JP2009104029A - 露光装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】平板状の被露光体Wの一端部を保持して所定方向に一定の速度で搬送する搬送手段3と、搬送手段3の被露光体Wの搬送経路に沿って配設され、上面が平坦に形成され、該上面の一部が、電解メッキを施された多孔質板で形成され、多孔質板の通気孔を通して、前記上面と搬送手段3によって搬送された被露光体Wと、上記上面との間に気体を供給排出可能にされたワークステージ4と、ワークステージ4の上方に配設され、ワークステージ4上を搬送される被露光体Wに対して、露光パターンが設けられたフォトマスク23を介して、露光光を照射して所定の露光パターンを形成する露光光学系2とを備えた。
【選択図】図1
Description
このワークステージは、ワークステージ上面に複数の空気孔を設け、該空気孔から流量制御された空気を噴出させて、基板を前記基板載置面上に浮上させるものであるが、複数の空気孔をステージ上に直接設けるもの(例えば、特許文献2)と、上面が平坦な多孔質部材を該ステージの一部に用いるもの(例えば、特許文献3)とがあるが、ステージの製作が容易にできることと、ステージの自重による撓みを軽減するために、カーボンを用いた多孔質板が用いられる。
また、ステージ上面の清掃時における、上記バリ状の部分への清掃布等に素材の付着等による発塵が生じやすい。
上記問題点の解消のため、多孔質板へ樹脂コーティングをする方法もあるが、樹脂コーティングは、多孔質板の表面に樹脂を塗布することによって行われるため、樹脂コーティング材の膜厚の制御が困難であり、多孔質板を構成するカーボン粒子間の隙間を埋めてしまうことによる、空隙率が低下する問題がある。
また、露光装置では、紫外光が露光光として用いられるため、この紫外光によってコーティングされた樹脂が劣化し、剥離、脱落することによる新たな発塵を生ずる問題がある。
即ち、請求項1に係る露光装置は、感光性物質を塗布した平板状の被露光体の両端部を保持して所定方向に一定の速度で搬送する搬送手段と、前記搬送手段の前記被露光体の搬送経路に沿って、前記被露光体の下方に配設され、上面が平坦に形成され、該上面の少なくとも一部に、孔の表面に電解メッキを施された多孔質部分を有し、該多孔質部分の孔を通じて、前記上面と前記被露光体との間に気体を供給排出が可能なワークステージと、前記ワークステージの上方に配設され、該ワークステージ上を搬送される前記被露光体に対して露光光を照射して所定の露光パターンを形成する露光光学系と、を備えたことを特徴としている。
また、請求項2に係る露光装置は、前記露光装置の前記多孔質部分が通気孔部分のみに電解メッキ層を有することを特徴としている。
請求項1に係る発明によれば、平板状の被露光体の両端部を保持して所定方向に一定の速度で搬送する搬送手段と、前記搬送手段の前記被露光体の搬送経路に沿って配設され、上面が平坦に形成され、該上面の少なくとも一部が、電解メッキを施された多孔質部分で形成されているため、多孔質部分を構成する粒子間の間隙があまり減少せず、該多孔質部分を通して、前記上面と前記搬送手段によって搬送された前記被露光体との間に気体の供給排出が容易に行える。
また、前記粒子間の通気孔表面が厚さ数μmの電解メッキ層で覆われることによって、各粒子間の接合が強化され各粒子の剥離、離脱が防止できる。
更に、露光光が、被露光体を透過して、前記多孔質部分に照射されても、電解メッキが施された部分の劣化がなく、前記各粒子の剥離、離脱による粉塵を原因とする露光光の照射ムラが防止できる他、電解メッキが多孔質部分の孔の表面であるため、この多孔質部分から露光光の反射が極めて少なく、露光ミスが防止される。
また、請求項2に係る発明によれば、前記各粒子の剥離、離脱が防止できる他、前記多孔質板の通気孔のみに電解メッキ層を有する構成となっているため、露光光が、被露光体を透過して、前記多孔質部分に照射されても、この多孔質板から露光光の反射が極めて少なく、露光光の反射による、露光ミスが防止される。
この露光装置1は、感光性物質(以下、「レジスト」という)を塗布したガラス基板(以下「ワーク」という)Wに対してフォトマスクを介して露光光を照射して所定の露光パターンを形成するもので、露光光学系2と、搬送手段3と、ワークステージ4とからなる。
また、マスクステージ22は、ステージ上面4aに対して近接して配設されている。このマスクステージ22は、短冊状のフォトマスク23をステージ上面4aに平行な面内にて、その長手方向が搬送方向(矢印A方向)と直交するように保持するものである。なお、フォトマスク23には、その長手方向に沿って複数のマスクパターン24が並べて形成されている。さらに、光源20とマスクステージ22との間には、レンズ系21が配設されている。レンズ系21は、例えば、複数のレンズによって構成されるテレセントリックレンズであって、マスクステージ22に保持されたフォトマスク23に対して光源20から放射された露光光を垂直に照射させるためのものである。
尚、フォトマスク23は、図6に示すように、透明基板23aと、マスクパターン24(紫外線透過部)を有する遮光膜23bとを有する構成である。
そして、ワークWの搬送時に、ワークWとワークステージ上面4aとは非接触状態に保持されるようになっている。
更に、ワークステージ4は、マスクステージ22を通じてワークWに露光光が照射される領域に対応した部分に、上下方向に貫通する貫通溝5を有し、ワークWを透過した露光光が貫通溝5を介して下方に抜けるようなっている。
そして、単位ワークステージ6は、図3に示すように、基板支持体60と、供給管63と、排気管64と、バルブ65と、圧力調整ユニット66とを有して構成されている。
尚、前記所定の幅Lとは、ワークWの搬送方向の露光光の照射幅L0より広い幅であって、ワークWの上下方向のたわみが露光の精度に影響を与えない幅であって、ワークWの大きさや剛性及び後述の露光パターン24の開口部(露光光透過部分)のワーク4の搬送方向長さL1によって最適な幅が異なるものである。
更に、多孔質板61には、通気孔61aより大きな径の孔(以下、「吸引孔」という。)61bが多数(例えば、3ケ)、多孔質板61の長手方向に沿って形成されており、通気孔61aは圧縮気体を上方に吹き出すための孔であり、吸引孔61bは外部から気体を吸引するためのものである。
演算部66aは、圧力センサー69からの圧力信号と、図示しない外気の圧力センサー(演算部66aに接続されている)からの圧力信号との差圧を演算し、前記差圧が一定範囲内(ワークWの大きさ、重量、浮上量等によって最適範囲は異なる)になるように、前記送気手段の運転条件を制御するようになっている。
排気管64は吸引孔61bに接続されて、多数の吸引孔61bを通して吸引された気体を排気するものであり、一端部側が吸引孔61bの数に合わせて枝管64aとして枝分かれし、それぞれその末端部が吸引孔61b内側に接続されており、他端部が図示しない吸気手段に接続されている。
バルブ15には、圧力調整ユニット66が接続されている。この圧力調整ユニット66は、バルブ65を制御して外気の導入量を調整し、吸引孔61bの内部の圧力を所定の圧力に維持するものであり、圧力センサー68、69と、メモリ66bと、演算部66aと、駆動部67とからなる。
そして、演算部66aは、圧力センサー68出力値と、図示しない外気の圧力を検出する圧力センサーの出力値とを比較してその差圧を求め、該差圧とメモリ66bから読み出した前記所定の圧力条件とのずれ量を演算するものである。そして、駆動部67は、演算部66bの演算結果に基づいて前記所定の圧力条件の値からのずれ量が所定の範囲内となるようにバルブ65を開閉駆動するものである。なお、所定の範囲内とは、ワークWのたわみ量が許容値内に納まるような目標値からのずれの許容範囲のことであり、これは、ワークWの大きさや剛性によって決められるものである。
先ず、搬送手段3が起動され、ワークWが搬送手段3によって両端部を保持されて図1に示す矢印A方向に搬送される。このとき、図2に示すワークステージ4の複数の単位ステージ6の通気孔61aからは供給管63を介して供給される圧縮気体(例えばクリーンエア)がステージ上面4a(6a)上に吹き出しており、吸引孔61bからは、通気孔61aからステージ上面4a(6a)上に吹き出した気体が吸引されている。
このとき、通気孔61aからの気体の吹出量と吸引孔61bによる気体の吸引量を調整することによって、ワークWの下面Waとワークステージ4のステージ上面4aとの間に薄い気体層7が生成されてワークWは浮上し、非接触でワークステージ4上を搬送されることになる。
そして、前記所定の圧力条件の値からのずれ量が所定の範囲内となるように駆動部67を駆動してバルブ65の開度を変更して、同図に矢印Cで示すように外気を排気管64内に導入して排気流量が一定にされる。これにより、排気管64の枝管64aの合流部内部、即ち吸引孔61b内部の圧力が一定となり、吸引孔61b内部と外気との差圧が一定に保たれ、ワークWの縁部Wbが吸引孔61b内側に引っ張られて歪む量が許容される範囲になる。したがって、ワークW表面は均一又は略均一に保たれることになる。
また、貫通溝5の下部に光吸収器を設ければ、ワークWを透過して、貫通溝5に入射した露光光を吸収して除去することができ、更によく、反射光を防止できる。
即ち、通気孔61aのみに電解メッキ層を残存させた多孔質板61を用いることによって、ワークWを透過した露光光が多孔質板61の上面で反射されることを防止できるため、ワークステージ4の前記露光領域に貫通溝5を設ける必要がない。
また、搬送手段3は、搬送ローラを並べたものに限られず、基板の両端部を保持して搬送できるようにしたものであるならば如何なるものであってもよい。さらに、上記ワークステージ4は、露光装置に使用されるものに限られない。
2…露光光学系
3…搬送手段
4…ワークステージ
5…貫通溝
6…単位ワークステージ
7…気体層
20…光源
21…レンズ系
22…マスクステージ
23…フォトマスク
24…マスクパターン
60…単位支持体
61…多孔質板
62…箱体
63…供給管
64…排気管
65…調整バルブ
66…圧力調整ユニット
67…バルブ
68…圧力センサー
Claims (2)
- 感光性物質を塗布した平板状の被露光体の一端部を保持して所定方向に一定の速度で搬送する搬送手段と、
前記搬送手段の前記被露光体の搬送経路に沿って配設され、上面が平坦に形成され、該上面の少なくとも一部が、電解メッキを施された多孔質部分で形成され、該多孔質部分を通して、前記上面と前記搬送手段によって搬送された前記被露光体との間に気体を供給排出可能にされたワークステージと、
前記ワークステージの上方に配設され、該ワークステージ上を搬送される前記被露光体に対して、露光パターンが設けられたフォトマスクを介して、露光光を照射して所定の露光パターンを形成する露光光学系と、を備えたことを特徴とする露光装置。 - 前記多孔質部分は通気孔部分のみに電解メッキ層を有することを特徴とする請求項1記載の露光装置。
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Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011146705A (ja) * | 2010-01-12 | 2011-07-28 | Semes Co Ltd | 基板処理装置 |
JP2012022161A (ja) * | 2010-07-15 | 2012-02-02 | V Technology Co Ltd | フィルムの露光装置 |
JP2012038874A (ja) * | 2010-08-06 | 2012-02-23 | Hitachi High-Technologies Corp | 液晶露光装置 |
JP2012253215A (ja) * | 2011-06-03 | 2012-12-20 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 塗布装置及び塗布方法 |
JP2013091540A (ja) * | 2011-10-25 | 2013-05-16 | Toray Eng Co Ltd | 浮上搬送装置 |
WO2013129599A1 (ja) * | 2012-02-28 | 2013-09-06 | 株式会社タンケンシールセーコウ | 非接触吸着盤 |
WO2018001709A1 (en) * | 2016-07-01 | 2018-01-04 | Asml Netherlands B.V. | Stage system, lithographic apparatus, method for positioning and device manufacturing method |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002320374A (ja) * | 2001-04-20 | 2002-10-31 | Yaskawa Electric Corp | キャンド・リニアモータ電機子およびキャンド・リニアモータ |
JP2004289126A (ja) * | 2002-11-12 | 2004-10-14 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
JP2005294131A (ja) * | 2004-04-02 | 2005-10-20 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 異方性導電シート |
JP2006146195A (ja) * | 2004-11-05 | 2006-06-08 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置、デバイス製造方法および基板テーブル |
WO2007145072A1 (ja) * | 2006-06-14 | 2007-12-21 | Nsk Ltd. | 支持装置 |
-
2007
- 2007-10-25 JP JP2007277371A patent/JP5145524B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002320374A (ja) * | 2001-04-20 | 2002-10-31 | Yaskawa Electric Corp | キャンド・リニアモータ電機子およびキャンド・リニアモータ |
JP2004289126A (ja) * | 2002-11-12 | 2004-10-14 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
JP2005294131A (ja) * | 2004-04-02 | 2005-10-20 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 異方性導電シート |
JP2006146195A (ja) * | 2004-11-05 | 2006-06-08 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置、デバイス製造方法および基板テーブル |
WO2007145072A1 (ja) * | 2006-06-14 | 2007-12-21 | Nsk Ltd. | 支持装置 |
Cited By (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011146705A (ja) * | 2010-01-12 | 2011-07-28 | Semes Co Ltd | 基板処理装置 |
JP2012022161A (ja) * | 2010-07-15 | 2012-02-02 | V Technology Co Ltd | フィルムの露光装置 |
JP2012038874A (ja) * | 2010-08-06 | 2012-02-23 | Hitachi High-Technologies Corp | 液晶露光装置 |
JP2012253215A (ja) * | 2011-06-03 | 2012-12-20 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 塗布装置及び塗布方法 |
KR101857821B1 (ko) * | 2011-06-03 | 2018-05-14 | 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤 | 도포 장치 및 도포 방법 |
JP2013091540A (ja) * | 2011-10-25 | 2013-05-16 | Toray Eng Co Ltd | 浮上搬送装置 |
JPWO2013129599A1 (ja) * | 2012-02-28 | 2015-07-30 | 株式会社タンケンシールセーコウ | 非接触吸着盤 |
KR20140129070A (ko) * | 2012-02-28 | 2014-11-06 | 가부시키가이샤 단켄시루세코 | 비접촉 흡착반 |
JP5512052B2 (ja) * | 2012-02-28 | 2014-06-04 | 株式会社タンケンシールセーコウ | 非接触吸着盤 |
KR101697839B1 (ko) | 2012-02-28 | 2017-01-18 | 가부시키가이샤 단켄시루세코 | 비접촉 흡착반 |
WO2013129599A1 (ja) * | 2012-02-28 | 2013-09-06 | 株式会社タンケンシールセーコウ | 非接触吸着盤 |
WO2018001709A1 (en) * | 2016-07-01 | 2018-01-04 | Asml Netherlands B.V. | Stage system, lithographic apparatus, method for positioning and device manufacturing method |
CN109416513A (zh) * | 2016-07-01 | 2019-03-01 | Asml荷兰有限公司 | 工作台系统、光刻设备、用于定位的方法以及器件制造方法 |
KR20190021395A (ko) * | 2016-07-01 | 2019-03-05 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 스테이지 시스템, 리소그래피 장치, 위치설정 방법 및 디바이스 제조 방법 |
US20190187571A1 (en) * | 2016-07-01 | 2019-06-20 | Asml Netherlands B.V. | Stage system, lithographic apparatus, method for positioning and device manufacturing method |
KR102204149B1 (ko) | 2016-07-01 | 2021-01-18 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 스테이지 시스템, 리소그래피 장치, 위치설정 방법 및 디바이스 제조 방법 |
US11860552B2 (en) | 2016-07-01 | 2024-01-02 | Asml Netherlands B.V. | Stage system, lithographic apparatus, method for positioning and device manufacturing method |
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