[go: up one dir, main page]
More Web Proxy on the site http://driver.im/

JP2009163061A - Display device - Google Patents

Display device Download PDF

Info

Publication number
JP2009163061A
JP2009163061A JP2008001503A JP2008001503A JP2009163061A JP 2009163061 A JP2009163061 A JP 2009163061A JP 2008001503 A JP2008001503 A JP 2008001503A JP 2008001503 A JP2008001503 A JP 2008001503A JP 2009163061 A JP2009163061 A JP 2009163061A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wiring
potential
transistor
pixel
power supply
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2008001503A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yukito Iida
幸人 飯田
Tetsuo Mitsunami
徹雄 三並
Takahisa Tanikame
貴央 谷亀
Katsuhide Uchino
勝秀 内野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP2008001503A priority Critical patent/JP2009163061A/en
Publication of JP2009163061A publication Critical patent/JP2009163061A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Control Of El Displays (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Control Of Indicators Other Than Cathode Ray Tubes (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a display device, not exerting any influence on correction of a threshold voltage of a TFT by suitably setting time constants of a wiring resistance and a parasitic capacity generated in a cathode wiring. <P>SOLUTION: This display device includes a pixel array part having row-like scanning lines, column-like data lines, pixels having light emitting elements disposed in a matrix at portions where the scanning lines and the data lines intersect, and adapted to perform spontaneous light emitting according to quantity of a current, power supply lines disposed corresponding to the respective rows of the pixels. The pixel array part includes a scanning line, a data line, and first wiring and second wiring, which form the power supply line. In the case of using either the first wiring or the second wiring as the cathode wiring of the light emitting element, the time constants of the wiring resistance and the parasitic capacity between the power supply line and the cathode wiring are set under the time for correcting the threshold voltage of a second transistor. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、表示装置に関し、より詳細には、電流量に応じて自発光を行う発光素子を画素に用いたアクティブマトリクス型の表示装置に関する。   The present invention relates to a display device, and more particularly to an active matrix display device using a light emitting element that emits light according to a current amount as a pixel.

平面で薄型の表示装置として、液晶を用いた液晶表示装置、プラズマを用いたプラズマ表示装置等が実用化されている。   As flat and thin display devices, liquid crystal display devices using liquid crystals, plasma display devices using plasma, and the like have been put into practical use.

液晶表示装置は、バックライトを設け、電圧の印加によって液晶分子の配列を変化させることでバックライトからの光を通過させたり遮断したりすることで画像を表示する表示装置である。また、プラズマ表示装置は、基板内に封入されたガスに対して電圧を印加することでプラズマ状態となり、プラズマ状態から元の状態に戻る際に生じるエネルギーによって発生する紫外線が、蛍光体に照射されることで可視光となり、画像を表示する表示装置である。   The liquid crystal display device is a display device that displays an image by providing a backlight and changing the arrangement of liquid crystal molecules by applying a voltage so as to allow or block light from the backlight. In addition, the plasma display device enters a plasma state by applying a voltage to the gas sealed in the substrate, and the phosphor is irradiated with ultraviolet rays generated by energy generated when returning from the plasma state to the original state. This is a display device that displays visible light.

一方、近年においては、電圧を印加すると素子自体が発光する有機EL(エレクトロルミネッセンス)素子を用いた自発光型の表示装置の開発が進んでいる。有機EL素子は、電解によってエネルギーを受けると、基底状態から励起状態へ変化し、励起状態から基底状態に戻るときに、差分のエネルギーを光として放出する。有機EL表示装置は、この有機EL素子が放出する光を用いて画像を表示する表示装置である。   On the other hand, in recent years, a self-luminous display device using an organic EL (electroluminescence) element that emits light when a voltage is applied has been developed. When receiving energy by electrolysis, the organic EL element changes from a ground state to an excited state, and emits differential energy as light when returning from the excited state to the ground state. The organic EL display device is a display device that displays an image using light emitted from the organic EL element.

自発光型表示装置は、バックライトを必要とする液晶表示装置とは異なり、素子が自ら発光するためにバックライトを必要としないため、液晶表示装置に比べて薄く構成することが可能である。また、液晶表示装置と比べて、動画特性、視野角特性、色再現性等が優れているため、有機EL表示装置は次世代の平面薄型表示装置として注目されている。   Unlike a liquid crystal display device that requires a backlight, the self-luminous display device does not require a backlight because the element emits light by itself, and thus can be made thinner than a liquid crystal display device. In addition, since the moving image characteristics, viewing angle characteristics, color reproducibility, and the like are superior to the liquid crystal display device, the organic EL display device has attracted attention as a next-generation flat thin display device.

有機EL素子を画素に用いた平面自発光型の表示装置の中でも、とりわけ駆動素子として薄膜トランジスタ(Thin Film Transistor;TFT)を各画素に
集積して形成したアクティブマトリクス型の平面自発光表示装置の開発が盛んに行われている。アクティブマトリクス型の平面自発光表示装置については、例えば特許文献1〜5に記載されている。
Among the flat self-luminous display devices using organic EL elements as pixels, the development of an active matrix flat self-luminous display device in which thin film transistors (TFTs) are integrated in each pixel as a driving element, in particular. Has been actively conducted. For example, Patent Documents 1 to 5 describe active matrix type flat self-luminous display devices.

特開2003−255856号公報JP 2003-255856 A 特開2003−271095号公報JP 2003-271095 A 特開2004−133240号公報JP 2004-133240 A 特開2004−029791号公報JP 2004-029791 A 特開2004−093682号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2004-093682

しかし、従来のアクティブマトリクス型平面自発光表示装置は、プロセス変動によって発光素子を駆動するためのTFTの閾電圧や移動度がばらついてしまう。また、有機EL素子の特性も経時的に変動する。このようなTFTの特性のばらつきや有機EL素子の特性変動は、画面の発光輝度に影響を与えてしまう。従って、画面全体にわたって発光輝度を均一に制御するために、各画素においてTFTの特性のばらつきや有機EL素子の特性変動を補正する必要があり、かかる補正機能を画素ごとに備えたアクティブマトリクス型平面自発光表示装置が提案されている。   However, in the conventional active matrix type flat self light emitting display device, the threshold voltage and mobility of the TFT for driving the light emitting element vary due to process variations. In addition, the characteristics of the organic EL element also vary with time. Such variations in TFT characteristics and fluctuations in the characteristics of organic EL elements affect the light emission luminance of the screen. Therefore, in order to uniformly control the light emission luminance over the entire screen, it is necessary to correct variations in TFT characteristics and fluctuations in organic EL element characteristics in each pixel, and an active matrix type plane having such a correction function for each pixel. A self-luminous display device has been proposed.

従来、TFTの移動度を補正するための時間(移動度補正時間)を決定するために、画素回路に補助容量を形成した場合、当該補助容量は電源電圧等の固定電位または補助電極を介してカソード接続を行っていた。また、カソード配線は低抵抗材料が選択されていたが、レイアウト的な制約もあり、カソード配線には第1配線を用いていた。第1配線は第2配線に比べて抵抗が高く、カソード電位が変動してしまう問題があった。そして、カソード電位が変動することによって、発光素子を駆動するためのTFTの閾電圧の補正に影響を及ぼしてしまう問題があった。   Conventionally, when an auxiliary capacitor is formed in a pixel circuit to determine a time for correcting the mobility of the TFT (mobility correction time), the auxiliary capacitor is connected via a fixed potential such as a power supply voltage or an auxiliary electrode. The cathode connection was made. In addition, a low-resistance material was selected for the cathode wiring, but the first wiring was used as the cathode wiring due to layout restrictions. The first wiring has a problem that the resistance is higher than that of the second wiring and the cathode potential fluctuates. Further, there is a problem in that the correction of the threshold voltage of the TFT for driving the light emitting element is affected by the fluctuation of the cathode potential.

そこで、本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、本発明の目的とするところは、配線抵抗と、カソード配線に生じる寄生容量との時定数を適切に設定することでTFTの閾電圧の補正に影響を与えないことが可能な、新規かつ改良された表示装置を提供することにある。   Accordingly, the present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to appropriately set the time constant between the wiring resistance and the parasitic capacitance generated in the cathode wiring, thereby making the threshold of the TFT. It is an object of the present invention to provide a new and improved display device capable of not affecting voltage correction.

上記課題を解決するために、本発明のある観点によれば、行状の走査線と、列状のデータ線と、走査線およびデータ線とが交差する部分に行列状に配され、電流量に応じて自発光を行う発光素子を備える画素と、画素の各行に対応して配される電源線と、を備える画素アレイ部を含む表示装置であって、画素アレイ部は、走査線、データ線、および電源線を形成する第1配線および第2配線を備え、第1配線または第2配線のいずれかを発光素子のカソード配線として用いる場合に、配線抵抗と、電源線とカソード配線との間の寄生容量との時定数を第2のトランジスタの閾電圧を補正する時間未満とすることを特徴とする、表示装置が提供される。   In order to solve the above-described problem, according to one aspect of the present invention, a row-shaped scanning line, a column-shaped data line, and a scanning line and a data line are arranged in a matrix at the intersection, and the current amount is A display device including a pixel array unit including a pixel including a light-emitting element that emits light in response and a power supply line arranged corresponding to each row of the pixel, wherein the pixel array unit includes a scanning line and a data line , And a first wiring and a second wiring for forming a power supply line, and when either the first wiring or the second wiring is used as a cathode wiring of the light emitting element, the wiring resistance is between the power supply line and the cathode wiring. A display device is provided in which the time constant with respect to the parasitic capacitance is less than the time for correcting the threshold voltage of the second transistor.

かかる構成によれば、表示装置は、行状の走査線と、列状のデータ線と、走査線およびデータ線とが交差する部分に行列状に配され、電流量に応じて自発光を行う発光素子を備える画素と、画素の各行に対応して配される電源線と、を備える画素アレイ部を含んで構成される。かかる構成において、画素アレイ部は、走査線、データ線、および電源線を形成する第1配線および第2配線を備えており、第1配線または第2配線のいずれかを発光素子のカソード配線として用いる場合に、配線抵抗と、電源線とカソード配線との間の寄生容量との時定数を第2のトランジスタの閾電圧を補正する時間未満とする。その結果、配線抵抗と、カソード配線に生じる寄生容量との時定数を適切に設定することでTFTの閾電圧の補正に影響を与えずに、TFTの閾電圧を補正することができる。   According to this configuration, the display device is arranged in a matrix at a portion where the row-shaped scanning lines, the column-shaped data lines, and the scanning lines and the data lines intersect, and emits light by itself according to the amount of current. The pixel array unit includes pixels including elements and power supply lines arranged corresponding to the respective rows of pixels. In such a configuration, the pixel array section includes a first wiring and a second wiring that form a scanning line, a data line, and a power supply line, and either the first wiring or the second wiring is used as a cathode wiring of the light emitting element. When used, the time constant of the wiring resistance and the parasitic capacitance between the power supply line and the cathode wiring is set to be less than the time for correcting the threshold voltage of the second transistor. As a result, the threshold voltage of the TFT can be corrected without affecting the correction of the threshold voltage of the TFT by appropriately setting the time constant between the wiring resistance and the parasitic capacitance generated in the cathode wiring.

時定数は0.1マイクロ秒未満であってもよい。その結果、0.1マイクロ秒未満となるように、配線抵抗と、カソード配線に生じる寄生容量との時定数を設定することで、TFTの閾電圧の補正に影響を与えずに、TFTの閾電圧を補正することができる。   The time constant may be less than 0.1 microseconds. As a result, by setting the time constant between the wiring resistance and the parasitic capacitance generated in the cathode wiring so as to be less than 0.1 microsecond, the TFT threshold voltage is not affected, and the TFT threshold voltage is not affected. The voltage can be corrected.

以上説明したように本発明によれば、配線抵抗と、カソード配線に生じる寄生容量との時定数を適切に設定することでTFTの閾電圧の補正に影響を与えないことが可能な、新規かつ改良された表示装置を提供することができる。   As described above, according to the present invention, the time constant between the wiring resistance and the parasitic capacitance generated in the cathode wiring can be appropriately set so as not to affect the correction of the threshold voltage of the TFT. An improved display device can be provided.

以下に添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の機能構成を有する構成要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略する。   Exemplary embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings. In addition, in this specification and drawing, about the component which has the substantially same function structure, duplication description is abbreviate | omitted by attaching | subjecting the same code | symbol.

まず、本発明の一実施形態にかかる表示装置100について説明する。図1は、本発明の一実施形態にかかる表示装置100の構成について説明する説明図である。以下、図1を用いて本発明の一実施形態にかかる表示装置100の構成について説明する。   First, a display device 100 according to an embodiment of the present invention will be described. FIG. 1 is an explanatory diagram illustrating the configuration of a display device 100 according to an embodiment of the present invention. Hereinafter, the configuration of the display device 100 according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

図1に示したように、本発明の一実施形態にかかる表示装置100は、行列状に配置される複数の画素101からなる画素アレイ部102と、水平セレクタ(HSEL)103と、ライトスキャナ(WSCN)104と、電源スキャナ(DSCN)105と、を含んで構成される。   As shown in FIG. 1, a display device 100 according to an embodiment of the present invention includes a pixel array unit 102 including a plurality of pixels 101 arranged in a matrix, a horizontal selector (HSEL) 103, a light scanner ( (WSCN) 104 and power supply scanner (DSCN) 105.

画素アレイ部102は、ライトスキャナ104から伸びる複数の(本実施形態ではm本の)走査線WSL1〜WSLmと、水平セレクタ103から伸びる複数の(本実施形態ではn本の)データ線DTL1〜DTLnと、走査線とデータ線とが交差する部分に行列状に配置される複数の(本実施形態ではm×n個の)画素(PXLC)101と、画素101の各行に対応して電源スキャナ105から伸びる電源線DSL1〜DSLmと、を備えている。ライトスキャナ104は、本発明の走査信号制御部の一例であり、走査線WSL1〜WSLmに順次制御信号を供給して画素101を行単位で線順次走査するものである。本実施形態においては、走査方式としては順次走査方式を採るが、本発明においては飛び越し走査によって走査を行ってもよい。電源スキャナ105は、本発明の電源制御部の一例であり、ライトスキャナ104による線順次走査に合わせて、電源線DSL1〜DSLmに対して、第1電位と、第1電位より低い第2電位とで切り替わる電源電圧を供給するものである。水平セレクタ103は、本発明の映像信号制御部の一例であり、ライトスキャナ104による線順次走査に応じて、データ線DTL1〜DTLnに対して映像信号となる信号電位、および基準電位の供給を制御するものである。   The pixel array unit 102 includes a plurality of (m in this embodiment) scanning lines WSL1 to WSLm extending from the light scanner 104 and a plurality (n in this embodiment) data lines DTL1 to DTLn extending from the horizontal selector 103. A plurality of (m × n in this embodiment) pixels (PXLC) 101 arranged in a matrix at the intersection of the scanning line and the data line, and the power supply scanner 105 corresponding to each row of the pixels 101. Power supply lines DSL1 to DSLm extending from the line. The write scanner 104 is an example of the scanning signal control unit of the present invention, and sequentially supplies the control signals to the scanning lines WSL1 to WSLm to scan the pixels 101 line by line. In this embodiment, a sequential scanning method is employed as the scanning method, but in the present invention, scanning may be performed by interlaced scanning. The power supply scanner 105 is an example of a power supply control unit according to the present invention. A first potential and a second potential lower than the first potential are applied to the power supply lines DSL1 to DSLm in accordance with the line sequential scanning performed by the write scanner 104. The power supply voltage that is switched at is supplied. The horizontal selector 103 is an example of a video signal control unit according to the present invention, and controls the supply of a signal potential that becomes a video signal and a reference potential to the data lines DTL1 to DTLn according to line sequential scanning by the write scanner 104. To do.

1つの画素101は、例えば赤色を発光する赤色発光副画素、緑色を発光する緑色発光副画素、青色を発光する青色発光副画素のいずれかで構成されていてもよい。また、各画素を構成する発光素子は線順次駆動されるものとし、表示フレームレートをFR(回/秒)とする。すなわち、ある行に配置された画素101のそれぞれを構成する発光素子が同時に駆動される。言い換えると、1つの行を構成する各発光素子にあっては、その発光・非発光タイミングが、各発光素子が属する行単位で制御される。まお、1つの行を構成する各画素について映像信号を書き込む処理は、全ての画素について同時に映像信号を書き込む処理であってもよく、画素ごとに順次映像信号を書き込む処理であってもよい。いずれの書き込み処理を採用するかは、回路の構成に応じて適宜選択すればよい。   For example, one pixel 101 may be configured by any one of a red light emitting subpixel that emits red light, a green light emitting subpixel that emits green light, and a blue light emitting subpixel that emits blue light. Further, the light-emitting elements constituting each pixel are driven line-sequentially, and the display frame rate is FR (times / second). In other words, the light emitting elements constituting each of the pixels 101 arranged in a certain row are driven simultaneously. In other words, in each light emitting element constituting one row, the light emission / non-light emission timing is controlled in units of rows to which each light emitting element belongs. The process of writing a video signal for each pixel constituting one row may be a process of writing a video signal for all the pixels at the same time, or may be a process of sequentially writing a video signal for each pixel. Which write processing is adopted may be appropriately selected according to the circuit configuration.

上述したように、プロセス変動によって発光素子を駆動するためのTFTの閾電圧や移動度がばらついてしまい、有機EL素子の特性も経時的に変動するので、画面全体にわたって発光輝度を均一に制御するために、各画素においてTFTの特性のばらつきや有機EL素子の特性変動を補正する。つまり、ある行に配列された各発光素子の水平走査期間が終了するまでに、発光素子を駆動するTFTの閾電圧の補正処理、映像信号書き込み処理、および移動度補正処理が行われる。なお、映像信号書き込み処理や移動度補正処理は、ある行に配列された各発光素子の水平走査期間内に行われる必要がある。一方、TFTの閾電圧補正処理、および閾電圧補正処理に伴う前処理は、当該水平走査期間に先行して行ってもよい。   As described above, the threshold voltage and mobility of the TFT for driving the light emitting element vary due to process variations, and the characteristics of the organic EL element also vary with time, so that the emission luminance is uniformly controlled over the entire screen. Therefore, variations in TFT characteristics and fluctuations in characteristics of organic EL elements are corrected in each pixel. That is, the threshold voltage correction process, the video signal writing process, and the mobility correction process of the TFTs that drive the light emitting elements are performed before the end of the horizontal scanning period of each light emitting element arranged in a row. Note that the video signal writing process and the mobility correction process need to be performed within the horizontal scanning period of each light emitting element arranged in a certain row. On the other hand, the threshold voltage correction processing of the TFT and the preprocessing associated with the threshold voltage correction processing may be performed prior to the horizontal scanning period.

そして、上述したTFTの閾電圧の補正処理、映像信号書き込み処理、および移動度補正処理が全て終了した後に、ある行に配列された各発光素子を構成する発光部を発光させる。上述の各処理が終了した後に直ちに発光部を発光させてもよく、所定の期間(例えば、所定の行数分の水平走査期間)が経過した後に発行部を発光させてもよい。この所定の期間は表示装置100の仕様や、画素101を駆動する駆動回路の構成等によって適宜設定してもよい。本実施形態においては、説明の便宜上、上述の各処理が終了した後に直ちに発光部を発光させる構成を採るものとするが、本発明はかかる例に限定されないことは言うまでもない。   Then, after all of the above-described TFT threshold voltage correction processing, video signal writing processing, and mobility correction processing are completed, the light emitting units constituting the light emitting elements arranged in a row are caused to emit light. The light emitting unit may emit light immediately after the above-described processing ends, or the issuing unit may emit light after a predetermined period (for example, a horizontal scanning period of a predetermined number of rows) has elapsed. The predetermined period may be set as appropriate depending on the specifications of the display device 100, the configuration of a drive circuit that drives the pixel 101, and the like. In the present embodiment, for convenience of explanation, it is assumed that the light emitting unit emits light immediately after the above-described processes are completed, but it goes without saying that the present invention is not limited to such an example.

そして、ある行(例えばx行目)に配列された各発光素子を構成する発光部の発光は、第(x+x’)行目に配列された各発光素子の水平走査期間の開始直前まで継続される。ここでx’は表示装置100の設計仕様によって決定することが出来るパラメータである。すなわち、ある表示フレームの第x行目に配列された各発光素子を構成する発光部の発光は、第(x+x’−1)番目の水平走査期間まで継続される。一方、第(x+x’)行目に配列された各発光素子の水平走査期間の始期から、次の表示フレームにおける第x番目の水平走査期間内において、映像信号書き込み処理や移動度補正処理が完了するまで、第x行目に配列された各発光素子を構成する発光部は、原則として非発光状態を維持する。上述した非発光状態の期間(単に「非発光期間」とも称する)を設けることにより、アクティブマトリクス駆動に伴う残像ぼけが低減され、動画品位をより優れたものとすることができる。ただし、各画素の発光状態・非発光状態はかかる例に限定されるものではない。また、水平走査期間の時間長は、(1/FR)×(1/m)秒未満の時間長である。また、(x+x’)の値がmを超える場合には、超え多分の水平走査期間は、当該表示フレームの次の表示フレームにおいて処理される。   Then, the light emission of the light emitting units constituting each light emitting element arranged in a certain row (for example, the xth row) is continued until immediately before the start of the horizontal scanning period of each light emitting device arranged in the (x + x ′) th row. The Here, x ′ is a parameter that can be determined according to the design specifications of the display device 100. That is, the light emission of the light emitting units constituting the light emitting elements arranged in the xth row of a certain display frame is continued until the (x + x′−1) th horizontal scanning period. On the other hand, the video signal writing process and the mobility correction process are completed within the x-th horizontal scanning period in the next display frame from the beginning of the horizontal scanning period of each light emitting element arranged in the (x + x ′)-th row. Until this is done, the light-emitting portions constituting the light-emitting elements arranged in the x-th row are basically kept in the non-light-emitting state. By providing the above-described non-light emitting period (also simply referred to as “non-light emitting period”), the afterimage blur caused by active matrix driving is reduced, and the moving image quality can be further improved. However, the light emission state / non-light emission state of each pixel is not limited to this example. The time length of the horizontal scanning period is a time length of less than (1 / FR) × (1 / m) seconds. If the value of (x + x ′) exceeds m, the excess horizontal scanning period is processed in the display frame next to the display frame.

以上、図1を用いて本発明の一実施形態にかかる表示装置100の構成について説明した。次に、本発明の一実施形態にかかる画素101の構成について説明する。   The configuration of the display device 100 according to the embodiment of the present invention has been described above with reference to FIG. Next, the configuration of the pixel 101 according to an embodiment of the present invention will be described.

図2は、本発明の一実施形態にかかる画素101の構成について説明する説明図である。以下、図2を用いて本発明の一実施形態にかかる画素101の構成について説明する。   FIG. 2 is an explanatory diagram illustrating the configuration of the pixel 101 according to the embodiment of the present invention. Hereinafter, the configuration of the pixel 101 according to the embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

図2に示したように、本発明の一実施形態にかかる画素101は、トランジスタ1A、および1Bと、キャパシタ1Cと、有機EL素子1Dと、を含んで構成される。なお、以下の説明においては、トランジスタ1A、1Bはエンハンスメント型の電界効果型トランジスタ(FET)であるとして説明するが、本発明はこれに限られるものではない。トランジスタ1A、1Bにデプレッション型のトランジスタが用いられていてもよい。また、トランジスタ1A、1Bはシングルゲート型であってもよく、デュアルゲート型(ダブルゲート型)であってもよい。さらに、トランジスタ1A、1Bのソース/ドレイン領域は、不純物を含有したポリシリコンやアモルファスシリコン等の導電性物質から構成することが出来るだけでなく、金属、合金、導電性粒子、およびこれらの積層構造、有機材料(導電性高分子)からなる層から構成してもよい。   As shown in FIG. 2, a pixel 101 according to an embodiment of the present invention includes transistors 1A and 1B, a capacitor 1C, and an organic EL element 1D. In the following description, the transistors 1A and 1B are described as enhancement type field effect transistors (FETs), but the present invention is not limited to this. A depletion type transistor may be used for the transistors 1A and 1B. The transistors 1A and 1B may be a single gate type or a dual gate type (double gate type). Furthermore, the source / drain regions of the transistors 1A and 1B can be made of a conductive material such as polysilicon or amorphous silicon containing impurities, as well as metals, alloys, conductive particles, and their laminated structures. Alternatively, a layer made of an organic material (conductive polymer) may be used.

トランジスタ1Aは、図2に図示したように、ゲートがライトスキャナ104から伸びる走査線WSL1に接続され、ソースまたはドレインのいずれか一方が水平セレクタ103から伸びるデータ線DTL1に接続され、他方がトランジスタ1Bのゲートに接続されている。そして、トランジスタ1Aは走査線から供給される信号に応じて導通する。   As shown in FIG. 2, the transistor 1A has a gate connected to the scanning line WSL1 extending from the write scanner 104, one of the source and the drain connected to the data line DTL1 extending from the horizontal selector 103, and the other connected to the transistor 1B. Connected to the gate. The transistor 1A is turned on in response to a signal supplied from the scanning line.

トランジスタ1Bは、ソースまたはドレインのいずれか一方が有機EL素子1Dに接続され、他方が電源スキャナ105から伸びる電源線DSL1に接続される。本実施形態では、トランジスタ1Bのソースが有機EL素子1Dのアノードに接続されており、ドレインが電源スキャナ105から伸びる電源線DSL1に接続される。ここで、トランジスタ1Bは、有機EL素子1Dが発光する発光状態においては、発光電流Idsを以下の数式1に従って流すように駆動する。なお、数式1において各項は、それぞれ以下のものを示している。
μ :トランジスタ1Bの実効的な移動度
gs:トランジスタ1Bのゲート−ソース間の電位差
th:トランジスタ1Bの閾電圧
k :(1/2)・(W/L)・Cox
L :チャネル長
W :チャネル幅
Cox:(ゲート絶縁層の比誘電率)・(真空の誘電率)/(ゲート絶縁層の厚さ)
In the transistor 1B, either the source or the drain is connected to the organic EL element 1D, and the other is connected to the power supply line DSL1 extending from the power supply scanner 105. In the present embodiment, the source of the transistor 1B is connected to the anode of the organic EL element 1D, and the drain is connected to the power supply line DSL1 extending from the power supply scanner 105. Here, the transistor 1B is driven so that the light emission current Ids flows according to the following Equation 1 in the light emitting state in which the organic EL element 1D emits light. In Equation 1, each term indicates the following.
μ: Effective mobility of transistor 1B Vgs : Potential difference between gate and source of transistor 1B Vth : Threshold voltage of transistor 1B k: (1/2) · (W / L) · Cox
L: channel length W: channel width Cox: (relative permittivity of gate insulating layer) · (dielectric constant of vacuum) / (thickness of gate insulating layer)

ds=k・μ・(Vgs−Vth
・・・(数式1)
I ds = k · μ · (V gs −V th ) 2
... (Formula 1)

この発光電流Idsが有機EL素子1Dを流れることにより、有機EL素子1Dが自発光する。さらに発光電流Idsの値の大小によって有機EL素子1Dの発光輝度が変化することになる。 When the light emission current Ids flows through the organic EL element 1D, the organic EL element 1D emits light by itself. Furthermore, the light emission luminance of the organic EL element 1D changes depending on the value of the light emission current Ids .

キャパシタ1Cは、図2に図示したように、有機EL素子1Dのアノードに接続されているトランジスタ1Bのソースまたはドレインのいずれか一方と、トランジスタ1Bのゲートとの間に設けられる。本実施形態では、トランジスタ1Bのソースが有機EL素子1Dのアノードに接続されているので、キャパシタ1Cはトランジスタ1Bのソースとゲートとの間に設けられる。   As shown in FIG. 2, the capacitor 1C is provided between one of the source and drain of the transistor 1B connected to the anode of the organic EL element 1D and the gate of the transistor 1B. In the present embodiment, since the source of the transistor 1B is connected to the anode of the organic EL element 1D, the capacitor 1C is provided between the source and gate of the transistor 1B.

有機EL素子1Dは、電流量に応じて自発光を行う発光素子の一例である。有機EL素子1Dのアノードはトランジスタ1Bのソースと接続され、カソードは接地配線1Hに接続されている。動作の詳細については後述するが、図2に示した画素101の構成において、キャパシタ1Cにはトランジスタ1Aの導通によって、データ線DTL1から供給された信号電位を保持する。そして、トランジスタ1Bは電源線DSL1から電流の供給を受けることによって、キャパシタ1Cに保持された電位に応じて駆動電流を有機EL素子1Dに流す。駆動電流を有機EL素子1Dに流すことによって有機EL素子1Dは自発光を行う。なお、本発明はかかる例に限られないことは言うまでも無く、例えば、有機EL素子1Dのカソードがグランド(GND)に接続される構成をとってもよい。   The organic EL element 1D is an example of a light emitting element that emits light according to the amount of current. The anode of the organic EL element 1D is connected to the source of the transistor 1B, and the cathode is connected to the ground wiring 1H. Although details of the operation will be described later, in the configuration of the pixel 101 illustrated in FIG. 2, the capacitor 1C holds the signal potential supplied from the data line DTL1 by the conduction of the transistor 1A. The transistor 1B receives the supply of current from the power supply line DSL1, thereby causing a driving current to flow through the organic EL element 1D in accordance with the potential held in the capacitor 1C. The organic EL element 1D emits light by passing a driving current through the organic EL element 1D. Needless to say, the present invention is not limited to such an example. For example, the cathode of the organic EL element 1D may be connected to the ground (GND).

また、図2に示した画素101の構成において、電源スキャナ105は、トランジスタ1Aが導通した後で水平セレクタ103がデータ線DTL1に基準電位を供給している間に、電源線DSL1の電位を、第1電位と、第1電位より低い第2電位との間で切り替えて、トランジスタ1Bの閾電圧Vthに相当する電圧をキャパシタ1Cに保持する。このようにトランジスタ1Bの閾電圧Vthに相当する電圧をキャパシタ1Cに保持することで、トランジスタ1Bの閾電圧を補正することができ、画素間でばらつきが生じるトランジスタ1Bの閾電圧の影響をキャンセルすることができる。 In the configuration of the pixel 101 shown in FIG. 2, the power supply scanner 105 determines the potential of the power supply line DSL1 while the horizontal selector 103 supplies the reference potential to the data line DTL1 after the transistor 1A is turned on. By switching between the first potential and the second potential lower than the first potential, a voltage corresponding to the threshold voltage Vth of the transistor 1B is held in the capacitor 1C. In this way, by holding the voltage corresponding to the threshold voltage Vth of the transistor 1B in the capacitor 1C, the threshold voltage of the transistor 1B can be corrected, and the influence of the threshold voltage of the transistor 1B that causes variation among pixels is canceled. can do.

なお、本実施形態では、水平セレクタ103がデータ線DTL1に供給する基準電位を2種類設定し、2つの基準電位をデータ線DTL1に供給することによって、トランジスタ1Bの閾電圧を補正することを特徴としている。   In this embodiment, the horizontal selector 103 sets two types of reference potentials to be supplied to the data line DTL1, and corrects the threshold voltage of the transistor 1B by supplying two reference potentials to the data line DTL1. It is said.

また、動作の詳細については後述するが、図2に示した画素101の構成において、水平セレクタ103は、トランジスタ1Aが非導通であるタイミングでデータ線DTL1の電位を信号電位に切り替え、その後ライトスキャナ104は走査線WSL1に制御信号を印加することによってトランジスタ1Aを導通させて、さらにその後、ライトスキャナ104は走査線WSL1への制御信号の印加を停止する。このように制御信号の印加を制御することによって、トランジスタ1Bのソース電位を制御し、すなわちトランジスタ1Bの移動度を補正することができる。   Although details of the operation will be described later, in the configuration of the pixel 101 shown in FIG. 2, the horizontal selector 103 switches the potential of the data line DTL1 to the signal potential at the timing when the transistor 1A is non-conductive, and then the write scanner. 104 applies a control signal to the scanning line WSL1 to turn on the transistor 1A, and then the write scanner 104 stops applying the control signal to the scanning line WSL1. By controlling the application of the control signal in this way, the source potential of the transistor 1B can be controlled, that is, the mobility of the transistor 1B can be corrected.

以上、図2を用いて本発明の一実施形態にかかる画素101の構成について説明した、なお、本発明においては、画素101を構成する回路は図2に示した例に限られない。次に、本発明の一実施形態にかかる画素101に入力される信号と、トランジスタ1Bの電位のとの関係について説明する。   As described above, the configuration of the pixel 101 according to the embodiment of the present invention has been described with reference to FIG. 2. In the present invention, the circuit configuring the pixel 101 is not limited to the example illustrated in FIG. 2. Next, the relationship between the signal input to the pixel 101 according to the embodiment of the present invention and the potential of the transistor 1B will be described.

図3は、本発明の一実施形態にかかる画素101に入力される信号と、トランジスタ1Bの電位のとの関係について説明する説明図である。以下、図3を用いて、本発明の一実施形態にかかる画素101に入力される信号と、トランジスタ1Bの電位のとの関係について説明する。なお、以降のタイミングチャートにおいては各期間を示す横軸の長さ(時間長)は模式的なものであり、各期間の時間長の割合とは必ずしも一致するものではない。   FIG. 3 is an explanatory diagram illustrating a relationship between a signal input to the pixel 101 according to an embodiment of the present invention and the potential of the transistor 1B. Hereinafter, the relationship between the signal input to the pixel 101 according to the embodiment of the present invention and the potential of the transistor 1B will be described with reference to FIG. In the subsequent timing charts, the length of the horizontal axis (time length) indicating each period is a schematic one and does not necessarily match the ratio of the time length of each period.

図3は、時間軸を共通にして、走査線に供給される走査線電位、電源線に供給される電源線電位、データ線に供給されるデータ線電位の変化を示し、さらにトランジスタ1Bのゲート電位Vおよびソース電位Vの変化についても示している。 FIG. 3 shows changes in the scanning line potential supplied to the scanning line, the power supply line potential supplied to the power supply line, the data line potential supplied to the data line, and the gate of the transistor 1B. and also it shows the change in the potential V g and the source potential V s.

まず、発光期間(A)において、電源線DSL1には電源スキャナ105から第1の電位が供給されており、有機EL素子1Dに電流が流れることで有機EL素子1Dは自発光を行う。電源スキャナ105から供給される電位が第1の電位より低い第2の電位に遷移すると、発光期間が完了する。電源スキャナ105から電源線DSL1に供給される電位が第2の電位に遷移することで、トランジスタ1Bのゲート電位Vおよびソース電位Vがともに低下する。 First, in the light emission period (A), the first potential is supplied from the power supply scanner 105 to the power supply line DSL1, and the current flows through the organic EL element 1D, so that the organic EL element 1D emits light. When the potential supplied from the power scanner 105 transitions to a second potential lower than the first potential, the light emission period is completed. Potential supplied from the power supply scanner 105 to the power supply line DSL1 is that the transition to the second potential, the gate potential V g and the source potential V s of the transistor 1B both reduced.

その後、期間(B)と期間(C)との境目で走査線WSL1から供給される走査線電位がLOW(低電位側)からHIGH(高電位側)に遷移する。走査線WSL1に供給される電位が高電位側に遷移することでトランジスタ1Aは導通する。これにより、トランジスタ1Bのゲート電位Vはやや上昇するが、ソース電位Vはさらに低下する。このときのソース電位VをVcc_Lとする。この期間(B)と期間(C)とを合わせて閾値補正準備期間とする。 Thereafter, the scanning line potential supplied from the scanning line WSL1 transitions from LOW (low potential side) to HIGH (high potential side) at the boundary between the period (B) and the period (C). When the potential supplied to the scanning line WSL1 transitions to the high potential side, the transistor 1A becomes conductive. Accordingly, the gate potential V g of the transistor 1B is slightly increased, the source potential V s is further reduced. The source potential V s at this time is set to V cc_L . The period (B) and the period (C) are combined to form a threshold correction preparation period.

閾値補正準備期間が完了して、電源スキャナ105から電源線DSL1に供給される電位が、第2の電位から第1の電位に遷移すると、トランジスタ1Bのゲート電位Vは一定のままで、ソース電位Vは緩やかに上昇を始める。この期間を閾値補正期間(D)とする。この閾値補正期間(D)によって、トランジスタ1Bのゲート電位Vとソース電位Vとの間に、トランジスタ1Bの閾電圧Vthに相当する電位差が保持されることになる。なお、本実施形態における画素101においては、トランジスタ1Bの閾電圧Vthに相当する電位差はキャパシタ1Cに保持されることになる。 Complete the threshold value correction preparation period, the potential supplied from the power supply scanner 105 to the power supply line DSL1 is, when the transition from the second potential to the first potential, the the gate electric potential V g of the transistor 1B remains constant, the source The potential V s begins to rise slowly. This period is defined as a threshold correction period (D). This threshold correction period (D), between the gate potential V g and the source potential V s of the transistor 1B, so that the potential difference corresponding to the threshold voltage V th of the transistor 1B is maintained. In the pixel 101 in this embodiment, the potential difference corresponding to the threshold voltage Vth of the transistor 1B is held in the capacitor 1C.

その後、走査線WSL1に供給される電位がLOWからHIGHに変化することで、トランジスタ1Bのゲート電位Vとソース電位Vとが共に上昇を始める。この期間をサンプリング期間および移動度補正期間(E)とする。サンプリング期間および移動度補正期間(E)が始まるまでに、データ線電位がVinに上昇する。よって、トランジスタ1Bのゲート電位Vには、データ線電位Vinに相当する電位が足しこまれる形で上昇する。なお本実施形態における画素101においては、トランジスタ1Bの閾電圧Vthにデータ線電位Vinに相当する電位が足しこまれた電位に相当する電位差はキャパシタ1Cに保持されるとともに、トランジスタ1Bの移動度を補正するための電圧ΔVがキャパシタ1Cから差し引かれる。なお、電圧ΔVは、トランジスタ1Bの移動度が大きい場合には大きく、移動度が小さい場合には小さい値となる。 Thereafter, the potential supplied to the scanning line WSL1 is that changes from LOW to HIGH, the gate potential V g and the source potential V s of the transistor 1B starts to rise together. This period is a sampling period and a mobility correction period (E). By sampling period and the mobility correction period (E) is started, the data line potential rises to V in. Therefore, the gate electric potential V g of the transistor 1B rises in the form of potential corresponding to the data line potential V in is added up. Note in the pixel 101 in the present embodiment, together with the potential difference corresponding to a potential corresponding to the potential is added up to the data line potential V in the threshold voltage V th of the transistor 1B is held in the capacitor 1C, movement of the transistor 1B A voltage ΔV for correcting the degree is subtracted from the capacitor 1C. Note that the voltage ΔV is large when the mobility of the transistor 1B is large, and is small when the mobility is small.

その後、走査線WSL1に供給される電位がHIGHからLOWに変化することでサンプリング期間および移動度補正期間(E)が終了する。さらに、データ線電位が基準電位Vに遷移することで映像信号電位Vinに応じた輝度で有機EL素子1Dが発光を開始する。この期間を発光期間(F)とする。この際に、映像信号電位Vinはトランジスタ1Bの閾電圧Vthに相当する電圧と、移動度を補正する電圧ΔVとによって調整されており、有機EL素子1Dの発光輝度は、トランジスタ1Bの閾電圧Vthや、移動度μのばらつきに影響を受けることは無い。なお、発光期間(F)の最初でいわゆるブートストラップ動作が行われ。トランジスタ1Bのゲート−ソース間電圧VgsはVgs=Vth+Vin−ΔVで一定に維持したまま、トランジスタ1Bのゲート電位Vとソース電位Vとが上昇する。これにより、発光期間(F)では有機EL素子1Dの発光輝度を一定に保つことができる。 Thereafter, the potential supplied to the scanning line WSL1 changes from HIGH to LOW, so that the sampling period and the mobility correction period (E) end. Furthermore, at a luminance corresponding to the video signal potential V in by the data line potential transitions to a reference potential V o organic EL element 1D starts emitting light. This period is defined as a light emission period (F). At this time, the video signal potential V in the voltage corresponding to the threshold voltage V th of the transistor 1B, is adjusted by a voltage ΔV for correcting the mobility, emission luminance of the organic EL element 1D is the threshold of transistor 1B It is not affected by variations in voltage Vth and mobility μ. A so-called bootstrap operation is performed at the beginning of the light emission period (F). The gate potential V g and the source potential V s of the transistor 1B rise while the gate-source voltage V gs of the transistor 1B is kept constant at V gs = V th + V in −ΔV. Thereby, in the light emission period (F), the light emission luminance of the organic EL element 1D can be kept constant.

以上、図3を用いて本発明の一実施形態にかかる画素101に入力される信号と、トランジスタ1Bの電位のとの関係について説明した。次に、上述した画素101の動作を具体的に説明する。上述した画素101の動作については、例えば特開2007−310311号公報等に掲載されているが、以下において図面を参照しながら詳細に説明する。   The relationship between the signal input to the pixel 101 according to the embodiment of the present invention and the potential of the transistor 1B has been described above with reference to FIG. Next, the operation of the pixel 101 described above will be specifically described. The operation of the pixel 101 described above is described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-310311, and will be described in detail below with reference to the drawings.

図4A、および図4Bは、本発明の一実施形態にかかる画素101の動作について具体的に説明する説明図である。以下、図4A、および図4Bを用いて本発明の一実施形態にかかる画素101の動作について具体的に説明する。なお、図4A、および図4Bには、有機EL素子1Dの寄生容量1Iについても示している。   4A and 4B are explanatory diagrams for specifically explaining the operation of the pixel 101 according to the embodiment of the present invention. Hereinafter, the operation of the pixel 101 according to the embodiment of the present invention will be specifically described with reference to FIGS. 4A and 4B. 4A and 4B also show the parasitic capacitance 1I of the organic EL element 1D.

図4Aの(a)は、図3の発光期間(A)における画素101の動作について示したものである。発光期間(A)では、電源線DSL1には電源スキャナ105から第1の電位Vcc_Hが供給されており、トランジスタ1Bには電流Idsが流れる。図4Aの(b)は、期間(B)における画素101の動作について示したものである。期間(B)では、電源線DSL1には電源スキャナ105から第2の電位Vcc_Lが供給されている。 4A shows the operation of the pixel 101 in the light emission period (A) of FIG. In the emission period (A), to the power supply line DSL1 is supplied with a first potential V cc - H from the power supply scanner 105 flows current I ds to the transistor 1B. FIG. 4A shows an operation of the pixel 101 in the period (B). In the period (B), the second potential V cc_L is supplied from the power scanner 105 to the power line DSL1 .

図4Aの(c)は、期間(C)における画素101の動作について示したものである。期間(C)では、走査線WSL1から供給される走査線電位がLOW(低電位側)からHIGH(高電位側)に遷移し、トランジスタ1Aは導通する。このとき、データ線DTL1には基準電位Vが印加されている。従って、トランジスタ1Bのゲートgの電位VはVである。また、トランジスタ1Bのソースsの電位VはVcc_Lである。従って、このときのトランジスタ1Bのゲート−ソース間電圧VgsはV−Vcc_Lである。このときのゲート−ソース間電圧Vgsがトランジスタ1Bの閾電圧Vth以上となるようにVおよびVcc_Lを設定する。トランジスタ1Bの閾電圧Vth以上となることで、トランジスタ1Bは導通状態となる。 FIG. 4C shows the operation of the pixel 101 in the period (C). In the period (C), the scanning line potential supplied from the scanning line WSL1 changes from LOW (low potential side) to HIGH (high potential side), and the transistor 1A is turned on. At this time, the reference potential V o is applied to the data line DTL1. Therefore, the potential V g of the gate g of the transistor 1B is V o . The potential V s of the source s of the transistor 1B is V cc_L . Accordingly, the gate-source voltage V gs of the transistor 1B at this time is V o −V cc_L . V o and V cc_L are set so that the gate-source voltage V gs at this time becomes equal to or higher than the threshold voltage V th of the transistor 1B. When the threshold voltage Vth of the transistor 1B is exceeded, the transistor 1B becomes conductive.

図4Aの(d)は、閾値補正期間(D)における画素101の動作について示したものである。閾値補正期間(D)では、電源線DSL1には電源スキャナ105から第1の電位Vcc_Hが供給されており、トランジスタ1Bのソースsの電位Vが緩やかに上昇を始める。そして、トランジスタ1Bのゲート−ソース間電圧Vgsが閾電圧Vthに達すると、トランジスタ1Bは非導通状態となる。 FIG. 4A (d) shows the operation of the pixel 101 during the threshold correction period (D). In the threshold value correction period (D), to the power supply line DSL1 is supplied with a first potential V cc - H from the power supply scanner 105, the potential V s of the source s of the transistor 1B starts to gradually rise. When the gate-source voltage V gs of the transistor 1B reaches the threshold voltage V th , the transistor 1B is turned off.

図4Bの(e)は、閾値補正期間(D)の後における画素101の動作について示したものである。閾値補正期間(D)の後に走査線WSL1から供給される走査線電位がHIGH(高電位側)からLOW(低電位側)に遷移すると、トランジスタ1Aは非導通状態となる。このとき、トランジスタ1Bのゲート−ソース間電圧Vgsは閾電圧Vthを維持している。図4Bの(f)は、図4Bの(e)の後に、データ線DTL1には映像信号電位Vinが印加されている場合の画素101の動作について示した説明図である。 FIG. 4B (e) shows the operation of the pixel 101 after the threshold correction period (D). When the scanning line potential supplied from the scanning line WSL1 transitions from HIGH (high potential side) to LOW (low potential side) after the threshold correction period (D), the transistor 1A is turned off. At this time, the gate-source voltage Vgs of the transistor 1B maintains the threshold voltage Vth . (F) in FIG. 4B, after the (e) in FIG. 4B, the data lines DTL1 is an explanatory view showing operation of the pixel 101 when the video signal potential V in is applied.

図4Bの(g)は、サンプリング期間および移動度補正期間(E)における画素101の動作について示したものである。サンプリング期間および移動度補正期間(E)では、走査線WSL1から供給される走査線電位がLOW(低電位側)からHIGH(高電位側)に遷移し、トランジスタ1Aは導通状態となる。これにより、データ線DTL1に印加されている映像信号電位Vinがトランジスタ1Bのゲートgに印加されるので、電位Vinだけゲートgの電位が上昇する。一方、キャパシタ1Cと有機EL素子1Dの寄生容量1Iとのカップリングによって、トランジスタ1Bのソースsのソース電位Vも上昇する。より具体的には、有機EL素子1Dがカットオフ状態(ハイインピーダンス)であるため、トランジスタ1Bに流れる発光電流Ids(ドレイン−ソース間電流)は寄生容量1Iに流れる。発光電流Idsが流れ込むことで寄生容量1Iが充電され、トランジスタ1Bのソース電位Vsは上昇する。そして、トランジスタ1Bのゲート−ソース間電圧Vgsは、「Vin+Vth−ΔV」となる。ここで、ΔVは、画素101におけるトランジスタ1Bの移動度を補正する移動度補正項である。 FIG. 4B (g) shows the operation of the pixel 101 in the sampling period and the mobility correction period (E). In the sampling period and the mobility correction period (E), the scanning line potential supplied from the scanning line WSL1 changes from LOW (low potential side) to HIGH (high potential side), and the transistor 1A is turned on. Thus, the video signal potential V in applied to the data line DTL1 is applied to the gate g of the transistor 1B, the potential of the potential V in only the gate g increases. On the other hand, the coupling between the parasitic capacitance 1I of the capacitor 1C and the organic EL element 1D, also rises the source potential V s of the source s of the transistor 1B. More specifically, since the organic EL element 1D is in a cut-off state (high impedance), the light emission current I ds (drain-source current) flowing through the transistor 1B flows through the parasitic capacitance 1I. When the light emission current Ids flows, the parasitic capacitance 1I is charged, and the source potential Vs of the transistor 1B rises. The gate-source voltage V gs of the transistor 1B is “V in + V th −ΔV”. Here, ΔV is a mobility correction term for correcting the mobility of the transistor 1B in the pixel 101.

図4Bの(h)は、発光期間(F)における画素101の動作について示したものである。発光期間(F)では、走査線WSL1から供給される走査線電位がHIGH(高電位側)からLOW(低電位側)に遷移し、トランジスタ1Aは非導通状態となる。トランジスタ1Aは非導通状態となることでトランジスタ1Bのゲートgはデータ線DTL1から切り離される。そして、トランジスタ1Bに流れる発光電流Idsが有機EL素子1Dに流れ始める。そのため、有機EL素子1Dのアノード電位、すなわちトランジスタ1Bのソースsの電位は発光電流Idsに応じて上昇する。キャパシタ1Cのブートストラップ動作によって、トランジスタ1Bのソースsの電位の上昇に伴ってトランジスタ1Bのゲートgの電位も上昇を始める。また、トランジスタ1Bのソースsの電位が上昇することで、有機EL素子1Dの閾電圧Velを超えるため、有機EL素子1Dは発光を開始する。 FIG. 4B (h) shows the operation of the pixel 101 in the light emission period (F). In the light emission period (F), the scanning line potential supplied from the scanning line WSL1 transits from HIGH (high potential side) to LOW (low potential side), and the transistor 1A is turned off. Since the transistor 1A is turned off, the gate g of the transistor 1B is disconnected from the data line DTL1. Then, the light emission current Ids flowing through the transistor 1B starts to flow through the organic EL element 1D. Therefore, the anode potential of the organic EL element 1D, that is, the potential of the source s of the transistor 1B rises according to the light emission current Ids . By the bootstrap operation of the capacitor 1C, the potential of the gate g of the transistor 1B starts to increase as the potential of the source s of the transistor 1B increases. Moreover, since the potential of the source s of the transistor 1B rises and exceeds the threshold voltage Vel of the organic EL element 1D, the organic EL element 1D starts to emit light.

図5は、図2で示した表示装置100において、補助容量としてキャパシタ1Jを配置した場合の回路構成について説明する説明図であり、図6は、図5に示した回路構成を具現するレイアウトの一例について説明する説明図である。   FIG. 5 is an explanatory diagram for explaining a circuit configuration in the case where the capacitor 1J is arranged as an auxiliary capacitor in the display device 100 shown in FIG. 2, and FIG. 6 shows a layout that embodies the circuit configuration shown in FIG. It is explanatory drawing explaining an example.

有機EL素子1Dおよびキャパシタ1Jが接続されるカソード配線1Hは低抵抗材料であることが望ましい。そして、低温ポリシリコンで回路を形成する場合には第2配線が用いられる場合が多い。また、カソード配線1Hにアノード電極で形成される補助電極が用いられる場合もある。しかし、精細度の高い画素については、レイアウト面積の制約上、第2配線や補助配線をカソード配線1Hに用いることが困難となる。   The cathode wiring 1H to which the organic EL element 1D and the capacitor 1J are connected is preferably a low resistance material. The second wiring is often used when a circuit is formed of low-temperature polysilicon. Further, an auxiliary electrode formed of an anode electrode may be used for the cathode wiring 1H. However, for pixels with high definition, it is difficult to use the second wiring and the auxiliary wiring as the cathode wiring 1H due to the layout area limitation.

図7Aは、一般的な低温ポリシリコンのTFT構造について示す説明図である。図7Aに示したように、一般的な低温ポリシリコンのTFT11は、第1配線12と、第1配線12を覆って形成されるゲート酸化膜13と、ゲート酸化膜13の上部の一部に形成されるポリシリコン14と、ゲート酸化膜13およびポリシリコン14を覆うように形成される酸化膜15と、酸化膜15の上部に形成され、ポリシリコン14と接続するように形成される第2配線16と、酸化膜15および第2配線16を覆うように形成される平坦化膜17と、平坦化膜17の上部の一部に形成される有機ELアノード電極18と、を含んで構成される。   FIG. 7A is an explanatory diagram showing a general low-temperature polysilicon TFT structure. As shown in FIG. 7A, a general low-temperature polysilicon TFT 11 includes a first wiring 12, a gate oxide film 13 formed so as to cover the first wiring 12, and a part of the upper portion of the gate oxide film 13. Polysilicon 14 to be formed, oxide film 15 formed to cover gate oxide film 13 and polysilicon 14, and second film formed on top of oxide film 15 and connected to polysilicon 14 The wiring 16 includes a planarization film 17 formed so as to cover the oxide film 15 and the second wiring 16, and an organic EL anode electrode 18 formed on a part of the top of the planarization film 17. The

図7Aに示したTFT11は、有機ELアノード電極18の配線に第2配線16を用いた場合の構造を示したものである。そして、この場合には図7Aには図示していないが、有機ELカソード電極の配線には第1配線12を用いられる。   The TFT 11 shown in FIG. 7A shows a structure when the second wiring 16 is used as the wiring of the organic EL anode electrode 18. In this case, although not shown in FIG. 7A, the first wiring 12 is used for the wiring of the organic EL cathode electrode.

図7Bは、一般的な低温ポリシリコンのTFT構造の別の例について示す説明図である。図7Bに示したように、一般的な低温ポリシリコンのTFT21は、第1配線22と、第1配線22を覆って形成されるゲート酸化膜23と、ゲート酸化膜23の上部の一部に形成されるポリシリコン24と、ゲート酸化膜23およびポリシリコン24を覆うように形成される酸化膜25と、酸化膜25の上部に形成され、ポリシリコン24および第1配線22と接続するように形成される第2配線26と、酸化膜25および第2配線26を覆うように形成される平坦化膜27と、平坦化膜27の上部の一部に形成される有機ELアノード電極28と、有機ELカソード電極29と、有機ELアノード電極28の一部分の上部に形成される有機EL30と、平坦化膜31と、を含んで構成される。   FIG. 7B is an explanatory diagram showing another example of a general low-temperature polysilicon TFT structure. As shown in FIG. 7B, a general low-temperature polysilicon TFT 21 includes a first wiring 22, a gate oxide film 23 formed so as to cover the first wiring 22, and a part of the upper portion of the gate oxide film 23. Polysilicon 24 to be formed, oxide film 25 formed so as to cover gate oxide film 23 and polysilicon 24, formed on top of oxide film 25, and connected to polysilicon 24 and first wiring 22 A second wiring 26 formed, a planarization film 27 formed so as to cover the oxide film 25 and the second wiring 26, an organic EL anode electrode 28 formed on a part of the upper part of the planarization film 27, An organic EL cathode electrode 29, an organic EL 30 formed on a part of the organic EL anode electrode 28, and a planarizing film 31 are configured.

図7Bに示したTFT21は、有機ELアノード電極28の配線に第2配線26を用いている。そして、有機ELカソード電極29の配線には第1配線22を用いている。そして、有機ELアノード電極28と有機ELカソード電極29との間に電流を流すことで、有機EL30は自発光を行う。   The TFT 21 shown in FIG. 7B uses the second wiring 26 for the wiring of the organic EL anode electrode 28. The first wiring 22 is used for the wiring of the organic EL cathode electrode 29. The organic EL 30 emits light by passing a current between the organic EL anode electrode 28 and the organic EL cathode electrode 29.

図8は、本発明の一実施形態にかかる表示装置100において、カソード配線に第1配線を用いた場合における、画素101の等価回路について説明する説明図である。カソード配線に第1配線を用いた場合、一般に第1配線は第2配線に比べて高抵抗の材質であるため、画素101は有機EL素子1Dのカソード側にカソード抵抗1Kが入るのと等価な回路となる。また、図8には電源線DSL1とカソード配線(第1配線)との間の寄生容量Cpについても示している。   FIG. 8 is an explanatory diagram for explaining an equivalent circuit of the pixel 101 when the first wiring is used as the cathode wiring in the display device 100 according to the embodiment of the present invention. When the first wiring is used as the cathode wiring, since the first wiring is generally made of a material having a higher resistance than the second wiring, the pixel 101 is equivalent to the cathode resistance 1K entering the cathode side of the organic EL element 1D. It becomes a circuit. FIG. 8 also shows the parasitic capacitance Cp between the power supply line DSL1 and the cathode wiring (first wiring).

図9は、図8に示したように画素101を構成した場合において、図3に示したようなタイミングで駆動を行ったときの、各電位および図8のa点のノードの電位変動(カソード電位の変動)について説明する説明図である。図8の画素101は、寄生容量Cpとカソード抵抗1Kとで積分回路が形成されている状態となっている。従って、図9に示したように、図8のa点は、閾値補正期間(D)が開始するとともにカソード電位が上昇し、画素101の回路の時定数で、カソード電位は元の電位に戻る。   FIG. 9 shows the potential fluctuations (cathodes) of each potential and the node at point a in FIG. 8 when driving is performed at the timing shown in FIG. 3 in the case where the pixel 101 is configured as shown in FIG. It is explanatory drawing explaining the fluctuation | variation of an electric potential. The pixel 101 in FIG. 8 is in a state where an integration circuit is formed by the parasitic capacitance Cp and the cathode resistance 1K. Therefore, as shown in FIG. 9, at the point a in FIG. 8, the cathode potential rises as the threshold correction period (D) starts, and the cathode potential returns to the original potential with the time constant of the circuit of the pixel 101. .

しかし、カソード抵抗1Kの抵抗値が大きくなると、図9に破線で示したようにカソード電位が元の電位に戻るまでに時間がかかってしまう。そして、閾値補正期間(D)が終わるまでにカソード電位が元の電位に戻らないと、トランジスタ1Bの閾電圧を補正することができなくなってしまう。   However, when the resistance value of the cathode resistance 1K increases, it takes time for the cathode potential to return to the original potential as shown by the broken line in FIG. If the cathode potential does not return to the original potential by the end of the threshold correction period (D), the threshold voltage of the transistor 1B cannot be corrected.

そこで、本実施形態においては、カソード配線に第1配線を用いた場合において、寄生容量Cpと、カソード抵抗1Kの抵抗値Rcathとによる時定数を、閾値補正期間tvthを考慮するように設定することで、トランジスタ1Bの閾電圧の補正に影響を与えないようにすることを特徴とする。 Therefore, in the present embodiment, when the first wiring is used as the cathode wiring, the time constant based on the parasitic capacitance Cp and the resistance value R cath of the cathode resistance 1K is set so as to consider the threshold correction period tvth. Thus, the correction of the threshold voltage of the transistor 1B is not affected.

すなわち、具体的には、寄生容量Cpと、カソード抵抗1Kの抵抗値Rcathとによる時定数を、閾値補正期間tvth未満となるように設定する。つまり、
vth>Cp×Rcath
となるように時定数を設定する。このように設定することで、トランジスタ1Bの閾電圧の補正に影響を与えないようにすることができる。ここで、閾値補正に要する時間は5マイクロ秒程度であることが望ましい。これから、寄生容量Cpと、カソード抵抗1Kの抵抗値Rcathとによる時定数は0.5マイクロ以内であることが望ましい。
Specifically, the time constant based on the parasitic capacitance Cp and the resistance value R cath of the cathode resistance 1K is set to be less than the threshold correction period tvth . That means
t vth > Cp × R cath
Set the time constant so that By setting in this way, it is possible not to affect the correction of the threshold voltage of the transistor 1B. Here, the time required for threshold correction is preferably about 5 microseconds. From this, it is desirable that the time constant of the parasitic capacitance Cp and the resistance value R cath of the cathode resistance 1K is within 0.5 micron.

また、ハイフレームレートを考慮した場合には、Cp×Rcath<0.1マイクロ秒となるように時定数を設定してもよい。寄生容量Cpと、カソード抵抗1Kの抵抗値Rcathとによる時定数を0.1マイクロ秒未満となるように設定することで、トランジスタ1Bの閾電圧の補正に影響を与えずに、トランジスタ1Bの閾電圧を補正することができる。 In consideration of the high frame rate, the time constant may be set so that Cp × R path <0.1 microseconds. By setting the time constant based on the parasitic capacitance Cp and the resistance value R cath of the cathode resistance 1K to be less than 0.1 microsecond, the correction of the threshold voltage of the transistor 1B is not affected. The threshold voltage can be corrected.

以上、本発明の一実施形態にかかる表示装置100における、カソード配線に第1配線を用いた場合の設定について説明した。   As above, the setting in the case where the first wiring is used as the cathode wiring in the display device 100 according to the embodiment of the present invention has been described.

以上説明したように、本発明の一実施形態によれば、配線抵抗と、カソード配線に生じる寄生容量との時定数を適切に設定することで、TFTの閾電圧の補正に影響を与えないようにすることができる。   As described above, according to one embodiment of the present invention, the time constant between the wiring resistance and the parasitic capacitance generated in the cathode wiring is appropriately set so as not to affect the correction of the threshold voltage of the TFT. Can be.

以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。   As mentioned above, although preferred embodiment of this invention was described referring an accompanying drawing, it cannot be overemphasized that this invention is not limited to the example which concerns. It will be apparent to those skilled in the art that various changes and modifications can be made within the scope of the claims, and these are naturally within the technical scope of the present invention. Understood.

本発明は、表示装置に適用可能であり、特に電流量に応じて自発光を行う発光素子を画素に用いたアクティブマトリクス型の表示装置に適用可能である。   The present invention can be applied to a display device, and in particular, can be applied to an active matrix display device using a light-emitting element that emits light according to a current amount as a pixel.

本発明の一実施形態にかかる表示装置100の構成について説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the structure of the display apparatus 100 concerning one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態にかかる画素101の構成について説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the structure of the pixel 101 concerning one Embodiment of this invention. 画素101に入力される信号と、トランジスタ1Bの電位のとの関係について説明する説明図である。FIG. 10 is an explanatory diagram illustrating a relationship between a signal input to a pixel 101 and a potential of a transistor 1B. 本発明の一実施形態にかかる画素101の動作について具体的に説明する説明図である。FIG. 6 is an explanatory diagram specifically explaining an operation of the pixel 101 according to the embodiment of the present invention. 本発明の一実施形態にかかる画素101の動作について具体的に説明する説明図である。FIG. 6 is an explanatory diagram specifically explaining an operation of the pixel 101 according to the embodiment of the present invention. 図2で示した表示装置100において、補助容量としてキャパシタ1Jを配置した場合の回路構成について説明する説明図である。FIG. 3 is an explanatory diagram illustrating a circuit configuration when a capacitor 1J is disposed as an auxiliary capacitor in the display device 100 illustrated in FIG. 図5に示した回路構成を具現するレイアウトの一例について説明する説明図である。FIG. 6 is an explanatory diagram illustrating an example of a layout that embodies the circuit configuration illustrated in FIG. 5. 一般的な低温ポリシリコンのTFT構造について示す説明図である。It is explanatory drawing shown about the TFT structure of a general low temperature polysilicon. 一般的な低温ポリシリコンのTFT構造について示す説明図である。It is explanatory drawing shown about the TFT structure of a general low temperature polysilicon. 本発明の一実施形態にかかる表示装置100において、カソード配線に第1配線を用いた場合における、画素101の等価回路について説明する説明図である。FIG. 7 is an explanatory diagram illustrating an equivalent circuit of the pixel 101 in the case where the first wiring is used as the cathode wiring in the display device 100 according to the embodiment of the present invention. 図8に示した画素101において、各電位および図8のa点のノードの電位変動について説明する説明図である。FIG. 9 is an explanatory diagram for explaining each potential and potential fluctuation of a node at point a in FIG. 8 in the pixel 101 shown in FIG. 8.

符号の説明Explanation of symbols

11、21 TFT
12、22 第1配線
13、23 ゲート酸化膜
14、24 ポリシリコン
15、25 酸化膜
16、26 第2配線
17、27、31 平坦化膜
18、28 有機ELアノード電極
29 有機ELカソード電極
30 有機EL
100 表示装置
101 画素
102 画素アレイ部
103 水平セレクタ
104 ライトスキャナ
105 電源スキャナ
DTL1〜DTLn データ線
DSL1〜DSLm 電源線
WSL1〜WSLm 走査線
11, 21 TFT
12, 22 First wiring 13, 23 Gate oxide film 14, 24 Polysilicon 15, 25 Oxide film 16, 26 Second wiring 17, 27, 31 Planarization film 18, 28 Organic EL anode electrode 29 Organic EL cathode electrode 30 Organic EL
DESCRIPTION OF SYMBOLS 100 Display apparatus 101 Pixel 102 Pixel array part 103 Horizontal selector 104 Write scanner 105 Power supply scanner DTL1-DTLn Data line DSL1-DSLm Power supply line WSL1-WSLm Scanning line

Claims (2)

行状の走査線と、列状のデータ線と、前記走査線および前記データ線とが交差する部分に行列状に配され、電流量に応じて自発光を行う発光素子を備える画素と、前記画素の各行に対応して配される電源線と、を備える画素アレイ部を含む表示装置であって、
前記画素アレイ部は、前記走査線、前記データ線、および前記電源線を形成する第1配線および第2配線を備え、
前記第1配線または前記第2配線のいずれかを前記発光素子のカソード配線として用いる場合に、配線抵抗と、前記電源線と前記カソード配線との間の寄生容量との時定数を前記第2のトランジスタの閾電圧を補正する時間未満とすることを特徴とする、表示装置。
A pixel having a light emitting element which is arranged in a matrix at a portion where a scanning line in a row, a columnar data line, and the scanning line and the data line intersect, and which emits light according to a current amount; A power supply line arranged corresponding to each row of the display device including a pixel array unit,
The pixel array unit includes a first wiring and a second wiring that form the scanning line, the data line, and the power supply line,
When either the first wiring or the second wiring is used as the cathode wiring of the light emitting element, the time constant of the wiring resistance and the parasitic capacitance between the power supply line and the cathode wiring is set to the second wiring. A display device characterized in that the threshold voltage of a transistor is less than the time for correction.
前記時定数は0.1マイクロ秒未満であることを特徴とする、請求項1に記載の表示装置。
The display device according to claim 1, wherein the time constant is less than 0.1 microseconds.
JP2008001503A 2008-01-08 2008-01-08 Display device Withdrawn JP2009163061A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008001503A JP2009163061A (en) 2008-01-08 2008-01-08 Display device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008001503A JP2009163061A (en) 2008-01-08 2008-01-08 Display device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2009163061A true JP2009163061A (en) 2009-07-23

Family

ID=40965737

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008001503A Withdrawn JP2009163061A (en) 2008-01-08 2008-01-08 Display device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2009163061A (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102024421A (en) * 2009-09-17 2011-04-20 乐金显示有限公司 Organic light emitting display device
WO2013080490A1 (en) * 2011-12-02 2013-06-06 パナソニック株式会社 Organic electroluminescence display panel and method of manufacturing same
WO2016051735A1 (en) * 2014-09-29 2016-04-07 株式会社Joled Display device and method for driving display device

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102024421A (en) * 2009-09-17 2011-04-20 乐金显示有限公司 Organic light emitting display device
US8344616B2 (en) 2009-09-17 2013-01-01 Lg Display Co., Ltd. Organic light emitting display device
CN102024421B (en) * 2009-09-17 2013-04-10 乐金显示有限公司 Organic light emitting display device
WO2013080490A1 (en) * 2011-12-02 2013-06-06 パナソニック株式会社 Organic electroluminescence display panel and method of manufacturing same
JPWO2013080490A1 (en) * 2011-12-02 2015-04-27 パナソニック株式会社 Organic EL display panel and manufacturing method thereof
US9111892B2 (en) 2011-12-02 2015-08-18 Joled Inc. Organic electroluminescence display panel and method of manufacturing same
WO2016051735A1 (en) * 2014-09-29 2016-04-07 株式会社Joled Display device and method for driving display device
JPWO2016051735A1 (en) * 2014-09-29 2017-08-17 株式会社Joled Display device and driving method of display device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4203773B2 (en) Display device
JP4240059B2 (en) Display device and driving method thereof
JP5115180B2 (en) Self-luminous display device and driving method thereof
JP4168836B2 (en) Display device
US10586492B2 (en) Pixel circuit and display device
JP2008033193A (en) Display apparatus and its driving method
JP2008032862A (en) Display device and its driving method
JP2008032863A (en) Display device and its driving method
JP2005141163A (en) Pixel circuit, display device, and method for driving pixel circuit
JP4547605B2 (en) Display device and driving method thereof
JP2007148129A (en) Display apparatus and driving method thereof
JP5218269B2 (en) Display device and drive control method
JP2005215102A (en) Pixel circuit, display apparatus, and driving method for same
JP2009163061A (en) Display device
JP2005189695A (en) Pixel circuit and display device
JP4544355B2 (en) Pixel circuit, driving method thereof, display device, and driving method thereof
JP2008065199A (en) Display device and manufacturing method thereof
JP2009163060A (en) Display device
JP2009163147A (en) Display device
JP2008197314A (en) Display device and its driving method, and electronic equipment
JP2009163146A (en) Display device
JP2011141346A (en) Display device and display driving method
JP2008250003A (en) Display device
JP2006098989A (en) Pixel circuit, display device and driving method for pixel circuit
JP2009288624A (en) Electronic circuit and panel

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20110405