[go: up one dir, main page]
More Web Proxy on the site http://driver.im/

JP2010145756A - Liquid crystal display element and manufacturing method thereof - Google Patents

Liquid crystal display element and manufacturing method thereof Download PDF

Info

Publication number
JP2010145756A
JP2010145756A JP2008323010A JP2008323010A JP2010145756A JP 2010145756 A JP2010145756 A JP 2010145756A JP 2008323010 A JP2008323010 A JP 2008323010A JP 2008323010 A JP2008323010 A JP 2008323010A JP 2010145756 A JP2010145756 A JP 2010145756A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
spacer
liquid crystal
particulate
display element
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2008323010A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2010145756A5 (en
Inventor
Ryota Mizusako
亮太 水迫
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Casio Computer Co Ltd
Original Assignee
Casio Computer Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Casio Computer Co Ltd filed Critical Casio Computer Co Ltd
Priority to JP2008323010A priority Critical patent/JP2010145756A/en
Publication of JP2010145756A publication Critical patent/JP2010145756A/en
Publication of JP2010145756A5 publication Critical patent/JP2010145756A5/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid crystal display element in which a change in an interval between substrates is reduced against external force applied to the liquid crystal display element and to provide a manufacturing method of the liquid crystal display element. <P>SOLUTION: Columnar spacers 109 formed at a height lower than a gap between a TFT substrate 101 and a counter substrate 102 and granular spacers 108 each of which is buried in each columnar spacer 109 and has a diameter larger than the height of the columnar spacer 109 to specify the layer thickness of liquid crystal sealed between the TFT substrate 101 and the counter substrate 102 are arranged between both the substrates 101, 102. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、液晶表示素子、特に、2枚の基板間に挟持されて、前記基板間の間隔を規制するスペーサを備える液晶表示素子と、その製造方法に関する。   The present invention relates to a liquid crystal display element, and more particularly, to a liquid crystal display element provided with a spacer that is sandwiched between two substrates and regulates the distance between the substrates, and a method for manufacturing the same.

液晶表示装置は、2枚のガラス基板の間に液晶を担持させた構造を有し、2枚のガラス基板の間隔を所定の大きさに保つために、2枚のガラス基板の間にスペーサを挟持している。また、このスペーサに球形のプラスティックビーズを用いた液晶表示装置も知られている(例えば、特許文献1)。   The liquid crystal display device has a structure in which liquid crystal is supported between two glass substrates, and a spacer is provided between the two glass substrates in order to keep the distance between the two glass substrates at a predetermined size. It is pinched. A liquid crystal display device using spherical plastic beads for this spacer is also known (for example, Patent Document 1).

特開平7−114033号公報Japanese Patent Laid-Open No. 7-114033

プラスティックビーズは弾性が有り、プラスティックビーズをスペーサにすると、温度変化による液晶の体積の変化に良く追随することができる。しかしながら、ガラス基板の表面を押圧する外力が加えられると、プラスティックビーズの弾性に応じてガラス基板が変形し、基板間隔が変化するという問題があった。   Plastic beads have elasticity, and if plastic beads are used as spacers, they can follow the change in volume of liquid crystal due to temperature changes. However, when an external force that presses the surface of the glass substrate is applied, there is a problem that the glass substrate is deformed according to the elasticity of the plastic beads and the substrate interval is changed.

本発明は、このような背景に鑑みてなされたものであり、液晶表示素子に加えられる外力に対して基板間隔の変化を低減させた液晶表示素子とその製造方法を提供するものである。   The present invention has been made in view of such a background, and provides a liquid crystal display element in which a change in a substrate interval is reduced with respect to an external force applied to the liquid crystal display element, and a method for manufacturing the same.

上記課題を解決するために、この発明の第1の観点に係る液晶表示素子は、
透明電極が形成された第1の基板と、
前記第1の基板の前記透明電極が形成された面に対向させて配置され、複数の画素電極と各画素電極にそれぞれ接続された薄膜トランジスタと該薄膜トランジスタに接続された配線とが形成された第2の基板と、
前記第1の基板の内面と前記第2の基板の内面との間に封入された液晶と、
前記第1の基板と前記第2の基板との間に配置され、前記第1の基板の内面と前記第2の基板の内面間の予め定めた間隙よりも低く、前記第1の基板又は前記第2の基板が変形されたときに前記第1の基板の内面と前記第2の基板の内面に当接する高さに形成された柱状スペーサと、
前記柱状スペーサの内部に埋め込まれて配置され、前記第1の基板の内面と前記第2の基板の内面に当接して前記第1の基板と前記第2の基板との間に封入される液晶の層厚を予め定めた厚さに規定するための、前記柱状スペーサの高さよりも大きい径を持った粒子状スペーサと、
を備えることを特徴とする。
In order to solve the above problems, a liquid crystal display element according to the first aspect of the present invention provides:
A first substrate on which a transparent electrode is formed;
A second substrate disposed opposite to the surface of the first substrate on which the transparent electrode is formed, and a plurality of pixel electrodes, a thin film transistor connected to each pixel electrode, and a wiring connected to the thin film transistor; A substrate of
Liquid crystal sealed between the inner surface of the first substrate and the inner surface of the second substrate;
The first substrate or the second substrate is disposed between the first substrate and the second substrate, and is lower than a predetermined gap between the inner surface of the first substrate and the inner surface of the second substrate. Columnar spacers formed at a height that abuts against the inner surface of the first substrate and the inner surface of the second substrate when the second substrate is deformed;
Liquid crystal embedded in the columnar spacer and sealed between the first substrate and the second substrate in contact with the inner surface of the first substrate and the inner surface of the second substrate. A particulate spacer having a diameter larger than the height of the columnar spacer, in order to define the layer thickness to a predetermined thickness;
It is characterized by providing.

前記粒子状スペーサは、例えば、プラスティックから形成されたビーズスペーサから構成され、前記第1の基板の内面と、前記薄膜トランジスタに対応する前記第2の基板の内面に接している。   The particulate spacer is composed of, for example, a bead spacer made of plastic, and is in contact with the inner surface of the first substrate and the inner surface of the second substrate corresponding to the thin film transistor.

あるいは、前記粒子状スペーサは、プラスティックから形成されたビーズスペーサから構成され、前記第1の基板の内面と、前記配線に対応する前記第2の基板の内面に接している。   Alternatively, the particulate spacer is composed of a bead spacer made of plastic, and is in contact with the inner surface of the first substrate and the inner surface of the second substrate corresponding to the wiring.

また、この発明の第2の観点に係るこの発明の液晶表示素子の製造方法は、
それぞれ電極が形成された第1の基板と第2の基板とを、互いの間隙を規定するスペーサ部を介して対向配置し、前記第1の基板と前記第2の基板との間の間隙に液晶を封入して液晶表示素子を製造する液晶表示素子の製造方法において、
前記スペーサ部を形成する工程は、
前記第1の基板と前記第2の基板とのいずれか一方の基板の上に、柱状スペーサを形成するための樹脂層を形成する樹脂層形成工程と、
前記樹脂層の上に前記樹脂層の層厚よりも大きい径を持ち、前記第1の基板と前記第2の基板との間に封入される液晶の層厚を予め定めた厚さに規定するための粒子状スペーサを散布し、前記樹脂層に埋め込むスペーサ散布工程と、
前記樹脂層を柱状スペーサに対応する形状に硬化させて、前記粒子状スペーサを基板に固定するスペーサ固着工程と、
前記樹脂層の前記柱状スペーサに対応する部分以外の不要な部分を除去して、前記粒子状スペーサの径よも低い高さの柱状スペーサを形成する柱状スペーサ形成工程と、
を有する、
ことを特徴とする。
Moreover, the manufacturing method of the liquid crystal display element of the present invention according to the second aspect of the present invention includes:
The first substrate and the second substrate on which electrodes are respectively formed are arranged to face each other via a spacer portion that defines a gap between the first substrate and the second substrate. In a liquid crystal display element manufacturing method for manufacturing a liquid crystal display element by enclosing a liquid crystal,
The step of forming the spacer portion includes
A resin layer forming step of forming a resin layer for forming columnar spacers on one of the first substrate and the second substrate;
The liquid crystal layer having a diameter larger than the thickness of the resin layer on the resin layer, and the thickness of the liquid crystal sealed between the first substrate and the second substrate is defined to a predetermined thickness. For dispersing the particulate spacers for embedding in the resin layer,
A step of fixing the resin layer to a shape corresponding to the columnar spacer, and fixing the particulate spacer to the substrate;
A columnar spacer forming step of forming a columnar spacer having a height lower than the diameter of the particulate spacer by removing unnecessary portions other than the portion corresponding to the columnar spacer of the resin layer;
Having
It is characterized by that.

例えば、前記樹脂層は感光性樹脂から構成され、前記スペーサ固着工程は、所定の遮光パターンを有する遮光マスクで前記樹脂層を覆って、紫外線を照射して前記樹脂層を硬化させる硬化工程と、前記硬化工程実行後、前記樹脂層の未硬化の部分を除去する工程と、を備える。   For example, the resin layer is made of a photosensitive resin, and the spacer fixing step includes a curing step of covering the resin layer with a light shielding mask having a predetermined light shielding pattern and curing the resin layer by irradiating ultraviolet rays. And a step of removing an uncured portion of the resin layer after execution of the curing step.

また、この発明の第3の観点に係る液晶表示素子の製造方法は、
それぞれ電極が形成された第1の基板と第2の基板とを、互いの間隙を規定するスペーサ部を介して対向配置し、前記第1の基板と前記第2の基板との間の間隙に液晶を封入して液晶表示素子を製造する液晶表示素子の製造方法において、
前記スペーサ部を形成する工程は、
前記第1の基板と前記第2の基板の一方の基板の上の予め定めた位置に、柱状スペーサを形成するための樹脂を塗布する樹脂塗布工程と、
塗布された前記未硬化の樹脂上に、塗布された樹脂の層厚よりも大きい径を持ち、前記第1の基板と前記第2の基板間に封入される液晶の層厚を予め定めた厚さに規定するための粒子状スペーサを散布し、前記樹脂中に前記粒子状スペーサを埋め込むスペーサ散布工程と、
前記樹脂を硬化させて、前記粒子状スペーサを前記第1の基板に固定するとともに、前記粒子状スペーサの径よりも低い高さの柱状スペーサを形成する柱状スペーサ形成工程と、
前記粒子状スペーサが散布された基板を洗浄して、前記柱状スペーサによって固定されていない粒状スペーサを除去する不要ビーズ除去工程と、
を有することを特徴とする。
A method for manufacturing a liquid crystal display element according to the third aspect of the present invention is as follows.
The first substrate and the second substrate on which electrodes are respectively formed are arranged to face each other via a spacer portion that defines a gap between the first substrate and the second substrate. In a method for manufacturing a liquid crystal display element in which liquid crystal is sealed to manufacture a liquid crystal display element,
The step of forming the spacer portion includes
A resin application step of applying a resin for forming a columnar spacer at a predetermined position on one of the first substrate and the second substrate;
A predetermined thickness of a liquid crystal layer having a diameter larger than the applied resin layer thickness on the applied uncured resin and sealed between the first substrate and the second substrate. Scattering the particulate spacer for prescribing, and a spacer dispersing step of embedding the particulate spacer in the resin,
A columnar spacer forming step of curing the resin and fixing the particulate spacer to the first substrate, and forming a columnar spacer having a height lower than the diameter of the particulate spacer;
An unnecessary bead removing step of cleaning the substrate on which the particulate spacers are dispersed and removing the granular spacers not fixed by the columnar spacers;
It is characterized by having.

前記樹脂塗布工程は、例えば、インクジェット装置を用いて、樹脂を前記一方の基板の所望の位置に塗布して行う。   The resin coating step is performed by, for example, applying a resin to a desired position on the one substrate using an inkjet apparatus.

本発明によれば、スペーサ部が柱状スペーサと粒子状スペーサとから構成されているので、液晶表示素子に加えられる外力による基板間隔の変化が低減させ、液晶表示素子が表示する画像の質が向上する。   According to the present invention, since the spacer portion is composed of the columnar spacer and the particulate spacer, the change in the substrate interval due to the external force applied to the liquid crystal display element is reduced, and the quality of the image displayed by the liquid crystal display element is improved. To do.

以下、本発明の実施形態に係る液晶表示素子とその製造方法を図面を参照して説明する。   Hereinafter, a liquid crystal display device and a manufacturing method thereof according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

(実施形態1)
図1は、実施形態1に係る液晶表示素子の断面図である。
図示するように、実施形態1の液晶表示素子1は、対向して配置された一対の透明基板101、102と、両透明基板101と102の間の間隙に封入された液晶107と、両透明基板101と102の間に配置された粒子状スペーサ108と柱状スペーサ109と、から構成されている。
(Embodiment 1)
FIG. 1 is a cross-sectional view of the liquid crystal display element according to the first embodiment.
As shown in the figure, the liquid crystal display element 1 of Embodiment 1 includes a pair of transparent substrates 101 and 102 disposed opposite to each other, a liquid crystal 107 sealed in a gap between the transparent substrates 101 and 102, and both transparent It consists of a particulate spacer 108 and a columnar spacer 109 disposed between the substrates 101 and 102.

透明基板101(以下、TFT基板101という)の、透明基板102に対向する内面には、複数の画素電極103と、複数の薄膜トランジスタ110とが形成されている。   A plurality of pixel electrodes 103 and a plurality of thin film transistors 110 are formed on the inner surface of the transparent substrate 101 (hereinafter referred to as the TFT substrate 101) facing the transparent substrate 102.

画素電極103は、TFT基板101の内面に、行方向及び列方向に配列させて形成されている。薄膜トランジスタ110は、画素電極103にそれぞれ対応させて配置され、対応する画素電極103に接続されて配置されている。
また、図示していないが、TFT基板101の内面には、各行の薄膜トランジスタ110にゲート信号を供給する複数の走査線(ゲートライン)と、各列の薄膜トランジスタ110にデータ信号を供給する複数の信号線(データライン)とが設けられている。
The pixel electrodes 103 are formed on the inner surface of the TFT substrate 101 so as to be arranged in the row direction and the column direction. The thin film transistors 110 are arranged corresponding to the pixel electrodes 103 and connected to the corresponding pixel electrodes 103.
Although not shown, a plurality of scanning lines (gate lines) for supplying gate signals to the thin film transistors 110 in each row and a plurality of signals for supplying data signals to the thin film transistors 110 in each column are provided on the inner surface of the TFT substrate 101. Lines (data lines) are provided.

さらに、TFT基板101には、これらの部材を覆って配向膜が配置されている。配向膜の液晶107と接する面には、液晶分子を配向させるための配向処理が施されている。配向膜は極めて薄いため、図示していない。   Further, an alignment film is disposed on the TFT substrate 101 so as to cover these members. The surface of the alignment film in contact with the liquid crystal 107 is subjected to an alignment process for aligning liquid crystal molecules. The alignment film is not shown because it is extremely thin.

透明基板102(以下、対向基板102という)の、TFT基板101と対向する内面には、複数の画素電極103の配列領域に対向する一枚膜状の透明電極106(以下、対向電極という)が設けられている。対向電極106に画素電極103が対向する領域がそれぞれ画素を形成する。   On the inner surface of the transparent substrate 102 (hereinafter referred to as the counter substrate 102) facing the TFT substrate 101, a single film-like transparent electrode 106 (hereinafter referred to as the counter electrode) facing the array region of the plurality of pixel electrodes 103. Is provided. Each region where the pixel electrode 103 faces the counter electrode 106 forms a pixel.

対向基板102の内面には、さらに、画素の周辺領域を遮光するための遮光膜105と、複数の画素にそれぞれ対応させて、赤、緑、青の3色のカラーフィルタ104が形成されている。対向電極106は、カラーフィルタ104の上に形成されている。
さらに、対向電極106上に、配向膜が配置されている。配向膜の液晶107と接する面には、液晶分子を配向させるための配向処理が施されている。配向膜は極めて薄いため、図示していない。
On the inner surface of the counter substrate 102, a light shielding film 105 for shielding the peripheral region of the pixel and a color filter 104 of three colors of red, green, and blue are formed so as to correspond to each of the plurality of pixels. . The counter electrode 106 is formed on the color filter 104.
Further, an alignment film is disposed on the counter electrode 106. The surface of the alignment film in contact with the liquid crystal 107 is subjected to an alignment process for aligning liquid crystal molecules. The alignment film is not shown because it is extremely thin.

遮光膜105は、対応するTFT基板101の対応する薄膜トランジスタ110に対向する位置に配置される。また、各カラーフィルタ104は、TFT基板101の対応する画素電極103に対向する位置に配置される。   The light shielding film 105 is disposed at a position facing the corresponding thin film transistor 110 of the corresponding TFT substrate 101. Each color filter 104 is disposed at a position facing the corresponding pixel electrode 103 of the TFT substrate 101.

柱状スペーサ109は、TFT基板101と対向基板102の間の、TFT基板101に形成された薄膜トランジスタ110と、対向基板102に形成された遮光膜105とに対応させた位置に形成されている。柱状スペーサ109は、薄膜トランジスタ110、画素電極103等が形成されたTFT基板101の内面(正確には、配向膜)と、対向電極106が形成された対向基板102の内面(正確には、配向膜)の間の予め定めた間隙よりも低く、かつ、TFT基板101と対向基板102の少なくとも一方が外圧によって変形されたときに、TFT基板101と対向基板102の内面(正確には、配向膜)に当接する高さに形成されている。柱状スペーサ109は、光硬化型の樹脂、又は、熱硬化型の樹脂によって、対向基板102の対向電極106の上(正確には、配向膜の上)に形成されている。   The columnar spacer 109 is formed between the TFT substrate 101 and the counter substrate 102 at a position corresponding to the thin film transistor 110 formed on the TFT substrate 101 and the light shielding film 105 formed on the counter substrate 102. The columnar spacers 109 are the inner surface (more precisely, the alignment film) of the TFT substrate 101 on which the thin film transistor 110, the pixel electrode 103, and the like are formed, and the inner surface (more precisely, the alignment film) on which the counter electrode 106 is formed. ), And when at least one of the TFT substrate 101 and the counter substrate 102 is deformed by an external pressure, the inner surfaces of the TFT substrate 101 and the counter substrate 102 (more precisely, an alignment film) It is formed in the height which contacts. The columnar spacer 109 is formed on the counter electrode 106 (more precisely, on the alignment film) of the counter substrate 102 with a photo-curing resin or a thermosetting resin.

粒子状スペーサ108は、一部が柱状スペーサ109の内部に埋設されて配置されている。粒子状スペーサ108は、TFT基板101と対向基板102それぞれの内面(正確には、配向膜)に当接し、TFT基板101と対向基板102間に封入される液晶107の層厚を予め定めた値に規定するものであり、柱状スペーサ109の高さよりも大きい径を持った弾性を有する球形のプラスティックによって形成されたビーズスペーサから構成されている。例えば、粒子状スペーサ108は、対向基板102の対向電極106(正確には、配向膜)と、TFT基板101に形成された薄膜トランジスタ110の上面(正確には、配向膜)とに当接し、対向電極106と画素電極103との間隙を予め定めた液晶層厚、例えば4乃至5ミクロンとするように、TFT基板101と対向基板102の内面の間隔を規定している。   Part of the particulate spacer 108 is embedded in the columnar spacer 109. The particulate spacer 108 is in contact with the inner surfaces (more precisely, the alignment film) of the TFT substrate 101 and the counter substrate 102, and has a predetermined value for the thickness of the liquid crystal 107 sealed between the TFT substrate 101 and the counter substrate 102. It is composed of bead spacers formed of a spherical plastic having elasticity having a diameter larger than the height of the columnar spacer 109. For example, the particulate spacer 108 is in contact with the counter electrode 106 (more precisely, the alignment film) of the counter substrate 102 and the upper surface (more precisely, the alignment film) of the thin film transistor 110 formed on the TFT substrate 101. The distance between the inner surfaces of the TFT substrate 101 and the counter substrate 102 is defined so that the gap between the electrode 106 and the pixel electrode 103 is a predetermined liquid crystal layer thickness, for example, 4 to 5 microns.

なお、図1では、1つの粒子状スペーサ108を、1つの柱状スペーサ109に埋め込むように配置した場合を示しているが、粒子状スペーサ108の径は、液晶層厚程度に小さい径であるから、1つの柱状スペーサ109に、複数の粒子状スペーサ108を埋め込むように配置しても良い。   FIG. 1 shows the case where one particulate spacer 108 is arranged so as to be embedded in one columnar spacer 109, but the diameter of the particulate spacer 108 is as small as the thickness of the liquid crystal layer. A plurality of particulate spacers 108 may be embedded in one columnar spacer 109.

この実施形態の液晶表示素子1は、TFT基板101と対向基板102の間に配置され、TFT基板101と対向基板102の間の予め定めた間隙よりも低く、TFT基板101と対向基板102の一方又は両方が外力によって変形されたときにTFT基板101と対向基板102の内面にそれぞれ当接する高さに形成された柱状スペーサ109と、柱状スペーサ109に埋め込まれて配置され、TFT基板101と対向基板102の内面に当接してTFT基板101と対向基板102の間に封入される液晶107の層厚を予め定めた厚さに規定するための、柱状スペーサ109の高さよりも大きい径を持った粒子状スペーサ108とを備えている。 The liquid crystal display element 1 of this embodiment is disposed between the TFT substrate 101 and the counter substrate 102 and is lower than a predetermined gap between the TFT substrate 101 and the counter substrate 102, and one of the TFT substrate 101 and the counter substrate 102. Alternatively, when both of them are deformed by an external force, the columnar spacer 109 formed at a height to be in contact with the inner surfaces of the TFT substrate 101 and the counter substrate 102 and the columnar spacer 109 are disposed so as to be embedded. Particles having a diameter larger than the height of the columnar spacer 109 for defining the layer thickness of the liquid crystal 107 which is in contact with the inner surface of the 102 and sealed between the TFT substrate 101 and the counter substrate 102 to a predetermined thickness Shaped spacer 108.

そのため、TFT基板101と対向基板102のいずれにも外力が加えられないときは、粒子状スペーサ108がTFT基板101と対向基板102の内面(より正確には、配向膜)に当接して、液晶層を所定の厚さに規定する。そして、両基板101、102の一方又は両方を観察者等が指等で押圧したときは、粒子状スペーサ108がその弾性により変形して基板間隙が狭くなり、柱状スペーサ109が両基板101、102の内面(より正確には、配向膜)に当接して、両基板101、102間を支える。したがって、基板101、102に外圧が印加されたときの基板間隔(液晶層の厚さ)の変化を少なくすることができ、表示の安定性が向上する。   Therefore, when no external force is applied to either the TFT substrate 101 or the counter substrate 102, the particulate spacer 108 contacts the inner surfaces (more precisely, the alignment film) of the TFT substrate 101 and the counter substrate 102, and the liquid crystal The layer is defined to a predetermined thickness. When an observer or the like presses one or both of the substrates 101 and 102 with a finger or the like, the particulate spacer 108 is deformed by its elasticity and the substrate gap becomes narrow, and the columnar spacer 109 becomes the both substrates 101 and 102. The inner surface of the substrate (more precisely, the alignment film) is brought into contact with and supports between the two substrates 101 and 102. Therefore, the change in the substrate interval (the thickness of the liquid crystal layer) when an external pressure is applied to the substrates 101 and 102 can be reduced, and the display stability is improved.

また、この実施形態の液晶表示素子1では、粒子状スペーサ108は、プラスティックによって形成されたビーズスペーサからなり、対向基板102の内面と、TFT基板101に形成された薄膜トランジスタ110に対応する基板内面に接しており、粒子状スペーサ108が画素に配置されないため、表示品質が高くなる。   Further, in the liquid crystal display element 1 of this embodiment, the particulate spacer 108 is made of a bead spacer formed of plastic, and is formed on the inner surface of the counter substrate 102 and the inner surface of the substrate corresponding to the thin film transistor 110 formed on the TFT substrate 101. Since the particles are in contact with each other and the particulate spacers 108 are not arranged in the pixels, the display quality is improved.

実施形態1では、対向基板102の対向電極106上に形成された粒子状スペーサ108及び柱状スペーサ109を、TFT基板101に形成された薄膜トランジスタ110に対応する位置に配置したが、この発明は、上述した実施形態に限定されない。但し、視認困難な位置に配置することが望ましい。例えば、粒子状スペーサ108及び柱状スペーサ109を、TFT基板101に形成された薄膜トランジスタ110の走査線又は信号線に当接させる位置に配置するようにしてもよい。   In Embodiment 1, the particulate spacer 108 and the columnar spacer 109 formed on the counter electrode 106 of the counter substrate 102 are arranged at positions corresponding to the thin film transistors 110 formed on the TFT substrate 101. However, the present invention is described above. It is not limited to the embodiment. However, it is desirable to arrange at a position where visual recognition is difficult. For example, the particulate spacers 108 and the columnar spacers 109 may be arranged at positions where they are in contact with the scanning lines or signal lines of the thin film transistor 110 formed on the TFT substrate 101.

図2は、粒子状スペーサ108及び柱状スペーサ109を、TFT基板101に形成された走査線に当接させた第2の実施形態を示している。この第2の実施形態において、上述した第1の実施形態と同一の構成には同一の符号を付す。   FIG. 2 shows a second embodiment in which the particulate spacers 108 and the columnar spacers 109 are brought into contact with the scanning lines formed on the TFT substrate 101. In the second embodiment, the same components as those in the first embodiment described above are denoted by the same reference numerals.

TFT基板101上の、画素電極103の間には、薄膜トランジスタ110をオン又はオフさせる走査信号を対応する行の薄膜トランジスタ110へ供給するための走査線111が複数設けられている。   Between the pixel electrodes 103 on the TFT substrate 101, a plurality of scanning lines 111 for supplying a scanning signal for turning on or off the thin film transistor 110 to the thin film transistors 110 in the corresponding row is provided.

そして、対向基板102の対向電極106の走査線111に対応する位置に、粒子状スペーサ108と柱状スペーサ109とが配置され、対向電極106と画素電極103との間隙を予め定めた液晶層厚となるように規定している。   A particulate spacer 108 and a columnar spacer 109 are arranged at a position corresponding to the scanning line 111 of the counter electrode 106 of the counter substrate 102, and a gap between the counter electrode 106 and the pixel electrode 103 is set to a predetermined liquid crystal layer thickness. It stipulates that

この実施形態においても、両基板101,102のいずれか一方又は両方を観察者が指等で押圧したときは、粒子状スペーサ108がその弾性により変形し、前記柱状スペーサ109が両基板101,102の内面に当接して、両基板101、102を支える。従って、基板間隔の変化を少なくすることができ、表示の安定性が向上する。
また、前記粒子状スペーサ108と柱状スペーサ109が画素に配置されないから、表示品質が高くなる。
Also in this embodiment, when an observer presses one or both of the substrates 101 and 102 with a finger or the like, the particulate spacer 108 is deformed by its elasticity, and the columnar spacer 109 is changed to the both substrates 101 and 102. The two substrates 101 and 102 are supported by contacting the inner surface of the substrate. Accordingly, the change in the substrate interval can be reduced, and the display stability is improved.
Further, since the particulate spacer 108 and the columnar spacer 109 are not arranged in the pixel, display quality is improved.

次に、柱状スペーサ109に粒子状スペーサ108が埋め込まれて形成されたスペーサ部の製造方法について、図3を参照して説明する。   Next, a manufacturing method of the spacer portion formed by embedding the particulate spacer 108 in the columnar spacer 109 will be described with reference to FIG.

まず、対向基板102上に遮光膜105を形成し、続いて、カラーフィルタ104を形成する。さらに、ITO等により対向電極106を形成し、配向膜を形成し、配向処理を施して、基板202を形成する。
次に、基板202の上に、図3(a)に示すように、感光性樹脂201を滴下する。次に、スピンコートを行って、図3(b)に示すように、厚さが均一な感光性樹脂層203を形成する。なお、感光性樹脂層203を基板202上に形成する手段はスピンコートには限定されない。スリットコート、ロールコート等の公知の塗布方法を選択することもできる。
First, the light shielding film 105 is formed on the counter substrate 102, and then the color filter 104 is formed. Further, the counter electrode 106 is formed of ITO or the like, an alignment film is formed, and an alignment process is performed to form the substrate 202.
Next, as shown in FIG. 3A, a photosensitive resin 201 is dropped on the substrate 202. Next, spin coating is performed to form a photosensitive resin layer 203 having a uniform thickness as shown in FIG. Note that means for forming the photosensitive resin layer 203 on the substrate 202 is not limited to spin coating. A known coating method such as slit coating or roll coating can also be selected.

次に、ビーズスペーサからなる粒子状スペーサ108を未硬化の感光性樹脂層203上に散布する。さらに、散布した粒子状スペーサ108を、押圧する等して、図3(c)に示すように、感光性樹脂層203に埋め込ませる。続いて、感光性樹脂層203を乾燥・硬化させて、基板202上に粒子状スペーサ108を固定する(図3(d))。   Next, particulate spacers 108 made of bead spacers are dispersed on the uncured photosensitive resin layer 203. Further, the dispersed particulate spacers 108 are pressed into the photosensitive resin layer 203 as shown in FIG. Subsequently, the photosensitive resin layer 203 is dried and cured to fix the particulate spacers 108 on the substrate 202 (FIG. 3D).

次に、柱状スペーサ109を形成する予定領域以外を遮光するパターンが形成されたマスクを用意する。例えば、実施形態1では、TFT基板101の薄膜トランジスタ110に対応する部分(そのうち柱状スペーサ109を形成する予定位置)以外を遮光するパターンが形成されたマスクを用意する。また、実施形態2では、TFT基板101の走査線111に対応する部分(そのうち柱状スペーサ109を形成する予定位置)以外を遮光するパターンが形成されたマスクを用意する。   Next, a mask on which a pattern that shields light other than the region where the columnar spacer 109 is to be formed is prepared. For example, in the first embodiment, a mask on which a light-shielding pattern is formed except for a portion corresponding to the thin film transistor 110 of the TFT substrate 101 (a position where the columnar spacer 109 is to be formed) is prepared. In the second embodiment, a mask on which a light-shielding pattern is formed except for a portion corresponding to the scanning line 111 of the TFT substrate 101 (a position where the columnar spacer 109 is to be formed) is prepared.

続いて、用意したマスクで感光性樹脂層203を覆って、感光性樹脂層203に紫外線を照射する。この紫外線の照射により、感光性樹脂層203の柱状スペーサ109に対応する部分の光硬化型樹脂が重合し硬化する。その後、図3(e)に示すように、未硬化の感光性樹脂層203を除去することにより、柱状スペーサ109に粒子状スペーサ108が埋め込まれたスペーサ部が形成される。   Subsequently, the photosensitive resin layer 203 is covered with a prepared mask, and the photosensitive resin layer 203 is irradiated with ultraviolet rays. By this ultraviolet irradiation, a portion of the photocurable resin corresponding to the columnar spacer 109 of the photosensitive resin layer 203 is polymerized and cured. Thereafter, as shown in FIG. 3E, by removing the uncured photosensitive resin layer 203, a spacer portion in which the particulate spacer 108 is embedded in the columnar spacer 109 is formed.

尚、対向基板102の上に、スペーサ部を形成する場合ついて述べたが、これに限らず、スペーサ部を、薄膜トランジスタ等が形成されるTFT基板101の上に形成しても良い。   Although the case where the spacer portion is formed on the counter substrate 102 has been described, the present invention is not limited to this, and the spacer portion may be formed on the TFT substrate 101 on which a thin film transistor or the like is formed.

上述したスペーサ部の製造方法によれば、スペーサ部を形成する工程が、透明基板101、102のうちのいずれか一方の透明基板上に、柱状スペーサを形成するための樹脂層203を形成する樹脂層形成工程と、樹脂層203の上に樹脂層の層厚よりも大きい径を持ち、透明基板間101,102に封入される液晶107の層厚を予め定めた厚さに規定するための粒子状スペーサ108を散布し、樹脂層203に埋め込むスペーサ散布工程と、樹脂層203を柱状スペーサ109に対応する形状に硬化させて、粒子状スペーサ108を基板に固定するスペーサ固着工程と、樹脂層203の柱状スペーサ109に対応する部分以外の不要な部分を除去して、粒子状スペーサ108の径よも低い柱状スペーサ109を形成する柱状スペーサ形成工程とを有するので、単純な工程によりスペーサ部を形成することができる。   According to the spacer part manufacturing method described above, the step of forming the spacer part is to form the resin layer 203 for forming the columnar spacer on one of the transparent substrates 101 and 102. Particles for defining the layer thickness of the liquid crystal 107 having a diameter larger than the layer thickness of the resin layer on the resin layer 203 and sealed between the transparent substrates 101 and 102 to a predetermined thickness in the layer forming step A spacer spraying step of spraying the spacers 108 and embedding them in the resin layer 203; a spacer fixing step of fixing the particulate spacers 108 to the substrate by curing the resin layer 203 into a shape corresponding to the columnar spacers 109; The columnar spacer is formed by removing unnecessary portions other than the portion corresponding to the columnar spacer 109 and forming the columnar spacer 109 having a diameter smaller than that of the particulate spacer 108. Because it has an extent, it is possible to form the spacer portion by a simple process.

また、上述したスペーサ部を形成する工程では、樹脂層203は感光性樹脂から構成され、スペーサ固着工程は、所定の遮光パターンを有する遮光マスクで樹脂層203を覆って紫外線を照射して樹脂層203を硬化させる工程から構成され、不要樹脂層除去工程は、樹脂層203の未硬化の樹脂を除去する工程から構成されている。このため、単純な工程によりスペーサ部を形成することができる。   Further, in the step of forming the spacer portion described above, the resin layer 203 is made of a photosensitive resin, and in the spacer fixing step, the resin layer 203 is covered with a light shielding mask having a predetermined light shielding pattern and irradiated with ultraviolet rays, and the resin layer 203 203 includes a step of curing 203, and the unnecessary resin layer removing step includes a step of removing uncured resin of the resin layer 203. For this reason, the spacer portion can be formed by a simple process.

次に、柱状スペーサ109に粒子状スペーサ108が埋め込まれた構成のスペーサ部を製造する他の製造方法を図4を参照して説明する。   Next, another manufacturing method for manufacturing the spacer portion in which the particulate spacer 108 is embedded in the columnar spacer 109 will be described with reference to FIG.

この製造方法では、透明基板102上に遮光膜105、カラーフィルタ104、及び対向電極106が形成された基板202を用意する。次に、基板202の上に、図4(a)に示すように、インクジェット装置のノズル301から、接着樹脂302を、基板上202の柱状スペーサ109に対応する部分に塗布する。即ち、画素ごとに、薄膜トランジスタ110の上または、走査線111の上に、柱状スペーサ109を形成する形状に、樹脂302を塗布する。前記インクジェット装置は図示しないコンピュータで制御されているので、プログラムされた基板上202の位置に樹脂302を塗布することができる。   In this manufacturing method, a substrate 202 having a light shielding film 105, a color filter 104, and a counter electrode 106 formed on a transparent substrate 102 is prepared. Next, as shown in FIG. 4A, an adhesive resin 302 is applied on the substrate 202 from a nozzle 301 of the ink jet apparatus to a portion corresponding to the columnar spacer 109 on the substrate 202. That is, the resin 302 is applied in a shape for forming the columnar spacer 109 on the thin film transistor 110 or the scanning line 111 for each pixel. Since the inkjet apparatus is controlled by a computer (not shown), the resin 302 can be applied to the programmed position on the substrate 202.

樹脂302が塗布された基板202の上に、ビーズスペーサからなる粒子状スペーサ108を散布する。次に、図4(b)に示すように、散布した粒子状スペーサ108を柱状スペーサ109に埋め込む。そして、樹脂302を乾燥・硬化させ、その後に、基板202を洗浄して余分な粒子状スペーサ108(基板202に固定されていない粒子状スペーサ108)を除去することによって、図4(c)に示すように、粒子状スペーサ108が柱状スペーサ109に埋め込まれた構成のスペーサ部が形成される。   Particulate spacers 108 made of bead spacers are dispersed on the substrate 202 on which the resin 302 is applied. Next, as shown in FIG. 4B, the dispersed particulate spacers 108 are embedded in the columnar spacers 109. Then, the resin 302 is dried and cured, and then the substrate 202 is washed to remove excess particulate spacers 108 (particulate spacers 108 not fixed to the substrate 202). As shown, a spacer portion in which the particulate spacer 108 is embedded in the columnar spacer 109 is formed.

尚、スペーサ部を対向基板102の上に形成する場合について述べたが、これに限らず、スペーサ部を、TFT基板101の上に形成しても良い。   Although the case where the spacer portion is formed on the counter substrate 102 has been described, the present invention is not limited to this, and the spacer portion may be formed on the TFT substrate 101.

上述したスペーサ部の他の製造方法によれば、スペーサ部を形成する工程が、一方の透明基板101と他方の透明基板102のいずれか一方の基板上の予め定めた位置に、柱状スペーサを形成するための樹脂302を塗布する樹脂塗布工程と、塗布された未硬化の樹脂302上に、樹脂層の層厚よりも大きい径を持ち、透明基板101,102間に封入される液晶107の層厚を予め定めた厚さに規定するための粒子状スペーサ108を散布し、樹脂中に散布した粒子状スペーサを埋め込むスペーサ散布工程と、樹脂を硬化させて、粒子状スペーサを第1の基板に固定するとともに、粒子状スペーサの径よりも低い高さの柱状スペーサを形成する柱状スペーサ形成工程と、粒子状スペーサが散布された基板を洗浄して、柱状スペーサによって固定されていない粒子状スペーサを除去する不要ビーズ除去工程とを有している。従って、単純な工程によりスペーサ部を形成することができる。   According to the other manufacturing method of the spacer portion described above, the step of forming the spacer portion forms the columnar spacer at a predetermined position on one of the one transparent substrate 101 and the other transparent substrate 102. A resin coating step of applying a resin 302 for the purpose of performing the process, and a layer of liquid crystal 107 having a diameter larger than the thickness of the resin layer on the applied uncured resin 302 and sealed between the transparent substrates 101 and 102 Dispersing the particulate spacers 108 for defining the thickness to a predetermined thickness, embedding the particulate spacers dispersed in the resin, curing the resin, and the particulate spacers on the first substrate The columnar spacer forming step of fixing and forming a columnar spacer having a height lower than the diameter of the particulate spacer, and cleaning the substrate on which the particulate spacer is dispersed, And a required bead removal step of removing the particulate spacers are not constant. Therefore, the spacer portion can be formed by a simple process.

また、樹脂塗布工程を、インクジェット装置を用いて、樹脂を前記一方の基板の所望の位置に塗布して行うので、単純な工程によりスペーサ部を形成することができる。   In addition, since the resin application process is performed by applying the resin to a desired position of the one substrate using an inkjet apparatus, the spacer portion can be formed by a simple process.

尚、TFT基板101と対向基板102の全面に配向膜を形成する例を示したが、例えば、画素電極103と対向電極106の上のみに配向膜を配置したり、一方の基板側にのみ配向膜を配置する等してもよい。   Although an example in which an alignment film is formed on the entire surface of the TFT substrate 101 and the counter substrate 102 has been shown, for example, an alignment film is disposed only on the pixel electrode 103 and the counter electrode 106, or only on one substrate side. A film may be arranged.

本発明の実施形態1の液晶表示素子を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the liquid crystal display element of Embodiment 1 of this invention. 本発明の実施形態2の液晶表示素子を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the liquid crystal display element of Embodiment 2 of this invention. 液晶表示素子におけるスペーサ部の製造方法を示す概略工程図である。It is a schematic process drawing which shows the manufacturing method of the spacer part in a liquid crystal display element. 液晶表示素子におけるスペーサ部の他の製造方法示す概略工程図である。It is a schematic process drawing which shows the other manufacturing method of the spacer part in a liquid crystal display element.

符号の説明Explanation of symbols

1・・・液晶表示素子、101・・・透明基板(TFT基板)、102・・・透明基板(対向基板)、103・・・画素電極、104・・・カラーフィルタ、105・・・遮光膜、106・・・対向電極、107・・・液晶、108・・・粒子状スペーサ、109・・・柱状スペーサ、110・・・薄膜トランジスタ、111・・・走査線、201・・・感光性樹脂、203・・・感光性樹脂層、301・・・ノズル、302・・樹脂、   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Liquid crystal display element, 101 ... Transparent substrate (TFT substrate), 102 ... Transparent substrate (counter substrate), 103 ... Pixel electrode, 104 ... Color filter, 105 ... Light shielding film 106 ... Counter electrode, 107 ... Liquid crystal, 108 ... Particulate spacer, 109 ... Columnar spacer, 110 ... Thin film transistor, 111 ... Scanning line, 201 ... Photosensitive resin, 203 ... photosensitive resin layer, 301 ... nozzle, 302 ... resin,

Claims (7)

透明電極が形成された第1の基板と、
前記第1の基板の前記透明電極が形成された面に対向させて配置され、複数の画素電極と各画素電極にそれぞれ接続された薄膜トランジスタと該薄膜トランジスタに接続された配線とが形成された第2の基板と、
前記第1の基板の内面と前記第2の基板の内面との間に封入された液晶と、
前記第1の基板と前記第2の基板との間に配置され、前記第1の基板の内面と前記第2の基板の内面間の予め定めた間隙よりも低く、前記第1の基板又は前記第2の基板が変形されたときに前記第1の基板の内面と前記第2の基板の内面に当接する高さに形成された柱状スペーサと、
前記柱状スペーサの内部に一部が埋め込まれて配置され、前記柱状スペーサの高さよりも大きい径を有し、前記第1の基板と前記第2の基板との間に封入される液晶の層厚を予め定めた厚さに規定するために、前記第1の基板の内面と前記第2の基板の内面に当接する粒子状スペーサと、
を備えることを特徴とする液晶表示素子。
A first substrate on which a transparent electrode is formed;
A second substrate disposed opposite to the surface of the first substrate on which the transparent electrode is formed, and a plurality of pixel electrodes, a thin film transistor connected to each pixel electrode, and a wiring connected to the thin film transistor; A substrate of
Liquid crystal sealed between the inner surface of the first substrate and the inner surface of the second substrate;
The first substrate or the second substrate is disposed between the first substrate and the second substrate, and is lower than a predetermined gap between the inner surface of the first substrate and the inner surface of the second substrate. Columnar spacers formed at a height that abuts against the inner surface of the first substrate and the inner surface of the second substrate when the second substrate is deformed;
A thickness of a liquid crystal layer that is partly embedded inside the columnar spacer, has a diameter larger than the height of the columnar spacer, and is sealed between the first substrate and the second substrate. To a predetermined thickness, particulate spacers that contact the inner surface of the first substrate and the inner surface of the second substrate,
A liquid crystal display element comprising:
前記粒子状スペーサは、プラスティックから形成されたビーズスペーサから構成され、前記第1の基板の内面と、前記薄膜トランジスタに対応する前記第2の基板の内面に接していることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示素子。   2. The particulate spacer is formed of a bead spacer made of plastic, and is in contact with an inner surface of the first substrate and an inner surface of the second substrate corresponding to the thin film transistor. A liquid crystal display element according to 1. 前記粒子状スペーサは、プラスティックから形成されたビーズスペーサから構成され、前記第1の基板の内面と、前記配線に対応する前記第2の基板の内面に接していることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示素子。   2. The particulate spacer is composed of a bead spacer formed of plastic, and is in contact with an inner surface of the first substrate and an inner surface of the second substrate corresponding to the wiring. A liquid crystal display element according to 1. それぞれ電極が形成された第1の基板と第2の基板とを、互いの間隙を規定するスペーサ部を介して対向配置し、前記第1の基板と前記第2の基板との間の間隙に液晶を封入して液晶表示素子を製造する液晶表示素子の製造方法において、
前記スペーサ部を形成する工程は、
前記第1の基板と前記第2の基板とのいずれか一方の基板の上に、柱状スペーサを形成するための樹脂層を形成する樹脂層形成工程と、
前記樹脂層の上に前記樹脂層の層厚よりも大きい径を持ち、前記第1の基板と前記第2の基板との間に封入される液晶の層厚を予め定めた厚さに規定するための粒子状スペーサを散布し、前記樹脂層に埋め込むスペーサ散布工程と、
前記樹脂層を柱状スペーサに対応する形状に硬化させて、前記粒子状スペーサを基板に固定するスペーサ固着工程と、
前記樹脂層の前記柱状スペーサに対応する部分以外の不要な部分を除去して、前記粒子状スペーサの径よも低い高さの柱状スペーサを形成する柱状スペーサ形成工程と、
を有する、
ことを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
The first substrate and the second substrate on which electrodes are respectively formed are arranged to face each other via a spacer portion that defines a gap between the first substrate and the second substrate, and the gap is defined between the first substrate and the second substrate. In a method for manufacturing a liquid crystal display element in which liquid crystal is sealed to manufacture a liquid crystal display element,
The step of forming the spacer portion includes
A resin layer forming step of forming a resin layer for forming columnar spacers on one of the first substrate and the second substrate;
The liquid crystal layer having a diameter larger than the thickness of the resin layer on the resin layer, and the thickness of the liquid crystal sealed between the first substrate and the second substrate is defined to a predetermined thickness. For dispersing the particulate spacers for embedding in the resin layer,
A step of fixing the resin layer to a shape corresponding to the columnar spacer, and fixing the particulate spacer to the substrate;
A columnar spacer forming step of removing a columnar spacer having a height lower than the diameter of the particulate spacer by removing unnecessary portions other than the portion corresponding to the columnar spacer of the resin layer;
Having
A method for producing a liquid crystal display element.
前記樹脂層は感光性樹脂から構成され、
前記スペーサ固着工程は、所定の遮光パターンを有する遮光マスクで前記樹脂層を覆って、紫外線を照射して前記樹脂層を硬化させる硬化工程と、前記硬化工程実行後、前記樹脂層の未硬化の部分を除去する工程と、を備える、
ことを特徴とする請求項4に記載の液晶表示素子の製造方法。
The resin layer is composed of a photosensitive resin,
The spacer fixing step includes a curing step of covering the resin layer with a light-shielding mask having a predetermined light-shielding pattern and irradiating ultraviolet rays to cure the resin layer, and after performing the curing step, the resin layer is uncured Removing the portion, and
The method for producing a liquid crystal display element according to claim 4.
それぞれ電極が形成された第1の基板と第2の基板とを、互いの間隙を規定するスペーサ部を介して対向配置し、前記第1の基板と前記第2の基板との間の間隙に液晶を封入して液晶表示素子を製造する液晶表示素子の製造方法において、
前記スペーサ部を形成する工程は、
前記第1の基板と前記第2の基板の一方の基板の上の予め定めた位置に、柱状スペーサを形成するための樹脂を塗布する樹脂塗布工程と、
塗布された前記未硬化の樹脂上に、塗布された樹脂の層厚よりも大きい径を持ち、前記第1の基板と前記第2の基板間に封入される液晶の層厚を予め定めた厚さに規定するための粒子状スペーサを散布し、前記樹脂中に前記粒子状スペーサを埋め込むスペーサ散布工程と、
前記樹脂を硬化させて、前記粒子状スペーサを前記第1の基板に固定するとともに、前記粒子状スペーサの径よりも低い高さの柱状スペーサを形成する柱状スペーサ形成工程と、
前記粒子状スペーサが散布された基板を洗浄して、前記柱状スペーサによって固定されていない前記粒子状スペーサを除去する不要ビーズ除去工程と、
を有することを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
The first substrate and the second substrate on which electrodes are respectively formed are arranged to face each other via a spacer portion that defines a gap between the first substrate and the second substrate, and the gap is defined between the first substrate and the second substrate. In a method for manufacturing a liquid crystal display element in which liquid crystal is sealed to manufacture a liquid crystal display element,
The step of forming the spacer portion includes
A resin application step of applying a resin for forming a columnar spacer at a predetermined position on one of the first substrate and the second substrate;
A predetermined thickness of a liquid crystal layer having a diameter larger than the applied resin layer thickness on the applied uncured resin and sealed between the first substrate and the second substrate. Scattering the particulate spacer for prescribing, and a spacer dispersing step of embedding the particulate spacer in the resin,
A columnar spacer forming step of curing the resin and fixing the particulate spacer to the first substrate, and forming a columnar spacer having a height lower than the diameter of the particulate spacer;
An unnecessary bead removing step of cleaning the substrate on which the particulate spacers are dispersed and removing the particulate spacers not fixed by the columnar spacers;
A method for producing a liquid crystal display element, comprising:
前記樹脂塗布工程は、インクジェット装置を用いて、樹脂を前記一方の基板の所望の位置に塗布して行うことを特徴とする請求項6に記載の液晶表示素子の製造方法。   The method for manufacturing a liquid crystal display element according to claim 6, wherein the resin application step is performed by applying a resin to a desired position of the one substrate using an inkjet device.
JP2008323010A 2008-12-18 2008-12-18 Liquid crystal display element and manufacturing method thereof Pending JP2010145756A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008323010A JP2010145756A (en) 2008-12-18 2008-12-18 Liquid crystal display element and manufacturing method thereof

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008323010A JP2010145756A (en) 2008-12-18 2008-12-18 Liquid crystal display element and manufacturing method thereof

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2010145756A true JP2010145756A (en) 2010-07-01
JP2010145756A5 JP2010145756A5 (en) 2011-11-24

Family

ID=42566254

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008323010A Pending JP2010145756A (en) 2008-12-18 2008-12-18 Liquid crystal display element and manufacturing method thereof

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2010145756A (en)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2019039213A1 (en) * 2017-08-23 2019-02-28 デクセリアルズ株式会社 Spacer-containing tape
WO2019103533A1 (en) * 2017-11-24 2019-05-31 주식회사 엘지화학 Method for manufacturing substrate
US10712596B2 (en) 2013-08-02 2020-07-14 Samsung Display Co., Ltd. Liquid crystal display
CN112673309A (en) * 2018-11-19 2021-04-16 株式会社Lg化学 Substrate
JP2022107602A (en) * 2017-08-23 2022-07-22 デクセリアルズ株式会社 Spacer-containing tape

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1062789A (en) * 1996-08-23 1998-03-06 Sharp Corp Liquid crystal display device and its production
JP2000137229A (en) * 1998-11-04 2000-05-16 Hitachi Ltd Liquid crystal display device
JP2000267119A (en) * 1999-03-18 2000-09-29 Advanced Display Inc Liquid crystal display device and its production
JP2000275654A (en) * 1999-03-24 2000-10-06 Hitachi Ltd Liquid crystal display device and its production
JP2001083906A (en) * 1999-09-09 2001-03-30 Canon Inc Spacer forming method, color filter having spacer and its manufacture, and liquid crystal element using color filter
JP2002148636A (en) * 2000-11-13 2002-05-22 Casio Comput Co Ltd Liquid crystal display device and method for manufacturing the same
JP2006323110A (en) * 2005-05-18 2006-11-30 Sharp Corp Method for forming three-dimensional structure, method for forming spacer for liquid crystal display element using this forming method, transparent substrate with three-dimensional structure, and uv irradiation system
JP2006330031A (en) * 2005-05-23 2006-12-07 Sanyo Epson Imaging Devices Corp Liquid crystal display, manufacturing method of liquid crystal display and electronic device

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1062789A (en) * 1996-08-23 1998-03-06 Sharp Corp Liquid crystal display device and its production
JP2000137229A (en) * 1998-11-04 2000-05-16 Hitachi Ltd Liquid crystal display device
JP2000267119A (en) * 1999-03-18 2000-09-29 Advanced Display Inc Liquid crystal display device and its production
JP2000275654A (en) * 1999-03-24 2000-10-06 Hitachi Ltd Liquid crystal display device and its production
JP2001083906A (en) * 1999-09-09 2001-03-30 Canon Inc Spacer forming method, color filter having spacer and its manufacture, and liquid crystal element using color filter
JP2002148636A (en) * 2000-11-13 2002-05-22 Casio Comput Co Ltd Liquid crystal display device and method for manufacturing the same
JP2006323110A (en) * 2005-05-18 2006-11-30 Sharp Corp Method for forming three-dimensional structure, method for forming spacer for liquid crystal display element using this forming method, transparent substrate with three-dimensional structure, and uv irradiation system
JP2006330031A (en) * 2005-05-23 2006-12-07 Sanyo Epson Imaging Devices Corp Liquid crystal display, manufacturing method of liquid crystal display and electronic device

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10712596B2 (en) 2013-08-02 2020-07-14 Samsung Display Co., Ltd. Liquid crystal display
WO2019039213A1 (en) * 2017-08-23 2019-02-28 デクセリアルズ株式会社 Spacer-containing tape
JP2019039994A (en) * 2017-08-23 2019-03-14 デクセリアルズ株式会社 Spacer-containing tape
US11327368B2 (en) 2017-08-23 2022-05-10 Dexerials Corporation Spacer-containing tape
JP7066998B2 (en) 2017-08-23 2022-05-16 デクセリアルズ株式会社 Spacer-containing tape
JP2022107602A (en) * 2017-08-23 2022-07-22 デクセリアルズ株式会社 Spacer-containing tape
JP7260829B2 (en) 2017-08-23 2023-04-19 デクセリアルズ株式会社 spacer containing tape
US11796865B2 (en) 2017-08-23 2023-10-24 Dexerials Corporation Spacer-containing tape
WO2019103533A1 (en) * 2017-11-24 2019-05-31 주식회사 엘지화학 Method for manufacturing substrate
US11740551B2 (en) 2017-11-24 2023-08-29 Lg Chem, Ltd. Method for producing substrate
CN112673309A (en) * 2018-11-19 2021-04-16 株式会社Lg化学 Substrate

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4602309B2 (en) Display device manufacturing method and mold used therefor
WO2016033841A1 (en) Liquid crystal display panel structure and method of fabricating same
JP4987422B2 (en) Display device and manufacturing method thereof
JP4601269B2 (en) Liquid crystal display device and manufacturing method thereof
KR20160099069A (en) Display device
WO2017173672A1 (en) Liquid crystal display panel and cell processing method thereof
JP5464638B2 (en) Display element
JP6749075B2 (en) Liquid crystal display device and method of manufacturing liquid crystal display device
JPH11125826A (en) Liquid crystal display device and its production
KR102535820B1 (en) Imprint lithograhy method, substrate manufactured by the method, master template for imprint, wire grid polarizer manufactured using the master template and display substrate having the same
JP2010145756A (en) Liquid crystal display element and manufacturing method thereof
JP2002229040A (en) Liquid crystal display element, and method of manufacturing the liquid crystal display element
KR20050001942A (en) Mother glass substrate for liquid crystal display device
KR101374892B1 (en) Liquid crystal display device and manufacturing method of the same
US10962824B2 (en) Color filter substrate, method of producing the same, and display panel
JP2010145756A5 (en)
JP2015036712A (en) Manufacturing method of liquid crystal display panel
JP2007213059A (en) Method for assembling panel for liquid crystal display
JP6035081B2 (en) Liquid crystal display
TW202032229A (en) Display apparatus
JP2001133791A (en) Liquid crystal display device
JP2015036721A (en) Liquid crystal display panel, and manufacturing method of liquid crystal display panel
KR100701669B1 (en) Method for fabricating color filter substrate in liquid crystal display panel
US20160370619A1 (en) Display panel and method for fabricating the same
KR102019347B1 (en) Liquid crystal display device and fabricating method thereof

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Written amendment

Effective date: 20111007

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20111007

A977 Report on retrieval

Effective date: 20120928

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20121002

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20130212