[go: up one dir, main page]
More Web Proxy on the site http://driver.im/

JP2010026507A - Local heating device - Google Patents

Local heating device Download PDF

Info

Publication number
JP2010026507A
JP2010026507A JP2009146624A JP2009146624A JP2010026507A JP 2010026507 A JP2010026507 A JP 2010026507A JP 2009146624 A JP2009146624 A JP 2009146624A JP 2009146624 A JP2009146624 A JP 2009146624A JP 2010026507 A JP2010026507 A JP 2010026507A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
surface side
substrate
heating
unit
side heating
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2009146624A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hiroshige Makioka
廣茂 牧岡
Hidetsugu Kawai
英嗣 河合
Hitoshi Inui
仁史 乾
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sharp Corp filed Critical Sharp Corp
Priority to JP2009146624A priority Critical patent/JP2010026507A/en
Publication of JP2010026507A publication Critical patent/JP2010026507A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Optical Filters (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a local heating device of reducing production cost and a production time, and uniformly drying a coating liquid or a thermosetting member without imparting excessive stress to a substrate. <P>SOLUTION: This local heating device has: an upper face side heating unit 70a for heating the substrate 20 from the upper face in a non-contact state with the substrate 20; a lower face side heating unit 70b for heating the substrate 20 from the lower face in a contact state with the substrate 20 or in an approximate state thereto; a height adjustment unit vertically moving the substrate 20 in the contact state with the lower face of the substrate 20 to set it in reference height; a moving unit positioning the upper face side heating unit 70a and the lower face side heating unit 70b in a local position that is a heating target of the substrate 20; and a control unit performing control such that height of the upper face side heating unit 70a has a prescribed interval to the reference height of the substrate 20. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、基板上に局所的に形成された塗布液または熱硬化性の部材を、加熱して乾燥させることにより、膜を形成させる局所加熱装置に関する。   The present invention relates to a local heating apparatus that forms a film by heating and drying a coating solution or a thermosetting member locally formed on a substrate.

従来から、基板上に塗布液または塗布した熱硬化性の部材を乾燥させることによって、膜を形成させる技術は、多くの生産装置で利用されている。近年、塗布液を乾燥させることによって、基板上の任意の場所に膜を形成させるパターニング技術が注目されている。この技術には、ディスペンサやインクジェットを用いたものがある。これらは、従来のフォトリソグラフィによる、真空プロセスを用いたパターン生成方法に代わり、脱真空プロセスが使用可能な技術として注目が高まっている。   Conventionally, a technique for forming a film by drying a coating solution or a thermosetting member coated on a substrate has been used in many production apparatuses. In recent years, a patterning technique for forming a film at an arbitrary position on a substrate by drying a coating liquid has attracted attention. This technique uses a dispenser or an ink jet. These techniques are attracting attention as technologies that can use a vacuum removal process instead of a pattern generation method using a vacuum process by conventional photolithography.

たとえば、インクジェットによるパターニング技術を用いた生産装置としては、カラーフィルタ(CF)パネルを生産する装置がある。この装置では、赤色(R)、緑色(G)および青色(B)の各色からなるインクを、ガラス基板上に形成されているRGB用画素領域内に着弾させる。そして、各画素を埋めることによって、カラーフィルタ(CF)が形成される。ここで、画素領域内に塗布されたインクは、オーブンなどによって基板全体が加熱されることによって、乾燥されて膜を形成する。   For example, as a production apparatus using an inkjet patterning technique, there is an apparatus for producing a color filter (CF) panel. In this apparatus, ink composed of each color of red (R), green (G), and blue (B) is landed in an RGB pixel region formed on a glass substrate. Then, a color filter (CF) is formed by filling each pixel. Here, the ink applied in the pixel region is dried to form a film by heating the entire substrate by an oven or the like.

パターニング技術は、全面印刷技術としてのみならず、混色または、夾雑物の混入もしくは付着等の欠陥部を修復するための技術としても広く用いられている。たとえば、カラーフィルタ(CF)パネルにおいて、インクの混色が発生した欠陥画素または夾雑物が混入した欠陥画素の場合である。この場合、欠陥画素のインク層膜を除去した後、除去部分に再度インクを塗布して、加熱して乾燥させることによって画素を再形成する。   The patterning technique is widely used not only as a full-surface printing technique but also as a technique for repairing a defective portion such as color mixing or mixing or adhesion of impurities. For example, in a color filter (CF) panel, a defective pixel in which color mixing of ink has occurred or a defective pixel in which impurities are mixed. In this case, after removing the ink layer film of the defective pixel, the ink is again applied to the removed portion, and the pixel is re-formed by heating and drying.

オーブンまたはホットプレートなどで基板全体を加熱することにより、塗布したインクを乾燥させる方法を開示した先行文献として特許文献1がある。基板全体を加熱する場合、専用の大型加熱装置や耐熱性に優れた搬送ロボットが必要である。また、加熱された基板を次工程に進めるために、冷却する場所や時間も必要となる。そのため、製造コストの増加および製造時間が長くなるといった問題があった。   Patent Document 1 discloses a prior art document that discloses a method of drying an applied ink by heating the entire substrate with an oven or a hot plate. When heating the entire substrate, a dedicated large heating device or a transfer robot with excellent heat resistance is required. Moreover, in order to advance the heated substrate to the next process, a place and time for cooling are also required. For this reason, there are problems such as an increase in manufacturing cost and a longer manufacturing time.

特に、加熱して乾燥させる場所が少ない場合は、局所的に加熱して乾燥させる方が、製造コストおよび製造時間を削減することができる。そのため、インクを塗布した部分だけを、局所的に加熱して乾燥させる技術への期待は高い。   In particular, when there are few places to heat and dry, manufacturing cost and manufacturing time can be reduced by locally heating and drying. For this reason, there is a high expectation for a technique in which only the portion where the ink is applied is locally heated and dried.

局所的に加熱して乾燥させる方法としては、ホットプレートなどで使用される発熱体を基板に近接させて、乾燥させる方法が考えられる。それ以外にも、レーザーまたは赤外ランプ(赤外ヒータ)あるいはハロゲンヒータなどを用いて、基板を加熱する方法を開示した先行文献として、特許文献2、特許文献3または特許文献4がある。   As a method of locally heating and drying, a method of drying by bringing a heating element used in a hot plate or the like close to the substrate can be considered. In addition, Patent Literature 2, Patent Literature 3 or Patent Literature 4 is a prior art document that discloses a method of heating a substrate using a laser, an infrared lamp (infrared heater), a halogen heater, or the like.

さらに、基板の上下両面から加熱する方法として、熱風を吹き付ける方法、あるいは、ヒータなどで加熱する方法を開示した先行文献として、特許文献5または特許文献6がある。カラーフィルタ(CF)の修正方法を開示した先行文献として特許文献7がある。特許文献7には、カラーフィルタ層の欠陥部に新たなカラーフィルタ材を埋め込み、加熱された部材をその欠陥部に上方から接近させて、カラーフィルタ材を硬化させる方法が開示されている。   Furthermore, as a method of heating from both the upper and lower surfaces of the substrate, there is Patent Document 5 or Patent Document 6 as a prior document disclosing a method of blowing hot air or a method of heating with a heater or the like. Patent Document 7 is a prior document disclosing a method for correcting a color filter (CF). Patent Document 7 discloses a method in which a new color filter material is embedded in a defective portion of a color filter layer, and a heated member is brought close to the defective portion from above to cure the color filter material.

基板を加熱する装置には、電子回路基板に半田付けするためのリフロー装置もある。リフロー装置には、冷却風を基板に吹き付ける機構、または、加熱後の熱風を回収する機構が設けられているものもある。このようなリフロー装置またはリフロー方法を開示した先行文献として、特許文献8から12がある。特許文献8に開示された半田付け方法では、半田を熱風で溶融して半田付けすると共に、基板の電子回路側に熱風が拡散するのを防止するために、冷却風を吹き付けている。   An apparatus for heating a substrate includes a reflow apparatus for soldering to an electronic circuit board. Some reflow apparatuses are provided with a mechanism for blowing cooling air onto a substrate or a mechanism for collecting hot air after heating. Patent Documents 8 to 12 are prior art documents disclosing such a reflow apparatus or reflow method. In the soldering method disclosed in Patent Document 8, the solder is melted with hot air and soldered, and cooling air is blown in order to prevent the hot air from diffusing to the electronic circuit side of the substrate.

特許文献9に開示された熱風噴射型加熱装置では、基板の上方に設けた複数のノズルから熱風を吹き付けて基板を加熱している。基板に当たって方向転換した冷えた熱風を、ノズルの間に設けられた回収口から強制的に回収して、基板への熱供給の効率化を図っている。   In the hot air jet type heating device disclosed in Patent Document 9, hot air is blown from a plurality of nozzles provided above the substrate to heat the substrate. The cold hot air that has changed its direction upon hitting the substrate is forcibly recovered from a recovery port provided between the nozzles to increase the efficiency of heat supply to the substrate.

特許文献10に開示されたリフロー装置では、回路基板の下方から冷風を吹き付けることにより、回路基板の上面と下面との間に温度差を形成している。このようにして、両面実装回路基板の下面に前工程で既に半田付けされている電子部品の脱落と熱劣化とを防止している。   In the reflow apparatus disclosed in Patent Document 10, a temperature difference is formed between the upper surface and the lower surface of the circuit board by blowing cool air from below the circuit board. In this way, the electronic components that have already been soldered to the lower surface of the double-sided mounting circuit board in the previous process are prevented from falling off and being thermally deteriorated.

特許文献11に開示されたリフロー装置では、基板の一面を加熱手段により加熱しているときに、冷風を冷却プレートの冷風吹出穴から基板の他面に供給して冷却している。このようにして、その他面の実装部品を熱的に保護している。   In the reflow apparatus disclosed in Patent Document 11, when one surface of the substrate is heated by the heating means, cold air is supplied to the other surface of the substrate from the cold air blowing hole of the cooling plate to cool. In this way, the mounting components on the other surface are thermally protected.

特許文献12に開示されたリフローソルダリング装置では、プリント基板と電子部品とが、熱風ブローノズルの下を通過した後、冷風ブローノズルの下を通過する。このとき、半田ペーストが溶融された後、半田が固化される。このようにして、プリント基板に電子部品を確実に実装することができるようにしている。   In the reflow soldering device disclosed in Patent Document 12, the printed circuit board and the electronic component pass under the hot air blow nozzle and then pass under the cold air blow nozzle. At this time, after the solder paste is melted, the solder is solidified. In this way, electronic components can be reliably mounted on the printed circuit board.

特開2004−160296号公報JP 2004-160296 A 特開2004−95356号公報JP 2004-95356 A 特開2004−165140号公報JP 2004-165140 A 特開2006−224460号公報JP 2006-224460 A 特開2000−315860号公報JP 2000-315860 A 特開2005−223000号公報JP 2005-223000 A 特許第4019475号公報Japanese Patent No. 4019475 特開平6−151032号公報JP-A-6-151032 特開2002−331357号公報JP 2002-331357 A 特開2001−326455号公報JP 2001-326455 A 特開2000−357870号公報JP 2000-357870 A 特開2000−294918号公報JP 2000-294918 A

特許文献2に記載されたレーザーによる加熱方法では、加熱場所と非加熱場所の温度勾配が急であるため、基板にストレスが加わる。その結果、加熱場所近傍の機械的強度が弱くなるといった問題があった。一般的に、ランプを使用した方法では、加熱場所と非加熱場所の温度勾配はレーザーよりも緩やかになる。ただし、ランプ交換の頻度が高いため、その都度、装置を停止させなければならない。そのため、装置の操業度が低下し、生産効率が低下するといった問題がある。   In the heating method using a laser described in Patent Document 2, since the temperature gradient between the heating place and the non-heating place is steep, stress is applied to the substrate. As a result, there is a problem that the mechanical strength in the vicinity of the heating place is weakened. In general, in a method using a lamp, the temperature gradient between a heated place and an unheated place is gentler than that of a laser. However, since the frequency of lamp replacement is high, the device must be stopped each time. Therefore, there is a problem that the operation rate of the apparatus is lowered and the production efficiency is lowered.

特許文献3または特許文献4に記載されたヒータによる加熱方式では、ヒータとインク滴の隙間を狭くしないと、インクが乾燥しない。一方、隙間を狭くしすぎると、溶媒蒸気が拡散しないため、高濃度溶媒雰囲気となり、乾燥が抑制されるため、乾燥時間が長くなるといった問題がある。特許文献5および特許文献6に記載された加熱方法には、下側熱源を水平方向に移動させる機構がない。そのため、加熱対象となる基板が大きくなった場合には、加熱領域が大きくなるため、消費電力の増大および製造コストの増大という問題を有していた。   In the heating method using a heater described in Patent Document 3 or Patent Document 4, the ink does not dry unless the gap between the heater and the ink droplet is narrowed. On the other hand, if the gap is too narrow, the solvent vapor does not diffuse, resulting in a high-concentration solvent atmosphere, and drying is suppressed. The heating methods described in Patent Document 5 and Patent Document 6 do not have a mechanism for moving the lower heat source in the horizontal direction. For this reason, when the substrate to be heated becomes large, the heating region becomes large, which causes a problem of increase in power consumption and increase in manufacturing cost.

特許文献1に記載された溶媒蒸気を制御する方法において、制御部材に加熱源を搭載する構成が考えられる。特許文献1に記載された方法では、乾燥速度を均一にするため、板材に複数の穴が空けられている。局所的に塗布した液滴を乾燥させるために、これを応用しようとすると、複数の穴と塗布部との相対位置により、乾燥速度が変動するといった問題がある。特許文献1では、これを解決する手段の記載がなく、応用は困難である。   In the method for controlling solvent vapor described in Patent Document 1, a configuration in which a heating source is mounted on the control member is conceivable. In the method described in Patent Document 1, a plurality of holes are formed in the plate material in order to make the drying speed uniform. If this is applied in order to dry locally applied droplets, there is a problem that the drying speed varies depending on the relative positions of the plurality of holes and the application portion. In Patent Document 1, there is no description of means for solving this, and its application is difficult.

また、仮に、板材に加熱源を取り付け、板材が加熱器としての機能を持ったものとする。この場合、複数の穴があることにより、板材と基板との間に存在する気体(空気)を加熱できたとしても、あらゆる穴の近傍で、加熱された空気が上方に上がろうとする対流がおこる。その結果、加熱された空気が、塗布部のほうに流れるような流れが発生しにくくなり、乾燥効率が低下するといった問題もある。   Further, it is assumed that a heating source is attached to the plate material, and the plate material has a function as a heater. In this case, even if the gas (air) existing between the plate material and the substrate can be heated due to the presence of the plurality of holes, there is convection in which the heated air tends to rise upward in the vicinity of every hole. It happens. As a result, there is a problem that the flow of heated air hardly flows toward the application part, and the drying efficiency is lowered.

特許文献7に記載されたカラーフィルタの修正方法では、基板の加熱の際、欠陥部の上方のみから加熱を行なっている。この場合、カラーフィルタ材は、表面の部分から溶剤が乾燥することになる。そのため、カラーフィルタ材の表面に乾燥した膜が形成され、カラーフィルタ材の内部の溶剤の乾燥において妨げとなる。この結果、乾燥時間が長くなるといった問題がある。   In the method for correcting a color filter described in Patent Document 7, heating is performed only from above the defective portion when the substrate is heated. In this case, the solvent of the color filter material is dried from the surface portion. Therefore, a dry film is formed on the surface of the color filter material, which hinders drying of the solvent inside the color filter material. As a result, there is a problem that the drying time becomes long.

特許文献8に記載された半田付け方法では、半田が硬化しやすいため、基板を加熱する際に、冷風も同時に基板に吹き付けている。そのため、熱風の拡散を抑制することはできるが、基板上の加熱温度を所定の温度範囲に維持することが難しい。よって、基板上の塗布液または熱硬化性の部材を乾燥させる方法にこの半田付け方法を応用することは難しい。   In the soldering method described in Patent Document 8, since the solder is easily cured, when the substrate is heated, cold air is simultaneously blown onto the substrate. Therefore, although the diffusion of hot air can be suppressed, it is difficult to maintain the heating temperature on the substrate within a predetermined temperature range. Therefore, it is difficult to apply this soldering method to a method of drying a coating solution or a thermosetting member on a substrate.

特許文献9に記載された熱風噴射型加熱装置は、基板を広範囲に加熱する装置であるため、加熱された基板を搬送するために耐熱性の高い搬送系が必要となる。耐熱性を備えた搬送系は高価であり、製造コストの増加の要因となる。   Since the hot-air jet type heating device described in Patent Document 9 is a device that heats a substrate over a wide range, a transport system having high heat resistance is required to transport the heated substrate. A conveyance system having heat resistance is expensive and causes an increase in manufacturing cost.

特許文献10に記載されたリフロー装置は、基板を加熱する炉を有している。炉は、基板を収納するように形成されているため、基板が大型化すると炉も大型化する。よって、大型の基板を処理する場合には、設備コストが増大して製造コストの増加の要因となる。   The reflow apparatus described in Patent Document 10 has a furnace for heating the substrate. Since the furnace is formed so as to accommodate the substrate, when the substrate is enlarged, the furnace is also enlarged. Therefore, when processing a large substrate, the equipment cost increases, which causes an increase in manufacturing cost.

特許文献11に記載されたリフロー装置では、スリット状または多数の小穴が形成された冷却プレートが、基板搬送方向に対して直交する向きに配置されている。基板が大型化すると、大型の冷却プレートおよび多量のエアを冷却する構造も必要になる。よって、大型の基板を処理する場合には、設備コストが増大して製造コストの増加の要因となる。   In the reflow apparatus described in Patent Document 11, a cooling plate in which slits or a large number of small holes are formed is arranged in a direction orthogonal to the substrate transport direction. When the substrate is enlarged, a large cooling plate and a structure for cooling a large amount of air are required. Therefore, when processing a large substrate, the equipment cost increases, which causes an increase in manufacturing cost.

特許文献12に記載のリフローソルダリング装置では、基板を搬送しながら加熱および冷却するため、搬送系に耐熱性が必要になる。耐熱性を備えた搬送系は高価であり、製造コストの増加の要因となる。   In the reflow soldering apparatus described in Patent Document 12, heating and cooling are performed while a substrate is being transported, and thus heat resistance is required for the transport system. A conveyance system having heat resistance is expensive and causes an increase in manufacturing cost.

本発明は上記の問題点に鑑みなされたものであって、製造コストおよび製造時間を削減するとともに、基板に過剰なストレスを与えることなく、塗布液または熱硬化性の部材を均一に乾燥させることができる、局所加熱装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above problems, and reduces the manufacturing cost and the manufacturing time, and uniformly dries the coating solution or the thermosetting member without applying excessive stress to the substrate. An object of the present invention is to provide a local heating device that can perform the above-described process.

本発明に基づく局所加熱装置は、乾燥すると膜を形成する塗布液または熱硬化性の部材が少なくとも一部に形成された基板を局所的に加熱する装置である。局所加熱装置は、基板の上面から、基板に非接触な状態で加熱する上面側加熱手段と、基板の下面から、基板と接触または近接する状態で加熱する下面側加熱手段とを備えている。また、局所加熱装置は、基板の下面に接触した状態で、基板を上下に移動させて基準高さに設定する高さ調節手段と、上面側加熱手段および下面側加熱手段を基板の加熱対象となる局所位置に位置決めする移動手段を備えている。さらに、局所加熱装置は、基板の基準高さに対して、上面側加熱手段の高さが所定の間隔を有するように制御する制御手段を備えている。   The local heating device according to the present invention is a device that locally heats a substrate on which at least a part of a coating solution or a thermosetting member that forms a film when dried. The local heating device includes an upper surface side heating unit that heats the substrate from the upper surface in a non-contact state, and a lower surface side heating unit that heats the substrate from the lower surface in contact with or close to the substrate. In addition, the local heating device includes a height adjusting unit that sets the reference height by moving the substrate up and down while in contact with the lower surface of the substrate, and the upper surface side heating unit and the lower surface side heating unit are heated as the substrate. Moving means for positioning at a local position is provided. Further, the local heating apparatus includes a control unit that controls the height of the upper surface side heating unit to have a predetermined interval with respect to the reference height of the substrate.

このように構成することにより、基板上の塗布液または熱硬化性の部材を加熱する際、上面側加熱手段は基板と非接触状態で加熱する。そのため、基板上に、傷が発生または埃が付着することを防止することができる。また、下面側加熱手段は基板に接触または近接した状態で、塗布液または熱硬化性の部材を基板側から加熱するため、塗布液または熱硬化性の部材内部の溶媒を効率よく乾燥することができる。   With this configuration, when heating the coating liquid or thermosetting member on the substrate, the upper surface side heating means heats the substrate in a non-contact state. Therefore, it is possible to prevent scratches or dust from adhering to the substrate. In addition, the lower surface side heating means heats the coating solution or thermosetting member from the substrate side in contact with or close to the substrate, so that the solvent inside the coating solution or thermosetting member can be efficiently dried. it can.

本発明に基づく局所加熱装置では、下面側加熱手段が、高さ調節手段と一体として構成され、基板の下面に接触した状態で加熱を行なう下面側加熱装置を備えるようにしてもよい。この場合には、高さ調節手段を別途配置する必要がないため、装置の小型化および部品点数の削減が図れる。さらに、下面側加熱手段が、基板上の局所加熱位置の下面に接触した状態で、基準高さの設定および加熱を行なうため、より厳密に高さ条件を調節して加熱を行なうことができる。   In the local heating apparatus based on this invention, a lower surface side heating means may be comprised integrally with a height adjustment means, and you may make it provide the lower surface side heating apparatus which heats in the state which contacted the lower surface of the board | substrate. In this case, since it is not necessary to separately arrange the height adjusting means, the apparatus can be downsized and the number of parts can be reduced. Furthermore, since the reference height is set and heated while the lower surface side heating means is in contact with the lower surface of the local heating position on the substrate, the heating can be performed more precisely by adjusting the height condition.

本発明に基づく局所加熱装置では、移動手段は、上面側加熱手段および下面側加熱手段のそれぞれを独立して移動させる機構を有するようにしてもよい。この場合には、塗布液または熱硬化性の部材の特性に合わせて、上面側加熱手段および下面側加熱手段の稼動タイミングをずらせた運用が可能となる。   In the local heating device according to the present invention, the moving means may have a mechanism for independently moving the upper surface side heating means and the lower surface side heating means. In this case, an operation in which the operation timings of the upper surface side heating means and the lower surface side heating means are shifted in accordance with the characteristics of the coating solution or the thermosetting member is possible.

本発明に基づく局所加熱装置では、下面側加熱手段が、基板を吸着する手段を備えるようにしてもよい。この場合には、基板に反りなどが発生していたとしても、基板面を矯正した状態で加熱することができる。この結果、基板上の塗布液または熱硬化性の部材の加熱条件をより均一に管理することが可能となるため、乾燥後の塗布液または熱硬化性の部材の高品質化を図ることができる。   In the local heating device based on this invention, a lower surface side heating means may be provided with a means to adsorb | suck a board | substrate. In this case, even if the substrate is warped, it can be heated with the substrate surface corrected. As a result, it becomes possible to more uniformly manage the heating conditions of the coating solution or thermosetting member on the substrate, so that the quality of the coating solution or thermosetting member after drying can be improved. .

本発明に基づく局所加熱装置では、上面側加熱手段による加熱より先に下面側加熱手段による加熱を開始するようにしてもよい。この場合には、塗布液または熱硬化性の部材の基板側の部分、言い換えれば、部材のより内側から溶媒成分を乾燥させることができる。この結果、均一な膜形成が可能となるため、乾燥後の塗布液または熱硬化性の部材の品質を向上させることが可能となる。   In the local heating device based on this invention, you may make it start the heating by a lower surface side heating means before the heating by an upper surface side heating means. In this case, the solvent component can be dried from the substrate side of the coating solution or the thermosetting member, in other words, from the inside of the member. As a result, since a uniform film can be formed, the quality of the coating solution after drying or the thermosetting member can be improved.

本発明に基づく局所加熱装置では、上面側加熱手段による加熱温度より下面側加熱手段による加熱温度の方が低いようにしてもよい。この場合には、下面側加熱手段に要する電力量を削減できるため、消費電力の軽減を図ることができる。   In the local heating apparatus based on this invention, you may make it the heating temperature by a lower surface side heating means lower than the heating temperature by an upper surface side heating means. In this case, since the amount of power required for the lower surface side heating means can be reduced, the power consumption can be reduced.

本発明に基づく局所加熱装置では、上面側加熱手段および下面側加熱手段の少なくとも一方の加熱部周辺に形成したカバーと、カバー内の空気を排気する排気手段とを備えるようにしてもよい。この場合には、加熱部周辺に配置される基板搬送機構部への熱の影響を軽減することができる。その結果、基板搬送機構部の性能の劣化および部品の劣化を軽減して、ランニングコストを低下させることができる。また、加熱されることによって、塗布液または熱硬化性の部材から揮発する溶媒成分を回収することが可能となる。そのため、装置周辺での作業性の改善が図れる。   In the local heating apparatus based on this invention, you may make it provide the cover formed in the surroundings of at least one heating part of an upper surface side heating means and a lower surface side heating means, and the exhaust means which exhausts the air in a cover. In this case, it is possible to reduce the influence of heat on the substrate transport mechanism unit disposed around the heating unit. As a result, it is possible to reduce the running cost by reducing the deterioration of the performance of the board transfer mechanism and the deterioration of components. Moreover, it becomes possible to collect | recover the solvent component which volatilizes from a coating liquid or a thermosetting member by heating. Therefore, the workability around the apparatus can be improved.

本発明に基づく局所加熱装置では、上面側加熱手段および下面側加熱手段の少なくとも一方の可動領域全体に形成したカバーと、カバー内の空気を排気する排気手段とを備えるようにしてもよい。この場合には、複雑な構造とならないため、加熱部周辺にカバーを形成した場合と比べて、装置の製造コストを下げることができる。   In the local heating apparatus based on this invention, you may make it provide the cover formed in the whole movable area | region of at least one of an upper surface side heating means and a lower surface side heating means, and the exhaust means which exhausts the air in a cover. In this case, since the structure is not complicated, the manufacturing cost of the apparatus can be reduced as compared with the case where a cover is formed around the heating unit.

本発明に基づく局所加熱装置では、基板の上面から、局所位置を冷却する上面側冷却手段を備えるようにしてもよい。また、基板の下面から、局所位置を冷却する下面側冷却手段を備えるようにしてもよい。さらに、上面側冷却手段および下面側冷却手段を稼動または停止させる冷却調節部を備えるようにしてもよい。   In the local heating apparatus based on this invention, you may make it provide the upper surface side cooling means which cools a local position from the upper surface of a board | substrate. Moreover, you may make it provide the lower surface side cooling means which cools a local position from the lower surface of a board | substrate. Furthermore, you may make it provide the cooling adjustment part which operates or stops an upper surface side cooling means and a lower surface side cooling means.

このようにした場合、基板上の局所位置を加熱した後、上面側冷却手段および下面側冷却手段を稼動させて、加熱された局所位置を冷却することにより、冷却時間を短縮することができるため、基板処理時間を短縮することができる。   In such a case, after heating the local position on the substrate, the cooling time can be shortened by operating the upper surface side cooling means and the lower surface side cooling means to cool the heated local position. The substrate processing time can be shortened.

本発明に基づく局所加熱装置では、上面側加熱手段および下面側加熱手段が、上面側加熱手段および下面側加熱手段の加熱位置と比較して、それぞれ基板から離された状態で、上面側冷却手段および下面側冷却手段が、移動手段により、局所位置に位置決めされて、基板の前記局所位置を冷却するようにしてもよい。   In the local heating device according to the present invention, the upper surface side cooling means and the lower surface side heating means are respectively separated from the substrate in comparison with the heating positions of the upper surface side heating means and the lower surface side heating means. The lower surface side cooling means may be positioned at the local position by the moving means to cool the local position of the substrate.

このようにした場合、局所位置から加熱を終えた上面側加熱手段および下面側加熱手段を遠ざけた状態で、上面側冷却手段および下面側冷却手段を局所位置に接近させて、安定した冷却を行なうことができる。   In this case, with the upper surface side heating unit and the lower surface side heating unit having been heated from the local position being kept away, the upper surface side cooling unit and the lower surface side cooling unit are brought close to the local position to perform stable cooling. be able to.

本発明に基づく局所加熱装置では、上面側加熱手段および下面側加熱手段が、上面側加熱手段および下面側加熱手段の加熱位置と比較して、それぞれ基板から離され、かつ、上面側加熱手段および下面側加熱手段が局所位置に位置決めされた状態で、上面側冷却手段および下面側冷却手段が、基板の局所位置を冷却するようにしてもよい。   In the local heating device according to the present invention, the upper surface side heating unit and the lower surface side heating unit are separated from the substrate as compared with the heating positions of the upper surface side heating unit and the lower surface side heating unit, respectively, and the upper surface side heating unit and The upper surface side cooling unit and the lower surface side cooling unit may cool the local position of the substrate in a state where the lower surface side heating unit is positioned at the local position.

このようにした場合、局所位置から加熱を終えた上面側加熱手段および下面側加熱手段を遠ざけた後、上面側冷却手段および下面側冷却手段を移動することなく稼動させて、局所位置を冷却することができる。よって、加熱後すぐに冷却することができるため、基板処理時間の短縮を図ることができる。   In this case, the upper surface side heating unit and the lower surface side heating unit that have finished heating from the local position are moved away, and then the upper surface side cooling unit and the lower surface side cooling unit are operated without moving to cool the local position. be able to. Therefore, since the substrate can be cooled immediately after heating, the substrate processing time can be shortened.

本発明に基づく局所加熱装置では、上面側冷却手段および下面側冷却手段の高さを制御する高さ制御手段をさらに備えるようにしてもよい。この場合、局所位置に対して上面側冷却手段および下面側加熱手段を精度良く配置することができ、好適な冷却条件で冷却することができる。   In the local heating apparatus based on this invention, you may make it further provide the height control means which controls the height of an upper surface side cooling means and a lower surface side cooling means. In this case, the upper surface side cooling means and the lower surface side heating means can be accurately arranged with respect to the local position, and cooling can be performed under suitable cooling conditions.

本発明に基づく局所加熱装置では、断熱性を有する板状の断熱板をさらに備え、上面側加熱手段と基板との間に断熱板が挿入された状態で、上面側冷却手段および下面側冷却手段が、基板の局所位置を冷却するようにしてもよい。この場合、加熱後の上面側加熱手段の余熱が、基板に伝わることを防止することができる。よって、基板の冷却を効率よく短時間で行なうことができる。   The local heating device according to the present invention further includes a plate-like heat insulating plate having heat insulating properties, and the upper surface side cooling means and the lower surface side cooling means with the heat insulating plate inserted between the upper surface side heating means and the substrate. However, the local position of the substrate may be cooled. In this case, it is possible to prevent the residual heat of the upper surface side heating means after the heating from being transmitted to the substrate. Therefore, the substrate can be efficiently cooled in a short time.

本発明の基づく局所加熱装置では、上面側加熱手段および下面側加熱手段を複数備え、複数の上面側加熱手段および下面側加熱手段には、基板の加熱温度がそれぞれ異なるように制御する温度制御手段が設けられるようにしてもよい。この場合、基板の上面側および下面側の複数の加熱手段に加熱工程を分担させることにより、それぞれの加熱手段の負荷を軽減することができる。よって、加熱手段の寿命を延ばすことができ、加熱手段の定期的な交換およびメンテナンスに要する時間の短縮を図ることができる。   The local heating apparatus according to the present invention includes a plurality of upper surface side heating units and lower surface side heating units, and the plurality of upper surface side heating units and lower surface side heating units control temperature of the substrate to be different from each other. May be provided. In this case, it is possible to reduce the load on each heating means by sharing the heating process among the plurality of heating means on the upper surface side and the lower surface side of the substrate. Therefore, the life of the heating means can be extended, and the time required for periodic replacement and maintenance of the heating means can be shortened.

本発明によると、製造コストおよび製造時間を削減するとともに、基板に過剰なストレスを与えることなく、塗布液または熱硬化性の部材を均一に乾燥させることができる局所加熱装置を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, while reducing manufacturing cost and manufacturing time, the local heating apparatus which can dry a coating liquid or a thermosetting member uniformly can be provided, without giving an excessive stress to a board | substrate. .

本発明の実施の形態1に係る局所加熱装置の構造を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure of the local heating apparatus which concerns on Embodiment 1 of this invention. 同実施形態に係る局所加熱装置の構造を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the local heating apparatus which concerns on the same embodiment. 本発明の実施の形態2に係る局所加熱装置の構造を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the local heating apparatus which concerns on Embodiment 2 of this invention. 本発明の実施の形態3に係る局所加熱装置の構造を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the local heating apparatus which concerns on Embodiment 3 of this invention. 図4に示した実施の形態3に係る局所加熱装置において、基板の高さ調節を行なわなかった場合を示す一部断面図である。FIG. 5 is a partial cross-sectional view showing a case where the substrate height is not adjusted in the local heating device according to Embodiment 3 shown in FIG. 4. (A)は、表1の内容をグラフ化したものであり、(B)は、基板上に形成する塗布液または熱硬化性の部材の乾燥温度と乾燥時間を測定した結果を示す図である。(A) is a graph of the contents of Table 1, and (B) is a diagram showing the results of measuring the drying temperature and drying time of the coating liquid or thermosetting member formed on the substrate. . (A)は、ヒータの外観を示す模式斜視図であり、(B)は、基板を吸着させる機構を設けたヒータの構造を示す模式斜視図である。(A) is a schematic perspective view which shows the external appearance of a heater, (B) is a schematic perspective view which shows the structure of the heater provided with the mechanism to adsorb | suck a board | substrate. (A)は、基板上の塗布液または熱硬化性の部材の加熱状態を示す模式断面図であり、(B)は、上面側加熱手段による加熱を先に実施した場合の塗布液または熱硬化性の部材の加熱状態を示す模式断面図である。(A) is a schematic cross-sectional view showing the heating state of the coating liquid or thermosetting member on the substrate, and (B) is the coating liquid or thermosetting when the heating by the upper surface side heating means is performed first. It is a schematic cross section which shows the heating state of a property member. 本発明の実施の形態4に係る局所加熱装置の構造を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the local heating apparatus which concerns on Embodiment 4 of this invention. 本発明の実施の形態5に係る局所加熱装置の構造を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the local heating apparatus which concerns on Embodiment 5 of this invention. 本発明の実施の形態6に係る局所加熱装置の構造を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the local heating apparatus which concerns on Embodiment 6 of this invention. 本発明の実施の形態7に係る局所加熱装置の構造を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the local heating apparatus which concerns on Embodiment 7 of this invention. 本発明の実施の形態8に係る局所加熱装置の構造を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the local heating apparatus which concerns on Embodiment 8 of this invention. 本発明の実施の形態9に係る局所加熱装置の構造を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the local heating apparatus which concerns on Embodiment 9 of this invention. 本発明の実施の形態10に係る局所加熱装置の構造を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the local heating apparatus which concerns on Embodiment 10 of this invention. 断熱板の取付構造の一例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows an example of the attachment structure of a heat insulating board. 本発明の実施の形態11に係る局所加熱装置の構造を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the structure of the local heating apparatus which concerns on Embodiment 11 of this invention. 本発明の実施の形態12に係る局所加熱装置の構造を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the local heating apparatus which concerns on Embodiment 12 of this invention. 本発明の実施の形態13に係る局所加熱装置の構造を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the local heating apparatus which concerns on Embodiment 13 of this invention.

実施の形態1
以下、この発明に基づいた本発明の実施の形態における局所加熱装置について、図を参照しながら説明する。
Embodiment 1
Hereinafter, a local heating device according to an embodiment of the present invention based on the present invention will be described with reference to the drawings.

図1は、本発明の実施の形態1に係る局所加熱装置の構造を示す斜視図である。図1に示すように、局所加熱装置1は、ベース50の上面に支持部材51が、Y方向に2列平行に、言い換えると、基板搬送方向に平行に配置されている。この2列の支持部材51の間に、支持部材51と直交するように軸が配置され、その軸に、基板20を搬送する搬送ローラ30が取付けられている。   FIG. 1 is a perspective view showing the structure of a local heating device according to Embodiment 1 of the present invention. As shown in FIG. 1, in the local heating device 1, support members 51 are arranged on the upper surface of the base 50 in two rows in parallel in the Y direction, in other words, in parallel with the substrate transport direction. A shaft is disposed between the two rows of support members 51 so as to be orthogonal to the support members 51, and a transport roller 30 for transporting the substrate 20 is attached to the shaft.

支持部材51の上面に、基板20をクランプまたは吸着するチャッキング31およびチャッキング31を移動させる際のガイド軸32が配置されている。基板20はチャッキング31によりクランプまたは吸着され、チャッキング31がガイド軸32上を移動することにより搬送される。   On the upper surface of the support member 51, a chucking 31 for clamping or adsorbing the substrate 20 and a guide shaft 32 for moving the chucking 31 are arranged. The substrate 20 is clamped or attracted by the chucking 31, and the chucking 31 is transported by moving on the guide shaft 32.

ベース50の上面に2本の支柱52が配置され、この支柱52の間の上部にガントリ53が橋渡しされている。ガントリ53の側面には、基板20を上面側から加熱する上面側加熱手段である上面側加熱ユニット70aが配置されている。さらに、上面側加熱ユニット70aが移動する際のガイド軸41aおよび上面側加熱ユニット70aを移動させるボールねじ42aが、ガントリ53の側面の長手方向に設けられている。ガントリ53の右上部に、ボールねじ42aを回転させるモータ40aが配置されている。これらの構成から、上面側加熱ユニット70aは、X軸方向、言い換えれば、ガントリ53の長手方向に移動可能とされている。   Two support columns 52 are arranged on the upper surface of the base 50, and a gantry 53 is bridged between the support columns 52. On the side surface of the gantry 53, an upper surface side heating unit 70a that is an upper surface side heating means for heating the substrate 20 from the upper surface side is disposed. Further, a guide shaft 41 a when the upper surface side heating unit 70 a moves and a ball screw 42 a for moving the upper surface side heating unit 70 a are provided in the longitudinal direction of the side surface of the gantry 53. A motor 40 a that rotates the ball screw 42 a is disposed at the upper right portion of the gantry 53. From these configurations, the upper surface side heating unit 70 a is movable in the X-axis direction, in other words, in the longitudinal direction of the gantry 53.

ベース50の上面で、上面側加熱ユニット70aに対応する位置に、下面側加熱手段である下面側加熱ユニット70bが配置されている。下面側加熱ユニット70bが移動する際のガイド軸41bおよび下面側加熱ユニット70bを移動させるボールねじ42bが、ボールねじ42aに平行に配置されている。モータ40aの位置に対応するベース50の上面に、ボールねじ41bを回転させるモータ40bが配置されている。これらの構成により、下面側加熱ユニット70bも、X軸方向に移動可能とされている。モータ40aおよびモータ40bは、制御ユニット90と連結されている。上面側加熱ユニット70aおよび下面側加熱ユニット70bは、制御ユニット90によって駆動制御されている。   On the upper surface of the base 50, a lower surface side heating unit 70b which is a lower surface side heating means is disposed at a position corresponding to the upper surface side heating unit 70a. A guide shaft 41b when the lower surface side heating unit 70b moves and a ball screw 42b for moving the lower surface side heating unit 70b are arranged in parallel to the ball screw 42a. A motor 40b for rotating the ball screw 41b is disposed on the upper surface of the base 50 corresponding to the position of the motor 40a. With these configurations, the lower surface side heating unit 70b is also movable in the X-axis direction. The motor 40a and the motor 40b are connected to the control unit 90. The upper surface side heating unit 70 a and the lower surface side heating unit 70 b are driven and controlled by the control unit 90.

以下に、上面側加熱ユニット70aおよび下面側加熱ユニット70bを、基板20上の局所加熱位置へ移動させる構成を説明する。なお、局所加熱装置1に基板20が投入される前に、基板20上の塗布液または熱硬化性の部材は形成されているものとする。たとえば、塗布液とは、有機EL材料インクであり、熱硬化性の部材とは、熱硬化性ポリイミドインクなどである。その塗布液または熱硬化性の部材の形成された面積および中心位置の座標(Xn,Yn)(n≧1)などの情報は既知であるものとして説明する。   Below, the structure which moves the upper surface side heating unit 70a and the lower surface side heating unit 70b to the local heating position on the board | substrate 20 is demonstrated. In addition, before the board | substrate 20 is thrown into the local heating apparatus 1, the coating liquid or thermosetting member on the board | substrate 20 shall be formed. For example, the coating liquid is an organic EL material ink, and the thermosetting member is a thermosetting polyimide ink. It is assumed that information such as the area where the coating solution or thermosetting member is formed and the coordinates (Xn, Yn) (n ≧ 1) of the center position are known.

局所加熱装置1は、基板端面を検出する図示しない位置センサを備えている。基板端面からの基板20の送り量を把握して、Y軸方向の座標位置決めを行っている。また、X軸方向の座標位置決めは、上面側加熱ユニット70aおよび下面側加熱ユニット70bをそれぞれX軸方向に駆動するモータ40a、40bにより行っている。   The local heating device 1 includes a position sensor (not shown) that detects the end face of the substrate. The coordinate positioning in the Y-axis direction is performed by grasping the feed amount of the substrate 20 from the substrate end face. The coordinate positioning in the X-axis direction is performed by motors 40a and 40b that drive the upper surface side heating unit 70a and the lower surface side heating unit 70b in the X axis direction, respectively.

モータとしては、ステッピングモータまたはリニアモータなどが使用可能である。モータ40aおよびモータ40bは、回転数および送り量を検出するエンコーダを有しているため、X軸方向の正確な位置決め制御が可能である。上面側加熱ユニット70aおよび下面側加熱ユニット70bは、それぞれ別のモータ40a、モータ40bにより制御されているため、独立して移動することが可能となっている。基板20の搬送システムとしては、図1では搬送コロを用いて説明したが、エア浮上式の搬送システムでも可能である。   As the motor, a stepping motor or a linear motor can be used. Since the motor 40a and the motor 40b have encoders that detect the number of rotations and the feed amount, accurate positioning control in the X-axis direction is possible. Since the upper surface side heating unit 70a and the lower surface side heating unit 70b are controlled by separate motors 40a and 40b, they can be moved independently. Although the transport system for the substrate 20 has been described with reference to the transport roller in FIG. 1, an air floating transport system is also possible.

図2は、本実施形態に係る局所加熱装置の構造を示す断面図である。図1において、説明した構成要素については、同じ参照番号を付し、説明を繰り返さない。図2に示すように、基板20の下方に、下面側加熱ユニット70bおよび基板の高さを調節する高さ調節手段である高さ調節ユニット100が設けられている。一方、基板20の上方に、上面側加熱ユニット70aが設けられている。   FIG. 2 is a cross-sectional view showing the structure of the local heating device according to this embodiment. In FIG. 1, the same components as those described are denoted by the same reference numerals, and description thereof will not be repeated. As shown in FIG. 2, a lower surface side heating unit 70b and a height adjusting unit 100 which is a height adjusting means for adjusting the height of the substrate are provided below the substrate 20. On the other hand, an upper surface side heating unit 70 a is provided above the substrate 20.

下面側加熱ユニット70bは、セラミックヒータなどのヒータ71bと、ヒータ71bを搭載する保持具72bと、保持具72bを移動させるボールねじ74bと、保持具72bをZ軸方向に位置決めするステッピングモータ75bと、保持具72bが移動する際のガイド軸73bと、それらを搭載するベース78bとから構成されている。また、ステッピングモータ75bは、回転数を検出する図示しないエンコーダを有し、Z軸方向の正確な位置決め制御が可能になっている。   The lower surface side heating unit 70b includes a heater 71b such as a ceramic heater, a holder 72b on which the heater 71b is mounted, a ball screw 74b that moves the holder 72b, and a stepping motor 75b that positions the holder 72b in the Z-axis direction. The guide shaft 73b when the holder 72b moves and a base 78b on which the guide shaft 73b is mounted. Further, the stepping motor 75b has an encoder (not shown) that detects the number of rotations, and accurate positioning control in the Z-axis direction is possible.

上面側加熱ユニット70aは、セラミックヒータあるいは熱風ヒータなどのヒータ71aと、ヒータ71aを搭載する保持具72aと、保持具72aを移動させるボールねじ74aと、保持具72aをZ軸方向に位置決めするステッピングモータ75aと、保持具72aが移動する際のガイド軸73aと、それらを搭載するベース78aから構成されている。また、ステッピングモータ75aは、回転数を検出する図示しないエンコーダを有し、Z軸方向の正確な位置決め制御が可能になっている。   The upper surface side heating unit 70a includes a heater 71a such as a ceramic heater or a hot air heater, a holder 72a on which the heater 71a is mounted, a ball screw 74a that moves the holder 72a, and a stepping that positions the holder 72a in the Z-axis direction. The motor 75a, the guide shaft 73a when the holder 72a moves, and the base 78a on which they are mounted. Further, the stepping motor 75a has an encoder (not shown) that detects the number of rotations, and accurate positioning control in the Z-axis direction is possible.

高さ調節ユニット100は、基板の下面側に接する端子101と、端子101を移動させるボールねじ74cと、端子101をZ軸方向に位置決めするステッピングモータ75cと、端子101が移動する際のガイド軸73cと、それらを搭載するベース78cから構成されている。また、ステッピングモータ78cは、回転数を検出する図示しないエンコーダを有し、Z軸方向の正確な位置決め制御が可能になっている。   The height adjustment unit 100 includes a terminal 101 in contact with the lower surface side of the substrate, a ball screw 74c that moves the terminal 101, a stepping motor 75c that positions the terminal 101 in the Z-axis direction, and a guide shaft when the terminal 101 moves. 73c and a base 78c for mounting them. Further, the stepping motor 78c has an encoder (not shown) that detects the number of rotations, and accurate positioning control in the Z-axis direction is possible.

実際に加熱が行なわれる際には、まず、高さ調節ユニット100の端子101により基板20の高さが調節される。具体的には、基板20が基準高さになるように、端子101を基板20の下面に接触させながら、上下させることによりZ軸方向の位置決めを行なう。基準高さは、基板の自重によるたわみを、基板を下面から支えることにより矯正した際の基準となる高さである。   When heating is actually performed, first, the height of the substrate 20 is adjusted by the terminal 101 of the height adjustment unit 100. Specifically, the positioning in the Z-axis direction is performed by moving the terminal 101 up and down while contacting the lower surface of the substrate 20 so that the substrate 20 becomes the reference height. The reference height is a height that serves as a reference when the deflection due to the weight of the substrate is corrected by supporting the substrate from the lower surface.

次に、下面側加熱ユニット70bのヒータ71bが、基板20上に形成された塗布液または熱硬化性の部材21の略直下に位置決めされる。具体的には、ヒータ71bの中心を、基板20上の塗布液または熱硬化性の部材21の中心位置の座標(Xn,Yn)に合わせる。Y軸方向の位置決めは搬送ローラ30およびチャッキング31などから構成される基板搬送システムにより行なわれ、X軸方向の位置決めは、図1に示した移動手段であるモータ40bにより行なわれる。Z軸方向の位置決めは、ステッピングモータ75bにより、基板20の下面に接近するように制御される。この場合、ヒータ71bが、基板20の下面に接触するように行なってもよい。   Next, the heater 71 b of the lower surface side heating unit 70 b is positioned substantially directly below the coating solution or thermosetting member 21 formed on the substrate 20. Specifically, the center of the heater 71b is aligned with the coordinates (Xn, Yn) of the center position of the coating liquid on the substrate 20 or the thermosetting member 21. Positioning in the Y-axis direction is performed by a substrate transport system including a transport roller 30 and chucking 31 and the like, and positioning in the X-axis direction is performed by a motor 40b which is a moving means shown in FIG. Positioning in the Z-axis direction is controlled by the stepping motor 75b so as to approach the lower surface of the substrate 20. In this case, the heater 71b may be in contact with the lower surface of the substrate 20.

上面側加熱ユニット70aのヒータ71aは、基板20上に形成された塗布液または熱硬化性の部材21の略直上に位置決めされる。具体的には、ヒータ71aの中心を、基板20上の塗布液または熱硬化性の部材21の中心位置の座標(Xn,Yn)に合わせる。Y軸方向の位置決めは搬送ローラ30およびチャッキング31などから構成される基板搬送システムにより行なわれ、X軸方向の位置決めは、図1に示した移動手段であるモータ40aにより行われる。Z軸方向の位置決めは、ステッピングモータ75aにより、基板20の上面との距離が、所定の距離h1になるように制御される。   The heater 71 a of the upper surface side heating unit 70 a is positioned substantially immediately above the coating solution or thermosetting member 21 formed on the substrate 20. Specifically, the center of the heater 71a is adjusted to the coordinates (Xn, Yn) of the center position of the coating solution or the thermosetting member 21 on the substrate 20. Positioning in the Y-axis direction is performed by a substrate transport system including a transport roller 30 and chucking 31 and the like, and positioning in the X-axis direction is performed by a motor 40a which is a moving unit shown in FIG. The positioning in the Z-axis direction is controlled by the stepping motor 75a so that the distance from the upper surface of the substrate 20 is a predetermined distance h1.

ヒータ71aは、基板20の上面と接触しない状態で、塗布液または熱硬化性の部材21に加熱して乾燥させる。基板20の上面には、配線パターンなどが形成されている。このように加熱することにより、ヒータ71aと基板20とが接触してしまい、基板20の上面に傷あるいは埃などが付着してしまうことを防いでいる。   The heater 71a heats and dries the coating liquid or the thermosetting member 21 without contacting the upper surface of the substrate 20. A wiring pattern or the like is formed on the upper surface of the substrate 20. By heating in this way, the heater 71a and the substrate 20 are in contact with each other, and it is possible to prevent scratches or dust from adhering to the upper surface of the substrate 20.

なお、上面側加熱ユニット70aのヒータ71aには、セラミックヒータあるいは熱風ヒータなどの熱源を使用することができる。また、下面側加熱ユニット70bのヒータ71bには、セラミックヒータなどが使用できる。本発明の実施においては、上面側加熱ユニット70aのヒータ71aには熱風ヒータを使用した。下面側加熱ユニット70bのヒータ71bにはセラミックヒータを使用した。   A heat source such as a ceramic heater or a hot air heater can be used as the heater 71a of the upper surface side heating unit 70a. Moreover, a ceramic heater etc. can be used for the heater 71b of the lower surface side heating unit 70b. In the practice of the present invention, a hot air heater is used as the heater 71a of the upper surface side heating unit 70a. A ceramic heater was used as the heater 71b of the lower surface side heating unit 70b.

実施の形態2
図3は、本発明の実施の形態2に係る局所加熱装置の構造を示す断面図である。図3に示すように、基板20の下方に、下面側加熱ユニット70bおよび基板の高さを調節する高さ調節ユニット100が設けられている。一方、基板20の上方に、上面側加熱ユニット70aが設けられている。高さ調節ユニット100以外は、実施の形態1と同様であるので説明を繰り返さない。
Embodiment 2
FIG. 3 is a cross-sectional view showing the structure of the local heating device according to Embodiment 2 of the present invention. As shown in FIG. 3, a lower surface side heating unit 70 b and a height adjusting unit 100 that adjusts the height of the substrate are provided below the substrate 20. On the other hand, an upper surface side heating unit 70 a is provided above the substrate 20. Except for the height adjustment unit 100, the description is not repeated because it is the same as that of the first embodiment.

高さ調節ユニット100は、基板の下面側に接する端子101と、端子101を移動させるボールねじ74cと、端子101をZ軸方向に位置決めするステッピングモータ75cと、端子101が移動する際のガイド軸73cと、それらを搭載するベース78dとから構成されている。また、ステッピングモータ75cは、回転数を検出する図示しないエンコーダを有し、Z軸方向の正確な位置決め制御が可能になっている。   The height adjustment unit 100 includes a terminal 101 in contact with the lower surface side of the substrate, a ball screw 74c that moves the terminal 101, a stepping motor 75c that positions the terminal 101 in the Z-axis direction, and a guide shaft when the terminal 101 moves. 73c and a base 78d for mounting them. Further, the stepping motor 75c has an encoder (not shown) that detects the number of rotations, and can perform accurate positioning control in the Z-axis direction.

ベース78dは、下面側加熱ユニット70bを移動させるボールねじ42b上で、下面側加熱ユニット70bのベース78bと連結されている。そのため、高さ調節ユニット100を下面側加熱ユニット70bと連動して移動させることができる。その結果、高さ調節ユニット100が基板20の高さを調節する位置と、下面側加熱ユニット70bが加熱する位置とのX軸方向のずれが発生することを防ぐことができ、より位置精度を向上させて加熱を行なうことができる。   The base 78d is connected to the base 78b of the lower surface side heating unit 70b on the ball screw 42b that moves the lower surface side heating unit 70b. Therefore, the height adjustment unit 100 can be moved in conjunction with the lower surface side heating unit 70b. As a result, it is possible to prevent the occurrence of a deviation in the X-axis direction between the position where the height adjustment unit 100 adjusts the height of the substrate 20 and the position where the lower surface side heating unit 70b heats, thereby further improving the position accuracy. It is possible to improve the heating.

実施の形態3
図4は、本発明の実施の形態3に係る局所加熱装置の構造を示す断面図である。図4に示すように、基板20の下方に、下面側加熱ユニット70bが設けられている。一方、基板20の上方に、上面側加熱ユニット70aが設けられている。上面側加熱ユニット70aは、実施の形態1と同様であるため説明を繰り返さない。本発明の実施の形態では、下面側加熱ユニット70bが、基板20の高さを調節する高さ調節手段と一体として構成されている。
Embodiment 3
FIG. 4 is a cross-sectional view showing the structure of the local heating device according to Embodiment 3 of the present invention. As shown in FIG. 4, a lower surface side heating unit 70 b is provided below the substrate 20. On the other hand, an upper surface side heating unit 70 a is provided above the substrate 20. Since upper surface side heating unit 70a is the same as that of the first embodiment, description thereof will not be repeated. In the embodiment of the present invention, the lower surface side heating unit 70 b is configured integrally with a height adjusting means for adjusting the height of the substrate 20.

加熱が行なわれる際には、まず、下面側加熱ユニット70bのヒータ71bが、基板20上に形成された塗布液または熱硬化性の部材21の略直下に位置決めされる。具体的には、ヒータ71bの中心を、基板20上の塗布液または熱硬化性の部材21の中心位置の座標(Xn,Yn)に合わせる。Y軸方向の位置決めは、搬送ローラ30およびチャッキング31などから構成される基板搬送システムにより行なわれ、X軸方向の位置決めは、図1に示したモータ40bにより行われる。   When heating is performed, first, the heater 71 b of the lower surface side heating unit 70 b is positioned substantially directly below the coating solution or thermosetting member 21 formed on the substrate 20. Specifically, the center of the heater 71b is aligned with the coordinates (Xn, Yn) of the center position of the coating liquid on the substrate 20 or the thermosetting member 21. Positioning in the Y-axis direction is performed by a substrate transport system including transport rollers 30 and chucking 31, and positioning in the X-axis direction is performed by a motor 40b shown in FIG.

次に、下面側加熱ユニット70bにより基板20の高さが調節される。具体的には、基板20が基準高さになるように、ヒータ71bを基板20の下面に接触させながら、上下させることによりZ軸方向の位置決めを行なう。Z軸方向の位置決めは、ステッピングモータ75bにより制御される。   Next, the height of the substrate 20 is adjusted by the lower surface side heating unit 70b. Specifically, the positioning in the Z-axis direction is performed by moving the heater 71b up and down while contacting the lower surface of the substrate 20 so that the substrate 20 becomes the reference height. Positioning in the Z-axis direction is controlled by a stepping motor 75b.

下面側加熱ユニット70bが高さ調節手段と一体として構成されることにより、下面側加熱ユニット70bが実際に加熱を行なう位置において、基板20の高さを調節することができる。そのため、上面側加熱ユニット70aと基板20の上面との所定の距離h1は、実際に加熱が行なわれる位置での距離となるため、より厳密に加熱条件を管理することができる。さらに、装置の部品点数を減らすことができ、装置の小型化を図ることができる。   By configuring the lower surface side heating unit 70b integrally with the height adjusting means, the height of the substrate 20 can be adjusted at the position where the lower surface side heating unit 70b actually heats. Therefore, the predetermined distance h1 between the upper surface side heating unit 70a and the upper surface of the substrate 20 is a distance at a position where the heating is actually performed, so that the heating conditions can be managed more strictly. Furthermore, the number of parts of the apparatus can be reduced, and the apparatus can be miniaturized.

図5は、図4に示した実施の形態3における局所加熱装置において、基板20の高さ調節を行なわなかった場合を示す一部断面図である。下面側加熱ユニット70bにより高さ調節を行なわない場合、搬送ローラ30間に間隔Lがあるため、基板20の自重によってたわみh2が発生する。その結果、上面側加熱ユニット70aと基板20との間の距離が、たわみh2分増加することになる。   FIG. 5 is a partial cross-sectional view showing a case where the height adjustment of substrate 20 is not performed in the local heating device in the third embodiment shown in FIG. When the height adjustment is not performed by the lower surface side heating unit 70b, there is a gap L between the transport rollers 30, so that the deflection h2 occurs due to the weight of the substrate 20. As a result, the distance between the upper surface side heating unit 70a and the substrate 20 increases by the deflection h2.

上面側加熱ユニット70aによる基板20上の塗布液または熱硬化性の部材21の加熱は、上面側加熱ユニット70aと基板20とを非接触な状態で行なう。基板20のたわみh2が発生すると、ヒータ71aと基板20上の塗布液または熱硬化性の部材21との距離が長くなるため、基板20上の加熱温度の低下をもたらし、乾燥に要する時間が長くなる。   Heating of the coating solution or the thermosetting member 21 on the substrate 20 by the upper surface side heating unit 70a is performed in a non-contact state between the upper surface side heating unit 70a and the substrate 20. When the deflection h2 of the substrate 20 occurs, the distance between the heater 71a and the coating liquid or the thermosetting member 21 on the substrate 20 becomes long, so that the heating temperature on the substrate 20 is lowered and the time required for drying is long. Become.

Figure 2010026507
Figure 2010026507

表1は、ヒータ71aに熱風ヒータを使用して加熱した場合の、基板20上面とヒータ71aの下面との距離(ギャップ)を変化させて、基板20の裏面の温度を測定した結果である。図6(A)は、表1の内容をグラフ化したものである。図6(A)に示すように、ヒータ71aと基板20との距離が5mm長くなると、基板裏面温度は約10℃低下している。   Table 1 shows the results of measuring the temperature of the back surface of the substrate 20 by changing the distance (gap) between the upper surface of the substrate 20 and the lower surface of the heater 71a when the heater 71a is heated using a hot air heater. FIG. 6A is a graph of the contents of Table 1. As shown in FIG. 6A, when the distance between the heater 71a and the substrate 20 is increased by 5 mm, the substrate back surface temperature is decreased by about 10 ° C.

図6(B)は、基板20上に形成する塗布液または熱硬化性の部材21の乾燥温度と乾燥時間を測定した結果を示す図である。縦軸に乾燥時間を、横軸に乾燥温度を示している。一般的に、塗布液または熱硬化性の部材21は、乾燥温度が高いほど乾燥時間が短くなる。図6(B)に示すように、基板20の温度がt2からt1に低下した場合、乾燥時間はM2からM1に増加した。この温度変化の原因として、図6(A)に示すように、基板20とヒータ71aとの距離の変化がある。   FIG. 6B is a diagram showing the results of measuring the drying temperature and drying time of the coating liquid or thermosetting member 21 formed on the substrate 20. The vertical axis represents the drying time, and the horizontal axis represents the drying temperature. Generally, the drying time of the coating solution or the thermosetting member 21 is shortened as the drying temperature is higher. As shown in FIG. 6B, when the temperature of the substrate 20 decreased from t2 to t1, the drying time increased from M2 to M1. As a cause of this temperature change, as shown in FIG. 6A, there is a change in the distance between the substrate 20 and the heater 71a.

したがって、所定時間の乾燥を実施するシーケンス制御により、基板20を処理する場合、基板20とヒータ71aとの距離(h1+h2)のバラツキが大きいと、不十分な乾燥となり乾燥後の基板20の品質に大きな差異が発生する。また、基板20とヒータ71aとの距離(h1+h2)のバラツキを吸収するように乾燥時間を長く設定すると、処理タクトが増加して生産効率が低下してしまう。   Accordingly, when the substrate 20 is processed by sequence control for performing drying for a predetermined time, if the variation in the distance (h1 + h2) between the substrate 20 and the heater 71a is large, the substrate 20 is insufficiently dried and the quality of the substrate 20 after drying is improved. A big difference occurs. Further, if the drying time is set long so as to absorb the variation in the distance (h1 + h2) between the substrate 20 and the heater 71a, the processing tact increases and the production efficiency decreases.

したがって、乾燥後の塗布液または熱硬化性の部材21の品質を維持するため、および、処理タクトを短くするためにも、基板20と上面側加熱ユニット70aとの距離を所定の距離h1に調節する必要がある。基板20と上面側加熱ユニット70aとの距離を所定の距離h1に調節する手段として、下面側加熱ユニット70bを使用する。下面側加熱ユニット70bの高さ制御を行なうステッピングモータ75bは、1mm以下の高精度位置決めが可能であり、基板20の高さを正確に調節することが可能である。その結果、塗布液または熱硬化性の部材21の加熱条件を安定させることが可能となる。   Therefore, in order to maintain the quality of the coating liquid after drying or the thermosetting member 21 and to shorten the processing tact, the distance between the substrate 20 and the upper surface side heating unit 70a is adjusted to a predetermined distance h1. There is a need to. The lower surface side heating unit 70b is used as a means for adjusting the distance between the substrate 20 and the upper surface side heating unit 70a to a predetermined distance h1. The stepping motor 75b that controls the height of the lower surface side heating unit 70b can perform high-precision positioning of 1 mm or less, and can accurately adjust the height of the substrate 20. As a result, it becomes possible to stabilize the heating conditions of the coating solution or the thermosetting member 21.

上面側加熱ユニット70aおよび下面側加熱ユニット70bの位置決めは、図1に示した制御ユニット90によって制御される。また、基板20上の塗布液または熱硬化性の部材21の量によって、加熱時間および加熱温度を制御することが必要になるが、これらも制御ユニット90によって制御される。   Positioning of the upper surface side heating unit 70a and the lower surface side heating unit 70b is controlled by the control unit 90 shown in FIG. Further, although it is necessary to control the heating time and the heating temperature depending on the amount of the coating liquid or the thermosetting member 21 on the substrate 20, these are also controlled by the control unit 90.

下面側加熱ユニット70bのヒータ71bについて説明する。図7(A)は、ヒータの外観を示す模式斜視図である。図7(A)に示すように、ヒータ71bは、保持具72b上に設けられ、加熱器171bおよび、加熱器171bの温度を測定する熱電対172bなどから構成されている。加熱器171bは、その内部に発熱体を搭載しており、配線により図示しないコントローラに接続される。   The heater 71b of the lower surface side heating unit 70b will be described. FIG. 7A is a schematic perspective view showing the appearance of the heater. As shown in FIG. 7A, the heater 71b is provided on a holder 72b, and includes a heater 171b and a thermocouple 172b for measuring the temperature of the heater 171b. The heater 171b has a heating element mounted therein, and is connected to a controller (not shown) by wiring.

コントローラは制御ユニット90と接続されており、制御ユニット90から送信される信号に応じて、加熱器171bに印加する電圧の調整および電源のON/OFFを制御する。熱電対172bは図示しない温度調節計を介し、制御ユニット90と接続される。加熱器171bとして、たとえばセラミックヒータなどが利用できる。加熱器171bと、熱電対172bと、保持具72bとの固定には、たとえばセラミック接着剤が使用される。   The controller is connected to the control unit 90, and controls the adjustment of the voltage applied to the heater 171b and the ON / OFF of the power source in accordance with a signal transmitted from the control unit 90. The thermocouple 172b is connected to the control unit 90 via a temperature controller (not shown). For example, a ceramic heater can be used as the heater 171b. For example, a ceramic adhesive is used for fixing the heater 171b, the thermocouple 172b, and the holder 72b.

図7(B)は、ヒータ71bに基板20を吸着させる機構を設けた、ヒータ71cの構造を示す模式斜視図である。基本的には、ヒータ71cは、図7(A)に示したヒータ71bの外周部に、吸着テーブル176bを配置することで形成される。   FIG. 7B is a schematic perspective view showing the structure of the heater 71c provided with a mechanism for attracting the substrate 20 to the heater 71b. Basically, the heater 71c is formed by disposing a suction table 176b on the outer periphery of the heater 71b shown in FIG.

吸着テーブル176bは、加熱器171bが基板20に接触する面に、1つ以上の吸着穴173bを有する。各吸着穴173bは、吸着テーブル176bの内部で配管174bにより接続され、配管174bは外部に繋がる配管175bに接続されている。吸着テーブル176bは、吸着穴173bを基板20に接触させて、配管175bを真空引きすることにより基板20を吸着することができる。   The suction table 176b has one or more suction holes 173b on the surface where the heater 171b contacts the substrate 20. Each suction hole 173b is connected by a pipe 174b inside the suction table 176b, and the pipe 174b is connected to a pipe 175b connected to the outside. The suction table 176b can suck the substrate 20 by bringing the suction hole 173b into contact with the substrate 20 and evacuating the pipe 175b.

このように基板20を下面側加熱ユニット70bに吸着することにより、基板20の局所的な反りを矯正することが可能となり、上面側加熱ユニット70aと基板20との距離をより均一に管理することが可能となる。加熱処理が終わって、吸着を解除する際、配管174bに圧縮空気または窒素を供給することにより確実な吸着解除が可能となる。   By adsorbing the substrate 20 to the lower surface side heating unit 70b as described above, it becomes possible to correct the local warpage of the substrate 20, and to manage the distance between the upper surface side heating unit 70a and the substrate 20 more uniformly. Is possible. When releasing the adsorption after the heat treatment is completed, the adsorption can be reliably released by supplying compressed air or nitrogen to the pipe 174b.

図8(A)は、基板20上の塗布液または熱硬化性の部材21の加熱状態を示す模式断面図である。基板20を加熱する順序としては、上面側加熱ユニット70aより先に下面側加熱ユニット70bによる加熱を実施することが望ましい。   FIG. 8A is a schematic cross-sectional view showing a heating state of the coating liquid or the thermosetting member 21 on the substrate 20. As the order of heating the substrate 20, it is desirable to perform heating by the lower surface side heating unit 70b prior to the upper surface side heating unit 70a.

図8(A)に示すように、塗布液または熱硬化性の部材21が形成された基板20に対して、下面側加熱ユニット70bが下面側から接触した状態で加熱している。下面側加熱ユニット70bのヒータ71bで生成された熱が、基板20の下面から上面に向かって矢印で示す方向へ伝達する。よって、基板20内の温度は、ヒータ71bと接している高温部から、熱拡散部20bを経て基板20の上面に伝わるにつれて低下する。   As shown in FIG. 8A, the substrate 20 on which the coating solution or the thermosetting member 21 is formed is heated in a state where the lower surface side heating unit 70b is in contact with the lower surface side. Heat generated by the heater 71b of the lower surface side heating unit 70b is transmitted in the direction indicated by the arrow from the lower surface of the substrate 20 toward the upper surface. Therefore, the temperature in the substrate 20 decreases as it travels from the high temperature portion in contact with the heater 71b to the upper surface of the substrate 20 via the thermal diffusion portion 20b.

基板20の上面に伝達した熱は、基板20と塗布液または熱硬化性の部材21との接触面21a側から伝わる。そのため、塗布液または熱硬化性の部材21は、基板20との接触面21a側から矢印で示す方向へ乾燥が開始される。この結果、塗布液または熱硬化性の部材21の内部の溶媒を十分乾燥させることが可能となり、乾燥後の基板20の品質を高く保つことができる。   The heat transmitted to the upper surface of the substrate 20 is transmitted from the contact surface 21 a side between the substrate 20 and the coating solution or thermosetting member 21. Therefore, drying of the coating liquid or the thermosetting member 21 is started in the direction indicated by the arrow from the contact surface 21a side with the substrate 20. As a result, the coating solution or the solvent inside the thermosetting member 21 can be sufficiently dried, and the quality of the substrate 20 after drying can be kept high.

図8(B)は、上面側加熱ユニット70aによる加熱を先に実施した場合の塗布液または熱硬化性の部材21の加熱状態を示す模式断面図である。上面側加熱ユニット70aのヒータ71aで生成された熱は、塗布液または熱硬化性の部材21の表面部21bに伝達する。そのため、塗布液または熱硬化性の部材21は、表面部21bから溶媒が乾燥することになる。   FIG. 8B is a schematic cross-sectional view showing a heating state of the coating liquid or the thermosetting member 21 when the heating by the upper surface side heating unit 70a is performed first. The heat generated by the heater 71a of the upper surface side heating unit 70a is transmitted to the surface portion 21b of the coating solution or the thermosetting member 21. Therefore, the solvent of the coating solution or the thermosetting member 21 is dried from the surface portion 21b.

図8(B)に示すように、塗布液または熱硬化性の部材21の表面部21bに膜が形成され、塗布液または熱硬化性の部材21の接触面21a側に残っている溶媒を乾燥させる妨げとなる。その結果、乾燥後の基板20の品質を均一に保つためには、より多くの加熱時間を必要とする。したがって、基板20を加熱する順序としては、上面側加熱ユニット70aより先に、下面側加熱ユニット70bによる加熱を実施することが望ましいことがわかる。   As shown in FIG. 8B, a film is formed on the surface portion 21b of the coating solution or thermosetting member 21, and the solvent remaining on the contact surface 21a side of the coating solution or thermosetting member 21 is dried. It will be a hindrance. As a result, more heating time is required to keep the quality of the dried substrate 20 uniform. Therefore, it can be seen that the heating by the lower surface side heating unit 70b is preferably performed before the upper surface side heating unit 70a as the order of heating the substrate 20.

次に、上面側加熱ユニット70aおよび下面側加熱ユニット70bの加熱温度について説明する。基板20に加える熱は、基板20上の塗布液または熱硬化性の部材21を所定時間内に乾燥させる必要がある。上面側加熱ユニット70aによる加熱は、基板20および塗布液または熱硬化性の部材21に非接触状態で行われるため、ヒータ71aの熱は空気を介して伝わることになる。空気の主成分である窒素の熱伝導率は0.026E−2[W/cm/deg](温度300[K]において)と小さいため、上面側加熱ユニット70aによる加熱温度は高温にする必要がある。   Next, the heating temperature of the upper surface side heating unit 70a and the lower surface side heating unit 70b will be described. The heat applied to the substrate 20 needs to dry the coating solution or thermosetting member 21 on the substrate 20 within a predetermined time. Since the heating by the upper surface side heating unit 70a is performed in a non-contact state on the substrate 20 and the coating solution or the thermosetting member 21, the heat of the heater 71a is transmitted through the air. Since the thermal conductivity of nitrogen, which is the main component of air, is as small as 0.026E-2 [W / cm / deg] (at a temperature of 300 [K]), the heating temperature by the upper surface side heating unit 70a needs to be high. is there.

一方、基板20としてSiO2を主成分とするガラスを考えると、その熱伝導率は0.014[W/cm/deg](温度274[K]において)であり、空気の熱伝導率の50倍程度である。そのため、下面側加熱ユニット70bから加える熱は、上面側加熱ユニット70aから加える熱より少なく設定することが可能となる。さらに、短時間に急速に基板20を加熱すると、加熱部分と非加熱部分の温度差により基板20内にストレスが発生し、変形や割れなどが発生し易くなる。そのため、下面側加熱ユニット70bによる加熱温度は、低く設定することが重要である。 On the other hand, when glass mainly composed of SiO 2 is considered as the substrate 20, its thermal conductivity is 0.014 [W / cm / deg] (at a temperature of 274 [K]), which is 50% of the thermal conductivity of air. It is about twice. Therefore, the heat applied from the lower surface side heating unit 70b can be set less than the heat applied from the upper surface side heating unit 70a. Furthermore, when the substrate 20 is rapidly heated in a short time, stress is generated in the substrate 20 due to a temperature difference between the heated portion and the non-heated portion, and deformation or cracking is likely to occur. Therefore, it is important to set the heating temperature by the lower surface side heating unit 70b low.

実施の形態4
図9は、本発明の実施の形態4に係る局所加熱装置の構造を示す断面図である。上面側加熱ユニット70aおよび下面側加熱ユニット70bは、実施の形態3と同様であるため説明を繰り返さない。図9に示すように、本発明の実施の形態の局所加熱装置1では、上面側加熱ユニット70aおよび下面側加熱ユニット70bは、それぞれカバー76aおよび76bで覆われている。さらに、カバー内の空気を排気する排気ユニット77aおよび77bを設けている。カバーおよび排気ユニットは、上面側加熱ユニット70aまたは下面側加熱ユニット70bのどちらか一方のみに設けてもよい。
Embodiment 4
FIG. 9 is a cross-sectional view showing the structure of the local heating device according to Embodiment 4 of the present invention. Since upper surface side heating unit 70a and lower surface side heating unit 70b are the same as in the third embodiment, description thereof will not be repeated. As shown in FIG. 9, in the local heating device 1 according to the embodiment of the present invention, the upper surface side heating unit 70a and the lower surface side heating unit 70b are covered with covers 76a and 76b, respectively. Further, exhaust units 77a and 77b for exhausting the air in the cover are provided. The cover and the exhaust unit may be provided in only one of the upper surface side heating unit 70a and the lower surface side heating unit 70b.

排気ユニット77aおよび77bで排気することにより、カバー76aおよび76b内の空気は、矢印方向に移動し排出される。よって、ヒータ71aおよび71bから放出される熱が、周囲に拡散することを防ぐことが可能となる。また、塗布液または熱硬化性の部材21から揮発した溶媒やガスを回収することが可能となり、装置部周辺の作業環境を改善することができる。さらに、下面側加熱ユニット70bのヒータ71bによる高温な空気が、基板搬送システムの搬送ローラ30を劣化させるのを防ぎ、装置の安定稼働および長寿命化が図れる。   By exhausting with the exhaust units 77a and 77b, the air in the covers 76a and 76b moves in the direction of the arrow and is exhausted. Therefore, it is possible to prevent the heat released from the heaters 71a and 71b from diffusing around. Moreover, it becomes possible to collect | recover the solvent and gas which volatilized from the coating liquid or the thermosetting member 21, and the working environment around an apparatus part can be improved. Further, high temperature air from the heater 71b of the lower surface side heating unit 70b can be prevented from deteriorating the transport roller 30 of the substrate transport system, and stable operation and long life of the apparatus can be achieved.

なお、排気ユニット77aおよび77bは、配管あるいは送風機から構成され、その取り付け位置は、図9に示した位置に限定するものではなく、上面側加熱ユニット70aおよび下面側加熱ユニット70bの形状による気流の流れを考慮して配置すべきである。   The exhaust units 77a and 77b are constituted by pipes or blowers, and their attachment positions are not limited to the positions shown in FIG. 9, but the airflow due to the shapes of the upper surface side heating unit 70a and the lower surface side heating unit 70b. It should be arranged in consideration of the flow.

実施の形態5
図10は、本発明の実施の形態5に係る局所加熱装置の構造を示す断面図である。上面側加熱ユニット70aおよび下面側加熱ユニット70bは、実施の形態3と同様であるため説明を繰り返さない。図10に示すように、本発明の実施の形態の局所加熱装置1では、上面側加熱ユニット70aおよび下面側加熱ユニット70bの可動領域全体は、カバー79aおよび79bで覆われている。さらに、カバー内の空気を排気する排気ユニット77aおよび77bを配置している。カバーおよび排気ユニットは、上面側加熱ユニット70aまたは下面側加熱ユニット70bの可動領域全体のどちらか一方のみに設けてもよい。
Embodiment 5
FIG. 10 is a cross-sectional view showing the structure of the local heating device according to Embodiment 5 of the present invention. Since upper surface side heating unit 70a and lower surface side heating unit 70b are the same as in the third embodiment, description thereof will not be repeated. As shown in FIG. 10, in the local heating device 1 according to the embodiment of the present invention, the entire movable region of the upper surface side heating unit 70a and the lower surface side heating unit 70b is covered with covers 79a and 79b. Further, exhaust units 77a and 77b for exhausting the air in the cover are arranged. The cover and the exhaust unit may be provided only in either one of the entire movable region of the upper surface side heating unit 70a or the lower surface side heating unit 70b.

このように構成することにより、上面側加熱ユニット70aまたは下面側加熱ユニット70bを搭載するベースに対して、カバーおよび排気ユニットを配置する必要がなく構成が簡略化される。よって、加熱部周辺にカバーを形成する場合よりも、装置化においてコストダウンが図れる。また、カバーにより覆われている空間が大きいため、熱が分散しやすく、上面側加熱ユニット70aおよび下面側加熱ユニット70bの構成要素への熱の影響が少なくなる。なお、排気ユニット77aおよび77bは、配管あるいは送風機から構成され、その取り付け位置は、図10に示した位置に限定されるものではなく、上面側加熱ユニット70aおよび下面側加熱ユニット70bの形状による気流の流れを考慮して配置すべきである。   With this configuration, it is not necessary to dispose the cover and the exhaust unit on the base on which the upper surface side heating unit 70a or the lower surface side heating unit 70b is mounted, and the configuration is simplified. Therefore, cost reduction can be achieved in the apparatus compared to the case where a cover is formed around the heating unit. Further, since the space covered by the cover is large, heat is easily dispersed, and the influence of heat on the components of the upper surface side heating unit 70a and the lower surface side heating unit 70b is reduced. Exhaust units 77a and 77b are constituted by pipes or blowers, and their mounting positions are not limited to the positions shown in FIG. 10, and airflows depending on the shapes of upper surface side heating unit 70a and lower surface side heating unit 70b. Should be arranged in consideration of the flow of

実施の形態6
図11は、本発明の実施の形態6に係る局所加熱装置の構造を示す断面図である。上面側加熱ユニット70aは、実施の形態1と同様であるため説明を繰り返さない。図11に示すように、本発明の実施の形態の局所加熱装置1は、基板20の高さ調節手段を基板20の搬送システムに備えている。搬送ローラ30およびチャッキング31などから構成される基板搬送システムにより、上面側加熱ユニット70aと基板20との距離を調節するものである。
Embodiment 6
FIG. 11 is a cross-sectional view showing the structure of the local heating device according to Embodiment 6 of the present invention. Since upper surface side heating unit 70a is the same as that in the first embodiment, description thereof will not be repeated. As shown in FIG. 11, the local heating device 1 according to the embodiment of the present invention includes a substrate 20 height adjustment unit in the substrate 20 transport system. The distance between the upper surface side heating unit 70a and the substrate 20 is adjusted by the substrate conveyance system including the conveyance roller 30 and the chucking 31.

具体的には、基板搬送システムは、搬送ローラ30と、チャッキング31と、それらの支持部材51をZ軸方向に可動するZ軸ステージ54とを備えている。下面側加熱ユニット70bを基板20に接近させるには、Z軸ステージ54により、基板20の下面をヒータ71bの上端の高さに近づけるように、基板20を下方に移動させることにより行なう。   Specifically, the substrate transport system includes a transport roller 30, a chucking 31, and a Z-axis stage 54 that can move the supporting member 51 in the Z-axis direction. The lower surface heating unit 70b is moved closer to the substrate 20 by moving the substrate 20 downward by the Z-axis stage 54 so that the lower surface of the substrate 20 approaches the height of the upper end of the heater 71b.

基板搬送システムにより基板20を上下させるため、基板20を搬送ローラ30およびチャッキング31でバランス良く保持しながら基板20を移動させることができる。下面側加熱ユニット70bが、図7(B)に示す吸着機構を有するようにしてもよい。   Since the substrate 20 is moved up and down by the substrate transfer system, the substrate 20 can be moved while the substrate 20 is held by the transfer roller 30 and the chucking 31 with good balance. The lower surface side heating unit 70b may have an adsorption mechanism shown in FIG.

実施の形態7
図12は、本発明の実施の形態7に係る局所加熱装置の構造を示す断面図である。上面側加熱ユニット70aは、実施の形態1と同様であるため説明を繰り返さない。図12に示すように、本発明の実施の形態の局所加熱装置1は、基板20の搬送システムとしてエア浮上式を採用している。支持部材51上よりエア33を基板20に吹き付けて、浮上させて搬送する搬送システムである。具体的には、搬送システムは、基板20にエア33を供給する図示しないエアノズルと、基板20を保持するチャッキング31と、それらの支持部材51とを備える。
Embodiment 7
FIG. 12 is a cross-sectional view showing the structure of the local heating device according to Embodiment 7 of the present invention. Since upper surface side heating unit 70a is the same as that in the first embodiment, description thereof will not be repeated. As shown in FIG. 12, the local heating device 1 according to the embodiment of the present invention employs an air floating type as a substrate 20 transfer system. This is a transport system in which air 33 is blown onto the substrate 20 from above the support member 51 to float and transport. Specifically, the transport system includes an air nozzle (not shown) that supplies air 33 to the substrate 20, chucking 31 that holds the substrate 20, and support members 51 thereof.

エア浮上式では、基板20は、所定の高さより上方を浮上して搬送される。加熱時は、所定の位置でエア供給が切られることにより基板20が下降し、下面側加熱ユニット70bに接近する。そのため、基板20は、搬送ローラ30上を転がることがないため、搬送中の傷の発生を防ぐことができる。下面側加熱ユニット70bが、図7(B)に示す吸着機構を有するようにしてよい。   In the air levitation type, the substrate 20 is transported by floating above a predetermined height. At the time of heating, the air supply is cut off at a predetermined position, whereby the substrate 20 is lowered and approaches the lower surface side heating unit 70b. Therefore, since the board | substrate 20 does not roll on the conveyance roller 30, generation | occurrence | production of the damage | wound during conveyance can be prevented. The lower surface side heating unit 70b may have an adsorption mechanism shown in FIG.

実施の形態8
図13は、本発明の実施の形態8に係る局所加熱装置の構造を示す断面図である。上面側加熱ユニット70aは、実施の形態1と同様であるため説明を繰り返さない。図13に示すように、本発明の実施の形態の局所加熱装置1の基板20の高さ調節手段は、搬送ローラ30と、チャッキング31と、支持部材55と、Z軸ステージ56とを備える。搬送ローラ30およびチャッキング31は、支持部材55の上方に配置されている。Z軸ステージ56により、搬送ローラ30をZ軸方向に昇降させて、基板20の高さを調節する。
Embodiment 8
FIG. 13: is sectional drawing which shows the structure of the local heating apparatus based on Embodiment 8 of this invention. Since upper surface side heating unit 70a is the same as that in the first embodiment, description thereof will not be repeated. As shown in FIG. 13, the height adjusting means for the substrate 20 of the local heating device 1 according to the embodiment of the present invention includes a transport roller 30, a chucking 31, a support member 55, and a Z-axis stage 56. . The conveyance roller 30 and the chucking 31 are disposed above the support member 55. The conveying roller 30 is moved up and down in the Z-axis direction by the Z-axis stage 56 to adjust the height of the substrate 20.

搬送ローラ30の高さを、搬送する際には上昇させ、加熱する際には下降するように制御して、基板20を下面側加熱ユニット70bに接近させる。基板搬送システムにより基板20を上下させるため、基板20を搬送ローラ30およびチャッキング31でバランス良く保持しながら基板20を移動させることができる。下面側加熱ユニット70bが、図7(B)に示す吸着機構を有するようにしてもよい。   The height of the transport roller 30 is controlled so as to be raised when transported and lowered when heated, so that the substrate 20 approaches the lower surface side heating unit 70b. Since the substrate 20 is moved up and down by the substrate transfer system, the substrate 20 can be moved while the substrate 20 is held by the transfer roller 30 and the chucking 31 with good balance. The lower surface side heating unit 70b may have an adsorption mechanism shown in FIG.

また、下面側加熱ユニット70bをZ軸方向に移動可能にするために、ガイド軸73bと、ボールねじ74bと、ステッピングモータ75bとを設けてもよい。この場合、Z軸ステージ56による搬送ローラ30のZ軸方向の昇降と、下面側加熱ユニット70bのZ軸方向の昇降を同時に実施してもよい。下面側加熱ユニット70bが、図7(B)に示す吸着機構を有するようにしてよい。   Further, a guide shaft 73b, a ball screw 74b, and a stepping motor 75b may be provided so that the lower surface side heating unit 70b can be moved in the Z-axis direction. In this case, the conveyance roller 30 may be moved up and down in the Z-axis direction by the Z-axis stage 56 and the lower surface side heating unit 70b may be moved up and down in the Z-axis direction at the same time. The lower surface side heating unit 70b may have an adsorption mechanism shown in FIG.

実施の形態9
図14は、本発明の実施の形態9に係る局所加熱装置の構造を示す断面図である。図14に示すように、本実施形態に係る局所加熱装置では、X軸方向に移動可能なベース78aに、上面側加熱ユニット70a、および、上面側冷却手段である上面側冷却ユニット80aを搭載している。また、X軸方向に移動可能なベース78bに、下面側加熱ユニット70b、および、下面側冷却手段である下面側冷却ユニット80bを搭載している。上面側冷却ユニット80aおよび下面側冷却ユニット80b以外の構成については、実施の形態1と同様であるため、説明を繰り返さない。
Embodiment 9
FIG. 14 is a cross-sectional view showing the structure of the local heating device according to Embodiment 9 of the present invention. As shown in FIG. 14, in the local heating device according to the present embodiment, an upper surface side heating unit 70a and an upper surface side cooling unit 80a that is an upper surface side cooling means are mounted on a base 78a that is movable in the X-axis direction. ing. In addition, a lower surface side heating unit 70b and a lower surface side cooling unit 80b which is a lower surface side cooling means are mounted on a base 78b movable in the X-axis direction. Since the configuration other than the upper surface side cooling unit 80a and the lower surface side cooling unit 80b is the same as that of the first embodiment, description thereof will not be repeated.

上面側冷却ユニット80aは、冷風を噴出する冷却ノズル81aを備えている。冷却ノズル81aは、冷却ノズル81aの噴出口が基板20に対して対向するように配置される。また、冷却ノズル81aには、冷風を供給する図示しない配管が接続されている。さらに、上面側冷却ユニット80aを稼動または停止させる冷却調節部として、冷風の供給をON/OFFする電磁弁などが接続されている。   The upper surface side cooling unit 80a includes a cooling nozzle 81a that ejects cold air. The cooling nozzle 81 a is arranged so that the ejection port of the cooling nozzle 81 a faces the substrate 20. Further, a pipe (not shown) for supplying cold air is connected to the cooling nozzle 81a. Further, an electromagnetic valve for turning on / off the supply of cold air is connected as a cooling adjustment unit for operating or stopping the upper surface side cooling unit 80a.

さらに、上面側冷却ユニット80aには、冷却ノズル81aを搭載する保持具82aと、保持具82aを移動させるボールねじ84aと、保持具82aをZ軸方向に位置決めする、高さ制御手段であるステッピングモータ85aと、保持具82aが移動する際のガイド軸83aとから構成されている。ステッピングモータ85aは、回転数を検出する図示しないエンコーダを有し、Z軸方向の正確な位置決め制御が可能になっている。   Further, the upper surface side cooling unit 80a includes a holder 82a on which the cooling nozzle 81a is mounted, a ball screw 84a for moving the holder 82a, and a stepping that is a height control means for positioning the holder 82a in the Z-axis direction. The motor 85a and a guide shaft 83a when the holder 82a moves are configured. The stepping motor 85a has an encoder (not shown) that detects the number of rotations, and enables accurate positioning control in the Z-axis direction.

下面側冷却ユニット80bは、冷風を噴出する冷却ノズル81bを備えている。冷却ノズル81bは、冷却ノズル81bの噴出口が基板20に対して対向するように配置される。また、冷却ノズル81bには、冷風を供給する図示しない配管が接続されている。さらに、下面側冷却ユニット80bを稼動または停止させる冷却調節部として、冷風の供給をON/OFFする電磁弁などが接続されている。   The lower surface side cooling unit 80b includes a cooling nozzle 81b for ejecting cold air. The cooling nozzle 81 b is disposed so that the ejection port of the cooling nozzle 81 b faces the substrate 20. Further, a pipe (not shown) for supplying cold air is connected to the cooling nozzle 81b. Further, an electromagnetic valve for turning on / off the supply of cold air is connected as a cooling adjustment unit for operating or stopping the lower surface side cooling unit 80b.

さらに、下面側冷却ユニット80bには、冷却ノズル81bを搭載する保持具82bと、保持具82bを移動させるボールねじ84bと、保持具82bをZ軸方向に位置決めする、高さ制御手段であるステッピングモータ85bと、保持具82bが移動する際のガイド軸83bとから構成されている。ステッピングモータ85bは、回転数を検出する図示しないエンコーダを有し、Z軸方向の正確な位置決め制御が可能になっている。   Further, the lower surface side cooling unit 80b includes a holding tool 82b on which the cooling nozzle 81b is mounted, a ball screw 84b for moving the holding tool 82b, and a stepping which is a height control means for positioning the holding tool 82b in the Z-axis direction. The motor 85b and a guide shaft 83b when the holder 82b moves are configured. The stepping motor 85b has an encoder (not shown) that detects the number of rotations, and enables accurate positioning control in the Z-axis direction.

以下、本実施形態の局所加熱装置1を用いて基板20の局所位置を加熱および冷却する方法について説明する。基板20は、基準高さに配置されているものとして説明する。   Hereinafter, a method for heating and cooling the local position of the substrate 20 using the local heating apparatus 1 of the present embodiment will be described. The substrate 20 will be described as being disposed at a reference height.

加熱を行なう際には、上面側加熱ユニット70aのヒータ71aが、基板20上に形成された塗布液または熱硬化性の部材21の略直上に位置決めされる。また、下面側加熱ユニット70bのヒータ71bが、基板20上に形成された塗布液または熱硬化性の部材21の略直下に位置決めされる。   When heating is performed, the heater 71 a of the upper surface side heating unit 70 a is positioned substantially immediately above the coating solution or thermosetting member 21 formed on the substrate 20. In addition, the heater 71 b of the lower surface side heating unit 70 b is positioned almost directly below the coating solution or thermosetting member 21 formed on the substrate 20.

その後、下面側加熱ユニット70bのヒータ71bを基板20の下面に接触または近接する状態で加熱する。また、上面側加熱ユニット70aのヒータ71aを基板の上面に対して所定の間隔h1となるようにして加熱する。   Thereafter, the heater 71b of the lower surface side heating unit 70b is heated in a state of being in contact with or close to the lower surface of the substrate 20. Further, the heater 71a of the upper surface side heating unit 70a is heated with a predetermined interval h1 with respect to the upper surface of the substrate.

この加熱時には、上面側冷却ユニット80aおよび下面側冷却ユニット80bが、停止状態となるように冷風の供給を調節する電磁弁が閉じた状態になっている。このようにして、加熱される局所位置に冷風が流入することにより、基板20を所定温度まで加熱する時間が延びることを防止することができる。   At the time of this heating, the upper surface side cooling unit 80a and the lower surface side cooling unit 80b are in a state in which the solenoid valves that adjust the supply of cold air are closed so that they are stopped. In this way, it is possible to prevent the time for heating the substrate 20 from being extended to a predetermined temperature by the cold air flowing into the heated local position.

加熱終了後、上面側加熱ユニット70aのヒータ71aは、基板20の上面から離れるように上方に移動させられる。また、下面側加熱ユニット70bのヒータ71bは、基板の20下面から離れるように移動させられる。ヒータ71aおよびヒータ71bはともに、基板20にその熱が影響しない程度まで移動させることが好ましい。   After the heating is completed, the heater 71a of the upper surface side heating unit 70a is moved upward away from the upper surface of the substrate 20. Further, the heater 71b of the lower surface side heating unit 70b is moved away from the 20 lower surface of the substrate. Both the heater 71a and the heater 71b are preferably moved to such an extent that the heat is not affected on the substrate 20.

その後、上面側冷却ユニット80aの冷却ノズル81aの噴出口の直下に、塗布液または熱硬化性の部材21が位置するようにベース78aを移動させる。同様に、下面側冷却ユニット80bの冷却ノズル81bの噴出口の直上に、塗布液または熱硬化性の部材21が位置するようにベース78bを移動させる。具体的には、ベース78aおよびベース78bをX軸方向に距離x1移動させた。   Thereafter, the base 78a is moved so that the coating liquid or the thermosetting member 21 is located immediately below the outlet of the cooling nozzle 81a of the upper surface side cooling unit 80a. Similarly, the base 78b is moved so that the coating liquid or the thermosetting member 21 is located immediately above the ejection port of the cooling nozzle 81b of the lower surface side cooling unit 80b. Specifically, the base 78a and the base 78b were moved by a distance x1 in the X-axis direction.

次に、冷却ノズル81aおよび冷却ノズル81bをそれぞれ基板20に対して、所定の間隔となるように高さ制御手段により調節する。この所定の間隔は、冷却に適した間隔であり、塗布液または熱硬化性の部材21の種類および冷却風の温度などによって決定される。   Next, the cooling nozzle 81a and the cooling nozzle 81b are adjusted by the height control means so as to have a predetermined interval with respect to the substrate 20, respectively. This predetermined interval is an interval suitable for cooling, and is determined by the type of the coating liquid or the thermosetting member 21 and the temperature of the cooling air.

冷却ノズル81aのZ軸方向の位置決めは、高さ制御手段であるステッピングモータ85aにより、基板20の上面との距離が、所定の距離になるように制御される。冷却ノズル81bのZ軸方向の位置決めは、高さ制御手段であるステッピングモータ85bにより、基板20の下面との距離が、所定の距離になるように制御される。その後、塗布液または熱硬化性の部材21が所定の温度まで冷えるまで冷却する。本実施形態の局所加熱装置では、高さ制御手段を設けたが、基板20に対して冷却ノズル81a,81bの高さを変更する必要がない場合には、高さ制御手段を設けなくてもよい。   The positioning of the cooling nozzle 81a in the Z-axis direction is controlled by a stepping motor 85a which is a height control means so that the distance from the upper surface of the substrate 20 is a predetermined distance. The positioning of the cooling nozzle 81b in the Z-axis direction is controlled by the stepping motor 85b, which is a height control means, so that the distance from the lower surface of the substrate 20 is a predetermined distance. Thereafter, the coating liquid or the thermosetting member 21 is cooled until it cools to a predetermined temperature. In the local heating apparatus of this embodiment, the height control means is provided. However, when it is not necessary to change the height of the cooling nozzles 81a and 81b with respect to the substrate 20, the height control means is not provided. Good.

基板20上の局所位置を加熱した後、上面側冷却ユニット80aおよび下面側冷却ユニット80bを局所位置に接近させて稼動させるため、冷却時間を短縮することができ、基板処理時間を短縮することができる。   After the local position on the substrate 20 is heated, the upper surface side cooling unit 80a and the lower surface side cooling unit 80b are moved closer to the local position and operated, so that the cooling time can be shortened and the substrate processing time can be shortened. it can.

このように、本実施形態の局所加熱装置1では、加熱および冷却している間、基板20は移動せず、搬送ローラ30上で基板20は停止している。つまり、基板20が加熱されて熱い状態で、搬送ローラ30上を通過することがない。よって、搬送ローラ30には、必ずしも耐熱性材料を用いる必要がない。   As described above, in the local heating device 1 of the present embodiment, the substrate 20 does not move while heating and cooling, and the substrate 20 is stopped on the transport roller 30. That is, the substrate 20 is heated and hot and does not pass over the transport roller 30. Therefore, it is not always necessary to use a heat resistant material for the transport roller 30.

また、本実施形態の局所加熱装置1では、基板20上の局所位置を加熱および冷却することができ、基板20全体を加熱および冷却する必要がないため、ヒータ71a,71bおよび冷却ノズル81a,81bを小型化することができる。その結果、装置コストを低く抑えることが可能であり、さらに、加熱および冷却に使用する電力などのランニングコストも低く抑えることが可能となる。   Moreover, in the local heating apparatus 1 of this embodiment, the local position on the board | substrate 20 can be heated and cooled, and since there is no need to heat and cool the whole board | substrate 20, heater 71a, 71b and cooling nozzle 81a, 81b. Can be miniaturized. As a result, the apparatus cost can be kept low, and the running cost such as electric power used for heating and cooling can be kept low.

実施の形態10
図15は、本発明の実施の形態10に係る局所加熱装置の構造を示す断面図である。図15に示すように、本発明の実施の形態10に係る局所加熱装置では、上面側加熱ユニット70aに断熱板110が設けられている。断熱板110としては、断熱性を有する板で形成され、セラミック製または樹脂製などの板を用いることができる。
Embodiment 10
FIG. 15 is a cross-sectional view showing the structure of the local heating device according to Embodiment 10 of the present invention. As shown in FIG. 15, in the local heating apparatus according to Embodiment 10 of the present invention, a heat insulating plate 110 is provided on the upper surface side heating unit 70a. The heat insulating plate 110 is formed of a heat insulating plate, and a plate made of ceramic or resin can be used.

ヒータ71aは、基板20を加熱する際、ヒータ71aの噴出口と基板20との間隔が所定の間隔h1になるように制御されている。よって、加熱時には、ヒータ71aが基板20に向かって移動するため、断熱板110はヒータ71aと基板20との間に位置しないように退避している。加熱が終了して冷却する際には、ヒータ71aが基板20から離れる様に移動し、断熱板110は、ヒータ71aと基板20との間に挿入される。このようにすることにより、加熱後のヒータ71aの余熱が基板20に及ぶことを防止することができる。よって、効率よく冷却することができ、冷却時間の短縮を図ることができる。   When the substrate 71 is heated, the heater 71a is controlled such that the interval between the ejection port of the heater 71a and the substrate 20 is a predetermined interval h1. Therefore, since the heater 71a moves toward the substrate 20 during heating, the heat insulating plate 110 is retracted so as not to be positioned between the heater 71a and the substrate 20. When the heating is finished and cooling is performed, the heater 71a moves away from the substrate 20, and the heat insulating plate 110 is inserted between the heater 71a and the substrate 20. By doing in this way, it can prevent that the remaining heat of the heater 71a after a heating reaches the board | substrate 20. FIG. Therefore, it can cool efficiently and can aim at shortening of cooling time.

本実施形態の局所加熱装置では、上面側冷却ユニット80aの冷却ノズル81aおよび下面側冷却ユニット80bの冷却ノズル81bが、加熱時の基板20上の塗布液または熱硬化性の部材21に向けられている。具体的には、上面側加熱ユニット70aおよび下面側加熱ユニット70bが加熱位置に位置決めされた状態において、冷却ノズル81a,81bの噴出口が塗布液または熱硬化性の部材21に向けられている。   In the local heating device of the present embodiment, the cooling nozzle 81a of the upper surface side cooling unit 80a and the cooling nozzle 81b of the lower surface side cooling unit 80b are directed to the coating solution or the thermosetting member 21 on the substrate 20 during heating. Yes. Specifically, in the state where the upper surface side heating unit 70a and the lower surface side heating unit 70b are positioned at the heating position, the jet nozzles of the cooling nozzles 81a and 81b are directed to the coating liquid or the thermosetting member 21.

このようにすることにより、加熱終了後に、ベース78a,78bを移動させて上面側冷却ユニット80aおよび下面側冷却ユニット80bを塗布液または熱硬化性の部材21に位置決めすることなく、冷却を開始することができる。よって、基板20の処理時間を短縮することができる。他の構成については、実施の形態9の局所加熱装置と同様であるため、説明を繰り返さない。   In this way, after the heating is finished, the bases 78a and 78b are moved to start cooling without positioning the upper surface side cooling unit 80a and the lower surface side cooling unit 80b on the coating liquid or the thermosetting member 21. be able to. Therefore, the processing time of the substrate 20 can be shortened. About another structure, since it is the same as that of the local heating apparatus of Embodiment 9, description is not repeated.

図16は、断熱板の取付構造の一例を示す模式図である。図16に示すように、断熱板110が移動する際のガイドレール117が配置され、断熱板110は、ガイドレール117に沿ってX軸方向にスライドする。断熱板110の上面には、ワイヤ112およびばね115を取り付ける金具114が設けられている。   FIG. 16 is a schematic diagram illustrating an example of a heat insulating plate mounting structure. As shown in FIG. 16, a guide rail 117 when the heat insulating plate 110 moves is arranged, and the heat insulating plate 110 slides in the X-axis direction along the guide rail 117. A metal fitting 114 for attaching the wire 112 and the spring 115 is provided on the upper surface of the heat insulating plate 110.

ばね115は、一端がベース78a上の固定部116に取り付けられ、他端が断熱板110の金具114に取り付けられる。よって、断熱板110は、バネ115により、ヒータ71aの直下から離れる方向に付勢されている。ワイヤ112は、一端が保持具72aの側面に設けられた固定部111に取り付けられ、滑車113を経て他端が金具114に取り付けられている。このように構成することにより、ヒータ71aのZ軸方向に移動に連動して、断熱板110をX軸方向に移動させることができる。   One end of the spring 115 is attached to the fixing portion 116 on the base 78 a and the other end is attached to the metal fitting 114 of the heat insulating plate 110. Therefore, the heat insulating plate 110 is urged by the spring 115 in a direction away from directly below the heater 71a. One end of the wire 112 is attached to the fixing portion 111 provided on the side surface of the holder 72 a, and the other end is attached to the metal fitting 114 via the pulley 113. With this configuration, the heat insulating plate 110 can be moved in the X-axis direction in conjunction with the movement of the heater 71a in the Z-axis direction.

本実施形態の局所加熱装置では断熱板110を設けたが、断熱板110を設けなくてもよい。この場合にも、加熱終了後にベース78a,78bを移動することなく冷却することができるため、基板の処理時間の短縮を図ることができる。   Although the heat insulating plate 110 is provided in the local heating device of the present embodiment, the heat insulating plate 110 may not be provided. Also in this case, since the bases 78a and 78b can be cooled without moving after the heating, the substrate processing time can be shortened.

実施の形態11
図17は、本発明の実施の形態11に係る局所加熱装置の構造を示す模式図である。図17に示すように、本発明の実施の形態11に係る局所加熱装置では、上面側加熱ユニット70aに断熱板110が設けられている。断熱板110以外の構成については、実施の形態9の局所加熱装置と同様であるため、説明を繰り返さない。
Embodiment 11
FIG. 17 is a schematic diagram showing the structure of a local heating device according to Embodiment 11 of the present invention. As shown in FIG. 17, in the local heating apparatus according to Embodiment 11 of the present invention, a heat insulating plate 110 is provided on the upper surface side heating unit 70a. Since it is the same as that of the local heating apparatus of Embodiment 9 about structures other than the heat insulation board 110, description is not repeated.

本実施形態の局所加熱装置では、加熱終了後、ヒータ71a,71bを基板20から離れるようにZ軸方向に移動させる。このとき、断熱板110がヒータ71aと基板20との間に挿入される。このようにして、ヒータ71aの余熱が基板20に及ぶことを防止している。   In the local heating apparatus of this embodiment, after the heating is finished, the heaters 71a and 71b are moved in the Z-axis direction so as to be separated from the substrate 20. At this time, the heat insulating plate 110 is inserted between the heater 71 a and the substrate 20. In this way, the remaining heat of the heater 71a is prevented from reaching the substrate 20.

その後、ベース78a,78bをX軸方向に距離x1移動させて、基板20上の塗布液または熱硬化性の部材21に対して、上面側冷却ユニット80aおよび下面側冷却ユニット80bを位置決めする。次に、上面側冷却ユニット80aの冷却ノズル81aおよび下面側冷却ユニット80bの冷却ノズル81bをそれぞれ、基板20に対して所定の間隔を有するように移動させる。この状態で、基板20を冷却する。   Thereafter, the bases 78a and 78b are moved by a distance x1 in the X-axis direction to position the upper surface side cooling unit 80a and the lower surface side cooling unit 80b with respect to the coating liquid on the substrate 20 or the thermosetting member 21. Next, the cooling nozzle 81a of the upper surface side cooling unit 80a and the cooling nozzle 81b of the lower surface side cooling unit 80b are moved with respect to the substrate 20 so as to have a predetermined interval. In this state, the substrate 20 is cooled.

このように、本実施形態では、加熱後のヒータ71aの余熱を断熱板110により基板20に及ばないようにしつつ、上面側冷却ユニット80aおよび下面側冷却ユニット80bを基板に対して冷却に最適な距離に配置して冷却することができる。よって、効率よく冷却することができ、冷却時間を短縮することができる。   Thus, in this embodiment, the upper surface side cooling unit 80a and the lower surface side cooling unit 80b are optimal for cooling the substrate while preventing the remaining heat of the heater 71a after heating from reaching the substrate 20 by the heat insulating plate 110. Can be placed at a distance to cool. Therefore, it can cool efficiently and cooling time can be shortened.

実施の形態12
図18は、本発明の実施の形態12に係る局所加熱装置の構造を示す断面図である。図18に示すように、本発明の実施の形態12に係る局所加熱装置では、上面側加熱ユニット70a,70a’および下面側加熱ユニット70b,70b’を備えている。本実施形態では、上面側加熱ユニットおよび下面側加熱ユニットをそれぞれ2つ備えているが、3つ以上備えていてもよい。
Embodiment 12
FIG. 18 is a cross-sectional view showing the structure of the local heating device according to Embodiment 12 of the present invention. As shown in FIG. 18, the local heating apparatus according to Embodiment 12 of the present invention includes upper surface side heating units 70a and 70a ′ and lower surface side heating units 70b and 70b ′. In the present embodiment, two upper surface side heating units and two lower surface side heating units are provided, but three or more may be provided.

上面側加熱ユニット70aと上面側加熱ユニット70a’との基板20の加熱温度は、それぞれ異なるように制御される。基本的に、上面側加熱ユニット70aの加熱温度より上面側加熱ユニット70a’の加熱温度の方が高くなるように設定される。同様に、下面側加熱ユニット70bと下面側加熱ユニット70b’との基板20の加熱温度は、異なるように制御される。基本的に、下面側加熱ユニット70bの加熱温度より下面側加熱ユニット70b’の加熱温度の方が高くなるように設定される。   The heating temperatures of the substrate 20 in the upper surface side heating unit 70a and the upper surface side heating unit 70a 'are controlled to be different from each other. Basically, the heating temperature of the upper surface side heating unit 70a 'is set to be higher than the heating temperature of the upper surface side heating unit 70a. Similarly, the heating temperature of the substrate 20 between the lower surface side heating unit 70b and the lower surface side heating unit 70b 'is controlled to be different. Basically, the heating temperature of the lower surface side heating unit 70b 'is set to be higher than the heating temperature of the lower surface side heating unit 70b.

上面側加熱ユニット70a,70a’および下面側加熱ユニット70b,70b’には、加熱温度を制御する温度制御手段である図示しない温度制御ユニットが設けられている。他の構成については、実施の形態9の局所加熱装置と同様であるため、説明を繰り返さない。   The upper surface side heating units 70a and 70a 'and the lower surface side heating units 70b and 70b' are provided with a temperature control unit (not shown) which is a temperature control means for controlling the heating temperature. About another structure, since it is the same as that of the local heating apparatus of Embodiment 9, description is not repeated.

図18に示すように、ベース78aには、上面側加熱ユニット70a、上面側加熱ユニット70a’および上面側冷却ユニット80aが搭載されている。上面側加熱ユニット70a’は、上面側加熱ユニット70aと同一の構造を有している。   As shown in FIG. 18, the upper surface side heating unit 70a, the upper surface side heating unit 70a ', and the upper surface side cooling unit 80a are mounted on the base 78a. The upper surface side heating unit 70a 'has the same structure as the upper surface side heating unit 70a.

ベース78bには、下面側加熱ユニット70b、下面側加熱ユニット70b’および下面側冷却ユニット80bが搭載されている。下面側加熱ユニット70b’は、下面側加熱ユニット70bと同一の構造を有している。   A lower surface side heating unit 70b, a lower surface side heating unit 70b ', and a lower surface side cooling unit 80b are mounted on the base 78b. The lower surface side heating unit 70b 'has the same structure as the lower surface side heating unit 70b.

以下、本実施形態に係る局所加熱装置の加熱および冷却方法について説明する。まず、基板20上の塗布液または熱硬化性の部材21の位置に、上面側加熱ユニット70aおよび下面側加熱ユニット70bが位置決めされる。その後、下面側加熱ユニット70bが基板20の下面に接触または近接した状態で加熱する。上面側加熱ユニット70aは、基板20と所定の間隔h1を有した状態で基板20を加熱する。   Hereinafter, the heating and cooling method of the local heating device according to the present embodiment will be described. First, the upper surface side heating unit 70 a and the lower surface side heating unit 70 b are positioned at the position of the coating solution or the thermosetting member 21 on the substrate 20. Thereafter, the lower surface side heating unit 70b heats the substrate 20 in contact with or close to the lower surface of the substrate 20. The upper surface side heating unit 70a heats the substrate 20 with a predetermined distance h1 from the substrate 20.

上面側加熱ユニット70aおよび下面側加熱ユニット70bは、加熱終了後、基板20から離れるようにZ軸方向に移動する。次に、ベース78aおよびベース78bをX軸方向に距離x1移動させて、基板20上の塗布液または熱硬化性の部材21の位置に、上面側加熱ユニット70a’および下面側加熱ユニット70b’を位置決めする。   The upper surface side heating unit 70a and the lower surface side heating unit 70b move in the Z-axis direction so as to be separated from the substrate 20 after the heating is completed. Next, the base 78a and the base 78b are moved by a distance x1 in the X-axis direction, and the upper surface side heating unit 70a ′ and the lower surface side heating unit 70b ′ are placed at the position of the coating liquid or the thermosetting member 21 on the substrate 20. Position.

温度制御ユニットにより、上面側加熱ユニット70a’の加熱温度は上面側加熱ユニット70aの加熱温度より高く、下面側加熱ユニット70b’の加熱温度は下面側加熱ユニット70bの加熱温度より高くなるように設定されている。その下面側加熱ユニット70b’が、基板20の下面に接触または近接した状態で加熱する。上面側加熱ユニット70a’は、基板20と所定の間隔を有した状態で基板20を加熱する。   By the temperature control unit, the heating temperature of the upper surface side heating unit 70a ′ is set higher than the heating temperature of the upper surface side heating unit 70a, and the heating temperature of the lower surface side heating unit 70b ′ is set higher than the heating temperature of the lower surface side heating unit 70b. Has been. The lower surface side heating unit 70 b ′ heats the substrate 20 in contact with or close to the lower surface of the substrate 20. The upper surface side heating unit 70 a ′ heats the substrate 20 with a predetermined distance from the substrate 20.

上面側加熱ユニット70a’および下面側加熱ユニット70b’は、加熱終了後、基板20から離れるようにZ軸方向に移動する。次に、ベース78aおよびベース78bをX軸方向に距離x2移動させて、基板20上の塗布液または熱硬化性の部材21の位置に、上面側冷却ユニット80aおよび下面側冷却ユニット80bを位置決めする。   The upper surface side heating unit 70 a ′ and the lower surface side heating unit 70 b ′ move in the Z-axis direction so as to be separated from the substrate 20 after the heating is completed. Next, the base 78a and the base 78b are moved by a distance x2 in the X-axis direction, and the upper surface side cooling unit 80a and the lower surface side cooling unit 80b are positioned at the position of the coating solution or thermosetting member 21 on the substrate 20. .

上面側冷却ユニット80aおよび下面側冷却ユニット80bはそれぞれ、基板20に対して所定の間隔を有して冷却する。冷却終了後、上面側冷却ユニット80aおよび下面側冷却ユニット80bは、基板20から離れるようにZ軸方向に移動する。   Each of the upper surface side cooling unit 80a and the lower surface side cooling unit 80b cools the substrate 20 with a predetermined interval. After completion of cooling, the upper surface side cooling unit 80a and the lower surface side cooling unit 80b move in the Z-axis direction so as to be separated from the substrate 20.

このように複数の加熱ユニットを用いて基板20を加熱することにより、個々の加熱ユニットへの負荷を軽減することができる。よって、加熱ユニットの長寿命化を図ることができる。その結果、加熱ユニットの定期的な交換などのメンテナンス時間を短縮することができ、製造時間の短縮を図ることができる。   In this way, by heating the substrate 20 using a plurality of heating units, the load on each heating unit can be reduced. Therefore, the life of the heating unit can be extended. As a result, maintenance time such as periodic replacement of the heating unit can be shortened, and manufacturing time can be shortened.

また、複数の加熱ユニットを備えることにより、仮に、1つの加熱ユニットが故障した場合にも、生産を継続することが可能となり、装置としての安定性を向上することができる。さらに、加熱対象を異なる加熱温度で段階的に加熱することが可能となり、塗布液または熱硬化性の部材21の種類に合わせた加熱工程で加熱することにより、高品質の膜を形成することができる。   Further, by providing a plurality of heating units, it becomes possible to continue production even if one heating unit fails, and to improve the stability of the apparatus. Furthermore, it becomes possible to heat the heating target in stages at different heating temperatures, and a high-quality film can be formed by heating in a heating process according to the type of the coating liquid or the thermosetting member 21. it can.

実施の形態13
図19は、本発明の実施の形態13に係る局所加熱装置の構造を示す断面図である。図19に示すように、本発明の実施の形態13に係る局所加熱装置では、上面側加熱ユニット70a,70a’および下面側加熱ユニット70b,70b’を備えている。本実施形態では、上面側加熱ユニットおよび下面側加熱ユニットをそれぞれ2つ備えているが、3つ以上備えていてもよい。上面側加熱ユニット70a,70a’には、断熱板110,110’が設けられている。
Embodiment 13
FIG. 19 is a cross-sectional view showing the structure of the local heating device according to Embodiment 13 of the present invention. As shown in FIG. 19, the local heating apparatus according to Embodiment 13 of the present invention includes upper surface side heating units 70a and 70a ′ and lower surface side heating units 70b and 70b ′. In the present embodiment, two upper surface side heating units and two lower surface side heating units are provided, but three or more may be provided. The upper surface side heating units 70a and 70a ′ are provided with heat insulating plates 110 and 110 ′.

上面側冷却ユニット80aおよび下面側冷却ユニット80bの冷却ノズル81a,81bは、上面側加熱ユニット70a’および下面側加熱ユニット70b’が、基板20上の塗布液または熱硬化性の部材21に位置決めされた状態において、噴出口が塗布液または熱硬化性の部材21に向けられている。他の構成については、実施の形態10の局所加熱装置と同様であるため、説明を繰り返さない。   In the cooling nozzles 81a and 81b of the upper surface side cooling unit 80a and the lower surface side cooling unit 80b, the upper surface side heating unit 70a ′ and the lower surface side heating unit 70b ′ are positioned on the coating liquid or the thermosetting member 21 on the substrate 20. In this state, the spout is directed to the coating solution or the thermosetting member 21. About another structure, since it is the same as that of the local heating apparatus of Embodiment 10, description is not repeated.

以下、本実施形態に係る局所加熱装置の加熱および冷却方法について説明する。まず、基板20上の塗布液または熱硬化性の部材21の位置に、上面側加熱ユニット70aおよび下面側加熱ユニット70bが位置決めされる。その後、下面側加熱ユニット70bが基板20の下面に接触または近接した状態で加熱する。上面側加熱ユニット70aは、基板20と所定の間隔h1を有した状態で基板20を加熱する。   Hereinafter, the heating and cooling method of the local heating device according to the present embodiment will be described. First, the upper surface side heating unit 70 a and the lower surface side heating unit 70 b are positioned at the position of the coating solution or the thermosetting member 21 on the substrate 20. Thereafter, the lower surface side heating unit 70b heats the substrate 20 in contact with or close to the lower surface of the substrate 20. The upper surface side heating unit 70a heats the substrate 20 with a predetermined distance h1 from the substrate 20.

上面側加熱ユニット70aおよび下面側加熱ユニット70bは、加熱終了後、基板20から離れるようにZ軸方向に移動する。上面側加熱ユニット70aの移動に連動して、断熱板110が上面側加熱ユニット70aと基板20との間に挿入される。次に、ベース78aおよびベース78bをX軸方向に距離x1移動させて、基板20上の塗布液または熱硬化性の部材21の位置に、上面側加熱ユニット70a’および下面側加熱ユニット70b’を位置決めする。   The upper surface side heating unit 70a and the lower surface side heating unit 70b move in the Z-axis direction so as to be separated from the substrate 20 after the heating is completed. The heat insulating plate 110 is inserted between the upper surface side heating unit 70a and the substrate 20 in conjunction with the movement of the upper surface side heating unit 70a. Next, the base 78a and the base 78b are moved by a distance x1 in the X-axis direction, and the upper surface side heating unit 70a ′ and the lower surface side heating unit 70b ′ are placed at the position of the coating liquid or the thermosetting member 21 on the substrate 20. Position.

温度制御ユニットにより、上面側加熱ユニット70a’の加熱温度は上面側加熱ユニット70aの加熱温度より高く、下面側加熱ユニット70b’の加熱温度は下面側加熱ユニット70bの加熱温度より高くなるように設定されている。その下面側加熱ユニット70b’が、基板20の下面に接触または近接した状態で加熱する。上面側加熱ユニット70a’は、基板20と所定の間隔を有した状態で基板20を加熱する。   By the temperature control unit, the heating temperature of the upper surface side heating unit 70a ′ is set higher than the heating temperature of the upper surface side heating unit 70a, and the heating temperature of the lower surface side heating unit 70b ′ is set higher than the heating temperature of the lower surface side heating unit 70b. Has been. The lower surface side heating unit 70 b ′ heats the substrate 20 in contact with or close to the lower surface of the substrate 20. The upper surface side heating unit 70 a ′ heats the substrate 20 with a predetermined distance from the substrate 20.

上面側加熱ユニット70a’および下面側加熱ユニット70b’は、加熱終了後、基板20から離れるようにZ軸方向に移動する。上面側加熱ユニット70a’の移動に連動して、断熱板110’が上面側加熱ユニット70a’と基板20との間に挿入される。次に
ベース78a,78bを移動させることなく、上面側冷却ユニット80aおよび下面側冷却ユニット80bにより塗布液または熱硬化性の部材21に冷却風を吹き付けて冷却する。
The upper surface side heating unit 70a ′ and the lower surface side heating unit 70b ′ move in the Z-axis direction so as to be separated from the substrate 20 after the heating is completed. The heat insulating plate 110 ′ is inserted between the upper surface side heating unit 70 a ′ and the substrate 20 in conjunction with the movement of the upper surface side heating unit 70 a ′. Next, the upper surface side cooling unit 80a and the lower surface side cooling unit 80b cool the coating liquid or the thermosetting member 21 by blowing cooling air without moving the bases 78a and 78b.

このように複数の加熱ユニットを用いて基板20の加熱することにより、個々の加熱ユニットへの負荷を軽減することができる。よって、加熱ユニットの長寿命化を図ることができる。その結果、加熱ユニットの定期的な交換などのメンテナンス時間を短縮することができ、製造時間の短縮を図ることができる。   Thus, by heating the substrate 20 using a plurality of heating units, the load on each heating unit can be reduced. Therefore, the life of the heating unit can be extended. As a result, maintenance time such as periodic replacement of the heating unit can be shortened, and manufacturing time can be shortened.

また、加熱終了後に、ベース78a,78bを移動させて上面側冷却ユニット80aおよび下面側冷却ユニット80bを塗布液または熱硬化性の部材21に位置決めすることなく、冷却を開始することができる。よって、基板20の処理時間を短縮することができる。   Further, after the heating is completed, the cooling can be started without moving the bases 78a and 78b and positioning the upper surface side cooling unit 80a and the lower surface side cooling unit 80b on the coating liquid or the thermosetting member 21. Therefore, the processing time of the substrate 20 can be shortened.

なお、今回開示した上記実施の形態はすべての点で例示であって、限定的な解釈の根拠となるものではない。したがって、本発明の技術的範囲は、上記した実施の形態のみによって解釈されるものではなく、特許請求の範囲の記載に基づいて画定される。また、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれる。   In addition, the said embodiment disclosed this time is an illustration in all the points, Comprising: It does not become the basis of limited interpretation. Therefore, the technical scope of the present invention is not interpreted only by the above-described embodiment, but is defined based on the description of the scope of claims. Further, all modifications within the meaning and scope equivalent to the scope of the claims are included.

1 局所加熱装置、20 基板、20b 熱拡散部、21 塗布液または熱硬化性の部材、21a 接触面、21b 表面部、30 搬送ローラ、31 チャッキング、32,41a,41b,83a,83b ガイド軸、33 エア、40a,40b モータ、50 ベース、51,55 支持部材、52 支柱、53 ガントリ、54,56 Z軸ステージ、70a,70a’ 上面側加熱ユニット、70b,70b’ 下面側加熱ユニット、71a,71a’,71b,71b’,71c ヒータ、72a,72a’72b,72b’82a,82b 保持具、73a,73a’,73b,73b’,73c ガイド軸、74,74a’,74b,74b’84a,84b ボールねじ、75a,75b,75c,78c,85a,85b ステッピングモータ、76a,79a カバー、77a 排気ユニット、78a,78b,78c,78d ベース、80a 上面側冷却ユニット、80b 下面側冷却ユニット、81a,81b 冷却ノズル、90 制御ユニット、100 高さ調節ユニット、101 端子、110 断熱板、111,116 固定部、112 ワイヤ、113 滑車、114 金具、115 バネ、117 ガイドレール、171b 加熱器、172b 熱電対、173b 吸着穴、174b,175b 配管、176b 吸着テーブル。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Local heating apparatus, 20 Substrate, 20b Thermal diffusion part, 21 Coating liquid or thermosetting member, 21a Contact surface, 21b Surface part, 30 Conveyance roller, 31 Chucking, 32, 41a, 41b, 83a, 83b Guide shaft , 33 Air, 40a, 40b Motor, 50 Base, 51, 55 Support member, 52 Post, 53 Gantry, 54, 56 Z-axis stage, 70a, 70a ′ Upper surface side heating unit, 70b, 70b ′ Lower surface side heating unit, 71a , 71a ′, 71b, 71b ′, 71c heater, 72a, 72a′72b, 72b′82a, 82b holder, 73a, 73a ′, 73b, 73b ′, 73c guide shaft, 74, 74a ′, 74b, 74b′84a 84b Ball screw, 75a, 75b, 75c, 78c, 85a, 85b Stepping motor, 76a, 9a cover, 77a exhaust unit, 78a, 78b, 78c, 78d base, 80a upper surface side cooling unit, 80b lower surface side cooling unit, 81a, 81b cooling nozzle, 90 control unit, 100 height adjustment unit, 101 terminal, 110 heat insulating plate 111, 116 fixing part, 112 wire, 113 pulley, 114 metal fitting, 115 spring, 117 guide rail, 171b heater, 172b thermocouple, 173b adsorption hole, 174b, 175b piping, 176b adsorption table.

Claims (14)

乾燥すると膜を形成する塗布液または熱硬化性の部材が少なくとも一部に形成された基板を局所的に加熱する装置であって、
前記基板の上面から、前記基板に非接触な状態で加熱する上面側加熱手段と、
前記基板の下面から、前記基板と接触または近接する状態で加熱する下面側加熱手段と、
前記基板の下面に接触した状態で、前記基板を上下に移動させて基準高さに設定する高さ調節手段と、
前記上面側加熱手段および前記下面側加熱手段を前記基板の加熱対象となる局所位置に位置決めする移動手段と、
前記基板の前記基準高さに対して、前記上面側加熱手段の高さが所定の間隔を有するように制御する制御手段と
を備える、局所加熱装置。
A device for locally heating a substrate on which at least a part of a coating solution or a thermosetting member that forms a film when dried is formed,
From the upper surface of the substrate, an upper surface side heating means for heating the substrate in a non-contact state;
A lower surface side heating means for heating from the lower surface of the substrate in contact with or close to the substrate;
A height adjusting means for moving the substrate up and down to set a reference height in contact with the lower surface of the substrate;
Moving means for positioning the upper surface side heating means and the lower surface side heating means at a local position to be heated of the substrate;
A local heating apparatus comprising: control means for controlling the upper surface side heating means to have a predetermined interval with respect to the reference height of the substrate.
前記下面側加熱手段が前記高さ調節手段と一体として構成され、前記基板の下面に接触した状態で加熱を行なう前記下面側加熱手段を備えた、請求項1記載の局所加熱装置。   The local heating apparatus according to claim 1, wherein the lower surface side heating unit is configured integrally with the height adjusting unit, and includes the lower surface side heating unit that performs heating while being in contact with the lower surface of the substrate. 前記移動手段は、前記上面側加熱手段および前記下面側加熱手段のそれぞれを独立して移動させる機構を有する、請求項1または2記載の局所加熱装置。   The local heating apparatus according to claim 1, wherein the moving unit includes a mechanism that independently moves the upper surface side heating unit and the lower surface side heating unit. 前記下面側加熱手段が、前記基板を吸着する手段を備える、請求項1から3のいずれかに記載の局所加熱装置。   The local heating apparatus according to claim 1, wherein the lower surface side heating unit includes a unit that adsorbs the substrate. 前記上面側加熱手段による加熱より先に前記下面側加熱手段による加熱を開始する、請求項1から4のいずれかに記載の局所加熱装置。   The local heating device according to any one of claims 1 to 4, wherein heating by the lower surface side heating unit is started prior to heating by the upper surface side heating unit. 前記上面側加熱手段による加熱温度より前記下面側加熱手段による加熱温度の方が低い、請求項1から5のいずれかに記載の局所加熱装置。   The local heating device according to claim 1, wherein a heating temperature by the lower surface side heating unit is lower than a heating temperature by the upper surface side heating unit. 前記上面側加熱手段および前記下面側加熱手段の少なくとも一方の加熱部周辺に形成したカバーと、
前記カバー内の空気を排気する排気手段とを備える、請求項1から6のいずれかに記載の局所加熱装置。
A cover formed around the heating part of at least one of the upper surface side heating means and the lower surface side heating means;
The local heating device according to claim 1, further comprising an exhaust unit that exhausts the air in the cover.
前記上面側加熱手段および前記下面側加熱手段の少なくとも一方の可動領域全体に形成したカバーと、
前記カバー内の空気を排気する排気手段とを備える、請求項1から6のいずれかに記載の局所加熱装置。
A cover formed over the entire movable region of at least one of the upper surface side heating means and the lower surface side heating means;
The local heating device according to claim 1, further comprising an exhaust unit that exhausts the air in the cover.
前記基板の上面から、前記局所位置を冷却する上面側冷却手段と、
前記基板の下面から、前記局所位置を冷却する下面側冷却手段と、
前記上面側冷却手段および前記下面側冷却手段を稼動または停止させる冷却調節部と
をさらに備えた、請求項1から8のいずれかに記載の局所加熱装置。
An upper surface side cooling means for cooling the local position from the upper surface of the substrate;
A lower surface side cooling means for cooling the local position from the lower surface of the substrate;
The local heating device according to any one of claims 1 to 8, further comprising a cooling adjustment unit that operates or stops the upper surface side cooling unit and the lower surface side cooling unit.
前記上面側加熱手段および前記下面側加熱手段が、前記上面側加熱手段および前記下面側加熱手段の加熱位置と比較して、それぞれ前記基板から離された状態で、
前記上面側冷却手段および前記下面側冷却手段が、前記移動手段により、前記局所位置に位置決めされて、前記基板の前記局所位置を冷却する、請求項9に記載の局所加熱装置。
The upper surface side heating means and the lower surface side heating means are respectively separated from the substrate in comparison with the heating positions of the upper surface side heating means and the lower surface side heating means,
The local heating apparatus according to claim 9, wherein the upper surface side cooling unit and the lower surface side cooling unit are positioned at the local position by the moving unit to cool the local position of the substrate.
前記上面側加熱手段および前記下面側加熱手段が、前記上面側加熱手段および前記下面側加熱手段の加熱位置と比較して、それぞれ前記基板から離され、かつ、前記上面側加熱手段および前記下面側加熱手段が前記局所位置に位置決めされた状態で、
前記上面側冷却手段および前記下面側冷却手段が、前記基板の前記局所位置を冷却する、請求項9に記載の局所加熱装置。
The upper surface side heating means and the lower surface side heating means are separated from the substrate and compared with the heating positions of the upper surface side heating means and the lower surface side heating means, respectively, and the upper surface side heating means and the lower surface side With the heating means positioned at the local position,
The local heating device according to claim 9, wherein the upper surface side cooling unit and the lower surface side cooling unit cool the local position of the substrate.
前記上面側冷却手段および前記下面側冷却手段の高さを制御する高さ制御手段をさらに備えた、請求項9から11のいずれかに記載の局所加熱装置。   The local heating device according to any one of claims 9 to 11, further comprising a height control unit that controls heights of the upper surface side cooling unit and the lower surface side cooling unit. 断熱性を有する板状の断熱板をさらに備え、
前記上面側加熱手段と前記基板との間に前記断熱板が挿入された状態で、
前記上面側冷却手段および前記下面側冷却手段が、前記基板の前記局所位置を冷却する、請求項9から12のいずれかに記載の局所加熱装置。
It further comprises a plate-like heat insulating plate having heat insulating properties,
With the heat insulating plate inserted between the upper surface side heating means and the substrate,
The local heating apparatus according to claim 9, wherein the upper surface side cooling unit and the lower surface side cooling unit cool the local position of the substrate.
前記上面側加熱手段および前記下面側加熱手段を複数備え、
複数の前記上面側加熱手段および前記下面側加熱手段には、前記基板の加熱温度がそれぞれ異なるように制御する温度制御手段が設けられた、請求項9から13のいずれかに記載の局所加熱装置。
A plurality of the upper surface side heating means and the lower surface side heating means,
The local heating apparatus according to any one of claims 9 to 13, wherein a plurality of the upper surface side heating means and the lower surface side heating means are provided with temperature control means for controlling the heating temperature of the substrate to be different from each other. .
JP2009146624A 2008-06-20 2009-06-19 Local heating device Withdrawn JP2010026507A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009146624A JP2010026507A (en) 2008-06-20 2009-06-19 Local heating device

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008161710 2008-06-20
JP2009146624A JP2010026507A (en) 2008-06-20 2009-06-19 Local heating device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2010026507A true JP2010026507A (en) 2010-02-04

Family

ID=41732339

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009146624A Withdrawn JP2010026507A (en) 2008-06-20 2009-06-19 Local heating device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2010026507A (en)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011033280A (en) * 2009-08-03 2011-02-17 Sharp Corp Heater unit and inkjet coating equipment including the heater unit
JP2011200839A (en) * 2010-03-26 2011-10-13 Sharp Corp Film forming apparatus and film forming method
JP2011224463A (en) * 2010-04-19 2011-11-10 Sharp Corp Apparatus and method for local heating
JP2012151258A (en) * 2011-01-19 2012-08-09 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Substrate processing apparatus, and substrate processing method
WO2018180803A1 (en) * 2017-03-29 2018-10-04 住友重機械工業株式会社 Film forming apparatus and film forming method
CN110108114A (en) * 2019-06-10 2019-08-09 无锡佰特尔工业设备有限公司 A kind of air-flotation type lifting dedicated inclined-plane air hose of baking oven

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011033280A (en) * 2009-08-03 2011-02-17 Sharp Corp Heater unit and inkjet coating equipment including the heater unit
JP2011200839A (en) * 2010-03-26 2011-10-13 Sharp Corp Film forming apparatus and film forming method
JP2011224463A (en) * 2010-04-19 2011-11-10 Sharp Corp Apparatus and method for local heating
JP2012151258A (en) * 2011-01-19 2012-08-09 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Substrate processing apparatus, and substrate processing method
WO2018180803A1 (en) * 2017-03-29 2018-10-04 住友重機械工業株式会社 Film forming apparatus and film forming method
CN110446558A (en) * 2017-03-29 2019-11-12 住友重机械工业株式会社 Membrane formation device and film forming method
JPWO2018180803A1 (en) * 2017-03-29 2020-02-06 住友重機械工業株式会社 Film forming apparatus and film forming method
CN110108114A (en) * 2019-06-10 2019-08-09 无锡佰特尔工业设备有限公司 A kind of air-flotation type lifting dedicated inclined-plane air hose of baking oven
CN110108114B (en) * 2019-06-10 2024-02-06 无锡佰特尔工业设备有限公司 Inclined plane tuber pipe dedicated to air supporting formula lift oven

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2010026507A (en) Local heating device
JP6317933B2 (en) Bonded substrate manufacturing apparatus and bonded substrate manufacturing method
KR20090031271A (en) Normal pressure drying device, substrate processing apparatus and substrate processing method
KR20110026382A (en) Pre-drying device and pre-drying method
JP5236334B2 (en) Screen printing method and substrate printing apparatus with substrate temperature control function
JP2010534925A (en) Apparatus and method for forming thin film electronic devices on thermoformed polymer substrates
CN1951692B (en) Screen printing device and method
JP2012009527A (en) Heat processing apparatus and heat processing method
JP4896776B2 (en) Reflow device
JP3770237B2 (en) Electronic device manufacturing apparatus and electronic device manufacturing method
JP2011125797A (en) Liquid-drop discharge device
JP2010164652A (en) Local heating apparatus
JP6925005B2 (en) Coating device
WO2012008218A1 (en) Heating/drying apparatus for manufacturing film, film manufacturing apparatus provided with the heating/drying apparatus, and film manufacturing method
WO2018132532A1 (en) Wave and selective soldering apparatus and method using a slot soldering nozzle and at least one selective soldering nozzle within a solder pot
JP2010078652A (en) Local heating apparatus
JP5718663B2 (en) Printed circuit board printing apparatus and method
JP2005235917A (en) Method and equipment for semiconductor packaging
JP4636495B2 (en) Coating device for manufacturing an organic EL display device
JP2014192434A (en) Substrate warpage correction device, substrate warpage correction method, marking apparatus and marking method
KR102288925B1 (en) Module for aligning bonding tool and die bonding apparatus having the same
JP2010269449A (en) Printer and manufacturing method of film
KR102185034B1 (en) Module for aligning bonding tool and die bonding apparatus having the same
JP2005134013A (en) Device and method for manufacturing substrate
KR20170043114A (en) Apparatus and method of substrate soldering

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20120904