測ステージとを備えた露光装置を採用することができる。

露光装置ＥＸの種類としては、液晶表示素子製造用又はディスプレイ製造用の露光装置に限られず、基板Ｐに半導体素子パターンを露光する半導体素子製造用の露光装置、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤ）、マイクロマシン、ＭＥＭＳ、ＤＮＡチップ、あるいはレチクル又はマスクなどを製造するための露光装置などにも広く適用できる。

なお、上述の実施形態においては、光透過性の基板上に所定の遮光パターン（又は位相パターン・減光パターン）を形成した光透過型マスクを用いたが、このマスクに代えて、例えば米国特許第６７７８２５７号明細書に開示されているように、露光すべきパターンの電子データに基づいて透過パターン又は反射パターン、あるいは発光パターンを形成する可変成形マスク（電子マスク、アクティブマスク、あるいはイメージジェネレータとも呼ばれる）を用いてもよい。また、非発光型画像表示素子を備える可変成形マスクに代えて、自発光型画像表示素子を含むパターン形成装置を備えるようにしても良い。

上述の実施形態の露光装置ＥＸは、本願請求の範囲に挙げられた各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了したら、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造は温度およびクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。

半導体デバイス等のマイクロデバイスは、図８に示すように、マイクロデバイスの機能・性能設計を行うステップ２０１、この設計ステップに基づいたマスク（レチクル）を製作するステップ２０２、デバイスの基材である基板を製造するステップ２０３、上述の実施形態に従って、マスクのパターンを用いて露光光で基板を露光すること、及び露光された基板（感光剤）を現像することを含む基板処理（露光処理）を含む基板処理ステップ２０４、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程などの加工プロセスを含む）２０５、検査ステップ２０６等を経て製造される。なお、ステップ２０４では、感光剤を現像することで、マスクのパターンに対応する露光パターン層（現像された感光剤の層）を形成し、この露光パターン層を介して基板を加工することが含まれる。

なお、上述の実施形態においては、基板ステージ装置ＰＳＴが露光装置ＥＸに設けられることとしたが、各種のデバイス製造装置に、基板ステージ装置ＰＳＴを適用することができる。例えば、基板にインクの滴を供給して、その基板上にデバイスパターンを形成するインクジェット装置に、上述の実施形態で説明した基板ステージ装置を適用してもよい。

なお、上述の実施形態及び変形例の要件は、適宜組み合わせることができる。また、一部の構成要素を用いない場合もある。また、法令で許容される限りにおいて、上述の実施形態及び変形例で引用した露光装置などに関する全ての公開公報及び米国特許の開示を援用して本文の記載の一部とする。

１…ステージ、４…第１ステージ、５…第２ステージ、２１…ケーブル保持装置、２１Ａ…一端部、２１Ｂ…他端部、２１Ｃ…中間部、２２…支持機構、２３…第１支持部材、２３Ｓ…支持面、２４…第２支持部材、２４Ｓ…支持面、２５…第３支持部材、２５Ｓ…支持面、２６…プレート部材、２６Ｓ…支持面、２７…クリーニング部材、３０…所定保持部材、３１…第１保持部材、３２…第２保持部材、３３…第１スペーサ部材、３４…第２スペーサ部材、３５…第１固定機構、３６…第２第２固定機構、１００…ベース部材、１００Ｇ…ガイド面、Ｃ…ケーブル、ＥＬ…露光光、ＥＸ…露光装置、Ｍ…マスク、ＭＳＴ…マスクステージ装置、Ｐ…基板、ＰＳＴ…基板ステージ装置

Claims (19)

1. 第１ステージと、前記第１ステージ上において前記第１ステージに対して水平面内の第１方向に相対的に移動可能な第２ステージとを有するステージ装置であって、
   一端部が前記第１ステージに接続され、他端部が前記第２ステージに接続され、前記第１ステージ及び前記第２ステージの少なくとも一方の移動に伴って、前記第１方向と交差する方向に配列された複数のケーブルを保持して屈曲可能なケーブル保持装置と、
   複数の前記ケーブルの配列方向が傾斜するように、前記水平面に対して前記ケーブル保持装置を傾斜させて支持する支持機構と、
   を備えるステージ装置。
2. 前記支持機構は、前記第１ステージに接続され、前記ケーブル保持装置の前記一端部を支持する第１支持部材と、前記第２ステージに接続され、前記ケーブル保持装置の前記他端部を支持する第２支持部材とを有する請求項１記載のステージ装置。
3. 前記第１，第２支持部材は、前記第１方向と交差する水平面内の第２方向を向く前記第１，第２ステージの側面に設けられ、前記側面から離れる方向に徐々に細くなる三角形の断面を有する張出部材を有する請求項２記載のステージ装置。
4. 前記第１，第２支持部材は、前記ケーブル保持装置の下面の少なくとも一部を支持する傾斜した支持面を有する請求項３記載のステージ装置。
5. 前記支持面は、前記側面から離れる方向に関して徐々に下方に傾斜する請求項４記載のステージ装置。
6. 前記一端部と前記他端部との間の屈曲可能な前記ケーブル保持装置の中間部を支持する第３支持部材を有する請求項１〜５のいずれか一項記載のステージ装置。
7. 前記第３支持部材に支持され、前記ケーブル保持装置の前記中間部の下面の少なくとも一部を支持可能なプレート部材を有する請求項６記載のステージ装置。
8. 前記第１ステージを移動可能に支持するガイド面を有するベース部材と、
   前記ガイド面と対向する前記支持機構の所定部位に設けられ、前記ベース部材をクリーニングするクリーニング部材とを備える請求項１〜７のいずれか一項記載のステージ装置。
9. 前記クリーニング部材は、前記ガイド面と接触可能な接触部を有し、
   前記第１ステージの移動によって、前記接触部が前記ガイド面と接触しながら移動する請求項８記載のステージ装置。
10. 前記第２ステージは、露光光が照射される基板を保持する請求項１〜９のいずれか一項記載のステージ装置。
11. 前記ケーブル保持装置は、
    前記第１方向に所定サイズを有する所定保持部材と、
    前記第１方向に前記所定サイズより小さい第１サイズを有し、前記所定保持部材と対向して、複数の前記ケーブルを配置可能な第１空間を形成可能な第１保持部材と、
    前記第１方向に前記所定サイズより小さい第２サイズを有し、前記所定保持部材と対向して、複数の前記ケーブルを配置可能な第２空間を形成可能な第２保持部材と、
    前記ケーブルと前記所定保持部材との間、及び前記ケーブルと前記第１保持部材との間の少なくとも一方において、前記配列方向に関して前記第１空間の中心に対して対称になるように配置される第１スペーサ部材と、
    前記ケーブルと前記所定保持部材との間、及び前記ケーブルと前記第２保持部材との間の少なくとも一方において、前記配列方向に関して前記第２空間の中心に対して対称になるように、且つ前記第１スペーサ部材と異なる位置に配置される第２スペーサ部材と、
    前記配列方向に関して前記第１空間の外側で、前記所定保持部材と前記第１支持部材との両端を固定して、前記第１スペーサ部材を、複数の前記ケーブルのうち、一部のケーブルに押し付ける第１固定機構と、
    前記配列方向に関して前記第２空間の外側で、前記所定保持部材と前記第２保持部材との両端を固定して、前記第２スペーサ部材を、複数の前記ケーブルのうち、一部のケーブルに押し付ける第２固定機構と、
    を備える請求項１〜１０のいずれか一項記載のステージ装置。
12. 第１方向に長く、前記第１方向と交差する方向に配列された複数のケーブルを保持して屈曲可能なケーブル保持装置であって、
    前記第１方向に所定サイズを有する所定保持部材と、
    前記第１方向に前記所定サイズより小さい第１サイズを有し、前記所定保持部材と対向して、複数の前記ケーブルを配置可能な第１空間を形成可能な第１保持部材と、
    前記第１方向に前記所定サイズより小さい第２サイズを有し、前記所定保持部材と対向して、複数の前記ケーブルを配置可能な第２空間を形成可能な第２保持部材と、
    前記ケーブルと前記所定保持部材との間、及び前記ケーブルと前記第１保持部材との間の少なくとも一方において、前記配列方向に関して前記第１空間の中心に対して対称になるように配置される第１スペーサ部材と、
    前記ケーブルと前記所定保持部材との間、及び前記ケーブルと前記第２保持部材との間の少なくとも一方において、前記配列方向に関して前記第２空間の中心に対して対称になるように、且つ前記第１スペーサ部材と異なる位置に配置される第２スペーサ部材と、
    前記配列方向に関して前記第１空間の外側で、前記所定保持部材と前記第１保持部材との両端を固定して、前記第１スペーサ部材を、複数の前記ケーブルのうち、一部のケーブルに押し付ける第１固定機構と、
    前記配列方向に関して前記第２空間の外側で、前記所定保持部材と前記第２支持部材との両端を固定して、前記第２スペーサ部材を、複数の前記ケーブルのうち、一部のケーブルに押し付ける第２固定機構と、
    を備えるケーブル保持装置。
13. 前記第１，第２スペーサ部材のそれぞれは、複数の前記ケーブルのうち、一部の複数のケーブルに接触する請求項１２記載のケーブル保持装置。
14. 前記第１スペーサ部材と前記第２スペーサ部材とは、異なるケーブルに接触する請求項１２又は１３記載のケーブル保持装置。
15. 前記第１スペーサ部材は、前記第１保持部材に設けられ、
    前記第２スペーサ部材は、前記第２保持部材に設けられている請求項１２〜１４のいずれか一項記載のケーブル保持装置。
16. 前記第１，第２スペーサ部材は、前記所定保持部材、前記第１保持部材、及び前記第２保持部材より柔らかい請求項１２〜１５のいずれか一項記載のケーブル保持装置。
17. 前記第１保持部材と前記第２保持部材とは、前記第１方向に隣接する請求項１２〜１６のいずれか一項記載のケーブル保持装置。
18. 基板を露光光で露光する露光装置であって、
    前記露光光を射出する光学系と、
    前記光学系からの前記露光光が照射可能な位置に対して前記基板を保持して移動可能な請求項１〜１１のいずれか一項記載のステージ装置と、
    を備える露光装置。
19. 請求項１８記載の露光装置を用いて基板を露光することと、
    露光された基板を現像することと、
    を含むデバイス製造方法。

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