JP2010251805A - Illumination device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、LED(発光ダイオード)チップ等の半導体発光素子を発光させて照明をする照明装置に関する。 The present invention relates to an illumination device that performs illumination by causing a semiconductor light emitting element such as an LED (light emitting diode) chip to emit light.
従来、例えば縦横に列をなして二次元配列された複数のLEDチップを電気的に接続して、これらのチップを発光させて、面状光源として用いる照明装置が知られている。そして、光源がLEDチップである照明装置では、LEDチップが発した熱を外部に放出するために金属ベースプリント基板が用いられている。このプリント基板は、アルミニウム等の金属板上に絶縁層を積層するとともに、この絶縁層上に導体パターンを設けて形成され、LEDチップは、絶縁層上にフリップチップ実装又はワイヤボンディングによって実装されている(例えば、特許文献1参照。)。 2. Description of the Related Art Conventionally, for example, there is known an illumination device that is used as a planar light source by electrically connecting a plurality of LED chips that are two-dimensionally arranged in rows and columns to emit light. And in the illuminating device whose light source is an LED chip, the metal base printed circuit board is used in order to discharge | release the heat | fever which the LED chip emitted outside. This printed circuit board is formed by laminating an insulating layer on a metal plate such as aluminum and providing a conductor pattern on this insulating layer, and the LED chip is mounted on the insulating layer by flip chip mounting or wire bonding. (For example, refer to Patent Document 1).
前記のように従来の照明装置では、LEDチップとこれからの放熱促進を担う金属板との間に絶縁層が介在されている。絶縁層の厚みは、この絶縁層の両面に位置された金属板と導体パターンとの間の電気絶縁を確保する上で、現状では0.25mm以上必要であるとされている。絶縁層は金属材料に比較して遥かに熱伝導率が低い。特許文献1に記載のように絶縁層を、熱硬化性樹脂に無機質のフィラーを混ぜて熱伝導率を改善した構成としても、依然として金属材料と比較した場合には熱伝導率が低いことには変わりがない。そのため、LEDチップの温度上昇を十分に抑制し難く、LEDチップの発光効率を維持する上では改善の余地がある。
As described above, in the conventional lighting device, the insulating layer is interposed between the LED chip and the metal plate responsible for promoting heat dissipation from now on. The thickness of the insulating layer is currently required to be 0.25 mm or more in order to ensure electrical insulation between the metal plate located on both surfaces of the insulating layer and the conductor pattern. The insulating layer has a much lower thermal conductivity than the metal material. As described in
しかも、従来の照明装置は、個々のLEDチップから放出される光の利用が十分ではない。そのため、照明装置全体としての光の取出し効率は、25lm〜50lm程度と低く、LED照明装置としては、その効率が蛍光ランプの発光効率(70lm〜100lm程度)より低いものしか得られていない現状にある。 And the conventional illuminating device cannot fully utilize the light discharge | released from each LED chip. Therefore, the light extraction efficiency of the entire lighting device is as low as about 25 lm to 50 lm, and as the LED lighting device, only the efficiency lower than the luminous efficiency (about 70 lm to 100 lm) of the fluorescent lamp is obtained. is there.
本発明の目的は、半導体発光素子の温度上昇を抑制して発光効率を維持しやすい照明装置を提供することにある。 The objective of this invention is providing the illuminating device which suppresses the temperature rise of a semiconductor light-emitting element and is easy to maintain luminous efficiency.
請求項1の発明は、素子取付け部を一体に有する放熱基板と;この放熱基板に前記素子取付け部を除いて積層された絶縁層と;前記絶縁層上に設けられるとともに、その端と前記素子取付部との間に前記絶縁層が露出するように設けられた表面に光反射層を有しする導体と;その上面の高さ位置が前記絶縁層及び前記導体の高さ以上となるように前記素子取付け部にダイボンドされる半導体発光素子と;この半導体発光素子と前記導体とを接続したボンディングワイヤと;前記半導体発光素子を封止して設けた透光性の封止部材と;を具備したことを特徴としている。
The invention according to
請求項1の発明で、放熱基板としては、金属基板又は炭素系基板を挙げることができる。金属基板は、各種の金属材料で形成でき、例えば、熱伝導性に優れたCu(銅)やAl(アルミニウム)及びその合金等を好適に用いることができる。炭素系基板はカーボン又はグラファイトで形成できる。放熱基板として炭素系基板を用いる場合、炭素系粉末材料を成形型によって圧縮成形できる。このため、放熱基板が例えば凸部で形成される素子取付け部を有した構成であっても、凸部を形成するのにエッチング処理等を要することがなく、型成形によって凸部からなる素子取付け部を有した所定形状の放熱基板を容易に作ることができる利点がある。これとともに、放熱基板として炭素系基板を用いることは、昨今の銅価格の高騰の影響を受けない放熱基板とできる点で好ましい。
In the invention of
本発明で、放熱基板の素子取付け部は、絶縁層に覆われない部位を指している。放熱基板が金属基板である場合、絶縁層で覆われた金属基板の部位の厚みは0.25mm〜0.50mmとすることが好ましく、それにより、前記部位の厚み寸法の精度を向上できるに伴い、ボンディングワイヤと導体とがワイヤボンディングにより接合された接合部の接合強度のばらつきが抑制されて、接合の信頼性を向上できる。 In the present invention, the element mounting portion of the heat dissipation board refers to a portion that is not covered by the insulating layer. When the heat dissipation substrate is a metal substrate, the thickness of the portion of the metal substrate covered with the insulating layer is preferably set to 0.25 mm to 0.50 mm, whereby the accuracy of the thickness dimension of the portion can be improved. Variations in the bonding strength of the bonding portion where the wire and the conductor are bonded by wire bonding are suppressed, and the bonding reliability can be improved.
また、本発明で、絶縁層にはガラスエポキシ基板を好適に用いることができるとともに、良好な光反射性能を得るために白色を呈する絶縁層を使用することが好ましい。例えば、白色のガラスエポキシ基板からなる絶縁層を用いた場合には、半導体発光素子からその周囲に放出された光が、絶縁層で吸収されることが抑制されて、この白色の絶縁層で反射されるから、光の取出し効率を高めるのに有効である。 In the present invention, a glass epoxy substrate can be suitably used as the insulating layer, and it is preferable to use a white insulating layer in order to obtain good light reflection performance. For example, when an insulating layer made of a white glass epoxy substrate is used, light emitted from the semiconductor light emitting element to the periphery thereof is suppressed from being absorbed by the insulating layer and reflected by the white insulating layer. Therefore, it is effective for increasing the light extraction efficiency.
また、本発明で、導体は、例えばCu(銅)やAg(銀)等の電気伝導率が良い金属からなり、例えば放熱基板が金属基板である場合はエッチング処理により設けることができるが、これ以外に接着剤を用いて絶縁層上に設けられたものであってもよい。この導体の表面にレジスト層を塗布することもできる。レジスト層で導体を覆った構成では、導体の絶縁性を向上できるとともに、導体の耐マイグレーション性の向上と、導体の酸化等を抑制できる点で好ましい。 In the present invention, the conductor is made of a metal having good electrical conductivity such as Cu (copper) or Ag (silver). For example, when the heat dissipation substrate is a metal substrate, the conductor can be provided by etching. In addition, it may be provided on the insulating layer using an adhesive. A resist layer can be applied to the surface of the conductor. The configuration in which the conductor is covered with the resist layer is preferable in that the insulation of the conductor can be improved, the migration resistance of the conductor can be improved, and the oxidation of the conductor can be suppressed.
また、本発明で、半導体発光素子には、例えば青色発光する青色LEDチップ、紫外光を発する紫外LEDチップ等を好適に用いることができるが、青色LEDチップ、赤色LEDチップ、緑色LEDチップのうちの少なくとも二種のLEDチップを組み合わせて用いることも可能である。そして、例えば発光源に青色LEDチップを用いて白色発光をする照明装置とする場合には、青色の光で励起されて主として黄色の光を放射する蛍光体が混ぜられた封止部材を用いればよく、或いは、紫外光により励起されて主として赤色の光を放射する蛍光体、紫外光により励起されて主として緑色の光を放射する蛍光体、及び紫外光により励起されて主として黄色の光を放射する蛍光体が夫々混ぜられた封止部材を用いればよい。 In the present invention, for example, a blue LED chip that emits blue light, an ultraviolet LED chip that emits ultraviolet light, and the like can be suitably used as the semiconductor light emitting element. Among blue LED chips, red LED chips, and green LED chips, It is also possible to use a combination of at least two types of LED chips. For example, when a lighting device that emits white light using a blue LED chip as a light emitting source is used, if a sealing member mixed with a phosphor that is excited by blue light and emits mainly yellow light is used. Well or alternatively, a phosphor that is excited by ultraviolet light to emit mainly red light, a phosphor that is excited by ultraviolet light to emit mainly green light, and a phosphor that is excited by ultraviolet light to emit mainly yellow light What is necessary is just to use the sealing member with which each fluorescent substance was mixed.
本発明で、素子取付け部に半導体発光素子をダイボンドするには、ダイボンド材(接着剤)を用いる。このダイボンド材の厚みは接着機能を失わない範囲で10μm以下にするとよい。又、光の取出し性能をより向上させる上では、ダイボンド材を透光性として、半導体発光素子から放射された光の一部を素子取付け部で反射させることが好ましい。又、本発明で、半導体発光素子を外気及び湿気から遮断してこの素子の寿命低下を防ぐ透光性の封止部材には、透光性の合成樹脂、例えばエポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ウレタン樹脂等を用いることができる他、樹脂以外の封止部材として透明な低融点ガラスを用いることもできる。 In the present invention, a die-bonding material (adhesive) is used for die-bonding the semiconductor light-emitting element to the element mounting portion. The thickness of this die bond material is preferably 10 μm or less as long as the bonding function is not lost. In order to further improve the light extraction performance, it is preferable to make the die bond material translucent and reflect a part of the light emitted from the semiconductor light emitting element at the element mounting portion. Further, in the present invention, the light-transmitting sealing member that blocks the semiconductor light-emitting element from the outside air and moisture and prevents the lifetime of the element from being shortened includes a light-transmitting synthetic resin such as an epoxy resin, a silicone resin, and a urethane resin. In addition, a transparent low-melting-point glass can be used as a sealing member other than a resin.
本発明によれば、導体及びボンディングワイヤを介して半導体発光素子に通電することにより、この素子を発光させ、その光を封止部材に透過させて外部に取出し、その取出し方向の照明を行う。この点灯時に、導体と放熱基板との間の電気的絶縁を担う絶縁層は、放熱基板と半導体発光素子との間には介在されておらず、又、半導体発光素子は放熱基板と一体の素子取付け部に直接ダイボンドされている。そのため、点灯時に半導体発光素子が発する熱は、絶縁層に邪魔されることなく放熱基板に直接的に伝導する。従って、半導体発光素子の熱が、高効率で放熱基板に伝わってこの放熱基板から外部に放出されるので、半導体発光素子の温度上昇を効果的に抑制できる。 According to the present invention, by energizing the semiconductor light-emitting element through the conductor and the bonding wire, the element is caused to emit light, the light is transmitted through the sealing member, taken out to the outside, and illumination in the taking-out direction is performed. At the time of lighting, the insulating layer responsible for electrical insulation between the conductor and the heat dissipation board is not interposed between the heat dissipation board and the semiconductor light emitting element, and the semiconductor light emitting element is an element integrated with the heat dissipation board. It is die-bonded directly to the mounting part. Therefore, the heat generated by the semiconductor light emitting element during lighting is directly conducted to the heat dissipation substrate without being disturbed by the insulating layer. Therefore, the heat of the semiconductor light emitting device is transmitted to the heat dissipation substrate with high efficiency and released from the heat dissipation substrate, so that the temperature rise of the semiconductor light emitting device can be effectively suppressed.
また、本発明は、前記絶縁層が積層された前記放熱基板の一面から突出された凸部で前記素子取付け部を形成するとともに、この素子取付け部を、前記半導体発光素子がダイボンドされた先端面から前記放熱基板の一面に至るに従い次第に太くしてもよい。この形態で、放熱基板の凸部からなる素子取付け部は、レーザ光を用いた加工、機械加工等で形成できる他、エッチング処理等でも形成できる。そして、この形態では、素子取付け部の断面積が、絶縁層が接着された放熱基板の一面に近付く程大きいので、半導体発光素子から放熱基板の裏面に向けての熱伝導がより容易となる。 According to the present invention, the element mounting portion is formed by a convex portion protruding from one surface of the heat dissipation substrate on which the insulating layer is laminated, and the element mounting portion is formed on the tip surface on which the semiconductor light emitting element is die-bonded. The thickness may be gradually increased from one side of the heat dissipation board to the other surface. In this embodiment, the element mounting portion formed of the convex portion of the heat dissipation substrate can be formed by processing using laser light, machining, or the like, or can be formed by etching processing or the like. And in this form, since the cross-sectional area of an element attachment part is so large that it approaches the one surface of the thermal radiation board | substrate with which the insulating layer was adhere | attached, the heat conduction from a semiconductor light-emitting element toward the back surface of a thermal radiation board | substrate becomes easier.
また、更に前記形態において、前記凸部からなる素子取付け部が通る逃げ孔を前記絶縁層が有し、この絶縁層を前記放熱基板に接着して積層するとともに、この接着に用いた接着剤の余剰分を前記逃げ孔に食み出させてもよい。接着剤には、ペースト状の接着剤又はシート状の接着剤(接着シート)等を用いることができるとともに、この接着剤は放熱基板の素子取付け部を除いた領域に配置して使用されるものである。 Further, in the above-described embodiment, the insulating layer has a relief hole through which the element mounting portion composed of the convex portion passes, and the insulating layer is bonded to the heat dissipation substrate and laminated, and the adhesive used for the bonding is used. The surplus portion may be devoured into the escape hole. As the adhesive, a paste-like adhesive or a sheet-like adhesive (adhesive sheet) can be used, and this adhesive is disposed and used in a region excluding the element mounting portion of the heat dissipation board. It is.
この形態では、凸部からなる素子取付け部が通る絶縁層の逃げ孔によって、放熱基板に絶縁層を接着する際に、逃げ孔が凸部からなる素子取付け部に嵌合するので、放熱基板に対する絶縁層の位置決めがしやすい。これにより、絶縁層が素子取付け部に当たらないようにして、放熱基板に絶縁層を適正に積層させることができる。そして、この形態では、逃げ孔を接着剤の余剰分が収容される接着剤溜まりとして利用することができる。 In this embodiment, when the insulating layer is bonded to the heat dissipation board by the escape hole of the insulating layer through which the element mounting portion made of the convex portion passes, the escape hole fits into the element mounting portion made of the convex portion. Easy positioning of the insulating layer. Thereby, an insulating layer can be appropriately laminated | stacked on a thermal radiation board | substrate so that an insulating layer may not hit an element attachment part. In this embodiment, the escape hole can be used as an adhesive reservoir in which excess adhesive is accommodated.
更に前記形態では、接着剤の余剰分を逃げ孔内に食み出させたことにより、放熱基板と絶縁層との間に接着剤の厚みに相当する隙間が逃げ孔に連通して形成されることがない。このため、前記隙間がある場合のようにそこに溜まった空気が、封止部材を加熱硬化させる際に泡となって封止部材内に流出して、この封止部材内に気泡となって留まることがない。 Furthermore, in the said form, the clearance gap corresponding to the thickness of an adhesive agent is formed in communication with an escape hole between a thermal radiation board | substrate and the insulating layer by having made the excess part of an adhesive stick out in an escape hole. There is nothing. For this reason, the air accumulated in the gap as in the case where there is a gap flows out into the sealing member when the sealing member is heated and cured, and becomes a bubble in the sealing member. There is no stay.
また、前記形態において、逃げ孔に対する余剰分の高さ位置は、絶縁層の表面と同じ高さ以下であればよいが、絶縁層の表面と同じ高さに近くなるようにすることは、未硬化の封止部材を充填する際に、空気が逃げ孔内に溜まり難くできる点で好ましい。 Further, in the above embodiment, the height of the surplus height with respect to the escape hole may be equal to or less than the height of the surface of the insulating layer, but it is not allowed to be close to the same height as the surface of the insulating layer. When filling the cured sealing member, it is preferable in that air can hardly accumulate in the escape hole.
前記形態において、逃げ孔に食み出した接着剤の食み出し部によって、凸部からなる素子取付け部の周面に対しても絶縁層が接着される場合には、放熱基板に対する絶縁層の積層強度を向上できる。その上、逃げ孔によって凸部からなる素子取付け部と絶縁層上の導体との間の沿面距離を長くして、これらの間の電気的絶縁を確保することもできる。 In the above-described embodiment, when the insulating layer is bonded to the peripheral surface of the element mounting portion formed of the convex portion by the protruding portion of the adhesive protruding into the escape hole, Lamination strength can be improved. In addition, the creepage distance between the element mounting portion formed of the convex portion and the conductor on the insulating layer can be increased by the escape hole, and electrical insulation between them can be ensured.
前記形態において、接着剤が乳白色ないしは白色である場合には、半導体発光素子からその周囲に放射された光を、逃げ孔に溜められた接着剤によって反射させて取出せるので、光の取出し効率を高めるのに寄与できる。 In the above embodiment, when the adhesive is milky white or white, the light radiated from the semiconductor light emitting element to the periphery thereof can be reflected and extracted by the adhesive stored in the escape hole, so that the light extraction efficiency is improved. Can contribute to increase.
さらに前記形態において、前記絶縁層と前記逃げ孔への食み出し部を有した前記接着剤の光反射率が互いに異なるようにこれら絶縁層と接着剤の色を異ならせてもよい。 Furthermore, in the said form, you may vary the color of these insulating layers and adhesives so that the light reflectivity of the said adhesive which has the protrusion part to the said insulating layer and the said escape hole may mutually differ.
この形態で、絶縁層と接着剤の光反射率を異ならせる上で、接着剤の光反射率を絶縁層の光反射率より低くすると良い。例えば絶縁層の色が白色である場合、接着層の色を茶色系ないし黒色とすることが、絶縁層と接着剤の色の差を際立たせる上で好ましい。 In this form, in order to make the light reflectance of the insulating layer and the adhesive different, it is preferable to make the light reflectance of the adhesive lower than the light reflectance of the insulating layer. For example, when the color of the insulating layer is white, it is preferable that the color of the adhesive layer is brown or black in order to make the color difference between the insulating layer and the adhesive stand out.
さらにこの形態では、逃げ孔に食み出している接着層の食み出し部の色と、絶縁層の逃げ孔の周りの部分の色が異なっている。このため、逃げ孔内の素子取付け部に半導体発光素子をダイボンドする位置を定めるに際し、この位置決めの基準を得る上で好適である。つまり、位置決め基準は、半導体発光素子を実装する実装機が備える撮像カメラで逃げ孔を撮像しその撮像データを画像認識することに基づいて得るが、既述の色の差があるので、絶縁層と食み出し部との境界、つまり、逃げ孔を前記位置決めの基準として容易に認識できる。 Further, in this embodiment, the color of the protruding portion of the adhesive layer protruding into the escape hole is different from the color of the portion around the escape hole of the insulating layer. For this reason, when determining the position where the semiconductor light emitting element is die-bonded to the element mounting portion in the escape hole, it is suitable for obtaining this positioning reference. That is, the positioning reference is obtained on the basis of imaging the escape hole with the imaging camera provided in the mounting machine for mounting the semiconductor light emitting element and recognizing the imaging data. The boundary between the protrusion and the protruding portion, that is, the escape hole can be easily recognized as the positioning reference.
さらに前記形態において、前記放熱基板と前記絶縁層の光反射率が互いに異なるようにこれら放熱基板と絶縁層の色を異ならせるとともに、前記逃げ孔への食み出し部を有した前記接着剤を透明材料で形成してもよい。 Further, in the above-described embodiment, the adhesive having a protruding portion to the escape hole and different colors of the heat dissipation substrate and the insulating layer so that the light reflectance of the heat dissipation substrate and the insulating layer are different from each other. You may form with a transparent material.
この形態で、放熱基板と絶縁層の光反射率を異ならせる上で、放熱基板の光反射率を絶縁層の光反射率より低くすると良い。例えば絶縁層の色が白色である場合、放熱基板を銅製とすることで、絶縁層と放熱基板の色の差を際立たせることが可能である。 In this embodiment, the light reflectance of the heat dissipation substrate and the insulating layer are preferably made lower than the light reflectivity of the insulating layer in order to make the light reflectivity different between the heat dissipation substrate and the insulating layer. For example, when the color of the insulating layer is white, it is possible to make the color difference between the insulating layer and the heat radiating substrate stand out by making the heat radiating substrate made of copper.
この形態では、逃げ孔に食み出している接着層の食み出し部を透視して撮像される放熱基板の色と、絶縁層の逃げ孔の周りの部分の色が異なっている。このため、逃げ孔内の素子取付け部に半導体発光素子をダイボンドする位置を定めるに際し、この位置決めの基準を得る上で好適である。つまり、位置決め基準は、半導体発光素子を実装する実装機が備える撮像カメラで逃げ孔を撮像しその撮像データを画像認識することに基づいて得るが、既述の色の差があるので、食み出し部で覆われた放熱基板と絶縁層との境界、つまり、逃げ孔を前記位置決めの基準として容易に認識できる。 In this embodiment, the color of the heat dissipation substrate imaged through the protruding portion of the adhesive layer protruding into the escape hole is different from the color of the portion around the escape hole of the insulating layer. For this reason, when determining the position where the semiconductor light emitting element is die-bonded to the element mounting portion in the escape hole, it is suitable for obtaining this positioning reference. In other words, the positioning reference is obtained based on imaging the escape hole with the imaging camera provided in the mounting machine for mounting the semiconductor light emitting element, and recognizing the imaging data. The boundary between the heat dissipation substrate covered with the protruding portion and the insulating layer, that is, the escape hole can be easily recognized as the positioning reference.
また上記いずれかの形態において、前記素子取付け部の先端面に光反射層を積層し、前記半導体発光素子を前記素子取付け部にダイボンドするダイボンド材が透光性を有していてもよい。 In any one of the above forms, a die-bonding material for laminating a light reflecting layer on the tip surface of the element mounting portion and die-bonding the semiconductor light emitting element to the element mounting portion may have translucency.
この形態で、光反射層を金属のメッキ層で形成することは、半導体発光素子から素子取付け部への熱伝導を実質的に妨げない点で好ましく、そのような光反射層として例えばAg(銀)のメッキ層を挙げることができ、その採用により90%以上の光反射率を得ることができる。この場合には、透光性ダイボンド材を通って光反射層に入射した光を高効率で反射させて、光の取出し効率をより向上させることができるので好ましい。又、請求項6の発明で、ダイボンド材には、フリットガラスや透光性合成樹脂例えば透明シリコーン樹脂等を用いることができる。ダイボンド材を透明シリコーン樹脂とすることは、ダイボンド材が半導体発光素子の発熱により変色を伴って劣化する可能性が極めて小さいので、長期にわたり光の取出し効率を維持できる点で好ましい。
In this embodiment, it is preferable that the light reflecting layer is formed of a metal plating layer because it does not substantially hinder heat conduction from the semiconductor light emitting element to the element mounting portion. As such a light reflecting layer, for example, Ag (silver) And a light reflectance of 90% or more can be obtained. In this case, the light incident on the light reflecting layer through the light-transmitting die bond material is reflected with high efficiency, which is preferable because the light extraction efficiency can be further improved. In the invention of
この形態では、半導体発光素子からその裏面に放出された光を、ダイボンド材を通して素子取付け部の光反射層で反射させて取出すことができるため、光の取出し効率を向上できる。 In this embodiment, light emitted from the semiconductor light emitting element to the back surface thereof can be reflected and extracted by the light reflection layer of the element mounting portion through the die bonding material, so that the light extraction efficiency can be improved.
前記形態において、前記封止部材に蛍光体を混入するとともに、前記光反射層から前記逃げ孔に食み出した前記接着剤の食み出し部にわたる側部光反射層を、前記素子取付け部の側面に積層してもよい。この形態で、側部光反射層は、素子取付け部の先端面に光反射層と同種の金属メッキ層とすることが好ましい。この形態では、側部光反射層によって光の取出し効率を向上できる。つまり、半導体発光素子から発した光で励起された蛍光体が放射する光の一部は、素子取付け部の側面に入射するので、この入射光が側部光反射層によって光の取出し方向に反射されることで、光の取出し効率を向上できる。 In the above embodiment, the side light reflecting layer extending from the light reflecting layer to the escape hole of the adhesive is mixed with the phosphor in the sealing member, You may laminate on the side. In this embodiment, the side light reflecting layer is preferably a metal plating layer of the same type as the light reflecting layer on the tip surface of the element mounting portion. In this embodiment, the light extraction efficiency can be improved by the side light reflecting layer. That is, a part of the light emitted from the phosphor excited by the light emitted from the semiconductor light emitting element is incident on the side surface of the element mounting portion, and this incident light is reflected in the light extraction direction by the side light reflecting layer. As a result, the light extraction efficiency can be improved.
また、上記いずれかの形態において、前記絶縁層及び導体上にレジスト層を積層し、このレジスト層に前記ボンディングワイヤと導体との接続部及び前記素子取付け部が配置された開口を複数設け、これら開口毎に前記封止部材を設けてもよい。 Further, in any one of the above forms, a resist layer is laminated on the insulating layer and the conductor, and a plurality of openings in which the bonding wire and conductor connecting portions and the element mounting portions are arranged are provided in the resist layer. The sealing member may be provided for each opening.
この形態で、レジスト層は、透明又は有色の合成樹脂材料で形成することもできるが、白色の合成樹脂からなるレジスト層、特に光の反射率が80%以上の白色合成樹脂からなるレジスト層を用いることが好ましい。更に、この請求項8の発明で、開口の形状は、円形であることが好ましいが、これに限らず角形であっても良い。
In this form, the resist layer can be formed of a transparent or colored synthetic resin material, but a resist layer made of a white synthetic resin, particularly a resist layer made of a white synthetic resin having a light reflectance of 80% or more. It is preferable to use it. Furthermore, in the invention of
この形態では、レジスト層で導体を覆うとともに、この導体とボンディングワイヤとの接続部を含んでレジスト層外に配置された導体部分を封止部材で封止しているので、金属製の導体の酸化等を防止できる。更に、請求項8の発明では、レジスト層の開口毎に封止部材が設けられているので、全ての半導体発光素子と導体とにわたって封止部材を設けた構成に比較して、封止部材の使用量を低減できる。しかも、封止部材がポッティングにより開口に供給される場合には、ポッティングされた未硬化の封止部材がレジスト層の開口の外側に広がることを、開口の縁で塞き止めることが可能である。
In this embodiment, the conductor is covered with the resist layer, and the conductor portion disposed outside the resist layer including the connection portion between the conductor and the bonding wire is sealed with the sealing member. Oxidation can be prevented. Furthermore, in the invention of
本発明によれば、半導体発光素子の熱を直接的に放熱基板に伝えて放出するので、半導体発光素子の温度上昇が抑制されて、半導体発光素子の発光効率を維持しやすい照明装置を提供できる。また、導体と素子取付部との間に絶縁距離を確保することができる。 According to the present invention, since the heat of the semiconductor light emitting element is directly transmitted to the heat dissipation substrate and released, the temperature rise of the semiconductor light emitting element is suppressed, and an illumination device that easily maintains the light emission efficiency of the semiconductor light emitting element can be provided. . Moreover, an insulation distance can be ensured between the conductor and the element mounting portion.
図1〜図5を参照して本発明の第1実施形態を説明する。 A first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
図1中符号1は例えばLEDパッケージを形成する照明装置を示している。この照明装置1は、例えばパッケージ基板として機能する放熱基板例えば金属基板2と、絶縁層5と、複数の導体8と、複数のLEDチップ例えば半導体発光素子11と、ボンディングワイヤ17,18と、リフレクタ20と、封止部材22と、を備えて形成されている。
金属基板2は、Cuからなるとともに、照明装置1として必要とされる発光面積を得るために所定形状例えば長方形状をなしている。金属基板2は、これと一体の凸部からなる素子取付け部3を例えば半導体発光素子11と同数有している。
The
なお、本発明は、素子取付け部3に一個の半導体発光素子11を取付けることに制約されることはなく、一つの素子取付け部3に複数個の半導体発光素子11を並べて取付けることも可能である。その場合、同じ色を発する複数個の半導体発光素子11であっても、或いは異なる色を発する複数個の半導体発光素子11であってもよい。異なる色を発する複数個の半導体発光素子11を一つの素子取付け部3に取付ける場合には、赤色、黄色、青色の光を発する3個の半導体発光素子11を並べて取付けることもできる。そして、一つの素子取付け部3に複数個の半導体発光素子11を並べて取付けた構成においては、照明装置1の全光束を向上させることが可能である。
The present invention is not limited to mounting one semiconductor
金属基板2の素子取付け部3以外の部位からなる基板主部2a(図2参照)の厚みAは例えば0.25mmである。素子取付け部3が設けられていない基板主部2aの裏面は、放熱面又は他の放熱部材に面接触する伝熱面として用いられる。
The thickness A of the substrate
素子取付け部3は基板主部2aの表面(一面)に突設されている。図2で代表して示すように素子取付け部3の先端面3aは前記一面と平行な平坦面をなしている。素子取付け部3はその先端面3aから金属基板2の一面に至るに従い次第に太く形成されている。言い換えれば、素子取付け部3は、その高さ方向と直交する断面積が先端面3aから金属基板2の一面に至るに従い次第に大きくなる円錐台状に形成されている。そのため、素子取付け部3の最大径をなす根元部の周面は基板主部2aとの間に角を作ることなく弧状となって基板主部2aの表面に連続している。
The
表面素子取付け部3の先端面3aには光反射層4が被着されている。光反射層4は、Agの薄膜からなり、その厚みBは0.003mm〜0.005mmである。これとともに、Ag製光反射層4の光反射率は90%以上である。
A
光反射層4を含めた素子取付け部3の高さは、半導体発光素子11の表面(図2において上面)の高さ位置が導体8の高さ位置以上になることを満たせば、絶縁層5の表面(図2において上面)の高さ位置より低くても差し支えないが、絶縁層5の表面の高さ位置と同じかそれ以上高くすることが好ましく、本実施形態では絶縁層5上の導体8の表面(図2において上面)の高さ位置より高くしてある。
If the height of the
絶縁層5には光反射性能を得るために例えば白色のガラスエポキシ基板が用いられている。絶縁層5の厚みBは、最小で0.060mmあればよく、本実施形態では例えば0.25mmにしてある。この絶縁層5は、図2及び図3で代表して示すように素子取付け部3が通る逃げ孔6を有している。この逃げ孔6は例えば円形で、その直径は素子取付け部3の最大径をなす根元部の直径より大きい。逃げ孔6は素子取付け部3と同数設けられている。なお、本実施例では絶縁層5を一層としたが、これは二層とすることもできる。例えば前記最小厚みでの実施では、厚み0.030mmのガラスエポキシ基板を二枚積層したものを用いることが可能である。それにより、一層の絶縁層よりも高い絶縁耐圧を確保できる。
For example, a white glass epoxy substrate is used for the insulating
絶縁層5は基板主部2aの表面(一面)に接着剤7を用いて貼り合わせることにより金属基板2に積層されている。接着剤7は、絶縁性であって、絶縁層5と基板主部2aとの間に例えば0.005mm以下の膜厚Cで設けられる。絶縁層5の接着において、絶縁層5の各逃げ孔6は各素子取付け部3に夫々嵌合するので、絶縁層5は金属基板2に素子取付け部3を除いて積層され、それにより、素子取付け部3は逃げ孔6に露出されている。
The insulating
前記嵌合により絶縁層5が素子取付け部3に当たらないので、絶縁層5が金属基板2に対して浮くようなことがなく適正に重ね合わされるとともに、金属基板2に対し絶縁層5が位置決めされる。言い換えれば、凸部からなる素子取付け部3が通る絶縁層5の逃げ孔6によって、金属基板2へ絶縁層5を接着する際に、この絶縁層5が素子取付け部3に当たらないようにして、金属基板2に絶縁層5を適正に積層させることができる。
Since the insulating
そして、前記貼り合わせにおいて接着剤7の塗布量が多く余剰を生じた場合、その余剰分7a(図2及び図3参照)の一部は、張り合わせの際に加えられる圧力によって逃げ孔6に押し出される。より正確には、素子取付け部3の形状に起因して、この素子取付け部3の側面と逃げ孔6との間に必然的に形成される環状の隙間に、余剰分7aからなる食み出し部が押し出されてそこに溜められて固化される。それにより、絶縁層5は、素子取付け部3の側面に対しても接着されるので、積層強度が高められる。しかも、余剰分7aは体積固有抵抗が10−2〜10−15Ω・mの絶縁層として機能するので、後述のように導体8が装着された絶縁層5と素子取付け部3の側面との間の耐電圧を向上できる。
When the application amount of the adhesive 7 is large in the pasting and a surplus is generated, a part of the
複数の導体8は、各半導体発光素子11への通電要素としてこれら半導体発光素子11を直列に接続するために設けられ、絶縁層5の基板主部2aに接着された裏面とは反対側の面にエッチング処理等により形成されている。これらの導体8は、Cuからなり、絶縁層5を基板主部2aに貼り合わせる前に設けられる。図1に示すように各導体8は、絶縁層5の長手方向に所定間隔毎に点在して二列形成されている。各列での複数の導体8は例えば4mmピッチで各逃げ孔6と交互に並べられている。これら列の一端側に位置した導体8には電線接続部9が一体に連続して形成されている。これら電線接続部9の夫々には図示しない電源にいたる電線が個別に半田付けされる。
The plurality of
図2及び図3で代表して示すように各導体8は、逃げ孔6の縁には達しておらず、この逃げ孔6の縁から所定距離隔てられている。それにより、導体8の端8aとこれに最も近接している逃げ孔6の縁との間に、白色の絶縁層5の一部が露出されている。ここに、導体8の端8aとは、正確には、導体8に被着された後述の光反射層10の端を指している。なお、符号5aで絶縁層5の露出面を示す。そのため、導体8の端8aと素子取付け部3との間に前記環状の隙間より大きい絶縁距離を確保することができるとともに、露出面5aでもそこに入射した光を光の取出し方向に反射させることができる。
As representatively shown in FIGS. 2 and 3, each
導体8の端8aは、半導体発光素子11の後述する電極14又は15から0.25mm〜6.0mmの距離Dを隔てて位置される。これは、後述のワイヤボンディングにおいて導体8に対しては、その端8a、正確には端8aと絶縁層5との境目をボンディングマシンに認識させて、そこを基準に所定距離E離れた位置にボンディングワイヤを接合するので、その際にボンディングワイヤの接合部にストレスが残留することを極力抑制するための配慮である。
The
各導体8の表面にはAgの光反射層10が被着されている。この光反射層10は、反射率が90%以上のAgの薄膜からなり、その厚みは0.003mm〜0.005mmである。光反射層10を含めた導体8の厚みGは0.012mm〜0.018mmである。各導体8上の光反射層10及び各素子取付け部3の光反射層4は、いずれも例えばメッキ処理により一度に設けることができる。この場合、導体8及び素子取付け部3がCu製であるので、これらをメッキ浴することなく、光反射層10及び4をメッキ処理して設けることが可能である。なお、光反射層10の表面にレジスト膜を積層することも可能である。
An Ag
各半導体発光素子11は例えば青色LEDチップからなる。このLEDチップは、例えば窒化物半導体を用いてなるダブルワイヤー型であって、図2に示すように透光性を有する素子基板12の一面に半導体発光層13を積層して形成されている。素子基板12は例えばサファイア基板で作られている。半導体発光層13は、素子基板12の裏面にバッファ層、n型半導体層、発光層、p型クラッド層、p型半導体層を順次積層して形成されている。発光層は、バリア層とウエル層を交互に積層した量子井戸構造をなしている。n形半導体層にはn側電極14が設けられ、p形半導体層にはp側電極15が設けられている。この半導体発光層13は反射膜を有しておらず、半導体発光素子11の厚み方向の双方に光を放射できるとともに、素子基板12の側面から側方へも光を放射できる。
Each semiconductor
これらの半導体発光素子11は、素子基板12の前記一面と平行な他面を接着剤例えば透光性のシリコーン樹脂からなるダイボンド材16を用いて各素子取付け部3の先端面3aにダイボンドされている。それによって、各半導体発光素子11は、各導体8と同じく例えば4mmピッチで、これら導体8と交互に配置されている。
These semiconductor
ダイボンド材16の厚みHは0.10mm以下である。ダイボンド材16は半導体発光素子11から素子取付け部3への伝熱の抵抗部材となるが、以上のようにきわめて薄いので、このダイボンド材16での熱抵抗は実質的に無視できる程度である。ダイボンド材16の厚みHは、接着性能を失わない範囲でできるだけ薄くすることが望ましい。
The thickness H of the
半導体発光素子11の半導体発光層13と素子取付け部3との間の絶縁耐圧は、ダイボンド材16だけではなく、このダイボンド材16よりもはるかに厚いサファイア製の素子基板12で確保されている。ダイボンド材16を含めた半導体発光素子11の厚みIは例えば0.09mmである。こうした半導体発光素子11を用いることによって、半導体発光層13の高さ位置は導体8表面の光反射層10より高く位置されており、しかも、本実施形態では半導体発光素子11全体が導体8表面の光反射層10より高く位置されている。
The withstand voltage between the semiconductor
こうした高さの差によって、後述のワイヤボンディングにおいて、ボンディングマシンでボンディングワイヤの一端を半導体発光層13の電極14,15にボールボンディングにより接合した後に、このボンディングワイヤの他端を導体8に接合する際、ボンディングマシンのボンディングツールの移動に絶縁層5が邪魔になり難く、又、ボンディングワイヤを斜め下方に無理に引くこともないので、ワイヤボンディングがし易い。
Due to the difference in height, in wire bonding described later, one end of the bonding wire is bonded to the
更に、本実施形態のように半導体発光素子11全体が絶縁層5の表面よりも高い位置に配置されている好ましい構成では、半導体発光素子11からその周囲に放射される光が、絶縁層5に妨げられることなく、逃げ孔6の周りに差し込み易い。それにより、半導体発光素子11の周りで光を反射させて光を取出すことができるので、光の取出し効率を高めることができる点で有利である。
Furthermore, in a preferred configuration in which the entire semiconductor
金属基板2の長手方向に交互に配置された導体8と半導体発光素子11とは、ワイヤボンディングにより設けられたボンディングワイヤ17で接続されている。更に、前記二列の導体列の他端側に位置した導体8同士は、図1に示すようにワイヤボンディングにより設けられた端部ボンディングワイヤ18で接続されている。従って、本実施形態の場合、各半導体発光素子11は電気的に直列に接続されている。
The
以上の光反射層4を有した金属基板2、光反射層10を有した導体8付きの絶縁層5、複数の半導体発光素子11、ボンディングワイヤ17、及び端部ボンディングワイヤ18によって、照明装置1の面状発光源が形成されている。
The
リフレクタ20は、一個一個又は数個の半導体発光素子11毎に個別に設けられるものではなく、絶縁層5上の全ての半導体発光素子11を包囲する単一のものであり、枠、例えば図1に示すように長方形をなす枠で形成されている。リフレクタ20は絶縁層5に接着されている。電線接続部9の一部は電線を接続するためにリフレクタ20の外に位置されている。リフレクタ20の内周面は光反射面となっている。そのために、例えばリフレクタ20の成形材料である合成樹脂中に酸化アルミニウム等の白色粉末を混入させている。このリフレクタ20は、光の取出し方向に取出された光を、投光対象に対して制御をするレンズ等の配光制御部材(図示しない)の取付け部として、利用することが可能である。
The
封止部材22は、リフレクタ20内に注入して加熱処理により硬化されていて、前記面状発光源のリフレクタ20内に位置された殆どの部分を埋めている。この封止部材22は、透光性材料例えば透明シリコーン樹脂からなり、その内部には必要により蛍光体が混入されている。本実施形態では半導体発光素子11が青色発光をするので、この光で励起されて主に黄色の光を放射する蛍光体(図示しない)が、好ましくは略均一に分散した状態で混入されている。
The sealing
この組み合わせにより、照明装置1の点灯により半導体発光層13から放出された青色の光の一部が蛍光体に当たることなく封止部材22を通過する一方で、青色の光が当たった蛍光体が、青色によって励起されて黄色の光を放射し、この黄色の光が封止部材22を通過するので、これら補色関係にある二色の混合によって照明装置1は白色光を照射できる。なお、リフレクタ20が枠形であるので、照明装置1から取出される光の多くは、リフレクタ20で反射されることなく封止部材22を透過するので、反射を原因とする光の損失が少なく、光の取出し効率を向上するにも有効である。
By this combination, a part of blue light emitted from the semiconductor
以上の構成の照明装置1では、接着剤7の余剰分7aが逃げ孔11内に食み出しているので、金属基板2とこれに接着剤7を介して積層された絶縁層5との間に、接着剤7の厚みに相当する隙間が逃げ孔6に連通して形成されることがない。このため、前記隙間がある場合のようにそこに溜まった空気が、封止部材22を加熱硬化させる際に泡となって封止部材22内に流出して、この封止部材22内に気泡となって留まることがない。封止部材22内に気泡が残留していると、そこに外部から水分が入り込んだ場合、絶縁耐圧が低下する恐れがあるが、こうしたことがないようにできる。
In the illuminating
以上の構成の照明装置1は、各半導体発光素子11に通電して、これらの半導体発光素子11を発光させることにより図2中矢印方向に光を取出して照明を行う。この点灯時に各半導体発光素子11が発熱する。
The illuminating
ところで、半導体発光素子11に電力を導く導体8と金属基板2とは、これらの間に設けた絶縁層5で電気的に絶縁されているが、この絶縁層5は金属基板2と半導体発光素子11との間には介在されていないとともに、半導体発光素子11は金属基板2の素子取付け部3に直接ダイボンドされている。
By the way, the
そのため、各半導体発光素子11が発する熱は、絶縁層5に邪魔されることなく金属基板2に直接的に伝導する。より具体的には、半導体発光素子11の熱は、実質的に熱抵抗とはならないほど薄いダイボンド材16を通ってから、Agの光反射層4を経て金属基板2の素子取付け部3に伝えられる。しかも、金属基板2の素子取付け部3は、半導体発光素子11がダイボンドされた先端面3aから金属基板2の基板主部2aに至るに従い次第に太く、言い換えれば、素子取付け部3の断面積が基板主部2aに近付く程大きくなっているので、半導体発光素子11から金属基板2の裏面に向けての熱伝導がより容易となる。そして、金属基板2の熱はこの金属基板2の裏面から外部に放出される。
Therefore, the heat generated by each semiconductor
こうして半導体発光素子11の熱が高効率に金属基板2を通って外部に放出されるので、各半導体発光素子11の温度上昇が効果的に抑制され、各半導体発光素子11の温度を設計通りに維持できる。そのため、各半導体発光素子11の発光効率の低下と、各半導体発光素子11が発する光量のばらつきが抑制され、その結果として、各半導体発光素子から取出される光の色むらを抑制できる。
In this way, the heat of the semiconductor
又、前記構成の各半導体発光素子11は全方向に光を放射し、取分け、表方向つまり金属基板2とは反対側の光の取出し方向に放射される光よりも、裏方向つまり金属基板2に向けて放射される光の方が強い。
Each of the semiconductor
そして、裏方向に放射された光の多くは、透光性のダイボンド材16を通って90%以上の光反射率を有したAgメッキ層からなる光反射層4に入射し、この光反射層4で光の取出し方向に反射される。このような半導体発光素子11直下での高効率の反射により、光の取出し効率をより向上させることができる。ちなみに、半導体発光素子11の直下の反射率と光束との関係を示した図4から分かるように460nmの波長の光については、反射率が高いほど取出される光の強さ(相対発光強度)が上がることが測定の結果明らかとなり、半導体発光素子11の直下の反射率は91.35%であることが確かめられた。
Then, most of the light emitted in the reverse direction passes through the translucent die-
しかも、前記裏方向に放射された光の一部、及び封止部材22内の蛍光体から放射された光の一部は、白色の絶縁層5に入射し、この絶縁層5で光の取出し方向に反射される。加えて、裏方向に向かった光の一部は、導体8を覆ったAgメッキ層からなる光反射層10に入射し、この光反射層10で光の取出し方向に反射される。更に、絶縁層5の逃げ孔6の周辺は、その一部が導体8で覆われることがなく、この導体8と逃げ孔6との間おいて露出面5aを有している。言い換えれば、逃げ孔6の周辺は、その周方向に沿って途切れることなく連続した白色反射面とみなすことができるので、そこに入射した光を、光の取出し方向に反射させることができる。
In addition, a part of the light emitted in the reverse direction and a part of the light emitted from the phosphor in the sealing
ちなみに、半導体発光素子11の周りでの反射率と光束との関係を示した図5から分かるように400nm〜740nmの波長の光の平均反射率が高いほど取出される光の強さ(相対発光強度)が上がることが測定の結果明らかとなり、半導体発光素子11の周りでの反射率は93.7%であることが確かめられた。
Incidentally, as can be seen from FIG. 5 showing the relationship between the reflectance around the semiconductor
図4及び図5によれば、反射率が下がるほど発光強度が下がり、逆に言えば、反射率が上がるほど発光強度が上がることが明らかであるので、Agメッキ層からなる光反射層4,10、及び白色の絶縁層5での高反射特性により、照明装置1の発光効率(光の取出し効率)を向上することができた。ちなみに、照明装置1の消費電力が0.06Wである場合、光束7.4lm、発光効率125lm/Wで照明ができることが実験の結果確かめられた。
4 and 5, it is clear that the emission intensity decreases as the reflectance decreases, and conversely, the emission intensity increases as the reflectance increases. 10 and the high reflection characteristics of the white insulating
したがって、前記構成の照明装置1は、高熱伝導により各半導体発光素子11の温度上昇による発光効率の低下を抑制しつつ、各半導体発光素子11の裏側に放射された光の高反射特性により、光の取出し効率を向上できる。
Therefore, the
又、金属基板2の素子取付け部3に半導体発光素子11をダイボンドしたダイボンド材16は、透明なシリコーン樹脂であるので、このダイボンド材16は熱により変色を伴って劣化する可能性が極めて小さい。したがって、光反射層4で反射されて取出される光の取出し効率を長期にわたり維持できる。
Moreover, since the die-
図6、図7は夫々異なる本発明の他の実施形態を示している。これらの実施形態は、以下説明する事項以外は、図示されない事項を含めて第1実施形態と同じであるので、第1実施形態と同じ部分には同一符号を付してその説明を省略する。 6 and 7 show other embodiments of the present invention which are different from each other. Since these embodiments are the same as the first embodiment including matters not shown except for the items described below, the same parts as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals and the description thereof is omitted.
図6に示した第2実施形態では、リフレクタ20が複数の反射孔21(一つのみ代表して示す。)を有している。これらの反射孔21には、素子取付け部3にダイボンドされた半導体発光素子11が個別に配置されている。各反射孔21は光の取出し側に行くに従って次第に孔径が拡大するテーパ孔で形成されている。又、封止部材22は、各反射孔21の夫々に充填して固化されている。以上説明した事項以外は第1実施形態と同じである。
In the second embodiment shown in FIG. 6, the
したがって、この第2実施形態の照明装置1でも、第1実施形態で説明した作用と同様な作用を得られるから、高熱伝導により各半導体発光素子11の温度上昇による発光効率の低下を抑制しつつ、各半導体発光素子11の裏側に放射された光の高反射特性により、光の取出し効率を向上できる。
Therefore, since the
しかも、第2実施形態の照明装置1では封止部材22の使用量を低減できる。また、光の取出し方向に取出された光を、投光対象に対して制御をするレンズ等の配光制御部材の取付け部として、リフレクタ20を利用することも可能である。
Moreover, in the
図7に示した第3実施形態では、リフレクタを省略して構成の簡単化を図っている。そして、図示しないディスペンサーから未硬化の封止部材を半導体発光素子11ごとに滴下(ボッティング)して、これら半導体発光素子11を個別に封止部材22で封止している。なお、未硬化の封止部材は滴下された後に半球状を呈して硬化される。以上説明した事項以外は第1実施形態と同じである。
In the third embodiment shown in FIG. 7, the reflector is omitted to simplify the configuration. Then, an uncured sealing member is dropped (botted) for each semiconductor
したがって、この第3実施形態の照明装置1でも、第1実施形態で説明した作用と同様な作用を得られるから、高熱伝導により各半導体発光素子11の温度上昇による発光効率の低下を抑制しつつ、各半導体発光素子11の裏側に放射された光の高反射特性により、光の取出し効率を向上できる。しかも、第3実施形態の照明装置1では封止部材22の使用量を低減できる。
Therefore, since the
図8〜図11は本発明の第4実施形態を示している。この第4実施形態は、以下説明する事項以外は、図示されない事項を含めて第1実施形態と同じであるので、第1実施形態と同じ部分には同一符号を付してその説明を省略する。 8 to 11 show a fourth embodiment of the present invention. Since the fourth embodiment is the same as the first embodiment except for the matters described below, including the items not shown, the same parts as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals and the description thereof is omitted. .
第4実施形態では電気絶縁性のレジスト層25が付加されている。レジスト層25は、例えば酸化アルミニウム等の白色粉末が混入された合成樹脂からなる。この白色レジスト層25の光反射率は80%以上であり、又、レジスト層25の厚みは例えば略0.1mmである。
In the fourth embodiment, an electrically insulating resist
レジスト層25は、光反射層4で覆われた導体8及び絶縁層5上に積層されているとともに、複数つまり素子取付け部3と同数の開口25aを有している。このレジスト層25の導体8に積層された積層部位と絶縁層5に積層された積層部位とは一体に連続している。これとともに、前記両積層部位の絶縁層5からの高さ位置は図10と図11との比較から分かるように光反射層10が積層された導体8の厚み分に応じて異なっている。
The resist
開口25aは図9に例示したように円形で、かつ、その径は素子取付け部3より数倍大きい。図9のように正面から見た状態で、開口25a毎に、その中央部に位置して一個の素子取付け部3が設けられているとともに、この素子取付け部3上に装着された半導体発光素子11とこれに接続された一対のボンディングワイヤ17が設けられている。これに伴いボンディングワイヤ17と前記半導体発光素子11を挟むように配置された導体8との接続部も開口25aに設けられている。そのため、レジスト層25は、素子取付け部3及びその周囲、並びにこの周囲に位置された導体8の端部を除いて設けられている。
The opening 25 a is circular as illustrated in FIG. 9, and its diameter is several times larger than the
開口25a内に配置された半導体発光素子11、一対のボンディングワイヤ17、これらボンディングワイヤ17と接続された導体8の端部は、開口25a毎に設けられた封止部材22で封止されている。封止部材22は、図示しないディスペンサーから未硬化の封止部材を開口25a毎に滴下(ポッティング)して供給され、滴下後に略半球状に盛り上がった形状を呈して硬化して設けられたものである。なお、第4実施形態において図8に示したリフレクタ20は省略してもよい。以上説明した事項以外は第1実施形態と同じである。
The semiconductor
従って、この第4実施形態の照明装置1でも、第1実施形態で説明した作用と同様な作用を得られるから、各半導体発光素子11の温度上昇による発光効率の低下を抑制しつつ、各半導体発光素子11の裏側に放射された光の高反射特性により、光の取出し効率を向上できる。
Accordingly, the
その上、光反射層10が積層された導体8の酸化及び硫化のうち少なくとも酸化を防ぐレジスト層25が白色であることにより、このレジスト層25に半導体発光素子11から差込む光を反射できるので、光の取出し効率を向上する上で好ましい。
In addition, since the resist
更に、レジスト層25が有した複数の開口25a毎に封止部材22を設けたので、第1実施形態のように全ての半導体発光素子11と導体8とにわたって封止部材22を設けた構成に比較して、蛍光体が混入された封止部材22の使用量を低減できる。
Furthermore, since the sealing
しかも、封止部材22をポッティングにより開口25aに供給して設けたので、ポッティングされた未硬化の封止部材が硬化するまでの間にレジスト層25の開口25aの外側に広がることを、開口25aの縁で塞き止めことが可能である。それにより、封止部材22の盛り上がり高さが適正に規制されて、半導体発光素子11上の封止部材22の厚みをより厚くできるとともに、ボンディングワイヤ17の一部が封止部材22から突出する恐れがないようにできる。
In addition, since the sealing
図12及び図13は本発明の第5実施形態を示している。この第5実施形態は、以下説明する事項以外は、図示されない事項を含めて第1実施形態と同じであるので、第1実施形態と同じ部分には同一符号を付してその説明を省略する。 12 and 13 show a fifth embodiment of the present invention. Since the fifth embodiment is the same as the first embodiment except for the matters described below, including the items not shown, the same parts as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals and the description thereof is omitted. .
第5実施形態では、接着剤7に樹脂系の接着シートを用いている。この接着剤7の光反射率は白色の絶縁層5での光反射率よりも低く、そのために、例えば茶色系の接着剤7が採用されている。接着剤7は、予め、凸部からなる素子取付け部3に個々に対応する複数の孔を有して形成されている。各孔の大きさは素子取付け部3の根元の直径より大きい。接着剤7をなした接着シートの厚みC´は、第1実施形態で説明した接着剤の膜厚より数倍厚い。
In the fifth embodiment, a resin adhesive sheet is used for the adhesive 7. The light reflectivity of the adhesive 7 is lower than the light reflectivity of the white insulating
接着剤7は、その各孔に素子取付け部3が通るように金属基板2の表面に重ねられ、この上に絶縁層5が重ねられた状態で、これら三者が厚み方向に加圧されるに伴い、金属基板2と絶縁層5とを接着している。この接着により、接着剤7の孔の縁部側の部位が、余剰分7aとなって図13に示すように絶縁層5の逃げ孔6内に環状をなして食み出している。逃げ孔6に対する余剰分7a言い換えれば、食み出し部の食み出し寸法は、略0.2μmである。図12に示すように食み出し部からなる余剰分7aは、逃げ孔6を形成した面の基板主部2a側の部位に被さるように逃げ孔6内で盛り上がっている。
The adhesive 7 is stacked on the surface of the
更に、第5実施形態では、各素子取付け部3の側面に側部光反射層4aが積層されている。側部光反射層4aは、素子取付け部3の先端面3aに積層された反射層4と余剰分7aとにわたっている。この側部光反射層4aは、反射層4と同じAgのメッキ層からなり、反射層4とともに無電解メッキにより設けられている。無電解メッキは、金属基板2に絶縁層5が接着された状態で施されるので、接着剤7の余剰分7aに側部光反射層4aが被着されることがない。このため、基板主部2aの余剰分7aに覆われた部位に側部光反射層4aは達していない。以上説明した事項以外は第1実施形態と同じである。
Further, in the fifth embodiment, the side
したがって、この第5実施形態の照明装置1でも、第1実施形態で説明した作用と同様な作用を得られるから、各半導体発光素子11の温度上昇による発光効率の低下を抑制しつつ、各半導体発光素子11の裏側に放射された光の高反射特性により、光の取出し効率を向上できる。
Therefore, since the
その上、凸部からなる素子取付け部3に、その先端面3aの光反射層4に連続して側部光反射層4aを設けたから、この側部光反射層4aによって光の取出し効率をより向上できる。つまり、封止部材22に混ぜられた蛍光体は半導体発光素子11から発した光で励起されて周囲に光を放射する。蛍光体から放射された光の一部は、素子取付け部11の側面に入射する。そのため、この入射光をAgからなる側部光反射層4aによって光の取出し方向に反射させて、光の取出し効率を向上できる。ちなみに、各素子取付け部3に光反射層4及び側部光反射層4aを設けない場合の照明装置の全光束を100とすると、第5実施形態の照明装置1の全光束は110であり、光の取出し効率を10%向上できることが確かめられた。
In addition, since the side
なお、第5実施形態では、接着剤7の余剰部(食み出し部)7aの食み出し量を、その表面の高さ位置が、絶縁層5の表面と同じ高さに近くなるようにすることもできる。このような高さまで余剰部(食み出し部)7aを食み出させた場合にも、素子取付け部5の頂部は余剰部(食み出し部)7aの表面より突出していて、側部光反射面4a全体が余剰部(食み出し部)7aで覆われることがない。そのため、接着剤7に色が付いている場合であっても、側部光反射面4aによる光の取出し方向に反射作用を得て、光の取出し効率を向上できる。
In the fifth embodiment, the amount of protrusion of the surplus portion (projection portion) 7 a of the adhesive 7 is set so that the height position of the surface is close to the same height as the surface of the insulating
しかも、余剰部7aの高さ位置を絶縁層5の表面と同じ高さに近くなるようにした場合には、未硬化の封止部材22を充填する際に、空気が逃げ孔11内に溜まり難くなる。したがって、既述のように金属基板2と絶縁層5との間に隙間が形成されないことと相まって、硬化された止部材22内への気泡の残留を効果的に抑制できる。
Moreover, when the height of the
更に、第5実施形態では、逃げ孔6に食み出している接着層7の余剰分(食み出し部)7aの色と、絶縁層5の逃げ孔6の周りの部分の色が異なっているので、これらの色の差によって、絶縁層5と余剰分7aとの境界、つまり、逃げ孔6をダイボンドする際の位置決めの基準として容易に認識できる。
Furthermore, in the fifth embodiment, the color of the surplus portion (the protruding portion) 7a of the
すなわち、逃げ孔7内の素子取付け部3に半導体発光素子11をダイボンドする場合、半導体発光素子11を実装する実装機(図示しない)が備える撮像カメラで逃げ孔6を撮像し、実装機が備える画像認識部で、撮像された画像を認識するとともに画像認識部に予め記憶されている基準画像と認識画像とをパターンマッチングすることによって、半導体発光素子11をダイボンドする際の位置決めの基準を得ており、それに基づいて指定された位置に実装機が半導体発光素子11をダイボンドするようになっている。
That is, when the semiconductor
既述のように余剰分(食み出し部)7aの色が白色の絶縁層5に対して光反射率が低い茶色系であるので、前記画像認識において、絶縁層5と余剰分(食み出し部)7aとの境界、つまり、逃げ孔6を容易に認識できる。それにより、逃げ孔6内の素子取付け部3に半導体発光素子11をダイボンドする際の位置決めの基準を確実に取得できる。これにより、前記画像認識での照合率(パターンマッチングの正解率)を90パーセント以上とすることが可能となった。
As described above, the color of the surplus portion (projection portion) 7a is a brown system having a low light reflectance with respect to the white insulating
なお、以上のように位置決め基準を確実に取得するのに、第5実施形態の構成で、逃げ孔6へ食み出した余剰分7aを有した接着剤7を透明材料で形成して実施することもできる。
In order to reliably obtain the positioning reference as described above, the configuration of the fifth embodiment is performed by forming the adhesive 7 having the
この場合、食み出し部である余剰分7aを透過して撮像される基板主部2aの色は、この主部2aの形成材料の色である。つまり、放熱基板が銅製であれば、銅の茶色系の色であり、炭素系材料製であれば黒色系の色である。これらの色は、白色の絶縁層5の色とは異なっていて、その光反射率は絶縁層5の光反射率よりも低い。
In this case, the color of the substrate
このように逃げ孔6に食み出している接着層7の余剰分(食み出し部)7aを透視視認される基板主部2aの色と、絶縁層5の逃げ孔6の周りの部分の色が異なっているので、これらの色の差によって、絶縁層5と基板主部2aとの境界、つまり、逃げ孔6をダイボンドする際の位置決めの基準として容易に認識できる。したがって、逃げ孔6内の素子取付け部3に半導体発光素子11をダイボンドする際の位置決めの基準を確実に取得できる。
In this way, the color of the substrate
1…照明装置、2…金属基板(放熱基板)、2a…基板主部、3…素子取付け部、3a…素子取付け部の先端面、4…光反射層、4a…側部光反射層、5…絶縁層、5a…露出面、6…逃げ孔、7…接着剤、7a…接着剤の余剰分(食み出し部)、8…導体、10…光反射層、11…半導体発光素子、12…素子基板、13…半導体発光層、16…ダイボンド材、17…ボンディングワイヤ、22…封止部材、25…レジスト層、25a…レジスト層の開口
DESCRIPTION OF
Claims (1)
この放熱基板に前記素子取付け部を除いて積層された絶縁層と;
前記絶縁層上に設けられるとともに、その端と前記素子取付部との間に前記絶縁層が露出するように設けられた表面に光反射層を有しする導体と;
その上面の高さ位置が前記絶縁層及び前記導体の高さ以上となるように前記素子取付け部にダイボンドされる半導体発光素子と;
この半導体発光素子と前記導体とを接続したボンディングワイヤと;
前記半導体発光素子を封止して設けた透光性の封止部材と;
を具備したことを特徴とする照明装置。 A heat dissipation board integrally having an element mounting portion;
An insulating layer laminated on the heat dissipation substrate excluding the element mounting portion;
A conductor provided on the insulating layer and having a light reflecting layer on a surface provided such that the insulating layer is exposed between an end of the insulating layer and the element mounting portion;
A semiconductor light emitting device that is die-bonded to the device mounting portion such that the height position of the upper surface is equal to or higher than the height of the insulating layer and the conductor;
A bonding wire connecting the semiconductor light emitting element and the conductor;
A translucent sealing member provided by sealing the semiconductor light emitting element;
An illumination device comprising:
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