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JP2009264691A - 熱処理装置、インライン式熱処理装置及び被処理物の製造方法 - Google Patents

熱処理装置、インライン式熱処理装置及び被処理物の製造方法 Download PDF

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JP2009264691A
JP2009264691A JP2008116738A JP2008116738A JP2009264691A JP 2009264691 A JP2009264691 A JP 2009264691A JP 2008116738 A JP2008116738 A JP 2008116738A JP 2008116738 A JP2008116738 A JP 2008116738A JP 2009264691 A JP2009264691 A JP 2009264691A
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heat treatment
chamber
cooling gas
opening
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Application number
JP2008116738A
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Shuji Saito
修司 齋藤
Kenro Yamamoto
賢朗 山元
Tetsuya Kakizawa
哲也 柿沢
Takeo Kato
丈夫 加藤
Atsushi Nakatsuka
篤 中塚
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Ulvac Inc
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Ulvac Inc
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Abstract

【課題】熱エネルギー効率を高めることができる熱処理装置、インライン式熱処理装置及び被処理物の製造方法を提供すること。
【解決手段】熱処理装置30は、冷却ガスを直接ケーシング23内へ導入するための導入路を構成する、例えば2つの導入管240を備える。また、熱処理装置30は、チャンバ18内に連通しチャンバ18外へ冷却ガスを排出する排出路を構成する排出管250を備えている。導入管240を介してチャンバ18外から直接ケーシング23内へ冷却ガスが導入されるので、熱を受容する前の冷却ガスが、チャンバ18内であってケーシング23外の領域に触れることがないので、熱エネルギー効率を高めることができる。
【選択図】図5

Description

本発明は、焼結体、金属材料、その他の被処理物を加熱及び冷却する熱処理装置、インライン式熱処理装置及び被処理物の製造方法に関する。
焼結体、金属材料、その他の被処理物を熱処理する熱処理炉は、一般的に、例えば加熱室と、その加熱室に隣接する冷却室を備える。この熱処理炉では、被処理物が加熱室で加熱された後、冷却室で冷却される。例えば大気圧下、大気圧から多少減圧された減圧下、あるいはさらに真空度が高い真空下で、被処理物は加熱処理される。また、通常、冷却ガスが冷却室内に送り込まれることにより、被処理物が強制冷却される。
ガス冷却式の熱処理炉として、単室型熱処理炉がある(例えば、特許文献1参照。)。この単室型熱処理炉(T)は、ケーシング(1)と、ケーシング(1)内に設けられた処理室であるインナーチャンバ(5)とを備えている。インナーチャンバ(5)を覆うようにマッフル(15)が設けられている。また、冷却用の循環ファン(3)がケーシング(1)の端部に配置され、その端部付近にクーラー(18)が設けられている。循環ファン(3)及びクーラー(18)により冷却ガスがケーシング(1)内で循環する。具体的には、クーラー(18)から吐出された冷却ガスが、マッフル(15)の下部に設けられた開口(16B)、及び、インナーチャンバ(5)の下部に設けられた通気口(9B)を介してインナーチャンバ(5)に流入する。流入した冷却ガスは、その上部に設けられた通気口(9A)から流出する。通気口(9A)から流出した冷却ガスは、マッフル(15)とインナーチャンバ(5)との間の流路(Pb)を通り循環ファン(3)に戻る。
特開2002−333277号公報(段落[0024]、図1及び図2)
特許文献1の単室型熱処理路において、冷却ガスの流路は、マッフル(15)により、吐出流路(Pa)と吸引流路(Pb)とに分離され、熱効率が考慮されている。しかしながら、さらに冷却ガスの流れを工夫することで、熱エネルギー効率をさらに高めることができると予想される。
以上のような事情に鑑み、本発明の目的は、熱エネルギー効率を高めることができる熱処理装置、インライン式熱処理装置及び被処理物の製造方法を提供することにある。
本発明の別の目的は、被処理物全体を均一に冷却することができる熱処理装置、インライン式熱処理装置及び被処理物の製造方法を提供することにある。
本発明の一形態に係る熱処理装置は、チャンバと、ケーシングと、ヒータと、流路と、圧力付与機構とを具備する。
上記ケーシングは、開閉可能な開口を有し、上記チャンバ内に設けられ、被処理物を覆う。上記ヒータは、上記ケーシング内の上記被処理物を加熱する。上記流路は、冷却ガスが上記チャンバ外から直接上記ケーシング内へ導入されるように設けられた導入路と、上記チャンバ内に連通する上記冷却ガスの排出路とを有し、上記流路は、上記冷却ガスを流通させる。上記圧力付与機構は、上記導入路を介して上記ケーシング内に上記冷却ガスが導入され、上記ケーシング内に導入された上記冷却ガスが上記開口を介して上記ケーシング外に流出し、上記流出した、上記チャンバ内にある上記冷却ガスが上記排出路を介して排出されるように、上記冷却ガスに圧力を与える。
本発明の一形態に係るインライン式熱処理装置は、加熱処理部と、冷却処理部と、熱処理装置と、搬送路とを具備する。
上記加熱処理部は、上記被処理物を加熱し、上記冷却処理部は、被処理物を冷却する。上記熱処理部は、上述した熱処理装置と同様の構成を備える。上記搬送路は、上記加熱処理部、上記冷却処理部及び上記熱処理部で、被処理物が連続的に搬送されるように設けられている。
本発明の一形態に係る被処理物の製造方法は、開閉可能な開口を有し、上記チャンバ内に設けられた、被処理物を覆うケーシング内で、上記開口を閉じた状態で、上記被処理物を加熱することを具備する。
上記ケーシングの上記開口は、開放される。上記チャンバ外から導入路を介して直接上記ケーシング内に冷却ガスが導入され、上記ケーシング内に導入された上記冷却ガスが上記開口を介して上記ケーシング外に流出し、上記チャンバ内にある上記冷却ガスが、上記チャンバ内に連通する排出路を介して排出されるように、上記冷却ガスに圧力が与えられる。
本発明の一形態に係る熱処理装置は、チャンバと、ケーシングと、ヒータと、流路と、圧力付与機構とを具備する。
上記ケーシングは、開閉可能な開口を有し、上記チャンバ内に設けられ、被処理物を覆う。上記ヒータは、上記ケーシング内の上記被処理物を加熱する。上記流路は、冷却ガスが上記チャンバ外から直接上記ケーシング内へ導入されるように設けられた導入路と、上記チャンバ内に連通する上記冷却ガスの排出路とを有し、上記流路は、上記冷却ガスを流通させる。上記圧力付与機構は、上記導入路を介して上記ケーシング内に上記冷却ガスが導入され、上記ケーシング内に導入された上記冷却ガスが上記開口を介して上記ケーシング外に流出し、上記流出した、上記チャンバ内にある上記冷却ガスが上記排出路を介して排出されるように、上記冷却ガスに圧力を与える。
この熱処理装置では、チャンバ内に設けられたケーシング内で、被処理物がヒータにより加熱処理され、そのケーシング内に供給される冷却ガスにより冷却される。冷却ガスの導入路は、冷却ガスが前記チャンバ外から直接前記ケーシング内へ導入されるように設けられている。したがって、熱を受容する前の冷却ガスが、チャンバ内であってケーシング外の領域に触れることがないので、熱エネルギー効率を高めることができる。
少なくとも加熱処理時には、チャンバ内は真空であるが、チャンバ内は大気圧であってもよいし、あるいは、大気圧から多少減圧された減圧状態であってもよい。
流路は、チャンバ外で導入路及び排出路を接続することが可能な接続路を有していてもよい。この場合、冷却ガスは流路を循環する。
上記ケーシングは、第1の側と、上記第1の側に対向する第2の側とを有していていもよい。上記導入路は、上記ケーシングの上記第1の側に接続された第1の導入管と、上記ケーシングの上記第2の側に接続された第2の導入管とを有してもよい。すなわち、少なくとも2方向からケーシング内に冷却ガスが導入されるので、被処理物を均一に冷却することができる。
第1の側を構成するケーシングの面及び第2の側を構成するケーシングの面は平行であってもよいし、平行でなくてもよい。
導入路は、複数の第1の導入管(及び/または、複数の第2の導入管)を有してもよい。
上記ケーシングは、上記開口が配置された、上記第1の側及び上記第2の側の間に接続された第3の側を有してもよい。開口が配置された第3の側が第1の側及び第2の側の間にあるので、第1の側及び第2の側から導入されたそれぞれの冷却ガスが、均一かつ効率的にケーシング内を通過して開口を介してケーシング外に流出する。これにより、被処理物は均一に冷却される。
上記ケーシングは、上記ケーシングの下部に上記第3の側を有していもよい。物理現象として温度が低いガスほど下方に向かうので、ケーシング内で効率的に冷却ガスが流れる。
上記ケーシングは、上記ケーシングの下部に上記開口を有し、上記排出路は、上記チャンバの高さ方向における中心位置より高い位置で上記チャンバに接続された排出管を有していもよい。これにより、ケーシングの下部の開口から流出した冷却ガスが、チャンバ内であってケーシング外の領域で上昇して排出管から排出される。すなわち、チャンバ内であってケーシング外の領域において、冷却ガスが拡散するように流れるので、チャンバ内であってケーシング外の領域の熱分布を均一にすることができる。
上記熱処理装置は、上記チャンバの外側であって、上記流路の一部に設けられた熱交換器をさらに具備してもよい。上記特許文献1では、クーラが外側チャンバ内にあるので熱エネルギー効率が低い。しかし、本発明に係る形態では、熱交換器がチャンバの外側に設けられているので、熱エネルギー効率を高めることができる。
上記導入路は、上記ケーシングに設けられたノズルユニットであって、上記冷却ガスを上記ケーシング内に供給する複数のノズルを含むノズルユニットを有していもよい。複数のノズルが設けられることにより、冷却ガスが均一にケーシング内を流れる。
上記ノズルユニットは、上記ノズルユニットの高さ方向の中心位置が、上記ケーシング内に配置された上記被処理物の高さ方向における中心位置より高い位置になるように、上記ケーシングに設けられてもよい。物理現象として温度が低いガスほど下方に向かうので、このような本発明に係る形態により、被処理物を効率的に冷却することができる。
上記熱処理装置は、上記導入路からの上記ケーシング内への上記冷却ガスの流出方向を調整する流出方向調整機構をさらに具備してもよい。これにより、被処理物の大きさ、被処理物のケーシング内の位置等に応じて、冷却ガスの流出方向を調整することができる。この場合、作業者の手作業により、または、作業者の流出方向調整機構への電気的または磁気的な操作入力により、冷却ガスの流出方向が調整されてもよい。
上記流出方向調整機構は、一方向に延びる本体と、上記本体に設けられ、上記本体の延びる方向に垂直な面とは異なる、上記冷却ガスを流出させる開口面とを含むノズルと、上記ノズルの上記開口面の向きを調整する調整機構とを有してもよい。これにより、上記本体の延びる方向を回転軸として、ノズルが回転させられることにより、冷却ガスの流出方向を調整することができる。
流出方向調整機構は、複数のノズルを有してもよい。
上記熱処理装置は、上記開口を開閉する開閉機構と、上記ヒータによる加熱処理のときに上記開口を閉じるように、かつ、上記圧力付与機構により上記冷却ガスが上記流路を流れるときに上記開口を開放するように、上記開閉機構を制御する制御手段とをさらに具備する。
本発明の一形態に係るインライン式熱処理装置は、加熱処理部と、冷却処理部と、熱処理装置と、搬送路とを具備する。上記加熱処理部は、上記被処理物を加熱し、上記冷却処理部は、被処理物を冷却する。上記熱処理部は、上述した熱処理装置と同様の構成を備える。上記搬送路は、上記加熱処理部、上記冷却処理部及び上記熱処理部で、被処理物が連続的に搬送されるように設けられている。
被処理物が処理される順序、つまり、加熱処理部、冷却処理部及び熱処理部が並ぶ順序は、例えば、加熱処理部、熱処理部、冷却処理部である。しかし、例えば、熱処理部、加熱処理部、冷却処理部の順序、または、その他の順序であってもよい。
「連続的に」とは、被処理物が、加熱処理部、冷却処理部、熱処理部を順に(上記のように順序は問わない。)搬送されることを意味する。
本発明の一形態に係る被処理物の製造方法は、開閉可能な開口を有し、上記チャンバ内に設けられた、被処理物を覆うケーシング内で、上記開口を閉じた状態で、上記被処理物を加熱することを含む。上記ケーシングの上記開口は、開放される。上記チャンバ外から導入路を介して直接上記ケーシング内に冷却ガスが導入され、上記ケーシング内に導入された上記冷却ガスが上記開口を介して上記ケーシング外に流出し、上記チャンバ内にある上記冷却ガスが、上記チャンバ内に連通する排出路を介して排出されるように、上記冷却ガスに圧力が与えられる。
以下、本発明の実施の形態を図面を参照しながら説明する。
図1は、本発明の一実施の形態に係るインライン式熱処理装置を示す側面図である。
インライン式熱処理装置(以下、便宜的に「熱処理炉」という。)100は、典型的には、真空下で被処理物Wを熱処理する真空熱処理炉である。被処理物Wは、例えば磁性材料、その他の金属材料、セラミックス、あるいはこれらの焼結体等である。
被処理物Wは、図示しないトレイに載せられる場合もあり、その場合、そのトレイごと搬送されて各処理室20、30、40、50及び60で処理される。1つのトレイに複数の被処理物Wが載せられる場合もある。あるいは、そのトレイが多段に積み上げられ、その多段の複数のトレイごと搬送されて各処理室で処理される場合もある。
熱処理炉100は、図1中、被処理物Wの上流側(左側)から順に、ロードロック室10、加熱処理室20、熱処理装置30、2つの加熱処理室40、50、及び、冷却処理室60を備えている。図1中、このように被処理物Wが流れる方向をX軸方向とする。
ロードロック室10、複数の加熱処理室20、40、50、熱処理装置30、冷却処理室60は、それぞれX軸方向に延びる円筒状の隔壁21を有している。ロードロック室10及び加熱処理室20の間には、ゲートユニット15が配置されている。
ゲートユニット15は、ゲート13と、ゲート13を開閉する開閉装置12とを有する。ゲート13が閉められることで、ロードロック室10及び加熱処理室20がそれぞれ気密にされ、ゲート13が開けられることで、ロードロック室10及び加熱処理室20との間で被処理物Wが移動することが可能となる。これと同様のゲートユニット15が、加熱処理室20及び熱処理装置30の間、熱処理装置30及び加熱処理室40の間、加熱処理室40及び50の間、加熱処理室50及び冷却処理室60の間にも、それぞれ設けられている。
ロードロック室10より上流側の位置から、冷却処理室60より下流側の位置にかけて、複数の搬送ローラ41が配列されている。複数の搬送ローラ41により被処理物Wの搬送路が構成される。搬送ローラ41は、例えば図示しないベルト、チェーン等の駆動機構により駆動される。これらの搬送ローラ41により、各処理室で被処理物Wが自動的に連続的に搬送される。
ロードロック室10では、熱処理炉100の外側の気圧である例えば大気圧、及び、加熱処理室20内の圧力の間で、そのロードロック室10内の圧力が変化する。
加熱処理室20、40及び50、熱処理装置30では、典型的には600〜1000℃で被処理物Wが加熱される。しかし、加熱処理室20、40、50及び熱処理装置30のうち少なくとも1つが、被処理物Wを600℃より低い温度で加熱してもよいし、1000℃より高い温度で加熱してもよい。加熱処理室20、40、50及び熱処理装置30のうち少なくとも2つが、被処理物Wを実質的に同じ温度で加熱してもよい。
冷却処理室60では、それより上流側で加熱された被処理物Wの温度、例えば100〜200℃にまで冷却される。熱処理炉100は、冷却処理室60内に冷却ガスを供給する図示しない供給設備を備えている。冷却処理室60の冷却方式として、冷却ガスを用いる場合に限られず、例えば冷却プレート等に被処理物Wが載置されることで冷却される方式であってもよい。
加熱処理室20、40、50、熱処理装置30及び冷却処理室60における処理温度、真空度は、被処理物W、あるいはその他の条件によりそれぞれ異なり、適宜変更可能である。
このような、段階的な加熱処理及び/または冷却処理によって、特有な、または最適な物性値を持つ被処理物Wが製造される。
図2は、図1におけるA−A線断面図であり、熱処理装置30を上流側から見た図である。図3は、図2に示す熱処理装置30の側面図である。図4は、図2におけるB−B線の模式的な断面図である。図5は、図2に示したチャンバの内部を拡大した図である。
熱処理装置30は、上記した円筒状の隔壁21を備えている。この隔壁21により、この熱処理装置30のチャンバ18が形成される。チャンバ18内のほぼ中央には、被処理物Wを覆うケーシング23が配置されている。ケーシング23は、被処理物Wの加熱処理時のチャンバを形成する。ケーシング23内の下部には、上述の複数の搬送ローラ41がX軸方向に配列され、これらの搬送ローラ41上に載置台38及びこの載置台38に載置された被処理物Wが配置されている。
ケーシング23内には、例えばX軸方向に長い複数のヒータ39が設置されている。ヒータ39として、例えばカーボンヒータ、セラミックヒータ、金属線ヒータ等が挙げられる。ヒータ39の数、形状、配置等は適宜変更可能である。
例えば被処理物Wが磁性材料の焼結体(熱処理炉100で処理される前に既に焼結されているもの)である場合、このようなヒータ39の加熱処理は、焼結後の保磁力を安定させるためのエージング処理となる。しかし、被処理物Wは、磁性焼結体に限られないことは上述した通りであり、ヒータ39による加熱処理は、被処理物Wに対して様々な目的で用いられる。
図5に示すように、ケーシング23は、典型的には、上壁23a、両側壁23b及び底壁23cを有する、実質的に直方体の形状を有している。ケーシング23の底壁23cには開口23dが設けられ、この開口23dには蓋体23eが装着されるようになっている。蓋体23eは、開閉機構45により開閉される。
開閉機構45は、例えば蓋体23eの下部に接続された鉛直方向に延びる昇降棒34と、昇降棒34を昇降させる駆動シリンダ33とを含む。このような開閉機構45により、開口23dが閉じられた状態から蓋体23eが下降して開口23dが開放され、開口23dが開放された状態から、蓋体23eが上昇して開口23dが閉じられる。昇降棒34とチャンバ18内との隙間は、図示しないシール機構によってシールされている。
駆動シリンダ33は、ガス圧、油圧等により昇降棒34を駆動する。駆動シリンダ33による駆動機構に限られず、リニアモータ、ベルト、チェーン等による駆動機構が用いられてもよい。
開口23dは、典型的には1つ設けられているが、複数であってもよい。複数の開口23dが設けられる場合、蓋体23eもそれに応じて複数設けられる。
図4に示すように、ケーシング23の上流端には、被処理物Wの搬入口23fが設けられ、ケーシング23の下流端には搬出口23gが設けられている。これらの搬入口23f及び搬出口23gは、隔壁21の上流端の搬入口21c及び搬出口21dと、X軸方向で実質的に同じ位置に位置している。したがって、ケーシング23の搬入口23f及び搬出口23gは、上記ゲート13により開閉されればよい。しかし、このような形態に限られず、搬入口23f及び搬出口23gには、ゲート13とは別の開閉機構45により開閉されてもよい。
なお、ケーシング23は、他の室10、20、40、50及び60のうち少なくとも1つにも、同様に設けられていてもよい。
ケーシング23の材料として例えば断熱材料が用いられるか、または、ケーシング23の内面に図示しない断熱板が貼り付けられている。あるいは、ケーシング23に断熱材料が用いられ、かつ、ケーシング23の内面にその断熱板が貼り付けられる場合もある。その場合、その貼り付けられた断熱板の主な目的は、冷却ガスの気流による、断熱材としてのケーシング23の消耗防止を図ることにある。
図4及び図5に示すように、ケーシング23の上部には、モータ31により回転駆動され、ヒータ39による加熱時に、ケーシング23内の熱分布を均一にするための気流を発生するファン32が配置されている。ファン32とケーシング23内との間には、気流のバッファ領域37が設けられている。バッファ領域37とケーシング23内の領域との間には、複数の通気穴を有する拡散板48が設置されている。これにより、ファン32により発生する気流がバッファ領域37に一旦溜まり、バッファ領域37から拡散板48により拡散されてケーシング23内に流入する。
図5に示すように、隔壁21の内部には、例えば水冷用の複数のパイプ22がX軸方向に延設されている。これにより、隔壁21が冷却される。これらのパイプ22は、典型的には、他の各室10、20、40、50及び60にも設けられている。
図2に示すように、隔壁21の所定の位置には、排気口21bが設けられ、排気口21bには真空ポンプ36が接続されている。また、隔壁21には、例えば冷却ガスなど、ガスを供給する供給口21aが設けられ、供給口21aには冷却ガスの供給源35が接続されている。冷却ガスとしては、例えばアルゴン、窒素、ヘリウム、その他の不活性ガスが用いられる。
図2及び図5に示すように、熱処理装置30は、冷却ガスを直接ケーシング23内へ導入するための導入路を構成する、例えば2つの導入管240を備える。また、熱処理装置30は、チャンバ18内に連通しチャンバ18外へ冷却ガスを排出する排出路を構成する排出管250を備えている。少なくとも導入路及び排出路により、冷却ガスの流路29が構成される。
2つの導入管240の構成は実質的に同じであるので、以降では、特に2つの導入管240の両方に着目しない限り、1つの導入管240について説明する。
図2に示すように、導入管240は、隔壁21に設けられた穴部に通された供給管241と、供給管241の端部に接続されたノズルユニット242とを含む。供給管241は、実質的に水平方向に隔壁21の側面から挿通されている。
図5に示すように、排出管250は、チャンバ18の高さ方向における中心位置C3より高い位置でチャンバ18に接続されている。これにより、後述するようにケーシング23の下部の開口23dから流出した冷却ガスが、チャンバ18内であってケーシング23外の領域で上昇して排出管250から排出される。すなわち、チャンバ18内であってケーシング23外の領域において、冷却ガスが拡散するように流れるので、チャンバ18内であってケーシング23外の領域の熱分布を均一にすることができる。なお、排出管250も複数設けられていてもよい。
図2及び図4に示すように、ノズルユニット242は、ケーシング23内に冷却ガスを吐出する複数のノズル244と、複数のノズル244を保持し、かつ、供給管241から供給された冷却ガスの拡散領域を形成する、供給管241に接続された保持部材243とを備えている。保持部材243は、ケーシング23の側壁23bにその外面側から取り付けられている。ケーシング23の側壁23b(または上記断熱板)には、複数のノズル244にそれぞれ対応する複数の穴が形成され、それらの穴に各ノズル244がそれぞれ挿入されている。冷却ガスが保持部材243の内部である拡散領域で拡散することにより、その拡散領域から各ノズル244へ均一に冷却ガスが供給される。また、このように複数のノズル244が設けられることにより、冷却ガスが均一にケーシング23内を流れる。
ノズルユニット242は、ノズルユニット242の高さ方向の中心位置C1が、ケーシング23内に配置された被処理物Wの高さ方向における中心位置C2より高い位置になるように、前記ケーシング23に設けられている。物理現象として温度が低いガスほど下方に向かうので、このようなノズルユニット242の配置により、被処理物Wを効率的に冷却することができる。
図2及び図3に示すように、導入管240と排出管250とは、接続ボックス26を介してそれぞれの内部が連通するように接続されている。接続ボックス26内にはブロワファン42が設けられ、例えば接続ボックス26の上部に設けられたモータ28により回転駆動される。このブロワファン42により、供給口21aを介してチャンバ18内に供給されたガスが、排出管250、接続ボックス26及び導入管240を循環する。少なくともブロワファン42により、冷却ガスに圧力を与える圧力付与機構が構成される。
排出管250には、熱交換器27が接続されている。熱交換器27は、排出管250を通る冷却ガスの熱を吸収する。熱交換器27は、例えば、図示しない凝縮器及び冷媒を流通させる配管等に熱的に接続されていてもよい。このように、チャンバ18外に熱交換器27が配置されることにより、熱エネルギー効率を高めることができる。
なお、ゲート13の開閉動作、開閉機構45の開閉動作、真空ポンプ36の動作、冷却ガスの供給源35の動作、ブロワファン42の動作、ファン32の動作等の制御、また、これらの開始及び停止のタイミングの制御等は、図示しない制御部により実行される。制御部は、CPU(Central Processing Unit)、RAM(Random Access Memory)、ROM(Read Only Memory)等を備えている。CPUの代わりに、DSP(Digital Signal Processor)、FPGA(Field Programmable Gate Array)、ASIC(Application Specific Integrated Circuit)等が用いられてもよい。
以上のように構成された熱処理装置30の動作を説明する。
加熱処理室20における加熱処理が終了し、ゲート13が開き、そのゲート13を介して被処理物Wが熱処理装置30のケーシング23内に搬入される。このときケーシング23の開口23dは蓋体23eにより閉じられていてもよいし、開放されていてもよい。
ゲート13が閉じられ、チャンバ18内が密閉された後、真空ポンプ36が作動することでチャンバ18内が、所定の真空度にまで減圧される。ケーシング23の開口23dが開いている場合、開閉機構45により蓋体23eが閉じられる。チャンバ18内が所定の真空度に達すると、ヒータ39によりケーシング23内の被処理物Wが加熱される。加熱処理時には、ファン32が駆動し、ケーシング23内の熱分布の均一化を図ることもある。加熱温度、加熱時間は、上記したように適宜設定される。
ヒータ39による加熱が終了すると、ファン32の駆動が停止され、図6に示すように、ケーシング23の開口23dの蓋が下降することで、開口23dが開放される。開口23dが開放された後、あるいは開口23dが開放されるときと実質的に同時に、供給口21aを介して冷却ガスがチャンバ18内に供給される。冷却ガスは、チャンバ18内が所定または所定範囲の圧力に達するまでチャンバ18内に供給される。所定の圧力とは、大気圧でもよいし、大気圧より高くても低くてもよい。
開口23dが開放された後、あるいは開口23dが開放されるときと実質的に同時に、ブロワファン42が作動する。ブロワファン42が作動することで、チャンバ18内の冷却ガスが排出管250から排出される。排出された冷却ガスは熱交換器27に熱を放出することで、冷却ガスの温度が下がる。温度が下げられた冷却ガスは、接続ボックス26及び導入管240を介して直接ケーシング23内に導入され、開放された開口23dを介してケーシング23外へ流出する。
ケーシング23外へ流出した冷却ガスは、排出管250から排出される。上記したように、排出管250は、チャンバ18の高さ方向における中心位置C3より高い位置でチャンバ18に接続されているので、ケーシング23の下部の開口23dから流出した冷却ガスが、チャンバ18内であってケーシング23外の領域で上昇して排出管250から排出される。これにより、チャンバ18内であってケーシング23外の領域の熱分布を均一にすることができる。
このように冷却ガスが流路29を循環することで、被処理物Wが冷却処理される。冷却温度、冷却時間は、上記したように適宜設定される。
冷却処理が終了すると、例えば排気口21bを介して冷却ガスが排気され、例えば加熱処理室20及び/または40と実質的に同じ圧力までチャンバ18内が減圧される。
以上のように、本実施の形態に係る熱処理装置30では、導入管240がノズルユニット242を介してケーシング23に直接接続されている。つまり、チャンバ18外から直接ケーシング23内へ冷却ガスが導入される。これにより、熱を受容する前の冷却ガスが、チャンバ18内であってケーシング23外の領域に触れることがないので、熱エネルギー効率を高めることができる。
本実施の形態では、ケーシング23の2つの側壁23bから、つまり2方向からケーシング23内に冷却ガスが導入されるので、被処理物Wを均一に冷却することができる。
また、ケーシング23の両側壁23bの間にある底壁23cに冷却ガスが流出する開口23dが設けられている。これにより、両側壁23bからそれぞれの冷却ガスが、均一かつ効率的にケーシング23内を通過して開口23dを介してケーシング23外に流出する。これにより、被処理物Wは均一に冷却される。また、例えば、複数の被処理物Wがトレイにより2次元的または3次元的に並べられてケーシング23内に配置される場合、個々の被処理物Wの熱履歴を均一にすることができる。
特に、開口23dがケーシング23の下部である底壁23cに設けられている。物理現象として温度が低いガスほど下方に向かうので、ケーシング23内で効率的に冷却ガスが流れる。
図7は、上記ノズルユニット242の他の実施の形態を示す図である。
図7に示すノズルユニット342は、上記ノズルユニット242と同様に、複数のノズル344を有する。これらのノズル344の形状が、上記ノズルユニット242の各ノズル244の形状と異なる。例えばこのノズルユニット342は、ノズル344ごとに、各ノズル344からの冷却ガスの流出方向が調整可能に構成されている。
例えば、各ノズル344は、ノズル344の延びる方向(Y軸方向)に垂直な面とは異なる開口面344aを有する。本実施の形態では、図8に示すように、ノズル344の端部から斜めに切り欠かれるように開口面344aが形成されている。作業者が、手作業によりノズル344を、Y軸方向を回転軸とした方向R1に回転させることで、開口面344aの向きが調整されるので、冷却ガスの流出方向が調整可能となる。この場合、ノズル344は、ノズル344本体の側面にネジ山が形成され、保持部材243にネジ止めされればよい。あるいは、別途のボルト等の係止部材により、ノズル344が所定の回転角度で保持部材243に固定されてもよい。
図7に示す形態では、ノズル344の開口面344aがそれぞれ下方に向くように調整されているが、開口面344aがそれぞれ上方に向くように調整されてもよい。
このような冷却ガスの流出方向の調整機構により、被処理物Wの大きさ、被処理物Wのケーシング23内の位置等に応じて、冷却ガスの流出方向を調整することができる。
作業者の手作業ではなく、例えば作業者が、図示しない操作パネル等を介して熱処理装置30の制御部へアクセスすることで、自動でノズル344がモータ等により回転するように、ノズルユニット342が構成されていてもよい。
本発明に係る実施の形態は、以上説明した実施の形態に限定されず、他の種々の実施形態が考えられる。
ケーシング23の開口23dは、底壁23cに設けられる形態に限られず、側壁23bに設けられていてもよい。その場合、ノズルユニット242、342あるいは導入管240は、その側壁23bに対向する側壁23b、または底壁23cに設けられてもよい。ケーシング23の形状も実質的な直方体に限定されず、例えば図2におけるX、Y及びZ軸のすべての軸に平行でない軸を含む傾斜面を有していてもよい。その場合、その傾斜面に、ノズルユニット342が取り付けられていてもよい。
上記実施の形態に係る熱処理炉100は、真空下で熱処理するものであったが、大気圧下、大気圧より多少減圧された減圧下で熱処理するものであってもよい。
上記実施の形態に係る熱処理炉100では、導入管240及び排出管250がブロワファン42を内蔵した接続ボックス26により接続され、ブロワファン42により冷却ガスが流路29を循環する構成を示した。しかし、熱処理装置30は、冷却ガスが循環するタイプのものでなくてもよい。例えば、この場合、チャンバ18外の、実質的に領域の制限されない空間のエアが、直接ケーシング23内に導入されるように導入管240が設けられ、チャンバ18外から上記空間へ排出されるように排出管250が設けられていてもよい。
上記実施の形態では、熱交換器27は、排出管250に接続されたが、導入管240あるいは接続ボックス26に接続されてもよい。
上記実施の形態では、2つの導入管240が設けられる例を示したが、導入管240は1つであってもよいし、3つ以上であってもよい。
インライン式熱処理装置100の一部として、上記実施の形態に係る熱処理装置30を説明したが、熱処理装置30は単体の装置であってもよい。
本発明の一実施の形態に係るインライン式熱処理装置を示す側面図である。 図1におけるA−A線断面図であり、熱処理装置を下流側から見た図である。 図2に示す熱処理装置の側面図である。 図2におけるB−B線の模式的な断面図である。 図2に示したチャンバの内部を拡大した図である。 熱処理装置における冷却処理時の動作を説明するための図である。 上記ノズルユニットの他の実施の形態を示す図である。 図7に示すノズルの斜視図である。
符号の説明
W…被処理物
18…チャンバ
20…加熱処理室
20、40、50…加熱処理室
23…ケーシング
23a…上壁
23b…側壁
23c…底壁
23d…開口
23e…蓋体
27…熱交換器
29…流路
30…熱処理装置
39…ヒータ
42…ブロワファン
45…開閉機構
60…冷却処理室
100…インライン式熱処理装置(熱処理炉)
240…導入管
241…供給管
242…ノズルユニット
242、342…ノズルユニット
243…保持部材
244、344…ノズル
250…排出管
344a…開口面

Claims (13)

  1. チャンバと、
    開閉可能な開口を有し、前記チャンバ内に設けられ、被処理物を覆うケーシングと、
    前記ケーシング内の前記被処理物を加熱するヒータと、
    冷却ガスが前記チャンバ外から直接前記ケーシング内へ導入されるように設けられた導入路と、前記チャンバ内に連通する前記冷却ガスの排出路とを有し、前記冷却ガスが流れる流路と、
    前記導入路を介して前記ケーシング内に前記冷却ガスが導入され、前記ケーシング内に導入された前記冷却ガスが前記開口を介して前記ケーシング外に流出し、前記流出した、前記チャンバ内にある前記冷却ガスが前記排出路を介して排出されるように、前記冷却ガスに圧力を与える圧力付与機構と
    を具備する熱処理装置。
  2. 請求項1に記載の熱処理装置であって、
    前記ケーシングは、
    第1の側と、
    前記第1の側に対向する第2の側とを有し、
    前記導入路は、
    前記ケーシングの前記第1の側に接続された第1の導入管と、
    前記ケーシングの前記第2の側に接続された第2の導入管と
    を有する熱処理装置。
  3. 請求項2に記載の熱処理装置であって、
    前記ケーシングは、前記開口が配置された、前記第1の側及び前記第2の側の間に接続された第3の側を有する熱処理装置。
  4. 請求項3に記載の熱処理装置であって、
    前記ケーシングは、前記ケーシングの下部に前記第3の側を有する熱処理装置。
  5. 請求項1に記載の熱処理装置であって、
    前記ケーシングは、前記ケーシングの下部に前記開口を有し、
    前記排出路は、前記チャンバの高さ方向における中心位置より高い位置で前記チャンバに接続された排出管を有する熱処理装置。
  6. 請求項1に記載の熱処理装置であって、
    前記チャンバの外側であって、前記流路の一部に設けられた熱交換器をさらに具備する熱処理装置。
  7. 請求項1に記載の熱処理装置であって、
    前記導入路は、前記ケーシングに設けられたノズルユニットであって、前記冷却ガスを前記ケーシング内に供給する複数のノズルを含むノズルユニットを有する熱処理装置。
  8. 請求項7に記載の熱処理装置であって、
    前記ノズルユニットは、前記ノズルユニットの高さ方向の中心位置が、前記ケーシング内に配置された前記被処理物の高さ方向における中心位置より高い位置になるように、前記ケーシングに設けられている熱処理装置。
  9. 請求項1に記載の熱処理装置であって、
    前記導入路からの前記ケーシング内への前記冷却ガスの流出方向を調整する流出方向調整機構をさらに具備する熱処理装置。
  10. 請求項9に記載の熱処理装置であって、
    前記流出方向調整機構は、
    一方向に延びる本体と、前記本体に設けられ、前記本体の延びる方向に垂直な面とは異なる、前記冷却ガスを流出させる開口面とを含むノズルと、
    前記ノズルの前記開口面の向きを調整する調整機構と
    を有する熱処理装置。
  11. 請求項1に記載の熱処理装置であって、
    前記開口を開閉する開閉機構と、
    前記ヒータによる加熱処理のときに前記開口を閉じるように、かつ、前記圧力付与機構により前記冷却ガスが前記流路を流れるときに前記開口を開放するように、前記開閉機構を制御する制御手段と
    をさらに具備する熱処理装置。
  12. 被処理物を加熱する加熱処理部と、
    前記被処理物を冷却する冷却処理部と、
    熱処理部であって、
    チャンバと、
    開閉可能な開口を有し、前記チャンバ内に設けられ、被処理物を覆うケーシングと、
    前記ケーシング内の前記被処理物を加熱するヒータと、
    冷却ガスが前記チャンバ外から直接前記ケーシング内へ導入されるように設けられた導入路と、前記チャンバ内に連通する前記冷却ガスの排出路とを有し、前記冷却ガスが流れる流路と、
    前記導入路を介して前記ケーシング内に前記冷却ガスが導入され、前記ケーシング内に導入された前記冷却ガスが前記開口を介して前記ケーシング外に流出し、前記流出した、前記チャンバ内にある前記冷却ガスが前記排出路を介して排出されるように、前記冷却ガスに圧力を与える圧力付与機構とを含む熱処理部と、
    前記加熱処理部、前記冷却処理部及び前記熱処理部で、前記被処理物が連続的に搬送されるように設けられた搬送路と
    を具備するインライン式熱処理装置。
  13. 開閉可能な開口を有し、前記チャンバ内に設けられた、被処理物を覆うケーシング内で、前記開口を閉じた状態で、前記被処理物を加熱し、
    前記ケーシングの前記開口を開放し、
    前記チャンバ外から導入路を介して直接前記ケーシング内に冷却ガスが導入され、前記ケーシング内に導入された前記冷却ガスが前記開口を介して前記ケーシング外に流出し、前記チャンバ内にある前記冷却ガスが、前記チャンバ内に連通する排出路を介して排出されるように、前記冷却ガスに圧力を与える
    被処理物の製造方法。
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