JP2009216401A - 基板検査システムおよび基板検査方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】最小限の操作で基板検査装置が撮像した最新の画像データを表示させることが可能な基板検査方法および基板検査システムを提供すること。
【解決手段】基板検査装置の撮像した最新の画像データを表示させるための表示指示を入力するだけで、基板検査装置を特定するための基板検査装置識別子がデータベースサーバに送信され、これを受信したデータベースサーバが、基板検査装置識別子に基づいて画像データベースを検索し、現在時刻から見て最新の画像データを基板検査装置に送信する。
【選択図】図1
【解決手段】基板検査装置の撮像した最新の画像データを表示させるための表示指示を入力するだけで、基板検査装置を特定するための基板検査装置識別子がデータベースサーバに送信され、これを受信したデータベースサーバが、基板検査装置識別子に基づいて画像データベースを検索し、現在時刻から見て最新の画像データを基板検査装置に送信する。
【選択図】図1
Description
本発明は、基板検査システムに関し、特に、ネットワークを介した半導体ウエハの外観を検査する基板検査装置とサーバを含む基板検査システムおよび基板検査方法に関する。
従来、半導体基板の製造プロセスにおいては、適宜半導体ウエハの欠陥検査が行われている。この欠陥検査は、半導体装置の製造プロセスにおいて、半導体製造システムを構成する複数の基板検査装置のそれぞれが、その目的に応じて、半導体ウエハの表面上の傷、塵の付着、クラック、汚れ、膜むらなどの欠陥検査を行うものである(例えば、特許文献1参照。)。
基板検査装置は、欠陥検査を行う際、半導体ウエハを撮像し、ハードディスク等のメモリに格納しているが、画像データの容量が大きくなるにつれて格納するためのハードディスクも大容量のものが必要になる。これらの画像データは、専用のメモリ装置に格納しておく方が効率的であるため、半導体ウエハを撮像した画像データを基板検査装置とは別の装置であるデータベースサーバ等で格納している。
例えば、基板検査装置で1ロット25枚の半導体ウエハの画像を撮像し、1ロットから数ロット分の画像データを一時的に格納しておき、その後、データベースサーバに送信している。そして、データベースサーバでは、送信されてきた画像データを順次格納している。
特開平9−61365号公報
しかしながら、近年基板の大径化とともに基板検査装置に高解像度の撮像が求められ、必要とする記憶容量が増加して基板検査画像の画像処理等に大きな負担となっていた。また、データベースサーバに格納している画像データを基板検査装置で表示させる場合には、基板検査装置からデータベースサーバに対して、どの基板検査装置でいつ撮像したのかの条件を指定し、その指定された条件に基づいて画像データを検索して表示させる必要があり、操作者が行わなければならない操作が煩雑である、という問題点があった。
本発明は上記のような問題点に鑑みてなされたものであり、基板検査装置の記憶容量の負担を軽減することが可能な基板検査システムおよび基板検査方法を提供することを第1の目的とし、また最小限の操作で基板検査装置が撮像した最新の画像データを表示させることが可能な基板検査システムおよび基板検査方法を提供することを第2の目的とする。
本発明は、上記課題を解決するため、下記のような構成を採用した。
すなわち、本発明の基板検査システムは複数の基板検査装置で撮像した基板の画像データをネットワーク回線で接続されたデータベースサーバに保存する欠陥検査システムであって、基板検査装置は、被検査体を撮像する毎に、撮像した画像データと基板検査装置を特定するための装置識別子と撮像した日時を示す撮像日時情報とを対応付けた情報としてデータベースサーバに送信し、送信された情報の送信の完了毎に、または、送信された情報の容量が基板検査装置の記憶部の所定の容量を超えたときに基板検査装置の記憶部の情報を消去する制御部を備えることを特徴とする。
すなわち、本発明の基板検査システムは複数の基板検査装置で撮像した基板の画像データをネットワーク回線で接続されたデータベースサーバに保存する欠陥検査システムであって、基板検査装置は、被検査体を撮像する毎に、撮像した画像データと基板検査装置を特定するための装置識別子と撮像した日時を示す撮像日時情報とを対応付けた情報としてデータベースサーバに送信し、送信された情報の送信の完了毎に、または、送信された情報の容量が基板検査装置の記憶部の所定の容量を超えたときに基板検査装置の記憶部の情報を消去する制御部を備えることを特徴とする。
さらに、本発明の基板検査システムは、データベースサーバは、画像データを保存する検査結果保管部と、基板検査装置からの最新の画像データの表示の指示により、装置識別子と最新の撮像日時情報とから最新に保存された画像データを検査結果保管部から読み出し基板検査装置に送信する検査結果サーバとを備えることを特徴とする。
また、本発明の基板検査方法は、基板を撮像して欠陥を検査する複数の基板検査装置と、基板検査装置が撮像した被検査体の画像データを格納するデータベースサーバとが、ネットワークを介して接続された欠陥検査システムにおいて実行される欠陥検査方法であって、基板検査装置が、基板を撮像する毎に、撮像した画像データと基板検査装置を特定するための装置識別子と撮像した日時を示す撮像日時情報とを対応付けられた情報としてデータベースサーバに送信し送信し保存させる画像データ送信工程と、画像データ送信工程が完了する毎に、または、画像データ送信工程により送信された情報が基板検査装置の記憶部の所定の容量を超えたときに基板検査装置の画像データを消去する画像データ消去工程と、を含むことを特徴とする。
さらに、本発明の基板検査方法は、基板検査装置からの最新の画像データの表示の指示により、データベースサーバが、基板検査装置の装置識別子と最新の前記撮像日時情報とから対応する保存された画像データを読み出し基板検査装置に送信する最新検査情報送信工程と、基板検査装置の表示部が最新検査情報送信工程で送信された情報をもとに表示する最新検査画像表示工程と、を含むことを特徴とする。
本発明によれば、基板検査装置で撮像した画像データは、即座にデータベースサーバに転送され、消去が行なわれるで、基板検査装置の記憶部に大容量を必要としないため記憶容量に負担をかけることがなく、基板検査装置の撮像した最新の画像データを表示させるための指示を入力するだけで、基板検査装置を特定するための装置識別子がデータベースサーバに送信され、これを受信したデータベースサーバが、装置識別子に基づいて画像データベースを検索し、現在時刻から見て最新の画像データを基板検査装置に送信するので、最小限の操作で基板検査装置が撮像した最新の画像データを表示させることが可能となる。
以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら説明する。
図1は、本発明を適用した欠陥検査システムの構成を示す図である。
図1において、欠陥検査システムは、ホストコンピュータ101、クライアントコンピュータ106、複数の検査装置103、データベースサーバ105等から構成されており、これらは工場内制御LAN102に接続されている。また検査装置103とデータベースサーバ105は、工場内制御LAN102とは別に欠陥検査システム専用の情報通信LAN104Aと情報通信LAN104Bに接続されている。
図1は、本発明を適用した欠陥検査システムの構成を示す図である。
図1において、欠陥検査システムは、ホストコンピュータ101、クライアントコンピュータ106、複数の検査装置103、データベースサーバ105等から構成されており、これらは工場内制御LAN102に接続されている。また検査装置103とデータベースサーバ105は、工場内制御LAN102とは別に欠陥検査システム専用の情報通信LAN104Aと情報通信LAN104Bに接続されている。
ホストコンピュータ101は、半導体装置の製造工程のプロセスを制御する工場管理コンピュータである。このホストコンピュータ101では、工場内の製造工程全体の製品(半導体基板)の流れおよびその状況を管理している。このホストコンピュータ101は、工場内制御LAN102を経由して工場内の情報のやり取りをしている。すなわち、工場内は、ホストコンピュータ101によって半導体ウエハの搬送、製造および検査の各工程が制御されている。
クライアントコンピュータ106は、一般的なパーソナルコンピュータであり、工場内制御LAN102に接続できる全てのパーソナルコンピュータで代用する事が可能である。インターネットのWeb閲覧ソフトがインストールされていれば、何処からでもデータベースサーバ105にアクセスできるようになっている。
工場内制御LAN102には、工場内の複数の製造装置および複数の検査装置103が接続されており、ホストコンピュータ101の指令により製品の製造および検査を実行し、その検査結果をホストコンピュータ101に送るようになっている。
検査装置103は、ホストコンピュータ101により制御されている図示しない工場内搬送システムによって各検査装置103に搬送された基板を検査装置103内に取り込み、各種検査を実行することにより、その基板の良否を判定する。この検査装置103は、搬送部107、検査部108、欠陥判定部109等により構成されている。搬送部107は、ロボットアーム等からなり、複数の基板が収納されている搬送キャリアから製品を取り出し、検査部108に基板を搬送する。検査部108は基板の検査を実行するための照明装置や撮像装置を含む光学部等が設置されており、基板の表面、裏面、ベベル部等基板全体を撮像する。欠陥判定部109は、撮像された画像から欠陥抽出等を行い基板の良否を判定、解析するハードウェアおよびソフトウェアからなり、検査部108によって撮像された画像を画像処理により欠陥抽出し検査条件に記載された判定に用いる閾値から基板の良否の判定や欠陥の分類や分析をする。また、検査結果や撮像した画像を表示するための液晶モニタなどの表示部146や各種指示を出すためのキーボード、マウスなどの不図示の操作部を備え、これらを用いてGUI(グラフィカル ユーザ インターフェース)により、指示を出すようになっている。また、これら全体を制御する制御部145を備えている。
また、検査装置103内の記憶部144は、最小限の記憶容量のみ与えられている。例えば検査結果及び検査画像データ等の情報を直前の1回分のみ記憶できる容量であり、情報は一枚の基板の検査毎にデータベースサーバ105に転送される。そして、制御部145は、転送を完了した時点でその転送された情報を消去する。または、記憶部144は、所定の容量を超えたときに、制御部145はより過去に検査されたものから順に画像データ等の情報の消去を行うようにしてもよい。また、記憶部144は、非常時用に画像データが送れない場合に備え、画像データ等の情報をバックアップで記憶できるよう少なくとも数回程度の検査分の情報を記憶が可能な記憶容量を有している。
また、検査装置103は、工場内制御LAN102、情報通信LAN104Aおよび情報通信LAN104Bに複数接続されており、それぞれ別々に検査を実行して搬送された製品の良否判定を実行している。この際、各検査装置103は、検査対象となる基板の品種、ロット等によって検査対象の基板数や検査の条件および基板の判定の基準を変更する必要があり、その検査条件を記載したレシピファイルをホストコンピュータ101等より読み込み、検査条件を変更している。
情報通信LAN104Aは、各検査装置103のレシピファイルや検査結果等の情報および検査の際に撮像した画像データ等をデータベースサーバ105に通常時に転送するための構内通信網であり、前記工場内制御LAN102に比べて大量の情報量を転送する為に大容量化が図られている。
情報通信LAN104Bは、構内通信網の二重化により情報通信LAN104Aの障害発生時の対策として設けられたものである。情報通信LAN104Aに障害が発生した場合に、この情報通信LAN104Bを用いることにより画像データをデータベースサーバ105に転送し続けることができ、検査装置103を停止させること無く検査を実行することが可能となっている。
データベースサーバ105は、レシピ保管部112、検査結果保管部117、データベース部118、データベース登録部111、レシピ編集サーバ113、検査結果サーバ110等から構成されている。これらによりデータベースサーバ105は、検査装置103のレシピ管理および検査装置103の結果データの蓄積、検査装置103の状況データの蓄積が出来るようになっている。また、データベースサーバ105は、工場内制御LAN102を介してホストコンピュータ101との情報のやり取りや他のクライアントコンピュータ106からのアクセスが可能となっている。
レシピ保管部112は、各検査装置103で使用するレシピファイルを保管する。ここで、レシピファイルには検査装置103を識別するための検査装置ID(装置識別子)や検査装置103の名称が付与されており、この検査装置IDまたは名称別に保管されている。
検査結果保管部117は、各検査装置103から転送されてくる欠陥分類結果や基板の良否判定結果などの検査結果データや検査装置103で撮像した画像データを保管する。検査結果データおよび画像データは、その検査を実行した検査装置103の検査装置ID、検査日時(撮像日時情報)および検査判定を行ったユニットを示すユニットIDが付与されており、検査装置103、検査日時およびユニットを識別できるよう検査装置ID、検査日時、ユニットIDを画像データと関連付けて保存するようになっている。
データベース部118は、その内部に不図示のレシピの情報をデータベース化して管理するレシピデータベース114と、検査結果と画像の情報をデータベース化した検査結果データベース115と、各検査装置103の稼動状況や障害情報をデータベース化した装置管理データベース116とを備えている。
データベース登録部111は、各検査装置103から転送されてくるレシピファイル、検査結果ファイル、装置管理情報ファイル等を受け取り、各々の情報をデータベースに登録する機能を持っている。これによって検査装置103からの情報は、全てデータベース化されて検索および情報の読出しが可能になる。
レシピ編集サーバ113は、工場内制御LAN102に接続されており、クライアントコンピュータ106からの指示により、検査装置103に代わってレシピの編集および追加が可能となっている。また、レシピ編集サーバ113は、インターネットの技術を利用したWebサービス機能を搭載しており、レシピ編集画面やレシピ編集に使用する画像をクライアントコンピュータ106の画面に表示させる事が可能である。また、レシピ編集サーバ113は、前記レシピデータベース114から指定されたレシピを検索し、実際に編集するレシピをレシピ保管部112から読み込んで編集および変更を実行後、レシピ保管部112に保存すると同時にレシピデータベース114にその内容を登録することができる。
検査結果サーバ110は、工場内制御LAN102に接続されており、クライアントコンピュータ106や各検査装置103からの指示により、検査結果を検索し、検査結果保管部117から実際の検査結果データや画像データを読み込んでクライアントコンピュータ106や各検査装置103の画面に表示することができる。
例えば、検査装置103からの指示の場合は、指示信号には、その検査装置103の検査装置IDが添付されて送信されるため、その検査装置103で検査を行った画像データのみを画面に表示する。
次に、上述のような基板検査システムの動作について、半導体ウエハの検査を例にして説明する。
(基本レシピ設定工程)
先ず、操作者は、クライアントコンピュータ106を利用してレシピ編集サーバ113にアクセスして、この基本レシピの編集を行う。
(基本レシピ設定工程)
先ず、操作者は、クライアントコンピュータ106を利用してレシピ編集サーバ113にアクセスして、この基本レシピの編集を行う。
これは、欠陥検査システムが工場に設置された時、データベースサーバ105のレシピ保管部112には、予め基本レシピのみが保管されている。この基本レシピには、検査装置103が検査を実行するための必要な情報が記載されており、検査を実行することが可能であるが、ウエハ毎に最適化されてはいないため全てのウエハに対して最適な検査結果を得る事は出来ないためである。特に、半導体ウエハにおいては、そのウエハ内が検査領域と非検査領域とに分かれており、検査領域とその検査条件の設定が必要となる。
操作者は、クライアントコンピュータ106の画面に表示された基本レシピの検査領域に対してウエハの検査領域に合うように数値や領域の設定を画面で指示する。レシピ編集サーバ113は、その情報を受けてレシピの情報を変更して再表示する。
そして、操作者は、ウエハに適した検査領域の設定が終了した後、レシピの名称またはIDを指定して保存指示をする。レシピ編集サーバ113は、指定された検査領域に編集されたレシピをレシピ保管部112に保存する。同時に、レシピデータベース114に対して保存されたレシピのIDや保管場所の情報を登録する。
(基板搬入工程)
図示しない工場内搬送システムによって搬送された搬送キャリアが検査装置103に到着すると、ホストコンピュータ101は、該当する検査装置103に検査開始の指令を出す。この際には、検査されるウエハのロット名、品種名、工程名、ロットID、キャリア内のウエハが収められているスロットと、夫々のウエハID等の情報も一緒に送られる。
(検査レシピ設定工程)
検査装置103は、ホストコンピュータ101から送られた情報に基づき、情報通信LAN104Aを介して該当するレシピをレシピデータベース114に問い合わせ、必要なレシピファイルをダウンロードする。この際、検査装置103内部に以前ダウンロードしたファイルが存在する場合はダウンロードする必要は無く、最新のレシピとの整合だけ行えば済む様になっている。
(検査レシピチューニング工程)
但し、検査装置103に初めて検査を行う品種のウエハが到着した場合は、検査シーケンスの前にそのウエハに適したレシピのチューニングを実行する。これはウエハの製造工程では、工程により反射率やパターンのレイアウトが変化するために1つの光学条件で包括することは困難であり、その製品名および工程特有の光学条件が必要となるためである。
(基板搬入工程)
図示しない工場内搬送システムによって搬送された搬送キャリアが検査装置103に到着すると、ホストコンピュータ101は、該当する検査装置103に検査開始の指令を出す。この際には、検査されるウエハのロット名、品種名、工程名、ロットID、キャリア内のウエハが収められているスロットと、夫々のウエハID等の情報も一緒に送られる。
(検査レシピ設定工程)
検査装置103は、ホストコンピュータ101から送られた情報に基づき、情報通信LAN104Aを介して該当するレシピをレシピデータベース114に問い合わせ、必要なレシピファイルをダウンロードする。この際、検査装置103内部に以前ダウンロードしたファイルが存在する場合はダウンロードする必要は無く、最新のレシピとの整合だけ行えば済む様になっている。
(検査レシピチューニング工程)
但し、検査装置103に初めて検査を行う品種のウエハが到着した場合は、検査シーケンスの前にそのウエハに適したレシピのチューニングを実行する。これはウエハの製造工程では、工程により反射率やパターンのレイアウトが変化するために1つの光学条件で包括することは困難であり、その製品名および工程特有の光学条件が必要となるためである。
検査装置103は、初めて検査を行う品種のウエハの1枚を搬送部107により検査部108に搬送し、自動でランプの光量の設定値や撮像角度、フィルタの選択、フォーカス調整等を行い、最適なウエハの画像が撮像できる条件を探す動作を実行する。1つ又は複数の光学条件が選択されると、これらの条件をレシピファイルに書き込み、次回より最適な条件で検査できるようなレシピファイルに変更する。この際、レシピファイルには変更されたバージョン情報も変更される。変更されたレシピファイルは、情報通信LAN104Aを介してデータベースサーバ105のレシピ保管部112に保存すると同時に、データベース登録部111に通知する。データベース登録部111では、レシピファイルの内容を読み取り、必要な情報をレシピデータベース114に登録する。
(検査工程)
検査装置103は、該当するレシピファイルに基づき、検査対象となるスロットのウエハを搬送部107で搬送キャリアから取り出し、検査装置103内の検査部108に搬送する。検査部108では、レシピファイルに記載されている光学条件および検査条件を設定して、ウエハの画像を撮像し結果を欠陥判定部109に渡す。
(検査工程)
検査装置103は、該当するレシピファイルに基づき、検査対象となるスロットのウエハを搬送部107で搬送キャリアから取り出し、検査装置103内の検査部108に搬送する。検査部108では、レシピファイルに記載されている光学条件および検査条件を設定して、ウエハの画像を撮像し結果を欠陥判定部109に渡す。
欠陥判定部109では、検査部108の情報に基づき、画像処理および解析処理を実行し、レシピファイルに記載された判定条件に従い、ウエハの良否判定を行う。
検査装置103は、1枚のウエハ検査が終了すると、終了する毎に情報通信LAN104Aを介してウエハの検査結果および画像データをベースサーバ105に送る。
検査装置103は、1枚のウエハ検査が終了すると、終了する毎に情報通信LAN104Aを介してウエハの検査結果および画像データをベースサーバ105に送る。
送られたウエハの検査結果および画像データは、データベースサーバ105の検査結果保管部117に保存され、それと共に同時にデータベース登録部111に通知される。データベース登録部111では、検査結果ファイルの内容を読み取り、必要な情報を検査結果データベース115に登録する。検査結果ファイルには、ホストコンピュータ101から指示されたウエハのロット名、品種名、工程名、ロットID、キャリア内のウエハが収められているスロットと、夫々のウエハID等の情報と一緒に、検査装置103のIDや検査日時、検査結果、すなわちウエハ判定結果、判定理由、欠陥の分類結果や検査時の各種の情報が含まれている。
(画像データ消去工程)
また、検査装置103は、送信を完了した時点でその記憶部144内の送信されたウエハの検査結果および画像データの情報を消去する。または、所定の容量を超えたときにより過去に検査されたものから順に検査結果と画像データの情報の消去を行う。
(画像データ消去工程)
また、検査装置103は、送信を完了した時点でその記憶部144内の送信されたウエハの検査結果および画像データの情報を消去する。または、所定の容量を超えたときにより過去に検査されたものから順に検査結果と画像データの情報の消去を行う。
これらの動作を繰り返し、搬送キャリアに収納されており且つ検査対象としているロットのウエハ全ての検査が終了すると、検査装置103は、工場内制御LAN102を介してホストコンピュータ101に検査の終了を通知する。
(検査結果登録工程)
該当するロットの全てのウエハについて検査が完了すると、欠陥判定部109は、ロットとしての判定を実行する。例えば、ロット内に何枚不良ウエハが含まれるとFailとするかといった判定条件は、あらかじめレシピファイルに設定されており、この条件によって判定を実施する。ロットの検査が終了すると、ウエハ検査結果同様に、検査結果保管部117に保存されると共に同時にデータベース登録部111に通知される。
(検査結果登録工程)
該当するロットの全てのウエハについて検査が完了すると、欠陥判定部109は、ロットとしての判定を実行する。例えば、ロット内に何枚不良ウエハが含まれるとFailとするかといった判定条件は、あらかじめレシピファイルに設定されており、この条件によって判定を実施する。ロットの検査が終了すると、ウエハ検査結果同様に、検査結果保管部117に保存されると共に同時にデータベース登録部111に通知される。
この際、ウエハが収められている搬送キャリア内のロットとしての判定は、搬送キャリア内の全てのウエハが1つのロットであればそのものがロットになり1回、搬送キャリア内に複数のロットが含まれているときは複数回発生する。
また、検査装置103が起動したり、シャットダウンしたり、メンテンナンスを実行したりした場合には、検査装置103のステータスが変更した情報を、情報通信LAN104Aを介してデータベースサーバ105のデータベース登録部111に通知する。データベース登録部111では、装置情報の内容を装置管理データベース116に登録して、装置状態履歴の更新を行う。
この様にして、工場内に流れるウエハに対して変更されるレシピ情報、検査結果情報および検査装置103の状態が、全てデータベースサーバ105に保管されて蓄積される。
(基板搬出工程)
ホストコンピュータ101は、搬送キャリア内の検査が終了したことを認識すると、工場内搬送システムに対して搬送キャリアの移動を指示し搬出させる。この様にして工場内でウエハの製造が進められていく。
(基板搬出工程)
ホストコンピュータ101は、搬送キャリア内の検査が終了したことを認識すると、工場内搬送システムに対して搬送キャリアの移動を指示し搬出させる。この様にして工場内でウエハの製造が進められていく。
次に、運用が開始された後のデータベースサーバ105の機能および動作について説明する。
なお、以下クライアントコンピュータ106の表示画面として説明するが、各検査装置103においても同様な表示が行なえ同様の機能をもつものとする。
なお、以下クライアントコンピュータ106の表示画面として説明するが、各検査装置103においても同様な表示が行なえ同様の機能をもつものとする。
次に、検査結果の表示機能について説明する。
図2は、検査装置1が検査を実行中に表示している画面例を示す図である。
検査結果を表示させたい場合、操作者は、図2に示したようなメインページからロット検査結果を表示する機能を示すボタン200「DB Server」を選択すると、検査結果サーバ110は、検査結果データベース115に登録されている検査結果の中から最後に登録されたロット検査結果の情報を検索して、そのロットの検査結果について図3のように表示する。
図2は、検査装置1が検査を実行中に表示している画面例を示す図である。
検査結果を表示させたい場合、操作者は、図2に示したようなメインページからロット検査結果を表示する機能を示すボタン200「DB Server」を選択すると、検査結果サーバ110は、検査結果データベース115に登録されている検査結果の中から最後に登録されたロット検査結果の情報を検索して、そのロットの検査結果について図3のように表示する。
より具体的には、図1を用いて説明したような基板検査システム、すなわち、被検査体であるウエハを撮像して欠陥を検査する検査装置103と、前記検査装置103が撮像した前記ウエハの画像データを格納するデータベースサーバ105とが、ネットワークを介して接続された基板検査システムが、下記のような欠陥検査方法を実行する。
すなわち、前記検査装置103が、ウエハを撮像し、撮像した画像データを、検査装置103を特定するための装置識別子および撮像した日時を示す撮像日時情報とともに、データベースサーバ105に送信する。そして、データベースサーバ105が、検査装置103から送信された画像データ、装置識別子および撮像日時情報を受信し、受信した画像データ、装置識別子および撮像日時情報を互いに対応付けて画像データベースに格納する。
検査装置103が、検査装置103の撮像した最新の画像データを表示させるための表示指示を入力し、入力された表示指示を、装置識別子とともに、データベースサーバ105に送信する。そして、データベースサーバ105が、検査装置103から送信された表示指示および装置識別子を受信し、受信した装置識別子に基づき、画像データベースを検索して、現在時刻から見て最新の画像データを取得し、検索した被検索画像データを、検査装置103に送信する。
すると、検査装置103が、検査装置103から送信された被検索画像データを受信し、受信した被検索画像を表示する。
そして、図3情報表示部501には、ロット名、製品名、工程名、ロットID、検査装置103のIDや検査日時等のロットに関する情報が表示されている。また、該当する検査装置情報だけでなく、この検査の対象となった製造装置に関する装置ID、製造装置名称、レシピ名等の情報も含まれている。この情報表示部501は、後述する他の画面と共通にすることで操作者に認識しやすくされている。逆に他の画面でしか使用しない項目については記載されない項目もある。
そして、図3情報表示部501には、ロット名、製品名、工程名、ロットID、検査装置103のIDや検査日時等のロットに関する情報が表示されている。また、該当する検査装置情報だけでなく、この検査の対象となった製造装置に関する装置ID、製造装置名称、レシピ名等の情報も含まれている。この情報表示部501は、後述する他の画面と共通にすることで操作者に認識しやすくされている。逆に他の画面でしか使用しない項目については記載されない項目もある。
選択部502には、現在表示されている画面の条件を変えて表示したい場合に使用する。装置IDを選択すると、指定された装置IDの検査装置103で検査された最新のロットに表示が変更される。これによって特定の検査装置103の検査結果を見ることが可能となる。
「検査条件」の指定をすると、特定の検査条件の結果を表示する事が出来る。検査条件によって検出される欠陥の種類も変わってくるために、特定の欠陥が検出されていないかを探すのに適している。
「次ロット」503、「前ロット」504をクリックすると、現在表示されているロットの次に登録されたロットや1つ前のロットに表示が遷移する。前記の装置IDが選択されている場合は、選択された検査装置103の次ロットおよび前ロットに遷移するが、装置IDが指定されていない場合は、検査結果データベース115に登録されているロットの中で時間順に遷移するようになっている。
「再表示」505をクリックすると、現在表示されているロットの情報を再度検査結果データベース115から取得して最新の状態に更新する。これは最新のロットを表示する際に、ロットの途中であった場合に全てのスロットの情報およびロット判定結果が表示されないことがあるため、時間を置いて再表示させることで、再確認することを可能としている。あるいは検査装置103を限定して表示させている場合には、該当する検査装置103の検査進行状況を確認することが可能となる。
「検索」506をクリックすると、別途検索画面が表示されて、ロット名、製品名、工程名、ロットID、検査装置103のIDや検査日時等の条件を設定して特定のロットを検索、表示することが可能となる。これは見たいロットの条件が予めわかっている場合に、直接該当ロットを表示することが可能となる。
画像表示部507には、該当ロットに含まれるウエハの検査結果を画像として表示している。各画像の枠はそのウエハの判定結果により赤と青に色分けして表示されており、一目で欠陥のウエハが判るようになっている。また、撮像画像にオーバーレイして欠陥の形状が表示されているので、該当するウエハでどの様な結果が発生したかを認識する事ができる。更に、画像の下にウエハのIDやスロット番号、画像の欠陥の悪さ具合の指標となる値であるLEVELを表示している為に、どのスロットがどの程度の悪さ具合でPass又はFailとなったかが認識できるようになっている。
判定情報部508には、該当ロットの判定情報が表示されている。判定情報には判定結果と判定の理由となったFailウエハ数やトータルウエハ数、欠陥ウエハ率等と一緒にウエハ内の同一領域に欠陥があるウエハが何枚あったかを表示する。ロットの判定は、Failウエハの数と共に製造装置トラブルが起因の場合は、特定の場所に同じ欠陥が発生する傾向があるため、ロット内のウエハに対して同一領域上に欠陥が繰り返し発生していないかをロット判定の条件としている。
また、前記画像表示部507で表示されていた欠陥の悪さ具合の指標となるLEVELについては、ロット内でもっとも悪かった値を表示できるようになっている。
スロット情報部509には、ロット内の各スロットの検査結果情報が表示されている。各スロットの判定結果、欠陥数、欠陥面積等の情報が一覧表示されている。
スロット情報部509には、ロット内の各スロットの検査結果情報が表示されている。各スロットの判定結果、欠陥数、欠陥面積等の情報が一覧表示されている。
ロット欠陥情報部510には、ロット内の欠陥部位を全てオーバーレイした画像が表示されている。このロット欠陥情報部510の画面には、撮像された画像は表示されないが、全てのスロットの情報を重ね合わせた欠陥部位の表示となっている。これにより、ロット内で同じような場所に欠陥があるのか、どの様な欠陥が多かったのかを一目で判断することができる。ロット全体の状況を判断することができる。
このロット検査結果表示画面は、クライアントコンピュータ106の他にも検査装置103からもアクセスすることが可能となっており、検査装置103からアクセスする場合に、URLアドレスの後ろに装置ID、製品名、工程名、ロットIDなどの識別子を付加することにより、その検査装置103で検査しているロットの状況を表示することも可能となっている。また、検査装置103側のアプリケーションではインターネット検索アプリケーションに自動更新機能をオンにすることにより、定期的に最新の情報に更新することが可能である。この機能を使うことにより、通常検査装置103夫々にインストール起動している装置表示機能を削減することが可能となり、検査装置103側のアプリケーションの負荷を低減して検査速度の向上につながると共に、検査装置103の開発の短縮と価格の低減を図ることが出来る。
図4は、ロットレポート画面の表示例を示す図である。
図3の選択部502にあるレシピ作成ボタン511を押すと、図4の様なロットレポート画面を表示する。この際、検査結果サーバ110は、検査結果データベース115を検索して、後述するようにロット内の全ての情報を読出して画面を表示する。
図3の選択部502にあるレシピ作成ボタン511を押すと、図4の様なロットレポート画面を表示する。この際、検査結果サーバ110は、検査結果データベース115を検索して、後述するようにロット内の全ての情報を読出して画面を表示する。
図4の情報表示部701は、前記図3の情報表示部501と同様にロットに関する情報が表示されており、現在表示されているロットとその条件を確認することができる。
グラフ表示部702では、横軸がスロット番号であり、縦軸が欠陥数およびLEVELの変化を表示するグラフが、検査条件別に表示されている。図3ではウエハの表面と裏面を検査した場合について記載されているが、それ以外にもウエハの端面検査やウエハ部の特定の一部の検査結果について表示することも可能となっている。
グラフ表示部702では、横軸がスロット番号であり、縦軸が欠陥数およびLEVELの変化を表示するグラフが、検査条件別に表示されている。図3ではウエハの表面と裏面を検査した場合について記載されているが、それ以外にもウエハの端面検査やウエハ部の特定の一部の検査結果について表示することも可能となっている。
検査結果表示部703では、各スロットの検査結果について詳細に表示している。各スロットの情報としては、スロット番号、ウエハの検査結果、欠陥チップ数、欠陥面積、欠陥個数、光学条件毎の欠陥個数、光学条件毎のLEVELの値等である。また、検査条件毎に、表面検査、裏面検査、単面検査の夫々についても表形式で表示している。
プロセス情報部704では、該当ロットがこの検査を実施するまえの工程の情報を表示している。
半導体製造前工程では、20工程から50工程を経由してウエハが製造されるため、各ロットは複数の工程を経由している。そこで、検査対象となった工程以前の工程の情報を知る事は、欠陥の発生理由を解析する上で重要な役割を果たす。すなわち、特定の工程以降で常に同じ場所に欠陥が存在しているという事は、最初に欠陥が発生した工程での欠陥が起因し、後に続く工程でも欠陥が発生していることを意味しており、その対策としては、最初に欠陥が発生した工程を是正することが重要となってくる。
半導体製造前工程では、20工程から50工程を経由してウエハが製造されるため、各ロットは複数の工程を経由している。そこで、検査対象となった工程以前の工程の情報を知る事は、欠陥の発生理由を解析する上で重要な役割を果たす。すなわち、特定の工程以降で常に同じ場所に欠陥が存在しているという事は、最初に欠陥が発生した工程での欠陥が起因し、後に続く工程でも欠陥が発生していることを意味しており、その対策としては、最初に欠陥が発生した工程を是正することが重要となってくる。
プロセス情報部704には、該当ロットが経由した全ての工程における検査結果が、工程ごとに表示されている。その表示内容は、欠陥数、検査結果、LEVEL、欠陥発生率、ウエハ数、同一ロット内の同一領域内に発生している欠陥数等がある。
また、グラフ表示部702にある保存ボタン705を、マウスクリック等で指定することにより、このレポート画面が市販されている表計算ソフトのフォーマットで保存することが可能となる。
市販の表計算ソフトではグラフの編集や表の値の集計、変更などが用意できるようなものもあり、一般の操作者でも自由に使いこなす事ができるため、検査結果サーバ110の結果に編集を加えることが可能であり、また広く市販されているものであれば電子データのやり取りによって情報を共有することも可能となる。
図5は、スロット表示画面の表示例を示す図である。
図3の画像表示部507で各画像をクリックすると、図5のようなスロット表示画面を表示する。また、同様に、スロット情報部509のスロット番号をクリックしても、図5に遷移することができる。
図3の画像表示部507で各画像をクリックすると、図5のようなスロット表示画面を表示する。また、同様に、スロット情報部509のスロット番号をクリックしても、図5に遷移することができる。
この際、検査結果サーバ110は、指定されたスロットの情報を、検査結果データベース115を検索して入手すると共に、図5に示される画面に情報を表示する。
図5の情報表示部801は、前記図3の情報表示部501と同様の情報が表示されているが、先に選択されたスロットの情報について、品種、工程、ロット、ウエハ等の情報が表示される。
図5の情報表示部801は、前記図3の情報表示部501と同様の情報が表示されているが、先に選択されたスロットの情報について、品種、工程、ロット、ウエハ等の情報が表示される。
欠陥部位表示部802には、ウエハ上の欠陥となった場所に欠陥の形状を縁取りした画像、ウエハ上の検査領域の種別および検査対象となった領域が表示されている。また、欠陥形状については欠陥の分類名毎に色分けされており、その傍らに、光学条件、検査条件毎に識別できる識別名が表示されている。
スロット検査結果情報部803には、このウエハの検査結果の詳細が表示されている。詳細情報としては、ウエハの判定結果の他に、欠陥数、欠陥面積、他の装置若しくは検査装置103で欠陥部のレビューを実施したかの有無と、その際の判定結果等も一緒に表示される。
欠陥テーブル804には、このウエハで検出した欠陥毎に、その欠陥の数、面積、大きさ、位置の情報が表示されており、前記の欠陥部位表示部802に表示されている識別名毎に表示されている。
条件毎検査情報部805には、本検査の検査条件についての情報が表示されている。ここには、明視野観察、暗視野観察、回折観察等の光学条件と、その光学条件毎のウエハ判定結果、欠陥数、欠陥面積、その他特殊計測結果等の情報が表示されている。
本実施の形態では、検査装置103が光学条件毎にウエハ全域の検査を実施して、ウエハ上に複数個の欠陥を検出する事が出来る。また、より欠陥の検出精度を高めるように、複数の光学条件で1枚のウエハの検査を実施し、且つウエハの表面、裏面、端面等の場所毎に検査条件を変えて検査を実行する。
また、本実施の形態は、全ての光学条件および検査条件の結果からウエハの良否判定を判断することが可能な検査装置103を前提としている。よって、前記条件毎検査情報部805には、検査条件および光学条件毎の検査結果を表示し、スロット検査結果情報部803では、全ての検査条件、光学条件を包括したウエハの検査結果を表示するようになっている。
この様に、ウエハに関する検査装置103の情報について詳細に表示することにより、ウエハ上から検出されて結果について詳細の情報を得る事が出来ると共に、本検査装置103又は他の装置でのレビュー結果も合わせて閲覧することが可能となるため、ウエハに発生している欠陥の解析に役立てる事が可能となる。
図6は、ウエハレポート画面の表示例を示す図である。
図5のスロット検査結果情報部803にあるレポート作成ボタン806をクリックすると、図6のウエハレポート画面に遷移する。
図5のスロット検査結果情報部803にあるレポート作成ボタン806をクリックすると、図6のウエハレポート画面に遷移する。
この際、検査結果サーバ110は、指定されたスロットの情報および該当するウエハの検査履歴情報を、検査結果データベース115を検索することにより入手すると共に、図5に示される画面に情報を表示する。
図6の情報表示部1001は、前記図5の情報表示部801と同様の情報が表示されている。
欠陥分析グラフ部1002は、このウエハから検出された欠陥を欠陥分類名毎の面積率にしてグラフに表示している。ウエハ全域の欠陥面積に対する各分類名の欠陥面積を、百聞率(%)にして面積の大きい順に表示するいわゆるパレート図として表示する。このようなパレート図は、故障解析に使われるグラフであり、どの要素が最も不良に起因しているかと、その要素毎の起因割合を一目でみる事が出来る手法である。これにより、該当するウエハの欠陥の最大理由とその起因度を判りやすく表示することができる。
欠陥分析グラフ部1002は、このウエハから検出された欠陥を欠陥分類名毎の面積率にしてグラフに表示している。ウエハ全域の欠陥面積に対する各分類名の欠陥面積を、百聞率(%)にして面積の大きい順に表示するいわゆるパレート図として表示する。このようなパレート図は、故障解析に使われるグラフであり、どの要素が最も不良に起因しているかと、その要素毎の起因割合を一目でみる事が出来る手法である。これにより、該当するウエハの欠陥の最大理由とその起因度を判りやすく表示することができる。
欠陥拡大表示部1003は、前記欠陥分析グラフ部1002に表示された最も不良に起因している分類名の内、最も面積の大きい順に複数個の欠陥部分について画像の拡大像および欠陥部位の輪郭線を表示する。通常は、3つの分類名と各々3個の欠陥部位について表示される。
これらの欠陥分析グラフ部1002と欠陥拡大表示部1003とを操作者が見ることによって、どの様な結果がウエハ上で発生しており、その欠陥の形状はどうなっているかをウエハの画像と同時に見る事が可能となり、不良発生原因の特定に役立てる事が可能となる。
欠陥テーブル部1004は、各検査条件に分類名毎の欠陥の一覧表を表示している。欠陥一覧表には、これらの欠陥が分類名毎に欠陥面積順に並べられ、その欠陥個数、面積合計、分類名等が表示されている。
また、前記ロット情報で説明した複数のウエハに対して同じ領域で欠陥が発生している場所についても、その欠陥の情報と領域、領域内の個数、欠陥面積を表示している。
工程情報部1005では、同一ウエハの検査履歴の一覧表を表示している。同一のウエハが他の工程で検査された結果について、ウエハ判定結果、欠陥個数、欠陥面積、欠陥領域数について検査条件毎に表示している。該当するウエハが全ての工程を通過した後であれば、ウエハ上のどの工程で欠陥発生率が多いかといった情報を見つけやすくなっている。
工程情報部1005では、同一ウエハの検査履歴の一覧表を表示している。同一のウエハが他の工程で検査された結果について、ウエハ判定結果、欠陥個数、欠陥面積、欠陥領域数について検査条件毎に表示している。該当するウエハが全ての工程を通過した後であれば、ウエハ上のどの工程で欠陥発生率が多いかといった情報を見つけやすくなっている。
また、保存ボタンをマウスクリック等で指定することにより、図6に示したようなレポート画面を市販されている表計算ソフトのフォーマットで保存することが可能となる。
工程欠陥表示部1006では、工程情報部1005で表示された欠陥履歴を工程毎に色分けして欠陥部位を表示している。これにより、このウエハが複数の工程に渡って同一場所に欠陥が存在すれば、前の工程での欠陥の影響が後続の工程にも影響を与えていたり、特定の工程だけに特定の場所に発生している欠陥があったり、現在表示している工程での欠陥が他の工程の影響を受けずに発生しているといった情報を見る事が可能となる。また、ウエハが通過した工程が増えてくると画面が見難くなるために、前記工程情報部1005で表示する工程、検査条件を選択し、更新ボタンを押すことで選択された工程、検査条件のみを表示することが可能である。
工程欠陥表示部1006では、工程情報部1005で表示された欠陥履歴を工程毎に色分けして欠陥部位を表示している。これにより、このウエハが複数の工程に渡って同一場所に欠陥が存在すれば、前の工程での欠陥の影響が後続の工程にも影響を与えていたり、特定の工程だけに特定の場所に発生している欠陥があったり、現在表示している工程での欠陥が他の工程の影響を受けずに発生しているといった情報を見る事が可能となる。また、ウエハが通過した工程が増えてくると画面が見難くなるために、前記工程情報部1005で表示する工程、検査条件を選択し、更新ボタンを押すことで選択された工程、検査条件のみを表示することが可能である。
図7は、画像表示画面の表示例を示す図である。
図5の欠陥部位表示部802の任意の欠陥部分をマウスクリック等で指定するか、若しくは欠陥テーブル804の任意の識別番号をマウスクリック等で指定すると、図7のような画像表示画面を表示する。
図5の欠陥部位表示部802の任意の欠陥部分をマウスクリック等で指定するか、若しくは欠陥テーブル804の任意の識別番号をマウスクリック等で指定すると、図7のような画像表示画面を表示する。
図7の情報表示部1201は、前記図5の情報表示部801と同様の情報が表示されている。
拡大画像表示部1202には、図5で指定された欠陥を中心とした拡大画像を表示し、その近傍には欠陥が存在しない同様の領域の画像が表示される。
拡大画像表示部1202には、図5で指定された欠陥を中心とした拡大画像を表示し、その近傍には欠陥が存在しない同様の領域の画像が表示される。
ウエハではその面内に複数のチップと呼ばれる同一パターン形状の領域が存在する。そこで、欠陥の無いチップ部分を中心として抜き取り、例えば右側の画像に表示することで、欠陥部分と正常部分とを比較することが可能となる。
画像表示制御部1203では、拡大画像の拡大率の変更や欠陥部分を表す縁取りの表示/非表示の制御、欠陥の識別子の表示、ウエハのチップの領域枠を示すチップマップ表示、光学条件の変更、検査条件の変更を制御する事が可能であり、夫々拡大画像表示部1202の表示状態を制御することが可能となっている。
表示領域制御部1204では、現在表示している拡大画像のウエハ上の位置を表示している。また、他の領域をマウスクリック等で指定することで、表示する位置を変更できるようになっている。
図7の画面が表示された際は、現在拡大画像表示部1202で表示されている左右の画像のウエハ上の位置を表示しているが、他の場所を操作者が指定すると、その領域を中心とした画像を拡大画像表示部1202の例えば左側に再表示する。また、この表示領域制御部1204に欠陥の検出された位置が表示されているため、任意の欠陥部分を選択して表示させる事が可能となっている。
検査結果表示部1205では、現在表示している対象欠陥の欠陥識別子、欠陥面積、欠陥位置、大きさ等の情報と検査の光学条件の情報が表示されている。また、前記表示領域制御部1204で別の欠陥部分をマウスクリック等で指定されると、その欠陥が拡大画像表示部1202の例えば右側画面の中心に表示されると共に、検査結果表示部1205に指定された欠陥の情報が表示されるようになっている。
レビュー情報表示部1206には、現在表示している欠陥について他の画像、検査結果がある場合、そのレビュー画像とその装置名や判定結果が表示されている。このレビューには検査装置103自身が、再度撮像した画像の場合と光学顕微鏡、レーザー顕微鏡、AFM、SEM、OCD等の装置からのレビュー結果が含まれている。また、該当する欠陥以外にもこのウエハに存在するレビュー結果が存在する場合は、リストの下部に例えば色を変えてレビュー結果を表示している。
レビュー画像表示部1207には、前記レビュー情報表示部1206で選択されたレビュー画像の拡大像が表示されている。最初のリストの最初の画像が表示されており、最新の画像が表示されるようになっている。これによって、上記拡大画像表示部1202で表示されている。そして、欠陥画像とその欠陥のレビュー画像を一度に見る事が可能となり、操作者が欠陥の種類や原因について多方面の情報から解析や確認する事が可能となる。
次に、検査レポート機能について説明する。
図8は、検査結果リスト画面の表示例を示す図である。
図8のリスト選択部1401は、リスト表示する種類を選択することが可能となっており、全ての検査結果を対象とするワーキングリスト、特定の検査装置103の検査に限定するマシーンリスト、特定の製品名に限定するプロダクトリスト、特定の工程に限定するプロセスリスト、製品名と工程を特定したレシピに限定するレシピリストを選択する事ができる。
図8は、検査結果リスト画面の表示例を示す図である。
図8のリスト選択部1401は、リスト表示する種類を選択することが可能となっており、全ての検査結果を対象とするワーキングリスト、特定の検査装置103の検査に限定するマシーンリスト、特定の製品名に限定するプロダクトリスト、特定の工程に限定するプロセスリスト、製品名と工程を特定したレシピに限定するレシピリストを選択する事ができる。
情報表示部1402では、他の画面と同様に検査の条件が表示されている。
レポート制御部1403では、更にレポートする要素を限定する為に、期間や装置、製品名、工程、レシピの種類やバージョンを指定することが可能である。
レポート制御部1403では、更にレポートする要素を限定する為に、期間や装置、製品名、工程、レシピの種類やバージョンを指定することが可能である。
また、リスト表示ボタン1405をマウスクリック等により指定することで、画面の下部に該当するリストを再表示する。初めはリスト選択部1401で選択された全ての検査結果が対象となるが、レポート制御部1403で制限条件を追加することにより、更に絞った検査をすることができる。但し、検査結果が膨大になるにつれ絞りきれない場合もあるために、リスト部1404に表示されるリスト数は200件に限定し、それ以降は検索せずに、表示応答速度を早めている。
画面の下部のリスト部1404には、該当する検査結果の時間、製品名、工程名、レシピ名、検査装置名などの情報が表示される。例えば、検査結果サーバ110が検査結果データベース115を該当する検索条件で検索した結果の内、ヒットした最初の200件が表示されることになる。
図9は、レポート表示画面の表示例を示す図である。
レポート作成ボタン1406を指定すると、再度、検査結果サーバ110が検査結果データベース115を該当する検索条件で検索し、そのデータを解析して図9のようなレポート表示画面800に遷移する。
レポート作成ボタン1406を指定すると、再度、検査結果サーバ110が検査結果データベース115を該当する検索条件で検索し、そのデータを解析して図9のようなレポート表示画面800に遷移する。
図9の情報表示部1501には、該当する製品名や工程、ロットの情報を表示する。
統計グラフ部1502には、検索対象となった検査結果の統計情報を中心としたグラフを表示する。ロット概要グラフでは、時間を横軸にとり、検査したロット数、不良率、LEVEL等を縦軸にとった棒グラフや折れ線グラフで表示しており、ロットの推移を表示している。
統計グラフ部1502には、検索対象となった検査結果の統計情報を中心としたグラフを表示する。ロット概要グラフでは、時間を横軸にとり、検査したロット数、不良率、LEVEL等を縦軸にとった棒グラフや折れ線グラフで表示しており、ロットの推移を表示している。
装置概要グラフでは、時間軸を横軸にとり、検査装置103毎のロット数、不良率、LEVEL等を縦軸にとった棒グラフや折れ線グラフで表示しており、検査装置103による差異が判るようになっている。
工程概要グラフでは、時間軸を横軸にとり、検査された工程毎のロット数、不良率、LEVEL等を縦軸にとった棒グラフや折れ線グラフで表示しており、工程毎の差異が判るようになっている。
歩留まりグラフでは、円グラフで該当する検査の欠陥率が表示されている。
レシピ概要グラフでは、検査されたレシピ種別を横軸にとり、各レシピのロット数、不良率、LEVEL等を縦軸にとった棒グラフや折れ線グラフで表示しており、レシピによる差異が判るようになっている。
レシピ概要グラフでは、検査されたレシピ種別を横軸にとり、各レシピのロット数、不良率、LEVEL等を縦軸にとった棒グラフや折れ線グラフで表示しており、レシピによる差異が判るようになっている。
装置概要グラフでは、検査装置103の装置IDを横軸にとり、各検査装置103のロット数、不良率、LEVEL等を縦軸にとった棒グラフや折れ線グラフで表示しており、検査装置103による差異が判るようになっている。
統計情報部1503には、上記グラフを表示する検索データの一覧表が表示されており、各グラフの詳細データが全て表示されている。
また、保存ボタンをマウスクリック等で指定することにより、図9に示したようなレポート画面を市販されている表計算ソフトのフォーマットで保存することが可能となる。
また、保存ボタンをマウスクリック等で指定することにより、図9に示したようなレポート画面を市販されている表計算ソフトのフォーマットで保存することが可能となる。
このレポート表示画面800は、情報表示部801にあるボタンを選択することにより、全履歴のレポート、特定の月のレポート、特定の週のレポート、特定の日のレポートに変更することが出来る。これらのレポートを作成することで、工場内の製品の推移や装置毎、製品毎、レシピ毎等により不良の発生頻度の差異を識別することが可能となり、定期的にレポートを作成、閲覧することにより製品歩留まりの管理、解析を行う事が可能となる。
図10は、ログイン画面の表示例を示す図であり、図11は、ログイン後のメイン画面の表示例を示す図である。
図1に示したクライアントコンピュータ106からデータベースサーバ105にアクセスする為には、通常のインターネットアプリケーションを利用して指定されたURLアドレスにアクセスする。すると、検査結果サーバ110のWebサービス機能により、図10に示したようなログイン画面でユーザネーム201とログインパスワード202を入力し、図11に示したようなメイン画面を表示する。また、検査装置103からアクセスする場合は、特別なログインユーザとして接続されたID/パスワードは装置起動時に入力されたものを送信する。検査装置103からのアクセスとは別にサーバは別のコンピュータからブラウザーを使って操作することが可能である。この場合はサーバは、URLに接続する図10のようなログイン画面を表示する。
図1に示したクライアントコンピュータ106からデータベースサーバ105にアクセスする為には、通常のインターネットアプリケーションを利用して指定されたURLアドレスにアクセスする。すると、検査結果サーバ110のWebサービス機能により、図10に示したようなログイン画面でユーザネーム201とログインパスワード202を入力し、図11に示したようなメイン画面を表示する。また、検査装置103からアクセスする場合は、特別なログインユーザとして接続されたID/パスワードは装置起動時に入力されたものを送信する。検査装置103からのアクセスとは別にサーバは別のコンピュータからブラウザーを使って操作することが可能である。この場合はサーバは、URLに接続する図10のようなログイン画面を表示する。
データベースサーバ105では、ユーザネームによって4つのログインモードを持っており、夫々のモードでアクセスできる機能が異なるようになっている。1つ目はオペレータモードであり、画像や装置状態の検索、表示のみが機能する。2つ目はスタッフモードであり、オペレータモードの機能に加えてレシピの変更編集が可能となる。3つ目はメンテナンスモードであり、スタッフモードに加えてログインユーザの変更や追加、サーバ機能の設定が可能となる。4つ目はアドミニストレータモードであり、全ての設定および変更が可能となる。これらの4つのモードを設定することにより、最も使用頻度の高いオペレータモードでの操作によりシステムの状態が変更されないように保護されている。
図11は、検査結果サーバ110が表示するメインページの表示例を示す図である。
ログインすると、図1に示した検査結果サーバ110はメインページを表示し、操作者は、検査結果301、レシピ編集302、装置管理303のいずれかのサービスを選択することができる。選択したサービスがレシピ関連の場合は、レシピ編集サーバ113のURLに自動的に移動するようになっており、検査結果サーバ110とレシピ編集サーバ113との間を意識することなく移動することが可能である。
ログインすると、図1に示した検査結果サーバ110はメインページを表示し、操作者は、検査結果301、レシピ編集302、装置管理303のいずれかのサービスを選択することができる。選択したサービスがレシピ関連の場合は、レシピ編集サーバ113のURLに自動的に移動するようになっており、検査結果サーバ110とレシピ編集サーバ113との間を意識することなく移動することが可能である。
ここで、メインページから遷移する画像検査機能について説明する。
画像検査機能は、検査結果301として、検査結果表示304、検査レポート表示305、レポート編集300、DB編集307を選択することが出来る。
画像検査機能は、検査結果301として、検査結果表示304、検査レポート表示305、レポート編集300、DB編集307を選択することが出来る。
次にレポート編集について図12を中心に説明する。
図12は、レポート編集画面の表示例を示す図である。
図12のレポート選択部1601では、レポートの種類、期間、名称、グラフ数等を選択する。レポートの種類としては、全て、製品毎、工程毎、レシピ毎、装置毎等を選択できる。レポートの期間は、全て、月単位、週単位、日単位を選択することができる。そして、このレポートの種類と期間で編集するレポートを特定する。また、これとは別に各レポートに名称が付与されている場合は、名称で選択することも可能である。
図12は、レポート編集画面の表示例を示す図である。
図12のレポート選択部1601では、レポートの種類、期間、名称、グラフ数等を選択する。レポートの種類としては、全て、製品毎、工程毎、レシピ毎、装置毎等を選択できる。レポートの期間は、全て、月単位、週単位、日単位を選択することができる。そして、このレポートの種類と期間で編集するレポートを特定する。また、これとは別に各レポートに名称が付与されている場合は、名称で選択することも可能である。
グラフ詳細設定部1602では、表示するグラフの意味づけを設定することが可能である。表示するグラフを円グラフにするか通常のグラフにするかの選択と、その単位軸を何に設定するかを選択する。単位軸とは、グラフのX軸に相当するものであり、時間や工程、レシピ、装置ID等を示している。
円グラフの場合は、表示するターゲットと分割する種類を選択できる。例えば、欠陥率をターゲットとして分割を欠陥分類種類すれば、欠陥種類別の欠陥の率を円グラフで表示することが出来る。
通常のグラフの場合は、棒グラフに表示するターゲットと分割項目、折れ線グラフに表示するターゲットと種類を選択することができる。例えば、グラフの単位軸を日付、棒グラフのターゲットを検査したロット数、分割を判定結果とする。折れ線グラフのターゲットをLEVELの最大値、最小値、平均値とすると、前記図9のロット概要グラフを表示する事が出来る。
この様に、各グラフの内容を詳細に設定しなおすことにより、前記図9のレポート画面で表示されるグラフの内容を任意に変更することが可能となる。
図13は、自動レポート機能を説明するための表示例を示す図である。
図13は、自動レポート機能を説明するための表示例を示す図である。
自動レポート機能として図13のような画面で各レポートを自動生成するかどうかの選択とレポートが作成された場合に、誰にメールで通知するかを設定できる画面も持っており、Daily/Weekly/Monthly等で自動的にレポートを作成して、作成されたことを電子メールで関係者に送信することで、操作者の手間を省くことが可能になると共にレポートの作成および確認漏れを防ぐ事が可能となる。
電子メールが届いた操作者は、メールに記載されているリンクURLアドレスを用いて、インターネット経由で前記レポートの閲覧と表計算ソフトとして自分のパーソナルコンピュータに保存することが可能となる。そして、これを蓄積していくことにより、工場内の歩留まりの管理、検証を行う事が可能となる。
図14は、DBメンテナンス画面の表示例を示す図である。
DBメンテナンス機能について、図14を用いて説明する。
図1における検査結果データベース115や検査結果保管部117には有限の容量であるため、継続して使用していく中で容量が一杯になってしまう。そこで、それらをどのタイミングで削除していくかを指定する画面が、図14のDBメンテナンス画面である。
DBメンテナンス機能について、図14を用いて説明する。
図1における検査結果データベース115や検査結果保管部117には有限の容量であるため、継続して使用していく中で容量が一杯になってしまう。そこで、それらをどのタイミングで削除していくかを指定する画面が、図14のDBメンテナンス画面である。
図14において、プロテクトアイテム部1801は、永久保存するウエハID、ロットIDを指定することが出来る。ここで指定されたウエハIDやロットIDの情報は、永久に消される事は無く、常に検査結果データベース115や検査結果保管部117に保管されることになる。
プロテクト製品部1802では、保管しておく製品名を指定することができる。ここで指定された製品名のデータは、通常は消去されることは無く、優先して検査結果データベース115や検査結果保管部117に保管される。但し、保存領域がここで指定された製品名だけで一杯になってしまった場合には、古い順に消去されてしまう。
削除制御部1803では、データを削除する条件を設定することが出来る。データは、データベース保管期限を越えると検査結果データベース115のアーカイブに移され、DBの対象から外される。これにより古いデータが検査対象からはずされるのでDB検索速度を維持することが可能である。
次に、アーカイブ保管期限を過ぎると、検査結果データベース115のデータを削除されデータベースに復旧することができなくなる。そして、データ保管期限を越えると、検査結果保管部117から全ての情報が削除される。
これらの条件に該当するかどうかを、どのタイミングで検索するかを設定することにより、毎日、同じ時刻に検索を実行し、該当するデータを削除することが出来る。
また、これとは別に、保存領域が規定の容量以下になると自動的にデータベース削除、データ削除を実行できるように、容量のリミットを設定することも可能である。
また、これとは別に、保存領域が規定の容量以下になると自動的にデータベース削除、データ削除を実行できるように、容量のリミットを設定することも可能である。
この様にして、データの容量を定期的に監視することにより、サーバの容量飽和によるシステムダウンや検索速度の低下と抑制することが可能となり、良好なサーバ機能を得る事が可能である。
すなわち、本発明は、以上に述べた各実施の形態等に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内で種々の構成または形状を取ることができる。
101 ホストコンピュータ
102 工場内制御LAN
103 検査装置
104A、104B 情報通信LAN
105 データベースサーバ
106 クライアントコンピュータ
107 搬送部
108 検査部
109 欠陥判定部
110 検査結果サーバ
111 データベース登録部
112 レシピ保管部
113 レシピ編集サーバ
114 レシピデータベース
115 検査結果データベース
116 装置管理データベース
117 検査結果保管部
118 データベース部
144 記憶部
145 制御部
146 表示部
200 ボタン
201 ユーザネーム
202 ログインパスワード
301 検査結果
302 レシピ編集
303 装置管理
304 検査結果表示
305 検査レポート表示
306 レポート編集
307 DB編集
501 情報表示部
502 選択部
503 次ロット
504 前ロット
505 再表示
506 検索
507 画像表示部
508 判定情報部
509 スロット情報部
510 ロット欠陥情報部
511 レシピ作成ボタン
701 情報表示部
702 グラフ表示部
703 検査結果表示部
704 プロセス情報部
705 保存ボタン
801 情報表示部
802 欠陥部位表示部
803 スロット検査結果情報部
804 欠陥テーブル
805 条件毎検査情報部
806 レポート作成ボタン
1001 情報表示部
1002 欠陥分析グラフ部
1003 欠陥拡大表示部
1004 欠陥テーブル部
1005 工程情報部
1006 工程欠陥表示部
1201 情報表示部
1202 拡大画像表示部
1203 画像表示制御部
1204 表示領域制御部
1205 検査結果表示部
1206 レビュー情報表示部
1207 レビュー画像表示部
1401 リスト選択部
1402 情報表示部
1403 レポート制御部
1404 リスト部
1405 リスト表示ボタン
1406 レポート作成ボタン
1501 情報表示部
1502 統計グラフ部
1503 統計情報部
1601 レポート選択部
1602 グラフ詳細設定部
1801 プロテクトアイテム部
1802 プロテクト製品部
1803 削除制御部
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103 検査装置
104A、104B 情報通信LAN
105 データベースサーバ
106 クライアントコンピュータ
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108 検査部
109 欠陥判定部
110 検査結果サーバ
111 データベース登録部
112 レシピ保管部
113 レシピ編集サーバ
114 レシピデータベース
115 検査結果データベース
116 装置管理データベース
117 検査結果保管部
118 データベース部
144 記憶部
145 制御部
146 表示部
200 ボタン
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301 検査結果
302 レシピ編集
303 装置管理
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502 選択部
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508 判定情報部
509 スロット情報部
510 ロット欠陥情報部
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Claims (10)
- 複数の基板検査装置で撮像した基板の画像データをネットワーク回線で接続されたデータベースサーバに保存する基板検査システムであって、
前記基板検査装置は、前記基板を撮像する毎に撮像した画像データと前記基板検査装置を特定するための装置識別子と撮像した日時を示す撮像日時情報とを対応付けた情報として前記データベースサーバに送信し、送信された前記情報の送信の完了毎に、または、送信された前記情報の容量が前記基板検査装置の記憶部の所定の容量を超えたときに前記基板検査装置の前記記憶部の前記情報を消去する制御部を備えることを特徴とする基板検査システム。 - 前記データベースサーバは、前記画像データを保存する検査結果保管部と、
前記基板検査装置からの最新の画像データの表示の指示により、前記装置識別子と最新の前記撮像日時情報とから最新に保存された前記画像データを前記検査結果保管部から読み出し前記基板検査装置に送信する検査結果サーバと、
を備えることを特徴とする請求項1に記載の基板検査システム。 - 前記基板検査装置は、前記データベースサーバから送信された画像データを表示する表示部を備え、前記基板検査装置からの最新の画像データの表示の指示は、前記表示部のGUI上にあるボタンにより行なわれることを特徴とする請求項2に記載の基板検査システム。
- 前記データベースサーバをチューニングするためのクライアントPCがネットワークを介して接続されており、前記データベースサーバは、前記クライアントPCからの指示により前記基板検査装置の被検索画像の表示と、表示内容の変更とを実行することを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の基板検査システム。
- 前記ネットワーク回線は、工場内の情報のやり取りをするための工場内制御LANと、前記基板検査装置から前記データベースサーバに前記画像データを送受信するための専用の情報通信LANとからなることを特徴とする請求項1から4のいずれか1項に記載の基板検査システム。
- 前記情報通信LANは、大量の情報量を転送するための通常回線と該通常回線の障害発生時の対策として設けられた回線の2つよりなること特徴とする請求項5に記載の基板検査システム。
- 前記基板検査装置の記憶部は、画像データが送れない場合に備え前記画像データを少なくとも数回の検査分の前記情報の記憶が可能なバックアップ用の記憶容量をもつことを特徴とする請求項1から6のいずれか1項に記載の基板検査システム。
- 基板を撮像して欠陥を検査する複数の基板検査装置と、前記基板検査装置が撮像した前記被検査体の画像データを格納するデータベースサーバとが、ネットワークを介して接続された欠陥検査システムにおいて実行される基板検査方法であって、
前記基板検査装置が、前記基板を撮像する毎に、撮像した画像データと前記基板検査装置を特定するための装置識別子と撮像した日時を示す撮像日時情報とを対応付けられた情報として前記データベースサーバに送信し送信し保存させる画像データ送信工程と、
前記画像データ送信工程が完了する毎に、または、前記画像データ送信工程により送信された前記情報が前記基板検査装置の記憶部の所定の容量を超えたときに前記基板検査装置の前記情報を消去する画像データ消去工程と、
を含むことを特徴とする基板検査方法。 - 前記基板検査装置からの最新の画像データの表示の指示により、前記データベースサーバが、前記基板検査装置の前記装置識別子と最新の前記撮像日時情報とから対応する保存された前記画像データを読み出し前記基板検査装置に送信する最新検査情報送信工程と、
前記基板検査装置の表示部が前記最新検査情報送信工程で送信された情報をもとに表示する最新検査画像表示工程と、
を含むことを特徴とする請求項8に記載の基板検査方法。 - 前記データベースサーバをチューニングするためのクライアントPCがネットワークを介して接続されており、前記データベースサーバは前記基板検査装置の被検索画像を表示する被検索画像表示工程と該被検索画像表示工程での表示内容を変更する表示変更工程と含み、前記クライアントPCからの指示により前記被検索画像表示工程と前記表示変更工程とを実行することを特徴とする請求項8または9に記載の基板検査方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008057223A JP2009216401A (ja) | 2008-03-07 | 2008-03-07 | 基板検査システムおよび基板検査方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008057223A JP2009216401A (ja) | 2008-03-07 | 2008-03-07 | 基板検査システムおよび基板検査方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009216401A true JP2009216401A (ja) | 2009-09-24 |
Family
ID=41188433
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008057223A Withdrawn JP2009216401A (ja) | 2008-03-07 | 2008-03-07 | 基板検査システムおよび基板検査方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2009216401A (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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2008
- 2008-03-07 JP JP2008057223A patent/JP2009216401A/ja not_active Withdrawn
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