JP2010026507A - Local heating device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、基板上に局所的に形成された塗布液または熱硬化性の部材を、加熱して乾燥させることにより、膜を形成させる局所加熱装置に関する。 The present invention relates to a local heating apparatus that forms a film by heating and drying a coating solution or a thermosetting member locally formed on a substrate.
従来から、基板上に塗布液または塗布した熱硬化性の部材を乾燥させることによって、膜を形成させる技術は、多くの生産装置で利用されている。近年、塗布液を乾燥させることによって、基板上の任意の場所に膜を形成させるパターニング技術が注目されている。この技術には、ディスペンサやインクジェットを用いたものがある。これらは、従来のフォトリソグラフィによる、真空プロセスを用いたパターン生成方法に代わり、脱真空プロセスが使用可能な技術として注目が高まっている。 Conventionally, a technique for forming a film by drying a coating solution or a thermosetting member coated on a substrate has been used in many production apparatuses. In recent years, a patterning technique for forming a film at an arbitrary position on a substrate by drying a coating liquid has attracted attention. This technique uses a dispenser or an ink jet. These techniques are attracting attention as technologies that can use a vacuum removal process instead of a pattern generation method using a vacuum process by conventional photolithography.
たとえば、インクジェットによるパターニング技術を用いた生産装置としては、カラーフィルタ(CF)パネルを生産する装置がある。この装置では、赤色(R)、緑色(G)および青色(B)の各色からなるインクを、ガラス基板上に形成されているRGB用画素領域内に着弾させる。そして、各画素を埋めることによって、カラーフィルタ(CF)が形成される。ここで、画素領域内に塗布されたインクは、オーブンなどによって基板全体が加熱されることによって、乾燥されて膜を形成する。 For example, as a production apparatus using an inkjet patterning technique, there is an apparatus for producing a color filter (CF) panel. In this apparatus, ink composed of each color of red (R), green (G), and blue (B) is landed in an RGB pixel region formed on a glass substrate. Then, a color filter (CF) is formed by filling each pixel. Here, the ink applied in the pixel region is dried to form a film by heating the entire substrate by an oven or the like.
パターニング技術は、全面印刷技術としてのみならず、混色または、夾雑物の混入もしくは付着等の欠陥部を修復するための技術としても広く用いられている。たとえば、カラーフィルタ(CF)パネルにおいて、インクの混色が発生した欠陥画素または夾雑物が混入した欠陥画素の場合である。この場合、欠陥画素のインク層膜を除去した後、除去部分に再度インクを塗布して、加熱して乾燥させることによって画素を再形成する。 The patterning technique is widely used not only as a full-surface printing technique but also as a technique for repairing a defective portion such as color mixing or mixing or adhesion of impurities. For example, in a color filter (CF) panel, a defective pixel in which color mixing of ink has occurred or a defective pixel in which impurities are mixed. In this case, after removing the ink layer film of the defective pixel, the ink is again applied to the removed portion, and the pixel is re-formed by heating and drying.
オーブンまたはホットプレートなどで基板全体を加熱することにより、塗布したインクを乾燥させる方法を開示した先行文献として特許文献1がある。基板全体を加熱する場合、専用の大型加熱装置や耐熱性に優れた搬送ロボットが必要である。また、加熱された基板を次工程に進めるために、冷却する場所や時間も必要となる。そのため、製造コストの増加および製造時間が長くなるといった問題があった。
特に、加熱して乾燥させる場所が少ない場合は、局所的に加熱して乾燥させる方が、製造コストおよび製造時間を削減することができる。そのため、インクを塗布した部分だけを、局所的に加熱して乾燥させる技術への期待は高い。 In particular, when there are few places to heat and dry, manufacturing cost and manufacturing time can be reduced by locally heating and drying. For this reason, there is a high expectation for a technique in which only the portion where the ink is applied is locally heated and dried.
局所的に加熱して乾燥させる方法としては、ホットプレートなどで使用される発熱体を基板に近接させて、乾燥させる方法が考えられる。それ以外にも、レーザーまたは赤外ランプ(赤外ヒータ)あるいはハロゲンヒータなどを用いて、基板を加熱する方法を開示した先行文献として、特許文献2、特許文献3または特許文献4がある。
As a method of locally heating and drying, a method of drying by bringing a heating element used in a hot plate or the like close to the substrate can be considered. In addition,
さらに、基板の上下両面から加熱する方法として、熱風を吹き付ける方法、あるいは、ヒータなどで加熱する方法を開示した先行文献として、特許文献5または特許文献6がある。カラーフィルタ(CF)の修正方法を開示した先行文献として特許文献7がある。特許文献7には、カラーフィルタ層の欠陥部に新たなカラーフィルタ材を埋め込み、加熱された部材をその欠陥部に上方から接近させて、カラーフィルタ材を硬化させる方法が開示されている。
Furthermore, as a method of heating from both the upper and lower surfaces of the substrate, there is
基板を加熱する装置には、電子回路基板に半田付けするためのリフロー装置もある。リフロー装置には、冷却風を基板に吹き付ける機構、または、加熱後の熱風を回収する機構が設けられているものもある。このようなリフロー装置またはリフロー方法を開示した先行文献として、特許文献8から12がある。特許文献8に開示された半田付け方法では、半田を熱風で溶融して半田付けすると共に、基板の電子回路側に熱風が拡散するのを防止するために、冷却風を吹き付けている。 An apparatus for heating a substrate includes a reflow apparatus for soldering to an electronic circuit board. Some reflow apparatuses are provided with a mechanism for blowing cooling air onto a substrate or a mechanism for collecting hot air after heating. Patent Documents 8 to 12 are prior art documents disclosing such a reflow apparatus or reflow method. In the soldering method disclosed in Patent Document 8, the solder is melted with hot air and soldered, and cooling air is blown in order to prevent the hot air from diffusing to the electronic circuit side of the substrate.
特許文献9に開示された熱風噴射型加熱装置では、基板の上方に設けた複数のノズルから熱風を吹き付けて基板を加熱している。基板に当たって方向転換した冷えた熱風を、ノズルの間に設けられた回収口から強制的に回収して、基板への熱供給の効率化を図っている。 In the hot air jet type heating device disclosed in Patent Document 9, hot air is blown from a plurality of nozzles provided above the substrate to heat the substrate. The cold hot air that has changed its direction upon hitting the substrate is forcibly recovered from a recovery port provided between the nozzles to increase the efficiency of heat supply to the substrate.
特許文献10に開示されたリフロー装置では、回路基板の下方から冷風を吹き付けることにより、回路基板の上面と下面との間に温度差を形成している。このようにして、両面実装回路基板の下面に前工程で既に半田付けされている電子部品の脱落と熱劣化とを防止している。
In the reflow apparatus disclosed in
特許文献11に開示されたリフロー装置では、基板の一面を加熱手段により加熱しているときに、冷風を冷却プレートの冷風吹出穴から基板の他面に供給して冷却している。このようにして、その他面の実装部品を熱的に保護している。 In the reflow apparatus disclosed in Patent Document 11, when one surface of the substrate is heated by the heating means, cold air is supplied to the other surface of the substrate from the cold air blowing hole of the cooling plate to cool. In this way, the mounting components on the other surface are thermally protected.
特許文献12に開示されたリフローソルダリング装置では、プリント基板と電子部品とが、熱風ブローノズルの下を通過した後、冷風ブローノズルの下を通過する。このとき、半田ペーストが溶融された後、半田が固化される。このようにして、プリント基板に電子部品を確実に実装することができるようにしている。 In the reflow soldering device disclosed in Patent Document 12, the printed circuit board and the electronic component pass under the hot air blow nozzle and then pass under the cold air blow nozzle. At this time, after the solder paste is melted, the solder is solidified. In this way, electronic components can be reliably mounted on the printed circuit board.
特許文献2に記載されたレーザーによる加熱方法では、加熱場所と非加熱場所の温度勾配が急であるため、基板にストレスが加わる。その結果、加熱場所近傍の機械的強度が弱くなるといった問題があった。一般的に、ランプを使用した方法では、加熱場所と非加熱場所の温度勾配はレーザーよりも緩やかになる。ただし、ランプ交換の頻度が高いため、その都度、装置を停止させなければならない。そのため、装置の操業度が低下し、生産効率が低下するといった問題がある。
In the heating method using a laser described in
特許文献3または特許文献4に記載されたヒータによる加熱方式では、ヒータとインク滴の隙間を狭くしないと、インクが乾燥しない。一方、隙間を狭くしすぎると、溶媒蒸気が拡散しないため、高濃度溶媒雰囲気となり、乾燥が抑制されるため、乾燥時間が長くなるといった問題がある。特許文献5および特許文献6に記載された加熱方法には、下側熱源を水平方向に移動させる機構がない。そのため、加熱対象となる基板が大きくなった場合には、加熱領域が大きくなるため、消費電力の増大および製造コストの増大という問題を有していた。
In the heating method using a heater described in Patent Document 3 or Patent Document 4, the ink does not dry unless the gap between the heater and the ink droplet is narrowed. On the other hand, if the gap is too narrow, the solvent vapor does not diffuse, resulting in a high-concentration solvent atmosphere, and drying is suppressed. The heating methods described in
特許文献1に記載された溶媒蒸気を制御する方法において、制御部材に加熱源を搭載する構成が考えられる。特許文献1に記載された方法では、乾燥速度を均一にするため、板材に複数の穴が空けられている。局所的に塗布した液滴を乾燥させるために、これを応用しようとすると、複数の穴と塗布部との相対位置により、乾燥速度が変動するといった問題がある。特許文献1では、これを解決する手段の記載がなく、応用は困難である。
In the method for controlling solvent vapor described in
また、仮に、板材に加熱源を取り付け、板材が加熱器としての機能を持ったものとする。この場合、複数の穴があることにより、板材と基板との間に存在する気体(空気)を加熱できたとしても、あらゆる穴の近傍で、加熱された空気が上方に上がろうとする対流がおこる。その結果、加熱された空気が、塗布部のほうに流れるような流れが発生しにくくなり、乾燥効率が低下するといった問題もある。 Further, it is assumed that a heating source is attached to the plate material, and the plate material has a function as a heater. In this case, even if the gas (air) existing between the plate material and the substrate can be heated due to the presence of the plurality of holes, there is convection in which the heated air tends to rise upward in the vicinity of every hole. It happens. As a result, there is a problem that the flow of heated air hardly flows toward the application part, and the drying efficiency is lowered.
特許文献7に記載されたカラーフィルタの修正方法では、基板の加熱の際、欠陥部の上方のみから加熱を行なっている。この場合、カラーフィルタ材は、表面の部分から溶剤が乾燥することになる。そのため、カラーフィルタ材の表面に乾燥した膜が形成され、カラーフィルタ材の内部の溶剤の乾燥において妨げとなる。この結果、乾燥時間が長くなるといった問題がある。 In the method for correcting a color filter described in Patent Document 7, heating is performed only from above the defective portion when the substrate is heated. In this case, the solvent of the color filter material is dried from the surface portion. Therefore, a dry film is formed on the surface of the color filter material, which hinders drying of the solvent inside the color filter material. As a result, there is a problem that the drying time becomes long.
特許文献8に記載された半田付け方法では、半田が硬化しやすいため、基板を加熱する際に、冷風も同時に基板に吹き付けている。そのため、熱風の拡散を抑制することはできるが、基板上の加熱温度を所定の温度範囲に維持することが難しい。よって、基板上の塗布液または熱硬化性の部材を乾燥させる方法にこの半田付け方法を応用することは難しい。 In the soldering method described in Patent Document 8, since the solder is easily cured, when the substrate is heated, cold air is simultaneously blown onto the substrate. Therefore, although the diffusion of hot air can be suppressed, it is difficult to maintain the heating temperature on the substrate within a predetermined temperature range. Therefore, it is difficult to apply this soldering method to a method of drying a coating solution or a thermosetting member on a substrate.
特許文献9に記載された熱風噴射型加熱装置は、基板を広範囲に加熱する装置であるため、加熱された基板を搬送するために耐熱性の高い搬送系が必要となる。耐熱性を備えた搬送系は高価であり、製造コストの増加の要因となる。 Since the hot-air jet type heating device described in Patent Document 9 is a device that heats a substrate over a wide range, a transport system having high heat resistance is required to transport the heated substrate. A conveyance system having heat resistance is expensive and causes an increase in manufacturing cost.
特許文献10に記載されたリフロー装置は、基板を加熱する炉を有している。炉は、基板を収納するように形成されているため、基板が大型化すると炉も大型化する。よって、大型の基板を処理する場合には、設備コストが増大して製造コストの増加の要因となる。
The reflow apparatus described in
特許文献11に記載されたリフロー装置では、スリット状または多数の小穴が形成された冷却プレートが、基板搬送方向に対して直交する向きに配置されている。基板が大型化すると、大型の冷却プレートおよび多量のエアを冷却する構造も必要になる。よって、大型の基板を処理する場合には、設備コストが増大して製造コストの増加の要因となる。 In the reflow apparatus described in Patent Document 11, a cooling plate in which slits or a large number of small holes are formed is arranged in a direction orthogonal to the substrate transport direction. When the substrate is enlarged, a large cooling plate and a structure for cooling a large amount of air are required. Therefore, when processing a large substrate, the equipment cost increases, which causes an increase in manufacturing cost.
特許文献12に記載のリフローソルダリング装置では、基板を搬送しながら加熱および冷却するため、搬送系に耐熱性が必要になる。耐熱性を備えた搬送系は高価であり、製造コストの増加の要因となる。 In the reflow soldering apparatus described in Patent Document 12, heating and cooling are performed while a substrate is being transported, and thus heat resistance is required for the transport system. A conveyance system having heat resistance is expensive and causes an increase in manufacturing cost.
本発明は上記の問題点に鑑みなされたものであって、製造コストおよび製造時間を削減するとともに、基板に過剰なストレスを与えることなく、塗布液または熱硬化性の部材を均一に乾燥させることができる、局所加熱装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above problems, and reduces the manufacturing cost and the manufacturing time, and uniformly dries the coating solution or the thermosetting member without applying excessive stress to the substrate. An object of the present invention is to provide a local heating device that can perform the above-described process.
本発明に基づく局所加熱装置は、乾燥すると膜を形成する塗布液または熱硬化性の部材が少なくとも一部に形成された基板を局所的に加熱する装置である。局所加熱装置は、基板の上面から、基板に非接触な状態で加熱する上面側加熱手段と、基板の下面から、基板と接触または近接する状態で加熱する下面側加熱手段とを備えている。また、局所加熱装置は、基板の下面に接触した状態で、基板を上下に移動させて基準高さに設定する高さ調節手段と、上面側加熱手段および下面側加熱手段を基板の加熱対象となる局所位置に位置決めする移動手段を備えている。さらに、局所加熱装置は、基板の基準高さに対して、上面側加熱手段の高さが所定の間隔を有するように制御する制御手段を備えている。 The local heating device according to the present invention is a device that locally heats a substrate on which at least a part of a coating solution or a thermosetting member that forms a film when dried. The local heating device includes an upper surface side heating unit that heats the substrate from the upper surface in a non-contact state, and a lower surface side heating unit that heats the substrate from the lower surface in contact with or close to the substrate. In addition, the local heating device includes a height adjusting unit that sets the reference height by moving the substrate up and down while in contact with the lower surface of the substrate, and the upper surface side heating unit and the lower surface side heating unit are heated as the substrate. Moving means for positioning at a local position is provided. Further, the local heating apparatus includes a control unit that controls the height of the upper surface side heating unit to have a predetermined interval with respect to the reference height of the substrate.
このように構成することにより、基板上の塗布液または熱硬化性の部材を加熱する際、上面側加熱手段は基板と非接触状態で加熱する。そのため、基板上に、傷が発生または埃が付着することを防止することができる。また、下面側加熱手段は基板に接触または近接した状態で、塗布液または熱硬化性の部材を基板側から加熱するため、塗布液または熱硬化性の部材内部の溶媒を効率よく乾燥することができる。 With this configuration, when heating the coating liquid or thermosetting member on the substrate, the upper surface side heating means heats the substrate in a non-contact state. Therefore, it is possible to prevent scratches or dust from adhering to the substrate. In addition, the lower surface side heating means heats the coating solution or thermosetting member from the substrate side in contact with or close to the substrate, so that the solvent inside the coating solution or thermosetting member can be efficiently dried. it can.
本発明に基づく局所加熱装置では、下面側加熱手段が、高さ調節手段と一体として構成され、基板の下面に接触した状態で加熱を行なう下面側加熱装置を備えるようにしてもよい。この場合には、高さ調節手段を別途配置する必要がないため、装置の小型化および部品点数の削減が図れる。さらに、下面側加熱手段が、基板上の局所加熱位置の下面に接触した状態で、基準高さの設定および加熱を行なうため、より厳密に高さ条件を調節して加熱を行なうことができる。 In the local heating apparatus based on this invention, a lower surface side heating means may be comprised integrally with a height adjustment means, and you may make it provide the lower surface side heating apparatus which heats in the state which contacted the lower surface of the board | substrate. In this case, since it is not necessary to separately arrange the height adjusting means, the apparatus can be downsized and the number of parts can be reduced. Furthermore, since the reference height is set and heated while the lower surface side heating means is in contact with the lower surface of the local heating position on the substrate, the heating can be performed more precisely by adjusting the height condition.
本発明に基づく局所加熱装置では、移動手段は、上面側加熱手段および下面側加熱手段のそれぞれを独立して移動させる機構を有するようにしてもよい。この場合には、塗布液または熱硬化性の部材の特性に合わせて、上面側加熱手段および下面側加熱手段の稼動タイミングをずらせた運用が可能となる。 In the local heating device according to the present invention, the moving means may have a mechanism for independently moving the upper surface side heating means and the lower surface side heating means. In this case, an operation in which the operation timings of the upper surface side heating means and the lower surface side heating means are shifted in accordance with the characteristics of the coating solution or the thermosetting member is possible.
本発明に基づく局所加熱装置では、下面側加熱手段が、基板を吸着する手段を備えるようにしてもよい。この場合には、基板に反りなどが発生していたとしても、基板面を矯正した状態で加熱することができる。この結果、基板上の塗布液または熱硬化性の部材の加熱条件をより均一に管理することが可能となるため、乾燥後の塗布液または熱硬化性の部材の高品質化を図ることができる。 In the local heating device based on this invention, a lower surface side heating means may be provided with a means to adsorb | suck a board | substrate. In this case, even if the substrate is warped, it can be heated with the substrate surface corrected. As a result, it becomes possible to more uniformly manage the heating conditions of the coating solution or thermosetting member on the substrate, so that the quality of the coating solution or thermosetting member after drying can be improved. .
本発明に基づく局所加熱装置では、上面側加熱手段による加熱より先に下面側加熱手段による加熱を開始するようにしてもよい。この場合には、塗布液または熱硬化性の部材の基板側の部分、言い換えれば、部材のより内側から溶媒成分を乾燥させることができる。この結果、均一な膜形成が可能となるため、乾燥後の塗布液または熱硬化性の部材の品質を向上させることが可能となる。 In the local heating device based on this invention, you may make it start the heating by a lower surface side heating means before the heating by an upper surface side heating means. In this case, the solvent component can be dried from the substrate side of the coating solution or the thermosetting member, in other words, from the inside of the member. As a result, since a uniform film can be formed, the quality of the coating solution after drying or the thermosetting member can be improved.
本発明に基づく局所加熱装置では、上面側加熱手段による加熱温度より下面側加熱手段による加熱温度の方が低いようにしてもよい。この場合には、下面側加熱手段に要する電力量を削減できるため、消費電力の軽減を図ることができる。 In the local heating apparatus based on this invention, you may make it the heating temperature by a lower surface side heating means lower than the heating temperature by an upper surface side heating means. In this case, since the amount of power required for the lower surface side heating means can be reduced, the power consumption can be reduced.
本発明に基づく局所加熱装置では、上面側加熱手段および下面側加熱手段の少なくとも一方の加熱部周辺に形成したカバーと、カバー内の空気を排気する排気手段とを備えるようにしてもよい。この場合には、加熱部周辺に配置される基板搬送機構部への熱の影響を軽減することができる。その結果、基板搬送機構部の性能の劣化および部品の劣化を軽減して、ランニングコストを低下させることができる。また、加熱されることによって、塗布液または熱硬化性の部材から揮発する溶媒成分を回収することが可能となる。そのため、装置周辺での作業性の改善が図れる。 In the local heating apparatus based on this invention, you may make it provide the cover formed in the surroundings of at least one heating part of an upper surface side heating means and a lower surface side heating means, and the exhaust means which exhausts the air in a cover. In this case, it is possible to reduce the influence of heat on the substrate transport mechanism unit disposed around the heating unit. As a result, it is possible to reduce the running cost by reducing the deterioration of the performance of the board transfer mechanism and the deterioration of components. Moreover, it becomes possible to collect | recover the solvent component which volatilizes from a coating liquid or a thermosetting member by heating. Therefore, the workability around the apparatus can be improved.
本発明に基づく局所加熱装置では、上面側加熱手段および下面側加熱手段の少なくとも一方の可動領域全体に形成したカバーと、カバー内の空気を排気する排気手段とを備えるようにしてもよい。この場合には、複雑な構造とならないため、加熱部周辺にカバーを形成した場合と比べて、装置の製造コストを下げることができる。 In the local heating apparatus based on this invention, you may make it provide the cover formed in the whole movable area | region of at least one of an upper surface side heating means and a lower surface side heating means, and the exhaust means which exhausts the air in a cover. In this case, since the structure is not complicated, the manufacturing cost of the apparatus can be reduced as compared with the case where a cover is formed around the heating unit.
本発明に基づく局所加熱装置では、基板の上面から、局所位置を冷却する上面側冷却手段を備えるようにしてもよい。また、基板の下面から、局所位置を冷却する下面側冷却手段を備えるようにしてもよい。さらに、上面側冷却手段および下面側冷却手段を稼動または停止させる冷却調節部を備えるようにしてもよい。 In the local heating apparatus based on this invention, you may make it provide the upper surface side cooling means which cools a local position from the upper surface of a board | substrate. Moreover, you may make it provide the lower surface side cooling means which cools a local position from the lower surface of a board | substrate. Furthermore, you may make it provide the cooling adjustment part which operates or stops an upper surface side cooling means and a lower surface side cooling means.
このようにした場合、基板上の局所位置を加熱した後、上面側冷却手段および下面側冷却手段を稼動させて、加熱された局所位置を冷却することにより、冷却時間を短縮することができるため、基板処理時間を短縮することができる。 In such a case, after heating the local position on the substrate, the cooling time can be shortened by operating the upper surface side cooling means and the lower surface side cooling means to cool the heated local position. The substrate processing time can be shortened.
本発明に基づく局所加熱装置では、上面側加熱手段および下面側加熱手段が、上面側加熱手段および下面側加熱手段の加熱位置と比較して、それぞれ基板から離された状態で、上面側冷却手段および下面側冷却手段が、移動手段により、局所位置に位置決めされて、基板の前記局所位置を冷却するようにしてもよい。 In the local heating device according to the present invention, the upper surface side cooling means and the lower surface side heating means are respectively separated from the substrate in comparison with the heating positions of the upper surface side heating means and the lower surface side heating means. The lower surface side cooling means may be positioned at the local position by the moving means to cool the local position of the substrate.
このようにした場合、局所位置から加熱を終えた上面側加熱手段および下面側加熱手段を遠ざけた状態で、上面側冷却手段および下面側冷却手段を局所位置に接近させて、安定した冷却を行なうことができる。 In this case, with the upper surface side heating unit and the lower surface side heating unit having been heated from the local position being kept away, the upper surface side cooling unit and the lower surface side cooling unit are brought close to the local position to perform stable cooling. be able to.
本発明に基づく局所加熱装置では、上面側加熱手段および下面側加熱手段が、上面側加熱手段および下面側加熱手段の加熱位置と比較して、それぞれ基板から離され、かつ、上面側加熱手段および下面側加熱手段が局所位置に位置決めされた状態で、上面側冷却手段および下面側冷却手段が、基板の局所位置を冷却するようにしてもよい。 In the local heating device according to the present invention, the upper surface side heating unit and the lower surface side heating unit are separated from the substrate as compared with the heating positions of the upper surface side heating unit and the lower surface side heating unit, respectively, and the upper surface side heating unit and The upper surface side cooling unit and the lower surface side cooling unit may cool the local position of the substrate in a state where the lower surface side heating unit is positioned at the local position.
このようにした場合、局所位置から加熱を終えた上面側加熱手段および下面側加熱手段を遠ざけた後、上面側冷却手段および下面側冷却手段を移動することなく稼動させて、局所位置を冷却することができる。よって、加熱後すぐに冷却することができるため、基板処理時間の短縮を図ることができる。 In this case, the upper surface side heating unit and the lower surface side heating unit that have finished heating from the local position are moved away, and then the upper surface side cooling unit and the lower surface side cooling unit are operated without moving to cool the local position. be able to. Therefore, since the substrate can be cooled immediately after heating, the substrate processing time can be shortened.
本発明に基づく局所加熱装置では、上面側冷却手段および下面側冷却手段の高さを制御する高さ制御手段をさらに備えるようにしてもよい。この場合、局所位置に対して上面側冷却手段および下面側加熱手段を精度良く配置することができ、好適な冷却条件で冷却することができる。 In the local heating apparatus based on this invention, you may make it further provide the height control means which controls the height of an upper surface side cooling means and a lower surface side cooling means. In this case, the upper surface side cooling means and the lower surface side heating means can be accurately arranged with respect to the local position, and cooling can be performed under suitable cooling conditions.
本発明に基づく局所加熱装置では、断熱性を有する板状の断熱板をさらに備え、上面側加熱手段と基板との間に断熱板が挿入された状態で、上面側冷却手段および下面側冷却手段が、基板の局所位置を冷却するようにしてもよい。この場合、加熱後の上面側加熱手段の余熱が、基板に伝わることを防止することができる。よって、基板の冷却を効率よく短時間で行なうことができる。 The local heating device according to the present invention further includes a plate-like heat insulating plate having heat insulating properties, and the upper surface side cooling means and the lower surface side cooling means with the heat insulating plate inserted between the upper surface side heating means and the substrate. However, the local position of the substrate may be cooled. In this case, it is possible to prevent the residual heat of the upper surface side heating means after the heating from being transmitted to the substrate. Therefore, the substrate can be efficiently cooled in a short time.
本発明の基づく局所加熱装置では、上面側加熱手段および下面側加熱手段を複数備え、複数の上面側加熱手段および下面側加熱手段には、基板の加熱温度がそれぞれ異なるように制御する温度制御手段が設けられるようにしてもよい。この場合、基板の上面側および下面側の複数の加熱手段に加熱工程を分担させることにより、それぞれの加熱手段の負荷を軽減することができる。よって、加熱手段の寿命を延ばすことができ、加熱手段の定期的な交換およびメンテナンスに要する時間の短縮を図ることができる。 The local heating apparatus according to the present invention includes a plurality of upper surface side heating units and lower surface side heating units, and the plurality of upper surface side heating units and lower surface side heating units control temperature of the substrate to be different from each other. May be provided. In this case, it is possible to reduce the load on each heating means by sharing the heating process among the plurality of heating means on the upper surface side and the lower surface side of the substrate. Therefore, the life of the heating means can be extended, and the time required for periodic replacement and maintenance of the heating means can be shortened.
本発明によると、製造コストおよび製造時間を削減するとともに、基板に過剰なストレスを与えることなく、塗布液または熱硬化性の部材を均一に乾燥させることができる局所加熱装置を提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, while reducing manufacturing cost and manufacturing time, the local heating apparatus which can dry a coating liquid or a thermosetting member uniformly can be provided, without giving an excessive stress to a board | substrate. .
実施の形態1
以下、この発明に基づいた本発明の実施の形態における局所加熱装置について、図を参照しながら説明する。
Hereinafter, a local heating device according to an embodiment of the present invention based on the present invention will be described with reference to the drawings.
図1は、本発明の実施の形態1に係る局所加熱装置の構造を示す斜視図である。図1に示すように、局所加熱装置1は、ベース50の上面に支持部材51が、Y方向に2列平行に、言い換えると、基板搬送方向に平行に配置されている。この2列の支持部材51の間に、支持部材51と直交するように軸が配置され、その軸に、基板20を搬送する搬送ローラ30が取付けられている。
FIG. 1 is a perspective view showing the structure of a local heating device according to
支持部材51の上面に、基板20をクランプまたは吸着するチャッキング31およびチャッキング31を移動させる際のガイド軸32が配置されている。基板20はチャッキング31によりクランプまたは吸着され、チャッキング31がガイド軸32上を移動することにより搬送される。
On the upper surface of the
ベース50の上面に2本の支柱52が配置され、この支柱52の間の上部にガントリ53が橋渡しされている。ガントリ53の側面には、基板20を上面側から加熱する上面側加熱手段である上面側加熱ユニット70aが配置されている。さらに、上面側加熱ユニット70aが移動する際のガイド軸41aおよび上面側加熱ユニット70aを移動させるボールねじ42aが、ガントリ53の側面の長手方向に設けられている。ガントリ53の右上部に、ボールねじ42aを回転させるモータ40aが配置されている。これらの構成から、上面側加熱ユニット70aは、X軸方向、言い換えれば、ガントリ53の長手方向に移動可能とされている。
Two
ベース50の上面で、上面側加熱ユニット70aに対応する位置に、下面側加熱手段である下面側加熱ユニット70bが配置されている。下面側加熱ユニット70bが移動する際のガイド軸41bおよび下面側加熱ユニット70bを移動させるボールねじ42bが、ボールねじ42aに平行に配置されている。モータ40aの位置に対応するベース50の上面に、ボールねじ41bを回転させるモータ40bが配置されている。これらの構成により、下面側加熱ユニット70bも、X軸方向に移動可能とされている。モータ40aおよびモータ40bは、制御ユニット90と連結されている。上面側加熱ユニット70aおよび下面側加熱ユニット70bは、制御ユニット90によって駆動制御されている。
On the upper surface of the
以下に、上面側加熱ユニット70aおよび下面側加熱ユニット70bを、基板20上の局所加熱位置へ移動させる構成を説明する。なお、局所加熱装置1に基板20が投入される前に、基板20上の塗布液または熱硬化性の部材は形成されているものとする。たとえば、塗布液とは、有機EL材料インクであり、熱硬化性の部材とは、熱硬化性ポリイミドインクなどである。その塗布液または熱硬化性の部材の形成された面積および中心位置の座標(Xn,Yn)(n≧1)などの情報は既知であるものとして説明する。
Below, the structure which moves the upper surface
局所加熱装置1は、基板端面を検出する図示しない位置センサを備えている。基板端面からの基板20の送り量を把握して、Y軸方向の座標位置決めを行っている。また、X軸方向の座標位置決めは、上面側加熱ユニット70aおよび下面側加熱ユニット70bをそれぞれX軸方向に駆動するモータ40a、40bにより行っている。
The
モータとしては、ステッピングモータまたはリニアモータなどが使用可能である。モータ40aおよびモータ40bは、回転数および送り量を検出するエンコーダを有しているため、X軸方向の正確な位置決め制御が可能である。上面側加熱ユニット70aおよび下面側加熱ユニット70bは、それぞれ別のモータ40a、モータ40bにより制御されているため、独立して移動することが可能となっている。基板20の搬送システムとしては、図1では搬送コロを用いて説明したが、エア浮上式の搬送システムでも可能である。
As the motor, a stepping motor or a linear motor can be used. Since the
図2は、本実施形態に係る局所加熱装置の構造を示す断面図である。図1において、説明した構成要素については、同じ参照番号を付し、説明を繰り返さない。図2に示すように、基板20の下方に、下面側加熱ユニット70bおよび基板の高さを調節する高さ調節手段である高さ調節ユニット100が設けられている。一方、基板20の上方に、上面側加熱ユニット70aが設けられている。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing the structure of the local heating device according to this embodiment. In FIG. 1, the same components as those described are denoted by the same reference numerals, and description thereof will not be repeated. As shown in FIG. 2, a lower surface
下面側加熱ユニット70bは、セラミックヒータなどのヒータ71bと、ヒータ71bを搭載する保持具72bと、保持具72bを移動させるボールねじ74bと、保持具72bをZ軸方向に位置決めするステッピングモータ75bと、保持具72bが移動する際のガイド軸73bと、それらを搭載するベース78bとから構成されている。また、ステッピングモータ75bは、回転数を検出する図示しないエンコーダを有し、Z軸方向の正確な位置決め制御が可能になっている。
The lower surface
上面側加熱ユニット70aは、セラミックヒータあるいは熱風ヒータなどのヒータ71aと、ヒータ71aを搭載する保持具72aと、保持具72aを移動させるボールねじ74aと、保持具72aをZ軸方向に位置決めするステッピングモータ75aと、保持具72aが移動する際のガイド軸73aと、それらを搭載するベース78aから構成されている。また、ステッピングモータ75aは、回転数を検出する図示しないエンコーダを有し、Z軸方向の正確な位置決め制御が可能になっている。
The upper surface
高さ調節ユニット100は、基板の下面側に接する端子101と、端子101を移動させるボールねじ74cと、端子101をZ軸方向に位置決めするステッピングモータ75cと、端子101が移動する際のガイド軸73cと、それらを搭載するベース78cから構成されている。また、ステッピングモータ78cは、回転数を検出する図示しないエンコーダを有し、Z軸方向の正確な位置決め制御が可能になっている。
The
実際に加熱が行なわれる際には、まず、高さ調節ユニット100の端子101により基板20の高さが調節される。具体的には、基板20が基準高さになるように、端子101を基板20の下面に接触させながら、上下させることによりZ軸方向の位置決めを行なう。基準高さは、基板の自重によるたわみを、基板を下面から支えることにより矯正した際の基準となる高さである。
When heating is actually performed, first, the height of the
次に、下面側加熱ユニット70bのヒータ71bが、基板20上に形成された塗布液または熱硬化性の部材21の略直下に位置決めされる。具体的には、ヒータ71bの中心を、基板20上の塗布液または熱硬化性の部材21の中心位置の座標(Xn,Yn)に合わせる。Y軸方向の位置決めは搬送ローラ30およびチャッキング31などから構成される基板搬送システムにより行なわれ、X軸方向の位置決めは、図1に示した移動手段であるモータ40bにより行なわれる。Z軸方向の位置決めは、ステッピングモータ75bにより、基板20の下面に接近するように制御される。この場合、ヒータ71bが、基板20の下面に接触するように行なってもよい。
Next, the
上面側加熱ユニット70aのヒータ71aは、基板20上に形成された塗布液または熱硬化性の部材21の略直上に位置決めされる。具体的には、ヒータ71aの中心を、基板20上の塗布液または熱硬化性の部材21の中心位置の座標(Xn,Yn)に合わせる。Y軸方向の位置決めは搬送ローラ30およびチャッキング31などから構成される基板搬送システムにより行なわれ、X軸方向の位置決めは、図1に示した移動手段であるモータ40aにより行われる。Z軸方向の位置決めは、ステッピングモータ75aにより、基板20の上面との距離が、所定の距離h1になるように制御される。
The
ヒータ71aは、基板20の上面と接触しない状態で、塗布液または熱硬化性の部材21に加熱して乾燥させる。基板20の上面には、配線パターンなどが形成されている。このように加熱することにより、ヒータ71aと基板20とが接触してしまい、基板20の上面に傷あるいは埃などが付着してしまうことを防いでいる。
The
なお、上面側加熱ユニット70aのヒータ71aには、セラミックヒータあるいは熱風ヒータなどの熱源を使用することができる。また、下面側加熱ユニット70bのヒータ71bには、セラミックヒータなどが使用できる。本発明の実施においては、上面側加熱ユニット70aのヒータ71aには熱風ヒータを使用した。下面側加熱ユニット70bのヒータ71bにはセラミックヒータを使用した。
A heat source such as a ceramic heater or a hot air heater can be used as the
実施の形態2
図3は、本発明の実施の形態2に係る局所加熱装置の構造を示す断面図である。図3に示すように、基板20の下方に、下面側加熱ユニット70bおよび基板の高さを調節する高さ調節ユニット100が設けられている。一方、基板20の上方に、上面側加熱ユニット70aが設けられている。高さ調節ユニット100以外は、実施の形態1と同様であるので説明を繰り返さない。
FIG. 3 is a cross-sectional view showing the structure of the local heating device according to
高さ調節ユニット100は、基板の下面側に接する端子101と、端子101を移動させるボールねじ74cと、端子101をZ軸方向に位置決めするステッピングモータ75cと、端子101が移動する際のガイド軸73cと、それらを搭載するベース78dとから構成されている。また、ステッピングモータ75cは、回転数を検出する図示しないエンコーダを有し、Z軸方向の正確な位置決め制御が可能になっている。
The
ベース78dは、下面側加熱ユニット70bを移動させるボールねじ42b上で、下面側加熱ユニット70bのベース78bと連結されている。そのため、高さ調節ユニット100を下面側加熱ユニット70bと連動して移動させることができる。その結果、高さ調節ユニット100が基板20の高さを調節する位置と、下面側加熱ユニット70bが加熱する位置とのX軸方向のずれが発生することを防ぐことができ、より位置精度を向上させて加熱を行なうことができる。
The
実施の形態3
図4は、本発明の実施の形態3に係る局所加熱装置の構造を示す断面図である。図4に示すように、基板20の下方に、下面側加熱ユニット70bが設けられている。一方、基板20の上方に、上面側加熱ユニット70aが設けられている。上面側加熱ユニット70aは、実施の形態1と同様であるため説明を繰り返さない。本発明の実施の形態では、下面側加熱ユニット70bが、基板20の高さを調節する高さ調節手段と一体として構成されている。
Embodiment 3
FIG. 4 is a cross-sectional view showing the structure of the local heating device according to Embodiment 3 of the present invention. As shown in FIG. 4, a lower surface
加熱が行なわれる際には、まず、下面側加熱ユニット70bのヒータ71bが、基板20上に形成された塗布液または熱硬化性の部材21の略直下に位置決めされる。具体的には、ヒータ71bの中心を、基板20上の塗布液または熱硬化性の部材21の中心位置の座標(Xn,Yn)に合わせる。Y軸方向の位置決めは、搬送ローラ30およびチャッキング31などから構成される基板搬送システムにより行なわれ、X軸方向の位置決めは、図1に示したモータ40bにより行われる。
When heating is performed, first, the
次に、下面側加熱ユニット70bにより基板20の高さが調節される。具体的には、基板20が基準高さになるように、ヒータ71bを基板20の下面に接触させながら、上下させることによりZ軸方向の位置決めを行なう。Z軸方向の位置決めは、ステッピングモータ75bにより制御される。
Next, the height of the
下面側加熱ユニット70bが高さ調節手段と一体として構成されることにより、下面側加熱ユニット70bが実際に加熱を行なう位置において、基板20の高さを調節することができる。そのため、上面側加熱ユニット70aと基板20の上面との所定の距離h1は、実際に加熱が行なわれる位置での距離となるため、より厳密に加熱条件を管理することができる。さらに、装置の部品点数を減らすことができ、装置の小型化を図ることができる。
By configuring the lower surface
図5は、図4に示した実施の形態3における局所加熱装置において、基板20の高さ調節を行なわなかった場合を示す一部断面図である。下面側加熱ユニット70bにより高さ調節を行なわない場合、搬送ローラ30間に間隔Lがあるため、基板20の自重によってたわみh2が発生する。その結果、上面側加熱ユニット70aと基板20との間の距離が、たわみh2分増加することになる。
FIG. 5 is a partial cross-sectional view showing a case where the height adjustment of
上面側加熱ユニット70aによる基板20上の塗布液または熱硬化性の部材21の加熱は、上面側加熱ユニット70aと基板20とを非接触な状態で行なう。基板20のたわみh2が発生すると、ヒータ71aと基板20上の塗布液または熱硬化性の部材21との距離が長くなるため、基板20上の加熱温度の低下をもたらし、乾燥に要する時間が長くなる。
Heating of the coating solution or the
表1は、ヒータ71aに熱風ヒータを使用して加熱した場合の、基板20上面とヒータ71aの下面との距離(ギャップ)を変化させて、基板20の裏面の温度を測定した結果である。図6(A)は、表1の内容をグラフ化したものである。図6(A)に示すように、ヒータ71aと基板20との距離が5mm長くなると、基板裏面温度は約10℃低下している。
Table 1 shows the results of measuring the temperature of the back surface of the
図6(B)は、基板20上に形成する塗布液または熱硬化性の部材21の乾燥温度と乾燥時間を測定した結果を示す図である。縦軸に乾燥時間を、横軸に乾燥温度を示している。一般的に、塗布液または熱硬化性の部材21は、乾燥温度が高いほど乾燥時間が短くなる。図6(B)に示すように、基板20の温度がt2からt1に低下した場合、乾燥時間はM2からM1に増加した。この温度変化の原因として、図6(A)に示すように、基板20とヒータ71aとの距離の変化がある。
FIG. 6B is a diagram showing the results of measuring the drying temperature and drying time of the coating liquid or
したがって、所定時間の乾燥を実施するシーケンス制御により、基板20を処理する場合、基板20とヒータ71aとの距離(h1+h2)のバラツキが大きいと、不十分な乾燥となり乾燥後の基板20の品質に大きな差異が発生する。また、基板20とヒータ71aとの距離(h1+h2)のバラツキを吸収するように乾燥時間を長く設定すると、処理タクトが増加して生産効率が低下してしまう。
Accordingly, when the
したがって、乾燥後の塗布液または熱硬化性の部材21の品質を維持するため、および、処理タクトを短くするためにも、基板20と上面側加熱ユニット70aとの距離を所定の距離h1に調節する必要がある。基板20と上面側加熱ユニット70aとの距離を所定の距離h1に調節する手段として、下面側加熱ユニット70bを使用する。下面側加熱ユニット70bの高さ制御を行なうステッピングモータ75bは、1mm以下の高精度位置決めが可能であり、基板20の高さを正確に調節することが可能である。その結果、塗布液または熱硬化性の部材21の加熱条件を安定させることが可能となる。
Therefore, in order to maintain the quality of the coating liquid after drying or the
上面側加熱ユニット70aおよび下面側加熱ユニット70bの位置決めは、図1に示した制御ユニット90によって制御される。また、基板20上の塗布液または熱硬化性の部材21の量によって、加熱時間および加熱温度を制御することが必要になるが、これらも制御ユニット90によって制御される。
Positioning of the upper surface
下面側加熱ユニット70bのヒータ71bについて説明する。図7(A)は、ヒータの外観を示す模式斜視図である。図7(A)に示すように、ヒータ71bは、保持具72b上に設けられ、加熱器171bおよび、加熱器171bの温度を測定する熱電対172bなどから構成されている。加熱器171bは、その内部に発熱体を搭載しており、配線により図示しないコントローラに接続される。
The
コントローラは制御ユニット90と接続されており、制御ユニット90から送信される信号に応じて、加熱器171bに印加する電圧の調整および電源のON/OFFを制御する。熱電対172bは図示しない温度調節計を介し、制御ユニット90と接続される。加熱器171bとして、たとえばセラミックヒータなどが利用できる。加熱器171bと、熱電対172bと、保持具72bとの固定には、たとえばセラミック接着剤が使用される。
The controller is connected to the
図7(B)は、ヒータ71bに基板20を吸着させる機構を設けた、ヒータ71cの構造を示す模式斜視図である。基本的には、ヒータ71cは、図7(A)に示したヒータ71bの外周部に、吸着テーブル176bを配置することで形成される。
FIG. 7B is a schematic perspective view showing the structure of the
吸着テーブル176bは、加熱器171bが基板20に接触する面に、1つ以上の吸着穴173bを有する。各吸着穴173bは、吸着テーブル176bの内部で配管174bにより接続され、配管174bは外部に繋がる配管175bに接続されている。吸着テーブル176bは、吸着穴173bを基板20に接触させて、配管175bを真空引きすることにより基板20を吸着することができる。
The suction table 176b has one or more suction holes 173b on the surface where the
このように基板20を下面側加熱ユニット70bに吸着することにより、基板20の局所的な反りを矯正することが可能となり、上面側加熱ユニット70aと基板20との距離をより均一に管理することが可能となる。加熱処理が終わって、吸着を解除する際、配管174bに圧縮空気または窒素を供給することにより確実な吸着解除が可能となる。
By adsorbing the
図8(A)は、基板20上の塗布液または熱硬化性の部材21の加熱状態を示す模式断面図である。基板20を加熱する順序としては、上面側加熱ユニット70aより先に下面側加熱ユニット70bによる加熱を実施することが望ましい。
FIG. 8A is a schematic cross-sectional view showing a heating state of the coating liquid or the
図8(A)に示すように、塗布液または熱硬化性の部材21が形成された基板20に対して、下面側加熱ユニット70bが下面側から接触した状態で加熱している。下面側加熱ユニット70bのヒータ71bで生成された熱が、基板20の下面から上面に向かって矢印で示す方向へ伝達する。よって、基板20内の温度は、ヒータ71bと接している高温部から、熱拡散部20bを経て基板20の上面に伝わるにつれて低下する。
As shown in FIG. 8A, the
基板20の上面に伝達した熱は、基板20と塗布液または熱硬化性の部材21との接触面21a側から伝わる。そのため、塗布液または熱硬化性の部材21は、基板20との接触面21a側から矢印で示す方向へ乾燥が開始される。この結果、塗布液または熱硬化性の部材21の内部の溶媒を十分乾燥させることが可能となり、乾燥後の基板20の品質を高く保つことができる。
The heat transmitted to the upper surface of the
図8(B)は、上面側加熱ユニット70aによる加熱を先に実施した場合の塗布液または熱硬化性の部材21の加熱状態を示す模式断面図である。上面側加熱ユニット70aのヒータ71aで生成された熱は、塗布液または熱硬化性の部材21の表面部21bに伝達する。そのため、塗布液または熱硬化性の部材21は、表面部21bから溶媒が乾燥することになる。
FIG. 8B is a schematic cross-sectional view showing a heating state of the coating liquid or the
図8(B)に示すように、塗布液または熱硬化性の部材21の表面部21bに膜が形成され、塗布液または熱硬化性の部材21の接触面21a側に残っている溶媒を乾燥させる妨げとなる。その結果、乾燥後の基板20の品質を均一に保つためには、より多くの加熱時間を必要とする。したがって、基板20を加熱する順序としては、上面側加熱ユニット70aより先に、下面側加熱ユニット70bによる加熱を実施することが望ましいことがわかる。
As shown in FIG. 8B, a film is formed on the surface portion 21b of the coating solution or
次に、上面側加熱ユニット70aおよび下面側加熱ユニット70bの加熱温度について説明する。基板20に加える熱は、基板20上の塗布液または熱硬化性の部材21を所定時間内に乾燥させる必要がある。上面側加熱ユニット70aによる加熱は、基板20および塗布液または熱硬化性の部材21に非接触状態で行われるため、ヒータ71aの熱は空気を介して伝わることになる。空気の主成分である窒素の熱伝導率は0.026E−2[W/cm/deg](温度300[K]において)と小さいため、上面側加熱ユニット70aによる加熱温度は高温にする必要がある。
Next, the heating temperature of the upper surface
一方、基板20としてSiO2を主成分とするガラスを考えると、その熱伝導率は0.014[W/cm/deg](温度274[K]において)であり、空気の熱伝導率の50倍程度である。そのため、下面側加熱ユニット70bから加える熱は、上面側加熱ユニット70aから加える熱より少なく設定することが可能となる。さらに、短時間に急速に基板20を加熱すると、加熱部分と非加熱部分の温度差により基板20内にストレスが発生し、変形や割れなどが発生し易くなる。そのため、下面側加熱ユニット70bによる加熱温度は、低く設定することが重要である。
On the other hand, when glass mainly composed of SiO 2 is considered as the
実施の形態4
図9は、本発明の実施の形態4に係る局所加熱装置の構造を示す断面図である。上面側加熱ユニット70aおよび下面側加熱ユニット70bは、実施の形態3と同様であるため説明を繰り返さない。図9に示すように、本発明の実施の形態の局所加熱装置1では、上面側加熱ユニット70aおよび下面側加熱ユニット70bは、それぞれカバー76aおよび76bで覆われている。さらに、カバー内の空気を排気する排気ユニット77aおよび77bを設けている。カバーおよび排気ユニットは、上面側加熱ユニット70aまたは下面側加熱ユニット70bのどちらか一方のみに設けてもよい。
Embodiment 4
FIG. 9 is a cross-sectional view showing the structure of the local heating device according to Embodiment 4 of the present invention. Since upper surface
排気ユニット77aおよび77bで排気することにより、カバー76aおよび76b内の空気は、矢印方向に移動し排出される。よって、ヒータ71aおよび71bから放出される熱が、周囲に拡散することを防ぐことが可能となる。また、塗布液または熱硬化性の部材21から揮発した溶媒やガスを回収することが可能となり、装置部周辺の作業環境を改善することができる。さらに、下面側加熱ユニット70bのヒータ71bによる高温な空気が、基板搬送システムの搬送ローラ30を劣化させるのを防ぎ、装置の安定稼働および長寿命化が図れる。
By exhausting with the
なお、排気ユニット77aおよび77bは、配管あるいは送風機から構成され、その取り付け位置は、図9に示した位置に限定するものではなく、上面側加熱ユニット70aおよび下面側加熱ユニット70bの形状による気流の流れを考慮して配置すべきである。
The
実施の形態5
図10は、本発明の実施の形態5に係る局所加熱装置の構造を示す断面図である。上面側加熱ユニット70aおよび下面側加熱ユニット70bは、実施の形態3と同様であるため説明を繰り返さない。図10に示すように、本発明の実施の形態の局所加熱装置1では、上面側加熱ユニット70aおよび下面側加熱ユニット70bの可動領域全体は、カバー79aおよび79bで覆われている。さらに、カバー内の空気を排気する排気ユニット77aおよび77bを配置している。カバーおよび排気ユニットは、上面側加熱ユニット70aまたは下面側加熱ユニット70bの可動領域全体のどちらか一方のみに設けてもよい。
FIG. 10 is a cross-sectional view showing the structure of the local heating device according to
このように構成することにより、上面側加熱ユニット70aまたは下面側加熱ユニット70bを搭載するベースに対して、カバーおよび排気ユニットを配置する必要がなく構成が簡略化される。よって、加熱部周辺にカバーを形成する場合よりも、装置化においてコストダウンが図れる。また、カバーにより覆われている空間が大きいため、熱が分散しやすく、上面側加熱ユニット70aおよび下面側加熱ユニット70bの構成要素への熱の影響が少なくなる。なお、排気ユニット77aおよび77bは、配管あるいは送風機から構成され、その取り付け位置は、図10に示した位置に限定されるものではなく、上面側加熱ユニット70aおよび下面側加熱ユニット70bの形状による気流の流れを考慮して配置すべきである。
With this configuration, it is not necessary to dispose the cover and the exhaust unit on the base on which the upper surface
実施の形態6
図11は、本発明の実施の形態6に係る局所加熱装置の構造を示す断面図である。上面側加熱ユニット70aは、実施の形態1と同様であるため説明を繰り返さない。図11に示すように、本発明の実施の形態の局所加熱装置1は、基板20の高さ調節手段を基板20の搬送システムに備えている。搬送ローラ30およびチャッキング31などから構成される基板搬送システムにより、上面側加熱ユニット70aと基板20との距離を調節するものである。
Embodiment 6
FIG. 11 is a cross-sectional view showing the structure of the local heating device according to Embodiment 6 of the present invention. Since upper surface
具体的には、基板搬送システムは、搬送ローラ30と、チャッキング31と、それらの支持部材51をZ軸方向に可動するZ軸ステージ54とを備えている。下面側加熱ユニット70bを基板20に接近させるには、Z軸ステージ54により、基板20の下面をヒータ71bの上端の高さに近づけるように、基板20を下方に移動させることにより行なう。
Specifically, the substrate transport system includes a
基板搬送システムにより基板20を上下させるため、基板20を搬送ローラ30およびチャッキング31でバランス良く保持しながら基板20を移動させることができる。下面側加熱ユニット70bが、図7(B)に示す吸着機構を有するようにしてもよい。
Since the
実施の形態7
図12は、本発明の実施の形態7に係る局所加熱装置の構造を示す断面図である。上面側加熱ユニット70aは、実施の形態1と同様であるため説明を繰り返さない。図12に示すように、本発明の実施の形態の局所加熱装置1は、基板20の搬送システムとしてエア浮上式を採用している。支持部材51上よりエア33を基板20に吹き付けて、浮上させて搬送する搬送システムである。具体的には、搬送システムは、基板20にエア33を供給する図示しないエアノズルと、基板20を保持するチャッキング31と、それらの支持部材51とを備える。
Embodiment 7
FIG. 12 is a cross-sectional view showing the structure of the local heating device according to Embodiment 7 of the present invention. Since upper surface
エア浮上式では、基板20は、所定の高さより上方を浮上して搬送される。加熱時は、所定の位置でエア供給が切られることにより基板20が下降し、下面側加熱ユニット70bに接近する。そのため、基板20は、搬送ローラ30上を転がることがないため、搬送中の傷の発生を防ぐことができる。下面側加熱ユニット70bが、図7(B)に示す吸着機構を有するようにしてよい。
In the air levitation type, the
実施の形態8
図13は、本発明の実施の形態8に係る局所加熱装置の構造を示す断面図である。上面側加熱ユニット70aは、実施の形態1と同様であるため説明を繰り返さない。図13に示すように、本発明の実施の形態の局所加熱装置1の基板20の高さ調節手段は、搬送ローラ30と、チャッキング31と、支持部材55と、Z軸ステージ56とを備える。搬送ローラ30およびチャッキング31は、支持部材55の上方に配置されている。Z軸ステージ56により、搬送ローラ30をZ軸方向に昇降させて、基板20の高さを調節する。
Embodiment 8
FIG. 13: is sectional drawing which shows the structure of the local heating apparatus based on Embodiment 8 of this invention. Since upper surface
搬送ローラ30の高さを、搬送する際には上昇させ、加熱する際には下降するように制御して、基板20を下面側加熱ユニット70bに接近させる。基板搬送システムにより基板20を上下させるため、基板20を搬送ローラ30およびチャッキング31でバランス良く保持しながら基板20を移動させることができる。下面側加熱ユニット70bが、図7(B)に示す吸着機構を有するようにしてもよい。
The height of the
また、下面側加熱ユニット70bをZ軸方向に移動可能にするために、ガイド軸73bと、ボールねじ74bと、ステッピングモータ75bとを設けてもよい。この場合、Z軸ステージ56による搬送ローラ30のZ軸方向の昇降と、下面側加熱ユニット70bのZ軸方向の昇降を同時に実施してもよい。下面側加熱ユニット70bが、図7(B)に示す吸着機構を有するようにしてよい。
Further, a
実施の形態9
図14は、本発明の実施の形態9に係る局所加熱装置の構造を示す断面図である。図14に示すように、本実施形態に係る局所加熱装置では、X軸方向に移動可能なベース78aに、上面側加熱ユニット70a、および、上面側冷却手段である上面側冷却ユニット80aを搭載している。また、X軸方向に移動可能なベース78bに、下面側加熱ユニット70b、および、下面側冷却手段である下面側冷却ユニット80bを搭載している。上面側冷却ユニット80aおよび下面側冷却ユニット80b以外の構成については、実施の形態1と同様であるため、説明を繰り返さない。
Embodiment 9
FIG. 14 is a cross-sectional view showing the structure of the local heating device according to Embodiment 9 of the present invention. As shown in FIG. 14, in the local heating device according to the present embodiment, an upper surface
上面側冷却ユニット80aは、冷風を噴出する冷却ノズル81aを備えている。冷却ノズル81aは、冷却ノズル81aの噴出口が基板20に対して対向するように配置される。また、冷却ノズル81aには、冷風を供給する図示しない配管が接続されている。さらに、上面側冷却ユニット80aを稼動または停止させる冷却調節部として、冷風の供給をON/OFFする電磁弁などが接続されている。
The upper surface
さらに、上面側冷却ユニット80aには、冷却ノズル81aを搭載する保持具82aと、保持具82aを移動させるボールねじ84aと、保持具82aをZ軸方向に位置決めする、高さ制御手段であるステッピングモータ85aと、保持具82aが移動する際のガイド軸83aとから構成されている。ステッピングモータ85aは、回転数を検出する図示しないエンコーダを有し、Z軸方向の正確な位置決め制御が可能になっている。
Further, the upper surface
下面側冷却ユニット80bは、冷風を噴出する冷却ノズル81bを備えている。冷却ノズル81bは、冷却ノズル81bの噴出口が基板20に対して対向するように配置される。また、冷却ノズル81bには、冷風を供給する図示しない配管が接続されている。さらに、下面側冷却ユニット80bを稼動または停止させる冷却調節部として、冷風の供給をON/OFFする電磁弁などが接続されている。
The lower surface
さらに、下面側冷却ユニット80bには、冷却ノズル81bを搭載する保持具82bと、保持具82bを移動させるボールねじ84bと、保持具82bをZ軸方向に位置決めする、高さ制御手段であるステッピングモータ85bと、保持具82bが移動する際のガイド軸83bとから構成されている。ステッピングモータ85bは、回転数を検出する図示しないエンコーダを有し、Z軸方向の正確な位置決め制御が可能になっている。
Further, the lower surface
以下、本実施形態の局所加熱装置1を用いて基板20の局所位置を加熱および冷却する方法について説明する。基板20は、基準高さに配置されているものとして説明する。
Hereinafter, a method for heating and cooling the local position of the
加熱を行なう際には、上面側加熱ユニット70aのヒータ71aが、基板20上に形成された塗布液または熱硬化性の部材21の略直上に位置決めされる。また、下面側加熱ユニット70bのヒータ71bが、基板20上に形成された塗布液または熱硬化性の部材21の略直下に位置決めされる。
When heating is performed, the
その後、下面側加熱ユニット70bのヒータ71bを基板20の下面に接触または近接する状態で加熱する。また、上面側加熱ユニット70aのヒータ71aを基板の上面に対して所定の間隔h1となるようにして加熱する。
Thereafter, the
この加熱時には、上面側冷却ユニット80aおよび下面側冷却ユニット80bが、停止状態となるように冷風の供給を調節する電磁弁が閉じた状態になっている。このようにして、加熱される局所位置に冷風が流入することにより、基板20を所定温度まで加熱する時間が延びることを防止することができる。
At the time of this heating, the upper surface
加熱終了後、上面側加熱ユニット70aのヒータ71aは、基板20の上面から離れるように上方に移動させられる。また、下面側加熱ユニット70bのヒータ71bは、基板の20下面から離れるように移動させられる。ヒータ71aおよびヒータ71bはともに、基板20にその熱が影響しない程度まで移動させることが好ましい。
After the heating is completed, the
その後、上面側冷却ユニット80aの冷却ノズル81aの噴出口の直下に、塗布液または熱硬化性の部材21が位置するようにベース78aを移動させる。同様に、下面側冷却ユニット80bの冷却ノズル81bの噴出口の直上に、塗布液または熱硬化性の部材21が位置するようにベース78bを移動させる。具体的には、ベース78aおよびベース78bをX軸方向に距離x1移動させた。
Thereafter, the
次に、冷却ノズル81aおよび冷却ノズル81bをそれぞれ基板20に対して、所定の間隔となるように高さ制御手段により調節する。この所定の間隔は、冷却に適した間隔であり、塗布液または熱硬化性の部材21の種類および冷却風の温度などによって決定される。
Next, the cooling
冷却ノズル81aのZ軸方向の位置決めは、高さ制御手段であるステッピングモータ85aにより、基板20の上面との距離が、所定の距離になるように制御される。冷却ノズル81bのZ軸方向の位置決めは、高さ制御手段であるステッピングモータ85bにより、基板20の下面との距離が、所定の距離になるように制御される。その後、塗布液または熱硬化性の部材21が所定の温度まで冷えるまで冷却する。本実施形態の局所加熱装置では、高さ制御手段を設けたが、基板20に対して冷却ノズル81a,81bの高さを変更する必要がない場合には、高さ制御手段を設けなくてもよい。
The positioning of the cooling
基板20上の局所位置を加熱した後、上面側冷却ユニット80aおよび下面側冷却ユニット80bを局所位置に接近させて稼動させるため、冷却時間を短縮することができ、基板処理時間を短縮することができる。
After the local position on the
このように、本実施形態の局所加熱装置1では、加熱および冷却している間、基板20は移動せず、搬送ローラ30上で基板20は停止している。つまり、基板20が加熱されて熱い状態で、搬送ローラ30上を通過することがない。よって、搬送ローラ30には、必ずしも耐熱性材料を用いる必要がない。
As described above, in the
また、本実施形態の局所加熱装置1では、基板20上の局所位置を加熱および冷却することができ、基板20全体を加熱および冷却する必要がないため、ヒータ71a,71bおよび冷却ノズル81a,81bを小型化することができる。その結果、装置コストを低く抑えることが可能であり、さらに、加熱および冷却に使用する電力などのランニングコストも低く抑えることが可能となる。
Moreover, in the
実施の形態10
図15は、本発明の実施の形態10に係る局所加熱装置の構造を示す断面図である。図15に示すように、本発明の実施の形態10に係る局所加熱装置では、上面側加熱ユニット70aに断熱板110が設けられている。断熱板110としては、断熱性を有する板で形成され、セラミック製または樹脂製などの板を用いることができる。
FIG. 15 is a cross-sectional view showing the structure of the local heating device according to
ヒータ71aは、基板20を加熱する際、ヒータ71aの噴出口と基板20との間隔が所定の間隔h1になるように制御されている。よって、加熱時には、ヒータ71aが基板20に向かって移動するため、断熱板110はヒータ71aと基板20との間に位置しないように退避している。加熱が終了して冷却する際には、ヒータ71aが基板20から離れる様に移動し、断熱板110は、ヒータ71aと基板20との間に挿入される。このようにすることにより、加熱後のヒータ71aの余熱が基板20に及ぶことを防止することができる。よって、効率よく冷却することができ、冷却時間の短縮を図ることができる。
When the substrate 71 is heated, the
本実施形態の局所加熱装置では、上面側冷却ユニット80aの冷却ノズル81aおよび下面側冷却ユニット80bの冷却ノズル81bが、加熱時の基板20上の塗布液または熱硬化性の部材21に向けられている。具体的には、上面側加熱ユニット70aおよび下面側加熱ユニット70bが加熱位置に位置決めされた状態において、冷却ノズル81a,81bの噴出口が塗布液または熱硬化性の部材21に向けられている。
In the local heating device of the present embodiment, the cooling
このようにすることにより、加熱終了後に、ベース78a,78bを移動させて上面側冷却ユニット80aおよび下面側冷却ユニット80bを塗布液または熱硬化性の部材21に位置決めすることなく、冷却を開始することができる。よって、基板20の処理時間を短縮することができる。他の構成については、実施の形態9の局所加熱装置と同様であるため、説明を繰り返さない。
In this way, after the heating is finished, the
図16は、断熱板の取付構造の一例を示す模式図である。図16に示すように、断熱板110が移動する際のガイドレール117が配置され、断熱板110は、ガイドレール117に沿ってX軸方向にスライドする。断熱板110の上面には、ワイヤ112およびばね115を取り付ける金具114が設けられている。
FIG. 16 is a schematic diagram illustrating an example of a heat insulating plate mounting structure. As shown in FIG. 16, a
ばね115は、一端がベース78a上の固定部116に取り付けられ、他端が断熱板110の金具114に取り付けられる。よって、断熱板110は、バネ115により、ヒータ71aの直下から離れる方向に付勢されている。ワイヤ112は、一端が保持具72aの側面に設けられた固定部111に取り付けられ、滑車113を経て他端が金具114に取り付けられている。このように構成することにより、ヒータ71aのZ軸方向に移動に連動して、断熱板110をX軸方向に移動させることができる。
One end of the
本実施形態の局所加熱装置では断熱板110を設けたが、断熱板110を設けなくてもよい。この場合にも、加熱終了後にベース78a,78bを移動することなく冷却することができるため、基板の処理時間の短縮を図ることができる。
Although the
実施の形態11
図17は、本発明の実施の形態11に係る局所加熱装置の構造を示す模式図である。図17に示すように、本発明の実施の形態11に係る局所加熱装置では、上面側加熱ユニット70aに断熱板110が設けられている。断熱板110以外の構成については、実施の形態9の局所加熱装置と同様であるため、説明を繰り返さない。
Embodiment 11
FIG. 17 is a schematic diagram showing the structure of a local heating device according to Embodiment 11 of the present invention. As shown in FIG. 17, in the local heating apparatus according to Embodiment 11 of the present invention, a
本実施形態の局所加熱装置では、加熱終了後、ヒータ71a,71bを基板20から離れるようにZ軸方向に移動させる。このとき、断熱板110がヒータ71aと基板20との間に挿入される。このようにして、ヒータ71aの余熱が基板20に及ぶことを防止している。
In the local heating apparatus of this embodiment, after the heating is finished, the
その後、ベース78a,78bをX軸方向に距離x1移動させて、基板20上の塗布液または熱硬化性の部材21に対して、上面側冷却ユニット80aおよび下面側冷却ユニット80bを位置決めする。次に、上面側冷却ユニット80aの冷却ノズル81aおよび下面側冷却ユニット80bの冷却ノズル81bをそれぞれ、基板20に対して所定の間隔を有するように移動させる。この状態で、基板20を冷却する。
Thereafter, the
このように、本実施形態では、加熱後のヒータ71aの余熱を断熱板110により基板20に及ばないようにしつつ、上面側冷却ユニット80aおよび下面側冷却ユニット80bを基板に対して冷却に最適な距離に配置して冷却することができる。よって、効率よく冷却することができ、冷却時間を短縮することができる。
Thus, in this embodiment, the upper surface
実施の形態12
図18は、本発明の実施の形態12に係る局所加熱装置の構造を示す断面図である。図18に示すように、本発明の実施の形態12に係る局所加熱装置では、上面側加熱ユニット70a,70a’および下面側加熱ユニット70b,70b’を備えている。本実施形態では、上面側加熱ユニットおよび下面側加熱ユニットをそれぞれ2つ備えているが、3つ以上備えていてもよい。
Embodiment 12
FIG. 18 is a cross-sectional view showing the structure of the local heating device according to Embodiment 12 of the present invention. As shown in FIG. 18, the local heating apparatus according to Embodiment 12 of the present invention includes upper surface
上面側加熱ユニット70aと上面側加熱ユニット70a’との基板20の加熱温度は、それぞれ異なるように制御される。基本的に、上面側加熱ユニット70aの加熱温度より上面側加熱ユニット70a’の加熱温度の方が高くなるように設定される。同様に、下面側加熱ユニット70bと下面側加熱ユニット70b’との基板20の加熱温度は、異なるように制御される。基本的に、下面側加熱ユニット70bの加熱温度より下面側加熱ユニット70b’の加熱温度の方が高くなるように設定される。
The heating temperatures of the
上面側加熱ユニット70a,70a’および下面側加熱ユニット70b,70b’には、加熱温度を制御する温度制御手段である図示しない温度制御ユニットが設けられている。他の構成については、実施の形態9の局所加熱装置と同様であるため、説明を繰り返さない。
The upper surface
図18に示すように、ベース78aには、上面側加熱ユニット70a、上面側加熱ユニット70a’および上面側冷却ユニット80aが搭載されている。上面側加熱ユニット70a’は、上面側加熱ユニット70aと同一の構造を有している。
As shown in FIG. 18, the upper surface
ベース78bには、下面側加熱ユニット70b、下面側加熱ユニット70b’および下面側冷却ユニット80bが搭載されている。下面側加熱ユニット70b’は、下面側加熱ユニット70bと同一の構造を有している。
A lower surface
以下、本実施形態に係る局所加熱装置の加熱および冷却方法について説明する。まず、基板20上の塗布液または熱硬化性の部材21の位置に、上面側加熱ユニット70aおよび下面側加熱ユニット70bが位置決めされる。その後、下面側加熱ユニット70bが基板20の下面に接触または近接した状態で加熱する。上面側加熱ユニット70aは、基板20と所定の間隔h1を有した状態で基板20を加熱する。
Hereinafter, the heating and cooling method of the local heating device according to the present embodiment will be described. First, the upper surface
上面側加熱ユニット70aおよび下面側加熱ユニット70bは、加熱終了後、基板20から離れるようにZ軸方向に移動する。次に、ベース78aおよびベース78bをX軸方向に距離x1移動させて、基板20上の塗布液または熱硬化性の部材21の位置に、上面側加熱ユニット70a’および下面側加熱ユニット70b’を位置決めする。
The upper surface
温度制御ユニットにより、上面側加熱ユニット70a’の加熱温度は上面側加熱ユニット70aの加熱温度より高く、下面側加熱ユニット70b’の加熱温度は下面側加熱ユニット70bの加熱温度より高くなるように設定されている。その下面側加熱ユニット70b’が、基板20の下面に接触または近接した状態で加熱する。上面側加熱ユニット70a’は、基板20と所定の間隔を有した状態で基板20を加熱する。
By the temperature control unit, the heating temperature of the upper surface
上面側加熱ユニット70a’および下面側加熱ユニット70b’は、加熱終了後、基板20から離れるようにZ軸方向に移動する。次に、ベース78aおよびベース78bをX軸方向に距離x2移動させて、基板20上の塗布液または熱硬化性の部材21の位置に、上面側冷却ユニット80aおよび下面側冷却ユニット80bを位置決めする。
The upper surface
上面側冷却ユニット80aおよび下面側冷却ユニット80bはそれぞれ、基板20に対して所定の間隔を有して冷却する。冷却終了後、上面側冷却ユニット80aおよび下面側冷却ユニット80bは、基板20から離れるようにZ軸方向に移動する。
Each of the upper surface
このように複数の加熱ユニットを用いて基板20を加熱することにより、個々の加熱ユニットへの負荷を軽減することができる。よって、加熱ユニットの長寿命化を図ることができる。その結果、加熱ユニットの定期的な交換などのメンテナンス時間を短縮することができ、製造時間の短縮を図ることができる。
In this way, by heating the
また、複数の加熱ユニットを備えることにより、仮に、1つの加熱ユニットが故障した場合にも、生産を継続することが可能となり、装置としての安定性を向上することができる。さらに、加熱対象を異なる加熱温度で段階的に加熱することが可能となり、塗布液または熱硬化性の部材21の種類に合わせた加熱工程で加熱することにより、高品質の膜を形成することができる。
Further, by providing a plurality of heating units, it becomes possible to continue production even if one heating unit fails, and to improve the stability of the apparatus. Furthermore, it becomes possible to heat the heating target in stages at different heating temperatures, and a high-quality film can be formed by heating in a heating process according to the type of the coating liquid or the
実施の形態13
図19は、本発明の実施の形態13に係る局所加熱装置の構造を示す断面図である。図19に示すように、本発明の実施の形態13に係る局所加熱装置では、上面側加熱ユニット70a,70a’および下面側加熱ユニット70b,70b’を備えている。本実施形態では、上面側加熱ユニットおよび下面側加熱ユニットをそれぞれ2つ備えているが、3つ以上備えていてもよい。上面側加熱ユニット70a,70a’には、断熱板110,110’が設けられている。
Embodiment 13
FIG. 19 is a cross-sectional view showing the structure of the local heating device according to Embodiment 13 of the present invention. As shown in FIG. 19, the local heating apparatus according to Embodiment 13 of the present invention includes upper surface
上面側冷却ユニット80aおよび下面側冷却ユニット80bの冷却ノズル81a,81bは、上面側加熱ユニット70a’および下面側加熱ユニット70b’が、基板20上の塗布液または熱硬化性の部材21に位置決めされた状態において、噴出口が塗布液または熱硬化性の部材21に向けられている。他の構成については、実施の形態10の局所加熱装置と同様であるため、説明を繰り返さない。
In the
以下、本実施形態に係る局所加熱装置の加熱および冷却方法について説明する。まず、基板20上の塗布液または熱硬化性の部材21の位置に、上面側加熱ユニット70aおよび下面側加熱ユニット70bが位置決めされる。その後、下面側加熱ユニット70bが基板20の下面に接触または近接した状態で加熱する。上面側加熱ユニット70aは、基板20と所定の間隔h1を有した状態で基板20を加熱する。
Hereinafter, the heating and cooling method of the local heating device according to the present embodiment will be described. First, the upper surface
上面側加熱ユニット70aおよび下面側加熱ユニット70bは、加熱終了後、基板20から離れるようにZ軸方向に移動する。上面側加熱ユニット70aの移動に連動して、断熱板110が上面側加熱ユニット70aと基板20との間に挿入される。次に、ベース78aおよびベース78bをX軸方向に距離x1移動させて、基板20上の塗布液または熱硬化性の部材21の位置に、上面側加熱ユニット70a’および下面側加熱ユニット70b’を位置決めする。
The upper surface
温度制御ユニットにより、上面側加熱ユニット70a’の加熱温度は上面側加熱ユニット70aの加熱温度より高く、下面側加熱ユニット70b’の加熱温度は下面側加熱ユニット70bの加熱温度より高くなるように設定されている。その下面側加熱ユニット70b’が、基板20の下面に接触または近接した状態で加熱する。上面側加熱ユニット70a’は、基板20と所定の間隔を有した状態で基板20を加熱する。
By the temperature control unit, the heating temperature of the upper surface
上面側加熱ユニット70a’および下面側加熱ユニット70b’は、加熱終了後、基板20から離れるようにZ軸方向に移動する。上面側加熱ユニット70a’の移動に連動して、断熱板110’が上面側加熱ユニット70a’と基板20との間に挿入される。次に
ベース78a,78bを移動させることなく、上面側冷却ユニット80aおよび下面側冷却ユニット80bにより塗布液または熱硬化性の部材21に冷却風を吹き付けて冷却する。
The upper surface
このように複数の加熱ユニットを用いて基板20の加熱することにより、個々の加熱ユニットへの負荷を軽減することができる。よって、加熱ユニットの長寿命化を図ることができる。その結果、加熱ユニットの定期的な交換などのメンテナンス時間を短縮することができ、製造時間の短縮を図ることができる。
Thus, by heating the
また、加熱終了後に、ベース78a,78bを移動させて上面側冷却ユニット80aおよび下面側冷却ユニット80bを塗布液または熱硬化性の部材21に位置決めすることなく、冷却を開始することができる。よって、基板20の処理時間を短縮することができる。
Further, after the heating is completed, the cooling can be started without moving the
なお、今回開示した上記実施の形態はすべての点で例示であって、限定的な解釈の根拠となるものではない。したがって、本発明の技術的範囲は、上記した実施の形態のみによって解釈されるものではなく、特許請求の範囲の記載に基づいて画定される。また、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれる。 In addition, the said embodiment disclosed this time is an illustration in all the points, Comprising: It does not become the basis of limited interpretation. Therefore, the technical scope of the present invention is not interpreted only by the above-described embodiment, but is defined based on the description of the scope of claims. Further, all modifications within the meaning and scope equivalent to the scope of the claims are included.
1 局所加熱装置、20 基板、20b 熱拡散部、21 塗布液または熱硬化性の部材、21a 接触面、21b 表面部、30 搬送ローラ、31 チャッキング、32,41a,41b,83a,83b ガイド軸、33 エア、40a,40b モータ、50 ベース、51,55 支持部材、52 支柱、53 ガントリ、54,56 Z軸ステージ、70a,70a’ 上面側加熱ユニット、70b,70b’ 下面側加熱ユニット、71a,71a’,71b,71b’,71c ヒータ、72a,72a’72b,72b’82a,82b 保持具、73a,73a’,73b,73b’,73c ガイド軸、74,74a’,74b,74b’84a,84b ボールねじ、75a,75b,75c,78c,85a,85b ステッピングモータ、76a,79a カバー、77a 排気ユニット、78a,78b,78c,78d ベース、80a 上面側冷却ユニット、80b 下面側冷却ユニット、81a,81b 冷却ノズル、90 制御ユニット、100 高さ調節ユニット、101 端子、110 断熱板、111,116 固定部、112 ワイヤ、113 滑車、114 金具、115 バネ、117 ガイドレール、171b 加熱器、172b 熱電対、173b 吸着穴、174b,175b 配管、176b 吸着テーブル。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Local heating apparatus, 20 Substrate, 20b Thermal diffusion part, 21 Coating liquid or thermosetting member, 21a Contact surface, 21b Surface part, 30 Conveyance roller, 31 Chucking, 32, 41a, 41b, 83a, 83b Guide shaft , 33 Air, 40a, 40b Motor, 50 Base, 51, 55 Support member, 52 Post, 53 Gantry, 54, 56 Z-axis stage, 70a, 70a ′ Upper surface side heating unit, 70b, 70b ′ Lower surface side heating unit, 71a , 71a ′, 71b, 71b ′, 71c heater, 72a, 72a′72b, 72b′82a, 82b holder, 73a, 73a ′, 73b, 73b ′, 73c guide shaft, 74, 74a ′, 74b, 74b′84a 84b Ball screw, 75a, 75b, 75c, 78c, 85a, 85b Stepping motor, 76a, 9a cover, 77a exhaust unit, 78a, 78b, 78c, 78d base, 80a upper surface side cooling unit, 80b lower surface side cooling unit, 81a, 81b cooling nozzle, 90 control unit, 100 height adjustment unit, 101 terminal, 110 heat insulating plate 111, 116 fixing part, 112 wire, 113 pulley, 114 metal fitting, 115 spring, 117 guide rail, 171b heater, 172b thermocouple, 173b adsorption hole, 174b, 175b piping, 176b adsorption table.
Claims (14)
前記基板の上面から、前記基板に非接触な状態で加熱する上面側加熱手段と、
前記基板の下面から、前記基板と接触または近接する状態で加熱する下面側加熱手段と、
前記基板の下面に接触した状態で、前記基板を上下に移動させて基準高さに設定する高さ調節手段と、
前記上面側加熱手段および前記下面側加熱手段を前記基板の加熱対象となる局所位置に位置決めする移動手段と、
前記基板の前記基準高さに対して、前記上面側加熱手段の高さが所定の間隔を有するように制御する制御手段と
を備える、局所加熱装置。 A device for locally heating a substrate on which at least a part of a coating solution or a thermosetting member that forms a film when dried is formed,
From the upper surface of the substrate, an upper surface side heating means for heating the substrate in a non-contact state;
A lower surface side heating means for heating from the lower surface of the substrate in contact with or close to the substrate;
A height adjusting means for moving the substrate up and down to set a reference height in contact with the lower surface of the substrate;
Moving means for positioning the upper surface side heating means and the lower surface side heating means at a local position to be heated of the substrate;
A local heating apparatus comprising: control means for controlling the upper surface side heating means to have a predetermined interval with respect to the reference height of the substrate.
前記カバー内の空気を排気する排気手段とを備える、請求項1から6のいずれかに記載の局所加熱装置。 A cover formed around the heating part of at least one of the upper surface side heating means and the lower surface side heating means;
The local heating device according to claim 1, further comprising an exhaust unit that exhausts the air in the cover.
前記カバー内の空気を排気する排気手段とを備える、請求項1から6のいずれかに記載の局所加熱装置。 A cover formed over the entire movable region of at least one of the upper surface side heating means and the lower surface side heating means;
The local heating device according to claim 1, further comprising an exhaust unit that exhausts the air in the cover.
前記基板の下面から、前記局所位置を冷却する下面側冷却手段と、
前記上面側冷却手段および前記下面側冷却手段を稼動または停止させる冷却調節部と
をさらに備えた、請求項1から8のいずれかに記載の局所加熱装置。 An upper surface side cooling means for cooling the local position from the upper surface of the substrate;
A lower surface side cooling means for cooling the local position from the lower surface of the substrate;
The local heating device according to any one of claims 1 to 8, further comprising a cooling adjustment unit that operates or stops the upper surface side cooling unit and the lower surface side cooling unit.
前記上面側冷却手段および前記下面側冷却手段が、前記移動手段により、前記局所位置に位置決めされて、前記基板の前記局所位置を冷却する、請求項9に記載の局所加熱装置。 The upper surface side heating means and the lower surface side heating means are respectively separated from the substrate in comparison with the heating positions of the upper surface side heating means and the lower surface side heating means,
The local heating apparatus according to claim 9, wherein the upper surface side cooling unit and the lower surface side cooling unit are positioned at the local position by the moving unit to cool the local position of the substrate.
前記上面側冷却手段および前記下面側冷却手段が、前記基板の前記局所位置を冷却する、請求項9に記載の局所加熱装置。 The upper surface side heating means and the lower surface side heating means are separated from the substrate and compared with the heating positions of the upper surface side heating means and the lower surface side heating means, respectively, and the upper surface side heating means and the lower surface side With the heating means positioned at the local position,
The local heating device according to claim 9, wherein the upper surface side cooling unit and the lower surface side cooling unit cool the local position of the substrate.
前記上面側加熱手段と前記基板との間に前記断熱板が挿入された状態で、
前記上面側冷却手段および前記下面側冷却手段が、前記基板の前記局所位置を冷却する、請求項9から12のいずれかに記載の局所加熱装置。 It further comprises a plate-like heat insulating plate having heat insulating properties,
With the heat insulating plate inserted between the upper surface side heating means and the substrate,
The local heating apparatus according to claim 9, wherein the upper surface side cooling unit and the lower surface side cooling unit cool the local position of the substrate.
複数の前記上面側加熱手段および前記下面側加熱手段には、前記基板の加熱温度がそれぞれ異なるように制御する温度制御手段が設けられた、請求項9から13のいずれかに記載の局所加熱装置。 A plurality of the upper surface side heating means and the lower surface side heating means,
The local heating apparatus according to any one of claims 9 to 13, wherein a plurality of the upper surface side heating means and the lower surface side heating means are provided with temperature control means for controlling the heating temperature of the substrate to be different from each other. .
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- 2009-06-19 JP JP2009146624A patent/JP2010026507A/en not_active Withdrawn
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20120904 |