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JP2010010285A - Substrate already formed with pattern - Google Patents

Substrate already formed with pattern Download PDF

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JP2010010285A
JP2010010285A JP2008165936A JP2008165936A JP2010010285A JP 2010010285 A JP2010010285 A JP 2010010285A JP 2008165936 A JP2008165936 A JP 2008165936A JP 2008165936 A JP2008165936 A JP 2008165936A JP 2010010285 A JP2010010285 A JP 2010010285A
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JP
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pattern
defect
dummy
patterns
outermost
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JP2008165936A
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Japanese (ja)
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Koichi Wakitani
康一 脇谷
Takanobu Oshima
隆信 尾島
Masanori Fukuda
雅典 福田
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Panasonic Corp
Original Assignee
Panasonic Corp
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Abstract

【課題】特に周期的パターンの最外部における欠陥の検出に際し、特別な処理をすることなく、欠陥を正確に検出する。
【解決手段】導体パターン20,21の欠陥検出において、最外部パターン22,23,26,27での周期ピッチを用いた比較検査では、欠陥を検出できない場合がある。このため、最外部パターン22,23,26,27の外側に、既周期ピッチ離れた位置に、ダミーパターン24,25,28,29を形成する。これにより、最外部パターン22に存在する欠陥も、周期ピッチ離れた箇所に存在するダミーパターン24と比較できるため、正確な欠陥の検出ができる。
【選択図】図1
In particular, when detecting a defect at the outermost part of a periodic pattern, the defect is accurately detected without any special processing.
In detecting a defect of a conductor pattern, a defect may not be detected by a comparative inspection using a periodic pitch in the outermost patterns. For this reason, the dummy patterns 24, 25, 28, and 29 are formed outside the outermost patterns 22, 23, 26, and 27 at positions that are apart from the existing pitch. Thereby, since the defect which exists in the outermost pattern 22 can also be compared with the dummy pattern 24 which exists in the location away from the periodic pitch, an accurate defect can be detected.
[Selection] Figure 1

Description

本発明は、ディスプレイパネルのような周期的に配列したパターンを有するパターン形成済基板に関するものである。   The present invention relates to a patterned substrate having a periodically arranged pattern such as a display panel.

従来、液晶表示パネルやプラズマ表示パネルなどいわゆるフラットパネルのディスプレイ装置では周期的に配列したパターンが使われる。このパターンの欠陥はそのまま表示の欠陥となるために、表示画素用の電極パターンの欠陥やドライバーとパネル電極との結線用のフレキ配線は組み立てる前によく検査する必要があり厳重に検査される。そして、検査にはパターンの周期性を着目した検査手法が使われる。   Conventionally, a so-called flat panel display device such as a liquid crystal display panel or a plasma display panel uses a periodically arranged pattern. Since this pattern defect becomes a display defect as it is, the defect of the electrode pattern for the display pixel and the flexible wiring for connecting the driver and the panel electrode need to be well inspected before assembling and are strictly inspected. An inspection method that focuses on the periodicity of the pattern is used for the inspection.

従来の周期的に配列したパターンの検査について、図5を参照しながら説明する。図5は検査領域を含む配線部を撮像した画像を示す図である。基板1上にパターンとして、端子部の端子電極パターン部2が端子部の周期ピッチ3で形成され、表示部の表示電極パターン部4が、表示部の周期ピッチ5で形成されている。端子電極パターン部2と表示電極パターン部4は等ピッチで形成されているため、一定ピッチ離れた撮像画素同士を比較検査することで、欠陥検出を実施している(例えば、特許文献1参照)。   A conventional inspection of periodically arranged patterns will be described with reference to FIG. FIG. 5 is a diagram illustrating an image obtained by imaging the wiring portion including the inspection region. As a pattern on the substrate 1, the terminal electrode pattern part 2 of the terminal part is formed with a periodic pitch 3 of the terminal part, and the display electrode pattern part 4 of the display part is formed with a periodic pitch 5 of the display part. Since the terminal electrode pattern portion 2 and the display electrode pattern portion 4 are formed at an equal pitch, defect detection is performed by comparing and inspecting imaging pixels separated by a certain pitch (for example, see Patent Document 1). .

また、端子電極パターン部2と表示電極パターン部4を繋ぐ引込み電極パターン部6は、端子部と表示部を繋ぐ配線である。この部分は斜めの配線があり一定のピッチが考えにくいが、従来の検査手法としては、端子電極パターン部2と表示電極パターン部4の周期ピッチ3,5の変化量から任意の場所のピッチを計算することで、それぞれ最適なピッチで比較検査することができる(例えば、特許文献2参照)。   The lead-in electrode pattern portion 6 that connects the terminal electrode pattern portion 2 and the display electrode pattern portion 4 is a wiring that connects the terminal portion and the display portion. This part has slanted wiring and it is difficult to think of a constant pitch. However, as a conventional inspection method, the pitch of an arbitrary place is determined from the amount of change in the periodic pitches 3 and 5 of the terminal electrode pattern portion 2 and the display electrode pattern portion 4. By calculating, it is possible to perform a comparative inspection at an optimum pitch (see, for example, Patent Document 2).

すなわち、ある注目画素A7が欠陥箇所かどうかを判定する場合、注目画素A7から周期ピッチ離れた比較画素B8および比較画素C9の2画素の輝度値と比較処理することによって行う。注目画素A7に欠陥がなければ、注目画素A7と比較画素B8と比較画素C9の輝度値はほぼ同じになるし、もし欠陥があれば輝度値は大きく異なる。これにより従来の検査手法では輝度値を比較し、その差がある閾値以上であれば欠陥として検出を行っている。   That is, when it is determined whether or not a certain pixel of interest A7 is a defective part, it is performed by performing comparison processing with the luminance values of two pixels of the comparison pixel B8 and the comparison pixel C9 that are separated from the pixel of interest A7 by a periodic pitch. If there is no defect in the target pixel A7, the luminance values of the target pixel A7, the comparison pixel B8, and the comparison pixel C9 are almost the same, and if there is a defect, the luminance values are greatly different. Thus, in the conventional inspection method, the luminance values are compared, and if the difference is equal to or greater than a certain threshold, the defect is detected.

また、注目画素A10についても、表示部の周期ピッチ5離れた比較画素B11および比較画素C12の2画素と比較することにより、検査を行っている。
特開2006−029876号公報 特開2002−259951号公報
Further, the pixel of interest A10 is also inspected by comparing with two pixels of the comparison pixel B11 and the comparison pixel C12 that are separated from each other by the periodic pitch 5 of the display unit.
JP 2006-029876 A JP 2002-259951 A

しかしながら、従来の導体パターン検査では、パターン上の注目画素A13に存在する欠陥は、比較画素C15だけでなく、パターンが存在しない比較画素B14の基板部とも比較する。そのため、図6に示すように、比較時に、輝度差が生じず、検出できない場合がある。同様に、パターン上の注目画素A16に存在する欠陥も、比較画素C18だけでなく、パターンが存在しない比較画素B17の基板部と比較するため、検出できない場合が存在する。すなわち、周期的パターンの最外部(パネル最外周部のパターン等)は、パターンが存在しない領域と比較するために、検出できない欠陥や、欠陥でない領域を欠陥として検出してしまうという問題点があり、周期的パターンの最外部のみ異なった取り扱いの処理を行わなければならなかった。   However, in the conventional conductor pattern inspection, the defect present in the target pixel A13 on the pattern is compared not only with the comparison pixel C15 but also with the substrate portion of the comparison pixel B14 where no pattern exists. For this reason, as shown in FIG. 6, there is a case where a luminance difference does not occur at the time of comparison and cannot be detected. Similarly, the defect present in the target pixel A16 on the pattern may not be detected because it is compared not only with the comparison pixel C18 but also with the substrate portion of the comparison pixel B17 where no pattern exists. In other words, the outermost part of the periodic pattern (such as the pattern on the outermost peripheral portion of the panel) has a problem in that it can detect an undetectable defect or a non-defect area as a defect in order to compare with an area where no pattern exists. Only the outermost part of the periodic pattern had to be handled differently.

本発明は、前記従来の問題を解決するものであり、周期性を利用して欠陥を検出する従来の検査手法における、周期的パターンの最外部にて検出できない欠陥や、欠陥でない領域を欠陥として検出されてしまうことを防止し、欠陥を正確に検出することが可能なパターン形成済基板を提供することを目的とする。   The present invention solves the above-mentioned conventional problems, and in the conventional inspection method for detecting defects using periodicity, a defect that cannot be detected at the outermost part of the periodic pattern or a region that is not a defect is defined as a defect. It is an object of the present invention to provide a patterned substrate capable of preventing detection and accurately detecting defects.

前記の目的を達成するために、本発明に係る請求項1に記載したパターン形成済基板は、電気的導体のダミーパターンが、周期的に配列したパターンの周期ピッチ方向の最外部に同一ピッチ間隔でダミーパターンを設けて前記パターンを電気的に短絡しない状態で形成されていることを特徴とする。   In order to achieve the above object, the patterned substrate according to claim 1 according to the present invention is the same pitch interval at the outermost part in the periodic pitch direction of the pattern in which the dummy patterns of the electrical conductors are periodically arranged. A dummy pattern is provided so that the pattern is not electrically short-circuited.

また、請求項2〜5に記載したパターン形成済基板は、請求項1のパターン形成済基板において、ダミーパターンがパターンと同一材料、同一工法で形成されたこと、また、ダミーパターンが電気的導体であって、パターンを電気的に短絡しないように切断箇所を設けたこと、また、ダミーパターンに設けた切断の箇所を定義したことを特徴とする。   The patterned substrate according to any one of claims 2 to 5 is the patterned substrate according to claim 1, wherein the dummy pattern is formed of the same material and method as the pattern, and the dummy pattern is an electric conductor. In addition, the present invention is characterized in that a cut portion is provided so as not to electrically short-circuit the pattern, and a cut portion provided in the dummy pattern is defined.

前記基板によれば、パネルに周期的に配列したパターンを検査する際、周期的パターンの最外部において、特別な処理をすることなく正確に検査することができる。   According to the substrate, when a pattern periodically arranged on the panel is inspected, it is possible to accurately inspect the outermost part of the periodic pattern without performing a special process.

本発明によれば、周期的に配列したパターンをその最外部において特別の処理をすることなく検査できるパターン形成済基板が得られる。   According to the present invention, it is possible to obtain a patterned substrate on which a periodically arranged pattern can be inspected without performing special processing at the outermost portion.

以下、図面を参照して本発明における実施の形態を詳細に説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

(実施の形態1)
図1は本発明の実施の形態1における周期的に配列したパターンを示す図である。ここで、前記従来例を示す図5において説明した構成要件に対応し同等のものには同一の符号を付して示し、以下の各図においても同様とする。
(Embodiment 1)
FIG. 1 is a diagram showing periodically arranged patterns in the first embodiment of the present invention. Here, corresponding components corresponding to those described in FIG. 5 showing the conventional example are denoted by the same reference numerals, and the same applies to the following drawings.

図1において、パネルに周期的に配列した電極パターンのうち本来必要な部位は導体パターン20,21である。導体パターン20,21は、端子部の導体パターンを周期ピッチ3で繰り返している端子電極パターン部2と、表示部の導体パターンを周期ピッチ5で繰り返している表示電極パターン部4と、表示電極パターン部4から端子電極パターン部2へと周期ピッチ5から周期ピッチ3へと線形的に周期ピッチが変化する引込み電極パターン部6からなる。   In FIG. 1, the conductor patterns 20 and 21 are originally necessary portions of the electrode patterns periodically arranged on the panel. The conductor patterns 20 and 21 include a terminal electrode pattern portion 2 in which the conductor pattern of the terminal portion is repeated at a periodic pitch 3, a display electrode pattern portion 4 in which the conductor pattern of the display portion is repeated at a periodic pitch 5, and a display electrode pattern. It consists of a lead-in electrode pattern part 6 in which the periodic pitch changes linearly from the part 4 to the terminal electrode pattern part 2 from the periodic pitch 5 to the periodic pitch 3.

導体パターン20,21において、周期的パターンの最外部となる最外部パターン22,23,26,27は、前述したように、周期ピッチを用いた比較検査では、欠陥を検出できない場合がある。そのため、本実施の形態では、最外部パターン22,23,26,27の外側に、それぞれのパターン部で周期ピッチ離れた位置に、ダミーパターン24,25,28,29を形成している。このようにパターン形成することで、図2に示すような、最外部パターン22に存在する欠陥部31も、引込み電極パターン部6での周期ピッチと同じ周期ピッチ32離れた箇所に存在するダミーパターン24と比較できるため、正確な欠陥の検出が可能である。   In the conductor patterns 20 and 21, the outermost patterns 22, 23, 26, and 27 that are the outermost parts of the periodic patterns may not be able to detect defects in the comparative inspection using the periodic pitch as described above. Therefore, in the present embodiment, dummy patterns 24, 25, 28, and 29 are formed outside the outermost patterns 22, 23, 26, and 27 at positions separated by a periodic pitch in the respective pattern portions. By forming the pattern in this way, the dummy portion 31 that exists in the outermost pattern 22 as shown in FIG. 2 is also present at a location separated by the same periodic pitch 32 as the periodic pitch in the lead-in electrode pattern portion 6. Therefore, it is possible to accurately detect defects.

ここで述べられたダミーパターン24,25,28,29は導体パターン20,21と同一材料、同一工法で作られていることが望ましい。すなわち、導体パターン20,21の形成時に同時に作成する。これにより、検査に当たってのダミーパターン24,25,28,29の特性(光学的特性等)が導体パターン20,21と同じになり、また、形成条件による各パターンの変化(細りや太り)も同一とすることができる。また、パターンの線幅は、50〜100μmが一般的であるが、画面サイズ・画面の精細度、点灯方式により、様々な線幅寸法が存在する。   The dummy patterns 24, 25, 28 and 29 described here are preferably made of the same material and the same construction method as the conductor patterns 20 and 21. That is, it is created simultaneously when the conductor patterns 20 and 21 are formed. As a result, the characteristics (optical characteristics, etc.) of the dummy patterns 24, 25, 28, 29 in the inspection are the same as those of the conductor patterns 20, 21, and the change (thinning and thickness) of each pattern depending on the formation conditions is the same. It can be. The line width of the pattern is generally 50 to 100 μm, but there are various line width dimensions depending on the screen size, screen definition, and lighting method.

なお、図1のダミーパターン短絡箇所30については、実施の形態2にて説明する。   The dummy pattern short-circuit portion 30 in FIG. 1 will be described in the second embodiment.

(実施の形態2)
本実施の形態2は、前述の実施の形態1に従い図1に示したダミーパターン24,25,28,29を形成した場合、ダミーパターン短絡箇所30のように、ダミーパターン25,28同士が交差、短絡する場合があり、さらにダミーパターン25,28を介して最外部パターン23,26が短絡することもある。このようなダミーパターン25,28同士の短絡が問題となる場合は、図3に示すように、ダミーパターン25,28同士で短絡した部分を、切断部33を設けて切断したダミーパターン25,28を形成することで、ダミーパターン25,28の短絡による製品性能への影響をなくすことが可能である。
(Embodiment 2)
In the second embodiment, when the dummy patterns 24, 25, 28, and 29 shown in FIG. 1 are formed according to the first embodiment, the dummy patterns 25 and 28 cross each other like the dummy pattern short-circuited portion 30. In some cases, the outermost patterns 23 and 26 may be short-circuited via the dummy patterns 25 and 28. When such a short circuit between the dummy patterns 25 and 28 becomes a problem, as shown in FIG. 3, the dummy patterns 25 and 28 obtained by cutting a portion short-circuited between the dummy patterns 25 and 28 by providing a cutting portion 33. It is possible to eliminate the influence on the product performance due to the short circuit of the dummy patterns 25 and 28.

ただし、本実施の形態2の切断部33は、パターンの周期性から逸脱した領域となるため、欠陥として検出される可能性があり、最終的な欠陥情報から除去する等の施策が必要となる。   However, since the cutting part 33 of the second embodiment is an area deviating from the periodicity of the pattern, it may be detected as a defect, and measures such as removal from the final defect information are required. .

(実施の形態3)
本実施の形態3は、前述の実施の形態2に示したダミーパターン短絡箇所を切断するために設けた切断部33ではなく、最外部パターン23,26とダミーパターン25,28との短絡を防止するための切断位置として、図4に示すように、最外部パターン23とダミーパターン28が交わって短絡する箇所に切断部34、および最外部パターン26とダミーパターン25が交わって短絡する箇所に切断部35を設けても同様の効果は得られる。
(Embodiment 3)
In the third embodiment, the short-circuit between the outermost patterns 23 and 26 and the dummy patterns 25 and 28 is prevented instead of the cutting portion 33 provided for cutting the dummy pattern short-circuit portion shown in the second embodiment. As shown in FIG. 4, the cutting position 34 is cut at the location where the outermost pattern 23 and the dummy pattern 28 intersect and short-circuits, and the outermost pattern 26 and the dummy pattern 25 intersect at the location where short-circuiting occurs. Even if the portion 35 is provided, the same effect can be obtained.

本実施の形態の構成とすることで、ダミーパターン25,28が細く、図3の切断部33を設けることが困難な場合や、引込み電極パターン部でのパターンの傾斜角度が急峻な場合にも対応可能である。   With the configuration of the present embodiment, even when the dummy patterns 25 and 28 are thin and it is difficult to provide the cutting portion 33 of FIG. 3, or when the inclination angle of the pattern at the lead electrode pattern portion is steep. It is possible.

なお、本実施の形態では、ダミーパターン25,28は短絡しているが、このダミーパターンの短絡は、製品性能への影響はほとんどない。   In this embodiment, the dummy patterns 25 and 28 are short-circuited. However, the short-circuiting of the dummy patterns has little influence on the product performance.

(実施の形態4)
本実施の形態4は、前述の実施の形態2,3で示したダミーパターンの形成によりパターンの短絡することを防止するために設ける切断箇所のサイズについて具体的な数値を用いて説明する。本発明の目的である、光学的に欠陥として検出されないレベルまで十分小さくし、かつプロセス上安定して形成できるレベルまで十分大きいサイズについて考察する。
(Embodiment 4)
In the fourth embodiment, the size of the cut portion provided to prevent the pattern from being short-circuited by the formation of the dummy pattern shown in the second and third embodiments will be described using specific numerical values. Consider a size that is the objective of the present invention, sufficiently small to a level that is not optically detected as a defect, and sufficiently large to a level that can be stably formed in the process.

このようにした場合には、実施の形態2で述べたような、最終的に除去しなければならない欠陥情報も出てくることはない。例えば、10μm以上の欠陥を検出する検査の場合、幅1〜2μmの切断サイズであれば、欠陥としては検出されない。   In such a case, the defect information that must be finally removed as described in Embodiment 2 does not appear. For example, in the case of inspection for detecting a defect of 10 μm or more, if the cutting size is 1 to 2 μm in width, it is not detected as a defect.

以上に説明したように、本発明の各実施の形態によれば、周期性を利用して欠陥を検出する従来の検査手法では、周期的パターンの最外部にて検出できない欠陥が存在する場合や、欠陥でない領域を欠陥として検出する場合があったが、このような検出をすることなく、欠陥を正確に検出することができる。   As described above, according to each embodiment of the present invention, in the conventional inspection method that detects defects using periodicity, there are cases where defects that cannot be detected at the outermost part of the periodic pattern exist. In some cases, a non-defect area is detected as a defect, but the defect can be detected accurately without performing such detection.

なお、本発明の実施の形態では、ダミーパターンに切断箇所を設けてパターンが短絡しないようにしたが、切断箇所を設ける代わりに絶縁体を設けるなど、電気的に絶縁できるようにすれば同様の効果を得られる。しかしながら、実際にパターンを塗布することを考えると、切断箇所を設けることが一番手間をかけずに行うことが可能である。   In the embodiment of the present invention, the cut portion is provided in the dummy pattern so that the pattern is not short-circuited. However, if the insulation can be provided instead of providing the cut portion, the same can be achieved. The effect can be obtained. However, considering that the pattern is actually applied, it is possible to provide the cut portion with the least effort.

本発明に係るパターン形成済基板は、周期的に配列したパターンを周期的パターンの最外部で特別の処理をすることなく検査でき、ディスプレイパネルのような周期的に配列したパターンを有する基板として有用である。   The patterned substrate according to the present invention can inspect a periodically arranged pattern without performing a special process at the outermost part of the periodic pattern, and is useful as a substrate having a periodically arranged pattern such as a display panel. It is.

本発明の実施の形態1における周期的に配列したパターンを示す図The figure which shows the pattern periodically arranged in Embodiment 1 of this invention 本実施の形態1における周期的に配列したパターンの欠陥部を示す図The figure which shows the defect part of the pattern arranged periodically in this Embodiment 1. 本発明の実施の形態2における周期的に配列したパターンの切断部を示す図The figure which shows the cutting part of the pattern periodically arranged in Embodiment 2 of this invention 本発明の実施の形態3における周期的に配列したパターンの切断部を示す図The figure which shows the cutting part of the pattern periodically arranged in Embodiment 3 of this invention 従来の検査領域を含む配線部を撮像した画像を示す図The figure which shows the image which imaged the wiring part containing the conventional test | inspection area | region 従来の最外部の検査領域の配線部を撮像した画像を示す図The figure which shows the image which imaged the wiring part of the conventional outermost inspection area

符号の説明Explanation of symbols

1 基板
2 端子電極パターン部
3,5,32 周期ピッチ
4 表示電極パターン部
6 引込み電極パターン部
7,10,13,16 注目画素A
8,11,14,17 比較画素B
9,12,15,18 比較画素C
20,21 導体パターン
22,23,26,27 最外部パターン
24,25,28,29 ダミーパターン
30 ダミーパターン短絡箇所
31 欠陥部
33,34,35 切断部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 2 Terminal electrode pattern part 3, 5, 32 Periodic pitch 4 Display electrode pattern part 6 Lead-in electrode pattern part 7, 10, 13, 16 Attention pixel A
8, 11, 14, 17 Comparison pixel B
9, 12, 15, 18 Comparative pixel C
20, 21 Conductor patterns 22, 23, 26, 27 Outermost patterns 24, 25, 28, 29 Dummy pattern 30 Dummy pattern short-circuit location 31 Defective portion 33, 34, 35 Cut portion

Claims (5)

電気的導体のダミーパターンが、周期的に配列したパターンの周期ピッチ方向の最外部に同一ピッチ間隔を設けて前記パターンを電気的に短絡しない状態で形成されていることを特徴とするパターン形成済基板。   A dummy pattern of electrical conductors is formed in a pattern in which the same pitch interval is provided at the outermost part in the periodic pitch direction of the periodically arranged patterns so that the pattern is not electrically short-circuited substrate. 前記ダミーパターンが前記パターンと同一材料、同一工法で形成されたことを特徴とする請求項1記載のパターン形成済基板。   The patterned substrate according to claim 1, wherein the dummy pattern is formed of the same material and the same method as the pattern. 前記ダミーパターンに、切断箇所を設けたことを特徴とする請求項1または2記載のパターン形成済基板。   3. The patterned substrate according to claim 1, wherein a cut portion is provided in the dummy pattern. 前記ダミーパターンに設けた切断箇所が、複数の前記ダミーパターンが交差する箇所であることを特徴とする請求項3記載のパターン形成済基板。   4. The patterned substrate according to claim 3, wherein the cut portion provided in the dummy pattern is a portion where the plurality of dummy patterns intersect. 前記ダミーパターンに設けた切断箇所が、前記ダミーパターンと前記パターンが交わる箇所であることを特徴とする請求項3記載のパターン形成済基板。   4. The patterned substrate according to claim 3, wherein the cut portion provided in the dummy pattern is a portion where the dummy pattern and the pattern intersect.
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