JP2009149745A - Paste composition - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、無機酸化物を含むペースト組成物の改良に関する。 The present invention relates to an improvement of a paste composition containing an inorganic oxide.
黒色顔料などの無機酸化物を含むペースト組成物は、塗料用、インキ用、トナー用、ゴム・プラスチック用、電子材料用等に広く使用されている。 Paste compositions containing inorganic oxides such as black pigments are widely used for paints, inks, toners, rubber / plastics, electronic materials and the like.
電子材料等の用途では、他の材料との混合が行われやすいように、微粒化された黒色顔料などの無機酸化物を高濃度に含み、かつ低粘度のペーストであることが特に要求されている(特許文献1,2)。 In applications such as electronic materials, it is particularly required to have a low-viscosity paste containing an inorganic oxide such as a finely divided black pigment at a high concentration so that it can be easily mixed with other materials. (Patent Documents 1 and 2).
また、近年、黒色顔料などの無機酸化物を含むペースト組成物は、さらなる高濃度化の要求が強まっており、ペースト組成物を長期保存しても、粘度の上昇、沈降分離が起こりにくい経時(粘度)安定性の高いペースト組成物の要求が強くなってきた。 In recent years, a paste composition containing an inorganic oxide such as a black pigment has been increasingly demanded to have a higher concentration. Even when the paste composition is stored for a long period of time, the viscosity does not increase and sedimentation does not easily occur. The demand for paste compositions with high (viscosity) stability has increased.
また、従来のペースト組成物は、長期保存すると粘度が上昇し、高濃度の黒色顔料などの無機酸化物を含有すると、このペースト組成物を用いた塗膜には、現像残渣が生じやすい問題があった。
本発明の課題は、微粒化された黒色顔料などの無機酸化物を高濃度に含むペースト組成物であっても、粘度の上昇を抑制しつつ長期間安定して保存でき、しかも無機酸化物の沈降分離が起こりにくい、分散性に優れた無機酸化物含有ペースト組成物を提供することにある。 The problem of the present invention is that even a paste composition containing a high concentration of an inorganic oxide such as a finely divided black pigment can be stably stored for a long period of time while suppressing an increase in viscosity. An object of the present invention is to provide an inorganic oxide-containing paste composition that is less susceptible to sedimentation separation and has excellent dispersibility.
また本発明の課題は、黒色顔料などの無機酸化物を高濃度に含有しても、塗膜に現像残渣が生じないペースト組成物を提供することにある。 Another object of the present invention is to provide a paste composition in which a development residue does not occur in a coating film even when an inorganic oxide such as a black pigment is contained at a high concentration.
本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、黒色顔料などの無機酸化物を分散させるペースト組成物の分散剤として、酸価が30mgKOH/g以上、かつアミン価が20mgKOH/g以上である水溶性の両性系分散剤を用いることにより上記課題を解決できることを見出し、本発明の完成に至った。 As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the present inventors, as a dispersant for a paste composition for dispersing an inorganic oxide such as a black pigment, have an acid value of 30 mgKOH / g or more and an amine value of 20 mgKOH. The present inventors have found that the above-mentioned problems can be solved by using a water-soluble amphoteric dispersant that is greater than or equal to / g, and the present invention has been completed.
即ち、上記課題を解決することができる本発明のペースト組成物は以下のとおりである。 That is, the paste composition of the present invention that can solve the above problems is as follows.
(1)無機酸化物(A)、アミン価及び酸価を有し、アミン価が20mgKOH/g以上、かつ酸価が30mgKOH/g以上である水溶性分散剤(B)、有機バインダー(C)を含有する、ペースト組成物。 (1) Inorganic oxide (A), water-soluble dispersant (B) having an amine value and an acid value, an amine value of 20 mgKOH / g or more, and an acid value of 30 mgKOH / g or more, organic binder (C) A paste composition containing
(2)前記無機酸化物(A)は、黒色無機酸化物であることを特徴とする、(1)記載のペースト組成物。 (2) The paste composition according to (1), wherein the inorganic oxide (A) is a black inorganic oxide.
(3)水溶性分散剤(B)は、分散剤の10質量%水溶液が、pH6.0〜10.0であることを特徴とする(1)または(2)記載のペースト組成物。 (3) The paste composition according to (1) or (2), wherein the water-soluble dispersant (B) has a pH of 6.0 to 10.0 in a 10% by mass aqueous solution of the dispersant.
(4)(1)乃至(3)のいずれか記載のペースト組成物の焼成物からなる、基板上に形成された焼成物パターン。 (4) A fired product pattern formed on a substrate, comprising a fired product of the paste composition according to any one of (1) to (3).
本発明によれば、アミン価と酸価を有する水溶性分散剤を用いているので、微粒化された黒色顔料などの無機酸化物を高濃度に含むペースト組成物であっても、粘度の上昇を抑制しつつ長期間安定して保存でき、しかも無機酸化物の沈降分離が起こりにくい、分散性に優れた無機酸化物含有ペースト組成物を提供することができる。 According to the present invention, since a water-soluble dispersant having an amine value and an acid value is used, the viscosity is increased even in a paste composition containing a high concentration of an inorganic oxide such as a finely divided black pigment. It is possible to provide an inorganic oxide-containing paste composition having excellent dispersibility, which can be stably stored for a long period of time while suppressing precipitation, and is less likely to cause sedimentation and separation of the inorganic oxide.
以下に本発明のペースト組成物について詳細に説明する。
無機酸化物(A)
無機酸化物としては、ニッケル、コバルト、マンガンのうち少なくとも1種類以上からなる黒色無機酸化物、酸化鉛、酸化ビスマス、又は酸化亜鉛などを主成分とする無機酸化物からなるガラス粉末、などが挙げられる。具体的には、黒色無機酸化物としては、四三酸化コバルトや、Ni;0〜50質量%、Co;0〜90質量%、及びMn;10〜70質量%の範囲にあるニッケルコバルトマンガン複合酸化物が挙げられる。
Hereinafter, the paste composition of the present invention will be described in detail.
Inorganic oxide (A)
Examples of the inorganic oxide include black inorganic oxide composed of at least one of nickel, cobalt, and manganese, glass powder composed of inorganic oxide mainly composed of lead oxide, bismuth oxide, zinc oxide, and the like. It is done. Specifically, as the black inorganic oxide, cobalt tetroxide, Ni: 0 to 50% by mass, Co: 0 to 90% by mass, and Mn: nickel cobalt manganese composite in the range of 10 to 70% by mass An oxide is mentioned.
無機酸化物のうち、黒色無機酸化物は、最大一次粒子径が1μm以下のものが好ましい。 Among the inorganic oxides, the black inorganic oxide preferably has a maximum primary particle size of 1 μm or less.
上記黒色無機酸化物の最大一次粒子径が1μmよりも大きくなるとペースト中の無機酸化物粒子が沈降分離しやすくなり、長期保存した場合、ペースト中の有機バインダーと無機酸化物の分離が生じやすくなり、長期安定な分散性の高いペーストとなりにくい。 When the maximum primary particle size of the black inorganic oxide is larger than 1 μm, the inorganic oxide particles in the paste are liable to settle and separate, and when stored for a long time, the organic binder and the inorganic oxide in the paste are easily separated. It is difficult to become a paste with high dispersibility that is stable for a long time.
黒色無機酸化物のうち、四三酸化コバルトは、常法に従ってコバルト水酸化物を650℃程度で焼成し、焼成後粉砕することにより得られる。 Among the black inorganic oxides, tribasic cobalt tetroxide is obtained by firing a cobalt hydroxide at about 650 ° C. according to a conventional method, and pulverizing after firing.
ニッケルコバルトマンガン複合酸化物は、ニッケルコバルトマンガンのオキシ水酸化物もしくは水酸化物を焼成することにより調製することができる。具体的には、原料として、ニッケル、コバルト、マンガンの水溶性塩を用いた金属塩混合水溶液に水酸化アルカリを加え、これを中和することにより得られるニッケルコバルトマンガン水酸化共沈体を用いる。この原料を用いれば任意の組成を原子レベルで均一に分散することができる。ついで、この水酸化共沈体を例えば500℃〜800℃で焼成することによって、このニッケルコバルトマンガン複合酸化物を得ることができる。この場合、焼成条件等を調節することによりニッケルコバルトマンガン複合酸化物の一次粒子径を制御することができる。次いで、上記黒色無機酸化物を、ボールミル、ピンミル、ジェットミル等で粉砕して用いることが出来る。 The nickel cobalt manganese composite oxide can be prepared by firing an oxyhydroxide or hydroxide of nickel cobalt manganese. Specifically, a nickel-cobalt-manganese hydroxide coprecipitate obtained by adding an alkali hydroxide to a metal salt mixed aqueous solution using a water-soluble salt of nickel, cobalt, and manganese and neutralizing it as a raw material is used. . If this raw material is used, an arbitrary composition can be uniformly dispersed at the atomic level. Then, the nickel cobalt manganese composite oxide can be obtained by firing the hydroxide coprecipitate at, for example, 500 ° C. to 800 ° C. In this case, the primary particle diameter of the nickel cobalt manganese composite oxide can be controlled by adjusting the firing conditions and the like. Next, the black inorganic oxide can be used after being pulverized by a ball mill, a pin mill, a jet mill or the like.
このような黒色無機酸化物は、分散性と黒色度とを考慮して、有機バインダー100質量部に対して、好ましくは10〜100質量部、より好ましくは30〜60質量部とする。 In consideration of dispersibility and blackness, such a black inorganic oxide is preferably 10 to 100 parts by mass, more preferably 30 to 60 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the organic binder.
次に、無機酸化物であるガラス粉末は、焼成後におけるパターンの密着性向上のために配合することができる。このガラス粉末としては、ガラス転移点(Tg)300〜500℃、ガラス軟化点(Ts)400〜600℃のものが好ましい。また、解像度の点からは、平均粒径20μm以下、好ましくは5μm以下のガラス粉末を用いることが好ましい。 Next, the glass powder which is an inorganic oxide can be mix | blended for the adhesive improvement of the pattern after baking. The glass powder preferably has a glass transition point (Tg) of 300 to 500 ° C. and a glass softening point (Ts) of 400 to 600 ° C. From the viewpoint of resolution, it is preferable to use glass powder having an average particle size of 20 μm or less, preferably 5 μm or less.
このガラス粉末は、焼成後におけるパターンの密着性向上のため、ガラス粉末以外の無機成分100質量部に対して、200質量部以下の割合で配合できる。 This glass powder can be mix | blended in the ratio of 200 mass parts or less with respect to 100 mass parts of inorganic components other than glass powder for the adhesive improvement of the pattern after baking.
水溶性分散剤(B)
本発明に使用される水溶性分散剤は、酸価30mgKOH/g以上、かつアミン価が20mgKOH/g以上である。このような分散剤をもちいることにより、分散性の高い長期に安定なペーストを得ることができる。長期安定な分散性のためには、共に上記下限以上であることが必須であり、酸価、アミン価の一方のみが下限以上で、他方が下限未満の場合、たとえ一方の数値のみを相当量高めてもペースト組成物の長期保存時に、無機酸化物スラリーの溶剤と無機酸化物の分離が生じやすくなり、長期安定な分散性の高いペーストとなりにくい。その結果、現像性が低下し残渣が発生する。
Water-soluble dispersant (B)
The water-soluble dispersant used in the present invention has an acid value of 30 mgKOH / g or more and an amine value of 20 mgKOH / g or more. By using such a dispersant, a long-term paste having high dispersibility can be obtained. For long-term stable dispersibility, it is essential that both are above the above lower limit. When only one of the acid value and amine value is above the lower limit and the other is less than the lower limit, only one of the numerical values is equivalent. Even if it is increased, the solvent of the inorganic oxide slurry is easily separated from the inorganic oxide during long-term storage of the paste composition, and it is difficult to obtain a paste having high dispersibility that is stable for a long time. As a result, developability deteriorates and a residue is generated.
また、本発明に用いる分散剤(B)は水溶性のものを用いる。その理由は、分散剤が水溶性でないと、無機酸化物スラリーの長期保存時に、スラリー中の溶剤と無機酸化物との間で分離が生じやすくなり、長期に安定な分散性の高い無機酸化物スラリーとなりにくいからである。 The dispersant (B) used in the present invention is water-soluble. The reason is that if the dispersant is not water-soluble, when the inorganic oxide slurry is stored for a long period of time, separation between the solvent in the slurry and the inorganic oxide is likely to occur, and the inorganic oxide is highly stable for a long period of time. This is because it is difficult to form a slurry.
上記分散剤は、その10質量%水溶液pHが6.0〜10.0であることが好ましい。分散剤の10質量%水溶液pHが6.0よりも小さくなると黒色無機酸化物ペースト中の無機酸化物と分散剤が反応することにより、長期保存した場合、へースト組成物中の無機酸化物の溶解を生ずる可能性がある。一方、分散剤の10質量%水溶液pHが10.0よりも大きくなるとペーストの長期保存時に、黒色無機酸化物と有機バインダーの分離が生じやすくなり、長期安定な分散性の高い黒色無機酸化物ペーストとならない。 The dispersant preferably has a 10% by mass aqueous solution pH of 6.0 to 10.0. When the pH of the 10% by weight aqueous solution of the dispersing agent is less than 6.0, the inorganic oxide in the black inorganic oxide paste reacts with the dispersing agent. May cause dissolution. On the other hand, when the pH of the 10% by weight aqueous solution of the dispersant is higher than 10.0, the black inorganic oxide and the organic binder are easily separated during long-term storage of the paste, and the black inorganic oxide paste having high long-term dispersibility. Not.
このような水溶性分散剤(B)として、Disperbyk-180, Disperbyk-187,Disperbyk-191,(いずれもビックケミー社製、商品名)が挙げられる。
水溶性分散剤(B)は、分散性と黒色度とを考慮して、有機バインダー(C)100質量部に対して、好ましくは0.1〜20質量部、より好ましくは1〜6質量部とする。
Examples of such a water-soluble dispersant (B) include Disperbyk-180, Disperbyk-187, and Disperbyk-191 (all are trade names manufactured by BYK Chemie).
The water-soluble dispersant (B) is preferably 0.1 to 20 parts by mass, more preferably 1 to 6 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the organic binder (C) in consideration of dispersibility and blackness. And
有機バインダー(C)
次に、前記有機バインダー(C)としては、カルボキシル基を有する樹脂、具体的にはそれ自体がエチレン性不飽和二重結合を有するカルボキシル基含有感光性樹脂及びエチレン性不飽和二重結合を有さないカルボキシル基含有樹脂のいずれも使用可能である。好適に使用できる樹脂(オリゴマー及びポリマーのいずれでもよい)としては、以下のようなものが挙げられる。
Organic binder (C)
Next, the organic binder (C) includes a carboxyl group-containing resin, specifically, a carboxyl group-containing photosensitive resin having an ethylenically unsaturated double bond and an ethylenically unsaturated double bond. Any carboxyl group-containing resin that is not used can be used. Examples of the resin (which may be either an oligomer or a polymer) that can be suitably used include the following.
(1)(a)不飽和カルボン酸と(b)不飽和二重結合を有する化合物を共重合させることによって得られるカルボキシル基含有樹脂
(2)(a)不飽和カルボン酸と(b)不飽和二重結合を有する化合物の共重合体にエチレン性不飽和基をペンダントとして付加させることによって得られるカルボキシル基含有感光性樹脂
(3)(c)エポキシ基と不飽和二重結合を有する化合物と(b)不飽和二重結合を有する化合物の共重合体に、(a)不飽和カルボン酸を反応させ、生成した2級の水酸基に(d)多塩基酸無水物を反応させて得られるカルボキシル基含有感光性樹脂
(4)(e)不飽和二重結合を有する酸無水物と(b)不飽和二重結合を有する化合物の共重合体に、(f)水酸基と不飽和二重結合を有する化合物を反応させて得られるカルボキシル基含有感光性樹脂
(5)(g)エポキシ化合物と(h)不飽和モノカルボン酸を反応させ、生成した2級の水酸基に(d)多塩基酸無水物を反応させて得られるカルボキシル基含有感光性樹脂
(6)(b)不飽和二重結合を有する化合物とグリシジル(メタ)アクリレートの共重合体のエポキシ基に、(i)1分子中に1つのカルボキシル基を有し、エチレン性不飽和結合を持たない有機酸を反応させ、生成した2級の水酸基に(d)多塩基酸無水物を反応させて得られるカルボキシル基含有樹脂
(7)(j)水酸基含有ポリマーに(d)多塩基酸無水物を反応させて得られるカルボキシル基含有樹脂
(8)(j)水酸基含有ポリマーに(d)多塩基酸無水物を反応させて得られるカルボキシル基含有樹脂に、(c)エポキシ基と不飽和二重結合を有する化合物をさらに反応させて得られるカルボキシル基含有感光性樹脂
前記したようなカルボキシル基含有感光性樹脂及びカルボキシル基含有樹脂は、単独で又は混合して用いてもよいが、いずれの場合でもこれらは合計でペースト組成物全量の10〜80質量%の割合で配合することが好ましい。これらの有機バインダーの配合割合量が上記範囲よりも少な過ぎる場合、形成する塗膜中の上記樹脂の分布が不均一になり易く、充分な光硬化性及び光硬化深度が得られ難く、選択的露光、現像によるパターニングが困難となる。一方、上記範囲よりも多過ぎると、焼成時のパターンのよれや線幅収縮を生じ易くなるので好ましくない。
(1) A carboxyl group-containing resin obtained by copolymerizing (a) an unsaturated carboxylic acid and (b) a compound having an unsaturated double bond (2) (a) an unsaturated carboxylic acid and (b) unsaturated A carboxyl group-containing photosensitive resin obtained by adding an ethylenically unsaturated group as a pendant to a copolymer of a compound having a double bond (3) (c) a compound having an epoxy group and an unsaturated double bond ( b) A carboxyl group obtained by reacting a copolymer of a compound having an unsaturated double bond with (a) an unsaturated carboxylic acid, and reacting the resulting secondary hydroxyl group with (d) a polybasic acid anhydride. Containing photosensitive resin (4) (e) a copolymer of an acid anhydride having an unsaturated double bond and (b) a compound having an unsaturated double bond, (f) having a hydroxyl group and an unsaturated double bond Obtained by reacting compounds Carboxyl group-containing photosensitive resin (5) (g) A carboxyl obtained by reacting an epoxy compound with (h) an unsaturated monocarboxylic acid and reacting the resulting secondary hydroxyl group with (d) a polybasic acid anhydride Group-containing photosensitive resin (6) (b) An epoxy group of a copolymer of an unsaturated double bond and a glycidyl (meth) acrylate copolymer, (i) having one carboxyl group in one molecule, ethylene (D) a carboxyl group-containing resin (7) (j) obtained by reacting an organic acid not having a polymerizable unsaturated bond and reacting the resulting secondary hydroxyl group with (d) a polybasic acid anhydride (d) ) A carboxyl group-containing resin obtained by reacting a polybasic acid anhydride (8) (j) A carboxyl group-containing resin obtained by reacting a hydroxyl group-containing polymer with (d) a polybasic acid anhydride, (c) Epoxy Carboxyl group-containing photosensitive resin obtained by further reacting a group and a compound having an unsaturated double bond The carboxyl group-containing photosensitive resin and the carboxyl group-containing resin as described above may be used alone or in combination. However, in any case, these are preferably blended in a proportion of 10 to 80% by mass of the total amount of the paste composition. When the blending amount of these organic binders is less than the above range, the distribution of the resin in the coating film to be formed tends to be non-uniform, and it is difficult to obtain sufficient photocurability and photocuring depth. Patterning by exposure and development becomes difficult. On the other hand, if it is more than the above range, it is not preferable because the pattern during baking and the shrinkage of the line width are likely to occur.
また、上記カルボキシル基含有感光性樹脂及びカルボキシル基含有樹脂としては、それぞれ重量平均分子量1,000〜100,000、好ましくは5,000〜70,000、及び酸価50〜250mgKOH/g、かつ、カルボキシル基含有感光性樹脂の場合、その二重結合当量が350〜2,000、好ましくは400〜1,500のものを好適に用いることができる。上記樹脂の分子量が1,000より低い場合、現像時の塗の密着性に悪影響を与え、一方、100,000よりも高い場合、現像不良を生じ易いので好ましくない。また、酸価が50mgKOH/gより低い場合、アルカリ水溶液に対する溶解性が不充分で現像不良を生じ易く、一方、250mgKOH/gより高い場合、現像時に塗膜の密着性の劣化や光硬化部(露光部)の溶解が生じるので好ましくない。さらに、カルボキシル基含有感光性樹脂の場合、感光性樹脂の二重結合当量が350よりも小さいと、焼成時に残渣が残り易くなり、一方、2,000よりも大きいと、現像時の作業余裕度が狭く、また光硬化時に高露光量を必要とするので好ましくない。 The carboxyl group-containing photosensitive resin and the carboxyl group-containing resin each have a weight average molecular weight of 1,000 to 100,000, preferably 5,000 to 70,000, and an acid value of 50 to 250 mgKOH / g, and In the case of a carboxyl group-containing photosensitive resin, those having a double bond equivalent of 350 to 2,000, preferably 400 to 1,500 can be suitably used. When the molecular weight of the resin is lower than 1,000, the adhesion of the coating during development is adversely affected. On the other hand, when the molecular weight is higher than 100,000, development defects are liable to occur. On the other hand, when the acid value is lower than 50 mgKOH / g, the solubility in an alkaline aqueous solution is insufficient, and development failure tends to occur. This is not preferable because dissolution of the exposed portion occurs. Further, in the case of a carboxyl group-containing photosensitive resin, if the double bond equivalent of the photosensitive resin is less than 350, a residue is likely to remain at the time of baking, whereas if it is greater than 2,000, a work margin at the time of development. Is narrow, and a high exposure amount is required at the time of photocuring.
光重合性モノマー
次に、本発明のペースト組成物は、ペースト組成物の光硬化性の促進及び現像性を向上させるために光重合性モノマーを配合することができる。この光重合性モノマーとしては、例えば、2−ヒドロキシエチルアクリレート,2−ヒドロキシプロピルアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリウレタンジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキサイド変性トリアクリレート、トリメチロールプロパンプロピレンオキサイド変性トリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート及び上記アクリレートに対応する各メタクリレート類;フタル酸、アジピン酸、マレイン酸、イタコン酸、こはく酸、トリメリット酸、テレフタル酸等の多塩基酸とヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートとのモノ−、ジ−、トリ−又はそれ以上のポリエステルなどが挙げられるが、特定のものに限定されるものではなく、またこれらを単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。これらの光重合性モノマーの中でも、1分子中に2個以上のアクリロイル基又はメタクリロイル基を有する多官能モノマーが好ましい。
Photopolymerizable monomer
Next, the paste composition of the present invention can be blended with a photopolymerizable monomer in order to promote the photocurability and developability of the paste composition. Examples of the photopolymerizable monomer include 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, diethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, polyurethane diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, and pentaerythritol triacrylate. Acrylate, pentaerythritol tetraacrylate, trimethylolpropane ethylene oxide modified triacrylate, trimethylolpropane propylene oxide modified triacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate and each methacrylate corresponding to the above acrylate; phthalic acid, adipine Acid, maleic acid, itacone Mono-, di-, tri- or higher polyesters of polybasic acids such as succinic acid, trimellitic acid, terephthalic acid and the like and hydroxyalkyl (meth) acrylates, but are limited to specific ones. It is not a thing, and these can be used individually or in combination of 2 or more types. Among these photopolymerizable monomers, polyfunctional monomers having two or more acryloyl groups or methacryloyl groups in one molecule are preferable.
このような光重合性モノマーの配合量は、前記有機バインダー(カルボキシル基含有感光性樹脂及び/又はカルボキシル基含有樹脂)(C)100質量部当り20〜100質量部が適当である。光重合性モノマーの配合量が上記範囲よりも少ない場合、ペースト組成物の充分な光硬化性が得られ難くなり、一方、上記範囲を超えて多量になると、塗膜の深部に比べて表面部の光硬化が早くなるため硬化むらを生じ易くなる。 The amount of such a photopolymerizable monomer is suitably 20 to 100 parts by mass per 100 parts by mass of the organic binder (carboxyl group-containing photosensitive resin and / or carboxyl group-containing resin) (C). When the blending amount of the photopolymerizable monomer is less than the above range, it becomes difficult to obtain sufficient photocurability of the paste composition. On the other hand, when the amount exceeds the above range, the surface portion is larger than the deep portion of the coating film. Since the photo-curing of the resin becomes faster, uneven curing tends to occur.
光重合開始剤
次に、本発明は、光重合開始剤を配合することができる。光重合開始剤としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等のベンゾインとベンゾインアルキルエーテル類;アセトフェノン、2,2−ジメトキシー2−フェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキシー2−フェニルアセトフェノン、1,1−ジクロロアセトフェノン等のアセトフェノン類;2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1等のアミノアセトフェノン類;2−メチルアントラキノン、2−エチルアントラキノン、2−t−ブチルアントラキノン、1−クロロアントラキノン等のアントラキノン類;2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジイソプロピルチオキサントン等のチオキサントン類;アセトフェノンジメチルケタール、ベンジルジメチルケタール等のケタール類;ベンゾフェノン等のベンゾフェノン類;又はキサントン類;(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−ペンチルホスフィンオキサイド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイド、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、エチル−2,4,6−トリメチルベンゾイルフェニルフォスフィネイト等のフォスフィンオキサイド類;各種パーオキサイド類などが挙げられ、これら公知慣用の光重合開始剤を単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。これらの光重合開始剤の配合割合は、前記有機バインダー(カルボキシル基含有感光性樹脂及び/又はカルボキシル基含有樹脂)(C)100質量部当り1〜30質量部が適当であり、好ましくは、5〜20質量部である。
Photopolymerization initiator
Next, this invention can mix | blend a photoinitiator. Examples of the photopolymerization initiator include benzoin and benzoin alkyl ethers such as benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, and benzoin isopropyl ether; acetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxy-2- Acetophenones such as phenylacetophenone and 1,1-dichloroacetophenone; 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- Aminoacetophenones such as (4-morpholinophenyl) -butanone-1; anthraquinones such as 2-methylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 2-t-butylanthraquinone, 1-chloroanthraquinone; 2,4-dimethyl Thioxanthones such as luthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-diisopropylthioxanthone; ketals such as acetophenone dimethyl ketal and benzyldimethyl ketal; benzophenones such as benzophenone; or xanthones; , 6-Dimethoxybenzoyl) -2,4,4-pentylphosphine oxide, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, ethyl-2 Phosphine oxides such as 1,4,6-trimethylbenzoylphenyl phosphinate; various peroxides, etc. These known photopolymerization initiators may be used alone or in combination of two or more. It can be used Te. The mixing ratio of these photopolymerization initiators is suitably 1 to 30 parts by mass, preferably 5 parts per 100 parts by mass of the organic binder (carboxyl group-containing photosensitive resin and / or carboxyl group-containing resin) (C). ˜20 parts by mass.
また、上記の光重合開始剤は、N,N−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、N,N−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル、ペンチル−4−ジメチルアミノベンゾエート、トリエチルアミン、トリエタノールアミン等の三級アミン類のような光増感剤の1種あるいは2種以上と組み合わせて用いることができる。さらに、より深い光硬化深度を要求される場合、必要に応じて、可視領域でラジカル重合を開始するチバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製イルガキュアー784等のチタノセン系光重合開始剤、ロイコ染料等を硬化助剤として組み合わせて用いることができる。 In addition, the photopolymerization initiator includes tertiary amines such as N, N-dimethylaminobenzoic acid ethyl ester, N, N-dimethylaminobenzoic acid isoamyl ester, pentyl-4-dimethylaminobenzoate, triethylamine, and triethanolamine. It can be used in combination with one or more photosensitizers. Furthermore, when a deeper photocuring depth is required, a titanocene photopolymerization initiator such as Irgacure 784 manufactured by Ciba Specialty Chemicals, which starts radical polymerization in the visible region, and leuco dyes are cured as necessary. It can be used in combination as an auxiliary agent.
本発明のペースト組成物は、無機フィラーやガラス粉末を配合することができるが、多量の無機フィラーやガラス粉末を配合した場合、得られるペースト組成物の保存安定性は悪く、ゲル化や流動性の低下により塗布作業性が悪くなる傾向がある。従って、本発明の組成物では、組成物の保存安定性向上のため、無機フィラーやガラス粉末の成分である金属あるいは酸化物粉末との錯体化あるいは塩形成などに効果のある化合物、例えば有機酸などの安定剤を添加することが好ましい。この安定剤の添加量は前記の無機フィラーやガラス粉末100質量部当り0.1〜10質量部の割合が好ましい。 The paste composition of the present invention can be blended with an inorganic filler or glass powder. However, when a large amount of inorganic filler or glass powder is blended, the storage stability of the resulting paste composition is poor, and gelation or fluidity is caused. There is a tendency that the coating workability is deteriorated due to the decrease in. Accordingly, in the composition of the present invention, in order to improve the storage stability of the composition, a compound effective for complexing or forming a salt with a metal or oxide powder as a component of an inorganic filler or glass powder, such as an organic acid. It is preferable to add a stabilizer such as The amount of the stabilizer added is preferably 0.1 to 10 parts by mass per 100 parts by mass of the inorganic filler or glass powder.
他の配合成分
本発明においては、組成物のペースト化のための希釈剤、あるいは、各種塗布工程に応じた粘度調整のための希釈剤として、適宜の量の有機溶剤を配合することができる。具体的には、メチルエチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン類;トルエン、キシレン、テトラメチルベンゼンなどの芳香族炭化水素類;セロソルブ、メチルセロソルブ、カルビトール、メチルカルビトール、ブチルカルビトール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテルなどのグリコールエーテル類;酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、カルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどの酢酸エステル類;エタノール、プロパノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、テルピネオールなどのアルコール類;オクタン、デカンなどの脂肪族炭化水素;石油エーテル、石油ナフサ、水添石油ナフサ、ソルベントナフサなどの石油系溶剤が挙げられ、これらを単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
Other ingredients
In the present invention, an appropriate amount of an organic solvent can be blended as a diluent for pasting the composition or a diluent for adjusting the viscosity according to various coating steps. Specifically, ketones such as methyl ethyl ketone and cyclohexanone; aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene and tetramethylbenzene; cellosolve, methyl cellosolve, carbitol, methyl carbitol, butyl carbitol, propylene glycol monomethyl ether, di Glycol ethers such as propylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether; ethyl acetate, butyl acetate, cellosolve acetate, butyl cellosolve acetate, carbitol acetate, butyl carbitol acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate Acetic acid esters such as ethanol, propanol, ethylene glycol, propylene glycol And alcohols such as terpineol; aliphatic hydrocarbons such as octane and decane; petroleum solvents such as petroleum ether, petroleum naphtha, hydrogenated petroleum naphtha, and solvent naphtha. These may be used alone or in combination of two or more. Can be used.
本発明のペースト組成物は、さらに必要に応じて、シリコーン系、アクリル系等の消泡・レベリング剤、塗膜の密着性向上のためのシランカップリング剤、等の他の添加剤を配合することもできる。さらにまた、必要に応じて、公知慣用の酸化防止剤や、焼成時における基板との結合成分としての金属酸化物、ケイ素酸化物、ホウ素酸化物などの微粒子を添加することもできる。 If necessary, the paste composition of the present invention further contains other additives such as silicone-based and acrylic-based antifoaming / leveling agents, silane coupling agents for improving the adhesion of coating films, and the like. You can also. Furthermore, if necessary, fine particles such as metal oxides, silicon oxides, boron oxides, and the like, which are known and commonly used antioxidants, and as binding components to the substrate during firing may be added.
ペースト組成物の使用
本発明のペースト組成物は、スクリーン印刷法、バーコーター、ブレードコーターなど適宜の塗布方法で基板、例えばPDPの前面基板となるガラス基板に塗布し、次いで指触乾燥性を得るために熱風循環式乾燥炉、遠赤外線乾燥炉等で例えば約60〜120℃で5〜40分程度乾燥させて有機溶剤を蒸発させ、タックフリーの塗膜を得る。その後、選択的露光、現像、焼成を行なって所定のパターンを形成する。また、フィルム状に成膜して基板上にラミネートすることもできる。
Use of paste composition
The paste composition of the present invention is applied to a substrate, for example, a glass substrate as a front substrate of a PDP by an appropriate application method such as a screen printing method, a bar coater, a blade coater, etc., and then a hot air circulation type to obtain touch dryness For example, the organic solvent is evaporated by drying at about 60 to 120 ° C. for about 5 to 40 minutes in a drying oven, a far-infrared drying oven or the like, and a tack-free coating film is obtained. Thereafter, selective exposure, development, and baking are performed to form a predetermined pattern. Moreover, it can also form into a film form and can laminate on a board | substrate.
露光工程としては、所定の露光パターンを有するネガマスクを用いた接触露光及び非接触露光が可能である。露光光源としては、ハロゲンランプ、高圧水銀灯、レーザー光、メタルハライドランプ、ブラックランプ、無電極ランプなどが使用される。露光量としては50〜1000mJ/cm2程度が好ましい。 As the exposure step, contact exposure and non-contact exposure using a negative mask having a predetermined exposure pattern are possible. As the exposure light source, a halogen lamp, a high-pressure mercury lamp, a laser beam, a metal halide lamp, a black lamp, an electrodeless lamp, or the like is used. The exposure amount is preferably about 50 to 1000 mJ / cm2.
現像工程としてはスプレー法、浸漬法等が用いられる。現像液としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、珪酸ナトリウムなどの金属アルカリ水溶液や、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンなどのアミン水溶液、特に約1.5質量%以下の濃度の希アルカリ水溶液が好適に用いられるが、組成物中のカルボキシル基含有樹脂のカルボキシル基がケン化され、未硬化部(未露光部)が除去されればよく、上記のような現像液に限定されるものではない。また、現像後に不要な現像液の除去のため、水洗や酸中和を行なうことが好ましい。 As the development process, a spray method, an immersion method, or the like is used. Developers include aqueous alkali metal solutions such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate and sodium silicate, and aqueous amine solutions such as monoethanolamine, diethanolamine and triethanolamine, especially about 1.5% by mass or less. A dilute alkaline aqueous solution having a concentration of 1 is preferably used, as long as the carboxyl group of the carboxyl group-containing resin in the composition is saponified and the uncured part (unexposed part) is removed. It is not limited to. Further, it is preferable to perform washing with water and acid neutralization in order to remove unnecessary developer after development.
焼成工程においては、現像後の基板を空気中又は窒素雰囲気下で約400〜600℃の加熱処理を行ない、所望のパターンを形成する。なお、この時の昇温速度は、20℃/分以下に設定することが好ましい。 In the baking step, the substrate after development is subjected to heat treatment at about 400 to 600 ° C. in air or in a nitrogen atmosphere to form a desired pattern. In addition, it is preferable to set the temperature increase rate at this time to 20 degrees C / min or less.
以下に実施例及び比較例を示して本発明について具体的に説明するが、本発明が下記実施例に限定されるものでないことはもとよりである。なお、「部」及び「%」とあるのは、特に断りがない限り全て質量基準である。 EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to examples and comparative examples, but the present invention is not limited to the following examples. “Parts” and “%” are based on mass unless otherwise specified.
表1に提示した各種添加剤と下記合成例で得られた有機バインダーと下記作製例で得られたガラススラリーを用いて、ペースト化を行ない、その評価を行なった。 Using the various additives presented in Table 1, the organic binder obtained in the following synthesis example, and the glass slurry obtained in the following production example, a paste was formed and evaluated.
合成例:(有機バインダー(C−1)の合成)
温度計、攪拌機、滴下ロート、及び還流冷却器を備えたフラスコに、溶媒としてジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、触媒としてアゾビスイソブチロニトリルをいれ窒素雰囲気下、80℃に加熱し、メタクリル酸及びメチルメタアクリレートを、メタクリル酸:0.4mol、メチルメタアクリレート:0.6molのモル比で混合したモノマーを約2時間かけて滴下し、さらに1時間攪拌後、温度を115℃まで上げて失活させ、樹脂溶液を得た。この樹脂溶液を冷却後、触媒として臭化テトラブチルアンモニウムを用い95〜115℃、30時間の条件で、ブチルグリジルエーテル:0.4molを、得られた樹脂のカルボキシル基の等量と付加反応させ、冷却した。さらに、得られた樹脂のOH基に対して、95〜105℃、8時間の条件で、無水テトラヒドロフタル酸0.26molを付加反応させ、冷却後取り出して固形分の55%の有機バインダー(C−1)を得た。
Synthesis Example: (Synthesis of Organic Binder (C-1))
In a flask equipped with a thermometer, stirrer, dropping funnel, and reflux condenser, diethylene glycol monoethyl ether acetate as a solvent and azobisisobutyronitrile as a catalyst are added and heated to 80 ° C. in a nitrogen atmosphere. A monomer mixed with methacrylic acid: 0.4 mol and methyl methacrylate: 0.6 mol in molar ratio was added dropwise over about 2 hours, and the mixture was further stirred for 1 hour, and then the temperature was raised to 115 ° C. to deactivate. A resin solution was obtained. After cooling this resin solution, tetrabutylammonium bromide was used as a catalyst at 95 to 115 ° C. for 30 hours, and butyl glycidyl ether: 0.4 mol was added with an equivalent amount of carboxyl group of the obtained resin and addition reaction. And cooled. Further, 0.26 mol of tetrahydrophthalic anhydride was added to the OH group of the obtained resin under the conditions of 95 to 105 ° C. for 8 hours, cooled and taken out, and the organic binder (C -1) was obtained.
作製例:ガラススラリーの作製
ガラス粉末としては、Bi2O3:50%、B2O3:16%、ZnO:14%、SiO2:2%、BaO:18%、熱膨張係数α300=86×10−7/℃、ガラス軟化点501℃のものを使用した。
Production Example: Production of Glass Slurry As glass powder, Bi 2 O 3 : 50%, B 2 O 3 : 16%, ZnO: 14%, SiO 2 : 2%, BaO: 18%, coefficient of thermal expansion α 300 = The thing of 86 * 10 < -7 > / degreeC and the glass softening point 501 degreeC was used.
また、ビーズミルでの粉砕は、三井鉱山株式会社製SC50を用い、メディア径を0.3〜0.8mmΦのZrO2製のビーズを使用し、回転数2,000〜3,300rpmで、3〜9時間粉砕を実施した。 Further, grinding in a bead mill, the Mitsui Mining using manufactured SC50 Co., media size using the ZrO 2 beads made of 0.3~0.8Mmfai, at a rotation speed of 2,000~3,300Rpm,. 3 to Milling was carried out for 9 hours.
尚、粒度測定は、堀場レーザー回折/散乱式粒度分布測定装置LA−920を、使用した。 In addition, the Horiba laser diffraction / scattering type particle size distribution measuring device LA-920 was used for the particle size measurement.
ガラス粉末を粗粉砕した後、300メッシュのスクリーンにてフィルタリングを行ない、このガラス粉末70質量部と2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオールモノブチレートを29.16質量部、それに分散剤として、BYK−410を0.14質量部、BYK−182を0.7質量部加えて、ビーズミルにて微粉砕し、D50:1.0μm、Dmax:3.9μmのガラス粉末の含有量が70質量%のスラリーを作製した。 After roughly pulverizing the glass powder, it was filtered with a 300 mesh screen, and 70 parts by mass of this glass powder and 29.16 parts by mass of 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol monobutyrate were added thereto. As a dispersant, 0.14 parts by mass of BYK-410 and 0.7 parts by mass of BYK-182 were added and finely pulverized with a bead mill. D50: 1.0 μm, Dmax: 3.9 μm glass powder content Produced a 70% by weight slurry.
作製したガラススラリーを、更にSUS製200×1400綾畳織りのメッシュにてろ過を行なったが、粒度分布に変化は見られなかった。 The produced glass slurry was further filtered through a SUS 200 × 1400 twill mat mesh, but no change was observed in the particle size distribution.
<組成物例1>
有機バインダー(C−1) 100.0部
トリプロピレングリコールモノメチルエーテル 90.0部
トリメチロールプロパントリアクリレート 30.0部
ジベンタエリスリトールヘキサアクリレート 15.0部
アロニックスM7100(東亞合成株式会社製ホ゜リエステルアクリレート) 50.0部
モダフロー(日本モンサント製消泡剤) 3.0部
リン酸エステル 1.0部
ガラススラリー 43.0部
四三酸化コバルト 47.0部
2-メチル-1-(4-メチルチオフェニル)-2-モリフォリノプロパン-1-オン 10.0部
2,4-ジエチルチオキサントン 3.0部
4,4-ビス(シ゛エチルアミノ)ベンゾフェノン 1.0部
γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン 3.0部
Disperbyk-180 (ビックケミージャパン社製;商品名) 2.4部
組成物例2
Disperbyk-180をDisperbyk187(ビックケミ−ジャパン社製;商品名)に置き換えたこと以外は組成物例1と同様の組成にてペースト化を行なった。
<Composition Example 1>
Organic binder (C-1) 100.0 parts Tripropylene glycol monomethyl ether 90.0 parts Trimethylolpropane triacrylate 30.0 parts Diventaerythritol hexaacrylate 15.0 parts Aronix M7100 (polyester acrylate manufactured by Toagosei Co., Ltd.) 50 0.0 parts Modaflow (Nippon Monsanto Antifoam) 3.0 parts Phosphate 1.0 parts Glass slurry 43.0 parts Cobalt tetraoxide 47.0 parts
10.0 parts of 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropan-1-one
2,4-Diethylthioxanthone 3.0 parts
4,4-bis (diethylamino) benzophenone 1.0 part γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane 3.0 parts
Disperbyk-180 (manufactured by Big Chemie Japan; trade name) 2.4 parts Composition Example 2
Pasting was carried out with the same composition as in Composition Example 1 except that Disperbyk-180 was replaced with Disperbyk187 (manufactured by BYK-Chemical Japan; trade name).
組成物例3
Disperbyk-180をDisperbyk191(ビックケミ−ジャパン社製;商品名)に置き換えたこと以外は組成物例1と同様の組成にてペースト化を行なった。
Composition Example 3
Pasting was carried out with the same composition as in Composition Example 1 except that Disperbyk-180 was replaced with Disperbyk191 (manufactured by BYK-Chemical Japan; trade name).
比較組成物例1
Disperbyk-180をDisperbyk182(ビックケミ−ジャパン社製;商品名)に置き換えたこと以外は組成物例1と同様の組成にてペースト化を行なった。
Comparative composition example 1
Pasting was carried out with the same composition as in Composition Example 1 except that Disperbyk-180 was replaced with Disperbyk182 (manufactured by BYK-Chemical Japan; trade name).
比較組成物例2
Disperbyk-180をDisperbyk163(ビックケミ−ジャパン社製;商品名)に置き換えたこと以外は組成物例1と同様の組成にてペースト化を行なった。
Comparative composition example 2
Pasting was carried out with the same composition as in Composition Example 1 except that Disperbyk-180 was replaced with Disperbyk163 (manufactured by Bicchem Japan);
比較組成物例3
Disperbyk-180をDisperbyk185(ビックケミ−ジャパン社製;商品名)に置き換えたこと以外は組成物例1と同様の組成にてペースト化を行なった。
Comparative composition example 3
Pasting was carried out with the same composition as in Composition Example 1 except that Disperbyk-180 was replaced with Disperbyk185 (manufactured by BYK-Chemical Japan; trade name).
比較組成物例4
Disperbyk-180をDisperbyk140(ビックケミ−ジャパン社製;商品名)に置き換えたこと以外は組成物例1と同様の組成にてペースト化を行なった。
Comparative composition example 4
Pasting was carried out with the same composition as in Composition Example 1 except that Disperbyk-180 was replaced with Disperbyk140 (manufactured by Bicchem Japan);
比較組成物例5
Disperbyk-180をDisperbyk171(ビックケミ−ジャパン社製;商品名)に置き換えたこと以外は組成物例1と同様の組成にてペースト化を行なった。
Comparative composition example 5
Pasting was performed with the same composition as in Composition Example 1 except that Disperbyk-180 was replaced with Disperbyk171 (manufactured by Bicchem Japan);
比較組成物例6
Disperbyk-180をDisperbyk110(ビックケミ−ジャパン社製;商品名)に置き換えたこと以外は組成物例1と同様の組成にてペースト化を行なった。
Comparative composition example 6
Pasting was carried out with the same composition as in Composition Example 1 except that Disperbyk-180 was replaced with Disperbyk110 (manufactured by Bicchem Japan);
ペーストの分散
組成物例1、2及び比較組成物例1〜7の各ペースト成分をポリ容器に各配合し、ディゾルバーにて500rpm10分間攪拌を行なう。その後、セラミック製3本ロールにて2回練肉を行ない、ペーストを作製した。
Paste dispersion
Each paste component of Composition Examples 1 and 2 and Comparative Composition Examples 1 to 7 is blended in a plastic container and stirred with a dissolver at 500 rpm for 10 minutes. Thereafter, the paste was prepared by performing kneaded meat twice with three ceramic rolls.
このようにして得られた組成物例、比較組成物例の各感光性ペーストについて、それぞれ試験片を作製し、現像残渣を評価した。その試験片の作成方法および評価方法は以下のとおりである。また、ペーストの経時安定性の確認も行なった。 With respect to each of the photosensitive pastes of the composition examples and comparative composition examples thus obtained, test pieces were prepared, and development residues were evaluated. The preparation method and evaluation method of the test piece are as follows. The stability of the paste over time was also confirmed.
(試験片の作製方法)
ITO皮膜の形成してあるガラス基板(旭硝子社製、PD200)上に、評価用の各感光性ペーストを300メッシュのポリエステルスクリーンを用いて全面に塗布し、次いで、熱風循環式乾燥炉にて90℃で30分間乾燥して約4μmの塗膜を形成した。次に、光源として超高圧水銀灯を用い、ネガマスクを介して、乾燥塗膜上の積算光量が100mJ/cm2となるようにパターン露光した後、液温25℃の0.4wt%Na2CO3水溶液を用いて現像を行ない、水洗した。こうして塗膜パターンを形成し試験片を作製した。
(Test piece preparation method)
Each photosensitive paste for evaluation was applied to the entire surface of a glass substrate (Asahi Glass Co., Ltd., PD200) on which an ITO film was formed, using a 300-mesh polyester screen. The film was dried for 30 minutes at a temperature of about 4 μm. Next, using an ultra-high pressure mercury lamp as a light source, pattern exposure was performed through a negative mask so that the integrated light amount on the dried coating film was 100 mJ / cm 2, and then 0.4 wt% Na 2 CO 3 at a liquid temperature of 25 ° C. Development was performed using an aqueous solution and washed with water. Thus, a coating film pattern was formed to prepare a test piece.
(現像残渣)
上記試験片を光学顕微鏡にて観察し、現像残渣(現像残り)について確認を行なった。表2において、このときの現像残渣を初期残渣とする。
(Development residue)
The test piece was observed with an optical microscope, and a development residue (development residue) was confirmed. In Table 2, the development residue at this time is defined as an initial residue.
(経時安定性)
30℃の恒温槽にて1週間放置後の各ペーストについて粘度安定性と現像残渣について確認した。表2において、このときの現像残渣を経時残渣とする。
評価結果について表2に示す。
(Stability over time)
Viscosity stability and development residue were confirmed for each paste after standing for 1 week in a thermostatic bath at 30 ° C. In Table 2, the development residue at this time is defined as a time-dependent residue.
The evaluation results are shown in Table 2.
以上の評価結果からあきらかなように、本発明に係るペースト組成物は、微粒化された黒色顔料などの無機酸化物を高濃度に含むペースト組成物であっても、粘度の上昇を抑制しつつ長期間安定して保存でき、しかも無機酸化物の沈降分離が起こりにくい、分散性に優れた無機酸化物含有ペースト組成物を提供できることが確認された。 As is clear from the above evaluation results, the paste composition according to the present invention suppresses an increase in viscosity even if it is a paste composition containing a high concentration of inorganic oxides such as atomized black pigments. It was confirmed that an inorganic oxide-containing paste composition excellent in dispersibility can be provided that can be stably stored for a long period of time, and that sedimentation and separation of the inorganic oxide hardly occur.
Claims (4)
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007327880A JP2009149745A (en) | 2007-12-19 | 2007-12-19 | Paste composition |
KR1020080129534A KR101129059B1 (en) | 2007-12-19 | 2008-12-18 | Paste Composition and Calcined Pattern |
CN2008101864477A CN101464629B (en) | 2007-12-19 | 2008-12-19 | Paste composition and roasted article pattern |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007327880A JP2009149745A (en) | 2007-12-19 | 2007-12-19 | Paste composition |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013148771A Division JP5901580B2 (en) | 2013-07-17 | 2013-07-17 | Paste composition and fired product pattern |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009149745A true JP2009149745A (en) | 2009-07-09 |
Family
ID=40805276
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007327880A Pending JP2009149745A (en) | 2007-12-19 | 2007-12-19 | Paste composition |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2009149745A (en) |
KR (1) | KR101129059B1 (en) |
CN (1) | CN101464629B (en) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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WO2018235952A1 (en) | 2017-06-23 | 2018-12-27 | マクセルホールディングス株式会社 | Electromagnetic wave absorbing composition and electromagnetic wave absorption sheet |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
2007
- 2007-12-19 JP JP2007327880A patent/JP2009149745A/en active Pending
-
2008
- 2008-12-18 KR KR1020080129534A patent/KR101129059B1/en active IP Right Grant
- 2008-12-19 CN CN2008101864477A patent/CN101464629B/en active Active
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Publication number | Publication date |
---|---|
KR101129059B1 (en) | 2012-03-23 |
KR20090067091A (en) | 2009-06-24 |
CN101464629A (en) | 2009-06-24 |
CN101464629B (en) | 2011-11-09 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20101115 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20120529 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130111 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20130115 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20130507 |